JP2007114305A - 転写用反射防止フィルム - Google Patents
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Abstract
【課題】優れた反射防止性能と機械的強度を併せ持つ転写用反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】剥離可能な支持体上に設けられた少なくとも１層の低屈折率層を有する転写用反射防止フィルムであって、前記低屈折率層は内部に空洞を有する中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子およびバインダーとを含み、中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子の重量に対して、バインダーが重量比で０．１以上０．８以下であることを特徴とする転写用反射防止フィルム。
【選択図】なし
【解決手段】剥離可能な支持体上に設けられた少なくとも１層の低屈折率層を有する転写用反射防止フィルムであって、前記低屈折率層は内部に空洞を有する中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子およびバインダーとを含み、中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子の重量に対して、バインダーが重量比で０．１以上０．８以下であることを特徴とする転写用反射防止フィルム。
【選択図】なし
Description
本発明は、少なくとも１層の低屈折率層を有する転写用反射防止フィルムに関するものである。
光学部品、眼鏡、ディスプレイ装置などを被覆して用いる反射防止膜は、単層または複数層からなるものが知られているが、単層および２層からなるものは、残存反射率が大きくなってしまうため屈折率の異なる３層を積層したものが好ましいと考えられてきた。しかし、３層を積層させるのは、公知の真空蒸着法、ディップコーティング法等いずれの方法でも、単層に比べ工程が煩雑であるとともに生産性が低いという欠点があった。
その後、単層や２層であっても下記条件を満足すれば反射率の低減が可能であることが見出され、単層あるいは２層の反射防止膜の開発が検討されてきた。
現在はＰＥＴ等の支持フィルムに反射防止層を設けたフィルムを粘着材を介してディスプレイ表面に貼る方式が多く用いられている。
その後、単層や２層であっても下記条件を満足すれば反射率の低減が可能であることが見出され、単層あるいは２層の反射防止膜の開発が検討されてきた。
現在はＰＥＴ等の支持フィルムに反射防止層を設けたフィルムを粘着材を介してディスプレイ表面に貼る方式が多く用いられている。
しかしながらディスプレイと反射防止層との間には支持フィルムであるＰＥＴフィルムや、貼るための粘着材層を介在させるため、表面の硬度低下や、ヘイズの上昇など弊害があった。このような問題に対して、反射防止したい表面と反射防止層の間に柔らかい層を介在させないように、反射防止層を表面に転写させる方法が種々考案されている。
特許文献１には、中空粒子の層上に接着剤層を塗布して転写用反射防止フィルムとすることが記載されている。この方法は反射防止したい表面と反射防止層の間に柔らかい層が介在していないため、従来の方法に比べると表面硬度低下が小さい。しかしながら本発明者らの検討によれば、中空粒子の層の粒子と粒子の間の隙間に接着剤を完全に充填することができず、反射防止層そのものの強度が弱いものであり、鉛筆強度やスチールウールでの耐擦傷性は非常に低いものであった。
特許文献２には、転写用フィルムとして反射防止層の強度が高いものが提案されている。しかしながら最低反射率がより低いものが求められており、反射防止層の強度と反射防止性能を両立するものが望まれている。
特開２００３−１３９９０６号公報
国際公開２００４／１１３９６６号パンフレット
特許文献２には、転写用フィルムとして反射防止層の強度が高いものが提案されている。しかしながら最低反射率がより低いものが求められており、反射防止層の強度と反射防止性能を両立するものが望まれている。
本発明の目的は、上記の問題点を解決し、優れた反射防止性能を有すると共に、優れた耐磨耗性、鉛筆硬度等の機械的強度を併せ持つ転写用反射防止フィルムを提供することである。
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、少なくとも１層の低屈折率層を有する転写用反射防止フィルムであって、前記低屈折率層は内部に空洞を有する中空シリカ微粒子と、微細シリカ粒子およびバインダーとを含む反射防止膜が上記の目的を達成し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明は、
即ち、本発明は、
（１）剥離可能な支持体上に設けられた少なくとも１層の低屈折率層を有する転写用反射防止フィルムであって、前記低屈折率層は内部に空洞を有する中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子およびバインダーとを含み、中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子の重量に対して、バインダーが重量比で０．１以上０．８以下であることを特徴とする転写用反射防止フィルム。
（２）バインダーは、反応性シラン類をバインダー成分として１０ｗｔ％以上用いて反応させたものであることを特徴とする上記（１）記載の転写用反射防止フィルム。
（３）中空シリカ微粒子の外径が３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、微細シリカ粒子の外径が３ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることを特徴とする上記（１）または上記（２）記載の転写用反射防止フィルム。
（４）中空シリカ微粒子に対して微細シリカ粒子が重量比で０．１以上１．０以下であることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の転写用反射防止フィルム。
（２）バインダーは、反応性シラン類をバインダー成分として１０ｗｔ％以上用いて反応させたものであることを特徴とする上記（１）記載の転写用反射防止フィルム。
（３）中空シリカ微粒子の外径が３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、微細シリカ粒子の外径が３ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることを特徴とする上記（１）または上記（２）記載の転写用反射防止フィルム。
（４）中空シリカ微粒子に対して微細シリカ粒子が重量比で０．１以上１．０以下であることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の転写用反射防止フィルム。
本発明の転写用反射防止フィルムは、反射率が低く、耐磨耗性、鉛筆硬度等の機械的強度も兼ね備えたものであり、種々の表示材料部材として有用である。
本発明について、以下に具体的に説明する。
本明細書中において「低屈折率層」とは、反射防止効果を発現するために設けられた１層を指す。この低屈折率層は、ディスプレイ表面など反射防止を行う光学基材表面に転写した際に、表層にくる層であり、転写後に下層になる層の屈折率よりも低い屈折率を有する。低屈折率層の厚さは、可視光領域での反射防止性能の観点から、通常、５０〜５００ｎｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍである。
本発明に用いる剥離可能な支持体（以後支持体Ａと記載する）としては、低屈折率層を光学基材表面に転写した後に剥離可能なフィルム状の支持体をいい、接着用処理のされていない樹脂フィルム（ＰＥＴフィルム、ポリオレフィンフィルムなど）や樹脂フィルム上に剥離性を向上させるための処理を施したものを用いることができる。支持体Ａの厚みとしては、ロールツーロールでの連続生産のため、１２μｍから２００μｍのものを用いるのが好ましい。１２μｍ以上であれば、工程にシワが入りにくく、また取り扱い性にも優れる。一方、２００μｍ以下であれば、ロールプロセスに適当な軟らかさを有するため好ましい。
本明細書中において「低屈折率層」とは、反射防止効果を発現するために設けられた１層を指す。この低屈折率層は、ディスプレイ表面など反射防止を行う光学基材表面に転写した際に、表層にくる層であり、転写後に下層になる層の屈折率よりも低い屈折率を有する。低屈折率層の厚さは、可視光領域での反射防止性能の観点から、通常、５０〜５００ｎｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍである。
本発明に用いる剥離可能な支持体（以後支持体Ａと記載する）としては、低屈折率層を光学基材表面に転写した後に剥離可能なフィルム状の支持体をいい、接着用処理のされていない樹脂フィルム（ＰＥＴフィルム、ポリオレフィンフィルムなど）や樹脂フィルム上に剥離性を向上させるための処理を施したものを用いることができる。支持体Ａの厚みとしては、ロールツーロールでの連続生産のため、１２μｍから２００μｍのものを用いるのが好ましい。１２μｍ以上であれば、工程にシワが入りにくく、また取り扱い性にも優れる。一方、２００μｍ以下であれば、ロールプロセスに適当な軟らかさを有するため好ましい。
支持体Ａと低屈折率層との接触する面については表面が平滑なものが好ましく、表面粗さＲａとして１０ｎｍ以下のものが好ましく、特に５ｎｍ以下のものが好ましく用いられる。接触する面を平滑にすることにより、低屈折率層の転写時の剥離を容易にでき、転写後の低屈折率層の表面を平滑にすることができるため、耐擦傷性を向上させることができる。一方、支持体Ａの両面が平滑な場合、ロール状に巻く際に滑り性が不十分なため擦り傷等が入る場合がある。このような観点から支持体Ａの表面として、低屈折率層を設ける側は表面粗さＲａが０．１から１０ｎｍのものが好ましく、他方の低屈折率層を設けない側は表面粗さＲａが１ｎｍから５０ｎｍのものが好ましく用いられる。
支持体Ａに剥離性を向上させるための処理としては、フッ素ガスでの表面フッ素化処理やフッ化メタンなどの真空プラズマ処理や常圧プラズマ処理などの表面処理が挙げられ、また剥離層を別途設けても良い。剥離層としては、フッ素樹脂層、（メタ）アクリル樹脂層、メラミン樹脂層などを用いることができる。
本発明の低屈折率層は、内部に空洞を有する中空シリカ微粒子と、微細シリカ粒子およびバインダーを含有する。
中空シリカ微粒子とは、内部に空洞を有する微粒子であり、この中空シリカ微粒子自体が低屈折率（例えば、屈折率＝１．２０〜１．３５）を有している。上記の空洞は、外殻によって包囲されているので、この空洞にバインダーが侵入することはない。そしてこの空洞が存在していることによって低屈折率化を図ることができるものであり、また空洞内へのバインダーの侵入が阻止されていることによって屈折率の増加を防止することができ、反射防止膜としての機能を実現できるものである。
本発明の低屈折率層は、内部に空洞を有する中空シリカ微粒子と、微細シリカ粒子およびバインダーを含有する。
中空シリカ微粒子とは、内部に空洞を有する微粒子であり、この中空シリカ微粒子自体が低屈折率（例えば、屈折率＝１．２０〜１．３５）を有している。上記の空洞は、外殻によって包囲されているので、この空洞にバインダーが侵入することはない。そしてこの空洞が存在していることによって低屈折率化を図ることができるものであり、また空洞内へのバインダーの侵入が阻止されていることによって屈折率の増加を防止することができ、反射防止膜としての機能を実現できるものである。
具体的に、中空シリカ微粒子としては、屈折率が１．２０〜１．３５および平均粒子径が３０〜１００ｎｍのものを用いることが好ましく、平均粒子径が４０〜８０ｎｍのものを用いることがより好ましい。中空シリカ微粒子の屈折率は、強度の観点から、１．２０以上が好ましい。また屈折率は、充分な反射防止性機能を得るという観点から、１．３５が以下が好ましく、１．３０以下がより好ましく、１．２６以下がもっとも好ましい。
また中空シリカ微粒子の外径（平均粒子径）は、分散性、得られる層の表面性、反射防止性能、強度の観点から、３０ｎｍ以上が好ましい。中空シリカ微粒子の外径の上限は、反射防止性能、透視像の解像度、視認性の観点から、１００ｎｍ以下が好ましい。
また中空シリカ微粒子の外径（平均粒子径）は、分散性、得られる層の表面性、反射防止性能、強度の観点から、３０ｎｍ以上が好ましい。中空シリカ微粒子の外径の上限は、反射防止性能、透視像の解像度、視認性の観点から、１００ｎｍ以下が好ましい。
次に、本発明の低屈折率層中に含有する微細シリカ粒子について説明する。
微細シリカ粒子とは、内部空洞の無い微細なシリカ粒子であり、中空シリカ微粒子と共に用いることによって、低屈折率層の機械的強度を向上させることができる。
微細シリカ粒子としては、分散性、得られる層の表面性の観点から、外径（平均粒子径）が３ｎｍ以上であるものが好ましく、屈折率、機械的強度の観点から、３０ｎｍ以下のものが好ましい。
微細シリカ粒子とは、内部空洞の無い微細なシリカ粒子であり、中空シリカ微粒子と共に用いることによって、低屈折率層の機械的強度を向上させることができる。
微細シリカ粒子としては、分散性、得られる層の表面性の観点から、外径（平均粒子径）が３ｎｍ以上であるものが好ましく、屈折率、機械的強度の観点から、３０ｎｍ以下のものが好ましい。
微細シリカ粒子の形状は、球状のものが好ましく用いられる。球状のものが中空シリカ微粒子との複合効果による機械強度向上が大きい傾向がある。
ここで粒子の外径（平均粒子径）は、透過型電子顕微鏡で求めた粒子の径をいう。倍率は粒子が５個以上写真に入る倍率とし、その画面に存在するすべての粒子の外径を測定し、その平均値とした。
本発明の転写用反射防止フィルムは、その断面の薄膜切片（８０ｎｍ以下）を透過型電子顕微鏡用サンプル作成と同様にして作成し、透過型電子顕微鏡で断面写真を取ることによって、中空シリカ微粒子および微細シリカ粒子を観察することができる。中空シリカ微粒子は粒子の中央付近が中空になっているため、写真では明るく見える。
次に、本発明の低屈折率層中に含有するバインダーについて説明する。
ここで粒子の外径（平均粒子径）は、透過型電子顕微鏡で求めた粒子の径をいう。倍率は粒子が５個以上写真に入る倍率とし、その画面に存在するすべての粒子の外径を測定し、その平均値とした。
本発明の転写用反射防止フィルムは、その断面の薄膜切片（８０ｎｍ以下）を透過型電子顕微鏡用サンプル作成と同様にして作成し、透過型電子顕微鏡で断面写真を取ることによって、中空シリカ微粒子および微細シリカ粒子を観察することができる。中空シリカ微粒子は粒子の中央付近が中空になっているため、写真では明るく見える。
次に、本発明の低屈折率層中に含有するバインダーについて説明する。
上記のバインダーとしては、シリカ粒子と化学的に結合するもの、またはしないものを用いることができるが、好ましいのはシリカ粒子と化学的に結合するものである。バインダーは単独でも複数を組み合わせてもよい。好ましいバインダーとしては、以下のものが挙げられる。
（１）テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ（ｉ−プロポキシ）シラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジ（ｉ−プロポキシ）シラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルエチルジ（ｉ−プロポキシ）シラン、メチルプロピルジメトキシシラン、メチルプロピルジエトキシシラン、メチルプロピルジ（ｉ−プロポキシ）シラン、メトキシシラン、エトキシシラン、メチルメトキシシラン、メチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチル（ｉ−プロポキシ）シラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリエチル（ｉ−プロポキシ）シラン、トリプロピルメトキシシラン、トリプロピルエトキシシラン、トリプロピル（ｉ−プロポキシ）シラン、メチルジエチルメトキシシラン、メチルジエチルエトキシシラン、メチルジエチル（ｉ−プロポキシ）シラン、メチルジプロピルメトキシシラン、メチルジプロピルエトキシシラン、メチルジプロピル（ｉ−プロポキシ）シラン、エチルジメチルエトキシシラン、エチルジメチル（ｉ−プロポキシ）シラン、エチルジプロピルメトキシシラン、エチルジプロピルエトキシシラン、エチルジプロピル（ｉ−プロポキシ）シラン、プロピルジメチルメトキシシラン、プロピルジメチルエトキシシラン、プロピルジメチル（ｉ−プロポキシ）シラン、プロピルジエチルメトキシシラン、プロピルジエチルエトキシシラン、プロピルジエチル（ｉ−プロポキシ）シラン、ビス（トリメトキシシリル）メタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、ビス（トリメトキシシリル）エタン、ビス（トリエトキシシリル）エタン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）プロパン、１，３−ビス（トリエトキシシリル）プロパン、ヘキサメトキシジシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラキス（トリクロロアセトキシ）シラン、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）シラン、トリアセトキシシラン、トリス（トリクロロアセトキシ）シラン、トリス（トリフルオロアセトキシ）シラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリス（トリクロロアセトキシ）シラン、メチルトリス（トリフルオロアセトキシ）シラン、メチルジアセトキシシラン、メチルビス（トリクロロアセトキシ）シラン、メチルビス（トリフルオロアセトキシ）シラン、ジメチルビス（トリクロロアセトキシ）シラン、ジメチルビス（トリフルオロアセトキシ）シラン、メチルアセトキシシラン、メチル（トリクロロアセトキシ）シラン、メチル（トリフルオロアセトキシ）シラン、ジメチルアセトキシシラン、ジメチル（トリクロロアセトキシ）シラン、ジメチル（トリフルオロアセトキシ）シラン、トリメチルアセトキシシラン、トリメチル（トリクロロアセトキシ）シラン、トリメチル（トリフルオロアセトキシ）シラン、テトラクロロシラン、テトラブロモシラン、テトラフルオロシラン、トリクロロシラン、トリブロモシラン、トリフルオロシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリブロモシラン、メチルトリフルオロシラン、メチルジクロロシラン、メチルジブロモシラン、メチルジフルオロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジブロモシラン、ジメチルジフルオロシラン、メチルクロロシラン、メチルブロモシラン、メチルフルオロシラン、ジメチルクロロシラン、ジメチルブロモシラン、ジメチルフルオロシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルフルオロシランなどの加水分解性シラン類を反応させたものである。反応は、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子と反応させた後に脱水縮合させるのが好ましい。
（２）３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリス（トリクロロアセトキシ）シラン、３−アクリロキシプロピルトリス（トリフルオロアセトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリクロロアセトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリフルオロアセトキシ）シラン、３−グリシドキシプロピルトリアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリス（トリクロロアセトキシ）シラン、３−グリシドキシプロピルトリス（トリフルオロアセトキシ）シラン、３−アクリロキシプロピルトリクロロシラン、３−アクリロキシプロピルトリブロモシラン、３−アクリロキシプロピルトリフルオロシラン、３−メタクリロキシプロピルトリクロロシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリブロモシラン、３−メタクリロキシプロピルトリフルオロシラン、３−グリシドキシプロピルトリクロロシラン、３−グリシドキシプロピルトリブロモシラン、３−グリシドキシプロピルトリフルオロシランなどの、同一分子内に重合性官能基およびシリカ粒子と共有結合を形成することが可能な官能基とを併せ持つ反応性シラン類であり、これらを反応させたものである。反応させる上で、これらを中空シリカ微粒子および微細シリカ粒子と共有結合させた後に重合性官能基部分を重合させたものが好ましい。
（３）ケイ酸、トリメチルシラノール、トリフェニルシラノール、ジメチルシランジオール、ジフェニルシランジオール、シラノール末端ポリジメチルシロキサン、シラノール末端ポリジフェニルシロキサン、シラノール末端ポリメチルフェニルシロキサン、シラノール末端ポリメチルラダーシロキサン、シラノール末端ポリフェニルラダーシロキサン、オクタヒドロキシオクタシルセスキオキサンなどの、シラノール基を含有するケイ素化合物。
（４）水ガラス、オルトケイ酸ナトリウム、オルトケイ酸カリウム、オルトケイ酸リチウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、メタケイ酸リチウム、オルトケイ酸テトラメチルアンモニウム、オルトケイ酸テトラプロピルアンモニウム、メタケイ酸テトラメチルアンモニウム、メタケイ酸テトラプロピルアンモニウムなどのケイ酸塩を酸やイオン交換樹脂に接触させることにより得られる活性シリカ。
（５）ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテル類、ポリアクリルアミド誘導体、ポリメタクリルアミド誘導体、ポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）、ポリ（Ｎ−アシルエチレンイミン）などのアミド類、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸誘導体、ポリメタクリル酸誘導体、ポリカプロラクトンなどのエステル類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリ尿素類、ポリカーボネート類などの有機ポリマー。これら有機ポリマーの末端や主鎖中に、重合性官能基を有していてもよい。
（６）アルキル（メタ）アクリレート、アルキレンビス（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどのアクリル系モノマーを重合したもの。アルキレンビスグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジエポキシドなどの重合性モノマー。ここで（メタ）アクリレートとはアクリレートとメタクリレートの両方を指す。これらの重合物である。
（７）公知の硬化性樹脂。一例を挙げると、（メタ）アクリル系ＵＶ硬化性樹脂、湿気硬化型シリコーン樹脂、熱硬化型シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ノボラック樹脂、シリコーンアクリレート樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂などが挙げられる。
本発明において、低屈折率層に含有するバインダーは、中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子の重量に対して、重量比で０．１以上０．８以下である。すなわち中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子とを合わせた重量を１とした場合に、バインダーの重量比が０．１以上０．８以下という非常に限定された量にすることで、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子の複合効果を最大限に引き出すことが可能である。バインダー量は、低屈折率層の空隙量を制御し、機械的強度を得、屈折率の経時変化を抑制するという観点から、中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子の重量に対して、重量比で０．１以上である。一方低屈折率化、反射防止性能の観点から、バインダーは、中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子の重量に対して、重量比で０．８以下である。バインダーの重量比としては、０．３０以上０．６５以下がより好ましく用いられる。
本発明において、中空シリカ微粒子に対する微細シリカ粒子の割合は、機械強度の観点から、中空シリカ微粒子の重量１に対して０．１以上、屈折率、光学特性の観点から１．０以下が好ましく、０．３以上０．７以下がより好ましい。
バインダーは単独で用いても、複数を併用しても構わない。特に、（２）で列挙した同一分子内に重合性官能基およびシリカ粒子と共有結合を形成することが可能な官能基とを併せ持つ反応性シラン類を併用することや、（６）で列挙した重合性モノマーを併用することは、機械強度の向上に効果的である。
重合性モノマーの種類は、反応の形態、速度などに応じて適宜選択される。重合性モノマーまたは官能基を有するものを用いる場合には、さらに添加物として重合開始剤を添加することが有効である。重合開始剤としては、熱ラジカル発生剤、光ラジカル発生剤、熱酸発生剤、光酸発生剤など公知のものを、上記の重合性官能基や重合性モノマーの反応形態に合わせて選ぶことができる。
バインダーは単独で用いても、複数を併用しても構わない。特に、（２）で列挙した同一分子内に重合性官能基およびシリカ粒子と共有結合を形成することが可能な官能基とを併せ持つ反応性シラン類を併用することや、（６）で列挙した重合性モノマーを併用することは、機械強度の向上に効果的である。
重合性モノマーの種類は、反応の形態、速度などに応じて適宜選択される。重合性モノマーまたは官能基を有するものを用いる場合には、さらに添加物として重合開始剤を添加することが有効である。重合開始剤としては、熱ラジカル発生剤、光ラジカル発生剤、熱酸発生剤、光酸発生剤など公知のものを、上記の重合性官能基や重合性モノマーの反応形態に合わせて選ぶことができる。
熱／光ラジカル発生剤の具体例としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社より市販されているイルガキュア（登録商標）、ダロキュア（登録商標）と呼ばれるアセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系の各重合開始剤、チオキサントン系重合開始剤、ジアゾ系重合開始剤、ｏ−アシルオキシム系重合開始剤などが挙げられる。これらの中でもイルガキュア（登録商標）９０７、イルガキュア（登録商標）３６９、イルガキュア（登録商標）３７９等の分子内にアミノ基および／またはモルホリノ基を有する重合開始剤が特に好ましい。また熱／光酸発生剤の具体例としては、三新化学工業株式会社より市販されているサンエイド（商標）ＳＩシリーズ、和光純薬工業株式会社より市販されているＷＰＩシリーズ、ＷＰＡＧシリーズ、シグマアルドリッチジャパン株式会社より市販されているＰＡＧｓシリーズに代表される、スルホニウム系、ヨードニウム系、ジアゾメタン系の各重合開始剤などが挙げられる。
（１）や（２）で表されるシラン類は、部分加水分解・脱水縮合させて用いるのが好ましい。部分加水分解・脱水縮合反応は、加水分解性シランを水と反応させることによって行うが、触媒として、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸、ギ酸、酢酸などの酸類、アンモニア、トリアルキルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、コリン、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシドなどのアルカリ類、ジラウリン酸ジブチルスズなどのスズ化合物などを用いてもよい。その場合、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子の存在下で加水分解・脱水縮合反応を行うのが好ましい。このように中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子の存在下で加水分解を行うことで、シリカとの共有結合を確実に多くつくることが可能になり、低屈折率層の機械強度を向上させることができる。
種々のバインダーの中でも特に、（２）で表される同一分子内に重合性官能基およびシリカ粒子と共有結合を形成することが可能な官能基とを併せ持つ反応性シラン類を反応させて得られたバインダーは好ましく用いられる。この場合、反応性シラン類をバインダー成分として１０ｗｔ％以上用いて反応させたものが好ましく、反応性シラン類とアクリル系モノマーを併用したものが好ましく用いられる。さらにバインダー成分としてすべて反応性シラン類を用いるのも好ましい態様である。
反応性シラン類を１０ｗｔ％以上用いることによって、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子とバインダーとが強固な共有結合を十分につくり、さらに、同一分子内の重合性官能基を重合させることによってバインダーとの結合が強固なものとなるので、得られた低屈折率層の機械特性がより優れている。バインダーにアクリル系モノマーを併用する場合、アクリル系モノマーと反応性シラン類の重合性官能基とを同時に架橋・重合させることができ、強固な結合になる。これらの場合も、反応性シリカ類は重合させる前に、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子の存在下で加水分解を行うことによって、シリカとの共有結合を形成することができる。
本発明の低屈折率層は、光学部材に転写した後の低屈折率層の表面が平滑であり、表面粗さＲａで０．１〜５ｎｍが好ましい。平滑なものは耐擦傷性が高い傾向がある。このような平滑な表面は、剥離可能な支持体面と低屈折率層とが接する面を平滑にし、さらにバインダー、中空シリカ微粒子、微細シリカ粒子との混合比率によって調整が可能である。
本発明における低屈折率層は、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、レベリング剤、色素、金属塩、界面活性剤、離型剤など種々の添加物を、本発明の趣旨を損なわない範囲で含有させることも可能である。
本発明における低屈折率層は、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、レベリング剤、色素、金属塩、界面活性剤、離型剤など種々の添加物を、本発明の趣旨を損なわない範囲で含有させることも可能である。
本発明の転写用反射防止フィルムを光学基材に転写した後に、低屈折率層の直下に高屈折率層がくるように、支持体Ａ／低屈折率層／高屈折率層 と構成すると、さらに反射防止効果を高めることができるので有効である。高屈折率層としては例えば、チタン、ジルコニウム、亜鉛、アンチモン、インジウム、スズ、セリウム、タンタル、イットリウム、ハフニウム、アルミニウム、マグネシウムなどの金属からなる酸化物または複合酸化物など公知の無機微粒子を、バインダーに分散させたものが用いられる。バインダーは、低屈折率層のバインダーとして上記（１）〜（７）に列挙したものを用いることができるが、その中でも好ましいのは（５）に記載の有機ポリマーのうち側鎖や末端に重合性官能基を有するもの、（６）に記載の重合性モノマー、（７）に記載の硬化性樹脂である。これらバインダーの種類と量は、目的の屈折率、強度、耐光性、黄変性などによって公知のものを用いることができる。高屈折率層の屈折率ｎ２は１．５〜２．５の範囲が好ましく、ｎ１・ｎｓ （１／２）に近い値に設定するのがより好ましい。高屈折率層の厚さは、通常、０．０１μｍ〜１μｍに設定される。
また転写用反射防止フィルム中に帯電防止層を設けると、転写後の光学部材に埃が付着するのを防ぐことができるので有効である。帯電防止層としては、界面活性剤、イオン性ポリマーなどの公知の帯電防止剤や導電性微粒子などをバインダーに分散させたものが用いられる。導電性微粒子としては、例えばインジウム、亜鉛、スズ、モリブデン、アンチモン、ガリウムなどの酸化物あるいは複合酸化物微粒子、銅、銀、ニッケル、低融点合金（ハンダなど）の金属微粒子、金属を被覆したポリマー微粒子、各種のカーボンブラック、ポリピロール、ポリアニリンなどの導電性ポリマー粒子、金属繊維、炭素繊維など、公知のものを用いることができる。この中でも特にＩＴＯ（スズ含有酸化インジウム）粒子、ＡＴＯ（スズ含有酸化アンチモン）粒子が、高い透明性と導電性を発現させることができるので好ましい。帯電防止層の厚さは、通常、０．０１μｍ〜１μｍに設定される。バインダーは、低屈折率層のバインダーとして上記（１）〜（７）に列挙したものを用いることができるが、その中でも好ましいのは（５）に記載の有機ポリマーのうち側鎖や末端に重合性官能基を有するもの、（６）に記載の重合性モノマー、（７）に記載の硬化性樹脂である。
低屈折率層または高屈折率層または帯電防止層の上にハードコート層を設けると、転写後の光学部材の鉛筆強度や耐衝撃性を向上させることができるので好ましい。ハードコート層は、熱硬化や紫外線硬化、電子線硬化が行えるハードコート材料であることが好ましい。
代表的な材料としては、メラミン系、アクリルラジカル系、アクリルシリコーン系、アルコキシシラン系が好ましく、これらのハードコート材料をマトリックスとして有機および／又は無機の微粒子を分散したもの（以下、有機・無機粒子分散系と称する）を用いることも可能である。
代表的な材料としては、メラミン系、アクリルラジカル系、アクリルシリコーン系、アルコキシシラン系が好ましく、これらのハードコート材料をマトリックスとして有機および／又は無機の微粒子を分散したもの（以下、有機・無機粒子分散系と称する）を用いることも可能である。
尚、ハードコート材料は硬化方法に応じて、光重合開始剤や熱重合開始剤、添加剤、溶剤等を含んでいることが好ましい。
上記のハードコート材料のうち、アクリルラジカル系は、多官能アクリレートオリゴマー、及び／又は、多官能アクリレートモノマーを重合したものが好ましい。多官能アクリレートモノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等が挙げられる。
多官能アクリレートオリゴマーとしては、ノボラック型やビスフェノール型エポキシ樹脂をアクリレート変性したエポキシアクリレート、ポリイソシアネートとポリオールを反応させて得られるウレタン化合物のアクリレート変性物であるウレタンアクリレート、ポリエステル樹脂をアクリレート変性したポリエステルアクリレート等が挙げられる。
上記のハードコート材料のうち、アクリルラジカル系は、多官能アクリレートオリゴマー、及び／又は、多官能アクリレートモノマーを重合したものが好ましい。多官能アクリレートモノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等が挙げられる。
多官能アクリレートオリゴマーとしては、ノボラック型やビスフェノール型エポキシ樹脂をアクリレート変性したエポキシアクリレート、ポリイソシアネートとポリオールを反応させて得られるウレタン化合物のアクリレート変性物であるウレタンアクリレート、ポリエステル樹脂をアクリレート変性したポリエステルアクリレート等が挙げられる。
また、アクリルシリコーン系では、シリコーン樹脂上にアクリル基を共有結合により結合させたものが好ましい。
また、アルコキシシラン系では、アルコキシシランを加水分解重縮合させることにより得られたシラノール基を有する縮合体を含んでいるものが好ましい。塗布後の熱硬化等により、シラノール基がシロキサン結合に変換されて硬化膜が得られる。
更に、上記の有機・無機粒子分散系に用いる無機粒子の例としては、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、カオリンおよび硫酸カルシウム粒子が挙げられる。有機粒子の例としては、メタクリル酸−メチルアクリレートコポリマー、シリコーン樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、アクリル酸−スチレンコポリマー、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミドおよびポリフッ化エチレンが挙げられる。これらの粒子の平均粒子径は、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０１〜０．３μｍであることがさらに好ましい。有機粒子、無機粒子は各々複数種を混合して用いても構わず、有機粒子と無機粒子を混合して用いても構わない。
また、アルコキシシラン系では、アルコキシシランを加水分解重縮合させることにより得られたシラノール基を有する縮合体を含んでいるものが好ましい。塗布後の熱硬化等により、シラノール基がシロキサン結合に変換されて硬化膜が得られる。
更に、上記の有機・無機粒子分散系に用いる無機粒子の例としては、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、カオリンおよび硫酸カルシウム粒子が挙げられる。有機粒子の例としては、メタクリル酸−メチルアクリレートコポリマー、シリコーン樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、アクリル酸−スチレンコポリマー、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミドおよびポリフッ化エチレンが挙げられる。これらの粒子の平均粒子径は、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０１〜０．３μｍであることがさらに好ましい。有機粒子、無機粒子は各々複数種を混合して用いても構わず、有機粒子と無機粒子を混合して用いても構わない。
本発明に用いることができる有機粒子、無機粒子はマトリックスとして用いられるハードコート材料と化学結合していてもしていなくてもかまわない。上記の有機・無機粒子分散系のハードコート材料は、上記の粒子がハードコート材中に分散することでハードコート層の硬度を高くし、硬化収縮を抑える機能がある。
無機粒子分散系の具体例としては、無機微粒子を分散させたアクリルラジカル系、無機微粒子を分散させた有機高分子系、無機微粒子を分散させたオルガノアルコキシシラン系等が挙げられ、アクリル系樹脂にシリカや酸化チタン、アルミナ等を分散させたものが好ましい。また、シリカ粒子の表面にアクリロイル基等を修飾した微粒子を用いることも好ましい。
無機粒子分散系の具体例としては、無機微粒子を分散させたアクリルラジカル系、無機微粒子を分散させた有機高分子系、無機微粒子を分散させたオルガノアルコキシシラン系等が挙げられ、アクリル系樹脂にシリカや酸化チタン、アルミナ等を分散させたものが好ましい。また、シリカ粒子の表面にアクリロイル基等を修飾した微粒子を用いることも好ましい。
ハードコート層には、さらに、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、増粘剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤や改質用樹脂を添加してもよい。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳＫ５４００に従う鉛筆硬度試験で、１Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましい。
ハードコート層が表面改質処理をされている場合も好ましい。表面改質処理はコロナ処理、ｄｅｅｐ−ＵＶ照射、エキシマランプ照射、真空プラズマ処理、常圧プラズマ処理、電子線照射等を用いての処理やシランカップリング剤等を含有するプライマー処理等が好ましい。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳＫ５４００に従う鉛筆硬度試験で、１Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましい。
ハードコート層が表面改質処理をされている場合も好ましい。表面改質処理はコロナ処理、ｄｅｅｐ−ＵＶ照射、エキシマランプ照射、真空プラズマ処理、常圧プラズマ処理、電子線照射等を用いての処理やシランカップリング剤等を含有するプライマー処理等が好ましい。
以上、本発明に用いることができるハードコート材料について説明したが、本発明に用いることができるハードコート材料としては、市販のシリコーン系ハードコート、（メタ）アクリル系ハードコート、エポキシ系ハードコート、ウレタン系ハードコート、エポキシアクリレート系ハードコート、ウレタンアクリレート系ハードコートなど、公知のものを挙げることができる。具体的には、信越化学工業株式会社製ＵＶ硬化型シリコーンハードコート剤Ｘ−１２シリーズ、ＧＥ東芝シリコーン株式会社製ＵＶ硬化型シリコーンハードコート剤ＵＶＨＣシリーズや熱硬化型シリコーンハードコート剤ＳＨＣシリーズ、株式会社日本ダクロシャムロック製熱硬化性シリコーンハードコート剤ソルガードＮＰシリーズ、日本化薬株式会社製ＵＶ硬化型ハードコート剤ＫＡＹＡＮＯＶＡ ＦＯＰシリーズが好ましい。この他、多官能モノマーなどと重合開始剤を含む塗布液を塗布し、多官能モノマーなどを重合させることによっても形成できる。ハードコート層の厚さは、通常、０．１μｍ〜１５μｍに設定される。
上記の高屈折率層、帯電防止層、ハードコート層は、これらの有する機能の２つまたは全てを１層にまとめてもよい。すなわち、例えば高い屈折率を有する物質と導電性物質とを共に含む１層を設けて高屈折率・帯電防止層としてもよいし、ハードコート層の中に導電性物質を含有させて帯電防止ハードコート層とするなどの手法を用いてもよい。
本発明の転写用反射防止フィルムを光学基材へ転写する場合、接着層を介して光学基材へ転写するのが簡便である。接着層とは、熱可塑性樹脂または硬化性の樹脂であり、接着して転写させた後における室温での接着層の鉛筆強度が、H以上の硬度を有しているのが好ましく、特に２H以上のものが好ましく用いられる。接着層として、硬化性の樹脂の場合は、熱硬化性樹脂、紫外線硬化樹脂、放射線硬化樹脂を用いることができる。これらの接着層は光学基材へ予め設けていてもよく、転写用反射防止フィルムに設けていてもよい。また、接着層をシートとして、転写用反射防止フィルムと光学基材の間に挟んで、転写用防止フィルムと光学基材との接着を同時に行ってもよい。転写用防止フィルムを光学基材へ転写し、剥離可能な支持体Ａを剥離することによって、光学基材の表層に低屈折率層を設けることができる。
本発明の転写用反射防止フィルムを光学基材へ転写する場合、接着層を介して光学基材へ転写するのが簡便である。接着層とは、熱可塑性樹脂または硬化性の樹脂であり、接着して転写させた後における室温での接着層の鉛筆強度が、H以上の硬度を有しているのが好ましく、特に２H以上のものが好ましく用いられる。接着層として、硬化性の樹脂の場合は、熱硬化性樹脂、紫外線硬化樹脂、放射線硬化樹脂を用いることができる。これらの接着層は光学基材へ予め設けていてもよく、転写用反射防止フィルムに設けていてもよい。また、接着層をシートとして、転写用反射防止フィルムと光学基材の間に挟んで、転写用防止フィルムと光学基材との接着を同時に行ってもよい。転写用防止フィルムを光学基材へ転写し、剥離可能な支持体Ａを剥離することによって、光学基材の表層に低屈折率層を設けることができる。
転写後の低屈折率層の表層には、防汚層を設けてもよい。この場合、スプレー等によってフッ素化合物を塗布することによって防汚層を設けることができる。
次に本発明の転写用反射防止フィルムの製造方法について説明する。
本発明の低屈折率層を製造する方法は限定されず、塗布組成物を用いて支持体Ａ上に塗布する際に、中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子の形状、含有量、塗布液の濃度、バインダーおよび添加物の種類およびそれらの濃度、塗布方法、塗布条件などを制御することによって、製造することができる。用いる分散媒は、実質的にシリカ粒子および後述のバインダーや添加物が安定に分散していれば限定されない。
次に本発明の転写用反射防止フィルムの製造方法について説明する。
本発明の低屈折率層を製造する方法は限定されず、塗布組成物を用いて支持体Ａ上に塗布する際に、中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子の形状、含有量、塗布液の濃度、バインダーおよび添加物の種類およびそれらの濃度、塗布方法、塗布条件などを制御することによって、製造することができる。用いる分散媒は、実質的にシリカ粒子および後述のバインダーや添加物が安定に分散していれば限定されない。
上記分散媒の具体例として水、炭素数１〜６の一価アルコール、炭素数１〜６の二価アルコール、グリセリンなどのアルコール類の他、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−エチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−エチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ（ｎ−プロピル）エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジグライム、１、４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのアルカノールエーテル類、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、炭酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、γ−ブチロラクトン、アセト酢酸エチルなどのエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチル（ｎ−ブチル）ケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、アセチルアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ｎ−ブチロニトリル、イソブチロニトリルなどのニトリル類、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、スルホランなどが好適に用いられる。
より好ましい分散媒は、炭素数１〜６の一価アルコール類、およびエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのアルカノールエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチル（ｎ−ブチル）ケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、アセチルアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類である。
これらの分散媒は、本発明の目的を損なわない限り混合したり、他の任意の溶媒または添加物を混合してもよい。
上記分散液中におけるシリカ粒子の濃度は、良好な成膜性を与える上からは、好ましくは０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．０５〜５重量％である。シリカ粒子の濃度は、所望の厚さをもつ膜を得るという観点から、０．０１重量％以上、成膜の作業性の観点から、１０重量％以下であることが好ましい。
上記分散液を支持体Ａに塗布するにあたり、塗布性能を高めるために、公知のレベリング剤や結合助剤（カップリング剤）を添加することも有効である。
上記分散液中におけるシリカ粒子の濃度は、良好な成膜性を与える上からは、好ましくは０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．０５〜５重量％である。シリカ粒子の濃度は、所望の厚さをもつ膜を得るという観点から、０．０１重量％以上、成膜の作業性の観点から、１０重量％以下であることが好ましい。
上記分散液を支持体Ａに塗布するにあたり、塗布性能を高めるために、公知のレベリング剤や結合助剤（カップリング剤）を添加することも有効である。
本発明の低屈折率層の屈折率は、反射率を抑制するという観点から、１．４３以下であることが好ましく、より好ましくは１．４０以下とすることも可能である。
塗布組成物の塗布は、ディッピング、スピンコーター、ナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーター、キャップコーターなどの公知の方法を用いて実施することができる。これらのうち、連続塗布が可能なナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレーコーター、ダイコーターおよびキャップコーターが好ましく用いられる。
塗布組成物の塗布は、ディッピング、スピンコーター、ナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーター、キャップコーターなどの公知の方法を用いて実施することができる。これらのうち、連続塗布が可能なナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレーコーター、ダイコーターおよびキャップコーターが好ましく用いられる。
上記のシリカ粒子を含む分散液およびバインダーを含む溶液を塗布した後は、分散媒を揮発させたり、シリカ粒子間およびバインダー成分を縮合、架橋させるために加熱を行うのが有効である。加熱温度と時間は支持体Ａの耐熱性によって決定されるが、加熱温度は５０℃〜２００℃、時間は１秒〜１時間の間から選ぶことが好ましく、より好ましくは８０℃〜１５０℃、１０秒間〜３分間の範囲である。また上記バインダーが放射線硬化性を有する場合は、紫外線、電子線などを公知の方法によって照射する。
高屈折率層またはハードコート層を塗工する場合は、上記のそれぞれの材料に必要に応じて添加物を添加した組成物を、必要に応じて溶媒を用いた塗布溶液として支持体Ａ上の低屈折率層へ高屈折率組成物を、または支持体Ａ／低屈折率層／高屈折率層へハードコート組成物を塗布成膜・硬化することによって製造することが可能である。溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル等のエステル類、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類の溶媒、好ましくはトルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノール等を用いることができる。
高屈折率層またはハードコート層を塗工する場合は、上記のそれぞれの材料に必要に応じて添加物を添加した組成物を、必要に応じて溶媒を用いた塗布溶液として支持体Ａ上の低屈折率層へ高屈折率組成物を、または支持体Ａ／低屈折率層／高屈折率層へハードコート組成物を塗布成膜・硬化することによって製造することが可能である。溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル等のエステル類、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類の溶媒、好ましくはトルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノール等を用いることができる。
高屈折率層、ハードコート層の塗布成膜方法は特に制限はなく、上記の低屈折率層の形成方法に記載した方法を用いることができる。
高屈折率層、ハードコート層は塗布乾燥後、８０〜１５０℃で加熱して硬化させることにより、或いは、光や電子線を用いて硬化させることにより得ることができる。
以上の製造方法により本発明の転写用反射防止フィルムを製造することができる。
本発明の転写用反射防止フィルムを用いた光学部材は、ヘイズ値においても優れており、転写用反射防止フィルムを用いることによるヘイズの変化は２．０％以下、製造条件によっては１．０％以下、０．８％以下の値を提供できる。
高屈折率層、ハードコート層は塗布乾燥後、８０〜１５０℃で加熱して硬化させることにより、或いは、光や電子線を用いて硬化させることにより得ることができる。
以上の製造方法により本発明の転写用反射防止フィルムを製造することができる。
本発明の転写用反射防止フィルムを用いた光学部材は、ヘイズ値においても優れており、転写用反射防止フィルムを用いることによるヘイズの変化は２．０％以下、製造条件によっては１．０％以下、０．８％以下の値を提供できる。
以上の通り、本発明の転写用反射防止フィルムとその製造条件について説明したが、本発明の転写用反射防止フィルムを用いることにより、低屈折率層とディスプレイ表面の間に粘着材層やＰＥＴフィルムなどがなく、また、極めて高い機械的強度を有する反射防止層を有しているため、光学部材としての傷つきや変形などの耐久性にも優れ、さらに、最低反射率が１％以下、多くの場合０．５％以下である光学部材の反射防止を達成することが可能となる。
このような転写用反射防止フィルムは、例えば、メガネレンズ、ゴーグル、コンタクトレンズ等のメガネ分野；車の窓、インパネメーター、ナビゲーションシステム等の自動車分野；窓ガラス等の住宅・建築分野；ハウスの光透過性フィルムやシート等の農芸分野；太陽電池、光電池、レーザー等のエネルギー分野；ＴＶブラウン管、ノートパソコン、電子手帳、タッチパネル、液晶テレビ、液晶ディスプレイ、車載用テレビ、液晶ビデオ、プロジェクションテレビ、プラズマディスプレイ、プラズマアドレス液晶ディスプレイ、電解放出型ディスプレイ、有機／無機ＥＬディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ、光ファイバー、光ディスク等の電子情報機器分野；照明グローブ、蛍光灯、鏡、時計等の家庭用品分野；ショーケース、額、半導体リソグラフィー、コピー機器等の業務用分野；液晶ゲーム機器、パチンコ台ガラス、ゲーム機等の娯楽分野などにおいて、映り込みの防止及び／又は光透過性の向上を必要としている非常に広範な用途に用いることができる。
本発明を実施例、比較例を用いて更に具体的に説明する。
［各種測定方法］
（１）反射率の測定； ＦＥ−３０００型反射分光計（大塚電子株式会社製）を用いて、波長２５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で反射率スペクトルを測定した。視感度反射率は、測定した反射率スペクトルより、ＪＩＳ Ｚ８７２０に規定されているＤ６５光源に対する視感度反射率を計算した。
（２）へイズの測定；日本電色工業株式会社製濁度計（曇り度計）ＮＤＨ２０００を
用いて、ＪＩＳＫ７３６１−１に規定される方法にて測定した。
（３）鉛筆硬度は、ＪＩＳＳ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ Ｋ５４００に規定される鉛筆硬度の評価方法に従い、１ｋｇ荷重における鉛筆硬度を評価した。
「○」；傷なし、「△」；跡が残ったもの、「×」；傷が入ったものを基準にした。
（４）耐摩耗性；直径1cmのステンレス柱の片端にスチールウール（ボンスター＃００００：日本スチールウール（株）製）を取り付け、荷重２００g/cm2で１０回擦り、傷の目視判定で判断した。その判断基準としては、
「○」；傷なし、「△」；傷が数本、「×」；傷が10本以上 を基準にした。
（５）表面粗さ（Ｒａ）；米国Digital Instruments社製NanoScopeIIIａを用い、測定
条件として、タッピングモード、Scan size １．０μｍ、Scan rate 1.0Hz、Tip velocity 2.0μｍ/ｓ、Set points 1.5、Integral gain 0.46、Proportional gain 1.3、画像処理：Flatten order=０ にてフラット処理を行い、垂直方向の補正を行った。表面粗さとしては 算術平均粗さＲａを指標数値として用いた。
［各種測定方法］
（１）反射率の測定； ＦＥ−３０００型反射分光計（大塚電子株式会社製）を用いて、波長２５０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で反射率スペクトルを測定した。視感度反射率は、測定した反射率スペクトルより、ＪＩＳ Ｚ８７２０に規定されているＤ６５光源に対する視感度反射率を計算した。
（２）へイズの測定；日本電色工業株式会社製濁度計（曇り度計）ＮＤＨ２０００を
用いて、ＪＩＳＫ７３６１−１に規定される方法にて測定した。
（３）鉛筆硬度は、ＪＩＳＳ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ Ｋ５４００に規定される鉛筆硬度の評価方法に従い、１ｋｇ荷重における鉛筆硬度を評価した。
「○」；傷なし、「△」；跡が残ったもの、「×」；傷が入ったものを基準にした。
（４）耐摩耗性；直径1cmのステンレス柱の片端にスチールウール（ボンスター＃００００：日本スチールウール（株）製）を取り付け、荷重２００g/cm2で１０回擦り、傷の目視判定で判断した。その判断基準としては、
「○」；傷なし、「△」；傷が数本、「×」；傷が10本以上 を基準にした。
（５）表面粗さ（Ｒａ）；米国Digital Instruments社製NanoScopeIIIａを用い、測定
条件として、タッピングモード、Scan size １．０μｍ、Scan rate 1.0Hz、Tip velocity 2.0μｍ/ｓ、Set points 1.5、Integral gain 0.46、Proportional gain 1.3、画像処理：Flatten order=０ にてフラット処理を行い、垂直方向の補正を行った。表面粗さとしては 算術平均粗さＲａを指標数値として用いた。
［剥離可能な支持体Ａの調整］
厚さ５０μｍの２軸延伸ＰＥＴフィルムの片面に、アクリル系紫外線硬化型樹脂（サンラッド RC-600、三洋化成工業株式会社製）の５０ｗｔ％メチルエチルケトン溶液をバーコーターで塗布し、紫外線硬化させて支持体Aを調整した。塗布面を剥離可能な面として、この表面粗さを測定したところ、Ｒａは１ｎｍだった。
厚さ５０μｍの２軸延伸ＰＥＴフィルムの片面に、アクリル系紫外線硬化型樹脂（サンラッド RC-600、三洋化成工業株式会社製）の５０ｗｔ％メチルエチルケトン溶液をバーコーターで塗布し、紫外線硬化させて支持体Aを調整した。塗布面を剥離可能な面として、この表面粗さを測定したところ、Ｒａは１ｎｍだった。
［塗工液の調製］
（低屈折率層用塗工液ＬＡ）
中空シリカ微粒子として触媒化成株式会社製、平均粒径６０ｎｍ、屈折率１．３０、固形分２０ｗｔ％のイソプロパノール分散液を用いた。微細シリカ粒子として日産化学工業株式会社製球状シリカゾル、商品名スノーテックスＩＰＡ−ＳＴ−Ｓ、粒子径８〜１１ｎｍ、固形分２５ｗｔ％のイソプロパノール分散液を用いた。中空シリカ微粒子分散液２０重量部に対して、微細シリカ粒子分散液８重量部、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）２５重量部を室温で混合し、シリカのＩＰＡ分散液を得た。次いで反応性シラン類として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン３．７重量部を攪拌下に室温で滴下、混合し、さらに０．４Ｍ硝酸水溶液1.1重量部を滴下後、室温で５時間撹拌して反応性シラン類の加水分解を行い、反応性シラン類と中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子との共有結合（Si-O-Si結合）を生成させた（調製液ＬＡ１）。
調製液ＬＡ１に「イルガキュア３６９」の１ｗｔ％エタノール溶液を、調整液ＬＡ１の１００重量部に対して１００重量部混合させた後、ＩＰＡで固形分濃度を３ｗｔ％に希釈して低屈折率層用塗工液ＬＡを調整した。
（低屈折率層用塗工液ＬＡ）
中空シリカ微粒子として触媒化成株式会社製、平均粒径６０ｎｍ、屈折率１．３０、固形分２０ｗｔ％のイソプロパノール分散液を用いた。微細シリカ粒子として日産化学工業株式会社製球状シリカゾル、商品名スノーテックスＩＰＡ−ＳＴ−Ｓ、粒子径８〜１１ｎｍ、固形分２５ｗｔ％のイソプロパノール分散液を用いた。中空シリカ微粒子分散液２０重量部に対して、微細シリカ粒子分散液８重量部、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）２５重量部を室温で混合し、シリカのＩＰＡ分散液を得た。次いで反応性シラン類として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン３．７重量部を攪拌下に室温で滴下、混合し、さらに０．４Ｍ硝酸水溶液1.1重量部を滴下後、室温で５時間撹拌して反応性シラン類の加水分解を行い、反応性シラン類と中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子との共有結合（Si-O-Si結合）を生成させた（調製液ＬＡ１）。
調製液ＬＡ１に「イルガキュア３６９」の１ｗｔ％エタノール溶液を、調整液ＬＡ１の１００重量部に対して１００重量部混合させた後、ＩＰＡで固形分濃度を３ｗｔ％に希釈して低屈折率層用塗工液ＬＡを調整した。
（低屈折率層用塗工液ＬＢ）
中空シリカ微粒子の量を１としたとき、対する微細シリカ粒子の量が０．３となるようにした以外は、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子の合計濃度が低屈折率層用塗工液LAと同様になるようにして低屈折率用塗工液LＢを調整した。
中空シリカ微粒子の量を１としたとき、対する微細シリカ粒子の量が０．３となるようにした以外は、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子の合計濃度が低屈折率層用塗工液LAと同様になるようにして低屈折率用塗工液LＢを調整した。
（高屈折率層用塗工液ＨＡ）
ＩＴＯ微粒子のエタノール分散液（触媒化成工業社製「ELCOM V-2506」固形分20.5wt%）２０重量部に対して、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート１重量部、ＩＴＯの分散助剤（燐酸エステル系）０．１重量部、開始剤として「イルガキュア（商標登録）１８４」を０．１重量部用い、これらをエタノール溶媒中で混合・分散させて、固形分濃度４ｗｔ％の高屈折率用塗工液ＨＡを調整した。
ＩＴＯ微粒子のエタノール分散液（触媒化成工業社製「ELCOM V-2506」固形分20.5wt%）２０重量部に対して、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート１重量部、ＩＴＯの分散助剤（燐酸エステル系）０．１重量部、開始剤として「イルガキュア（商標登録）１８４」を０．１重量部用い、これらをエタノール溶媒中で混合・分散させて、固形分濃度４ｗｔ％の高屈折率用塗工液ＨＡを調整した。
（低屈折率層用塗工液ＬＣ１）
中空シリカ微粒子分散液２０重量部に対して、微細シリカ粒子分散液１０重量部、反応性シラン類として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを６重量部用いた。用いたイルガキュア３６９は、反応性シラン類の量に比例させた。これらの量比以外は低屈折率層用塗工液ＬＡと同様にして低屈折率層用塗工液ＬＣ１を調整した。
中空シリカ微粒子分散液２０重量部に対して、微細シリカ粒子分散液１０重量部、反応性シラン類として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを６重量部用いた。用いたイルガキュア３６９は、反応性シラン類の量に比例させた。これらの量比以外は低屈折率層用塗工液ＬＡと同様にして低屈折率層用塗工液ＬＣ１を調整した。
（低屈折率層用塗工液ＬＣ２）
中空シリカ微粒子分散液２０重量部に対して、微細シリカ粒子分散液１０重量部、反応性シラン類として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを０．３重量部用いた。用いたイルガキュア３６９は、反応性シラン類の量に比例させた。これらの量比以外は低屈折率層用塗工液ＬＡと同様にして低屈折率層用塗工液ＬＣ２を調整した。
中空シリカ微粒子分散液２０重量部に対して、微細シリカ粒子分散液１０重量部、反応性シラン類として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを０．３重量部用いた。用いたイルガキュア３６９は、反応性シラン類の量に比例させた。これらの量比以外は低屈折率層用塗工液ＬＡと同様にして低屈折率層用塗工液ＬＣ２を調整した。
（低屈折率層用塗工液ＬＣ３）
中空シリカ微粒子分散液３０重量部に対して、反応性シラン類として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを３．６重量部用い、微細シリカ粒子は用いなかった以外は、低屈折率層用塗工液ＬＡと同様にして低屈折率層用塗工液ＬＣ３を調整した。
中空シリカ微粒子分散液３０重量部に対して、反応性シラン類として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを３．６重量部用い、微細シリカ粒子は用いなかった以外は、低屈折率層用塗工液ＬＡと同様にして低屈折率層用塗工液ＬＣ３を調整した。
（低屈折率層用塗工液ＬＣ４）
平均径約１２ｎｍのシリカ一次粒子で構成された、平均長さが約１００ｎｍの数珠状シリカストリングの水性分散液（スノーテックスＯＵＰ、日産化学工業株式会社製、シリカ固形分濃度１５．５ｗｔ％）を中空シリカ微粒子の代わりに用いた。数珠状シリカの固形分量が低屈折率層用塗工液ＬＡの中空シリカ微粒子と同等になるようにして、低屈折率層用塗工液ＬＡと同様にして低屈折率層用塗工液ＬＣ４を調整した。
平均径約１２ｎｍのシリカ一次粒子で構成された、平均長さが約１００ｎｍの数珠状シリカストリングの水性分散液（スノーテックスＯＵＰ、日産化学工業株式会社製、シリカ固形分濃度１５．５ｗｔ％）を中空シリカ微粒子の代わりに用いた。数珠状シリカの固形分量が低屈折率層用塗工液ＬＡの中空シリカ微粒子と同等になるようにして、低屈折率層用塗工液ＬＡと同様にして低屈折率層用塗工液ＬＣ４を調整した。
［実施例１〜２、比較例１〜４］
「支持体Ａ」の「剥離可能な面」側に、バーコーターを用いて、表１に記載した「低屈折率用塗工液」をそれぞれ塗工し、６０℃で１分乾燥させた後、ｆｕｓｉｏｎ−ＵＶで紫外線硬化させることで「低屈折率層」を形成させた。低屈折率層の厚みは７０〜１００ｎｍだった。
次に、それぞれの「低屈折率層」の上に、バーコーターを用いて、「高屈折率層用塗工液ＨＡ」を塗工し、５０℃で１分乾燥させた後、ｆｕｓｉｏｎ−ＵＶで紫外線硬化させることで「高屈折率層」を形成させた。高屈折率層の厚みは９０〜１１０ｎｍだった。
「支持体Ａ」の「剥離可能な面」側に、バーコーターを用いて、表１に記載した「低屈折率用塗工液」をそれぞれ塗工し、６０℃で１分乾燥させた後、ｆｕｓｉｏｎ−ＵＶで紫外線硬化させることで「低屈折率層」を形成させた。低屈折率層の厚みは７０〜１００ｎｍだった。
次に、それぞれの「低屈折率層」の上に、バーコーターを用いて、「高屈折率層用塗工液ＨＡ」を塗工し、５０℃で１分乾燥させた後、ｆｕｓｉｏｎ−ＵＶで紫外線硬化させることで「高屈折率層」を形成させた。高屈折率層の厚みは９０〜１１０ｎｍだった。
市販のハードコート剤（日本化薬株式会社UV硬化型ハードコート剤FOP4000）をトルエンで２倍に希釈して、ハードコート層用塗布液を調整した。このハードコート層用塗布液をバーコーターを用いてそれぞれの「高屈折率層」の上に塗工し、５０℃で１分乾燥させた後、ｆｕｓｉｏｎ−ＵＶで紫外線硬化させることで「ハードコート層」を形成させた。このハードコート層の厚みは３．３〜３．５μｍだった。
それぞれの「ハードコート層」の上に、熱可塑性ウレタン系接着剤塗工液をバーコートで塗工した。その後、１５０℃で３０秒乾燥させて、接着層を形成させた。この接着層の厚さは約２．５μｍだった。
これらの操作で、実施例１〜２、比較例１〜４において、それぞれ「支持体Ａ／低屈折率層／高屈折率層／ハードコート層／接着層」の層構成を有した転写用反射防止フィルムを作成した。
それぞれの「ハードコート層」の上に、熱可塑性ウレタン系接着剤塗工液をバーコートで塗工した。その後、１５０℃で３０秒乾燥させて、接着層を形成させた。この接着層の厚さは約２．５μｍだった。
これらの操作で、実施例１〜２、比較例１〜４において、それぞれ「支持体Ａ／低屈折率層／高屈折率層／ハードコート層／接着層」の層構成を有した転写用反射防止フィルムを作成した。
厚さ２ｍｍのポリメタクリル酸メチル板（デラグラス、旭化成ケミカルズ株式会社製）を光学部材評価用として用い、この板にそれぞれの転写用反射防止フィルムをラミネートすることによって転写した。ラミネートは、大成ラミネーター株式会社製ＭＡII−５５０型を用い、２３０℃、ローラー圧１ｋｇで行った。
ラミネート後、剥離可能な支持体Ａを剥離させた後、ポリメタクリル酸メチル板のラミネートしていない側の面を、サンドペーパーで粗したのち、黒色インクで塗りつぶした。この塗りつぶしたものについて、その反対面の反射率を測定した。これらの結果を表１に要約した。
ラミネート後、剥離可能な支持体Ａを剥離させた後、ポリメタクリル酸メチル板のラミネートしていない側の面を、サンドペーパーで粗したのち、黒色インクで塗りつぶした。この塗りつぶしたものについて、その反対面の反射率を測定した。これらの結果を表１に要約した。
耐擦傷性テスト、鉛筆硬度テスト、Ｒａ測定には、ラミネートして転写した後に支持体Ａを剥離させた低屈折率層の表面を用いた。これらの結果を表１に要約した。
なお転写後の層構成は「ポリメタクリル酸メチル板／接着層／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層」になっている。
また転写後の低屈折率層の表面抵抗を測定したが、実施例１，２のものは108Ω/□のオーダーだった。
なお転写後の層構成は「ポリメタクリル酸メチル板／接着層／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層」になっている。
また転写後の低屈折率層の表面抵抗を測定したが、実施例１，２のものは108Ω/□のオーダーだった。
本発明の転写用反射防止フィルムは、光学部材との間に粘着材やＰＥＴフイルム等を介さずに反射防止を施すことができ、優れた反射防止性能と機械的強度を併せ持つため、携帯電話や液晶ディスプレイ等の電子情報機器分野、メガネ分野等の映り込み防止及び／又は光透過性の向上を必要としている用途に用いることができる。
Claims (4)
- 剥離可能な支持体上に設けられた少なくとも１層の低屈折率層を有する転写用反射防止フィルムであって、前記低屈折率層は内部に空洞を有する中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子およびバインダーとを含み、中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子の重量に対して、バインダーが重量比で０．１以上０．８以下であることを特徴とする転写用反射防止フィルム。
- バインダーは、反応性シラン類をバインダー成分として１０ｗｔ％以上用いて反応させたものであることを特徴とする請求項１記載の転写用反射防止フィルム。
- 中空シリカ微粒子の外径が３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、微細シリカ粒子の外径が３ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の転写用反射防止フィルム。
- 中空シリカ微粒子に対して微細シリカ粒子が重量比で０．１以上１．０以下であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の転写用反射防止フィルム。
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