JP2015004937A

JP2015004937A - 反射防止フィルム

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Publication number: JP2015004937A
Application number: JP2013131745A
Authority: JP
Inventors: 航大久保; Wataru Okubo; かおり中島; Kaori Nakajima
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2013-06-24
Filing date: 2013-06-24
Publication date: 2015-01-08
Anticipated expiration: 2033-06-24
Also published as: JP6354124B2

Abstract

【課題】反射防止フィルムにおいて、ディスプレイ表面の外光の反射を抑制し、かつ外傷による反射防止フィルムの劣化を防ぐこと。
【解決手段】透明支持体上にハードコート層と低屈折率層を順に積層した反射防止フィルムであって、低屈折率層表面の金属平滑面に対する静摩擦係数が０．１０から０．２５までの範囲内であり、低屈折率層の表面粗さＲａが３．０ｎｍより小さく、反射防止フィルム表面での平均視感反射率が０．１％以上１．０％以下となる反射防止フィルムを作製することで、ディスプレイ表面の外光の反射を抑制し、かつ外傷による反射防止フィルムの劣化を防ぐことができる。
【選択図】図１

Description

本明細書の開示内容は、ディスプレイなどの表面において、外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルム、その反射防止フィルムを備える表示装置、その反射防止フィルムを備える偏光板およびタッチパネルに関する。

一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化が求められている。

一般に反射防止機能は、透明支持体上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産が注目されている。

特開２０１２−０３６３９４号公報

しかしながら、上記反射防止フィルムは、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着しやすく、また、付着したそれらの汚れが拭き取りにくく、また、拭き取る際に反射防止フィルム表面に傷が付いてしまうという問題があった。

これらの問題の解決を様々な手法を用いて改善を試みている。例としては、低屈折率層の表面エネルギーを制御する手法（特許文献１）が挙げられるが、表面エネルギーの測定や制御が難しく、生産管理などの面を考慮した場合、実際に反射防止に適応することは難しい。

このような従来技術が抱える課題を解決する手段は、例えば、以下のような反射防止フィルム、その反射防止フィルムを備える表示装置、その反射防止フィルムを備える偏光板により達成される。

一態様において、次のような反射防止フィルムが提供される。この反射防止フィルムは、透明支持体上にハードコート層と低屈折率層を順に積層した反射防止フィルムであって、低屈折率層表面の金属平滑面に対する静摩擦係数が０．１０から０．２５の範囲内であることを特徴とする。なお、この低屈折率層は、有機樹脂を含み得る。

一実施形態において、上述の反射防止フィルムの表面粗さＲａは、３．０ｎｍより小さくともよい。

別の実施形態において、上記反射防止フィルム表面での平均視感反射率が０．１％以上１．０％以下の範囲内であってもよい。

別の態様において、偏光板が提供され、この偏光板は、上述のような反射防止フィルムのいずれかを備える。

さらに別の態様において、タッチパネルが提供され、このタッチパネルは、反射防止フィルムを備える。

本明細書で使用される場合、「タッチパネル」とは、表示面を備え当該表示面に一体的に設けられた検出部を介して入力操作を受け付ける入力装置である。

さらに別の態様において、表示装置が提供され、この表示装置は、上述のような反射防止フィルムを備える。

本明細書で使用される場合、「表示装置」との用語は、そのユーザに対して視覚的に出力するための端末装置をいい、この表示装置は、例えば、その表示面（ｄｉｓｐｌａｙｓｃｒｅｅｎ）に画像を映し出す。このような表示装置としては、特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などが挙げられるが、これらに限定されない。

例示的な実施形態において、上記のような反射防止フィルムを、画像表示装置や液晶表示装置に設置することにより、また、そのような反射防止フィルムを用いた偏光板を液晶表示装置の表面に設けることにより、また、該反射防止フィルムをタッチパネルに使用することにより、ディスプレイ表面の外光の反射を抑制することができ、また外傷による反射防止フィルムの劣化を防ぐことができる。

図１は、本明細書で開示される反射防止フィルムの一実施形態の模式断面図の一例である。

以下、本明細書において開示される反射防止フィルムについて詳細につき、例示的な内容を参照しつつ説明する。

この反射防止フィルムの構造は、概ね、透明支持体上に、ハードコート層、低屈折率層を順に積層する構造をとる。ここで、この低屈折率層は、その透明支持体及びハードコート層よりも低い屈折率を有している。そして、この低屈折率層表面の金属平滑面に対する静摩擦係数が０．１０から０．２５までの範囲内であることを特徴とする反射防止フィルムである。

例示的な実施形態において、反射防止フィルムは、低屈折率層表面の金属平滑面に対する静摩擦係数が０．１０から０．２５までの範囲内であることで、被摩擦体のすべり性が良好となり、反射防止フィルム表面にキズが付きにくくなる。

一実施形態において、その反射防止フィルムの表面粗さＲａは、３．０ｎｍより小さくともよい。

上記の反射防止フィルムの表面粗さＲａが３．０ｎｍ以上であった場合、反射防止フィルム表面の静摩擦係数を０．１０から０．２５の範囲にすることが難しくなるため、表面粗さＲａが３．０ｎｍより小さいことが好ましい。

一実施形態において、反射防止フィルムの平均視感反射率は、０．１％以上１．０％以下の範囲内であることが好ましい。平均視感反射率が、１．０％以上であった場合、反射防止機能が十分に発揮されない可能性があるためである。また、０．１％以下の平均視感反射率は、反射防止フィルム表面の低屈折率層の膜屈折率を大きく下げなくてはならず、機械強度や防汚性など、その他特性を同時に満たすことが難しくなるため好ましくない。

一実施形態に係る反射防止フィルムの層構成の一例に関して、図１を参照しつつ詳細に説明する。図１は、反射防止フィルムの一実施形態の模式断面図の一例を示す。この反射防止フィルムは、透明支持体上に、ハードコート層、低屈折率層を順に積層している。ここで、低屈折率層は、透明支持体及びハードコート層よりも低い屈折率を有する。反射防止フィルムである。このとき、高屈折率層（ハードコート層、低屈折率層よりも高屈折率である層）を、ハードコート層と低屈折率層との間に設けた光学３層構成をとることも可能である。また、高屈折率層と低屈折率層とを交互に任意の数だけ積層した、多層膜の層構成を使用することも原理上可能である。しかしながら、フィルムの機械強度、製造コスト、良品生産率等を考慮した場合、図１のように、その反射防止フィルム（１０）は、透明支持体（１１）の上にハードコート層（１２）が設けられ、その上に低屈折率層（１３）を設けられることで得られる積層体とすることが、好ましい。低屈折率層（１３）は、本例における反射防止フィルムの最表層に設けられ、これによって反射防止機能、防汚機能、および耐擦傷機能を当該フィルムに付与する。

このとき、各層の膜厚と屈折率を調整していくことで、反射光の色相パラメータであるａ＊値、ｂ＊値を目的のものへ合わせ込むことが出来る。例えば、ハードコート層の膜厚は３．０μｍ以上、１０μｍ以下の範囲に、ハードコート層の屈折率は１．４５以上、１．５５以下の範囲に、低屈折率層の膜厚ｄ_１は数式（１）の範囲にあり、低屈折率層の屈折率ｎ_１は１．２５以上１．３５以下の範囲であることが望ましい。数式（１）は下記のようになっている。

数式（１）：（２×λ／４）×０．８＜ｎ_１ｄ_１＜（２×λ／４）×１．２
ここで、反射防止フィルムにおける反射防止設計中心波長λは通常、人間が最も感知しやすい緑色の波長帯（例えば、５５０ｎｍ）が選ばれる。

上述のハードコート層及び低屈折率層の塗工方法としては、スプレー法、スクリーン印刷法、ドクターブレード法、グラビア印刷法、ダイコート法、インクジェット法等既存の塗布方法が挙げられるが、特に限定しない。

反射防止フィルムにおける透明支持体としては、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。中でも、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから各種ディスプレイに対し好適に用いることができる。

さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明支持体は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。

なお、透明支持体の厚みは２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内にあることが好ましく、さらには、２０μｍ以上８０μｍ以下の範囲内にあることが好ましい。

例示的な実施形態における反射防止フィルムのハードコート層として、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。

本明細書において使用される場合、用語「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。

単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。

アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６ｌ等、日本合成化学社製、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６４０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ等、新中村化学社製、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ等、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９等、根上工業社製、ＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳ等を挙げることができるがこの限りではない。

またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができ、特にその材料を限定しない。

また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、ハードコート層形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部〜１０重量部、好ましくは１重量部〜７重量部、更に好ましくは１重量部〜５重量部である。

さらに、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。

また、ハードコート層形成用塗液にはその他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤などが挙げられる。

反射防止フィルムにおける低屈折率層としては、低屈折粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ_３ＡｌＦ_６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。

低屈折率層に用いられる低屈折率粒子としては、平均粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。平均粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。なお、本明細書で使用する場合、微粒子の「平均粒径（平均粒子径）」は、特段別の示さない限り、または、別の条件と矛盾しない限り、動的光散乱法により測定される微粒子の平均粒子径であり、粒径分布を累積分布で表したときの５０％粒径（ｄ５０メジアン径）である。

低屈折率層を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては電離放射線硬化型材料を含む。電離放射線硬化型材料としては、ハードコート層形成用塗液に含まれる電離放射線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。また、適宜これらの樹脂がフッ素化されたものでも構わない。

ただし、下記有機シリコーン化合物との相溶性が悪いバインダマトリックス材料に関しては、低屈折率層表面に対しすべり性を付与することができなくなるため、使用することはできない。

低屈折率層に有機シリコーン化合物、若しくはこの有機シリコーン化合物の重合体のいずれかからなる組成物を用いることができる。有機シリコーン化合物とは、シリコーン結合を持つ材料のことをいう（一般式（１））。例えば、シリコーンオイル、変性シリコーンオイル等を挙げることができる。
一般式（１）：Ｓｉ（ＯＲ）_４
一般式（１）において、Ｒは直鎖状または分岐状アルキル基であり、一般式（１）で表される有機シリコーン化合物としては、Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_４、Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_４、Ｓｉ（ＯＣ_３Ｈ_７）_４、Ｓｉ〔ＯＣＨ（ＣＨ_３）_２）〕_４、Ｓｉ（ＯＣ_４Ｈ_９）_４等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。

ここで、実施例および比較例を参照しつつ、本明細書で開示される反射防止フィルムの例示的な実施形態についてさらに詳細に説明する。しかしながら、当該実施例は、あくまで例示を目的とするものであり、その反射防止フィルムが、当該実施例の内容に限定して解釈されることを意図するものではない。

以下では、まず、実施例１から５までおよび比較例１および２において用いた塗液等の調製例を、調製例１から８までに示す。次に、その調製した塗液等を用いて反射防止フィルムを、実施例等の各々で利用する手順を形成例１および２として示す。また、実施例等の各々が、具体的に用いた、どの塗液等および手順の組み合わせを、さらに後述する。そして、その後、実施例等で得られた反射防止フィルムの評価結果等につき、本節において言及する。

＜調製例１＞
（ハードコート層形成用塗液）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：Ａ−ＤＰＨ、新中村化学工業株式会社製）２５質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（商品名：Ａ−ＴＭＭＴ、新中村化学工業株式会社製）２５質量部、ウレタンアクリレート（商品名：ＵＡ−３０６Ｈ、共栄社化学株式会社製）５０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部を用い、これをアセトンに溶解してハードコート層形成塗液を調製した。

＜調製例２＞
（低屈折率層形成用塗液１）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒径６０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）７０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ、新中村化学株式会社製）６質量部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名；イルガキュア１８４）０．９質量部、ＴＳＦ４４６０（商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製：アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル）０．６質量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８０重量部で希釈して低屈折率層形成塗液を調製した。

＜調製例３＞
（低屈折率層形成用塗液２）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒径６０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）７０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ、新中村化学株式会社製）６質量部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名；イルガキュア１８４）０．９質量部、ＴＳＦ４４６０（商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製：アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル）０．３質量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン７９．７重量部で希釈して低屈折率層形成塗液を調製した。

＜調製例４＞
（低屈折率層形成用塗液３）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒径６０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）４５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ、新中村化学株式会社製）６質量部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名；イルガキュア１８４）０．９質量部、ＴＳＦ４４６０（商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製：アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル）０．６質量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン５４．２重量部で希釈して低屈折率層形成塗液を調製した。

＜調製例５＞
（低屈折率層形成用塗液４）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒径６０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）７０質量部、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：Ａ−ＤＰＨ、新中村化学工業株式会社製）６質量部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名；イルガキュア１８４）０．９質量部、ＴＳＦ４４６０（商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製：アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル）０．６質量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８０重量部で希釈して低屈折率層形成塗液を調製した。

＜調製例６＞
（低屈折率層形成用塗液５）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒径６０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）１２０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ、新中村化学株式会社製）６質量部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名；イルガキュア１８４）０．９質量部、ＴＳＦ４４６０（商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製：アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル）０．６質量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン１３１．６重量部で希釈して低屈折率層形成塗液を調製した。

＜調製例７＞
（低屈折率層形成用塗液６）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒径６０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）７０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ、新中村化学株式会社製）６質量部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名；イルガキュア１８４）０．９質量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン７９．４重量部で希釈して低屈折率層形成塗液を調製した。

＜調製例８＞
（低屈折率層形成用塗液７）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒径６０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）７０質量部、ライトアクリレートＢＰ−４ＰＡ（共栄社科学(株)製）６質量部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名；イルガキュア１８４）０．９質量部、ＴＳＦ４４６０（商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製：アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル）０．６質量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８０重量部で希釈して低屈折率層形成塗液を調製した。

次に、上述にように調製した塗液等を用いて反射防止フィルムのハードコート層および低屈折率層を形成する手順を、形成例１および形成例２として説明する。

＜形成例１＞
（ハードコート層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製：膜厚６０μｍ）の片面にハードコート層形成用塗液を塗布し、６５℃・３０秒オーブンで乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層を形成させた。ハードコート層の屈折率は１．５２であった。

＜形成例２＞
（低屈折率層の形成）
上記方法にて形成した高屈折率層上に低屈折率層形成用塗液を乾燥後の膜厚が１０５ｎｍとなるように塗布した。紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。

（実施例および比較例における反射防止フィルムの形成条件）
実施例および比較例に係る反射防止フィルムは、具体的には次のように行った。

（実施例１）
実施例１は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例２＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。

（実施例２）
実施例２は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例３＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。

（実施例３）
実施例３は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例４＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。

（実施例４）
実施例４は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例５＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。

（実施例５）
実施例５は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例６＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。

（比較例１）
比較例１は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例７＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。

（比較例２）
比較例２は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例８＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。

なお、上述の各手順において、特に説明のないものについては、実施例１での操作に準じるものとする。

(反射防止フィルムの評価)
実施例１から実施例４、及び比較例１から比較例４で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価を行った。

（塗布ムラ）
作製した反射防止フィルムに対し、塗布膜の面内均一性を評価した。塗布膜の面内均一性は、作成した反射防止フィルムの低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った後に、目視にて評価を行った。判定基準を以下に示す（冒頭の記号（○、×）は、表１中の記号に対応する）。

○：ムラなし
×：ムラあり
（ブリードアウト）
作製した反射防止フィルムの塗工表面をティッシュペーパー〔エリエール社製〕で拭取り、塗工表面において拭き取った箇所と拭き取ってない箇所を蛍光灯下で目視にて確認することによりブリードアウトの有無を評価した。判定基準を以下に示す（冒頭の記号（○、×）は、表１中の記号に対応する）。

○：ブリードなし（拭き取った箇所が目視により確認できない）
×：ブリードあり（拭き取った箇所が目視により確認できる）
（静摩擦係数μｓ）
作製した反射防止フィルムに対し、塗布膜の金属平滑面に対する静摩擦係数を評価した。平滑面に静置した反射防止フィルムを被試験体とし、当該被試験体に対し、摩擦計〔ＴＲＩＢＯＧＥＡＲ、ＴＹＰＥ９４ｉ−ＩＩ：新東科学株式会社製〕を静置した反射防止フィルムの表面上に置き測定を行った。測定結果は、同測定を５回行った平均値である。当該摩擦計のスライダー（接触子）には、ハードクロム処理黄銅（４０ｇ）、接触面積は１２ｃｍ^２であるものを使用した。

（表面粗さＲａ）
作製した反射防止フィルムに対し、塗布膜の表面粗さＲａを評価した。原子間力顕微鏡ＡＦＭ（ＮａｎｏＳｃｏｐｅＩＩＩａＤｉｍｅｎｓｉｏｎＳｅｒｉｅｓｅＴａｐｐｉｎｇｍｏｄｅＡＦＭ；日本ビーコ株式会社）を用い走査範囲１μｍ×1μｍにて測定を行った。

（機械強度）
塗布膜の機械強度は、低屈折率層表面をスチールウール〔ボンスター＃００００：日本スチールウール（株）製〕により２００ｇ／ｃｍ^２、３００ｇ／ｃｍ^２、４００ｇ／ｃｍ^２、５００ｇ／ｃｍ^２でそれぞれ１０回擦り、傷の有無を目視評価した（スチールウール試験）。判定基準を以下に示す（冒頭の記号（○、△、×）は、表１中の記号に対応する）。

○：傷なし
△：薄く傷あり
×：傷あり。

（平均視感反射率）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４１００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線からＪＩＳＲ３１０６に従って平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には透明支持体であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。

表１の結果より、実施例１、実施例２、実施例３および実施例４はいずれも、良好な性能を示した。他方、実施例５は、低屈折率層塗布用調製液中の多孔質シリカ微粒子の濃度が８０％と非常に高濃度のため、低屈折率層の表面粗さＲａの値が大きくなり、機械強度若干が低下してしまう結果となり、表面粗さＲａを３．０ｎｍ以下にすることが好ましいという結果となった。

また、比較例１は、低屈折率層塗布用調製液にシリコーンオイルＴＳＦ４４６０を添加しなかったため、低屈折率層表面に滑り性を発現させることができなかったため機械強度が劣る結果となった。さらに、比較例２は、低屈折率層塗布用調製液中のシリコーンオイルＴＳＦ４４６０とバインダー樹脂（ライトアクリレートＢＰ−４ＰＡ）との相溶性が悪く、低屈折率層表面に滑り性を発現させることができなかったため機械強度が低下してしまう結果となった。

本明細書において提供された反射防止フィルムを、画像表示装置や液晶表示装置に設置することにより、また、そのような反射防止フィルムを用いた偏光板を液晶表示装置の表面に設けることにより、また、該反射防止フィルムをタッチパネルに使用することにより、ディスプレイ表面の外光の反射を抑制することができ、また外傷による反射防止フィルムの劣化を防ぐことがでる。

１０…反射防止フィルム
１１…透明支持体
１２…ハードコート層
１３…低屈折率層

Claims

透明支持体上にハードコート層と低屈折率層を順に積層した反射防止フィルムであって、低屈折率層表面の金属平滑面に対する静摩擦係数が０．１０から０．２５までの範囲内であることを特徴とする反射防止フィルム。
前記反射防止フィルムの表面粗さＲａが３．０ｎｍより小さい、請求項１に記載の反射防止フィルム。
前記反射防止フィルム表面の平均視感反射率が、０．１％以上１．０％以下の範囲内である、請求項１から２に記載の反射防止フィルム。
請求項１から２のいずれかに記載の反射防止フィルムを備える、偏光板。
請求項１から３のいずれかに記載の反射防止フィルムを備える、タッチパネル。
請求項１から４のいずれかに記載の反射防止フィルムを備える、表示装置。