JP2007097692A - 放射線像変換パネルの消毒システム - Google Patents
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Abstract
【課題】 均一に効率よく消毒をすることができる放射線像変換パネルの消毒システムを提供する。
【解決手段】
少なくとも、放射線像変換パネルに対し消毒処理を施す消毒手段を含むことを特徴とする放射線像変換パネルの消毒システムである。当該放射線像変換パネルの消毒システムは、前記消毒手段による消毒処理が、熱処理、紫外線照射処理および薬品塗布処理の少なくとも1の処理であることが好ましい。
【選択図】図1
【解決手段】
少なくとも、放射線像変換パネルに対し消毒処理を施す消毒手段を含むことを特徴とする放射線像変換パネルの消毒システムである。当該放射線像変換パネルの消毒システムは、前記消毒手段による消毒処理が、熱処理、紫外線照射処理および薬品塗布処理の少なくとも1の処理であることが好ましい。
【選択図】図1
Description
輝尽性蛍光体を利用する放射線像変換パネルの消毒システムに関する。
近年、医療関係者では感染症対策に対する関心が高まり、イメージングプレート(IP)を消毒する装置が望まれていた。また、特にデンタル用途の放射線像変換パネルは、口内で扱われるため、患者の唾液などの体液が付着する可能性がありその要望は強い。
医療用器具に使用される殺菌装置として、高温のオイルを使用して殺菌する装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。しかし、当該装置は、オイルを使用する点で安全上の問題があるばかりでなく、当該装置の構成では変形を起こしやすい放射線像変換パネルの消毒には不向きである。
従って、実際上はエタノールなどのアルコールで拭き取って消毒が行われている。そのため、消毒が不均一で完全になされなかったり、一枚一枚手作業で消毒するため非効率となったりする問題がある。
特開2005−131359号公報
本発明は、上記従来の課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、均一に効率よく消毒をすることができる放射線像変換パネルの消毒システムを提供することを目的とする。
上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者は、下記本発明により当該課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は、少なくとも、放射線像変換パネルに対し消毒処理を施す消毒手段を含むことを特徴とする放射線像変換パネルの消毒システムである。
本発明の放射線像変換パネルの消毒システムは、下記第1〜第7の態様のうち少なくとも1の態様を具備することが好ましい。
(1)第1の態様は、前記消毒手段による消毒処理が、熱処理、紫外線照射処理および薬品塗布処理の少なくとも1の処理である態様である。
(2)第2の態様は、前記熱処理が、前記放射線像変換パネルに対し、60℃〜200℃で1秒〜10分間の加熱を行う処理である態様である。
(3)第3の態様は前記放射線像変換パネルが保護層を有し、当該保護層の熱収縮率(JISC2151、150℃30分)が1%以下である態様である。
(4)第4の態様は、前記放射線像変換パネルの前記保護層が、その形成前および形成時の少なくともいずれかにおいて60℃以上の加熱処理が施されている態様である。
(5)第5の態様は、前記消毒手段による消毒処理が熱処理であり、前記消毒手段が温度制御手段を具備する態様である。
(6)第6の態様は、放射線像変換パネルの画像を読み取る画像読取手段をさらに具備する態様である。
(7)第7の態様は、前記消毒手段による消毒処理が熱処理であり、当該熱処理が赤外線ヒータおよび遠赤外線ヒータの少なくともいずれかによる加熱処理である態様である。
(2)第2の態様は、前記熱処理が、前記放射線像変換パネルに対し、60℃〜200℃で1秒〜10分間の加熱を行う処理である態様である。
(3)第3の態様は前記放射線像変換パネルが保護層を有し、当該保護層の熱収縮率(JISC2151、150℃30分)が1%以下である態様である。
(4)第4の態様は、前記放射線像変換パネルの前記保護層が、その形成前および形成時の少なくともいずれかにおいて60℃以上の加熱処理が施されている態様である。
(5)第5の態様は、前記消毒手段による消毒処理が熱処理であり、前記消毒手段が温度制御手段を具備する態様である。
(6)第6の態様は、放射線像変換パネルの画像を読み取る画像読取手段をさらに具備する態様である。
(7)第7の態様は、前記消毒手段による消毒処理が熱処理であり、当該熱処理が赤外線ヒータおよび遠赤外線ヒータの少なくともいずれかによる加熱処理である態様である。
本発明によれば、均一に効率よく消毒をすることができる放射線像変換パネルの消毒システムを提供することができる。
[放射線像変換パネルの消毒システム]
本発明の放射線像変換パネルの消毒システムは、放射線像変換パネルに対し消毒処理を施す消毒手段を含む。本発明の消毒システムは、画像読取装置に組み込むことも可能であり、当該装置とは独立の装置として使用することもできる。
本発明の放射線像変換パネルの消毒システムは、放射線像変換パネルに対し消毒処理を施す消毒手段を含む。本発明の消毒システムは、画像読取装置に組み込むことも可能であり、当該装置とは独立の装置として使用することもできる。
消毒手段による消毒処理としては、実用上の観点から、熱処理、紫外線照射処理および薬品塗布処理の少なくとも1の処理であることが好ましい。消毒処理が熱処理である場合の熱処理温度としては、60℃〜200℃とすることが好ましく、90〜120℃とすることがより好ましい。また、熱処理時間としては、1秒〜10分間とすることが好ましく、10秒〜5分間とすることがより好ましい。
熱処理により消毒する場合は、消毒手段が温度制御手段を具備することが好ましい。温度制御手段としては、通常の温度制御装置を使用することが可能である。温度制御手段を設けることで、放射線像変換パネルが上記温度範囲となるように設定することができる。
加熱手段としては、熱風を放射線像変換パネルに供給する手段や赤外線ヒータおよび遠赤外線ヒータによる手段など特に限定はないが、温度制御性、安全性の観点から、赤外線ヒータおよび遠赤外線ヒータの少なくともいずれかによる加熱処理であることが好ましい。赤外線ヒータおよび遠赤外線ヒータを使用する際の電力は、50〜1000Wとすることが好ましい。
また、消毒処理としての紫外線照射手段とは、紫外線ランプによる紫外線を放射線像変換パネルに照射する手段である。但し、紫外線を照射しすぎると蛍光体層が感光してしまうことがあるため、照射時間を適宜調整する必要がある。
消毒手段の他の手段である薬品塗布処理は、薬品を満たした浸漬槽を設けて、かかる浸漬槽中に放射線像変換パネルを浸漬する処理などが挙げられる。浸漬処理の場合、浸漬時間は、1〜600秒程度とすることが好ましく、適宜複数回浸漬を行ってもよい。浸漬処理など以外にも、薬品をスプレー塗布する手段を採用してもよい。なお、上記薬品としては、エタノールなどのアルコール;グルタルアルデヒドなどのアルデヒド類;過酢酸塩素などが挙げられる。
本発明の消毒システムには、放射線像変換パネルの画像を読み取る画像読取手段が具備されていることが好ましい。画像読取手段が具備されていることで、消毒処理と画像読み取り処理とを1つのシステムで実現できる利点がある。
放射線像変換パネルには蛍光体層を保護する観点から、保護層が形成されることがある。保護層が形成された放射線像変換パネルに対し、加熱による消毒処理を施す場合、その材質によっては、変形が生じて不良を発生させることがある。従って、加熱による消毒処理を施す場合、当該保護層の熱収縮率(JISC2151、150℃30分)は1%以下であることが好ましく、0.01〜0.8%であることがより好ましい。熱収縮率が1%以下であることで、熱収縮による変形を防ぐことができる。
上記放射線像変換パネルの保護層は、その形成前および形成時の少なくともいずれかにおいて60℃以上の加熱処理を施しておくことが好ましい。かかる加熱処理を施すことで、加熱による消毒処理を行っても、当該加熱による変形を防ぐことができる。
次に、本発明の消毒システムを具備する画像読取装置について、図1を参照しながら説明する。
画像読取装置10は、ケーシング12の上部にカセッテ装填部14を備え、このカセッテ装填部14に形成された装填口15に対して、放射線画像情報が蓄積記録された画像記録媒体、例えば、放射線像変換パネル16a(16b、16c)を収容したカセッテ18a(18b、18c)が装填される。なお、歯科用に使用される放射線像変換パネルの場合は、上記カセッテは使用されないことがある。具体的には、所定の袋に収められた放射線像変換パネルを取り出して種々の処理が施されることになる。
カセッテ18bは、カセッテ18aよりも幅サイズが小さく、カセッテ18cは、前記カセッテ18bよりも幅サイズが小さい。カセッテ18bに収容される放射線像変換パネル16bは、前記カセッテ18aに収容される放射線像変換パネル16aよりも幅サイズが小さく、カセッテ18cに収容される放射線像変換パネル16cは、前記カセッテ18bに収容される放射線像変換パネル16bよりも幅サイズが小さい。
なお、以下の説明では、カセッテ18a及び放射線像変換パネル16aを用いているが、カセッテ18b、18c及び放射線像変換パネル16b、16cも同様である。
カセッテ18aは、放射線像変換パネル16aを収容する本体部20と、放射線像変換パネル16aを出し入れさせるための開口部22を形成する蓋部材24とを備えている。
画像読取装置10の内部の装填口15に近接する部位には、カセッテ18aの蓋部材24のロックを解除するロック解除機構28と、前記蓋部材24が開蓋されたカセッテ18aから放射線像変換パネル16aを吸着して取り出す吸着盤30と、前記吸着盤30によって取り出された前記放射線像変換パネル16aを挟持搬送するローラ対32とが配設される。なお、ロック解除機構28は、カセッテ18aに挿入されて図示しないカセッテロック手段を解除するためのロック解除ピン29を有する。
ローラ対32に連設して、複数の搬送ローラ対34a〜34h及び複数のガイド板36a〜36iが配設され、これらにより湾曲搬送路38が構成される。ローラ対32と搬送ローラ対34aとの間には、読取処理が終了した放射線像変換パネル16aに残存する放射線画像情報を消去するための消去ユニット39が配設される。消去ユニット39は、消去光を出力する冷陰極管等の消去光源41を有する。
画像読取装置10の略中央部には、励起光であるレーザビームLを導出して放射線像変換パネル16aを走査する走査ユニット40が配設される。走査ユニット40は、レーザビームLを出力するレーザ発振器42と、レーザビームLを放射線像変換パネル16aの主走査方向に偏向する回転多面鏡であるポリゴンミラー44と、レーザビームLを反射させ、ガイド板36e上を通過する前記放射線像変換パネル16aに導く反射ミラー46とを備える。
搬送ローラ対34eと走査ユニット40との間には、読取ユニット48が配設される。読取ユニット48は、一端部がガイド板36e上の放射線像変換パネル16aに近接して配置される集光ガイド50と、集光ガイド50の他端部に連結され、前記放射線像変換パネル16aから得られた輝尽発光光を電気信号に変換するフォトマルチプライヤ52とを備える。
そして、搬送ローラ対34eと34hとの間に、消毒手段60が設けられている。ここで消毒処理を施された放射線像変換パネルは出口70まで搬送され取り出されることになる。
消毒手段60を具備する上記画像読取装置は、以下に説明するようにして作動する。先ず、放射線画像情報が記録された放射線像変換パネル16aを収納したカセッテ18aは、画像読取装置10に供給される。カセッテ18aは、蓋部材24を下にしてカセッテ装填部14の装填口15に装填される。この蓋部材24は、ロック解除機構28を介してロックが解除される。
次いで、カセッテ18a内の放射線像変換パネル16aは、吸着盤30の吸引作用下に前記カセッテ18aから取り出される。カセッテ18aから取り出された放射線像変換パネル16aの先端がローラ対32に挟持されるのと略同時に、吸着盤30による前記放射線像変換パネル16aの吸着保持が解除される。
これにより、放射線像変換パネル16aは、ローラ対32の回転作用下に鉛直下方向に向かって搬送される。この放射線像変換パネル16aは、搬送ローラ対34a〜34h及びガイド板36a〜36iからなる湾曲搬送路38によって搬送される。
放射線像変換パネル16aは、搬送ローラ対34b、34cが同期して駆動されることにより幅寄せ装置54に搬送されると、前記搬送ローラ対34b、34cによる前記放射線像変換パネル16aの挟持が解除される。
上記のように幅寄せ処理が終了した放射線像変換パネル16aは、搬送ローラ対34d、34e間で副走査搬送されるとともに、走査ユニット40から射出されたレーザビームLが副走査方向と直交する主走査方向に前記放射線像変換パネル16aを走査する。すなわち、レーザ発振器42から出力されたレーザビームLは、高速で回転するポリゴンミラー44によって反射偏向された後、反射ミラー46を介して放射線像変換パネル16aに導かれる。
一方、レーザビームLが照射された放射線像変換パネル16aは、蓄積記録されている放射線画像情報に応じた輝尽発光光を出力する。この輝尽発光光は、放射線像変換パネル16aの主走査方向に沿って近接配置された集光ガイド50を介して読取ユニット48を構成するフォトマルチプライヤ52に導かれる。
このようにして放射線画像情報の読み取られた放射線像変換パネル16aは、消毒手段により消毒され、搬送ローラ対34h側まで搬送された後、出口70まで搬送され取り出される。消毒手段が熱処理手段で温度制御手段により温度を制御する場合、その温度制御する際の表面温度測定法としては、放射線像変換パネルに熱電対を接触させて行うことが好ましい。
取り出された消毒済みの放射線像変換パネル16aは、次なる放射線画像情報の撮影に供される。
本発明の消毒システムに適用される放射線像変換パネルは、例えば、支持体上に中間層、蛍光体層、保護層などが順次形成された構成となっている。以下、各層の材料などについて説明する。
(支持体)
支持体は、PET、ポリシクロオレフィン、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PVA(ポリビニルアルコール)、PETとPEI(ポリエーテルイミド)のナノアロイポリマー、透明アラミド等の材料からなるものが好適に用いられる。特に、ガラス転移温度(Tg)が85℃以上、好ましくは100℃以上の基材であることが望ましく、85℃以上のガラス転移温度を有するポリシクロオレフィン、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PVA(ポリビニルアルコール)、PETとPEI(ポリエーテルイミド)のナノアロイポリマー、透明アラミド等の材料からなるものが好ましい。さらに、100℃以上のガラス転移温度を有するポリシクロオレフィン、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PETとPEI(ポリエーテルイミド)のナノアロイポリマー、透明アラミド等の材料からなるものがより好ましい。
支持体は、PET、ポリシクロオレフィン、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PVA(ポリビニルアルコール)、PETとPEI(ポリエーテルイミド)のナノアロイポリマー、透明アラミド等の材料からなるものが好適に用いられる。特に、ガラス転移温度(Tg)が85℃以上、好ましくは100℃以上の基材であることが望ましく、85℃以上のガラス転移温度を有するポリシクロオレフィン、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PVA(ポリビニルアルコール)、PETとPEI(ポリエーテルイミド)のナノアロイポリマー、透明アラミド等の材料からなるものが好ましい。さらに、100℃以上のガラス転移温度を有するポリシクロオレフィン、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PETとPEI(ポリエーテルイミド)のナノアロイポリマー、透明アラミド等の材料からなるものがより好ましい。
(中間層)
中間層は、例えば、酢酸セルロース、ニトロセルロースなどのセルロース誘導体;あるいはポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、アクリル、ポリパラキシリレン、PET、塩酸ゴム、塩化ビニリデン共重合体等の合成高分子物質のような透明な高分子物質を用いることができる。中間層を形成するこれらの合成高分子物質はポリマーとして用いても、モノマーとして用いてもかまわないが、熱、可視光、UV光、電子線などの照射によって架橋するものであることが好ましい。
中間層は、例えば、酢酸セルロース、ニトロセルロースなどのセルロース誘導体;あるいはポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、アクリル、ポリパラキシリレン、PET、塩酸ゴム、塩化ビニリデン共重合体等の合成高分子物質のような透明な高分子物質を用いることができる。中間層を形成するこれらの合成高分子物質はポリマーとして用いても、モノマーとして用いてもかまわないが、熱、可視光、UV光、電子線などの照射によって架橋するものであることが好ましい。
中間層を支持体上に設ける場合、密着性を向上させるためにシランカップリング剤や、チタネートカップリング剤等のカップリング剤を添加することが好ましい。さらに、中間層組成物の塗布性および硬化後の薄膜の物性の改善や、塗膜に対する感光性の付与等を目的として、例えば水酸基を有する種々のポリマーやモノマー、顔料または染料等の着色剤、黄変防止剤、老化防止剤や紫外線吸収剤等の安定化剤、熱酸発生剤、感光性酸発生剤、界面活性剤、溶剤、架橋剤、硬膜剤、重合禁止剤等の各種の添加剤を目的に応じて含有させることができる。
また、中間層には、耐久性の向上、ニジムラを防止するため、有機または無機の粉末が含まれていてもよい。含有させる場合は、中間層重量当り0.5〜60重量%程度であることがより好ましい。粉末は特定の帯域に吸収を有するもの、例えば群青等や、概して300〜900nmの波長域で特異な吸収を示さない白色粉末が好ましい。これら粉末の体積平均粒径は0.01〜10μm程度が好ましく、0.3〜3μm程度がより好ましい。一般に、これら粒子の粒子サイズには分布があるが、分布が狭い方が好ましい。
(蛍光体層)
蛍光体層に用いられる輝尽性蛍光体の例としては、特公平7−84588号等に記載されている一般式(M1-f・Mf I)X・bMIIIX3’’:cA(一般式(I))で表される輝尽性蛍光体が好ましい。輝尽発光輝度の点から一般式(I)におけるMIとしては、Rb,Csおよび/またはCsを含有したNa、同Kが好ましく、特にRbおよびCsから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属が好ましい。MIIIとしてはY,La,Lu,Al,GaおよびInから選ばれる少なくとも一種の三価金属が好ましい。X’’としては、F,ClおよびBrから選ばれる少なくとも一種のハロゲンが好ましい。MIIIX3’’の含有率を表すb値は0≦b≦10-2の範囲から選ばれるのが好ましい。
蛍光体層に用いられる輝尽性蛍光体の例としては、特公平7−84588号等に記載されている一般式(M1-f・Mf I)X・bMIIIX3’’:cA(一般式(I))で表される輝尽性蛍光体が好ましい。輝尽発光輝度の点から一般式(I)におけるMIとしては、Rb,Csおよび/またはCsを含有したNa、同Kが好ましく、特にRbおよびCsから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属が好ましい。MIIIとしてはY,La,Lu,Al,GaおよびInから選ばれる少なくとも一種の三価金属が好ましい。X’’としては、F,ClおよびBrから選ばれる少なくとも一種のハロゲンが好ましい。MIIIX3’’の含有率を表すb値は0≦b≦10-2の範囲から選ばれるのが好ましい。
一般式(I)において、賦活剤AとしてはEu,Tb,Ce,Tm,Dy,Ho,Gd,Sm,TlおよびNaから選ばれる少なくとも一種の金属が好ましく、特にEu,Ce,Sm,TlおよびNaから選ばれる少なくとも一種の金属が好ましい。また、賦活剤の量を表すC値は10-6<C<0.1の範囲から選ばれるのが輝尽発光輝度の点から好ましい。
また、さらに以下の輝尽性蛍光体も用いることができる。米国特許第3,859,527号明細書に記載されているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、ThO2:Er、およびLa2O2S:Eu,Sm、
特開昭55−12142号公報に記載されているZnS:Cu,Pb、BaO・xAl2O3:Eu(ただし、0.8≦x≦10)、および、MIIO・xSiO2:A(ただし、MIIはMg,Ca,Sr,Zn,Cd、またはBaであり、AはCe,Tb,Eu,Tm,Pb,Tl,BiまたはMnであり、xは0.5≦x≦2.5である)、
特開昭55−12143号公報に記載されている(Ba1-x-y,MgX,Cay)FX:aEu2+(ただし、XはClおよびBrのうちの少なくとも一種であり、xおよびyは、0<x+y≦0.6、かつxy≠0であり、aは、10-6≦a≦5×10-2である)、
特開昭55−12144号公報に記載されているLnOX:xA(ただし、LnはLa,Y,Gd、およびLuのうちの少なくとも一種、XはClおよびBrのうちの少なくとも一種、AはCeおよびTbのうちの少なくとも一種、そして、xは、0<x<0.1である)、
特開昭55−12145号公報に記載されている(Ba1-X,M2+X)FX:yA(ただし、MはMg,Ca,Sr,Zn、およびCdのうちの少なくとも一種、XはCl,BrおよびIのうちの少なくとも一種、AはEu,Tb,Ce,Tm,Dy,Pr,Ho,Nd,YbおよびErのうちの少なくとも一種、そしてxは0≦x≦0.6、yは0≦y≦0.2である)、
特開昭55−160078号公報に記載されているMIIFX・xA:yLn(ただし、MIIはBa,Ca,Sr,Mg,ZnおよびCdのうちの少なくとも一種、AはBeO,MgO,CaO,SrO,BaO,ZnO,Al2O3,Y2O3,La2O3,In2O3,SiO2,TiO2,ZrO2,GeO2,SnO2,Nb2O5,Ta2O5およびThO2のうちの少なくとも一種、LnはEu,Tb,Ce,Tm,Dy,Pr,Ho,Nd,Yb,Er,SmおよびGdのうちの少なくとも一種、XはCl,BrおよびIのうちの少なくとも一種であり、xおよびyはそれぞれ5×10-5≦x≦0.5、および0<y≦0.2である)の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭56−116777号公報に記載されている(Ba1-x,MII x)F2・aBaX2:yEu,zA(ただし、MIIはベリリウム,マグネシウム,カルシウム,ストロンチウム,亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素,臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Aはジルコニウムおよびスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、a、x、y、およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦1、10-6≦y≦2×10-1、および0<z≦10-2である)の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭57−23673号公報に記載されている(Ba1-x,MII x)F2・aBaX2:yEu,zB(ただし、MIIはベリリウム,マグネシウム,カルシウム,ストロンチウム,亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素,臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種であり、a、x、y、およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦1、10-6≦y≦2×10-1、および0<z≦10-2である)の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭57−23675号公報に記載されている(Ba1-x,MII x)F2・aBaX2:yEu,zA(ただし、MIIはベリリウム,マグネシウム,カルシウム,ストロンチウム,亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Xは塩素,臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Aは砒素および硅素のうちの少なくとも一種であり、a、x、y、およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦1、10-6≦y≦2×10-1、および0<z≦5×10-1である)の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭58−69281号公報に記載されているMIIIOX:xCe(ただし、MIIIはPr,Nd,Pm,Sm,Eu,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,YbおよびBiからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、XはClおよびBrのうちのいずれか一方あるいはその両方であり、xは0<x<0.1である)の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭58−206678号公報に記載されているBa1-XMX/2LX/2FX:yEu2+(ただし、MはLi,Na,K,RbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表わし;Lは、Sc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Al,Ga,InおよびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属を表わし;Xは、Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表わし;そして、xは10-2≦x≦0.5、yは0<y≦0.1である)の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭59−27980号公報に記載のBaFX・xA:yEu2+(ただし、Xは、Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;Aはテトラフルオロホウ酸化合物の焼成物であり;そして、xは10-6≦x≦0.1、yは0<y≦0.1である)の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭59−47289号公報に記載されているBaFX・xA:yEu2+(ただし、Xは、Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;Aは、ヘキサフルオロケイ酸,ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩からなるヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくとも一種の化合物の焼成物であり;そして、xは10-6≦x≦0.1、yは0<y≦0.1である)の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭59−56479号公報に記載されているBaFX・xNaX’:aEu2+(ただし、XおよびX’は、それぞれCl、Br、およびIのうちの少なくとも一種であり、xおよびaはそれぞれ0<x≦2、および0<a≦0.2である)の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭59−56480号公報に記載されているMIIFX・xNaX’:yEu2+:zA(ただし、MIIは、Ba,SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;XおよびX’は、それぞれCl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;Aは、V,Cr,Mn,Fe,CoおよびNiより選ばれる少なくとも一種の遷移金属であり;そして、xは0<x≦2、yは0<y≦0.2、およびzは0<z≦10-2である)の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭59−75200号公報に記載されているMIIFX・aMIX’・bM’IIX’’2・cMIIIX3・xA:yEu2+(ただし、MIIはBa,SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;MIはLi,Na,K,RbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;M’IIはBeおよびMgからなる群より選ばれる少なくとも一種の二価金属であり;MIIIはAl,Ga,InおよびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり;Aは金属酸化物であり;XはCl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;X’,X’’およびXは、F,Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;そして、aは0≦a≦2、bは0≦b≦10-2、cは0≦c≦10-2、かつa+b+c≧10-6であり;xは0<x≦0.5、yは0<y≦0.2である)の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭60−84381号公報に記載されているMIIX2・aMIIX’2:xEu2+(ただし、MIIはBa,SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;XおよびX’はCl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつX≠X’であり;そしてaは0.1≦a≦10.0、xは0<x≦0.2である)の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
特開昭60−101173号公報に記載されているMIIFX・aMIX’:xEu2+(ただし、MIIはBa,SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;MIはRbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;XはCl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;X’はF,Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;そしてaおよびxはそれぞれ0≦a≦4.0および0<x≦0.2である)の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
特開昭62−25189号公報に記載されているMIX:xBi(ただし、MIはRbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;XはCl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;そしてxは0<x≦0.2の範囲の数値である)の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
特開平2−229882号公報に記載のLnOX:xCe(但し、LnはLa,Y,GdおよびLuのうちの少なくとも一つ、XはCl,BrおよびIのうちの少なくとも一つ、xは0<x≦0.2であり、LnとXとの比率が原子比で0.500<X/Ln≦0.998であり、かつ輝尽性励起スペクトルの極大波長λが550nm<λ<700nm)で表わされるセリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体、
などをあげることができる。
などをあげることができる。
また、上記特開昭60−84381号公報に記載されているMIIX2・aMIIX’2:xEu2+輝尽性蛍光体には、以下に示すような添加物が含まれていてもよい。
すなわち、特開昭60−166379号公報に記載されているbMIX’’(ただし、MIはRbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、X’’はF,Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてbは0<b≦10.0である);特開昭60−221483号公報に記載されているbKX’’・cMgX2・dMIIIX’3(ただし、MIIIはSc,Y,La,GdおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、X’’、XおよびX’はいずれもF,Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてb、cおよびdはそれぞれ、0≦b≦2.0、0≦c≦2.0、0≦d≦2.0であって、かつ2×10-5≦b+c+dである);特開昭60−228592号公報に記載されているyB(ただし、yは2×10-4≦y≦2×10-1である);特開昭60−228593号公報に記載されているbA(ただし、AはSiO2およびP2O5からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物であり、そしてbは10-4≦b≦2×10-1である);特開昭61−120883号公報に記載されているbSiO(ただし、bは0<b≦3×10-2である);特開昭61−120885号公報に記載されているbSnX’’2(ただし、X’’はF,Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてbは0<b≦10-3である);特開昭61−235486号公報に記載されているbCsX’’・cSnX2(ただし、X’’およびXはそれぞれF,Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてbおよびcはそれぞれ、0<b≦10.0および10-6≦c≦2×10-2である);および特開昭61−235487号公報に記載されているbCsX’’・yLn3+(ただし、X’’はF,Cl,BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、LnはSc,Y,Ce,Pr,Nd,Sm,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,YbおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり、そしてbおよびyはそれぞれ、0<b≦10.0および10-6≦y≦1.8×10-1である)。
上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物系蛍光体(例えばBaFI:Eu)ユーロピウム賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体(例えばCsBr:Eu)、ヨウ素を含有する二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する希土類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、およびヨウ素を含有するビスマス賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を示すことから好ましく用いることができる。
(保護層)
蛍光体層の上に形成される保護層は、セルロース誘導体やポリメチルメタクリレートなどのような透明な有機高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗布することで形成されたもの、ポリエチレンテレフタレートなどの有機高分子フィルムや透明なガラス板などの保護膜形成用シートを別に作製して蛍光体層の表面に適当な接着剤を用いて設けたもの、あるいは無機化合物を蒸着などによって蛍光体層上に成膜したもの、などが用いられる。
蛍光体層の上に形成される保護層は、セルロース誘導体やポリメチルメタクリレートなどのような透明な有機高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗布することで形成されたもの、ポリエチレンテレフタレートなどの有機高分子フィルムや透明なガラス板などの保護膜形成用シートを別に作製して蛍光体層の表面に適当な接着剤を用いて設けたもの、あるいは無機化合物を蒸着などによって蛍光体層上に成膜したもの、などが用いられる。
また、有機溶媒可溶性のフッ素系樹脂の塗布膜により形成され、パーフルオロオレフィン樹脂粉末もしくはシリコーン樹脂粉末、TiO2粒子等の微粒子を分散、含有させた保護層であってもよい。
既述のように、保護層の熱収縮率(JISC2151、150℃30分)を1%以下とするには、予め熱アニール処理、Tg(ガラス転移温度:JIS K7121(1987))の高い素材を採用することが好ましい。また、その形成前および形成時の少なくともいずれかにおいて60℃以上の加熱処理を施すことが好ましい。
[実施例1]
(中間層形成工程)
結合剤として軟質アクリル樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、クリスコートP−1018GS(21%トルエン溶液))3400gと、可塑剤としてフタル酸エステル(大八化学(株)製、#10)120gと、をメチルエチルケトン3600g中に加えて混合し、ディスパーを用いて分散、溶解して、中間層形成用分散液(粘度0.6Pa・s(20℃))を調製した。
(中間層形成工程)
結合剤として軟質アクリル樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、クリスコートP−1018GS(21%トルエン溶液))3400gと、可塑剤としてフタル酸エステル(大八化学(株)製、#10)120gと、をメチルエチルケトン3600g中に加えて混合し、ディスパーを用いて分散、溶解して、中間層形成用分散液(粘度0.6Pa・s(20℃))を調製した。
なお、導電剤、着色剤は、予め樹脂が添加された溶液中ボールミルで分散されたものを用いた。この中間層形成用分散液を、支持体(カーボン練りこみポリエチレンテレフタレート(東レ(株)製 X−30、厚さ:188μm))上に均一に塗布して塗膜を形成し乾燥した。このようにして、層厚が20μmの中間層を形成した。
(蛍光体シート作製工程)
蛍光体層となる蛍光体シートを下記のようにして作製した。まず、蛍光体シート形成用塗布液として、蛍光体(BaFBr0.85I0.15:Eu2+、メジアン径3.5μm)1000gと、結合剤であるポリウレタンエラストマー(大日本インキ化学工業(株)製、パンデックスT5265H(固形))36gと、架橋剤であるポリイソシアネート(日本ポリウレタン工業(株)製、コロネートHX(固形分100%))4gと、黄変防止剤であるエポキシ樹脂(油化シェルエポキシ(株)、#1001エピコート(固形))10gと、着色剤である群青(第一化成工業(株)、SM−1)2gと、をメチルエチルケトンと酢酸ブチルとの混合溶剤120g(メチルエチルケトン/酢酸ブチル(質量比)=6/4)に加え、ディスパーを用いて羽根回転速度2500rpmで1時間分散させて、粘度4.0Pa・s(25℃)の塗布液を調製した。なお、着色剤は予め樹脂が添加された溶媒中、ボールミルで分散されたものを使用した。
蛍光体層となる蛍光体シートを下記のようにして作製した。まず、蛍光体シート形成用塗布液として、蛍光体(BaFBr0.85I0.15:Eu2+、メジアン径3.5μm)1000gと、結合剤であるポリウレタンエラストマー(大日本インキ化学工業(株)製、パンデックスT5265H(固形))36gと、架橋剤であるポリイソシアネート(日本ポリウレタン工業(株)製、コロネートHX(固形分100%))4gと、黄変防止剤であるエポキシ樹脂(油化シェルエポキシ(株)、#1001エピコート(固形))10gと、着色剤である群青(第一化成工業(株)、SM−1)2gと、をメチルエチルケトンと酢酸ブチルとの混合溶剤120g(メチルエチルケトン/酢酸ブチル(質量比)=6/4)に加え、ディスパーを用いて羽根回転速度2500rpmで1時間分散させて、粘度4.0Pa・s(25℃)の塗布液を調製した。なお、着色剤は予め樹脂が添加された溶媒中、ボールミルで分散されたものを使用した。
この塗布液を仮支持体(シリコーン系離型材が塗布されたポリエチレンテレフタレート、厚み:180μm)上に均一に塗布し、乾燥した後、仮支持体から剥離して蛍光体シート(厚み150μm)を作製した。
(蛍光体層形成工程)
続いて、蛍光体シートの仮支持体剥離面を中間層上にカレンダーロールを用いて圧力60MPa、ロール温度50℃、送り速度1.0m/minで連続的に圧縮操作を行い重ね合わせた。この加熱圧縮により、蛍光体シートは支持体上に中間層を介して完全に密着した状態となり、支持体上に蛍光体層が形成された。
続いて、蛍光体シートの仮支持体剥離面を中間層上にカレンダーロールを用いて圧力60MPa、ロール温度50℃、送り速度1.0m/minで連続的に圧縮操作を行い重ね合わせた。この加熱圧縮により、蛍光体シートは支持体上に中間層を介して完全に密着した状態となり、支持体上に蛍光体層が形成された。
(保護層の形成)
厚さ6μmのPETフィルムを50μ厚のPETフイルムと再剥離性粘着層を介して貼り合せた後、100℃で熱処理した。6μ厚PETフイルムを剥ぎ取りその片面に不飽和ポリエステル樹脂溶液(バイロン30SS 東洋紡製)を塗布し80℃で乾燥して接着層を設けた。接着層を介して、蛍光体層上にPETフィルムを貼り合わせて保護層を形成した。
厚さ6μmのPETフィルムを50μ厚のPETフイルムと再剥離性粘着層を介して貼り合せた後、100℃で熱処理した。6μ厚PETフイルムを剥ぎ取りその片面に不飽和ポリエステル樹脂溶液(バイロン30SS 東洋紡製)を塗布し80℃で乾燥して接着層を設けた。接着層を介して、蛍光体層上にPETフィルムを貼り合わせて保護層を形成した。
続いて、このシートを打抜刃(オス刃、メス刃)により適切なサイズ(3cm×3cmの正方形)に打抜いた。その後、打ち抜いたシートの周囲で、その内側へ向かって0.5〜1mm幅で保護層表面に樹脂(ダイアロマーSP3023:EP1004:X−22−2809:クロスネートD70=900:8:2:30の割合でMEKに溶解したもの)を塗布、乾燥(50℃)して、放射線像変換パネルを作製した。
[実施例2]
厚さ9μmのPETフィルムの片面に不飽和ポリエステル樹脂溶液(バイロン30SS 東洋紡製)を塗布し80℃で熱処理して接着層を設けた以外は、実施例1と同様にして保護層を形成し、放射線像変換パネルを作製した。
厚さ9μmのPETフィルムの片面に不飽和ポリエステル樹脂溶液(バイロン30SS 東洋紡製)を塗布し80℃で熱処理して接着層を設けた以外は、実施例1と同様にして保護層を形成し、放射線像変換パネルを作製した。
[実施例3]
厚さ6μmのPETフィルムの片面に不飽和ポリエステル樹脂溶液(バイロン30SS 東洋紡製)を塗布し50℃で乾燥して接着層を設けた以外は、実施例1と同様にして保護層を形成し、放射線像変換パネルを作製した。
厚さ6μmのPETフィルムの片面に不飽和ポリエステル樹脂溶液(バイロン30SS 東洋紡製)を塗布し50℃で乾燥して接着層を設けた以外は、実施例1と同様にして保護層を形成し、放射線像変換パネルを作製した。
[比較例1]
厚さ9μmのPETフィルムの片面に不飽和ポリエステル樹脂溶液(バイロン30SS 東洋紡製)を塗布し80℃で熱処理して接着層を設けた以外は、実施例1と同様にして保護層を形成し、放射線像変換パネルを作製した。
厚さ9μmのPETフィルムの片面に不飽和ポリエステル樹脂溶液(バイロン30SS 東洋紡製)を塗布し80℃で熱処理して接着層を設けた以外は、実施例1と同様にして保護層を形成し、放射線像変換パネルを作製した。
[保護層の収縮率の測定]
放射線像変換パネルの保護層の収縮率をJISC2151(150℃、30分)に準じて、測定した。結果を下記表1に示す。
放射線像変換パネルの保護層の収縮率をJISC2151(150℃、30分)に準じて、測定した。結果を下記表1に示す。
[消毒処理の評価]
実施例1〜3および比較例1の放射線像変換パネルのそれぞれの保護層に、MRSAを同量付着させた。なお、MRSAは、寒天平板培養法で培養した後、刷毛を用いて放射線像変換パネルの保護層上に付着させた。
実施例1〜3および比較例1の放射線像変換パネルのそれぞれの保護層に、MRSAを同量付着させた。なお、MRSAは、寒天平板培養法で培養した後、刷毛を用いて放射線像変換パネルの保護層上に付着させた。
MRSAを付着させた状態でスキャナに導入し放射線画像を読み取った後、自走搬送により光照射による消去を行いながら、赤外線ヒータ(250W)で下記表1に示す温度および時間で放射線像変換パネルの表面に、熱処理による消毒処理を行った。その後、放射線像変換パネルを自動搬送により消毒装置(消毒手段)から取り出し、保護層表面に付着していたMRSAの残存について調べた。また、目視により放射線像変換パネルの変形状態を確認した。これらの結果を下記表1に示す。
なお、上記消毒処理時の放射線像変換パネルの表面温度の測定および加熱制御は、下記の通りとした。まず、放射線像変換パネルの表面に熱電対を接触させ温度を測定し、その時の放射温度計を校正した。次に、放射温度計に直接当たらないように覆いをして放射線像変換パネル表面に赤外線ヒータ(250W)による照射を行い、その時の放射温度計の読み取り値、校正係数から放射線像変換パネルの表面温度を測定した。放射線像変換パネルの表面温度をフィードバックすることで、赤外線ヒータをON/OFFさせて、放射線像変換パネルの表面温度を制御した。
表1より、熱処理による消毒処理を行わなかった比較例1の放射線像変換パネルでは、MRSAが残存していた。これに対し、実施例1〜3の放射線像変換パネルでは、MRSAは死滅し、実用上問題となるほどの形状変化も見られなかった。特に、保護層形成前に熱処理を施した実施例1および実施例2の場合は、形状変化がまったく見られなかった。
10…画像読取装置
14…カセッテ装填部
16a〜16c…放射線像変換パネル
18a〜18c…カセッテ
30…吸着盤
34a〜34h…搬送ローラ対
36a〜36i…ガイド板
38…湾曲搬送路
39…消去ユニット
40…走査ユニット
48…読取ユニット
54…幅寄せ装置
60…消毒手段
70…出口
14…カセッテ装填部
16a〜16c…放射線像変換パネル
18a〜18c…カセッテ
30…吸着盤
34a〜34h…搬送ローラ対
36a〜36i…ガイド板
38…湾曲搬送路
39…消去ユニット
40…走査ユニット
48…読取ユニット
54…幅寄せ装置
60…消毒手段
70…出口
Claims (8)
- 少なくとも、放射線像変換パネルに対し消毒処理を施す消毒手段を含むことを特徴とする放射線像変換パネルの消毒システム。
- 前記消毒手段による消毒処理が、熱処理、紫外線照射処理および薬品塗布処理の少なくとも1の処理であることを特徴とする請求項1に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
- 前記熱処理が、前記放射線像変換パネルに対し、60℃〜200℃で1秒〜10分間の加熱を行う処理であることを特徴とする請求項2に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
- 前記放射線像変換パネルが保護層を有し、当該保護層の熱収縮率(JISC2151、150℃30分)が1%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
- 前記放射線像変換パネルの前記保護層が、その形成前および形成時の少なくともいずれかにおいて60℃以上の加熱処理が施されていることを特徴とする請求項4に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
- 前記消毒手段による消毒処理が熱処理であり、前記消毒手段が温度制御手段を具備することを特徴とする請求項2〜5のいずれか1項に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
- 放射線像変換パネルの画像を読み取る画像読取手段をさらに具備することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
- 前記消毒手段による消毒処理が熱処理であり、当該熱処理が赤外線ヒータおよび遠赤外線ヒータの少なくともいずれかによる加熱処理であることを特徴とする請求項2〜7のいずれか1項に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
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