JP2007058991A - 光記録方法、光記録装置、光記録媒体及び光記録再生方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 記録層の層面に対し水平方向の位置情報を記録した位置情報パターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光のいずれかを照射し、前記光記録媒体における該情報光及び該参照光の光軸の水平位置を検出し、該水平位置とサーボ用光により検出したアドレスに対する水平方向の偏差量ΔLを検出する偏差量検出ステップと、前記偏差量ΔLの絶対値が、0より大きい場合に、前記情報光及び前記参照光の光軸の位置が前記アドレス位置と一致するように、該情報光及び該参照光をΔL水平移動し、該情報光及び該参照光を前記記録層に照射し、干渉像を前記記録層に記録する干渉像記録ステップとを含む光記録方法。
【選択図】 図1
Description
これらの焦点位置の制御方法として、例えば、前記フォーカス制御やトラッキング制御などを行うためのサーボ用光を前記光記録媒体に照射し、その反射光によりフォーカス情報やトラック情報などの光照射のための位置情報を検出するサンプルドサーボ方式などがある。この焦点位置の制御により前記情報光及び参照光が光記録媒体の正常な位置に照射され、記録及び再生が行われる(特許文献1〜3参照)。
しかし、前記位置制御方法の場合、前記サーボ用光に対するフォーカス情報やトラック情報などの光照射の位置情報のみが検出の対象とされ、前記情報光及び参照光の記録層への照射位置は検出の対象となっていない。そのため、前記位置制御方法のように情報光及び再生光だけでなく、サーボ用光などの複数のレーザ光を用いて、記録、再生、フォーカス制御及びトラック制御などを行う光記録再生装置の場合、例えば、図1に示すように、前記サーボ用光など位置制御に用いられるレーザ光33の光軸と、記録及び再生に用いられるレーザ光35の光軸との間に、製造時などに発生する誤差(レーザ光33の光軸とレーザ光35の光軸とのずれ)があると、図3に示すように、フォーカス制御やトラッキング制御を行っても、光記録媒体20における正常な位置からずれた位置へ記録されてしまうという問題がある。本来は、図2に示すように、前記レーザ光33とレーザ光35の各光軸は、適正な再生位置、即ち、同軸であることが好ましい。
このような、記録位置がずれた状態の図3に示す光記録媒体20を、他の光再生装置で再生する際に、前記ずれ(以下「偏差量」と称することがある。)が大きい場合、又は図4に示すように、該光再生装置に用いられる再生光35の光軸とサーボ用光33の光軸とのずれ(偏差量)がある場合には、前記光記録媒体20における情報記録部分(図4の斜線部)に再生光35が的確に照射されず、前記光記録媒体20の記録を再生することができないという問題がある。
そのため、一の光記録媒体では正常に記録及び再生がなされても、別の光記録媒体では再生できず、光記録再生装置の調整が必要となるなどの互換性の問題が生じてしまう。前記光記録再生装置の誤差を低減するには限界があり、このような光記録再生装置に高精度を求めるのは、生産コストが増大するという問題がある。
<1> ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ該記録層の層面に対し水平方向の位置情報を記録した位置情報パターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光の少なくともいずれかを照射し、前記光記録媒体における該情報光及び該参照光のいずれかの光軸の水平位置を検出し、該水平位置とサーボ用光により検出したアドレスに対する水平方向の偏差量ΔLを検出する偏差量検出ステップと、前記偏差量ΔLの絶対値が、0より大きい場合に、前記情報光及び前記参照光のいずれかの光軸の位置が前記アドレス位置と一致するように、該情報光及び該参照光のいずれかをΔL水平移動し、該情報光及び該参照光の少なくともいずれかを前記記録層に照射し、干渉像を形成し、該干渉像を前記記録層に記録する干渉像記録ステップとを含むことを特徴とする光記録方法である。
<2> 位置情報パターンが、光記録媒体における少なくとも3箇所に形成された前記<1>に記載の光記録方法である。
<3> 位置情報パターンが、記録層に記録された前記<1>から<2>のいずれかに記載の光記録方法である。
<4> 偏差量検出ステップにおける水平位置の検出方法が、3ビーム法、プッシュプル法及び位相差検出法の少なくともいずれかである前記<1>から<3>のいずれかに記載の光記録方法である。
<5> 偏差量検出ステップにおける水平位置の検出方法が、位置情報パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号強度が最大となる位置を検出する前記<1>から<4>のいずれかに記載の光記録方法である。
<6> 偏差量検出ステップにおける水平位置の検出方法が、位置情報パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号エラーが最小となる位置を検出する前記<1>から<5>のいずれかに記載の光記録方法である。
<7> 偏差量検出ステップが、情報光及び参照光、並びにサーボ用光の少なくともいずれかについて焦点位置の検出が行われ、該焦点位置の検出方法が、非点収差法、フーコー法及び臨界角法の少なくともいずれかである前記<1>から<6>のいずれかに記載の光記録方法である。
<8> 情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われる前記<1>から<7>のいずれかに記載の光記録方法である。
<9> 光記録媒体が、第一の基板と、記録層と、フィルタ層と、第二の基板とをこの順に有する前記<1>から<8>のいずれかに記載の光記録方法である。
<10> フィルタ層が、顔料及び染料の少なくともいずれかの色材を含有する色材含有層を有する前記<9>に記載の光記録方法である。
<11> フィルタ層が、顔料及び染料の少なくともいずれかの色材を含有する色材含有層と、該色材含有層上にコレステリック液晶層とを有する前記<9>から<10>のいずれかに記載の光記録方法である。
<12> 色材が、赤色顔料である前記<11>に記載の光記録方法である。
<13> 赤色顔料における532nmの光に対する透過率が、33%以下であり、かつ655nmの光に対する透過率が66%以上である前記<12>に記載の光記録方法である。
<14> フィルタ層が、色材含有層上に誘電体蒸着層を有する前記<9>から<13>のいずれかに記載の光記録方法である。
<15> 色材含有層が、バインダー樹脂を含有し、該バインダー樹脂がポリビニルアルコール樹脂である前記<10>から<14>のいずれかに記載の光記録方法である。
<16> 色材含有層表面が、ラビング処理されている前記<10>から<15>のいずれかに記載の光記録方法である。
<17> フィルタ層が、互いに屈折率の異なる誘電体薄層を複数層積層した誘電体蒸着層を有する前記<9>から<16>のいずれかに記載の光記録方法である。
<18> 該誘電体蒸着層が、高屈折率の誘電体薄層と低屈折率の誘電体薄層とを交互に複数層積層した前記<17>に記載の光記録方法である。
<19> 誘電体蒸着層が、誘電体薄層を2〜20層積層した前記<17>から<18>のいずれかに記載の光記録方法である。
<20> フィルタ層が、単層のコレステリック液晶層を有する前記<9>から<19>のいずれかに記載の光記録方法である。
<21> フィルタ層が、コレステリック液晶層を2層以上積層した積層体である前記<9>から<20>のいずれかに記載の光記録方法である。
該<21>の光記録方法においては、コレステリック液晶層を2層以上積層しており、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、記録又は再生時に用いられる情報光及び参照光、さらに再生光は、反射膜に到達しないので、反射面上での乱反射による拡散光が発生することを防ぐことができる。従って、この拡散光によって生じるノイズが再生像に重畳されてCMOSセンサ又はCCD上で検出されることもなく、再生像が少なくともエラー訂正可能な程度に検出することができるようになる。拡散光によるノイズ成分はホログラムの多重度が大きくなればなるほど大きな問題となる。つまり、多重度が大きくなればなるほど、例えば多重度が10以上になると、1つのホログラムからの回折効率が極めて小さくなり、拡散ノイズがあると再生像の検出が非常に困難となるのである。この構成によれば、このような困難性は除去することができ、今までにない高密度画像記録が実現できる。
<22> コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が連続的である前記<20>から<21>のいずれかに記載の光記録方法である。
該<22>に記載の光記録方法においては、各コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有し、螺旋の回転方向が互いに同じであり、選択反射中心波長が互いに異なり、選択反射波長帯域が連続的であることにより、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、照射光反射の角度依存性を解消でき、波長選択反射膜として好適に用いられる。
<23> フィルタが、単層のコレステリック液晶層を有し、該コレステリック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する前記<9>から<22>のいずれかに記載の光記録方法である。
<24> コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記<20>から<23>のいずれかに記載の光記録方法である。
<25> コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに同じである前記<20>から<24>のいずれかに記載の光記録方法である。
<26> コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なる前記<20>から<25>のいずれかに記載の光記録方法である。
<27> コレステリック液晶層における選択反射波長帯域幅が100nm以上である前記<20>から<26>のいずれかに記載の光記録方法である。
<28> フィルタ層が、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射する前記<9>から<27>のいずれかに記載の光記録方法である。
<29> フィルタ層が、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射する前記<9>から<28>のいずれかに記載の光記録方法である。
<30> 第一の波長の光が、350〜600nmであり、かつ第二の波長の光が600〜900nmである前記<28>から<29>のいずれかに記載の光記録方法である。
<31> フィルタ層内の±40°以内の光における655nmでの光透過率が、50%以上であり、かつ532nmでの光反射率が30%以上である前記<9>から<30>のいずれかに記載の光記録方法である。
<32> フィルタ層が、入射角度±40°における655nmでの光透過率が50%以上であり、かつ532nmでの光反射率が30%以上である前記<9>から<31>のいずれかに記載の光記録方法である。
<33> フィルタ層のλ0〜λ0/cos20°(ただし、λ0は照射光波長を表す)における光反射率が40%以上である前記<9>から<32>のいずれかに記載の光記録方法である。
<34> フィルタ層のλ0〜λ0/cos40°(ただし、λ0は照射光波長を表す)における光反射率が、40%以上である前記<9>から<33>のいずれかに記載の光記録方法である。
<35> フィルタ層が、ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記<9>から<34>のいずれかに記載の光記録方法である。
<36> フィルタ層が、光反応型カイラル化合物を有し、該光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位がイソソルビド化合物、イソマンニド化合物及びビナフトール化合物から選択される少なくとも1種である前記<9>から<35>のいずれかに記載の光記録方法である。
<37> 光反応性基が、光照射により炭素−炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を生じる基である前記<36>に記載の光記録方法である。
<38> 基板が、サーボピットパターンを有する前記<9>から<37>のいずれかに記載の光記録方法である。
<39> サーボピットパターン表面に反射膜を有する前記<38>に記載の光記録方法である。
<40> 反射膜が、金属反射膜である前記<39>に記載の光記録方法である。
<41> フィルタ層と反射膜との間に、第二の基板表面を平滑化するための第1ギャップ層を有する前記<9>から<40>のいずれかに記載の光記録方法である。
<42> 記録層とフィルタ層との間に、第2ギャップ層を有する前記<9>から<41>のいずれかに記載の光記録方法である。
<43> 光記録媒体が反射型ホログラムである前記<1>から<42>のいずれか記載の光記録方法である。
<47> 参照光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、参照光を干渉像に照射して記録情報を再生する前記<46>に記載の光記録再生方法である。
本発明の光記録方法は、偏差量検出ステップ、干渉像記録ステップ及び必要に応じて適宜選択したその他のステップを含む光記録方法である。
本発明の光記録方法は、本発明の光記録装置により実施することができ、該光記録装置の説明を通じてその詳細をも明らかにすることとする。
本発明の光記録方法における前記偏差量検出ステップは、本発明の光記録装置における偏差量検出手段により好適に行うことができ、
本発明の光記録方法における前記干渉像記録ステップは、本発明の光記録装置における干渉像記録手段により好適に行うことができ、
本発明の光記録方法における前記その他のステップは、本発明の光記録装置における前記その他の手段により好適に行うことができる。
前記偏差量検出手段は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ該記録層の層面に対し水平方向の位置情報を記録した位置情報パターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光のいずれかを照射し、前記光記録媒体における該情報光及び該参照光の光軸の水平位置を検出し、該水平位置とサーボ用光により検出したアドレスに対する水平方向の偏差量ΔLを検出する手段である。
前記水平方向の位置情報としては、前記光記録媒体に積層された前記記録層の層面に対して前記情報光及び参照光の光軸の水平方向の位置に関する情報であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光記録媒体のプリピットや記録層に記録されているアドレス情報を利用し、該アドレス情報における任意の一アドレスを原点とし、前記記録層と水平方向の層面にX軸及びY軸をとり、前記記録層の厚み方向にZ軸をとったとき、該X軸からa、Y軸からb、Z軸からcの位置(a,b,c)、(ただし、前記aはa≧0、bはb≧0、cはc>0、ここで、a=0、b=0とすると、前記記録層の厚み方向のみアドレス位置と異なり、前記サーボ用光の光軸と、前記情報光及び参照光の光軸とが一致しているかの検出には好適である。)や、トラッキングサーボに用いられる位置情報、ウォブルなどに形成された位置情報を原点として利用した位置情報、更に、単に光の強弱が戻ってくるだけの記録パターンのみによる位置情報などが挙げられる。
前記水平方向の位置情報は、前記情報光及び参照光の照射位置を制御するための基準となる情報であるため、位置精度は極めて高いことが要請され、前記各a、b及びcの位置誤差は、100μm以内であることが好ましく、10μm以内であることがより好ましく、3μm以内であることが特に好ましく、1μmが最も好ましい。100μm以内としたのは、100μm以内にあれば、前記情報光及び参照光の照射位置制御は可能であり、100μmを超える高精度を求めると生産性が低下することがあるからである。また、位置がずれていても、そのずれ量が既知であり、それに基づいて制御を行うのであれば、制御に支障はない。既知のずれ量は、光記録媒体に記録されていることが好ましい。
前記位置情報パターンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、参照光を照射したときに、情報光として戻ってくるものが好ましい。
この位置情報パターンを再生するとき、該位置情報パターンに対する参照光軸がずれていると、そのずれ量に応じて光量が減衰するように記録されていることが好ましい。その光量から、ずれ量を検出することが可能となる。また、XとYそれぞれ独立に光量を検出できれば,1度の再生で偏位量を測定することも可能である。
前記位置情報パターンの記録場所としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層、前記情報光及び参照光の反射層、前記水平位置情報のために形成し、他の層と屈折率が異なるパターン層、光記録媒体の基板面、プリピット層、ギャップ層、カバー層などが挙げられる。
前記位置情報パターンの個数としては、少なくとも光記録媒体に3個あれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、3〜1,000個であり、3〜100個が好ましく、3〜10がより好ましい。また、前記個数は、トラッキングサーボに用いられるトラック毎に設けてもよく、この場合も、3〜1,000個であり、3〜100個が好ましく、3〜10がより好ましい。前記個数がいずれの場合も、1,000個を超えると、前記位置情報パターンを形成する際の生産効率の低下を招くことがあり、前記位置情報パターンの検出に用いられる個数としては、1,000個あれば充分だからである。
前記位置情報パターンの記録方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層への記録の場合には、情報光及び参照光により、水平位置の数値データや、イメージデータの干渉像として記録し、定着する。前記情報光及び参照光の反射層への形成の場合は、前記水平位置情報に対応するパターンを前記情報光及び前記参照光のための反射層面に金属蒸着などにより形成する。前記パターン層への形成の場合、前記位置情報パターンのために新たに他の層と屈折率が異なる層を形成し、前記屈折率の変化を位置情報として形成する。前記光記録媒体の基板面への形成の場合、前記基板面にレーザ光などにより直接水平位置情報を書き込む。
前記水平位置情報の検出方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、サーボ用光の照射により、トラッキングサーボなどを行った状態、即ち、サーボ用光の焦点位置をトラック位置及びアドレス位置に合致させるため、厚み方向の位置調整のフォーカス制御及び面方法の位置調整のトラッキング制御を行い前記サーボ用光の光軸が適正な位置に制御した状態で、前記情報光及び参照光(再生光)を前記位置情報パターンに照射し、反射光を受光して、該情報光及び参照光の光軸が、前記サーボ用光の光軸とどの程度偏差しているかを検出する方法、トラッキング制御したときに、そのトラッキング位置にオフセットをのせ、位置情報パターンの再生光からその偏位量を検出する方法などが挙げられる。
前者の検出方法の場合、前記検出により、前記情報光及び参照光(再生光)が該水平位置情報とジャストピントの状態であることが確認できれば、前記サーボ用光の光軸と前記情報光及び参照光(再生光)の光軸が設計値と一致し、誤差がないことが検出される。
前記検出により、ジャストピントの状態ではない場合、前記情報光及び参照光(再生光)水平位置のトラッキング制御を行いジャストピント位置になるように前記情報光及び参照光(再生光)をサーボ用光により検出したアドレス位置まで移動し、該移動量を偏差量ΔLとして検出する。
前記信号強度の最大値を認識する手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピークホールド法などが挙げられる。
前記信号エラーの最小値を認識する手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピークホールド法などが挙げられる。
前記サーボ機構としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記偏差量を、例えば、フォーカス誤差信号として生成し、前記信号を増幅する位相補償ドライブアンプなどを経由して、駆動装置へ指令し前記対物レンズの位置を移動することにより。により焦点距離を制御する機構などが挙げられる。
前記駆動装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクチュエータ、ステッピングモータなどが挙げられる。
前記偏差量ΔLの検出方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記水平位置情報として、アドレス情報を原点とし、前記記録層と水平方向の層面にX軸及びY軸をとり、前記記録層の厚み方向にZ軸をとったとき、該X軸からa、Y軸からb、Z軸からcの位置(a,b,c)、(ただし、前記aはa≧0、bはb≧0、cはc>0)が前記感光層に記録されており、前記アドレス情報が、同様のX軸、Y軸及びZ軸において位置(a,b,0)として、光記録媒体に記録されている場合、まず、サーボ用光で前記アドレス情報を検出し、次に前記情報光及び参照光により前記水平位置情報を検出し、前記検出結果に基づいて、前記サーボ用光の光軸と前記情報光及び参照光の光軸との偏差量ΔLを求める。
前記サーボ用光によるアドレス情報の検出は、該サーボ用光を照射し、反射光を受光して被照射部分のアドレスを認識するとともに、該アドレスの位置(a,b,0)から、照射した該サーボ用光がどれだけずれているかのX軸及びY軸方向の偏差量Δa及びΔbを求める。
前記情報光及び参照光による水平位置情報の検出は、該情報光及び参照光を照射し、反射光を受光して被照射部分の水平位置を認識するとともに、該水平位置(a,b,c)から、照射した該情報光及び参照光がどれだけずれているかのX軸及びY軸方向の偏差量Δa’及びΔb’を求める。
前記偏差量ΔLは、座標位置で表す場合は、X軸においては、Δa’−Δa、Y軸においては、Δb’−Δbで表される。
前記偏差量ΔLは、距離及び角度で表してもよい。この場合は、距離は下記式で表し、角度はX軸又はY軸を基準とした鋭角θで表してもよい。
前記非点収差法は、被検出ディスクに形成されている記録層の記録しようとする位置と、前記情報光及び参照光の焦点の位置との偏差量を検出する。即ち、焦点距離(対物レンズの中心と前記情報光及び参照光の焦点との距離)と、前記対物レンズの中心から前記記録層の記録しようとする部分まで距離との偏差量を検出する。光源から出射される光線が対物レンズを通過し光記録媒体に照射される光路における、前記光源から前記対物レンズの中間にビームスプリッターなどを配置し反射光を取り出し、該反射光をシリンドリカルレンズに透過させ、結像させる。該結像面が円形の場合は、前記焦点距離は一致し、縦長の楕円形の場合は、前記光記録媒体が前記対物レンズに近すぎる位置にあり、横長の楕円の場合は、前記光記録媒体が前記対物レンズに遠すぎる位置にあることが検出できる。
前記検出は、前記反射光を4分割し、前記結像の対角領域の明るさを比較することにより検出する。
前記フーコー法は、前記非点収差を用いる方法と、前記ビームスプリッターなどを配置し反射光を取り出し、該反射光をシリンドリカルレンズを透過するところまでは同じ構成を用いる。該シリンドリカルレンズにより透過した反射光が結像する部分にプリズムを用い、該プリズムの頂角に結像した場合は、前記焦点距離は一致し、該頂角を通過して結像した場合は、前記光記録媒体が前記対物レンズに近すぎる位置にあり、該頂角の手前で結像した場合は、前記光記録媒体が前記対物レンズに遠すぎる位置にあることが検出できる。前記検出は、2分割された前記反射光に対して1個づつセンサを配置し、前記2分割された反射光の明るさを感知し、前記結像位置を検出することができる。
前記臨界法は、被検出ディスクに形成されている記録層へ記録しようとする位置と、前記情報光及び参照光の焦点の位置とのずれを検出する。即ち、焦点距離(対物レンズの中心と前記情報光及び参照光の焦点との距離)と、前記対物レンズの中心から前記記録層の記録しようとする部分まで距離とのずれを検出する。光源から出射される光線が対物レンズを通過し光記録媒体に照射される光路における、前記光源から前記対物レンズの中間に、入射する光束の中心の光線に対して、入射角がちょうど臨界角(入射する光線がプリズムの境界面で全部反射される角度)となるプリズムを配置し、該プリズムから前記反射光を取り出し、該反射光の明暗感知することにより焦点位置を検出する。前記光記録媒体が前記対物レンズに近すぎたり、遠すぎたりする場合、該プリズムで反射する反射光は光量が減ることを利用し、遠近を+−の極性で判別することにより、前記焦点位置を検出することができる。
前記3ビーム法は、被検出ディスクに形成されているトラックに対する、サーボ用光の照射位置ずれを検出する方法で、略円形の主ビーム、副ビームA及び副ビームBの3本のビームが用いられる。副ビームA、主ビーム及び副ビームBの順に略直線上に等間隔に配置され、主ビームの円の中心が、前記トラックの幅の中央に対して照射される位置に、副ビームAの円の下部が、前記トラックの幅の端に接する位置に、副ビームBの円の上部が、前記トラックの幅の端に接する位置になるように配置される。
このような配置で、各ビームが前記トラックに照射されると、トラック面では、弱い反射光、トラック面以外では強い反射光となり、各反射光の強度を検出することにより、照射された3本のビームの位置と前記トラックとの位置ずれを検出することができる。
前記プッシュプル法は、被検出ディスクに形成されているトラックに対する、サーボ用光の照射位置ずれを検出する方法で、1つのビームを前記トラックに照射し、該反射光を2分割して検出する2分割光検出器を用いる。該ビームが該トラック幅の中心部分に照射されると、2分割された反射光の左右の光強度が等しくなり、該トラックの幅方向に左右にずれた場合には、該トラック部分からの反射光の強度は弱く、該トラック以外からの反射光の強度は強いので、2分割された反射光の左右の光強度分布は左右非対象になり、ずれていることが検出できる。
前記位相差検出(DPD法:Differential Phase Detection)は、被検出ディスクに形成されているトラックに対する、サーボ用光の照射位置ずれを検出する方法で、前記プッシュプル法の2分割を更に分割して4分割した光検出器を用いる。1つのビームが該トラック幅の中心部分に照射されると、4分割された反射光の4つの領域の左右の光強度が等しくなり、該トラックの幅方向に左右にずれた場合には、該トラック部分からの反射光の強度は弱く、該トラック以外からの反射光の強度は強いので、4分割された反射光の4つの領域の光強度分布について、対角領域にある光強度分布を検出することにより左右非対象となり、ずれていることが検出できる。
前記情報光及び参照光(再生光)の焦点位置の検出方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、該情報光及び参照光を照射することにより、前記サーボ用光の水平位置の検出と同様に、前記3ビーム法、前記プッシュプル法及び前記位相差検出法などを用いることができる。
前記情報光又は前記参照光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、記録時と同様の光線を用いてもよく、記録時よりも弱い光線を用いてもよい。記録時よりも弱い光線を用いる場合、照射エネルギーは、例えば、0.1〜10,000μJ/cm2が好ましく、1〜1,000μJ/cm2がより好ましく、10〜100μJ/cm2が特に好ましい。前記照射エネルギーが、0.1μJ/cm2未満であると、焦点位置の検出が充分になされないことがあり、10,000μJ/cm2を超えると記録されてしまうことがある。前記情報光又は前記参照光のいずれかである場合は、光の干渉は起きないので、焦点距離の検出に用いることができる。また、前記情報光及び前記参照光の双方を照射する場合には、照射エネルギーを、光記録媒体に記録がなされない程度に弱めれば、検出用に用いることができる。
前記水平位置制御手段は、該水平位置検出ステップにより検出された前記位置情報に基づいて、該情報光及び該参照光の水平位置について、正常な位置に記録するため、該情報光及び参照光の光軸の前記X軸及びY軸の位置を制御する手段である。
具体的には、前記水平位置検出ステップにより検出され、算出された前記偏差量ΔLを用いて制御することができる。例えば、図6に示すように、前記情報光及び参照光の光軸とサーボ用光の光軸との偏差量がΔLであることが求まったことは、光記録再生装置において、該情報光及び参照光の光軸とサーボ用光の光軸とが前記偏差量ΔLだけずれていることを示している。そのため、この光記録再生装置で所定の光記録媒体に記録する際には、常に前記偏差量ΔLだけずらして記録すれば、正常な位置に記録することができる。即ち、偏差量ΔLをオフセット量として、前記情報光及び参照光の照射の際に考慮し、予め位置をずらして照射する。具体的には、前記偏差量ΔLを、座標位置で表す場合は、X軸においては、Δa’−Δa、Y軸においては、Δb’−Δbをオフセット量として、考慮する。
前記偏差量ΔLは、距離及び角度で場合は、距離は下記式で表される量、角度はX軸又はY軸を基準とした鋭角θで表わされる量をオフセット量として、予めずらして照射し、記録する。
前記信号強度の最大値を認識する手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピークホールド法などが挙げられる。
前記水平位置制御手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記サーボ機構などが挙げられる。
前記信号エラーの最小値を認識する手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ピークホールド法などが挙げられる。
前記水平位置制御手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記サーボ機構などが挙げられる。
前記干渉像記録手段は、ホログラフィを利用して情報を記録する前記記録層に対して、可干渉性を有する情報光及び参照光を照射し、前記情報光と前記参照光とにより光の干渉像(干渉縞)を形成し、該前記干渉像を前記記録層に記録する手段である。前記干渉像の記録手段としては、例えば、明暗からなる干渉縞を屈折率の差として記録層内に記録する手段などが挙げられる。前記手段においては、前記記録層は、フォトポリマーなどの感光材料からなり、前記干渉縞の明るい部分は、光照射により感光材料が重合反応し屈折率が高くなり、暗い部分は、反応せず屈折率は変化しないので、屈折率の差が生ずることになる。
これらの中でも、高多重記録が可能であり、情報の転送速度も速い前記情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸になる、いわゆるコリニア方式による記録が好ましい。
前記波長が、360nm未満であると、鮮明な干渉像が得られないことがあり、850nmを超えると、前記干渉縞が微細となり、それに対応する感光材料が得られないことがある。
前記レーザ光の照射エネルギーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、0.1〜10,000μJ/cm2が好ましく、1〜1,000μJ/cm2がより好ましく、10〜100μJ/cm2が特に好ましい。前記照射エネルギーが、0.1μJ/cm2未満であると、記録がなされないことがあり、10,000μJ/cm2を超えると記録されてしまうことがある。
前記その他の手段としては、干渉像定着手段などが挙げられる。
前記干渉像定着手段は、前記干渉像記録手段により前記記録層に記録された前記干渉像に対して、定着光を、照射し定着する手段である。前記定着光の照射は、記録された干渉像の領域に対して過不足なく行うことにより、前記干渉像を効率よく定着することができ、前記定着により保存安定性が改善され、再生の際にノイズの発生などの支障が起きない光記録媒体を得ることができる。
前記定着光の照射領域としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光による記録対象部分と同じ領域か、該記録対象部分の外延よりも広くかつ該外延から少なくとも1μm外側まで延設された領域であることが好ましい。前記記録対象部分の外延から1μmを超えた領域まで定着光を照射すると、隣接する記録領域にも照射され、過剰な照射エネルギーとなり非効率的である。
前記定着光の照射方向としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光と同じ方向でもよく、異なった方向でもよい。また、照射角度としては、記録層の層面に対して0〜60°が好ましく、0〜40°がより好ましい。前記照射角度が、上記以外の角度であると、定着が非効率となることがある。
前記定着光の波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、350〜850nmであることが好ましく、400〜600nmであることがより好ましい。
前記波長が、350nm未満であると、材料が分解してしまうことがあり、850nmを超えると、温度が上がり材料が劣化することがある。
前記定着光の照射量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、0.001〜100mJ/cm2であることが好ましく、0.01〜10mJ/cm2であることがより好ましい。
本発明の光記録媒体は、支持体上に、少なくともホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有し、前記定着光により記録層に記録した干渉像が定着された光記録媒体である。
本発明の光記録媒体は、2次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラムであってもよく、透過型及び反射型のいずれであってもよい。また、ホログラムの記録方式もいずれであってもよく、例えば、振幅ホログラム、位相ホログラム、ブレーズドホログラム、複素振幅ホログラムなどでもよい。
具体的には、前記コリニア方式の記録方法に用いられる反射型の光記録媒体が好ましい。前記光記録媒体は、前記記録層と、フィルタ層と、第一の基板と、第二の基板とを有し、必要に応じて適宜選択したその他の層を有する光記録媒体である。
前記記録層の感光材料としては、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料が用いられる。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールAエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、1,6−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、4−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式(A)〜(E)で表される化合物、などが挙げられる。
これらモノマーは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記光開始剤としては、例えば、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,1’−ビイミダゾール、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシフェニルビニル)−1,3,5−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、4,4’−ジ−t−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、4−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−2−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、下記構造式で表されるチタノセン化合物、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用してもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体;ヒドラゾン化合物;トリフェニルアミン類;トリフェニルメタン類;ブタジエン類;スチルベン類;アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物、又はその誘導体;C60及びC70等のフラーレン並びにその誘導体;ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子又はオリゴマー;ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子又はオリゴマー;アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記カルコゲナイドガラスは、S、Te又はSeのカルコゲン元素を含む非酸化物系の非晶質材料から構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、Ge−S系ガラス、As−S系ガラス、As−Se系ガラス、As−Se−Ce系ガラスなどが挙げられ、これらの中ではGe−S系ガラスが好ましい。前記カルコゲナイドガラスとしてGe−S系ガラスを用いる場合には、ガラスを構成するGe及びSの組成比は照射する光の波長に応じて任意に変化させることができるが、主としてGeS2で表される化学組成を有するカルコゲナイドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Al、Au、Cu、Cr、Ni、Pt、Sn、In、Pd、Ti、Fe、Ta、W、Zn、Agなどが挙げられる。これらの中では、Ag、Au又はCuが光ドープをより生じやすい特性を有しており、Agは光ドープを顕著に生じるため特に好ましい。
前記カルコゲナイドガラスに分散されている金属粒子の含有量としては、前記記録層の全体積基準で0.1〜2体積%が好ましく、0.1〜1.0体積%がより好ましい。前記金属粒子の含有量が0.1体積%未満であると、光ドープによる透過率変化が不充分となって記録の精度が低下することがあり、2体積%を超えると、記録材料の光透過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、10〜300多重のシフト多重を行っても十分なS/N比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
前記フィルタ層は、第一の光を透過し、前記第一の光と異なる第二の光を反射する波長選択反射の作用をする層である。例えば、色材含有層及び誘電体蒸着層からなる無機材料のフィルタ層、コレステリック液晶層からなる有機材料のフィルタ層などが挙げられる。
前記色材含有層は、色材を含有してなり、バインダー樹脂、溶剤、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体;塩化ビニル、酢酸ビニルとビニルアルコール、マレイン酸及びアクリル酸の少なくともいずれかとの共重合体;塩化ビニル/塩化ビニリデン共重合体;塩化ビニル/アクリロニロリル共重合体;エチレン/酢酸ビニル共重合体;ニトロセルロース樹脂等のセルロース誘導体;ポリアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、分散性及び耐久性を更に高めるため、以上に挙げたバインダー樹脂分子中に、極性基(エポキシ基、CO2H、OH、NH2、SO3M、OSO3M、PO3M2、OPO3M2(ただし、Mは水素原子、アルカリ金属、又はアンモニウムであり、一つの基の中に複数のMがあるときは互いに異なっていてもよい)を導入したものが好ましい。該極性基の含有量とてしてはバインダー樹脂1グラム当り10−6〜10−4当量が好ましい範囲である。
以上列挙したバインダー樹脂は、イソシアネート系の公知の架橋剤を添加して硬化処理されることが好ましい。
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水、3−メトキシプロピオン酸メチルエステル、3−メトキシプロピオン酸エチルエステル、3−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、3−エトキシプロピオン酸メチルエステル、3−エトキシプロピオン酸エチルエステル、3−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類;2−メトキシプロピルアセテート、2−エトキシプロピルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類;乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類;γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記誘電体蒸着層は、前記色材含有層上に形成され、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層してなり、波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層することが好ましいが、2種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。
前記積層数は、2〜20層が好ましく、2〜12層がより好ましく、4〜10層が更に好ましく、6〜8層が特に好ましい。前記積層数が20層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
なお、前記誘電体薄膜の材料においては、原子比についても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、成膜時に雰囲気ガス濃度を変えることにより、原子比を調整することができる。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いDCスパッタリング法が好ましい。なお、DCスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、(1)1つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する1チャンバ法、(2)複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記誘電体薄膜の膜厚としては、光学波長オーダーで、λ/16〜λの膜厚が好ましく、λ/8〜3λ/4がより好ましく、λ/6〜3λ/8がより好ましい。
ただし、前記誘電体蒸着層の積層数を20層以下としたことにより、数%〜数十%の選択反射波長光がフィルタを漏れて透過するが、該漏れ光を前記誘電体蒸着層の直下に仕込んだ色材含有層で吸収してしまう。なお、前記色材含有層は赤色顔料や赤色染料を含んでいるので、波長350〜600nmの光は吸収するが、サーボ光として使用する波長600〜900nmの光は透過する。
前記色材含有層と前記誘電体蒸着層とを有する光記録媒体用フィルタの機能は、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射することが好ましく、前記第一の光の波長が350〜600nmであり、かつ第二の光の波長が600〜900nmであることが好ましい。そのためには、光学系側から見て、記録層、誘電体蒸着層、色材含有層、及びサーボピットパターンの順に積層されている構造の光記録媒体であることが好ましい。
前記コレステリック液晶層は、少なくともネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
したがって、前記各コレステリック液晶層は、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の円偏光を反射することが好ましく、前記第一の光の波長が350〜600nmであり、かつ前記第二の光の波長が600〜900nmであることが好ましい。
<数式1>
Δλ=2λ(ne−no)/(ne+no)
ただし、前記数式1中、noは、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率を表す。neは、該ネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率を表す。λは、選択反射の中心波長を表す。
<数式2>
λ=(ne+no)P/2
ただし、前記数式2中、ne及びnoは上記数式1と同じ意味を表す。Pは、コレステリック液晶層の一回転ねじれに要する螺旋ピッチ長を表す。
また、各コレステリック液晶層の選択反射波長帯域は、該帯域内において、均一な反射率を得るために、連続的であることが好ましい。ここで、前記「連続的」とは、2つの選択反射波長帯域間にギャップがなく、実質的にこの範囲の反射率が40%以上であることを意味する。
したがって、各コレステリック液晶層の選択反射の中心波長λ間の距離は、各選択反射波長帯域が少なくとも1つの他の選択反射波長帯域と連続となる範囲内であることが好ましい。
前記コレステリック液晶層は、基材上に該コレステリック液晶層を積層し、光記録媒体用フィルタとして作製し、該光記録媒体用フィルタを、基板上に積層することにより、コレステリック液晶層を形成してもよく、直接前記基板上にコレステリック液晶層を積層してもよい。
前記光記録媒体用フィルタは、単層又は2層以上のコレステリック液晶層が基材上に積層された積層体である。前記光記録媒体用フィルタの光学特性としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、垂直入射を0°とし±20°の範囲であるλ0〜λ0/cos20°(ただし、λ0は照射光波長を表す)における光反射率が40%以上であることが好ましく、垂直入射を0°とし±40°の範囲であるλ0〜λ0/cos40°(ただし、λ0は照射光波長を表す)における光反射率が40%以上であることが特に好ましい。
前記λ0〜λ0/cos20°、特にλ0〜λ0/cos40°(ただし、λ0は照射光波長を表す)の範囲における光反射率が40%以上であれば、照射光反射の角度依存性を解消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。
同様に、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を2層積層すると、図11に示すような反射特性を有する光記録媒体用フィルタが得られる。この図11は正面(0°)からの垂直入射光に対する反射特性が40%以上であることを示している。これに対し、斜め方向からの入射光になると次第に短波長側にシフトしていき、液晶層内で20°傾斜した時は図7に示すような反射特性を示す。
したがって、図8〜図11の結果から、本発明の光記録媒体用フィルタ内においては、入射波長が0°〜20°(好ましくは0°〜40°)傾斜しても40%以上の反射率が確保できているので、信号読み取りには何ら支障のない光記録媒体用フィルタが得られる。
したがって、前記各コレステリック液晶層は、第一の光を透過し、該第一の光と異なる第二の円偏光を反射することが好ましく、前記第一の光の波長が350〜600nmであり、かつ前記第二の光の波長が600〜900nmであることが好ましい。
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δnが、0.10〜0.40の液晶化合物、高分子液晶化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いる等により配向させ、そのまま冷却等して固定化させることにより固相として使用することができる。
前記カイラル化合物としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマニード化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、等の他、以下に示す化合物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射による液晶の捻れ力を変化(パターンニング)させた後(例えば、選択反射波長の分布を形成した後)、その螺旋構造(選択反射性)を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマーなどが挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーが挙げられる。
前記エチレン性不飽和結合を持つモノマーの具体例としては、以下に示す化合物を挙げることができる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤、などが挙げられる。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア784、イルガキュア814;BASF社製の商品名ルシリンTPO、などが挙げられる。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、などが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し0.001〜1.0質量%が好ましい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタアクリル酸のホモポリマー)アクリル酸共重合体、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/他のモノマーの多元共重合体、などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し0〜10質量%が好ましく、100ppm〜1質量%がより好ましい。
前記基材としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光記録媒体用フィルタの大きさ等に応じて適宜選択することができる。
本基材は、第一ギャップ層又は第二ギャップ層の少なくともいずれか一部に用いられる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコーン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート、アクリル、トリアセチルセルロース、ポリオレフィンが好ましい。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、10〜500μmが好ましく、50〜300μmがより好ましい。前記基材の厚みが、10μm未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、500μmを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまうことがある。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上に各コレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
また、前記光記録媒体用フィルタの厚み(基材を除く各コレステリック液晶層の合計厚み)は、例えば、1〜30μmが好ましく、3〜10μmがより好ましい。
前記第一の基板は、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる材料のものを選定する必要がある。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記第一の基板の材料としては、通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられるが、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記第一の基板は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記第二の基板は、前記第一の基板と、その形状、構造、大きさ、材料及び厚みは同じてもよく異なっていてもよい。これらの中でも、形状及び大きさは第一の基板と同じであることが好ましい。
前記第二の基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間がデータエリアになっている。アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット(サーボピット)等によって記録されている(プリフォーマット)。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、ウォブルピット又はグルーブを用いることができる。なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。
前記反射膜は、前記第二の基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が400〜780nmである場合には、例えば、Al、Al合金、Ag、Ag合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が650nm以上である場合には、Al、Al合金、Ag、Ag合金、Au、Cu合金、TiN、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、DVD(ディジタル ビデオ ディスク)などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
前記反射膜の厚みは、十分な反射率を実現し得るように、50nm以上が好ましく、100nm以上がより好ましい。
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第一ギャップ層、第二ギャップ層などが挙げられる。
前記第一ギャップ層は、必要に応じて前記フィルタ層と前記反射膜との間に設けられ、第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第一ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。また、フィルタ層として透明基材の上に塗布形成したものを使用する場合には、該透明基材が第一ギャップ層としても働くことになる。
前記第一ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1〜200μmが好ましい。
前記第二ギャップ層は、必要に応じて記録層とフィルタ層との間に設けられる。
前記第二ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタラート(PET)、ポリスチレン(PS)、ポリスルホン(PSF)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリメタクリル酸メチル=ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のような透明樹脂フィルム、又は、JSR社製商品名ARTONフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、TAC、PC、商品名ARTON、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。また、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂や2液硬化樹脂で形成してもよい。形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコート、スクリーン印刷などが好ましい。
前記第二ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1〜200μmが好ましい。
<第一の実施形態>
図12は、本発明の第一の実施の形態における光記録媒体21の構成を示す概略断面図である。この光記録媒体21では、ポリカーボネート樹脂製基板又はガラス基板1にサーボピットパターン3が形成され、該サーボピットパターン3上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜2が設けられている。なお、図12では第二の基板1全面にサーボピットパターン3が形成されているが、周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットの高さは最大1,000Å(100nm)であり、基板を始め他の層の厚みに比べて充分に小さいものである。
第一ギャップ層8上にはフィルタ層6が設けられ、該フィルタ層6上には記録層が積層され、第一の基板5(ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板)と第二の基板1によって記録層4を挟むことによって光記録媒体21が構成される。
このフィルタ層6は、コレステリック液晶層6a、6b、6c及び6dが4層積層された積層体である。このコレステリック液晶層の積層体であるフィルタ層6は、第一ギャップ層8上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上に4層積層したコレステリック液晶層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。
前記記録層4に干渉像の記録がなされた後、少なくとも28時間以内に、定着光が前記記録領域に対して照射され、前記干渉像の記録が定着される。
図13は、本発明の第二の実施形態における光記録媒体22の構成を示す概略断面図である。図7は、前記光記録媒体22の一部を切断した斜視図である。前記光記録媒体22は、図12に示す光記録媒体21と同様の外観形状を有している。この第二の実施形態に係る光記録媒体22では、ポリカーボネート樹脂又はガラス基板1にサーボピットパターン3が形成され、該サーボピットパターン3表面にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜2が設けられている。また、このサーボピットパターン3の高さは、通常1750Å(175nm)である点については、第一の実施形態と同様である。
第二の実施形態と第一の実施形態の構造の差異は、第二の実施形態に係る光記録媒体22では、フィルタ層6と記録層4との間に第二ギャップ層7が設けられていることである。
前記記録の定着は、前記第一の実施形態と同様に行われる。
本発明の光記録媒体の製造方法は、本発明の前記光記録媒体を製造する方法であって、フィルタ層形成工程を少なくとも含んでなり、反射膜形成工程、記録層形成工程、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
前記フィルタ層形成工程は、第二の基板上にコレステリック液晶層を2層以上積層した積層体からなるフィルタ層を形成する工程である。
前記光記録媒体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ディスク形状、カード形状、などが挙げられる。
前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、レーザーカッターによる焼き切り加工、などが挙げられる。
前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないようにフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、UV硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
前記コレステリック液晶層をわずかに溶解乃至膨潤させる溶媒としては、例えば、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族類;メタノール、エタノール等のアルコール類;シクロヘキサン、シクロペンタン等の環状炭化水素;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)等のケトン類;イソプロピルエーテル等のエーテル類;酢酸エチル等のエステル類;クロロホルム、ジクロロメタン等の塩素系溶媒、などが挙げられる。これらの中でも、トルエン、シクロヘキサン、シクロペンタン、メチルエチルケトン(MEK)、イソプロピルアルコールが特に好ましい。
前記塗布方法によるコレステリック液晶層の形成は、例えば、前記コレステリック液晶層材料を溶剤に溶液(塗布液)を用いる(塗布し乾燥する)ことにより、好適に行うことができる。
更に必要に応じて塗布膜を紫外線硬化させる場合の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、160〜380nmが好ましく、250〜380nmがより好ましい。露光時間としては、例えば、露光照度が10mW/cm2であれば、例えば、10〜600秒が好ましく、10〜300秒がより好ましい。また、露光照度を1mW/cm2に減らす場合、通常、前記反応開始剤の量が増やしているので、露光時間としてはあまり変化せず、例えば、10〜600秒が好ましく、10〜300秒がより好ましい。
本発明の光再生方法は、本発明の前記光記録方法により記録層4に記録された干渉像に参照光を照射して情報を再生する。前記記録層4に記録された干渉像に対して前記参照光を照射するには、図14に示すように、対物レンズ12を微調整し、前記参照光が前記記録層4の干渉像が記録されている部分に焦点を設定し、照射する。該照射により、前記干渉像から回折光が生成され、該回折光を、対物レンズ12を透過させ、更に、ダイクロイックミラー13、1/4波長板15を透過させ、ハーフミラー17で反射させて検出器14で回折光から情報を再生する。
ここで、本発明の光記録方法及び光再生方法は、以下に説明する本発明の光記録再生装置を用いて行われる。
図15は、本発明の一実施形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と光再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置100は、光記録媒体22が取り付けられるスピンドル81と、このスピンドル81を回転させるスピンドルモータ82と、光記録媒体21の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ82を制御するスピンドルサーボ回路83とを備えている。
また、光記録再生装置100は、光記録媒体22に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体22に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体22に記録されている情報を再生するためのピックアップ31と、このピックアップ31を光記録媒体22の半径方向に移動可能とする駆動装置84とを備えている。
コントローラ90は、信号処理回路89より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ31、スピンドルサーボ回路83、及びスライドサーボ回路88等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路83は、信号処理回路89より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ90は、CPU(中央処理装置)、ROM(リード オンリ メモリ)、及びRAM(ランダム アクセス メモリ)を有し、CPUが、RAMを作業領域として、ROMに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ90の機能を実現するようになっている。
本発明の光記録方法を実施するために、光記録媒体用フィルタを作製し、該光記録媒体用フィルタを基板に積層することにより、光記録媒体を作製することができる。
まず、ポリカーボネートフィルム(三菱瓦斯化学株式会社製、商品名ユーピロン)厚み100μm上に、ポリビニルアルコール(株式会社クラレ製、商品名MP203)を厚み1μmとなるように塗布したベースフィルムを用意する。このベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与することができる。
*カイラル剤:BASF社製、商品名PALIOCOLOR LC756
*光重合開始剤:チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名イルガキュア369
*増感剤:ジエチルチオキサントン
*溶剤:メチルエチルケトン(MEK)
次に、コレステリック液晶層A上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Bをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、110℃にて20秒間配向熟成することができる。その後、110℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー500mJ/cm2で露光して、厚み2μmのコレステリック液晶層硬化膜Bを形成することができる。
次に、コレステリック液晶層B上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Bをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、110℃にて20秒間配向熟成することができる。その後、110℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー500mJ/cm2で露光して、厚み2μmのコレステリック液晶層硬化膜Cを形成することができる。
以上により、円偏光分離特性を有し、各コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なり、かつ各コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに右回り方向で同じである3層構造の実施例1の光記録媒体用フィルタを作製することができる。
前記光記録媒体は、第一の基板、第二の基板と、記録層と、フィルタ層とからなる光記録媒体を作製することができる。
前記第二の基板としては、直径120mm、板厚0.6mmのDVD+RW用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用することができる。この基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは1.6μmであり、ピット深さは100nm、ピット幅は1μmである。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜する。反射膜材料にはアルミニウム(Al)を用いた。成膜はDCマグネトロンスパッタリング法により厚み200nmのAl反射膜を成膜する。前記反射膜の上に第一ギャップ層として、厚み100μmのポリカーボネートフィルムを用い、紫外線硬化樹脂にて接着することができる。
−フォトポリマー塗布液の組成−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ジ(ウレタンアクリレート)オリゴマー
(Echo Resins社製、ALU−351)・・・・・・59質量部
・イソボルニルアクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・30質量部
・ビニルベンゾエート・・・・・・・・・・・・・・・・・・・10質量部
・重合開始剤
(チバスペシャルティケミカルズ社製、イルガキュア784)・・1質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
なお、ディスク端部には、該フォトポリマー層が厚み500μmとなるようにフランジ部が設けてあり、ここに、前記第一の基板を接着することによってフォトポリマー層の厚みは決定され、余分なフォトポリマーはあふれ出て、除去される。以上により、実施例1の光記録媒体を作製する。なお、図9は、本実施例に類似の形態を示す概略断面図である。
得られた前記光記録媒体を光記録装置にセットし、波長532nmの前記情報光及び参照光を、照射エネルギー、約50μJ/cm2を100nsec照射し、前記位置情報パターンを該光記録媒体における感光層の3箇所に、円周上に等分割となるように記録することができる。該位置情報パターンは、前記サーボピットパターンに形成されているアドレス情報(例えば、0001)に対応した位置情報(例えば、0001M)が記録される。
本実施例1では、前記アドレス情報と前記位置情報の水平方向の位置は一致させ、前記感光層の厚み方向のみ異なる位置情報をパターンとして記録する。
前記記録に対して、波長532nmの定着光を照射露光量100mJ/cm2、照射時間1ms照射し、該位置情報を定着させることができる。
波長650nmのサーボ用光を得られた光記録媒体に照射し、トラッキングサーボを行った状態、波長532nmの前記情報光及び参照光(再生光)を前記位置情報パターンに照射し、反射光を受光し、ジャストピントとなる位置になるまで該再生光を移動制御して該水平位置情報に対する移動量を偏差量ΔLとして検出することができる。
前記偏差量ΔLは、前記水平位置情報を原点とし、前記記録層と水平方向の層面にX軸及びY軸をとったとき、該X軸から、Y軸からの位置(2μm,3μm)のように、数値として把握することができる。
前記偏差量ΔLである前記X軸から、Y軸からの位置(2μm,3μm)をオフセット量として、前記情報光及び参照光の照射の際に考慮し、予めX軸から2μm、Y軸から3μmだけ位置をずらして照射する。
前記記録層への記録は、図14に示すように、前記記録層4に対して、前記情報光及び記録用参照光を用い、照射エネルギー、約50μJ/cm2を100nsec照射し、干渉像を形成し、該干渉像を記録層に記録することができる。
得られた光記録媒体について、光反射特性を分光反射測定器(光源として浜松ホトニクス株式会社製、L−5662、フォトマルチチャンネルアナライザーとして浜松ホトニクス株式会社製、PMA−11)を用いて測定することができる。
得られた光記録媒体に対して、図14に示すように、情報光及び参照光として、偏光素子16で直線偏光のレーザ光に変換し、1/4波長板15により右回りの円偏光に変換した波長532nmのレーザ光を照射し、サーボ用光として波長650nmのレーザ光を照射した。その結果、前記サーボ用光は反射板2で反射されることを確認することができる。
前記記録の再生品質の評価は、図15に示す、前記光記録再生装置100により行い、前記参照光を光記録媒体に照射し、前記干渉像から回折光を生じさせ、図14に示す検出器14で読み取り、元の情報を再生し、エラー(個/フレーム)が少ないことを確認することができる。
本発明の光記録媒体は、サーボ用光、情報光及び参照光などの複数のレーザ光を用いて、記録又は再生、フォーカスやトラッキング制御を行う際に、光記録及び光再生装置の誤差などから生ずる該複数のレーザ光の光軸の偏差量を効果的に調整することができる優れた光記録媒体として幅広く用いられる。
2 反射膜
3 サーボピットパターン
4 記録層
5 第一の基板
6 フィルタ層
6a、6b、6c、6d コレステリック液晶層
7 第二ギャップ層
8 第一ギャップ層
12 対物レンズ
13 ダイクロイックミラー
14 検出器
15 1/4波長板
16 偏光素子
17 ハーフミラー
20 光記録媒体
21 光記録媒体
22 光記録媒体
30 水平位置基準パターン
31 ピックアップ
32 アドレスパターン
33 サーボ用光
35 記録光及び再生光
81 スピンドル
82 スピンドルモータ
83 スピンドルサーボ回路
84 駆動装置
85 検出回路
86 フォーカルサーボ回路
87 トラッキングサーボ回路
88 スライドサーボ回路
89 信号処理回路
90 コントローラ
91 走査部
100 光記録再生装置
A 入出射面
FE フォーカスエラー信号
TE トラッキングエラー信号
RF 再生信号
Claims (13)
- ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ該記録層の層面に対し水平方向の位置情報を記録した位置情報パターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光の少なくともいずれかを照射し、前記光記録媒体における該情報光及び該参照光のいずれかの光軸の水平位置を検出し、該水平位置とサーボ用光により検出したアドレスに対する水平方向の偏差量ΔLを検出する偏差量検出ステップと、
前記偏差量ΔLの絶対値が、0より大きい場合に、前記情報光及び前記参照光のいずれかの光軸の位置が前記アドレス位置と一致するように、該情報光及び該参照光のいずれかをΔL水平移動し、該情報光及び該参照光の少なくともいずれかを前記記録層に照射し、干渉像を形成し、該干渉像を前記記録層に記録する干渉像記録ステップと
を含むことを特徴とする光記録方法。 - 位置情報パターンが、光記録媒体における少なくとも3箇所に形成された請求項1に記載の光記録方法。
- 位置情報パターンが、記録層に記録された請求項1から2のいずれかに記載の光記録方法。
- 偏差量検出ステップにおける水平位置の検出方法が、3ビーム法、プッシュプル法及び位相差検出法の少なくともいずれかである請求項1から3のいずれかに記載の光記録方法。
- 偏差量検出ステップにおける水平位置の検出方法が、位置情報パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号強度が最大となる位置を検出する請求項1から4のいずれかに記載の光記録方法。
- 偏差量検出ステップにおける水平位置の検出方法が、位置情報パターンに情報光及び参照光のいずれかを照射し、反射光を受光し、該反射光の信号エラーが最小となる位置を検出する請求項1から5のいずれかに記載の光記録方法。
- 光記録媒体が、第一の基板と、記録層と、フィルタ層と、第二の基板とをこの順に有する請求項1から6のいずれかに記載の光記録方法。
- 光記録媒体が、反射型ホログラムである請求項1から7のいずれかに記載の光記録方法。
- 情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われる請求項1から8のいずれかに記載の光記録方法。
- ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備え、かつ該記録層の層面に対し水平方向の位置情報を記録した位置情報パターンを備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光のいずれかを照射し、前記光記録媒体における該情報光及び該参照光の光軸の水平位置を検出し、該情報光及び該参照光の光軸とサーボ用光の光軸との偏差量ΔLを検出する偏差量検出手段と、
前記偏差量ΔLの絶対値が、0より大きい場合に、該偏差量ΔLに基づいて、該情報光及び該参照光の水平位置を制御する水平位置制御手段と、
前記情報光及び前記参照光を前記記録層に照射し、干渉像を形成し、該干渉像を前記記録層に記録する干渉像記録手段と
を有することを特徴とする光記録装置。 - 請求項1から9のいずれかに記載の光記録方法により記録された光記録媒体。
- 請求項1から9のいずれかに記載の光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することを特徴とする光記録再生方法。
- 参照光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、参照光を干渉像に照射して記録情報を再生する請求項12に記載の光記録再生方法。
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