JP2003512295A

JP2003512295A - フェノール及びフェノール誘導体産業におけるジフェノールの分離精製のための方法及び装置

Info

Publication number: JP2003512295A
Application number: JP2000594754A
Authority: JP
Inventors: ブールドンジャック; クレランダニエル
Original assignee: Rhone Poulenc Chimie SA
Current assignee: Rhodia Chimie SAS
Priority date: 1999-01-25
Filing date: 2000-01-25
Publication date: 2003-04-02
Also published as: FR2788763B1; NO329476B1; WO2000043334A3; CN1450986A; NO20013619D0; NO20013619L; AU3060000A; EP1144347A2; EP1144347A3; US6844472B1; WO2000043334A2; FR2788763A1; CN1249002C

Abstract

(57)【要約】ヒドロキノン、レゾルシノール、そして場合によってはタール及び／又はカテコールを含有する粗混合物を分離精製するための方法及び装置が提供される。この方法は、次の工程、・カテコールヘッドを得るための随意の蒸留工程（Ｉ）、・（Ｉ）の残液又は粗混合物がレゾルシノールに富む留分を得るために蒸留を受ける（II）、・（II）の残液がヒドロキノンに富む留分を得るために蒸留を受ける（III）、・次いで、該リッチ留分が精製される（IV又はＶ）。好ましくは、工程（Ｉ）又は（II）に先だって、タールを除去する１つ又は幾つかの工程（１、１’）が実施される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は、必須成分としてヒドロキノン及びレゾルシノールを含みそして随意
成分としてタール及びカテコールを含む粗混合物から第一にヒドロキノンそして
第二にレゾルシノール及びカテコール（存在するときは）を抽出し、そして随意
にこれらの各種化合物を精製するために該粗混合物を分離精製するための方法に
関する。また、本発明は、この方法を実施するのを可能にする装置にも関するも
のである。

【０００２】フェノール及びフェノール誘導体産業では、多種多様のタールの中にまじって
ジヒドロキシベンゼンのパラ−、オルト−及びメタ誘導体を含む多量の副生物が
発生する。これらは、ヒドロキノン（パラ化合物：１，４−ジヒドロキシベンゼ
ン）、カテコール又はピロカテコール（オルト化合物：１，２−ジヒドロキシベ
ンゼン）、及びレゾルシノール又はレゾルシン（メタ化合物：１，３−ジヒドロ
キシベンゼン）である。

【０００３】これらの３種の化合物は付加価値を有するが、しかし、かかる複雑な混合物か
らのそれらの抽出は技術面及び経済面の両方の問題を提起する。その上、ヒドロ
キノン及びレゾルシノールは、分離するのが特に困難である異性体である。

【０００４】ＦＲ−Ａ−２４６７１８５は、蒸留工程及び水又は有機溶剤のような溶剤を使
用することによる再結晶工程を包含するレゾルシノール及びヒドロキノンの分離
精製法を開示している。１つの別法の形態に従えば、この方法は、ヒドロキノン
をヒドロキノン蒸気の形態で連行するためのスチームを使用する蒸留工程を提供
する。この方法では第三の溶剤（これは、その後に除去されなければならない）
が使用され、このことは、例えば、ろ過及や乾燥のために、そして随意として溶
剤を再処理又は再循環させるために追加的な工程及び装置を必要とする。

【０００５】特にフェノール及びフェノール誘導体産業におけるジフェノールの分離精製に
関する本発明の１つの目的は、有利な経済的条件下で粗混合物からヒドロキノン
及びレゾルシノールを分離精製することを可能にする適当な方法及び装置を提供
することである。

【０００６】本発明の他の目的は、他の化合物特にタール及び／又は随意成分としてカテコ
ールを含む粗混合物から第一にヒドロキノンそして第二にレゾルシノールを分離
精製することを可能にすることであり、そして随意に存在するカテコールを分離
精製することでもある。

【０００７】本発明の他の目的は、大規模で連続的に操作することができるかるる方法を提
供することである。

【０００８】本発明の更に他の目的は、特に９８％以上、好ましくは９９％以上、そして実
際に９９．５％以上さえの高純度を有するヒドロキノン、レゾルシノール及びカ
テコールを得ることを可能にするかかる方法及び装置を提供することである。

【０００９】本発明の更に他の目的は、第三の溶剤の使用を必要としないかかる方法を提供
することである。

【００１０】これらの目的は、本発明に従って、ヒドロキノン及びレゾルシノールを含みそ
して随意成分としてのタール及び随意成分としてのカテコールも含む粗混合物を
分離精製する方法であって、粗混合物に、好ましくは連続的に実施されそして次
の工程を含む一連の蒸留工程、即ち、（ｉ）蒸留トップ生成物としてカテコールを生成するように設計された随意の
第一蒸留工程（Ｉ）を実施し（この工程は、粗混合物がカテコールを含むときに
、特に粗混合物中のカテコールの含量が２％を越えるときに実施される）、（ii）（ｉ）の下に得られた蒸留残液生成物又は工程（Ｉ）の不在下の粗混合
物に、蒸留トップ生成物として、本質的にレゾルシノールを含みそしてヒドロキ
ノンも含むレゾルシノールリッチ留分を生成するように設計された蒸留工程（II
）を施し、そして（iii）（ii）の下に得られた蒸留残液生成物に、蒸留トップ生成物として、
本質的にヒドロキノンを含みそしてレゾルシノールも含むヒドロキノンリッチ留
分を生成するように設計された蒸留工程（III）を施こす、ことを含む一連の蒸留工程を施し、次いで、ヒドロキノンリッチ留分及び／又はレゾルシノールリッチ留分に、ヒ
ドロキノン及び／又はレゾルシノールをそれぞれ抽出するための精製工程（IV、
Ｖ）を施す、ことからなる粗混合物の分離精製法によって達成される。

【００１１】粗混合物からのヒドロキノンの回収率を向上させるためには、工程（Ｉ）及び
／又は（II）に先だって、タールを蒸留残液生成物として除去するのを可能にす
る少なくとも１つの予備蒸留“脱タール”工程（１）を実施することが好ましい
。次いで、この蒸留残液生成物を少なくとも１つの第二予備脱タール工程（１’
）において再蒸留しそしてある量の所望生成物を含むことができる蒸留トップ生
成物を回収するのが一層好ましい。かくして得られた蒸留トップ生成物又は２つ
（又はそれ以上の）の蒸留トップ生成物は、工程（Ｉ）（かかる工程が設けられ
た場合に）に又は工程（II）（反対の場合に）に供給混合物として送られる。よ
り好ましくは、これらの予備工程は、次の蒸留工程と連続して実施される。

【００１２】本法が適応する混合物は、主として、特に全混合物を基にして、・２０〜６０重量％、特に３０〜５０重量％のヒドロキノン、・２〜２０重量％、特に２〜１５重量％のレゾルシノール、・０〜２０重量％、特に５〜１５重量％のカテコール、・残部としての各種化合物、本質的にはタール、を含むものである。

【００１３】 “脱タール”蒸留工程（１、１’）は、通常の設計を有するスクレーパ式落下
薄膜型装置又は短絡装置で実施されることができる。しかしながら、多段塔の使
用は除外されない（例えば、塔（III）を参照されたい）。この目的は、所望の
化合物の有意な損失を招かずにできるだけ多くのタールを簡単に除去することで
ある。

【００１４】工程（１及び１’）が設けられない場合には、タールによる閉塞を制限するた
めに防染パッキングを備えた塔（Ｉ）及び（II）を使用することが好ましい。か
かるパッキングは当業者には十分に知られている。

【００１５】工程（Ｉ）は、カテコールを簡単に抽出すること、かくしてできるだけ高い純
度を有するカテコールをトップ生成物として得ることを目的とされる。特に、こ
の目的は、少なくとも９８％そして好ましくは少なくとも９９％のカテコールを
含む留分を得ることである。

【００１６】工程（II）及び（III）について先に使用した如き用語「リッチ」は、目的と
する化合物が主成分でありそして他の化合物が少成分であるがしかしその後の精
製を可能にするのに十分な量で存在することを意味すると理解された。当業者は
、共融混合物の範囲に相当する比率を決定するためにレゾルシノール／ヒドロキ
ノン混合物の晶出曲線を根拠として比率の範囲を日常試験によって完全に決定す
ることができよう。この情報から、各塔の操作パラメーターを変えることによっ
て、リッチ留分がこの範囲のどちらかの側に見られる比率を有するような条件を
達成することが可能である。このような条件は、その後の精製の実施を可能にす
る。

【００１７】かくして、工程（II）及び（III）の操作条件は関連する。各々は、蒸留トッ
プ生成物として（塔頂生成物として）、その後の精製工程と相容性のヒドロキノ
ン／レゾルシノール混合物を生成することを目的とされる。

【００１８】かくして、工程（III）は、・７５〜９５％好ましくは８５〜９２％のレゾルシノール、・５〜２５％好ましくは８〜１５％のヒドロキノン、を含む混合物をもたらすのが好ましい（少成分のまま残留する他の化合物、例え
ば、カテコールの残留可能性は考慮されない）。

【００１９】これらの操作条件は、工程（III）の間に、蒸留トップ生成物として、特に、・７５〜９８％そして好ましくは８５〜９７．５％のヒドロキノン、・２〜２５％そして好ましくは２．５〜１５％のレゾルシノール、を含む混合物を生成することを確実にするのを可能にする（再び、無視しうる量
で存在する可能性がある他の化合物の残留可能性は考慮されない）。

【００２０】この情報から、当業者は、出発混合物に応じて使用しようとする手段を十分に
選択することができよう。次の点を単に指摘したい。蒸留塔の寸法（特に直径）
は、循環する流れ及び内部圧に左右される。かくして、これらは、処理しようと
する混合物の流量に主に従って寸法決めされよう。理論段数である内部パラメーターは、特に、流入する混合物の組成（比率）、及び蒸留トップ生成物とし
てそして蒸留残液生成物として得られなければならない混合物の純度又は組成に
よって決定される。当業者には十分に知られるように、塔には何等区別すること
なく、プレート又は段積みパッキングを充填することができることが特に記載さ
れる。装置が決定されれば、当業者は、塔の操作パラメーターを調整するだろう
。

【００２１】かくして、蒸留塔（Ｉ）は、有益にはしかし限定するものではないが、次の規
格、・５〜４０そして好ましくは１０〜３０の理論段数、・１〜１０そして好ましくは２〜５の環流比Ｒ、を有する塔であってよい。

【００２２】蒸留塔(II)は、有益にはしかし限定するものではないが、次の規格、・１０〜８５そして好ましくは１５〜４０の理論段数、・１〜３５そして好ましくは５〜２５の環流比Ｒ、を有する塔であってよい。

【００２３】蒸留塔(III)は、極めて簡単には、タイプ（１）の塔、又は別法として、次の
規格、・１〜１０そして好ましくは１〜５の理論段数、・０．５〜５そして好ましくは１〜２の環流比Ｒ、を有する搭であってよい。

【００２４】精製は、液／固分離（ドレンニング、分帯融解）を可能にし、且つ処理しよう
とする容量及びそれらの数によって寸法決めされる装置を使用してバッチ式で実
施される。装置のタイプの選択は、どちらも厳密なものではない。これらは、慣
用のドレイナー（drainer）又は他の精製装置、例えば、商品名「Ｐｒｏａｐｔ
」の下に製造販売されるものであってよい。例えば、垂直円筒管状交換器を備え
たタイプのドレイナーを使用することが可能である。

【００２５】これらの装置における各リッチ留分の処理は、本質上、次の４つの段階、・段階１は、装入した混合物の緩慢な晶出に相当する、・段階２は、共融沸混合物（レゾルシノールとヒドロキノンとの混合物）の常
温排出に相当する、・段階３は、所望の純度が得られるまで再加熱段階間に行われる熱間排出（ホ
ットドレンニング）に相当する、・段階４は、純生成物の溶融回収に相当する、に従って実施される。

【００２６】また、実質上一定の組成を有する留分の生成は、この精製の進行を自動化する
のを可能にする。

【００２７】レゾルシノールリッチ留分は、１つ又はそれ以上の精製装置に運ばれる。段階
１前に、装置は、レゾルシノールの融点よりも上に（１１℃）、即ち、１１５〜
１２０℃の間に加熱される。

【００２８】段階１の間に、物質全体が、例えば、４０〜９０℃の温度に数時間、例えば、
５〜１５時間にわたって冷却される。これは、仕込まれた混合物の緩慢な晶出を
もたらす。

【００２９】段階１の後に、液体のまま残った生成物は、段階３に送る前に装置３（段階２
）から抜き出される。

【００３０】段階３は、精製装置を例えば１０９〜１１１℃の温度まで数時間例えば８〜１
５時間にわたって徐々に再加熱することよりなる（随意として、段階２の間に開
始する）。生成物の純度を状態調整する段階３の終了は、晶出点を測定するか、
又は任意の他の物理化学的分析技術のどちらかによって決定することができる。

【００３１】段階４は、溶融状態で抜き出されるレゾルシノールを溶融させるように装置を
１１５℃よりも高い温度に加熱することを可能にする。

【００３２】ヒドロキノンリッチ留分も、同じ態様で処理される。この処理は、加熱／冷却
温度及び時間は別にして同じ段階に従う。一例として、・１７５〜１８０℃の間の予熱、・段階１、９０〜１３０℃間の冷却、・段階１、５〜１５時間の間の期間、・段階３、１７０〜１７３℃間の加熱、・段階３、８〜２４時間の間の期間、・段階４、１７８℃よりも上で加熱、が挙げられる。

【００３３】精製間に回収される共融混合物留分は、好ましくは工程（II）及び／又は（II
I）において混合物として又は熱い排出物と共に別個に再循環されることができ
る。必要ならば、それらを工程（Ｉ）で再循環するために誘導させることが可能
である。

【００３４】本発明の他の課題は、上記の方法の実施を可能にする装置であって、（ｉ）塔頂においてカテコールを生成するように設計された随意の蒸留塔（Ｉ
）、 (ii)搭（Ｉ）の底部に連結された流入口を有し、又は搭（Ｉ）の不在下では粗
混合物を受け取る流入口を有する蒸留塔(II)であって、塔頂において、本質的に
はレゾルシノールを含みそしてヒドロキノンも含むレゾルシノールリッチ留分を
生成するように設計された蒸留塔(II)、 (iii)搭（II）の底部に連結された流入口を有する蒸留塔(III)であって、塔頂
において、本質的にはヒドロキノンを含みそしてレゾルシノールも含むヒドロキ
ノンリッチ留分を生成するように設計された蒸留塔(III)、 (iv)ヒドロキノンリッチ留分及び／又はレゾルシノールリッチ留分を精製して
ヒドロキノン及び／又はレゾルシノールをそれぞれ抽出するのを可能にするため
の１つ又はそれ以上の精製装置（IV、Ｖ）、を含むことからなる装置である。

【００３５】本発明の好ましい具体例に従えば、この装置は、・塔頂において脱タール留分を生成し、そして搭底においてはタールリッチ留分
を生成するように設計された脱タール搭（１）、・先行搭（１）から生じるタールリッチ留分が供給され、そして塔頂において
脱タール留分を生成し、搭底においてはタールリッチ留分を生成するように設計
された随意の少なくとも１つの他の蒸留塔（１’）、を追加的に含み、しかも、これらの塔のトップ留分が塔（Ｉ）又は（II）に供給
を行うのに使用されることからなる。

【００３６】本法に関して先に記載した特徴及び他の情報は、本発明に従った装置に直接当
てはまるものである。

【００３７】ここで、非限定的な実施例として提供した具体例の助けを借りて、また添付図
面を参照しながら、本発明をより詳細に説明することにする。

【００３８】例１（図１）第一蒸留塔（Ｉ）ｎ（理論段数）＝３０Ｒ（還流比）＝２．７塔頂温度＝１７６．４℃ 圧力＝１００ｍｍＨｇ、即ち、１３３３２Ｐａこの塔（Ｉ）に、処理しようとする混合物であって、・約５０％のヒドロキノン（即ち、約１２．７５ｋｇ／ｈ）、・約１５％のカテコール（即ち、約３．８ｋｇ／ｈ）、・約１０％のレゾルシノール（即ち、２．５５ｋｇ／ｈ）、・約２５％のタール（即ち、６．４ｋｇ／ｈ）、を含む混合物を２５．５ｋｇ／ｈの流量で連続的に供給する。

【００３９】塔頂において約３．８ｋｇ／ｈの流量が得られるが、この流量は、・約９９．５％のカテコール、・約８００ｐｐｍのヒドロキノン、・約４０ｐｐｍのレゾルシノール、を含む。

【００４０】塔底では約２１．７ｋｇ／ｈの流量が得られるが、この流量は、・約５８．９％のヒドロキノン（約１２．７５ｋｇ／ｈ）、・約１１．７％のレゾルシノール（約２．５５ｋｇ／ｈ）、・約１８０ｐｍのカテコール、・約２９．４％のタール（約６．４ｋｇ／ｈ）、を含む。

【００４１】第二蒸留塔（II）ｎ＝３０Ｒ＝１０塔頂温度＝２１０℃ 圧力＝１００ｍｍＨｇ、即ち、１３３３２Ｐａこれに、第一塔からの残液生成物を約２１．７ｋｇ／ｈの流量で連続的に供給
する。

【００４２】塔頂においてレゾルシノールリッチ留分が約２．５６ｋｇ／ｈの流量で得られ
るが、この留分は、・約９０％のレゾルシノール（約２．３ｋｇ／ｈ）、・約１０％のヒドロキノン（約０．２６ｋｇ／ｈ）、・約１２００ｐｐｍのカテコール、を含む。

【００４３】塔底では約１９．１４ｋｇ／ｈの流量で混合物が得られるが、この混合物は、・約６５．３％のヒドロキノン（約１２．４９ｋｇ／ｈ）、・約１．３％のレゾルシノール（約０．２５ｋｇ／ｈ）、・約３３．４％のタール（約６．４ｋｇ／ｈ）、を含む。

【００４４】第三（蒸留）脱タール塔（III）脱タール塔：スクレーパ式落下薄膜型装置塔頂温度：２１７℃ 圧力：１００ｍｍＨｇ、即ち、１３３３２Ｐａこの塔に、第二塔からの残液生成物を約１９．１４ｋｇ／ｈの流量で連続的に
供給する。

【００４５】塔頂においてヒドロキノンリッチ留分が約９．６４ｋｇ／ｈの流量で得られる
が、この留分は、・約９７．４％のヒドロキノン（約９．３９ｋｇ／ｈ）、・約２．６％のレゾルシノール（約０．２５ｋｇ／ｈ）、を含む。

【００４６】塔底では約９．５ｋｇ／ｈの流量で混合物が得られるが、この混合物は、・約３２．６％のヒドロキノン（約３．１ｋｇ／ｈ）、・約６７．４％のタール（約６．４ｋｇ／ｈ）、を含む。

【００４７】この塔底残液生成物は、脱タール塔で随意に再蒸留することができる。

【００４８】精製精製によって、各リッチ留分から純生成物を得ることが可能である。垂直円筒
管状交換器を備えたタイプのドレイナー（drainer）が使用された。他のタイプ
の装置でも同様の結果が得られよう。

【００４９】操作方法は次の通りである。（ａ）ヒドロキノンリッチ留分に対して：・装入：約１８０ｋｇのヒドロキノンリッチ留分の装入前に、ドレイナー（Ｖ
）がヒドロキノンの融点よりも高い温度（この場合では、約１８０℃に）に予熱
される。・冷却：物質全体が水の循環によって約１２０℃の温度に徐々に冷却される（
冷却時間は約１０時間）。・共融混合物留分の回収：共融混合物留分（これは、常温排出物としても知ら
れている）は冷却の終了時における混合物の未晶出部分に相当し、そしてレゾル
シノールとヒドロキノンとの混合物である。これらのドレイナーの場合では、こ
の留分は、簡単な重力流れによって回収され、そしてこの目的のために設けられ
たタンクで収集されることができる。この段階は約１２時間続けられ、そしてド
レイナーの緩やかな再加熱と共に行われる。・熱い排出段階を実施するためにドレイナーの再加熱が継続される。熱い排出
物の回収段階の終了は、この加熱段階間に浸出する生成物の晶出点の測定によっ
て決定される。この留分は簡単な重力流れによって回収され、そしてこの目的の
ために設けられたタンクで収集される。この留分は次の精製操作に再循環させる
ことができ、又は常温の排出留分と混合して蒸留に再循環させることもできる。・純ヒドロキノンの回収：晶出点（１７０℃）に達したときに、熱い排出物の
流れが中断され、そしてヒドロキノンをすべて溶融させるためにドレイナーが１
８０℃の温度に加熱される。約６５ｋｇのヒドロキノンが９９．５％以上の純度
で回収される。

【００５０】（ｂ）レゾルシノールリッチ留分に対して：この処理は、レゾルシノールの融
解温度（この温度は１１１℃である）を考慮するという本質的な相違は別として
、ドレイナー（IV）を使用して（ａ）と同じ態様で実施される。従って、加熱温
度が変更される。・装入温度：１２０℃ ・約１０時間にわたって６０℃に冷却・約１０時間にわたって常温排出画分の回収・６０から１１０．５℃への再加熱（この再加熱の終了は、生成物の最終純度
を決定する晶出点の測定によって決定される）・レゾルシノールを回収するために１２０℃への加熱：９９％以上の純度で６
５ｋｇ

【００５１】例２（図２）例１と比較して、存在するタールを最初に除去するために蒸留塔（Ｉ）の上流
側に２つの脱タール塔（１及び１’）が付設される。これらの塔の第一塔（１）
に処理しようとする混合物を供給し、そして第二の塔（１）’に先行塔（１）か
らの残液生成物を供給する。２つの塔頂から生じる流れは、例１に従って第一塔
（Ｉ）に供給される。

【００５２】脱タール塔・スクレーパ式落下薄膜型装置・塔頂温度：１７４℃ ・圧力：１０ｍｍＨｇ、即ち、１３３３．２Ｐａ塔（１）に、処理すべき混合物を３５ｋｇ／ｈの流量で連続的に供給する。こ
の混合物は、・約４５％のヒドロキノン、即ち、約１５．７５ｋｇ／ｈ、・約７％のカテコール、即ち、約２．４５ｋｇ／ｈ、・約３％のレゾルシノール、即ち、約１．０５ｋｇ／ｈ、・約４５％のタール、即ち、約１５．７５ｋｇ／ｈ、を含む。

【００５３】２つの脱タール塔からのトップ生成物を一緒にすると、約１８．９ｋｇ／ｈの
流量で脱タール留分を生じる。この脱タール留分は、・約２．４５ｋｇ／ｈのカテコール、・約１５．３ｋｇ／ｈのヒドロキノン、・約１．０５ｋｇ／ｈのレゾルシノール、・約０．１ｋｇ／ｈのタール、を含む。

【００５４】塔（１’）の底部では、約１６．１ｋｇ／ｈの流量でタールリッチ留分が得ら
れるが、この留分は、・約１５．６５ｋｇ／ｈのタール、・約０．４５ｋｇ／ｈのヒドロキノン、を含む。

【００５５】蒸留塔（Ｉ）ｎ（理論段数）＝３０Ｒ（還流比）＝２．７塔頂温度＝１３４℃ 圧力＝１０ｍｍＨｇ、即ち、１３３３．２Ｐａこの塔（Ｉ）に、脱タールから生じる１８．９ｋｇ／ｈの流量を連続的に供給
する。

【００５６】塔頂で約２．４５ｋｇ／ｈの流量が得られるが、この流量は、・約９９．５％のカテコール、・約８００ｐｐｍのヒドロキノン、・約４０ｐｐｍのレゾルシノール、を含む。

【００５７】塔底では約１６．４５ｋｇ／ｈの流量が得られるが、この流量は、・約１５．３ｋｇ／ｈのヒドロキノン、・約１．０５ｋｇ／ｈのレゾルシノール、・約１８０ｐｐｍのカテコール、・約０．１ｋｇ／ｈのタール、を含む。

【００５８】蒸留塔（II）ｎ＝３０Ｒ＝１０塔頂温度＝１７０℃ 圧力＝１０ｍｍＨｇ、即ち、１３３３．２Ｐａこれに、塔（Ｉ）からの残液生成物を１６．４５ｋｇ／ｈの流量で連続的に供
給する。

【００５９】塔頂で約０．７５ｋｇ／ｈの流量でレゾルシノールリッチ留分が得られるが、
この留分は、・約０．６５ｋｇ／ｈのレゾルシノール、・約０．１ｋｇ／ｈのヒドロキノン、・約１２００ｐｐｍのカテコール、を含む。

【００６０】塔底では約１５．７ｋｇ／ｈの流量で混合物が得られるが、この混合物は、・約１５．２ｋｇ／ｈのヒドロキノン、・約０．４ｋｇ／ｈのレゾルシノール、・約０．１ｋｇ／ｈのタール、を含む。

【００６１】（蒸留）脱タール塔（III）・脱タール塔：スクレーパ式落下薄膜型装置・塔頂温度：１７４．５℃ ・圧力：１０ｍｍＨｇ、即ち、１３３３．２Ｐａこの塔に、塔（II）からの残液生成物を約１５．７ｋｇ／ｈの流量で連続的に
供給する。

【００６２】塔頂で約１５．２ｋｇ／ｈの流量でヒドロキノンリッチ留分が得られるが、こ
の留分は、・約１４．８ｋｇ／ｈのヒドロキノン、・約０．４ｋｇ／ｈのレゾルシノール、を含む。

【００６３】塔底では約０．５ｋｇ／ｈの流量で混合物が得られるが、この混合物は、・約０．４ｋｇ／ｈのヒドロキノン、・約０．１ｋｇ／ｈのタール、を含む。

【００６４】精製精製は、例１における如くして実施される。特許請求の範囲によって規定される発明は、上記の発明の詳細な説明中に示し
た特定の具体例に限定されるのではなく、本発明の範囲又は精神のいずれからも
逸脱しない別の具体例も包含することを明確に理解すべきである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に従った第一の装置を示す流れ図である。

【図２】本発明の好ましい具体例に従った第二の装置を示す流れ図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者ダニエルクレランフランス国エフ69230 サンジェニラヴァル、アレドラピエスルージュ、27 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AD12 FC52 FE13

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ヒドロキノン及びレゾルシノールを含み、そして随意成分と
してのタール及び随意成分としてのカテコールも含む粗混合物を分離精製する方
法において、粗混合物に、先ず、（ｉ）蒸留トップ生成物としてカテコールを生成するように設計された随意の
蒸留工程（Ｉ）、（ii）（ｉ）の下に得られた蒸留残液生成物又は工程（Ｉ）の不在下の粗混合
物に、蒸留トップ生成物として、本質的にレゾルシノールを含みそしてヒドロキ
ノンも含むレゾルシノールリッチ留分を生成するように設計された蒸留工程（II
）を施し、そして（iii）（ii）の下に得られた蒸留残液生成物に、蒸留トップ生成物として、
本質的にヒドロキノンを含みそしてレゾルシノールも含むヒドロキノンリッチ留
分を生成するように設計された蒸留工程（III）を施こす、ことを含む一連の蒸留工程を施し、次いで、ヒドロキノンリッチ留分及び／又はレゾルシノールリッチ留分に、ヒ
ドロキノン及び／又はレゾルシノールをそれぞれ抽出するための精製工程（IV又
はＶ）を施す、ことからなる粗混合物の分離精製法。
【請求項２】工程（Ｉ）（存在する場合に）又は工程(II)に先だって、残
液生成物としてタールリッチ留分を生成し、そしてトップ生成物として、工程（
Ｉ）又は工程(II)に供給を行うのに使用される脱タール留分を生成するように設
計された少なくとも１つの予備脱タール工程（１、１’）が実施されることを特
徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】２つの予備蒸留工程（１、１’）が行われ、第一工程（１）
からのタールリッチ残液留分は第二工程（１’）に供給を行うのに使用され、そ
して２つの脱タールトップ留分が工程（Ｉ）又は（II）に供給を行う使用される
ことを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】工程（II）が、・７５〜９５％そして好ましくは８５〜９２％のレゾルシノール、・５〜２５％そして好ましくは８〜１５％のヒドロキノン、を含むレゾルシノールリッチ留分をもたらすように設計されることを特徴とする
請求項１〜３のいずれか一項記載の方法。
【請求項５】工程（III）が、・７５〜９８％そして好ましくは８５〜９７．５％のヒドロキノン、・２〜２５％そして好ましくは２．５〜１５％のレゾルシノール、を含むヒドロキノンリッチ留分をもたらすように設計されることを特徴とする請
求項１〜４のいずれか一項記載の方法。
【請求項６】リッチ留分の精製がドレイナーで実施されることを特徴とす
る請求項１〜５のいずれか一項記載の方法。
【請求項７】蒸留塔(Ｉ)が、次の規格、・５〜４０そして好ましくは１０〜３０の理論段数、・１〜１０そして好ましくは２〜５の環流比Ｒ、を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項記載の方法。
【請求項８】蒸留塔(II)が、次の規格、・１０〜８５そして好ましくは１５〜４０の理論段数、・１〜３５そして好ましくは５〜２５の環流比Ｒ、を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項記載の方法。
【請求項９】蒸留塔(III)が、次の規格、・１〜１０そして好ましくは１〜５の理論段数、・０．５〜５そして好ましくは１〜２の環流比Ｒ、を有する蒸留搭又はスクレーパ式落下薄膜型装置であることを特徴とする請求項
１〜６のいずれか一項記載の方法。
【請求項１０】脱タール搭（１、１’）がスクレーパ式落下薄膜型装置で
あることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項記載の方法。
【請求項１１】粗混合物が、全混合物を基にして、・２０〜６０重量％、特に３０〜５０重量％のヒドロキノン、・２〜２０重量％、特に２〜１５重量％のレゾルシノール、・０〜２０重量％、特に５〜１５重量％のカテコール、・残部としての各種化合物、本質的にはタール、を含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項記載の方法。
【請求項１２】ヒドロキノン、レゾルシノール、タールそして随意成分と
してのカテコールを含む粗混合物の分離精製装置において、（ｉ）塔頂においてカテコールを生成するように設計された随意の蒸留塔（Ｉ
）、 (ii)搭（Ｉ）の底部に連結された流入口を有し、又は搭（Ｉ）の不在下では粗
混合物を受け取る流入口を有する蒸留塔(II)であって、塔頂において、本質的に
はレゾルシノールを含みそしてヒドロキノンも含むレゾルシノールリッチ留分を
生成するように設計された蒸留塔(II)、 (iii)搭（II）の底部に連結された流入口を有する蒸留塔(III)であって、塔頂
において、本質的にはヒドロキノンを含みそしてレゾルシノールも含むヒドロキ
ノンリッチ留分を生成するように設計された蒸留塔(III)、 (iv)ヒドロキノンリッチ留分及び／又はレゾルシノールリッチ留分を精製して
ヒドロキノン及び／又はレゾルシノールをそれぞれ抽出するのを可能にするため
の１つ又はそれ以上の精製装置（IV、Ｖ）、を含むことからなる粗混合物の分離精製装置。
【請求項１３】・塔頂において脱タール留分を生成し、そして搭底におい
てはタールリッチ留分を生成するように設計された脱タール搭（１）、・先行搭（１）から生じるタールリッチ留分が供給され、そして塔頂において
脱タール留分を生成し、搭底においてはタールリッチ留分を生成するように設計
された随意の少なくとも１つの他の蒸留塔（１’）、を追加的に含み、しかも、これらの塔のトップ留分が塔（Ｉ）又は（II）に供給
を行うのに使用されることを特徴とする請求項１２記載の装置。
【請求項１４】塔（II）が、・７５〜９５％そして好ましくは８５〜９２％のレゾルシノール、・５〜２５％そして好ましくは８〜１５％のヒドロキノン、を含むレゾルシノールリッチ留分をもたらすように設計されることを特徴とする
請求項１２又は１３記載の装置。
【請求項１５】塔（III）が、・７５〜９８％そして好ましくは８５〜９７．５％のヒドロキノン、・２〜２５％そして好ましくは２．５〜１５％のレゾルシノール、を含むヒドロキノンリッチ留分をもたらすように設計されることを特徴とする請
求項１２〜１４のいずれか一項の装置。
【請求項１６】精製装置がドレイナーであることを特徴とする請求項１２
〜１５のいずれか一項の装置。
【請求項１７】蒸留塔(Ｉ)が、次の規格、・５〜４０そして好ましくは１０〜３０の理論段数、・１〜１０そして好ましくは２〜５の環流比Ｒ、を有することを特徴とする請求項１２〜１６のいずれか一項記載の装置。
【請求項１８】蒸留塔(II)が、次の規格、・１０〜８５そして好ましくは１５〜４０の理論段数、・１〜３５そして好ましくは５〜２５の環流比Ｒ、を有することを特徴とする請求項１２〜１７のいずれか一項記載の装置。
【請求項１９】蒸留塔(III)が、次の規格、・１〜１０そして好ましくは１〜５の理論段数、・０．５〜５そして好ましくは１〜２の環流比Ｒ、を有する蒸留搭又はスクレーパ式落下薄膜型装置であることを特徴とする請求項
１２〜１８のいずれか一項記載の装置。
【請求項２０】脱タール搭（１、１’）がスクレーパ式落下薄膜型装置で
あることを特徴とする請求項１２〜１９のいずれか一項記載の装置。