JP2003509716A - 熱反射性積層構造を備えた透明基板 - Google Patents
熱反射性積層構造を備えた透明基板Info
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、主成分を銀Ａｇとする少なくとも１つの機能層を２つの誘電材料皮膜の間に配置した薄層の積層構造を備えた可撓性または剛性の透明基板に関し、上記皮膜のうち少なくとも１つは主成分がＡｌＮである。機能層または複数の機能層のうち少なくとも１つはＡｇ以外の少量の金属を少なくとも１種添加して組成調整されており、かつ／または、ＡｌＮ基層または複数のＡｌＮ基層の少なくとも１つはアルミニウムより少量の金属を少なくとも１種添加して組成調整されている。
Description
【０００１】
本発明は、赤外光、特に太陽光中の赤外光を少なくとも部分的に反射する干渉
性薄層の積層構造に関し、この積層構造は、少なくとも１つの「機能」層と、そ
の両側にある誘電材料の皮膜とを備えている。
性薄層の積層構造に関し、この積層構造は、少なくとも１つの「機能」層と、そ
の両側にある誘電材料の皮膜とを備えている。
【０００２】
本発明において「機能層」とは、積層構造中にあって望みの熱反射特性を有し
、金属材料、特にＡｇ系の貴金属基の金属材料から成る層の意である。
、金属材料、特にＡｇ系の貴金属基の金属材料から成る層の意である。
【０００３】
本発明において「誘電材料の皮膜」とは、金属酸化物、金属窒化物または窒化
珪素系の誘電材料の単一層または積層複数層であって、特に積層構造の光学的な
外観の調節機能、特に光反射性を低下させる機能を備え、任意に「機能」層の保
護機能を備えた層の意である。
珪素系の誘電材料の単一層または積層複数層であって、特に積層構造の光学的な
外観の調節機能、特に光反射性を低下させる機能を備え、任意に「機能」層の保
護機能を備えた層の意である。
【０００４】
すなわち本発明は、（誘電皮膜／機能層／誘電皮膜）の形の積層構造に関し、
この形がｎ回（ｎ＝２または３）繰り返す場合を含む。
この形がｎ回（ｎ＝２または３）繰り返す場合を含む。
【０００５】
本発明は、ガラスまたはポリカーボネートＰＣやポリメチルメタクリレートＰ
ＭＭＡのような剛性ポリマーの剛性基板上の多層積層構造に関する。基板として
、ガラス部材をそれ自体でまたは断熱ガラス層または積層ガラス層として積層し
て用いることができる。しかし、本発明は特に、ポリマー系のフレキシブル（可
撓性）基板、特にポリウレタンＰＵ系やポリエチレンテレフタレート系のフレキ
シブル基板に関する。
ＭＭＡのような剛性ポリマーの剛性基板上の多層積層構造に関する。基板として
、ガラス部材をそれ自体でまたは断熱ガラス層または積層ガラス層として積層し
て用いることができる。しかし、本発明は特に、ポリマー系のフレキシブル（可
撓性）基板、特にポリウレタンＰＵ系やポリエチレンテレフタレート系のフレキ
シブル基板に関する。
【０００６】
ＡｌＮおよび／または金属酸化物から成る誘電体を分散させた銀層の積層構造
を、ＰＥＴ基板上に形成したものについては既に種々の研究が行なわれている。
特に、国際出願PCT/FR99/00466（出願1999年3月2日、出願人サンゴバンビトラー
ジュ（Saint-Gobain Vitrage））を参照。
を、ＰＥＴ基板上に形成したものについては既に種々の研究が行なわれている。
特に、国際出願PCT/FR99/00466（出願1999年3月2日、出願人サンゴバンビトラー
ジュ（Saint-Gobain Vitrage））を参照。
【０００７】
誘電皮膜の全部または一部が、窒化物系、特に窒化アルミニウムＡｌＮまたは
窒化珪素Ｓｉ3Ｎ4であることが望ましい。それは、窒化物系誘電体は特に化学的
に安定であるため、銀層に対して有効な「バリア層」となるからである。したが
って、窒化物系誘電体を少なくとも、基板上に直接形成した「下地層」としてお
よび／または積層構造の最終層すなわち「外皮層」として配置することが望まし
い。
窒化珪素Ｓｉ3Ｎ4であることが望ましい。それは、窒化物系誘電体は特に化学的
に安定であるため、銀層に対して有効な「バリア層」となるからである。したが
って、窒化物系誘電体を少なくとも、基板上に直接形成した「下地層」としてお
よび／または積層構造の最終層すなわち「外皮層」として配置することが望まし
い。
【０００８】
しかし、窒化物系誘電体にも欠点が無いわけではない。すなわち、銀との接合
性が良くないので、積層構造が非常に脆弱であり、剥離の危険性や光学的品質上
の問題が生ずる。相互の接合性を高める一つの方法として、銀層と窒化物層との
間に接合層として作用する薄層を介在させることが考えられる。この薄層は例え
ばＴｉ系の金属で形成されていて、必ずしも連続層でなくともよい。この方法に
より良好な結果が得られるが、積層構造の構成層の数が増加してしまう。
性が良くないので、積層構造が非常に脆弱であり、剥離の危険性や光学的品質上
の問題が生ずる。相互の接合性を高める一つの方法として、銀層と窒化物層との
間に接合層として作用する薄層を介在させることが考えられる。この薄層は例え
ばＴｉ系の金属で形成されていて、必ずしも連続層でなくともよい。この方法に
より良好な結果が得られるが、積層構造の構成層の数が増加してしまう。
【０００９】
そこで本発明の目的は、上記従来技術の欠点を解消し、工業規模の生産を困難
にしたり複雑化することなく、銀系の層と窒化物系の層と含む薄層積層構造の品
質を高めることである。
にしたり複雑化することなく、銀系の層と窒化物系の層と含む薄層積層構造の品
質を高めることである。
【００１０】
本発明の基板は、その上に複数の薄層から成る積層構造を備えた可撓性または
剛性の透明な基板であって、この積層構造は誘電材料から成る２つの皮膜間に挟
まれた少なくとも１つの銀Ａｇ基機能層を含み、上記皮膜のうち少なくとも１つ
は窒化アルミニウムＡｌＮ基層である。本発明においては、上記機能層（または
上記機能層のうち少なくとも１つ）が、Ａｇ以外の少なくとも１種の少量の金属
Ｍの添加により化学組成を調整されている。
剛性の透明な基板であって、この積層構造は誘電材料から成る２つの皮膜間に挟
まれた少なくとも１つの銀Ａｇ基機能層を含み、上記皮膜のうち少なくとも１つ
は窒化アルミニウムＡｌＮ基層である。本発明においては、上記機能層（または
上記機能層のうち少なくとも１つ）が、Ａｇ以外の少なくとも１種の少量の金属
Ｍの添加により化学組成を調整されている。
【００１１】
上記に代えて、または上記に加えて、上記ＡｌＮ基層（または上記ＡｌＮ基層
のうち少なくとも１つ）が、Ａｌ以外の少なくとも１種の金属Ｍ´の添加により
化学組成を調整されている。
のうち少なくとも１つ）が、Ａｌ以外の少なくとも１種の金属Ｍ´の添加により
化学組成を調整されている。
【００１２】
金属Ｍおよび金属Ｍ´の添加は（積層構造内の他の全ての層の形成についても
）、公知の真空蒸着法であるスパッタリング、望ましくは磁界エンハンス式スパ
ッタリングによって行なうことができる。すなわち、所定の金属Ｍを合金添加し
た銀ターゲット（不活性雰囲気（窒素を含有も可）中での蒸着）および所定の金
属Ｍ´を合金添加したアルミニウムターゲット（窒素を含有する窒化性雰囲気で
の窒化物の蒸着）を、それぞれ用いる。
）、公知の真空蒸着法であるスパッタリング、望ましくは磁界エンハンス式スパ
ッタリングによって行なうことができる。すなわち、所定の金属Ｍを合金添加し
た銀ターゲット（不活性雰囲気（窒素を含有も可）中での蒸着）および所定の金
属Ｍ´を合金添加したアルミニウムターゲット（窒素を含有する窒化性雰囲気で
の窒化物の蒸着）を、それぞれ用いる。
【００１３】
本発明において「金属」にはシリコンも含める。ターゲットの作製は、所定の
各金属の粉末を混合して焼結する公知の方法によって行なう。Ａｌターゲットを
所定の金属で部分的に被覆してもよい。
各金属の粉末を混合して焼結する公知の方法によって行なう。Ａｌターゲットを
所定の金属で部分的に被覆してもよい。
【００１４】
銀およびＡｌＮ等の金属窒化物の一方または双方の化学組成を僅かに調整する
ことにより、両者間の親和性を高めることができる。この組成調整は、両者間の
接合性を大幅に高めるが、両者の所望特性（光学特性および熱的特性）には悪影
響を及ぼさない程度の組成調整とする。これにより、両者間に相互接合を促進す
るための付加的な層を介在させる必要が無くなるので、層の数が少なくなり、生
産効率が高まり、生産ラインを簡素にできるという、工業的に大きな利点が得ら
れる。
ことにより、両者間の親和性を高めることができる。この組成調整は、両者間の
接合性を大幅に高めるが、両者の所望特性（光学特性および熱的特性）には悪影
響を及ぼさない程度の組成調整とする。これにより、両者間に相互接合を促進す
るための付加的な層を介在させる必要が無くなるので、層の数が少なくなり、生
産効率が高まり、生産ラインを簡素にできるという、工業的に大きな利点が得ら
れる。
【００１５】
本発明の典型的な積層構造においては、ｎ個の機能層と（ｎ＋１）個の誘電皮
膜との組み合わせで、ｎ≧１、特にｎ＝１、ｎ＝２、ｎ＞２である。前述のよう
に、基板は剛性または可撓性のいずれかである。
膜との組み合わせで、ｎ≧１、特にｎ＝１、ｎ＝２、ｎ＞２である。前述のよう
に、基板は剛性または可撓性のいずれかである。
【００１６】
銀基層に添加できる金属Ｍは、アルミニウム、銅または金である。銀層への金
属Ｍの添加量は、望ましくは０．１〜１０wt％、特に０．５〜２wt％である。
属Ｍの添加量は、望ましくは０．１〜１０wt％、特に０．５〜２wt％である。
【００１７】
ＡｌＮ基層に添加できる金属Ｍ´は、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ａｇか
ら選択した少なくとも１種である。添加量は、層中のアルミニウムを基準として
、望ましくは約０．１〜１０wt％、特に０．５〜２wt％である。
ら選択した少なくとも１種である。添加量は、層中のアルミニウムを基準として
、望ましくは約０．１〜１０wt％、特に０．５〜２wt％である。
【００１８】
本発明の第１実施態様においては、本発明により組成調整した少なくとも１つ
の銀基機能層を積層構造が含んでおり、この機能層が少なくともＡｌＮ基の標準
層（または本発明により組成調整したＡｌＮ基の標準層）と連続している。この
場合、銀層をＡｌＮ層に対して適合させることを重視している。
の銀基機能層を積層構造が含んでおり、この機能層が少なくともＡｌＮ基の標準
層（または本発明により組成調整したＡｌＮ基の標準層）と連続している。この
場合、銀層をＡｌＮ層に対して適合させることを重視している。
【００１９】
本発明の第２実施態様においては、第１実施態様に代えまたは加えて、本発明
により組成調整した少なくとも１つのＡｌＮ基層を積層構造が含んでおり、この
ＡｌＮ基層が標準の銀基機能層（または本発明により組成調整された銀基機能層
）と連続している。この場合、上記の場合とは逆に、ＡｌＮ層を銀層に対して適
合させることを重視している。
により組成調整した少なくとも１つのＡｌＮ基層を積層構造が含んでおり、この
ＡｌＮ基層が標準の銀基機能層（または本発明により組成調整された銀基機能層
）と連続している。この場合、上記の場合とは逆に、ＡｌＮ層を銀層に対して適
合させることを重視している。
【００２０】
本発明の一形態においては、機能層（積層構造中に複数の機能層がある場合に
は、機能層の少なくとも１つまたは各々）の一方の面がＡｌＮ層（２層のうちの
一方または両方が本発明により組成調整されている）と接触しており、機能層の
他方の面はＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5等の金属酸化物また
はこれらの混合物の層と接触している。前述のＰＣＴ出願では、銀基層の下に銀
との密着性を非常に高めるＺｎＯタイプの酸化物から成る層を任意に設けること
が有利であると強調されている。
は、機能層の少なくとも１つまたは各々）の一方の面がＡｌＮ層（２層のうちの
一方または両方が本発明により組成調整されている）と接触しており、機能層の
他方の面はＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5等の金属酸化物また
はこれらの混合物の層と接触している。前述のＰＣＴ出願では、銀基層の下に銀
との密着性を非常に高めるＺｎＯタイプの酸化物から成る層を任意に設けること
が有利であると強調されている。
【００２１】
この酸化物層は、酸化物層および／またはＡｌＮもしくはＳｉ3Ｎ4等の窒化物
層の積層において最後に積層される。
層の積層において最後に積層される。
【００２２】
もう一つの形態（上記の形態に付加できる）においては、本発明により組成調
整したＡｌＮ層が銀層と直接接触しており且つこの銀層との界面付近で金属Ｍ´
が高濃度になっている。すなわち、この場合のＡｌＮ層内での金属Ｍ´の濃度勾
配は、ＡｌＮ／Ａｇ界面に近づくほどＭ´濃度が高くなっている。工業的に最も
単純な形としては、ＡｌＮ層を複数の「構成層」に分割し、銀層に最も近い構成
層のＭ´濃度が最も高く（Ａｌ―Ｍ´ターゲットで形成）、残部は金属Ｍ´が低
濃度であるかまたは存在しない（Ａｌターゲットで形成）。このようにして下記
の２層構造を得ることができる。
整したＡｌＮ層が銀層と直接接触しており且つこの銀層との界面付近で金属Ｍ´
が高濃度になっている。すなわち、この場合のＡｌＮ層内での金属Ｍ´の濃度勾
配は、ＡｌＮ／Ａｇ界面に近づくほどＭ´濃度が高くなっている。工業的に最も
単純な形としては、ＡｌＮ層を複数の「構成層」に分割し、銀層に最も近い構成
層のＭ´濃度が最も高く（Ａｌ―Ｍ´ターゲットで形成）、残部は金属Ｍ´が低
濃度であるかまたは存在しない（Ａｌターゲットで形成）。このようにして下記
の２層構造を得ることができる。
【００２３】
ＡｌＮ：Ｍ´／ＡｌＮ または ＡｌＮ／Ｍ´：ＡｌＮ
これは、窒化物としての吸光性が高い金属（例えばチタンなど）をＡｌＮに添
加した層を厚くすると吸光性の点で若干不利になるためである。このように「２
層重ね」構造にすることにより、積層構造全体としての光学特性を劣化させるこ
となく、銀層との接合性を高めることができる。
加した層を厚くすると吸光性の点で若干不利になるためである。このように「２
層重ね」構造にすることにより、積層構造全体としての光学特性を劣化させるこ
となく、銀層との接合性を高めることができる。
【００２４】
本発明において、銀層を２層用いた実施態様としては、下記の３通りがある（
ただし、これらに限定しない）。
ただし、これらに限定しない）。
【００２５】
１）積層順：基板／金属酸化物／Ａｇ(1)／金属酸化物／Ａｇ(2)／ＡｌＮ
２）積層順：基板／ＡｌＮ／Ａｇ(1)／金属酸化物／Ａｇ(2)／ＡｌＮ
３）積層順：基板／ＡｌＮ／Ａｇ(1)／ＡｌＮ／Ａｇ(2)／ＡｌＮ
上記３通りのいずれにおいても、ＡｌＮとＡｇとが直接接触する部分がある場
合には、これらの一方または両方を本発明により組成調整する。ここで「金属酸
化物」とは、１種類または複数種類の金属酸化物の層、または酸化物層（または
Ｔｉ系もしくはＮｉＣｒ系の金属の薄層）に「挟まれた」窒化物層ＡｌＮもしく
はＳｉ3Ｎ4を意味する。
合には、これらの一方または両方を本発明により組成調整する。ここで「金属酸
化物」とは、１種類または複数種類の金属酸化物の層、または酸化物層（または
Ｔｉ系もしくはＮｉＣｒ系の金属の薄層）に「挟まれた」窒化物層ＡｌＮもしく
はＳｉ3Ｎ4を意味する。
【００２６】
金属酸化物の最も単純な形態としてＴｉＯ2が望ましい。
【００２７】
複数のＡｇ機能層のうち１層が、他の層とは異なって、相互接合性を向上する
薄層、例えばチタン層を介して例えばＡｌＮ層またはＳｉ3Ｎ4層と接触していて
もよい。
薄層、例えばチタン層を介して例えばＡｌＮ層またはＳｉ3Ｎ4層と接触していて
もよい。
【００２８】
ＡｌＮ層またはＡｌＮ層のうちの少なくとも１つを、Ｓｉ3Ｎ4層（ＡｌＮ層の
ように化学組成を調整可）に置き換えてもよい。
ように化学組成を調整可）に置き換えてもよい。
【００２９】
本発明は、上記の多層被覆した基板を含むガラス部材であってもよい。典型例
としては、ＰＥＴ系可撓性基板に本発明による各層を被覆し、ポリビニルブチラ
ール（ＰＶＢ）またはイチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）の２枚の熱可塑性接
着シートで２枚のガラス系剛性基板と積層した積層ガラス部材である。
としては、ＰＥＴ系可撓性基板に本発明による各層を被覆し、ポリビニルブチラ
ール（ＰＶＢ）またはイチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）の２枚の熱可塑性接
着シートで２枚のガラス系剛性基板と積層した積層ガラス部材である。
【００３０】
本発明のガラス部材は、一体型、積層型、または断熱２層ガラス部材としての
搭載型であっても、建材用または自動車用、特に積層型の横窓やフロントガラス
として用いることができる。
搭載型であっても、建材用または自動車用、特に積層型の横窓やフロントガラス
として用いることができる。
【００３１】
以下、実施例により本発明を説明するが、これに限定しない。
【００３２】
どの層も、公知の方法でスパッタリングにより、厚さ５０μｍ程度のＰＥＴシ
ート（公知の２軸配向材）上に形成する。
ート（公知の２軸配向材）上に形成する。
【００３３】
〔実施例１〕
（いずれの実施例においても層の厚さは単位ｎｍで表示した。）
ＰＥＴ／ＴｉＯ2／Ａｇ／ＴｉＯ2／Ａｇ／Ｔｉ：ＡｌＮ
30nm 10nm
Ｔｉ：ＡｌＮ層は、Ａｌに対して１．５wt％のＴｉを含有している（実施例２
および３においても同様）。このＴｉ含有量は変更可能であり、望ましい範囲は
０．５〜２．５wt％である。
および３においても同様）。このＴｉ含有量は変更可能であり、望ましい範囲は
０．５〜２．５wt％である。
【００３４】
〔実施例２〕
ＰＥＴ／ＡｌＮ／Ａｇ／ＴｉＯ2／Ａｇ／Ｔｉ：ＡｌＮ
30nm 10nm 56nm 10nm 40nm
〔実施例３〕
ＰＥＴ／ＴｉＯ2／Ａｇ／Ｔｉ／ＴｉＯ2／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ：ＡｌＮ
30nm 10nm １nm 56nm 10nm 40nm
実施例１および２においては、金属層、特に非常に薄いＴｉ層を、ＴｉＯ2層
とＡｇ層との間に挿入してもよい。これは特に第１のＡｇ層の上面に設けること
が望ましく、酸化反応性雰囲気中でのＴｉＯ2層形成時のＡｇの劣化を防止する
「ブロック層」として有効である。
とＡｇ層との間に挿入してもよい。これは特に第１のＡｇ層の上面に設けること
が望ましく、酸化反応性雰囲気中でのＴｉＯ2層形成時のＡｇの劣化を防止する
「ブロック層」として有効である。
【００３５】
非常に薄い金属層（これは連続である必要はない）を第２のＡｇ層の直下に設
けてもよく、この金属層としては例えばＴｉ層を例えば厚さ０．２〜１ｎｍに形
成する。
けてもよく、この金属層としては例えばＴｉ層を例えば厚さ０．２〜１ｎｍに形
成する。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2H048 FA05 FA09 FA13 FA22 FA24
2K009 AA03 BB02 BB24 CC02 CC03
CC14 DD04
Claims (17)
- 【請求項１】 その上に複数の薄層から成る積層構造を備えた可撓性または
剛性の透明な基板であって、この積層構造は誘電材料から成る２つの皮膜間に挟
まれた少なくとも１つの銀Ａｇ基機能層を含み、上記皮膜のうち少なくとも１つ
は窒化アルミニウムＡｌＮ基層である上記基板において、上記機能層または上記
機能層のうち少なくとも１つが、Ａｇ以外の少なくとも１種の少量の金属Ｍの添
加により組成調整されており、かつ／または、上記ＡｌＮ基層または上記ＡｌＮ
基層のうち少なくとも１つが、Ａｌより少量の少なくとも１種の金属Ｍ´の添加
により組成調整されていることを特徴とする基板。 - 【請求項２】 ｎ≧２として、上記積層構造がｎ個の機能層とｎ＋１個の誘
電材料皮膜と備えていることを特徴とする請求項１記載の基板。 - 【請求項３】 上記剛性基板が、ガラス製であるか、またはポリカーボネー
トＰＣ系もしくはポリメチルメタクリレートＰＭＭＡ系のポリマー材料製である
ことを特徴とする先行する請求項のいずれか１項記載の基板。 - 【請求項４】 上記基板が可撓性であって、ポリマー系、特にポリウレタン
ＰＵ系またはポリエチレンテレフタレートＰＥＴ系であることを特徴とする請求
項１または２記載の基板。 - 【請求項５】 上記金属Ｍが、アルミニウムＡｌまたは銅Ｃｕまたは金Ａｕ
であることを特徴とする先行する請求項のいずれか１項記載の基板。 - 【請求項６】 上記組成調整された機能層が、０〜１０wt％、特に０．５〜
２wt％の上記金属Ｍを含むことを特徴とする先行する請求項のいずれか１項記載
の基板。 - 【請求項７】 上記金属Ｍ´が、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ａｇから
選択されることを特徴とする先行する請求項のいずれか１項記載の基板。 - 【請求項８】 上記ＡｌＮ基層が、Ａｌに対して０．１〜１０wt％、特に０
．５〜２wt％の上記金属Ｍ´を含むことを特徴とする先行する請求項のいずれか
１項記載の基板。 - 【請求項９】 上記積層構造が、上記金属Ｍの添加により組成調整された少
なくとも１つの機能層を含み、この機能層が、組成調整されもしくは組成調整さ
れていないＡｌＮ基層と連続していることを特徴とする先行する請求項のいずれ
か１項記載の基板。 - 【請求項１０】 上記積層構造が、上記金属Ｍ´の添加により組成調整され
た少なくとも１つのＡｌＮ基層を含み、この機能層が、組成調整されもしくは組
成調整されていない銀基機能層と連続していることを特徴とする先行する請求項
のいずれか１項記載の基板。 - 【請求項１１】 上記機能層の、上記ＡｌＮ基層との接触面とは反対側の面
に、金属酸化物、特にＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5から選択
された１種を主成分とする層を備えていることを特徴とする請求項９または１０
記載の基板。 - 【請求項１２】 金属Ｍ´の添加により組成調整された上記ＡｌＮ基層が銀
基機能層と直接接触しており、金属Ｍ´の濃度が上記機能層との界面付近で高く
なっていることを特徴とする先行する請求項のいずれか１項記載の基板。 - 【請求項１３】 上記ＡｌＮ基層が複数の構成層から成り、このＡｌＮ基層
に接触している上記機能層と同じ側にある構成層は金属Ｍ´の濃度が最も高く、
残部は金属Ｍ´、特にＭ´：ＡｌＮ／ＡｌＮ二重層の形の金属Ｍ´が低濃度また
は存在しないことを特徴とする請求項１２記載の基板。 - 【請求項１４】 上記積層構造が、基板／金属酸化物／Ａｇ(1)／金属酸化
物／Ａｇ(2)／ＡｌＮの形であって、Ａｇ(2)層が上記金属Ｍの添加により組成調
整されており、かつ／または、上記ＡｌＮ層が金属Ｍ´の添加により組成調整さ
れていることを特徴とする先行する請求項のいずれか１項記載の基板。 - 【請求項１５】 上記積層構造が、基板／ＡｌＮ／Ａｇ／ＡｌＮ／Ａｇ／Ａ
ｌＮの形であって、２つのＡｇ層のうち少なくとも１つが上記金属Ｍの添加によ
り組成調整されており、かつ／または、２つのＡｌＮ層のうち少なくとも１つが
上記金属Ｍ´の添加により組成調整されていることを特徴とする先行する請求項
のいずれか１項記載の基板。 - 【請求項１６】 上記積層構造が、基板／ＡｌＮ／Ａｇ／金属酸化物／Ａｇ
／ＡｌＮの形であって、２つのＡｇ層のうち少なくとも１つが金属Ｍの添加によ
り組成調整されており、かつ／または、３つのＡｌＮ層のうち少なくとも１つが
上記金属Ｍ´の添加により組成調整されていることを特徴とする請求項１から１
３までのいずれか１項記載の基板。 - 【請求項１７】 先行する請求項のいずれか１項記載の積層構造を有するポ
リマー基可撓性基板を含むことを特徴とする先行する請求項のいずれか１項記載
の積層ガラス。
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|---|---|---|---|
| FR9911571A FR2798738B1 (fr) | 1999-09-16 | 1999-09-16 | Substrat transparent muni d'un empilement de couches reflechissant la chaleur |
| FR99/11571 | 1999-09-16 | ||
| PCT/FR2000/002582 WO2001020375A1 (fr) | 1999-09-16 | 2000-09-15 | Substrat transparent muni d'un empilement de couches reflechissant la chaleur |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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ID=9549904
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001523901A Pending JP2003509716A (ja) | 1999-09-16 | 2000-09-15 | 熱反射性積層構造を備えた透明基板 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP1212643A1 (ja) |
| JP (1) | JP2003509716A (ja) |
| KR (1) | KR20020031183A (ja) |
| FR (1) | FR2798738B1 (ja) |
| WO (1) | WO2001020375A1 (ja) |
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