JPH0542624A - 熱線遮断膜 - Google Patents
熱線遮断膜Info
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- JPH0542624A JPH0542624A JP3191064A JP19106491A JPH0542624A JP H0542624 A JPH0542624 A JP H0542624A JP 3191064 A JP3191064 A JP 3191064A JP 19106491 A JP19106491 A JP 19106491A JP H0542624 A JPH0542624 A JP H0542624A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】耐酸性に優れた熱線遮断膜を提供する。
【構成】基体１上に酸化物膜２、金属膜３、酸化物膜
２、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）の熱
線遮断膜において、基体からみて、最も離れた酸化物膜
４（Ｂ）を、酸化亜鉛からなる膜と、酸化錫からなる膜
とを有する多層膜とする。
２、と交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）の熱
線遮断膜において、基体からみて、最も離れた酸化物膜
４（Ｂ）を、酸化亜鉛からなる膜と、酸化錫からなる膜
とを有する多層膜とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は耐久性、特に耐酸性の優
れた熱線遮断膜に関するものである。
れた熱線遮断膜に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】基体表面に酸化物膜，Ａｇ膜，酸化物膜
を順に積層した３層からなる膜、または酸化物膜，Ａｇ
膜，酸化物膜，Ａｇ膜，酸化物膜を順次積層した５層か
らなる膜等の(2n+1)層(n≧1)からなる膜は、Ｌｏｗ−Ｅ
(Low-Emissivity)膜と呼ばれる熱線遮断膜であり、かか
るＬｏｗ−Ｅ膜を形成したガラスは、Ｌｏｗ−Ｅガラス
と呼ばれている。
を順に積層した３層からなる膜、または酸化物膜，Ａｇ
膜，酸化物膜，Ａｇ膜，酸化物膜を順次積層した５層か
らなる膜等の(2n+1)層(n≧1)からなる膜は、Ｌｏｗ−Ｅ
(Low-Emissivity)膜と呼ばれる熱線遮断膜であり、かか
るＬｏｗ−Ｅ膜を形成したガラスは、Ｌｏｗ−Ｅガラス
と呼ばれている。
【０００３】これは、室内からの熱線を反射することに
より室内の温度低下を防止できる機能ガラスであり、暖
房負荷を軽減する目的でおもに寒冷地で用いられてい
る。また、太陽熱の熱線遮断効果も有するため、自動車
の窓ガラスにも採用されている。透明でありかつ導電性
を示すため、電磁遮蔽ガラスとしての用途もある。導電
性プリント等からなるバスバー等の通電加熱手段を設け
れば、通電加熱ガラスとして用いることができる。
より室内の温度低下を防止できる機能ガラスであり、暖
房負荷を軽減する目的でおもに寒冷地で用いられてい
る。また、太陽熱の熱線遮断効果も有するため、自動車
の窓ガラスにも採用されている。透明でありかつ導電性
を示すため、電磁遮蔽ガラスとしての用途もある。導電
性プリント等からなるバスバー等の通電加熱手段を設け
れば、通電加熱ガラスとして用いることができる。
【０００４】おもなＬｏｗ−Ｅガラスとしては、ＺｎＯ
／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスという膜構成を有するものがあ
げられる。しかし、ＺｎＯは耐酸性も不十分であるた
め、空気中の酸性物質によって劣化する不安があった。
また、このようなＬｏｗ−Ｅ膜では、耐擦傷性、化学的
安定性などの耐久性に欠けるため、単板で使うことがで
きず、合わせガラスまたは複層ガラスにする必要があっ
た。特に耐湿性にも問題があり、空気中の湿度や合わせ
ガラスとする場合の中間膜に含まれる水分により、白色
斑点や白濁を生じる。このようなことから、単板での保
管やハンドリングに注意を要していた。
／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスという膜構成を有するものがあ
げられる。しかし、ＺｎＯは耐酸性も不十分であるた
め、空気中の酸性物質によって劣化する不安があった。
また、このようなＬｏｗ−Ｅ膜では、耐擦傷性、化学的
安定性などの耐久性に欠けるため、単板で使うことがで
きず、合わせガラスまたは複層ガラスにする必要があっ
た。特に耐湿性にも問題があり、空気中の湿度や合わせ
ガラスとする場合の中間膜に含まれる水分により、白色
斑点や白濁を生じる。このようなことから、単板での保
管やハンドリングに注意を要していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術が有していた上記の欠点を解決し、耐久性、特に耐
湿性や耐酸性の優れた熱線遮断膜を提供しようとするも
のである。
技術が有していた上記の欠点を解決し、耐久性、特に耐
湿性や耐酸性の優れた熱線遮断膜を提供しようとするも
のである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の課題を
解決すべくなされたものであり、基体上に酸化物膜、金
属膜、酸化物膜、と交互に積層された(2n+1)層(n≧1)か
らなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最
も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜
（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層
と、酸化錫を主成分とする膜を少なくとも１層有する多
層膜であることを特徴とする熱線遮断膜を提供するもの
である。
解決すべくなされたものであり、基体上に酸化物膜、金
属膜、酸化物膜、と交互に積層された(2n+1)層(n≧1)か
らなる熱線遮断膜において、基体から見て、基体から最
も離れた金属膜（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜
（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分とする膜を少なくとも１層
と、酸化錫を主成分とする膜を少なくとも１層有する多
層膜であることを特徴とする熱線遮断膜を提供するもの
である。
【０００７】図１に本発明の熱線遮断膜の代表例の断面
図を示す。図１（ａ）は、３層からなる熱線遮断膜の断
面図、図１（ｂ）は、（２ｎ＋１）層からなる熱線遮断
膜の断面図である。１は基体、２は酸化物膜、３は金属
膜、４は酸化亜鉛を主成分とする膜と酸化錫を主成分と
する膜とを有する多層膜である酸化物膜（Ｂ）である。
本発明における基体１としては、ガラス板の他、プラス
チック等のフィルムや板も使用できる。
図を示す。図１（ａ）は、３層からなる熱線遮断膜の断
面図、図１（ｂ）は、（２ｎ＋１）層からなる熱線遮断
膜の断面図である。１は基体、２は酸化物膜、３は金属
膜、４は酸化亜鉛を主成分とする膜と酸化錫を主成分と
する膜とを有する多層膜である酸化物膜（Ｂ）である。
本発明における基体１としては、ガラス板の他、プラス
チック等のフィルムや板も使用できる。
【０００８】本発明における酸化物膜（Ｂ）について説
明する。酸化物膜（Ｂ）として、酸化亜鉛を主成分とす
る膜を少なくとも１層と、酸化錫を主成分とする膜を少
なくとも１層有する多層膜を用いると、耐酸性に優れた
熱線遮断膜を実現できる。酸化錫は、耐酸性に優れ、屈
折率等の光学的性質は酸化亜鉛とほぼ等しいので、この
ように従来の酸化亜鉛膜の一部を酸化錫で置換すること
により、光学性能は維持したまま、従来より耐酸性に優
れた酸化物膜（Ｂ）を構成できる。一方、スパッタリン
グ法、特に直流スパッタリング法により成膜する際、酸
化亜鉛膜は、酸化錫より高速で成膜できる為、上記耐酸
性と成膜速度とを考慮しながら、酸化物膜（Ｂ）の膜構
成および膜厚を決めれば良い。
明する。酸化物膜（Ｂ）として、酸化亜鉛を主成分とす
る膜を少なくとも１層と、酸化錫を主成分とする膜を少
なくとも１層有する多層膜を用いると、耐酸性に優れた
熱線遮断膜を実現できる。酸化錫は、耐酸性に優れ、屈
折率等の光学的性質は酸化亜鉛とほぼ等しいので、この
ように従来の酸化亜鉛膜の一部を酸化錫で置換すること
により、光学性能は維持したまま、従来より耐酸性に優
れた酸化物膜（Ｂ）を構成できる。一方、スパッタリン
グ法、特に直流スパッタリング法により成膜する際、酸
化亜鉛膜は、酸化錫より高速で成膜できる為、上記耐酸
性と成膜速度とを考慮しながら、酸化物膜（Ｂ）の膜構
成および膜厚を決めれば良い。
【０００９】酸化物膜（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分とす
る膜と、酸化錫を主成分とする膜以外の膜を有していて
も良い。例えば、本発明の熱線遮断膜を内側にしてプラ
スチック中間膜を介してもう１枚の基体と積層して合わ
せガラスとする場合に、かかるプラスチック中間膜との
接着力の調整、もしくは、耐久性向上の目的で、中間膜
と接する層として、１００Å以下の酸化物膜（例えば、
酸化クロム膜）を形成しても良い。
る膜と、酸化錫を主成分とする膜以外の膜を有していて
も良い。例えば、本発明の熱線遮断膜を内側にしてプラ
スチック中間膜を介してもう１枚の基体と積層して合わ
せガラスとする場合に、かかるプラスチック中間膜との
接着力の調整、もしくは、耐久性向上の目的で、中間膜
と接する層として、１００Å以下の酸化物膜（例えば、
酸化クロム膜）を形成しても良い。
【００１０】酸化物膜（Ｂ）の膜厚は、特に限定されな
いが、熱線遮断膜全体の色調、可視光透過率を考慮する
と、２００Å〜７００Åが望ましい。積層数及び１層の
膜厚は、装置に応じて選べば良く特に限定されない。ま
た、各層の膜厚がそれぞれ異なっても良い。
いが、熱線遮断膜全体の色調、可視光透過率を考慮する
と、２００Å〜７００Åが望ましい。積層数及び１層の
膜厚は、装置に応じて選べば良く特に限定されない。ま
た、各層の膜厚がそれぞれ異なっても良い。
【００１１】酸化亜鉛は、薄い膜に分割して酸化亜鉛１
層の膜厚を薄くしたほうが、膜の周辺からの酸の影響に
耐えやすい。したがって、具体的な膜構成としては、Zn
O/SnO2/ZnOや、SnO2/ZnO/SnO2 のような３層系や、ZnO/
SnO2/ZnO/SnO2/ZnO や、SnO2/ZnO/SnO2/ZnO/SnO2のよう
な５層系、同様に交互に積層した７層系、９層系などの
ように構成して、酸化亜鉛１層の膜厚を２００Å以下、
好ましくは１８０Å以下とするのが良い。特に好ましく
は１００Å以下として上記５層系で構成するのが望まし
い。成膜時の生産性を考慮すると、各層の成膜速度に比
例した膜厚に調整し、全体で４５０Å程度の上記５層系
の積層膜が好ましい。
層の膜厚を薄くしたほうが、膜の周辺からの酸の影響に
耐えやすい。したがって、具体的な膜構成としては、Zn
O/SnO2/ZnOや、SnO2/ZnO/SnO2 のような３層系や、ZnO/
SnO2/ZnO/SnO2/ZnO や、SnO2/ZnO/SnO2/ZnO/SnO2のよう
な５層系、同様に交互に積層した７層系、９層系などの
ように構成して、酸化亜鉛１層の膜厚を２００Å以下、
好ましくは１８０Å以下とするのが良い。特に好ましく
は１００Å以下として上記５層系で構成するのが望まし
い。成膜時の生産性を考慮すると、各層の成膜速度に比
例した膜厚に調整し、全体で４５０Å程度の上記５層系
の積層膜が好ましい。
【００１２】酸化物膜（Ｂ）を酸素含有雰囲気中で反応
性スパッタリングにより成膜する場合は、金属膜（Ａ）
の酸化を防ぐために、まず金属膜（Ａ）上に酸素の少な
い雰囲気中で薄い金属膜もしくは酸化不充分な金属酸化
物膜を形成するのが望ましい。この薄い金属膜は、酸化
物膜（Ｂ）の成膜中に酸化されて酸化物膜となる。従っ
て上述の酸化物膜（Ｂ）の好ましい膜厚は、かかる薄い
金属膜が酸化されてできた酸化物膜の膜厚も含んだ膜厚
である。本明細書において、金属膜３上に形成する酸化
物膜に関しても、同様である。
性スパッタリングにより成膜する場合は、金属膜（Ａ）
の酸化を防ぐために、まず金属膜（Ａ）上に酸素の少な
い雰囲気中で薄い金属膜もしくは酸化不充分な金属酸化
物膜を形成するのが望ましい。この薄い金属膜は、酸化
物膜（Ｂ）の成膜中に酸化されて酸化物膜となる。従っ
て上述の酸化物膜（Ｂ）の好ましい膜厚は、かかる薄い
金属膜が酸化されてできた酸化物膜の膜厚も含んだ膜厚
である。本明細書において、金属膜３上に形成する酸化
物膜に関しても、同様である。
【００１３】成膜条件によるが、酸化錫膜は、比較的、
低内部応力、特に、7.0 ×109dyn/cm2以下の内部応力の
低い膜を形成しやすい。酸化亜鉛膜は、やはり成膜条件
によるが、比較的、高内部応力の膜が形成されやすい。
そこで、本願のように、酸化物膜（Ｂ）を、これらを組
み合わせた膜で構成すると、酸化物膜（Ｂ）全体とし
て、内部応力の低い膜を容易に得られやすい。
低内部応力、特に、7.0 ×109dyn/cm2以下の内部応力の
低い膜を形成しやすい。酸化亜鉛膜は、やはり成膜条件
によるが、比較的、高内部応力の膜が形成されやすい。
そこで、本願のように、酸化物膜（Ｂ）を、これらを組
み合わせた膜で構成すると、酸化物膜（Ｂ）全体とし
て、内部応力の低い膜を容易に得られやすい。
【００１４】酸化物膜（Ｂ）の内部応力が高いと、かか
る酸化物膜の膜歪の緩和による膜の破損や膜はがれ等に
よって、空気中の湿度や合わせガラスとする場合の中間
膜に含まれる水分により、金属膜（Ａ）の劣化、具体的
には、白濁や斑点が起こりやすいが、このように、内部
応力が低ければ、かかる劣化を防止でき、膜の耐湿性が
大幅に向上する。具体的には、多層からなる酸化物膜
（Ｂ）全体の内部応力が、1.1 ×1010dyn/cm2 以下であ
れば耐湿性向上に大きな効果があるので好ましい。
る酸化物膜の膜歪の緩和による膜の破損や膜はがれ等に
よって、空気中の湿度や合わせガラスとする場合の中間
膜に含まれる水分により、金属膜（Ａ）の劣化、具体的
には、白濁や斑点が起こりやすいが、このように、内部
応力が低ければ、かかる劣化を防止でき、膜の耐湿性が
大幅に向上する。具体的には、多層からなる酸化物膜
（Ｂ）全体の内部応力が、1.1 ×1010dyn/cm2 以下であ
れば耐湿性向上に大きな効果があるので好ましい。
【００１５】特に、酸化亜鉛の内部応力が低ければ、膜
の周辺からの酸の影響によっても膜が剥れにくくなるの
で、耐酸性および上述の耐湿性の点からも、酸化亜鉛の
内部応力が低いことが好ましい。酸化亜鉛を主成分とす
る膜は、六方晶系であり、かかる膜の内部応力と、Ｃｕ
Ｋα線を用いたＸ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（０
０２）回折線の回折角２θ（重心位置）とがほぼ対応し
ており、かかる回折角２θ（重心位置）が33.88 ゜から
35.00 ゜の間の値、特に、34.00 ゜から34.88゜の値で
あれば、なお好ましい。回折角２θが34.44 ゜以下の値
は、圧縮応力、34.44 ゜以上の値は、引張応力を示す。
の周辺からの酸の影響によっても膜が剥れにくくなるの
で、耐酸性および上述の耐湿性の点からも、酸化亜鉛の
内部応力が低いことが好ましい。酸化亜鉛を主成分とす
る膜は、六方晶系であり、かかる膜の内部応力と、Ｃｕ
Ｋα線を用いたＸ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（０
０２）回折線の回折角２θ（重心位置）とがほぼ対応し
ており、かかる回折角２θ（重心位置）が33.88 ゜から
35.00 ゜の間の値、特に、34.00 ゜から34.88゜の値で
あれば、なお好ましい。回折角２θが34.44 ゜以下の値
は、圧縮応力、34.44 ゜以上の値は、引張応力を示す。
【００１６】膜の内部応力は、膜の成膜条件により大き
く異なり、低内部応力の膜を成膜するときは、成膜条件
を精密に制御する必要がある。膜の内部応力を低減化で
きる傾向を示す方法としては、成膜時（特にスパッタリ
ング法による場合）の成膜雰囲気の圧力（スパッタ圧
力）を高くする、成膜中に基板加熱を施す等、成膜条件
を変える方法や、成膜後に加熱処理を施す方法等が挙げ
られる。それぞれの具体的な条件は、成膜装置に応じて
選べばよく、特に限定されない。
く異なり、低内部応力の膜を成膜するときは、成膜条件
を精密に制御する必要がある。膜の内部応力を低減化で
きる傾向を示す方法としては、成膜時（特にスパッタリ
ング法による場合）の成膜雰囲気の圧力（スパッタ圧
力）を高くする、成膜中に基板加熱を施す等、成膜条件
を変える方法や、成膜後に加熱処理を施す方法等が挙げ
られる。それぞれの具体的な条件は、成膜装置に応じて
選べばよく、特に限定されない。
【００１７】酸化亜鉛膜に、酸化状態でＺｎ2+よりイオ
ン半径の小さい他の元素を添加すると、成膜条件により
かなりのバラツキがあるが、その膜の内部応力を低減で
きる傾向がある。（酸化錫膜についても、同様な傾向が
ある。）
ン半径の小さい他の元素を添加すると、成膜条件により
かなりのバラツキがあるが、その膜の内部応力を低減で
きる傾向がある。（酸化錫膜についても、同様な傾向が
ある。）
【００１８】ＺｎＯ膜に、酸化状態でＺｎ2+よりイオン
半径の小さい他の元素を添加（ドープ）する場合の、添
加元素としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、
Ｃｒ等が挙げられる。従ってこれらのうちから少なくと
も１種をドープしたＺｎＯを主成分とする膜も、ＺｎＯ
膜と同様に使用できる。ドープ量は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、
Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒのうち少なくとも１種を、Ｚｎ
との合計量に対して、原子比で１０％以上としても、内
部応力低減効果は変わらないことが多いので、１０％以
下程度で十分である。このような、他の元素をドープし
たＺｎＯ膜についても、六方晶酸化亜鉛の（００２）回
折線の回折角２θ（重心位置）に関して、ＺｎＯ膜と同
様のことがいえる。
半径の小さい他の元素を添加（ドープ）する場合の、添
加元素としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、
Ｃｒ等が挙げられる。従ってこれらのうちから少なくと
も１種をドープしたＺｎＯを主成分とする膜も、ＺｎＯ
膜と同様に使用できる。ドープ量は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、
Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｒのうち少なくとも１種を、Ｚｎ
との合計量に対して、原子比で１０％以上としても、内
部応力低減効果は変わらないことが多いので、１０％以
下程度で十分である。このような、他の元素をドープし
たＺｎＯ膜についても、六方晶酸化亜鉛の（００２）回
折線の回折角２θ（重心位置）に関して、ＺｎＯ膜と同
様のことがいえる。
【００１９】酸化物膜（Ｂ）以外の酸化物膜２の材料
は、特に限定されない。ＺｎＯ、ＳｎＯ2 、ＴｉＯ2 、
これらの２種以上を含む積層膜、これらに他の元素を添
加した膜等が使用できるが、さらに、生産性を考慮する
と、ＺｎＯ、ＳｎＯ2 、ＺｎＯ−ＳｎＯ2 を交互に２層
以上積層させた膜、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍ
ｇ、Ｃｒのうち少なくとも一つをＺｎとの総量に対し合
計１０原子％以下添加したＺｎＯ膜が好ましい。
は、特に限定されない。ＺｎＯ、ＳｎＯ2 、ＴｉＯ2 、
これらの２種以上を含む積層膜、これらに他の元素を添
加した膜等が使用できるが、さらに、生産性を考慮する
と、ＺｎＯ、ＳｎＯ2 、ＺｎＯ−ＳｎＯ2 を交互に２層
以上積層させた膜、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍ
ｇ、Ｃｒのうち少なくとも一つをＺｎとの総量に対し合
計１０原子％以下添加したＺｎＯ膜が好ましい。
【００２０】色調、可視光透過率を考慮すると、酸化物
膜２は２００Å〜７００Åであることが望ましい。積層
膜の場合、合計２００Å〜７００Åであればよく、それ
ぞれの層の膜厚は限定されない。
膜２は２００Å〜７００Åであることが望ましい。積層
膜の場合、合計２００Å〜７００Åであればよく、それ
ぞれの層の膜厚は限定されない。
【００２１】特に、酸化物膜、金属膜、酸化物膜、金属
膜、酸化物膜、という５層構成、あるいは５層以上の膜
構成の熱線遮断膜の場合、最外層の酸化物膜（Ｂ）以外
の酸化物膜２も内部応力が1.1 ×1010dyn/cm2 以下の膜
を用いることが望ましい。
膜、酸化物膜、という５層構成、あるいは５層以上の膜
構成の熱線遮断膜の場合、最外層の酸化物膜（Ｂ）以外
の酸化物膜２も内部応力が1.1 ×1010dyn/cm2 以下の膜
を用いることが望ましい。
【００２２】本発明における金属膜３としては、Ａｇ、
またはＡｕ、Ｃｕ、Ｐｄのうちの少なくとも一つを含む
Ａｇを主成分とする膜などの、熱線遮断性能を有する膜
が使用できる。金属膜３は、かかる熱線遮断性能を有す
る金属膜の他に、各種の機能を有する金属層を有してい
てもよい。例えば、熱線遮断性能を有する金属膜と酸化
物膜（Ｂ）や酸化物膜２との間の接着力を調整する金属
層や、熱線遮断性能を有する金属膜からの金属の拡散防
止機能を有する金属層等が挙げられる。これらの機能を
有する金属層を構成する金属の例としては、Ｚｎ，Ａ
ｌ，Ｃｒ，Ｗ，Ｎｉ，Ｔｉや、これらのうち２種以上の
金属の合金等が挙げられる。
またはＡｕ、Ｃｕ、Ｐｄのうちの少なくとも一つを含む
Ａｇを主成分とする膜などの、熱線遮断性能を有する膜
が使用できる。金属膜３は、かかる熱線遮断性能を有す
る金属膜の他に、各種の機能を有する金属層を有してい
てもよい。例えば、熱線遮断性能を有する金属膜と酸化
物膜（Ｂ）や酸化物膜２との間の接着力を調整する金属
層や、熱線遮断性能を有する金属膜からの金属の拡散防
止機能を有する金属層等が挙げられる。これらの機能を
有する金属層を構成する金属の例としては、Ｚｎ，Ａ
ｌ，Ｃｒ，Ｗ，Ｎｉ，Ｔｉや、これらのうち２種以上の
金属の合金等が挙げられる。
【００２３】これらの金属層を含む金属膜３全体の膜厚
としては、熱線遮断性能及び可視光透過率等とのかねあ
いを考慮して、５０Å〜１５０Å、特に１００Å程度が
適当である。
としては、熱線遮断性能及び可視光透過率等とのかねあ
いを考慮して、５０Å〜１５０Å、特に１００Å程度が
適当である。
【００２４】
【作用】酸化物膜（Ｂ）に、酸化錫を主成分とする膜を
導入することにより、耐酸性が大きく向上する。比較的
内部応力の低い膜を形成しやすい酸化錫を主成分とする
膜を導入することにより、酸化物膜（Ｂ）全体として1.
1 ×1010dyn/cm2 以下の低内部応力の膜を得やすく、こ
れにより従来の熱線遮断膜に比べて耐湿性も著しく改善
される。これは、酸化物膜の低内部応力化により、酸化
物膜が破損しにくくなり、湿気による劣化が抑えられる
ためと考えられる。
導入することにより、耐酸性が大きく向上する。比較的
内部応力の低い膜を形成しやすい酸化錫を主成分とする
膜を導入することにより、酸化物膜（Ｂ）全体として1.
1 ×1010dyn/cm2 以下の低内部応力の膜を得やすく、こ
れにより従来の熱線遮断膜に比べて耐湿性も著しく改善
される。これは、酸化物膜の低内部応力化により、酸化
物膜が破損しにくくなり、湿気による劣化が抑えられる
ためと考えられる。
【００２５】
（実施例１）Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｇの金属ターゲットをそれ
ぞれ用いて、Ａｇ膜はＡｒ雰囲気中で直流スパッタリン
グ法により、SnO2膜、ZnO膜は酸素含有雰囲気中で反応性
直流スパッタリング法により、ZnO/SnO2/ZnO/SnO2/ZnO/
Ag/ZnO/SnO2/ZnO/SnO2/ZnO/ガラスという膜構成の熱線
遮断膜を作製した。Ａｇは１００Å、ZnO、SnO2はいずれ
も１層９０Åであった。かかる熱線遮断膜付きガラスの
可視光線透過率は８６％、エミッシビティは０．０６で
あった。
ぞれ用いて、Ａｇ膜はＡｒ雰囲気中で直流スパッタリン
グ法により、SnO2膜、ZnO膜は酸素含有雰囲気中で反応性
直流スパッタリング法により、ZnO/SnO2/ZnO/SnO2/ZnO/
Ag/ZnO/SnO2/ZnO/SnO2/ZnO/ガラスという膜構成の熱線
遮断膜を作製した。Ａｇは１００Å、ZnO、SnO2はいずれ
も１層９０Åであった。かかる熱線遮断膜付きガラスの
可視光線透過率は８６％、エミッシビティは０．０６で
あった。
【００２６】この熱線遮断膜付きガラスを１規定の塩酸
に浸漬するという耐酸性試験を行った。浸漬後２分まで
は変化がなかったが、３分後には、膜の端から一部茶色
っぽく変色しはじめ、５分後には、膜の一部に剥離して
いる部分が見られた。
に浸漬するという耐酸性試験を行った。浸漬後２分まで
は変化がなかったが、３分後には、膜の端から一部茶色
っぽく変色しはじめ、５分後には、膜の一部に剥離して
いる部分が見られた。
【００２７】（比較例１）Ｚｎ、Ａｇの金属ターゲット
をそれぞれ用いて、Ａｇ膜はＡｒ雰囲気中で直流スパッ
タリング法により、ZnO 膜は酸素含有雰囲気中で反応性
直流スパッタリング法により、ZnO/Ag/ZnO/ ガラスとい
う膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇは１００Å、Zn
O は４５０Åであった。かかる熱線遮断膜付きガラスの
可視光線透過率は８６％、エミッシビティは０．０６で
あった。
をそれぞれ用いて、Ａｇ膜はＡｒ雰囲気中で直流スパッ
タリング法により、ZnO 膜は酸素含有雰囲気中で反応性
直流スパッタリング法により、ZnO/Ag/ZnO/ ガラスとい
う膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇは１００Å、Zn
O は４５０Åであった。かかる熱線遮断膜付きガラスの
可視光線透過率は８６％、エミッシビティは０．０６で
あった。
【００２８】この熱線遮断膜付きガラスを１規定の塩酸
に浸漬するという耐酸性試験を行った。浸漬直後から膜
が剥離し始め、５分後には、熱線遮断膜が全部ガラスか
ら剥離し、消失した。
に浸漬するという耐酸性試験を行った。浸漬直後から膜
が剥離し始め、５分後には、熱線遮断膜が全部ガラスか
ら剥離し、消失した。
【００２９】（実施例２）ＲＦスパッタリング法によ
り、ZnO/SnO2/ZnO/SnO2/ZnO/Ag/ZnO/ ガラスという膜構
成のＬｏｗ−Ｅ膜を作製した。Ａｇは１００Å、Ａｇと
ガラスの間のＺｎＯは４５０Å、Ａｇの上のＺｎＯおよ
びＳｎＯ2 膜はいずれも１層９０Åであった。ＺｎＯ及
びＡｇはＺｎＯ及びＡｇターゲットをＡｒガスでスパッ
タリングし、ＳｎＯ2 はＳｎＯ2 ターゲットをＡｒ，Ｏ
2 混合ガスでスパッタリングして得た。スパッタ圧力、
基板温度、ＺｎＯ及びＡｇ成膜の際のスパッタ電力は上
記実施例と同様である。ＳｎＯ2 成膜の際はスパッタ電
力密度は１W/cm2 、Ａｒ：Ｏ2ガス流量比は８：２であ
った。
り、ZnO/SnO2/ZnO/SnO2/ZnO/Ag/ZnO/ ガラスという膜構
成のＬｏｗ−Ｅ膜を作製した。Ａｇは１００Å、Ａｇと
ガラスの間のＺｎＯは４５０Å、Ａｇの上のＺｎＯおよ
びＳｎＯ2 膜はいずれも１層９０Åであった。ＺｎＯ及
びＡｇはＺｎＯ及びＡｇターゲットをＡｒガスでスパッ
タリングし、ＳｎＯ2 はＳｎＯ2 ターゲットをＡｒ，Ｏ
2 混合ガスでスパッタリングして得た。スパッタ圧力、
基板温度、ＺｎＯ及びＡｇ成膜の際のスパッタ電力は上
記実施例と同様である。ＳｎＯ2 成膜の際はスパッタ電
力密度は１W/cm2 、Ａｒ：Ｏ2ガス流量比は８：２であ
った。
【００３０】上記と同様の条件で作製した、ZnO/SnO2/Z
nO/SnO2/ZnO 膜の内部応力は 9.2×109dyn/cm2であっ
た。
nO/SnO2/ZnO 膜の内部応力は 9.2×109dyn/cm2であっ
た。
【００３１】かかる熱線遮断膜について、５０℃、相対
湿度９５％の雰囲気中に６日間放置するという耐湿試験
を行なった。耐湿試験後の外観は、ごく微小の斑点は見
られたものの、目立った白色斑点及び白濁は観察されず
良好であった。耐湿試験後の膜表面のＳＥＭ写真におい
て、膜表面に、ひびわれ、しわ、剥離はほとんど観察さ
れなかった。
湿度９５％の雰囲気中に６日間放置するという耐湿試験
を行なった。耐湿試験後の外観は、ごく微小の斑点は見
られたものの、目立った白色斑点及び白濁は観察されず
良好であった。耐湿試験後の膜表面のＳＥＭ写真におい
て、膜表面に、ひびわれ、しわ、剥離はほとんど観察さ
れなかった。
【００３２】上記熱線遮断膜を形成したガラスを、膜を
内側にして、プラスチック中間膜を介してもう１枚のガ
ラス板と積層して合わせガラスとした。かかる合わせガ
ラスについても同様の耐湿試験を行った。耐湿試験１４
日目でも白濁や斑点は全く生じていなかった。
内側にして、プラスチック中間膜を介してもう１枚のガ
ラス板と積層して合わせガラスとした。かかる合わせガ
ラスについても同様の耐湿試験を行った。耐湿試験１４
日目でも白濁や斑点は全く生じていなかった。
【００３３】（実施例３）上記実施例２と同様の方法に
より、ZnO/SnO2/ZnO/SnO2/ZnO/Ag/ZnO/SnO2/ZnO/SnO2/Z
nO/ ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇ
は１００Å、ＺｎＯおよびＳｎＯ2 膜はいずれも１層９
０Åであった。ターゲット及びスパッタリングガス、ス
パッタ圧力、基板温度、パワー密度は実施例２と同様で
あった。
より、ZnO/SnO2/ZnO/SnO2/ZnO/Ag/ZnO/SnO2/ZnO/SnO2/Z
nO/ ガラスという膜構成の熱線遮断膜を作製した。Ａｇ
は１００Å、ＺｎＯおよびＳｎＯ2 膜はいずれも１層９
０Åであった。ターゲット及びスパッタリングガス、ス
パッタ圧力、基板温度、パワー密度は実施例２と同様で
あった。
【００３４】この条件で作製した、ZnO/SnO2/ZnO/SnO2/
ZnO 膜の内部応力は 9.2×109dyn/cm2であった。得られ
た熱線遮断膜の耐湿性は、上記実施例と同様良好であっ
た。
ZnO 膜の内部応力は 9.2×109dyn/cm2であった。得られ
た熱線遮断膜の耐湿性は、上記実施例と同様良好であっ
た。
【００３５】（比較例２）上記実施例と同様の方法によ
り、ガラス基板上にＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＺｎＯ膜のそれ
ぞれ４５０Å、１００Å、４５０Åの膜厚で、順次積層
させた。ターゲットは、ＺｎＯ、Ａｇを用い、Ａｒガス
によりスパッタリングをおこなった。スパッタ圧力、基
板温度、スパッタ電力密度は実施例２と同様である。
り、ガラス基板上にＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＺｎＯ膜のそれ
ぞれ４５０Å、１００Å、４５０Åの膜厚で、順次積層
させた。ターゲットは、ＺｎＯ、Ａｇを用い、Ａｒガス
によりスパッタリングをおこなった。スパッタ圧力、基
板温度、スパッタ電力密度は実施例２と同様である。
【００３６】得られた熱線遮断膜をＸ線回折法で調べた
ところ、ＺｎＯ（００２）回折線の回折角２θ（重心位
置）は 33.78°であった。この条件で作製したＺｎＯ膜
の内部応力は 1.5×1010dyn/cm2 であった。
ところ、ＺｎＯ（００２）回折線の回折角２θ（重心位
置）は 33.78°であった。この条件で作製したＺｎＯ膜
の内部応力は 1.5×1010dyn/cm2 であった。
【００３７】耐湿試験後の熱線遮断膜は、全面がうすく
白濁しており、直径１ｍｍ以上のはっきりした白色斑点
もかなり見られた。耐湿試験後のＳＥＭ写真によれば、
膜表面全体にわたって、ひびわれがひろがっており、膜
の破損が著しいことがわかった。
白濁しており、直径１ｍｍ以上のはっきりした白色斑点
もかなり見られた。耐湿試験後のＳＥＭ写真によれば、
膜表面全体にわたって、ひびわれがひろがっており、膜
の破損が著しいことがわかった。
【００３８】上記熱線遮断膜を形成したガラスを、膜を
内側にして、プラスチック中間膜を介してもう１枚のガ
ラス板と積層して合わせガラスとした。かかる合わせガ
ラスについても同様の耐湿試験を行った。耐湿試験１４
日目には白濁や斑点がはっきり認められた。
内側にして、プラスチック中間膜を介してもう１枚のガ
ラス板と積層して合わせガラスとした。かかる合わせガ
ラスについても同様の耐湿試験を行った。耐湿試験１４
日目には白濁や斑点がはっきり認められた。
【００３９】
【発明の効果】本発明による熱線遮断膜は、耐酸性およ
び耐湿性が大きく改善されている。このため、単板での
取扱が容易になると考えられる。また、単板での室内長
期保存の可能性も実現する。さらに、自動車用、建築用
熱線遮断ガラスの信頼性向上につながる。また、合わせ
ガラスとした際にも中間膜が含有している水分によって
劣化することがないので、自動車用、建築用等の合わせ
ガラスの耐久性が向上する。
び耐湿性が大きく改善されている。このため、単板での
取扱が容易になると考えられる。また、単板での室内長
期保存の可能性も実現する。さらに、自動車用、建築用
熱線遮断ガラスの信頼性向上につながる。また、合わせ
ガラスとした際にも中間膜が含有している水分によって
劣化することがないので、自動車用、建築用等の合わせ
ガラスの耐久性が向上する。
【００４０】本発明の熱線遮断膜は、金属膜を有してい
るため、熱線遮断性能とともに導電性もある。従って、
本発明の熱線遮断膜は、この導電性を利用して、種々の
技術分野に使用できる。例えば、エレクトロニクス分野
においては、電極として（太陽電池の電極などにも使用
できる）、また、通電加熱窓においては、発熱体とし
て、あるいは、窓や電子部品においては、電磁波遮蔽膜
として、使用できる。場合によっては、本発明の熱線遮
断膜は、基体の上に、各種の機能を有する膜を介して形
成することもできる。このような場合には、本発明の熱
線遮断膜の各膜の最適膜厚を選択するなどにより、その
用途に応じて、光学性能を調節することができる。
るため、熱線遮断性能とともに導電性もある。従って、
本発明の熱線遮断膜は、この導電性を利用して、種々の
技術分野に使用できる。例えば、エレクトロニクス分野
においては、電極として（太陽電池の電極などにも使用
できる）、また、通電加熱窓においては、発熱体とし
て、あるいは、窓や電子部品においては、電磁波遮蔽膜
として、使用できる。場合によっては、本発明の熱線遮
断膜は、基体の上に、各種の機能を有する膜を介して形
成することもできる。このような場合には、本発明の熱
線遮断膜の各膜の最適膜厚を選択するなどにより、その
用途に応じて、光学性能を調節することができる。
【図１】本発明による熱線遮断膜をガラス上に形成した
熱線遮断ガラスの一例の断面図
熱線遮断ガラスの一例の断面図
１ 基体 ２ 酸化物膜 ３ 金属膜 ４ 酸化物膜（Ｂ）
Claims (8)
- 【請求項１】基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と
交互に積層された(2n+1)層(n≧1)からなる熱線遮断膜に
おいて、基体から見て、基体から最も離れた金属膜
（Ａ）の反対側に形成された酸化物膜（Ｂ）は、酸化亜
鉛を主成分とする膜を少なくとも１層と、酸化錫を主成
分とする膜を少なくとも１層有する多層膜であることを
特徴とする熱線遮断膜。 - 【請求項２】前記酸化物膜（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分
とする膜と、酸化錫を主成分とする膜とが交互に積層さ
れた３層以上からなる多層膜を有することを特徴とする
請求項１記載の熱線遮断膜。 - 【請求項３】前記酸化物膜（Ｂ）は、酸化亜鉛を主成分
とする膜、酸化錫を主成分とする膜、酸化亜鉛を主成分
とする膜、と交互に積層された３層、５層、７層、ある
いは９層からなる多層膜を有することを特徴とする請求
項２記載の熱線遮断膜。 - 【請求項４】前記酸化物膜（Ｂ）は、酸化錫を主成分と
する膜、酸化亜鉛を主成分とする膜、酸化錫を主成分と
する膜、と交互に積層された３層、５層、７層、あるい
は９層からなる多層膜を有することを特徴とする請求項
２記載の熱線遮断膜。 - 【請求項５】酸化亜鉛の結晶系が六方晶であり、ＣｕＫ
α線を用いたＸ線回折法による六方晶酸化亜鉛の（００
２）回折線の回折角２θ( 重心位置) の値が33.88 ゜以
上35.00 ゜以下の膜であることを特徴とする請求項１記
載の熱線遮断膜。 - 【請求項６】前記金属膜（Ａ）はＡｇを主成分とする金
属膜であることを特徴とする請求項１記載の熱線遮断
膜。 - 【請求項７】前記酸化物膜（Ｂ）以外の酸化物膜のうち
少なくとも１層も、酸化亜鉛を主成分とする膜を少なく
とも１層と、酸化錫を主成分とする膜を少なくとも１層
有する多層膜であることを特徴とする請求項１記載の熱
線遮断膜。 - 【請求項８】前記酸化物膜（Ｂ）を構成する複数の層の
うち、基体から最も離れた層は、他の基体と積層するた
めに介在させるプラスチック中間膜との接着力調整層で
あることを特徴とする請求項１記載の熱線遮断膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3191064A JP3053669B2 (ja) | 1990-11-27 | 1991-07-05 | 熱線遮断膜 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32127390 | 1990-11-27 | ||
| JP2-321273 | 1990-11-27 | ||
| JP3191064A JP3053669B2 (ja) | 1990-11-27 | 1991-07-05 | 熱線遮断膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0542624A true JPH0542624A (ja) | 1993-02-23 |
| JP3053669B2 JP3053669B2 (ja) | 2000-06-19 |
Family
ID=26506471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3191064A Expired - Fee Related JP3053669B2 (ja) | 1990-11-27 | 1991-07-05 | 熱線遮断膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3053669B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6189650B1 (en) | 1997-02-14 | 2001-02-20 | Futaba Industrial Co., Ltd. | Muffler structure |
| US6316110B1 (en) | 1998-04-16 | 2001-11-13 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Electromagnetic wave filter for plasma display panel |
| KR100716427B1 (ko) * | 2003-01-21 | 2007-05-08 | 주식회사 만도 | 차고 조절용 쇽 업소버 |
-
1991
- 1991-07-05 JP JP3191064A patent/JP3053669B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6189650B1 (en) | 1997-02-14 | 2001-02-20 | Futaba Industrial Co., Ltd. | Muffler structure |
| US6316110B1 (en) | 1998-04-16 | 2001-11-13 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Electromagnetic wave filter for plasma display panel |
| KR100716427B1 (ko) * | 2003-01-21 | 2007-05-08 | 주식회사 만도 | 차고 조절용 쇽 업소버 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3053669B2 (ja) | 2000-06-19 |
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