JP2003300981A - Method for producing acidic group-containing heterocyclic compound trimer - Google Patents
Method for producing acidic group-containing heterocyclic compound trimerInfo
- Publication number
- JP2003300981A JP2003300981A JP2002104149A JP2002104149A JP2003300981A JP 2003300981 A JP2003300981 A JP 2003300981A JP 2002104149 A JP2002104149 A JP 2002104149A JP 2002104149 A JP2002104149 A JP 2002104149A JP 2003300981 A JP2003300981 A JP 2003300981A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- ion
- benzo
- carbon atoms
- thiophene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は酸性基を有する複素
環式化合物三量体（以下酸性基置換複素環式化合物三量
体ともいう）の製造方法に関するものである。該三量体
を主成分とする組成物は、各種帯電防止、制電、コンデ
ンサ、電池、ＥＭＩシールド、化学センサー、表示素
子、有機ＥＬ材料、非線形材料、防錆剤、接着剤、繊
維、帯電防止塗料、電着塗装、メッキプライマー、静電
塗装用導電性プライマー、電気防食等に適用可能であ
る。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a heterocyclic compound trimer having an acidic group (hereinafter also referred to as an acidic group-substituted heterocyclic compound trimer). The composition containing the trimer as a main component is used for various antistatics, antistatics, capacitors, batteries, EMI shields, chemical sensors, display elements, organic EL materials, non-linear materials, rust preventives, adhesives, fibers, electrostatic charges. It can be applied to anti-corrosion paints, electrodeposition coatings, plating primers, conductive primers for electrostatic coatings, cathodic protection, etc.
【０００２】[0002]
【従来の技術】これまでに、複素環式化合物の重合反応
例としては、インドールの重合反応が報告されている。
例えば、インドールの化学重合法として、特開平５−１
４８３２０号公報で酸化剤溶液中にインドール溶液を滴
下する方法が提案されている。この方法は、無置換のイ
ンドールを原料とする場合についてのみ提案されている
ものであり、置換基を持つインドール誘導体については
何ら記載されていない。また、生成物はインドールを繰
り返し単位とするポリマーであり、三量体の生成に関し
ては何ら記載されていない。2. Description of the Related Art An indole polymerization reaction has been reported as an example of a polymerization reaction of a heterocyclic compound.
For example, as a chemical polymerization method of indole, Japanese Patent Laid-Open No. 5-1
Japanese Patent Laid-Open No. 48320 proposes a method of dropping an indole solution into an oxidant solution. This method is proposed only in the case of using an unsubstituted indole as a raw material, and nothing is described about an indole derivative having a substituent. Further, the product is a polymer having indole as a repeating unit, and nothing is described about the formation of a trimer.
【０００３】一方、複素環式化合物の環状三量体の製造
方法としてはインドールを単量体に用いた反応が報告さ
れている。例えば、Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏａｎａｌ．Ｃｈ
ｅｍ.,４１４（１９９６）１９７頁に、無置換インドー
ル、４―ニトロインドール、５―ニトロインドールの電
解反応によるポリマーの合成が、また、Ｊ.Ｃｈｅｍ.Ｓ
ｏｃ.,Ｆａｒａｄａｙ Ｔｒａｎｓ.,９３（１９９７）
３７９１頁には、無置換インドール、５―シアノインド
ールの電解反応による三量体の合成についてそれぞれ報
告されている。これらの文献に記載されている方法で取
得した無置換インドールや置換インドールでは、酸化還
元テスト（サイクルテスト）を行うと、三量体の劣化が
進行し、結果としてサイクル特性が悪く、導電性デバイ
スへの適用が困難であった。さらに電解反応では三量体
を一度に大量合成することは困難で、工業的製法として
は適用し難いと言う問題点も有している。On the other hand, as a method for producing a cyclic trimer of a heterocyclic compound, a reaction using indole as a monomer has been reported. For example, J. Electroanal. Ch
em., 414 (1996) p. 197, synthesis of polymers by electrolytic reaction of unsubstituted indoles, 4-nitroindoles, 5-nitroindoles is also described in J. Chem.
oc., Faraday Trans., 93 (1997)
On page 3791, the synthesis of a trimer by electrolytic reaction of unsubstituted indole and 5-cyanoindole is reported, respectively. When the redox test (cycle test) is performed on the unsubstituted indole and the substituted indole obtained by the methods described in these documents, the deterioration of the trimer progresses, and as a result, the cycle characteristics deteriorate and the conductive device Was difficult to apply to. Further, in the electrolytic reaction, it is difficult to synthesize a large amount of trimer at one time, and it is difficult to apply it as an industrial production method.
【０００４】Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，１２（１９７
９）４７１頁、Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，２
９，（１９８１）３４９９頁に、ＴｉＣｌ３あるいはＦ
ｅＳＯ４とＨ２Ｏ２を用いた無置換インドール三量体の
合成が報告されている。しかしながら、報告論文中にも
記載されている通り、数種類の副生成物が混在している
こと、及び目的とする三量体の収率が低いなどの課題点
が多かった。Heterocycles, 12 (197)
9) 471, Chem. Pharm. Bull. , 2
9, (1981) 3499, TiCl 3 or F.
The synthesis of unsubstituted indole trimer using eSO 4 and H 2 O 2 has been reported. However, as described in the report paper, there were many problems such as mixing of several kinds of by-products and low yield of the target trimer.
【０００５】同様に、J．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９
８，６３，７００２頁には、５−アセチルインドール、
５−メトキシインドールを酸性条件下、過硫酸アンモニ
ウムを用いて反応させてインドール三量体を合成する方
法について報告されている。しかしながら、得られるイ
ンドール三量体は低収率であり、しかも、不純物として
対称型インドール三量体（インドール単量体が全て同方
向に結合してできた三量体化合物）などの副生物が存在
するなどの課題を残している。また、酸性基置換のイン
ドール三量体の報告はない。Similarly, J. Org. Chem. 199
On pages 8, 63, 7002, 5-acetylindole,
A method for synthesizing an indole trimer by reacting 5-methoxyindole with ammonium persulfate under acidic conditions has been reported. However, the obtained indole trimer has a low yield, and in addition, by-products such as a symmetric indole trimer (a trimer compound formed by all indole monomers bound in the same direction) as impurities. There are issues such as existing. In addition, there is no report of an acid group-substituted indole trimer.
【０００６】また、Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｍｅｔａｌ
ｓ，８０（１９９６）３０９頁でも，電解反応による無
置換インドール三量体の合成が報告されており、その物
性は、層間隔：０．６５８ｎｍ、導電率：０．０３Ｓ／
ｃｍと報告されている。[0006] In addition, Synthetic Metal
s, 80 (1996) p. 309 also reported the synthesis of an unsubstituted indole trimer by electrolytic reaction. Its physical properties are: layer spacing: 0.658 nm, conductivity: 0.03 S /
It is reported as cm.
【０００７】一方、Ｔｅｔｒａｈｅｄｏｒｏｎ，３６
（１９８０）１４５１頁には３−アセトキシベンゾ
〔ｂ〕チオフェンからベンゾ〔ｂ〕チオフェンの三量体
の合成について報告されている。この化合物も単量体が
全て同方向に結合した三量体化合物であり、非対称型の
化合物についての報告はない。On the other hand, Tetrahedoron, 36
(1980) p. 1451 reports the synthesis of a benzo [b] thiophene trimer from 3-acetoxybenzo [b] thiophene. This compound is also a trimer compound in which all monomers are bound in the same direction, and there is no report on an asymmetric compound.
【０００８】このように、従来技術で得られる無置換イ
ンドール三量体や置換インドール三量体ではサイクル特
性、工業的製造への適用が不充分であり、高酸化還元電
位、高酸化還元容量、高サイクル特性を有するインドー
ル誘導体三量体等の複素環式化合物三量体の工業的な製
造法の開発が当該分野では重要な課題となっていた。As described above, the unsubstituted indole trimer and the substituted indole trimer obtained by the prior art have insufficient cycle characteristics and industrial application, and thus have high redox potential, high redox capacity, Development of an industrial production method of a heterocyclic compound trimer such as an indole derivative trimer having a high cycle property has been an important issue in this field.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとしている課題】本発明の目的は、
高導電性を有し、高い酸化還元電位、高い酸化還元容
量、サイクル特性が良好なインドール誘導体三量体等の
複素環式化合物三量体を高収率、高純度で大量生産する
ことができる工業的な製造方法を提供することにある。The object of the present invention is to:
Heterocyclic compound trimers such as indole derivative trimers having high conductivity, high redox potential, high redox capacity, and good cycle characteristics can be mass-produced in high yield and high purity. It is to provide an industrial manufacturing method.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、高導電性
を有し、高い酸化還元電位、高い酸化還元容量、サイク
ル特性が良好なインドール誘導体三量体等の複素環式化
合物三量体の製法を鋭意検討した結果、単量体として酸
性基置換複素環式化合物を、塩基性化合物を含む溶液中
で、酸化剤を用いて合成すると特段に反応性が向上し、
高選択性、高収率で反応が進行することを見い出した。
しかも、得られた酸性基置換複素環式化合物三量体は、
高導電性、高酸化還元電位、高酸化還元容量、高サイク
ル特性を示すと共に水溶液にも良く溶解し、更に有機溶
剤にも優れた溶解性を示した。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have found that trimeric heterocyclic compounds such as indole derivative trimers having high conductivity, high redox potential, high redox capacity, and good cycle characteristics. As a result of diligently studying the production method of the body, when an acidic group-substituted heterocyclic compound as a monomer is synthesized in a solution containing a basic compound using an oxidizing agent, the reactivity is particularly improved,
It was found that the reaction proceeds with high selectivity and high yield.
Moreover, the obtained acidic group-substituted heterocyclic compound trimer is
It showed high conductivity, high redox potential, high redox capacity, high cycle characteristics, good solubility in aqueous solution, and excellent solubility in organic solvent.
【００１１】すなわち、本発明の第１は、下記一般式
（１）That is, the first aspect of the present invention is the following general formula (1):
【化６】
（上記式中、Ｒ１〜Ｒ４は、水素、炭素数１〜２４の直
鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜２４の直鎖また
は分岐のアルコキシ基、炭素数２〜２４の直鎖または分
岐のアシル基、アルデヒド基、カルボキシル基、炭素数
２〜２４の直鎖または分岐のカルボン酸エステル基、ス
ルホン酸基、炭素数１〜２４の直鎖または分岐のスルホ
ン酸エステル基、シアノ基、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、アミド基、ジシアノビニル基、アルキル（炭素数１
〜８の直鎖または分岐のアルキル基）オキシカルボニル
シアノビニル基、ニトロフェニルシアノビニル基及びハ
ロゲン基よりなる群からそれぞれ独立に選ばれた置換基
を示し、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも１つがスルホン酸
基またはカルボキシル基である。また、Ｈｔは、ＮＲ
２８、Ｓ、Ｏ、Ｓｅ及びＴｅよりなる群から選ばれたヘ
テロ原子基、Ｒ２８は水素及び炭素数１〜２４の直鎖ま
たは分岐のアルキル基よりなる群から選ばれた置換基で
ある。）で示される酸性基置換複素環式化合物、そのア
ルカリ金属塩、アンモニウム塩および置換アンモニウム
塩のうち少なくとも１種の化合物（イ）を、塩基性化合
物（ロ）を含む溶液中で、少なくとも一種の酸化剤
（ハ）によって反応することを特徴とする下記一般式
（２）[Chemical 6]
(In the above formula, R1~ RFourIs hydrogen, a straight chain having 1 to 24 carbon atoms
Chain or branched alkyl group, straight chain having 1 to 24 carbon atoms,
Is a branched alkoxy group, a straight or branched chain having 2 to 24 carbon atoms
Various acyl groups, aldehyde groups, carboxyl groups, carbon numbers
2 to 24 linear or branched carboxylic acid ester groups,
Rufonic acid group, straight-chain or branched sulfo having 1 to 24 carbon atoms
Acid ester group, cyano group, hydroxyl group, nitro group, amino
Group, amide group, dicyanovinyl group, alkyl (carbon number 1
~ 8 linear or branched alkyl group) oxycarbonyl
Cyanovinyl group, nitrophenyl cyanovinyl group and Ha
Substituents independently selected from the group consisting of rogen groups
Indicates R1~ RFourAt least one of them is sulfonic acid
It is a group or a carboxyl group. Ht is NR
28, S, O, Se and Te selected from the group consisting of
Terror atom group, R28Is hydrogen and a straight chain having 1 to 24 carbon atoms.
Or a substituent selected from the group consisting of branched alkyl groups.
is there. ) An acidic group-substituted heterocyclic compound represented by
Lucari metal salt, ammonium salt and substituted ammonium
At least one compound (a) among the salts is combined with a basic compound.
At least one oxidizing agent in a solution containing
The following general formula characterized by reacting according to (C)
(2)
【化７】
（上記式中、Ｒ１〜Ｒ４及びＨｔは、前記一般式（１）
と同様であり、またＸa-は、塩素イオン、臭素イオン、
ヨウ素イオン、フッ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオ
ン、硫酸水素イオン、リン酸イオン、ほうフッ化イオ
ン、過塩素酸イオン、チオシアン酸イオン、酢酸イオ
ン、プロピオン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、ｐ
−トルエンスルホン酸イオン、トリフルオロ酢酸イオ
ン、及びトリフルオロメタンスルホン酸イオンよりなる
１〜３価の陰イオン群より選ばれた少なくとも一種の陰
イオンであり、ａはＸのイオン価数を表し、１〜３の整
数であり、ｍはドープ率であり、その値は０〜３．０で
ある。）で示される複素環式化合物三量体の製造方法に
関する。[Chemical 7] (In the above formula, R 1 to R 4 and Ht are the same as those in the general formula (1).
And similar, also X a- is chloride, bromide,
Iodine ion, Fluorine ion, Nitrate ion, Sulfate ion, Hydrogen sulfate ion, Phosphate ion, Borofluoride ion, Perchlorate ion, Thiocyanate ion, Acetate ion, Propionate ion, Methanesulfonate ion, p
-At least one anion selected from a group of 1 to 3 valent anions consisting of a toluene sulfonate ion, a trifluoroacetate ion, and a trifluoromethane sulfonate ion, and a represents an ionic valence of X, 1 Is an integer of ˜3, m is a doping rate, and its value is 0 to 3.0. ) Is a heterocyclic compound trimer.
【００１２】本発明の第２は、下記一般式（１）The second aspect of the present invention is the following general formula (1):
【化８】
（上記式中、Ｒ１〜Ｒ４は、水素、炭素数１〜２４の直
鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜２４の直鎖また
は分岐のアルコキシ基、炭素数２〜２４の直鎖または分
岐のアシル基、アルデヒド基、カルボキシル基、炭素数
２〜２４の直鎖または分岐のカルボン酸エステル基、ス
ルホン酸基、炭素数１〜２４の直鎖または分岐のスルホ
ン酸エステル基、シアノ基、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、アミド基、ジシアノビニル基、アルキル（炭素数１
〜８の直鎖または分岐のアルキル基）オキシカルボニル
シアノビニル基、ニトロフェニルシアノビニル基及びハ
ロゲン基よりなる群からそれぞれ独立に選ばれた置換基
を示し、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも１つがスルホン酸
基またはカルボキシル基である。Ｈｔは、ＮＲ２８、
Ｓ、Ｏ、Ｓｅ及びＴｅよりなる群から選ばれたヘテロ原
子基、Ｒ２８は水素及び炭素数１〜２４の直鎖または分
岐のアルキル基よりなる群から選ばれた置換基であ
る。）で示される酸性基置換複素環式化合物、そのアル
カリ金属塩、アンモニウム塩および置換アンモニウム塩
のうち少なくとも１種の化合物（イ）、及び下記一般式
（３）[Chemical 8] (In the above formula, R 1 to R 4 are hydrogen, a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, a straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, and a straight-chain having 2 to 24 carbon atoms. Or branched acyl group, aldehyde group, carboxyl group, linear or branched carboxylic acid ester group having 2 to 24 carbon atoms, sulfonic acid group, linear or branched sulfonic acid ester group having 1 to 24 carbon atoms, cyano group , Hydroxyl group, nitro group, amino group, amide group, dicyanovinyl group, alkyl (carbon number 1
~ 8 linear or branched alkyl group) oxycarbonyl cyano vinyl group, a nitrophenyl cyano vinyl group, and a substituent independently selected from the group consisting of halogen groups, at least one of R 1 to R 4 It is a sulfonic acid group or a carboxyl group. Ht is NR 28 ,
A heteroatom group selected from the group consisting of S, O, Se and Te, R 28 is a substituent selected from the group consisting of hydrogen and a linear or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. ) At least one compound (a) selected from the group consisting of an acidic group-substituted heterocyclic compound, an alkali metal salt, an ammonium salt and a substituted ammonium salt thereof, and the following general formula (3):
【化９】
（上記式中、Ｒ５〜Ｒ８は、水素、炭素数１〜２４の直
鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜２４の直鎖また
は分岐のアルコキシ基、炭素数２〜２４の直鎖または分
岐のアシル基、アルデヒド基、炭素数２〜２４の直鎖ま
たは分岐のカルボン酸エステル基、炭素数１〜２４の直
鎖または分岐のスルホン酸エステル基、シアノ基、水酸
基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、ジシアノビニル
基、アルキル（炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキ
ル基）オキシカルボニルシアノビニル基、ニトロフェニ
ルシアノビニル基及びハロゲン基よりなる群からそれぞ
れ独立に選ばれた置換基である。また、Ｈｔは、ＮＲ
２８、Ｓ、Ｏ、Ｓｅ及びＴｅよりなる群から選ばれたヘ
テロ原子基、Ｒ２８は水素及び炭素数１〜２４の直鎖ま
たは分岐のアルキル基よりなる群から選ばれた置換基で
ある。）で示される少なくとも一種の複素環式化合物
（ニ）を、塩基性化合物（ロ）を含む溶液中で、少なく
とも一種の酸化剤（ハ）によって反応することを特徴と
する下記一般式（４）[Chemical 9] (In the above formula, R 5 to R 8 are hydrogen, a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, a straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, and a straight-chain having 2 to 24 carbon atoms. Or a branched acyl group, an aldehyde group, a linear or branched carboxylic acid ester group having 2 to 24 carbon atoms, a linear or branched sulfonic acid ester group having 1 to 24 carbon atoms, a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, amino A group, an amide group, a dicyanovinyl group, an alkyl (a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms) oxycarbonylcyanovinyl group, a nitrophenylcyanovinyl group, and a halogen group, each independently selected substituent Ht is NR
Heteroatom group selected from the group consisting of 28 , S, O, Se and Te, and R 28 is a substituent selected from the group consisting of hydrogen and a linear or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. ), At least one heterocyclic compound (d) represented by the formula (4) is reacted with at least one oxidizing agent (c) in a solution containing the basic compound (b).
【化１０】
（上記式中、Ｒ９〜Ｒ１２、Ｒ１３〜Ｒ１６及びＲ１７
〜Ｒ２０の３群の置換基は各々一般式（１）中のＲ１〜
Ｒ４あるいは一般式（３）中のＲ５〜Ｒ８に対応する置
換基であり、しかもＲ９〜Ｒ１２、Ｒ１３〜Ｒ１６、Ｒ
１７〜Ｒ２０の３群のうち一つまたは二つは一般式
（１）中のＲ１〜Ｒ４に対応する置換基である。Ｈｔ
は、前記一般式（１）及び一般式（３）と同様であり、
またＸa-は、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、
フッ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオ
ン、リン酸イオン、ほうフッ化イオン、過塩素酸イオ
ン、チオシアン酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イ
オン、メタンスルホン酸イオン、ｐ−トルエンスルホン
酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、及びトリフルオロ
メタンスルホン酸イオンよりなる１〜３価の陰イオン群
より選ばれた少なくとも一種の陰イオンであり、ａはＸ
のイオン価数を表し、１〜３の整数であり、ｍはドープ
率であり、その値は０〜３．０である。）で示される複
素環式化合物三量体の製造方法に関する。[Chemical 10] (In the above formula, R 9 to R 12 , R 13 to R 16, and R 17
To R 20 are each a substituent of R 1 to R 1 in the general formula (1).
R 4 or a substituent corresponding to R 5 to R 8 in the general formula (3), and further R 9 to R 12 , R 13 to R 16 , R.
One or two of the three groups of 17 to R 20 are substituents corresponding to R 1 to R 4 in the general formula (1). Ht
Is the same as the general formula (1) and the general formula (3),
The X a- is, chlorine ion, bromine ion, iodine ion,
Fluorine ion, nitrate ion, sulfate ion, hydrogen sulfate ion, phosphate ion, borofluoride ion, perchlorate ion, thiocyanate ion, acetate ion, propionate ion, methanesulfonate ion, p-toluenesulfonate ion, At least one anion selected from a group of 1 to 3 valent anions consisting of a trifluoroacetate ion and a trifluoromethanesulfonate ion, and a is X
Is an integer of 1 to 3, m is a doping rate, and its value is 0 to 3.0. ) Is a heterocyclic compound trimer.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の 酸性基を有する
複素環式化合物三量体の製造方法について詳細に説明す
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a method for producing the heterocyclic compound trimer having an acidic group according to the present invention will be described in detail.
【００１４】本発明で用いられる一般式（１）で示され
る酸性基置換複素環式化合物、そのアルカリ金属塩、ア
ンモニウム塩および置換アンモニウム塩のうち少なくと
も１種の化合物（イ）の最も代表的な酸性基置換インド
ール類の具体例としては、インドール―４―カルボン
酸、インドール―５―カルボン酸、インドール―６―カ
ルボン酸、インドール―７―カルボン酸などのカルボキ
シル基置換インドール類、インドール―４―スルホン
酸、インドール―５―スルホン酸、インドール―６―ス
ルホン酸、インドール―７―スルホン酸などのスルホン
酸基置換インドール類等が挙げることができる。酸性基
置換ベンゾ〔ｂ〕チオフェン類の具体例としては、ベン
ゾ〔ｂ〕チオフェン−４―カルボン酸、ベンゾ〔ｂ〕チ
オフェン−５―カルボン酸、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−
６―カルボン酸、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−７―カルボ
ン酸などのカルボキシル基置換ベンゾ〔ｂ〕チオフェン
類、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−４―スルホン酸、ベンゾ
〔ｂ〕チオフェン−５―スルホン酸、ベンゾ〔ｂ〕チオ
フェン−６―スルホン酸、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−７
―スルホン酸などのスルホン酸基置換ベンゾ〔ｂ〕チオ
フェン類などが挙げることができる。酸性基置換ベンゾ
〔ｂ〕フラン類の具体例としては、ベンゾ〔ｂ〕フラン
−４―カルボン酸、ベンゾ〔ｂ〕フラン−５―カルボン
酸、ベンゾ〔ｂ〕フラン−６―カルボン酸、ベンゾ
〔ｂ〕フラン−７―カルボン酸などのカルボキシル基置
換ベンゾ〔ｂ〕フラン類、ベンゾ〔ｂ〕フラン−４―ス
ルホン酸、ベンゾ〔ｂ〕フラン−５―スルホン酸、ベン
ゾ〔ｂ〕フラン−６―スルホン酸、ベンゾ〔ｂ〕フラン
−７―スルホン酸などのスルホン酸基置換ベンゾ〔ｂ〕
フラン類などが挙げることができる。酸性基置換ベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン類の具体例としては、ベンゾ〔ｂ〕
テルロフェン−４―カルボン酸、ベンゾ〔ｂ〕テルロフ
ェン−５―カルボン酸、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−６
―カルボン酸、ベンゾ〔ｂ〕−テルロフェン７―カルボ
ン酸などのカルボキシル基置換ベンゾ〔ｂ〕テルロフェ
ン類、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−４―スルホン酸、ベ
ンゾ〔ｂ〕テルロフェン−５―スルホン酸、ベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン−６―スルホン酸、ベンゾ〔ｂ〕テ
ルロフェン−７―スルホン酸などのスルホン酸基置換ベ
ンゾ〔ｂ〕テルロフェン類などが挙げることができる。
酸性基置換ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン類の具体例として
は、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−４―カルボン酸、ベン
ゾ〔ｂ〕セレノフェン−５―カルボン酸、ベンゾ〔ｂ〕
セレノフェン−６―カルボン酸、ベンゾ〔ｂ〕−セレノ
フェン−７―カルボン酸などのカルボキシル基置換ベン
ゾ〔ｂ〕セレノフェン類、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−
４―スルホン酸、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−５―スル
ホン酸、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−６―スルホン酸、
ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−７―スルホン酸などのスル
ホン酸基置換ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン類などが挙げる
ことができる。このなかで、酸性基置換インドール類、
酸性基置換ベンゾ〔ｂ〕チオフェン類、酸性基置換ベン
ゾ〔ｂ〕フラン類が実用上好ましく用いられ、酸性基置
換インドール類が特に好ましく用いることができる。The most representative compound (a) of at least one of the acidic group-substituted heterocyclic compound represented by the general formula (1), its alkali metal salt, ammonium salt and substituted ammonium salt used in the present invention. Specific examples of the acid group-substituted indoles include indole-4-carboxylic acid, indole-5-carboxylic acid, indole-6-carboxylic acid, indole-7-carboxylic acid, and other carboxyl group-substituted indoles, indole-4- Examples thereof include sulfonic acid group-substituted indoles such as sulfonic acid, indole-5-sulfonic acid, indole-6-sulfonic acid and indole-7-sulfonic acid. Specific examples of the acidic group-substituted benzo [b] thiophenes include benzo [b] thiophene-4-carboxylic acid, benzo [b] thiophene-5-carboxylic acid, benzo [b] thiophene-
Carboxyl group-substituted benzo [b] thiophenes such as 6-carboxylic acid, benzo [b] thiophene-7-carboxylic acid, benzo [b] thiophene-4-sulfonic acid, benzo [b] thiophene-5-sulfonic acid, benzo [B] Thiophene-6-sulfonic acid, benzo [b] thiophene-7
Examples thereof include benzo [b] thiophenes substituted with a sulfonic acid group such as sulfonic acid. Specific examples of the acidic group-substituted benzo [b] furans include benzo [b] furan-4-carboxylic acid, benzo [b] furan-5-carboxylic acid, benzo [b] furan-6-carboxylic acid and benzo [ b] benzo [b] furans substituted with a carboxyl group such as furan-7-carboxylic acid, benzo [b] furan-4-sulfonic acid, benzo [b] furan-5-sulfonic acid, benzo [b] furan-6- Sulfonic acid, benzo [b] furan-7-sulfonic acid and other sulfonic acid group-substituted benzo [b]
Furans and the like can be mentioned. Specific examples of the acidic group-substituted benzo [b] tellurophenes include benzo [b]
Tellurophen-4-carboxylic acid, benzo [b] tellurophene-5-carboxylic acid, benzo [b] tellurophene-6
-Carboxylic acid, benzo [b] -tellurophene 7-carboxylic acid and other carboxyl group-substituted benzo [b] tellurophenes, benzo [b] tellurophene-4-sulfonic acid, benzo [b] tellurophene-5-sulfonic acid, benzo [ Examples thereof include sulfonic acid group-substituted benzo [b] tellurophenes such as b] tellurophene-6-sulfonic acid and benzo [b] tellurophene-7-sulfonic acid.
Specific examples of the acidic group-substituted benzo [b] selenophenes include benzo [b] selenophene-4-carboxylic acid, benzo [b] selenophene-5-carboxylic acid, and benzo [b].
Carboxyl group-substituted benzo [b] selenophenes such as selenophene-6-carboxylic acid, benzo [b] -selenophene-7-carboxylic acid, benzo [b] selenophene-
4-sulfonic acid, benzo [b] selenophene-5-sulfonic acid, benzo [b] selenophene-6-sulfonic acid,
Examples thereof include sulfonic acid group-substituted benzo [b] selenophenes such as benzo [b] selenophene-7-sulfonic acid. Among these, acidic group-substituted indoles,
The acidic group-substituted benzo [b] thiophenes and the acidic group-substituted benzo [b] furans are practically preferably used, and the acidic group-substituted indoles are particularly preferably used.
【００１５】本発明で用いられる一般式（３）で示され
る複素環式化合物（ニ）の最も代表的なインドール類の
具体例としては、４―メチルインドール、５―メチルイ
ンドール、６―メチルインドール、７―メチルインドー
ル、４―エチルインドール、５―エチルインドール、６
―エチルインドール、７―エチルインドール、４―ｎ−
プロピルインドール、５―ｎ−プロピルインドール、６
―ｎ−プロピルインドール、７―ｎ−プロピルインドー
ル、４―ｉｓｏ−プロピルインドール、５―ｉｓｏ−プ
ロピルインドール、６―ｉｓｏ−プロピルインドール、
７―ｉｓｏ−プロピルインドール、４―ｎ−ブチルイン
ドール、５―ｎ−ブチルインドール、６―ｎ−ブチルイ
ンドール、７―ｎ−ブチルインドール、４―ｓｅｃ−ブ
チルインドール、５―ｓｅｃ−ブチルインドール、６―
ｓｅｃ−ブチルインドール、７―ｓｅｃ−ブチルインド
ール、４―ｔ−ブチルインドール、５―ｔ−ブチルイン
ドール、６―ｔ−ブチルインドール、７―ｔ−ブチルイ
ンドールなどのアルキル基置換インドール類、４―メト
キシインドール、５―メトキシインドール、６―メトキ
シインドール、７―メトキシインドール、４―エトキシ
インドール、５―エトキシインドール、６―エトキシイ
ンドール、７―エトキシインドール、４―ｎ−プロポキ
シインドール、５―ｎ−プロポキシインドール、６―ｎ
−プロポキシインドール、７―ｎ−プロポキシインドー
ル、４―ｉｓｏ−プロポキシインドール、５―ｉｓｏ−
プロポキシインドール、６―ｉｓｏ−プロポキシインド
ール、７―ｉｓｏ−プロポキシインドール、４―ｎ−ブ
トキシインドール、５―ｎ−ブトキシインドール、６―
ｎ−ブトキシインドール、７―ｎ−ブトキシインドー
ル、４―ｓｅｃ−ブトキシインドール、５―ｓｅｃ−ブ
トキシインドール、６―ｓｅｃ−ブトキシインドール、
７―ｓｅｃ−ブトキシインドール、４―ｔ−ブトキシイ
ンドール、５―ｔ−ブトキシインドール、６―ｔ−ブト
キシインドール、７―ｔ−ブトキシインドールなどのア
ルコキシ基置換インドール類、４―アセチルインドー
ル、５―アセチルインドール、６―アセチルインドー
ル、７―アセチルインドールなどのアシル基置換インド
ール類、インドール―４―カルバルデヒド、インドール
―５―カルバルデヒド、インドール―６―カルバルデヒ
ド、インドール―７―カルバルデヒドなどのアルデヒド
基置換インドール類、インドール―４―カルボン酸メチ
ル、インドール―５―カルボン酸メチル、インドール―
６―カルボン酸メチル、インドール―７―カルボン酸メ
チルなどのカルボン酸エステル基置換インドール類、イ
ンドール―４―スルホン酸メチル、インドール―５―ス
ルホン酸メチル、インドール―６―スルホン酸メチル、
インドール―７―スルホン酸メチルなどのスルホン酸エ
ステル基置換インドール類、インドール―４―カルボニ
トリル、インドール―５―カルボニトリル、インドール
―６―カルボニトリル、インドール―７―カルボニトリ
ルなどのシアノ基置換インドール類、４―ヒドロキシイ
ンドール、５―ヒドロキシインドール、６―ヒドロキシ
インドール、７―ヒドロキシインドールなどのヒドロキ
シ基置換インドール類、４―ニトロインドール、５―ニ
トロインドール、６―ニトロインドール、７―ニトロイ
ンドールなどのニトロ基置換インドール類、４―アミノ
インドール、５―アミノインドール、６―アミノインド
ール、７―アミノインドールなどのアミノ基置換インド
ール類、４―カルバモイルインドール、５―カルバモイ
ルインドール、６―カルバモイルインドール、７―カル
バモイルインドールなどのアミド基置換インドール類、
４―フルオロインドール、５―フルオロインドール、６
―フルオロインドール、７―フルオロインドール、４―
クロロインドール、５―クロロインドール、６―クロロ
インドール、７―クロロインドール、４―ブロモインド
ール、５―ブロモインドール、６―ブロモインドール、
７―ブロモインドール、４―ヨードインドール、５―ヨ
ードインドール、６―ヨードインドール、７―ヨードイ
ンドールなどのハロゲン基置換インドール類、４―ジシ
アノビニルインドール、５―ジシアノビニルインドー
ル、６―ジシアノビニルインドール、７―ジシアノビニ
ルインドールなどのジシアノビニル基置換インドール
類、Ｎ―メチルインドール、Ｎ―エチルインドール、Ｎ
―ｎ−プロピルインドール、Ｎ―ｉｓｏ−プロピルイン
ドール、Ｎ―ｎ−ブチルインドール、Ｎ―ｓｅｃ−ブチ
ルインドール、Ｎ―ｔ−ブチルインドールなどのＮ−ア
ルキル基置換インドール類、などを挙げることができ
る。Specific examples of the most representative indoles of the heterocyclic compound (d) represented by the general formula (3) used in the present invention include 4-methylindole, 5-methylindole and 6-methylindole. , 7-methylindole, 4-ethylindole, 5-ethylindole, 6
-Ethylindole, 7-ethylindole, 4-n-
Propylindole, 5-n-propylindole, 6
-N-propyl indole, 7-n-propyl indole, 4-iso-propyl indole, 5-iso-propyl indole, 6-iso-propyl indole,
7-iso-propyl indole, 4-n-butyl indole, 5-n-butyl indole, 6-n-butyl indole, 7-n-butyl indole, 4-sec-butyl indole, 5-sec-butyl indole, 6 -
Alkyl group-substituted indoles such as sec-butyl indole, 7-sec-butyl indole, 4-t-butyl indole, 5-t-butyl indole, 6-t-butyl indole, 7-t-butyl indole, 4-methoxy Indole, 5-methoxyindole, 6-methoxyindole, 7-methoxyindole, 4-ethoxyindole, 5-ethoxyindole, 6-ethoxyindole, 7-ethoxyindole, 4-n-propoxyindole, 5-n-propoxyindole , 6-n
-Propoxyindole, 7-n-propoxyindole, 4-iso-propoxyindole, 5-iso-
Propoxyindole, 6-iso-propoxyindole, 7-iso-propoxyindole, 4-n-butoxyindole, 5-n-butoxyindole, 6-
n-butoxyindole, 7-n-butoxyindole, 4-sec-butoxyindole, 5-sec-butoxyindole, 6-sec-butoxyindole,
Alkoxy group-substituted indoles such as 7-sec-butoxyindole, 4-t-butoxyindole, 5-t-butoxyindole, 6-t-butoxyindole, 7-t-butoxyindole, 4-acetylindole, 5-acetyl Acyl group-substituted indoles such as indole, 6-acetylindole and 7-acetylindole, aldehyde groups such as indole-4-carbaldehyde, indole-5-carbaldehyde, indole-6-carbaldehyde, indole-7-carbaldehyde Substituted indoles, indole-4-carboxylate, indole-5-carboxylate, indole
Carboxylic ester group-substituted indoles such as methyl 6-carboxylate and indole-7-methyl carboxylate, methyl indole-4-sulfonate, methyl indole-5-sulfonate, methyl indole-6-sulfonate,
Sulfonate-substituted indoles such as indole-7-methylsulfonate, indole-4-carbonitrile, indole-5-carbonitrile, indole-6-carbonitrile, indole-7-carbonitrile and other cyano group-substituted indoles Hydroxy group-substituted indoles such as 4-hydroxyindole, 5-hydroxyindole, 6-hydroxyindole, 7-hydroxyindole and the like, 4-nitroindole, 5-nitroindole, 6-nitroindole, 7-nitroindole and the like Amino group-substituted indoles such as nitro group-substituted indoles, 4-aminoindole, 5-aminoindole, 6-aminoindole, 7-aminoindole, 4-carbamoylindole, 5-carbamoylindole, 6 Amide group-substituted indoles, such as carbamoyl indole, 7-carbamoyl indole,
4-fluoroindole, 5-fluoroindole, 6
-Fluoroindole, 7-Fluoroindole, 4-
Chloroindole, 5-chloroindole, 6-chloroindole, 7-chloroindole, 4-bromoindole, 5-bromoindole, 6-bromoindole,
Halogen group-substituted indoles such as 7-bromoindole, 4-iodoindole, 5-iodoindole, 6-iodoindole, 7-iodoindole, 4-dicyanovinylindole, 5-dicyanovinylindole, 6-dicyanovinylindole, Dicyanovinyl group-substituted indoles such as 7-dicyanovinylindole, N-methylindole, N-ethylindole, N
-N-propyl indole, N-iso-propyl indole, N-n-butyl indole, N-sec-butyl indole, Nt-butyl indole, and other N-alkyl group-substituted indoles can be mentioned.
【００１６】ベンゾ〔ｂ〕フラン類の具体例としては、
４―メチルベンゾ〔ｂ〕フラン、５―メチルベンゾ
〔ｂ〕フラン、６―メチルベンゾ〔ｂ〕フラン、７―メ
チルベンゾ〔ｂ〕フラン、４―エチルベンゾ〔ｂ〕フラ
ン、５―エチルベンゾ〔ｂ〕フラン、６―エチルベンゾ
〔ｂ〕フラン、７―エチルベンゾ〔ｂ〕フラン、４―ｎ
−プロピルベンゾ〔ｂ〕フラン、５―ｎ−プロピルベン
ゾ〔ｂ〕フラン、６―ｎ−プロピルベンゾ〔ｂ〕フラ
ン、７―ｎ−プロピルベンゾ〔ｂ〕フラン、４―ｉｓｏ
−プロピルベンゾ〔ｂ〕フラン、５―ｉｓｏ−プロピル
ベンゾ〔ｂ〕フラン、６―ｉｓｏ−プロピルベンゾ
［ｂ］フラン、７―ｉｓｏ−プロピルベンゾ〔ｂ〕フラ
ン、４―ｎ−ブチルベンゾ〔ｂ〕フラン、５―ｎ−ブチ
ルベンゾ〔ｂ〕フラン、６―ｎ−ブチルベンゾ〔ｂ〕フ
ラン、７―ｎ−ブチルベンゾ〔ｂ〕フラン、４―ｓｅｃ
−ブチルベンゾ〔ｂ〕フラン、５―ｓｅｃ−ブチルベン
ゾ〔ｂ〕フラン、６―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕フラ
ン、７―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕フラン、４―ｔ−
ブチルベンゾ〔ｂ〕フラン、５―ｔ−ブチルベンゾ
〔ｂ〕フラン、６―ｔ−ブチルベンゾ〔ｂ〕フラン、７
―ｔ−ブチルベンゾ〔ｂ〕フランなどのアルキル基置換
ベンゾ〔ｂ〕フラン類、４―メトキシベンゾ〔ｂ〕フラ
ン、５―メトキシベンゾ〔ｂ〕フラン、６―メトキシベ
ンゾ〔ｂ〕フラン、７―メトキシベンゾ〔ｂ〕フラン、
４―エトキシベンゾ〔ｂ〕フラン、５―エトキシベンゾ
〔ｂ〕フラン、６―エトキシベンゾ〔ｂ〕フラン、７―
エトキシベンゾ〔ｂ〕フラン、４―ｎ−プロポキシベン
ゾ〔ｂ〕フラン、５―ｎ−プロポキシベンゾ〔ｂ〕フラ
ン、６―ｎ−プロポキシベンゾ〔ｂ〕フラン、７―ｎ−
プロポキシベンゾ〔ｂ〕フラン、４―ｉｓｏ−プロポキ
シベンゾ〔ｂ〕フラン、５―ｉｓｏ−プロポキシベンゾ
〔ｂ〕フラン、６―ｉｓｏ−プロポキシベンゾ〔ｂ〕フ
ラン、７―ｉｓｏ−プロポキシベンゾ〔ｂ〕フラン、４
―ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕フラン、５―ｎ−ブトキシ
ベンゾ〔ｂ〕フラン、６―ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕フ
ラン、７―ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕フラン、４―ｓｅ
ｃ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕フラン、５―ｓｅｃ−ブトキ
シベンゾ〔ｂ〕フラン、６―ｓｅｃ−ブトキシベンゾ
〔ｂ〕フラン、７―ｓｅｃ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕フラ
ン、４―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕フラン、５―ｔ−ブ
トキシベンゾ〔ｂ〕フラン、６―ｔ−ブトキシベンゾ
〔ｂ〕フラン、７―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕フランな
どのアルコキシ基置換ベンゾ〔ｂ〕フラン類、４―アセ
チルベンゾ〔ｂ〕フラン、５―アセチルベンゾ〔ｂ〕フ
ラン、６―アセチルベンゾ〔ｂ〕フラン、７―アセチル
ベンゾ〔ｂ〕フランなどのアシル基置換ベンゾ〔ｂ〕フ
ラン類、ベンゾ〔ｂ〕フラン−４―カルバルデヒド、ベ
ンゾ〔ｂ〕フラン−５―カルバルデヒド、ベンゾ〔ｂ〕
フラン−６―カルバルデヒド、ベンゾ〔ｂ〕フラン−７
―カルバルデヒドなどのアルデヒド基置換ベンゾ〔ｂ〕
フラン類、ベンゾ〔ｂ〕フラン−４―カルボン酸メチ
ル、ベンゾ〔ｂ〕フラン−５―カルボン酸メチル、ベン
ゾ〔ｂ〕フラン−６―カルボン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕
フラン−７―カルボン酸メチルなどのカルボン酸エステ
ル基置換ベンゾ〔ｂ〕フラン類、ベンゾ〔ｂ〕フラン−
４―スルホン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕フラン−５―スル
ホン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕フラン−６―スルホン酸メ
チル、ベンゾ〔ｂ〕フラン−７―スルホン酸メチルなど
のスルホン酸エステル基置換ベンゾ〔ｂ〕フラン類、ベ
ンゾ〔ｂ〕フラン−４―カルボニトリル、ベンゾ〔ｂ〕
フラン−５―カルボニトリル、ベンゾ〔ｂ〕フラン−６
―カルボニトリル、ベンゾ〔ｂ〕フラン−７―カルボニ
トリルなどのシアノ基置換ベンゾ〔ｂ〕フラン類、４―
ヒドロキシベンゾ〔ｂ〕フラン、５―ヒドロキシベンゾ
〔ｂ〕フラン、６―ヒドロキシベンゾ〔ｂ〕フラン、７
―ヒドロキシベンゾ〔ｂ〕フランなどのヒドロキシ基置
換ベンゾ〔ｂ〕フラン類、４―ニトロベンゾ〔ｂ〕フラ
ン、５―ニトロベンゾ〔ｂ〕フラン、６―ニトロベンゾ
〔ｂ〕フラン、７―ニトロベンゾ〔ｂ〕フランなどのニ
トロ基置換ベンゾ〔ｂ〕フラン類、４―アミノベンゾ
〔ｂ〕フラン、５―アミノベンゾ〔ｂ〕フラン、６―ア
ミノベンゾ〔ｂ〕フラン、７―アミノベンゾ〔ｂ〕フラ
ンなどのアミノ基置換ベンゾ〔ｂ〕フラン類、４―カル
バモイルベンゾ〔ｂ〕フラン、５―カルバモイルベンゾ
〔ｂ〕フラン、６―カルバモイルベンゾ〔ｂ〕フラン、
７―カルバモイルベンゾ〔ｂ〕フランなどのアミド基置
換ベンゾ〔ｂ〕フラン類、４―フルオロベンゾ〔ｂ〕フ
ラン、５―フルオロベンゾ〔ｂ〕フラン、６―フルオロ
ベンゾ〔ｂ〕フラン、７―フルオロベンゾ〔ｂ〕フラ
ン、４―クロロベンゾ〔ｂ〕フラン、５―クロロベンゾ
〔ｂ〕フラン、６―クロロベンゾ〔ｂ〕フラン、７―ク
ロロベンゾ〔ｂ〕フラン、４―ブロモベンゾ〔ｂ〕フラ
ン、５―ブロモベンゾ〔ｂ〕フラン、６―ブロモベンゾ
〔ｂ〕フラン、７―ブロモベンゾ〔ｂ〕フラン、４―ヨ
ードベンゾ〔ｂ〕フラン、５―ヨードベンゾ〔ｂ〕フラ
ン、６―ヨードベンゾ〔ｂ〕フラン、７―ヨードベンゾ
〔ｂ〕フランなどのハロゲン基置換ベンゾ〔ｂ〕フラン
類、４―ジシアノビニルベンゾ〔ｂ〕フラン、５―ジシ
アノビニルベンゾ〔ｂ〕フラン、６―ジシアノビニルベ
ンゾ〔ｂ〕フラン、７―ジシアノビニルベンゾ〔ｂ〕フ
ランなどのジシアノビニル基置換ベンゾ〔ｂ〕フラン
類、Ｎ―メチルベンゾ〔ｂ〕フラン、Ｎ―エチルベンゾ
〔ｂ〕フラン、Ｎ―ｎ−プロピルベンゾ〔ｂ〕フラン、
Ｎ―ｉｓｏ−プロピルベンゾ〔ｂ〕フラン、Ｎ―ｎ−ブ
チルベンゾ〔ｂ〕フラン、Ｎ―ｓｅｃ−ブチルベンゾ
〔ｂ〕フラン、Ｎ―ｔ−ブチルベンゾ〔ｂ〕フランなど
のＮ−アルキル基置換ベンゾ〔ｂ〕フラン類、などを挙
げることができる。Specific examples of benzo [b] furans include:
4-methylbenzo [b] furan, 5-methylbenzo [b] furan, 6-methylbenzo [b] furan, 7-methylbenzo [b] furan, 4-ethylbenzo [b] furan, 5-ethylbenzo [b] furan, 6- Ethylbenzo [b] furan, 7-Ethylbenzo [b] furan, 4-n
-Propylbenzo [b] furan, 5-n-propylbenzo [b] furan, 6-n-propylbenzo [b] furan, 7-n-propylbenzo [b] furan, 4-iso
-Propylbenzo [b] furan, 5-iso-propylbenzo [b] furan, 6-iso-propylbenzo [b] furan, 7-iso-propylbenzo [b] furan, 4-n-butylbenzo [b] furan 5-n-butylbenzo [b] furan, 6-n-butylbenzo [b] furan, 7-n-butylbenzo [b] furan, 4-sec
-Butylbenzo [b] furan, 5-sec-butylbenzo [b] furan, 6-sec-butylbenzo [b] furan, 7-sec-butylbenzo [b] furan, 4-t-
Butylbenzo [b] furan, 5-t-butylbenzo [b] furan, 6-t-butylbenzo [b] furan, 7
Alkyl group-substituted benzo [b] furans such as -t-butylbenzo [b] furan, 4-methoxybenzo [b] furan, 5-methoxybenzo [b] furan, 6-methoxybenzo [b] furan, 7-methoxy Benzo [b] furan,
4-ethoxybenzo [b] furan, 5-ethoxybenzo [b] furan, 6-ethoxybenzo [b] furan, 7-
Ethoxybenzo [b] furan, 4-n-propoxybenzo [b] furan, 5-n-propoxybenzo [b] furan, 6-n-propoxybenzo [b] furan, 7-n-
Propoxybenzo [b] furan, 4-iso-propoxybenzo [b] furan, 5-iso-propoxybenzo [b] furan, 6-iso-propoxybenzo [b] furan, 7-iso-propoxybenzo [b] furan. Four
-N-butoxybenzo [b] furan, 5-n-butoxybenzo [b] furan, 6-n-butoxybenzo [b] furan, 7-n-butoxybenzo [b] furan, 4-se
c-butoxybenzo [b] furan, 5-sec-butoxybenzo [b] furan, 6-sec-butoxybenzo [b] furan, 7-sec-butoxybenzo [b] furan, 4-t-butoxybenzo [b] ] Alkoxy group-substituted benzo [b] furans such as furan, 5-t-butoxybenzo [b] furan, 6-t-butoxybenzo [b] furan, 7-t-butoxybenzo [b] furan, 4-acetyl Acyl group-substituted benzo [b] furans such as benzo [b] furan, 5-acetylbenzo [b] furan, 6-acetylbenzo [b] furan and 7-acetylbenzo [b] furan, benzo [b] furan- 4-carbaldehyde, benzo [b] furan-5-carbaldehyde, benzo [b]
Furan-6-carbaldehyde, benzo [b] furan-7
-Aldehyde group-substituted benzo [b] such as carbaldehyde
Furans, methyl benzo [b] furan-4-carboxylate, methyl benzo [b] furan-5-carboxylate, methyl benzo [b] furan-6-carboxylate, benzo [b]
Furan-7-carboxylic acid ester group-substituted benzo [b] furans such as methylcarboxylate, benzo [b] furan-
Sulfonate group-substituted benzo [such as methyl 4-sulfonate, methyl benzo [b] furan-5-sulfonate, methyl benzo [b] furan-6-sulfonate, methyl benzo [b] furan-7-sulfonate b] Furans, benzo [b] furan-4-carbonitrile, benzo [b]
Furan-5-carbonitrile, benzo [b] furan-6
-Cyano-substituted benzo [b] furans such as carbonitrile and benzo [b] furan-7-carbonitrile, 4-
Hydroxybenzo [b] furan, 5-hydroxybenzo [b] furan, 6-hydroxybenzo [b] furan, 7
-Hydroxy group-substituted benzo [b] furans such as hydroxybenzo [b] furan, 4-nitrobenzo [b] furan, 5-nitrobenzo [b] furan, 6-nitrobenzo [b] furan, 7-nitrobenzo [b] furan Such as nitro group-substituted benzo [b] furans, 4-aminobenzo [b] furan, 5-aminobenzo [b] furan, 6-aminobenzo [b] furan, 7-aminobenzo [b] furan, etc. b] Furans, 4-carbamoylbenzo [b] furan, 5-carbamoylbenzo [b] furan, 6-carbamoylbenzo [b] furan,
Amido group-substituted benzo [b] furans such as 7-carbamoylbenzo [b] furan, 4-fluorobenzo [b] furan, 5-fluorobenzo [b] furan, 6-fluorobenzo [b] furan, 7-fluoro Benzo [b] furan, 4-chlorobenzo [b] furan, 5-chlorobenzo [b] furan, 6-chlorobenzo [b] furan, 7-chlorobenzo [b] furan, 4-bromobenzo [b] furan, 5-bromobenzo [ b] furan, 6-bromobenzo [b] furan, 7-bromobenzo [b] furan, 4-iodobenzo [b] furan, 5-iodobenzo [b] furan, 6-iodobenzo [b] furan, 7-iodobenzo [b] Halogen group-substituted benzo [b] furans such as furan, 4-dicyanovinylbenzo [b] furan, 5-dicyanovinylbenzo [ ] Dicyanovinyl group-substituted benzo [b] furans such as furan, 6-dicyanovinylbenzo [b] furan, 7-dicyanovinylbenzo [b] furan, N-methylbenzo [b] furan, N-ethylbenzo [b] furan , N-n-propylbenzo [b] furan,
N-alkyl group-substituted benzo [b] such as N-iso-propylbenzo [b] furan, N-n-butylbenzo [b] furan, N-sec-butylbenzo [b] furan, Nt-butylbenzo [b] furan ] Furans, etc. can be mentioned.
【００１７】ベンゾ〔ｂ〕チオフェン類の具体例として
は、４―メチルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、５―メチルベ
ンゾ〔ｂ〕チオフェン、６―メチルベンゾ〔ｂ〕チオフ
ェン、７―メチルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、４―エチル
ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、５―エチルベンゾ〔ｂ〕チオ
フェン、６―エチルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―エチ
ルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、４―ｎ−プロピルベンゾ
〔ｂ〕チオフェン、５―ｎ−プロピルベンゾ〔ｂ〕チオ
フェン、６―ｎ−プロピルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７
―ｎ−プロピルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、４―ｉｓｏ−
プロピルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、５―ｉｓｏ−プロピ
ルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、６―ｉｓｏ−プロピルベン
ゾ〔ｂ〕チオフェン、７―ｉｓｏ−プロピルベンゾ
〔ｂ〕チオフェン、４―ｎ−ブチルベンゾ〔ｂ〕チオフ
ェン、５―ｎ−ブチルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、６―ｎ
−ブチルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―ｎ−ブチルベン
ゾ〔ｂ〕チオフェン、４―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕
チオフェン、５―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕チオフェ
ン、６―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―
ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、４―ｔ−ブチ
ルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、５―ｔ−ブチルベンゾ
〔ｂ〕チオフェン、６―ｔ−ブチルベンゾ〔ｂ〕チオフ
ェン、７―ｔ−ブチルベンゾ〔ｂ〕チオフェンなどのア
ルキル基置換ベンゾ〔ｂ〕チオフェン類、４―メトキシ
ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、５―メトキシベンゾ〔ｂ〕チ
オフェン、６―メトキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―
メトキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、４―エトキシベンゾ
〔ｂ〕チオフェン、５―エトキシベンゾ〔ｂ〕チオフェ
ン、６―エトキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―エトキ
シベンゾ〔ｂ〕チオフェン、４―ｎ−プロポキシベンゾ
〔ｂ〕チオフェン、５―ｎ−プロポキシベンゾ〔ｂ〕チ
オフェン、６―ｎ−プロポキシベンゾ〔ｂ〕チオフェ
ン、７―ｎ−プロポキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、４―
ｉｓｏ−プロポキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、５―ｉｓ
ｏ−プロポキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、６―ｉｓｏ−
プロポキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―ｉｓｏ−プロ
ポキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、４―ｎ−ブトキシベン
ゾ〔ｂ〕チオフェン、５―ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕チ
オフェン、６―ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、
７―ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、４―ｓｅｃ
−ブトキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、５―ｓｅｃ−ブト
キシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、６―ｓｅｃ−ブトキシベ
ンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―ｓｅｃ−ブトキシベンゾ
〔ｂ〕チオフェン、４―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕チオ
フェン、５―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、６
―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―ｔ−ブト
キシベンゾ〔ｂ〕チオフェンなどのアルコキシ基置換ベ
ンゾ〔ｂ〕チオフェン類、４―アセチルベンゾ〔ｂ〕チ
オフェン、５―アセチルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、６―
アセチルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―アセチルベンゾ
〔ｂ〕チオフェンなどのアシル基置換ベンゾ〔ｂ〕チオ
フェン類、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−４―カルバルデヒ
ド、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−５―カルバルデヒド、ベ
ンゾ〔ｂ〕チオフェン−６―カルバルデヒド、ベンゾ
〔ｂ〕チオフェン−７―カルバルデヒドなどのアルデヒ
ド基置換ベンゾ〔ｂ〕チオフェン類、ベンゾ〔ｂ〕チオ
フェン−４―カルボン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕チオフェ
ン−５―カルボン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−
６―カルボン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−７―
カルボン酸メチルなどのカルボン酸エステル基置換ベン
ゾ〔ｂ〕チオフェン類、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−４―
スルホン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−５―スル
ホン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−６―スルホン
酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−７―スルホン酸メ
チルなどのスルホン酸エステル基置換ベンゾ〔ｂ〕チオ
フェン類、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−４―カルボニトリ
ル、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン−５―カルボニトリル、ベ
ンゾ〔ｂ〕チオフェン−６―カルボニトリル、ベンゾ
〔ｂ〕チオフェン−７―カルボニトリルなどのシアノ基
置換ベンゾ〔ｂ〕チオフェン類、４―ヒドロキシベンゾ
〔ｂ〕チオフェン、５―ヒドロキシベンゾ〔ｂ〕チオフ
ェン、６―ヒドロキシベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―ヒ
ドロキシベンゾ〔ｂ〕チオフェンなどのヒドロキシ基置
換ベンゾ〔ｂ〕チオフェン類、４―ニトロベンゾ〔ｂ〕
チオフェン、５―ニトロベンゾ〔ｂ〕チオフェン、６―
ニトロベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―ニトロベンゾ
〔ｂ〕チオフェンなどのニトロ基置換ベンゾ〔ｂ〕チオ
フェン類、４―アミノベンゾ〔ｂ〕チオフェン、５―ア
ミノベンゾ〔ｂ〕チオフェン、６―アミノベンゾ〔ｂ〕
チオフェン、７―アミノベンゾ〔ｂ〕チオフェンなどの
アミノ基置換ベンゾ〔ｂ〕チオフェン類、４―カルバモ
イルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、５―カルバモイルベンゾ
〔ｂ〕チオフェン、６―カルバモイルベンゾ〔ｂ〕チオ
フェン、７―カルバモイルベンゾ〔ｂ〕チオフェンなど
のアミド基置換ベンゾ〔ｂ〕チオフェン類、４―フルオ
ロベンゾ〔ｂ〕チオフェン、５―フルオロベンゾ〔ｂ〕
チオフェン、６―フルオロベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７
―フルオロベンゾ〔ｂ〕チオフェン、４―クロロベンゾ
〔ｂ〕チオフェン、５―クロロベンゾ〔ｂ〕チオフェ
ン、６―クロロベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―クロロベ
ンゾ〔ｂ〕チオフェン、４―ブロモベンゾ〔ｂ〕チオフ
ェン、５―ブロモベンゾ〔ｂ〕チオフェン、６―ブロモ
ベンゾ〔ｂ〕チオフェン、７―ブロモベンゾ〔ｂ〕チオ
フェン、４―ヨードベンゾ〔ｂ〕チオフェン、５―ヨー
ドベンゾ〔ｂ〕チオフェン、６―ヨードベンゾ〔ｂ〕チ
オフェン、７―ヨードベンゾ〔ｂ〕チオフェンなどのハ
ロゲン基置換ベンゾ〔ｂ〕チオフェン類、４―ジシアノ
ビニルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、５―ジシアノビニルベ
ンゾ〔ｂ〕チオフェン、６―ジシアノビニルベンゾ
〔ｂ〕チオフェン、７―ジシアノビニルベンゾ〔ｂ〕チ
オフェンなどのジシアノビニル基置換ベンゾ〔ｂ〕チオ
フェン類、Ｎ―メチルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、Ｎ―エ
チルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、Ｎ―ｎ−プロピルベンゾ
〔ｂ〕チオフェン、Ｎ―ｉｓｏ−プロピルベンゾ〔ｂ〕
チオフェン、Ｎ―ｎ−ブチルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、
Ｎ―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕チオフェン、Ｎ―ｔ−
ブチルベンゾ〔ｂ〕チオフェンなどのＮ−アルキル基置
換ベンゾ〔ｂ〕チオフェン類、などを挙げることができ
る。Specific examples of benzo [b] thiophenes include 4-methylbenzo [b] thiophene, 5-methylbenzo [b] thiophene, 6-methylbenzo [b] thiophene, 7-methylbenzo [b] thiophene, 4-ethylbenzo. [B] Thiophene, 5-ethylbenzo [b] thiophene, 6-ethylbenzo [b] thiophene, 7-ethylbenzo [b] thiophene, 4-n-propylbenzo [b] thiophene, 5-n-propylbenzo [b] thiophene , 6-n-propylbenzo [b] thiophene, 7
-N-propylbenzo [b] thiophene, 4-iso-
Propylbenzo [b] thiophene, 5-iso-propylbenzo [b] thiophene, 6-iso-propylbenzo [b] thiophene, 7-iso-propylbenzo [b] thiophene, 4-n-butylbenzo [b] thiophene, 5-n-butylbenzo [b] thiophene, 6-n
-Butylbenzo [b] thiophene, 7-n-butylbenzo [b] thiophene, 4-sec-butylbenzo [b]
Thiophene, 5-sec-butylbenzo [b] thiophene, 6-sec-butylbenzo [b] thiophene, 7-
Alkyl such as sec-butylbenzo [b] thiophene, 4-t-butylbenzo [b] thiophene, 5-t-butylbenzo [b] thiophene, 6-t-butylbenzo [b] thiophene, 7-t-butylbenzo [b] thiophene Group-substituted benzo [b] thiophenes, 4-methoxybenzo [b] thiophene, 5-methoxybenzo [b] thiophene, 6-methoxybenzo [b] thiophene, 7-
Methoxybenzo [b] thiophene, 4-ethoxybenzo [b] thiophene, 5-ethoxybenzo [b] thiophene, 6-ethoxybenzo [b] thiophene, 7-ethoxybenzo [b] thiophene, 4-n-propoxybenzo [ b] thiophene, 5-n-propoxybenzo [b] thiophene, 6-n-propoxybenzo [b] thiophene, 7-n-propoxybenzo [b] thiophene, 4-
iso-propoxybenzo [b] thiophene, 5-is
o-propoxybenzo [b] thiophene, 6-iso-
Propoxybenzo [b] thiophene, 7-iso-propoxybenzo [b] thiophene, 4-n-butoxybenzo [b] thiophene, 5-n-butoxybenzo [b] thiophene, 6-n-butoxybenzo [b] thiophene ,
7-n-butoxybenzo [b] thiophene, 4-sec
-Butoxybenzo [b] thiophene, 5-sec-butoxybenzo [b] thiophene, 6-sec-butoxybenzo [b] thiophene, 7-sec-butoxybenzo [b] thiophene, 4-t-butoxybenzo [b] Thiophene, 5-t-butoxybenzo [b] thiophene, 6
Alkoxy group-substituted benzo [b] thiophenes such as -t-butoxybenzo [b] thiophene and 7-t-butoxybenzo [b] thiophene, 4-acetylbenzo [b] thiophene, 5-acetylbenzo [b] thiophene, 6-
Acyl group-substituted benzo [b] thiophenes such as acetylbenzo [b] thiophene and 7-acetylbenzo [b] thiophene, benzo [b] thiophene-4-carbaldehyde, benzo [b] thiophene-5-carbaldehyde, benzo Aldehyde group-substituted benzo [b] thiophenes such as [b] thiophene-6-carbaldehyde, benzo [b] thiophene-7-carbaldehyde, benzo [b] thiophene-4-carboxylate, benzo [b] thiophene- 5-carboxylate, benzo [b] thiophene-
Methyl 6-carboxylate, benzo [b] thiophene-7-
Carboxylic acid ester group-substituted benzo [b] thiophenes such as methyl carboxylate, benzo [b] thiophene-4-
Sulfonate group-substituted benzo [b] such as methyl sulfonate, methyl benzo [b] thiophene-5-sulfonate, methyl benzo [b] thiophene-6-sulfonate, and methyl benzo [b] thiophene-7-sulfonate Cyano groups such as thiophenes, benzo [b] thiophene-4-carbonitrile, benzo [b] thiophene-5-carbonitrile, benzo [b] thiophene-6-carbonitrile and benzo [b] thiophene-7-carbonitrile Substituted benzo [b] thiophenes, hydroxy group-substituted benzo [4- [benzobenzo [b] thiophene, 5-hydroxybenzo [b] thiophene, 6-hydroxybenzo [b] thiophene, 7-hydroxybenzo [b] thiophene, etc. b] Thiophenes, 4-nitrobenzo [b]
Thiophene, 5-nitrobenzo [b] thiophene, 6-
Nitro group-substituted benzo [b] thiophenes such as nitrobenzo [b] thiophene and 7-nitrobenzo [b] thiophene, 4-aminobenzo [b] thiophene, 5-aminobenzo [b] thiophene, 6-aminobenzo [b]
Amino group-substituted benzo [b] thiophenes such as thiophene and 7-aminobenzo [b] thiophene, 4-carbamoylbenzo [b] thiophene, 5-carbamoylbenzo [b] thiophene, 6-carbamoylbenzo [b] thiophene, 7- Amido group-substituted benzo [b] thiophenes such as carbamoylbenzo [b] thiophene, 4-fluorobenzo [b] thiophene, 5-fluorobenzo [b]
Thiophene, 6-fluorobenzo [b] thiophene, 7
-Fluorobenzo [b] thiophene, 4-chlorobenzo [b] thiophene, 5-chlorobenzo [b] thiophene, 6-chlorobenzo [b] thiophene, 7-chlorobenzo [b] thiophene, 4-bromobenzo [b] thiophene, 5- Bromobenzo [b] thiophene, 6-bromobenzo [b] thiophene, 7-bromobenzo [b] thiophene, 4-iodobenzo [b] thiophene, 5-iodobenzo [b] thiophene, 6-iodobenzo [b] thiophene, 7-iodobenzo [ b] halogen-substituted benzo [b] thiophenes such as thiophene, 4-dicyanovinylbenzo [b] thiophene, 5-dicyanovinylbenzo [b] thiophene, 6-dicyanovinylbenzo [b] thiophene, 7-dicyanovinylbenzo [B] Dicyano such as thiophene Sulfonyl group substituted benzo [b] thiophenes, N- methylbenzo [b] thiophene, N- ethylbenzo [b] thiophene, N-n-propyl-benzo [b] thiophene, N-an iso-propyl-benzo [b]
Thiophene, N-n-butylbenzo [b] thiophene,
N-sec-butylbenzo [b] thiophene, Nt-
Examples thereof include N-alkyl group-substituted benzo [b] thiophenes such as butylbenzo [b] thiophene.
【００１８】ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン類の具体例とし
ては、４―メチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―メチ
ルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―メチルベンゾ〔ｂ〕
セレノフェン、７―メチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、
４―エチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―エチルベン
ゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―エチルベンゾ〔ｂ〕セレノ
フェン、７―エチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、４―ｎ
−プロピルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―ｎ−プロピ
ルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―ｎ−プロピルベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン、７―ｎ−プロピルベンゾ〔ｂ〕セ
レノフェン、４―ｉｓｏ−プロピルベンゾ〔ｂ〕セレノ
フェン、５―ｉｓｏ−プロピルベンゾ〔ｂ〕セレノフェ
ン、６―ｉｓｏ−プロピルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、
７―ｉｓｏ−プロピルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、４―
ｎ−ブチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―ｎ−ブチル
ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―ｎ−ブチルベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン、７―ｎ−ブチルベンゾ〔ｂ〕セレ
ノフェン、４―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェ
ン、５―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、６
―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、７―ｓｅ
ｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、４―ｔ−ブチル
ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―ｔ−ブチルベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン、６―ｔ−ブチルベンゾ〔ｂ〕セレ
ノフェン、７―ｔ−ブチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェンな
どのアルキル基置換ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン類、４―
メトキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―メトキシベン
ゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―メトキシベンゾ〔ｂ〕セレ
ノフェン、７―メトキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、４
―エトキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―エトキシベ
ンゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―エトキシベンゾ〔ｂ〕セ
レノフェン、７―エトキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、
４―ｎ−プロポキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―ｎ
−プロポキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―ｎ−プロ
ポキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、７―ｎ−プロポキシ
ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、４―ｉｓｏ−プロポキシベ
ンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―ｉｓｏ−プロポキシベン
ゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―ｉｓｏ−プロポキシベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン、７―ｉｓｏ−プロポキシベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン、４―ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕セ
レノフェン、５―ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェ
ン、６―ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、７―
ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、４―ｓｅｃ−
ブトキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―ｓｅｃ−ブト
キシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―ｓｅｃ−ブトキシ
ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、７―ｓｅｃ−ブトキシベン
ゾ〔ｂ〕セレノフェン、４―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕
セレノフェン、５―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕セレノフ
ェン、６―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、７
―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェンなどのアルコ
キシ基置換ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン類、４―アセチル
ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―アセチルベンゾ〔ｂ〕
セレノフェン、６―アセチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェ
ン、７―アセチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェンなどのアシ
ル基置換ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン類、ベンゾ〔ｂ〕セ
レノフェン−４―カルバルデヒド、ベンゾ〔ｂ〕セレノ
フェン−５―カルバルデヒド、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェ
ン−６―カルバルデヒド、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−
７―カルバルデヒドなどのアルデヒド基置換ベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン類、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−４
―カルボン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−５―
カルボン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−６―カ
ルボン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−７―カル
ボン酸メチルなどのカルボン酸エステル基置換ベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン類、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−４
―スルホン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−５―
スルホン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−６―ス
ルホン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−７―スル
ホン酸メチルなどのスルホン酸エステル基置換ベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン類、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−４
―カルボニトリル、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−５―カ
ルボニトリル、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−６―カルボ
ニトリル、ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン−７―カルボニト
リルなどのシアノ基置換ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン類、
４―ヒドロキシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―ヒドロ
キシベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―ヒドロキシベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン、７―ヒドロキシベンゾ〔ｂ〕セレ
ノフェンなどのヒドロキシ基置換ベンゾ〔ｂ〕セレノフ
ェン類、４―ニトロベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―ニ
トロベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―ニトロベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン、７―ニトロベンゾ〔ｂ〕セレノフ
ェンなどのニトロ基置換ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン類、
４―アミノベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―アミノベン
ゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―アミノベンゾ〔ｂ〕セレノ
フェン、７―アミノベンゾ〔ｂ〕セレノフェンなどのア
ミノ基置換ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン類、４―カルバモ
イルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―カルバモイルベン
ゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―カルバモイルベンゾ〔ｂ〕
セレノフェン、７―カルバモイルベンゾ〔ｂ〕セレノフ
ェンなどのアミド基置換ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン類、
４―フルオロベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―フルオロ
ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―フルオロベンゾ〔ｂ〕
セレノフェン、７―フルオロベンゾ〔ｂ〕セレノフェ
ン、４―クロロベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―クロロ
ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、６―クロロベンゾ〔ｂ〕セ
レノフェン、７―クロロベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、４
―ブロモベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―ブロモベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン、６―ブロモベンゾ〔ｂ〕セレノフ
ェン、７―ブロモベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、４―ヨー
ドベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―ヨードベンゾ〔ｂ〕
セレノフェン、６―ヨードベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、
７―ヨードベンゾ〔ｂ〕セレノフェンなどのハロゲン基
置換ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン類、４―ジシアノビニル
ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、５―ジシアノビニルベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン、６―ジシアノビニルベンゾ〔ｂ〕
セレノフェン、７―ジシアノビニルベンゾ〔ｂ〕セレノ
フェンなどのジシアノビニル基置換ベンゾ〔ｂ〕セレノ
フェン類、Ｎ―メチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、Ｎ―
エチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェン、Ｎ―ｎ−プロピルベ
ンゾ〔ｂ〕セレノフェン、Ｎ―ｉｓｏ−プロピルベンゾ
〔ｂ〕セレノフェン、Ｎ―ｎ−ブチルベンゾ〔ｂ〕セレ
ノフェン、Ｎ―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェ
ン、Ｎ―ｔ−ブチルベンゾ〔ｂ〕セレノフェンなどのＮ
−アルキル基置換ベンゾ〔ｂ〕セレノフェン類、などを
挙げることができる。Specific examples of benzo [b] selenophenes include 4-methylbenzo [b] selenophene, 5-methylbenzo [b] selenophene and 6-methylbenzo [b].
Selenophene, 7-methylbenzo [b] selenophene,
4-ethylbenzo [b] selenophene, 5-ethylbenzo [b] selenophene, 6-ethylbenzo [b] selenophene, 7-ethylbenzo [b] selenophene, 4-n
-Propylbenzo [b] selenophene, 5-n-propylbenzo [b] selenophene, 6-n-propylbenzo [b] selenophene, 7-n-propylbenzo [b] selenophene, 4-iso-propylbenzo [b] Selenophene, 5-iso-propylbenzo [b] selenophene, 6-iso-propylbenzo [b] selenophene,
7-iso-propylbenzo [b] selenophene, 4-
n-Butylbenzo [b] selenophene, 5-n-butylbenzo [b] selenophene, 6-n-butylbenzo [b] selenophene, 7-n-butylbenzo [b] selenophene, 4-sec-butylbenzo [b] selenophene, 5- sec-Butylbenzo [b] selenophene, 6
-Sec-butylbenzo [b] selenophene, 7-se
Alkyl such as c-butylbenzo [b] selenophene, 4-t-butylbenzo [b] selenophene, 5-t-butylbenzo [b] selenophene, 6-t-butylbenzo [b] selenophene, 7-t-butylbenzo [b] selenophene Group-substituted benzo [b] selenophenes, 4-
Methoxybenzo [b] selenophene, 5-methoxybenzo [b] selenophene, 6-methoxybenzo [b] selenophene, 7-methoxybenzo [b] selenophene, 4
-Ethoxybenzo [b] selenophene, 5-ethoxybenzo [b] selenophene, 6-ethoxybenzo [b] selenophene, 7-ethoxybenzo [b] selenophene,
4-n-propoxybenzo [b] selenophene, 5-n
-Propoxybenzo [b] selenophene, 6-n-propoxybenzo [b] selenophene, 7-n-propoxybenzo [b] selenophene, 4-iso-propoxybenzo [b] selenophene, 5-iso-propoxybenzo [b] Selenophene, 6-iso-propoxybenzo [b] selenophene, 7-iso-propoxybenzo [b] selenophene, 4-n-butoxybenzo [b] selenophene, 5-n-butoxybenzo [b] selenophene, 6-n- Butoxybenzo [b] selenophene, 7-
n-Butoxybenzo [b] selenophene, 4-sec-
Butoxybenzo [b] selenophene, 5-sec-butoxybenzo [b] selenophene, 6-sec-butoxybenzo [b] selenophene, 7-sec-butoxybenzo [b] selenophene, 4-t-butoxybenzo [b]
Selenophene, 5-t-butoxybenzo [b] selenophene, 6-t-butoxybenzo [b] selenophene, 7
-Alkoxy group-substituted benzo [b] selenophene such as t-butoxybenzo [b] selenophene, 4-acetylbenzo [b] selenophene, 5-acetylbenzo [b]
Acyl group-substituted benzo [b] selenophene such as selenophene, 6-acetylbenzo [b] selenophene, 7-acetylbenzo [b] selenophene, benzo [b] selenophene-4-carbaldehyde, benzo [b] selenophene-5- Carbaldehyde, benzo [b] selenophene-6-carbaldehyde, benzo [b] selenophene-
Aldehyde group-substituted benzo [b] selenophenes such as 7-carbaldehyde, benzo [b] selenophene-4
-Methyl carboxylate, benzo [b] selenophene-5-
Carboxylic acid ester group-substituted benzo [b] selenophenes such as methyl carboxylate, benzo [b] selenophene-6-carboxylate, benzo [b] selenophene-7-methylcarboxylate, and benzo [b] selenophene-4
-Methyl sulfonate, benzo [b] selenophene-5-
Sulfonate group-substituted benzo [b] selenophenes such as methyl sulfonate, benzo [b] selenophene-6-methyl sulfonate, benzo [b] selenophene-7-methyl sulfonate, and benzo [b] selenophene-4
Cyano group-substituted benzo [b] selenophenes such as carbonitrile, benzo [b] selenophene-5-carbonitrile, benzo [b] selenophene-6-carbonitrile, benzo [b] selenophene-7-carbonitrile,
4-hydroxybenzo [b] selenophene, hydroxy group-substituted benzo [b] selenophenes such as 5-hydroxybenzo [b] selenophene, 6-hydroxybenzo [b] selenophene, 7-hydroxybenzo [b] selenophene and 4-nitrobenzo Nitro group-substituted benzo [b] selenophenes such as [b] selenophene, 5-nitrobenzo [b] selenophene, 6-nitrobenzo [b] selenophene, 7-nitrobenzo [b] selenophene,
Amino group-substituted benzo [b] selenophenes such as 4-aminobenzo [b] selenophene, 5-aminobenzo [b] selenophene, 6-aminobenzo [b] selenophene, 7-aminobenzo [b] selenophene and 4-carbamoylbenzo [b] Selenophene, 5-carbamoylbenzo [b] selenophene, 6-carbamoylbenzo [b]
Ameno group-substituted benzo [b] selenophenes such as selenophene and 7-carbamoylbenzo [b] selenophene,
4-fluorobenzo [b] selenophene, 5-fluorobenzo [b] selenophene, 6-fluorobenzo [b]
Selenophene, 7-fluorobenzo [b] selenophene, 4-chlorobenzo [b] selenophene, 5-chlorobenzo [b] selenophene, 6-chlorobenzo [b] selenophene, 7-chlorobenzo [b] selenophene, 4
-Bromobenzo [b] selenophene, 5-bromobenzo [b] selenophene, 6-bromobenzo [b] selenophene, 7-bromobenzo [b] selenophene, 4-iodobenzo [b] selenophene, 5-iodobenzo [b]
Selenophene, 6-iodobenzo [b] selenophene,
Halogen group-substituted benzo [b] selenophene such as 7-iodobenzo [b] selenophene, 4-dicyanovinylbenzo [b] selenophene, 5-dicyanovinylbenzo [b] selenophene, 6-dicyanovinylbenzo [b]
Dicyanovinyl group-substituted benzo [b] selenophenes such as selenophene, 7-dicyanovinylbenzo [b] selenophene, N-methylbenzo [b] selenophene, N-
Ethylbenzo [b] selenophene, N-n-propylbenzo [b] selenophene, N-iso-propylbenzo [b] selenophene, N-n-butylbenzo [b] selenophene, N-sec-butylbenzo [b] selenophene, N- N such as t-butylbenzo [b] selenophene
-Alkyl group-substituted benzo [b] selenophenes and the like can be mentioned.
【００１９】ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン類の具体例とし
ては、４―メチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―メチ
ルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―メチルベンゾ〔ｂ〕
テルロフェン、７―メチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、
４―エチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―エチルベン
ゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―エチルベンゾ〔ｂ〕テルロ
フェン、７―エチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、４―ｎ
−プロピルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―ｎ−プロピ
ルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―ｎ−プロピルベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン、７―ｎ−プロピルベンゾ〔ｂ〕テ
ルロフェン、４―ｉｓｏ−プロピルベンゾ〔ｂ〕テルロ
フェン、５―ｉｓｏ−プロピルベンゾ〔ｂ〕テルロフェ
ン、６―ｉｓｏ−プロピルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、
７―ｉｓｏ−プロピルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、４―
ｎ−ブチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―ｎ−ブチル
ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―ｎ−ブチルベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン、７―ｎ−ブチルベンゾ〔ｂ〕テル
ロフェン、４―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェ
ン、５―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、６
―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、７―ｓｅ
ｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、４―ｔ−ブチル
ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―ｔ−ブチルベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン、６―ｔ−ブチルベンゾ〔ｂ〕テル
ロフェン、７―ｔ−ブチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェンな
どのアルキル基置換ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン類、４―
メトキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―メトキシベン
ゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―メトキシベンゾ〔ｂ〕テル
ロフェン、７―メトキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、４
―エトキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―エトキシベ
ンゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―エトキシベンゾ〔ｂ〕テ
ルロフェン、７―エトキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、
４―ｎ−プロポキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―ｎ
−プロポキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―ｎ−プロ
ポキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、７―ｎ−プロポキシ
ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、４―ｉｓｏ−プロポキシベ
ンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―ｉｓｏ−プロポキシベン
ゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―ｉｓｏ−プロポキシベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン、７―ｉｓｏ−プロポキシベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン、４―ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕テ
ルロフェン、５―ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェ
ン、６―ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、７―
ｎ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、４―ｓｅｃ−
ブトキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―ｓｅｃ−ブト
キシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―ｓｅｃ−ブトキシ
ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、７―ｓｅｃ−ブトキシベン
ゾ〔ｂ〕テルロフェン、４―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕
テルロフェン、５―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕テルロフ
ェン、６―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、７
―ｔ−ブトキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェンなどのアルコ
キシ基置換ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン類、４―アセチル
ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―アセチルベンゾ〔ｂ〕
テルロフェン、６―アセチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェ
ン、７―アセチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェンなどのアシ
ル基置換ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン類、ベンゾ〔ｂ〕テ
ルロフェン−４―カルバルデヒド、ベンゾ〔ｂ〕テルロ
フェン−５―カルバルデヒド、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェ
ン−６―カルバルデヒド、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−
７―カルバルデヒドなどのアルデヒド基置換ベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン類、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−４
―カルボン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−５―
カルボン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−６―カ
ルボン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−７―カル
ボン酸メチルなどのカルボン酸エステル基置換ベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン類、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−４
―スルホン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−５―
スルホン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−６―ス
ルホン酸メチル、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−７―スル
ホン酸メチルなどのスルホン酸エステル基置換ベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン類、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−４
―カルボニトリル、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−５―カ
ルボニトリル、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−６―カルボ
ニトリル、ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン−７―カルボニト
リルなどのシアノ基置換ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン類、
４―ヒドロキシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―ヒドロ
キシベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―ヒドロキシベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン、７―ヒドロキシベンゾ〔ｂ〕テル
ロフェンなどのヒドロキシ基置換ベンゾ〔ｂ〕テルロフ
ェン類、４―ニトロベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―ニ
トロベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―ニトロベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン、７―ニトロベンゾ〔ｂ〕テルロフ
ェンなどのニトロ基置換ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン類、
４―アミノベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―アミノベン
ゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―アミノベンゾ〔ｂ〕テルロ
フェン、７―アミノベンゾ〔ｂ〕テルロフェンなどのア
ミノ基置換ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン類、４―カルバモ
イルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―カルバモイルベン
ゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―カルバモイルベンゾ〔ｂ〕
テルロフェン、７―カルバモイルベンゾ〔ｂ〕テルロフ
ェンなどのアミド基置換ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン類、
４―フルオロベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―フルオロ
ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―フルオロベンゾ〔ｂ〕
テルロフェン、７―フルオロベンゾ〔ｂ〕テルロフェ
ン、４―クロロベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―クロロ
ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、６―クロロベンゾ〔ｂ〕テ
ルロフェン、７―クロロベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、４
―ブロモベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―ブロモベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン、６―ブロモベンゾ〔ｂ〕テルロフ
ェン、７―ブロモベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、４―ヨー
ドベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―ヨードベンゾ〔ｂ〕
テルロフェン、６―ヨードベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、
７―ヨードベンゾ〔ｂ〕テルロフェンなどのハロゲン基
置換ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン類、４―ジシアノビニル
ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、５―ジシアノビニルベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン、６―ジシアノビニルベンゾ〔ｂ〕
テルロフェン、７―ジシアノビニルベンゾ〔ｂ〕テルロ
フェンなどのジシアノビニル基置換ベンゾ〔ｂ〕テルロ
フェン類、Ｎ―メチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、Ｎ―
エチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェン、Ｎ―ｎ−プロピルベ
ンゾ〔ｂ〕テルロフェン、Ｎ―ｉｓｏ−プロピルベンゾ
〔ｂ〕テルロフェン、Ｎ―ｎ−ブチルベンゾ〔ｂ〕テル
ロフェン、Ｎ―ｓｅｃ−ブチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェ
ン、Ｎ―ｔ−ブチルベンゾ〔ｂ〕テルロフェンなどのＮ
−アルキル基置換ベンゾ〔ｂ〕テルロフェン類、などを
挙げることができる。Specific examples of benzo [b] tellurophenes include 4-methylbenzo [b] tellurophene, 5-methylbenzo [b] tellurophene, 6-methylbenzo [b].
Tellurophen, 7-methylbenzo [b] tellurophene,
4-ethylbenzo [b] tellurophene, 5-ethylbenzo [b] tellurophene, 6-ethylbenzo [b] tellurophene, 7-ethylbenzo [b] tellurophene, 4-n
-Propylbenzo [b] tellurophene, 5-n-propylbenzo [b] tellurophene, 6-n-propylbenzo [b] tellurophene, 7-n-propylbenzo [b] tellurophene, 4-iso-propylbenzo [b] Tellurophene, 5-iso-propylbenzo [b] tellurophene, 6-iso-propylbenzo [b] tellurophene,
7-iso-propylbenzo [b] tellurophene, 4-
n-Butylbenzo [b] tellurophene, 5-n-butylbenzo [b] tellurophene, 6-n-butylbenzo [b] tellurophene, 7-n-butylbenzo [b] tellurophene, 4-sec-butylbenzo [b] tellurophene, 5- sec-Butylbenzo [b] tellurophene, 6
-Sec-butylbenzo [b] tellurophene, 7-se
Alkyl such as c-butylbenzo [b] tellurophene, 4-t-butylbenzo [b] tellurophene, 5-t-butylbenzo [b] tellurophene, 6-t-butylbenzo [b] tellurophene, 7-t-butylbenzo [b] tellurophene Group-substituted benzo [b] tellurophenes, 4-
Methoxybenzo [b] tellurophene, 5-methoxybenzo [b] tellurophene, 6-methoxybenzo [b] tellurophene, 7-methoxybenzo [b] tellurophene, 4
-Ethoxybenzo [b] tellurophene, 5-ethoxybenzo [b] tellurophene, 6-ethoxybenzo [b] tellurophene, 7-ethoxybenzo [b] tellurophene,
4-n-propoxybenzo [b] tellurophene, 5-n
-Propoxybenzo [b] tellurophene, 6-n-propoxybenzo [b] tellurophene, 7-n-propoxybenzo [b] tellurophene, 4-iso-propoxybenzo [b] tellurophene, 5-iso-propoxybenzo [b] Tellurophene, 6-iso-propoxybenzo [b] tellurophene, 7-iso-propoxybenzo [b] tellurophene, 4-n-butoxybenzo [b] tellurophene, 5-n-butoxybenzo [b] tellurophene, 6-n- Butoxybenzo [b] tellurophene, 7-
n-Butoxybenzo [b] tellurophene, 4-sec-
Butoxybenzo [b] tellurophene, 5-sec-butoxybenzo [b] tellurophene, 6-sec-butoxybenzo [b] tellurophene, 7-sec-butoxybenzo [b] tellurophene, 4-t-butoxybenzo [b]
Tellurophene, 5-t-butoxybenzo [b] tellurophene, 6-t-butoxybenzo [b] tellurophene, 7
-Alkoxy group-substituted benzo [b] tellurophene such as t-butoxybenzo [b] tellurophene, 4-acetylbenzo [b] tellurophene, 5-acetylbenzo [b]
Acyl group-substituted benzo [b] tellurophenes such as tellurophene, 6-acetylbenzo [b] tellurophene, 7-acetylbenzo [b] tellurophene, benzo [b] tellurophene-4-carbaldehyde, benzo [b] tellurophene-5- Carbaldehyde, benzo [b] tellurophene-6-carbaldehyde, benzo [b] tellurophene-
Aldehyde group-substituted benzo [b] tellurophenes such as 7-carbaldehyde, benzo [b] tellurophene-4
-Methyl carboxylate, benzo [b] tellurophene-5-
Carboxylic ester group-substituted benzo [b] tellurophenes such as methyl carboxylate, benzo [b] tellurophene-6-carboxylate, benzo [b] tellurophene-7-methylcarboxylate, and benzo [b] tellurophene-4
-Methyl sulfonate, benzo [b] tellurophene-5-
Sulfonate group-substituted benzo [b] tellurophenes such as methyl sulfonate, benzo [b] tellurophene-6-methyl sulfonate, benzo [b] tellurophene-7-methyl sulfonate, and benzo [b] tellurophene-4
Cyano group-substituted benzo [b] tellurophenes such as carbonitrile, benzo [b] tellurophene-5-carbonitrile, benzo [b] tellurophene-6-carbonitrile, benzo [b] tellurophene-7-carbonitrile,
4-Hydroxybenzo [b] tellurophene, hydroxy group-substituted benzo [b] tellurophene such as 5-hydroxybenzo [b] tellurophene, 6-hydroxybenzo [b] tellurophene, 7-hydroxybenzo [b] tellurophene, 4-nitrobenzo Nitro group-substituted benzo [b] tellurophenes such as [b] tellurophene, 5-nitrobenzo [b] tellurophene, 6-nitrobenzo [b] tellurophene, 7-nitrobenzo [b] tellurophene,
Amino group-substituted benzo [b] tellurophenes such as 4-aminobenzo [b] tellurophene, 5-aminobenzo [b] tellurophene, 6-aminobenzo [b] tellurophene, 7-aminobenzo [b] tellurophene and 4-carbamoylbenzo [b] Tellurophene, 5-carbamoylbenzo [b] Tellurophene, 6-carbamoylbenzo [b]
Amido group-substituted benzo [b] tellurophenes such as tellurophen and 7-carbamoylbenzo [b] tellurophene,
4-fluorobenzo [b] tellurophene, 5-fluorobenzo [b] tellurophene, 6-fluorobenzo [b]
Tellurophene, 7-fluorobenzo [b] tellurophene, 4-chlorobenzo [b] tellurophene, 5-chlorobenzo [b] tellurophene, 6-chlorobenzo [b] tellurophene, 7-chlorobenzo [b] tellurophene, 4
-Bromobenzo [b] tellurophene, 5-bromobenzo [b] tellurophene, 6-bromobenzo [b] tellurophene, 7-bromobenzo [b] tellurophene, 4-iodobenzo [b] tellurophene, 5-iodobenzo [b]
Tellurophen, 6-iodobenzo [b] tellurophene,
Halogen group-substituted benzo [b] tellurophene such as 7-iodobenzo [b] tellurophene, 4-dicyanovinylbenzo [b] tellurophene, 5-dicyanovinylbenzo [b] tellurophene, 6-dicyanovinylbenzo [b]
Tellurophene, dicyanovinyl group-substituted benzo [b] tellurophenes such as 7-dicyanovinylbenzo [b] tellurophene, N-methylbenzo [b] tellurophene, N-
Ethylbenzo [b] tellurophene, N-n-propylbenzo [b] tellurophene, N-iso-propylbenzo [b] tellurophene, N-n-butylbenzo [b] tellurophene, N-sec-butylbenzo [b] tellurophene, N- N such as t-butylbenzo [b] tellurophene
-Alkyl group-substituted benzo [b] tellurophenes and the like can be mentioned.
【００２０】このなかで、インドール類、ベンゾ〔ｂ〕
チオフェン類、ベンゾ〔ｂ〕フラン類が実用上好ましく
用いられ、インドール類が特に好ましく用いることがで
きる。また、インドール類のなかでもシアノ基置換イン
ドール類、ニトロ基置換インドール類、アミド基置換イ
ンドール類、ハロゲン基置換インドール類などが実用上
好ましく、シアノ基置換インドール類が特に好ましい。Among these, indoles, benzo [b]
Thiophenes and benzo [b] furans are practically preferably used, and indoles are particularly preferably used. Among the indoles, cyano group-substituted indoles, nitro group-substituted indoles, amide group-substituted indoles, halogen group-substituted indoles and the like are practically preferable, and cyano group-substituted indoles are particularly preferable.
【００２１】本発明の酸性基置換複素環式化合物三量体
を合成する際に用いられる塩基性化合物（ロ）として
は、前記酸性基置換複素環式化合物類（イ）と塩を形成
する化合物であれば特に限定されるものではないが、例
えば、アンモニア、脂式アミン類、環式飽和アミン類、
環式不飽和アミン類、それらのアンモニウム化合物類、
及び無機塩基などが好ましく用いられる。The basic compound (b) used when synthesizing the acidic group-substituted heterocyclic compound trimer is a compound which forms a salt with the acidic group-substituted heterocyclic compound (a). It is not particularly limited as long as it is, for example, ammonia, aliphatic amines, cyclic saturated amines,
Cyclic unsaturated amines, ammonium compounds thereof,
And inorganic bases are preferably used.
【００２２】本発明の塩基性化合物（ロ）として用いら
れるアミン類の構造式を下式に示す。The structural formulas of amines used as the basic compound (b) of the present invention are shown below.
【化１１】
式中、Ｒ２１〜Ｒ２３は各々互いに独立に選ばれた水
素、炭素数１〜４（Ｃ１〜Ｃ４）のアルキル基、ＣＨ２
ＯＨ、ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、ＣＯＮＨ２またはＮＨ２を表
す。[Chemical 11] In the formula, R 21 to R 23 are each independently selected from hydrogen, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (C 1 to C 4 ), CH 2
OH, CH 2 CH 2 OH, CONH 2 or NH 2 .
【００２３】本発明の塩基性化合物（ロ）として用いら
れるアンモニウム化合物類の構造式を下式に示す。The structural formulas of the ammonium compounds used as the basic compound (b) of the present invention are shown below.
【化１２】
式中、Ｒ２４〜Ｒ２７は各々互いに独立に選ばれた水
素、炭素数１〜４（Ｃ１〜Ｃ４）のアルキル基、ＣＨ２
ＯＨ、ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、ＣＯＮＨ２またはＮＨ２を表
し；Ｙ−はＯＨ−、１／２・ＳＯ４ ２−、ＮＯ３ −、１
／２ＣＯ３ ２−、ＨＣＯ３ −、１／２・（ＣＯＯ）２
２−、またはＲ‘ＣＯＯ−［式中、Ｒ‘は炭素数１〜３
（Ｃ１〜Ｃ３）のアルキル基である］を表す。[Chemical 12] In the formula, R 24 to R 27 are each independently selected hydrogen, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (C 1 to C 4 ), CH 2
OH, CH 2 CH 2 OH, CONH 2 or NH 2 ; Y − is OH − , 1/2 · SO 4 2− , NO 3 − , 1
/ 2CO 3 2− , HCO 3 − , 1/2 · (COO) 2
2, or R'COO - [wherein, R 'is 1 to 3 carbon atoms
(It is an alkyl group of (C 1 -C 3 )].
【００２４】環式飽和アミン類としては、ピペリジン、
ピロリジン、モリホリン、ピペラジン及びこれらの骨格
を有する誘導体及びこれらのアンモニウムヒドロキシド
化合物などが好ましく用いられる。The cyclic saturated amines include piperidine,
Pyrrolidine, morpholine, piperazine, derivatives having these skeletons, and ammonium hydroxide compounds thereof are preferably used.
【００２５】環式不飽和アミン類としては、ピリジン、
α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、キノリ
ン、イソキノリン、ピロリン及びこれらの骨格を有する
誘導体及びこれらのアンモニウムヒドロキシド化合物な
どが好ましく用いられる。Examples of the cyclic unsaturated amines include pyridine,
α-picoline, β-picoline, γ-picoline, quinoline, isoquinoline, pyrroline, derivatives having these skeletons, and ammonium hydroxide compounds thereof are preferably used.
【００２６】無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウムなどの金属水酸化物が好
ましく用いられる。As the inorganic base, metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide are preferably used.
【００２７】これら塩基性化合物（ロ）の濃度は０．０
５ｍｏｌ／ｌ以上、１５ｍｏｌ／ｌ以下、好ましくは
０．１〜１０．０ｍｏｌ／ｌ、更に好ましくは０．２〜
８．０ｍｏｌ／ｌの範囲で用いられる。この際、塩基性
化合物が少なすぎる場合は、得られるポリマーの収率が
低下し、逆に多すぎる場合は、導電性が低下する傾向を
示す。前記塩基性化合物は、それぞれ任意の割合で混合
して用いることもできる。The concentration of these basic compounds (b) is 0.0
5 mol / l or more and 15 mol / l or less, preferably 0.1-10.0 mol / l, more preferably 0.2-
Used in the range of 8.0 mol / l. At this time, if the amount of the basic compound is too small, the yield of the polymer obtained will decrease, and if it is too large, the conductivity will tend to decrease. The basic compounds may be mixed and used in arbitrary proportions.
【００２８】前記酸性基置換複素環式化合物類（イ）と
塩基性化合物（ロ）との重量比は（イ）：（ロ）＝１：
１００〜１００：１、好ましくは１０：９０〜９０：１
０が用いられる。ここで、塩基性化合物の割合が低すぎ
ると反応性が低下し導電性も低下することがある。逆に
割合が高すぎる場合は得られるポリマー中の酸性基と塩
基性化合物が塩を形成する割合が高くなり導電性が低下
することがある。The weight ratio of the acidic group-substituted heterocyclic compound (a) to the basic compound (b) is (a) :( b) = 1:
100-100: 1, preferably 10: 90-90: 1
0 is used. Here, if the ratio of the basic compound is too low, the reactivity may decrease and the conductivity may also decrease. On the contrary, when the ratio is too high, the ratio of the acidic group and the basic compound in the obtained polymer to form a salt becomes high, and the conductivity may decrease.
【００２９】また、前記酸性基置換複素環式化合物類
（イ）中の酸性基と塩基性化合物（ロ）との当量比は
１：１００〜１００：１、好ましくは１：０．２５〜
１：２０、さらに好ましくは１：０．５〜１：１５で用
いることができる。ここで、塩基性化合物の割合が低す
ぎると反応性が低下し導電性も低下する。逆に割合が高
すぎる場合には得られる三量体中の酸性基と塩基性化合
物が塩を形成する割合が高くなり導電性が低下する傾向
にある。Further, the equivalent ratio of the acidic group in the acidic group-substituted heterocyclic compound (a) to the basic compound (b) is 1: 100 to 100: 1, preferably 1: 0.25.
It can be used at 1:20, more preferably 1: 0.5 to 1:15. Here, if the ratio of the basic compound is too low, the reactivity decreases and the conductivity also decreases. On the other hand, if the ratio is too high, the ratio of the acidic group and basic compound in the trimer obtained to form a salt increases, and the conductivity tends to decrease.
【００３０】反応は、これら塩基性化合物（ロ）共存下
で、酸化剤（ハ）により酸化反応することにより行う。The reaction is carried out by an oxidizing reaction with an oxidizing agent (c) in the presence of these basic compounds (b).
【００３１】前記の酸性基置換複素環式化合物三量体の
合成法で用いる酸化剤（ハ）は、特に限定されないが、
例えば塩化第二鉄六水和物、無水塩化第二鉄、硝酸第二
鉄九水和物、硫酸第二鉄ｎ水和物、硫酸第二鉄アンモニ
ウム十二水和物、過塩素酸第二鉄ｎ水和物、テトラフル
オロホウ酸第二鉄、塩化第二銅、硝酸第二鉄、硫酸第二
銅、テトラフルオロホウ酸第二銅、テトラフルオロホウ
酸ニトロソニウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリ
ウム、過硫酸カリウム、過ヨウ素酸カリウム、過酸化水
素、オゾン、ヘキサシアノ第二鉄酸カリウム、硫酸四ア
ンモニウムセリウム（ＩＶ）二水和物塩化第二鉄六水和
物などを挙げられる。好ましくは、塩化第二鉄六水和
物、無水塩化第二鉄、硝酸第二鉄九水和物、硫酸第二鉄
ｎ水和物、硫酸第二鉄アンモニウム十二水和物、過塩素
酸第二鉄ｎ水和物、テトラフルオロホウ酸第二鉄、塩化
第二銅、硝酸第二鉄、硫酸第二銅、テトラフルオロホウ
酸第二銅、テトラフルオロホウ酸ニトロソニウム、過硫
酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、
過ヨウ素酸カリウム、過酸化水素、オゾンを挙げること
ができる。より好ましくは、塩化第二鉄六水和物、無水
塩化第二鉄、硝酸第二鉄九水和物、硫酸第二鉄ｎ水和
物、硫酸第二鉄アンモニウム十二水和物、過塩素酸第二
鉄ｎ水和物、テトラフルオロホウ酸第二鉄、塩化第二
銅、硝酸第二鉄、硫酸第二銅、テトラフルオロホウ酸第
二銅、過硫酸アンモニウム、オゾンが挙げられ、その中
でも、塩化第二鉄六水和物、無水塩化第二鉄、硝酸第二
鉄九水和物、硫酸第二鉄ｎ水和物、硫酸第二鉄アンモニ
ウム十二水和物、過塩素酸第二鉄ｎ水和物、テトラフル
オロホウ酸第二鉄、過硫酸アンモニウム、オゾンが最も
実用上好ましい。なお、これらの酸化剤はそれぞれ単独
で用いても、また２種以上を任意の割合で併用して用い
てもよい。The oxidizing agent (c) used in the method for synthesizing the above-mentioned acidic group-substituted heterocyclic compound trimer is not particularly limited,
For example, ferric chloride hexahydrate, anhydrous ferric chloride, ferric nitrate nonahydrate, ferric sulfate n-hydrate, ferric ammonium ammonium dodecahydrate, perchloric acid second Iron n-hydrate, ferric tetrafluoroborate, cupric chloride, ferric nitrate, cupric sulfate, cupric tetrafluoroborate, nitrosonium tetrafluoroborate, ammonium persulfate, sodium persulfate , Potassium persulfate, potassium periodate, hydrogen peroxide, ozone, potassium hexacyanoferrate, tetraammonium cerium (IV) sulfate dihydrate ferric chloride hexahydrate, and the like. Preferably, ferric chloride hexahydrate, anhydrous ferric chloride, ferric nitrate nonahydrate, ferric sulfate n-hydrate, ferric ammonium sulfate dodecahydrate, perchloric acid Ferric iron n-hydrate, ferric tetrafluoroborate, cupric chloride, ferric nitrate, cupric sulfate, cupric tetrafluoroborate, nitrosonium tetrafluoroborate, ammonium persulfate, persulfate Sodium sulfate, potassium persulfate,
Mention may be made of potassium periodate, hydrogen peroxide and ozone. More preferably, ferric chloride hexahydrate, anhydrous ferric chloride, ferric nitrate nonahydrate, ferric sulfate n-hydrate, ferric ammonium ammonium dodecahydrate, perchlorine Ferric acid n-hydrate, ferric tetrafluoroborate, cupric chloride, ferric nitrate, cupric sulfate, cupric tetrafluoroborate, ammonium persulfate, ozone, among them, , Ferric chloride hexahydrate, anhydrous ferric chloride, ferric nitrate nonahydrate, ferric sulfate n-hydrate, ferric ammonium ammonium dodecahydrate, perchloric acid second Iron n-hydrate, ferric tetrafluoroborate, ammonium persulfate, and ozone are most practically preferable. These oxidizing agents may be used alone or in combination of two or more at an arbitrary ratio.
【００３２】前記の酸性基置換複素環式化合物三量体の
合成法で用いる（イ）あるいは（イ）と（ニ）の混合物
などの単量体と、酸化剤（ハ）とのモル比は、単量体：
酸化剤＝１：０．５〜１００、好ましくは１：１〜５０
で用いられる。ここで、酸化剤の割合が低いと反応性が
低下して原料が残存し、逆にその割合があまり高いと生
成した三量体を過酸化して、生成物の劣化を引き起こす
ことがある。The molar ratio of the monomer such as (a) or the mixture of (a) and (d) used in the above-mentioned method for synthesizing the trimer of the acidic group-substituted heterocyclic compound to the oxidizing agent (c) is , Monomer:
Oxidizing agent = 1: 0.5 to 100, preferably 1: 1 to 50
Used in. Here, if the proportion of the oxidant is low, the reactivity is lowered and the raw material remains. On the contrary, if the proportion is too high, the produced trimer may be peroxidized to cause deterioration of the product.
【００３３】前記の酸性基置換複素環式化合物三量体の
製造法で用いる溶媒は、水、有機溶媒が使用できる。有
機溶媒は特に限定されないが、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、アセトン、アセトニトリル、プ
ロピオニトリル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキ
サン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、
γ―ブチルラクトン、プロピレンカーボネート、スルホ
ラン、ニトロメタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ−メチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメ
チルスルホン、Ｎ−メチルピロリドン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロ
ロエタンなどが用いられる。なお、これらの溶媒はそれ
ぞれ単独で用いても、また２種以上を任意の割合で混合
して用いてもよい。これら溶媒のなかでは、水、アセト
ン、アセトニトリル、１，４−ジオキサン、γ−ブチル
ラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが好まし
く、特にアセトニトリルが実用上最も好ましい。Water or an organic solvent can be used as the solvent used in the above-mentioned method for producing a trimer of an acidic group-substituted heterocyclic compound. The organic solvent is not particularly limited, but includes methanol, ethanol, isopropanol, acetone, acetonitrile, propionitrile, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone,
γ-butyl lactone, propylene carbonate, sulfolane, nitromethane, N, N-dimethylformamide,
N-methylacetamide, dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfone, N-methylpyrrolidone, benzene, toluene, xylene, methylene chloride, chloroform, dichloroethane and the like are used. These solvents may be used alone, or two or more kinds may be mixed and used at an arbitrary ratio. Among these solvents, water, acetone, acetonitrile, 1,4-dioxane, γ-butyl lactone, N, N-dimethylformamide and the like are preferable, and acetonitrile is most preferable for practical use.
【００３４】なお、これら溶媒に酸性化合物を添加する
ことができる。酸性化合物としては、硫酸、塩酸、硝酸
などの無機酸、ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸、メタン
スルホン酸などを挙げることができる。An acidic compound can be added to these solvents. Examples of the acidic compound include inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and nitric acid, p-toluenesulfonic acid, acetic acid and methanesulfonic acid.
【００３５】前記の酸性基置換複素環式化合物三量体の
製造法では、反応時の酸性基置換複素環式化合物（イ）
と複素環式化合物（ニ）を併用する場合、モル比率であ
る（イ）：（ニ）は、１０：９０〜９９：１であり、好
ましくは２０：８０〜９９：１で用いることができる。In the above-mentioned method for producing a trimer of an acidic group-substituted heterocyclic compound, the acidic group-substituted heterocyclic compound (a) during the reaction is used.
When used together with the heterocyclic compound (d), the molar ratio (i) :( d) is 10:90 to 99: 1, and preferably 20:80 to 99: 1. .
【００３６】前記の酸性基置換複素環式化合物三量体の
製造法では、反応時の酸性基置換複素環式化合物（イ）
の濃度または酸性基置換複素環式化合物（イ）及び複素
環式化合物（ニ）の混合物の濃度は、溶媒に対して０．
０１質量％以上、好ましくは０．１〜５０質量％、より
好ましくは１〜３０質量％の範囲である。In the above-mentioned method for producing an acidic group-substituted heterocyclic compound trimer, the acidic group-substituted heterocyclic compound (a) at the time of reaction is used.
Or the concentration of the mixture of the acidic group-substituted heterocyclic compound (a) and the heterocyclic compound (d) is 0.
It is in the range of 01 mass% or more, preferably 0.1 to 50 mass%, more preferably 1 to 30 mass%.
【００３７】本発明の製造法における反応温度は、−２
０〜１２０℃の範囲で行うのが好ましく、より好ましく
は０〜１００℃の範囲が適用される。−２０℃以下では
酸化反応の進行が極めて遅く、三量体に対してドーパン
トとなるＸａ−が効率良くドープできない場合があり、
導電率が低下することがある。また１２０℃以上では三
量体の構造劣化が進行し、導電性が低下する傾向にあ
る。The reaction temperature in the production method of the present invention is -2.
It is preferably carried out in the range of 0 to 120 ° C, more preferably in the range of 0 to 100 ° C. At −20 ° C. or lower, the progress of the oxidation reaction is extremely slow, and X a − serving as a dopant may not be efficiently doped into the trimer.
The conductivity may decrease. If the temperature is 120 ° C. or higher, the structure of the trimer is deteriorated and the conductivity tends to decrease.
【００３８】また、本発明の製造法における反応方法は
任意に選ぶことができる。例えば、酸性基置換複素環式
化合物（イ）と塩基性化合物（ロ）の溶液あるいは酸性
基置換複素環式化合物（イ）及び複素環式化合物（ニ）
の混合物と塩基性化合物（ロ）の溶液中に、酸化剤
（ハ）の溶液を添加する方法も可能であり、また、この
逆の方法も適用可能である。酸化剤（ハ）溶液の添加時
間は特に限定されないが、通常は、１５分以上であり、
好ましくは３０〜７２０分、より好ましくは３０〜１８
０分である。The reaction method in the production method of the present invention can be arbitrarily selected. For example, a solution of an acidic group-substituted heterocyclic compound (a) and a basic compound (b), or an acidic group-substituted heterocyclic compound (a) and a heterocyclic compound (d)
A method of adding the solution of the oxidant (ha) to the solution of the mixture of the basic compound (ii) and the solution of the basic compound (ii) is also possible, and the reverse method is also applicable. The addition time of the oxidizing agent (C) solution is not particularly limited, but is usually 15 minutes or more,
Preferably 30-720 minutes, more preferably 30-18
0 minutes.
【００３９】本発明の製造法で得られる一般式（２）あ
るいは（４）で示される酸性基置換複素環式化合物三量
体は分子内中の酸性基による自己ドープ型の三量体であ
り、外部ドーパントが存在しなくても導電性などの性能
を有するが、外部ドーパントを付加することもできる。
一般式（２）あるいは（４）中のＸａ−は外部ドーパン
トであり、反応中の酸化剤等に由来するプロトン酸の陰
イオンである。具体的には、塩素イオン、臭素イオン、
ヨウ素イオン、フッ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオ
ン、硫酸水素イオン、リン酸イオン、ほうフッ化イオ
ン、過塩素酸イオン、チオシアン酸イオン、酢酸イオ
ン、プロピオン酸イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオ
ン、トリフルオロ酢酸イオン、トリフルオロメタンスル
ホン酸イオン等の１〜３価の陰イオンであり、好ましく
は塩素イオン、硫酸イオン、ホウフッ化イオンなどの１
〜２価の陰イオンである。最も好ましいのは塩素イオン
などの１価の陰イオン及び硫酸イオンなどの２価の陰イ
オンである。例えば、酸化剤として無水塩化第二鉄を選
んで反応を行った場合、複素環式化合物三量体中の外部
ドーパントＸａ−は塩素イオンとなり、過硫酸アンモニ
ウムを用いて反応を行った場合は、外部ドーパントＸ
ａ−は硫酸イオンとなる。The acidic group-substituted heterocyclic compound trimer represented by the general formula (2) or (4) obtained by the production method of the present invention is a self-doping type trimer with an acidic group in the molecule. Although it has performance such as conductivity even when no external dopant is present, an external dopant can be added.
X a- is in the general formula (2) or (4) is an external dopant is the anion of a protonic acid derived from the oxidation agent in the reaction. Specifically, chlorine ion, bromine ion,
Iodine ion, fluorine ion, nitrate ion, sulfate ion, hydrogen sulfate ion, phosphate ion, borate ion, perchlorate ion, thiocyanate ion, acetate ion, propionate ion, p-toluenesulfonate ion, trifluoro It is a 1 to 3 valent anion such as acetate ion and trifluoromethanesulfonate ion, preferably 1 such as chloride ion, sulfate ion and borofluoride ion.
~ A divalent anion. Most preferred are monovalent anions such as chloride and divalent anions such as sulfate. For example, if the reaction was carried out to select the anhydrous ferric chloride as an oxidant, external dopant X a- is a heterocyclic compound trimer becomes chloride ions, in the case of performing the reaction using ammonium persulfate, External dopant X
a- becomes sulfate ion.
【００４０】本発明の製造法で得られる酸性基置換複素
環式化合物三量体は、酸化剤として過酸化水素やオゾン
を用いる場合以外はドープ型の複素環式化合物三量体で
あり、その繰り返し単位に対する外部ドーパントＸａ−
のモル比（ドープ率）ｍは０．００１〜３．０である。
酸化剤として過酸化水素またはオゾンを用いるとｍ＝０
となる。The acidic group-substituted heterocyclic compound trimer obtained by the production method of the present invention is a doped heterocyclic compound trimer except when hydrogen peroxide or ozone is used as an oxidizing agent. External dopant X a- for the repeating unit
The molar ratio (dope ratio) m is 0.001 to 3.0.
When hydrogen peroxide or ozone is used as an oxidant, m = 0
Becomes
【００４１】Ｎ−アルキル化した酸性基置換複素環式化
合物三量体は、原料にＮ−アルキル基置換複素環式化合
物三量体を用いて三量体化してもよいし、三量体を合成
してから公知のアルキル化剤を用いて合成することもで
きる。The N-alkylated acidic group-substituted heterocyclic compound trimer may be trimerized by using the N-alkyl group-substituted heterocyclic compound trimer as a raw material, or the trimer may be It is also possible to synthesize using a known alkylating agent after the synthesis.
【００４２】本発明の酸性基置換複素環式化合物三量体
を電池、コンデンサ等の電極に使用する場合、サイクル
特性が良好であることが必要不可欠である。サイクル特
性は外部ドーパントＸａ−の種類によってその優劣が影
響する場合もある。サイクル特性が良好な酸性基置換複
素環式化合物三量体を与える外部ドーパントＸａ−は、
１〜３価の陰イオンであり、好ましくは１〜２価の陰イ
オンであり、最も好ましくは、１価の陰イオンである塩
素イオン、２価の陰イオンである硫酸イオンである。When the acidic group-substituted heterocyclic compound trimer of the present invention is used for electrodes of batteries, capacitors, etc., good cycle characteristics are indispensable. The cycle characteristics may be affected by the superiority or inferiority depending on the type of the external dopant Xa- . The external dopant Xa-, which gives an acidic group-substituted heterocyclic compound trimer having good cycle characteristics, is
It is a monovalent to monovalent anion, preferably a monovalent to divalent anion, and most preferably a monovalent anion, a chloride ion, and a divalent anion, a sulfate ion.
【００４３】また、本発明のＸａ−成分の存在下におけ
る反応方法により得られた外部ドープ型酸性基置換複素
環式化合物三量体は、従来から各種導電性ポリマー、電
荷移動錯体の脱ドープ工程として公知の方法、すなわ
ち、アンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム
などのアルカリ性溶液中に三量体をケン濁させて外部ド
ーパントＸａ−を除去することができる。The externally doped acidic group-substituted heterocyclic compound trimer obtained by the reaction method of the present invention in the presence of the Xa- component has been conventionally used for dedoping of various conductive polymers and charge transfer complexes. known methods as steps, i.e., aqueous ammonia, sodium hydroxide, can be removed outside dopant X a- and trimer was Nigosa Ken the alkaline solution such as lithium hydroxide.
【００４４】また、再度任意の種類、任意の量のドープ
剤による処理により任意の外部ドーパントを任意のドー
プ率で付加することもできる。つまり、反応終了後に生
成した酸性基置換複素環式化合物三量体に対して、酸性
溶液を用いてドーピング処理を行うことで、ドープ率が
向上して導電性を向上させることができる。酸性溶液
は、具体的には、塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸や、ｐ
−トルエンスルホン酸、カンファスルホン酸、安息香酸
およびこれらの骨格を有する誘導体などの有機酸や、ポ
リスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリ
（２−アクリルアミド−２−メチルプロパン）スルホン
酸、ポリビニル硫酸およびこれらの骨格を有する誘導体
などの高分子酸を含む水溶液、あるいは、水―有機溶媒
の混合溶液である。なお、これらの無機酸、有機酸、高
分子酸はそれぞれ単独で用いても、また２種以上を任意
の割合で混合して用いてもよい。Further, it is possible to add an arbitrary external dopant at an arbitrary doping rate by treating again with an arbitrary kind and an arbitrary amount of a doping agent. That is, by performing the doping treatment on the acidic group-substituted heterocyclic compound trimer produced after the completion of the reaction using an acidic solution, the doping rate can be improved and the conductivity can be improved. The acidic solution is specifically an inorganic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid or nitric acid, or p
-Organic acids such as toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, benzoic acid and derivatives having these skeletons, polystyrenesulfonic acid, polyvinylsulfonic acid, poly (2-acrylamido-2-methylpropane) sulfonic acid, polyvinylsulfuric acid and these It is an aqueous solution containing a polymeric acid such as a derivative having a skeleton, or a mixed solution of water and an organic solvent. In addition, these inorganic acids, organic acids, and polymeric acids may be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.
【００４５】また、本発明の方法により得られた酸性基
置換複素環式化合物三量体を、酸性基置換複素環式化合
物三量体単独の導電性組成物として、あるいは導電補助
剤として各種カーボン、あるいは添加剤としてコロイダ
ルシリカ、各種バインダーと混練・複合させて酸性基置
換複素環式化合物三量体複合体の導電性組成物として使
用することができる。そのなかでも特に粒径０．１〜５
０μｍの粒子を使用した導電性組成物が好ましい。この
粒径調製方法は特に限定されないが、一般的にはスラリ
ー洗浄後にスプレードライを行うか、あるいは乾燥後の
粉体を乳鉢、ボールミル、ブレンダー、超音波振動処理
等で粉砕して行う。酸性基置換複素環式化合物三量体の
粒径が５０μｍを超えたものを使用して前述の導電性組
成物を成型すると、成型品の機械的強度が脆くなる傾向
にある。Further, the acidic group-substituted heterocyclic compound trimer obtained by the method of the present invention is used as a conductive composition of an acidic group-substituted heterocyclic compound trimer alone or as a conductive auxiliary agent of various carbons. Alternatively, it can be used as a conductive composition of an acidic group-substituted heterocyclic compound trimer complex by kneading and compounding with colloidal silica as an additive and various binders. Among them, especially the particle size 0.1-5
Conductive compositions using 0 μm particles are preferred. The method of adjusting the particle size is not particularly limited, but generally, it is carried out by spray-drying after washing the slurry or by pulverizing the powder after drying with a mortar, a ball mill, a blender, an ultrasonic vibration treatment or the like. When the above conductive composition is molded using an acidic group-substituted heterocyclic compound trimer having a particle size of more than 50 μm, the mechanical strength of the molded product tends to become brittle.
【００４６】さらに、本発明の酸性基置換複素環式化合
物三量体は、積層構造を有することにより導電機能が発
現する。特に、層間隔０．１〜０．６ｎｍである積層構
造を有していることが好ましい。一般的に、超微細積層
構造をもつ化合物は、剛性、強度、耐熱性などの物性が
良好である。ただし、層間隔が０．１ｎｍ未満であると
積層構造が不安定となる傾向にある。また０．６ｎｍよ
りも層間隔が広がると、三量体相互間での電子ホッピン
グ伝導に悪影響を与え、導電性が低下する傾向にある。Further, the acidic group-substituted heterocyclic compound trimer of the present invention exhibits a conductive function due to having a laminated structure. In particular, it is preferable to have a laminated structure with a layer interval of 0.1 to 0.6 nm. In general, a compound having an ultrafine laminated structure has good physical properties such as rigidity, strength and heat resistance. However, if the layer spacing is less than 0.1 nm, the laminated structure tends to be unstable. If the layer spacing is wider than 0.6 nm, the electron hopping conduction between the trimers is adversely affected and the conductivity tends to decrease.
【００４７】これらの酸性基置換複素環式化合物三量体
は、その純度が導電性能に影響を与えるため、合成後、
再結晶、再沈精製、昇華精製等の精製方法を用いて高純
度化することが好ましい。Since the purity of these acidic group-substituted heterocyclic compound trimers affects the conductive performance, after the synthesis,
It is preferable to highly purify using a purification method such as recrystallization, reprecipitation purification, and sublimation purification.
【００４８】。..
【実施例】本発明を実施例を挙げて更に詳細に説明する
が、以下の実施例は本発明の範囲を限定するものではな
い。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the following examples do not limit the scope of the present invention.
【００４９】なお、インドール誘導体三量体製造例にお
いて、元素分析測定は、サーモクエスト社製 ＥＡ１１
１０で測定した。導電率測定は、三菱化学製ロレスター
計ＭＣＰ−Ｔ３５０（４端子法：電極間距離１ｍｍ）で
測定した。さらに、Ｘ線回折解析（ＸＲＤ）は、理学電
機株式会社製ＲＩＮＴ−１１００（管球：ＣｕＫαＸ
線）で測定した。In the production example of the indole derivative trimer, elemental analysis was carried out by EA11 manufactured by Thermoquest Co.
It was measured at 10. The electrical conductivity was measured with a Mitsubishi Chemical Lorester meter MCP-T350 (4 terminal method: distance between electrodes 1 mm). Furthermore, X-ray diffraction analysis (XRD) was performed by Rigaku Denki Co., Ltd. RINT-1100 (tube: CuK α X
Line).
【００５０】実施例１
インドール−５−カルボン酸三量体の合成
２００ｍｌの三ツ口フラスコに水２０ｍｌを入れ、トリ
エチルアミン１．５２ｇ及びインドール−５−カルボン
酸２．４２ｇを溶解した。一方、酸化剤溶液の調製は水
５０ｍｌに対して、過硫酸アンモニウム２０．５４ｇ、
を溶解して１０分間攪拌した。次に、インドール−５−
カルボン酸水溶液に３０分間かけて、調製した酸化剤溶
液を滴下した後、２０℃で５時間攪拌した。反応溶液は
若干の発熱を伴いながら薄黄色から淡緑色に変化した。
反応終了後、桐山漏斗で吸引濾過し、アセトニトリル次
いでメタノールで洗浄し、乾燥して、淡緑色のインドー
ル−５−カルボン酸三量体２．０６ｇ（収率８５％）を
得た。得られた三量体を錠剤成型器で加圧成型させて直
径１０ｍｍ、厚さ１ｍｍの形状に切り出して四端子法に
て導電率を測定したところ、０．４１Ｓ／ｃｍであっ
た。また、Ｘ線回折結晶解析の結果、層間隔は０．４８
ｎｍであった。前記インドール−５−カルボン酸三量体
５質量部、アンモニア１質量部を水１００質量部に室温
で攪拌溶解し導電性組成物を調整した。このようにして
得られた溶液をガラス基板上にスピンコート法により塗
布し、８０℃で乾燥させた。膜厚３．５μｍの表面の平
滑な表面抵抗値２．０×１０６Ωの無色透明フィルムが
得られた。Example 1 Synthesis of Indole-5-carboxylic acid trimer 20 ml of water was placed in a 200 ml three-necked flask and 1.52 g of triethylamine and 2.42 g of indole-5-carboxylic acid were dissolved. On the other hand, the oxidant solution was prepared by adding 50.54 g of water to 20.54 g of ammonium persulfate
Was dissolved and stirred for 10 minutes. Next, Indore-5
The prepared oxidizing agent solution was added dropwise to the carboxylic acid aqueous solution over 30 minutes, and the mixture was stirred at 20 ° C. for 5 hours. The reaction solution changed from pale yellow to pale green with some heat generation.
After completion of the reaction, the mixture was suction filtered with a Kiriyama funnel, washed with acetonitrile and then with methanol, and dried to obtain 2.06 g (yield 85%) of a pale green indole-5-carboxylic acid trimer. The obtained trimer was pressure-molded with a tablet molding machine, cut into a shape with a diameter of 10 mm and a thickness of 1 mm, and the conductivity was measured by the four-terminal method, and it was 0.41 S / cm. As a result of X-ray diffraction crystal analysis, the layer spacing was 0.48.
was nm. 5 parts by mass of the indole-5-carboxylic acid trimer and 1 part by mass of ammonia were dissolved in 100 parts by mass of water with stirring at room temperature to prepare a conductive composition. The solution thus obtained was applied on a glass substrate by spin coating and dried at 80 ° C. A colorless transparent film having a smooth surface resistance value of 2.0 × 10 6 Ω having a film thickness of 3.5 μm was obtained.
【００５１】実施例２
インドール−５−スルホン酸三量体の合成
２００ｍｌの三ツ口フラスコに水１０ｍｌとアセトニト
リル１０ｍｌを入れ、アンモニア水（２７％）１．５０
ｇ及びインドール−５−スルホン酸２．４２ｇを溶解し
た。一方、酸化剤溶液の調製は水５０ｍｌに対して、過
硫酸アンモニウム２０．５４ｇ、を溶解して１０分間攪
拌した。次に、インドール−５−スルホン酸水溶液に３
０分間かけて、調製した酸化剤溶液を滴下した後、２０
℃で５時間攪拌した。反応溶液は若干の発熱を伴いなが
ら薄黄色から淡緑色に変化した。反応終了後、桐山漏斗
で吸引濾過し、アセトニトリル次いでメタノールで洗浄
し、乾燥して、淡緑色のインドール−５−スルホン「酸
三量体２．１３ｇ（収率８５％）を得た。得られた三量
体を錠剤成型器で加圧成型させて直径１０ｍｍ、厚さ１
ｍｍの形状に切り出して四端子法にて導電率を測定した
ところ、０．５６Ｓ／ｃｍであった。前記インドール−
５−スルホン酸三量体３質量部、アクリルエマルション
「ダイヤナールＭＸ−１７０８」（三菱レイヨン社製）
２０質量部、アンモニア０．４質量部を水１００質量部
に室温で攪拌溶解し導電性組成物を調整した。このよう
にして得られた溶液をガラス基板上にスピンコート法に
より塗布し、８０℃で乾燥させた。膜厚２．０μｍの表
面の平滑な表面抵抗値２．７×１０７Ωの無色透明フィ
ルムが得られた。Example 2 Synthesis of indole-5-sulfonic acid trimer 10 ml of water and 10 ml of acetonitrile were placed in a 200 ml three-necked flask, and aqueous ammonia (27%) 1.50 was added.
g and indole-5-sulfonic acid 2.42 g were dissolved. On the other hand, in the preparation of the oxidizing agent solution, 20.54 g of ammonium persulfate was dissolved in 50 ml of water and stirred for 10 minutes. Next, add 3 parts to the indole-5-sulfonic acid aqueous solution.
After adding the prepared oxidant solution dropwise over 0 minutes, 20
The mixture was stirred at 0 ° C for 5 hours. The reaction solution changed from pale yellow to pale green with some heat generation. After completion of the reaction, the mixture was suction filtered with a Kiriyama funnel, washed with acetonitrile and then with methanol, and dried to obtain 2.13 g (yield 85%) of a pale green indole-5-sulfone "acid trimer." The trimer was pressure-molded with a tablet molding machine and had a diameter of 10 mm and a thickness of 1
When it was cut into a shape of mm and the conductivity was measured by the four-terminal method, it was 0.56 S / cm. The indole
3 parts by mass of 5-sulfonic acid trimer, acrylic emulsion "Dianal MX-1708" (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)
20 parts by mass and 0.4 parts by mass of ammonia were dissolved in 100 parts by mass of water with stirring at room temperature to prepare a conductive composition. The solution thus obtained was applied on a glass substrate by spin coating and dried at 80 ° C. A colorless transparent film having a smooth surface resistance value of 2.7 × 10 7 Ω having a film thickness of 2.0 μm was obtained.
【００５２】実施例３
インドール−５−カルボニトリルとインドール−５−カ
ルボン酸との共三量体の合成
２００ｍｌの三ツ口フラスコに水２０ｍｌを入れ、トリ
エチルアミン１．５２ｇ、インドール−５−カルボン酸
１．６１ｇおよびインドール−５−カルボニトリル０．
７１ｇを溶解した。一方、酸化剤溶液の調製は水５０ｍ
ｌに対して、過硫酸アンモニウム２０．５４ｇ、を溶解
して１０分間攪拌した。次に、インドール−５−カルボ
ン酸とインドール−５−カルボニトリル水溶液に３０分
間かけて、調製した酸化剤溶液を滴下した後、２０℃で
５時間攪拌した。反応溶液は若干の発熱を伴いながら薄
黄色から淡緑色に変化した。反応終了後、桐山漏斗で吸
引濾過し、アセトニトリル次いでメタノールで洗浄し、
乾燥して、淡緑色のインドール−５−カルボン酸とイン
ドール−５−カルボン酸との共三量体１．９２ｇ（収率
８３％）を得た。得られた三量体を錠剤成型器で加圧成
型させて直径１０ｍｍ、厚さ１ｍｍの形状に切り出して
四端子法にて導電率を測定したところ、０．４５Ｓ／ｃ
ｍであった。前記インドール−５−カルボニトリルとイ
ンドール−５−カルボン酸との共三量体０．３質量部を
Ｎ−メチルピロリドン１００質量部に室温で攪拌溶解し
導電性組成物を調整した。このようにして得られた溶液
をガラス基板上にスピンコート法により塗布し、１００
℃で乾燥させた。膜厚０．１μｍの表面の平滑な表面抵
抗値５．４×１０８Ωの無色透明フィルムが得られた。Example 3 Synthesis of co-trimer of indole-5-carbonitrile and indole-5-carboxylic acid 20 ml of water was placed in a 200 ml three-necked flask, 1.52 g of triethylamine and 1. 61 g and indole-5-carbonitrile 0.
71 g was dissolved. On the other hand, the oxidizer solution is prepared with 50 m of water.
20.54 g of ammonium persulfate was dissolved in 1 and stirred for 10 minutes. Next, the prepared oxidizing agent solution was added dropwise to the indole-5-carboxylic acid and indole-5-carbonitrile aqueous solution over 30 minutes, followed by stirring at 20 ° C. for 5 hours. The reaction solution changed from pale yellow to pale green with some heat generation. After completion of the reaction, suction filtration with a Kiriyama funnel, washing with acetonitrile and then methanol,
After drying, 1.92 g (yield: 83%) of a co-trimer of light green indole-5-carboxylic acid and indole-5-carboxylic acid was obtained. The obtained trimer was pressure-molded with a tablet molding machine, cut into a shape with a diameter of 10 mm and a thickness of 1 mm, and the conductivity was measured by the four-terminal method.
It was m. A conductive composition was prepared by stirring and dissolving 0.3 part by mass of the co-trimer of indole-5-carbonitrile and indole-5-carboxylic acid in 100 parts by mass of N-methylpyrrolidone at room temperature. The solution thus obtained was applied onto a glass substrate by spin coating to form 100
It was dried at ° C. A colorless transparent film having a smooth surface resistance value of 5.4 × 10 8 Ω and a film thickness of 0.1 μm was obtained.
【００５３】比較例１
インドール−５−カルボン酸三量体の合成
２００ｍｌの三ツ口フラスコに水２０ｍｌを入れ、及び
インドール−５−カルボン酸２．４２ｇを懸濁分散し
た。一方、酸化剤溶液の調製は水５０ｍｌに対して、過
硫酸アンモニウム２０．５４ｇ、を溶解して１０分間攪
拌した。次に、インドール−５−カルボン酸水溶液に３
０分間かけて、調製した酸化剤溶液を滴下した後、２０
℃で５時間攪拌した。反応溶液に発熱はほとんどなく薄
黄色から黒色に変化た。反応終了後、桐山漏斗で吸引濾
過し、アセトニトリル次いでメタノールで洗浄し、乾燥
して、黒色のインドール−５−カルボン酸三量体０．３
６ｇ（収率１５％）を得た。得られた三量体を錠剤成型
器で加圧成型させて直径１０ｍｍ、厚さ１ｍｍの形状に
切り出して四端子法にて導電率を測定したところ、０．
０８Ｓ／ｃｍであった。Comparative Example 1 Synthesis of indole-5-carboxylic acid trimer 20 ml of water was placed in a 200 ml three-necked flask, and 2.42 g of indole-5-carboxylic acid was suspended and dispersed. On the other hand, in the preparation of the oxidizing agent solution, 20.54 g of ammonium persulfate was dissolved in 50 ml of water and stirred for 10 minutes. Then add 3 parts of indole-5-carboxylic acid
After adding the prepared oxidant solution dropwise over 0 minutes, 20
The mixture was stirred at 0 ° C for 5 hours. The reaction solution generated little exotherm and changed from pale yellow to black. After completion of the reaction, suction filtration with a Kiriyama funnel, washing with acetonitrile and then methanol, and drying were carried out to obtain a black indole-5-carboxylic acid trimer 0.3.
6 g (yield 15%) was obtained. The obtained trimer was pressure-molded with a tablet molding machine, cut into a shape having a diameter of 10 mm and a thickness of 1 mm, and the conductivity was measured by the four-terminal method.
It was 08 S / cm.
【００５４】[0054]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、導電性
を有する酸化還元容量、サイクル特性が良好な酸性基置
換複素環式化合物三量体の高純度、高収率での製造が容
易に可能となる。本発明の化学酸化法は大量生産が可能
であり、一度に多量の三量体を取得でき、工業的生産に
非常に適している。一方、従来の電解酸化では装置面の
特殊性より、大量生産は達成しがたい。また電解反応と
異なり、化学酸化反応では最後の環化反応がマイルドな
条件での酸化的環化反応であり、三量体自身を過酸化す
ることがないので、不純物の少ない、導電性の良好な三
量体を取得することができる。これらの酸性基置換複素
環式化合物三量体は、各種帯電防止、静電、コンデン
サ、電池、ＥＭＩシールド、化学センサー、表示素子、
有機ＥＬ材料、非線形材料、防錆剤、接着剤、繊維、帯
電防止塗料、メッキプライマー、静電塗装の下地、電気
防食等に幅広く適用可能である。INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, according to the present invention, it is possible to produce an acidic group-substituted heterocyclic compound trimer having a conductive redox capacity and good cycle characteristics with high purity and high yield. It is easily possible. The chemical oxidation method of the present invention is capable of mass production, can obtain a large amount of trimer at one time, and is very suitable for industrial production. On the other hand, in conventional electrolytic oxidation, mass production is difficult to achieve due to the peculiarities of the equipment. Also, unlike the electrolytic reaction, in the chemical oxidation reaction, the last cyclization reaction is an oxidative cyclization reaction under mild conditions and does not peroxidize the trimer itself, so there are few impurities and good conductivity. It is possible to obtain a new trimer. These acidic group-substituted heterocyclic compound trimers are various antistatic agents, electrostatic agents, capacitors, batteries, EMI shields, chemical sensors, display elements,
It can be widely applied to organic EL materials, non-linear materials, rust preventives, adhesives, fibers, antistatic paints, plating primers, bases for electrostatic coating, galvanic protection and the like.
Claims (3)
鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜２４の直鎖また
は分岐のアルコキシ基、炭素数２〜２４の直鎖または分
岐のアシル基、アルデヒド基、カルボキシル基、炭素数
２〜２４の直鎖または分岐のカルボン酸エステル基、ス
ルホン酸基、炭素数１〜２４の直鎖または分岐のスルホ
ン酸エステル基、シアノ基、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、アミド基、ジシアノビニル基、アルキル（炭素数１
〜８の直鎖または分岐のアルキル基）オキシカルボニル
シアノビニル基、ニトロフェニルシアノビニル基及びハ
ロゲン基よりなる群からそれぞれ独立に選ばれた置換基
を示し、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも１つがスルホン酸
基またはカルボキシル基である。また、Ｈｔは、ＮＲ
２８、Ｓ、Ｏ、Ｓｅ及びＴｅよりなる群から選ばれたヘ
テロ原子基、Ｒ２８は水素及び炭素数１〜２４の直鎖ま
たは分岐のアルキル基よりなる群から選ばれた置換基で
ある。）で示される酸性基置換複素環式化合物、そのア
ルカリ金属塩、アンモニウム塩および置換アンモニウム
塩のうち少なくとも１種の化合物（イ）を、塩基性化合
物（ロ）を含む溶液中で、少なくとも一種の酸化剤
（ハ）によって反応することを特徴とする下記一般式
（２） 【化２】 （上記式中、Ｒ１〜Ｒ４及びＨｔは、前記一般式（１）
と同様であり、またＸa-は、塩素イオン、臭素イオン、
ヨウ素イオン、フッ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオ
ン、硫酸水素イオン、リン酸イオン、ほうフッ化イオ
ン、過塩素酸イオン、チオシアン酸イオン、酢酸イオ
ン、プロピオン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、ｐ
−トルエンスルホン酸イオン、トリフルオロ酢酸イオ
ン、及びトリフルオロメタンスルホン酸イオンよりなる
１〜３価の陰イオン群より選ばれた少なくとも一種の陰
イオンであり、ａはＸのイオン価数を表し、１〜３の整
数であり、ｍはドープ率であり、その値は０〜３．０で
ある。）で示される複素環式化合物三量体の製造方法。1. The following general formula (1) [Chemical 1] (In the above formula, R1~ RFourIs hydrogen, a straight chain having 1 to 24 carbon atoms
Chain or branched alkyl group, straight chain having 1 to 24 carbon atoms,
Is a branched alkoxy group, a straight or branched chain having 2 to 24 carbon atoms
Various acyl groups, aldehyde groups, carboxyl groups, carbon numbers
2 to 24 linear or branched carboxylic acid ester groups,
Rufonic acid group, straight-chain or branched sulfo having 1 to 24 carbon atoms
Acid ester group, cyano group, hydroxyl group, nitro group, amino
Group, amide group, dicyanovinyl group, alkyl (carbon number 1
~ 8 linear or branched alkyl group) oxycarbonyl
Cyanovinyl group, nitrophenyl cyanovinyl group and Ha
Substituents independently selected from the group consisting of rogen groups
Indicates R1~ RFourAt least one of them is sulfonic acid
It is a group or a carboxyl group. Ht is NR
28, S, O, Se and Te selected from the group consisting of
Terror atom group, R28Is hydrogen and a straight chain having 1 to 24 carbon atoms.
Or a substituent selected from the group consisting of branched alkyl groups.
is there. ) An acidic group-substituted heterocyclic compound represented by
Lucari metal salt, ammonium salt and substituted ammonium
At least one compound (a) among the salts is combined with a basic compound.
At least one oxidizing agent in a solution containing
The following general formula characterized by reacting according to (C)
(2) [Chemical 2] (In the above formula, R1~ RFourAnd Ht are represented by the general formula (1)
Is the same asa-Is chlorine ion, bromine ion,
Iodine ion, fluorine ion, nitrate ion, sulfate ion
Ion, hydrogen sulfate ion, phosphate ion, borofluoride ion
Ion, perchlorate ion, thiocyanate ion, acetate ion
Ion, propionate ion, methanesulfonate ion, p
-Toluenesulfonate ion, trifluoroacetate ion
And trifluoromethanesulfonate ion
At least one anion selected from a group of 1 to 3 valent anions
Is an ion, a represents the ionic valence of X, and has an integer of 1 to 3
Is a number, m is a doping rate, and the value is 0 to 3.0.
is there. ] The manufacturing method of the heterocyclic compound trimer shown by these.
鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜２４の直鎖また
は分岐のアルコキシ基、炭素数２〜２４の直鎖または分
岐のアシル基、アルデヒド基、カルボキシル基、炭素数
２〜２４の直鎖または分岐のカルボン酸エステル基、ス
ルホン酸基、炭素数１〜２４の直鎖または分岐のスルホ
ン酸エステル基、シアノ基、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、アミド基、ジシアノビニル基、アルキル（炭素数１
〜８の直鎖または分岐のアルキル基）オキシカルボニル
シアノビニル基、ニトロフェニルシアノビニル基及びハ
ロゲン基よりなる群からそれぞれ独立に選ばれた置換基
を示し、Ｒ１〜Ｒ４のうち少なくとも１つがスルホン酸
基またはカルボキシル基である。Ｈｔは、ＮＲ２８、
Ｓ、Ｏ、Ｓｅ及びＴｅよりなる群から選ばれたヘテロ原
子基、Ｒ２８は水素及び炭素数１〜２４の直鎖または分
岐のアルキル基よりなる群から選ばれた置換基であ
る。）で示される酸性基置換複素環式化合物、そのアル
カリ金属塩、アンモニウム塩および置換アンモニウム塩
のうち少なくとも１種の化合物（イ）、及び下記一般式
（３） 【化４】 （上記式中、Ｒ５〜Ｒ８は、水素、炭素数１〜２４の直
鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜２４の直鎖また
は分岐のアルコキシ基、炭素数２〜２４の直鎖または分
岐のアシル基、アルデヒド基、炭素数２〜２４の直鎖ま
たは分岐のカルボン酸エステル基、炭素数１〜２４の直
鎖または分岐のスルホン酸エステル基、シアノ基、水酸
基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、ジシアノビニル
基、アルキル（炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキ
ル基）オキシカルボニルシアノビニル基、ニトロフェニ
ルシアノビニル基及びハロゲン基よりなる群からそれぞ
れ独立に選ばれた置換基である。また、Ｈｔは、ＮＲ
２８、Ｓ、Ｏ、Ｓｅ及びＴｅよりなる群から選ばれたヘ
テロ原子基、Ｒ２８は水素及び炭素数１〜２４の直鎖ま
たは分岐のアルキル基よりなる群から選ばれた置換基で
ある。）で示される少なくとも一種の複素環式化合物
（ニ）を、塩基性化合物（ロ）を含む溶液中で、少なく
とも一種の酸化剤（ハ）によって反応することを特徴と
する下記一般式（４） 【化５】 （上記式中、Ｒ９〜Ｒ１２、Ｒ１３〜Ｒ１６及びＲ１７
〜Ｒ２０の３群の置換基は各々一般式（１）中のＲ１〜
Ｒ４あるいは一般式（３）中のＲ５〜Ｒ８に対応する置
換基であり、しかもＲ９〜Ｒ１２、Ｒ１３〜Ｒ１６、Ｒ
１７〜Ｒ２０の３群のうち一つまたは二つは一般式
（１）中のＲ１〜Ｒ４に対応する置換基である。Ｈｔ
は、前記一般式（１）及び一般式（３）と同様であり、
またＸa-は、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、
フッ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオ
ン、リン酸イオン、ほうフッ化イオン、過塩素酸イオ
ン、チオシアン酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イ
オン、メタンスルホン酸イオン、ｐ−トルエンスルホン
酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、及びトリフルオロ
メタンスルホン酸イオンよりなる１〜３価の陰イオン群
より選ばれた少なくとも一種の陰イオンであり、ａはＸ
のイオン価数を表し、１〜３の整数であり、ｍはドープ
率であり、その値は０〜３．０である。）で示される複
素環式化合物三量体の製造方法。2. The following general formula (1): (In the above formula, R 1 to R 4 are hydrogen, a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, a straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, and a straight-chain having 2 to 24 carbon atoms. Or branched acyl group, aldehyde group, carboxyl group, linear or branched carboxylic acid ester group having 2 to 24 carbon atoms, sulfonic acid group, linear or branched sulfonic acid ester group having 1 to 24 carbon atoms, cyano group , Hydroxyl group, nitro group, amino group, amide group, dicyanovinyl group, alkyl (carbon number 1
~ 8 linear or branched alkyl group) oxycarbonyl cyano vinyl group, a nitrophenyl cyano vinyl group, and a substituent independently selected from the group consisting of halogen groups, at least one of R 1 to R 4 It is a sulfonic acid group or a carboxyl group. Ht is NR 28 ,
A heteroatom group selected from the group consisting of S, O, Se and Te, R 28 is a substituent selected from the group consisting of hydrogen and a linear or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. ) A heterocyclic compound substituted with an acidic group, at least one compound (a) selected from alkali metal salts, ammonium salts and substituted ammonium salts thereof, and the following general formula (3): (In the above formula, R 5 to R 8 are hydrogen, a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, a straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, and a straight-chain having 2 to 24 carbon atoms. Or a branched acyl group, an aldehyde group, a linear or branched carboxylic acid ester group having 2 to 24 carbon atoms, a linear or branched sulfonic acid ester group having 1 to 24 carbon atoms, a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, amino A group, an amide group, a dicyanovinyl group, an alkyl (a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms) oxycarbonylcyanovinyl group, a nitrophenylcyanovinyl group, and a halogen group, each independently selected substituent Ht is NR
Heteroatom group selected from the group consisting of 28 , S, O, Se and Te, and R 28 is a substituent selected from the group consisting of hydrogen and a linear or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. ), At least one heterocyclic compound (d) represented by the formula (4) is reacted with at least one oxidizing agent (c) in a solution containing the basic compound (b). [Chemical 5] (In the above formula, R 9 to R 12 , R 13 to R 16, and R 17
To R 20 are each a substituent of R 1 to R 1 in the general formula (1).
R 4 or a substituent corresponding to R 5 to R 8 in the general formula (3), and further R 9 to R 12 , R 13 to R 16 , R.
One or two of the three groups of 17 to R 20 are substituents corresponding to R 1 to R 4 in the general formula (1). Ht
Is the same as the general formula (1) and the general formula (3),
The X a- is, chlorine ion, bromine ion, iodine ion,
Fluorine ion, nitrate ion, sulfate ion, hydrogen sulfate ion, phosphate ion, borofluoride ion, perchlorate ion, thiocyanate ion, acetate ion, propionate ion, methanesulfonate ion, p-toluenesulfonate ion, At least one anion selected from a group of 1 to 3 valent anions consisting of a trifluoroacetate ion and a trifluoromethanesulfonate ion, and a is X
Is an integer of 1 to 3, m is a doping rate, and its value is 0 to 3.0. ] The manufacturing method of the heterocyclic compound trimer shown by these.
造を有することを特徴とする請求項１または２記載の複
素環式化合物三量体の製造方法。3. The method for producing a heterocyclic compound trimer according to claim 1, wherein the heterocyclic compound trimer has a laminated structure.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002104149A JP2003300981A (en) | 2002-04-05 | 2002-04-05 | Method for producing acidic group-containing heterocyclic compound trimer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002104149A JP2003300981A (en) | 2002-04-05 | 2002-04-05 | Method for producing acidic group-containing heterocyclic compound trimer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003300981A true JP2003300981A (en) | 2003-10-21 |
Family
ID=29389562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002104149A Pending JP2003300981A (en) | 2002-04-05 | 2002-04-05 | Method for producing acidic group-containing heterocyclic compound trimer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003300981A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014157708A1 (en) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 出光興産株式会社 | Heterocyclic compound, material for organic electroluminescent elements using same, organic electroluminescent element using same, and electronic device |
-
2002
- 2002-04-05 JP JP2002104149A patent/JP2003300981A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014157708A1 (en) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 出光興産株式会社 | Heterocyclic compound, material for organic electroluminescent elements using same, organic electroluminescent element using same, and electronic device |
| JP5877273B2 (en) * | 2013-03-29 | 2016-03-02 | 出光興産株式会社 | Heterocyclic compound, material for organic electroluminescence device using the same, and organic electroluminescence device and electronic equipment using the same |
| US9887367B2 (en) | 2013-03-29 | 2018-02-06 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Heterocyclic compound, material for organic electroluminescent elements using same, organic electroluminescent element using same, and electronic device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100704795B1 (en) | Composition containing carbon nanotubes, composite having coating thereof and process for producing them | |
| JP4266752B2 (en) | Carbon nanotube-containing composition and method for preparing the same, composite using the same, and method for producing the same | |
| US7585981B2 (en) | Method for producing trimer of indole derivative, and trimer of indole derivative and laminated structure thereof | |
| L Guernion et al. | 3-and 3, 4-substituted pyrroles and thiophenes and their corresponding polymers-A review | |
| TWI684611B (en) | Polymer, oxidized polymer, polymer composition, gel-like polymer composition and use thereof | |
| McAfee et al. | The structural evolution of an isoindigo-based non-fullerene acceptor for use in organic photovoltaics | |
| JP2003300981A (en) | Method for producing acidic group-containing heterocyclic compound trimer | |
| JP2003300980A (en) | Electron attractive group-substituted n-alkylindole derivative trimer and method for producing the same | |
| JP2004002286A (en) | Method for producing oxidized compound of indole derivative trimer, oxidized compound of indole derivative trimer and its laminated structure | |
| Coban et al. | Synthesis and electropolymerization of a multifunctional naphthalimide clicked carbazole derivative | |
| JP4163890B2 (en) | Method for obtaining indole derivative trimer with suppressed aggregation | |
| JP2001342242A (en) | Method for producing polyindole derivative, and polyindole derivative obtained thereby | |
| JP3747167B2 (en) | Conductive composition, conductor and method for forming the same | |
| JP4091765B2 (en) | Method for producing indole derivative trimer composite conductor | |
| JPH05310675A (en) | Ferrocene-containing charge transfer complex, its preparation and utilization | |
| JP2009292909A (en) | Conductive coating composition | |
| JP3860003B2 (en) | Anticorrosion composition containing indole derivative trimer and anticorrosion method | |
| KR100318153B1 (en) | Method for Preparation of the Conductive Polypyrrole having a high Solubility in Alcohol and Various Organic Solvents | |
| JP2618608B2 (en) | Ester-substituted poly-3-alkylthiophene derivative and method for producing the same | |
| JP2004210747A (en) | High-crystallinity indole derivative trimer and method for obtaining the same | |
| JP2004224773A (en) | New indole derivative, trimer of the same and method for producing the same | |
| JP2003272865A (en) | Organic electroluminescent element | |
| JP3706825B2 (en) | Conductive composition, conductor and method for forming the same | |
| JP2982088B2 (en) | Method for producing polyaniline derivative | |
| JP2003302363A (en) | Gas sensor using indole derivative trimer |