JP2003294945A - Optical film, method for manufacturing the same, and polarizing plate and display device using the same - Google Patents

Optical film, method for manufacturing the same, and polarizing plate and display device using the same

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JP2003294945A
JP2003294945A JP2002099775A JP2002099775A JP2003294945A JP 2003294945 A JP2003294945 A JP 2003294945A JP 2002099775 A JP2002099775 A JP 2002099775A JP 2002099775 A JP2002099775 A JP 2002099775A JP 2003294945 A JP2003294945 A JP 2003294945A
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polyester resin
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film having significantly decreased cracks, improved curling, and little decrease in conductivity in a conductive film or an antireflection film having a metal oxide nitride layer deposited on a polyester film as an optical film to be used for various kinds of display devices. <P>SOLUTION: The optical film has a metal oxide nitride layer directly deposited or with another layer interposed on a substrate film having a polyester resin layer with 1% to 5% equilibrium moisture content which is produced by the reaction of at least an aromatic dicarboxylic acid and glycol. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶ディスプレイ、
有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、プラズ
マディスプレイ等の各種表示装置に用いられる光学フィ
ルムに関し、特に反射防止フィルムあるいは導電性フィ
ルムに関するものである。The present invention relates to a liquid crystal display,
The present invention relates to an optical film used in various display devices such as an organic EL display, an inorganic EL display and a plasma display, and particularly to an antireflection film or a conductive film.

【０００２】[0002]

【従来の技術】情報産業の著しい発達に伴って、各所で
表示装置が活用されるようになっている。特に液晶表示
装置の発達はめざましく、様々な機器に搭載されるよう
になった。一方で小型軽量化への要望が益々強まってお
り、偏光板等の部材についても薄膜化の要求が強まって
いる。偏光板は通常２枚の偏光板保護フィルムで偏光子
をサンドイッチして作られており、偏光板保護フィルム
としてはトリアセチルセルロースなどのセルロースエス
テルフィルムが好ましく用いられている。2. Description of the Related Art With the remarkable development of the information industry, display devices have been used in various places. In particular, the development of liquid crystal display devices has been remarkable, and they have come to be installed in various devices. On the other hand, demands for smaller size and lighter weight are increasing, and thinning requirements for members such as polarizing plates are also increasing. A polarizing plate is usually made by sandwiching a polarizer between two polarizing plate protective films, and a cellulose ester film such as triacetyl cellulose is preferably used as the polarizing plate protective film.

【０００３】しかしながら、偏光板を薄くするために、
保護フィルムであるトリアセチルセルロースフィルム
（ＴＡＣフィルム）を薄くすると透湿性が悪化したり、
寸法安定性が低下するといった問題があり、特に４０μ
ｍ未満の薄膜フィルムでは著しい物性低下が起こるため
に、偏光板に十分な耐久性を付与することが困難であっ
た。However, in order to make the polarizing plate thin,
If the triacetyl cellulose film (TAC film), which is a protective film, is made thin, the moisture permeability deteriorates,
There is a problem that dimensional stability is reduced, especially 40μ
It is difficult to impart sufficient durability to the polarizing plate because a thin film having a thickness of less than m causes a remarkable decrease in physical properties.

【０００４】一方で偏光板保護フィルムとしてポリエス
テルを用いることができることは知られている。例え
ば、ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いること
が知られているが、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムは透湿性が低く、ＴＡＣフィルムと比較して寸法安定
性に優れるが、鹸化処理ができないため偏光子との接着
性に劣るほか、偏光子との貼合の際に接着剤の乾燥性が
著しく悪いという問題があった。また、従来、ポリエス
テルフィルム上に金属酸窒化物層を設けたフィルムで
は、クラック、カールが発生するという問題とともに金
属酸窒化物層の導電性の低下という問題があった。On the other hand, it is known that polyester can be used as a polarizing plate protective film. For example, it is known to use a polyethylene terephthalate film. The polyethylene terephthalate film has low moisture permeability and is excellent in dimensional stability as compared with a TAC film, but it is inferior in adhesiveness to a polarizer because saponification treatment cannot be performed. In addition, there is a problem that the drying property of the adhesive is extremely poor when it is attached to the polarizer. Further, conventionally, in a film in which a metal oxynitride layer is provided on a polyester film, there are problems that cracks and curls occur and that the conductivity of the metal oxynitride layer decreases.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬ
ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の各種表示装置
に用いられる光学フィルムとしてのポリエステルフィル
ム上に金属酸窒化物層を設けた導電性フィルム、反射防
止フィルムにおいて、クラックが著しく低減され、カー
ルも改善され、導電性の低下も少ないフィルムを提供す
ることにある。Therefore, the object of the present invention is to provide a liquid crystal display, an organic EL display, an inorganic EL display.
In a conductive film and an antireflection film in which a metal oxynitride layer is provided on a polyester film as an optical film used in various display devices such as displays and plasma displays, cracks are significantly reduced, curling is improved, and conductivity is improved. It is to provide a film with less deterioration.

【０００６】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、下
記構成によって達成される。The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.

【０００７】１）少なくとも芳香族ジカルボン酸、グリ
コールの反応により製造され、平衡含水率が１〜５％で
あるポリエステル樹脂の層を有する基材フィルム上に直
接又は他の層を介して金属酸窒化物層を設けることを特
徴とする光学フィルム。1) Metal oxynitridation directly or through another layer on a base film having a polyester resin layer produced by a reaction of at least an aromatic dicarboxylic acid and glycol and having an equilibrium water content of 1 to 5%. An optical film comprising a physical layer.

【０００８】２）膜厚５〜４０μｍ、寸法安定性が±
０．５％以内であることを特徴とする前記１）に記載の
光学フィルム。2) The film thickness is 5 to 40 μm, and the dimensional stability is ±
It is 0.5% or less, The optical film as described in 1) above.

【０００９】３）ポリエステル樹脂がスルホン酸または
その塩から選ばれる基を有することを特徴とする前記
１）または２）に記載の光学フィルム。3) The optical film as described in 1) or 2) above, wherein the polyester resin has a group selected from sulfonic acids or salts thereof.

【００１０】４）ポリエステル樹脂の硫黄元素含有量が
０．１５〜２質量％であることを特徴とする前記３）に
記載の光学フィルム。4) The optical film as described in 3) above, wherein the polyester resin has a sulfur element content of 0.15 to 2 mass%.

【００１１】５）ポリエステル樹脂が全芳香族ジカルボ
ン酸に対し１〜１０モル％のスルホン酸およびその塩か
ら選ばれる基を有する芳香族ジカルボン酸或いは全グリ
コールに対し１〜１０モル％のスルホン酸およびその塩
から選ばれる基を有するグリコールを用いて製造される
ことを特徴とする前記３）または４）に記載の光学フィ
ルム。5) The polyester resin has an aromatic dicarboxylic acid having a group selected from 1 to 10 mol% of sulfonic acid and its salt with respect to the total aromatic dicarboxylic acid, or 1 to 10 mol% of sulfonic acid with respect to the total glycol, and The optical film as described in 3) or 4) above, which is produced using a glycol having a group selected from its salts.

【００１２】６）ポリエステル樹脂が全芳香族ジカルボ
ン酸に対し１〜１０モル％のスルホン酸およびその塩か
ら選ばれる基を有する芳香族ジカルボン酸を用いて製造
されることを特徴とする前記３）または４）に記載の光
学フィルム。6) The polyester resin is produced by using 1 to 10 mol% of aromatic dicarboxylic acid having a group selected from sulfonic acid and salts thereof, based on wholly aromatic dicarboxylic acid. Or the optical film as described in 4).

【００１３】７）ポリエステル樹脂がポリアルキレング
リコールを反応生成物のポリエステル全量に対して０．
１〜１０質量％用い製造されることを特徴とする前記
１）〜６）のいずれか１項に記載の光学フィルム。7) The polyester resin contains polyalkylene glycol in an amount of 0.
The optical film as described in any one of 1) to 6) above, which is produced using 1 to 10% by mass.

【００１４】８）ポリエステル樹脂の主成分がポリエチ
レンテレフタレートであることを特徴とする前記１）〜
７）のいずれか１項に記載の光学フィルム。8) The above 1) to 1) wherein the main component of the polyester resin is polyethylene terephthalate
The optical film according to any one of 7).

【００１５】９）溶融押し出しにより連続的に製膜され
た長尺状フィルム上に直接又は他の層を介して金属酸窒
化物層を有することを特徴とする前記７）または８）に
記載の光学フィルム。9) The above-mentioned 7) or 8), wherein the metal oxynitride layer is provided directly or through another layer on a long film continuously formed by melt extrusion. Optical film.

【００１６】１０）平衡含水率が１〜５％であるポリエ
ステル樹脂層を有する基材上に直接又は他の層を介して
大気圧プラズマＣＶＤによって金属酸窒化物層を設ける
ことを特徴とする光学フィルム。10) Optics characterized in that a metal oxynitride layer is provided by atmospheric pressure plasma CVD directly or through another layer on a substrate having a polyester resin layer having an equilibrium water content of 1 to 5%. the film.

【００１７】１１）スルホン酸またはその塩から選ばれ
る基を有するポリエステル樹脂を有するフィルムを延伸
して形成された基材フィルム上に直接又は他の層を介し
て金属酸窒化物層を大気圧プラズマＣＶＤによって形成
することを特徴とする光学フィルムの製造方法。11) Atmospheric pressure plasma of a metal oxynitride layer directly or through another layer on a substrate film formed by stretching a film having a polyester resin having a group selected from sulfonic acid or a salt thereof. A method for producing an optical film, which is characterized by being formed by CVD.

【００１８】１２）前記１）〜１０）のいずれか１項に
記載の光学フィルムを用いることを特徴とする偏光板。12) A polarizing plate using the optical film as described in any one of 1) to 10) above.

【００１９】１３）前記１２）に記載の偏光板を用いる
ことを特徴とする表示装置。 以下、本発明の詳細について説明する。13) A display device using the polarizing plate described in 12) above. Hereinafter, details of the present invention will be described.

【００２０】本発明の光学フィルムはポリエステルフィ
ルムを用いて、その表面に直接又は他の層を介して金属
酸窒化物層を設けたものである。金属酸窒化物層とは金
属酸化物もしくは金属窒化物、あるいはそれらの混合物
を有する層である。金属窒化物としては窒化チタン、窒
化珪素等が挙げられる。The optical film of the present invention is a polyester film having a metal oxynitride layer provided on the surface thereof directly or through another layer. The metal oxynitride layer is a layer containing a metal oxide, a metal nitride, or a mixture thereof. Examples of metal nitrides include titanium nitride and silicon nitride.

【００２１】従来のポリエステルフィルムで見られたよ
うな前記の問題を解決するために、鋭意検討を重ねた結
果、本発明者らは平衡含水率１〜５％のポリエステル樹
脂層を有する光学フィルムを用いることによって前記の
問題は解決できることを見いだした。As a result of intensive studies in order to solve the above problems found in conventional polyester films, the present inventors have found that an optical film having a polyester resin layer having an equilibrium water content of 1 to 5% is used. It has been found that the above problems can be solved by using them.

【００２２】本発明においては、平衡含水率１〜５％の
ポリエステル樹脂層は単独でポリエステルフィルムを形
成してもよく、平衡含水率１％未満のポリエステル樹脂
層と積層されていてもよく、また他の材質のフィルム上
に積層されていてもよく、支持体に用いられる樹脂は特
に限定されない。In the present invention, the polyester resin layer having an equilibrium water content of 1 to 5% may form a polyester film alone, or may be laminated with a polyester resin layer having an equilibrium water content of less than 1%. It may be laminated on a film made of another material, and the resin used for the support is not particularly limited.

【００２３】ここで平衡含水率とは、試料の中に平衡状
態で含まれる水分量を試料質量に対する百分率で表した
ものである。具体的な求め方としては、ポリエステルフ
ィルムを（或いは他のフィルム上に積層されている場合
には、基体より引き剥がした該ポリエステル樹脂層フィ
ルム）２３℃、相対湿度２０％に調湿された部屋に４時
間以上放置した後、２３℃の蒸留水に２４時間浸漬さ
せ、しかる後、サンプルを微量水分計（例えば、三菱化
学（株）製、ＣＡ−２０型）を用いて温度１５０℃で、
水分を乾燥・気化させた後カールフィッシャー法で定量
する方法である。The equilibrium water content is the amount of water contained in the sample in the equilibrium state, expressed as a percentage of the sample mass. As a specific method, a polyester film (or, when laminated on another film, the polyester resin layer film peeled off from the substrate) at 23 ° C. and a relative humidity of 20% is conditioned in a room. After leaving it for 4 hours or longer, it is immersed in distilled water at 23 ° C. for 24 hours, and then the sample is used at a temperature of 150 ° C. using a trace moisture meter (for example, CA-20 type manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
It is a method of quantifying by the Karl Fischer method after drying and vaporizing water.

【００２４】ポリエステルは芳香族ジカルボン酸成分を
グリコール成分と直接エステル化反応させる直接エステ
ル化法、また初めに芳香族ジカルボン酸成分としてジア
ルキルエステルを用いて、これとグリコール成分とでエ
ステル交換反応させ、これを減圧下で加熱して余剰のグ
リコール成分を除去することにより重合させるエステル
交換法を用いて製造できる。この際、必要に応じてエス
テル交換触媒或いは重合反応触媒を用い、或いは耐熱安
定剤等を用いて製造される。For polyester, a direct esterification method in which an aromatic dicarboxylic acid component is directly esterified with a glycol component, and first, a dialkyl ester is used as an aromatic dicarboxylic acid component, and a transesterification reaction is performed between the aromatic dicarboxylic acid component and the glycol component, It can be produced by a transesterification method in which this is polymerized by heating under reduced pressure to remove an excess glycol component. At this time, if necessary, a transesterification catalyst or a polymerization reaction catalyst is used, or a heat-resistant stabilizer or the like is used for production.

【００２５】本発明においては、始めにジカルボン酸の
ジアルキルエステルを用いた場合でも、また一旦ジカル
ボン酸成分とグリコール成分をエステル化反応させるエ
ステル化法を用いた場合でも、原料およびその共重合成
分に言及する場合、芳香族ジカルボン酸、グリコール換
算の量をいうこととする。In the present invention, the raw material and its copolymerization component are used as the raw material and the copolymerization component thereof, even when the dialkyl ester of the dicarboxylic acid is first used or when the esterification method in which the dicarboxylic acid component and the glycol component are once subjected to the esterification reaction is used. When referred to, the amount is equivalent to an aromatic dicarboxylic acid or glycol.

【００２６】上記プロセスにおいて、例えば、スルホン
酸およびその塩から選ばれる基を有する芳香族ジカルボ
ン酸或いはポリアルキレングリコール等の共重合成分を
エステル交換反応後に添加し、重縮合を行うことによ
り、これらの共重合成分を含んだポリエステル樹脂が得
られる。In the above process, for example, a copolymerization component such as an aromatic dicarboxylic acid or a polyalkylene glycol having a group selected from sulfonic acid and its salt is added after the transesterification reaction, and polycondensation is carried out to obtain these compounds. A polyester resin containing a copolymer component is obtained.

【００２７】従って、本発明に用いられる平衡含水率１
〜５％のポリエステル樹脂層を形成するポリエステル樹
脂としては、具体的には少なくとも芳香族ジカルボン酸
とグリコールの反応により得られたポリエステル樹脂で
あって、ポリエステル樹脂構造中にスルホン酸またはそ
の塩から選ばれる基を有しているポリエステル樹脂が好
ましい。Therefore, the equilibrium water content used in the present invention is 1
As the polyester resin forming the polyester resin layer of up to 5%, specifically, a polyester resin obtained by a reaction of at least an aromatic dicarboxylic acid and glycol, and selected from sulfonic acid or a salt thereof in the polyester resin structure A polyester resin having a group represented by

【００２８】これらのスルホン酸基は、スルホン酸およ
びその塩から選ばれる基を有する芳香族ジカルボン酸ま
たはグリコールを所定量テレフタル酸等のジカルボン酸
或いはエチレングリコール等のグリコールの共重合成分
として混合し、ポリエステルを製造することにより、ポ
リエステル樹脂中に導入することが出来る。These sulfonic acid groups are mixed with a predetermined amount of an aromatic dicarboxylic acid or glycol having a group selected from sulfonic acid and salts thereof as a copolymerization component of dicarboxylic acid such as terephthalic acid or glycol such as ethylene glycol. It can be incorporated into a polyester resin by producing polyester.

【００２９】こうして得られるポリエステル樹脂中に含
まれる硫黄元素含有量は０．１５〜２質量％であること
が好ましい。The content of elemental sulfur contained in the polyester resin thus obtained is preferably 0.15 to 2% by mass.

【００３０】これら硫黄元素含量が２％を越える場合に
は、スルホン酸基の含有量が多すぎ、機械的強度が劣っ
たものとなる場合があり、また０．１５％未満では、ス
ルホン酸基数が充分な割合で存在せず、本発明の効果を
与えない。If the content of these elemental sulfur exceeds 2%, the content of sulfonic acid groups may be too high, resulting in poor mechanical strength. If it is less than 0.15%, the number of sulfonic acid groups may be reduced. Does not exist in a sufficient ratio, and the effect of the present invention is not provided.

【００３１】ポリエステル樹脂中の硫黄元素は全てがス
ルホン酸基またはその塩から選ばれる基由来である必要
はないが、５０％以上、好ましくは８０％以上がスルホ
ン酸またはその塩としてポリエステル中に含まれるスル
ホン酸基に由来するものであることが好ましい。It is not necessary that all of the sulfur element in the polyester resin be derived from a group selected from a sulfonic acid group or a salt thereof, but 50% or more, preferably 80% or more is contained in the polyester as a sulfonic acid or a salt thereof. It is preferably derived from a sulfonic acid group.

【００３２】ポリエステル樹脂中の硫黄元素の定量方法
は特に限定されないが、例えばＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結
合プラズマ発光分光分析）により定量出来る。具体的に
は、試料に炭酸ナトリウムを添加して、１０００℃で加
熱溶融して得られた分解物に水を加えて水溶液とし、こ
れをセイコー電子工業（株）製ＳＰＳ−４０００を用い
て、ＩＣＰ−ＡＥＳ分析にて求めることが出来る。There is no particular limitation on the method for quantifying the elemental sulfur in the polyester resin, but it can be quantified by, for example, ICP-AES (inductively coupled plasma optical emission spectroscopy). Specifically, sodium carbonate is added to the sample, water is added to the decomposed product obtained by heating and melting at 1000 ° C. to form an aqueous solution, and this is used as an aqueous solution by using SPS-4000 manufactured by Seiko Electronic Industry Co., Ltd. It can be determined by ICP-AES analysis.

【００３３】上記スルホン酸基を含有するポリエステル
樹脂は、芳香族ジカルボン酸とグリコールの反応により
製造される際に用いられる全芳香族ジカルボン酸のう
ち、１〜１０モル％の芳香族ジカルボン酸がスルホン酸
およびその塩から選ばれる基を有する芳香族ジカルボン
酸或いは全グリコールのうち、１〜１０モル％のグリコ
ールがスルホン酸およびその塩から選ばれる基を有する
グリコールを共重合成分として用いることにより得るこ
とが好ましい。特に、スルホン酸をポリエステルに導入
するには、スルホン酸およびその塩から選ばれる基を有
する芳香族ジカルボン酸を、全芳香族ジカルボン酸に対
し１〜１０モル％用いて製造することが原料の入手のし
やすさ等から見てより好ましい。In the polyester resin containing a sulfonic acid group, 1 to 10 mol% of the aromatic dicarboxylic acid is a sulfonic acid in the wholly aromatic dicarboxylic acid used in the production by the reaction of the aromatic dicarboxylic acid and glycol. Aromatic dicarboxylic acid having a group selected from an acid and a salt thereof, or 1 to 10 mol% of all glycols obtained by using a glycol having a group selected from a sulfonic acid and a salt thereof as a copolymerization component Is preferred. In particular, in order to introduce a sulfonic acid into a polyester, it is necessary to produce an aromatic dicarboxylic acid having a group selected from sulfonic acid and salts thereof in an amount of 1 to 10 mol% based on the total aromatic dicarboxylic acid. It is more preferable in terms of ease of use and the like.

【００３４】また、本発明に用いられるポリエステル樹
脂は、更にポリアルキレングリコールを、生成したポリ
エステルの全量に対して０．１〜１０質量％共重合成分
として用いて製造されることが好ましい。Further, the polyester resin used in the present invention is preferably produced by further using polyalkylene glycol as a copolymerization component of 0.1 to 10% by mass based on the total amount of the produced polyester.

【００３５】これらの成分により、金属酸窒化物を形成
した光学フィルムにおいて、クラックが発生しにくく、
この光学フィルムを偏光板保護フィルム等に用いる際
の、偏光子との接着性や貼合の際の接着剤の乾燥性等偏
光板保護フィルムとしての特性も大きく改善する。Due to these components, cracks hardly occur in the optical film formed with metal oxynitride,
When this optical film is used as a polarizing plate protective film or the like, the properties as a polarizing plate protective film, such as the adhesiveness with a polarizer and the drying property of an adhesive at the time of bonding, are greatly improved.

【００３６】本発明に用いるポリエステル樹脂において
は、特にポリエステルの主成分がテレフタル酸およびエ
チレングリコールを用いて得られるポリエチレンテレフ
タレートであることが好ましい。In the polyester resin used in the present invention, the main component of the polyester is preferably polyethylene terephthalate obtained by using terephthalic acid and ethylene glycol.

【００３７】本発明においては、後述するが、溶融流延
されたフィルムを実質的に一軸で延伸したフィルムが特
に好ましく用いられるが、二軸延伸されたものでもよ
い。このようにして得られたフィルムは特に膜厚に限定
がなく、５〜５００μｍのものが用いられるが、特に膜
厚５〜４０μｍであっても、その上に設けた金属酸窒化
物層にクラックが入りにくく、カールも少ないため好ま
しく、更に適切な透湿度を有するため、偏光板製造時の
接着剤の乾燥性に優れ、偏光子との接着性も良好であっ
た。また本発明のフィルムは膜厚５〜４０μｍであって
も偏光板製造時に皺が入りにくく、偏光子との貼合が容
易であった。In the present invention, as will be described later, a film obtained by substantially uniaxially stretching a melt-cast film is preferably used, but a biaxially stretched film may be used. The film thus obtained is not particularly limited in film thickness, and a film having a film thickness of 5 to 500 μm is used. Even if the film has a film thickness of 5 to 40 μm, the metal oxynitride layer provided thereon has cracks. Is less likely to enter and curling is less, which is preferable. Further, since it has an appropriate moisture permeability, the drying property of the adhesive during the production of the polarizing plate was excellent, and the adhesion with the polarizer was also good. Further, the film of the present invention was less likely to have wrinkles during the production of a polarizing plate even when the film thickness was 5 to 40 μm, and was easily attached to a polarizer.

【００３８】本発明に用いられるポリエステルの製造に
用いられる芳香族ジカルボン酸としては前記テレフタル
酸のほか、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボ
ン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸などがあり、ま
たこれらの低級アルキルエステル（無水物、低級アルキ
ルエステル等のエステル形成可能な誘導体）を使用する
ことができる。グリコールとしてはエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ブタンジオール、ネオペン
チルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノー
ル、ジエチレングリコール、ｐ−キシリレングリコール
などがある。中でもテレフタル酸とエチレングリコール
の反応により得られたポリエチレンテレフタレートを主
成分とすることが好ましい。As the aromatic dicarboxylic acid used for producing the polyester used in the present invention, there are isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, etc. in addition to the above-mentioned terephthalic acid. The lower alkyl ester (an ester-forming derivative such as an anhydride or a lower alkyl ester) can be used. Examples of glycols include ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, diethylene glycol and p-xylylene glycol. Above all, it is preferable that the main component is polyethylene terephthalate obtained by the reaction of terephthalic acid and ethylene glycol.

【００３９】主成分がポリエチレンテレフタレートであ
るとは、ポリエチレンテレフタレートの繰返し単位が８
０モル％以上の共重合体、あるいはブレンドされている
場合は、ポリエチレンテレフタレートを８０質量％以上
含有していることをいう。The main component being polyethylene terephthalate means that the repeating unit of polyethylene terephthalate is 8
When it is a copolymer of 0 mol% or more, or when blended, it means that it contains 80% by mass or more of polyethylene terephthalate.

【００４０】本発明において用いられる、ポリエステル
中にスルホン酸基を含有させるために用いられるスルホ
ン酸およびその塩から選ばれる基を有する芳香族ジカル
ボン酸としては、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、
２−ナトリウムスルホイソフタル酸、４−ナトリウムス
ルホイソフタル酸、４−ナトリウムスルホ−２，６−ナ
フタレンジカルボン酸、４−ナトリウムスルホ−２，７
−ナフタレンジカルボン酸、２−ナトリウムスルホテレ
フタル酸、４−ナトリウムスルホフタル酸、４−ナトリ
ウムスルホ−１，５−ナフタレンジカルボン酸もしくは
そのエステル形成性誘導体、およびこれらのナトリウム
を他の金属（例えば、カリウム、リチウムなど）で置換
した化合物が用いられる。As the aromatic dicarboxylic acid having a group selected from the sulfonic acids and salts thereof used for containing a sulfonic acid group in the polyester used in the present invention, 5-sodium sulfoisophthalic acid,
2-sodium sulfoisophthalic acid, 4-sodium sulfoisophthalic acid, 4-sodium sulfo-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4-sodium sulfo-2,7
-Naphthalenedicarboxylic acid, 2-sodium sulfoterephthalic acid, 4-sodium sulfophthalic acid, 4-sodium sulfo-1,5-naphthalenedicarboxylic acid or its ester-forming derivatives, and their sodium to other metals (for example, potassium). , Lithium, etc.) are used.

【００４１】また、グリコール中にスルホン酸およびそ
の塩から選ばれる基を導入したものを用いてもよいが、
ポリエステル中にスルホン酸基を含有させるために好ま
しい化合物として好ましいのは、前記スルホン酸基また
はその塩を有する芳香族ジカルボン酸である。Further, a glycol in which a group selected from sulfonic acid and its salt is introduced may be used.
The preferred compound for containing a sulfonic acid group in the polyester is an aromatic dicarboxylic acid having the sulfonic acid group or a salt thereof.

【００４２】これらのスルホン酸基またはその塩を有す
る芳香族ジカルボン酸成分が製造時に用いられる全芳香
族ジカルボン酸の１０モル％を越えると延伸性が劣った
り、機械的強度が劣ったものとなる場合があり、また１
モル％未満では、所定の平衡含水率が得られない場合が
ある。If the aromatic dicarboxylic acid component having these sulfonic acid groups or salts thereof exceeds 10 mol% of the total aromatic dicarboxylic acid used during production, the stretchability and mechanical strength will be poor. Sometimes, again 1
If it is less than mol%, the desired equilibrium water content may not be obtained.

【００４３】更に、本発明に用いられるポリエステル
は、ポリアルキレングリコールを共重合成分として含有
することが好ましく、前述したように、ポリエステルが
反応生成物のポリエステル全量に対してポリアルキレン
グリコールを０．１〜１０質量％用い製造されることが
好ましい。また、更に好ましくは０．２〜８質量％であ
る。ポリアルキレングリコールが０．１質量％未満では
所定の平衡含水率が得られない場合があり、１０質量％
を越えるとヤング率が低下し、機械的強度に劣ったもの
となる場合がある。Furthermore, the polyester used in the present invention preferably contains polyalkylene glycol as a copolymerization component, and as described above, the polyester contains polyalkylene glycol in an amount of 0.1% based on the total amount of the reaction product polyester. It is preferably produced by using 10 to 10% by mass. Further, it is more preferably 0.2 to 8 mass%. If the polyalkylene glycol content is less than 0.1% by mass, the prescribed equilibrium water content may not be obtained, and the content may be 10% by mass.
If it exceeds, the Young's modulus may decrease and the mechanical strength may be poor.

【００４４】ポリアルキレングリコールとしては、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ
テトラメチレングリコールなどが用いられるが、このう
ちポリエチレングリコールが好ましく、分子量（数平均
分子量）としては特に限定されないが３００〜２０００
０が好ましく、更に好ましくは６００〜１００００、特
に１０００〜５０００のものが好ましく用いられる。こ
れらの分子量はＧＰＣを用いることにより測定できる。As the polyalkylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol and the like are used. Among them, polyethylene glycol is preferable, and the molecular weight (number average molecular weight) is not particularly limited, but is 300 to 2000.
It is preferably 0, more preferably 600 to 10000, and particularly preferably 1000 to 5000. These molecular weights can be measured by using GPC.

【００４５】本発明の光学フィルムに用いられるポリエ
ステルには、本発明の効果を阻害しない範囲で、更に他
の成分が共重合されていてもよいし、他のポリマーがブ
レンドされていてもよい。The polyester used in the optical film of the present invention may be further copolymerized with other components or may be blended with other polymers, as long as the effects of the present invention are not impaired.

【００４６】上記以外の他の芳香族ジカルボン酸又はそ
の誘導体として、２，７−ナフタレンジカルボン酸、
１，５−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボ
ン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸などの芳香族ジ
カルボン酸及びその低級アルキルエステル（無水物、低
級アルキルエステル等のエステル形成可能な誘導体）を
用いることができる。また製造の際、シクロプロパンジ
カルボン酸、シクロブタンジカルボン酸及びヘキサヒド
ロテレフタル酸などの脂環式ジカルボン酸及びその誘導
体（無水物、低級アルキルエステル等のエステル形成可
能な誘導体）、アジピン酸、コハク酸、シュウ酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸及びダイマー酸などの脂肪族ジカ
ルボン酸及びその誘導体（無水物、低級アルキルエステ
ルなどのエステル形成可能な誘導体）を全ジカルボン酸
の１０モル％以下の量で使用してもよい。As aromatic dicarboxylic acids or derivatives thereof other than the above, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid,
Aromatic dicarboxylic acids such as 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, diphenyldicarboxylic acid, and diphenyletherdicarboxylic acid, and lower alkyl esters thereof (anhydrides, ester-forming derivatives such as lower alkyl esters) can be used. In the production, alicyclic dicarboxylic acids such as cyclopropanedicarboxylic acid, cyclobutanedicarboxylic acid and hexahydroterephthalic acid and their derivatives (anhydrides, ester-forming derivatives such as lower alkyl esters), adipic acid, succinic acid, Aliphatic dicarboxylic acids such as oxalic acid, azelaic acid, sebacic acid and dimer acid and their derivatives (anhydrides, ester-forming derivatives such as lower alkyl esters) are used in an amount of 10 mol% or less of the total dicarboxylic acids. Good.

【００４７】本発明で使用することができるグリコール
としてはエチレングリコールおよび前記のグリコールの
他、トリメチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコ
ール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールＡ、
ｐ，ｐ′−ジヒドロキシフェニルスルフォン、１，４−
ビス（β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ポ
リアルキレン（例、エチレン、プロピレン）グリコー
ル、及びｐ−フェニレンビス（ジメチロールシクロヘキ
サン）などを挙げることができ、これらは用いられるグ
リコールの１０モル％以下の量で使用してもよい。Examples of glycols that can be used in the present invention include ethylene glycol and the above-mentioned glycols, as well as trimethylene glycol, triethylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, neopentyl glycol, bisphenol A,
p, p'-dihydroxyphenyl sulfone, 1,4-
Examples thereof include bis (β-hydroxyethoxyphenyl) propane, polyalkylene (eg, ethylene, propylene) glycol, and p-phenylene bis (dimethylolcyclohexane), which are used in an amount of 10 mol% or less of the glycol used. May be used in.

【００４８】本発明に用いられるポリエステルは、例え
ば安息香酸、ベンゾイル安息香酸、ベンジルオキシ安息
香酸、メトキシポリアルキレングリコールなどの１官能
性化合物によって末端の水酸基および／またはカルボキ
シル基を封鎖したものであってもよく、あるいは、例え
ば極く少量のグリセリン、ペンタエリスリトールの如き
３官能、４官能エステル形成化合物で実質的に線状の共
重合体が得られる範囲内で変性されたものでもよい。The polyester used in the present invention is obtained by blocking the terminal hydroxyl group and / or carboxyl group with a monofunctional compound such as benzoic acid, benzoylbenzoic acid, benzyloxybenzoic acid and methoxypolyalkylene glycol. Alternatively, it may be modified with a trifunctional or tetrafunctional ester forming compound such as glycerin or pentaerythritol in an extremely small amount within a range where a substantially linear copolymer is obtained.

【００４９】また、本発明に用いられるポリエステルに
は、フィルムの耐熱性を向上する目的で、ビスフェノー
ル系化合物、ナフタレン環又はシクロヘキサン環を有す
る化合物を共重合することができる。The polyester used in the present invention may be copolymerized with a bisphenol compound or a compound having a naphthalene ring or a cyclohexane ring for the purpose of improving the heat resistance of the film.

【００５０】本発明に用いられるポリエステルの固有粘
度（Ｉｎｔｒｉｎｓｉｃ Ｖｉｓｃｏｓｉｔｙ）は０．
３５〜０．６５の範囲のものが好ましく用いられる。こ
の範囲以下では得られるフィルムの脆弱性が不充分とな
る場合があり、この範囲を超えると、溶融押し出し時に
溶融粘度が大きすぎて平面性が劣化する場合がある。The intrinsic viscosity (Intrinsic Viscosity) of the polyester used in the present invention is 0.
Those in the range of 35 to 0.65 are preferably used. If it is less than this range, the brittleness of the obtained film may be insufficient, and if it exceeds this range, the melt viscosity during melt extrusion may be too large and the flatness may be deteriorated.

【００５１】固有粘度の算出はウベローデ型粘度計を用
いて行った。質量比が約５５：４５（流下時間４２．０
±０．１秒に調整）であるフェノールと１，１，２，２
−テトラクロロエタンとの混合溶媒を用い、これにサン
プルを溶かして濃度０．２、０．６、１．０（ｇ／ｄ
ｌ）の溶液（温度２０℃）を調製する。ウベローデ型粘
度計によって、それぞれの濃度（Ｃ）における比粘度
（ηｓｐ）を求め、式［ηｓｐ／Ｃ］を濃度零（Ｃ→
０）に補外し固有粘度［η］を求めた。固有粘度［η］
の単位はｄｌ／ｇである。The intrinsic viscosity was calculated using an Ubbelohde viscometer. Mass ratio is about 55:45 (flow time 42.0
Adjusted to ± 0.1 seconds) and phenol, 1,1,2,2
-Using a mixed solvent with tetrachloroethane, the sample was dissolved in it and the concentration was 0.2, 0.6, 1.0 (g / d
Prepare a solution of l) (temperature 20 ° C.). Using an Ubbelohde viscometer, the specific viscosity (ηsp) at each concentration (C) was calculated, and the formula [ηsp / C] was calculated as zero concentration (C →
It was extrapolated to 0) and the intrinsic viscosity [η] was obtained. Intrinsic viscosity [η]
The unit is dl / g.

【００５２】また、本発明に用いられるポリエステルは
ガラス転移温度（Ｔｇ）が５５℃以上であることが好ま
しく、更に６０℃以上であることが好ましい。５５℃未
満では得られたフィルムの高温高湿下での寸法安定性に
劣る場合がある。Ｔｇは示差走査熱量計で測定するとこ
ろのベースラインが偏奇し始める温度と、新たにベース
ラインに戻る温度との平均値として求められたものであ
る。Further, the polyester used in the present invention preferably has a glass transition temperature (Tg) of 55 ° C. or higher, more preferably 60 ° C. or higher. If it is less than 55 ° C, the obtained film may be inferior in dimensional stability under high temperature and high humidity. The Tg is obtained as an average value of the temperature at which the baseline begins to become biased as measured by a differential scanning calorimeter and the temperature at which the baseline returns to a new level.

【００５３】本発明に用いられるポリエステルには、酸
化防止剤が含有されていてもよい。特に、ポリエステル
がポリオキシアルキレン基を有する化合物を含む場合に
効果が顕著となる。含有させる酸化防止剤はその種類に
つき特に限定はなく、各種の酸化防止剤を使用すること
ができるが、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、
ホスファイト系化合物、チオエーテル系化合物等の酸化
防止剤を挙げることができる。中でも透明性の点でヒン
ダードフェノール系化合物の酸化防止剤が好ましい。酸
化防止剤の含有量は、通常、ポリエステルに対して０．
０１〜２質量％、好ましくは０．１〜０．５質量％であ
る。The polyester used in the present invention may contain an antioxidant. In particular, the effect becomes remarkable when the polyester contains a compound having a polyoxyalkylene group. The type of the antioxidant to be contained is not particularly limited, and various antioxidants can be used, for example, hindered phenol compounds,
Antioxidants such as phosphite compounds and thioether compounds can be mentioned. Among them, antioxidants of hindered phenolic compounds are preferable in terms of transparency. The content of the antioxidant is usually 0.
The content is 01 to 2% by mass, preferably 0.1 to 0.5% by mass.

【００５４】本発明で用いられるポリエステルフィルム
には、必要に応じて易滑性を付与することもできる。易
滑性付与手段としては、特に限定はないが、ポリエステ
ルに不活性無機粒子を添加する外部粒子添加方法、ポリ
エステルの合成時に添加する触媒を析出させる内部粒子
析出方法、或いは界面活性剤等をフィルム表面に塗布す
る方法等が一般的である。The polyester film used in the present invention may be provided with slipperiness, if necessary. The means for imparting slipperiness is not particularly limited, but an external particle addition method of adding inert inorganic particles to polyester, an internal particle precipitation method of precipitating a catalyst added at the time of polyester synthesis, or a surfactant film The method of applying on the surface is common.

【００５５】本発明のポリエステルフィルムには、必要
に応じて紫外線吸収剤を添加することもできる。An ultraviolet absorber may be added to the polyester film of the present invention, if necessary.

【００５６】紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以
下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観
点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないも
のが好ましく用いられる。As the ultraviolet absorber, those having excellent absorption of ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display property.

【００５７】本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例
としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベン
ゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合
物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化
合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物、ベ
ンゾエート系化合物、トリアジン系化合物などが挙げら
れる。又、特開平６−１４８４３０号記載の高分子紫外
線吸収剤、特願２０００−２１４１３４号の高分子紫外
線吸収剤も好ましく用いられる。Specific examples of the ultraviolet absorber used in the present invention include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex salt compounds, triazine compounds. , Benzoate compounds, triazine compounds and the like. Further, the polymer UV absorber described in JP-A-6-148430 and the polymer UV absorber disclosed in Japanese Patent Application No. 2000-214134 are also preferably used.

【００５８】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は下記一般式〔１〕で示される化合物が好ましく用いら
れる。As the benzotriazole type ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula [1] is preferably used.

【００５９】[0059]

【化１】 [Chemical 1]

【００６０】式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一
でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくは
ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員の
複素環基を表し、Ｒ4とＲ5は閉環して５〜６員の炭素環
を形成してもよい。In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a hydroxyl group, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or an alkoxy group. Represents a group, an acyloxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a mono- or dialkylamino group, an acylamino group or a 5- or 6-membered heterocyclic group, and R 4 and R 5 are ring-closed to form a 5- or 6-membered carbon. You may form a ring.

【００６１】また、上記記載のこれらの基は、任意の置
換基を有していてよい。以下に一般式〔１〕で示される
紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、これらに限定されな
い。Further, these groups described above may have an arbitrary substituent. Specific examples of the ultraviolet absorber represented by the general formula [1] are shown below, but the invention is not limited thereto.

【００６２】ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′
−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾール ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，
４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）
−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェノール） ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェ
ノール（ＴＩＮＵＶＩＮ １７１、Ｃｉｂａ製） ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチル
ヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵ
ＶＩＮ １０９、Ｃｉｂａ製） また本発明において、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤と
しては下記一般式〔２〕で表される化合物が好ましく用
いられる。UV-1: 2- (2'-hydroxy-5 '
-Methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-
tert-Butylphenyl) benzotriazole UV-3: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-
Butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-
tert-Butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ",
4 ", 5", 6 "-tetrahydrophthalimidomethyl)
-5'-Methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3)
3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol) UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-
Butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol (TINUVIN 171, Ciba) UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4]
-Hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazole- Two
-Yl) phenyl] propionate mixture (TINU
In the present invention, a compound represented by the following general formula [2] is preferably used as the benzophenone-based ultraviolet absorber in the present invention.

【００６３】[0063]

【化２】 [Chemical 2]

【００６４】式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子または
アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、及びフェニ
ル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフ
ェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、
アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキ
ル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基又
は−ＣＯ（ＮＨ）n-1−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、
アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基
を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。In the formula, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, and a phenyl group, and these alkyl group, alkenyl group and phenyl group may have a substituent. A is a hydrogen atom,
An alkyl group, an alkenyl group, a phenyl group, a cycloalkyl group, an alkylcarbonyl group, an alkylsulfonyl group or a -CO (NH) n-1 -D group, where D is an alkyl group,
It represents an alkenyl group or a phenyl group which may have a substituent. m and n represent 1 or 2.

【００６５】上記において、アルキル基としては、例え
ば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表
し、アルコキシ基としては、例えば、炭素数１８までの
アルコキシ基で、アルケニル基としては、例えば、炭素
数１６までのアルケニル基で、例えばアリル基、２−ブ
テニル基などを表す。又、アルキル基、アルケニル基、
フェニル基へ置換してもよい置換基としてはハロゲン原
子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子など、ヒ
ドロキシル基、フェニル基、（このフェニル基にはアル
キル基又はハロゲン原子などを置換していてもよい）な
どが挙げられる。In the above, the alkyl group represents, for example, a linear or branched aliphatic group having up to 24 carbon atoms, the alkoxy group represents, for example, an alkoxy group having up to 18 carbon atoms, and the alkenyl group represents For example, it is an alkenyl group having up to 16 carbon atoms and represents, for example, an allyl group or a 2-butenyl group. Also, an alkyl group, an alkenyl group,
As the substituent which may be substituted on the phenyl group, a halogen atom, for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, a hydroxyl group, a phenyl group, (this phenyl group may be substituted with an alkyl group or a halogen atom, etc. Also good).

【００６６】以下に一般式〔２〕で表されるベンゾフェ
ノン系化合物の具体例を示すが、これらに限定されな
い。Specific examples of the benzophenone compound represented by the general formula [2] are shown below, but the invention is not limited thereto.

【００６７】ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノン ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スル
ホベンゾフェノン ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５
−ベンゾイルフェニルメタン） 市販されているものとしては、ＴＩＮＵＶＩＮ Ｐ、Ｔ
ＩＮＵＶＩＮ ３２４、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２０、ＴＩ
ＮＵＶＩＮ ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２７、ＴＩＮ
ＵＶＩＮ ３２８、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２９、ＴＩＮＵ
ＶＩＮ ７７０、ＴＩＮＵＶＩＮ ７８０、ＴＩＮＵＶ
ＩＮ １４４、ＴＩＮＵＶＩＮ １２０、ＵＶＩＴＥＸ
ＯＢ（日本チバガイギー（株）製）等から適宜選択し
て使用することもできる。UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: bis ( 2-methoxy-4-hydroxy-5
-Benzoylphenylmethane) As commercially available products, TINUVIN P, T
INUVIN 324, TINUVIN 320, TI
NUVIN 326, TINUVIN 327, TIN
UVIN 328, TINUVIN 329, TINU
VIN 770, TINUVIN 780, TINUV
IN 144, TINUVIN 120, UVITEX
OB (manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) and the like can be appropriately selected and used.

【００６８】本発明で好ましく用いられる上記記載の紫
外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化
を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着
色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特
に好ましく用いられる。また、本発明に用いられるポリ
エステルフィルムには蛍光増白剤を含有することができ
る。The above-mentioned UV absorber preferably used in the present invention is preferably a benzotriazole-based UV absorber or a benzophenone-based UV absorber which has high transparency and is excellent in the effect of preventing deterioration of a polarizing plate or a liquid crystal element, A benzotriazole-based ultraviolet absorber that causes less unnecessary coloring is particularly preferably used. Further, the polyester film used in the present invention may contain a fluorescent whitening agent.

【００６９】蛍光増白剤は通常市販されているもの、あ
るいは新規部室の中から耐光性に基づいて任意に選択す
ることができる。例えば、特開２００２−５３８２４の
段落番号［００２９］〜［００３４］に記載のものが挙
げられる。一般に蛍光増白剤は約３２０〜約４１０ｎｍ
の波長の光を吸収して、約４１０〜約５００ｎｍの波長
の光を放射する性質を有する化合物よりなる。これらの
蛍光増白剤で染められた織物は本来の黄色い反射光のほ
かに、新たに蛍光増白剤により発光される約４１０〜約
５００ｎｍの波長の青色光が付加されるため反射光は白
色になり、且つ、蛍光効果による分だけ可視光のエネル
ギーが増加するため、結果として増白されたことにな
る。The fluorescent whitening agent is usually commercially available, or can be arbitrarily selected from the novel departments based on the light resistance. Examples thereof include those described in paragraph numbers [0029] to [0034] of JP-A-2002-53824. Generally optical brighteners are about 320 to about 410 nm
Of a compound having a property of absorbing light having a wavelength of about 410 nm to emitting light having a wavelength of about 500 nm. Textiles dyed with these optical brighteners have white reflected light in addition to the original yellow reflected light and blue light with a wavelength of about 410 to about 500 nm newly emitted by the fluorescent whitening agent. In addition, the energy of visible light is increased by the amount due to the fluorescence effect, and as a result, whitening is performed.

【００７０】蛍光増白剤としては、更に下記一般式
〔３〕のものが挙げられる。Examples of the fluorescent whitening agent further include those of the following general formula [3].

【００７１】[0071]

【化３】 [Chemical 3]

【００７２】式中、Ｒ1およびＲ4は水素原子、アルキル
基またはアルコキシ基を表し、Ｒ2およびＲ3はアルキル
基を表す。［Ａ］は置換アリール基または置換エテニル
基を表す。一般式〔３〕で表される化合物は、好ましく
は下記一般式〔４〕で表される化合物である。In the formula, R 1 and R 4 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and R 2 and R 3 represent an alkyl group. [A] represents a substituted aryl group or a substituted ethenyl group. The compound represented by the general formula [3] is preferably a compound represented by the following general formula [4].

【００７３】[0073]

【化４】 [Chemical 4]

【００７４】式中、Ｒ5およびＲ7は前記Ｒ2と同義の基
であり、Ｒ6およびＲ8は前記Ｒ3と同義である。ｎは１
または２の整数を表す。これらの化合物は特開平１１−
２９５５６号記載の方法で合成することができる。一般
式〔４〕で表される化合物の具体例は、特開２００２−
５３８２４の段落番号［００５０］〜［００６０］に記
載されている。In the formula, R 5 and R 7 have the same meaning as R 2, and R 6 and R 8 have the same meaning as R 3 . n is 1
Alternatively, it represents an integer of 2. These compounds are disclosed in JP-A-11-
It can be synthesized by the method described in No. 29556. Specific examples of the compound represented by the general formula [4] are disclosed in JP-A-2002-2002.
Paragraph Nos. [0050] to [0060] of 53824.

【００７５】これらの蛍光増白剤はクリアハードコート
層、支持体、バインダー層のいずれに添加してもよく、
２種以上併用することもできる。添加量は層の厚さ、蛍
光増白剤の性質、紫外線吸収剤の有無、性質、添加量に
よって変化するので一義的には決められない。一般的に
は暑さ５０μｍの層であれば０．１〜３０質量％、好ま
しくは４〜１５質量％で十分である。These fluorescent whitening agents may be added to any of the clear hard coat layer, the support and the binder layer,
It is also possible to use two or more types in combination. The addition amount varies depending on the thickness of the layer, the properties of the fluorescent whitening agent, the presence or absence of the ultraviolet absorber, the properties, and the addition amount, and therefore cannot be uniquely determined. Generally, 0.1-30% by mass, preferably 4-15% by mass is sufficient for a layer having a heat of 50 μm.

【００７６】本発明に用いるポリエステルの合成方法
は、特に限定があるわけではなく、前述したように従来
公知のポリエステルの製造方法に従って製造できる。例
えば、ジカルボン酸成分をジオール成分と直接エステル
化反応させる直接エステル化法、初めにジカルボン酸成
分としてジアルキルエステルを用いて、これとジオール
成分とでエステル交換反応させ、これを減圧下で加熱し
て余剰のジオール成分を除去することにより重合させる
エステル交換法を用いることができる。この際、必要に
応じてエステル交換触媒或いは重合反応触媒を用い、或
いは耐熱安定剤を添加することができる。この際、共重
合成分である金属スルホネート基を有する芳香族ジカル
ボン酸類やポリエチレングリコールをエステル交換反応
後に添加し、重縮合を行うことが好ましい。また、合成
時の各過程で着色防止剤、酸化防止剤、結晶核剤、すべ
り剤、安定剤、ブロッキング防止剤、紫外線吸収剤、蛍
光増白剤、粘度調節剤、消泡剤、透明化剤、帯電防止
剤、ｐＨ調整剤、染料、顔料等を添加させてもよい。The method of synthesizing the polyester used in the present invention is not particularly limited, and the polyester can be produced by the conventionally known method for producing polyester as described above. For example, a direct esterification method in which a dicarboxylic acid component is directly esterified with a diol component, first a dialkyl ester is used as a dicarboxylic acid component, and an ester exchange reaction is performed between this and the diol component, and this is heated under reduced pressure. A transesterification method in which the excess diol component is removed to perform polymerization can be used. At this time, if necessary, a transesterification catalyst or a polymerization reaction catalyst may be used, or a heat stabilizer may be added. At this time, it is preferable that aromatic dicarboxylic acids having a metal sulfonate group, which is a copolymerization component, or polyethylene glycol be added after the transesterification reaction to carry out polycondensation. In addition, in each process during synthesis, anti-coloring agents, antioxidants, crystal nucleating agents, slip agents, stabilizers, anti-blocking agents, UV absorbers, optical brighteners, viscosity modifiers, defoamers, clarifiers. Further, an antistatic agent, a pH adjusting agent, a dye, a pigment or the like may be added.

【００７７】次に、本発明の光学フィルムに用いられる
ポリエステルフィルムの製造方法について説明する。Next, a method for producing the polyester film used for the optical film of the present invention will be described.

【００７８】本発明で用いられるポリエステルフィルム
は延伸倍率１．０〜１０．０に二軸延伸されたものが用
いられ、特に実質的に一軸延伸されたものが好ましく用
いられる。実質的に一軸延伸したポリエステルフィルム
とは、二軸延伸製膜において、主にどちらか一方向のみ
に延伸を行うことで得られる。即ち、本発明において、
ポリエステルフィルムは一方向の延伸倍率が１．００〜
２．５倍、それと直交する方向の延伸倍率が２．５〜１
０倍に二軸延伸製膜されたポリエステルフィルムである
ことが好ましく、より好ましくは、縦方向の延伸倍率が
１．０〜２．０倍、横方向の延伸倍率が２．５〜７倍に
二軸延伸製膜されたポリエステルフィルムであり、更に
好ましくは縦方向の延伸倍率が１．１〜１．８倍、横方
向の延伸倍率が３．０〜６．０倍に二軸延伸製膜された
ポリエステルフィルムである。一方向の延伸倍率を大き
くすることが好ましく、延伸倍率の比（縦横いずれかの
高い方の延伸倍率／縦横いずれかの低い方の延伸倍率）
は２以上であることが好ましく、更に４以上であること
が好ましく、６以上であることが好ましい。又、未延伸
のものに対して延伸後の面積比て４倍以上に延伸されて
いることが好ましく、更に好ましくは５〜７倍に延伸さ
れていることが好ましい。As the polyester film used in the present invention, a biaxially stretched film having a stretching ratio of 1.0 to 10.0 is used, and a substantially uniaxially stretched film is particularly preferably used. The substantially uniaxially stretched polyester film is obtained by stretching mainly in either one direction in the biaxial stretching film formation. That is, in the present invention,
Polyester film has a draw ratio of 1.00 in one direction
2.5 times, the draw ratio in the direction orthogonal thereto is 2.5 to 1
It is preferable that the polyester film is biaxially stretched to 0 times, more preferably 1.0 to 2.0 times in the longitudinal direction and 2.5 to 7 times in the transverse direction. It is a biaxially stretched polyester film, and more preferably has a longitudinal draw ratio of 1.1 to 1.8 times and a transverse draw ratio of 3.0 to 6.0 times. It is a polyester film. It is preferable to increase the draw ratio in one direction, and the ratio of the draw ratios (the higher draw ratio in either the vertical or horizontal direction / the lower draw ratio in the vertical or horizontal direction).
Is preferably 2 or more, more preferably 4 or more, and preferably 6 or more. Further, it is preferably stretched 4 times or more, more preferably 5 to 7 times the area ratio of the unstretched material after stretching.

【００７９】上記ポリエステルフィルムを得るには、従
来公知の方法で行うことができ、特に限定されないが、
以下の様な方法で行うことができる。この場合、縦方向
とは、フィルムの製膜方向（長手方向）を、横方向とは
フィルムの製膜方向と直角方向（幅手方向）のことをい
う。The above polyester film can be obtained by a conventionally known method without any particular limitation.
It can be performed by the following method. In this case, the longitudinal direction means the film forming direction of the film (longitudinal direction), and the lateral direction means the direction perpendicular to the film forming direction of the film (width direction).

【００８０】先ず、原料のポリエステルをペレット状に
成型し、熱風乾燥又は真空乾燥した後、溶融押出し、Ｔ
ダイよりシート状に押出して、静電印加法等により冷却
ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸シートを得
る。次いで、得られた未延伸シートを複数のロール群及
び／又は赤外線ヒーター等の加熱装置を介してポリエス
テルのガラス転移温度（Ｔｇ）からＴｇ＋１００℃の範
囲内に加熱し、一段又は多段縦延伸する方法である。First, the raw material polyester is molded into pellets, dried in hot air or vacuum, and then melt-extruded.
A sheet is extruded from a die, adhered to a cooling drum by an electrostatic application method or the like, and then cooled and solidified to obtain an unstretched sheet. Next, the obtained unstretched sheet is heated to a temperature within the range of Tg + 100 ° C. from the glass transition temperature (Tg) of polyester through a plurality of roll groups and / or a heating device such as an infrared heater to carry out single-stage or multi-stage longitudinal stretching. Is.

【００８１】次に、上記のようにして得られた縦方向に
延伸されたポリエステルフィルムを、Ｔｇ〜Ｔｍ（融
点）−２０℃の温度範囲内で、横延伸し次いで熱固定す
る。Next, the longitudinally stretched polyester film obtained as described above is transversely stretched within the temperature range of Tg to Tm (melting point) -20 ° C. and then heat set.

【００８２】横延伸する場合、２つ以上に分割された延
伸領域で温度差を１〜５０℃の範囲で順次昇温しながら
横延伸すると巾方向の物性の分布が低減でき好ましい。
更に横延伸後、フィルムをその最終横延伸温度以下でＴ
ｇ−４０℃以上の範囲に０．０１〜５分間保持すると巾
方向の物性の分布が更に低減でき好ましい。In the case of transverse stretching, it is preferable to transversely stretch while gradually increasing the temperature difference in the range of 1 to 50 ° C. in the stretching region divided into two or more because the distribution of the physical properties in the width direction can be reduced.
After further transverse stretching, the film is subjected to T at or below its final transverse stretching temperature.
It is preferable to maintain the temperature in the range of g-40 ° C or higher for 0.01 to 5 minutes because the distribution of physical properties in the width direction can be further reduced.

【００８３】熱固定は、その最終横延伸温度より高温
で、Ｔｍ−２０℃以下の温度範囲内で通常０．５〜３０
０秒間熱固定する。この際、２つ以上に分割された領域
で温度差を１〜１００℃の範囲で順次昇温しながら熱固
定することが好ましい。The heat setting is generally 0.5 to 30 at a temperature higher than the final transverse stretching temperature and within a temperature range of Tm-20 ° C. or lower.
Heat set for 0 seconds. At this time, it is preferable to heat-set while sequentially raising the temperature difference in the range of 1 to 100 ° C. in the two or more divided regions.

【００８４】熱固定されたフィルムは通常Ｔｇ以下まで
冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし
巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ以上
の温度範囲内で、横方向及び／又は縦方向に０．１〜１
０％弛緩処理することが好ましい。また冷却は、最終熱
固定温度からＴｇまでを、毎秒１００℃以下の冷却速度
で徐冷することが好ましい。冷却、弛緩処理する手段は
特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数
の温度領域で順次冷却しながら、これらの処理を行うこ
とが、フィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。尚、
冷却速度は、最終熱固定温度をＴ１、フィルムが最終熱
固定温度からＴｇに達するまでの時間をｔとしたとき、
（Ｔ１−Ｔｇ）／ｔで求めた値である。The heat-fixed film is usually cooled to Tg or less, and the clip holding portions at both ends of the film are cut and wound up. At this time, within the temperature range not higher than the final heat setting temperature and not lower than Tg, 0.1 to 1 in the horizontal direction and / or the vertical direction.
It is preferable to perform 0% relaxation treatment. Further, for cooling, it is preferable to gradually cool from the final heat setting temperature to Tg at a cooling rate of 100 ° C. or less per second. The means for cooling and relaxing treatment is not particularly limited and can be carried out by conventionally known means, but it is particularly preferable to perform these treatments while sequentially cooling in a plurality of temperature regions from the viewpoint of improving the dimensional stability of the film. still,
The cooling rate is T1, the final heat setting temperature, and t is the time required for the film to reach Tg from the final heat setting temperature,
It is a value obtained by (T1-Tg) / t.

【００８５】これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件の
より最適な条件は、フィルムを構成するポリエステルに
より異なるので、得られた延伸フィルムの物性を測定
し、好ましい特性を有するように適宜調整して決定すれ
ばよい。The more optimum heat setting conditions, cooling conditions, and relaxation treatment conditions differ depending on the polyester constituting the film. Therefore, the physical properties of the obtained stretched film are measured and appropriately adjusted so as to have the desired properties. Just decide.

【００８６】また、上記フィルム製造に際し、延伸の前
及び／又は後で帯電防止層、易滑性層、接着層、バリア
ー層等の機能性層を塗設してもよい。この際、コロナ放
電処理、大気圧プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処
理を必要に応じて施すことができる。In the production of the above film, functional layers such as an antistatic layer, a slipping layer, an adhesive layer and a barrier layer may be coated before and / or after stretching. At this time, various surface treatments such as corona discharge treatment, atmospheric pressure plasma treatment, chemical treatment and the like can be applied as necessary.

【００８７】カットされたフィルム両端のクリップ把持
部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処
理や解重合・再重合等の処理を行った後、同じ品種のフ
ィルム用原料として又は異なる品種のフィルム用原料と
して再利用してもよい。The clip gripping portions on both ends of the cut film are pulverized or, if necessary, subjected to granulation treatment, depolymerization / repolymerization or the like, and then used as raw materials for films of the same kind or It may be reused as a raw material for films of different types.

【００８８】本発明において、上記のようにして製膜さ
れたポリエステルフィルムの面方向においての屈折率
は、横方向の屈折率（ｎTD）と縦方向の屈折率（ｎMD）
との差の絶対値｜ｎTD−ｎMD｜が０．０５以下であるこ
とが好ましく、より好ましくは０．０４以下、更に好ま
しくは０．０２５以下である。In the present invention, the refractive index in the plane direction of the polyester film formed as described above is the refractive index in the lateral direction (n TD ) and the refractive index in the longitudinal direction (n MD ).
The absolute value of the difference | n TD −n MD | is preferably 0.05 or less, more preferably 0.04 or less, still more preferably 0.025 or less.

【００８９】本発明で用いられるポリエステルフィルム
の厚みは、通常３〜５００μｍ、好ましくは５〜１２０
μｍ、更に好ましくは５〜４０μｍ、より好ましくは１
０〜３５μｍである。巻き取り前に幅手両端部に膜厚の
１〜２５％程度の高さのナーリングで、幅０．１〜３ｃ
ｍ程度の加工を施すことが好ましい。The thickness of the polyester film used in the present invention is usually 3 to 500 μm, preferably 5 to 120 μm.
μm, further preferably 5 to 40 μm, more preferably 1
It is 0 to 35 μm. Before winding, knurling with a height of 1 to 25% of the film thickness on both widthwise ends, width of 0.1 to 3c
It is preferable to perform processing of about m.

【００９０】本発明ので用いられるポリエステルフィル
ムの面内方向におけるリターデーションＲ0（ｎｍ）
は、１０００ｎｍ以下であることが好ましく、８００ｎ
ｍ以下であることがより好ましく、５００ｎｍ以下であ
ることが更に好ましい。The retardation R 0 (nm) in the in-plane direction of the polyester film used in the present invention
Is preferably 1000 nm or less, and 800 n
It is more preferably m or less, and further preferably 500 nm or less.

【００９１】また、本発明で用いられるポリエステルフ
ィルムは、フィルム面内の屈折率が最大となる方向とフ
ィルムの幅手方向（フィルムの長尺方向）とのなす角度
が０°±１５°もしくは９０°±１５°であることが好
ましく、更に０°±１０°もしくは９０°±１０°であ
ることが好ましく、より好ましくは０°±５°もしくは
９０°±５°であることであり、０°±１°もしくは９
０°±１°であることが更に好ましい。The polyester film used in the present invention has an angle of 0 ° ± 15 ° or 90 ° between the direction in which the in-plane refractive index is maximum and the width direction of the film (long direction of the film). It is preferably ± 15 °, more preferably 0 ° ± 10 ° or 90 ° ± 10 °, more preferably 0 ° ± 5 ° or 90 ° ± 5 °, and 0 ° ± 1 ° or 9
More preferably, it is 0 ° ± 1 °.

【００９２】本発明で用いられるポリエステルフィルム
は、上記ポリエステルフィルムからなる単独（単層）の
フィルムでもよいが、本発明の効果を阻害しない範囲
で、上記ポリエステルからなる層を少なくとも１層含
む、複数の樹脂層からなる多層フィルムとしてもよい。
上記ポリエステル層をＡ、その他の樹脂層をＢ及びＣと
すると、例えばＡ／Ｂ、Ａ／Ｂ／Ａ、Ｂ／Ａ／Ｂ、Ｂ／
Ａ／Ｃのように構成できる。もちろん４層以上の構成に
することもできる。この様に多層構成にすることで、例
えば、強度や水バリアー性の高いフィルムをコア層や外
層に積層することにより、複数の機能を同時に付与する
ことができる。The polyester film used in the present invention may be a single (single layer) film made of the above polyester film, but a plurality of films containing at least one layer made of the above polyester may be used as long as the effects of the present invention are not impaired. It may be a multi-layer film comprising the resin layer.
When the polyester layer is A and the other resin layers are B and C, for example, A / B, A / B / A, B / A / B, B /
It can be configured like A / C. Of course, a structure having four or more layers can also be used. With such a multi-layer structure, a plurality of functions can be imparted simultaneously by, for example, laminating a film having high strength and water barrier properties on the core layer and the outer layer.

【００９３】上記その他の樹脂層としては、アクリル樹
脂、セルロースエステル樹脂（セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプ
ロピオネート）、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂
等でもよく、あるいは前述のポリエステルなどが好まし
く用いられる。例えば、スルホン酸基含有ポリエステル
層／スルホン酸基を含有しないポリエステル層（例え
ば、ＰＥＴ）／スルホン酸基含有ポリエステル層といっ
た多層構成とすることもできる。As the other resin layer, acrylic resin, cellulose ester resin (cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose acetate propionate), polycarbonate, norbornene resin or the like may be used, or the above polyester or the like is preferably used. For example, a multilayer structure of a sulfonic acid group-containing polyester layer / a sulfonic acid group-free polyester layer (for example, PET) / a sulfonic acid group-containing polyester layer can be used.

【００９４】また、滑り性を付与するためマット剤等の
微粒子を添加する場合は、最外層のみに添加すれば効果
が得られるので、透明性等を劣化させずに機能付与する
ことが可能となる。When fine particles such as a matting agent are added to impart slipperiness, the effect can be obtained by adding them only to the outermost layer, so that it is possible to impart a function without deteriorating transparency and the like. Become.

【００９５】添加できる微粒子としては特に限定はされ
ないが、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子
が挙げられる。The fine particles that can be added are not particularly limited, but examples thereof include fine particles of an inorganic compound and fine particles of an organic compound.

【００９６】無機化合物としては、珪素を含む化合物、
二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸
化チタン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオ
リン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、
ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カ
ルシウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む
無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、二酸化珪素が
好ましく用いられる。二酸化珪素の微粒子としては、例
えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ
８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５
０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル（株）製）等の
市販品が使用できる。酸化ジルコニウムの微粒子として
は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、
日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。As the inorganic compound, a compound containing silicon,
Silicon dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate,
Aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate and the like are preferable, and more preferable are inorganic compounds containing silicon and zirconium oxide, but silicon dioxide is preferably used. As the fine particles of silicon dioxide, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R
812, 200, 200V, 300, R202, OX5
Commercially available products such as 0 and TT600 (all manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used. Examples of fine particles of zirconium oxide include, for example, Aerosil R976 and R811 (above,
Commercial products such as Nippon Aerosil Co., Ltd. can be used.

【００９７】有機化合物としては、例えば、シリコーン
樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好まし
く、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。上
記記載のシリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構
造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０
３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１
２０及び同２４０（以上、東芝シリコーン（株）製）等
の商品名を有する市販品が使用できる。As the organic compound, for example, polymers such as silicone resin, fluorine resin and acrylic resin are preferable, and among them, silicone resin is preferably used. Among the above-mentioned silicone resins, those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 10
3, 105, 108, 120, 145, 31
Commercial products having trade names such as 20 and 240 (above, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) can be used.

【００９８】微粒子の１次平均粒子径としては、ヘイズ
を低く抑えるという観点から、２０ｎｍ以下が好まし
く、更に好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好まし
くは、５〜１２ｎｍである。The primary average particle diameter of the fine particles is preferably 20 nm or less, more preferably 5 to 16 nm, and particularly preferably 5 to 12 nm from the viewpoint of suppressing haze to a low level.

【００９９】多層フィルムを製造する方法としては、共
押し出しによる方法、エクストルージョンラミネートに
よる方法、ドライラミネーションによる方法などを好ま
しく用いることができる。As a method for producing a multilayer film, a method by coextrusion, a method by extrusion lamination, a method by dry lamination or the like can be preferably used.

【０１００】本発明において、光学フィルムの表面が導
電性を有することが好ましく、表面比抵抗（２３℃、２
５％ＲＨ）が１×１０12Ω／ｃｍ2以下であることが好
ましい。より好ましくは、１×１０11Ω／ｃｍ2以下、
更に好ましくは１×１０10Ω／ｃｍ2以下である。In the present invention, it is preferable that the surface of the optical film has conductivity, and the surface specific resistance (23 ° C., 2
5% RH) is preferably 1 × 10 12 Ω / cm 2 or less. More preferably, 1 × 10 11 Ω / cm 2 or less,
More preferably, it is 1 × 10 10 Ω / cm 2 or less.

【０１０１】本発明においては、吸湿性物質又は導電性
物質を含有させることにより光学フィルムに導電性を付
与することができる。これら導電性を付与させる物質と
しては、例えば、界面活性剤、導電性ポリマー、無機金
属酸化物を挙げることができる。In the present invention, conductivity can be imparted to the optical film by containing a hygroscopic substance or a conductive substance. Examples of the substance that imparts the conductivity include a surfactant, a conductive polymer, and an inorganic metal oxide.

【０１０２】用いることができる界面活性剤としては、
アニオン性、カチオン性、両性及びノニオン性のいずれ
でもよい。アニオン性界面活性剤としては、例えば、ア
ルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキ
ルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフ
ォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エ
ステル類、Ｎ−アシル−Ｎ−アルキルタウリン酸、スル
ホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルリン酸エステル類等の様なカルボキシ基、スル
ホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の
酸性基を含むものが好ましい。As the surfactant that can be used,
It may be anionic, cationic, amphoteric or nonionic. Examples of the anionic surfactant include alkyl carboxylates, alkyl sulfonates, alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, alkyl sulfates, alkyl phosphates, N-acyl-N-alkyl taurines. Acid, sulfosuccinates, sulfoalkyl polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene alkyl phosphates, and other acidic groups such as carboxy groups, sulfo groups, phospho groups, sulfate ester groups, phosphate ester groups, etc. Those containing are preferable.

【０１０３】カチオン性界面活性剤としては、例えば、
アルキルアミン塩類、脂肪族或いは芳香族第４級アンモ
ニウム塩類、ピリジニウム、イミダゾリウム等の複素環
第４アンモニウム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホ
スホニウム又はスルホニウム塩類等が好ましい。Examples of the cationic surfactant include, for example,
Preferred are alkylamine salts, aliphatic or aromatic quaternary ammonium salts, heterocyclic quaternary ammonium salts such as pyridinium and imidazolium, and phosphonium or sulfonium salts containing an aliphatic or heterocyclic ring.

【０１０４】両性界面活性剤としては、例えば、アミノ
酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫
酸又は燐酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオ
キシド類等が好ましい。As the amphoteric surfactant, for example, amino acids, aminoalkyl sulfonic acids, aminoalkyl sulfuric acid or phosphoric acid esters, alkyl betaines, amine oxides and the like are preferable.

【０１０５】ノニオン性界面活性剤としては、例えば、
サポニン（ステロイド系）、アルキレンオキサイド誘導
体（例えば、ポリエチレングリコール、ポリエチレング
リコール／ポリプロピレングリコール縮合物、ポリエチ
レングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレング
リコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレング
リコールエステル類、ポリエチレングリコールソルビタ
ンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキルアミ
ン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサイド
付加物類）、グリシドール誘導体（例えば、アルケニル
コハク酸ポリセリド、アルキルフェノールポリグリセリ
ド）、多価アルコール脂肪酸エステル類等のアルキルエ
ステル類等が好ましい。Examples of the nonionic surfactant include, for example,
Saponins (steroids), alkylene oxide derivatives (for example, polyethylene glycol, polyethylene glycol / polypropylene glycol condensates, polyethylene glycol alkyl ethers or polyethylene glycol alkylaryl ethers, polyethylene glycol esters, polyethylene glycol sorbitan esters, polyalkylene glycols) Alkyl amines or amides, polyethylene oxide adducts of silicone), glycidol derivatives (for example, alkenyl succinic acid polyceride, alkyl phenol polyglyceride), and alkyl esters such as polyhydric alcohol fatty acid esters are preferable.

【０１０６】導電性ポリマーは特に限定されず、アニオ
ン性、カチオン性、両性及びノニオン性のいずれでもよ
いが、その中でも好ましいのは、アニオン性、カチオン
性である。より好ましいのは、アニオン性では、スルホ
ン酸系、カルボン酸系、カチオン性では、３級アミン
系、４級アンモニウム系のポリマー又はラテックスであ
る。The conductive polymer is not particularly limited and may be any of anionic, cationic, amphoteric and nonionic, and among them, anionic and cationic are preferable. More preferred are sulfonic acid-based or carboxylic acid-based polymers when anionic, and tertiary amine-based or quaternary ammonium-based polymers or latexes when cationic.

【０１０７】これらの導電性ポリマーは、例えば、特公
昭５２−２５２５１号、特開昭５１−２９９２３号、特
公昭６０−４８０２４号記載のアニオン性ポリマー又は
ラテックス、特公昭５７−１８１７６号、同５７−５６
０５９号、同５８−５６８５６号、米国特許第４，１１
８，２３１号等に記載のカチオン性ポリマー又はラテッ
クスを挙げることができる。Examples of these electrically conductive polymers include anionic polymers or latexes described in JP-B-52-25251, JP-A-51-29923 and JP-B-60-48024, and JP-B-57-18176 and 57-57. -56
059, 58-56856, U.S. Pat. No. 4,11.
Examples thereof include the cationic polymers or latexes described in No. 8,231.

【０１０８】例えば、特開２０００−３３７２０に記載
のプラズマ処理で帯電防止層あるいは導電層を設けるこ
ともできる。For example, an antistatic layer or a conductive layer can be provided by the plasma treatment described in JP-A-2000-33720.

【０１０９】本発明の光学フィルムは、偏光子の少なく
とも１面に張り合わせることで偏光板を構成することも
できる。偏光子の他の面は、公知の偏光板保護フィルム
（セルロースフィルム、例えばコニカタックＫＣ８ＵＸ
２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ）を張り合わせてもよいし、
本発明の光学フィルムを張り合わせてもよい。本発明の
光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いると、従
来のポリエステルフィルムでは巻き癖が取れず、偏光板
とした後もカールが残ってしまったり、強い巻き癖に起
因して接着部が剥離しやすいといった問題があったが、
本発明の光学フィルムは巻き癖が容易に解消するため、
特に偏光板保護フィルムに適している。特に偏光子と貼
合する前あるいは後に水あるいは水溶液に浸すあるいは
蒸気をあてる等によって容易に巻き癖を解消することが
でき、平面性に優れた偏光板を提供することができる。
又、従来のポリエステルと比較して本発明の光学フィル
ムは吸湿膨張係数がトリアセチルセルロースに近いた
め、偏光子の一方にトリアセチルセルロース等のセルロ
ースエステル系偏光板保護フィルム、もう一方に本発明
の光学フィルムを用いたハイブリット偏光板であって
も、吸湿等によって液晶表示装置に張り付けた偏光板が
剥離したり皺が発生しにくく、優れている。The optical film of the present invention can also be used as a polarizing plate by laminating it on at least one surface of a polarizer. The other side of the polarizer is a known polarizing plate protective film (cellulose film, for example, Konikak KC8UX).
2MW, KC4UX2MW) may be stuck together,
You may laminate the optical film of this invention. When the optical film of the present invention is used as a polarizing plate protective film, the conventional polyester film does not have a curl, and curls remain even after being used as a polarizing plate, or the adhesive part peels off due to a strong curl. There was a problem that it was easy,
In the optical film of the present invention, since the curling habit is easily eliminated,
It is especially suitable for a polarizing plate protective film. In particular, the curl can be easily eliminated by immersing in water or an aqueous solution or applying steam before or after bonding with the polarizer, and a polarizing plate having excellent flatness can be provided.
Further, since the optical film of the present invention has a hygroscopic expansion coefficient close to that of triacetyl cellulose as compared with conventional polyesters, one of the polarizers has a cellulose ester-based polarizing plate protective film such as triacetyl cellulose, and the other has the present invention. Even a hybrid polarizing plate using an optical film is excellent in that the polarizing plate attached to the liquid crystal display device is less likely to peel off or wrinkle due to moisture absorption or the like, and is excellent.

【０１１０】本発明の光学フィルムと偏光子を貼り合わ
せるのに使用される接着剤としては、十分な接着性を持
ち、透明で、偏光機能を阻害しないものが好ましく用い
られ、例えば、ポリエステル系接着剤、ポリアクリル系
接着剤、エポキシ系接着剤、シアノアクリレート系接着
剤、ポリウレタン系接着剤、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤
などが挙げられる。As the adhesive used for laminating the optical film of the present invention and the polarizer, one having sufficient adhesiveness, transparency and not impairing the polarizing function is preferably used. For example, polyester adhesive Agents, polyacrylic adhesives, epoxy adhesives, cyanoacrylate adhesives, polyurethane adhesives, polyvinyl alcohol adhesives such as polyvinyl alcohol and polyvinyl butyral, and the like.

【０１１１】接着性向上のため、コロナ放電処理、グロ
ー放電処理、紫外線処理、火炎処理、大気圧ガス中放電
プラズマ処理、薬液処理などの各種表面処理を必要に応
じて施すことができる。更に接着性向上の為、下引層を
塗設してもよい。下引層としては偏光子との接着性に優
れる親水性コロイド層が特に好ましい。Various surface treatments such as corona discharge treatment, glow discharge treatment, ultraviolet ray treatment, flame treatment, discharge plasma treatment in atmospheric pressure gas, chemical treatment and the like can be applied as necessary to improve adhesion. Further, an undercoat layer may be coated to improve the adhesiveness. As the undercoat layer, a hydrophilic colloid layer having excellent adhesiveness to the polarizer is particularly preferable.

【０１１２】例えば、偏光板保護フィルムとして偏光子
との接着性を向上させるために特開２０００−３５６７
１４の方法等でプラズマ処理を行うことによって、ポリ
ビニルアルコール系接着剤等を用いた場合の接着性を更
に向上させることができる。For example, in order to improve the adhesiveness with a polarizer as a polarizing plate protective film, JP-A-2000-3567 is used.
By performing the plasma treatment by the method of 14 or the like, it is possible to further improve the adhesiveness when a polyvinyl alcohol-based adhesive or the like is used.

【０１１３】本発明の光学フィルムは、ポリエステルフ
ィルム上に直接又は他の層を介して金属酸窒化物層を形
成することを特徴としているが、樹脂硬化層あるいは他
の層を介して形成することがより好ましい。上記のよう
にして得られたポリエステルフィルム上には、熱硬化樹
脂層あるいは活性線硬化樹脂層を形成することが好まし
く、特に紫外線硬化樹脂層を設けることが好ましい。The optical film of the present invention is characterized in that a metal oxynitride layer is formed on a polyester film directly or through another layer, but it is formed through a resin cured layer or another layer. Is more preferable. It is preferable to form a thermosetting resin layer or an actinic radiation curing resin layer on the polyester film obtained as described above, and it is particularly preferable to provide an ultraviolet curing resin layer.

【０１１４】樹脂硬化層は、種々の機能を有していても
よく、例えば、防眩層やクリアハードコート層であって
もよい。樹脂硬化層はエチレン性不飽和結合を有するモ
ノマーを１種以上含む成分を重合させて形成した層であ
ることが好ましい。エチレン性不飽和結合を有するモノ
マーを含む成分を重合させて形成した樹脂層としては、
活性線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂を硬化させて形成さ
れた層が好ましく用いられるが、特に好ましく用いられ
るのは活性線硬化樹脂層である。ここで、活性線硬化樹
脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋
反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をい
う。The cured resin layer may have various functions, and may be, for example, an antiglare layer or a clear hard coat layer. The cured resin layer is preferably a layer formed by polymerizing a component containing at least one monomer having an ethylenically unsaturated bond. The resin layer formed by polymerizing a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated bond,
A layer formed by curing an actinic ray curable resin or a thermosetting resin is preferably used, but an actinic ray curable resin layer is particularly preferably used. Here, the actinic ray curable resin layer refers to a layer containing a resin which is cured by a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays and electron beams as a main component.

【０１１５】活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂
や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられ
るが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化す
る樹脂でもよい。Typical examples of the actinic ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, but a resin which is cured by irradiation with an actinic ray other than an ultraviolet ray or an electron beam may be used.

【０１１６】紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外
線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエ
ステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアク
リレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート
系樹脂または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げること
ができる。Examples of the UV curable resin include UV curable acrylic urethane resin, UV curable polyester acrylate resin, UV curable epoxy acrylate resin, UV curable polyol acrylate resin, and UV curable epoxy resin. Can be mentioned.

【０１１７】具体例としては、例えば、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパン
テトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変
性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げ
ることができる。Specific examples include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate and the like. it can.

【０１１８】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂とし
ては、一般にポリエステルポリオールにイソシアネート
モノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた
生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートに
はメタクリレートを包含するものとしてアクリレートの
みを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート
等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応さ
せる容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭
５９−１５１１１０号に記載のものを用いることができ
る。As the UV-curable acrylic urethane type resin, generally, a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer is further added with 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl acrylate.
Examples thereof include hydroxyethyl methacrylate (hereinafter, acrylate is referred to as acrylate only including acrylate) and 2-hydroxypropyl acrylate, which are easily formed by reacting an acrylate-based monomer having a hydroxyl group. Those described in JP-A-59-151110 can be used.

【０１１９】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレ
ート系のモノマーを反応させる容易に形成されるものを
挙げることができ、特開昭５９−１５１１１２号に記載
のものを用いることができる。Examples of the UV-curable polyester acrylate resin include those generally formed easily by reacting a polyester polyol with 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyacrylate monomer. Those described in No. 151112 can be used.

【０１２０】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマー
とし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反
応させて生成するものを挙げることができ、特開平１−
１０５７３８号に記載のものを用いることができる。Specific examples of the UV-curable epoxy acrylate-based resin include epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photoreaction initiator added thereto, and a reaction product. Kaihei 1-
The one described in No. 105738 can be used.

【０１２１】これらの光反応開始剤としては、具体的に
は、ベンゾイン及び誘導体、アセトフェノン、ベンゾフ
ェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケト
ン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及び
これらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に
使用してもよい。Specific examples of these photoreaction initiators include benzoin and derivatives, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone and their derivatives. You may use it with a photosensitizer.

【０１２２】上記光反応開始剤も光増感剤としても使用
できる。また、エポキシアクリレート系の光反応剤の使
用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−
ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができ
る。The above photoreaction initiator can also be used as a photosensitizer. When using an epoxy acrylate-based photoreactive agent, n-butylamine, triethylamine, tri-
A sensitizer such as n-butylphosphine can be used.

【０１２３】樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二
重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルア
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニ
ル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができ
る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとし
て、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−
シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシ
ルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリルエステル等を挙げることができる。As the resin monomer, for example, a monomer having one unsaturated double bond is methyl acrylate,
Common monomers such as ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate and styrene can be mentioned. Further, as a monomer having two or more unsaturated double bonds, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-
Cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyl dimethyl adiacrylate, the above-mentioned trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylic ester, etc. can be mentioned.

【０１２４】本発明において使用し得る市販品の紫外線
硬化樹脂としては、アデカオプトマーＫＲ・ＢＹシリー
ズ：ＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ
−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（旭電化
（株）製）；コーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１
０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０
１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０
２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ
２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（広栄化学（株）
製）；セイカビームＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣ Ｘ
−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−
２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２０
０、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６０
０、ＳＣＲ９００（大日精化工業（株）製）；ＫＲＭ７
０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１
３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９
２０２（ダイセル・ユーシービー（株）製）；ＲＣ−５
０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０
３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２
０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７
１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（大日本インキ化
学工業（株）製）；オーレックスＮｏ．３４０クリヤ
（中国塗料（株）製）；サンラッドＨ−６０１（三洋化
成工業（株）製）；ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７
（昭和高分子（株）製）；ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・
ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−
８０３０、Ｍ−８０６０（東亞合成（株）製）等を適宜
選択して利用できる。Commercially available UV-curable resins usable in the present invention include ADEKA OPTOMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR.
-566, KR-567, BY-320B (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.); Koei Hard A-101-KK, A-1
01-WS, C-302, C-401-N, C-50
1, M-101, M-102, T-102, D-10
2, NS-101, FT-102Q8, MAG-1-P
20, AG-106, M-101-C (Kouei Chemical Co., Ltd.)
Made); SEIKA BEAM PHC2210 (S), PHC X
-9 (K-3), PHC2213, DP-10, DP-
20, DP-30, P1000, P1100, P120
0, P1300, P1400, P1500, P160
0, SCR900 (manufactured by Dainichiseika Kogyo KK); KRM7
033, KRM7039, KRM7130, KRM71
31, UVECRYL29201, UVECRYL29
202 (manufactured by Daicel UCB Ltd.); RC-5
015, RC-5016, RC-5020, RC-50
31, RC-5100, RC-5102, RC-512
0, RC-5122, RC-5152, RC-517
1, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.); Aurex No. 340 Clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601 (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.); SP-1509, SP-1507
(Showa High Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (Grace
Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-
8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like can be appropriately selected and used.

【０１２５】これらの活性線硬化樹脂層は公知の方法で
塗設することができる。紫外線硬化性樹脂を光硬化反応
により硬化させるための光源としては、紫外線を発生す
る光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀
灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボン
アーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を
用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによ
って異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ
2程度あればよく、好ましくは、５０〜２０００ｍＪ／
ｃｍ2である。近紫外線領域〜可視光線領域にかけては
その領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって
効率よく形成することができる。These actinic ray curable resin layers can be applied by a known method. As a light source for curing the ultraviolet curable resin by a photo-curing reaction, any light source that emits ultraviolet light can be used without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a super high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, etc. can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the amount of irradiation light is 20 to 10,000 mJ / cm
It may be about 2 and preferably 50 to 2000 mJ /
cm 2 . It can be efficiently formed by using a sensitizer having an absorption maximum in the near-ultraviolet region to the visible light region.

【０１２６】紫外線硬化樹脂層組成物塗布液の有機溶媒
としては、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン
類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の有機
溶媒の中から適宜選択し、あるいはこれらを混合し利用
できる。例えば、プロピレングリコールモノアルキルエ
ーテル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）または
プロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステ
ル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）等を５質量
％以上、より好ましくは５〜８０質量％以上含有する上
記有機溶媒を用いるのが好ましい。The organic solvent for the ultraviolet curable resin layer composition coating liquid is appropriately selected from, for example, hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, glycol ethers, and other organic solvents, or these are selected. Can be mixed and used. For example, propylene glycol monoalkyl ether (the number of carbon atoms of the alkyl group is 1 to 4) or propylene glycol monoalkyl ether acetic acid ester (the number of carbon atoms of the alkyl group is 1 to 4) is 5% by mass or more, more preferably 5 It is preferable to use the above organic solvent that is contained in an amount of -80% by mass or more.

【０１２７】紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法
としては、前述のものを用いることができる。塗布量は
ウェット膜厚として０．１〜３０μｍが適当で、好まし
くは、０．５〜１５μｍである。紫外線硬化性樹脂組成
物は塗布乾燥中または後に、紫外線を照射するのがよ
く、照射時間としては０．５秒〜５分が好ましく、紫外
線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から３秒
〜２分がより好ましい。As the method for applying the ultraviolet-curable resin composition coating liquid, the above-mentioned methods can be used. The coating amount is suitably 0.1 to 30 μm as a wet film thickness, preferably 0.5 to 15 μm. The ultraviolet curable resin composition is preferably irradiated with ultraviolet rays during or after coating and drying, and the irradiation time is preferably 0.5 seconds to 5 minutes, and 3 seconds from the viewpoint of curing efficiency or work efficiency of the ultraviolet curable resin. ~ 2 minutes is more preferred.

【０１２８】硬化樹脂層塗布液には、ブロッキングを防
止するために、また対擦り傷性等を高めるために、無機
化合物あるいは有機化合物の微粒子を加えることもで
き、それらの種類としては、前述のマット剤の微粒子と
ほぼ同様である。これらの微粒子粉末の平均粒径として
は、０．００５μｍ〜５μｍが好ましく０．０１〜１μ
ｍであることが特に好ましい。紫外線硬化樹脂組成物と
微粒子粉末との割合は、該樹脂組成物１００質量部に対
して、０．１〜２０質量部であることが好ましい。Fine particles of an inorganic compound or an organic compound may be added to the coating solution for the cured resin layer in order to prevent blocking and to enhance scratch resistance. It is almost similar to the fine particles of the agent. The average particle size of these fine particle powders is preferably 0.005 μm to 5 μm and 0.01 to 1 μm.
Particularly preferably m. The ratio of the ultraviolet curable resin composition to the fine particle powder is preferably 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

【０１２９】紫外線硬化樹脂層はＪＩＳ−Ｂ−０６０１
で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）が１〜５０ｎｍの
クリアハードコート層であっても、Ｒａが０．１〜１μ
ｍの防眩層であってもよい。また、紫外線硬化樹脂層の
屈折率は１．５〜１．７、好ましくは１．５２〜１．６
５であることが好ましい。The UV-curable resin layer is JIS-B-0601.
Even if it is a clear hard coat layer having a center line average roughness (Ra) of 1 to 50 nm, the Ra is 0.1 to 1 μm.
m may be an antiglare layer. The refractive index of the ultraviolet curable resin layer is 1.5 to 1.7, preferably 1.52 to 1.6.
It is preferably 5.

【０１３０】本発明では、これらの層の上にプラズマ放
電処理によって膜厚ムラが著しく改善された金属酸窒化
物薄膜層を形成することができる。In the present invention, a metal oxynitride thin film layer whose film thickness unevenness is remarkably improved can be formed on these layers by plasma discharge treatment.

【０１３１】本発明では金属酸窒化物薄膜層を設ける方
法は特に限定されず、塗布、スパッタ、蒸着、ＣＶＤ法
によって形成することができるが、特にＣＶＤ中でもプ
ラズマＣＶＤによって形成されたものであることが好ま
しい。In the present invention, the method for providing the metal oxynitride thin film layer is not particularly limited, and the metal oxynitride thin film layer can be formed by coating, sputtering, vapor deposition, or CVD. However, it should be particularly formed by plasma CVD even during CVD. Is preferred.

【０１３２】本発明の金属酸窒化物層を形成する方法と
しての大気圧もしくはその近傍の圧力下のプラズマ放電
処理は、下記のごときプラズマ放電処理装置を用いるこ
とによって行われる。The plasma discharge treatment under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof as the method for forming the metal oxynitride layer of the present invention is performed by using the plasma discharge treatment apparatus as described below.

【０１３３】図１は、本発明の金属酸窒化物薄膜層を形
成するのに用いられるプラズマ放電処理装置の一例を示
す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of a plasma discharge treatment apparatus used for forming the metal oxynitride thin film layer of the present invention.

【０１３４】図１においては、この装置は一対の回転電
極１０Ａと１０Ｂを有し、回転電極１０Ａと１０Ｂに
は、プラズマ放電を発生させるための電圧を印加できる
電源８０が電圧供給手段８１、８２を介して接続されて
いる。In FIG. 1, this device has a pair of rotating electrodes 10A and 10B, and a power supply 80 capable of applying a voltage for generating plasma discharge is provided to the rotating electrodes 10A and 10B by voltage supply means 81 and 82. Connected through.

【０１３５】回転電極１０Ａと１０Ｂはポリエステルフ
ィルムを巻き回しながら搬送するもので、ロール電極も
しくはベルト状の電極であることが好ましく、図１では
ロール電極を示している。The rotating electrodes 10A and 10B convey the polyester film while winding it, and are preferably roll electrodes or belt-shaped electrodes. In FIG. 1, roll electrodes are shown.

【０１３６】これらの回転電極間の間隙（電極間隙）は
放電が行われる場所であり、ポリエステルフィルムＦが
搬送できる間隔に設定されいる。この電極間の間隙が放
電部５０となる。The gap between these rotating electrodes (electrode gap) is a place where discharge is performed, and is set to an interval at which the polyester film F can be conveyed. The gap between the electrodes becomes the discharge part 50.

【０１３７】この電極間隙は大気圧もしくは大気圧近傍
の圧力下に維持されており、ここに反応ガス供給部３０
より反応ガスＧが幅手方向に均一に供給され、ポリエス
テルフィルムＦ表面がプラズマ放電処理される。This electrode gap is maintained at or near atmospheric pressure, and the reaction gas supply unit 30
The reaction gas G is supplied more uniformly in the width direction, and the surface of the polyester film F is plasma-discharge treated.

【０１３８】ここで、元巻きロールから巻き出されたポ
リエステルフィルムＦまたは前工程から搬送されてくる
ポリエステルフィルムＦがガイドロール２０を経て、ま
ず、移送方向に回転する回転電極１０Ａに接しながら移
送され、放電部５０を通過して、ポリエステルフィルム
Ｆの表面に薄膜が形成される。Here, the polyester film F unwound from the original winding roll or the polyester film F conveyed from the previous step is transferred through the guide roll 20 while being in contact with the rotating electrode 10A rotating in the transfer direction. After passing through the discharge part 50, a thin film is formed on the surface of the polyester film F.

【０１３９】一旦放電部５０から出たポリエステルフィ
ルムＦは、Ｕターンロール１１Ａ〜１１ＤでＵターンさ
れて、今度は、ポリエステルフィルムＦは回転電極１０
Ａと反対方向に回転している回転電極１０Ｂに接しなが
ら移送され、再び前記放電部５０を通過して、先ほど薄
膜が形成されたポリエステルフィルムＦの表面に更にプ
ラズマ放電処理され薄膜が形成される。Ｕターンは通常
０．１秒〜１分程度で行なわれる。The polyester film F once discharged from the discharge section 50 is U-turned by the U-turn rolls 11A to 11D, and this time, the polyester film F is rotated.
The thin film is formed while being transferred while being in contact with the rotating electrode 10B rotating in the direction opposite to A, passing through the discharge part 50 again, and further subjected to plasma discharge treatment on the surface of the polyester film F on which the thin film has been formed. . The U-turn is usually made in 0.1 second to 1 minute.

【０１４０】処理に使用された反応ガスＧはガス排出口
４０より反応後の排ガスＧ′として排出される。排ガス
Ｇ′に含まれるパーティクルや分解生成物はフィルター
や活性炭処理により取り除かれ、希ガスは回収再利用す
ることもできる。The reaction gas G used for the treatment is discharged from the gas discharge port 40 as the exhaust gas G'after the reaction. Particles and decomposition products contained in the exhaust gas G ′ are removed by a filter or activated carbon treatment, and the rare gas can be recovered and reused.

【０１４１】図ではポリエステルフィルムＦ上に形成さ
れた薄膜は省略してある。表面に薄膜が形成されたポリ
エステルフィルムＦは、ガイドローラ２１を介して次工
程または巻き取りロール（図示してない）方向に搬送さ
れる。In the figure, the thin film formed on the polyester film F is omitted. The polyester film F having a thin film formed on the surface is conveyed through the guide roller 21 in the next step or in the direction of a winding roll (not shown).

【０１４２】従って、ポリエステルフィルムＦは回転電
極１０Ａ、１０Ｂに密着した状態で放電部５０を往復し
てプラズマ放電処理されることとなる。Therefore, the polyester film F is reciprocated in the discharge part 50 while being in close contact with the rotary electrodes 10A and 10B, and is subjected to plasma discharge treatment.

【０１４３】なお、図示してないが、回転電極１０Ａと
１０Ｂ、ガイドロール２０、２１、Ｕターンロール１１
Ａ−１１Ｄ、反応ガス供給部３０、ガス排出口４０等の
装置は外界と遮断するプラズマ放電処理容器内に囲まれ
て納められていることが好ましい。Although not shown, the rotating electrodes 10A and 10B, the guide rolls 20 and 21, and the U-turn roll 11 are not shown.
It is preferable that the devices such as A-11D, the reaction gas supply unit 30, and the gas discharge port 40 are enclosed and housed in a plasma discharge processing container that is shielded from the outside.

【０１４４】また、図示してないが、必要に応じて、回
転電極１０Ａ、と１０Ｂの温度制御をするための温度制
御用媒体が循環され、各々の電極表面温度を所定の値に
制御するようになっている。通常、常温〜２００℃、好
ましくは５０〜１２０℃に制御されることが好ましく、
特に６０〜１００℃に制御されることが好ましい。電極
表面温度の変動や幅手ムラは±１℃以内であることが好
ましく、特に±０．１℃以内であることが好ましい。Although not shown, a temperature control medium for controlling the temperature of the rotating electrodes 10A and 10B is circulated as necessary to control the surface temperature of each electrode to a predetermined value. It has become. Usually, it is preferable to control the temperature from room temperature to 200 ° C, preferably 50 to 120 ° C.
It is particularly preferable to control the temperature to 60 to 100 ° C. The fluctuation of the electrode surface temperature and the unevenness of width are preferably within ± 1 ° C, and particularly preferably within ± 0.1 ° C.

【０１４５】図２は本発明の金属酸窒化物薄膜層を形成
するのに有用な回転電極と固定電極を有するプラズマ放
電処理装置の一例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of a plasma discharge treatment apparatus having a rotating electrode and a fixed electrode useful for forming the metal oxynitride thin film layer of the present invention.

【０１４６】回転電極１１０とそれに対向して配置され
た複数の固定電極１１１を有し、図示されていない元巻
きロールまたは前工程からから搬送されて来るポリエス
テルフィルムＦがガイドロール１２０、ニップロール１
２２を経て回転電極１１０に導かれ、ポリエステルフィ
ルムＦは回転電極１１０に接した状態で回転電極１１０
の回転と同期しながら移送され、大気圧もしくはその近
傍の圧力下にある放電部１５０に反応ガス発生装置１３
１で調製された反応ガスＧが給気管１３０から供給さ
れ、固定電極１１１に対向しているポリエステルフィル
ム面に薄膜が形成される。A polyester film F having a rotary electrode 110 and a plurality of fixed electrodes 111 arranged so as to face the rotary electrode 110, which is not shown in the drawing, or the polyester film F conveyed from the previous step is a guide roll 120 and a nip roll 1.
The polyester film F is guided to the rotating electrode 110 via 22 and is in contact with the rotating electrode 110.
Of the reaction gas generator 13 transferred to the discharge part 150 under atmospheric pressure or a pressure near the atmospheric pressure.
The reaction gas G prepared in 1 is supplied from the air supply pipe 130, and a thin film is formed on the polyester film surface facing the fixed electrode 111.

【０１４７】回転電極１１０と固定電極には、プラズマ
放電を発生させるための電圧を印加できる電源１８０が
電圧供給手段１８１、１８２を介して接続されている。A power supply 180 capable of applying a voltage for generating plasma discharge is connected to the rotary electrode 110 and the fixed electrode via voltage supply means 181 and 182.

【０１４８】また、回転電極１１０、固定電極１１１、
放電部１５０はプラズマ放電処理容器１９０で覆われ、
外界と遮断されている。処理された排ガスＧ′は処理室
の下部にあるガス排気口１４０から排出される。Further, the rotating electrode 110, the fixed electrode 111,
The discharge unit 150 is covered with the plasma discharge processing container 190,
It is cut off from the outside world. The treated exhaust gas G ′ is discharged from the gas exhaust port 140 at the bottom of the processing chamber.

【０１４９】プラズマ放電処理されたポリエステルフィ
ルムＦはニップロール１２３及びガイドロール１２１を
経て次工程または図示してない巻き取りロールへ搬送さ
れる。The plasma discharge-treated polyester film F is conveyed to the next step or a winding roll (not shown) through the nip roll 123 and the guide roll 121.

【０１５０】ポリエステルフィルムＦがプラズマ放電処
理容器の出入り部分のニップロール１２２及び１２３の
ところに外界との仕切板１２４及び１２５が設けられて
おり、外界からニップロール１２２と共にポリエステル
フィルムＦに同伴して来る空気を遮断し、また出口にお
いては、反応ガスＧまたは排ガスＧ′が外界に漏れない
ようになっている。なお、図示してないが、必要に応じ
て、回転電極１１０及び固定電極１１１は温度調節のた
めの温度制御された媒体を循環するようになっており、
図１の回転電極１０Ａ、１０Ｂと同様に温度制御するこ
とができる。Partitioning plates 124 and 125 from the outside are provided at the nip rolls 122 and 123 of the entrance / exit portion of the plasma discharge treatment container for the polyester film F, and air entrained in the polyester film F together with the nip roll 122 from the outside is provided. In addition, the reaction gas G or the exhaust gas G ′ is prevented from leaking to the outside at the outlet. Although not shown, the rotary electrode 110 and the fixed electrode 111 circulate a temperature-controlled medium for temperature adjustment, if necessary.
The temperature can be controlled similarly to the rotary electrodes 10A and 10B in FIG.

【０１５１】このように、本発明において、薄膜が形成
されるポリエステルフィルムは回転電極上で移送しなが
らプラズマ放電処理されるのが好ましい。As described above, in the present invention, the polyester film on which the thin film is formed is preferably subjected to plasma discharge treatment while being transferred on the rotating electrode.

【０１５２】回転電極がポリエステルフィルムと接する
表面は高い平滑性が求められ、回転電極の表面の表面粗
さがＪＩＳ−Ｂ−０６０１で規定される表面粗さの最大
高さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下であることが好まし
く、より好ましくは８μｍ以下であり、特に好ましく
は、７μｍ以下である。また、回転電極上のゴミ、異
物、パーティクル等は形成する薄膜の欠陥の原因となる
ため、粘着ロール、ブラシ、エアブロア等によって除去
することが望まれる。The surface of the rotary electrode in contact with the polyester film is required to have high smoothness, and the surface roughness of the rotary electrode is such that the maximum height (Rmax) of the surface roughness defined by JIS-B-0601 is 10 μm or less. Is more preferable, 8 μm or less is more preferable, and 7 μm or less is particularly preferable. Further, dust, foreign matter, particles, etc. on the rotating electrode cause defects in the formed thin film, and therefore it is desired to remove them with an adhesive roll, brush, air blower or the like.

【０１５３】用いられる電極の表面は固体誘電体で被覆
されていることが望ましく、特に金属等の導電性母材に
対し固体誘電体で被覆されていることが望ましい。固体
誘電体としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエ
チレンテレフタレート等のプラスティック、ガラス、二
酸化珪素、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化ジルコ
ニウム（ＺｒＯ2）、酸化チタン（ＴｉＯ2）等の金属酸
化物、チタン酸バリウム等の複酸化物等を挙げることが
できる。The surface of the electrode used is preferably coated with a solid dielectric material, and particularly preferably the conductive base material such as metal is coated with the solid dielectric material. Examples of solid dielectrics include plastics such as polytetrafluoroethylene and polyethylene terephthalate, glass, silicon dioxide, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), and other metal oxides, Examples thereof include double oxides such as barium titanate.

【０１５４】特に好ましくは、セラミックスを溶射後、
無機材料を用いて封孔処理したセラミック被覆処理誘電
体であることが望ましい。ここで、金属等の導電性母材
としては、銀、白金、ステンレス、アルミニウム、鉄、
チタン、チタン合金等の金属等を挙げることができる
が、加工の観点からステンレスが好ましい。Particularly preferably, after spraying ceramics,
It is desirable that the dielectric material is a ceramic-coated dielectric material that is sealed with an inorganic material. Here, as the conductive base material such as metal, silver, platinum, stainless steel, aluminum, iron,
Examples of the metal include titanium and titanium alloys, but stainless steel is preferable from the viewpoint of processing.

【０１５５】また、ライニング材としては、ケイ酸塩系
ガラス、ホウ酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ゲルマ
ン酸塩系ガラス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩ガ
ラス、バナジン酸塩ガラス等が好ましく用いられるが、
この中でもホウ酸塩系ガラスが加工し易いので、更に好
ましく用いられる。As the lining material, silicate glass, borate glass, phosphate glass, germanate glass, tellurite glass, aluminate glass, vanadate glass, etc. Is preferably used,
Among these, borate glass is more preferably used because it is easy to process.

【０１５６】本発明において、電極はその裏面側（内
側）から、必要に応じて、加熱あるいは冷却することが
できるようになっている。電極がベルトの場合には、そ
の裏面より気体で冷却することもできるが、ロールを用
いた回転電極では内部に媒体を供給して電極表面の温度
及びポリエステルフィルムの温度を制御することが好ま
しい。In the present invention, the electrode can be heated or cooled from the back side (inside) of the electrode, if necessary. When the electrode is a belt, it can be cooled with gas from the back surface thereof, but in a rotating electrode using a roll, it is preferable to supply a medium inside to control the temperature of the electrode surface and the temperature of the polyester film.

【０１５７】媒体としては、蒸留水、油特にシリコンオ
イル等の絶縁性材料が好ましく用いられる。As the medium, an insulating material such as distilled water, oil, especially silicone oil is preferably used.

【０１５８】放電処理の際のポリエステルフィルムの温
度は処理条件によって異なるが、室温〜２００℃以下が
好ましく、より好ましくは５０〜１２０℃以下であり、
更に好ましくは６０〜１１０℃である。The temperature of the polyester film during the discharge treatment varies depending on the treatment conditions, but is preferably room temperature to 200 ° C. or lower, more preferably 50 to 120 ° C. or lower,
More preferably, it is 60 to 110 ° C.

【０１５９】放電処理の際にポリエステルフィルム面の
特に幅手方向で温度ムラが生じないようにすることが望
ましく、±５℃以内とすることが好ましく、より好まし
くは±１℃以内であり、特に好ましくは±０．１℃以内
である。During the discharge treatment, it is desirable that temperature unevenness does not occur particularly in the width direction of the polyester film surface, preferably within ± 5 ° C., more preferably within ± 1 ° C., and particularly preferably within ± 1 ° C. It is preferably within ± 0.1 ° C.

【０１６０】本発明において、電極間隙は固体誘電体の
厚さ、印加電圧や周波数、プラズマを利用する目的等を
考慮して決定される。上記電極の一方に固体誘電体を設
置した場合の固体誘電体と電極の最短距離、上記電極の
双方に固体誘電体を設置した場合の固体誘電体同士の距
離としては、いずれの場合も均一な放電プラズマを発生
させるという観点から０．５〜２０ｍｍが好ましく、特
に好ましくは１±０．５ｍｍである。In the present invention, the electrode gap is determined in consideration of the thickness of the solid dielectric, the applied voltage and frequency, the purpose of utilizing plasma, and the like. The shortest distance between the solid dielectric and the electrode when the solid dielectric is installed on one of the electrodes, and the distance between the solid dielectrics when the solid dielectric is installed on both of the electrodes are uniform in all cases. From the viewpoint of generating discharge plasma, it is preferably 0.5 to 20 mm, particularly preferably 1 ± 0.5 mm.

【０１６１】本発明において、電極間隙の放電部には、
ガス発生装置で発生させた混合ガスを流量制御して、反
応ガス供給口よりプラズマ放電部に導入される。反応ガ
スの濃度や流量は適宜調整されるが、ポリエステルフィ
ルムの搬送速度に対して十分な速度で処理用ガスを電極
間隙に供給することが好ましい。例えば、幅手方向１ｃ
ｍあたり０．１〜２００Ｌ／ｍｉｎの流量で反応ガスを
供給することが好ましい。放電部では供給した反応ガス
のほとんどが反応して薄膜形成に使われるように流量や
放電条件が設定するのが望ましい。In the present invention, the discharge part in the electrode gap is
The mixed gas generated by the gas generator is controlled in flow rate and introduced into the plasma discharge section through the reaction gas supply port. The concentration and flow rate of the reaction gas are appropriately adjusted, but it is preferable to supply the processing gas into the electrode gap at a speed sufficient for the transport speed of the polyester film. For example, width direction 1c
It is preferable to supply the reaction gas at a flow rate of 0.1 to 200 L / min per m. It is desirable to set the flow rate and discharge conditions so that most of the supplied reaction gas reacts in the discharge part and is used for thin film formation.

【０１６２】放電部に大気が混入したり、反応ガスが装
置外に漏れ出ることを防止するために、電極及び移送中
のポリエステルフィルムは全体を囲んで外界から遮蔽す
ることが好ましい。本発明において、放電部の気圧は大
気圧もしくはその近傍の圧力に維持される。In order to prevent atmospheric air from entering the discharge part and prevent the reaction gas from leaking out of the apparatus, it is preferable that the electrodes and the polyester film being transferred are entirely enclosed and shielded from the outside. In the present invention, the atmospheric pressure of the discharge part is maintained at or near atmospheric pressure.

【０１６３】ここで大気圧近傍とは、２０〜２００ｋＰ
ａの圧力を表すが、本発明に記載の効果を好ましく得る
ためには、９３〜１１０ｋＰａが好ましい。装置外の大
気圧力に対して、放電部がやや陽圧であることが好まし
くプラズマ装置外の大気圧力＋０．１ｋＰａ〜５ｋＰａ
であることがより好ましい。Here, the atmospheric pressure vicinity means 20 to 200 kP.
It represents the pressure of a, but in order to obtain the effect described in the present invention preferably, it is preferably 93 to 110 kPa. It is preferable that the discharge part has a slightly positive pressure with respect to the atmospheric pressure outside the apparatus, and the atmospheric pressure outside the plasma apparatus +0.1 kPa to 5 kPa
Is more preferable.

【０１６４】本発明に有用なプラズマ放電処理装置で
は、一方の電極は電源に接続して電圧を印加し、もう一
方の電極はアースに接地し放電プラズマを発生させるこ
とが安定したプラズマを発生させるために好ましい。In the plasma discharge treatment apparatus useful in the present invention, one electrode is connected to a power source to apply a voltage, and the other electrode is grounded to earth to generate discharge plasma, which produces stable plasma. Preferred for.

【０１６５】本発明で用いる高周波電源より電極に印加
する電圧の値は適宜決定されるが、例えば、電圧が０．
５〜１０ｋＶ程度で、印加する周波数は１ｋＨｚ〜１５
０ＭＨｚに調整し、波形をパルス波であってもサイン波
としてもよい。特に周波数を１００ｋＨｚを超えて５０
ＭＨｚ以下とすることが好ましい放電部（放電空間）が
得られるため好ましい。The value of the voltage applied to the electrodes from the high frequency power source used in the present invention is appropriately determined.
5 to 10 kV, and applied frequency is 1 kHz to 15
It may be adjusted to 0 MHz and the waveform may be a pulse wave or a sine wave. Especially when the frequency exceeds 100 kHz and 50
It is preferable to set the frequency to MHz or less because a discharge portion (discharge space) can be obtained.

【０１６６】放電部における放電密度は５〜１０００Ｗ
・ｍｉｎ／ｍ2であることが好ましく、特に５０〜５０
０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2であることが望ましい。The discharge density in the discharge part is 5 to 1000 W.
-Min / m 2 is preferable, and particularly 50 to 50
It is preferably 0 W · min / m 2 .

【０１６７】プラズマ放電処理部はパイレックス（Ｒ）
ガラス製の処理容器等で適宜囲まれていることが望まし
く、電極との絶縁がとれれば金属製を用いることも可能
である。例えば、アルミまたは、ステンレスのフレーム
の内面にポリイミド樹脂等を張り付けてもよく、該金属
フレームにセラミックス溶射を行い絶縁性をとってもよ
い。また、放電部や回転電極の側面部、ポリエステルフ
ィルム搬送部等の側面を囲むことによって、反応ガスや
排ガスを適切に放電部に供給したり排気することもでき
る。The plasma discharge processing unit is Pyrex (R)
It is desirable that it is appropriately surrounded by a glass processing container or the like, and if it can be insulated from the electrodes, it can be made of metal. For example, a polyimide resin or the like may be attached to the inner surface of an aluminum or stainless steel frame, and the metal frame may be sprayed with ceramics to have an insulating property. Further, by surrounding the side surface of the discharge part, the side surface of the rotating electrode, the polyester film conveying part, etc., the reaction gas and the exhaust gas can be appropriately supplied to the discharge part and exhausted.

【０１６８】本発明の金属酸窒化物薄膜層の形成方法に
用いる反応ガスについて説明する。薄膜層を形成するた
めの反応ガスは、窒素もしくは希ガスを含むことが好ま
しい。つまり、反応ガスは窒素もしくは希ガスと後述の
反応性ガスの混合ガスであることが好ましい。ここで、
希ガスとは、周期表の第１８属元素、具体的には、ヘリ
ウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラド
ン等の各元素を挙げることができるが、本発明において
は、中でもヘリウム元素、アルゴン元素を好ましく用い
ることができる。反応ガス中の希ガスの濃度は９０％以
上であることが安定したプラズマ放電を発生させるため
に好ましく、９０〜９９．９９体積％であることが望ま
しい。希ガスは安定したプラズマ放電を発生させるため
に用いられ、該プラズマ中で反応性ガスはイオン化ある
いはラジカル化され、基材表面に堆積あるいは付着する
などして薄膜が形成される。The reaction gas used in the method for forming the metal oxynitride thin film layer of the present invention will be described. The reaction gas for forming the thin film layer preferably contains nitrogen or a rare gas. That is, the reactive gas is preferably a mixed gas of nitrogen or a rare gas and a reactive gas described later. here,
The rare gas may be an element belonging to Group 18 of the periodic table, specifically, each element such as helium, neon, argon, krypton, xenon, and radon. In the present invention, among them, helium element, argon Elements can be preferably used. The concentration of the rare gas in the reaction gas is preferably 90% or more in order to generate stable plasma discharge, and is preferably 90 to 99.99% by volume. The rare gas is used to generate a stable plasma discharge, and the reactive gas is ionized or radicalized in the plasma, and deposited or adhered to the surface of the substrate to form a thin film.

【０１６９】本発明では、様々な反応性ガスを用いるこ
とによって、様々な機能を持った薄膜をポリエステルフ
ィルム上に形成することができる。例えば、反応性ガス
として、フッ素含有有機化合物、珪素化合物を用いての
低屈折率層を形成することもでき、反射防止層に利用す
ることができる。In the present invention, thin films having various functions can be formed on the polyester film by using various reactive gases. For example, a low refractive index layer can be formed by using a fluorine-containing organic compound or a silicon compound as the reactive gas, and can be used as an antireflection layer.

【０１７０】また、有機金属化合物、金属水素化合物、
金属ハロゲン化物を用いて、これらの金属酸化物層（金
属酸化物窒化物層も含む）または金属窒化物層等を形成
することができ、これらの層は反射防止層の中屈折率層
又は高屈折率層としたり、あるいは導電層又は帯電防止
層とすることもできる。特に金属酸化物層が好ましく用
いられる。Further, an organometallic compound, a metal hydrogen compound,
Metal halides can be used to form these metal oxide layers (including metal oxide nitride layers) or metal nitride layers, and these layers can be used as medium-refractive-index layers or high-refractive-index layers. It may be a refractive index layer, or a conductive layer or an antistatic layer. A metal oxide layer is particularly preferably used.

【０１７１】また、フッ素含有有機化合物で防汚層や低
屈折率層を形成することもでき、珪素化合物でガスバリ
ア層や低屈折率層、防汚層を形成することもできる。本
発明は、高、中屈折率層と低屈折率層を交互に多層を積
層して形成される反射防止層の形成に特に好ましく用い
られる。Further, a fluorine-containing organic compound can be used to form an antifouling layer or a low refractive index layer, and a silicon compound can be used to form a gas barrier layer, a low refractive index layer or an antifouling layer. The present invention is particularly preferably used for forming an antireflection layer formed by alternately stacking high and medium refractive index layers and low refractive index layers.

【０１７２】本発明で形成される金属酸窒化物層の膜厚
としては、１〜１０００ｎｍの範囲のものが好ましく得
られる。The thickness of the metal oxynitride layer formed in the present invention is preferably in the range of 1 to 1000 nm.

【０１７３】大気圧プラズマ処理では原料ガスにフッ素
含有有機化合物を用いることでフッ素化合物含有層を形
成することができる。In the atmospheric pressure plasma treatment, the fluorine compound-containing layer can be formed by using the fluorine-containing organic compound as the source gas.

【０１７４】フッ素含有有機化合物としては、フッ化炭
素ガス、フッ化炭化水素ガス等が好ましい。具体的に
は、フッ素含有有機化合物としては、例えば、四フッ化
炭素、六フッ化炭素、四フッ化エチレン、六フッ化プロ
ピレン、八フッ化シクロブタン等のフッ化炭素化合物；
二フッ化メタン、四フッ化エタン、四フッ化プロピレ
ン、三フッ化プロピレン、八フッ化シクロブタン等のフ
ッ化炭化水素化合物；更に、一塩化三フッ化メタン、一
塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シクロブタン等の
フッ化炭化水素化合物のハロゲン化物、アルコール、
酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体等を挙げるこ
とができる。これらは単独でも混合して用いてもよい。
上記のフッ化炭化水素ガスとしては、二フッ化メタン、
四フッ化エタン、四フッ化プロピレン、三フッ化プロピ
レン等の各ガスを挙げることができる。更に一塩化三フ
ッ化メタン、一塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シ
クロブタン等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物や
アルコール、酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体
を用いることができるが、本発明はこれらに限定されな
い。As the fluorine-containing organic compound, fluorocarbon gas, fluorohydrocarbon gas and the like are preferable. Specifically, as the fluorine-containing organic compound, for example, a carbon fluoride compound such as carbon tetrafluoride, carbon hexafluoride, tetrafluoroethylene, propylene hexafluoride, and cyclobutane octafluoride;
Fluorinated hydrocarbon compounds such as methane difluoride, ethane tetrafluoride, propylene tetrafluoride, propylene trifluoride, and cyclobutane octafluoride; further, trifluoromethane monochloride, monochlorodifluoromethane, dichloride Fluorinated hydrocarbon compounds such as tetrafluorocyclobutane halides, alcohols,
Examples thereof include fluorine-substituted compounds of organic compounds such as acids and ketones. These may be used alone or in combination.
As the above-mentioned fluorohydrocarbon gas, difluoromethane,
Examples thereof include ethane tetrafluoride, propylene tetrafluoride, propylene trifluoride, and the like. Further, halides of fluorohydrocarbon compounds such as methane monochloride trifluoride, methane monochloride difluoride, and cyclobutane tetrachloride dichloride, and fluorine-substituted compounds of organic compounds such as alcohols, acids, and ketones can be used. However, the present invention is not limited to these.

【０１７５】また、これらの化合物は分子内にエチレン
性不飽和基を有していてもよい。また、上記の化合物は
混合して用いてもよい。In addition, these compounds may have an ethylenically unsaturated group in the molecule. Further, the above compounds may be mixed and used.

【０１７６】本発明に有用な反応性ガスにフッ素含有有
機化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりポリエ
ステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反
応ガス中の反応性ガスとしてのフッ素含有有機化合物の
含有率は、０．０１〜１０体積％であることが好まし
く、更に好ましくは、０．１〜５体積％である。When a fluorine-containing organic compound is used as the reactive gas useful in the present invention, from the viewpoint of forming a uniform thin film on the polyester film by plasma discharge treatment, the fluorine-containing organic compound as the reactive gas in the reaction gas is used. The content of is preferably 0.01 to 10% by volume, and more preferably 0.1 to 5% by volume.

【０１７７】また、本発明に好ましく用いられるフッ素
含有有機化合物が常温常圧で気体である場合は、反応性
ガスの成分としてそのまま使用できる。When the fluorine-containing organic compound preferably used in the present invention is a gas at room temperature and atmospheric pressure, it can be used as it is as a component of the reactive gas.

【０１７８】また、フッ素含有有機化合物が常温常圧で
液体または固体である場合には、気化手段により、例え
ば加熱、減圧等により気化して使用すればよく、適切な
有機溶媒に溶解して用いてもよい。When the fluorine-containing organic compound is a liquid or a solid at room temperature and atmospheric pressure, it may be used by being vaporized by a vaporizing means, for example, by heating, depressurizing, etc., and used by dissolving it in a suitable organic solvent. May be.

【０１７９】本発明に有用な反応性ガスとしての珪素化
合物としては、例えば、ジメチルシラン、テトラメチル
シランなどの有機金属化合物、モノシラン、ジシランな
どの金属水素化合物、二塩化シラン、三塩化シラン、四
フッ化珪素などの金属ハロゲン化合物、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラ
ン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシ
シラン、などのアルコキシシラン、オルガノシラン等を
用いることが好ましいがこれらに限定されない。また、
これらは適宜組み合わせて用いることができる。あるい
は別の有機化合物を添加して膜の物性を変化あるいは制
御することもできる。Examples of the silicon compound as the reactive gas useful in the present invention include organometallic compounds such as dimethylsilane and tetramethylsilane, metal hydrogen compounds such as monosilane and disilane, silane dichloride, silane trichloride and tetrasilane. Metal halide compounds such as silicon fluoride, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, and other alkoxysilanes, organosilanes, etc. It is preferable to use, but not limited to. Also,
These can be used in appropriate combination. Alternatively, another organic compound may be added to change or control the physical properties of the film.

【０１８０】本発明において、反応性ガスとして珪素化
合物を用いる場合、放電プラズマ放電処理によりポリエ
ステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反
応ガス中の反応性ガスとしての珪素化合物の含有率は、
０．０１〜１０体積％であることが好ましいが、更に好
ましくは、０．１〜５体積％である。In the present invention, when a silicon compound is used as the reactive gas, from the viewpoint of forming a uniform thin film on the polyester film by discharge plasma discharge treatment, the content of the silicon compound as the reactive gas in the reaction gas is ,
It is preferably 0.01 to 10% by volume, and more preferably 0.1 to 5% by volume.

【０１８１】本発明に有用な反応性ガスとしての有機金
属化合物としては、特に限定されないが、Ａｌ、Ａｓ、
Ａｕ、Ｂ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｃａ、Ｃｄ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃ
ｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｇ、Ｉｎ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｍ
ｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｓｅ、Ｓ
ｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ等の金属酸窒
化物を形成するための金属化合物を挙げることができ
る。The organometallic compound as the reactive gas useful in the present invention is not particularly limited, but Al, As,
Au, B, Bi, Sb, Ca, Cd, Cr, Co, C
u, Fe, Ga, Ge, Hg, In, Li, Mg, M
n, Mo, Na, Ni, Pb, Pt, Rh, Se, S
Examples thereof include metal compounds for forming metal oxynitrides such as i, Sn, Ti, Zr, Y, V, W and Zn.

【０１８２】例えば、反射防止層の高屈折率層を形成す
るには、チタン化合物が好ましく、具体的には、例え
ば、テトラジメチルアミノチタンなどの有機アミノ金属
化合物、モノチタン、ジチタンなどの金属水素化合物、
二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化チタンなどの金属
ハロゲン化合物、テトラエトキシチタン、テトライソプ
ロポキシチタン、テトラブトキシチタンなどの金属アル
コキシドなどを挙げることができる。For example, in order to form the high refractive index layer of the antireflection layer, a titanium compound is preferable. Specifically, for example, an organic amino metal compound such as tetradimethylaminotitanium, metal hydrogen such as monotitanium or dititanium. Compound,
Examples thereof include metal halogen compounds such as titanium dichloride, titanium trichloride and titanium tetrachloride, and metal alkoxides such as tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium and tetrabutoxy titanium.

【０１８３】本発明において、前記の珪素化合物、有機
金属化合物は、取り扱い上の観点から金属水素化合物、
金属アルコキシドが好ましく、腐食性、有害ガスの発生
がなく、工程上の汚れなども少ないことから、中でも金
属アルコキシドが好ましく用いられる。In the present invention, the above-mentioned silicon compound and organometallic compound are metal hydrogen compounds, from the viewpoint of handling.
Among them, metal alkoxides are preferable, and metal alkoxides are preferably used because they do not generate corrosiveness or harmful gas and have less contamination in the process.

【０１８４】本発明において、反応性ガスとして有機金
属化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりポリエ
ステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反
応ガス中の反応性ガスとしての有機金属化合物の含有率
は、０．０１〜１０体積％であることが好ましいが、更
に好ましくは、０．１〜５体積％である。また、珪素化
合物、チタン化合物等の金属化合物を放電部へ導入する
には、両者は常温常圧で気体、液体または固体いずれの
状態であっても使用し得る。気体の場合は、そのまま放
電部に導入できるが、液体や固体の場合は、加熱、減
圧、超音波照射、噴霧等の気化手段により気化させて使
用することができる。In the present invention, when an organometallic compound is used as the reactive gas, from the viewpoint of forming a uniform thin film on the polyester film by plasma discharge treatment, the content of the organometallic compound as the reactive gas in the reaction gas is high. Is preferably 0.01 to 10% by volume, more preferably 0.1 to 5% by volume. In order to introduce a metal compound such as a silicon compound or a titanium compound into the discharge part, both may be used in a gas, liquid or solid state at normal temperature and pressure. In the case of gas, it can be introduced into the discharge part as it is, but in the case of liquid or solid, it can be used by being vaporized by vaporizing means such as heating, decompression, ultrasonic irradiation, spraying and the like.

【０１８５】珪素化合物、チタン化合物等の金属化合物
を加熱により気化して用いる場合、テトラエトキシシラ
ン、テトライソプロポキシチタンなどのように常温で液
体で、且つ、沸点が２００℃以下である金属アルコキシ
ドが本発明の金属酸窒化物薄膜層の形成する方法に好適
である。上記金属アルコキシドは、有機溶媒によって希
釈して使用してもよく、有機溶媒としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−ブタノール、イソプロパノール、
アセトン、メチルエチルケトン、ｎ−ヘキサンなどの有
機溶媒またはこれらの混合有機溶媒を使用することがで
きる。更に、反応ガス中に酸素、水素、二酸化炭素、一
酸化炭素、窒素、二酸化窒素、一酸化窒素等を０．１〜
１０体積％含有させることにより薄膜層の硬度、密度等
の物性を制御することができる。When a metal compound such as a silicon compound or a titanium compound is vaporized by heating and used, a metal alkoxide such as tetraethoxysilane or tetraisopropoxytitanium which is liquid at room temperature and has a boiling point of 200 ° C. or lower is used. It is suitable for the method of forming the metal oxynitride thin film layer of the present invention. The metal alkoxide may be diluted with an organic solvent before use, and examples of the organic solvent include methanol, ethanol, n-butanol, isopropanol, and
An organic solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, n-hexane, or a mixed organic solvent thereof can be used. Furthermore, 0.1 to 0.1% of oxygen, hydrogen, carbon dioxide, carbon monoxide, nitrogen, nitrogen dioxide, nitric oxide, etc. in the reaction gas.
By containing 10% by volume, the physical properties such as hardness and density of the thin film layer can be controlled.

【０１８６】以上の方法により酸化珪素、酸化チタン等
の非晶性の金属酸化物層を好ましく作製することができ
る。An amorphous metal oxide layer such as silicon oxide or titanium oxide can be preferably formed by the above method.

【０１８７】本発明の光学フィルムは、例えば低屈折率
層と高屈折率層を積層した反射防止層を有する光学フィ
ルム又は導電層、帯電防止層を有する光学フィルムであ
る。The optical film of the present invention is, for example, an optical film having an antireflection layer in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are laminated, or an optical film having a conductive layer and an antistatic layer.

【０１８８】本発明において、プラズマ放電装置を複数
設けることによって、多層の薄膜を連続的に設けること
ができ、薄膜のムラもなく多層の積層体を形成すること
ができる。In the present invention, by providing a plurality of plasma discharge devices, a multilayer thin film can be continuously provided, and a multilayer laminate can be formed without unevenness of the thin film.

【０１８９】例えば、ポリエステルフィルム上に反射防
止層を有する光学フィルムを作製する場合、屈折率１．
６〜２．６の高屈折率層及び屈折率１．３〜１．５の低
屈折率層をポリエステルフィルム表面に連続して積層
し、効率的に作製することができる。For example, when an optical film having an antireflection layer on a polyester film is produced, the refractive index is 1.
A high refractive index layer having a refractive index of 6 to 2.6 and a low refractive index layer having a refractive index of 1.3 to 1.5 can be continuously laminated on the surface of the polyester film to be efficiently manufactured.

【０１９０】低屈折率層としては、含フッ素有機化合物
を含むガスをプラズマ放電処理により形成された含フッ
素化合物層、あるいはアルコキシシラン等の有機珪素化
合物を用いてプラズマ放電処理により形成された主に酸
化ケイ素を有する層が好ましく、高屈折率層としては、
有機金属化合物を含むガスをプラズマ放電処理により形
成された金属酸化物層、例えば酸化チタン、酸化ジルコ
ニウムを有する層が好ましい。As the low refractive index layer, a fluorine-containing compound layer formed by plasma discharge treatment of a gas containing a fluorine-containing organic compound, or mainly formed by plasma discharge treatment using an organosilicon compound such as alkoxysilane is used. A layer having silicon oxide is preferable, and as the high refractive index layer,
A metal oxide layer formed by plasma discharge treatment of a gas containing an organometallic compound, for example, a layer containing titanium oxide or zirconium oxide is preferable.

【０１９１】本発明はこれらに限定されるものではな
く、層構成もこれらに限定されるものではない。例え
ば、最表面にフッ素含有有機化合物ガス存在下で大気圧
もしくはその近傍の圧力下でのプラズマ放電処理して防
汚層を設けてもよい。あるいは塗布により防汚層を設け
てもよい。The present invention is not limited to these, and the layer structure is not limited to these. For example, the antifouling layer may be provided on the outermost surface by plasma discharge treatment in the presence of a fluorine-containing organic compound gas under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof. Alternatively, an antifouling layer may be provided by coating.

【０１９２】上記の方法により、本発明においては、多
層の薄膜を積層することができ、各層の膜厚ムラもな
く、均一な光学フィルムを得ることができる。According to the present invention, a multilayer thin film can be laminated by the above method, and a uniform optical film can be obtained without unevenness of the film thickness of each layer.

【０１９３】金属酸窒化物層等の薄膜の膜厚は、積層体
の断面を作製し、透過電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓ
ｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｏｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：
以下、ＴＥＭと称す）で観察を行うことによって求める
ことができる。The film thickness of a thin film such as a metal oxynitride layer was determined by making a cross section of the laminate and using a transmission electron microscope (Transmiss).
Ion Electroron Microscope:
Hereinafter, it can be determined by observing with TEM).

【０１９４】断面の作製は、具体的には積層体を基材と
共に電子顕微鏡観察前処理用のエポキシ包埋樹脂に包埋
し、ダイヤモンドナイフを装着したウルトラミクロトー
ムを用いて、厚さ約０．１μｍの超薄切片を作製する
か、集束イオンビーム（Ｆｏｃｕｓｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅ
ａｍ：ＦＩＢ）加工装置を用いて、積層体表面にＧａイ
オンビームを集束走査し、厚さ約０．１μｍの薄片化し
た断面を切り出すことで作製することができる。Specifically, the cross section was prepared by embedding the laminate together with the substrate in an epoxy embedding resin for electron microscope observation pretreatment, and using an ultramicrotome equipped with a diamond knife to a thickness of about 0. Make 1 μm ultrathin sections or use focused ion beam (Focused Ion Be)
It can be produced by focusing and scanning a Ga ion beam on the surface of the laminated body using an am: FIB) processing device and cutting out a thin section having a thickness of about 0.1 μm.

【０１９５】ＴＥＭによる観察は倍率として５０，００
０〜５００，０００倍にて明視野像を観察し、画像はフ
ィルム、イメージングプレート、ＣＣＤカメラなどに記
録する。ＴＥＭの加速電圧としては、８０〜４００ｋＶ
が好ましく、特に好ましくは８０〜２００ｋＶである。Observation by TEM shows a magnification of 50,000.
A bright field image is observed at 0 to 500,000 times, and the image is recorded on a film, an imaging plate, a CCD camera or the like. The acceleration voltage of TEM is 80 to 400 kV
Is preferred, and particularly preferred is 80 to 200 kV.

【０１９６】その他、電子顕微鏡観察技法、および試料
作製技法の詳細については「日本電子顕微鏡学会関東支
部編／医学・生物学電子顕微鏡観察法」（丸善）、「日
本電子顕微鏡学会関東支部編／電子顕微鏡生物試料作製
法」（丸善）、「電子顕微鏡Ｑ＆Ａ」（アグネ承風社）
をそれぞれ参考にすることができる。適当な媒体に記録
されたＴＥＭ画像は、画像１枚を少なくとも１０２４画
素×１０２４画素、好ましくは２０４８画素×２０４８
画素以上に分解し、コンピュータによる画像処理を行な
うことが好ましい。画像処理技術の詳細は「田中弘編
画像処理応用技術（工業調査会）」を参考にすることが
でき、画像処理プログラムまたは装置としては上記操作
が可能なものであれば特に限定はされないが、一例とし
てＭＥＤＩＡ ＣＹＢＥＲＮＥＴＩＣＳ社（ＵＳＡ）製
画像解析ソフトＩｍａｇｅ−Ｐｒｏ ＰＬＵＳが挙げら
れる。For details of the electron microscope observation technique and the sample preparation technique, see “Electron Microscopy Society of Japan Kanto Branch Edition / Medical / Biological Electron Microscopy” (Maruzen), “Electron Microscope Society of Japan Kanto Chapter Edition / Electronics” "Microscopic biological sample preparation method" (Maruzen), "Electron microscope Q &A" (Agne Jofusha)
Can be referred to respectively. A TEM image recorded on a suitable medium is one image at least 1024 pixels x 1024 pixels, preferably 2048 pixels x 2048 pixels.
It is preferable to decompose the image into pixels or more and perform image processing by a computer. For details of image processing technology, see "Tanaka Hiroshi
Image processing application technology (industrial research committee) "can be used as a reference, and the image processing program or device is not particularly limited as long as the above operation can be performed, but an example is an image manufactured by MEDIA CYBERNETICS (USA). Analysis software Image-Pro PLUS may be mentioned.

【０１９７】画像処理を行なうためには、フィルムに記
録されたアナログ画像はスキャナなどでデジタル画像に
変換し、シェーディング補正、コントラスト・エッジ強
調などを必要に応じ施すことが好ましい。その後、ヒス
トグラムを作製し、２値化処理によって、積層体界面に
相当する箇所を抽出し、界面間の幅（Ｔｈｉｃｋｎｅｓ
ｓ）を計測する。同様にして少なくとも２５箇所以上、
好ましくは５０箇所以上について求めた値から平均膜厚
及びその変動を算出することができる。In order to perform image processing, it is preferable that the analog image recorded on the film is converted into a digital image by a scanner or the like, and shading correction, contrast / edge emphasis, etc. are performed as necessary. After that, a histogram is created, and a binarization process is performed to extract a portion corresponding to the laminate interface, and the width between the interfaces (Thickness
s) is measured. Similarly, at least 25 places,
Preferably, the average film thickness and its variation can be calculated from the values obtained at 50 or more locations.

【０１９８】このように、本発明においては様々な機能
を有する金属酸窒化物層を形成した光学フィルムを提供
することができる。As described above, the present invention can provide an optical film having a metal oxynitride layer having various functions.

【０１９９】本発明によって、金属酸窒化物層のクラッ
クの発生が少なく、カールや巻き癖が改善された光学フ
ィルムを提供することができ、この光学フィルムは高温
高湿条件で繰り返し曝されても導電性の低下やあるいは
白濁などによる表示品質の劣化も改善された。INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide an optical film in which the occurrence of cracks in the metal oxynitride layer is small and curl and curl are improved, and the optical film is repeatedly exposed under high temperature and high humidity conditions. The deterioration of the display quality due to the decrease in conductivity or the cloudiness was also improved.

【０２００】本発明の光学フィルムは特に偏光板保護フ
ィルムとして有用であり、これを用いて公知の方法で偏
光板を作製することができる。The optical film of the present invention is particularly useful as a polarizing plate protective film, and a polarizing plate can be produced by a known method using this.

【０２０１】この光学フィルムを有する偏光板や光学フ
ィルムを有する表示装置は視認性に優れており、過酷な
環境下であっても優れた表示性能を提供することができ
たのである。The polarizing plate having the optical film and the display device having the optical film were excellent in visibility and could provide excellent display performance even in a harsh environment.

【０２０２】本発明の光学フィルムには必要に応じて、
クリアハードコート層、防眩層、反射防止層、帯電防止
層、導電層、光拡散層、易接着層、防汚層、電磁波遮蔽
層を単独であるいは適宜組み合わせて設けることができ
る。In the optical film of the present invention, if necessary,
A clear hard coat layer, an antiglare layer, an antireflection layer, an antistatic layer, a conductive layer, a light diffusion layer, an easy-adhesion layer, an antifouling layer, and an electromagnetic wave shielding layer can be provided alone or in an appropriate combination.

【０２０３】本発明の光学フィルムは反射防止フィル
ム、帯電防止フィルム、導電フィルム、電磁波遮蔽フィ
ルム、偏光板等の保護フィルム、光学補償フィルム、偏
光板、プラズマディスプレイ前面フィルター等に好まし
く用いられる。The optical film of the present invention is preferably used as an antireflection film, an antistatic film, a conductive film, an electromagnetic wave shielding film, a protective film such as a polarizing plate, an optical compensation film, a polarizing plate, a plasma display front filter and the like.

【０２０４】また、本発明の光学フィルムは反射型、透
過型、半透過型液晶表示装置あるいはＴＮ型、ＳＴＮ
型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型等の各種駆
動方式の液晶表示装置で好ましく用いられ、プラズマデ
ィスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプ
レイ等の各種表示装置にも好ましく用いることができ
る。The optical film of the present invention is a reflective type, transmissive type, semi-transmissive type liquid crystal display device or TN type, STN type.
Type, OCB type, HAN type, VA type, IPS type and the like are preferably used in liquid crystal display devices of various driving systems, and also preferably used in various display devices such as plasma displays, organic EL displays and inorganic EL displays.

【０２０５】[0205]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるもの
ではない。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto.

【０２０６】実施例１ 〔ポリエステルの合成〕 （ポリエステルＡ）テレフタル酸ジメチル１００質量
部、エチレングリコール６４質量部に酢酸カルシウム水
和物０．１質量部を添加し、常法によりエステル交換反
応を行なった。得られた生成物に、５−ナトリウムスル
ホジ（β−ヒドロキシエチル）イソフタル酸のエチレン
グリコール溶液（濃度３５質量％）３９質量部（７モル
％／全ジカルボン酸成分）、ポリエチレングリコール
（数平均分子量３０００）５．８質量部（５質量％／生
成したポリエステル）、三酸化アンチモン０．０５質量
部、リン酸トリメチルエステル０．１３質量部を添加し
た。次いで、徐々に昇温、減圧にし、２８０℃、４０Ｐ
ａで重合を行ない、ポリエステルＡを得た。Example 1 [Synthesis of Polyester] (Polyester A) 0.1 part by mass of calcium acetate hydrate was added to 100 parts by mass of dimethyl terephthalate and 64 parts by mass of ethylene glycol, and transesterification reaction was carried out by a conventional method. It was In the obtained product, 39 parts by mass of ethylene glycol solution of 5-sodium sulfodi (β-hydroxyethyl) isophthalic acid (concentration 35% by mass) (7 mol% / total dicarboxylic acid component), polyethylene glycol (number average molecular weight) 3000) 5.8 parts by mass (5% by mass / generated polyester), antimony trioxide 0.05 parts by mass, and phosphoric acid trimethyl ester 0.13 parts by mass were added. Then, gradually raise the temperature and reduce the pressure to 280 ° C. and 40P.
Polymerization was carried out in a to obtain polyester A.

【０２０７】以下に示す方法に従って固有粘度を求め
た。その結果、固有粘度は０．５０であった。固有粘度
については、ウベローデ型粘度計を用いて以下の手順で
算出した。質量比が約５５：４５（流下時間４２．０±
０．１秒に調整）であるフェノールと１，１，２，２−
テトラクロロエタンとの混合溶媒を用い、サンプルを溶
かして濃度０．２、０．６、１．０（ｇ／ｄｌ）の溶液
（温度２０℃）を調製した。ウベローデ型粘度計によっ
て、それぞれの濃度（Ｃ）における比粘度（ηsp）を求
め、式［ηsp／Ｃ］を濃度零に補外（Ｃ→０）し固有粘
度［η］を求めた。固有粘度［η］の単位はｄｌ／ｇで
ある。The intrinsic viscosity was determined according to the method shown below. As a result, the intrinsic viscosity was 0.50. The intrinsic viscosity was calculated by the following procedure using an Ubbelohde viscometer. Mass ratio is about 55:45 (flow time 42.0 ±
(Adjusted to 0.1 seconds) and phenol, 1,1,2,2-
The sample was melt | dissolved using the mixed solvent with tetrachloroethane, and the solution (temperature 20 degreeC) of concentration 0.2, 0.6, 1.0 (g / dl) was prepared. The specific viscosity (η sp ) at each concentration (C) was obtained by an Ubbelohde viscometer, and the equation [η sp / C] was extrapolated (C → 0) to zero concentration to obtain the intrinsic viscosity [η]. The unit of the intrinsic viscosity [η] is dl / g.

【０２０８】（ポリエステルＢ）添加量を５−ナトリウ
ムスルホジ（β−ヒドロキシエチル）イソフタル酸のエ
チレングリコール溶液（濃度３５質量％）２２質量部
（４モル％／全ジカルボン酸成分）、ポリエチレングリ
コール（数平均分子量３０００）１２．２質量部（１
０．５質量％／生成したポリエステル）に変更した以外
は、上記と同様にしてポリエステルＢを得た。また同様
に測定した固有粘度は０．５５であった。(Polyester B) 22 parts by mass of ethylene glycol solution of 5-sodium sulfodi (β-hydroxyethyl) isophthalic acid (concentration 35% by mass) (4 mol% / total dicarboxylic acid component), polyethylene glycol ( Number average molecular weight 3000) 12.2 parts by mass (1
Polyester B was obtained in the same manner as described above, except that the amount was changed to 0.5% by mass / generated polyester. The intrinsic viscosity measured in the same manner was 0.55.

【０２０９】（ポリエステルＣ）テレフタル酸ジメチル
１００質量部、エチレングリコール６５質量部、ジエチ
レングリコール２質量部にエステル交換触媒として酢酸
マグネシウム水和物０．０５質量部を添加し、常法に従
ってエステル交換反応を行った。得られた生成物に、三
酸化アンチモン０．０５質量部、リン酸トリメチルエス
テル０．０３質量部を添加した。次いで、徐々に昇温、
減圧にし、２８０℃、８０Ｐａで重合を行い、固有粘度
０．６５のポリエステルＣを得た。(Polyester C) To 100 parts by mass of dimethyl terephthalate, 65 parts by mass of ethylene glycol, and 2 parts by mass of diethylene glycol, 0.05 part by mass of magnesium acetate hydrate was added as an ester exchange catalyst, and the transesterification reaction was carried out according to a conventional method. went. 0.05 parts by mass of antimony trioxide and 0.03 parts by mass of trimethyl phosphate were added to the obtained product. Then gradually raise the temperature,
Polymerization was carried out under reduced pressure at 280 ° C. and 80 Pa to obtain polyester C having an intrinsic viscosity of 0.65.

【０２１０】〔基材フィルムの作製〕 （基材フィルム１）ポリエステルＢのペレットを１５０
℃で８時間真空乾燥した後、押出機を用いて２８５℃で
溶融押出し、３０℃の冷却ドラム上に静電印加しながら
密着させ、冷却固化させ未延伸シートを得た。この未延
伸シートをロール式縦延伸機を用いて、８５℃で縦方向
に１．２倍延伸した。表裏面の温度差は５℃以内であっ
た。[Production of Base Film] (Base Film 1) 150 polyester pellets were prepared.
After vacuum-drying at 8 ° C. for 8 hours, it was melt-extruded at 285 ° C. by using an extruder, brought into close contact with a 30 ° C. cooling drum while being electrostatically applied, and cooled and solidified to obtain an unstretched sheet. This unstretched sheet was stretched 1.2 times in the machine direction at 85 ° C. using a roll-type machine. The temperature difference between the front and back surfaces was within 5 ° C.

【０２１１】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、９５℃で横方向に４．５倍延伸した。
次いで、７０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定ゾー
ン１５０℃で１０秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン１８
０℃で１５秒間熱固定して、次いで１６０℃で横（幅
手）方向に５％弛緩処理し巻き取り、横方向の長さ１５
００ｍｍ、厚さ３５μｍのポリエステルフィルム（基材
フィルム１）を作製した。巻き取りの直前に両端部に高
さ５μｍ、幅１ｃｍのナーリング加工を施した。The obtained uniaxially stretched film was stretched 4.5 times in the transverse direction at 95 ° C. using a tenter type transverse stretching machine.
Then, heat treatment is performed at 70 ° C. for 2 seconds, and further heat fixing is performed at the first heat setting zone 150 ° C. for 10 seconds.
Heat set at 0 ° C for 15 seconds, then at 5 ° C, relax 5% in the lateral (width) direction and wind.
A polyester film (base film 1) having a thickness of 00 mm and a thickness of 35 μm was produced. Immediately before winding, both ends were knurled with a height of 5 μm and a width of 1 cm.

【０２１２】（基材フィルム２）ポリエステルＡのペレ
ットを１５０℃で８時間真空乾燥した後、押出機を用い
て２８５℃で溶融押出し、３０℃の冷却ドラム上に静電
印加しながら密着させ、冷却固化させ未延伸シートを得
た。この未延伸シートをロール式縦延伸機を用いて、９
０℃で縦方向に４．０倍延伸した。表裏面の温度差は５
℃以内であった。(Substrate film 2) Polyester A pellets were vacuum dried at 150 ° C. for 8 hours, melt-extruded at 285 ° C. using an extruder, and adhered onto a cooling drum at 30 ° C. while electrostatically applying, It was cooled and solidified to obtain an unstretched sheet. The unstretched sheet was rolled using a roll-type longitudinal stretching machine to
It was stretched 4.0 times in the machine direction at 0 ° C. The temperature difference between the front and back is 5
It was within ℃.

【０２１３】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、１００℃で横方向に１．２倍延伸し
た。次いで、７０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定
ゾーン１５０℃で１０秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン
１８０℃で１５秒間熱固定して、次いで１６０℃で横
（幅手）方向に２％弛緩処理し巻き取り、横方向の長さ
１５００ｍｍ、厚さ３５μｍのポリエステルフィルム
（基材フィルム２）を作製した。The obtained uniaxially stretched film was stretched 1.2 times in the transverse direction at 100 ° C. using a tenter type transverse stretching machine. Then, heat treatment is performed at 70 ° C. for 2 seconds, heat setting is further performed at the first heat setting zone 150 ° C. for 10 seconds, heat setting is performed at the second heat setting zone 180 ° C. for 15 seconds, and then at 160 ° C. in the lateral (width) direction. Then, the film was subjected to a 2% relaxation treatment and wound up to form a polyester film (base film 2) having a lateral length of 1500 mm and a thickness of 35 μm.

【０２１４】（基材フィルム３）ポリエステルＡとポリ
エステルＣのペレットを質量比で３：７になるようにタ
ンブラー型混合機で混合し、１５０℃で８時間真空乾燥
した。また、ポリエステルＢのペレットも１５０℃で８
時間真空乾燥した。ポリエステルＡとポリエステルＣの
混合物及びポリエステルＢを２台の押出機を用いて２８
５℃で溶融押出し、マルチマニホールドダイを用いてシ
ート状に押し出し、３０℃の冷却ドラム上に静電印加し
ながら密着させ、冷却固化させ未延伸シートを得た。こ
の時各層の厚みの比は１：１となるようにした。この未
延伸シートをロール式縦延伸機を用いて、９５℃で縦方
向に１．０５倍延伸した。表裏面の温度差は５℃以内で
あった。(Substrate film 3) Pellets of polyester A and polyester C were mixed in a tumbler type mixer in a mass ratio of 3: 7, and vacuum dried at 150 ° C for 8 hours. Also, the polyester B pellets are 8 at 150 ° C.
Vacuum dried for an hour. The mixture of Polyester A and Polyester C and Polyester B are mixed in two extruders.
It was melt extruded at 5 ° C., extruded into a sheet using a multi-manifold die, brought into close contact with a cooling drum at 30 ° C. while being electrostatically applied, and cooled and solidified to obtain an unstretched sheet. At this time, the thickness ratio of each layer was set to 1: 1. This unstretched sheet was stretched 1.05 times in the machine direction at 95 ° C. using a roll-type machine. The temperature difference between the front and back surfaces was within 5 ° C.

【０２１５】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、１０５℃で横方向に４．０倍延伸し
た。次いで、７０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定
ゾーン１５０℃で１０秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン
１８０℃で１５秒間熱固定して、次いで１６０℃で横
（幅手）方向に５％弛緩処理し巻き取り、横方向の長さ
１５００ｍｍ、厚さ３０μｍのポリエステルフィルム
（基材フィルム３）を作製した。The obtained uniaxially stretched film was stretched 4.0 times in the transverse direction at 105 ° C. using a tenter type transverse stretching machine. Then, heat treatment is performed at 70 ° C. for 2 seconds, heat setting is further performed at the first heat setting zone 150 ° C. for 10 seconds, heat setting is performed at the second heat setting zone 180 ° C. for 15 seconds, and then at 160 ° C. in the lateral (width) direction. Then, a polyester film (base film 3) having a length of 1500 mm in the lateral direction and a thickness of 30 μm was prepared.

【０２１６】（基材フィルム４）ポリエステルＣのペレ
ットを１５０℃で８時間真空乾燥し、押出機を用いて２
９０℃で溶融押出し、３０℃の冷却ドラム上に静電印加
しながら密着させ、冷却固化させ未延伸シートを得た。
この未延伸シートをロール式縦延伸機を用いて、９５℃
で縦方向に１．２倍延伸した。表裏面の温度差は５℃以
内であった。(Substrate film 4) Polyester C pellets were vacuum dried at 150 ° C. for 8 hours, and then dried using an extruder.
Melt extrusion was carried out at 90 ° C., and it was brought into close contact with a cooling drum at 30 ° C. while applying static electricity and cooled to solidify to obtain an unstretched sheet.
This unstretched sheet is heated at 95 ° C. using a roll-type longitudinal stretching machine.
Was drawn 1.2 times in the machine direction. The temperature difference between the front and back surfaces was within 5 ° C.

【０２１７】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、１０５℃で横方向に４．５倍延伸し
た。次いで、７０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定
ゾーン１５０℃で１０秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン
１８０℃で１５秒間熱固定して、次いで１６０℃で横
（幅手）方向に５％弛緩処理し巻き取り、横方向の長さ
１５００ｍｍ、厚さ３０μｍのポリエステルフィルム
（基材フィルム４）を作製した。The uniaxially stretched film thus obtained was stretched 4.5 times in the transverse direction at 105 ° C. using a tenter type transverse stretching machine. Then, heat treatment is performed at 70 ° C. for 2 seconds, heat setting is further performed at the first heat setting zone 150 ° C. for 10 seconds, heat setting is performed at the second heat setting zone 180 ° C. for 15 seconds, and then at 160 ° C. in the lateral (width) direction. Then, a polyester film (base film 4) having a lateral length of 1500 mm and a thickness of 30 μm was prepared by relaxing the film by 5% and winding.

【０２１８】以上のようにして得られた基材フィルム１
〜４について、下記の方法で平衡含水率、寸法安定性、
透湿性を評価した。結果を表１に示した。Substrate film 1 obtained as described above
For 4 to 4, equilibrium water content, dimensional stability,
The moisture permeability was evaluated. The results are shown in Table 1.

【０２１９】〈平衡含水率〉フィルムサンプルを２３
℃、相対湿度２０％に調湿された部屋に４時間以上放置
した後、２３℃の蒸留水に２４時間浸漬させ、しかる
後、表面の水分をふき取り、サンプルを微量水分計（例
えば、三菱化学（株）製、ＣＡ−２０型）を用いて温度
１５０℃で水分を乾燥・気化させた後、カールフィッシ
ャー法により定量した。<Equilibrium Moisture Content> 23 film samples were prepared.
After leaving it for 4 hours or more in a room whose humidity is controlled to 20 ° C and relative humidity of 20%, soak it in distilled water at 23 ° C for 24 hours, wipe off the water on the surface, and take a sample with a trace moisture meter (for example, Mitsubishi Chemical Water was dried and vaporized at a temperature of 150 ° C. using CA-20 type manufactured by K.K., and then quantified by the Karl Fischer method.

【０２２０】〈寸法安定性〉フィルムを８０℃、９０％
ＲＨで１０００時間処理した前後の、フィルムの面内の
屈折率が最大の方向について、寸法変化率を求め評価し
た。収縮方向をマイナス、伸び方向を＋とした。<Dimensional Stability> Film is 80 ° C., 90%
Before and after the treatment with RH for 1000 hours, the dimensional change rate was obtained and evaluated in the direction in which the in-plane refractive index of the film was the maximum. The contraction direction was minus and the extension direction was +.

【０２２１】〈透湿性〉温度２５℃、湿度９０％ＲＨに
おける透湿性はＪＩＳ Ｚ０２０８により求めた。<Moisture Permeability> The moisture permeability at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 90% RH was determined according to JIS Z0208.

【０２２２】[0222]

【表１】 [Table 1]

【０２２３】〔光学フィルムの作製〕この基材フィルム
に大気圧プラズマ処理によって膜厚０．１μｍの酸化錫
層を形成し、光学フィルム１〜４を得た。[Production of Optical Film] Optical film 1 was formed with a tin oxide layer having a thickness of 0.1 μm on the base film by atmospheric pressure plasma treatment.

【０２２４】大気圧プラズマ放電処理は図２記載の装置
を使用した。ロール電極には、内部にシリコンオイルを
循環させることによる冷却機能を有するステンレス製ジ
ャケットロール母材を用いた。The apparatus shown in FIG. 2 was used for the atmospheric pressure plasma discharge treatment. As the roll electrode, a stainless steel jacket roll base material having a cooling function by circulating silicon oil inside was used.

【０２２５】これにセラミック溶射によりアルミナを１
ｍｍ被覆し、その上にテトラメトキシシランを酢酸エチ
ルで希釈した溶液を塗布乾燥後、紫外線照射により硬化
させて封孔処理を行いＲｍａｘ、１μｍの誘電体を有す
るロール電極を製作しアース（接地）した。Alumina was added to this by ceramic spraying.
mm coating, and then a solution of tetramethoxysilane diluted with ethyl acetate is applied and dried, then cured by ultraviolet irradiation and sealed to perform a sealing treatment, and a roll electrode having a dielectric of Rmax, 1 μm is manufactured and grounded (grounded). did.

【０２２６】一方、対向電極としては、中空のステンレ
スパイプに対し、上記同様の誘電体を同条件にて被覆
し、相対する電極群とした。プラズマ放電処理装置の電
源は、日本電子製高周波電源を使用し、連続周波数を２
ＭＨｚとし、２Ｗ／ｃｍ2の電力を供給した。但し、ロ
ール電極は、ドライブを用いてポリエステルフィルムの
搬送に同期して回転させた。ロール電極の表面温度は７
０℃とした。On the other hand, as a counter electrode, a hollow stainless steel pipe was coated with the same dielectric as the above under the same conditions to form a facing electrode group. The plasma discharge processing device uses a JEOL high-frequency power supply with a continuous frequency of 2
The frequency was set to MHz and a power of 2 W / cm 2 was supplied. However, the roll electrode was rotated in synchronization with the conveyance of the polyester film using a drive. The surface temperature of the roll electrode is 7
It was set to 0 ° C.

【０２２７】なお、電極間隙は１．６ｍｍ、反応ガスの
圧力を大気圧に対して＋１ｋＰａとして、反応ガス温度
は８５℃として、膜厚０．１μｍの金属酸化物層を形成
した。プラズマ放電処理に用いた反応ガスの組成を以下
に記す。The electrode gap was 1.6 mm, the reaction gas pressure was +1 kPa relative to the atmospheric pressure, and the reaction gas temperature was 85 ° C. to form a metal oxide layer having a film thickness of 0.1 μm. The composition of the reaction gas used for the plasma discharge treatment is described below.

【０２２８】 （酸化錫層形成用反応ガス） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．４体積％ 反応ガス（酸素ガス） ０．３体積％ 反応ガス（テトラブチル錫蒸気） ０．３体積％ 得られた光学フィルム１〜４について、クラック、カー
ル、白濁、導電性、接着性を評価した。なお導電性は表
面比抵抗値の変化で評価した。結果を表２に示す。(Reaction Gas for Forming Tin Oxide Layer) Inert gas (helium) 99.4% by volume Reaction gas (oxygen gas) 0.3% by volume Reaction gas (tetrabutyltin vapor) 0.3% by volume Optical obtained Films 1 to 4 were evaluated for cracks, curls, cloudiness, conductivity, and adhesiveness. The conductivity was evaluated by the change in surface resistivity. The results are shown in Table 2.

【０２２９】〈クラック〉光学フィルム試料を８０±３
℃、９０±２％ＲＨの条件に１２時間放置し、２３±２
℃、５５±５％ＲＨで１２時間放置した後、試料を光学
顕微鏡でクラックの状態を観察し、下記の基準で評価し
た。<Crack> 80 ± 3 of optical film sample
C., 90 ± 2% RH for 12 hours, 23 ± 2
After the sample was left standing at 55 ° C. and 55 ± 5% RH for 12 hours, the sample was observed for cracks with an optical microscope and evaluated according to the following criteria.

【０２３０】 ◎：クラックがほとんど認められない ○：短いクラックが認められる △：全面に短いクラックが多数発生している ×：全面に無数のクラックが認められる 〈カール〉ロール状に巻き取ったフィルムを２３±２
℃、５５％ＲＨ下で２４時間調湿し、該試料を長手方向
２ｍｍ、幅手方向５０ｍｍに切断し、その試料小片を２
３±２℃、５５％ＲＨ下で２４時間調湿した後、曲率ス
ケールを用いて、該試料と合致するカーブを有する曲率
半径（１／ｍ）を確認し、その曲率半径を該試料のカー
ル値とした。⊚: Almost no cracks were found ◯: Short cracks were found Δ: Many short cracks were found on the entire surface ×: Innumerable cracks were found on the entire surface <Curl> Film wound into a roll 23 ± 2
The sample was cut into 2 mm in the longitudinal direction and 50 mm in the width direction, and the sample piece was cut into 2 pieces.
After conditioning the humidity at 3 ± 2 ° C. and 55% RH for 24 hours, a curvature scale was used to confirm the radius of curvature (1 / m) having a curve that matches the sample, and the radius of curvature was determined to be the curl of the sample. Value.

【０２３１】 ◎：カール値 １０未満 ○：カール値 １０〜２０未満 △：カール値 ２０〜２５未満 ×：カール値 ２５以上 〈白濁〉各光学フィルムを８０℃、９０％ＲＨの高温高
湿雰囲気下で６時間処理した後、２３℃、５５％ＲＨ雰
囲気に１８時間放置した。これを合計３０回繰り返して
処理した後、金属酸化物層側を目視によって白濁の状態
を観察した。評価は、白濁が全く認められないものを１
とし、著しい白濁を起こしているものを５とし、その間
のランクの状態を２〜４とした５段階評価を行った。な
お、白濁は細かいクラックが入ったためと考えられる。⊚: Curl value less than 10 ◯: Curl value 10 to less than 20 Δ: Curl value 20 to less than 25 x: Curl value 25 or more <White turbidity> Each optical film in a high temperature and high humidity atmosphere of 80 ° C. and 90% RH. After being treated for 6 hours, it was left in an atmosphere of 23 ° C. and 55% RH for 18 hours. After repeating this treatment 30 times in total, the state of cloudiness was visually observed on the metal oxide layer side. The evaluation is 1 when no cloudiness is observed.
5 was used for the case where significant white turbidity was generated, and the state of the rank between them was set to 2 to 4, and a 5-level evaluation was performed. It is considered that the cloudiness was due to the inclusion of fine cracks.

【０２３２】〈表面比抵抗値変化〉反復高温多湿処理後
の表面比抵抗値の変化：８０℃、９０％ＲＨの条件で、
６時間曝した後、２３℃、３０％ＲＨの条件に１８時間
調湿した。同様に高温多湿処理を１０回繰り返した後、
２３℃、３０％ＲＨの条件のもとで、６時間調湿した
後、同条件で金属酸化物層表面の表面比抵抗値を絶縁抵
抗測定器（川口電気社製ＶＥ・３０型）で測定し、下記
の基準で評価して結果を表２に示した。<Change in surface resistivity> Change in surface resistivity after repeated high temperature and high humidity treatment: under the conditions of 80 ° C. and 90% RH,
After exposure for 6 hours, the humidity was adjusted to 23 ° C. and 30% RH for 18 hours. Similarly, after repeating the high temperature and high humidity treatment 10 times,
After conditioning the humidity for 6 hours under the conditions of 23 ° C. and 30% RH, measure the surface specific resistance value of the metal oxide layer surface with an insulation resistance measuring instrument (VE ・ 30 type manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.) under the same conditions. Then, the evaluation was made according to the following criteria, and the results are shown in Table 2.

【０２３３】◎：表面比抵抗値は１０10Ω／ｃｍ2未満
でほとんど変化なし ○：表面比抵抗値はわずかに増加したが、１０11Ω／ｃ
ｍ2レベルで問題ない △：表面比抵抗値は増加したが１０12Ω／ｃｍ2未満で
あり、問題ない ×：表面比抵抗値は１０12Ω／ｃｍ2以上、５×１０12
Ω／ｃｍ2未満に増加した ××：表面比抵抗値は５×１０12Ω／ｃｍ2以上に著し
く増加した。⊚: Surface specific resistance value was less than 10 10 Ω / cm 2 and hardly changed. ○: Surface specific resistance value was slightly increased, but 10 11 Ω / c.
No problem at m 2 level Δ: Surface resistivity increased but less than 10 12 Ω / cm 2 , no problem x: Surface resistivity of 10 12 Ω / cm 2 or more, 5 × 10 12
Increased to less than Ω / cm 2 XX: The surface resistivity increased significantly to 5 × 10 12 Ω / cm 2 or more.

【０２３４】表２から明らかなように、本発明の光学フ
ィルムは高温高湿処理の繰り返しによる表面比抵抗の変
動が少なく良好な値を示したが、比較の光学フィルムは
表面比抵抗値の増加により帯電防止性の低下が認められ
た。As is clear from Table 2, the optical film of the present invention showed a good value with little change in surface specific resistance due to repeated high temperature and high humidity treatment, but the comparative optical film showed an increase in surface specific resistance value. As a result, a decrease in antistatic property was observed.

【０２３５】〈接着性〉ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準拠し
た碁盤目試験を行った。具体的には塗布面上に１ｍｍ間
隔で縦、横に１１本の切れ目をいれ、１ｍｍ角の碁盤目
を１００個つくった。この上にセロハンテープを貼り付
け、９０度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った碁
盤目の数で評価した。<Adhesiveness> A cross-cut test was carried out in accordance with JIS-K-5400. Specifically, 11 cuts were made vertically and horizontally at 1 mm intervals on the coated surface to make 100 1 mm square grids. Cellophane tape was attached on this, and it was quickly peeled off at an angle of 90 degrees, and evaluated by the number of crosses left without peeling.

【０２３６】 ◎：１００ 密着性が高く優れている ○：９５〜９９ 若干剥離するが実用上問題がないレベ
ル △：８０〜９４ 剥離が目立ち実用上問題がある ×：８０未満 剥離が著しく実用上使用できない。◎: 100 Adhesiveness is excellent and excellent ○: 95 to 99 Peeling is slightly but there is no problem in practical use Δ: 80 to 94 Peeling is noticeable and there is a problem in practical use ×: Less than 80 Peeling is remarkable in practical use I can not use it.

【０２３７】[0237]

【表２】 [Table 2]

【０２３８】本発明の光学フィルムはクラックが少な
く、カールも軽減され、接着性にも優れ、導電性も安定
していることが確認された。It was confirmed that the optical film of the present invention had few cracks, reduced curl, excellent adhesiveness, and stable conductivity.

【０２３９】実施例２ 実施例１で形成した基材フィルム及び光学フィルムの上
にクリアハードコート層（ＣＨＣ）又は防眩層（ＡＧ）
を塗設し、その上に実施例１で用いたプラズマ処理装置
を用いて下記反射防止層を形成した。基材フィルム及び
光学フィルムは下記の塗布層を設ける前にコロナ放電処
理で濡れ性を改善した後、塗布した。光学フィルムは酸
化錫層の上にクリアハードコート層または防眩層を形成
した。Example 2 A clear hard coat layer (CHC) or an antiglare layer (AG) was formed on the substrate film and the optical film formed in Example 1.
Was applied, and the following antireflection layer was formed thereon by using the plasma processing apparatus used in Example 1. The base film and the optical film were applied after the wettability was improved by corona discharge treatment before forming the following coating layer. In the optical film, a clear hard coat layer or an antiglare layer was formed on the tin oxide layer.

【０２４０】 防眩層（ＡＧ） 紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂 １００部 （ユニデック１７−８０６（大日本インキ（株）製）） 平均粒子径３．５μｍの球状架橋ポリスチレン微粒子 ５部 平均粒子径１６ｎｍの合成シリカ微粒子 ７部 コロネートＬ（ポリイソシアネート化合物：日本ポリウレタン（株）製） １部 光重合開始剤（イルガキュア１８４ チバガイギー社社製） ３部 上記を溶媒（酢酸エチル）にてホモジナイザーにより混
合して、揮発分濃度６０％の均質な分散液を調製した。Anti-glare layer (AG) UV-curable acrylic urethane resin 100 parts (Unidec 17-806 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)) Spherical crosslinked polystyrene fine particles having an average particle diameter of 3.5 μm 5 parts Average particle diameter 16 nm Synthetic silica fine particles of 7 parts Coronate L (polyisocyanate compound: manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) 1 part Photopolymerization initiator (IRGACURE 184 manufactured by Ciba Geigy) 3 parts The above components are mixed with a solvent (ethyl acetate) by a homogenizer. A homogeneous dispersion having a volatile content of 60% was prepared.

【０２４１】これを基材フィルムにワイヤーバーコート
し、９０℃で２分間乾燥させた後、１３０ｍＪ／ｃｍ2
の紫外線を照射して硬化させ、膜厚３μｍの防眩層１を
形成した。The base film was wire-bar coated with this and dried at 90 ° C. for 2 minutes, and then 130 mJ / cm 2
Was irradiated with the ultraviolet rays and cured to form an antiglare layer 1 having a thickness of 3 μm.

【０２４２】 クリアハードコート層（ＣＨＣ） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０部 光重合開始剤（イルガキュア１８４ チバガイギー社製） ４部 酢酸エチル ５０部 メチルエチルケトン ５０部 イソプロピルアルコール ５０部 これを基材フィルムにワイヤーバーコートし、９０℃で
２分間乾燥させた後、１３０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照
射して硬化させ、膜厚３μｍのクリアハードコート層
（ＣＨＣ）を形成した。Clear hard coat layer (CHC) Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts Dipentaerythritol hexaacrylate trimer or more components 20 parts Photopolymerization initiator (IRGACURE 184 Ciba Geigy) 4 parts Ethyl acetate 50 parts Methyl ethyl ketone 50 parts Isopropyl alcohol 50 parts This is coated on a base film with a wire bar, dried at 90 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with UV rays of 130 mJ / cm 2 to cure it. A clear hard coat layer (CHC) having a film thickness of 3 μm was formed.

【０２４３】〈金属酸化物層の形成〉上記基材フィルム
上に設けた紫外線硬化樹脂層（ＡＧ又はＣＨＣ）の上
に、実施例１で使用した大気圧プラズマ処理装置を用い
て、第１酸化チタン層（屈折率２．１５、平均膜厚１５
ｎｍ）、第１酸化珪素層（屈折率１．４６、平均膜厚３
３ｎｍ）、第２酸化チタン層（屈折率２．１５、平均膜
厚１１９ｎｍ）、第２酸化珪素層（屈折率１．４６、平
均膜厚８６ｎｍ）を順に形成した。第２酸化珪素層の表
面は下記、酸化珪素層形成用反応ガス２にて表面処理を
行った。<Formation of Metal Oxide Layer> On the ultraviolet curable resin layer (AG or CHC) provided on the base film, the atmospheric pressure plasma treatment apparatus used in Example 1 was used to perform the first oxidation. Titanium layer (refractive index 2.15, average film thickness 15
nm), the first silicon oxide layer (refractive index 1.46, average film thickness 3
3 nm), a second titanium oxide layer (refractive index 2.15, average film thickness 119 nm), and a second silicon oxide layer (refractive index 1.46, average film thickness 86 nm) were sequentially formed. The surface of the second silicon oxide layer was surface-treated with the reaction gas 2 for forming a silicon oxide layer described below.

【０２４４】プラズマ放電処理装置の電源は、パール工
業製高周波電源を使用し、連続周波数を２ＭＨｚとし、
放電電極に対し２Ｗ／ｃｍ2の電力を供給した。ロール
電極はドライブを用いてポリエステルフィルムの搬送に
同期して回転させた。なお、電極間隙は１．４ｍｍ、反
応ガスの圧力は大気圧＋１ｋＰａ、反応ガスの温度は８
０℃として行った。プラズマ放電処理に用いた反応ガス
の組成を以下に記す。As the power source of the plasma discharge treatment apparatus, a high frequency power source manufactured by Pearl Industrial Co., Ltd. was used, and the continuous frequency was 2 MHz.
Electric power of 2 W / cm 2 was supplied to the discharge electrode. The roll electrode was rotated using a drive in synchronization with the conveyance of the polyester film. The electrode gap was 1.4 mm, the pressure of the reaction gas was atmospheric pressure + 1 kPa, and the temperature of the reaction gas was 8 mm.
It was performed at 0 ° C. The composition of the reaction gas used for the plasma discharge treatment is described below.

【０２４５】 （酸化チタン層（高屈折率層）形成用反応ガス） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．４体積％ 反応ガス（水素ガス） ０．３体積％ 反応ガス（テトライソプロポキシチタン蒸気） ０．３体積％ （酸化珪素層（低屈折率層）形成用反応ガス） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．４体積％ 反応ガス（酸素ガス） ０．３体積％ 反応ガス（テトラエトキシシラン蒸気） ０．３体積％ （酸化珪素層（低屈折率層）形成用反応ガス２） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．８体積％ 反応ガス（ＣＦ４） ０．２体積％ 得られた反射防止フィルムの評価結果を表３に示す。[0245]   (Reaction gas for forming titanium oxide layer (high refractive index layer))   Inert gas (helium) 99.4% by volume   Reactive gas (hydrogen gas) 0.3% by volume   Reaction gas (tetraisopropoxy titanium vapor) 0.3% by volume   (Reaction Gas for Forming Silicon Oxide Layer (Low Refractive Index Layer))   Inert gas (helium) 99.4% by volume   Reactive gas (oxygen gas) 0.3% by volume   Reaction gas (tetraethoxysilane vapor) 0.3% by volume   (Reaction gas 2 for forming silicon oxide layer (low refractive index layer))   Inert gas (helium) 99.8% by volume   Reaction gas (CF4) 0.2% by volume Table 3 shows the evaluation results of the obtained antireflection film.

【０２４６】本発明の光学フィルムは、クラックが発生
しにくく、カールも少なく、巻き癖も解消しやすいた
め、表示装置の最前面などの平面部に貼り付けるのに適
していた。それに対して、比較の光学フィルムはクラッ
クが入りやすく、カールも大きく、巻き癖が解消しにく
いため、貼り付けの際に皺が入りやすいという問題があ
った。The optical film of the present invention is suitable for sticking to a flat surface portion such as the forefront of a display device, because cracks are less likely to occur, curl is small, and curl is easily eliminated. On the other hand, the comparative optical film has a problem that cracks are likely to occur, curl is large, and curl is difficult to be eliminated, so that wrinkles are likely to occur during attachment.

【０２４７】〈平均反射率の測定〉分光光度計（日立製
作所製Ｕ−４０００型）を用い、反射防止層が設けられ
ていない側の面を粗面化した後、黒色のスプレーを用い
て光吸収処理を行い、裏面での光の反射を防止して５度
の正反射の条件にて４５０〜６５０ｎｍにおける各反射
率を測定し、その平均反射率を求めた。<Measurement of Average Reflectance> A spectrophotometer (U-4000 manufactured by Hitachi, Ltd.) is used to roughen the surface on the side where the antireflection layer is not provided, and then light is applied using a black spray. Absorption treatment was performed to prevent reflection of light on the back surface, each reflectance at 450 to 650 nm was measured under the condition of specular reflection of 5 degrees, and the average reflectance was obtained.

【０２４８】[0248]

【表３】 [Table 3]

【０２４９】実施例３ 〔偏光子の作製〕厚さ１２０μｍのポリビニルアルコー
ルフィルムを沃素１質量部、沃化カリウム２質量部、ホ
ウ酸４質量部を含む水溶液に浸漬し５０℃で４倍に延伸
し偏光子を作製した。Example 3 [Production of Polarizer] A polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was immersed in an aqueous solution containing 1 part by mass of iodine, 2 parts by mass of potassium iodide and 4 parts by mass of boric acid, and stretched 4 times at 50 ° C. Then, a polarizer was produced.

【０２５０】〔偏光板及び表示装置の作製〕実施例２の
反射防止フィルムの反射防止層を有する面の裏面側に、
春日電機（株）製コロナ放電処理装置（ＨＦＳ−２０
２）を用いて、１２Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2の条件で易接着処
理を施した。同様にそれぞれの反射防止フィルムで用い
られるポリエステルフィルム（基材フィルム）の一方の
面にコロナ処理を施した。[Production of Polarizing Plate and Display] On the back surface side of the surface having the antireflection layer of the antireflection film of Example 2,
Kasuga Denki Co., Ltd. corona discharge treatment device (HFS-20
Using 2), the easy adhesion treatment was performed under the condition of 12 W · min / m 2 . Similarly, one surface of the polyester film (base film) used for each antireflection film was subjected to corona treatment.

【０２５１】前記で作製した偏光子の両面に、完全鹸化
型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着剤として、前
記反射防止フィルム及びポリエステルフィルムの易接着
処理を施した面側が偏光子側となるようにして貼合し、
偏光板を作製した。この時、反射防止フィルムのフィル
ム面内での屈折率の最大方向が偏光子の偏光軸に平行に
なるように張り合わせた。A completely saponified polyvinyl alcohol 5% aqueous solution was used as an adhesive on both sides of the above-prepared polarizer so that the side of the antireflection film and the polyester film which had been subjected to the easy adhesion treatment would be the polarizer side. Pasted,
A polarizing plate was produced. At this time, the antireflection film was laminated so that the maximum direction of the refractive index in the film plane was parallel to the polarization axis of the polarizer.

【０２５２】次に市販の液晶表示パネル（ＮＥＣ製 カ
ラー液晶ディスプレイ ＭｕｌｔｉＳｙｎｃ ＬＣＤ１
５２５Ｊ：型名 ＬＡ−１５２９ＨＭ）の最表面の偏光
板を注意深く剥離し、ここに偏向方向を合わせた上記で
作製した偏光板を各々貼り付けた。Next, a commercially available liquid crystal display panel (NEC color liquid crystal display MultiSync LCD1
525J: Model name LA-1529HM), the polarizing plate on the outermost surface was carefully peeled off, and the polarizing plates prepared as described above with their polarization directions aligned were attached thereto.

【０２５３】作製した液晶表示パネルについて、ルーペ
を用いて観察したところ本発明の偏光板を用いた液晶表
示パネルでは反射防止層のクラックの増加は認められな
かったが、一方、比較の偏光板を用いた液晶表示パネル
ではクラックの発生が観察された。比較の偏光板の方が
ほこりが付着しやすかった。When the produced liquid crystal display panel was observed with a magnifying glass, no increase in cracks in the antireflection layer was observed in the liquid crystal display panel using the polarizing plate of the present invention. Occurrence of cracks was observed in the liquid crystal display panel used. Dust was more likely to adhere to the comparative polarizing plate.

【０２５４】[0254]

【発明の効果】各種表示装置に用いられる光学フィルム
としてのポリエステルフィルム上に金属酸窒化物層を設
けた導電性フィルム、反射防止フィルムにおいて、クラ
ックが著しく低減され、カールも改善され、導電性の低
下も少ないフィルムを提供することができた。INDUSTRIAL APPLICABILITY In a conductive film and an antireflection film in which a metal oxynitride layer is provided on a polyester film as an optical film used in various display devices, cracks are remarkably reduced, curling is improved, and conductivity is improved. It was possible to provide a film with less deterioration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の金属酸窒化物薄膜層を形成するのに用
いられるプラズマ放電処理装置の一例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of a plasma discharge treatment apparatus used for forming a metal oxynitride thin film layer of the present invention.

【図２】本発明の金属酸窒化物薄膜層を形成するのに有
用な回転電極と固定電極を有するプラズマ放電処理装置
の一例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of a plasma discharge treatment apparatus having a rotating electrode and a fixed electrode useful for forming a metal oxynitride thin film layer of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Ｆ ポリエステルフィルム Ｇ 反応ガス Ｇ′ 排ガス １０Ａ、１０Ｂ、１１０ 回転電極 １１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄ Ｕターンロール ２０、２１ ガイドロール ３０ 反応ガス供給部 ４０、１４０ ガス排気口 ５０、１５０ 放電部 ８０、１８０ 電源 ８１、８２、１８１、１８２ 電圧供給手段 １１１ 固定電極 １２０、１２１ ガイドロール １２２、１２３ ニップロール １２４、１２５ 仕切板 １３０ 給気管 １３１ 反応ガス発生装置 １９０ プラズマ放電処理容器 F polyester film G reaction gas G'exhaust gas 10A, 10B, 110 rotating electrodes 11A, 11B, 11C, 11D U-turn roll 20, 21 Guide roll 30 Reaction gas supply unit 40,140 Gas exhaust port 50, 150 Discharge part 80, 180 power supply 81, 82, 181, 182 Voltage supply means 111 fixed electrode 120, 121 Guide roll 122, 123 nip roll 124, 125 partition plates 130 Air supply pipe 131 Reaction gas generator 190 Plasma discharge treatment vessel

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２３Ｃ 16/30 Ｃ２３Ｃ 16/30 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｃ０８Ｌ 67:02 1/11 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ // Ｃ０８Ｌ 67:02 Ｚ Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA24 BB23 BB65 BB67 BC10 BC22 2K009 AA02 CC03 CC34 DD04 EE03 4F006 AA35 AB74 BA07 BA14 CA08 DA01 4F100 AA01A AA12B AA17B AA33B AK42A AK42K BA02 EH66B EJ61B GB41 JG01 JN06 JN10 4K030 AA11 BA35 BA44 BA45 BA46 BB05 CA07 CA12 FA03 JA09 KA16 LA18 Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C23C 16/30 C23C 16/30 G02B 1/10 C08L 67:02 1/11 G02B 1/10 A // C08L 67:02 Z F-term (reference) 2H049 BA02 BA24 BB23 BB65 BB67 BC10 BC22 2K009 AA02 CC03 CC34 DD04 EE03 4F006 AA35 AB74 BA07 BA14 CA08 DA01 4F100 AA01A AA12B AA17B AA33B AK42A AK42K BA02 EH66B EJ61B GB41 JG01 JN06 JN10 4K030 AA11 BA35 BA44 BA45 BA46 BB05 CA07 CA12 FA03 JA09 KA16 LA18

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 少なくとも芳香族ジカルボン酸、グリコ
ールの反応により製造され、平衡含水率が１〜５％であ
るポリエステル樹脂の層を有する基材フィルム上に直接
又は他の層を介して金属酸窒化物層を設けることを特徴
とする光学フィルム。1. A metal oxynitride on a substrate film having a layer of a polyester resin produced by a reaction of at least an aromatic dicarboxylic acid and glycol and having an equilibrium water content of 1 to 5%, either directly or through another layer. An optical film comprising a physical layer. 【請求項２】 膜厚５〜４０μｍ、寸法安定性が±０．
５％以内であることを特徴とする請求項１に記載の光学
フィルム。2. A film thickness of 5 to 40 μm and a dimensional stability of ± 0.
It is 5% or less, The optical film of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 【請求項３】 ポリエステル樹脂がスルホン酸またはそ
の塩から選ばれる基を有することを特徴とする請求項１
または２に記載の光学フィルム。3. The polyester resin has a group selected from sulfonic acid and salts thereof.
Or the optical film according to item 2. 【請求項４】 ポリエステル樹脂の硫黄元素含有量が
０．１５〜２質量％であることを特徴とする請求項３に
記載の光学フィルム。4. The optical film according to claim 3, wherein the polyester resin has a sulfur element content of 0.15 to 2 mass%. 【請求項５】 ポリエステル樹脂が全芳香族ジカルボン
酸に対し１〜１０モル％のスルホン酸およびその塩から
選ばれる基を有する芳香族ジカルボン酸或いは全グリコ
ールに対し１〜１０モル％のスルホン酸およびその塩か
ら選ばれる基を有するグリコールを用いて製造されるこ
とを特徴とする請求項３または４に記載の光学フィル
ム。5. A polyester resin, wherein the aromatic dicarboxylic acid has a group selected from 1 to 10 mol% of sulfonic acid and salts thereof based on the total aromatic dicarboxylic acid, or 1 to 10 mol% of sulfonic acid based on the total glycol, and The optical film according to claim 3 or 4, which is produced using a glycol having a group selected from the salt thereof. 【請求項６】 ポリエステル樹脂が全芳香族ジカルボン
酸に対し１〜１０モル％のスルホン酸およびその塩から
選ばれる基を有する芳香族ジカルボン酸を用いて製造さ
れることを特徴とする請求項３または４に記載の光学フ
ィルム。6. The polyester resin is produced by using 1 to 10 mol% of an aromatic dicarboxylic acid having a group selected from sulfonic acids and salts thereof based on the total aromatic dicarboxylic acid. Alternatively, the optical film according to item 4. 【請求項７】 ポリエステル樹脂がポリアルキレングリ
コールを反応生成物のポリエステル全量に対して０．１
〜１０質量％用い製造されることを特徴とする請求項１
〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。7. The polyester resin contains polyalkylene glycol in an amount of 0.1 relative to the total amount of polyester in the reaction product.
It is manufactured using 10 to 10% by mass.
The optical film according to any one of items 1 to 6. 【請求項８】 ポリエステル樹脂の主成分がポリエチレ
ンテレフタレートであることを特徴とする請求項１〜７
のいずれか１項に記載の光学フィルム。8. The main component of the polyester resin is polyethylene terephthalate, which is characterized in that
The optical film according to any one of 1. 【請求項９】 溶融押し出しにより連続的に製膜された
長尺状フィルム上に直接又は他の層を介して金属酸窒化
物層を有することを特徴とする請求項７または８に記載
の光学フィルム。9. The optical element according to claim 7, wherein a metal oxynitride layer is provided directly or via another layer on a long film continuously formed by melt extrusion. the film. 【請求項１０】 平衡含水率が１〜５％であるポリエス
テル樹脂層を有する基材上に直接又は他の層を介して大
気圧プラズマＣＶＤによって金属酸窒化物層を設けるこ
とを特徴とする光学フィルム。10. An optical system characterized in that a metal oxynitride layer is provided by atmospheric pressure plasma CVD directly or through another layer on a substrate having a polyester resin layer having an equilibrium water content of 1 to 5%. the film. 【請求項１１】 スルホン酸またはその塩から選ばれる
基を有するポリエステル樹脂を有するフィルムを延伸し
て形成された基材フィルム上に直接又は他の層を介して
金属酸窒化物層を大気圧プラズマＣＶＤによって形成す
ることを特徴とする光学フィルムの製造方法。11. An atmospheric pressure plasma of a metal oxynitride layer directly or through another layer on a base film formed by stretching a film having a polyester resin having a group selected from sulfonic acid or a salt thereof. A method for producing an optical film, which is characterized by being formed by CVD. 【請求項１２】 請求項１〜１０のいずれか１項に記載
の光学フィルムを用いることを特徴とする偏光板。12. A polarizing plate comprising the optical film according to any one of claims 1 to 10. 【請求項１３】 請求項１２に記載の偏光板を用いるこ
とを特徴とする表示装置。13. A display device using the polarizing plate according to claim 12.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005189645A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Fuji Photo Film Co Ltd Circularly polarizing plate and organic el display element having circularly polarizing plate
JP2005289041A (en) * 2004-03-09 2005-10-20 Dainippon Printing Co Ltd Gas barrier film which is prevented from curving
JP2007065191A (en) * 2005-08-30 2007-03-15 Nippon Zeon Co Ltd Polarizing plate and liquid crystal display device
JP2008195804A (en) * 2007-02-12 2008-08-28 Mitsubishi Plastics Ind Ltd Optical polyester film
WO2011052764A1 (en) * 2009-10-30 2011-05-05 住友化学株式会社 Process for producing multilayer film
WO2012046778A1 (en) * 2010-10-08 2012-04-12 住友化学株式会社 Method for producing laminate by forming film by means of plasma cvd
CN111880334A (en) * 2020-07-22 2020-11-03 厦门天马微电子有限公司 Backlight module, display device and control method thereof

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06161034A (en) * 1992-11-26 1994-06-07 Konica Corp Silver halide color photosensitive material
JPH0933722A (en) * 1995-07-14 1997-02-07 Fuji Photo Film Co Ltd Polarizing plate and liquid crystal display device
JPH09281333A (en) * 1996-04-18 1997-10-31 Konica Corp Protective film for polarizing plate and polarizing plate using it
JP2001013302A (en) * 1999-06-29 2001-01-19 Konica Corp Surface protecting film for polarizing plate, its production and method for sticking same
JP2002082223A (en) * 2000-09-08 2002-03-22 Konica Corp Protective film or polarizing plate, optical film and picture display material

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06161034A (en) * 1992-11-26 1994-06-07 Konica Corp Silver halide color photosensitive material
JPH0933722A (en) * 1995-07-14 1997-02-07 Fuji Photo Film Co Ltd Polarizing plate and liquid crystal display device
JPH09281333A (en) * 1996-04-18 1997-10-31 Konica Corp Protective film for polarizing plate and polarizing plate using it
JP2001013302A (en) * 1999-06-29 2001-01-19 Konica Corp Surface protecting film for polarizing plate, its production and method for sticking same
JP2002082223A (en) * 2000-09-08 2002-03-22 Konica Corp Protective film or polarizing plate, optical film and picture display material

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005189645A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Fuji Photo Film Co Ltd Circularly polarizing plate and organic el display element having circularly polarizing plate
JP2005289041A (en) * 2004-03-09 2005-10-20 Dainippon Printing Co Ltd Gas barrier film which is prevented from curving
JP4589128B2 (en) * 2004-03-09 2010-12-01 大日本印刷株式会社 Gas barrier film that prevents bending
JP2007065191A (en) * 2005-08-30 2007-03-15 Nippon Zeon Co Ltd Polarizing plate and liquid crystal display device
JP2008195804A (en) * 2007-02-12 2008-08-28 Mitsubishi Plastics Ind Ltd Optical polyester film
WO2011052764A1 (en) * 2009-10-30 2011-05-05 住友化学株式会社 Process for producing multilayer film
CN102598158A (en) * 2009-10-30 2012-07-18 住友化学株式会社 Process for producing multilayer film
US9011985B2 (en) 2009-10-30 2015-04-21 Sumitomo Chemical Company, Limited Method of manufacture of multilayer film
CN102598158B (en) * 2009-10-30 2016-11-02 住友化学株式会社 The manufacture method of stacked film
WO2012046778A1 (en) * 2010-10-08 2012-04-12 住友化学株式会社 Method for producing laminate by forming film by means of plasma cvd
CN111880334A (en) * 2020-07-22 2020-11-03 厦门天马微电子有限公司 Backlight module, display device and control method thereof
CN111880334B (en) * 2020-07-22 2022-06-07 厦门天马微电子有限公司 Backlight module, display device and control method thereof

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