JP2003294945A - 光学フィルム及びその製造方法、それを用いた偏光板、表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 各種表示装置に用いられる光学フィルムとし
てのポリエステルフィルム上に金属酸窒化物層を設けた
導電性フィルム、反射防止フィルムにおいて、クラック
が著しく低減され、カールも改善され、導電性の低下も
少ないフィルムを提供すること。 【解決手段】 少なくとも芳香族ジカルボン酸、グリコ
ールの反応により製造され、平衡含水率が１〜５％であ
るポリエステル樹脂層を有する基材フィルム上に直接又
は他の層を介して金属酸窒化物層を設けることを特徴と
する光学フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶ディスプレイ、
有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、プラズ
マディスプレイ等の各種表示装置に用いられる光学フィ
ルムに関し、特に反射防止フィルムあるいは導電性フィ
ルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】情報産業の著しい発達に伴って、各所で
表示装置が活用されるようになっている。特に液晶表示
装置の発達はめざましく、様々な機器に搭載されるよう
になった。一方で小型軽量化への要望が益々強まってお
り、偏光板等の部材についても薄膜化の要求が強まって
いる。偏光板は通常２枚の偏光板保護フィルムで偏光子
をサンドイッチして作られており、偏光板保護フィルム
としてはトリアセチルセルロースなどのセルロースエス
テルフィルムが好ましく用いられている。

【０００３】しかしながら、偏光板を薄くするために、
保護フィルムであるトリアセチルセルロースフィルム
（ＴＡＣフィルム）を薄くすると透湿性が悪化したり、
寸法安定性が低下するといった問題があり、特に４０μ
ｍ未満の薄膜フィルムでは著しい物性低下が起こるため
に、偏光板に十分な耐久性を付与することが困難であっ
た。

【０００４】一方で偏光板保護フィルムとしてポリエス
テルを用いることができることは知られている。例え
ば、ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いること
が知られているが、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムは透湿性が低く、ＴＡＣフィルムと比較して寸法安定
性に優れるが、鹸化処理ができないため偏光子との接着
性に劣るほか、偏光子との貼合の際に接着剤の乾燥性が
著しく悪いという問題があった。また、従来、ポリエス
テルフィルム上に金属酸窒化物層を設けたフィルムで
は、クラック、カールが発生するという問題とともに金
属酸窒化物層の導電性の低下という問題があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬ
ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の各種表示装置
に用いられる光学フィルムとしてのポリエステルフィル
ム上に金属酸窒化物層を設けた導電性フィルム、反射防
止フィルムにおいて、クラックが著しく低減され、カー
ルも改善され、導電性の低下も少ないフィルムを提供す
ることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、下
記構成によって達成される。

【０００７】１）少なくとも芳香族ジカルボン酸、グリ
コールの反応により製造され、平衡含水率が１〜５％で
あるポリエステル樹脂の層を有する基材フィルム上に直
接又は他の層を介して金属酸窒化物層を設けることを特
徴とする光学フィルム。

【０００８】２）膜厚５〜４０μｍ、寸法安定性が±
０．５％以内であることを特徴とする前記１）に記載の
光学フィルム。

【０００９】３）ポリエステル樹脂がスルホン酸または
その塩から選ばれる基を有することを特徴とする前記
１）または２）に記載の光学フィルム。

【００１０】４）ポリエステル樹脂の硫黄元素含有量が
０．１５〜２質量％であることを特徴とする前記３）に
記載の光学フィルム。

【００１１】５）ポリエステル樹脂が全芳香族ジカルボ
ン酸に対し１〜１０モル％のスルホン酸およびその塩か
ら選ばれる基を有する芳香族ジカルボン酸或いは全グリ
コールに対し１〜１０モル％のスルホン酸およびその塩
から選ばれる基を有するグリコールを用いて製造される
ことを特徴とする前記３）または４）に記載の光学フィ
ルム。

【００１２】６）ポリエステル樹脂が全芳香族ジカルボ
ン酸に対し１〜１０モル％のスルホン酸およびその塩か
ら選ばれる基を有する芳香族ジカルボン酸を用いて製造
されることを特徴とする前記３）または４）に記載の光
学フィルム。

【００１３】７）ポリエステル樹脂がポリアルキレング
リコールを反応生成物のポリエステル全量に対して０．
１〜１０質量％用い製造されることを特徴とする前記
１）〜６）のいずれか１項に記載の光学フィルム。

【００１４】８）ポリエステル樹脂の主成分がポリエチ
レンテレフタレートであることを特徴とする前記１）〜
７）のいずれか１項に記載の光学フィルム。

【００１５】９）溶融押し出しにより連続的に製膜され
た長尺状フィルム上に直接又は他の層を介して金属酸窒
化物層を有することを特徴とする前記７）または８）に
記載の光学フィルム。

【００１６】１０）平衡含水率が１〜５％であるポリエ
ステル樹脂層を有する基材上に直接又は他の層を介して
大気圧プラズマＣＶＤによって金属酸窒化物層を設ける
ことを特徴とする光学フィルム。

【００１７】１１）スルホン酸またはその塩から選ばれ
る基を有するポリエステル樹脂を有するフィルムを延伸
して形成された基材フィルム上に直接又は他の層を介し
て金属酸窒化物層を大気圧プラズマＣＶＤによって形成
することを特徴とする光学フィルムの製造方法。

【００１８】１２）前記１）〜１０）のいずれか１項に
記載の光学フィルムを用いることを特徴とする偏光板。

【００１９】１３）前記１２）に記載の偏光板を用いる
ことを特徴とする表示装置。 以下、本発明の詳細について説明する。

【００２０】本発明の光学フィルムはポリエステルフィ
ルムを用いて、その表面に直接又は他の層を介して金属
酸窒化物層を設けたものである。金属酸窒化物層とは金
属酸化物もしくは金属窒化物、あるいはそれらの混合物
を有する層である。金属窒化物としては窒化チタン、窒
化珪素等が挙げられる。

【００２１】従来のポリエステルフィルムで見られたよ
うな前記の問題を解決するために、鋭意検討を重ねた結
果、本発明者らは平衡含水率１〜５％のポリエステル樹
脂層を有する光学フィルムを用いることによって前記の
問題は解決できることを見いだした。

【００２２】本発明においては、平衡含水率１〜５％の
ポリエステル樹脂層は単独でポリエステルフィルムを形
成してもよく、平衡含水率１％未満のポリエステル樹脂
層と積層されていてもよく、また他の材質のフィルム上
に積層されていてもよく、支持体に用いられる樹脂は特
に限定されない。

【００２３】ここで平衡含水率とは、試料の中に平衡状
態で含まれる水分量を試料質量に対する百分率で表した
ものである。具体的な求め方としては、ポリエステルフ
ィルムを（或いは他のフィルム上に積層されている場合
には、基体より引き剥がした該ポリエステル樹脂層フィ
ルム）２３℃、相対湿度２０％に調湿された部屋に４時
間以上放置した後、２３℃の蒸留水に２４時間浸漬さ
せ、しかる後、サンプルを微量水分計（例えば、三菱化
学（株）製、ＣＡ−２０型）を用いて温度１５０℃で、
水分を乾燥・気化させた後カールフィッシャー法で定量
する方法である。

【００２４】ポリエステルは芳香族ジカルボン酸成分を
グリコール成分と直接エステル化反応させる直接エステ
ル化法、また初めに芳香族ジカルボン酸成分としてジア
ルキルエステルを用いて、これとグリコール成分とでエ
ステル交換反応させ、これを減圧下で加熱して余剰のグ
リコール成分を除去することにより重合させるエステル
交換法を用いて製造できる。この際、必要に応じてエス
テル交換触媒或いは重合反応触媒を用い、或いは耐熱安
定剤等を用いて製造される。

【００２５】本発明においては、始めにジカルボン酸の
ジアルキルエステルを用いた場合でも、また一旦ジカル
ボン酸成分とグリコール成分をエステル化反応させるエ
ステル化法を用いた場合でも、原料およびその共重合成
分に言及する場合、芳香族ジカルボン酸、グリコール換
算の量をいうこととする。

【００２６】上記プロセスにおいて、例えば、スルホン
酸およびその塩から選ばれる基を有する芳香族ジカルボ
ン酸或いはポリアルキレングリコール等の共重合成分を
エステル交換反応後に添加し、重縮合を行うことによ
り、これらの共重合成分を含んだポリエステル樹脂が得
られる。

【００２７】従って、本発明に用いられる平衡含水率１
〜５％のポリエステル樹脂層を形成するポリエステル樹
脂としては、具体的には少なくとも芳香族ジカルボン酸
とグリコールの反応により得られたポリエステル樹脂で
あって、ポリエステル樹脂構造中にスルホン酸またはそ
の塩から選ばれる基を有しているポリエステル樹脂が好
ましい。

【００２８】これらのスルホン酸基は、スルホン酸およ
びその塩から選ばれる基を有する芳香族ジカルボン酸ま
たはグリコールを所定量テレフタル酸等のジカルボン酸
或いはエチレングリコール等のグリコールの共重合成分
として混合し、ポリエステルを製造することにより、ポ
リエステル樹脂中に導入することが出来る。

【００２９】こうして得られるポリエステル樹脂中に含
まれる硫黄元素含有量は０．１５〜２質量％であること
が好ましい。

【００３０】これら硫黄元素含量が２％を越える場合に
は、スルホン酸基の含有量が多すぎ、機械的強度が劣っ
たものとなる場合があり、また０．１５％未満では、ス
ルホン酸基数が充分な割合で存在せず、本発明の効果を
与えない。

【００３１】ポリエステル樹脂中の硫黄元素は全てがス
ルホン酸基またはその塩から選ばれる基由来である必要
はないが、５０％以上、好ましくは８０％以上がスルホ
ン酸またはその塩としてポリエステル中に含まれるスル
ホン酸基に由来するものであることが好ましい。

【００３２】ポリエステル樹脂中の硫黄元素の定量方法
は特に限定されないが、例えばＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結
合プラズマ発光分光分析）により定量出来る。具体的に
は、試料に炭酸ナトリウムを添加して、１０００℃で加
熱溶融して得られた分解物に水を加えて水溶液とし、こ
れをセイコー電子工業（株）製ＳＰＳ−４０００を用い
て、ＩＣＰ−ＡＥＳ分析にて求めることが出来る。

【００３３】上記スルホン酸基を含有するポリエステル
樹脂は、芳香族ジカルボン酸とグリコールの反応により
製造される際に用いられる全芳香族ジカルボン酸のう
ち、１〜１０モル％の芳香族ジカルボン酸がスルホン酸
およびその塩から選ばれる基を有する芳香族ジカルボン
酸或いは全グリコールのうち、１〜１０モル％のグリコ
ールがスルホン酸およびその塩から選ばれる基を有する
グリコールを共重合成分として用いることにより得るこ
とが好ましい。特に、スルホン酸をポリエステルに導入
するには、スルホン酸およびその塩から選ばれる基を有
する芳香族ジカルボン酸を、全芳香族ジカルボン酸に対
し１〜１０モル％用いて製造することが原料の入手のし
やすさ等から見てより好ましい。

【００３４】また、本発明に用いられるポリエステル樹
脂は、更にポリアルキレングリコールを、生成したポリ
エステルの全量に対して０．１〜１０質量％共重合成分
として用いて製造されることが好ましい。

【００３５】これらの成分により、金属酸窒化物を形成
した光学フィルムにおいて、クラックが発生しにくく、
この光学フィルムを偏光板保護フィルム等に用いる際
の、偏光子との接着性や貼合の際の接着剤の乾燥性等偏
光板保護フィルムとしての特性も大きく改善する。

【００３６】本発明に用いるポリエステル樹脂において
は、特にポリエステルの主成分がテレフタル酸およびエ
チレングリコールを用いて得られるポリエチレンテレフ
タレートであることが好ましい。

【００３７】本発明においては、後述するが、溶融流延
されたフィルムを実質的に一軸で延伸したフィルムが特
に好ましく用いられるが、二軸延伸されたものでもよ
い。このようにして得られたフィルムは特に膜厚に限定
がなく、５〜５００μｍのものが用いられるが、特に膜
厚５〜４０μｍであっても、その上に設けた金属酸窒化
物層にクラックが入りにくく、カールも少ないため好ま
しく、更に適切な透湿度を有するため、偏光板製造時の
接着剤の乾燥性に優れ、偏光子との接着性も良好であっ
た。また本発明のフィルムは膜厚５〜４０μｍであって
も偏光板製造時に皺が入りにくく、偏光子との貼合が容
易であった。

【００３８】本発明に用いられるポリエステルの製造に
用いられる芳香族ジカルボン酸としては前記テレフタル
酸のほか、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボ
ン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸などがあり、ま
たこれらの低級アルキルエステル（無水物、低級アルキ
ルエステル等のエステル形成可能な誘導体）を使用する
ことができる。グリコールとしてはエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ブタンジオール、ネオペン
チルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノー
ル、ジエチレングリコール、ｐ−キシリレングリコール
などがある。中でもテレフタル酸とエチレングリコール
の反応により得られたポリエチレンテレフタレートを主
成分とすることが好ましい。

【００３９】主成分がポリエチレンテレフタレートであ
るとは、ポリエチレンテレフタレートの繰返し単位が８
０モル％以上の共重合体、あるいはブレンドされている
場合は、ポリエチレンテレフタレートを８０質量％以上
含有していることをいう。

【００４０】本発明において用いられる、ポリエステル
中にスルホン酸基を含有させるために用いられるスルホ
ン酸およびその塩から選ばれる基を有する芳香族ジカル
ボン酸としては、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、
２−ナトリウムスルホイソフタル酸、４−ナトリウムス
ルホイソフタル酸、４−ナトリウムスルホ−２，６−ナ
フタレンジカルボン酸、４−ナトリウムスルホ−２，７
−ナフタレンジカルボン酸、２−ナトリウムスルホテレ
フタル酸、４−ナトリウムスルホフタル酸、４−ナトリ
ウムスルホ−１，５−ナフタレンジカルボン酸もしくは
そのエステル形成性誘導体、およびこれらのナトリウム
を他の金属（例えば、カリウム、リチウムなど）で置換
した化合物が用いられる。

【００４１】また、グリコール中にスルホン酸およびそ
の塩から選ばれる基を導入したものを用いてもよいが、
ポリエステル中にスルホン酸基を含有させるために好ま
しい化合物として好ましいのは、前記スルホン酸基また
はその塩を有する芳香族ジカルボン酸である。

【００４２】これらのスルホン酸基またはその塩を有す
る芳香族ジカルボン酸成分が製造時に用いられる全芳香
族ジカルボン酸の１０モル％を越えると延伸性が劣った
り、機械的強度が劣ったものとなる場合があり、また１
モル％未満では、所定の平衡含水率が得られない場合が
ある。

【００４３】更に、本発明に用いられるポリエステル
は、ポリアルキレングリコールを共重合成分として含有
することが好ましく、前述したように、ポリエステルが
反応生成物のポリエステル全量に対してポリアルキレン
グリコールを０．１〜１０質量％用い製造されることが
好ましい。また、更に好ましくは０．２〜８質量％であ
る。ポリアルキレングリコールが０．１質量％未満では
所定の平衡含水率が得られない場合があり、１０質量％
を越えるとヤング率が低下し、機械的強度に劣ったもの
となる場合がある。

【００４４】ポリアルキレングリコールとしては、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ
テトラメチレングリコールなどが用いられるが、このう
ちポリエチレングリコールが好ましく、分子量（数平均
分子量）としては特に限定されないが３００〜２０００
０が好ましく、更に好ましくは６００〜１００００、特
に１０００〜５０００のものが好ましく用いられる。こ
れらの分子量はＧＰＣを用いることにより測定できる。

【００４５】本発明の光学フィルムに用いられるポリエ
ステルには、本発明の効果を阻害しない範囲で、更に他
の成分が共重合されていてもよいし、他のポリマーがブ
レンドされていてもよい。

【００４６】上記以外の他の芳香族ジカルボン酸又はそ
の誘導体として、２，７−ナフタレンジカルボン酸、
１，５−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボ
ン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸などの芳香族ジ
カルボン酸及びその低級アルキルエステル（無水物、低
級アルキルエステル等のエステル形成可能な誘導体）を
用いることができる。また製造の際、シクロプロパンジ
カルボン酸、シクロブタンジカルボン酸及びヘキサヒド
ロテレフタル酸などの脂環式ジカルボン酸及びその誘導
体（無水物、低級アルキルエステル等のエステル形成可
能な誘導体）、アジピン酸、コハク酸、シュウ酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸及びダイマー酸などの脂肪族ジカ
ルボン酸及びその誘導体（無水物、低級アルキルエステ
ルなどのエステル形成可能な誘導体）を全ジカルボン酸
の１０モル％以下の量で使用してもよい。

【００４７】本発明で使用することができるグリコール
としてはエチレングリコールおよび前記のグリコールの
他、トリメチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコ
ール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールＡ、
ｐ，ｐ′−ジヒドロキシフェニルスルフォン、１，４−
ビス（β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ポ
リアルキレン（例、エチレン、プロピレン）グリコー
ル、及びｐ−フェニレンビス（ジメチロールシクロヘキ
サン）などを挙げることができ、これらは用いられるグ
リコールの１０モル％以下の量で使用してもよい。

【００４８】本発明に用いられるポリエステルは、例え
ば安息香酸、ベンゾイル安息香酸、ベンジルオキシ安息
香酸、メトキシポリアルキレングリコールなどの１官能
性化合物によって末端の水酸基および／またはカルボキ
シル基を封鎖したものであってもよく、あるいは、例え
ば極く少量のグリセリン、ペンタエリスリトールの如き
３官能、４官能エステル形成化合物で実質的に線状の共
重合体が得られる範囲内で変性されたものでもよい。

【００４９】また、本発明に用いられるポリエステルに
は、フィルムの耐熱性を向上する目的で、ビスフェノー
ル系化合物、ナフタレン環又はシクロヘキサン環を有す
る化合物を共重合することができる。

【００５０】本発明に用いられるポリエステルの固有粘
度（Ｉｎｔｒｉｎｓｉｃ Ｖｉｓｃｏｓｉｔｙ）は０．
３５〜０．６５の範囲のものが好ましく用いられる。こ
の範囲以下では得られるフィルムの脆弱性が不充分とな
る場合があり、この範囲を超えると、溶融押し出し時に
溶融粘度が大きすぎて平面性が劣化する場合がある。

【００５１】固有粘度の算出はウベローデ型粘度計を用
いて行った。質量比が約５５：４５（流下時間４２．０
±０．１秒に調整）であるフェノールと１，１，２，２
−テトラクロロエタンとの混合溶媒を用い、これにサン
プルを溶かして濃度０．２、０．６、１．０（ｇ／ｄ
ｌ）の溶液（温度２０℃）を調製する。ウベローデ型粘
度計によって、それぞれの濃度（Ｃ）における比粘度
（ηｓｐ）を求め、式［ηｓｐ／Ｃ］を濃度零（Ｃ→
０）に補外し固有粘度［η］を求めた。固有粘度［η］
の単位はｄｌ／ｇである。

【００５２】また、本発明に用いられるポリエステルは
ガラス転移温度（Ｔｇ）が５５℃以上であることが好ま
しく、更に６０℃以上であることが好ましい。５５℃未
満では得られたフィルムの高温高湿下での寸法安定性に
劣る場合がある。Ｔｇは示差走査熱量計で測定するとこ
ろのベースラインが偏奇し始める温度と、新たにベース
ラインに戻る温度との平均値として求められたものであ
る。

【００５３】本発明に用いられるポリエステルには、酸
化防止剤が含有されていてもよい。特に、ポリエステル
がポリオキシアルキレン基を有する化合物を含む場合に
効果が顕著となる。含有させる酸化防止剤はその種類に
つき特に限定はなく、各種の酸化防止剤を使用すること
ができるが、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、
ホスファイト系化合物、チオエーテル系化合物等の酸化
防止剤を挙げることができる。中でも透明性の点でヒン
ダードフェノール系化合物の酸化防止剤が好ましい。酸
化防止剤の含有量は、通常、ポリエステルに対して０．
０１〜２質量％、好ましくは０．１〜０．５質量％であ
る。

【００５４】本発明で用いられるポリエステルフィルム
には、必要に応じて易滑性を付与することもできる。易
滑性付与手段としては、特に限定はないが、ポリエステ
ルに不活性無機粒子を添加する外部粒子添加方法、ポリ
エステルの合成時に添加する触媒を析出させる内部粒子
析出方法、或いは界面活性剤等をフィルム表面に塗布す
る方法等が一般的である。

【００５５】本発明のポリエステルフィルムには、必要
に応じて紫外線吸収剤を添加することもできる。

【００５６】紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以
下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観
点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないも
のが好ましく用いられる。

【００５７】本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例
としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベン
ゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合
物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化
合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物、ベ
ンゾエート系化合物、トリアジン系化合物などが挙げら
れる。又、特開平６−１４８４３０号記載の高分子紫外
線吸収剤、特願２０００−２１４１３４号の高分子紫外
線吸収剤も好ましく用いられる。

【００５８】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は下記一般式〔１〕で示される化合物が好ましく用いら
れる。

【００５９】

【化１】

【００６０】式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びＲ₅は同一
でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくは
ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員の
複素環基を表し、Ｒ₄とＲ₅は閉環して５〜６員の炭素環
を形成してもよい。

【００６１】また、上記記載のこれらの基は、任意の置
換基を有していてよい。以下に一般式〔１〕で示される
紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、これらに限定されな
い。

【００６２】ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′
−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾール ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，
４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）
−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェノール） ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェ
ノール（ＴＩＮＵＶＩＮ １７１、Ｃｉｂａ製） ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチル
ヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵ
ＶＩＮ １０９、Ｃｉｂａ製） また本発明において、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤と
しては下記一般式〔２〕で表される化合物が好ましく用
いられる。

【００６３】

【化２】

【００６４】式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子または
アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、及びフェニ
ル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフ
ェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、
アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキ
ル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基又
は−ＣＯ（ＮＨ）_n-1−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、
アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基
を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。

【００６５】上記において、アルキル基としては、例え
ば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表
し、アルコキシ基としては、例えば、炭素数１８までの
アルコキシ基で、アルケニル基としては、例えば、炭素
数１６までのアルケニル基で、例えばアリル基、２−ブ
テニル基などを表す。又、アルキル基、アルケニル基、
フェニル基へ置換してもよい置換基としてはハロゲン原
子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子など、ヒ
ドロキシル基、フェニル基、（このフェニル基にはアル
キル基又はハロゲン原子などを置換していてもよい）な
どが挙げられる。

【００６６】以下に一般式〔２〕で表されるベンゾフェ
ノン系化合物の具体例を示すが、これらに限定されな
い。

【００６７】ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノン ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スル
ホベンゾフェノン ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５
−ベンゾイルフェニルメタン） 市販されているものとしては、ＴＩＮＵＶＩＮ Ｐ、Ｔ
ＩＮＵＶＩＮ ３２４、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２０、ＴＩ
ＮＵＶＩＮ ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２７、ＴＩＮ
ＵＶＩＮ ３２８、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２９、ＴＩＮＵ
ＶＩＮ ７７０、ＴＩＮＵＶＩＮ ７８０、ＴＩＮＵＶ
ＩＮ １４４、ＴＩＮＵＶＩＮ １２０、ＵＶＩＴＥＸ
ＯＢ（日本チバガイギー（株）製）等から適宜選択し
て使用することもできる。

【００６８】本発明で好ましく用いられる上記記載の紫
外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化
を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着
色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特
に好ましく用いられる。また、本発明に用いられるポリ
エステルフィルムには蛍光増白剤を含有することができ
る。

【００６９】蛍光増白剤は通常市販されているもの、あ
るいは新規部室の中から耐光性に基づいて任意に選択す
ることができる。例えば、特開２００２−５３８２４の
段落番号［００２９］〜［００３４］に記載のものが挙
げられる。一般に蛍光増白剤は約３２０〜約４１０ｎｍ
の波長の光を吸収して、約４１０〜約５００ｎｍの波長
の光を放射する性質を有する化合物よりなる。これらの
蛍光増白剤で染められた織物は本来の黄色い反射光のほ
かに、新たに蛍光増白剤により発光される約４１０〜約
５００ｎｍの波長の青色光が付加されるため反射光は白
色になり、且つ、蛍光効果による分だけ可視光のエネル
ギーが増加するため、結果として増白されたことにな
る。

【００７０】蛍光増白剤としては、更に下記一般式
〔３〕のものが挙げられる。

【００７１】

【化３】

【００７２】式中、Ｒ₁およびＲ₄は水素原子、アルキル
基またはアルコキシ基を表し、Ｒ₂およびＲ₃はアルキル
基を表す。［Ａ］は置換アリール基または置換エテニル
基を表す。一般式〔３〕で表される化合物は、好ましく
は下記一般式〔４〕で表される化合物である。

【００７３】

【化４】

【００７４】式中、Ｒ₅およびＲ₇は前記Ｒ₂と同義の基
であり、Ｒ₆およびＲ₈は前記Ｒ₃と同義である。ｎは１
または２の整数を表す。これらの化合物は特開平１１−
２９５５６号記載の方法で合成することができる。一般
式〔４〕で表される化合物の具体例は、特開２００２−
５３８２４の段落番号［００５０］〜［００６０］に記
載されている。

【００７５】これらの蛍光増白剤はクリアハードコート
層、支持体、バインダー層のいずれに添加してもよく、
２種以上併用することもできる。添加量は層の厚さ、蛍
光増白剤の性質、紫外線吸収剤の有無、性質、添加量に
よって変化するので一義的には決められない。一般的に
は暑さ５０μｍの層であれば０．１〜３０質量％、好ま
しくは４〜１５質量％で十分である。

【００７６】本発明に用いるポリエステルの合成方法
は、特に限定があるわけではなく、前述したように従来
公知のポリエステルの製造方法に従って製造できる。例
えば、ジカルボン酸成分をジオール成分と直接エステル
化反応させる直接エステル化法、初めにジカルボン酸成
分としてジアルキルエステルを用いて、これとジオール
成分とでエステル交換反応させ、これを減圧下で加熱し
て余剰のジオール成分を除去することにより重合させる
エステル交換法を用いることができる。この際、必要に
応じてエステル交換触媒或いは重合反応触媒を用い、或
いは耐熱安定剤を添加することができる。この際、共重
合成分である金属スルホネート基を有する芳香族ジカル
ボン酸類やポリエチレングリコールをエステル交換反応
後に添加し、重縮合を行うことが好ましい。また、合成
時の各過程で着色防止剤、酸化防止剤、結晶核剤、すべ
り剤、安定剤、ブロッキング防止剤、紫外線吸収剤、蛍
光増白剤、粘度調節剤、消泡剤、透明化剤、帯電防止
剤、ｐＨ調整剤、染料、顔料等を添加させてもよい。

【００７７】次に、本発明の光学フィルムに用いられる
ポリエステルフィルムの製造方法について説明する。

【００７８】本発明で用いられるポリエステルフィルム
は延伸倍率１．０〜１０．０に二軸延伸されたものが用
いられ、特に実質的に一軸延伸されたものが好ましく用
いられる。実質的に一軸延伸したポリエステルフィルム
とは、二軸延伸製膜において、主にどちらか一方向のみ
に延伸を行うことで得られる。即ち、本発明において、
ポリエステルフィルムは一方向の延伸倍率が１．００〜
２．５倍、それと直交する方向の延伸倍率が２．５〜１
０倍に二軸延伸製膜されたポリエステルフィルムである
ことが好ましく、より好ましくは、縦方向の延伸倍率が
１．０〜２．０倍、横方向の延伸倍率が２．５〜７倍に
二軸延伸製膜されたポリエステルフィルムであり、更に
好ましくは縦方向の延伸倍率が１．１〜１．８倍、横方
向の延伸倍率が３．０〜６．０倍に二軸延伸製膜された
ポリエステルフィルムである。一方向の延伸倍率を大き
くすることが好ましく、延伸倍率の比（縦横いずれかの
高い方の延伸倍率／縦横いずれかの低い方の延伸倍率）
は２以上であることが好ましく、更に４以上であること
が好ましく、６以上であることが好ましい。又、未延伸
のものに対して延伸後の面積比て４倍以上に延伸されて
いることが好ましく、更に好ましくは５〜７倍に延伸さ
れていることが好ましい。

【００７９】上記ポリエステルフィルムを得るには、従
来公知の方法で行うことができ、特に限定されないが、
以下の様な方法で行うことができる。この場合、縦方向
とは、フィルムの製膜方向（長手方向）を、横方向とは
フィルムの製膜方向と直角方向（幅手方向）のことをい
う。

【００８０】先ず、原料のポリエステルをペレット状に
成型し、熱風乾燥又は真空乾燥した後、溶融押出し、Ｔ
ダイよりシート状に押出して、静電印加法等により冷却
ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸シートを得
る。次いで、得られた未延伸シートを複数のロール群及
び／又は赤外線ヒーター等の加熱装置を介してポリエス
テルのガラス転移温度（Ｔｇ）からＴｇ＋１００℃の範
囲内に加熱し、一段又は多段縦延伸する方法である。

【００８１】次に、上記のようにして得られた縦方向に
延伸されたポリエステルフィルムを、Ｔｇ〜Ｔｍ（融
点）−２０℃の温度範囲内で、横延伸し次いで熱固定す
る。

【００８２】横延伸する場合、２つ以上に分割された延
伸領域で温度差を１〜５０℃の範囲で順次昇温しながら
横延伸すると巾方向の物性の分布が低減でき好ましい。
更に横延伸後、フィルムをその最終横延伸温度以下でＴ
ｇ−４０℃以上の範囲に０．０１〜５分間保持すると巾
方向の物性の分布が更に低減でき好ましい。

【００８３】熱固定は、その最終横延伸温度より高温
で、Ｔｍ−２０℃以下の温度範囲内で通常０．５〜３０
０秒間熱固定する。この際、２つ以上に分割された領域
で温度差を１〜１００℃の範囲で順次昇温しながら熱固
定することが好ましい。

【００８４】熱固定されたフィルムは通常Ｔｇ以下まで
冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし
巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ以上
の温度範囲内で、横方向及び／又は縦方向に０．１〜１
０％弛緩処理することが好ましい。また冷却は、最終熱
固定温度からＴｇまでを、毎秒１００℃以下の冷却速度
で徐冷することが好ましい。冷却、弛緩処理する手段は
特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数
の温度領域で順次冷却しながら、これらの処理を行うこ
とが、フィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。尚、
冷却速度は、最終熱固定温度をＴ１、フィルムが最終熱
固定温度からＴｇに達するまでの時間をｔとしたとき、
（Ｔ１−Ｔｇ）／ｔで求めた値である。

【００８５】これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件の
より最適な条件は、フィルムを構成するポリエステルに
より異なるので、得られた延伸フィルムの物性を測定
し、好ましい特性を有するように適宜調整して決定すれ
ばよい。

【００８６】また、上記フィルム製造に際し、延伸の前
及び／又は後で帯電防止層、易滑性層、接着層、バリア
ー層等の機能性層を塗設してもよい。この際、コロナ放
電処理、大気圧プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処
理を必要に応じて施すことができる。

【００８７】カットされたフィルム両端のクリップ把持
部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処
理や解重合・再重合等の処理を行った後、同じ品種のフ
ィルム用原料として又は異なる品種のフィルム用原料と
して再利用してもよい。

【００８８】本発明において、上記のようにして製膜さ
れたポリエステルフィルムの面方向においての屈折率
は、横方向の屈折率（ｎ_TD）と縦方向の屈折率（ｎ_MD）
との差の絶対値｜ｎ_TD−ｎ_MD｜が０．０５以下であるこ
とが好ましく、より好ましくは０．０４以下、更に好ま
しくは０．０２５以下である。

【００８９】本発明で用いられるポリエステルフィルム
の厚みは、通常３〜５００μｍ、好ましくは５〜１２０
μｍ、更に好ましくは５〜４０μｍ、より好ましくは１
０〜３５μｍである。巻き取り前に幅手両端部に膜厚の
１〜２５％程度の高さのナーリングで、幅０．１〜３ｃ
ｍ程度の加工を施すことが好ましい。

【００９０】本発明ので用いられるポリエステルフィル
ムの面内方向におけるリターデーションＲ₀（ｎｍ）
は、１０００ｎｍ以下であることが好ましく、８００ｎ
ｍ以下であることがより好ましく、５００ｎｍ以下であ
ることが更に好ましい。

【００９１】また、本発明で用いられるポリエステルフ
ィルムは、フィルム面内の屈折率が最大となる方向とフ
ィルムの幅手方向（フィルムの長尺方向）とのなす角度
が０°±１５°もしくは９０°±１５°であることが好
ましく、更に０°±１０°もしくは９０°±１０°であ
ることが好ましく、より好ましくは０°±５°もしくは
９０°±５°であることであり、０°±１°もしくは９
０°±１°であることが更に好ましい。

【００９２】本発明で用いられるポリエステルフィルム
は、上記ポリエステルフィルムからなる単独（単層）の
フィルムでもよいが、本発明の効果を阻害しない範囲
で、上記ポリエステルからなる層を少なくとも１層含
む、複数の樹脂層からなる多層フィルムとしてもよい。
上記ポリエステル層をＡ、その他の樹脂層をＢ及びＣと
すると、例えばＡ／Ｂ、Ａ／Ｂ／Ａ、Ｂ／Ａ／Ｂ、Ｂ／
Ａ／Ｃのように構成できる。もちろん４層以上の構成に
することもできる。この様に多層構成にすることで、例
えば、強度や水バリアー性の高いフィルムをコア層や外
層に積層することにより、複数の機能を同時に付与する
ことができる。

【００９３】上記その他の樹脂層としては、アクリル樹
脂、セルロースエステル樹脂（セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプ
ロピオネート）、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂
等でもよく、あるいは前述のポリエステルなどが好まし
く用いられる。例えば、スルホン酸基含有ポリエステル
層／スルホン酸基を含有しないポリエステル層（例え
ば、ＰＥＴ）／スルホン酸基含有ポリエステル層といっ
た多層構成とすることもできる。

【００９４】また、滑り性を付与するためマット剤等の
微粒子を添加する場合は、最外層のみに添加すれば効果
が得られるので、透明性等を劣化させずに機能付与する
ことが可能となる。

【００９５】添加できる微粒子としては特に限定はされ
ないが、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子
が挙げられる。

【００９６】無機化合物としては、珪素を含む化合物、
二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸
化チタン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオ
リン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、
ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カ
ルシウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む
無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、二酸化珪素が
好ましく用いられる。二酸化珪素の微粒子としては、例
えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ
８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５
０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル（株）製）等の
市販品が使用できる。酸化ジルコニウムの微粒子として
は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、
日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。

【００９７】有機化合物としては、例えば、シリコーン
樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好まし
く、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。上
記記載のシリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構
造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０
３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１
２０及び同２４０（以上、東芝シリコーン（株）製）等
の商品名を有する市販品が使用できる。

【００９８】微粒子の１次平均粒子径としては、ヘイズ
を低く抑えるという観点から、２０ｎｍ以下が好まし
く、更に好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好まし
くは、５〜１２ｎｍである。

【００９９】多層フィルムを製造する方法としては、共
押し出しによる方法、エクストルージョンラミネートに
よる方法、ドライラミネーションによる方法などを好ま
しく用いることができる。

【０１００】本発明において、光学フィルムの表面が導
電性を有することが好ましく、表面比抵抗（２３℃、２
５％ＲＨ）が１×１０¹²Ω／ｃｍ²以下であることが好
ましい。より好ましくは、１×１０¹¹Ω／ｃｍ²以下、
更に好ましくは１×１０¹⁰Ω／ｃｍ²以下である。

【０１０１】本発明においては、吸湿性物質又は導電性
物質を含有させることにより光学フィルムに導電性を付
与することができる。これら導電性を付与させる物質と
しては、例えば、界面活性剤、導電性ポリマー、無機金
属酸化物を挙げることができる。

【０１０２】用いることができる界面活性剤としては、
アニオン性、カチオン性、両性及びノニオン性のいずれ
でもよい。アニオン性界面活性剤としては、例えば、ア
ルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキ
ルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフ
ォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エ
ステル類、Ｎ−アシル−Ｎ−アルキルタウリン酸、スル
ホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルリン酸エステル類等の様なカルボキシ基、スル
ホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の
酸性基を含むものが好ましい。

【０１０３】カチオン性界面活性剤としては、例えば、
アルキルアミン塩類、脂肪族或いは芳香族第４級アンモ
ニウム塩類、ピリジニウム、イミダゾリウム等の複素環
第４アンモニウム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホ
スホニウム又はスルホニウム塩類等が好ましい。

【０１０４】両性界面活性剤としては、例えば、アミノ
酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫
酸又は燐酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオ
キシド類等が好ましい。

【０１０５】ノニオン性界面活性剤としては、例えば、
サポニン（ステロイド系）、アルキレンオキサイド誘導
体（例えば、ポリエチレングリコール、ポリエチレング
リコール／ポリプロピレングリコール縮合物、ポリエチ
レングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレング
リコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレング
リコールエステル類、ポリエチレングリコールソルビタ
ンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキルアミ
ン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサイド
付加物類）、グリシドール誘導体（例えば、アルケニル
コハク酸ポリセリド、アルキルフェノールポリグリセリ
ド）、多価アルコール脂肪酸エステル類等のアルキルエ
ステル類等が好ましい。

【０１０６】導電性ポリマーは特に限定されず、アニオ
ン性、カチオン性、両性及びノニオン性のいずれでもよ
いが、その中でも好ましいのは、アニオン性、カチオン
性である。より好ましいのは、アニオン性では、スルホ
ン酸系、カルボン酸系、カチオン性では、３級アミン
系、４級アンモニウム系のポリマー又はラテックスであ
る。

【０１０７】これらの導電性ポリマーは、例えば、特公
昭５２−２５２５１号、特開昭５１−２９９２３号、特
公昭６０−４８０２４号記載のアニオン性ポリマー又は
ラテックス、特公昭５７−１８１７６号、同５７−５６
０５９号、同５８−５６８５６号、米国特許第４，１１
８，２３１号等に記載のカチオン性ポリマー又はラテッ
クスを挙げることができる。

【０１０８】例えば、特開２０００−３３７２０に記載
のプラズマ処理で帯電防止層あるいは導電層を設けるこ
ともできる。

【０１０９】本発明の光学フィルムは、偏光子の少なく
とも１面に張り合わせることで偏光板を構成することも
できる。偏光子の他の面は、公知の偏光板保護フィルム
（セルロースフィルム、例えばコニカタックＫＣ８ＵＸ
２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ）を張り合わせてもよいし、
本発明の光学フィルムを張り合わせてもよい。本発明の
光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いると、従
来のポリエステルフィルムでは巻き癖が取れず、偏光板
とした後もカールが残ってしまったり、強い巻き癖に起
因して接着部が剥離しやすいといった問題があったが、
本発明の光学フィルムは巻き癖が容易に解消するため、
特に偏光板保護フィルムに適している。特に偏光子と貼
合する前あるいは後に水あるいは水溶液に浸すあるいは
蒸気をあてる等によって容易に巻き癖を解消することが
でき、平面性に優れた偏光板を提供することができる。
又、従来のポリエステルと比較して本発明の光学フィル
ムは吸湿膨張係数がトリアセチルセルロースに近いた
め、偏光子の一方にトリアセチルセルロース等のセルロ
ースエステル系偏光板保護フィルム、もう一方に本発明
の光学フィルムを用いたハイブリット偏光板であって
も、吸湿等によって液晶表示装置に張り付けた偏光板が
剥離したり皺が発生しにくく、優れている。

【０１１０】本発明の光学フィルムと偏光子を貼り合わ
せるのに使用される接着剤としては、十分な接着性を持
ち、透明で、偏光機能を阻害しないものが好ましく用い
られ、例えば、ポリエステル系接着剤、ポリアクリル系
接着剤、エポキシ系接着剤、シアノアクリレート系接着
剤、ポリウレタン系接着剤、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤
などが挙げられる。

【０１１１】接着性向上のため、コロナ放電処理、グロ
ー放電処理、紫外線処理、火炎処理、大気圧ガス中放電
プラズマ処理、薬液処理などの各種表面処理を必要に応
じて施すことができる。更に接着性向上の為、下引層を
塗設してもよい。下引層としては偏光子との接着性に優
れる親水性コロイド層が特に好ましい。

【０１１２】例えば、偏光板保護フィルムとして偏光子
との接着性を向上させるために特開２０００−３５６７
１４の方法等でプラズマ処理を行うことによって、ポリ
ビニルアルコール系接着剤等を用いた場合の接着性を更
に向上させることができる。

【０１１３】本発明の光学フィルムは、ポリエステルフ
ィルム上に直接又は他の層を介して金属酸窒化物層を形
成することを特徴としているが、樹脂硬化層あるいは他
の層を介して形成することがより好ましい。上記のよう
にして得られたポリエステルフィルム上には、熱硬化樹
脂層あるいは活性線硬化樹脂層を形成することが好まし
く、特に紫外線硬化樹脂層を設けることが好ましい。

【０１１４】樹脂硬化層は、種々の機能を有していても
よく、例えば、防眩層やクリアハードコート層であって
もよい。樹脂硬化層はエチレン性不飽和結合を有するモ
ノマーを１種以上含む成分を重合させて形成した層であ
ることが好ましい。エチレン性不飽和結合を有するモノ
マーを含む成分を重合させて形成した樹脂層としては、
活性線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂を硬化させて形成さ
れた層が好ましく用いられるが、特に好ましく用いられ
るのは活性線硬化樹脂層である。ここで、活性線硬化樹
脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋
反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をい
う。

【０１１５】活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂
や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられ
るが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化す
る樹脂でもよい。

【０１１６】紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外
線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエ
ステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアク
リレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート
系樹脂または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げること
ができる。

【０１１７】具体例としては、例えば、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパン
テトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変
性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げ
ることができる。

【０１１８】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂とし
ては、一般にポリエステルポリオールにイソシアネート
モノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた
生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートに
はメタクリレートを包含するものとしてアクリレートの
みを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート
等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応さ
せる容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭
５９−１５１１１０号に記載のものを用いることができ
る。

【０１１９】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレ
ート系のモノマーを反応させる容易に形成されるものを
挙げることができ、特開昭５９−１５１１１２号に記載
のものを用いることができる。

【０１２０】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマー
とし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反
応させて生成するものを挙げることができ、特開平１−
１０５７３８号に記載のものを用いることができる。

【０１２１】これらの光反応開始剤としては、具体的に
は、ベンゾイン及び誘導体、アセトフェノン、ベンゾフ
ェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケト
ン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及び
これらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に
使用してもよい。

【０１２２】上記光反応開始剤も光増感剤としても使用
できる。また、エポキシアクリレート系の光反応剤の使
用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−
ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができ
る。

【０１２３】樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二
重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルア
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニ
ル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができ
る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとし
て、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−
シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシ
ルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリルエステル等を挙げることができる。

【０１２４】本発明において使用し得る市販品の紫外線
硬化樹脂としては、アデカオプトマーＫＲ・ＢＹシリー
ズ：ＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ
−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（旭電化
（株）製）；コーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１
０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０
１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０
２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ
２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（広栄化学（株）
製）；セイカビームＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣ Ｘ
−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−
２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２０
０、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６０
０、ＳＣＲ９００（大日精化工業（株）製）；ＫＲＭ７
０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１
３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９
２０２（ダイセル・ユーシービー（株）製）；ＲＣ−５
０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０
３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２
０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７
１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（大日本インキ化
学工業（株）製）；オーレックスＮｏ．３４０クリヤ
（中国塗料（株）製）；サンラッドＨ−６０１（三洋化
成工業（株）製）；ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７
（昭和高分子（株）製）；ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・
ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−
８０３０、Ｍ−８０６０（東亞合成（株）製）等を適宜
選択して利用できる。

【０１２５】これらの活性線硬化樹脂層は公知の方法で
塗設することができる。紫外線硬化性樹脂を光硬化反応
により硬化させるための光源としては、紫外線を発生す
る光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀
灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボン
アーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を
用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによ
って異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ
²程度あればよく、好ましくは、５０〜２０００ｍＪ／
ｃｍ²である。近紫外線領域〜可視光線領域にかけては
その領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって
効率よく形成することができる。

【０１２６】紫外線硬化樹脂層組成物塗布液の有機溶媒
としては、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン
類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の有機
溶媒の中から適宜選択し、あるいはこれらを混合し利用
できる。例えば、プロピレングリコールモノアルキルエ
ーテル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）または
プロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステ
ル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）等を５質量
％以上、より好ましくは５〜８０質量％以上含有する上
記有機溶媒を用いるのが好ましい。

【０１２７】紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法
としては、前述のものを用いることができる。塗布量は
ウェット膜厚として０．１〜３０μｍが適当で、好まし
くは、０．５〜１５μｍである。紫外線硬化性樹脂組成
物は塗布乾燥中または後に、紫外線を照射するのがよ
く、照射時間としては０．５秒〜５分が好ましく、紫外
線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から３秒
〜２分がより好ましい。

【０１２８】硬化樹脂層塗布液には、ブロッキングを防
止するために、また対擦り傷性等を高めるために、無機
化合物あるいは有機化合物の微粒子を加えることもで
き、それらの種類としては、前述のマット剤の微粒子と
ほぼ同様である。これらの微粒子粉末の平均粒径として
は、０．００５μｍ〜５μｍが好ましく０．０１〜１μ
ｍであることが特に好ましい。紫外線硬化樹脂組成物と
微粒子粉末との割合は、該樹脂組成物１００質量部に対
して、０．１〜２０質量部であることが好ましい。

【０１２９】紫外線硬化樹脂層はＪＩＳ−Ｂ−０６０１
で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）が１〜５０ｎｍの
クリアハードコート層であっても、Ｒａが０．１〜１μ
ｍの防眩層であってもよい。また、紫外線硬化樹脂層の
屈折率は１．５〜１．７、好ましくは１．５２〜１．６
５であることが好ましい。

【０１３０】本発明では、これらの層の上にプラズマ放
電処理によって膜厚ムラが著しく改善された金属酸窒化
物薄膜層を形成することができる。

【０１３１】本発明では金属酸窒化物薄膜層を設ける方
法は特に限定されず、塗布、スパッタ、蒸着、ＣＶＤ法
によって形成することができるが、特にＣＶＤ中でもプ
ラズマＣＶＤによって形成されたものであることが好ま
しい。

【０１３２】本発明の金属酸窒化物層を形成する方法と
しての大気圧もしくはその近傍の圧力下のプラズマ放電
処理は、下記のごときプラズマ放電処理装置を用いるこ
とによって行われる。

【０１３３】図１は、本発明の金属酸窒化物薄膜層を形
成するのに用いられるプラズマ放電処理装置の一例を示
す図である。

【０１３４】図１においては、この装置は一対の回転電
極１０Ａと１０Ｂを有し、回転電極１０Ａと１０Ｂに
は、プラズマ放電を発生させるための電圧を印加できる
電源８０が電圧供給手段８１、８２を介して接続されて
いる。

【０１３５】回転電極１０Ａと１０Ｂはポリエステルフ
ィルムを巻き回しながら搬送するもので、ロール電極も
しくはベルト状の電極であることが好ましく、図１では
ロール電極を示している。

【０１３６】これらの回転電極間の間隙（電極間隙）は
放電が行われる場所であり、ポリエステルフィルムＦが
搬送できる間隔に設定されいる。この電極間の間隙が放
電部５０となる。

【０１３７】この電極間隙は大気圧もしくは大気圧近傍
の圧力下に維持されており、ここに反応ガス供給部３０
より反応ガスＧが幅手方向に均一に供給され、ポリエス
テルフィルムＦ表面がプラズマ放電処理される。

【０１３８】ここで、元巻きロールから巻き出されたポ
リエステルフィルムＦまたは前工程から搬送されてくる
ポリエステルフィルムＦがガイドロール２０を経て、ま
ず、移送方向に回転する回転電極１０Ａに接しながら移
送され、放電部５０を通過して、ポリエステルフィルム
Ｆの表面に薄膜が形成される。

【０１３９】一旦放電部５０から出たポリエステルフィ
ルムＦは、Ｕターンロール１１Ａ〜１１ＤでＵターンさ
れて、今度は、ポリエステルフィルムＦは回転電極１０
Ａと反対方向に回転している回転電極１０Ｂに接しなが
ら移送され、再び前記放電部５０を通過して、先ほど薄
膜が形成されたポリエステルフィルムＦの表面に更にプ
ラズマ放電処理され薄膜が形成される。Ｕターンは通常
０．１秒〜１分程度で行なわれる。

【０１４０】処理に使用された反応ガスＧはガス排出口
４０より反応後の排ガスＧ′として排出される。排ガス
Ｇ′に含まれるパーティクルや分解生成物はフィルター
や活性炭処理により取り除かれ、希ガスは回収再利用す
ることもできる。

【０１４１】図ではポリエステルフィルムＦ上に形成さ
れた薄膜は省略してある。表面に薄膜が形成されたポリ
エステルフィルムＦは、ガイドローラ２１を介して次工
程または巻き取りロール（図示してない）方向に搬送さ
れる。

【０１４２】従って、ポリエステルフィルムＦは回転電
極１０Ａ、１０Ｂに密着した状態で放電部５０を往復し
てプラズマ放電処理されることとなる。

【０１４３】なお、図示してないが、回転電極１０Ａと
１０Ｂ、ガイドロール２０、２１、Ｕターンロール１１
Ａ−１１Ｄ、反応ガス供給部３０、ガス排出口４０等の
装置は外界と遮断するプラズマ放電処理容器内に囲まれ
て納められていることが好ましい。

【０１４４】また、図示してないが、必要に応じて、回
転電極１０Ａ、と１０Ｂの温度制御をするための温度制
御用媒体が循環され、各々の電極表面温度を所定の値に
制御するようになっている。通常、常温〜２００℃、好
ましくは５０〜１２０℃に制御されることが好ましく、
特に６０〜１００℃に制御されることが好ましい。電極
表面温度の変動や幅手ムラは±１℃以内であることが好
ましく、特に±０．１℃以内であることが好ましい。

【０１４５】図２は本発明の金属酸窒化物薄膜層を形成
するのに有用な回転電極と固定電極を有するプラズマ放
電処理装置の一例を示す図である。

【０１４６】回転電極１１０とそれに対向して配置され
た複数の固定電極１１１を有し、図示されていない元巻
きロールまたは前工程からから搬送されて来るポリエス
テルフィルムＦがガイドロール１２０、ニップロール１
２２を経て回転電極１１０に導かれ、ポリエステルフィ
ルムＦは回転電極１１０に接した状態で回転電極１１０
の回転と同期しながら移送され、大気圧もしくはその近
傍の圧力下にある放電部１５０に反応ガス発生装置１３
１で調製された反応ガスＧが給気管１３０から供給さ
れ、固定電極１１１に対向しているポリエステルフィル
ム面に薄膜が形成される。

【０１４７】回転電極１１０と固定電極には、プラズマ
放電を発生させるための電圧を印加できる電源１８０が
電圧供給手段１８１、１８２を介して接続されている。

【０１４８】また、回転電極１１０、固定電極１１１、
放電部１５０はプラズマ放電処理容器１９０で覆われ、
外界と遮断されている。処理された排ガスＧ′は処理室
の下部にあるガス排気口１４０から排出される。

【０１４９】プラズマ放電処理されたポリエステルフィ
ルムＦはニップロール１２３及びガイドロール１２１を
経て次工程または図示してない巻き取りロールへ搬送さ
れる。

【０１５０】ポリエステルフィルムＦがプラズマ放電処
理容器の出入り部分のニップロール１２２及び１２３の
ところに外界との仕切板１２４及び１２５が設けられて
おり、外界からニップロール１２２と共にポリエステル
フィルムＦに同伴して来る空気を遮断し、また出口にお
いては、反応ガスＧまたは排ガスＧ′が外界に漏れない
ようになっている。なお、図示してないが、必要に応じ
て、回転電極１１０及び固定電極１１１は温度調節のた
めの温度制御された媒体を循環するようになっており、
図１の回転電極１０Ａ、１０Ｂと同様に温度制御するこ
とができる。

【０１５１】このように、本発明において、薄膜が形成
されるポリエステルフィルムは回転電極上で移送しなが
らプラズマ放電処理されるのが好ましい。

【０１５２】回転電極がポリエステルフィルムと接する
表面は高い平滑性が求められ、回転電極の表面の表面粗
さがＪＩＳ−Ｂ−０６０１で規定される表面粗さの最大
高さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下であることが好まし
く、より好ましくは８μｍ以下であり、特に好ましく
は、７μｍ以下である。また、回転電極上のゴミ、異
物、パーティクル等は形成する薄膜の欠陥の原因となる
ため、粘着ロール、ブラシ、エアブロア等によって除去
することが望まれる。

【０１５３】用いられる電極の表面は固体誘電体で被覆
されていることが望ましく、特に金属等の導電性母材に
対し固体誘電体で被覆されていることが望ましい。固体
誘電体としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエ
チレンテレフタレート等のプラスティック、ガラス、二
酸化珪素、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）、酸化ジルコ
ニウム（ＺｒＯ₂）、酸化チタン（ＴｉＯ₂）等の金属酸
化物、チタン酸バリウム等の複酸化物等を挙げることが
できる。

【０１５４】特に好ましくは、セラミックスを溶射後、
無機材料を用いて封孔処理したセラミック被覆処理誘電
体であることが望ましい。ここで、金属等の導電性母材
としては、銀、白金、ステンレス、アルミニウム、鉄、
チタン、チタン合金等の金属等を挙げることができる
が、加工の観点からステンレスが好ましい。

【０１５５】また、ライニング材としては、ケイ酸塩系
ガラス、ホウ酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ゲルマ
ン酸塩系ガラス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩ガ
ラス、バナジン酸塩ガラス等が好ましく用いられるが、
この中でもホウ酸塩系ガラスが加工し易いので、更に好
ましく用いられる。

【０１５６】本発明において、電極はその裏面側（内
側）から、必要に応じて、加熱あるいは冷却することが
できるようになっている。電極がベルトの場合には、そ
の裏面より気体で冷却することもできるが、ロールを用
いた回転電極では内部に媒体を供給して電極表面の温度
及びポリエステルフィルムの温度を制御することが好ま
しい。

【０１５７】媒体としては、蒸留水、油特にシリコンオ
イル等の絶縁性材料が好ましく用いられる。

【０１５８】放電処理の際のポリエステルフィルムの温
度は処理条件によって異なるが、室温〜２００℃以下が
好ましく、より好ましくは５０〜１２０℃以下であり、
更に好ましくは６０〜１１０℃である。

【０１５９】放電処理の際にポリエステルフィルム面の
特に幅手方向で温度ムラが生じないようにすることが望
ましく、±５℃以内とすることが好ましく、より好まし
くは±１℃以内であり、特に好ましくは±０．１℃以内
である。

【０１６０】本発明において、電極間隙は固体誘電体の
厚さ、印加電圧や周波数、プラズマを利用する目的等を
考慮して決定される。上記電極の一方に固体誘電体を設
置した場合の固体誘電体と電極の最短距離、上記電極の
双方に固体誘電体を設置した場合の固体誘電体同士の距
離としては、いずれの場合も均一な放電プラズマを発生
させるという観点から０．５〜２０ｍｍが好ましく、特
に好ましくは１±０．５ｍｍである。

【０１６１】本発明において、電極間隙の放電部には、
ガス発生装置で発生させた混合ガスを流量制御して、反
応ガス供給口よりプラズマ放電部に導入される。反応ガ
スの濃度や流量は適宜調整されるが、ポリエステルフィ
ルムの搬送速度に対して十分な速度で処理用ガスを電極
間隙に供給することが好ましい。例えば、幅手方向１ｃ
ｍあたり０．１〜２００Ｌ／ｍｉｎの流量で反応ガスを
供給することが好ましい。放電部では供給した反応ガス
のほとんどが反応して薄膜形成に使われるように流量や
放電条件が設定するのが望ましい。

【０１６２】放電部に大気が混入したり、反応ガスが装
置外に漏れ出ることを防止するために、電極及び移送中
のポリエステルフィルムは全体を囲んで外界から遮蔽す
ることが好ましい。本発明において、放電部の気圧は大
気圧もしくはその近傍の圧力に維持される。

【０１６３】ここで大気圧近傍とは、２０〜２００ｋＰ
ａの圧力を表すが、本発明に記載の効果を好ましく得る
ためには、９３〜１１０ｋＰａが好ましい。装置外の大
気圧力に対して、放電部がやや陽圧であることが好まし
くプラズマ装置外の大気圧力＋０．１ｋＰａ〜５ｋＰａ
であることがより好ましい。

【０１６４】本発明に有用なプラズマ放電処理装置で
は、一方の電極は電源に接続して電圧を印加し、もう一
方の電極はアースに接地し放電プラズマを発生させるこ
とが安定したプラズマを発生させるために好ましい。

【０１６５】本発明で用いる高周波電源より電極に印加
する電圧の値は適宜決定されるが、例えば、電圧が０．
５〜１０ｋＶ程度で、印加する周波数は１ｋＨｚ〜１５
０ＭＨｚに調整し、波形をパルス波であってもサイン波
としてもよい。特に周波数を１００ｋＨｚを超えて５０
ＭＨｚ以下とすることが好ましい放電部（放電空間）が
得られるため好ましい。

【０１６６】放電部における放電密度は５〜１０００Ｗ
・ｍｉｎ／ｍ²であることが好ましく、特に５０〜５０
０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²であることが望ましい。

【０１６７】プラズマ放電処理部はパイレックス（Ｒ）
ガラス製の処理容器等で適宜囲まれていることが望まし
く、電極との絶縁がとれれば金属製を用いることも可能
である。例えば、アルミまたは、ステンレスのフレーム
の内面にポリイミド樹脂等を張り付けてもよく、該金属
フレームにセラミックス溶射を行い絶縁性をとってもよ
い。また、放電部や回転電極の側面部、ポリエステルフ
ィルム搬送部等の側面を囲むことによって、反応ガスや
排ガスを適切に放電部に供給したり排気することもでき
る。

【０１６８】本発明の金属酸窒化物薄膜層の形成方法に
用いる反応ガスについて説明する。薄膜層を形成するた
めの反応ガスは、窒素もしくは希ガスを含むことが好ま
しい。つまり、反応ガスは窒素もしくは希ガスと後述の
反応性ガスの混合ガスであることが好ましい。ここで、
希ガスとは、周期表の第１８属元素、具体的には、ヘリ
ウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラド
ン等の各元素を挙げることができるが、本発明において
は、中でもヘリウム元素、アルゴン元素を好ましく用い
ることができる。反応ガス中の希ガスの濃度は９０％以
上であることが安定したプラズマ放電を発生させるため
に好ましく、９０〜９９．９９体積％であることが望ま
しい。希ガスは安定したプラズマ放電を発生させるため
に用いられ、該プラズマ中で反応性ガスはイオン化ある
いはラジカル化され、基材表面に堆積あるいは付着する
などして薄膜が形成される。

【０１６９】本発明では、様々な反応性ガスを用いるこ
とによって、様々な機能を持った薄膜をポリエステルフ
ィルム上に形成することができる。例えば、反応性ガス
として、フッ素含有有機化合物、珪素化合物を用いての
低屈折率層を形成することもでき、反射防止層に利用す
ることができる。

【０１７０】また、有機金属化合物、金属水素化合物、
金属ハロゲン化物を用いて、これらの金属酸化物層（金
属酸化物窒化物層も含む）または金属窒化物層等を形成
することができ、これらの層は反射防止層の中屈折率層
又は高屈折率層としたり、あるいは導電層又は帯電防止
層とすることもできる。特に金属酸化物層が好ましく用
いられる。

【０１７１】また、フッ素含有有機化合物で防汚層や低
屈折率層を形成することもでき、珪素化合物でガスバリ
ア層や低屈折率層、防汚層を形成することもできる。本
発明は、高、中屈折率層と低屈折率層を交互に多層を積
層して形成される反射防止層の形成に特に好ましく用い
られる。

【０１７２】本発明で形成される金属酸窒化物層の膜厚
としては、１〜１０００ｎｍの範囲のものが好ましく得
られる。

【０１７３】大気圧プラズマ処理では原料ガスにフッ素
含有有機化合物を用いることでフッ素化合物含有層を形
成することができる。

【０１７４】フッ素含有有機化合物としては、フッ化炭
素ガス、フッ化炭化水素ガス等が好ましい。具体的に
は、フッ素含有有機化合物としては、例えば、四フッ化
炭素、六フッ化炭素、四フッ化エチレン、六フッ化プロ
ピレン、八フッ化シクロブタン等のフッ化炭素化合物；
二フッ化メタン、四フッ化エタン、四フッ化プロピレ
ン、三フッ化プロピレン、八フッ化シクロブタン等のフ
ッ化炭化水素化合物；更に、一塩化三フッ化メタン、一
塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シクロブタン等の
フッ化炭化水素化合物のハロゲン化物、アルコール、
酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体等を挙げるこ
とができる。これらは単独でも混合して用いてもよい。
上記のフッ化炭化水素ガスとしては、二フッ化メタン、
四フッ化エタン、四フッ化プロピレン、三フッ化プロピ
レン等の各ガスを挙げることができる。更に一塩化三フ
ッ化メタン、一塩化二フッ化メタン、二塩化四フッ化シ
クロブタン等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物や
アルコール、酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体
を用いることができるが、本発明はこれらに限定されな
い。

【０１７５】また、これらの化合物は分子内にエチレン
性不飽和基を有していてもよい。また、上記の化合物は
混合して用いてもよい。

【０１７６】本発明に有用な反応性ガスにフッ素含有有
機化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりポリエ
ステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反
応ガス中の反応性ガスとしてのフッ素含有有機化合物の
含有率は、０．０１〜１０体積％であることが好まし
く、更に好ましくは、０．１〜５体積％である。

【０１７７】また、本発明に好ましく用いられるフッ素
含有有機化合物が常温常圧で気体である場合は、反応性
ガスの成分としてそのまま使用できる。

【０１７８】また、フッ素含有有機化合物が常温常圧で
液体または固体である場合には、気化手段により、例え
ば加熱、減圧等により気化して使用すればよく、適切な
有機溶媒に溶解して用いてもよい。

【０１７９】本発明に有用な反応性ガスとしての珪素化
合物としては、例えば、ジメチルシラン、テトラメチル
シランなどの有機金属化合物、モノシラン、ジシランな
どの金属水素化合物、二塩化シラン、三塩化シラン、四
フッ化珪素などの金属ハロゲン化合物、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラ
ン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシ
シラン、などのアルコキシシラン、オルガノシラン等を
用いることが好ましいがこれらに限定されない。また、
これらは適宜組み合わせて用いることができる。あるい
は別の有機化合物を添加して膜の物性を変化あるいは制
御することもできる。

【０１８０】本発明において、反応性ガスとして珪素化
合物を用いる場合、放電プラズマ放電処理によりポリエ
ステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反
応ガス中の反応性ガスとしての珪素化合物の含有率は、
０．０１〜１０体積％であることが好ましいが、更に好
ましくは、０．１〜５体積％である。

【０１８１】本発明に有用な反応性ガスとしての有機金
属化合物としては、特に限定されないが、Ａｌ、Ａｓ、
Ａｕ、Ｂ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｃａ、Ｃｄ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃ
ｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｇ、Ｉｎ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｍ
ｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｓｅ、Ｓ
ｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ等の金属酸窒
化物を形成するための金属化合物を挙げることができ
る。

【０１８２】例えば、反射防止層の高屈折率層を形成す
るには、チタン化合物が好ましく、具体的には、例え
ば、テトラジメチルアミノチタンなどの有機アミノ金属
化合物、モノチタン、ジチタンなどの金属水素化合物、
二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化チタンなどの金属
ハロゲン化合物、テトラエトキシチタン、テトライソプ
ロポキシチタン、テトラブトキシチタンなどの金属アル
コキシドなどを挙げることができる。

【０１８３】本発明において、前記の珪素化合物、有機
金属化合物は、取り扱い上の観点から金属水素化合物、
金属アルコキシドが好ましく、腐食性、有害ガスの発生
がなく、工程上の汚れなども少ないことから、中でも金
属アルコキシドが好ましく用いられる。

【０１８４】本発明において、反応性ガスとして有機金
属化合物を用いる場合、プラズマ放電処理によりポリエ
ステルフィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、反
応ガス中の反応性ガスとしての有機金属化合物の含有率
は、０．０１〜１０体積％であることが好ましいが、更
に好ましくは、０．１〜５体積％である。また、珪素化
合物、チタン化合物等の金属化合物を放電部へ導入する
には、両者は常温常圧で気体、液体または固体いずれの
状態であっても使用し得る。気体の場合は、そのまま放
電部に導入できるが、液体や固体の場合は、加熱、減
圧、超音波照射、噴霧等の気化手段により気化させて使
用することができる。

【０１８５】珪素化合物、チタン化合物等の金属化合物
を加熱により気化して用いる場合、テトラエトキシシラ
ン、テトライソプロポキシチタンなどのように常温で液
体で、且つ、沸点が２００℃以下である金属アルコキシ
ドが本発明の金属酸窒化物薄膜層の形成する方法に好適
である。上記金属アルコキシドは、有機溶媒によって希
釈して使用してもよく、有機溶媒としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−ブタノール、イソプロパノール、
アセトン、メチルエチルケトン、ｎ−ヘキサンなどの有
機溶媒またはこれらの混合有機溶媒を使用することがで
きる。更に、反応ガス中に酸素、水素、二酸化炭素、一
酸化炭素、窒素、二酸化窒素、一酸化窒素等を０．１〜
１０体積％含有させることにより薄膜層の硬度、密度等
の物性を制御することができる。

【０１８６】以上の方法により酸化珪素、酸化チタン等
の非晶性の金属酸化物層を好ましく作製することができ
る。

【０１８７】本発明の光学フィルムは、例えば低屈折率
層と高屈折率層を積層した反射防止層を有する光学フィ
ルム又は導電層、帯電防止層を有する光学フィルムであ
る。

【０１８８】本発明において、プラズマ放電装置を複数
設けることによって、多層の薄膜を連続的に設けること
ができ、薄膜のムラもなく多層の積層体を形成すること
ができる。

【０１８９】例えば、ポリエステルフィルム上に反射防
止層を有する光学フィルムを作製する場合、屈折率１．
６〜２．６の高屈折率層及び屈折率１．３〜１．５の低
屈折率層をポリエステルフィルム表面に連続して積層
し、効率的に作製することができる。

【０１９０】低屈折率層としては、含フッ素有機化合物
を含むガスをプラズマ放電処理により形成された含フッ
素化合物層、あるいはアルコキシシラン等の有機珪素化
合物を用いてプラズマ放電処理により形成された主に酸
化ケイ素を有する層が好ましく、高屈折率層としては、
有機金属化合物を含むガスをプラズマ放電処理により形
成された金属酸化物層、例えば酸化チタン、酸化ジルコ
ニウムを有する層が好ましい。

【０１９１】本発明はこれらに限定されるものではな
く、層構成もこれらに限定されるものではない。例え
ば、最表面にフッ素含有有機化合物ガス存在下で大気圧
もしくはその近傍の圧力下でのプラズマ放電処理して防
汚層を設けてもよい。あるいは塗布により防汚層を設け
てもよい。

【０１９２】上記の方法により、本発明においては、多
層の薄膜を積層することができ、各層の膜厚ムラもな
く、均一な光学フィルムを得ることができる。

【０１９３】金属酸窒化物層等の薄膜の膜厚は、積層体
の断面を作製し、透過電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓ
ｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｏｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：
以下、ＴＥＭと称す）で観察を行うことによって求める
ことができる。

【０１９４】断面の作製は、具体的には積層体を基材と
共に電子顕微鏡観察前処理用のエポキシ包埋樹脂に包埋
し、ダイヤモンドナイフを装着したウルトラミクロトー
ムを用いて、厚さ約０．１μｍの超薄切片を作製する
か、集束イオンビーム（Ｆｏｃｕｓｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅ
ａｍ：ＦＩＢ）加工装置を用いて、積層体表面にＧａイ
オンビームを集束走査し、厚さ約０．１μｍの薄片化し
た断面を切り出すことで作製することができる。

【０１９５】ＴＥＭによる観察は倍率として５０，００
０〜５００，０００倍にて明視野像を観察し、画像はフ
ィルム、イメージングプレート、ＣＣＤカメラなどに記
録する。ＴＥＭの加速電圧としては、８０〜４００ｋＶ
が好ましく、特に好ましくは８０〜２００ｋＶである。

【０１９６】その他、電子顕微鏡観察技法、および試料
作製技法の詳細については「日本電子顕微鏡学会関東支
部編／医学・生物学電子顕微鏡観察法」（丸善）、「日
本電子顕微鏡学会関東支部編／電子顕微鏡生物試料作製
法」（丸善）、「電子顕微鏡Ｑ＆Ａ」（アグネ承風社）
をそれぞれ参考にすることができる。適当な媒体に記録
されたＴＥＭ画像は、画像１枚を少なくとも１０２４画
素×１０２４画素、好ましくは２０４８画素×２０４８
画素以上に分解し、コンピュータによる画像処理を行な
うことが好ましい。画像処理技術の詳細は「田中弘編
画像処理応用技術（工業調査会）」を参考にすることが
でき、画像処理プログラムまたは装置としては上記操作
が可能なものであれば特に限定はされないが、一例とし
てＭＥＤＩＡ ＣＹＢＥＲＮＥＴＩＣＳ社（ＵＳＡ）製
画像解析ソフトＩｍａｇｅ−Ｐｒｏ ＰＬＵＳが挙げら
れる。

【０１９７】画像処理を行なうためには、フィルムに記
録されたアナログ画像はスキャナなどでデジタル画像に
変換し、シェーディング補正、コントラスト・エッジ強
調などを必要に応じ施すことが好ましい。その後、ヒス
トグラムを作製し、２値化処理によって、積層体界面に
相当する箇所を抽出し、界面間の幅（Ｔｈｉｃｋｎｅｓ
ｓ）を計測する。同様にして少なくとも２５箇所以上、
好ましくは５０箇所以上について求めた値から平均膜厚
及びその変動を算出することができる。

【０１９８】このように、本発明においては様々な機能
を有する金属酸窒化物層を形成した光学フィルムを提供
することができる。

【０１９９】本発明によって、金属酸窒化物層のクラッ
クの発生が少なく、カールや巻き癖が改善された光学フ
ィルムを提供することができ、この光学フィルムは高温
高湿条件で繰り返し曝されても導電性の低下やあるいは
白濁などによる表示品質の劣化も改善された。

【０２００】本発明の光学フィルムは特に偏光板保護フ
ィルムとして有用であり、これを用いて公知の方法で偏
光板を作製することができる。

【０２０１】この光学フィルムを有する偏光板や光学フ
ィルムを有する表示装置は視認性に優れており、過酷な
環境下であっても優れた表示性能を提供することができ
たのである。

【０２０２】本発明の光学フィルムには必要に応じて、
クリアハードコート層、防眩層、反射防止層、帯電防止
層、導電層、光拡散層、易接着層、防汚層、電磁波遮蔽
層を単独であるいは適宜組み合わせて設けることができ
る。

【０２０３】本発明の光学フィルムは反射防止フィル
ム、帯電防止フィルム、導電フィルム、電磁波遮蔽フィ
ルム、偏光板等の保護フィルム、光学補償フィルム、偏
光板、プラズマディスプレイ前面フィルター等に好まし
く用いられる。

【０２０４】また、本発明の光学フィルムは反射型、透
過型、半透過型液晶表示装置あるいはＴＮ型、ＳＴＮ
型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型等の各種駆
動方式の液晶表示装置で好ましく用いられ、プラズマデ
ィスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプ
レイ等の各種表示装置にも好ましく用いることができ
る。

【０２０５】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるもの
ではない。

【０２０６】実施例１ 〔ポリエステルの合成〕 （ポリエステルＡ）テレフタル酸ジメチル１００質量
部、エチレングリコール６４質量部に酢酸カルシウム水
和物０．１質量部を添加し、常法によりエステル交換反
応を行なった。得られた生成物に、５−ナトリウムスル
ホジ（β−ヒドロキシエチル）イソフタル酸のエチレン
グリコール溶液（濃度３５質量％）３９質量部（７モル
％／全ジカルボン酸成分）、ポリエチレングリコール
（数平均分子量３０００）５．８質量部（５質量％／生
成したポリエステル）、三酸化アンチモン０．０５質量
部、リン酸トリメチルエステル０．１３質量部を添加し
た。次いで、徐々に昇温、減圧にし、２８０℃、４０Ｐ
ａで重合を行ない、ポリエステルＡを得た。

【０２０７】以下に示す方法に従って固有粘度を求め
た。その結果、固有粘度は０．５０であった。固有粘度
については、ウベローデ型粘度計を用いて以下の手順で
算出した。質量比が約５５：４５（流下時間４２．０±
０．１秒に調整）であるフェノールと１，１，２，２−
テトラクロロエタンとの混合溶媒を用い、サンプルを溶
かして濃度０．２、０．６、１．０（ｇ／ｄｌ）の溶液
（温度２０℃）を調製した。ウベローデ型粘度計によっ
て、それぞれの濃度（Ｃ）における比粘度（η_sp）を求
め、式［η_sp／Ｃ］を濃度零に補外（Ｃ→０）し固有粘
度［η］を求めた。固有粘度［η］の単位はｄｌ／ｇで
ある。

【０２０８】（ポリエステルＢ）添加量を５−ナトリウ
ムスルホジ（β−ヒドロキシエチル）イソフタル酸のエ
チレングリコール溶液（濃度３５質量％）２２質量部
（４モル％／全ジカルボン酸成分）、ポリエチレングリ
コール（数平均分子量３０００）１２．２質量部（１
０．５質量％／生成したポリエステル）に変更した以外
は、上記と同様にしてポリエステルＢを得た。また同様
に測定した固有粘度は０．５５であった。

【０２０９】（ポリエステルＣ）テレフタル酸ジメチル
１００質量部、エチレングリコール６５質量部、ジエチ
レングリコール２質量部にエステル交換触媒として酢酸
マグネシウム水和物０．０５質量部を添加し、常法に従
ってエステル交換反応を行った。得られた生成物に、三
酸化アンチモン０．０５質量部、リン酸トリメチルエス
テル０．０３質量部を添加した。次いで、徐々に昇温、
減圧にし、２８０℃、８０Ｐａで重合を行い、固有粘度
０．６５のポリエステルＣを得た。

【０２１０】〔基材フィルムの作製〕 （基材フィルム１）ポリエステルＢのペレットを１５０
℃で８時間真空乾燥した後、押出機を用いて２８５℃で
溶融押出し、３０℃の冷却ドラム上に静電印加しながら
密着させ、冷却固化させ未延伸シートを得た。この未延
伸シートをロール式縦延伸機を用いて、８５℃で縦方向
に１．２倍延伸した。表裏面の温度差は５℃以内であっ
た。

【０２１１】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、９５℃で横方向に４．５倍延伸した。
次いで、７０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定ゾー
ン１５０℃で１０秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン１８
０℃で１５秒間熱固定して、次いで１６０℃で横（幅
手）方向に５％弛緩処理し巻き取り、横方向の長さ１５
００ｍｍ、厚さ３５μｍのポリエステルフィルム（基材
フィルム１）を作製した。巻き取りの直前に両端部に高
さ５μｍ、幅１ｃｍのナーリング加工を施した。

【０２１２】（基材フィルム２）ポリエステルＡのペレ
ットを１５０℃で８時間真空乾燥した後、押出機を用い
て２８５℃で溶融押出し、３０℃の冷却ドラム上に静電
印加しながら密着させ、冷却固化させ未延伸シートを得
た。この未延伸シートをロール式縦延伸機を用いて、９
０℃で縦方向に４．０倍延伸した。表裏面の温度差は５
℃以内であった。

【０２１３】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、１００℃で横方向に１．２倍延伸し
た。次いで、７０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定
ゾーン１５０℃で１０秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン
１８０℃で１５秒間熱固定して、次いで１６０℃で横
（幅手）方向に２％弛緩処理し巻き取り、横方向の長さ
１５００ｍｍ、厚さ３５μｍのポリエステルフィルム
（基材フィルム２）を作製した。

【０２１４】（基材フィルム３）ポリエステルＡとポリ
エステルＣのペレットを質量比で３：７になるようにタ
ンブラー型混合機で混合し、１５０℃で８時間真空乾燥
した。また、ポリエステルＢのペレットも１５０℃で８
時間真空乾燥した。ポリエステルＡとポリエステルＣの
混合物及びポリエステルＢを２台の押出機を用いて２８
５℃で溶融押出し、マルチマニホールドダイを用いてシ
ート状に押し出し、３０℃の冷却ドラム上に静電印加し
ながら密着させ、冷却固化させ未延伸シートを得た。こ
の時各層の厚みの比は１：１となるようにした。この未
延伸シートをロール式縦延伸機を用いて、９５℃で縦方
向に１．０５倍延伸した。表裏面の温度差は５℃以内で
あった。

【０２１５】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、１０５℃で横方向に４．０倍延伸し
た。次いで、７０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定
ゾーン１５０℃で１０秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン
１８０℃で１５秒間熱固定して、次いで１６０℃で横
（幅手）方向に５％弛緩処理し巻き取り、横方向の長さ
１５００ｍｍ、厚さ３０μｍのポリエステルフィルム
（基材フィルム３）を作製した。

【０２１６】（基材フィルム４）ポリエステルＣのペレ
ットを１５０℃で８時間真空乾燥し、押出機を用いて２
９０℃で溶融押出し、３０℃の冷却ドラム上に静電印加
しながら密着させ、冷却固化させ未延伸シートを得た。
この未延伸シートをロール式縦延伸機を用いて、９５℃
で縦方向に１．２倍延伸した。表裏面の温度差は５℃以
内であった。

【０２１７】得られた一軸延伸フィルムをテンター式横
延伸機を用いて、１０５℃で横方向に４．５倍延伸し
た。次いで、７０℃で２秒間熱処理し、更に第一熱固定
ゾーン１５０℃で１０秒間熱固定し、第二熱固定ゾーン
１８０℃で１５秒間熱固定して、次いで１６０℃で横
（幅手）方向に５％弛緩処理し巻き取り、横方向の長さ
１５００ｍｍ、厚さ３０μｍのポリエステルフィルム
（基材フィルム４）を作製した。

【０２１８】以上のようにして得られた基材フィルム１
〜４について、下記の方法で平衡含水率、寸法安定性、
透湿性を評価した。結果を表１に示した。

【０２１９】〈平衡含水率〉フィルムサンプルを２３
℃、相対湿度２０％に調湿された部屋に４時間以上放置
した後、２３℃の蒸留水に２４時間浸漬させ、しかる
後、表面の水分をふき取り、サンプルを微量水分計（例
えば、三菱化学（株）製、ＣＡ−２０型）を用いて温度
１５０℃で水分を乾燥・気化させた後、カールフィッシ
ャー法により定量した。

【０２２０】〈寸法安定性〉フィルムを８０℃、９０％
ＲＨで１０００時間処理した前後の、フィルムの面内の
屈折率が最大の方向について、寸法変化率を求め評価し
た。収縮方向をマイナス、伸び方向を＋とした。

【０２２１】〈透湿性〉温度２５℃、湿度９０％ＲＨに
おける透湿性はＪＩＳ Ｚ０２０８により求めた。

【０２２２】

【表１】

【０２２３】〔光学フィルムの作製〕この基材フィルム
に大気圧プラズマ処理によって膜厚０．１μｍの酸化錫
層を形成し、光学フィルム１〜４を得た。

【０２２４】大気圧プラズマ放電処理は図２記載の装置
を使用した。ロール電極には、内部にシリコンオイルを
循環させることによる冷却機能を有するステンレス製ジ
ャケットロール母材を用いた。

【０２２５】これにセラミック溶射によりアルミナを１
ｍｍ被覆し、その上にテトラメトキシシランを酢酸エチ
ルで希釈した溶液を塗布乾燥後、紫外線照射により硬化
させて封孔処理を行いＲｍａｘ、１μｍの誘電体を有す
るロール電極を製作しアース（接地）した。

【０２２６】一方、対向電極としては、中空のステンレ
スパイプに対し、上記同様の誘電体を同条件にて被覆
し、相対する電極群とした。プラズマ放電処理装置の電
源は、日本電子製高周波電源を使用し、連続周波数を２
ＭＨｚとし、２Ｗ／ｃｍ²の電力を供給した。但し、ロ
ール電極は、ドライブを用いてポリエステルフィルムの
搬送に同期して回転させた。ロール電極の表面温度は７
０℃とした。

【０２２７】なお、電極間隙は１．６ｍｍ、反応ガスの
圧力を大気圧に対して＋１ｋＰａとして、反応ガス温度
は８５℃として、膜厚０．１μｍの金属酸化物層を形成
した。プラズマ放電処理に用いた反応ガスの組成を以下
に記す。

【０２２８】 （酸化錫層形成用反応ガス） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．４体積％ 反応ガス（酸素ガス） ０．３体積％ 反応ガス（テトラブチル錫蒸気） ０．３体積％ 得られた光学フィルム１〜４について、クラック、カー
ル、白濁、導電性、接着性を評価した。なお導電性は表
面比抵抗値の変化で評価した。結果を表２に示す。

【０２２９】〈クラック〉光学フィルム試料を８０±３
℃、９０±２％ＲＨの条件に１２時間放置し、２３±２
℃、５５±５％ＲＨで１２時間放置した後、試料を光学
顕微鏡でクラックの状態を観察し、下記の基準で評価し
た。

【０２３０】 ◎：クラックがほとんど認められない ○：短いクラックが認められる △：全面に短いクラックが多数発生している ×：全面に無数のクラックが認められる 〈カール〉ロール状に巻き取ったフィルムを２３±２
℃、５５％ＲＨ下で２４時間調湿し、該試料を長手方向
２ｍｍ、幅手方向５０ｍｍに切断し、その試料小片を２
３±２℃、５５％ＲＨ下で２４時間調湿した後、曲率ス
ケールを用いて、該試料と合致するカーブを有する曲率
半径（１／ｍ）を確認し、その曲率半径を該試料のカー
ル値とした。

【０２３１】 ◎：カール値 １０未満 ○：カール値 １０〜２０未満 △：カール値 ２０〜２５未満 ×：カール値 ２５以上 〈白濁〉各光学フィルムを８０℃、９０％ＲＨの高温高
湿雰囲気下で６時間処理した後、２３℃、５５％ＲＨ雰
囲気に１８時間放置した。これを合計３０回繰り返して
処理した後、金属酸化物層側を目視によって白濁の状態
を観察した。評価は、白濁が全く認められないものを１
とし、著しい白濁を起こしているものを５とし、その間
のランクの状態を２〜４とした５段階評価を行った。な
お、白濁は細かいクラックが入ったためと考えられる。

【０２３２】〈表面比抵抗値変化〉反復高温多湿処理後
の表面比抵抗値の変化：８０℃、９０％ＲＨの条件で、
６時間曝した後、２３℃、３０％ＲＨの条件に１８時間
調湿した。同様に高温多湿処理を１０回繰り返した後、
２３℃、３０％ＲＨの条件のもとで、６時間調湿した
後、同条件で金属酸化物層表面の表面比抵抗値を絶縁抵
抗測定器（川口電気社製ＶＥ・３０型）で測定し、下記
の基準で評価して結果を表２に示した。

【０２３３】◎：表面比抵抗値は１０¹⁰Ω／ｃｍ²未満
でほとんど変化なし ○：表面比抵抗値はわずかに増加したが、１０¹¹Ω／ｃ
ｍ²レベルで問題ない △：表面比抵抗値は増加したが１０¹²Ω／ｃｍ²未満で
あり、問題ない ×：表面比抵抗値は１０¹²Ω／ｃｍ²以上、５×１０¹²
Ω／ｃｍ²未満に増加した ××：表面比抵抗値は５×１０¹²Ω／ｃｍ²以上に著し
く増加した。

【０２３４】表２から明らかなように、本発明の光学フ
ィルムは高温高湿処理の繰り返しによる表面比抵抗の変
動が少なく良好な値を示したが、比較の光学フィルムは
表面比抵抗値の増加により帯電防止性の低下が認められ
た。

【０２３５】〈接着性〉ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準拠し
た碁盤目試験を行った。具体的には塗布面上に１ｍｍ間
隔で縦、横に１１本の切れ目をいれ、１ｍｍ角の碁盤目
を１００個つくった。この上にセロハンテープを貼り付
け、９０度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った碁
盤目の数で評価した。

【０２３６】 ◎：１００ 密着性が高く優れている ○：９５〜９９ 若干剥離するが実用上問題がないレベ
ル △：８０〜９４ 剥離が目立ち実用上問題がある ×：８０未満 剥離が著しく実用上使用できない。

【０２３７】

【表２】

【０２３８】本発明の光学フィルムはクラックが少な
く、カールも軽減され、接着性にも優れ、導電性も安定
していることが確認された。

【０２３９】実施例２ 実施例１で形成した基材フィルム及び光学フィルムの上
にクリアハードコート層（ＣＨＣ）又は防眩層（ＡＧ）
を塗設し、その上に実施例１で用いたプラズマ処理装置
を用いて下記反射防止層を形成した。基材フィルム及び
光学フィルムは下記の塗布層を設ける前にコロナ放電処
理で濡れ性を改善した後、塗布した。光学フィルムは酸
化錫層の上にクリアハードコート層または防眩層を形成
した。

【０２４０】 防眩層（ＡＧ） 紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂 １００部 （ユニデック１７−８０６（大日本インキ（株）製）） 平均粒子径３．５μｍの球状架橋ポリスチレン微粒子 ５部 平均粒子径１６ｎｍの合成シリカ微粒子 ７部 コロネートＬ（ポリイソシアネート化合物：日本ポリウレタン（株）製） １部 光重合開始剤（イルガキュア１８４ チバガイギー社社製） ３部 上記を溶媒（酢酸エチル）にてホモジナイザーにより混
合して、揮発分濃度６０％の均質な分散液を調製した。

【０２４１】これを基材フィルムにワイヤーバーコート
し、９０℃で２分間乾燥させた後、１３０ｍＪ／ｃｍ²
の紫外線を照射して硬化させ、膜厚３μｍの防眩層１を
形成した。

【０２４２】 クリアハードコート層（ＣＨＣ） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０部 光重合開始剤（イルガキュア１８４ チバガイギー社製） ４部 酢酸エチル ５０部 メチルエチルケトン ５０部 イソプロピルアルコール ５０部 これを基材フィルムにワイヤーバーコートし、９０℃で
２分間乾燥させた後、１３０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照
射して硬化させ、膜厚３μｍのクリアハードコート層
（ＣＨＣ）を形成した。

【０２４３】〈金属酸化物層の形成〉上記基材フィルム
上に設けた紫外線硬化樹脂層（ＡＧ又はＣＨＣ）の上
に、実施例１で使用した大気圧プラズマ処理装置を用い
て、第１酸化チタン層（屈折率２．１５、平均膜厚１５
ｎｍ）、第１酸化珪素層（屈折率１．４６、平均膜厚３
３ｎｍ）、第２酸化チタン層（屈折率２．１５、平均膜
厚１１９ｎｍ）、第２酸化珪素層（屈折率１．４６、平
均膜厚８６ｎｍ）を順に形成した。第２酸化珪素層の表
面は下記、酸化珪素層形成用反応ガス２にて表面処理を
行った。

【０２４４】プラズマ放電処理装置の電源は、パール工
業製高周波電源を使用し、連続周波数を２ＭＨｚとし、
放電電極に対し２Ｗ／ｃｍ²の電力を供給した。ロール
電極はドライブを用いてポリエステルフィルムの搬送に
同期して回転させた。なお、電極間隙は１．４ｍｍ、反
応ガスの圧力は大気圧＋１ｋＰａ、反応ガスの温度は８
０℃として行った。プラズマ放電処理に用いた反応ガス
の組成を以下に記す。

【０２４５】 （酸化チタン層（高屈折率層）形成用反応ガス） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．４体積％ 反応ガス（水素ガス） ０．３体積％ 反応ガス（テトライソプロポキシチタン蒸気） ０．３体積％ （酸化珪素層（低屈折率層）形成用反応ガス） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．４体積％ 反応ガス（酸素ガス） ０．３体積％ 反応ガス（テトラエトキシシラン蒸気） ０．３体積％ （酸化珪素層（低屈折率層）形成用反応ガス２） 不活性ガス（ヘリウム） ９９．８体積％ 反応ガス（ＣＦ４） ０．２体積％ 得られた反射防止フィルムの評価結果を表３に示す。

【０２４６】本発明の光学フィルムは、クラックが発生
しにくく、カールも少なく、巻き癖も解消しやすいた
め、表示装置の最前面などの平面部に貼り付けるのに適
していた。それに対して、比較の光学フィルムはクラッ
クが入りやすく、カールも大きく、巻き癖が解消しにく
いため、貼り付けの際に皺が入りやすいという問題があ
った。

【０２４７】〈平均反射率の測定〉分光光度計（日立製
作所製Ｕ−４０００型）を用い、反射防止層が設けられ
ていない側の面を粗面化した後、黒色のスプレーを用い
て光吸収処理を行い、裏面での光の反射を防止して５度
の正反射の条件にて４５０〜６５０ｎｍにおける各反射
率を測定し、その平均反射率を求めた。

【０２４８】

【表３】

【０２４９】実施例３ 〔偏光子の作製〕厚さ１２０μｍのポリビニルアルコー
ルフィルムを沃素１質量部、沃化カリウム２質量部、ホ
ウ酸４質量部を含む水溶液に浸漬し５０℃で４倍に延伸
し偏光子を作製した。

【０２５０】〔偏光板及び表示装置の作製〕実施例２の
反射防止フィルムの反射防止層を有する面の裏面側に、
春日電機（株）製コロナ放電処理装置（ＨＦＳ−２０
２）を用いて、１２Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²の条件で易接着処
理を施した。同様にそれぞれの反射防止フィルムで用い
られるポリエステルフィルム（基材フィルム）の一方の
面にコロナ処理を施した。

【０２５１】前記で作製した偏光子の両面に、完全鹸化
型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着剤として、前
記反射防止フィルム及びポリエステルフィルムの易接着
処理を施した面側が偏光子側となるようにして貼合し、
偏光板を作製した。この時、反射防止フィルムのフィル
ム面内での屈折率の最大方向が偏光子の偏光軸に平行に
なるように張り合わせた。

【０２５２】次に市販の液晶表示パネル（ＮＥＣ製 カ
ラー液晶ディスプレイ ＭｕｌｔｉＳｙｎｃ ＬＣＤ１
５２５Ｊ：型名 ＬＡ−１５２９ＨＭ）の最表面の偏光
板を注意深く剥離し、ここに偏向方向を合わせた上記で
作製した偏光板を各々貼り付けた。

【０２５３】作製した液晶表示パネルについて、ルーペ
を用いて観察したところ本発明の偏光板を用いた液晶表
示パネルでは反射防止層のクラックの増加は認められな
かったが、一方、比較の偏光板を用いた液晶表示パネル
ではクラックの発生が観察された。比較の偏光板の方が
ほこりが付着しやすかった。

【０２５４】

【発明の効果】各種表示装置に用いられる光学フィルム
としてのポリエステルフィルム上に金属酸窒化物層を設
けた導電性フィルム、反射防止フィルムにおいて、クラ
ックが著しく低減され、カールも改善され、導電性の低
下も少ないフィルムを提供することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の金属酸窒化物薄膜層を形成するのに用
いられるプラズマ放電処理装置の一例を示す図である。

【図２】本発明の金属酸窒化物薄膜層を形成するのに有
用な回転電極と固定電極を有するプラズマ放電処理装置
の一例を示す図である。

【符号の説明】

Ｆ ポリエステルフィルム Ｇ 反応ガス Ｇ′ 排ガス １０Ａ、１０Ｂ、１１０ 回転電極 １１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄ Ｕターンロール ２０、２１ ガイドロール ３０ 反応ガス供給部 ４０、１４０ ガス排気口 ５０、１５０ 放電部 ８０、１８０ 電源 ８１、８２、１８１、１８２ 電圧供給手段 １１１ 固定電極 １２０、１２１ ガイドロール １２２、１２３ ニップロール １２４、１２５ 仕切板 １３０ 給気管 １３１ 反応ガス発生装置 １９０ プラズマ放電処理容器

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２３Ｃ 16/30 Ｃ２３Ｃ 16/30 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｃ０８Ｌ 67:02 1/11 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ // Ｃ０８Ｌ 67:02 Ｚ Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA24 BB23 BB65 BB67 BC10 BC22 2K009 AA02 CC03 CC34 DD04 EE03 4F006 AA35 AB74 BA07 BA14 CA08 DA01 4F100 AA01A AA12B AA17B AA33B AK42A AK42K BA02 EH66B EJ61B GB41 JG01 JN06 JN10 4K030 AA11 BA35 BA44 BA45 BA46 BB05 CA07 CA12 FA03 JA09 KA16 LA18

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも芳香族ジカルボン酸、グリコ
   ールの反応により製造され、平衡含水率が１〜５％であ
   るポリエステル樹脂の層を有する基材フィルム上に直接
   又は他の層を介して金属酸窒化物層を設けることを特徴
   とする光学フィルム。
2. 【請求項２】 膜厚５〜４０μｍ、寸法安定性が±０．
   ５％以内であることを特徴とする請求項１に記載の光学
   フィルム。
3. 【請求項３】 ポリエステル樹脂がスルホン酸またはそ
   の塩から選ばれる基を有することを特徴とする請求項１
   または２に記載の光学フィルム。
4. 【請求項４】 ポリエステル樹脂の硫黄元素含有量が
   ０．１５〜２質量％であることを特徴とする請求項３に
   記載の光学フィルム。
5. 【請求項５】 ポリエステル樹脂が全芳香族ジカルボン
   酸に対し１〜１０モル％のスルホン酸およびその塩から
   選ばれる基を有する芳香族ジカルボン酸或いは全グリコ
   ールに対し１〜１０モル％のスルホン酸およびその塩か
   ら選ばれる基を有するグリコールを用いて製造されるこ
   とを特徴とする請求項３または４に記載の光学フィル
   ム。
6. 【請求項６】 ポリエステル樹脂が全芳香族ジカルボン
   酸に対し１〜１０モル％のスルホン酸およびその塩から
   選ばれる基を有する芳香族ジカルボン酸を用いて製造さ
   れることを特徴とする請求項３または４に記載の光学フ
   ィルム。
7. 【請求項７】 ポリエステル樹脂がポリアルキレングリ
   コールを反応生成物のポリエステル全量に対して０．１
   〜１０質量％用い製造されることを特徴とする請求項１
   〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
8. 【請求項８】 ポリエステル樹脂の主成分がポリエチレ
   ンテレフタレートであることを特徴とする請求項１〜７
   のいずれか１項に記載の光学フィルム。
9. 【請求項９】 溶融押し出しにより連続的に製膜された
   長尺状フィルム上に直接又は他の層を介して金属酸窒化
   物層を有することを特徴とする請求項７または８に記載
   の光学フィルム。
10. 【請求項１０】 平衡含水率が１〜５％であるポリエス
    テル樹脂層を有する基材上に直接又は他の層を介して大
    気圧プラズマＣＶＤによって金属酸窒化物層を設けるこ
    とを特徴とする光学フィルム。
11. 【請求項１１】 スルホン酸またはその塩から選ばれる
    基を有するポリエステル樹脂を有するフィルムを延伸し
    て形成された基材フィルム上に直接又は他の層を介して
    金属酸窒化物層を大気圧プラズマＣＶＤによって形成す
    ることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
12. 【請求項１２】 請求項１〜１０のいずれか１項に記載
    の光学フィルムを用いることを特徴とする偏光板。
13. 【請求項１３】 請求項１２に記載の偏光板を用いるこ
    とを特徴とする表示装置。