JP2003292154A - 厚膜印刷基板用熱処理装置および搬送ローラ - Google Patents

厚膜印刷基板用熱処理装置および搬送ローラ

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JP2003292154A
JP2003292154A JP2002103053A JP2002103053A JP2003292154A JP 2003292154 A JP2003292154 A JP 2003292154A JP 2002103053 A JP2002103053 A JP 2002103053A JP 2002103053 A JP2002103053 A JP 2002103053A JP 2003292154 A JP2003292154 A JP 2003292154A
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heat treatment
thick film
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Yoshiaki Takahane
義明 高羽
Hidetaka Shimizu
英孝 清水
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Noritake Co Ltd
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Noritake Co Ltd
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 厚膜材料ペーストが印刷された基板の表面お
よび裏面に好適な熱処理を施すことができ且つ搬送に際
してその基板が蛇行するなどの不具合を生じさせない厚
膜印刷基板用熱処理装置および搬送ローラを提供する。 【解決手段】 互いに平行に配置されてそれぞれ軸心回
りに回転駆動される複数本の搬送ローラ32それぞれ
に、1対のガイド部材50がその搬送ローラ32と回転
軸心を共有して設けられている為、基板20がその端部
においてかかる1対のガイド部材50における回転体状
本体部52に支持されることによりその裏面が上記搬送
ローラ32に接触することなく搬送がおこなわれる。ま
た、上記1対のガイド部材50は、上記基板20の蛇行
を防止する為の円環状突部54をそれぞれ備えたもので
ある為、上記基板20が蛇行しそうになった場合にその
円環状突部54により進行方向が修正される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば厚膜材料
ペーストが印刷されたシリコンウェハなどの基板に熱処
理を施す為の厚膜印刷基板用熱処理装置の改良に関す
る。
【0002】
【従来の技術】複数の被焼成物を支持して1方向に順次
搬送する過程で、それら複数の被焼成物に熱処理を施す
形式のトンネル式の熱処理装置の一つとして、互いに平
行に配置されてそれぞれ軸心回りに回転駆動される複数
本の搬送ローラによって複数の被焼成物を支持して順次
搬送しつつ熱処理を施す所謂ローラハースキルン(以
下、RHKという)が知られている。そのようなRHK
においては、メッシュベルトで搬送する場合のような炉
体内部における摺動がなくそれに伴う塵埃が発生し得な
いため、被焼成物の汚染が生じ難いという利点がある。
とりわけ、搬送ローラがセラミックスから構成される場
合には、炉体内部において被焼成物が金属と接触させら
れないことから、一層汚染が抑制される。その為、被焼
成物の性質から特に炉内を清浄に保つことが望まれる熱
処理に好適に用いられている。また、メッシュベルトは
不可避的に炉体外部に露出する部分が多く、加熱・冷却
に伴う熱損失によるランニングコストの増大が顕著であ
り、さらにはメッシュベルトに用いられる材料は熱によ
る変形を起こし易い為、比較的頻繁(交換周期1〜2
年)に交換する必要がありメンテナンスコストが無視で
きないが、上記RHKによれば、そのようなメッシュベ
ルトに起因する弊害を解消できるという利点もある。
【0003】ところで、たとえば太陽電池基板の作製に
おいては、シリコンウェハなどの基板の表面および裏面
にそれぞれ異なるパターンでアルミニウム・銀などの厚
膜材料ペーストが印刷された後、その厚膜材料ペースト
に含まれる有機溶媒などを燃え抜けさせ、所定の機能を
備えた材料膜を焼成する為に熱処理が施される。そのよ
うな熱処理に際して、炉内の清浄度は作製される太陽電
池基板の特性に大きな影響を与える為、本発明者は、か
かる厚膜材料ペーストが印刷された基板に熱処理を施す
為に上述のRHKを用いることを考え、鋭意研究に取り
組んできた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、厚膜印刷
基板用熱処理装置の開発を進める中で、従来のRHKを
厚膜材料ペーストが印刷された基板の熱処理に用いるに
際しての課題を新たに見出した。すなわち、(a)上記
太陽電池基板などは裏面にも厚膜材料ペーストが印刷さ
れていることがほとんどであるので、その裏面が前記搬
送ローラから離隔された状態で搬送される必要があるこ
と、および、(b)上記基板を前記搬送ローラにより搬
送するに際してその基板が蛇行する可能性があること、
の2点である。上記基板の裏面が前記搬送ローラに接触
した状態で搬送がおこなわれると、その裏面の熱処理が
好適におこなわれない。また、上述のように蛇行した基
板は炉の内壁に衝突して不良となることが考えられる。
【0005】本発明は、以上の事情を背景として為され
たものであり、その目的とするところは、厚膜材料ペー
ストが印刷された基板の表面および裏面に好適な熱処理
を施すことができ且つ搬送に際してその基板が蛇行する
などの不具合を生じさせない厚膜印刷基板用熱処理装置
および搬送ローラを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための第1の手段】かかる目的を達成
する為に、本第1発明の要旨とするところは、互いに平
行に配置されてそれぞれ軸心回りに回転駆動される複数
本の搬送ローラを備え、その複数本の搬送ローラにより
1方向に搬送される厚膜材料ペーストが印刷された基板
に熱処理を施す為の厚膜印刷基板用熱処理装置であっ
て、前記搬送ローラには、前記基板の端部を外周面にお
いて支持する為の回転体状本体部と、前記基板の蛇行を
防止する為にその回転体状本体部と一体的に設けられた
円環状突部とをそれぞれ備えた1対のガイド部材が、前
記搬送ローラと回転軸心を共有して設けられていること
を特徴とするものである。
【0007】
【第1発明の効果】このようにすれば、互いに平行に配
置されてそれぞれ軸心回りに回転駆動される複数本の搬
送ローラそれぞれに、前記1対のガイド部材がその搬送
ローラと回転軸心を共有して設けられている為、前記基
板がその端部においてかかる1対のガイド部材における
回転体状本体部に支持されることによりその裏面が前記
搬送ローラに接触することなく搬送がおこなわれる。ま
た、前記1対のガイド部材は、前記基板の蛇行を防止す
る為の円環状突部をそれぞれ備えたものである為、前記
基板が蛇行しそうになった場合にその円環状突部により
進行方向が修正される。すなわち、厚膜材料ペーストが
印刷された基板の表面および裏面に好適な熱処理を施す
ことができ且つ搬送に際してその基板が蛇行するなどの
不具合を生じさせない厚膜印刷基板用熱処理装置を提供
することができる。
【0008】
【第1発明の他の態様】ここで、好適には、前記1対の
ガイド部材における回転体状本体部は、相対向する他方
のガイド部材に向かうほど径が漸減するテーパ状外周面
をそれぞれ備えたものである。このようにすれば、前記
基板がその端部においてかかる1対のガイド部材におけ
る回転体状本体部に点接触により支持されるので、たと
えば前記基板の裏面において端部のごく付近まで厚膜材
料ペーストが印刷されていたとしても好適な熱処理を施
すことができるという利点がある。
【0009】
【課題を解決するための第2の手段】また、前記目的を
達成する為に、本第2発明の要旨とするところは、厚膜
材料ペーストが印刷された基板に熱処理を施す為の厚膜
印刷基板用熱処理装置において、互いに平行に配置され
てそれぞれ軸心回りに回転駆動されることにより前記基
板を1方向に搬送する為の搬送ローラであって、前記基
板の端部を外周面において支持する為の回転体状本体部
と、前記基板の蛇行を防止する為に該回転体状本体部と
一体的に設けられた円環状突部とをそれぞれ備えた1対
のガイド部材が、前記搬送ローラと回転軸心を共有して
設けられていることを特徴とするものである。
【0010】
【第2発明の効果】このようにすれば、前記厚膜印刷基
板用熱処理装置において、互いに平行に配置されてそれ
ぞれ軸心回りに回転駆動される複数本の搬送ローラそれ
ぞれに、前記1対のガイド部材がその搬送ローラと回転
軸心を共有して設けられている為、前記基板がその端部
においてかかる1対のガイド部材の回転体状本体部に支
持されることによりその裏面が前記搬送ローラに接触す
ることなく搬送がおこなわれる。また、前記1対のガイ
ド部材は、前記基板の蛇行を防止する為の円環状突部を
それぞれ備えたものである為、前記基板が蛇行しそうに
なった場合にその円環状突部により進行方向が修正され
る。すなわち、厚膜材料ペーストが印刷された基板の表
面および裏面に好適な熱処理を施すことができ且つ搬送
に際してその基板が蛇行するなどの不具合を生じさせな
い搬送ローラを提供することができる。
【0011】
【第2発明の他の態様】ここで、好適には、前記1対の
ガイド部材における回転体状本体部は、相対向する他方
のガイド部材に向かうほど径が漸減するテーパ状外周面
をそれぞれ備えたものである。このようにすれば、前記
基板がその端部においてかかる1対のガイド部材におけ
る回転体状本体部に点接触により支持されるので、たと
えば前記基板の裏面において端部のごく付近まで厚膜材
料ペーストが印刷されていたとしても好適な熱処理を施
すことができるという利点がある。
【0012】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例を図面に基づい
て詳細に説明する。なお、以下の説明に用いる図面に関
して、各部の寸法比等は必ずしも正確には描かれていな
い。
【0013】図1は、本発明の一実施例である厚膜印刷
基板用熱処理装置10の構成を説明する概略図である。
この図1に示すように、本実施例の厚膜印刷基板用熱処
理装置10は、厚膜材料ペーストが印刷された複数の基
板20を支持して図において矢印Sで示す1方向に順次
搬送する過程で、それら複数の基板20に熱処理を施す
形式のトンネル式の熱処理装置であり、その炉内最高温
度がたとえば200℃程度とされた長手トンネル状の乾
燥炉12と、その炉内最高温度がたとえば750℃程度
とされた長手トンネル状の焼成炉14と、間接的な水冷
によって基板20の温度を室温付近まで冷却する為の冷
却装置16と、上記乾燥炉12、焼成炉14、および冷
却装置16を支持固定する為のフレーム18とを備えて
構成されている。
【0014】上記乾燥炉12および焼成炉14は、たと
えば断熱性耐火物あるいはガラスウールなどの保温材で
外部を包まれたセラミックファイバボード(たとえばシ
リカ−アルミナ系の組成による太さ10μm以下のセラ
ミックス繊維を含有した断熱板状材料)などによる炉心
管(マッフル)から構成されたものであり、上記フレー
ム18により水平状態で支持されている。また、かかる
乾燥炉12および焼成炉14の内壁には、たとえばシリ
カ系のセラミックス材料がさらにコーティングされるこ
とにより、炉内の清浄度がより高められている。
【0015】前記乾燥炉12には、たとえば中間赤外線
ヒータ22が設けられており、その常用温度は約150
℃程度とされている。また、前記焼成炉14には、厚膜
材料ペーストの焼成に必要な急加熱プロファイルに対応
する為、たとえば近赤外線ヒータ(ハロゲンヒータ)2
4が設けられており、その常用温度は約670℃程度と
されている。また、前記乾燥炉12および焼成炉14に
はそれぞれ排気口26および28が設けられている。か
かる排気口26および28は、前記基板20に印刷され
る厚膜材料ペーストの特性に合わせて最も効率よく排気
がおこなわれる位置に設けられ、その排気口26および
28に備えられたエゼクタにより排気がおこなわれる。
ここで、前記基板20に印刷される厚膜材料ペーストに
含まれる低融点の有機溶剤は、上記排気口26付近にて
液化して前記基板20に滴下する可能性がある為、好適
には、そのように滴下する有機溶剤を受け止める為の図
示しない受け皿が配設されている。また、前記乾燥炉1
2および焼成炉14に空気を送り込む為の図示しない給
気管は、たとえば乾燥炉12および焼成炉14それぞれ
の炉体内に埋設されており、管内を通過する過程で予熱
された空気が炉内に供給される。
【0016】前記冷却装置16は、たとえば前記フレー
ム18と同程度の幅寸法を備えた冷却ジャケット30が
上下に設けられて構成されたものであり、その冷却ジャ
ケット30の内部に図示しない冷却水配管から冷却水が
流通させられることにより、前述のように、前記基板2
0が前記冷却装置16内を通過する過程で、その温度を
間接的な水冷によって室温付近まで冷却するものであ
る。
【0017】本実施例の厚膜印刷基板用熱処理装置10
は、互いに平行に配置されてそれぞれ軸心回りに回転駆
動されることにより前記基板20を図1において矢印S
で示す1方向に搬送する為の複数本の搬送ローラ32が
設けられた所謂ローラハースキルン(以下、RHKとい
う)である。かかる搬送ローラ32の材料としては、た
とえばその温度が400℃以上となることが想定される
搬送ローラ32すなわち前記焼成炉14に設けられる搬
送ローラ32についてはたとえば耐熱性セラミックス材
料とステンレス材料の複合材料が用いられ、それ以外の
搬送ローラ32についてはステンレス材料が単独で好適
に用いられる。
【0018】図2は、図1におけるII-II視断面図であ
り、この図2に示すように、上記搬送ローラ32は、た
とえば前記焼成炉14においては、前記フレーム18の
幅方向両端部に固設された1対の台部材34の上部にそ
れぞれ設けられた軸受け36にその両端部を支持された
状態で、前記焼成炉14を幅方向に貫通して配設されて
いる。図3は、前記基板20が本実施例の厚膜印刷基板
用熱処理装置10内を搬送される様子を平面視した図で
あり、この図3に示すように、前記基板20は、たとえ
ば1辺125〜155mm程度の角形シリコンウェハで
あり、厚膜印刷基板用熱処理装置10内において上記複
数本の搬送ローラ32に支持されている。上記複数本の
搬送ローラ32の1端部(図2においては向かって右側
の端部)にはスプロケット38が上記搬送ローラ32と
回転軸心を共有して且つその共通の軸心まわりに相対回
転不能に設けられており、前記フレーム18に固定され
たサーボモータ40が駆動させられてそのモータスプロ
ケット42が1方向に回転されると、その回転がチェー
ン44を介して上記スプロケット38に伝達される。そ
れにより、上記複数本の搬送ローラ32がそれぞれの軸
心まわりに回転させられると、その回転に伴って前記基
板20が前記1方向に搬送されることとなる。
【0019】前記基板20には、そのようにして本実施
例の厚膜印刷基板用熱処理装置10内を前記1方向に搬
送される過程で、たとえば、図4に示すような温度プロ
ファイルに従って熱処理が施される。前記乾燥炉12に
設けられた中間赤外線ヒータ22、前記焼成炉14に設
けられた近赤外線ヒータ24、および前記冷却装置16
に設けられた冷却ジャケット30は、前記基板20が搬
送される過程で、図4に示すような温度曲線が得られる
ようにその出力あるいは冷却水の流量が電子制御装置4
6によって制御されるものである。図4においては、熱
処理開始から1分経過後までが前記乾燥炉12に対応
し、1.5分経過後から3.2分経過後までが前記焼成
炉14に対応し、3.2分経過後から4.2分経過後ま
でが前記冷却装置16に対応する。ここで、前記基板2
0が前記乾燥炉12を通過し終わってから前記焼成炉1
4に送り込まれるまでに時間的な間隔があるのは、前記
乾燥炉12と焼成炉14との間の熱干渉を可及的に低く
抑える為に物理的に相互に離隔されているからである。
なお、かかる乾燥炉12と焼成炉14との間に常温の冷
却エアを導入することにより、さらに好適に相互間の熱
干渉を防止することができる。
【0020】前記基板20は、たとえば図4に示すよう
に、前記乾燥炉12内において150℃程度まで昇温さ
れることにより、その表面および裏面に印刷された厚膜
材料ペーストに含まれる有機溶媒の大部分が燃え抜けさ
せられる。その後、前記焼成炉14内において670℃
程度まで昇温され、かかる温度にて一定時間維持される
ことにより、その厚膜材料ペーストが焼成されて所定の
機能を備えた材料膜とされる。さらにその後、前記冷却
装置16内において室温程度まで降温され、そのように
して、前記基板20に熱処理が施される。なお、前記基
板20がたとえば太陽電池基板などである場合には、た
とえば前記基板20の表面および裏面にそれぞれ異なる
パターンでアルミニウム・銀などの厚膜材料ペーストが
印刷され、その厚膜材料ペーストが印刷された基板20
に熱処理が施されるという一連の工程が繰り返されるこ
とにより、所定の機能を備えた材料膜が設けられた太陽
電池基板が作製される。
【0021】前記搬送ローラ32には、たとえば図3に
示すように、前記基板20の端部を外周面において支持
する為の回転体(平面図形が同一平面上にある1つの直
線を軸として回転して生ずる立体)状本体部52と、前
記基板20の蛇行を防止する為にその回転体状本体部5
2と一体的に設けられた円環状突部54とをそれぞれ備
えた1対のガイド部材50が、その軸心に設けられた穴
部56に前記搬送ローラ32が挿入され、上記回転体状
本体部52の外周面から上記穴部56に貫通して設けら
れたネジ穴58に図示しないすりわり付き止めネジなど
が螺合されることにより前記搬送ローラ32と回転軸心
を共有して相互に固定されている。かかるガイド部材5
0の材料としては、たとえば耐熱性樹脂材料、ステンレ
ス材料、あるいは耐熱性セラミックス材料などが適して
おり、たとえばその温度が400℃以上となることが想
定されるガイド部材50すなわち前記焼成炉14に設け
られるガイド部材50についてはたとえば耐熱性セラミ
ックス材料あるいはステンレス材料などが、それ以外の
ガイド部材50については耐熱性樹脂材料などが好適に
用いられる。
【0022】図5は、上記ガイド部材50を説明する図
であり、(a)はその軸心方向から見た平面図、(b)
は正面図である。この図に示すように、上記ガイド部材
50の回転体状本体部52は、好適には、軸心方向に径
が漸減するテーパ状外周面60を備えてテーパ状に形成
されたものであり、相対向する他方のガイド部材50に
向かうほど上記回転体状本体部52の径が漸減するよう
に前記搬送ローラ32に固設される。図6は、そのよう
に前記搬送ローラ32に固設されたガイド部材50と前
記基板20とが当接している様子をその基板20の進行
方向から見た図であり、この図6に示すように、上記回
転体状本体部52が上述のようにテーパ状外周面60を
備えてテーパ状に形成されていることにより、前記基板
20がその端部の1点Pにおいてかかる1対のガイド部
材50における回転体状本体部52に点接触により支持
される。
【0023】このように、本実施例によれば、互いに平
行に配置されてそれぞれ軸心回りに回転駆動される複数
本の搬送ローラ32それぞれに、前記1対のガイド部材
50がその搬送ローラ32と回転軸心を共有して設けら
れている為、前記基板20がその端部においてかかる1
対のガイド部材50における回転体状本体部52に支持
されることによりその裏面が前記搬送ローラ32に接触
することなく搬送がおこなわれる。また、前記1対のガ
イド部材50は、前記基板20の蛇行を防止する為の円
環状突部54をそれぞれ備えたものである為、前記基板
20が蛇行しそうになった場合にその円環状突部54に
より進行方向が修正される。すなわち、厚膜材料ペース
トが印刷された基板20の表面および裏面に好適な熱処
理を施すことができ且つ搬送に際してその基板20が蛇
行するなどの不具合を生じさせない厚膜印刷基板用熱処
理装置10を提供することができる。
【0024】また、好適には、前記1対のガイド部材5
0における回転体状本体部52は、相対向する他方のガ
イド部材50に向かうほど径が漸減するテーパ状外周面
60をそれぞれ備えたものである為、前記基板20がそ
の端部Pにおいてかかる1対のガイド部材50における
回転体状本体部52に点接触により支持されるので、た
とえば前記基板20の裏面において端部のごく付近たと
えば外縁から数mmの部分まで厚膜材料ペーストが印刷
されていたとしても好適な熱処理を施すことができると
いう利点がある。
【0025】また、前記厚膜印刷基板用熱処理装置10
は所謂RHKであり、炉内における金属の摺動による金
属粉が発生し得ないことに加えて、セラミックファイバ
ボードにより構成された炉心管の内壁にセラミックス材
料がコーティングされることにより、炉内の清浄度がさ
らに高められ、メッシュベルトを用いた熱処理装置の清
浄度がクラス100000程度であるのに比べて、クラ
ス1000程度まで飛躍的に清浄度を高めることができ
る。また、前記搬送ローラ32はメッシュベルトと比較
して炉体外部に露出する部分が少なく、加熱・冷却に伴
う熱損失が少ない為、ランニングコストに関してメッシ
ュベルトを用いた熱処理装置の2/3程度に抑えること
ができる。さらに、前記搬送ローラ32は熱による変形
を起こし難く前記基板20の搬送による摩耗なども僅か
である為、それほど頻繁に交換する必要はなく、メンテ
ナンスコストに関してメッシュベルトを用いた熱処理装
置の1/2程度に抑えることができる。
【0026】続いて、前述の実施例の搬送ローラ32に
設けられる他のガイド部材を例示する。なお、以下の説
明において、前述の実施例と共通する部分に関しては同
一の符号を付してその説明を省略する。
【0027】図7は、前述の実施例の搬送ローラ32に
設けられる他のガイド部材70を説明する図であり、
(a)はその軸心方向から見た平面図、(b)は正面図
である。この図に示すように、かかるガイド部材70の
回転体状本体部72は、軸心方向に径が漸減する小径側
の第1テーパ状外周面74と、中央段76と、軸心方向
に径が漸減する大径側の第2テーパ状外周面78とを備
えて構成されたものであり、相対向する他方のガイド部
材70に向かうほど上記回転体状本体部72の径が漸減
するように前記搬送ローラ32に固設される。このよう
にすれば、たとえば大きさの異なる2種類の基板20に
熱処理を施すに際して、比較的小さな基板20の熱処理
に際してはその基板20の端部が上記第1テーパ状外周
面74にて支持されるように用いることで上記中央段7
6がかかる基板20の蛇行を防止し、比較的大きな基板
20の熱処理に際してはその基板20の端部が上記第2
テーパ状外周面78にて支持されるように用いることで
前記円環状突部54がかかる基板20の蛇行を防止す
る。すなわち、それぞれの基板20の蛇行をより好適に
防止することができるという利点がある。
【0028】また、図8は、前述の実施例の搬送ローラ
32に設けられるさらに別のガイド部材80を説明する
図であり、(a)はその軸心方向から見た平面図、
(b)は正面図である。この図に示すように、かかるガ
イド部材80の回転体状本体部82は、所定の径を備え
て円筒状に形成された小径側の第1円筒状外周面84
と、中央段86と、所定の径を備えて円筒状に形成され
た大径側の第2円筒状外周面88とを備えて構成された
ものであり、上記小径側が相対向するように前記搬送ロ
ーラ32に固設される。すなわち、本発明のガイド部材
は必ずしも軸心方向に径が漸減するテーパ状外周面が設
けられている必要はなく、このような構成によっても、
たとえば大きさの異なる2種類の基板20に熱処理を施
すに際して、比較的小さな基板20の熱処理に際しては
その基板20の端部が上記第1円筒状外周面84にて支
持されるように用いることで上記中央段86がかかる基
板20の蛇行を防止し、比較的大きな基板20の熱処理
に際してはその基板20の端部が上記第2円筒状外周面
88にて支持されるように用いることで前記円環状突部
54がかかる基板20の蛇行を防止することができる。
そのような場合、前記基板20とガイド部材80とは線
接触することになるが、上記第1円筒状外周面84およ
び第2円筒状外周面88の軸心方向の長さ寸法、および
相対向するガイド部材80の相互間隔を適宜設定するこ
とにより、厚膜材料ペーストが印刷された基板20の表
面および裏面に好適な熱処理を施すことができるのであ
る。
【0029】また、図9は、前述の実施例の搬送ローラ
32に設けられるさらに別のガイド部材90を説明する
図であり、(a)はその軸心方向から見た平面図、
(b)は正面図である。この図に示すように、かかるガ
イド部材90の回転体状本体部92は、前記円環状突部
54から軸心方向に指数関数的に径が漸減するテーパ状
外周面94を備えてテーパ状に構成されたものであり、
相対向する他方のガイド部材90に向かうほど上記回転
体状本体部92の径が漸減するように前記搬送ローラ3
2に固設される。このようにすれば、前述の実施例で説
明した前記ガイド部材50と同様に、前記基板20が蛇
行しそうになった場合に前記円環状突部54により進行
方向が修正されることに加え、前記基板20がその端部
Pにおいて前記搬送ローラ32に設けられた1対のガイ
ド部材90における回転体状本体部92に点接触により
支持されるので、たとえば前記基板20の裏面において
端部のごく付近たとえば外縁から数mmの部分まで厚膜
材料ペーストが印刷されていたとしても好適な熱処理を
施すことができる。
【0030】以上、本発明の好適な実施例を図面に基づ
いて詳細に説明したが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、さらに別の態様においても実施される。
【0031】たとえば、前述の実施例においては、図4
に示すような温度プロファイルに従って前記基板20に
熱処理が施されていたが、これはあくまで一実施例に過
ぎず、被焼成物である基板の態様に応じて最適な温度プ
ロファイルが適宜設定されて用いられるものである。
【0032】また、前述の実施例においては、前記乾燥
炉12、焼成炉14、および冷却装置16を備えた厚膜
印刷基板用熱処理装置10について説明したが、本発明
は、たとえば前記乾燥炉12と焼成炉14のみを備えた
熱処理装置、あるいは前記焼成炉14のみを備えた焼成
装置などに用いられても構わない。すなわち、前記搬送
ローラ32が用いられる所謂RHKであれば熱処理の形
態は問わない。
【0033】また、前記乾燥炉12および焼成炉14に
は、中間赤外線ヒータ22および近赤外線ヒータ24が
それぞれ設けられていたが、本発明に用いられる加熱機
器は赤外線ヒータには限られず、たとえばSiCヒータ
あるいはシーズヒータが設けられたものであってもよ
い。さらには、熱風加熱によるものであっても構わな
い。
【0034】また、前述の実施例において、前記基板2
0は図1の矢印Sで示す1方向に搬送されるのみであっ
たが、たとえば前記焼成炉14内において、一旦矢印S
で示す方向と反対の方向に搬送され、再び矢印Sで示す
1方向に搬送されるものであっても構わない。このよう
にすれば、前記焼成炉14における焼成時間を長くでき
る、あるいは前記焼成炉14の炉長が短くて済むなどと
いった利点がある。
【0035】また、前記基板20は、太陽電池基板であ
ったが、本発明はこれに限定されるものではなく、厚膜
材料ペーストが印刷されたあらゆる基板の熱処理に適用
される。たとえば、民生用・産業用電子機器に多用され
ている部品である混成集積回路(hybrid IC)
のベースになる厚膜集積回路(thick filmI
C)は、アルミナなどの絶縁基板上に導体・誘電体・抵
抗体などの厚膜材料ペーストがスクリーン印刷などによ
り回路構成され、予備乾燥・焼成・抵抗値トリミングな
どの工程を経て作製されるが、本発明の厚膜印刷基板用
熱処理装置は、そのような予備乾燥・焼成といった熱処
理にも好適に用いられるものである。
【0036】また、前述の実施例においては、前記搬送
ローラ32と前記ガイド部材50などとは別個に形成さ
れて相互に固設されて用いられるものであったが、たと
えば同一の耐熱性セラミックス材料から一体に成形・焼
成されることにより、前記ガイド部材50などに対応す
る回転体状突起が設けられた搬送ローラとして形成され
たものであっても構わない。
【0037】また、前述の実施例においては、図2に示
すように、炉体の幅方向に単数の前記基板20が搬送さ
れていたが、たとえば炉体の幅方向に3列の基板20が
搬送されるようにそれぞれの搬送ローラ32に3対のガ
イド部材50などが設けられたものであっても構わな
い。このようにすれば、前記搬送ローラ32に複数対の
前記ガイド部材50などが設けられることにより前記基
板20の並列搬送が可能とされ、処理効率がより高めら
れるという利点がある。
【0038】その他一々例示はしないが、本発明はその
趣旨を逸脱しない範囲内において、種々の変更が加えら
れて用いられるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である厚膜印刷基板用熱処理
装置の構成を説明する概略図である。
【図2】図1におけるII-II視断面図である。
【図3】厚膜材料ペーストが印刷された基板が本実施例
の厚膜印刷基板用熱処理装置内を搬送される様子を平面
視した図である。
【図4】本実施例の厚膜印刷基板用熱処理装置の作動に
より得られる基板の温度プロファイルを示す図である。
【図5】搬送ローラに設けられるガイド部材を説明する
図であり、(a)はその軸心方向から見た平面図、
(b)は正面図である。
【図6】搬送ローラに固設されたガイド部材と基板とが
当接している様子をその基板の進行方向から見た図であ
る。
【図7】搬送ローラに設けられる他のガイド部材を説明
する図であり、(a)はその軸心方向から見た平面図、
(b)は正面図である。
【図8】搬送ローラに設けられるさらに別のガイド部材
を説明する図であり、(a)はその軸心方向から見た平
面図、(b)は正面図である。
【図9】搬送ローラに設けられるさらに別のガイド部材
を説明する図であり、(a)はその軸心方向から見た平
面図、(b)は正面図である。
【符号の説明】
10:厚膜印刷基板用熱処理装置 20:基板 32:搬送ローラ 50、70、80、90:ガイド部材 52、72、82、92:回転体状本体部 54:円環状突部 60、94:テーパ状外周面 74:第1テーパ状外周面(テーパ状外周面) 78:第2テーパ状外周面(テーパ状外周面) 84:第1円筒状外周面(外周面) 88:第2円筒状外周面(外周面)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 英孝 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36 号 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 内 Fターム(参考) 3F033 BA03 BA06 BB02 BC03 GA06 GB08 GC01 GC08 GD03 GD07 GE02 5F031 CA02 FA01 GA53 5F051 BA14 CB24 CB30 GA04 GA20

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 互いに平行に配置されてそれぞれ軸心回
    りに回転駆動される複数本の搬送ローラを備え、該複数
    本の搬送ローラにより1方向に搬送される厚膜材料ペー
    ストが印刷された基板に熱処理を施す為の厚膜印刷基板
    用熱処理装置であって、 前記搬送ローラには、前記基板の端部を外周面において
    支持する為の回転体状本体部と、前記基板の蛇行を防止
    する為に該回転体状本体部と一体的に設けられた円環状
    突部とをそれぞれ備えた1対のガイド部材が、前記搬送
    ローラと回転軸心を共有して設けられていることを特徴
    とする厚膜印刷基板用熱処理装置。
  2. 【請求項2】 前記1対のガイド部材における回転体状
    本体部は、相対向する他方のガイド部材に向かうほど径
    が漸減するテーパ状外周面をそれぞれ備えたものである
    請求項1の厚膜印刷基板用熱処理装置。
  3. 【請求項3】 厚膜材料ペーストが印刷された基板に熱
    処理を施す為の厚膜印刷基板用熱処理装置において、互
    いに平行に配置されてそれぞれ軸心回りに回転駆動され
    ることにより前記基板を1方向に搬送する為の搬送ロー
    ラであって、 前記基板の端部を外周面において支持する為の回転体状
    本体部と、前記基板の蛇行を防止する為に該回転体状本
    体部と一体的に設けられた円環状突部とをそれぞれ備え
    た1対のガイド部材が、前記搬送ローラと回転軸心を共
    有して設けられていることを特徴とする搬送ローラ。
  4. 【請求項4】 前記1対のガイド部材における回転体状
    本体部は、相対向する他方のガイド部材に向かうほど径
    が漸減するテーパ状外周面をそれぞれ備えたものである
    請求項3の搬送ローラ。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007215615A (ja) * 2006-02-14 2007-08-30 Newgin Corp 遊技機用搬送装置
JP2007223683A (ja) * 2006-02-21 2007-09-06 Asyst Shinko Inc 搬送装置
WO2010040720A1 (de) * 2008-10-06 2010-04-15 Würth Solar Gmbh & Co. Kg Transporteinrichtung und substratbeschichtungsanlage
ITRM20090172A1 (it) * 2009-04-15 2010-10-16 Luis Maria Antonello "dispositivo di trascinamento di celle fotovoltaiche o dei loro substrati durante il processo di fabbricazione delle celle fotovoltaiche"
JP2011258813A (ja) * 2010-06-10 2011-12-22 Shin Etsu Chem Co Ltd 太陽電池素子の電極焼成用焼成炉、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池素子
CN102393139A (zh) * 2011-11-16 2012-03-28 杨桂玲 一种辊道式太阳电池硅片烧结炉
JP2013189286A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Ito Tekkosho:Kk ローラ搬送装置、及びその短軸ローラ
KR20140015391A (ko) * 2011-02-21 2014-02-06 씨티에프 솔라 게엠베하 기판 상에 필름을 부착시키는 방법 및 장치
CN103743231A (zh) * 2013-11-25 2014-04-23 安徽赛耐尔机械制造有限公司 辊道式太阳电池硅片干燥烧结一体炉

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007215615A (ja) * 2006-02-14 2007-08-30 Newgin Corp 遊技機用搬送装置
JP2007223683A (ja) * 2006-02-21 2007-09-06 Asyst Shinko Inc 搬送装置
WO2010040720A1 (de) * 2008-10-06 2010-04-15 Würth Solar Gmbh & Co. Kg Transporteinrichtung und substratbeschichtungsanlage
CN102439738A (zh) * 2009-04-15 2012-05-02 微型半导体有限责任公司 在光生伏打电池的制造过程中用于驱动光生伏打电池或其基质的设备
ITRM20090172A1 (it) * 2009-04-15 2010-10-16 Luis Maria Antonello "dispositivo di trascinamento di celle fotovoltaiche o dei loro substrati durante il processo di fabbricazione delle celle fotovoltaiche"
WO2010119470A1 (en) * 2009-04-15 2010-10-21 Luis Maria Antonello Device for driving photovoltaic cells or their substrates during the process for manufacture of the photovoltaic cells
CN103026480A (zh) * 2010-06-10 2013-04-03 信越化学工业株式会社 用于烧制太阳能电池元件电极的燃烧炉、制造太阳能电池元件的方法和太阳能电池元件
JP2011258813A (ja) * 2010-06-10 2011-12-22 Shin Etsu Chem Co Ltd 太陽電池素子の電極焼成用焼成炉、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池素子
EP2581933A4 (en) * 2010-06-10 2015-11-25 Shinetsu Chemical Co Furnace for firing the electrolytic cell of a solar cell element, method for producing the solar cell element and solar cell element
US11616163B2 (en) 2010-06-10 2023-03-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Firing furnace for firing electrode of solar cell element, method for manufacturing solar cell element, and solar cell element
KR20140015391A (ko) * 2011-02-21 2014-02-06 씨티에프 솔라 게엠베하 기판 상에 필름을 부착시키는 방법 및 장치
JP2014506960A (ja) * 2011-02-21 2014-03-20 ツェーテーエフ・ゾラール・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング 基体のコーティングのための方法および装置
KR101945003B1 (ko) * 2011-02-21 2019-02-01 씨티에프 솔라 게엠베하 기판 상에 필름을 부착시키는 방법 및 장치
CN102393139A (zh) * 2011-11-16 2012-03-28 杨桂玲 一种辊道式太阳电池硅片烧结炉
JP2013189286A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Ito Tekkosho:Kk ローラ搬送装置、及びその短軸ローラ
CN103743231A (zh) * 2013-11-25 2014-04-23 安徽赛耐尔机械制造有限公司 辊道式太阳电池硅片干燥烧结一体炉

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