JP2003021901A - 感光性平版印刷版の光重合方法 - Google Patents
感光性平版印刷版の光重合方法Info
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光カブリを抑制し、かつ、現像液カス低減に
よる処理安定性向上をもたらす、高感度な感光性平版印
刷版の光重合方法及びそれを特定の現像液を用いて現像
する製版方法を提供すること。 【解決手段】 特定の構造で表される増感色素の内の少
なくとも一種を含有してなる感光性平版印刷版を４５０
ｎｍ以下の波長を有するレーザー光で露光することを特
徴とする光重合方法。
よる処理安定性向上をもたらす、高感度な感光性平版印
刷版の光重合方法及びそれを特定の現像液を用いて現像
する製版方法を提供すること。 【解決手段】 特定の構造で表される増感色素の内の少
なくとも一種を含有してなる感光性平版印刷版を４５０
ｎｍ以下の波長を有するレーザー光で露光することを特
徴とする光重合方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特定の色素を含有
してなる感光性平版印刷版を、４５０ｎｍ以下の波長を
有するレーザー光で露光することを特徴とする光重合方
法および、それを特定の現像液を用いて現像する製版方
法に関するものである。更に詳しくは、高い生産性を有
し、光カブリによる印刷汚れがほとんど見られない非常
に硬調な画像が得られ、さらに現像カスを大幅に減らす
平版印刷版の製版方法に関する。
してなる感光性平版印刷版を、４５０ｎｍ以下の波長を
有するレーザー光で露光することを特徴とする光重合方
法および、それを特定の現像液を用いて現像する製版方
法に関するものである。更に詳しくは、高い生産性を有
し、光カブリによる印刷汚れがほとんど見られない非常
に硬調な画像が得られ、さらに現像カスを大幅に減らす
平版印刷版の製版方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、平版印刷版としては親水性支持体
上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するＰＳ版
が広く用いられ、その製版方法として、通常は、リスフ
イルムを介してマスク露光（面露光）後、非画像部を溶
解除去することにより所望の印刷版を得ていた。近年、
画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理、蓄積、
出力する、ディジタル化技術が広く普及し、それに対応
した新しい画像出力方式が種々実用される様になってき
た。その結果レーザ光のような指向性の高い光をディジ
タル化された画像情報に従って走査し、リスフイルムを
介す事無く、直接印刷版を製造するコンピュータ トゥ
プレート（ＣＴＰ）技術が望まれ、これに適応した印
刷版用原版を得ることが重要な技術課題となっている。
上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するＰＳ版
が広く用いられ、その製版方法として、通常は、リスフ
イルムを介してマスク露光（面露光）後、非画像部を溶
解除去することにより所望の印刷版を得ていた。近年、
画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理、蓄積、
出力する、ディジタル化技術が広く普及し、それに対応
した新しい画像出力方式が種々実用される様になってき
た。その結果レーザ光のような指向性の高い光をディジ
タル化された画像情報に従って走査し、リスフイルムを
介す事無く、直接印刷版を製造するコンピュータ トゥ
プレート（ＣＴＰ）技術が望まれ、これに適応した印
刷版用原版を得ることが重要な技術課題となっている。
【０００３】この光源としてＡｒレーザー（４８８ｎ
ｍ）やＦＤ−ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ）の様な長波
長の可視光源を用いる従来のＣＴＰシステムに関して
は、製版行程の生産性をあげるために、さらに高速で書
き込む事が望まれているが、光源の出力が十分高くない
ことや感材の感度が十分高く無い為に到達されていな
い。これらの例としては、特開平9-268185や特開平6-192
309、特開平10-204085に開示されているチタノセンとク
マリンの組み合わせ開始系を用いた感光性平版印刷版が
ある。また、これらの感材は感光特性上、非常に暗い部
屋での取り扱いが必要であり、この点でも改善が求めら
れている。一方、近年、例えば、ＩｎＧａＮ系の材料を
用い、３５０ｎｍから４５０ｎｍ域で連続発振可能な半
導体レーザ（バイオレットＬＤ）が実用段階となってい
る。これらの短波光源を用いた走査露光システムは、半
導体レーザが構造上、安価に製造可能であり、経済的な
システムを構築できるといった長所を有する。
ｍ）やＦＤ−ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ）の様な長波
長の可視光源を用いる従来のＣＴＰシステムに関して
は、製版行程の生産性をあげるために、さらに高速で書
き込む事が望まれているが、光源の出力が十分高くない
ことや感材の感度が十分高く無い為に到達されていな
い。これらの例としては、特開平9-268185や特開平6-192
309、特開平10-204085に開示されているチタノセンとク
マリンの組み合わせ開始系を用いた感光性平版印刷版が
ある。また、これらの感材は感光特性上、非常に暗い部
屋での取り扱いが必要であり、この点でも改善が求めら
れている。一方、近年、例えば、ＩｎＧａＮ系の材料を
用い、３５０ｎｍから４５０ｎｍ域で連続発振可能な半
導体レーザ（バイオレットＬＤ）が実用段階となってい
る。これらの短波光源を用いた走査露光システムは、半
導体レーザが構造上、安価に製造可能であり、経済的な
システムを構築できるといった長所を有する。
【０００４】更に、従来のＦＤ−ＹＡＧやＡｒレーザを
使用するシステムに比較して、より明るいセーフライト
下での作業が可能な感光域が短波な感材が使用できる。
また、最も一般的なインナードラム型露光機を用いた場
合には、露光機の構造上インナーミラーの回転速度で描
画速度が決まるが、バイオレットＬＤを用いた場合には
インナーミラーの回転速度を上げる事ができるため、従
来のＡｒレーザー（４８８ｎｍ）やＦＤ−ＹＡＧレーザ
ー（５３２ｎｍ）を用いるのに比較して描画速度を向上
させる事が出来る。これらのことから、３５０ｎｍから
４５０ｎｍの比較的短波な半導体レーザを用いたＣＴＰ
システムに適した平版印刷版用原版を得ることが、本産
業分野において強く望まれるようになっている。
使用するシステムに比較して、より明るいセーフライト
下での作業が可能な感光域が短波な感材が使用できる。
また、最も一般的なインナードラム型露光機を用いた場
合には、露光機の構造上インナーミラーの回転速度で描
画速度が決まるが、バイオレットＬＤを用いた場合には
インナーミラーの回転速度を上げる事ができるため、従
来のＡｒレーザー（４８８ｎｍ）やＦＤ−ＹＡＧレーザ
ー（５３２ｎｍ）を用いるのに比較して描画速度を向上
させる事が出来る。これらのことから、３５０ｎｍから
４５０ｎｍの比較的短波な半導体レーザを用いたＣＴＰ
システムに適した平版印刷版用原版を得ることが、本産
業分野において強く望まれるようになっている。
【０００５】これまでに比較的感度の高い開始系として
特定の色素とチタノセン化合物とを組み合わせた開始系
が知られている。特開平９−８０７５０号では、スチリ
ル系色素とチタノセンの組み合わせが、特開平１０−１
０１７１９号では、５員ヘテロ環酸性核を有する色素と
チタノセンの組み合わせが、それぞれ開示されている。
これらは確かに高感度であったが十分ではなく、また、
４５０ｎｍ以下の波長を有するレーザー光線を用いた場
合には実用上十分な感度が得られず、短波長光源には適
さず、また、セーフライト適性に関する示唆は全くなさ
れていない。
特定の色素とチタノセン化合物とを組み合わせた開始系
が知られている。特開平９−８０７５０号では、スチリ
ル系色素とチタノセンの組み合わせが、特開平１０−１
０１７１９号では、５員ヘテロ環酸性核を有する色素と
チタノセンの組み合わせが、それぞれ開示されている。
これらは確かに高感度であったが十分ではなく、また、
４５０ｎｍ以下の波長を有するレーザー光線を用いた場
合には実用上十分な感度が得られず、短波長光源には適
さず、また、セーフライト適性に関する示唆は全くなさ
れていない。
【０００６】これらの高感度印刷版は、取り扱い時、保
存時および露光時などに、微量の漏れ光により感光層中
の重合成分が重合により硬化し、その部分が現像で取り
除かれずに非画像部に印刷汚れが発生する、いわゆる光
カブリが生じやすいといった問題があった。特に、内面
ドラム方式（インナードラム型）のレーザー露光機で露
光を行う場合に、このような高感度印刷版は反射光（フ
レア光）による光カブリを生じやすい。例えば感材とし
てネガ型の版を使用した場合、版の片側に全面ベタのよ
うな画像を露光すると、その反対側が非画像部の場合薄
く現像不良ぎみのカブリが生じ、またその反対側（光源
に対して反対側を１８０°とすると１４０〜２２０°程
度）が網点の場合、網点が太るような不具合が生じ、微
小な画像やハイライト部が再現されにくいという問題が
あり、改良が望まれていた。また、これらの印刷版で
は、長期間現像処理を続けていると現像液中に不要物が
蓄積、凝集沈降し現像カスとなり現像処理を不安定化す
る要因となっていた。
存時および露光時などに、微量の漏れ光により感光層中
の重合成分が重合により硬化し、その部分が現像で取り
除かれずに非画像部に印刷汚れが発生する、いわゆる光
カブリが生じやすいといった問題があった。特に、内面
ドラム方式（インナードラム型）のレーザー露光機で露
光を行う場合に、このような高感度印刷版は反射光（フ
レア光）による光カブリを生じやすい。例えば感材とし
てネガ型の版を使用した場合、版の片側に全面ベタのよ
うな画像を露光すると、その反対側が非画像部の場合薄
く現像不良ぎみのカブリが生じ、またその反対側（光源
に対して反対側を１８０°とすると１４０〜２２０°程
度）が網点の場合、網点が太るような不具合が生じ、微
小な画像やハイライト部が再現されにくいという問題が
あり、改良が望まれていた。また、これらの印刷版で
は、長期間現像処理を続けていると現像液中に不要物が
蓄積、凝集沈降し現像カスとなり現像処理を不安定化す
る要因となっていた。
【０００７】更に、上記の３５０ｎｍから４５０ｎｍの
短波半導体レーザ域に対し高い感光性を有する光重合性
組成物を得ることは、広く、ＣＴＰ以外の産業分野、例
えば、光造形、ホログラフィー、カラーハードコピーと
いったレーザイメージング分野や、フォトレジスト等の
電子材料製造分野、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹
脂材料分野においても、ますます要求の高まっている重
要な技術である。
短波半導体レーザ域に対し高い感光性を有する光重合性
組成物を得ることは、広く、ＣＴＰ以外の産業分野、例
えば、光造形、ホログラフィー、カラーハードコピーと
いったレーザイメージング分野や、フォトレジスト等の
電子材料製造分野、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹
脂材料分野においても、ますます要求の高まっている重
要な技術である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明で
は上記従来の技術の欠点を克服し、光カブリを抑制し、
かつ、現像液カス低減による処理安定性向上をもたら
す、高感度な感光性平版印刷版の光重合方法及びそれを
特定の現像液を用いて現像する製版方法を提供しようと
するものである。
は上記従来の技術の欠点を克服し、光カブリを抑制し、
かつ、現像液カス低減による処理安定性向上をもたら
す、高感度な感光性平版印刷版の光重合方法及びそれを
特定の現像液を用いて現像する製版方法を提供しようと
するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、下記の光重合方法
及び製版方法により上記の課題を達成することを見出し
た。
を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、下記の光重合方法
及び製版方法により上記の課題を達成することを見出し
た。
【００１０】（１） 下記一般式（Ｉ）で表される増感
色素の内の少なくとも一種を含有してなる感光性平版印
刷版を４５０ｎｍ以下の波長を有するレーザー光で露光
することを特徴とする光重合方法。
色素の内の少なくとも一種を含有してなる感光性平版印
刷版を４５０ｎｍ以下の波長を有するレーザー光で露光
することを特徴とする光重合方法。
【００１１】
【化３】
【００１２】式（Ｉ）中、ＴはＯＲ、ＳＲ、Ｎ(Ｒ)2も
しくはＳＯ2Ｒを表し、ビニル基のオルトまたはパラ位
に少なくとも一つ存在する。但し、Ｙのフェニル環結合
部分が酸素原子または硫黄原子、もしくはＮ原子の場合
には、Ｔは存在しなくても良い。Ｘは酸素原子または硫
黄原子ないしＮＲを表す。Ｙは隣接炭素原子と共同して
環形成する非金属原子団を表し、Ｒはそれぞれ独立に、
水素原子または非金属原子団であり、互いに結合してい
ても良い。
しくはＳＯ2Ｒを表し、ビニル基のオルトまたはパラ位
に少なくとも一つ存在する。但し、Ｙのフェニル環結合
部分が酸素原子または硫黄原子、もしくはＮ原子の場合
には、Ｔは存在しなくても良い。Ｘは酸素原子または硫
黄原子ないしＮＲを表す。Ｙは隣接炭素原子と共同して
環形成する非金属原子団を表し、Ｒはそれぞれ独立に、
水素原子または非金属原子団であり、互いに結合してい
ても良い。
【００１３】（２） 増感色素が下記一般式（II）で表
される増感色素の内の少なくとも一種であることを特徴
とする前記（１）に記載の光重合方法。
される増感色素の内の少なくとも一種であることを特徴
とする前記（１）に記載の光重合方法。
【００１４】
【化４】
【００１５】式（II）中、ＴはＯＲ、ＳＲ、Ｎ(Ｒ)2も
しくはＳＯ2Ｒを表し、ビニル基のオルトまたはパラ位
に少なくとも一つ存在する。但し、Ｙのフェニル環結合
部分が酸素原子または硫黄原子、もしくはＮ原子の場合
には、Ｔは存在しなくても良い。Ｒはそれぞれ独立に、
水素原子または非金属原子団であり、互いに結合してい
ても良い。Ｚは酸素原子または硫黄原子ないしＮＲを表
す。
しくはＳＯ2Ｒを表し、ビニル基のオルトまたはパラ位
に少なくとも一つ存在する。但し、Ｙのフェニル環結合
部分が酸素原子または硫黄原子、もしくはＮ原子の場合
には、Ｔは存在しなくても良い。Ｒはそれぞれ独立に、
水素原子または非金属原子団であり、互いに結合してい
ても良い。Ｚは酸素原子または硫黄原子ないしＮＲを表
す。
【００１６】（３） 前記（１）又は（２）に記載の光
重合方法を用いて作成した感光性平版印刷版を、レーザ
ー光で露光後、無機アルカリ剤および、下記一般式（II
I）で表される非イオン性化合物を含有する非珪酸塩系
の現像液を用いて現像することを特徴とする製版方法。 Ａ−Ｗ （III） （式（III）中、ＡはＡ−ＨのlogPが１．５以上の疎水
性有機基を表し、ＷはＷ−ＨのlogP が１．０未満の非
イオン性の親水性有機基を表す。）
重合方法を用いて作成した感光性平版印刷版を、レーザ
ー光で露光後、無機アルカリ剤および、下記一般式（II
I）で表される非イオン性化合物を含有する非珪酸塩系
の現像液を用いて現像することを特徴とする製版方法。 Ａ−Ｗ （III） （式（III）中、ＡはＡ−ＨのlogPが１．５以上の疎水
性有機基を表し、ＷはＷ−ＨのlogP が１．０未満の非
イオン性の親水性有機基を表す。）
【００１７】（４） 現像液が２価金属に対するキレー
ト剤を含有することを特徴とする前記（３）に記載の平
版印刷版の製版方法。 （５） 現像液がｐＨ１０.０から１２.５であり、電導
度が３〜３０ mS / cmである事を特徴とする前記（３）
又は（４）に記載の平版印刷版の製版方法。
ト剤を含有することを特徴とする前記（３）に記載の平
版印刷版の製版方法。 （５） 現像液がｐＨ１０.０から１２.５であり、電導
度が３〜３０ mS / cmである事を特徴とする前記（３）
又は（４）に記載の平版印刷版の製版方法。
【００１８】本発明において、バイオレットＬＤを用い
た高生産性システムに対応可能な感度を達成する為に
は、上記の一般式（Ｉ）で表される色素、好ましくは上
記の一般式（II）で表される色素を用いるのが有効であ
るが、このような構造の色素が高感度である理由として
は以下のように考えている。即ち、色素としては励起寿
命が長く、失活しにくいものが高感度だということが広
く公知であるが、本発明の構造を有する色素はこの点で
好ましいものと考える。バイオレットＬＤは従来のＦＤ
−ＹＡＧやＡｒレーザに比べ、短波長であり、励起エネ
ルギーが大きくなるために、色素の失活が起こりやすく
なっていると予想される。ここで、本発明者らは励起状
態中における色素の二重結合周りの光異性化が色素の失
活の一因である事を突き止め、異性化を起こしえない構
造を有する色素、即ち、上記の一般式（Ｉ）で表される
色素、好ましくは上記の一般式（II）で表される色素を
用いることで感度の向上が可能であることを見出し、本
発明に到達したのである。
た高生産性システムに対応可能な感度を達成する為に
は、上記の一般式（Ｉ）で表される色素、好ましくは上
記の一般式（II）で表される色素を用いるのが有効であ
るが、このような構造の色素が高感度である理由として
は以下のように考えている。即ち、色素としては励起寿
命が長く、失活しにくいものが高感度だということが広
く公知であるが、本発明の構造を有する色素はこの点で
好ましいものと考える。バイオレットＬＤは従来のＦＤ
−ＹＡＧやＡｒレーザに比べ、短波長であり、励起エネ
ルギーが大きくなるために、色素の失活が起こりやすく
なっていると予想される。ここで、本発明者らは励起状
態中における色素の二重結合周りの光異性化が色素の失
活の一因である事を突き止め、異性化を起こしえない構
造を有する色素、即ち、上記の一般式（Ｉ）で表される
色素、好ましくは上記の一般式（II）で表される色素を
用いることで感度の向上が可能であることを見出し、本
発明に到達したのである。
【００１９】本発明の製版方法で用いる現像液は、従来
の現像液に比べて浸透性が低く、光硬化部の内部や、支
持体表面を破壊せずに、表面から溶解していく事を特徴
としている。この現像液を用いた場合は、現像液が硬化
部に浸透して、画像部が支持体からポロリと剥離されて
しまうような事が無く、感光層の硬化度にきちんと対応
した形で現像する事が出来る。フレア光のような微量な
光で硬化してしまった部分は硬化度が低く、一方、レー
ザー露光された画像部は硬化度が十分に高いため、本発
明中の現像液を用いた場合には、フレア光により微妙に
硬化した非画像部はきちんと現像され。レーザー露光部
は現像されずに、しっかりとした画像部を形成すること
が出来る。即ち、本発明における製版方法を用いること
で、非常に高感度な印刷版を用いて、非常に硬調な画像
形成が可能である事を見出し、本発明に到達したもので
ある。
の現像液に比べて浸透性が低く、光硬化部の内部や、支
持体表面を破壊せずに、表面から溶解していく事を特徴
としている。この現像液を用いた場合は、現像液が硬化
部に浸透して、画像部が支持体からポロリと剥離されて
しまうような事が無く、感光層の硬化度にきちんと対応
した形で現像する事が出来る。フレア光のような微量な
光で硬化してしまった部分は硬化度が低く、一方、レー
ザー露光された画像部は硬化度が十分に高いため、本発
明中の現像液を用いた場合には、フレア光により微妙に
硬化した非画像部はきちんと現像され。レーザー露光部
は現像されずに、しっかりとした画像部を形成すること
が出来る。即ち、本発明における製版方法を用いること
で、非常に高感度な印刷版を用いて、非常に硬調な画像
形成が可能である事を見出し、本発明に到達したもので
ある。
【００２０】特に、本発明においては、現像液組成物に
ついて鋭意検討した結果、特殊な成分からなる現像液に
より、画像形成性を損なわずに印刷時の汚れと耐刷性の
両立ができ、かつ、上述の現像液不溶性化合物を溶解或
いは長時間分散安定化でき、処理安定性をも向上するこ
とに成功した。
ついて鋭意検討した結果、特殊な成分からなる現像液に
より、画像形成性を損なわずに印刷時の汚れと耐刷性の
両立ができ、かつ、上述の現像液不溶性化合物を溶解或
いは長時間分散安定化でき、処理安定性をも向上するこ
とに成功した。
【００２１】特殊な現像液とは、現像液組成物として以
下の要件を満たすものであると現在のところは考えてい
る。第１に画像形成性に対し極めて良好な働きをするこ
と（未露光部の現像性は高く、露光部に対する現像液の
浸透性は低い。また、感光層の溶解挙動は非膨潤的であ
り、感光層表面から順に溶解していく）。第２に未露光
部の感光層を完全に除去することができ、支持体表面を
印刷汚れの発生しない親水面として再生できること。第
３に上述の現像不溶性化合物を安定に分散或いは可溶化
するため、これらの不溶性化合物と相互作用する疎水性
サイトと水中で分散安定化させる親水性サイトを有する
前記一般式（Ｉ）の非イオン性化合物を含有すること。
第４に塩析や現像速度低下を防ぐため、塩濃度が低いこ
と（非珪酸塩系であり、ｐＨも従来のアルカリ現像液に
比較して低いことが必要）。第５に現像処理時の不安定
化要因となる、水に含有されるＣａイオン等の２価金属
を除去するキレート剤を含有すること。この内、第１、
第２に関しては感光層成分の特徴も重要な要因となる。
特に光重合性の平版印刷版の感光層であれば制約は受け
ないが、現在判っているところでは、感光層酸価が従来
のものよりも低いことは、本発明の現像液との相乗効果
を得る点では、重要であると考えられる。
下の要件を満たすものであると現在のところは考えてい
る。第１に画像形成性に対し極めて良好な働きをするこ
と（未露光部の現像性は高く、露光部に対する現像液の
浸透性は低い。また、感光層の溶解挙動は非膨潤的であ
り、感光層表面から順に溶解していく）。第２に未露光
部の感光層を完全に除去することができ、支持体表面を
印刷汚れの発生しない親水面として再生できること。第
３に上述の現像不溶性化合物を安定に分散或いは可溶化
するため、これらの不溶性化合物と相互作用する疎水性
サイトと水中で分散安定化させる親水性サイトを有する
前記一般式（Ｉ）の非イオン性化合物を含有すること。
第４に塩析や現像速度低下を防ぐため、塩濃度が低いこ
と（非珪酸塩系であり、ｐＨも従来のアルカリ現像液に
比較して低いことが必要）。第５に現像処理時の不安定
化要因となる、水に含有されるＣａイオン等の２価金属
を除去するキレート剤を含有すること。この内、第１、
第２に関しては感光層成分の特徴も重要な要因となる。
特に光重合性の平版印刷版の感光層であれば制約は受け
ないが、現在判っているところでは、感光層酸価が従来
のものよりも低いことは、本発明の現像液との相乗効果
を得る点では、重要であると考えられる。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、本発明における、光カブリ
を抑制し、かつ、現像液カス低減による処理安定性向上
をもたらす、高感度な感光性平版印刷版とその印刷版製
版方法について、さらに詳細に説明する。
を抑制し、かつ、現像液カス低減による処理安定性向上
をもたらす、高感度な感光性平版印刷版とその印刷版製
版方法について、さらに詳細に説明する。
【００２３】［感光性平版印刷版］まず、本発明に使用
される感光性平版印刷版について説明する。
される感光性平版印刷版について説明する。
【００２４】［感光層］その中でも、本発明に使用され
る感光性平版印刷版の感光層について、はじめに説明す
る。本発明に使用される感光性平版印刷版の感光層は、
特に限定されないが、レーザー描画可能なネガ型の光重
合系の感光層であることが好ましい。光重合系感光層の
主な成分は、 ａ）光重合開始系、 ｂ）付加重合可能なエチレン性不飽和二重結を有する化
合物 ｃ）アルカリ水溶液に可溶又は膨潤性の高分子重合体 であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等
の種々の化合物が添加される。
る感光性平版印刷版の感光層について、はじめに説明す
る。本発明に使用される感光性平版印刷版の感光層は、
特に限定されないが、レーザー描画可能なネガ型の光重
合系の感光層であることが好ましい。光重合系感光層の
主な成分は、 ａ）光重合開始系、 ｂ）付加重合可能なエチレン性不飽和二重結を有する化
合物 ｃ）アルカリ水溶液に可溶又は膨潤性の高分子重合体 であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等
の種々の化合物が添加される。
【００２５】a) 光重合開始系
本発明における光重合開始系は特定の構造を有する増感
色素と公知である種々の光重合性開始剤との組み合わせ
からなる。以下、順に説明する。
色素と公知である種々の光重合性開始剤との組み合わせ
からなる。以下、順に説明する。
【００２６】本発明に用いられる増感色素は上記一般式
（Ｉ）で表される構造を有するものであり、好ましくは
上記一般式（II）で表される構造を有するものである。
また、これらの色素のうち、主吸収が５００ｎｍ以下の
ものは長波長に感光せず、比較的明るい黄色灯下で取り
扱う事が出来るため、特に好ましい。
（Ｉ）で表される構造を有するものであり、好ましくは
上記一般式（II）で表される構造を有するものである。
また、これらの色素のうち、主吸収が５００ｎｍ以下の
ものは長波長に感光せず、比較的明るい黄色灯下で取り
扱う事が出来るため、特に好ましい。
【００２７】以下、一般式（Ｉ）〜（II）で表される構
造を有する増感色素について詳しく説明する。
造を有する増感色素について詳しく説明する。
【００２８】上記一般式（Ｉ）において、ＴはＯＲ、Ｓ
Ｒ、Ｎ(Ｒ)2もしくはＳＯ2Ｒを表し、ビニル基のオルト
またはパラ位に少なくとも一つ存在する。但し、Ｙのフ
ェニル環結合部分が酸素原子または硫黄原子、もしくは
Ｎ原子の場合には、Ｔは存在しなくても良い。 また、Ｔは複数存在していても良く、Ｔを有するフェニ
ル環上には、Ｔ以外に他の置換基を有していても良い。
Ｘは酸素原子または硫黄原子ないしＮＲを表す。Ｙは隣
接炭素原子と共同して環形成する非金属原子団を表し、
Ｒはそれぞれ独立に、水素原子または非金属原子団であ
り、互いに結合していても良い。また、上記Ｎ(Ｒ)2に
おけるＲは、各々、フェニル環と結合してしていても良
い。
Ｒ、Ｎ(Ｒ)2もしくはＳＯ2Ｒを表し、ビニル基のオルト
またはパラ位に少なくとも一つ存在する。但し、Ｙのフ
ェニル環結合部分が酸素原子または硫黄原子、もしくは
Ｎ原子の場合には、Ｔは存在しなくても良い。 また、Ｔは複数存在していても良く、Ｔを有するフェニ
ル環上には、Ｔ以外に他の置換基を有していても良い。
Ｘは酸素原子または硫黄原子ないしＮＲを表す。Ｙは隣
接炭素原子と共同して環形成する非金属原子団を表し、
Ｒはそれぞれ独立に、水素原子または非金属原子団であ
り、互いに結合していても良い。また、上記Ｎ(Ｒ)2に
おけるＲは、各々、フェニル環と結合してしていても良
い。
【００２９】Ｙは、隣接炭素原子と共同して、環を形成
するのに必要な非金属原子団を表す。Ｙは、分子内での
環形成等により、α、β炭素間の異性化を２０％以下に
抑えることができる置換基であれば何れでもよく、環の
具体例としては、シクロアルカン、シクロアルケン、芳
香族環、ヘテロアリール環等が挙げられ、それぞれ、ヘ
テロ原子を連結鎖中に含有していても良い。
するのに必要な非金属原子団を表す。Ｙは、分子内での
環形成等により、α、β炭素間の異性化を２０％以下に
抑えることができる置換基であれば何れでもよく、環の
具体例としては、シクロアルカン、シクロアルケン、芳
香族環、ヘテロアリール環等が挙げられ、それぞれ、ヘ
テロ原子を連結鎖中に含有していても良い。
【００３０】Ｒはそれぞれ独立に水素原子または非金属
原子団を表す。この様な置換基の好ましい具体例として
は、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ハロゲン
原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、ア
リールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリール
カルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイ
ルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、
原子団を表す。この様な置換基の好ましい具体例として
は、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ハロゲン
原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、ア
リールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリール
カルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイ
ルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、
【００３１】アリールスルホキシ基、アシルチオ基、ア
シルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリ
ールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレ
イド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−ア
リールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−
Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−
アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、
シルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリ
ールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレ
イド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−ア
リールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−
Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−
アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、
【００３２】アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロ
キシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシ
カルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシ
カルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、
Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、
キシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシ
カルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシ
カルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、
Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、
【００３３】アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基基（以
下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、
アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−
アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスル
フィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル
−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル
基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールスルファモイル基、
ィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基基（以
下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、
アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−
アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスル
フィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル
−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル
基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールスルファモイル基、
【００３４】ホスフォノ基（−ＰＯ3Ｈ2）及びその共役
塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホ
スフォノ基（−ＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォ
ノ基（−ＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノ
基（−ＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノ
基（−ＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以後、ア
ルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフォ
ノ基（−ＰＯ3Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以後、
アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以後、ホスフォ
ナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォノオキシ
基（−ＯＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノ
オキシ基（−ＯＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホ
スフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役
塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称
す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ
(aryl)）及びその共役塩基基（以後、アリールフォスホ
ナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が
挙げられる。
塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホ
スフォノ基（−ＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォ
ノ基（−ＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノ
基（−ＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノ
基（−ＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以後、ア
ルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフォ
ノ基（−ＰＯ3Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以後、
アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以後、ホスフォ
ナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォノオキシ
基（−ＯＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノ
オキシ基（−ＯＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホ
スフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役
塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称
す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ
(aryl)）及びその共役塩基基（以後、アリールフォスホ
ナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が
挙げられる。
【００３５】これらの置換基における、アルキル基の好
ましい例としては、炭素原子数が１から２０までの直鎖
状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることがで
き、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、
２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を
挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキ
ル基がより好ましい。
ましい例としては、炭素原子数が１から２０までの直鎖
状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることがで
き、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、
２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を
挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキ
ル基がより好ましい。
【００３６】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上
の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基とし
たものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレ
ン基を挙げることができる。置換アルキル基の置換基は
任意であるが、好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、
基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上
の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基とし
たものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレ
ン基を挙げることができる。置換アルキル基の置換基は
任意であるが、好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、
【００３７】Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエ
チル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、ア
セチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプ
ロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル
基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル
基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキ
シカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メ
チルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバ
モイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイ
ルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カル
バモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル
基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイ
ルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピ
ル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、
チル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、ア
セチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプ
ロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル
基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル
基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキ
シカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メ
チルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバ
モイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイ
ルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カル
バモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル
基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイ
ルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピ
ル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、
【００３８】Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）
スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホス
フォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジ
フェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチ
ル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノ
ヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォ
ノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−
メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル
基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル
基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチル
プロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル
基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。
スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホス
フォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジ
フェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチ
ル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノ
ヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォ
ノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−
メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル
基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル
基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチル
プロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル
基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。
【００３９】これらの置換基におけるアリール基の具体
例としては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成
したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成し
たものを挙げることができ、具体例としては、フェニル
基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、イ
ンデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙
げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフ
チル基がより好ましい。
例としては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成
したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成し
たものを挙げることができ、具体例としては、フェニル
基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、イ
ンデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙
げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフ
チル基がより好ましい。
【００４０】置換アリール基の具体例としては、前述の
アリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を
除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。置
換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル
基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニ
ル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフ
ェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル
基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニ
ル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、
トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエ
チルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチ
ルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ
−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−
フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミ
ノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル
基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェ
ノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル
基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スル
ホフェニル）カルバモイルフェニル基、
アリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を
除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。置
換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル
基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニ
ル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフ
ェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル
基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニ
ル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、
トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエ
チルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチ
ルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ
−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−
フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミ
ノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル
基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェ
ノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル
基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スル
ホフェニル）カルバモイルフェニル基、
【００４１】スルホフェニル基、スルホナトフェニル
基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモ
イルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−
メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルフ
ェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニ
ル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホス
フォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチ
ルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル
基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
フェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プ
ロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブ
チニルフェニル基、等を挙げることができる。
基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモ
イルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−
メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルフ
ェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニ
ル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホス
フォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチ
ルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル
基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
フェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プ
ロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブ
チニルフェニル基、等を挙げることができる。
【００４２】ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、
硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多
環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロー
ル、ピリジン、等の５員、または６員環芳香族置換基が
使用できる。
硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多
環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロー
ル、ピリジン、等の５員、または６員環芳香族置換基が
使用できる。
【００４３】また、アルケニル基の例としては、ビニル
基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル
基、２−クロロ−１−エテニル基、等が挙げられ、アル
キニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル
基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が
挙げられる。
基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル
基、２−クロロ−１−エテニル基、等が挙げられ、アル
キニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル
基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が
挙げられる。
【００４４】アシル基（Ｇ1ＣＯ−）におけるＧ1として
は、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙
げることができる。これら置換基の内、更により好まし
いものとしてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、
−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ
基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリ
ールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキ
ルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリー
ルホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナト
オキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。
は、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙
げることができる。これら置換基の内、更により好まし
いものとしてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、
−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ
基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリ
ールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキ
ルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリー
ルホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナト
オキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。
【００４５】以上述べた、Ｒは、感光性、感光波長、安
定性等の性能の他、実用上の様々な観点から選択され
る。例えば、組成物系での相溶性改良、結晶析出防止と
いった観点、現像を行う場合には現像処理液への溶解
性、分散性、析出しにくさといった観点、原料の価格、
合成の簡便さ、精製のしやすさ等の経済上の観点を考慮
して適宜選択される。この様な観点で、特に好ましい置
換基の例としては、水素原子、ハロゲン原子（−Ｆ、−
Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、炭素数１から６の低級アルキル
基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、アリル基、２−メチルプロペニル基など）、アルキ
ル置換アミノアルキレン基（アルキル基としては炭素数
が１から６迄の直鎖状あるいは分岐状アルキル基炭素数
が５から７までの環状アルキル基があげられ、アルキレ
ン基としては炭素数１から３までのモノ−、ジ−、トリ
−メチレン基がある）を挙げることができる。
定性等の性能の他、実用上の様々な観点から選択され
る。例えば、組成物系での相溶性改良、結晶析出防止と
いった観点、現像を行う場合には現像処理液への溶解
性、分散性、析出しにくさといった観点、原料の価格、
合成の簡便さ、精製のしやすさ等の経済上の観点を考慮
して適宜選択される。この様な観点で、特に好ましい置
換基の例としては、水素原子、ハロゲン原子（−Ｆ、−
Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、炭素数１から６の低級アルキル
基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、アリル基、２−メチルプロペニル基など）、アルキ
ル置換アミノアルキレン基（アルキル基としては炭素数
が１から６迄の直鎖状あるいは分岐状アルキル基炭素数
が５から７までの環状アルキル基があげられ、アルキレ
ン基としては炭素数１から３までのモノ−、ジ−、トリ
−メチレン基がある）を挙げることができる。
【００４６】アリール基の具体例としては、フェニル
基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、イ
ンデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙
げることができ、置換アリール基の具体例としては、ビ
フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメ
ニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオ
ロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロ
メチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフ
ェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシ
フェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニ
ル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル
基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル
基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェ
ニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニ
ル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、ア
セチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノ
フェニル基、
基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、イ
ンデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙
げることができ、置換アリール基の具体例としては、ビ
フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメ
ニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオ
ロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロ
メチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフ
ェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシ
フェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニ
ル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル
基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル
基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェ
ニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニ
ル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、ア
セチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノ
フェニル基、
【００４７】カルボキシフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、ク
ロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフ
ェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシ
フェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−
（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフ
ェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェ
ニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォ
ノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフォノフ
ェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォ
ノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチ
ルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル
基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナト
フェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−
ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチル
プロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２
−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基、等を
挙げることができる。
ルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、ク
ロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフ
ェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシ
フェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−
（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフ
ェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェ
ニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォ
ノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフォノフ
ェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォ
ノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチ
ルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル
基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナト
フェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−
ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチル
プロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２
−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基、等を
挙げることができる。
【００４８】ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、
硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多
環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロー
ル、ピリジン、等の５員、または６員環芳香族置換基が
使用できる。置換ヘテロアリール基の例としては、一価
の非金属原子団を用いることができる。特に好ましいヘ
テロアリール基の例としては、例えば、チオフェン、チ
アスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメ
ン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾー
ル、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピ
リミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジ
ン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジ
ン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾ
リン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリ
ン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナ
ンスロリン、フェナルザジン、フラザン等があげられ、
これらは、さらにベンゾ縮環しても良く、また置換基を
有していても良い。
硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多
環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロー
ル、ピリジン、等の５員、または６員環芳香族置換基が
使用できる。置換ヘテロアリール基の例としては、一価
の非金属原子団を用いることができる。特に好ましいヘ
テロアリール基の例としては、例えば、チオフェン、チ
アスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメ
ン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾー
ル、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピ
リミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジ
ン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジ
ン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾ
リン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリ
ン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナ
ンスロリン、フェナルザジン、フラザン等があげられ、
これらは、さらにベンゾ縮環しても良く、また置換基を
有していても良い。
【００４９】また、上記一般式（Ｉ）において、Ｒは互
いに結合して環を形成しても良い。置換基Ｒが互いに結
合して形成される環としては、分子内での環形成等によ
り、α、β炭素間の異性化を２０％以下に抑えることが
できる置換基であれば何れでもよく、環の具体例として
は、シクロアルカン、シクロアルケン、芳香族環、ヘテ
ロアリール環等が挙げられ、それぞれ、ヘテロ原子を連
結鎖中に含有していても良い。
いに結合して環を形成しても良い。置換基Ｒが互いに結
合して形成される環としては、分子内での環形成等によ
り、α、β炭素間の異性化を２０％以下に抑えることが
できる置換基であれば何れでもよく、環の具体例として
は、シクロアルカン、シクロアルケン、芳香族環、ヘテ
ロアリール環等が挙げられ、それぞれ、ヘテロ原子を連
結鎖中に含有していても良い。
【００５０】式（II）中、ＴはＯＲ、ＳＲ、Ｎ(Ｒ)2も
しくはＳＯ2Ｒを表し、ビニル基のオルトまたはパラ位
に少なくとも一つ存在する。但し、Ｙのフェニル環結合
部分が酸素原子または硫黄原子、もしくはＮ原子の場合
には、Ｔは存在しなくても良い。また、Ｔは複数存在し
ていても良く、Ｔを有するフェニル環上には、Ｔ以外に
他の置換基を有していても良い。Ｒはそれぞれ独立に、
水素原子または非金属原子団であり、互いに結合してい
ても良い。Ｚは酸素原子または硫黄原子ないしＮＲを表
す。ここで、Ｔ、Ｒは、上記一般式（Ｉ）中のものと同
様である。
しくはＳＯ2Ｒを表し、ビニル基のオルトまたはパラ位
に少なくとも一つ存在する。但し、Ｙのフェニル環結合
部分が酸素原子または硫黄原子、もしくはＮ原子の場合
には、Ｔは存在しなくても良い。また、Ｔは複数存在し
ていても良く、Ｔを有するフェニル環上には、Ｔ以外に
他の置換基を有していても良い。Ｒはそれぞれ独立に、
水素原子または非金属原子団であり、互いに結合してい
ても良い。Ｚは酸素原子または硫黄原子ないしＮＲを表
す。ここで、Ｔ、Ｒは、上記一般式（Ｉ）中のものと同
様である。
【００５１】以下に、本発明の増感色素の例を、より具
体的な記述として、化学構造式（Ｄ−１）〜（Ｄ−４
２）で示すが、本発明の増感色素は上述の構造用件を満
たすものをいずれも好適に使用でき、本発明は、以下の
化学構造式によって制限を受けるものではない。
体的な記述として、化学構造式（Ｄ−１）〜（Ｄ−４
２）で示すが、本発明の増感色素は上述の構造用件を満
たすものをいずれも好適に使用でき、本発明は、以下の
化学構造式によって制限を受けるものではない。
【００５２】
【化５】
【００５３】
【化６】
【００５４】
【化７】
【００５５】
【化８】
【００５６】本発明の式（Ｉ）から式（II）の構造で示
される増感色素は公知の合成法およびその関連合成法を
用いて容易に合成できる。より具体的な合成法を以下に
示す。 例えば、一般式（Ｉ）で表される増感色素は、Synthesi
s; EN; 1; 1997; 87-90、米国特許第4147552号、特開平
6-192309号、英国特許867592号、DE 1098125号、特公昭
51-7488号、特開平10-204085号、実験化学講座第４版、
１９巻、５４頁〜（1992年・日本化学会）等を参照して
合成できる。
される増感色素は公知の合成法およびその関連合成法を
用いて容易に合成できる。より具体的な合成法を以下に
示す。 例えば、一般式（Ｉ）で表される増感色素は、Synthesi
s; EN; 1; 1997; 87-90、米国特許第4147552号、特開平
6-192309号、英国特許867592号、DE 1098125号、特公昭
51-7488号、特開平10-204085号、実験化学講座第４版、
１９巻、５４頁〜（1992年・日本化学会）等を参照して
合成できる。
【００５７】本発明の増感色素に関しては、さらに、感
光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うこと
も可能である。例えば、増感色素と、付加重合性化合物
構造（例えば、アクリロイル基やメタクリロイル基）と
を、共有結合、イオン結合、水素結合等の方法により結
合させる事で、露光膜の高強度化や、露光後の膜からの
色素の不要な析出抑制を行う事ができる。また、増感色
素と後述のチタノセン化合物やその他のラジカル発生パ
ート（例えば、ハロゲン化アルキル、オニウム、過酸化
物、ビイミダゾール、オニウム、ビイミダゾール等の還
元分解性部位や、ボレート、アミン、トリメチルシリル
メチル、カルボキシメチル、カルボニル、イミン等の酸
化解裂性部位）との結合により、特に開始系の濃度の低
い状態での感光性を著しく高める事ができる。さらに、
本感光層の好ましい使用様態である、（アルカリ）水系
現像液への処理適性を高める目的に対しては、親水性部
位（カルボキシル基並びにそのエステル、スルホン酸基
並びにそのエステル、エチレンオキサイド基等の酸基も
しくは極性基）の導入が有効である。特にエステル型の
親水性基は、感光層中では比較的疎水的構造を有するた
め相溶性に優れ、かつ、現像液中では、加水分解により
酸基を生成し、親水性が増大するという特徴を有する。
光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うこと
も可能である。例えば、増感色素と、付加重合性化合物
構造（例えば、アクリロイル基やメタクリロイル基）と
を、共有結合、イオン結合、水素結合等の方法により結
合させる事で、露光膜の高強度化や、露光後の膜からの
色素の不要な析出抑制を行う事ができる。また、増感色
素と後述のチタノセン化合物やその他のラジカル発生パ
ート（例えば、ハロゲン化アルキル、オニウム、過酸化
物、ビイミダゾール、オニウム、ビイミダゾール等の還
元分解性部位や、ボレート、アミン、トリメチルシリル
メチル、カルボキシメチル、カルボニル、イミン等の酸
化解裂性部位）との結合により、特に開始系の濃度の低
い状態での感光性を著しく高める事ができる。さらに、
本感光層の好ましい使用様態である、（アルカリ）水系
現像液への処理適性を高める目的に対しては、親水性部
位（カルボキシル基並びにそのエステル、スルホン酸基
並びにそのエステル、エチレンオキサイド基等の酸基も
しくは極性基）の導入が有効である。特にエステル型の
親水性基は、感光層中では比較的疎水的構造を有するた
め相溶性に優れ、かつ、現像液中では、加水分解により
酸基を生成し、親水性が増大するという特徴を有する。
【００５８】その他、例えば、感光層中での相溶性向
上、結晶析出抑制のために適宜置換基を導入する事がで
きる。例えば、ある種の感光系では、アリール基やアリ
ル基等の不飽和結合が相溶性向上に非常に有効である場
合があり、また、分岐アルキル構造導入等の方法によ
り、色素π平面間の立体障害を導入する事で、結晶析出
が著しく抑制できる。また、ホスホン酸基やエポキシ
基、トリアルコキシシリル基等の導入により、金属や金
属酸化物等の無機物への密着性を向上させる事ができ
る。そのほか、目的に応じ、増感色素のポリマー化等の
方法も利用できる。
上、結晶析出抑制のために適宜置換基を導入する事がで
きる。例えば、ある種の感光系では、アリール基やアリ
ル基等の不飽和結合が相溶性向上に非常に有効である場
合があり、また、分岐アルキル構造導入等の方法によ
り、色素π平面間の立体障害を導入する事で、結晶析出
が著しく抑制できる。また、ホスホン酸基やエポキシ
基、トリアルコキシシリル基等の導入により、金属や金
属酸化物等の無機物への密着性を向上させる事ができ
る。そのほか、目的に応じ、増感色素のポリマー化等の
方法も利用できる。
【００５９】これらの増感色素の使用法に関しても、後
述の付加重合性化合物同様、感材の性能設計により任意
に設定できる。例えば、増感色素を２種以上併用するこ
とで、感光層への相溶性を高める事ができる。増感色素
の選択は、感光性の他、使用する光源の発光波長でのモ
ル吸光係数が重要な因子である。モル吸光係数の大きな
色素を使用する事により、色素の添加量は比較的少なく
できるので、経済的であり、かつ感光層の膜物性の点か
らも有利である。感光層の感光性、解像度や、露光膜の
物性は光源波長での吸光度に大きな影響を受けるので、
これらを考慮して増感色素の添加量を適宜選択する。例
えば、吸光度が０．１以下の低い領域では感度が低下す
る。また、ハレーションの影響により低解像度となる。
但し、例えば５μｍ以上の厚い膜を硬化せしめる目的に
対しては、この様な低い吸光度の方がかえって硬化度を
あげられる場合もある。また、吸光度が３以上の様な高
い領域では、感光層表面で大部分の光が吸収され、より
内部での硬化が阻害され、例えば印刷版として使用した
場合には膜強度、基板密着性の不十分なものとなる。比
較的薄い膜厚で使用する平版印刷版としての使用に際し
ては、増感色素の添加量は、感光層の吸光度が０．１か
ら１．５の範囲、好ましくは０．２５から１の範囲とな
るように設定するのが好ましい。平版印刷版として利用
する場合には、これは、通常、感光層成分１００重量部
に対し、０．０５〜３０重量部、好ましくは０．１〜２
０重量部、さらに好ましくは０．２〜１０重量部の範囲
である。
述の付加重合性化合物同様、感材の性能設計により任意
に設定できる。例えば、増感色素を２種以上併用するこ
とで、感光層への相溶性を高める事ができる。増感色素
の選択は、感光性の他、使用する光源の発光波長でのモ
ル吸光係数が重要な因子である。モル吸光係数の大きな
色素を使用する事により、色素の添加量は比較的少なく
できるので、経済的であり、かつ感光層の膜物性の点か
らも有利である。感光層の感光性、解像度や、露光膜の
物性は光源波長での吸光度に大きな影響を受けるので、
これらを考慮して増感色素の添加量を適宜選択する。例
えば、吸光度が０．１以下の低い領域では感度が低下す
る。また、ハレーションの影響により低解像度となる。
但し、例えば５μｍ以上の厚い膜を硬化せしめる目的に
対しては、この様な低い吸光度の方がかえって硬化度を
あげられる場合もある。また、吸光度が３以上の様な高
い領域では、感光層表面で大部分の光が吸収され、より
内部での硬化が阻害され、例えば印刷版として使用した
場合には膜強度、基板密着性の不十分なものとなる。比
較的薄い膜厚で使用する平版印刷版としての使用に際し
ては、増感色素の添加量は、感光層の吸光度が０．１か
ら１．５の範囲、好ましくは０．２５から１の範囲とな
るように設定するのが好ましい。平版印刷版として利用
する場合には、これは、通常、感光層成分１００重量部
に対し、０．０５〜３０重量部、好ましくは０．１〜２
０重量部、さらに好ましくは０．２〜１０重量部の範囲
である。
【００６０】本発明に使用される感光性平版印刷版の感
光層に含有される光重合開始剤としては、使用する光源
の波長により、特許、文献等で公知である種々の光開始
剤、あるいは２種以上の光開始剤の併用系（光開始系）
を適宜選択して使用することができる。
光層に含有される光重合開始剤としては、使用する光源
の波長により、特許、文献等で公知である種々の光開始
剤、あるいは２種以上の光開始剤の併用系（光開始系）
を適宜選択して使用することができる。
【００６１】例えば、染料とアミンの複合開始系（特公
昭44‐20189号）、ヘキサアリールビイミダゾール類
（特公昭47‐2528号、特開昭54‐155292号、特開昭59‐
140203号、特開平10‐36354号等）、環状シス−α―ジ
カルボニル化合物（特開昭48‐84183号等）、トリアジ
ン化合物（特開昭54‐151024号等）、有機化酸化物（特
開昭59‐1504号、特開昭59‐140203号、特開昭59‐1893
40号、特開昭62‐174203号、特公昭62‐1641号、米国特
許第4766055号等）、活性ハロゲン（特開昭63‐258903
号、特開平2‐63054号等）、ボレート化合物（特開昭62
‐143044号、特開平1−229003号、特開平9‐188685号、
特開平9‐188686号、特開平9‐188710号等）およびチタ
ノセン化合物（特開昭63‐221110号、特開平4‐221958
号、特開平4‐219756号、特開平6‐295061号、特開平8
‐334897号等）等を挙げることが出来る。
昭44‐20189号）、ヘキサアリールビイミダゾール類
（特公昭47‐2528号、特開昭54‐155292号、特開昭59‐
140203号、特開平10‐36354号等）、環状シス−α―ジ
カルボニル化合物（特開昭48‐84183号等）、トリアジ
ン化合物（特開昭54‐151024号等）、有機化酸化物（特
開昭59‐1504号、特開昭59‐140203号、特開昭59‐1893
40号、特開昭62‐174203号、特公昭62‐1641号、米国特
許第4766055号等）、活性ハロゲン（特開昭63‐258903
号、特開平2‐63054号等）、ボレート化合物（特開昭62
‐143044号、特開平1−229003号、特開平9‐188685号、
特開平9‐188686号、特開平9‐188710号等）およびチタ
ノセン化合物（特開昭63‐221110号、特開平4‐221958
号、特開平4‐219756号、特開平6‐295061号、特開平8
‐334897号等）等を挙げることが出来る。
【００６２】さらに、本発明で用いる光重合開始剤に必
要に応じてアミン化合物、チオール化合物などの助剤を
加えても良く、これらの水素供与性化合物を加えること
によってさらに光重合開始能力を高めることができる。
これらの光重合開始剤の使用量は、エチレン性不飽和化
合物１００重量部に対し、０．０５〜１００重量部、好
ましくは０．１〜７０重量部、更に好ましくは０．２〜
５０重量部の範囲で用いることができる。
要に応じてアミン化合物、チオール化合物などの助剤を
加えても良く、これらの水素供与性化合物を加えること
によってさらに光重合開始能力を高めることができる。
これらの光重合開始剤の使用量は、エチレン性不飽和化
合物１００重量部に対し、０．０５〜１００重量部、好
ましくは０．１〜７０重量部、更に好ましくは０．２〜
５０重量部の範囲で用いることができる。
【００６３】ｂ）付加重合可能なエチレン製不飽和二重
結合を有する化合物 付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物は、末
端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは
２個以上有する化合物の中から任意に選択することがで
きる。例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量
体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物な
らびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつもので
ある。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽
和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸な
ど）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽
和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が
挙げられる。
結合を有する化合物 付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物は、末
端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは
２個以上有する化合物の中から任意に選択することがで
きる。例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量
体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物な
らびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつもので
ある。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽
和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸な
ど）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽
和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が
挙げられる。
【００６４】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチ
ル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチ
ル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。
【００６５】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレ
ート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトール
テトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオ
キシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチル
メタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フ
ェニル〕ジメチルメタン等がある。
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレ
ート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトール
テトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオ
キシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチル
メタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フ
ェニル〕ジメチルメタン等がある。
【００６６】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリ
エチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトール
ジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。さ
らに、前述のエステルモノマーの混合物も挙げることが
できる。
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリ
エチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトール
ジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。さ
らに、前述のエステルモノマーの混合物も挙げることが
できる。
【００６７】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている、１分子中に２個以上の
イソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物
に、下記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビ
ニルモノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている、１分子中に２個以上の
イソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物
に、下記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビ
ニルモノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。
【００６８】
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ21）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ22）ＯＨ （Ａ）
【００６９】（ただし、Ｒ21およびＲ22はＨ又はＣＨ3
を示す。）
を示す。）
【００７０】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号に記載されているようなウレタンアク
リレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−
４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載
されているようなポリエステルアクリレート類、エポキ
シ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアク
リレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレート
を挙げることができる。さらに日本接着協会誌ｖｏｌ．
２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）
に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されて
いるものも使用することができる。なお、これらの使用
量は、全成分に対して５〜７０重量％（以下％と略称す
る。）、好ましくは１０〜５０％である。
２−３２２９３号に記載されているようなウレタンアク
リレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−
４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載
されているようなポリエステルアクリレート類、エポキ
シ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアク
リレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレート
を挙げることができる。さらに日本接着協会誌ｖｏｌ．
２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）
に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されて
いるものも使用することができる。なお、これらの使用
量は、全成分に対して５〜７０重量％（以下％と略称す
る。）、好ましくは１０〜５０％である。
【００７１】ｃ）アルカリ水溶液に可溶又は膨潤性の高
分子重合体 本発明に使用される感光性平版印刷版の感光層に含有さ
れるアルカリ水に可溶性又は膨潤性を有する高分子重合
体は、該組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、アルカ
リ水現像剤の用途に応じて選択使用される。有機高分子
重合体は、例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いる
と水現像が可能になる。この様な有機高分子重合体とし
ては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば
特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７
号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５
７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８
３６号、特開昭５９−７１０４８号に記載されているも
の、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
がある。
分子重合体 本発明に使用される感光性平版印刷版の感光層に含有さ
れるアルカリ水に可溶性又は膨潤性を有する高分子重合
体は、該組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、アルカ
リ水現像剤の用途に応じて選択使用される。有機高分子
重合体は、例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いる
と水現像が可能になる。この様な有機高分子重合体とし
ては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば
特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７
号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５
７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８
３６号、特開昭５９−７１０４８号に記載されているも
の、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
がある。
【００７２】また同様に、側鎖にカルボン酸基を有する
酸性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する
付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用
である。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレ
ート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加
重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル（メタ）
アクリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他
の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。
この他に水溶性有機高分子として、ポリピニルピロリド
ンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化
皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミド
や２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパ
ンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用であ
る。また特公平７−１２００４０号、特公平７−１２０
０４１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２
４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−
２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特開平１
１−３５２６９１号に記載のポリウレタン樹脂も本発明
の用途には有用である。
酸性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する
付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用
である。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレ
ート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加
重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル（メタ）
アクリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他
の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。
この他に水溶性有機高分子として、ポリピニルピロリド
ンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化
皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミド
や２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパ
ンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用であ
る。また特公平７−１２００４０号、特公平７−１２０
０４１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２
４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−
２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特開平１
１−３５２６９１号に記載のポリウレタン樹脂も本発明
の用途には有用である。
【００７３】これら高分子重合体は側鎖にラジカル反応
性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させる
ことができる。付加重合反応し得る官能基としてエチレ
ン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照
射によりラジカルになり得る官能基としては、メルカプ
ト基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オ
ニウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イ
ミド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基
としては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチ
リル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、
又アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カ
ルバモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイ
レン基、スルフォン酸基、アンモニオ基から選ばれる官
能基も有用である。組成物の現像性を維持するため、本
発明の高分子重合体は適当な分子量、酸価を有すること
が好ましい。前述の現像液で現像させるため、重量平均
分子量が５０００から３０万で、酸価０．２〜５．０ｍ
ｅｑ／ｇの高分子重合体を使用することが好ましい。
性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させる
ことができる。付加重合反応し得る官能基としてエチレ
ン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照
射によりラジカルになり得る官能基としては、メルカプ
ト基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オ
ニウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イ
ミド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基
としては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチ
リル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、
又アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カ
ルバモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイ
レン基、スルフォン酸基、アンモニオ基から選ばれる官
能基も有用である。組成物の現像性を維持するため、本
発明の高分子重合体は適当な分子量、酸価を有すること
が好ましい。前述の現像液で現像させるため、重量平均
分子量が５０００から３０万で、酸価０．２〜５．０ｍ
ｅｑ／ｇの高分子重合体を使用することが好ましい。
【００７４】これらの有機高分子重合体は全組成中に任
意な量を混和させることができる。しかし９０重量％を
超える場合には、形成される画像強度等の点で好ましい
結果を与えない。好ましくは１０〜９０％、より好まし
くは３０〜８０％である。また光重合可能なエチレン性
不飽和化合物と有機高分子重合体は、重量比で１／９〜
９／１の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は
２／８〜８／２であり、更に好ましくは３／７〜７／３
である。
意な量を混和させることができる。しかし９０重量％を
超える場合には、形成される画像強度等の点で好ましい
結果を与えない。好ましくは１０〜９０％、より好まし
くは３０〜８０％である。また光重合可能なエチレン性
不飽和化合物と有機高分子重合体は、重量比で１／９〜
９／１の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は
２／８〜８／２であり、更に好ましくは３／７〜７／３
である。
【００７５】また本発明においては、以上の基本成分の
他に、感光層用の感光性組成物の製造中あるいは保存中
において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱
重合を阻止するために、少量の熱重合禁止剤を添加する
ことが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイド
ロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−
ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコー
ル、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニト
ロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、Ｎ−
ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等
が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重
量に対して約０．０１％〜約５％が好ましい。また必要
に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン
酸やべヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加
して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させて
もよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約
０．５％〜約１０％が好ましい。
他に、感光層用の感光性組成物の製造中あるいは保存中
において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱
重合を阻止するために、少量の熱重合禁止剤を添加する
ことが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイド
ロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−
ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコー
ル、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニト
ロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、Ｎ−
ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等
が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重
量に対して約０．０１％〜約５％が好ましい。また必要
に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン
酸やべヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加
して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させて
もよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約
０．５％〜約１０％が好ましい。
【００７６】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １
５：３．１５：４、１５：６など）、アゾ系顔料、カー
ボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレ
ット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキ
ノン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の
添加量は全感光層固形分の約０．５％〜約２０％が好ま
しい。加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機
充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、
トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加え
てもよい。これらの添加量は全感光層固形分の１０％以
下が好ましい。
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １
５：３．１５：４、１５：６など）、アゾ系顔料、カー
ボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレ
ット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキ
ノン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の
添加量は全感光層固形分の約０．５％〜約２０％が好ま
しい。加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機
充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、
トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加え
てもよい。これらの添加量は全感光層固形分の１０％以
下が好ましい。
【００７７】上記感光層を後述の支持体上に塗布する際
には、感光層用組成物を種々の有機溶剤に溶かして使用
に供される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エ
チレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチ
ルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エ
チレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキ
シプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクト
ン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒
は、単独あるいは混合して使用することができる。そし
て、塗布溶液中の固形分の濃度は、１〜５０重量％が適
当である。
には、感光層用組成物を種々の有機溶剤に溶かして使用
に供される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エ
チレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチ
ルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エ
チレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキ
シプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクト
ン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒
は、単独あるいは混合して使用することができる。そし
て、塗布溶液中の固形分の濃度は、１〜５０重量％が適
当である。
【００７８】前記光重合性感光層用組成物には、塗布面
質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。その被覆量は乾燥後の重量で約０．１ｇ／ｍ2〜約
１０ｇ／ｍ2の範囲が適当である。より好ましくは０．
３〜５ｇ／ｍ2である。更に好ましくは０．５〜３ｇ／
ｍ2である。
質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。その被覆量は乾燥後の重量で約０．１ｇ／ｍ2〜約
１０ｇ／ｍ2の範囲が適当である。より好ましくは０．
３〜５ｇ／ｍ2である。更に好ましくは０．５〜３ｇ／
ｍ2である。
【００７９】［感光層酸価］なお、本発明でいう感光層
酸価とは、感光性平版印刷版の支持体上に塗設されてい
る感光性組成物（感光層の上に塗設されるオーバーコー
ト層、例えば、酸素遮断層は含まない）の層、１ｇあた
りに含有されるpKa９以下の酸の等量である。実験的に
は感光層を水酸化ナトリウム水溶液により直接、滴定し
て求めることができるが、感光性組成物中のpKa９以下
の酸基を有する化合物の含有量から計算により求めるこ
ともできる。具体的に感光層酸価を変える方法として
は、感光層成分である架橋剤モノマー／酸基を有するバ
インダーポリマー（線状高分子）の含有比の変更および
酸基の少ない低酸価バインダーポリマーの使用などが考
えられる。低酸価バインダーポリマーとしては、酸価
１．５ｍｅｑ／ｇ以下が好ましい。より好ましくは１．
２ｍｅｑ／ｇ以下である。本発明の感光層の感光層酸価
は１．０ｍｅｑ／ｇであることが好ましい。酸価０．２
０〜０．６０ｍｅｑ／ｇの感光層を有する平版印刷版に
適用する方が効果的である。さらに画像形成性の点でよ
り好ましくは０．３０〜０．５０ｍｅｑ／ｇの感光層を
有するものである。
酸価とは、感光性平版印刷版の支持体上に塗設されてい
る感光性組成物（感光層の上に塗設されるオーバーコー
ト層、例えば、酸素遮断層は含まない）の層、１ｇあた
りに含有されるpKa９以下の酸の等量である。実験的に
は感光層を水酸化ナトリウム水溶液により直接、滴定し
て求めることができるが、感光性組成物中のpKa９以下
の酸基を有する化合物の含有量から計算により求めるこ
ともできる。具体的に感光層酸価を変える方法として
は、感光層成分である架橋剤モノマー／酸基を有するバ
インダーポリマー（線状高分子）の含有比の変更および
酸基の少ない低酸価バインダーポリマーの使用などが考
えられる。低酸価バインダーポリマーとしては、酸価
１．５ｍｅｑ／ｇ以下が好ましい。より好ましくは１．
２ｍｅｑ／ｇ以下である。本発明の感光層の感光層酸価
は１．０ｍｅｑ／ｇであることが好ましい。酸価０．２
０〜０．６０ｍｅｑ／ｇの感光層を有する平版印刷版に
適用する方が効果的である。さらに画像形成性の点でよ
り好ましくは０．３０〜０．５０ｍｅｑ／ｇの感光層を
有するものである。
【００８０】（支持体）本発明で用いられる感光性平版
印刷版の支持体としては、寸度的に安定な板状物であれ
ば、特に限定されないが、アルミニウム支持体が好適で
ある。アルミニウム支持体は、寸度的に安定なアルミニ
ウムを主成分とするアルミニウムおよびアルミニウム含
有（例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミ
ニウムとの合金）合金、またはアルミニウムまたはアル
ミニウム合金がラミネートもしくは蒸着されたプラスチ
ックフィルムまたは紙の中から選ばれる。さらに特公昭
４８−１８３２７号に記載の様なポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複
合体シートでもかまわない。このアルミニウム支持体に
は、適宜後述の基板表面処理が施される。
印刷版の支持体としては、寸度的に安定な板状物であれ
ば、特に限定されないが、アルミニウム支持体が好適で
ある。アルミニウム支持体は、寸度的に安定なアルミニ
ウムを主成分とするアルミニウムおよびアルミニウム含
有（例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミ
ニウムとの合金）合金、またはアルミニウムまたはアル
ミニウム合金がラミネートもしくは蒸着されたプラスチ
ックフィルムまたは紙の中から選ばれる。さらに特公昭
４８−１８３２７号に記載の様なポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複
合体シートでもかまわない。このアルミニウム支持体に
は、適宜後述の基板表面処理が施される。
【００８１】（砂目立て処理）砂目立て処理方法は、特
開昭５６−２８８９３号に開示されているような機械的
砂目立て、化学的エッチング、電解グレインなどがあ
る。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂目
立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム表
面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン
法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でする
ボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂
目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法
を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは
組み合わせて用いることもできる。
開昭５６−２８８９３号に開示されているような機械的
砂目立て、化学的エッチング、電解グレインなどがあ
る。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂目
立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム表
面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン
法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でする
ボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂
目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法
を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは
組み合わせて用いることもできる。
【００８２】その中でも本発明に有用に使用される表面
粗さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に
砂目立てする電気化学的方法であり、適する電流密度は
１００Ｃ／ｄｍ2〜４００Ｃ／ｄｍ2の範囲である。さら
に具体的には、０．１〜５０％の塩酸または硝酸を含む
電解液中、温度２０〜１００℃、時間１秒〜３０分、電
流密度１００Ｃ／ｄｍ2〜４００Ｃ／ｄｍ2の条件で電解
を行うことが好ましい。このように砂目立て処理したア
ルミニウム支持体は、酸またはアルカリにより化学的に
エッチングされる。酸をエッチング剤として用いる場合
は、微細構造を破壊するのに時間がかがり、工業的に本
発明を適用するに際しては不利であるが、アルカリをエ
ッチング剤として用いることにより改善できる。本発明
において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、
炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リ
ン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用
い、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０％、
２０〜１００℃であり。Ａｌの溶解量が５〜２０ｇ／ｍ
3となるような条件が好ましい。
粗さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に
砂目立てする電気化学的方法であり、適する電流密度は
１００Ｃ／ｄｍ2〜４００Ｃ／ｄｍ2の範囲である。さら
に具体的には、０．１〜５０％の塩酸または硝酸を含む
電解液中、温度２０〜１００℃、時間１秒〜３０分、電
流密度１００Ｃ／ｄｍ2〜４００Ｃ／ｄｍ2の条件で電解
を行うことが好ましい。このように砂目立て処理したア
ルミニウム支持体は、酸またはアルカリにより化学的に
エッチングされる。酸をエッチング剤として用いる場合
は、微細構造を破壊するのに時間がかがり、工業的に本
発明を適用するに際しては不利であるが、アルカリをエ
ッチング剤として用いることにより改善できる。本発明
において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、
炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リ
ン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用
い、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０％、
２０〜１００℃であり。Ａｌの溶解量が５〜２０ｇ／ｍ
3となるような条件が好ましい。
【００８３】エッチングのあと表面に残留する汚れ（ス
マット）を除去するために酸洗いが行われる。用いられ
る酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフ
ッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理
後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭
５３−１２７３９号公報に記載されているような５０〜
９０℃の温度の１５〜６５重量％の硫酸と接触させる方
法及び特公昭４８−２８１２３号公報に記載されている
アルカリエッチングする方法が挙げられる。なお、本発
明で有効に用いられるＡｌ支持体の表面粗さは（Ｒａ）
は０．３〜０．７μｍである。
マット）を除去するために酸洗いが行われる。用いられ
る酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフ
ッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理
後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭
５３−１２７３９号公報に記載されているような５０〜
９０℃の温度の１５〜６５重量％の硫酸と接触させる方
法及び特公昭４８−２８１２３号公報に記載されている
アルカリエッチングする方法が挙げられる。なお、本発
明で有効に用いられるＡｌ支持体の表面粗さは（Ｒａ）
は０．３〜０．７μｍである。
【００８４】（陽極酸化処理）以上のようにして処理さ
れたアルミニウム支持体は、さらに陽極酸化処理が施さ
れる。陽極酸化処理はこの分野で従来より行われている
方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、
クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフ
ォン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わせて水溶
液または非水溶液中でアルミニウムに直流または交流を
流すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成す
ることができる。陽極酸化処理の条件は使用される電解
液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、
一般的には電解液の濃度が１〜８０％、液温５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ2、電圧１〜
１００Ｖ、電解時間１０〜１００秒の範囲が適当であ
る。
れたアルミニウム支持体は、さらに陽極酸化処理が施さ
れる。陽極酸化処理はこの分野で従来より行われている
方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、
クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフ
ォン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わせて水溶
液または非水溶液中でアルミニウムに直流または交流を
流すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成す
ることができる。陽極酸化処理の条件は使用される電解
液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、
一般的には電解液の濃度が１〜８０％、液温５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ2、電圧１〜
１００Ｖ、電解時間１０〜１００秒の範囲が適当であ
る。
【００８５】これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国
特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、
硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第
３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を
電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本発明にお
いては、陽極酸化皮膜は１〜１０ｇ／ｍ2であることが
好ましく、１ｇ／ｍ2以下であると版に傷が入りやす
く、１０ｇ／ｍ2以上は製造に多大な電力が必要とな
り、経済的に不利である。好ましくは、１．５〜７ｇ／
ｍ2である。更に好ましくは、２〜５ｇ／ｇ2である。更
に、本発明においては、砂目立て処理及び陽極酸化後、
アルミニウム支持体に封孔処理を施してもかまわない。
かかる封孔処理は、熱水及び無機塩または有機塩を含む
熱水溶液への基板の浸漬ならびに水蒸気浴などによって
行われる。またこのアルミニウム支持体にはアルカリ金
属珪酸塩によるシリケート処理以外の処理、たとえば弗
化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬
処理などの表面処理がなされてもかまわない。
特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、
硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第
３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を
電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本発明にお
いては、陽極酸化皮膜は１〜１０ｇ／ｍ2であることが
好ましく、１ｇ／ｍ2以下であると版に傷が入りやす
く、１０ｇ／ｍ2以上は製造に多大な電力が必要とな
り、経済的に不利である。好ましくは、１．５〜７ｇ／
ｍ2である。更に好ましくは、２〜５ｇ／ｇ2である。更
に、本発明においては、砂目立て処理及び陽極酸化後、
アルミニウム支持体に封孔処理を施してもかまわない。
かかる封孔処理は、熱水及び無機塩または有機塩を含む
熱水溶液への基板の浸漬ならびに水蒸気浴などによって
行われる。またこのアルミニウム支持体にはアルカリ金
属珪酸塩によるシリケート処理以外の処理、たとえば弗
化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬
処理などの表面処理がなされてもかまわない。
【００８６】また、本発明の感光性平版印刷版の支持体
には、前記アルミニウム支持体の他に、寸度的に安定な
以下の板状物も好適に用いられる。例えば、紙、プラス
チック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、
亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸
セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等）、上記の如き金属がラミネート若
しくは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙
げられる。
には、前記アルミニウム支持体の他に、寸度的に安定な
以下の板状物も好適に用いられる。例えば、紙、プラス
チック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、
亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸
セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等）、上記の如き金属がラミネート若
しくは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙
げられる。
【００８７】また、これらの支持体に対しては、その支
持体に応じた表面親水化処理を行うことも好ましい。表
面親水化処理には、エッチングや酸化、還元、ゾル−ゲ
ルコーティングなどの化学反応による処理や、支持体表
面に吸着するような特定の化合物をコーティングするこ
と等が挙げられる。例えば、陽極酸化アルミニウム支持
体の場合には、特に燐系の酸原子団を有する有機化合物
（燐酸、ホスホン酸、ホスフィン酸）が好適に使用され
る。上記の支持体上に、前述の感光層を形成すること
で、本発明の感光性平版印刷版が製造されるが、感光層
を塗設する前に必要に応じて有機または無機の下塗り層
が設けられてもかまわない。
持体に応じた表面親水化処理を行うことも好ましい。表
面親水化処理には、エッチングや酸化、還元、ゾル−ゲ
ルコーティングなどの化学反応による処理や、支持体表
面に吸着するような特定の化合物をコーティングするこ
と等が挙げられる。例えば、陽極酸化アルミニウム支持
体の場合には、特に燐系の酸原子団を有する有機化合物
（燐酸、ホスホン酸、ホスフィン酸）が好適に使用され
る。上記の支持体上に、前述の感光層を形成すること
で、本発明の感光性平版印刷版が製造されるが、感光層
を塗設する前に必要に応じて有機または無機の下塗り層
が設けられてもかまわない。
【００８８】（酸素遮断性保護層）本発明の感光性平版
印刷版は、その光重合性感光層の上に水溶性ビニル重合
体を主成分とする酸素遮断性保護層を有していてもよ
い。酸素遮断性保護層に含まれる水溶性ビニル重合体と
しては、ポリビニルアルコール、およびその部分エステ
ル、エーテル、およびアセタール、またはそれらに必要
な水溶性を有せしめるような実質的量の未置換ビニルア
ルコール単位を含有するその共重合体が挙げられる。ポ
リビニルアルコールとしては、７１〜１００％加水分解
され、重合度が３００〜２４００の範囲のものが挙げら
れる。具体的には、株式会社クラレ製ＰＶＡ−１０５、
ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、
ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、
ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ
−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−
２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２
２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−
２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶ
Ａ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、Ｐ
ＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙げられ
る。上記の共重合体としては、８８〜１００％加水分解
されたポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプ
ロピオネート、ポリビニルホルマールおよびポリビニル
アセタールおよびそれらの共重合体が挙げられる。その
他有用な重合体としては、ポリビニルピロリドン、ゼラ
チンおよびアラビアゴム等が挙げられ、これらは単独ま
たは、併用して用いても良い。
印刷版は、その光重合性感光層の上に水溶性ビニル重合
体を主成分とする酸素遮断性保護層を有していてもよ
い。酸素遮断性保護層に含まれる水溶性ビニル重合体と
しては、ポリビニルアルコール、およびその部分エステ
ル、エーテル、およびアセタール、またはそれらに必要
な水溶性を有せしめるような実質的量の未置換ビニルア
ルコール単位を含有するその共重合体が挙げられる。ポ
リビニルアルコールとしては、７１〜１００％加水分解
され、重合度が３００〜２４００の範囲のものが挙げら
れる。具体的には、株式会社クラレ製ＰＶＡ−１０５、
ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、
ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、
ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ
−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−
２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２
２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−
２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶ
Ａ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、Ｐ
ＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙げられ
る。上記の共重合体としては、８８〜１００％加水分解
されたポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプ
ロピオネート、ポリビニルホルマールおよびポリビニル
アセタールおよびそれらの共重合体が挙げられる。その
他有用な重合体としては、ポリビニルピロリドン、ゼラ
チンおよびアラビアゴム等が挙げられ、これらは単独ま
たは、併用して用いても良い。
【００８９】この酸素遮断性保護層を塗布する際用いる
溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケト
ンなどのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布
溶液中の固形分の濃度は１〜２０重量％が適当である。
この酸素遮断性保護層にはさらに塗布性を向上させるた
めの界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の
可塑剤等の公知の添加剤を加えても良い。水溶性の可塑
剤としては、たとえばプロピオンアミド、シクロヘキサ
ンジオール、グリセリン、ソルビトール等がある。ま
た、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマーなどを添加し
ても良い。その被覆量は、乾繰後の重量で約０．１ｇ／
ｍ2〜約１５ｇ／ｍ2の範囲が適当である。より好ましく
は１．０ｇ／ｍ2〜約５．０ｇ／ｍ2である。
溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケト
ンなどのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布
溶液中の固形分の濃度は１〜２０重量％が適当である。
この酸素遮断性保護層にはさらに塗布性を向上させるた
めの界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の
可塑剤等の公知の添加剤を加えても良い。水溶性の可塑
剤としては、たとえばプロピオンアミド、シクロヘキサ
ンジオール、グリセリン、ソルビトール等がある。ま
た、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマーなどを添加し
ても良い。その被覆量は、乾繰後の重量で約０．１ｇ／
ｍ2〜約１５ｇ／ｍ2の範囲が適当である。より好ましく
は１．０ｇ／ｍ2〜約５．０ｇ／ｍ2である。
【００９０】［製版プロセス］次いで、本発明の製版プ
ロセスについて説明する。本発明の感光性平版印刷版の
製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光中、
露光から現像までの間に、全面を加熱しても良い。この
ような加熱により、感光層中の画像形成反応が促進さ
れ、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化といった利点
が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的と
して、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは、全面
露光を行うことも有効である。通常現像前の加熱は１５
０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。温度が高
すぎると、非画像部までがかぶってしまう等の問題を生
じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通
常は２００〜５００℃の範囲である。温度が低いと十分
な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の
劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。
ロセスについて説明する。本発明の感光性平版印刷版の
製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光中、
露光から現像までの間に、全面を加熱しても良い。この
ような加熱により、感光層中の画像形成反応が促進さ
れ、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化といった利点
が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的と
して、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは、全面
露光を行うことも有効である。通常現像前の加熱は１５
０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。温度が高
すぎると、非画像部までがかぶってしまう等の問題を生
じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通
常は２００〜５００℃の範囲である。温度が低いと十分
な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の
劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。
【００９１】本発明の感光性平版印刷版の露光方法は、
公知の方法を制限なく用いることができる。光源として
はレーザが好ましく。例えば、３５０〜４５０nmの波長
の入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用す
ることができる。ガスレーザーとして、Ａｒイオンレー
ザー（３６４nm、３５１nm、１０mW〜１Ｗ）、Ｋｒイオ
ンレーザー（３５６nm，３５１nm，１０mW〜１W）、Ｈ
ｅ−Ｃｄレーザー（４４１nm，３２５nm，１mW〜１００
mW）、固体レーザーとして、Ｎｄ：ＹＡＧ（ＹＶＯ４）
とＳＨＧ結晶×２回の組み合わせ（３５５mm、５mW〜１
Ｗ）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み合わせ（４
３０nm，１０mW）、半導体レーザー系として、ＫＮｂＯ
3、リング共振器（４３０nm，３０mW）、導波型波長変
換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わ
せ（３８０nm〜４５０ｎｍ、５mW〜１００mW）、導波型
波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導体の
組み合わせ（３００nm〜３５０nm、５mW〜１００mW）、
ＡｌＧａＩｎＮ（３５０nm〜４５０nm、５mW〜３０m
W）、その他、パルスレーザーとしてＮ2レーザー（３３
７nm、パルス０．１〜１０ｍＪ）、ＸｅＦ（３５１nm、
パルス１０〜２５０mJ）
公知の方法を制限なく用いることができる。光源として
はレーザが好ましく。例えば、３５０〜４５０nmの波長
の入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用す
ることができる。ガスレーザーとして、Ａｒイオンレー
ザー（３６４nm、３５１nm、１０mW〜１Ｗ）、Ｋｒイオ
ンレーザー（３５６nm，３５１nm，１０mW〜１W）、Ｈ
ｅ−Ｃｄレーザー（４４１nm，３２５nm，１mW〜１００
mW）、固体レーザーとして、Ｎｄ：ＹＡＧ（ＹＶＯ４）
とＳＨＧ結晶×２回の組み合わせ（３５５mm、５mW〜１
Ｗ）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み合わせ（４
３０nm，１０mW）、半導体レーザー系として、ＫＮｂＯ
3、リング共振器（４３０nm，３０mW）、導波型波長変
換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わ
せ（３８０nm〜４５０ｎｍ、５mW〜１００mW）、導波型
波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導体の
組み合わせ（３００nm〜３５０nm、５mW〜１００mW）、
ＡｌＧａＩｎＮ（３５０nm〜４５０nm、５mW〜３０m
W）、その他、パルスレーザーとしてＮ2レーザー（３３
７nm、パルス０．１〜１０ｍＪ）、ＸｅＦ（３５１nm、
パルス１０〜２５０mJ）
【００９２】特にこの中でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザ
ー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０n
m、5〜30mW）が波長特性、コストの面で好適である。
ー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０n
m、5〜30mW）が波長特性、コストの面で好適である。
【００９３】その他、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの入手可
能な光源としてはＡｒ＋レーザ−（４８８ｎｍ）、ＹＡ
Ｇ−ＳＨＧレーザー（５３２ｎｍ）、Ｈｅ−Ｎeレーザ
ー（６３３ｎｍ）、Ｈｅ−Ｃｄレーザー、赤色半導体レ
ーザー（６５０〜６９０ｎｍ）、及び７００ｎｍ〜１２
００ｎｍの入手可能な光源としては半導体レーザ（８０
０〜８５０ｎｍ）、Ｎｄ−ＹＡＧレーザ（１０６４ｎ
ｍ）が好適に利用できる。
能な光源としてはＡｒ＋レーザ−（４８８ｎｍ）、ＹＡ
Ｇ−ＳＨＧレーザー（５３２ｎｍ）、Ｈｅ−Ｎeレーザ
ー（６３３ｎｍ）、Ｈｅ−Ｃｄレーザー、赤色半導体レ
ーザー（６５０〜６９０ｎｍ）、及び７００ｎｍ〜１２
００ｎｍの入手可能な光源としては半導体レーザ（８０
０〜８５０ｎｍ）、Ｎｄ−ＹＡＧレーザ（１０６４ｎ
ｍ）が好適に利用できる。
【００９４】その他、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水
銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、紫外のレーザランプ（ＡｒＦエ
キシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザーなど）、放射
線としては電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線など
も利用できるが、安価な点で上述の３５０ｎｍ以上のレ
ーザー光源が好ましく、中でも、５００ｎｍ以下に感光
域を有する感光性平版印刷版との組み合わせで黄色灯安
全性を付与可能な４００〜４１０ｎｍのＩｎＧａＮ系半
導体レーザーが特に好ましい。
銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、紫外のレーザランプ（ＡｒＦエ
キシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザーなど）、放射
線としては電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線など
も利用できるが、安価な点で上述の３５０ｎｍ以上のレ
ーザー光源が好ましく、中でも、５００ｎｍ以下に感光
域を有する感光性平版印刷版との組み合わせで黄色灯安
全性を付与可能な４００〜４１０ｎｍのＩｎＧａＮ系半
導体レーザーが特に好ましい。
【００９５】また、露光機構は内面ドラム方式、外面ド
ラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。ま
た本発明の感光性平版印刷版の感光層成分は高い水溶性
のものを使用することで、中性の水や弱アルカリ水に可
溶とすることもできるが、このような構成の感光性平版
印刷版は印刷機上に装填後、機上で露光−現像といった
方式を行うこともできる。
ラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。ま
た本発明の感光性平版印刷版の感光層成分は高い水溶性
のものを使用することで、中性の水や弱アルカリ水に可
溶とすることもできるが、このような構成の感光性平版
印刷版は印刷機上に装填後、機上で露光−現像といった
方式を行うこともできる。
【００９６】また現像処理された感光性平版印刷版は、
特開昭５４−８００２号、同５５−１１５０４５号、同
５９−５８４３１号等の各公報に記載されているよう
に、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビ
アガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理され
る。本発明の感光性平版印刷版の後処理にはこれらの処
理を種々組み合わせて用いることができる。このような
処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に
かけられ、多数枚の印刷に用いられる。
特開昭５４−８００２号、同５５−１１５０４５号、同
５９−５８４３１号等の各公報に記載されているよう
に、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビ
アガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理され
る。本発明の感光性平版印刷版の後処理にはこれらの処
理を種々組み合わせて用いることができる。このような
処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に
かけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【００９７】上述の感光性平版印刷版を以下に示す現像
液を用いて現像し、画像形成することにより、本発明に
おける効果が奏される。
液を用いて現像し、画像形成することにより、本発明に
おける効果が奏される。
【００９８】（現像液）現像液成分について詳細に説明
する。本発明の製版方法で使用する現像液は、下記一般
式（III）で表される非イオン性化合物を含有する。
する。本発明の製版方法で使用する現像液は、下記一般
式（III）で表される非イオン性化合物を含有する。
【００９９】Ａ−Ｗ （III）
【０１００】式（III）中、ＡはＡ−ＨのｌｏｇＰが
１．５以上の疎水性有機基を表し、ＷはＷ−Ｈのｌｏｇ
Ｐが１．０未満の非イオン性の親水性有機基を表す。
１．５以上の疎水性有機基を表し、ＷはＷ−Ｈのｌｏｇ
Ｐが１．０未満の非イオン性の親水性有機基を表す。
【０１０１】ｌｏｇＰとは、C.Hansch，A.Leo,“Substi
tuent Constants for CorrelationAnalysis in Chemist
ry and Biology”,J.Wile&Sons,1979. 記載の疎水性パ
ラメータとして一般的に使用されるものであり、目的と
する分子（Ａ−Ｈ及びＷ−Ｈ）のオクタノール／水２層
系に対して、各層に分配される割合から算出した平衡濃
度比Ｐの対数として定義される。ここでは、一般式（II
I）中のＡ，Ｗの各基を特定する指標として使用してお
り、Ａ、Ｗ各有機基に便宜的に水素原子結合させた、Ａ
−Ｈ、Ｗ−Ｈ構造に対して、A.K.Ghose、et．al．J. Co
mput．Chem. 9,80(1988).記載の方法に基づき、既知デ
ータより計算し、求めたものである。
tuent Constants for CorrelationAnalysis in Chemist
ry and Biology”,J.Wile&Sons,1979. 記載の疎水性パ
ラメータとして一般的に使用されるものであり、目的と
する分子（Ａ−Ｈ及びＷ−Ｈ）のオクタノール／水２層
系に対して、各層に分配される割合から算出した平衡濃
度比Ｐの対数として定義される。ここでは、一般式（II
I）中のＡ，Ｗの各基を特定する指標として使用してお
り、Ａ、Ｗ各有機基に便宜的に水素原子結合させた、Ａ
−Ｈ、Ｗ−Ｈ構造に対して、A.K.Ghose、et．al．J. Co
mput．Chem. 9,80(1988).記載の方法に基づき、既知デ
ータより計算し、求めたものである。
【０１０２】具体的には、構造としては、有機基Ａ、Ｗ
は互いに異なり、上述のlogＰを満足する、一価の有機
残基を表す。より好ましくは、互いに同一または異な
り、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良
く、かつ、不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、
ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプ
ト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カル
ボニル基、カルボキシラート基、スルホ基、スルホナト
基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ホスホノ
基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基
、シアノ基、ニトロ基を表す。
は互いに異なり、上述のlogＰを満足する、一価の有機
残基を表す。より好ましくは、互いに同一または異な
り、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良
く、かつ、不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、
ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプ
ト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カル
ボニル基、カルボキシラート基、スルホ基、スルホナト
基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ホスホノ
基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基
、シアノ基、ニトロ基を表す。
【０１０３】上記置換基を有していてもよく、かつ、不
飽和結合を含んでいても良い炭化水素基としては、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及
び置換アルキニル基が挙げられる。
飽和結合を含んでいても良い炭化水素基としては、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及
び置換アルキニル基が挙げられる。
【０１０４】アルキル基としては炭素原子数が１から２
０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を挙
げることができ、その具体例としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボ
ルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素
原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２
までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環
状のアルキル基がより好ましい。
０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を挙
げることができ、その具体例としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボ
ルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素
原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２
までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環
状のアルキル基がより好ましい。
【０１０５】置換アルキル基は置換基とアルキレン基と
の結合により構成され、置換基としては、水素を除く一
価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハ
ロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ
基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリー
ルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモ
イルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミ
ノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′
−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリ
ールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレ
イド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′
−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレ
イド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−
アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
リーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基及びその共役塩基基（以下、カルボキシ
ラートと称す）、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−ア
リールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイ
ル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、ア
ルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基
（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト
基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシス
ルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフ
ィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル
基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
スルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキル
スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル
基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリー
ルスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスル
ファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共
役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基
（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2(alkyl))及びその共役塩基基、Ｎ−
アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳ
Ｏ2(aryl))及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニ
ルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2(alkyl))及びその
共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルカルバモイル基
（−ＣＯＮＨＳＯ2(aryl))及びその共役塩基基、アルコ
キシシリル基（−Ｓｉ(Ｏalkyl)3)、アリーロキシシリ
ル基（−Ｓｉ(Ｏaryl)3)、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ
(ＯＨ)3）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ
2）及びその共役塩基基（以下、ホスホナト基と称
す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3(alkyl)2）、ジ
アリールホスホノ基（−ＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリ
ールホスホノ基（−ＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキ
ルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基
（以後、アルキルホスホナト基と称す）、モノアリール
ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基
（以後、アリールホスホナト基と称す）、ホスホノオキ
シ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以後、ホス
ホナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノオキシ基
（−ＯＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスホノオキシ基
（−ＯＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスホノオキ
シ基（−ＯＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスホ
ノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基
（以後、アルキルホスホナトオキシ基と称す）、モノア
リールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(aryl)）及びそ
の共役塩基基（以後、アリールホスホナトオキシ基と称
す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基が挙げられる。
の結合により構成され、置換基としては、水素を除く一
価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハ
ロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ
基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリー
ルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモ
イルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミ
ノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′
−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリ
ールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレ
イド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′
−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレ
イド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−
アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
リーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基及びその共役塩基基（以下、カルボキシ
ラートと称す）、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−ア
リールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイ
ル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、ア
ルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基
（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト
基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシス
ルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフ
ィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル
基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
スルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキル
スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル
基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリー
ルスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスル
ファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共
役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基
（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2(alkyl))及びその共役塩基基、Ｎ−
アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳ
Ｏ2(aryl))及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニ
ルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2(alkyl))及びその
共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルカルバモイル基
（−ＣＯＮＨＳＯ2(aryl))及びその共役塩基基、アルコ
キシシリル基（−Ｓｉ(Ｏalkyl)3)、アリーロキシシリ
ル基（−Ｓｉ(Ｏaryl)3)、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ
(ＯＨ)3）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ
2）及びその共役塩基基（以下、ホスホナト基と称
す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3(alkyl)2）、ジ
アリールホスホノ基（−ＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリ
ールホスホノ基（−ＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキ
ルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基
（以後、アルキルホスホナト基と称す）、モノアリール
ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基
（以後、アリールホスホナト基と称す）、ホスホノオキ
シ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以後、ホス
ホナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノオキシ基
（−ＯＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスホノオキシ基
（−ＯＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスホノオキ
シ基（−ＯＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスホ
ノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基
（以後、アルキルホスホナトオキシ基と称す）、モノア
リールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(aryl)）及びそ
の共役塩基基（以後、アリールホスホナトオキシ基と称
す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基が挙げられる。
【０１０６】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオ
フェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル
基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェ
ニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、
ホスホナトフェニル基などを挙げることができる。ま
た、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペ
ニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−
１−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の例として
は、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、
トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が
挙げられる。
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオ
フェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル
基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェ
ニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、
ホスホナトフェニル基などを挙げることができる。ま
た、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペ
ニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−
１−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の例として
は、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、
トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が
挙げられる。
【０１０７】上述のアシル基（Ｒ31ＣＯ−）としては、
Ｒ31が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基を挙げることができる。一
方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述
の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のい
ずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げる
ことができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直
鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素
原子数５から１０までの環状のアルキレン基を挙げるこ
とができる。好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニル
メチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカル
ボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチ
ル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホ
フェニル）カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノ
フェニル）スルファモイルオクチル基、
Ｒ31が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基を挙げることができる。一
方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述
の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のい
ずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げる
ことができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直
鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素
原子数５から１０までの環状のアルキレン基を挙げるこ
とができる。好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニル
メチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカル
ボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチ
ル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホ
フェニル）カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノ
フェニル）スルファモイルオクチル基、
【０１０８】
【化９】
【０１０９】ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル
基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げること
ができる。
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル
基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げること
ができる。
【０１１０】アリール基としては１個から３個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和
環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フ
ルオレニル基等を挙げることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和
環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フ
ルオレニル基等を挙げることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【０１１１】置換アリール基は、置換基がアリール基に
結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原
子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を
有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては
前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置
換アルキル基における置換基として示したものを挙げる
ことができる。これらの、置換アリール基の好ましい具
体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル
基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチル
アミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオ
キシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェ
ニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシ
カルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−
メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカ
ルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カル
バモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スル
ホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エ
チルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルス
ルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スル
ファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナ
トフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニ
ルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メ
チルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル
基、トリルホスホナトフェニル基、アリル基、１−プロ
ペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフ
ェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロ
ピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチ
ニルフェニル基等を挙げることができる。
結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原
子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を
有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては
前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置
換アルキル基における置換基として示したものを挙げる
ことができる。これらの、置換アリール基の好ましい具
体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル
基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチル
アミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオ
キシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェ
ニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシ
カルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−
メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカ
ルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カル
バモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スル
ホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エ
チルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルス
ルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スル
ファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナ
トフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニ
ルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メ
チルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル
基、トリルホスホナトフェニル基、アリル基、１−プロ
ペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフ
ェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロ
ピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチ
ニルフェニル基等を挙げることができる。
【０１１２】アルケニル基としては、上述のものを挙げ
ることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケ
ニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、こ
の置換基としては、上述の置換アルキル基における置換
基が用いられ、一方アルケニル基は上述のアルケニル基
を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の例
としては
ることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケ
ニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、こ
の置換基としては、上述の置換アルキル基における置換
基が用いられ、一方アルケニル基は上述のアルケニル基
を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の例
としては
【０１１３】
【化１０】
【０１１４】等を挙げることができる。アルキニル基と
しては、上述のものを挙げることができる。置換アルキ
ニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子と置き換わ
り、結合したものであり、この置換基としては、上述の
置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルキ
ニル基は上述のアルキニル基を用いることができる。
しては、上述のものを挙げることができる。置換アルキ
ニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子と置き換わ
り、結合したものであり、この置換基としては、上述の
置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルキ
ニル基は上述のアルキニル基を用いることができる。
【０１１５】ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を１つ
除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を１つ
除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合して
できた一価の基（置換ヘテロ環基）である。好ましいヘ
テロ環の例としては、
除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を１つ
除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合して
できた一価の基（置換ヘテロ環基）である。好ましいヘ
テロ環の例としては、
【０１１６】
【化１１】
【０１１７】
【化１２】
【０１１８】等を挙げることができる。
【０１１９】置換オキシ基（Ｒ32Ｏ−）としては、Ｒ32
が水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いるこ
とができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキ
シ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基等を挙げること
ができる。これらにおけるアルキル基、ならびにアリー
ル基としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならび
に、アリール基、置換アリール基として示したものを挙
げることができる。また、アシルオキシ基におけるアシ
ル基（Ｒ6ＣＯ−）としては、Ｒ6が、前述のアルキル
基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール
基のものを挙げることができる。これらの置換基の中で
は、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、
アリールスルホキシ基等がより好ましい。好ましい置換
オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、
プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキ
シ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシル
オキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネ
チルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカ
ルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオ
キシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、
メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキ
シ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキ
シ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、
トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ
基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エ
トキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブ
ロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイル
オキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキ
シ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げら
れる。
が水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いるこ
とができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキ
シ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基等を挙げること
ができる。これらにおけるアルキル基、ならびにアリー
ル基としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならび
に、アリール基、置換アリール基として示したものを挙
げることができる。また、アシルオキシ基におけるアシ
ル基（Ｒ6ＣＯ−）としては、Ｒ6が、前述のアルキル
基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール
基のものを挙げることができる。これらの置換基の中で
は、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、
アリールスルホキシ基等がより好ましい。好ましい置換
オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、
プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキ
シ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシル
オキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネ
チルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカ
ルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオ
キシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、
メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキ
シ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキ
シ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、
トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ
基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エ
トキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブ
ロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイル
オキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキ
シ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げら
れる。
【０１２０】置換チオ基（Ｒ33Ｓ−）としてはＲ33が水
素を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。好ま
しい置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシ
ルチオ基を挙げることができる。これらにおけるアルキ
ル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アル
キル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示
したものを挙げることができ、アシルチオ基におけるア
シル基（Ｒ6ＣＯ−）のＲ6は前述のとおりである。これ
らの中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基が
より好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、
メチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキ
シエチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカ
ルボニルチオ基等が挙げられる。
素を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。好ま
しい置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシ
ルチオ基を挙げることができる。これらにおけるアルキ
ル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アル
キル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示
したものを挙げることができ、アシルチオ基におけるア
シル基（Ｒ6ＣＯ−）のＲ6は前述のとおりである。これ
らの中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基が
より好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、
メチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキ
シエチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカ
ルボニルチオ基等が挙げられる。
【０１２１】置換アミノ基（Ｒ34ＮＨ−、（Ｒ35)
(Ｒ36）Ｎ−）としては、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ 36が水素を除
く一価の非金属原子団のものを使用できる。置換アミノ
基の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，
Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，
Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
アミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ
基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−
アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド
基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリー
ルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイ
ド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアル
キル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレ
イド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
リールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
リーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アル
コキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリー
ロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものを挙げることができ、アシルアミノ
基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシル
アミノ基におけるアシル基（Ｒ33ＣＯ−）のＲ33は前述
のとおりである。これらの内、より好ましいものとして
は、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ
基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基等が挙げら
れる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチル
アミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホ
リノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等が挙げら
れる。
(Ｒ36）Ｎ−）としては、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ 36が水素を除
く一価の非金属原子団のものを使用できる。置換アミノ
基の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，
Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，
Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
アミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ
基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−
アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド
基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリー
ルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイ
ド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアル
キル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレ
イド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
リールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
リーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アル
コキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリー
ロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものを挙げることができ、アシルアミノ
基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシル
アミノ基におけるアシル基（Ｒ33ＣＯ−）のＲ33は前述
のとおりである。これらの内、より好ましいものとして
は、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ
基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基等が挙げら
れる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチル
アミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホ
リノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等が挙げら
れる。
【０１２２】置換カルボニル基（Ｒ37−ＣＯ−）として
は、Ｒ37が一価の非金属原子団のものを使用できる。置
換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、ア
シル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ア
リーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキ
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル
基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基等が挙げられる。これらにおけるアルキル基、ア
リール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、
ならびにアリール基、置換アリール基として示したもの
を挙げることができる。これらの内、より好ましい置換
基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、
カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイ
ル基等が挙げられ、更により好ましいものとしては、ホ
ルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびに
アリーロキシカルボニル基が挙げられる。好ましい置換
基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾ
イル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、アリ
ルオキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ
−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。
は、Ｒ37が一価の非金属原子団のものを使用できる。置
換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、ア
シル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ア
リーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキ
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル
基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基等が挙げられる。これらにおけるアルキル基、ア
リール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、
ならびにアリール基、置換アリール基として示したもの
を挙げることができる。これらの内、より好ましい置換
基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、
カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイ
ル基等が挙げられ、更により好ましいものとしては、ホ
ルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびに
アリーロキシカルボニル基が挙げられる。好ましい置換
基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾ
イル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、アリ
ルオキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ
−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。
【０１２３】置換スルフィニル基（Ｒ38−ＳＯ−）とし
てはＲ38が一価の非金属原子団のものを使用できる。好
ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルス
ルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイ
ル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリー
ルスルフィナモイル基が挙げられる。これらにおけるア
ルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換
アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基とし
て示したものを挙げることができる。これらの内、より
好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基等が挙げられる。このような置換スルフ
ィニル基の具体例としては、へキシルスルフィニル基、
ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等が挙
げられる。
てはＲ38が一価の非金属原子団のものを使用できる。好
ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルス
ルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイ
ル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリー
ルスルフィナモイル基が挙げられる。これらにおけるア
ルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換
アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基とし
て示したものを挙げることができる。これらの内、より
好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基等が挙げられる。このような置換スルフ
ィニル基の具体例としては、へキシルスルフィニル基、
ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等が挙
げられる。
【０１２４】置換スルホニル基（Ｒ39−ＳＯ2−）とし
ては、Ｒ39が一価の非金属原子団のものを使用できる。
より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基を挙げることができる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものを挙げることができる。このような、
置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル
基、クロロフェニルスルホニル基等が挙げられる。
ては、Ｒ39が一価の非金属原子団のものを使用できる。
より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基を挙げることができる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものを挙げることができる。このような、
置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル
基、クロロフェニルスルホニル基等が挙げられる。
【０１２５】スルホナト基（−ＳＯ3−）は前述のとお
り、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意
味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好まし
い。このような対陽イオンとしては、一般に知られるも
の、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、ス
ルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジ
ニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ+、Ｋ+、Ｃ
ａ2+、Ｚｎ2+等）が挙げられる。
り、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意
味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好まし
い。このような対陽イオンとしては、一般に知られるも
の、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、ス
ルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジ
ニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ+、Ｋ+、Ｃ
ａ2+、Ｚｎ2+等）が挙げられる。
【０１２６】カルボキシラート基（−ＣＯ2−）は前述
のとおり、カルボキシル基（ＣＯ2Ｈ）の共役塩基陰イ
オン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎ
ａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）が挙げられる。
のとおり、カルボキシル基（ＣＯ2Ｈ）の共役塩基陰イ
オン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎ
ａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）が挙げられる。
【０１２７】置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基
の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換さ
れたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアル
キルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリ
ールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリー
ルホスホノ基が挙げられる。これらの中ではジアルキル
ホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ま
しい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ
基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等が挙
げられる。
の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換さ
れたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアル
キルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリ
ールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリー
ルホスホノ基が挙げられる。これらの中ではジアルキル
ホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ま
しい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ
基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等が挙
げられる。
【０１２８】ホスホナト基（−ＰＯ3 2-、−ＰＯ3Ｈ-）
とは前述のとおり、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）の、酸第
一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオ
ン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類：アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ
+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）が挙げられる。
とは前述のとおり、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）の、酸第
一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオ
ン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類：アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ
+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）が挙げられる。
【０１２９】置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ
基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共
役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノ
アルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（alkyl））、モノアリ
ールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（aryl））の共役塩基を挙
げることができる。通常は対陽イオンと共に使用される
のが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に
知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニ
ウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウ
ム類、アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎ
ａ+、Ｋ+、Ｃａ 2+、Ｚｎ2+等）が挙げられる。
基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共
役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノ
アルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（alkyl））、モノアリ
ールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（aryl））の共役塩基を挙
げることができる。通常は対陽イオンと共に使用される
のが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に
知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニ
ウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウ
ム類、アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎ
ａ+、Ｋ+、Ｃａ 2+、Ｚｎ2+等）が挙げられる。
【０１３０】前記一般式（III）中、Ａ及びＷの各構造
は、より好ましくは、Ａが芳香族を含有する有機基、Ｗ
がポリオキシアルキレン基を含有する非イオン性の有機
基である。
は、より好ましくは、Ａが芳香族を含有する有機基、Ｗ
がポリオキシアルキレン基を含有する非イオン性の有機
基である。
【０１３１】なお、Ａ−ＨおよびＷ−Ｈの具体例を以下
に示す。
に示す。
【０１３２】
【化１３】
【０１３３】
【化１４】
【０１３４】また、前記一般式（III）の非イオン性化
合物の具体例を以下に示す。
合物の具体例を以下に示す。
【０１３５】
【化１５】
【０１３６】
【化１６】
【０１３７】
【化１７】
【０１３８】前記一般式（III）の非イオン性化合物と
して、さらに好ましいものとしては、下記式（Ｉ−Ａ）
または（Ｉ−Ｂ）で示されるものである。
して、さらに好ましいものとしては、下記式（Ｉ−Ａ）
または（Ｉ−Ｂ）で示されるものである。
【０１３９】
【化１８】
【０１４０】（Ｒ1、Ｒ2は、Ｈまたは炭素数１〜１００
のアルキル基であり、ｎ、ｍは０〜１００の整数であ
る。）
のアルキル基であり、ｎ、ｍは０〜１００の整数であ
る。）
【０１４１】一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物として
は、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル等が挙げられる。一般式（Ｉ−Ｂ）で
表される化合物としては、ポリオキシエチレンナフチル
エーテル、ポリオキシエチレンメチルナフチルエーテ
ル、ポリオキシエチレンオクチルナフチルエーテル、ホ
リオキシエチレンノニルナフチルエーテル等が挙げられ
る。
は、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル等が挙げられる。一般式（Ｉ−Ｂ）で
表される化合物としては、ポリオキシエチレンナフチル
エーテル、ポリオキシエチレンメチルナフチルエーテ
ル、ポリオキシエチレンオクチルナフチルエーテル、ホ
リオキシエチレンノニルナフチルエーテル等が挙げられ
る。
【０１４２】前記一般式（Ｉ−Ａ）および（Ｉ−Ｂ）の
化合物において、ポリオキシエチレン鎖の繰り返し単位
数は、好ましくは３〜５０、より好ましくは５〜３０で
ある。ポリオキシプロピレン鎖の繰り返し単位数は、好
ましくは０〜１０、より好ましくは０〜５である。ポリ
オキシエチレン部とポリオキシプロピレン部はランダム
でもブロックの共重合体でもよい。前記一般式（Ｉ−
Ａ）および（Ｉ−Ｂ）で示されるノニオン芳香族エーテ
ル系活性剤は、単独または２種類以上を組み合わせて使
用される。
化合物において、ポリオキシエチレン鎖の繰り返し単位
数は、好ましくは３〜５０、より好ましくは５〜３０で
ある。ポリオキシプロピレン鎖の繰り返し単位数は、好
ましくは０〜１０、より好ましくは０〜５である。ポリ
オキシエチレン部とポリオキシプロピレン部はランダム
でもブロックの共重合体でもよい。前記一般式（Ｉ−
Ａ）および（Ｉ−Ｂ）で示されるノニオン芳香族エーテ
ル系活性剤は、単独または２種類以上を組み合わせて使
用される。
【０１４３】本発明において、前記一般式（III）で示
される非イオン性化合物は、現像液中１〜２０重量％、
好ましくは２〜１０重量％添加することが効果的であ
る。ここで添加量が少なすぎると、現像性低下および感
光層成分の溶解性低下を招き、逆に多すぎると、印刷版
の耐刷性を低下させる。
される非イオン性化合物は、現像液中１〜２０重量％、
好ましくは２〜１０重量％添加することが効果的であ
る。ここで添加量が少なすぎると、現像性低下および感
光層成分の溶解性低下を招き、逆に多すぎると、印刷版
の耐刷性を低下させる。
【０１４４】［キレート剤］本発明に使用される現像液
は、キレート剤を含有していてもよい。キレート剤とし
ては、例えば、Ｎa2Ｐ2Ｏ7、Ｎa5Ｐ3Ｏ3、Ｎa3Ｐ3Ｏ9、
Ｎa2Ｏ4Ｐ（ＮaＯ3Ｐ)ＰＯ3Ｎa2、カルゴン（ポリメタ
リン酸ナトリウム）などのポリリン酸塩、例えばエチレ
ンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウ
ム塩；ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム
塩、ナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢
酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ヒドロキシエ
チルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、その
ナトリウム塩；ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そ
のナトリウム塩；１，２−ジアミノシクロヘキサンテト
ラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１，３−
ジアミノ−２−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩などのようなアミノポリカルボン
酸類の他２−ホスホノブタントリカルボン酸−１，２，
４、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；２一ホスホノ
ブタノントリカルボン酸−２，３，４、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩；１−ホスホノエタントリカルボ
ン酸−１，２、２、そのカリウム塩、そのナトリウム
塩；１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、そ
のカリウム塩、そのナトリウム塩；アミノトリ（メチレ
ンホスホン酸）、そのカリウム塩、そのナトリウム塩な
どのような有機ホスホン酸類を挙げることができる。こ
のようなキレート剤の最適量は使用される硬水の硬度お
よびその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用
時の現像液中に０．０１〜５重量％、より好ましくは
０．０１〜０．５重量％の範囲で含有させられる。
は、キレート剤を含有していてもよい。キレート剤とし
ては、例えば、Ｎa2Ｐ2Ｏ7、Ｎa5Ｐ3Ｏ3、Ｎa3Ｐ3Ｏ9、
Ｎa2Ｏ4Ｐ（ＮaＯ3Ｐ)ＰＯ3Ｎa2、カルゴン（ポリメタ
リン酸ナトリウム）などのポリリン酸塩、例えばエチレ
ンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウ
ム塩；ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム
塩、ナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢
酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ヒドロキシエ
チルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、その
ナトリウム塩；ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そ
のナトリウム塩；１，２−ジアミノシクロヘキサンテト
ラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１，３−
ジアミノ−２−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩などのようなアミノポリカルボン
酸類の他２−ホスホノブタントリカルボン酸−１，２，
４、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；２一ホスホノ
ブタノントリカルボン酸−２，３，４、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩；１−ホスホノエタントリカルボ
ン酸−１，２、２、そのカリウム塩、そのナトリウム
塩；１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、そ
のカリウム塩、そのナトリウム塩；アミノトリ（メチレ
ンホスホン酸）、そのカリウム塩、そのナトリウム塩な
どのような有機ホスホン酸類を挙げることができる。こ
のようなキレート剤の最適量は使用される硬水の硬度お
よびその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用
時の現像液中に０．０１〜５重量％、より好ましくは
０．０１〜０．５重量％の範囲で含有させられる。
【０１４５】［アルカリ剤］本発明に使用される現像液
は、上記一般式（III）で示される非イオン性化合物含
有するアルカリ水溶液である。含有されるアルカリ剤
は、たとえば第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同ア
ンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニ
ウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水
酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、および
同リチウムなどの無機アルカリ剤があげられる。またモ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、
モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、
トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプパノール
アミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジ
ン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機
アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独も
しくは２種以上を組み合わせて用いられる。
は、上記一般式（III）で示される非イオン性化合物含
有するアルカリ水溶液である。含有されるアルカリ剤
は、たとえば第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同ア
ンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニ
ウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水
酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、および
同リチウムなどの無機アルカリ剤があげられる。またモ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、
モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、
トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプパノール
アミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジ
ン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機
アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独も
しくは２種以上を組み合わせて用いられる。
【０１４６】［界面活性剤］また、本発明に使用される
現像液は、上記一般式（III）で示される非イオン性化
合物以外に、さらに以下に記すその他の界面活性剤を加
えてもよい。その他の界面活性剤としては、例えば、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレ
ンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエー
テル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリ
オキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレ
ンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンステ
アレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、
ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレー
ト、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエ
ート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオ
レエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロ
ールモノステアレート、グリセロールモノオレート等の
モノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活
性剤：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアル
キルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリ
ウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オク
チルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフ
タレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のア
ルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のアルキ
ルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウ
ム等のスルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活
性剤：ラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアル
キルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤が使用
可能であるが、特に好ましいのはアルキルナフタレンス
ルホン酸塩類等のアニオン界面活性剤である。これら界
面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することが
出来る。また、これら界面活性剤の現像液中における含
有量は有効成分換算で、０．１から２０重量％が好まし
い。
現像液は、上記一般式（III）で示される非イオン性化
合物以外に、さらに以下に記すその他の界面活性剤を加
えてもよい。その他の界面活性剤としては、例えば、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレ
ンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエー
テル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリ
オキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレ
ンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンステ
アレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、
ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレー
ト、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエ
ート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオ
レエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロ
ールモノステアレート、グリセロールモノオレート等の
モノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活
性剤：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアル
キルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリ
ウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オク
チルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフ
タレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のア
ルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のアルキ
ルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウ
ム等のスルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活
性剤：ラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアル
キルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤が使用
可能であるが、特に好ましいのはアルキルナフタレンス
ルホン酸塩類等のアニオン界面活性剤である。これら界
面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することが
出来る。また、これら界面活性剤の現像液中における含
有量は有効成分換算で、０．１から２０重量％が好まし
い。
【０１４７】［その他の成分］本発明に使用される現像
液には、上記の成分の他に、必要に応じて以下の様な成
分を併用することができる。例えば安息香酸、フタル
酸、ｐ−エチル安息香酸、ｐ−ｎ−プロピル安息香酸、
ｐ−イソプロピル安息香酸、ｐ−ｎ−ブチル安息香酸、
ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ｐ
−２−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル
酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸等の有機カルボン
酸；イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソル
ブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の
有機溶剤；この他、キレート剤、還元剤、染料、顔料、
硬水軟化剤、防腐剤等が挙げられる。さらに本発明の製
版方法を、自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処
理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または
新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させても良い。
液には、上記の成分の他に、必要に応じて以下の様な成
分を併用することができる。例えば安息香酸、フタル
酸、ｐ−エチル安息香酸、ｐ−ｎ−プロピル安息香酸、
ｐ−イソプロピル安息香酸、ｐ−ｎ−ブチル安息香酸、
ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ｐ
−２−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル
酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸等の有機カルボン
酸；イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソル
ブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の
有機溶剤；この他、キレート剤、還元剤、染料、顔料、
硬水軟化剤、防腐剤等が挙げられる。さらに本発明の製
版方法を、自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処
理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または
新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させても良い。
【０１４８】次いで、現像液性状についての詳細に説明
する。 ［ｐＨ］本発明に使用される現像液はｐＨ１２．５のア
リカリ水溶液であり、現像速度の点でより好ましくはｐ
Ｈ１０．０〜１２．５であり、最も好ましくは、ｐＨ１
１．０〜１２．５である。 ［電導度］本発明に使用される現像液の電導度は３０ｍ
Ｓ／ｃｍ以下であり、現像速度の点でより好ましくは３
〜３０ｍＳ／ｃｍであり、最も好ましくは、３〜１５ｍ
Ｓ／ｃｍである。
する。 ［ｐＨ］本発明に使用される現像液はｐＨ１２．５のア
リカリ水溶液であり、現像速度の点でより好ましくはｐ
Ｈ１０．０〜１２．５であり、最も好ましくは、ｐＨ１
１．０〜１２．５である。 ［電導度］本発明に使用される現像液の電導度は３０ｍ
Ｓ／ｃｍ以下であり、現像速度の点でより好ましくは３
〜３０ｍＳ／ｃｍであり、最も好ましくは、３〜１５ｍ
Ｓ／ｃｍである。
【０１４９】［発砲性］内径３ｃｍの１００ｍｌ透明ガ
ラス瓶に現像液を３０ｍｌ入れて、２５℃で、１秒間に
３回の速度で、ガラス瓶を上下に１分間振とうする。そ
の後、静置し、泡が消えるまでの時間（消泡時間）を測
定する。この時間が少ない方が発泡性が低くよい（消泡
性が高い）。本発明の現像液は、好ましくは、発砲性が
低く、消泡時間５分以下であり、現像処理時に発砲し現
像処理工程に支障を来すことがない。
ラス瓶に現像液を３０ｍｌ入れて、２５℃で、１秒間に
３回の速度で、ガラス瓶を上下に１分間振とうする。そ
の後、静置し、泡が消えるまでの時間（消泡時間）を測
定する。この時間が少ない方が発泡性が低くよい（消泡
性が高い）。本発明の現像液は、好ましくは、発砲性が
低く、消泡時間５分以下であり、現像処理時に発砲し現
像処理工程に支障を来すことがない。
【０１５０】［色］本発明に使用される現像液は無色、
好ましくは水との誤認を防ぐ目的で、視認性が得られる
程度の色が付いている。 ［粘度］本発明に使用される現像液の粘度は好ましく
は、水希釈状態で２５℃において１．０〜１０．０ｃｐ
であり、円滑な現像処理が行える。
好ましくは水との誤認を防ぐ目的で、視認性が得られる
程度の色が付いている。 ［粘度］本発明に使用される現像液の粘度は好ましく
は、水希釈状態で２５℃において１．０〜１０．０ｃｐ
であり、円滑な現像処理が行える。
【０１５１】
【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５２】［支持体の製造例］
（支持体１：陽極酸化アルミニウム支持体の製造）厚さ
０．３０ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板を８号ナイロ
ンブラシと８００メッシュのパミストンの水懸濁液を用
い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１
０％水酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッ
チングした後、流水で、水洗後、２０％ＨＮＯ3で中和
洗浄、水洗した。これをＶA＝１２．７Ｖの条件下で正
弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で３００
クーロン／ｄｍ2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行
った。その表面粗さを測定したところ０．４５μｍ（Ｒ
ａ表示）であった。ひきつづいて３０％のＨ2ＳＯ4水溶
液中に浸漬し、５５℃で２分間デスマットした後、３３
℃、２０％Ｈ2ＳＯ4水溶液中で、砂目立てした面に陰極
を配置して、電流密度５Ａ／ｄｍ2において５０秒間陽
極酸化したところ、厚さが２．７ｇ／ｍ2であった。こ
れを支持体１とした。
０．３０ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板を８号ナイロ
ンブラシと８００メッシュのパミストンの水懸濁液を用
い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１
０％水酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッ
チングした後、流水で、水洗後、２０％ＨＮＯ3で中和
洗浄、水洗した。これをＶA＝１２．７Ｖの条件下で正
弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で３００
クーロン／ｄｍ2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行
った。その表面粗さを測定したところ０．４５μｍ（Ｒ
ａ表示）であった。ひきつづいて３０％のＨ2ＳＯ4水溶
液中に浸漬し、５５℃で２分間デスマットした後、３３
℃、２０％Ｈ2ＳＯ4水溶液中で、砂目立てした面に陰極
を配置して、電流密度５Ａ／ｄｍ2において５０秒間陽
極酸化したところ、厚さが２．７ｇ／ｍ2であった。こ
れを支持体１とした。
【０１５３】（支持体２の製造）上記支持体１に下記の
表面処理用下塗り液状組成物１をＰ量が約０．０５ｇ／
ｍ2となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させた
ものを支持体２とした。
表面処理用下塗り液状組成物１をＰ量が約０．０５ｇ／
ｍ2となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させた
ものを支持体２とした。
【０１５４】
＜下塗り用液状組成物１＞
フェニルホスホン酸 ２重量部
メタノール ８００重量部
水 ５０重量部
【０１５５】（支持体３の製造）上記支持体１に下記の
表面処理用下塗り液状組成物２をＳｉ量が約０．００１
ｇ／ｍ2となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥さ
せたものを支持体３とした。
表面処理用下塗り液状組成物２をＳｉ量が約０．００１
ｇ／ｍ2となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥さ
せたものを支持体３とした。
【０１５６】（支持体４の製造）上記支持体１にメチル
メタクリレート／エチルアクリレート／２−アクリルア
ミド−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム共重合
体（６０／２５／１５モル比、分子量 Ｍｎ＝３万）
を、水／メタノール＝５ｇ／９５ｇに溶解した液を塗布
量が３ｍｇ／ｍ2となるように塗布し、８０℃、３０秒
間乾燥させたものを支持体４とした。
メタクリレート／エチルアクリレート／２−アクリルア
ミド−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム共重合
体（６０／２５／１５モル比、分子量 Ｍｎ＝３万）
を、水／メタノール＝５ｇ／９５ｇに溶解した液を塗布
量が３ｍｇ／ｍ2となるように塗布し、８０℃、３０秒
間乾燥させたものを支持体４とした。
【０１５７】＜下塗り用液状組成物２＞下記成分を混合
攪拌し、約５分後に発熱が見られ、６０分間反応させた
後、内容物を別の容器に移し、メタノールをさらに３万
重量部加えたものを液状組成物２とした。
攪拌し、約５分後に発熱が見られ、６０分間反応させた
後、内容物を別の容器に移し、メタノールをさらに３万
重量部加えたものを液状組成物２とした。
【０１５８】
ユニケミカル（株）ホスマーＰＥ ２０重量部
メタノール １３０重量部
水 ２０重量部
パラトルエンスルホン酸 ５重量部
テトラエトキシシラン ５０重量部
３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン ５０重量部
【０１５９】［感材の製造例］上述の支持体１〜４上
に、下記組成の光重合性組成物を乾燥塗布重量が表１中
に示す量となるように塗布し、９０℃で乾燥させ、感光
層を形成した。続いて、この感光層上にポリビニルアル
コール（ケン化度９８モル％、重合度５００）の３wt％
の水溶液を乾燥塗布重量が２．５ｇ／ｍ2となるように
塗布し、１００℃で１分半乾燥させ、感光性平版印刷版
（感材）を得た。
に、下記組成の光重合性組成物を乾燥塗布重量が表１中
に示す量となるように塗布し、９０℃で乾燥させ、感光
層を形成した。続いて、この感光層上にポリビニルアル
コール（ケン化度９８モル％、重合度５００）の３wt％
の水溶液を乾燥塗布重量が２．５ｇ／ｍ2となるように
塗布し、１００℃で１分半乾燥させ、感光性平版印刷版
（感材）を得た。
【０１６０】
（感光層塗布液（光重合性組成物）：下記表−１に詳細を記載）
エチレン性不飽和結合含有化合物（Ａ） ａ 重量部
線状有機高分子重合体（Ｂ） ｂ 重量部
増感剤（Ｃ） ０．１５重量部
光開始剤（Ｄ） ０．３０重量部
添加剤（Ｓ） ０．５０重量部
フッ素系界面活性剤 ０．０３重量部
（メガファックF-177：大日本インキ化学工業(株)製）
熱重合禁止剤 ０．０１重量部
（Ｎ-ニトロソヒドロキシルアミンアルミニウム塩）
ε型の銅フタロシアニン分散物 ０．２ 重量部
メチルエチルケトン ３０．０ 重量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ３０．０ 重量部
【０１６１】なお、感光層塗布液に用いる、エチレン性
不飽和結合含有化合物（Ａ）、線状有機高分子重合体
（Ｂ）、増感剤（Ｃ）、光開始剤（Ｄ）、添加剤（Ｓ）
を以下に示す。
不飽和結合含有化合物（Ａ）、線状有機高分子重合体
（Ｂ）、増感剤（Ｃ）、光開始剤（Ｄ）、添加剤（Ｓ）
を以下に示す。
【０１６２】
【化１９】
【０１６３】
【化２０】
【０１６４】
【化２１】
【０１６５】
【化２２】
【０１６６】
【化２３】
【０１６７】
【表１】
【０１６８】※感光層酸価は感光層１ｇ当たりに含有さ
れる酸量を水酸化ナトリウム滴定により測定後、算出し
た実測値である。
れる酸量を水酸化ナトリウム滴定により測定後、算出し
た実測値である。
【０１６９】［現像液例］下記組成の現像液を調製し
た。
た。
【０１７０】
（実施例：現像液１〜２０：下記表−２に詳細を記載）
アルカリ （Ｘ） ｘ ｇ
一般式（Ｉ）の化合物（Ｙ） ５．０ ｇ
キレート剤 （Ｚ） ０．１ ｇ
添加剤１ （Ｐ） １．０ ｇ
添加剤２ （Ｑ） １．０ ｇ
水 （９２．９−ｘ）ｇ
【０１７１】なお、現像液に用いる、キレート剤
（Ｚ）、添加剤１（Ｐ）、添加剤２（Ｑ）を以下に示
す。
（Ｚ）、添加剤１（Ｐ）、添加剤２（Ｑ）を以下に示
す。
【０１７２】
【化２４】
【０１７３】
【表２】
【０１７４】［現像液性状試験］本明細書に記載の各検
査方法に従って、上記表−２の現像液の物性について調
査した結果を下記表−３示す。
査方法に従って、上記表−２の現像液の物性について調
査した結果を下記表−３示す。
【０１７５】
【表３】
【０１７６】［印刷等評価］上記表−１の感材と表−２
の現像液を組み合わせた際の結果について下記表−４に
まとめた。また、露光、印刷、現像条件は以下のものを
使用した。 （感度の評価）上述の塗布感材を、４０５ｎｍの半導体
レーザーを用い大気中で露光後、下記表４に示す各々の
実施例に対応した上述の現像液に２５℃、１０秒間浸漬
して現像を行い、画像ができるその最小露光量から感度
をｍｊ／ｃｍ2単位で算出した。
の現像液を組み合わせた際の結果について下記表−４に
まとめた。また、露光、印刷、現像条件は以下のものを
使用した。 （感度の評価）上述の塗布感材を、４０５ｎｍの半導体
レーザーを用い大気中で露光後、下記表４に示す各々の
実施例に対応した上述の現像液に２５℃、１０秒間浸漬
して現像を行い、画像ができるその最小露光量から感度
をｍｊ／ｃｍ2単位で算出した。
【０１７７】（フレアカブリの評価）上述の塗布感材
を、４０５ｎｍ、３０ｍＷのvioletＬＤ（内面ドラム型
実験機）で１００μ／ｃｍ2の露光（標準露光条件）で
４０００ｄｐｉにて１７５線／インチの条件で、以下の
画像を走査露光した。 画像；半面を画像強度１００％（ベタ）、残りの半面は
非画像部とし、それぞれの中心部に５０％の網点画像を
形成。 露光後、各種現像液およびフィニッシングガム液ＦＰ−
２Ｗ（富士写真フィルム製）を仕込んだ自動現像機（富
士写真フィルム製ＬＰ−８５０Ｐ２）で標準処理を行
い、２種の５０％網点濃度を測定した。ベタ部では、５
０％網点画像周辺の露光量が多く、フレア光の影響が大
きくなる。即ち、ベタ部における５０％網点濃度は非画
像部中にある５０％網点濃度よりも大きくなりやすい。
ここで、その影響を見るために、５０％網点濃度（ベタ
部）から５０％網点濃度（非画像部）を引いた値をフレ
アカブリ（％）と定義し、測定した。この値が小さいほ
どフレアの影響が小さく、好ましい版であるといえる。
を、４０５ｎｍ、３０ｍＷのvioletＬＤ（内面ドラム型
実験機）で１００μ／ｃｍ2の露光（標準露光条件）で
４０００ｄｐｉにて１７５線／インチの条件で、以下の
画像を走査露光した。 画像；半面を画像強度１００％（ベタ）、残りの半面は
非画像部とし、それぞれの中心部に５０％の網点画像を
形成。 露光後、各種現像液およびフィニッシングガム液ＦＰ−
２Ｗ（富士写真フィルム製）を仕込んだ自動現像機（富
士写真フィルム製ＬＰ−８５０Ｐ２）で標準処理を行
い、２種の５０％網点濃度を測定した。ベタ部では、５
０％網点画像周辺の露光量が多く、フレア光の影響が大
きくなる。即ち、ベタ部における５０％網点濃度は非画
像部中にある５０％網点濃度よりも大きくなりやすい。
ここで、その影響を見るために、５０％網点濃度（ベタ
部）から５０％網点濃度（非画像部）を引いた値をフレ
アカブリ（％）と定義し、測定した。この値が小さいほ
どフレアの影響が小さく、好ましい版であるといえる。
【０１７８】（現像カスの評価）上述の塗布感材２０ｍ
2を上述の現像液（１リットル）中で、スポンジでこす
りながら現像後、現像液を１ヶ月放置し沈降した現像カ
スの有無を調査した。現像カスが発生しなかったものを
○、現像カスが少量発生したものを△とした。この結果
も表−４に示す。
2を上述の現像液（１リットル）中で、スポンジでこす
りながら現像後、現像液を１ヶ月放置し沈降した現像カ
スの有無を調査した。現像カスが発生しなかったものを
○、現像カスが少量発生したものを△とした。この結果
も表−４に示す。
【０１７９】
【表４】
【０１８０】表−４から明らかなように本発明の現像液
は現像性良好であり、感度と印刷汚れを両立、さらに現
像カスを発生せず処理安定性が良好である。
は現像性良好であり、感度と印刷汚れを両立、さらに現
像カスを発生せず処理安定性が良好である。
【０１８１】［現像挙動調査］本明細書に記載の検査方
法により表−４の実施例及び比較例について、現像挙動
等の調査を行った結果を表−５に示す。
法により表−４の実施例及び比較例について、現像挙動
等の調査を行った結果を表−５に示す。
【０１８２】
【表５】
【０１８３】
【発明の効果】本発明に従い、特定の増感色素含有感光
性平版印刷版を、特定の現像液を用いて現像して製版す
ることにより、光カブリによる印刷汚れがほとんど見ら
れない非常に硬調な画像が得られ、かつ、現像カスを大
幅に減らすことで処理安定性をも向上する事ができた。
性平版印刷版を、特定の現像液を用いて現像して製版す
ることにより、光カブリによる印刷汚れがほとんど見ら
れない非常に硬調な画像が得られ、かつ、現像カスを大
幅に減らすことで処理安定性をも向上する事ができた。
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フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AB03 AC01 AC08 AD01
BC31 BC51 BC85 CA20 CB10
CB13 CB42 CB43 FA03 FA17
2H096 AA07 AA08 BA05 BA20 EA02
EA04 GA09 GA12 GA13 LA19
4J011 AC04 QA12 QA13 QA15 QA17
QA19 QA22 QA23 QA24 QA25
QA26 QA39 QA46 QB14 QB19
QB24 SA62 UA02 VA01 WA01
Claims (5)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表される増感色素の
内の少なくとも一種を含有してなる感光性平版印刷版を
４５０ｎｍ以下の波長を有するレーザー光で露光するこ
とを特徴とする光重合方法。 【化１】 式（Ｉ）中、ＴはＯＲ、ＳＲ、Ｎ(Ｒ)2もしくはＳＯ2Ｒ
を表し、ビニル基のオルトまたはパラ位に少なくとも一
つ存在する。但し、Ｙのフェニル環結合部分が酸素原子
または硫黄原子、もしくはＮ原子の場合には、Ｔは存在
しなくても良い。Ｘは酸素原子または硫黄原子ないしＮ
Ｒを表す。Ｙは隣接炭素原子と共同して環形成する非金
属原子団を表し、Ｒはそれぞれ独立に、水素原子または
非金属原子団であり、互いに結合していても良い。 - 【請求項２】 増感色素が下記一般式（II）で表される
増感色素の内の少なくとも一種であることを特徴とする
請求項１に記載の光重合方法。 【化２】 式（II）中、ＴはＯＲ、ＳＲ、Ｎ(Ｒ)2もしくはＳＯ2Ｒ
を表し、ビニル基のオルトまたはパラ位に少なくとも一
つ存在する。但し、Ｙのフェニル環結合部分が酸素原子
または硫黄原子、もしくはＮ原子の場合には、Ｔは存在
しなくても良い。Ｒはそれぞれ独立に、水素原子または
非金属原子団であり、互いに結合していても良い。Ｚは
酸素原子または硫黄原子ないしＮＲを表す。 - 【請求項３】 請求項１又は２に記載の光重合方法を用
いて作成した感光性平版印刷版を、レーザー光で露光
後、無機アルカリ剤および、下記一般式（III）で表され
る非イオン性化合物を含有する非珪酸塩系の現像液を用
いて現像することを特徴とする製版方法。 Ａ−Ｗ （III） （式（III）中、ＡはＡ−ＨのlogPが１．５以上の疎水
性有機基を表し、ＷはＷ−ＨのlogP が１．０未満の非
イオン性の親水性有機基を表す。） - 【請求項４】 現像液が２価金属に対するキレート剤を
含有することを特徴とする請求項３に記載の平版印刷版
の製版方法。 - 【請求項５】 現像液がｐＨ１０.０から１２.５であ
り、電導度が３〜３０mS / cmである事を特徴とする請
求項３又は４に記載の平版印刷版の製版方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001204824A JP2003021901A (ja) | 2001-07-05 | 2001-07-05 | 感光性平版印刷版の光重合方法 |
| AT02014888T ATE457476T1 (de) | 2001-07-05 | 2002-07-05 | Verfahren zur photopolymerisation durch belichtung einer flachdruckplatte |
| US10/188,976 US6811952B2 (en) | 2001-07-05 | 2002-07-05 | Process for photopolymerization of photosensitive lithographic printing plate |
| EP02014888A EP1273971B1 (en) | 2001-07-05 | 2002-07-05 | Process for photopolymerization by exposure of a photosensitive lithographic printing plate |
| DE60235289T DE60235289D1 (de) | 2001-07-05 | 2002-07-05 | Verfahren zur Photopolymerisation durch Belichtung einer Flachdruckplatte |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001204824A JP2003021901A (ja) | 2001-07-05 | 2001-07-05 | 感光性平版印刷版の光重合方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003021901A true JP2003021901A (ja) | 2003-01-24 |
Family
ID=19041233
Family Applications (1)
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