JP4328041B2 - 感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光性平版印刷版用の新規現像液及び平版印刷版製版方法に関するものである。さらに詳しくは、長期間の経時や繰り返しの使用による現像特性の低下がなく、かつ、平版印刷版の非画像部（未露光部）に対し良好な現像性を有し印刷での汚れを防止すると共に、画像部（露光部）に対しての現像ダメージが少なく強固な画像を形成し、高い耐刷性を実現する光重合型の平版印刷版に最適な、現像液及び平版印刷版製版方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より光重合性の平版印刷版用の現像液として広く用いられているものとしては大きく分類すると、次のa)〜c)の３種類のものが知られている。a)有機溶剤を主にした非水系の現像液、b)無機アルカリを主にした水系現像液、c)有機塩基を主にした水系現像液である。
これらの内、昨今では、環境問題の要請から、b)、c)の水系現像液が使用されている。
これら２つの現像液の特徴を詳しく述べると、b)の無機アルカリ現像液には通常現像後に支持体上の親水化処理を施すために、ｐＨ１２付近で、珪酸塩が含有されていることが特徴である。
この珪酸塩は親水化処理を行う、つまり印刷時の非画像部の汚れを防止するために必須の成分である。
【０００３】
たとえば、特開平８−２４８６４３号に記載のｐＨ１２以上の現像液や、特開平１１−６５１２９号記載のｐＨ１２以下の現像液が知られているが、前者のｐＨ１２以上の場合には、通常支持体に用いているアルミを溶解しやすく、特に画像面積の小さな点（小点）の場合にはサイドエッチング現象により、その画像部直下のアルミ支持体を溶解することで、印刷時に小点が支持体から取れる現象（小点飛び）が発生し、つまり、耐刷性を著しく劣化させるという問題があった。
また、後者のｐＨ１２以下の場合には、上述の耐刷性と印刷汚れ防止の点では好ましいが、長期間の現像処理を続けていくことで、例えば、空気中の炭酸ガスによる効果等によりｐＨが低下しやすく、この際に珪酸塩が現像液中に析出し現像処理を安定にできなくなるという新たな問題があった。
その他、珪酸塩を含有しない現像液の試みとして、特開昭６１−１０９０５２号、西ドイツ特許第１９８４６０５号、特開２０００−８１７１１号、特開平１１−６５１２６号などが開示されているが、いずれも印刷汚れの点で珪酸塩含有のものより不利なだけでなく、耐刷性との両立も困難であった。
【０００４】
一方、c)の有機塩基現像液としては、エタノールアミン等の有機アミン及び、現像補助剤としてベンジルアルコール等のアルコール系有機溶剤を含有するものが知られているが、この場合には、確かにｐＨ１０程度と低く、炭酸ガスの影響を受けにくく処理安定性は良いが、やはり、支持体に対する親水化の点で不利であることだけでなく、今度は画像部への浸透力が高過ぎ、特に小点に対して悪影響を及ぼし、現像時に支持体から小点がとれる現象が生じるという画像形成性を劣化させる問題があった。
すなわち、光重合性の平版印刷版に関しては、画像形成性、印刷汚れと耐刷性、処理安定性などを考慮すると適した現像液がないのが実状である。
また、現像液組成に関しては珪酸塩の含有の有無、ｐＨの高低、無機アルカリと有機アルカリの相違などが、現像現象に非常に影響を及ぼすことがわかるが、従来の組み合わせでは上記の問題を解決することはできなかった。
【０００５】
さらに、従来から光重合性の平版印刷版では、長期間現像処理を続けていると現像液中に不溶物が蓄積、凝集沈降し現像カスとなり現像処理を不安定化する要因になっていた。
このような現像カスの成分はこれまで明らかとはなっていなかったが、分析の結果、その多くは、感光層中に含まれる現像液不溶解成分であることが判明した。
その不溶解成分としては、例えば、露光部と未露光部を識別するために感光層に添加している種々の着色剤が挙げられる。これらの着色剤は、光重合系の場合、ラジカル補足による減感や開始系（開始剤単独或いは増感色素と開始剤との組み合わせなど）との不必要な相互作用（エネルギー移動や電子移動）による減感を避ける目的で、感光層中に分子分散せずに結晶状態を保った集合体として分散される、いわゆる顔料が用いられている。しかしこのような顔料は本質的に現像液に不溶であるため、未露光部を除去するための現像工程において、はじめは一時的に現像液に分散しているが、長期間現像処理を続けていると現像液中に蓄積、凝集沈降し現像カスとなる。
【０００６】
一方、光重合性の平版印刷版には、近年発達してきたレーザー光源に対応すべく様々な光重合開始剤（ラジカル発生剤）が使用されているが、その中でもレーザー光源波長域に感光性を有し、安定性と感度の点で優れた開始剤として、チタノセン系の開始剤が知られている。しかしこのチタノセン系開始剤は有機金属であり、上述の着色剤顔料と同様に、現像液に不溶のものであり、一時的に現像液に分散しているが、長期間現像処理を続けていると現像液中に蓄積、凝集沈降し、やはり現像カスとなる。
上述のｐＨ低下に伴う珪酸塩析出の問題だけでなく処理安定性に関しては、このような現像カスの問題を解決することも非常に重要である。
すなわち、光重合性の平版印刷版用の現像液としては、上述の画像形成性、印刷汚れと耐刷性の両立、処理安定性を満足する現像液が望まれている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、本発明は、上記従来の技術の欠点を克服し、画像形成性を損なわずに印刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、かつ、上述の現像液不溶性化合物を溶解或いは長時間分散安定化でき、処理安定性をも向上することができる感光性平版印刷版用現像液および印刷版製版方法を提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、鋭意検討した結果、下記構成により、上記の課題を達成することに成功した。
即ち、本発明は以下の通りである。
（１）アルカリ珪酸塩及び界面活性剤を含有し、かつＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏモル比（Ｍはアルカリ金属又はアンモニウム基）が０．７５〜４．０であり、ｐＨが１１．５〜１２．８で少なくとも２５〜６５dyne/cmの表面張力を有することを特徴とする光重合型感光性平版印刷版用現像液。
本発明の好ましい実施態様として、アルカリ珪酸塩の含有量が二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）換算で０．１〜３質量％である上記現像液がある。また、本発明の好ましい実施態様として、界面活性剤の含有量が０．１〜１５質量％である上記現像液がある。
本発明の好ましい実施態様として、上記現像液にさらにキレート化合物を含ませることが挙げられる。また、本発明の現像液の別の好ましい実施態様として、炭酸又は炭酸塩を含ませることが挙げられる。
【０００９】
（２）付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個有する化合物及び光重合開始剤を含有する光重合性感光層を支持体上に有する感光性平版印刷版を露光後、上記の現像液によって現像することを特徴とする平版印刷版の製版方法。
本発明の平版印刷版の製版方法の好ましい実施態様として、上記感光層が１．０ｍｅｑ／ｇ以下の感光層酸価を有することが挙げられ、更に具体的に該感光層がpKa９以下の酸基を有する化合物を含有し、感光層酸価が０．２０〜０．６０ｍｅｑ／ｇであることが好ましい。
本発明の製版方法の別の好ましい実施態様として、未露光部の現像速度が０．０５μｍ／ｓ以上、且つ露光部の現像液浸透速度が０．１μｍ／ｓ以下となるように現像することが挙げられる。
本発明の製版方法の好ましい実施態様として、該感光層がチタノセン系開始剤または着色剤（顔料）を含有することが挙げられる。本発明の製版方法の別の好ましい実施態様として、感光性平版印刷版の支持体が、陽極酸化アルミニウム支持体表面上に燐系の酸原子団を有する有機化合物又は有機シリコーン化合物を有しているものがある。
【００１０】
上記のとおり、本発明においては、特殊な成分からなる現像液により、画像形成性を損なわずに印刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、かつ、上述の現像液不溶性化合物を溶解或いは長時間分散安定化でき、処理安定性をも向上することに成功した。
特殊な現像液とは、現像液組成物として以下の要件を満たすものであると現在のところは考えている。
第１に画像形成性に対し極めて良好な働きをすること（未露光部の現像性は高く、露光部に対する現像液の浸透性は低い。また、感光層の溶解挙動は非膨潤的であり、感光層表面から順に溶解していく）。
第２に未露光部の感光層を完全に除去することができ、支持体表面を印刷汚れの発生しない親水面として再生できることである。
第３に上述の現像不溶性化合物を安定に分散或いは可溶化するため、これらの不溶性化合物と相互作用する疎水性サイトと水中で分散安定化させる親水性サイトを有する前記一般式（Ｉ）の非イオン性化合物を含有すること。
第４に現像処理時の不安定化要因となる、水に含有されるＣａイオン等の２価金属を除去するキレート剤を含有すること。
【００１１】
この内、第１、第２に関しては感光層成分の特徴も重要な要因となる。特に光重合性の平版印刷版の感光層であれば制約は受けないが、現在判っているところでは、感光層酸価が従来のものよりも低いことは、本発明の現像液との相乗効果を得る点では、重要であると考えられる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の感光性平版印刷版用現像液および平版印刷版の製版方法について、さらに詳細に説明する。
はじめに、現像挙動について詳細に説明する。
［現像速度］
本発明でいう現像速度とは、実施例で得られた平版印刷版原版を露光せずにそのまま、各種現像液に対して２８℃で浸漬して、感光層が現像除去され、支持体が現れる時間を測定。感光層膜厚に対する現像速度を算出し、速度が大きい方が現像性が高くてよいことを表す。
【００１３】
未露光部現像速度 ＝ 感光層膜厚（μｍ）／現像完了時間（ｓ）
【００１４】
［現像浸透速度］
本発明でいう現像浸透速度とは、実施例で得られた平版印刷版原版を各露光光源により標準露光量にて露光後、各種現像液に対して２８℃で浸漬して静電容量の変化を測定した。静電容量の変化が起こる時間を調べることで感光層に現像液が浸透し、支持体に接触する時間が分かる（変化点が現れにくい場合は静電容量が１００ｎＦに到達する時間で見積もる）。該時間から感光層膜厚方向に対する現像液浸透速度を算出し、速度が小さい方が浸透性が低くてよいことを表す。なお、現像浸透速度の測定装置および測定グラフを図１および図２に示す。
【００１５】
露光部現像液浸透速度＝感光層膜厚（μｍ）／静電容量変化が始まる時間（ｓ）
【００１６】
［感光層の溶解及び膨潤］
本発明でいう感光層の溶解及び膨潤とは、実施例で得られた平版印刷版原版を露光せずにそのまま、各種現像液に対して３０℃で浸漬して、感光層の溶解挙動をＤＲＭ干渉波測定装置で調査した。現像挙動が感光層表面からの非膨潤的現像の場合、感光層膜厚が現像時間に対して徐々に薄くなり、その厚みに応じた干渉波が得られる。逆に膨潤的溶解（脱膜的溶解）の場合には膜厚が現像液浸透により変化するため、きれいな干渉波が得られない。
きれいな干渉波が得られることが望ましく、評価は干渉波の有無で評価した。
なお、感光層の溶解及び膨潤を測定するためのＤＲＭ干渉波測定装置および測定グラフを図３および図４に示す。
【００１７】
以下に本発明の光重合型感光性平版印刷版用現像液（以下、単に現像液とも称する）について説明する。
本発明の現像液は、少なくともアルカリ珪酸塩及び界面活性剤を含有するアルカリ性の水溶液である。通常上記アルカリ珪酸塩は塩基と組み合わせて使用され、現像液のｐＨは１１．５〜１２．８であり、好ましくは１１．８〜１２．５である。
使用するアルカリ珪酸塩としては、水に溶解したときにアルカリ性を示すものであって、例えば珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウムなどがある。これらのアルカリ珪酸塩は１種単独でも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１８】
上記アルカリ水溶液は、珪酸塩の成分である酸化ケイ素ＳｉＯ₂とアルカリ酸化物Ｍ₂Ｏ（Ｍはアルカリ金属又はアンモニウム基を表す。）との混合比率、及び濃度の調整により、現像性を容易に調節することができる。本発明の現像液では、ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏモル比を０．７５〜４．０の範囲にすることが適当であり、好ましくは１．０〜３．０である。ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏモル比が０．７５未満であると、アルカリ強度が強くなっていくため、平版印刷版原版の支持体として汎用のアルミニウム板などをエッチングしてしまうといった弊害を生ずることがあり、４．０を超えると現像性が低下することがある。
【００１９】
現像液中のアルカリ珪酸塩の濃度としては、二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）換算で０．１〜３質量％が適当であり、好ましくは０．５〜２質量％、より好ましくは０．７〜１．３質量％である。この濃度が０．１質量％に満たないと現像性、処理能力が低下することがあり、一方３質量％を超えると沈殿や結晶を生成しやすくなり、さらに廃液時の中和の際にゲル化しやすくなり、廃液処理に支障をきたすことがある。
【００２０】
アルカリ珪酸塩と組み合わせて用いる塩基として、従来より現像液にアルカリ剤として用いられる公知のものから適宜選択することができる。
該アルカリ剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸ナトリウムなどが挙げられる。アルカリ剤の組み合わせとして、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムといったアルカリ金属水酸化物と炭酸ナトリウム、炭酸カリウムといった炭酸塩との組み合わせが好ましい。
【００２１】
さらにモノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤も好適に挙げることができる。
これらのアルカリ剤は単独で用いても、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
中でも水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。
【００２２】
［界面活性剤］
本発明の現像液に用いられる界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤及び両性界面活性剤が挙げられ、これらの中から１種、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
ノニオン界面活性剤としては、下記一般式（Ｉ）の非イオン性化合物がある。
Ａ−Ｗ （Ｉ）
式中、ＡはＡ−ＨのｌｏｇＰが１．５以上の疎水性有機基を表し、ＷはＷ−ＨのｌｏｇＰが１．０未満の非イオン性の親水性有機基を表す。
ｌｏｇＰとは、C.Hansch，A.Leo,“Substituent Constants for Correlation Analysis in Chemistry and Biology”,J.Wile & Sons,1979. 記載の疎水性パラメータとして一般的に使用されるものであり、目的とする分子（Ａ−Ｈ及びＷ−Ｈ）のオクタノール／水２層系に対して、各層に分配される割合から算出した平衡濃度比Ｐの対数として定義される。
ここでは、一般式（Ｉ）中のＡ，Ｗの各基を特定する指標として使用しており、Ａ，Ｗ各有機基に便宜的に水素原子結合させた、Ａ−Ｈ、Ｗ−Ｈ構造に対して、A.K.Ghose、et．al．J. Comput．Chem. 9,80(1988).記載の方法に基づき、既知データより計算し、求めたものである。
【００２３】
具体的には、構造としては、有機基Ａ、Ｗは互いに異なり、上述のlogＰを満足する、一価の有機残基を表す。より好ましくは、互いに同一または異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良く、かつ、不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、カルボキシラート基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ホスホノ基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基 、シアノ基、ニトロ基を表す。
【００２４】
上記置換基を有していてもよく、かつ、不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基としては、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基があげられる。
【００２５】
アルキル基としては炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。
【００２６】
置換アルキル基は置換基とアルキレン基との結合により構成され、置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、
【００２７】
アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、
【００２８】
アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基（以下、カルボキシラートと称す）、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、
【００２９】
アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、
【００３０】
Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｌｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂（ａｌｌｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）₃）、アリーロキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｌｌｙｌ）₃）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）₃）及びその共役塩基基、
【００３１】
ホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以下、ホスホナト基と称す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アルキルホスホナト基と称す）、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アリールホスホナト基と称す）、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以後、ホスホナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アルキルホスホナトオキシ基と称す）、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アリールホスホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
【００３２】
これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基などを挙げることができる。また、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が挙げられる。
【００３３】
上述のアシル基（Ｒ⁴ＣＯ−）としては、Ｒ⁴が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基を挙げることができる。一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレン基を挙げることができる。好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニルメチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルオクチル基、
【００３４】
【化１】

【００３５】
ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。
【００３６】
アリール基としては１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基等を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【００３７】
置換アリール基は、置換基がアリール基に結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。これらの、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、
【００３８】
スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。
【００３９】
アルケニル基としては、上述のものを挙げることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、この置換基としては、上述の置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルケニル基は上述のアルケニル基を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の例としては
【００４０】
【化２】

【００４１】
等を挙げることができる。アルキニル基としては、上述のものを挙げることができる。置換アルキニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子と置き換わり、結合したものであり、この置換基としては、上述の置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルキニル基は上述のアルキニル基を用いることができる。
【００４２】
ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を１つ除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を１つ除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合してできた一価の基（置換ヘテロ環基）である。好ましいヘテロ環の例としては、
【００４３】
【化３】

【００４４】
【化４】

【００４５】
等を挙げることができる。
【００４６】
置換オキシ基（Ｒ⁵Ｏ−）としては、Ｒ⁵が水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いることができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基等を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに、アリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。
【００４７】
また、アシルオキシ基におけるアシル基（Ｒ⁶ＣＯ−）としては、Ｒ⁶が、前述のアルキル基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のものを挙げることができる。これらの置換基の中では、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールスルホキシ基等がより好ましい。好ましい置換オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げられる。
【００４８】
置換チオ基（Ｒ⁷Ｓ−）としてはＲ⁷が水素を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。好ましい置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシルチオ基を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができ、アシルチオ基におけるアシル基（Ｒ⁶ＣＯ−）のＲ⁶は前述のとおりである。これらの中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基がより好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキシエチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカルボニルチオ基等が挙げられる。
【００４９】
置換アミノ基（Ｒ⁸ＮＨ−，（Ｒ⁹）（Ｒ¹⁰）Ｎ−）としては、Ｒ⁸，Ｒ⁹，Ｒ¹⁰が水素を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。置換アミノ基の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができ、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基におけるアシル基（Ｒ⁶ＣＯ−）のＲ⁶は前述のとおりである。これらの内、より好ましいものとしては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基等が挙げられる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等が挙げられる。
【００５０】
置換カルボニル基（Ｒ¹¹−ＣＯ−）としては、Ｒ¹¹が一価の非金属原子団のものを使用できる。置換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基等が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらの内、より好ましい置換基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基等が挙げられ、更により好ましいものとしては、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびにアリーロキシカルボニル基が挙げられる。好ましい置換基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。
【００５１】
置換スルフィニル基（Ｒ¹²−ＳＯ−）としてはＲ¹²が一価の非金属原子団のものを使用できる。好ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらの内、より好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基等が挙げられる。このような置換スルフィニル基の具体例としては、へキシルスルフィニル基、ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等が挙げられる。
【００５２】
置換スルホニル基（Ｒ¹³−ＳＯ₂−）としては、Ｒ¹³が一価の非金属原子団のものを使用できる。より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。このような、置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基等が挙げられる。
【００５３】
スルホナト基（−ＳＯ₃−）は前述のとおり、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられる。
【００５４】
カルボキシラート基（−ＣＯ₂−）は前述のとおり、カルボキシル基（ＣＯ₂Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられる。
【００５５】
置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換されたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリールホスホノ基が挙げられる。これらの中ではジアルキルホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ましい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等が挙げられる。
【００５６】
ホスホナト基（−ＰＯ₃ ^2-、−ＰＯ₃Ｈ^-）とは前述のとおり、ホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）の、酸第一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類：アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられる。
【００５７】
置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノアルキルホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））の共役塩基を挙げることができる。通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられる。
【００５８】
前記一般式（Ｉ）中、Ａ及びＷの各構造は、より好ましくは、Ａが芳香族を含有する有機基、Ｗがポリオキシアルキレン基を含有する非イオン性の有機基である。
【００５９】
なお、Ａ−ＨおよびＷ−Ｈの具体例を以下に示す。
【００６０】
【化５】

【００６１】
【化６】

【００６２】
また、前記一般式（Ｉ）の非イオン性化合物の具体例を以下に示す。
【００６３】
【化７】

【００６４】
【化８】

【００６５】
【化９】

【００６６】
前記一般式（Ｉ）の非イオン性化合物として、さらに好ましいものとしては、下記式（Ｉ−Ａ）または（Ｉ−Ｂ）で示されるものである。
【００６７】
【化１０】

【００６８】
（Ｒ₁、Ｒ₂は、Ｈまたは炭素数１〜１００のアルキル基であり、ｎ、ｍは０〜１００の整数である。）
【００６９】
一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物としては、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物としては、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンメチルナフチルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルナフチルエーテル、ホリオキシエチレンノニルナフチルエーテル等が挙げられる。
【００７０】
前記一般式（Ｉ−Ａ）および（Ｉ−Ｂ）の化合物において、ポリオキシエチレン鎖の繰り返し単位数は、好ましくは３〜５０、より好ましくは５〜３０である。ポリオキシプロピレン鎖の繰り返し単位数は、好ましくは０〜１０、より好ましくは０〜５である。ポリオキシエチレン部とポリオキシプロピレン部はランダムでもブロックの共重合体でもよい。
前記一般式（Ｉ−Ａ）および（Ｉ−Ｂ）で示されるノニオン芳香族エーテル系活性剤は、単独または２種類以上を組み合わせて使用される。
【００７１】
本発明の現像液に用いられるアニオン界面活性剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(Y-23)などのアルキルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(Y-24)、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(Y-25)、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム(Y-26)、オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム(Y-27)などのアルキルナフタレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム(Y-28)などのアルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ナトリウム(Y-29)などのアルキルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウム(Y-30)などのスルホコハク酸エステル塩類などが挙げられる。
【００７２】
本発明の現像液に用いられるカチオン界面活性剤としては、アルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド(Y-31)などの第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリオキシエチレンポリアミン誘導体などが挙げられる。
第四級アンモニウム塩類の具体例として以下の式で表されるものがある。

（式中、Ｒ₄〜Ｒ₇は各々、炭素原子数１〜３０のアルキル基又はアルケニル基を表し、Ｘ^-は各種の酸基イオン、酸エステルイオン（例えばR-O-SO₃ ^-）、ハロゲンイオン、水酸イオンなどを表す。）
【００７３】
本発明の現像液に用いられる両性界面活性剤としてカルボキシベタイン類、アルキルアミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などが挙げられる。
中でもアミノカルボン酸型両性界面活性剤として、例えば以下の式で表される化合物及びその塩類がある。

（式中、Ｒ₈及びＲ₉はそれぞれ炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、ｄ、ｅ及びｆはそれぞれ１〜１０の整数を表す。）
Ｒ₈及びＲ₉は、好ましくは脂肪族炭化水素基であって、直鎖でも分岐していてもよく、また、飽和でも不飽和でもよく、具体的にアルキル基、アルケニル基などが挙げられる。
上記式の化合物の塩類としては、アルカリ金属塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩、アンモニウム塩及びアミン塩などが挙げられる。
【００７４】
またベタイン型両性界面活性剤として例えば以下の式で表されるものがある。

（式中、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂はそれぞれ炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、ｇは１〜１０の整数を表す。）
Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂は、好ましくは脂肪族炭化水素基であって、直鎖でも分岐していてもよく、また、飽和でも不飽和でもよく、具体的にアルキル基、アルケニル基などが挙げられる。
【００７５】
本発明の現像液において、上記界面活性剤は、現像液中０．１〜１５質量％、好ましくは０．５〜８．０質量％、より好ましくは１．０〜５．０質量％添加することが効果的である。
ここで添加量が少なすぎると、現像性低下および感光層成分の溶解性低下を招き、逆に多すぎると、印刷版の耐刷性を低下させる。
【００７６】
［キレート剤］
本発明の現像液は、キレート剤を含有していてもよい。キレート剤としては、例えば、Ｎa₂Ｐ₂Ｏ₇、Ｎa₅Ｐ₃Ｏ₃、Ｎa₃Ｐ₃Ｏ₉、Ｎa₂Ｏ₄Ｐ（ＮaＯ₃Ｐ)ＰＯ₃Ｎa₂、カルゴン（ポリメタリン酸ナトリウム）などのポリリン酸塩、例えばエチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１，２−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１，３−ジアミノ−２−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのようなアミノポリカルボン酸類の他２−ホスホノブタントリカルボン酸−１，２，４、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；２一ホスホノブタノントリカルボン酸−２，３，４、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１−ホスホノエタントリカルボン酸−１，２、２、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；アミノトリ（メチレンホスホン酸）、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類を挙げることができる。このようなキレート剤の最適量は使用される硬水の硬度およびその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜１．０質量％、さらに好ましくは０．０５〜０．５質量％の範囲で含有させられる。
【００７７】
［その他の成分］
本発明に使用される現像液には、上記の成分の他に、必要に応じて以下のような成分を併用することができる。例えば安息香酸、フタル酸、ｐ−エチル安息香酸、ｐ−ｎ−プロピル安息香酸、ｐ−イソプロピル安息香酸、ｐ−ｎ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ｐ−２−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸等の有機カルボン酸；イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の有機溶剤；この他、キレート剤、還元剤、染料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤等が挙げられる。
さらに本発明の製版方法を、自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させても良い。
【００７８】
［表面張力］
本発明の現像液の表面張力は２５〜６５dyne/cmの範囲とし、好ましくは３０〜５５dyne/cmの範囲である。表面張力の測定方法には毛管法、ホウ圧法、滴重法、垂滴法、静滴法、静ホウ法、輪環法があり、特にジュヌーイの表面張力計を用いる輪環が簡便である。表面張力が２５dyne/cm未満であると露光部中へ現像液が浸透がしやすくなり、画像部が一部欠けることが生じる。一方６５dyne/cmを超えると現像液の未露光部への浸透性が悪くなり、非画像部に残膜が発生する。
【００７９】
［電導度］
本発明の現像液の電導度は、３〜３０ｍＳ／ｃｍの範囲にあることが適当であり、現像速度の点でより好ましくは、３〜１５ｍＳ／ｃｍである。
【００８０】
［発砲性］
内径３ｃｍの１００ｍｌ透明ガラス瓶に現像液を３０ｍｌ入れて、２５℃で、１秒間に３回の速度で、ガラス瓶を上下に１分間振とうする。その後、静置し、泡が消えるまでの時間（消泡時間）を測定する。この時間が少ない方が発泡性が低くよい（消泡性が高い）。
本発明の現像液は、好ましくは、発砲性が低く、消泡時間５分以下であり、現像処理時に発砲し現像処理工程に支障を来すことがない。
【００８１】
［色］
本発明の現像液は無色、好ましくは水との誤認を防ぐ目的で、視認性が得られる程度の色が付いている。
［粘度］
本発明の現像液の粘度は好ましくは、水希釈状態で２５℃において１．０〜１０．０ｃｐであり、円滑な現像処理が行える。
【００８２】
［感光性平版印刷版］
次いで、本発明に使用される感光性平版印刷版について説明する。
［感光層］
その中でも、本発明に使用される感光性平版印刷版の感光層について、はじめに説明する。
本発明に使用される感光性平版印刷版の感光層は、特に限定されないが、レーザー描画可能なネガ型の光重合系の感光層であることが好ましい。
光重合系感光層の主な成分は、
ａ）付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個有する化合物
ｂ）アルカリ水溶液に可溶又は膨潤性の高分子重合体
ｃ）光重合開始剤系、
であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等の種々の化合物が添加される。
【００８３】
付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物の中から任意に選択することができる。
例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつものである。
モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
【００８４】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
【００８５】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【００８６】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
さらに、前述のエステルモノマーの混合物も挙げることができる。
【００８７】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の例としては、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている、１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【００８８】
ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ₃）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ₄）ＯＨ （Ａ）
【００８９】
（ただし、Ｒ₃およびＲ₄はＨあるいはＣＨ₃を示す。）
【００９０】
また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。さらに日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。なお、これらの使用量は、全成分に対して５〜７０重量％（以下％と略称する。）、好ましくは１０〜５０％である。
【００９１】
本発明に使用される感光性平版印刷版の感光層に含有されるアルカリ水に可溶性又は膨潤性を有する高分子重合体は、該組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、アルカリ水現像剤の用途に応じて選択使用される。有機高分子重合体は、例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。この様な有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。
【００９２】
また同様に、側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル（メタ）アクリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性有機高分子として、ポリピニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
また特公平７−１２００４０号、特公平７−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特開平１１−３５２６９１号に記載のポリウレタン樹脂も本発明の用途には有用である。
【００９３】
これら高分子重合体は側鎖にラジカル反応性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させることができる。付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照射によりラジカルになり得る官能基としては、メルカプト基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オニウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イミド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基としては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、又アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カルバモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイレン基、スルフォン酸基、アンモニオ基から選ばれる官能基も有用である。
組成物の現像性を維持するため、本発明の高分子重合体は適当な分子量、酸価を有することが好ましい。前述の現像液で現像させるため、重量平均分子量が５０００から３０万で、酸価０．２〜５．０ｍｅｑ／ｇの高分子重合体を使用することが好ましい。
【００９４】
これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和させることができる。しかし９０重量％を超える場合には、形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。好ましくは１０〜９０％、より好ましくは３０〜８０％である。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物と有機高分子重合体は、重量比で１／９〜９／１の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は２／８〜８／２であり、更に好ましくは３／７〜７／３である。
【００９５】
本発明に使用される感光性平版印刷版の感光層に含有される光重合開始剤としては、使用する光源の波長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、あるいは２種以上の光開始剤の併用系（光開始系）を適宜選択して使用することができる。
【００９６】
４００ｎｍ以上の可視光線、Ａｒレーザー、半導体レーザーの第２高調波、ＳＨＧ−ＹＡＧレーザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案されており、例えば、米国特許第２，８５０，４４５号に記載のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エオシン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤との組み合わせによる系、例えば、染料とアミンの複合開始系（特公昭４４−２０１８９号）、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系（特公昭４５−３７３７７号）、ヘキサアリールビイミダゾールとｐ−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系（特公昭４７−２５２８号、特開昭５４−１５５２９２号）、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系（特開昭４８−８４１８３号）、環状トリアジンとメロシアニン色素の系（特開昭５４−１５１０２４号）、３−ケトクマリンと活性剤の系（特開昭５２−１１２６８１号、特開昭５８−１５５０３号）、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系（特開昭５９−１４０２０３号）、有機過酸化物と色素の系（特開昭５９−１５０４号、特開昭５９−１４０２０３号、特開昭５９−１８９３４０号、特開昭６２−１７４２０３号、特公昭６２−１６４１号、米国特許第４７６６０５５号）、染料と活性ハロゲン化合物の系（特開昭６３−２５８９０３号、特開平２−６３０５４号など）、染料とボレート化合物の系（特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特開昭６４−１３１４０号、特開昭６４−１３１４１号、特開昭６４−１３１４２号、特開昭６４−１３１４３号、特開昭６４−１３１４４号、特開昭６４−１７０４８号、特開平１−２２９００３号、特開平１−２９８３４８号、特開平１−１３８２０４号など）、ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系（特開平２−１７９６４３号、特開平２−２４４０５０号）、チタノセンと３−ケトクマリン色素の系（特開昭６３−２２１１１０号）、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系（特開平４−２２１９５８号、特開平４−２１９７５６号）、チタノセンと特定のメロシアニン色素の系（特開平６−２９５０６１号）、チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系（特開平８−３３４８９７号）等を挙げることができる。
【００９７】
本発明においては、特にチタノセン化合物を用いた系が、感度の点で優れており好ましい。
チタノセン化合物としては、種々のものを用いることができるが、例えば、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号各公報に記載されている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いることができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフエニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イル等を挙げることができる。
【００９８】
さらに、本発明で用いる光重合開始剤に必要に応じてアミン化合物、チオール化合物などの助剤を加えても良く、これらの水素供与性化合物を加えることによってさらに光重合開始能力を高めることができる。
これらの光重合開始剤の使用量は、エチレン性不飽和化合物１００重量部に対し、０．０５〜１００重量部、好ましくは０．１〜７０重量部、更に好ましくは０．２〜５０重量部の範囲で用いることができる。
【００９９】
また本発明においては、以上の基本成分の他に、感光層用の感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために、少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１％〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やべヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５％〜約１０％が好ましい。
【０１００】
更に感光層の着色を目的として、着色剤を添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシアニン系顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：３．１５：４、１５：６など）、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の添加量は全感光層固形分の約０．５％〜約２０％が好ましい。
加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。
これらの添加量は全感光層固形分の１０％以下が好ましい。
【０１０１】
上記感光層を後述の支持体上に塗布する際には、感光層用組成物を種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、１〜５０重量％が適当である。
【０１０２】
前記光重合性感光層用組成物には、塗布面質を向上するために界面活性剤を添加することができる。
その被覆量は乾燥後の重量で約０．１ｇ／ｍ²〜約１０ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましくは０．３〜５ｇ／ｍ²である。更に好ましくは０．５〜３ｇ／ｍ²である。
【０１０３】
［感光層酸価］
なお、本発明でいう感光層酸価とは、感光性平版印刷版の支持体上に塗設されている感光性組成物（感光層の上に塗設されるオーバーコート層、例えば、酸素遮断層は含まない）の層、１ｇあたりに含有されるpKa９以下の酸の等量である。実験的には感光層を水酸化ナトリウム水溶液により直接、滴定して求めることができるが、感光性組成物中のpKa９以下の酸基を有する化合物の含有量から計算により求めることもできる。
具体的に感光層酸価を変える方法としては、感光層成分である架橋剤モノマー／酸基を有するバインダーポリマー（線状高分子）の含有比の変更および酸基の少ない低酸価バインダーポリマーの使用などが考えられる。
低酸価バインダーポリマーとしては、酸価１．５ｍｅｑ／ｇ以下が好ましい。より好ましくは１．２ｍｅｑ／ｇ以下である。
本発明の感光層の感光層酸価は１．０ｍｅｑ／ｇであることが好ましい。酸価０．２０〜０．６０ｍｅｑ／ｇの感光層を有する平版印刷版に適用する方が効果的である。さらに画像形成性の点でより好ましくは０．３０〜０．５０ｍｅｑ／ｇの感光層を有するものである。
【０１０４】
（支持体）
本発明で用いられる感光性平版印刷版の支持体としては、寸度的に安定な板状物であれば、特に限定されないが、アルミニウム支持体が好適である。
アルミニウム支持体は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とするアルミニウムおよびアルミニウム含有（例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムとの合金）合金、またはアルミニウムまたはアルミニウム合金がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙の中から選ばれる。さらに特公昭４８−１８３２７号に記載の様なポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートでもかまわない。このアルミニウム支持体には、適宜後述の基板表面処理が施される。
【０１０５】
（砂目立て処理）
砂目立て処理方法は、特開昭５６−２８８９３号に開示されているような機械的砂目立て、化学的エッチング、電解グレインなどがある。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは組み合わせて用いることもできる。
【０１０６】
その中でも本発明に有用に使用される表面粗さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に砂目立てする電気化学的方法であり、適する電流密度は１００Ｃ／ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の範囲である。さらに具体的には、０．１〜５０％の塩酸または硝酸を含む電解液中、温度２０〜１００℃、時間１秒〜３０分、電流密度１００Ｃ／ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の条件で電解を行うことが好ましい。
このように砂目立て処理したアルミニウム支持体は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングされる。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構造を破壊するのに時間がかがり、工業的に本発明を適用するに際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤として用いることにより改善できる。
本発明において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用い、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０％、２０〜１００℃であり。Ａｌの溶解量が５〜２０ｇ／ｍ³となるような条件が好ましい。
【０１０７】
エッチングのあと表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭５３−１２７３９号公報に記載されているような５０〜９０℃の温度の１５〜６５重量％の硫酸と接触させる方法及び特公昭４８−２８１２３号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。
なお、本発明で有効に用いられるＡｌ支持体の表面粗さは（Ｒａ）は０．３〜０．７μｍである。
【０１０８】
（陽極酸化処理）
以上のようにして処理されたアルミニウム支持体は、さらに陽極酸化処理が施される。
陽極酸化処理はこの分野で従来より行われている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフォン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わせて水溶液または非水溶液中でアルミニウムに直流または交流を流すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液の濃度が１〜８０％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０〜１００秒の範囲が適当である。
【０１０９】
これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
本発明においては、陽極酸化皮膜は１〜１０ｇ／ｍ²であることが好ましく、１ｇ／ｍ²以下であると版に傷が入りやすく、１０ｇ／ｍ²以上は製造に多大な電力が必要となり、経済的に不利である。好ましくは、１．５〜７ｇ／ｍ²である。更に好ましくは、２〜５ｇ／ｍ²である。
更に、本発明においては、砂目立て処理及び陽極酸化後、アルミニウム支持体に封孔処理を施してもかまわない。かかる封孔処理は、熱水及び無機塩または有機塩を含む熱水溶液への基板の浸漬ならびに水蒸気浴などによって行われる。また、このアルミニウム支持体にはアルカリ金属珪酸塩によるシリケート処理のほか、たとえば弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理などの表面処理がなされてもかまわない。
【０１１０】
また、本発明で用いる感光性平版印刷版の支持体には、前記アルミニウム支持体の他に、寸度的に安定な以下の板状物も好適に用いられる。例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。
【０１１１】
また、これらの支持体に対しては、その支持体に応じた表面親水化処理を行うことも好ましい。表面親水化処理には、エッチングや酸化、還元、ゾル−ゲルコーティングなどの化学反応による処理や、支持体表面に吸着するような特定の化合物をコーティングすること等が挙げられる。
例えば、陽極酸化アルミニウム支持体の場合には、特に、燐系の酸原子団を有する有機化合物（燐酸、ホスホン酸、ホスフィン酸など）、又は特開２００１−１０９１３９号公報に記載されているアルミニウム基板上に設ける接着層に用いる有機シリコーン化合物などが好適に使用される。
上記の支持体上に、前述の感光層を形成することで、感光性平版印刷版が製造されるが、感光層を塗設する前に必要に応じて有機または無機の下塗り層が設けられてもかまわない。
【０１１２】
（酸素遮断性保護層）
本発明で用いる感光性平版印刷版は、その光重合性感光層の上に水溶性ビニル重合体を主成分とする酸素遮断性保護層を有していてもよい。
酸素遮断性保護層に含まれる水溶性ビニル重合体としては、ポリビニルアルコール、およびその部分エステル、エーテル、およびアセタール、またはそれらに必要な水溶性を有せしめるような実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するその共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールとしては、７１〜１００％加水分解され、重合度が３００〜２４００の範囲のものが挙げられる。具体的には、株式会社クラレ製ＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙げられる。上記の共重合体としては、８８〜１００％加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオネート、ポリビニルホルマールおよびポリビニルアセタールおよびそれらの共重合体が挙げられる。その他有用な重合体としては、ポリビニルピロリドン、ゼラチンおよびアラビアゴム等が挙げられ、これらは単独または、併用して用いても良い。
【０１１３】
この酸素遮断性保護層を塗布する際用いる溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布溶液中の固形分の濃度は１〜２０重量％が適当である。
この酸素遮断性保護層にはさらに塗布性を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良い。
水溶性の可塑剤としては、たとえばプロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等がある。また、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマーなどを添加しても良い。
その被覆量は、乾繰後の重量で約０．１ｇ／ｍ²〜約１５ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましくは１．０ｇ／ｍ²〜約５．０ｇ／ｍ²である。
【０１１４】
［製版プロセス］
本発明の感光性平版印刷版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱しても良い。このような加熱により、感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは、全面露光を行うことも有効である。通常現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。温度が高すぎると、非画像部までがかぶってしまう等の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は２００〜３５０℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体アルミニウムのなまり、画像部の熱分解といった問題を生じる。
【０１１５】
本発明の感光性平版印刷版の露光方法は、公知の方法を制限なく用いることができる。光源としてはレーザが好ましく。例えば、３５０〜４５０nmの波長の入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用することができる。
ガスレーザーとして、Ａｒイオンレーザー（３６４nm、３５１nm、１０mW〜１Ｗ）、Ｋｒイオンレーザー（３５６nm，３５１nm，１０mW〜１W）、Ｈｅ−Ｃｄレーザー（４４１nm，３２５nm，１mW〜１００mW）、
固体レーザーとして、Ｎｄ：ＹＡＧ（ＹＶＯ４）とＳＨＧ結晶×２回の組み合わせ（３５５mm、５mW〜１Ｗ）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み合わせ（４３０nm，１０mW）、
半導体レーザー系として、ＫＮｂＯ₃、リング共振器（４３０nm，３０mW）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わせ（３８０nm〜４５０ｎｍ、５mW〜１００mW）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導体の組み合わせ（３００nm〜３５０nm、５mW〜１００mW）、ＡｌＧａＩｎＮ（３５０nm〜４５０nm、５mW〜３０mW）、
その他、パルスレーザーとしてＮ₂レーザー（３３７nm、パルス０．１〜１０ｍＪ）、ＸｅＦ（３５１nm、パルス１０〜２５０mJ）
【０１１６】
特にこの中でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０nm、5〜30mW）が波長特性、コストの面で好適である。
【０１１７】
その他、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの入手可能な光源としてはAr＋レーザ−（４８８ｎｍ）、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザー（５３２ｎｍ）、Ｈｅ−Ｎeレーザー（６３３ｎｍ）、Ｈｅ―Ｃｄレーザー、赤色半導体レーザー（６５０〜６９０ｎｍ）、及び７００ｎｍ〜１２００ｎｍの入手可能な光源としては半導体レーザ（８００〜８５０ｎｍ）、Ｎｄ−ＹＡＧレーザ（１０６４ｎｍ）が好適に利用できる。
【０１１８】
その他、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、紫外のレーザランプ（ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザーなど）、放射線としては電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線なども利用できるが、安価な点で上述の３５０ｎｍ以上のレーザー光源が特に好ましい。
【０１１９】
また、露光機構は内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。また本発明の感光性平版印刷版の感光層成分は高い水溶性のものを使用することで、中性の水や弱アルカリ水に可溶とすることもできるが、このような構成の感光性平版印刷版は印刷機上に装填後、機上で露光−現像といった方式を行うこともできる。
【０１２０】
また現像処理された感光性平版印刷版は、特開昭５４−８００２号、同５５−１１５０４５号、同５９−５８４３１号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本発明の感光性平版印刷版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【０１２１】
【実施例】
以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［支持体例］
（支持体１：陽極酸化アルミニウム支持体）
厚さ０．３０ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板を８号ナイロンブラシと８００メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で、水洗後、２０％ＨＮＯ₃で中和洗浄、水洗した。これをＶ_A＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で３００クーロン／ｄｍ²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ０．４５μｍ（Ｒａ表示）であった。ひきつづいて３０％のＨ₂ＳＯ₄水溶液中に浸漬し、５５℃で２分間デスマットした後、３３℃、２０％Ｈ₂ＳＯ₄水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度５Ａ／ｄｍ²において５０秒間陽極酸化したところ、厚さが２．７ｇ／ｍ²であった。これを支持体１とした。
【０１２２】
（支持体２）
支持体１に下記の表面処理用下塗り液状組成物１をＰ量が約０．０５ｇ／ｍ²となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させたものを支持体２とした。
【０１２３】
＜下塗り用液状組成物１＞
フェニルホスホン酸 ２重量部
メタノール ８００重量部
水 ５０重量部
【０１２４】
（支持体３）
支持体１に下記の表面処理用下塗り液状組成物２をＳｉ量が約０．００１ｇ／ｍ²となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させたものを支持体３とした。
【０１２５】
＜下塗り用液状組成物２＞
下記成分を混合攪拌し、約５分後に発熱が見られ、６０分間反応させた後、内容物を別の容器に移し、メタノールをさらに３万重量部加えたものを液状組成物２とした。
【０１２６】
ユニケミカル（株）ホスマーＰＥ ２０重量部
メタノール １３０重量部
水 ２０重量部
パラトルエンスルホン酸 ５重量部
テトラエトキシシラン ５０重量部
３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン ５０重量部
【０１２７】
［感材例］
上述の支持体１〜３上に、下記組成の光重合性組成物を乾燥塗布重量が１．５ｇ／ｍ²となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させ、感光層を形成した。
続いて、この感光層上にポリビニルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５００）の３wt％の水溶液を乾燥塗布重量が２．５ｇ／ｍ²となるように塗布し、１２０℃で３分間乾燥させ、感光性平版印刷版（感材）を得た。
【０１２８】
（感光層塗布液（光重合性組成物）：下記表−１に詳細を記載）
エチレン性不飽和結合含有化合物（Ａ） ａ 重量部
線状有機高分子重合体（Ｂ） ｂ 重量部
増感剤（Ｃ） ０．１５重量部
光開始剤（Ｄ） ０．３０重量部
添加剤（Ｓ） ０．５０重量部
フッ素系界面活性剤 ０．０３重量部
（メガファックF-177：大日本インキ化学工業(株)製）
熱重合禁止剤 ０．０１重量部
（Ｎ-ニトロソヒドロキシルアミンアルミニウム塩）
ε型の銅フタロシアニン分散物 ０．２ 重量部
メチルエチルケトン ３０．０ 重量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ３０．０ 重量部
【０１２９】
なお、感光層塗布液に用いる、エチレン性不飽和結合含有化合物（Ａ）、線状有機高分子重合体（Ｂ）、増感剤（Ｃ）、光開始剤（Ｄ）、添加剤（Ｓ）を以下に示す。
【０１３０】
【化１１】

【０１３１】
【化１２】

【０１３２】
【化１３】

【０１３３】
【表１】

【０１３４】
※感光層酸価は感光層1g当たりに含有される酸量を水酸化ナトリウム滴定により測定後、算出した実測値である。
【０１３５】
［現像液例］
下記組成の現像液を調製した。
【０１３６】
（実施例：現像液１〜３５：下記表２〜４に詳細を記載）
アルカリ剤 ｘ ｇ
アルカリ珪酸塩 ｙ ｇ
界面活性剤（Ｙ） ５．０ ｇ
キレート剤 （Ｚ） ０．１ ｇ
添加剤 （Ｑ） １．０ ｇ
水 （９３．９−（ｘ＋ｙ））ｇ
【０１３７】
なお、現像液に用いる、キレート剤（Ｚ）、添加剤（Ｑ）を以下に示す。
表２〜４に実施例、比較例で使用する現像液の組成、ｐH及び電導度をまとめて示す。電導度は、東亜電波工業（株）製 電導度測定機ＣＭ６０Ｓにて２５℃で測定した。
【０１３８】
【化１４】

【０１３９】
【表２】

【０１４０】
【表３】

【０１４１】
【表４】

【０１４２】
上記実施例及び比較例で使用している１Ｋ珪酸カリウム、２Ｋ珪酸カリウム、Ａ珪酸カリウムは日本化学工業（株）製の商品名である。比較の現像液４及び現像液５は、一般式（I）で示される非イオン性化合物を含んでいないものである。
【０１４３】
［印刷等評価］
上記表−１の感材と表２〜４の現像液を組み合わせた際の結果について下記表５〜６にまとめた。
また、露光、印刷、現像条件は以下のものを使用した。
（現像性の評価）
上述の塗布感材を未露光のまま現像後、版の色を目視評価。残膜がある場合、感光層の色が残る。
【０１４４】
（耐刷性および印刷放置汚れ性の評価）
上述の塗布感材を５３２ｎｍ、１００ｍＷのＦＤ・ＹＡＧレーザー（ＣＳＩ社製プレートジェット４）、或いは、４０５ｎｍ、３０ｍＷのvioletＬＤ（内面ドラム型実験機）で１００μ／ｃｍ²の露光（標準露光条件）で４０００ｄｐｉにて１７５線／インチの条件で、ベタ画像と１〜９９％の網点画像（１％刻み）を走査露光した後、各種現像液およびフィニッシングガム液ＦＰ−２Ｗ（富士写真フィルム製）を仕込んだ自動現像機（富士写真フィルム製ＬＰ−８５０Ｐ２）で標準処理を行い平版印刷版を得た。（露光後のプレヒートは版面到達温度が１００℃、現像液への浸漬時間１５秒である。）
続いて、得られた平版印刷版についてマン・ローランド社製Ｒ２０１型印刷機で、大日本インキ社製ＧＥＯＳ Ｇ墨（Ｎ）を使用して印刷し、３％の網点が版飛びを起こした印刷枚数を評価した。印刷放置汚れ性は三菱重工製ダイヤＩＦ２型印刷機で、大日本インキ社製ＧＥＯＳ Ｇ紅（Ｓ）を使用して印刷し、印刷途中でインキをつけた状態で１時間放置した後、再び印刷を行い、非画像部のインキ汚れを目視で評価した。
【０１４５】
（現像カスの評価）
上述の塗布感材２０ｍ²を上述の現像液（１リットル）中で現像後、１ヶ月放置し沈降した現像カスの有無を調査した。この結果も表５〜６に示す。
【０１４６】
【表５】

【０１４７】
【表６】

【０１４８】
※感材５〜８については４０５ｎｍで露光、感材１〜４、９については５３２ｎｍで露光した。
【０１４９】
表５〜６から明らかなように本発明の現像液は現像性良好であり、耐刷性と印刷汚れを両立し、さらに現像カスを発生せず長期にわたって処理が安定に保たれて、よって良好なランニング安定性を発揮する。
【０１５０】
【発明の効果】
本発明の感光性平版印刷版用現像液および平版印刷版の製版方法は、画像形成性を損なわずに印刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、かつ、現像液不溶性化合物を溶解或いは長時間分散安定化でき、処理安定性をも向上することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】現像浸透速度を測定するための装置の概略図である。
【図２】現像浸透速度を測定するためのグラフである。
【図３】感光層の溶解及び膨潤を測定するためのＤＲＭ干渉波測定装置の概略図である。
【図４】感光層の溶解及び膨潤を測定するためのグラフである。

Claims (4)

1. 付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個有する化合物及び光重合開始剤を含有する光重合性感光層を支持体上に有する光重合型感光性平版印刷版を露光後、アルカリ珪酸塩及び下記一般式（Ｉ−Ｂ）で表される界面活性剤を含有し、かつＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏモル比（Ｍはアルカリ金属）が０．７５〜４．０であり、ｐＨが１１．５〜１２．８で２５〜６５dyne/cmの表面張力を有する現像液によって現像することを特徴とする平版印刷版の製版方法。
   

   

   （Ｒ₂は、Ｈまたは炭素数１〜１００のアルキル基であり、ｎ、ｍは０〜１００の整数である。）
2. 現像液においてアルカリ珪酸塩の含有量が二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）換算で０．１〜３質量％である請求項１記載の平版印刷版の製版方法。
3. 現像液において該界面活性剤の含有量が０．１〜１５質量％である請求項１又は２記載の平版印刷版の製版方法。
4. 式（Ｉ−Ｂ）においてポリオキシエチレン鎖の繰り返し単位数が３〜５０であり、ポリオキシプロピレン鎖の繰り返し単位数が０〜１０である、請求項１〜３のいずれか１項記載の平版印刷版の製版方法。

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