JP2003066621A - 感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 画像形成性を損なわずに印刷時の汚れと耐刷
性の両立ができ、かつ、pH変動に伴う処理安定性をも向
上することができる感光性平版印刷版用現像液及び平版
印刷版製版方法を提供する。 【解決手段】 ノニオン界面活性剤及び／又はアニオン
界面活性剤、及び解離定数pkaが１０〜１３の範囲にあ
る弱酸またはその塩、及び芳香族カルボン酸化合物又は
その塩を含有し、pHが１１．５以上１２．８以下でかつ
電導度が３〜４０ｍＳ／cmであることを特徴とする光重
合型感光性平版印刷版用現像液。粗面化、及び陽極酸化
処理を施したアルミニウム支持体上に設けた光重合型感
光性平版印刷版を、露光後、水洗処理し、上記現像液で
処理し、再び水洗した後、ａ）アラビアゴム及びｂ）加
工デンプンを含有する不感脂化処理剤を塗設することを
特徴とする平版印刷版の製版方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性平版印刷版
用の新規現像液及び平版印刷版製版方法に関するもので
ある。さらに詳しくは、長期間の経時や繰り返しの使用
による現像特性の低下がなく、かつ、平版印刷版の非画
像部（未露光部）に対し良好な現像性を有し印刷での汚
れを防止すると共に、画像部（露光部）に対しての現像
ダメージが少なく強固な画像を形成し、高い耐刷性を実
現する光重合型の平版印刷版に最適な、現像液並びに平
版印刷版の製版方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より光重合性の平版印刷版用の現像
液として広く用いられているものとしては大きく分類す
ると、次のa)〜c)の３種類のものが知られている。a)有
機溶剤を主にした非水系の現像液、b)無機アルカリを主
にした水系現像液、c)有機塩基を主にした水系現像液で
ある。これらの内、昨今では、環境問題の要請から、
b)、c)の水系現像液が使用されている。これら２つの現
像液の特徴を詳しく述べると、b)の無機アルカリ現像液
には通常現像後に支持体上の親水化処理を施すために、
ｐＨ１２付近で、珪酸塩が含有されていることが特徴で
ある。この珪酸塩は親水化処理を行う、つまり印刷時の
非画像部の汚れを防止するために必須の成分である。

【０００３】たとえば、特開平８−２４８６４３号に記
載のｐＨ１２以上の現像液や、特開平１１−６５１２９
号記載のｐＨ１２以下の現像液が知られているが、前者
のｐＨ１２以上の場合には、通常支持体に用いているア
ルミを溶解しやすく、特に画像面積の小さな点（小点）
の場合にはサイドエッチング現象により、その画像部直
下のアルミ支持体を溶解することで、印刷時に小点が支
持体から取れる現象（小点飛び）が発生し、つまり、耐
刷性を著しく劣化させるという問題があった。また、後
者のｐＨ１２以下の場合には、上述の耐刷性と印刷汚れ
防止の点では好ましいが、長期間の現像処理を続けてい
くことで、例えば、空気中の炭酸ガスによる効果等によ
りｐＨが低下しやすく、この際に珪酸塩が現像液中に析
出し現像処理を安定にできなくなるという新たな問題が
あった。その他、珪酸塩を含有しない現像液の試みとし
て、特開昭６１−１０９０５２号、西ドイツ特許第１９
８４６０５号、特開２０００−８１７１１号、特開平１
１−６５１２６号などが開示されているが、いずれも印
刷汚れの点で珪酸塩含有のものより不利なだけでなく、
耐刷性との両立も困難であった。

【０００４】一方、c)の有機塩基現像液としては、エタ
ノールアミン等の有機アミン及び、現像補助剤としてベ
ンジルアルコール等のアルコール系有機溶剤を含有する
ものが知られているが、この場合には、確かにｐＨ１０
程度と低く、炭酸ガスの影響を受けにくく処理安定性は
良いが、やはり、支持体に対する親水化の点で不利であ
ることだけでなく、今度は画像部への浸透力が高過ぎ、
特に小点に対して悪影響を及ぼし、現像時に支持体から
小点がとれる現象が生じるという画像形成性を劣化させ
る問題があった。すなわち、光重合性の平版印刷版に関
しては、画像形成性、印刷汚れと耐刷性、処理安定性な
どを考慮すると適した現像液がないのが実状である。ま
た、現像液組成に関しては珪酸塩の含有の有無、ｐＨの
高低、無機アルカリと有機アルカリの相違などが、現像
現象に非常に影響を及ぼすことがわかるが、従来の組み
合わせでは上記の問題を解決することはできなかった。
特に比較的pHが低い１２前後の領域では炭酸ガス、感材
によるアルカリ消費に伴うpH変動が大きく、版材の処理
量や補充のズレ、室内炭酸ガス濃度による影響を受けや
すい。上述のｐＨ低下に伴う珪酸塩析出の問題だけでな
く処理安定性に関しては、このような低いpH域での安定
化が重要である。すなわち、光重合性の平版印刷版用の
現像液としては、上述の画像形成性、印刷汚れと耐刷性
の両立、処理安定性を満足する現像液が望まれている。
また汚れ性を向上させる観点で、現像後の不感脂化処理
が大きく寄与し、十分な塗設量が保たれる必要がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明
は、上記従来の技術の欠点を克服し、画像形成性を損な
わずに印刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、かつ、pH変
動に伴う処理安定性をも向上することができる感光性平
版印刷版用現像液及び平版印刷版製版方法を提供しよう
とするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討を
重ねた結果、特に画像形成性を損なわないためにはpHが
低い方が有利であるが、その際アルカリ消費に伴うpH変
動を抑えることに関し、pkaが１０〜１３の化合物を含
有させることにより、pH変動が抑えられ、pHが低い状態
においても、十分な現像性が確保され汚れ性が良好にな
ることを見出した。さらに、現像液にノニオン界面活性
剤又はアニオン界面活性剤、特定のカルボキシル基を有
する化合物を含ませ、所定のｐＨ値及び電導度とするこ
とで優れた現像液が得られることを見出し、本発明を完
成させるに至った。従って、本発明は、ノニオン界面活
性剤及び／又はアニオン界面活性剤、及び解離定数pka
が１０〜１３の範囲にある弱酸またはその塩、及び下式
１で示されるカルボキシル基を有する化合物又はその塩
を含有し、pHが１１．５以上１２．８以下でかつ電導度
が３〜４０ｍＳ／cmであることを特徴とする光重合型感
光性平版印刷版用現像液である。 式１ Ｒ−Ａｒ−（ＣＯＯＭ）_n （Ｒは水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖アルキル基
または分岐アルキル基を表し、Ａｒは芳香族環を表し、
Ｍは水素原子、一価の金属原子又はアンモニウム基を表
し、ｎは１又は２である。） 本発明者らは、上記現像液を用いて特定の製版工程を採
用することにより、より良く効果を発揮できることを見
出した。従って本発明は、粗面化、及び陽極酸化処理を
施したアルミニウム支持体上に付加重合可能なエチレン
性不飽和結合を少なくとも１個有する化合物及びチタノ
セン系開始剤を含有する光重合性感光層を設けた光重合
型感光性平版印刷版を、露光後、水洗処理し、上記の現
像液で処理し、再び水洗した後、（ａ）アラビアゴム０
〜３質量％及び（ｂ）加工デンプン５〜３０質量％を含
有する不感脂化処理剤を乾燥重量で０．０２ｇ／ｍ²以
上になるように塗設することを特徴とする平版印刷版の
製版方法である。

【０００７】本発明の現像液の好ましい実施態様とし
て、ノニオン界面活性剤を含ませることが挙げられる。
本発明の現像液の別の実施態様として、さらにキレート
化合物を含ませることが挙げられる。本発明の平版印刷
版の製版方法の好ましい実施態様として、上記感光層が
１．０ｍｅｑ／ｇ以下の感光層酸価を有することが挙げ
られ、更に具体的に該感光層がpKa９以下の酸基を有す
る化合物を含有し、感光層酸価が０．２０〜０．６０ｍ
ｅｑ／ｇであることが好ましい。本発明の製版方法の別
の好ましい実施態様として、未露光部の現像速度が０．
０５μｍ／ｓ以上、且つ露光部の現像液浸透速度が０．
１μｍ／ｓ以下となるように現像することが挙げられ
る。本発明の製版方法の別の好ましい実施態様として、
感光性平版印刷版の支持体が、陽極酸化アルミニウム支
持体表面上に燐系の酸原子団を有する有機化合物又は有
機シリコーン化合物を有しているものがある。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の感光性平版印刷版
用現像液および平版印刷版の製版方法について、さらに
詳細に説明する。はじめに本発明の光重合型感光性平版
印刷版用現像液（以下、単に現像液とも称する）につい
て説明する。本発明の現像液は、塩基類を含有するpH
１１．５以上１２．８以下のアルカリ性の水溶液であ
る。次いで現像液成分について詳細に説明する。 ［解離定数pkaが１０〜１３の範囲にある弱酸又はその
塩類］本発明で使用する解離定数pkaが１０〜１３の範
囲にある弱酸としては、Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ
社発行のＩＯＮＩＳＡＴＩＯＮ ＣＯＮＳＴＡＮＴＳＯ
Ｆ ＯＲＧＡＮＩＣ ＡＣＩＤＳ ＩＮ ＡＱＵＥＯＵ
Ｓ ＳＯＬＵＴＩＯＮなどに記載されているものから選
ばれ、例えば2,2,3,3,-テトラフルオロプロパノール-1
（ｐＫa １２.７４）、トリフルオロエタノール（同１
２.３７）、トリクロロエタノール（同１２.２４）など
のアルコール類、ピリジン−２−アルデヒド（同１２.
６８）、ピリジン−４−アルデヒド（同１２.０５）な
どのアルデヒド類、サリチル酸（同１３.０）、3-ヒド
ロキシ-2-ナフトエ酸（同１２.８４）、カテコール（同
１２.６）、没食子酸（同１２.４）、スルホサリチル酸
（同１１.７）、3,4-ジヒドロキシスルホン酸（同１２.
２）、3,4-ジヒドロキシ安息香酸（同１１.９４）、1,
2,4-トリヒドロキシベンゼン（同１１.８２）、ハイド
ロキノン（同１１.５６）、ピロガロール（同１１.３
４）、ｏ-クレゾール（同１０.３３）、レゾルソノール
（同１１.２７）、ｐ-クレゾール（同１０.２７）、ｍ-
クレゾール（同１０.０９）などのフェノール性水酸基
を有する化合物、ソルビトール（１３．０）、サッカロ
ース（１２．７）グルコース（１２．４６）Ｌ−アスコ
ルビン酸（１１．３４）等の糖類、

【０００９】２−ブタノンオキシム（同１２.４５）、
アセトキシム（同１２.４２）、1,2-シクロヘプタジオ
ンヂオキシム（同１２.３）、2-ヒドロキシベンズアル
デヒドオキシム（同１２.１０）、ジメチルグリオキシ
ム（同１１.９）、エタンジアミドジオキシム（同１１.
３７）、アセトフェノンオキシム（同１１.３５）など
のオキシム類、アデノシン（同１２.５６）、イノシン
（同１２.５）、グアニン（同１２.３）、シトシン（同
１２.２）、ヒポキサンチン（同１２.１）、キサンチン
（同１１.９）などの核酸関連物質、他に、ジエチルア
ミノメチルホスホン酸（同１２.３２）、1-アミノ-3、3、
3-トリフルオロ安息香酸（同１２.２９）、イソプロピ
リデンジホスホン酸（同１２.１０）、1、1、-エチリデン
ジホスホン酸（同１１.５４）、1,1-エチリデンジホス
ホン酸1-ヒドロキシ（同１１.５２）、ベンズイミダゾ
ール（同１２.８６）、チオベンズアミド（同１２.
８）、ピコリンチオアミド（同１２.５５）、バルビツ
ル酸（同１２.５）、他にリン酸（同１２．４）、メタ
珪酸（同１２．０）、オルト珪酸（同１２．０）砒素酸
（同１１．５）、過酸化水素（同１１．６）、硫化水素
（同１１．９）などの弱酸が挙げられる。

【００１０】これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホ
サリチル酸、リン酸、イノシン、アセトオキシム、サッ
カロースである。また上記弱酸の塩類としては、アルカ
リ金属塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩、リチウム
塩などがある。上記弱酸又はその塩類は１種単独で使用
してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよ
い。現像液中における弱酸又はその塩類の含有量は、
０．０１〜１モル／リットルの範囲が適当である。

【００１１】［アルカリ剤］これらの弱酸に組み合わせ
る塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、
同カリウムおよび同リチウムが好適に用いられる。それ
以外でも例えば第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同
アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニ
ウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、
があげられる。またモノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプパノールアミン、エチレンイミン、エチレ
ンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒド
ロキシドなどの有機アルカリ剤も用いられるこれらのア
ルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて用いら
れる。上記の各種アルカリ剤は濃度および組み合わせに
よりｐＨを好ましい範囲内に調整して使用される。

【００１２】［界面活性剤］本発明の現像液には、ノニ
オン界面活性剤及びアニオン界面活性剤から選ばれる少
なくとも１種を含有させる。

【００１３】本発明の現像液に用いるノニオン界面活性
剤の例としては、下記一般式（Ｉ）の非イオン性化合物
が挙げられる。 Ａ−Ｗ （Ｉ） 式中、ＡはＡ−ＨのｌｏｇＰが１．５以上の疎水性有機
基を表し、ＷはＷ−ＨのｌｏｇＰが１．０未満の非イオ
ン性の親水性有機基を表す。ｌｏｇＰとは、C.Hansch，
A.Leo,“Substituent Constants for CorrelationAnaly
sis in Chemistry and Biology”,J.Wile&Sons,1979.
記載の疎水性ハ゜ラメータとして一般的に使用されるものであ
り、目的とする分子（Ａ−Ｈ及びＷ−Ｈ）のオクタノー
ル／水２層系に対して、各層に分配される割合から算出
した平衡濃度比Ｐの対数として定義される。ここでは、
一般式（Ｉ）中のＡ，Ｗの各基を特定する指標として使
用しており、Ａ，Ｗ各有機基に便宜的に水素原子結合さ
せた、Ａ−Ｈ、Ｗ−Ｈ構造に対して、A.K.Ghose、et．a
l．J. Comput．Chem. 9,80(1988).記載の方法に基づ
き、既知データより計算し、求めたものである。

【００１４】具体的には、構造としては、有機基Ａ、Ｗ
は互いに異なり、上述のlogＰを満足する、一価の有機
残基を表す。より好ましくは、互いに同一または異な
り、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良
く、かつ、不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、
ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプ
ト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カル
ボニル基、カルボキシラート基、スルホ基、スルホナト
基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ホスホノ
基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基
、シアノ基、ニトロ基を表す。

【００１５】上記置換基を有していてもよく、かつ、不
飽和結合を含んでいても良い炭化水素基としては、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及
び置換アルキニル基があげられる。

【００１６】アルキル基としては炭素原子数が１から２
０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を挙
げることができ、その具体例としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボ
ルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素
原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２
までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環
状のアルキル基がより好ましい。

【００１７】置換アルキル基は置換基とアルキレン基と
の結合により構成され、置換基としては、水素を除く一
価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハ
ロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ
基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリー
ルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモ
イルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、

【００１８】アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミ
ノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′
−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリ
ールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレ
イド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′
−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレ
イド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−
アリールウレイド基、

【００１９】アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロ
キシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシ
カルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシ
カルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基及びその共役塩基基（以下、カルボキシラートと
称す）、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、
Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキル
スルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルス
ルホニル基、

【００２０】アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ
₃Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト基と称
す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニ
ル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモ
イル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−
アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスル
フィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィ
ナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−
アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフ
ァモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイ
ル基、

【００２１】Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役
塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−
ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、
Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ₂Ｎ
ＨＳＯ₂（ａｌｌｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−ア
ルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ
₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリール
スルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂（ａｌｌ
ｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−
Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）₃）、アリーロキシシリル基（−
Ｓｉ（Ｏａｌｌｙｌ）₃）、ヒドロキシシリル基（−Ｓ
ｉ（ＯＨ）₃）及びその共役塩基基、

【００２２】ホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩
基基（以下、ホスホナト基と称す）、ジアルキルホスホ
ノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスホノ
基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホスホ
ノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノア
ルキルホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びそ
の共役塩基基（以後、アルキルホスホナト基と称す）、
モノアリールホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及
びその共役塩基基（以後、アリールホスホナト基と称
す）、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役
塩基基（以後、ホスホナトオキシ基と称す）、ジアルキ
ルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジ
アリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙ
ｌ）₂）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰ
Ｏ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホス
ホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその
共役塩基基（以後、アルキルホスホナトオキシ基と称
す）、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ
（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アリールホ
スホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリ
ール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。

【００２３】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオ
フェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル
基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェ
ニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、
ホスホナトフェニル基などを挙げることができる。ま
た、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペ
ニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−
１−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の例として
は、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、
トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が
挙げられる。

【００２４】上述のアシル基（Ｒ⁴ＣＯ−）としては、
Ｒ⁴が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基を挙げることができる。一
方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述
の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のい
ずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げる
ことができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直
鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素
原子数５から１０までの環状のアルキレン基を挙げるこ
とができる。好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニル
メチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカル
ボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチ
ル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホ
フェニル）カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノ
フェニル）スルファモイルオクチル基、

【００２５】

【化１】

【００２６】ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル
基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げること
ができる。

【００２７】アリール基としては１個から３個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和
環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フ
ルオレニル基等を挙げることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。

【００２８】置換アリール基は、置換基がアリール基に
結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原
子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を
有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては
前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置
換アルキル基における置換基として示したものを挙げる
ことができる。これらの、置換アリール基の好ましい具
体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル
基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチル
アミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオ
キシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェ
ニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシ
カルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−
メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカ
ルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カル
バモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、

【００２９】スルホフェニル基、スルホナトフェニル
基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモ
イルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−
メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルフェ
ニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、
ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニルホスホノフェ
ニル基、メチルホスホノフェニル基、メチルホスホナト
フェニル基、トリルホスホノフェニル基、トリルホスホ
ナトフェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、
２−ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メ
チルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル
基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基
等を挙げることができる。

【００３０】アルケニル基としては、上述のものを挙げ
ることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケ
ニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、こ
の置換基としては、上述の置換アルキル基における置換
基が用いられ、一方アルケニル基は上述のアルケニル基
を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の例
としては

【００３１】

【化２】

【００３２】等を挙げることができる。アルキニル基と
しては、上述のものを挙げることができる。置換アルキ
ニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子と置き換わ
り、結合したものであり、この置換基としては、上述の
置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルキ
ニル基は上述のアルキニル基を用いることができる。

【００３３】ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を１つ
除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を１つ
除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合して
できた一価の基（置換ヘテロ環基）である。好ましいヘ
テロ環の例としては、

【００３４】

【化３】

【００３５】

【化４】

【００３６】等を挙げることができる。

【００３７】置換オキシ基（Ｒ⁵Ｏ−）としては、Ｒ⁵が
水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いること
ができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ
基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリ
ールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバ
モイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキ
シ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホ
スホノオキシ基、ホスホナトオキシ基等を挙げることが
できる。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール
基としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならび
に、アリール基、置換アリール基として示したものを挙
げることができる。

【００３８】また、アシルオキシ基におけるアシル基
（Ｒ⁶ＣＯ−）としては、Ｒ⁶が、前述のアルキル基、置
換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のも
のを挙げることができる。これらの置換基の中では、ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリー
ルスルホキシ基等がより好ましい。好ましい置換オキシ
基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピ
ルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、
ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ
基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオ
キシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニ
ルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ
基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メト
キシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ
基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ
基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、ト
リルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、
クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキ
シフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモ
フェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキ
シ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ
基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げられ
る。

【００３９】置換チオ基（Ｒ⁷Ｓ−）としてはＲ⁷が水素
を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。好まし
い置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシル
チオ基を挙げることができる。これらにおけるアルキル
基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキ
ル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示し
たものを挙げることができ、アシルチオ基におけるアシ
ル基（Ｒ⁶ＣＯ−）のＲ⁶は前述のとおりである。これら
の中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基がよ
り好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、メ
チルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキシ
エチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカル
ボニルチオ基等が挙げられる。

【００４０】置換アミノ基（Ｒ⁸ＮＨ−，（Ｒ⁹）
（Ｒ¹⁰）Ｎ−）としては、Ｒ⁸，Ｒ⁹，Ｒ¹⁰が水素を除く
一価の非金属原子団のものを使用できる。置換アミノ基
の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ
−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールア
ミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ
基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−
アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド
基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリー
ルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイ
ド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアル
キル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレ
イド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
リールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
リーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アル
コキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリー
ロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものを挙げることができ、アシルアミノ
基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシル
アミノ基におけるアシル基（Ｒ⁶ＣＯ−）のＲ⁶は前述の
とおりである。これらの内、より好ましいものとして
は、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ
基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基等が挙げら
れる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチル
アミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホ
リノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等が挙げら
れる。

【００４１】置換カルボニル基（Ｒ¹¹−ＣＯ−）として
は、Ｒ¹¹が一価の非金属原子団のものを使用できる。置
換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、ア
シル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ア
リーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキ
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル
基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基等が挙げられる。これらにおけるアルキル基、ア
リール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、
ならびにアリール基、置換アリール基として示したもの
を挙げることができる。これらの内、より好ましい置換
基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、
カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイ
ル基等が挙げられ、更により好ましいものとしては、ホ
ルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびに
アリーロキシカルボニル基が挙げられる。好ましい置換
基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾ
イル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、アリ
ルオキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ
−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。

【００４２】置換スルフィニル基（Ｒ¹²−ＳＯ−）とし
てはＲ¹²が一価の非金属原子団のものを使用できる。好
ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルス
ルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイ
ル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリー
ルスルフィナモイル基が挙げられる。これらにおけるア
ルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換
アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基とし
て示したものを挙げることができる。これらの内、より
好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基等が挙げられる。このような置換スルフ
ィニル基の具体例としては、へキシルスルフィニル基、
ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等が挙
げられる。

【００４３】置換スルホニル基（Ｒ¹³−ＳＯ₂−）とし
ては、Ｒ¹³が一価の非金属原子団のものを使用できる。
より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基を挙げることができる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものを挙げることができる。このような、
置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル
基、クロロフェニルスルホニル基等が挙げられる。

【００４４】スルホナト基（−ＳＯ₃−）は前述のとお
り、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意
味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好まし
い。このような対陽イオンとしては、一般に知られるも
の、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、ス
ルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジ
ニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃ
ａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられる。

【００４５】カルボキシラート基（−ＣＯ₂−）は前述
のとおり、カルボキシル基（ＣＯ₂Ｈ）の共役塩基陰イ
オン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎ
ａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられる。

【００４６】置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基
の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換さ
れたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアル
キルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリ
ールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリー
ルホスホノ基が挙げられる。これらの中ではジアルキル
ホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ま
しい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ
基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等が挙
げられる。

【００４７】ホスホナト基（−ＰＯ₃ ^2-、−ＰＯ₃Ｈ^-）
とは前述のとおり、ホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）の、酸第
一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオ
ン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類：アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ
⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられる。

【００４８】置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ
基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共
役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノ
アルキルホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））、モ
ノアリールホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））の共
役塩基を挙げることができる。通常は対陽イオンと共に
使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとして
は、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類
（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、
ヨードニウム類、アジニウム類、等）、ならびに金属イ
オン類（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられ
る。

【００４９】前記一般式（Ｉ）中、Ａ及びＷの各構造
は、より好ましくは、Ａが芳香族を含有する有機基、Ｗ
がポリオキシアルキレン基を含有する非イオン性の有機
基である。

【００５０】なお、Ａ−ＨおよびＷ−Ｈの具体例を以下
に示す。

【００５１】

【化５】

【００５２】

【化６】

【００５３】また、前記一般式（Ｉ）の非イオン性化合
物の具体例を以下に示す。

【００５４】

【化７】

【００５５】

【化８】

【００５６】

【化９】

【００５７】前記一般式（Ｉ）の非イオン性化合物とし
て、さらに好ましいものとしては、下記式（Ｉ−Ａ）ま
たは（Ｉ−Ｂ）で示されるものである。

【００５８】

【化１０】

【００５９】（Ｒ₁、Ｒ₂は、Ｈまたは炭素数１〜１００
のアルキル基であり、ｎ、ｍは０〜１００の整数であ
る。）

【００６０】一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物として
は、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル等が挙げられる。一般式（Ｉ−Ｂ）で
表される化合物としては、ポリオキシエチレンナフチル
エーテル、ポリオキシエチレンメチルナフチルエーテ
ル、ポリオキシエチレンオクチルナフチルエーテル、ホ
リオキシエチレンノニルナフチルエーテル等が挙げられ
る。

【００６１】前記一般式（Ｉ−Ａ）および（Ｉ−Ｂ）の
化合物において、ポリオキシエチレン鎖の繰り返し単位
数は、好ましくは３〜５０、より好ましくは５〜３０で
ある。ポリオキシプロピレン鎖の繰り返し単位数は、好
ましくは０〜１０、より好ましくは０〜５である。ポリ
オキシエチレン部とポリオキシプロピレン部はランダム
でもブロックの共重合体でもよい。前記一般式（Ｉ−
Ａ）および（Ｉ−Ｂ）で示されるノニオン芳香族エーテ
ル系活性剤は、単独または２種類以上を組み合わせて使
用される。

【００６２】本発明で使用するアニオン界面活性剤の例
としては、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の
アルキルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナ
トリウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、
オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキル
ナフタレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等
のアルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のア
ルキルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナト
リウム等のスルホコハク酸エステル塩類等が挙げられ
る。その他に、ラウリルベタイン、ステアリルベタイン
等のアルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性
剤を単独で又は混合して使用してもよい。上記に説明し
てきた界面活性剤の中で好ましいのは、ナフチルエーテ
ルのエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性
剤、及びアルキルナフタレンスルホン酸塩類等のアニオ
ン界面活性剤である。これら界面活性剤の現像液中にお
ける含有量は有効成分換算で、０．１から２０質量％が
好ましい。

【００６３】［式１で示される化合物］ 式１ Ｒ−Ａｒ−（ＣＯＯＭ）_n （Ｒは水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖アルキル基
または分岐アルキル基を表し、Ａｒは芳香族環を表し、
Ｍは水素原子、一価の金属原子又はアンモニウム基を表
し、ｎは１又は２である。） 式中、Ｒのアルキル基は置換されていてもよく、置換基
として水酸基、アミノ基などがある。Ａｒで示される芳
香族環にはベンゼン環、ナフタレン環などがある。式１
の化合物の具体例としては安息香酸、フタル酸、ｐ-エ
チル安息香酸、ｐ-ｎ−ブチル安息香酸、ｐ-ｎ−プロピ
ル安息香酸、ｐ-イソプロピル安息香酸、p-ｔ−ブチル
安息香酸、p-2-ヒドロキシエチル安息香酸、ナフトエ酸
などが挙げられる。その塩類としては一価の金属の塩、
アンモニウム塩などが挙げられる。現像液中における式
１で示される化合物の含有量は、０．１〜５質量％が適
当であり、好ましくは０．５〜３質量％である。

【００６４】［キレート剤］本発明の現像液は、キレー
ト剤を含有していてもよい。キレート剤としては、例え
ば、Ｎa₂Ｐ₂Ｏ₇、Ｎa₅Ｐ₃Ｏ₃、Ｎa₃Ｐ₃Ｏ₉、Ｎa₂Ｏ₄Ｐ
（ＮaＯ₃Ｐ)ＰＯ₃Ｎa ₂、カルゴン（ポリメタリン酸ナト
リウム）などのポリリン酸塩、例えばエチレンジアミン
テトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ジエ
チレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリ
ウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリ
ウム塩、そのナトリウム塩；ヒドロキシエチルエチレン
ジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム
塩；ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウ
ム塩；１，２−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そ
のカリウム塩、そのナトリウム塩；１，３−ジアミノ−
２−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナ
トリウム塩などのようなアミノポリカルボン酸類の他２
−ホスホノブタントリカルボン酸−１，２，４、そのカ
リウム塩、そのナトリウム塩；２一ホスホノブタノント
リカルボン酸−２，３，４、そのカリウム塩、そのナト
リウム塩；１−ホスホノエタントリカルボン酸−１，
２、２、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１−ヒド
ロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩；アミノトリ（メチレンホスホン
酸）、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような
有機ホスホン酸類を挙げることができる。このようなキ
レート剤の最適量は使用される硬水の硬度およびその使
用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液
中に０．０１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜
０．５質量％の範囲で含有させられる。

【００６５】［その他の成分］本発明に使用される現像
液には、上記の成分の他に、必要に応じて以下のような
成分を併用することができる。例えばデカン酸等の有機
カルボン酸；イソプロピルアルコール、ベンジルアルコ
ール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニル
セロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコ
ール等の有機溶剤；この他、キレート剤、還元剤、染
料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤等が挙げられる。さらに
本発明の製版方法を、自動現像機を用いて現像処理を行
う場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補
充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させて
も良い。

【００６６】［ｐＨ］本発明の現像液のｐＨは１１．５
〜１２．８であり、好ましくは１１．８〜１２．５であ
る。 ［電導度］本発明の現像液の電導度は、３〜４０ｍＳ／
ｃｍの範囲にあることが適当であり、現像速度の点でよ
り好ましくは、３〜３０ｍＳ／ｃｍ、最も好ましくは３
〜２０ｍＳ／ｃｍである。電導度は、例えば東亜電波工
業（株）製 電導度測定機ＣＭ６０Ｓにて２５℃で測定
する。

【００６７】［発砲性］内径３ｃｍの１００ｍｌ透明ガ
ラス瓶に現像液を３０ｍｌ入れて、２５℃で、１秒間に
３回の速度で、ガラス瓶を上下に１分間振とうする。そ
の後、静置し、泡が消えるまでの時間（消泡時間）を測
定する。この時間が少ない方が発泡性が低くよい（消泡
性が高い）。本発明の現像液は、好ましくは、発砲性が
低く、消泡時間５分以下であり、現像処理時に発砲し現
像処理工程に支障を来すことがない。

【００６８】［色］本発明の現像液は無色、好ましくは
水との誤認を防ぐ目的で、視認性が得られる程度の色が
付いている。 ［粘度］本発明の現像液の粘度は好ましくは、水希釈状
態で２５℃において１．０〜１０．０ｃｐであり、円滑
な現像処理が行える。

【００６９】［感光性平版印刷版］次いで、本発明に使
用される感光性平版印刷版について説明する。 ［感光層］その中でも、本発明に使用される感光性平版
印刷版の感光層について、はじめに説明する。本発明に
使用される感光性平版印刷版の感光層は、特に限定され
ないが、レーザー描画可能なネガ型の光重合系の感光層
であることが好ましい。光重合系感光層の主な成分は、 ａ）付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を少なく
とも１個有する化合物 ｂ）アルカリ水溶液に可溶又は膨潤性の高分子重合体
ｃ）光重合開始剤系、 であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等
の種々の化合物が添加される。

【００７０】付加重合可能なエチレン性二重結合を含む
化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１
個、好ましくは２個以上有する化合物の中から任意に選
択することができる。例えばモノマー、プレポリマー、
すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれ
らの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態
をもつものである。モノマーおよびその共重合体の例と
しては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、
マレイン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエ
ステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物と
のアミド等が挙げられる。

【００７１】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチ
ル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。

【００７２】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレ
ート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトール
テトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオ
キシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチル
メタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フ
ェニル〕ジメチルメタン等がある。

【００７３】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリ
エチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトール
ジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。さ
らに、前述のエステルモノマーの混合物も挙げることが
できる。

【００７４】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている、１分子中に２個以上の
イソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物
に、下記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビ
ニルモノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。

【００７５】 ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ₃）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ₄）ＯＨ （Ａ）

【００７６】 （ただし、Ｒ₃およびＲ₄はＨあるいはＣＨ₃を示す。）

【００７７】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号に記載されているようなウレタンアク
リレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−
４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載
されているようなポリエステルアクリレート類、エポキ
シ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアク
リレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレート
を挙げることができる。さらに日本接着協会誌ｖｏｌ．
２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）
に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されて
いるものも使用することができる。なお、これらの使用
量は、全成分に対して５〜７０質量％（以下％と略称す
る。）、好ましくは１０〜５０％である。

【００７８】本発明に使用される感光性平版印刷版の感
光層に含有されるアルカリ水に可溶性又は膨潤性を有す
る高分子重合体は、該組成物の皮膜形成剤としてだけで
なく、アルカリ水現像剤の用途に応じて選択使用され
る。有機高分子重合体は、例えば、水可溶性有機高分子
重合体を用いると水現像が可能になる。この様な有機高
分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加
重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４
−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５
４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭
５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号に記載
されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、ア
クリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共
重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン
酸共重合体等がある。

【００７９】また同様に、側鎖にカルボン酸基を有する
酸性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する
付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用
である。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレ
ート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加
重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル（メタ）
アクリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他
の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。
この他に水溶性有機高分子として、ポリピニルピロリド
ンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化
皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミド
や２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパ
ンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用であ
る。また特公平７−１２００４０号、特公平７−１２０
０４１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２
４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−
２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特開平１
１−３５２６９１号に記載のポリウレタン樹脂も本発明
の用途には有用である。

【００８０】これら高分子重合体は側鎖にラジカル反応
性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させる
ことができる。付加重合反応し得る官能基としてエチレ
ン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照
射によりラジカルになり得る官能基としては、メルカプ
ト基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オ
ニウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イ
ミド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基
としては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチ
リル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、
又アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カ
ルバモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイ
レン基、スルフォン酸基、アンモニオ基から選ばれる官
能基も有用である。組成物の現像性を維持するため、本
発明の高分子重合体は適当な分子量、酸価を有すること
が好ましい。前述の現像液で現像させるため、重量平均
分子量が５０００から３０万で、酸価０．２〜５．０ｍ
ｅｑ／ｇの高分子重合体を使用することが好ましい。

【００８１】これらの有機高分子重合体は全組成中に任
意な量を混和させることができる。しかし９０質量％を
超える場合には、形成される画像強度等の点で好ましい
結果を与えない。好ましくは１０〜９０％、より好まし
くは３０〜８０％である。また光重合可能なエチレン性
不飽和化合物と有機高分子重合体は、質量比で１／９〜
９／１の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は
２／８〜８／２であり、更に好ましくは３／７〜７／３
である。

【００８２】本発明に使用される感光性平版印刷版の感
光層に含有される光重合開始剤としては、使用する光源
の波長により、特許、文献等で公知である種々の光開始
剤、あるいは２種以上の光開始剤の併用系（光開始系）
を適宜選択して使用することができる。

【００８３】４００ｎｍ以上の可視光線、Ａｒレーザ
ー、半導体レーザーの第２高調波、ＳＨＧ−ＹＡＧレー
ザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案され
ており、例えば、米国特許第２，８５０，４４５号に記
載のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エ
オシン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤と
の組み合わせによる系、例えば、染料とアミンの複合開
始系（特公昭４４−２０１８９号）、ヘキサアリールビ
イミダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系（特公
昭４５−３７３７７号）、ヘキサアリールビイミダゾー
ルとｐ−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系（特
公昭４７−２５２８号、特開昭５４−１５５２９２
号）、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系
（特開昭４８−８４１８３号）、環状トリアジンとメロ
シアニン色素の系（特開昭５４−１５１０２４号）、３
−ケトクマリンと活性剤の系（特開昭５２−１１２６８
１号、特開昭５８−１５５０３号）、ビイミダゾール、
スチレン誘導体、チオールの系（特開昭５９−１４０２
０３号）、有機過酸化物と色素の系（特開昭５９−１５
０４号、特開昭５９−１４０２０３号、特開昭５９−１
８９３４０号、特開昭６２−１７４２０３号、特公昭６
２−１６４１号、米国特許第４７６６０５５号）、染料
と活性ハロゲン化合物の系（特開昭６３−２５８９０３
号、特開平２−６３０５４号など）、染料とボレート化
合物の系（特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−
１５０２４２号、特開昭６４−１３１４０号、特開昭６
４−１３１４１号、特開昭６４−１３１４２号、特開昭
６４−１３１４３号、特開昭６４−１３１４４号、特開
昭６４−１７０４８号、特開平１−２２９００３号、特
開平１−２９８３４８号、特開平１−１３８２０４号な
ど）、ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系
（特開平２−１７９６４３号、特開平２−２４４０５０
号）、チタノセンと３−ケトクマリン色素の系（特開昭
６３−２２１１１０号）、チタノセンとキサンテン色素
さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能
なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系（特開平４
−２２１９５８号、特開平４−２１９７５６号）、チタ
ノセンと特定のメロシアニン色素の系（特開平６−２９
５０６１号）、チタノセンとベンゾピラン環を有する色
素の系（特開平８−３３４８９７号）等を挙げることが
できる。

【００８４】本発明においては、特にチタノセン化合物
を用いた系が、感度の点で優れており好ましい。チタノ
セン化合物としては、種々のものを用いることができる
が、例えば、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１
−１５１１９７号各公報に記載されている各種チタノセ
ン化合物から適宜選んで用いることができる。さらに具
体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロ
ライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェ
ニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，
３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６
−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタ
ジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフエ
ニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペ
ンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェ
ニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ
−ビス−２，３，４，５，６−テトラフルオロフェニ−
１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビ
ス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ−３
−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イル等を挙げるこ
とができる。

【００８５】さらに、本発明で用いる光重合開始剤に必
要に応じてアミン化合物、チオール化合物などの助剤を
加えても良く、これらの水素供与性化合物を加えること
によってさらに光重合開始能力を高めることができる。
これらの光重合開始剤の使用量は、エチレン性不飽和化
合物１００質量部に対し、０．０５〜１００質量部、好
ましくは０．１〜７０質量部、更に好ましくは０．２〜
５０質量部の範囲で用いることができる。

【００８６】また本発明においては、以上の基本成分の
他に、感光層用の感光性組成物の製造中あるいは保存中
において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱
重合を阻止するために、少量の熱重合禁止剤を添加する
ことが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイド
ロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−
ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコー
ル、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニト
ロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、Ｎ−
ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等
が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の質
量に対して約０．０１％〜約５％が好ましい。また必要
に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン
酸やべヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加
して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させて
もよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約
０．５％〜約１０％が好ましい。

【００８７】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １
５：３．１５：４、１５：６など）、アゾ系顔料、カー
ボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレ
ット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキ
ノン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の
添加量は全感光層固形分の約０．５％〜約２０％が好ま
しい。加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機
充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、
トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加え
てもよい。これらの添加量は全感光層固形分の１０％以
下が好ましい。

【００８８】上記感光層を後述の支持体上に塗布する際
には、感光層用組成物を種々の有機溶剤に溶かして使用
に供される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エ
チレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチ
ルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エ
チレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキ
シプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクト
ン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒
は、単独あるいは混合して使用することができる。そし
て、塗布溶液中の固形分の濃度は、１〜５０質量％が適
当である。

【００８９】前記光重合性感光層用組成物には、塗布面
質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。その被覆量は乾燥後の質量で約０．１ｇ／ｍ²〜約
１０ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましくは０．
３〜５ｇ／ｍ²である。更に好ましくは０．５〜３ｇ／
ｍ²である。

【００９０】［感光層酸価］なお、本発明でいう感光層
酸価とは、感光性平版印刷版の支持体上に塗設されてい
る感光性組成物（感光層の上に塗設されるオーバーコー
ト層、例えば、酸素遮断層は含まない）の層、１ｇあた
りに含有されるpKa９以下の酸の等量である。実験的に
は感光層を水酸化ナトリウム水溶液により直接、滴定し
て求めることができるが、感光性組成物中のpKa９以下
の酸基を有する化合物の含有量から計算により求めるこ
ともできる。具体的に感光層酸価を変える方法として
は、感光層成分である架橋剤モノマー／酸基を有するバ
インダーポリマー（線状高分子）の含有比の変更および
酸基の少ない低酸価バインダーポリマーの使用などが考
えられる。低酸価バインダーポリマーとしては、酸価
１．５ｍｅｑ／ｇ以下が好ましい。より好ましくは１．
２ｍｅｑ／ｇ以下である。本発明の感光層の感光層酸価
は１．０ｍｅｑ／ｇであることが好ましい。酸価０．２
０〜０．６０ｍｅｑ／ｇの感光層を有する平版印刷版に
適用する方が効果的である。さらに画像形成性の点でよ
り好ましくは０．３０〜０．５０ｍｅｑ／ｇの感光層を
有するものである。

【００９１】（支持体）本発明で用いられる感光性平版
印刷版の支持体としては、寸度的に安定な板状物であれ
ば、特に限定されないが、アルミニウム支持体が好適で
ある。アルミニウム支持体は、寸度的に安定なアルミニ
ウムを主成分とするアルミニウムおよびアルミニウム含
有（例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミ
ニウムとの合金）合金、またはアルミニウムまたはアル
ミニウム合金がラミネートもしくは蒸着されたプラスチ
ックフィルムまたは紙の中から選ばれる。さらに特公昭
４８−１８３２７号に記載の様なポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複
合体シートでもかまわない。このアルミニウム支持体に
は、適宜後述の基板表面処理が施される。本発明で用い
られる感光性平版印刷版の支持体としては、以下に記載
する粗面化処理及び陽極酸化処理が施されたものが適当
である。

【００９２】（砂目立て処理）砂目立て処理方法は、特
開昭５６−２８８９３号に開示されているような機械的
砂目立て、化学的エッチング、電解グレインなどがあ
る。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂目
立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム表
面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン
法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でする
ボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂
目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法
を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは
組み合わせて用いることもできる。

【００９３】その中でも本発明に有用に使用される表面
粗さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に
砂目立てする電気化学的方法であり、適する電流密度は
１００Ｃ／ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の範囲である。さら
に具体的には、０．１〜５０％の塩酸または硝酸を含む
電解液中、温度２０〜１００℃、時間１秒〜３０分、電
流密度１００Ｃ／ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の条件で電解
を行うことが好ましい。このように砂目立て処理したア
ルミニウム支持体は、酸またはアルカリにより化学的に
エッチングされる。酸をエッチング剤として用いる場合
は、微細構造を破壊するのに時間がかがり、工業的に本
発明を適用するに際しては不利であるが、アルカリをエ
ッチング剤として用いることにより改善できる。本発明
において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、
炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リ
ン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用
い、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０％、
２０〜１００℃である。Ａｌの溶解量が５〜２０ｇ／ｍ
³となるような条件が好ましい。

【００９４】エッチングのあと表面に残留する汚れ（ス
マット）を除去するために酸洗いが行われる。用いられ
る酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフ
ッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理
後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭
５３−１２７３９号公報に記載されているような５０〜
９０℃の温度の１５〜６５質量％の硫酸と接触させる方
法及び特公昭４８−２８１２３号公報に記載されている
アルカリエッチングする方法が挙げられる。なお、本発
明で有効に用いられるＡｌ支持体の表面粗さは（Ｒａ）
は０．３〜０．７μｍである。

【００９５】（陽極酸化処理）以上のようにして処理さ
れたアルミニウム支持体は、さらに陽極酸化処理が施さ
れる。陽極酸化処理はこの分野で従来より行われている
方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、
クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフ
ォン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わせて水溶
液または非水溶液中でアルミニウムに直流または交流を
流すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成す
ることができる。陽極酸化処理の条件は使用される電解
液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、
一般的には電解液の濃度が１〜８０％、液温５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ²、電圧１〜
１００Ｖ、電解時間１０〜１００秒の範囲が適当であ
る。

【００９６】これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国
特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、
硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第
３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を
電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本発明にお
いては、陽極酸化皮膜は１〜１０ｇ／ｍ²であることが
好ましく、１ｇ／ｍ²以下であると版に傷が入りやす
く、１０ｇ／ｍ²以上は製造に多大な電力が必要とな
り、経済的に不利である。好ましくは、１．５〜７ｇ／
ｍ²である。更に好ましくは、２〜５ｇ／ｍ²である。更
に、本発明においては、砂目立て処理及び陽極酸化後、
アルミニウム支持体に封孔処理を施してもかまわない。
かかる封孔処理は、熱水及び無機塩または有機塩を含む
熱水溶液への基板の浸漬ならびに水蒸気浴などによって
行われる。また、このアルミニウム支持体にはアルカリ
金属珪酸塩によるシリケート処理のほか、たとえば弗化
ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処
理などの表面処理がなされてもかまわない。

【００９７】また、本発明で用いる感光性平版印刷版の
支持体には、前記アルミニウム支持体の他に、寸度的に
安定な以下の板状物も好適に用いられる。例えば、紙、
プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板
（例えば、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等）、上記の如き金属がラ
ミネート若しくは蒸着された紙またはプラスチックフィ
ルム等が挙げられる。

【００９８】また、これらの支持体に対しては、その支
持体に応じた表面親水化処理を行うことも好ましい。表
面親水化処理には、エッチングや酸化、還元、ゾル−ゲ
ルコーティングなどの化学反応による処理や、支持体表
面に吸着するような特定の化合物をコーティングするこ
と等が挙げられる。例えば、陽極酸化アルミニウム支持
体の場合には、特に、燐系の酸原子団を有する有機化合
物（燐酸、ホスホン酸、ホスフィン酸など）、又は特開
２００１−１０９１３９号公報に記載されているアルミ
ニウム基板上に設ける接着層に用いる有機シリコーン化
合物などが好適に使用される。上記の支持体上に、前述
の感光層を形成することで、感光性平版印刷版が製造さ
れるが、感光層を塗設する前に必要に応じて有機または
無機の下塗り層が設けられてもかまわない。

【００９９】（酸素遮断性保護層）本発明で用いる感光
性平版印刷版は、その光重合性感光層の上に水溶性ビニ
ル重合体を主成分とする酸素遮断性保護層を有していて
もよい。酸素遮断性保護層に含まれる水溶性ビニル重合
体としては、ポリビニルアルコール、およびその部分エ
ステル、エーテル、およびアセタール、またはそれらに
必要な水溶性を有せしめるような実質的量の未置換ビニ
ルアルコール単位を含有するその共重合体が挙げられ
る。ポリビニルアルコールとしては、７１〜１００％加
水分解され、重合度が３００〜２４００の範囲のものが
挙げられる。具体的には、株式会社クラレ製ＰＶＡ−１
０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１
７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２
４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、
ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、Ｐ
ＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶ
Ａ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２２０、Ｐ
ＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７
Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４
０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙
げられる。上記の共重合体としては、８８〜１００％加
水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテートま
たはプロピオネート、ポリビニルホルマールおよびポリ
ビニルアセタールおよびそれらの共重合体が挙げられ
る。その他有用な重合体としては、ポリビニルピロリド
ン、ゼラチンおよびアラビアゴム等が挙げられ、これら
は単独または、併用して用いても良い。

【０１００】この酸素遮断性保護層を塗布する際用いる
溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケト
ンなどのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布
溶液中の固形分の濃度は１〜２０質量％が適当である。
この酸素遮断性保護層にはさらに塗布性を向上させるた
めの界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の
可塑剤等の公知の添加剤を加えても良い。水溶性の可塑
剤としては、たとえばプロピオンアミド、シクロヘキサ
ンジオール、グリセリン、ソルビトール等がある。ま
た、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマーなどを添加し
ても良い。その被覆量は、乾繰後の質量で約０．１ｇ／
ｍ²〜約１５ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましく
は１．０ｇ／ｍ²〜約５．０ｇ／ｍ²である。

【０１０１】［製版プロセス］本発明の感光性平版印刷
版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光
中、露光から現像までの間に、全面を加熱しても良い。
このような加熱により、感光層中の画像形成反応が促進
され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化といった利
点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的
として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは、全
面露光を行うことも有効である。通常現像前の加熱は１
５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。温度が
高すぎると、非画像部までがかぶってしまう等の問題を
生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。
通常は２００〜５００℃の範囲である。温度が低いと十
分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体
の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。

【０１０２】本発明の感光性平版印刷版の露光方法は、
公知の方法を制限なく用いることができる。光源として
はレーザが好ましく。例えば、３５０〜４５０nmの波長
の入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用す
ることができる。ガスレーザーとして、Ａｒイオンレー
ザー（３６４nm、３５１nm、１０mW〜１Ｗ）、Ｋｒイオ
ンレーザー（３５６nm，３５１nm，１０mW〜１W）、Ｈ
ｅ−Ｃｄレーザー（４４１nm，３２５nm，１mW〜１００
mW）、固体レーザーとして、Ｎｄ：ＹＡＧ（ＹＶＯ４）
とＳＨＧ結晶×２回の組み合わせ（３５５mm、５mW〜１
Ｗ）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み合わせ（４
３０nm，１０mW）、半導体レーザー系として、ＫＮｂＯ
₃、リング共振器（４３０nm，３０mW）、導波型波長変
換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わ
せ（３８０nm〜４５０ｎｍ、５mW〜１００mW）、導波型
波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導体の
組み合わせ（３００nm〜３５０nm、５mW〜１００mW）、
ＡｌＧａＩｎＮ（３５０nm〜４５０nm、５mW〜３０m
W）、その他、パルスレーザーとしてＮ₂レーザー（３３
７nm、パルス０．１〜１０ｍＪ）、ＸｅＦ（３５１nm、
パルス１０〜２５０mJ）

【０１０３】特にこの中でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザ
ー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０n
m、5〜30mW）が波長特性、コストの面で好適である。

【０１０４】その他、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの入手可
能な光源としてはAr＋レーザ−（４８８ｎｍ）、ＹＡＧ
−ＳＨＧレーザー（５３２ｎｍ）、Ｈｅ−Ｎeレーザー
（６３３ｎｍ）、Ｈｅ―Ｃｄレーザー、赤色半導体レー
ザー（６５０〜６９０ｎｍ）、及び７００ｎｍ〜１２０
０ｎｍの入手可能な光源としては半導体レーザ（８００
〜８５０ｎｍ）、Ｎｄ−ＹＡＧレーザ（１０６４ｎｍ）
が好適に利用できる。

【０１０５】その他、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水
銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、紫外のレーザランプ（ＡｒＦエ
キシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザーなど）、放射
線としては電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線など
も利用できるが、安価な点で上述の３５０ｎｍ以上のレ
ーザー光源が特に好ましい。

【０１０６】また、露光機構は内面ドラム方式、外面ド
ラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。ま
た本発明の感光性平版印刷版の感光層成分は高い水溶性
のものを使用することで、中性の水や弱アルカリ水に可
溶とすることもできるが、このような構成の感光性平版
印刷版は印刷機上に装填後、機上で露光−現像といった
方式を行うこともできる。

【０１０７】本発明の平版印刷版の製版方法では、露光
後、水洗処理し、上記に説明した現像液にて現像処理
し、次いで再び水洗処理した後、以下に記載する不感脂
化処理剤で処理する。このような製版工程は例えば複数
の処理槽を備えた自動現像機で実施することができる。
さらに界面活性剤等を含有するリンス液などによる処理
を組み合わせてもよい。

【０１０８】［不感脂化処理剤］本発明の製版方法で使
用する不感脂化処理剤は、（ａ）アラビアゴム０〜３質
量％及び（ｂ）加工デンプン５〜３０質量％を含有する
ものであって、その他に任意に（ｃ）界面活性剤０．０
１〜２質量％、（ｄ）水溶性塩０．０１〜２質量％、
(ｅ)溶剤０．０５〜２質量％などを含めることができ
る。

【０１０９】不感脂化処理剤に必要に応じて用いられる
アラビアゴムは、版面の被覆性、不感脂化性を高める為
に用いられる。しかしながら、過剰に用いられると画像
部の不感脂性をそこなう。したがって、不感脂化処理剤
におけるその含有量は０〜３質量％、好ましくは０〜２
質量％である。

【０１１０】本発明に用いられる不感脂化処理剤に含ま
れる化工でんぷんは、白色デキストリン、黄色デキスト
リン及びプリテイッシュガムなどの焙焼でんぷん、酵素
デキストリン及びシャーディンガーデキストリンなどの
酵素変性デキストリン、可溶化でんぷんに示される酸分
解でんぷん、ジアルデヒドスターチに示される酸化でん
ぷん、変性アルファー化でんぷん及び無変性アルファー
化でんぷん等のアルファー化でんぷん、リン酸でんぷ
ん、脂肪でんぷん、硫酸でんぷん、硝酸でんぷん、キサ
ントゲン酸でんぷん及びカルバミン酸でんぷんなどのエ
ステル化でんぷん、カルボキシアルキルでんぷん、ヒド
ロキシアルキルでんぷん、スルフォアルキルでんぷん、
シアノエチルでんぷん、アリルでんぷん、ベンジルでん
ぷん、カルバミルエチルでんぷん及びジアルキルアミア
ルキルでんぷんなどのエーテル化でんぷん、メチロール
架橋でんぷん、ヒドロキシアルキル架橋でんぷん、りん
酸架橋でんぷん及びジカルボン酸架橋でんぷんなどの架
橋でんぷん、でんぷんポリアクリルアミド共重合体、で
んぷんポリアクリル酸共重合体、でんぷんポリ酢酸ビニ
ル共重合体、でんぷんポリアクリロニトリル共重合体、
カチオン性でんぷんポリアクリル酸エステル共重合体、
カチオン酸でんぷんビニルポリマー共重合体、でんぷん
ポリスチレンマレイン酸共重合体及びでんぷんポリエチ
レンオキサイド共重合体などのでんぷんグラフト共重合
体などがあげられる。

【０１１１】これらの化工でんぷんの内、焙焼でんぷ
ん、酵素デキストリン、酵素変性デキストリン、リン酸
でんぷん、エーテル化デンプンは、画像部の感脂性を低
下させないため好ましい。これらは、１種又は、２種以
上組み合わせて用いてもよい。これらの不感脂化処理剤
中における質量は５〜３０質量％、より好ましくは、７
〜２０質量％である。

【０１１２】不感脂化処理剤に含ませる界面活性剤は、
アニオン型界面活性剤およびノニオン型界面活性剤が好
適に用いられる。ノニオン界面活性剤としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチリルポリオ
キシプロピレンアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸部
分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペン
タエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレング
リコールモノ脂肪酸エステル、しょ糖脂肪酸部分エステ
ル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル
類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステ
ル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリ
グリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン
化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部
分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−
ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエ
チレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エ
ステル、トリアルキルアミンオキシドが挙げられる。

【０１１３】アニオン界面活性剤としては、脂肪酸塩
類、アビチエン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸
塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホこは
く酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐
鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレ
ンスルホン酸塩類、アルキルフェニルキシポリオキシエ
チレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンア
ルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−
オレイルタウリンナトリウム類、Ｎ−アルキルスルホこ
はく酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩
類、硫酸ひまし油、硫酸化牛脚油、脂肪酸アルキルエス
テルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、
ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩
類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸
エステル塩類、アルキルりん酸エステル塩類、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテルりん酸エステル塩類、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテルりん酸エステ
ル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん
化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分け
ん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類
などを挙げることができる。

【０１１４】この他、必要に応じてアルキルアミン塩
類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などの
カチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノ
カルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル
類、イミダゾリン類などの両性界面活性剤を加えてもよ
い。

【０１１５】これらの内、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエー
テル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエー
テル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレナアル
キルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソ
ルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール
脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪
酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部
分エステル類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリオキシエチレン化ひまし油、ジアルキルスルホ
こはく酸塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アル
キルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類は、平版
印刷版の画像部の感脂性の低下を抑える働きもあるので
好ましく、その中でもポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチレンフェ
ニルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソ
ルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール
脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪
酸エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ジアルキルスルホこはく酸塩類、アルキル硫酸エス
テル塩類は特に好ましい。また非イオン界面活性剤では
ＨＬＢが１４以下のものが乳化物を安定化させる効果が
高いために好ましく、さらにＨＬＢが１１以下が好まし
い。これらの界面活性剤は単独または二種以上組み合わ
せて使用できるが、特にポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル類、ポリオキシプロピレンジアルキルフ
ェニルエーテル類に代表されるアルキルフェニル型非イ
オン性界面活性剤類とジアルキルスルホこはく酸塩類の
併用、脂肪酸エステル型界面活性剤類とジアルキルスル
ホこはく酸塩類の併用及びアルキルフェニル型非イオン
性界面活性剤類と脂肪酸エステル型界面活性剤類とジア
ルキルスルホこはく酸塩類の併用は不感脂化の製造時に
乳化が容易であるばかりでなく、画像部の感脂性の低下
を抑える効果が相剰的に現われるので好ましい。

【０１１６】界面活性剤は、不感脂化処理剤の総質量に
対して、約0.０１〜約２質量％、より好ましくは0.０５
〜２質量％の範囲で使用できる。本発明で用いられる不
感脂化処理剤には水溶性塩を含有させておくことが好ま
しい。これにより、平版印刷版に施した場合に、非画像
部がより親水性となる。好適な水溶性塩にはアルカリ金
属塩およびアンモニウム塩が含まれ、特に優れた結果を
与えるものは、酢酸、モリブデン酸、硼酸、硝酸、硫
酸、燐酸およびポリ燐酸のような酸の水溶性アルカリ金
属塩およびアンモニウム塩が含まれる。具体的には酢酸
アンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、モリブ
デン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、硼酸ナトリ
ウム、硼酸アンモニウム、硝酸リチウム、硝酸ナトリウ
ム、硝酸カリウム、第一燐酸ナトリウム、第二燐酸ナト
リウム、第三燐酸ナトリウム、第一燐酸カリウム、第二
燐酸カリウム、第三燐酸カリウム、第三燐酸アンモニウ
ム、ポリ燐酸ナトリウムなどが挙げられる。上記の内、
特に好ましいものは、酢酸カリウム、硼酸ナトリウム、
硼酸アンモニウム、硝酸カリウム、モリブデン酸ナトリ
ウム、モリブデン酸カリウム、硫酸カリウムである。

【０１１７】かかる水溶性塩は、単独または２種以上を
組合わせて使用することができ、不感脂化処理剤の総質
量に対して約0.０１〜約２質量％、より好ましくは0.１
〜１質量％の範囲で使用される。不感脂化処理剤中に
は、画像部の着肉性を向上させるために、親油性物質と
して溶剤を含有させてもよい。このようなものとして
は、多価アルコール、アルコールや脂肪族炭化水素があ
る。

【０１１８】多価アルコールの内、好ましい具体例とし
ては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセ
リン、ソルビトールなどが挙げられ、アルコールとして
は、プロピルアルコール、ブチルアルコール、ペンタノ
ール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、等
のアルキルアルコールや、ベンジルアルコール、フェノ
キシエタノール、フェニルアミノエチルアルコール等の
芳香環を有するアルコールがあげられる。

【０１１９】脂肪族炭化水素としては、例えば、ｎ−ヘ
キサノール、メチルアミルアルコール、２−エチルブタ
ノール、ｎ−ヘプタノール、３−ヘプタノール、２−オ
クタノール、２−エチルヘキサノール、ノナノール、
３，５，５−トリメチルヘキサノール、ｎ−デカノー
ル、ウンデカノール、ｎ−ドデカノール、トリメチルノ
ニルアルコール、テトラデカノール、ペプタデカノー
ル、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、１，６−
ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、３，４
−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，
９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール等が挙
げられる。

【０１２０】この他、不感脂化処理剤には必要に応じ
て、可塑剤、脂肪酸、脂肪油、ワックス、親油性樹脂を
添加しても良い。好ましい可塑剤には例えばジブチルフ
タレート、ジヘプチルフタレート、ジ−ｎ−オクチルフ
タレート、ジ−（２−エチルヘキシル）フタレート、ジ
ノニルフタレート、ジデシルフタレート、ジラウリルフ
タレート、ブチルベンジルフタレートなどのフタル酸ジ
エステル類、例えばジオクチルアゼレート、ジオクチル
アジペート、ジブチルグリコールアジペート、ジブチル
セバケート、ジ−（２−エチルヘキシル）セバケート、
ジオクチルセバテートなどの脂肪族二塩基酸エステル
類、例えばエポキシ化大豆油などのエポキシ化トリグリ
セライド類、例えばトリクレジルフォスフェート、トリ
オクチルフォスフェート、トリスクロルエチルフォスフ
エートなどの燐酸エステル類、例えば安息香酸ベンジル
などの安息香酸エステル類が含まれる。これらの内でも
特に好ましいものは、臭気がなく安全性の高いジオクチ
ルアジペート、ジブチルセバケートおよびジオクチルア
ゼレートである。

【０１２１】好ましい脂肪酸には、カプロン酸、エナン
ト酸、カブリル酸、ヘラルゴン酸、カプリン酸、ウンデ
シル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペ
ンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステア
リン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノ
セレン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、
メリシン酸、ラクセル酸、イソ吉草酸等の飽和脂肪酸と
アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ウンデシレ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、セトレイン酸、エル
カ酸、ブラシジン酸、ソルビタン酸、リノール酸、リノ
レン酸、アラキドン酸、プロピオール酸、ステアロール
酸、イワシ酸、タリリン酸、リカン酸等の不飽和脂肪酸
がある。好ましいワックスとしてはカルバナウロウ、ミ
ツロウ、鯨ロウ、虫白ロウ、羊毛ロウ、セラックロウ等
が挙げられる。

【０１２２】好ましい親油性樹脂の具体例としては、フ
ェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアル
デヒド樹脂、ｔ−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹
脂などのノボラック型フェノール樹脂、フェノールとキ
シレンとをホルムアルデヒドで縮合させたキシレン樹
脂、フェノールとメシチレンとをホルムアルデヒドで縮
合させた樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ブロム化ポリ
ヒドロキシスチレン、カシュー樹脂、スチレンと無水マ
レイン酸の共重合体の部分エステル化物、メラミン樹
脂、アルキド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、
ロジン、水添ロジン及びロジンエステルなどの変性ロジ
ン、ギルソナイトなどの石油樹脂を挙げることができ、
これらの内でもノボラック型フェノール樹脂、ロジンお
よび変性ロジンが好ましい。

【０１２３】上記の化工でん粉以外にも親水性高分子と
して天然高分子、半天然（半合成）高分子、繊維素誘導
体等を添加してもよい。天然高分子には、かんしょデン
プン、ばれいしょデンプン、タピオカデンプン、小麦デ
ンプン及びコーンスターチ等のデンプン類、カラジーナ
ン、ラミナラン、海ソウマンナン、ふのり、アイリッシ
ュモス、寒天及びアルギン酸ナトリウム等の藻類から得
られるもの、トロロアオイ、マンナン、クインスシー
ド、ペクチル、デキストラン、グルカン及びレバンなど
のホモ多糖並びにサクシノグルカン及びザンタンガムな
どのヘテロ多糖等の微生物粘質物、にかわゼラチン、カ
ゼイン及びコラーゲン糖のタンパク質などが挙げられ
る。半天然物（半合成品）にはアルギン酸プロピレング
リコールエステルの他に、ビスコース、メチルセルロー
ス、エチルセルロース、メチルエチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルエチルセルロ
ース及びヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレー
ト等の繊維素誘導体を挙げることができる。

【０１２４】この他、不感脂化処理剤中には、pH調整、
親水化を目的として酸を添加してもよい。例えば燐酸、
硫酸、硝酸などの鉱酸、例えばクエン酸、ホスホン酸、
フェニルホスホン酸、タンニン酸、リンゴ酸、氷酢酸、
乳酸、硅酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸が好
ましい。この内、燐酸は、pH調整剤として機能するだけ
でなく、非画像部の汚れを防止する作用もあるので特に
優れており、水相の総質量に対して0.１〜８質量％、最
も好ましくは0.５〜５質量％の範囲で含有させておくと
好ましい。

【０１２５】以上の他に不感脂化処理剤には防腐剤、消
泡剤などを添加することができる。防腐剤としては、例
えば安息香酸及びその誘導体、フェノールホルマリン、
デヒドロ酢酸ナトリウム等を0.００５〜2.０質量％の範
囲で添加できる。又、消泡剤としては、シリコーン樹脂
系、低級アルコール系、有機極性化合物系、鉱物油系等
各消泡剤が用いられる。

【０１２６】本発明に用いられる不感脂化処理剤は、含
有させる界面活性剤、親油性物質、水溶性高分子等を適
宜選択することによってエマルジョン型、非エマルジョ
ン型又はサスペンジョン型のどの型でも製造可能であ
る。本発明の製版方法において、上記の不感脂化処理剤
を乾燥質量で０．０２g/ｍ ²以上になるように塗設する
のが適当であって、好ましくは０．０２〜１g/ｍ²塗設
する。

【０１２７】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機にかけられ、多数枚の印刷に用い
られる。

【０１２８】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 ［支持体例］ （支持体１：陽極酸化アルミニウム支持体）厚さ０．３
０ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板を８号ナイロンブラ
シと８００メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、そ
の表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水
酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッチング
した後、流水で、水洗後、２０％ＨＮＯ₃で中和洗浄、
水洗した。これをＶ_A＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の
交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で３００クーロ
ン／ｄｍ²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。
その表面粗さを測定したところ０．４５μｍ（Ｒａ表
示）であった。ひきつづいて３０％のＨ₂ＳＯ₄水溶液中
に浸漬し、５５℃で２分間デスマットした後、３３℃、
２０％Ｈ₂ＳＯ₄水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配
置して、電流密度５Ａ／ｄｍ²において５０秒間陽極酸
化したところ、厚さが２．７ｇ／ｍ²であった。これを
支持体１とした。

【０１２９】（支持体２）支持体１に下記の表面処理用
下塗り液状組成物１をＰ量が約０．０５ｇ／ｍ²となる
ように塗布し、１００℃で１分間乾燥させたものを支持
体２とした。

【０１３０】 ＜下塗り用液状組成物１＞ フェニルホスホン酸 ２質量部 メタノール ８００質量部 水 ５０質量部

【０１３１】（支持体３）支持体１に下記の表面処理用
下塗り液状組成物２をＳｉ量が約０．００１ｇ／ｍ²と
なるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させたものを
支持体３とした。

【０１３２】＜下塗り用液状組成物２＞下記成分を混合
攪拌し、約５分後に発熱が見られ、６０分間反応させた
後、内容物を別の容器に移し、メタノールをさらに３万
質量部加えたものを液状組成物２とした。

【０１３３】 ユニケミカル（株）ホスマーＰＥ ２０質量部 メタノール １３０質量部 水 ２０質量部 パラトルエンスルホン酸 ５質量部 テトラエトキシシラン ５０質量部 ３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン ５０質量部

【０１３４】［感材例］上述の支持体１〜３上に、下記
組成の光重合性組成物を乾燥塗布質量が１．５ｇ／ｍ²
となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させ、感光
層を形成した。続いて、この感光層上にポリビニルアル
コール（ケン化度９８モル％、重合度５００）の３wt％
の水溶液を乾燥塗布質量が２．５ｇ／ｍ²となるように
塗布し、１２０℃で３分間乾燥させ、感光性平版印刷版
（感材）を得た。

【０１３５】 （感光層塗布液（光重合性組成物）：下記表−１に詳細を記載） エチレン性不飽和結合含有化合物（Ａ） ａ 質量部 線状有機高分子重合体（Ｂ） ｂ 質量部 増感剤（Ｃ） ０．１５質量部 光開始剤（Ｄ） ０．３０質量部 添加剤（Ｓ） ０．５０質量部 フッ素系界面活性剤 ０．０３質量部 （メカ゛ファックF-177：大日本インキ化学工業(株)製） 熱重合禁止剤 ０．０１質量部 （Ｎ-ニトロソヒドロキシルアミンアルミニウム塩） ε型の銅フタロシアニン分散物 ０．２ 質量部 メチルエチルケトン ３０．０ 質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ３０．０ 質量部

【０１３６】なお、感光層塗布液に用いる、エチレン性
不飽和結合含有化合物（Ａ）、線状有機高分子重合体
（Ｂ）、増感剤（Ｃ）、光開始剤（Ｄ）、添加剤（Ｓ）
を以下に示す。

【０１３７】

【化１１】

【０１３８】

【化１２】

【０１３９】

【化１３】

【０１４０】

【表１】

【０１４１】※感光層酸価は感光層1g当たりに含有され
る酸量を水酸化ナトリウム滴定により測定後、算出した
実測値である。

【０１４２】［現像液例］以下の化合物を水に溶解し、
現像液を調液した。 現像液１（pH＝１１．７） リン酸（pka12.4）、０．１５mol/リットルに、ペレッ
クスNBL（アルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウ
ム：花王（株）製）５質量％、p-ｔert-ブチル安息香酸
１質量％、さらに水酸化カリウムを添加してpHが１１．
７にした現像液。電導度５mS/cm。 現像液２（pH＝１２．０） リン酸（pka12.4）、０．１５mol/リットルに、ペレッ
クスNBL（アルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウ
ム：花王（株）製）５質量％、p-ｔert-ブチル安息香酸
１質量％、さらに水酸化カリウムを添加してpHが１２．
０にした現像液。電導度７mS/cm。

【０１４３】現像液３（pH＝１２．４） リン酸（pka12.4）、０．１５mol/リットルに、ペレッ
クスNBL（アルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウ
ム：花王（株）製）５質量％、p-ｔert-ブチル安息香酸
１質量％、さらに水酸化カリウムを添加してpHが１２．
０にした現像液。電導度１１mS/cm。 現像液４（pH＝１２．０） スルホサリチル酸（pka11.7）、０．１５mol/リットル
に、ペレックスNBL（アルキルナフタレンスルフォン酸
ナトリウム：花王（株）製）５質量％、p-ｔert-ブチル
安息香酸１質量％、さらに水酸化カリウムを添加してpH
が１２．０にした現像液。電導度８mS/cm。

【０１４４】現像液５（pH＝１２．０） イノシン（pka12.5）、０．１５mol/リットルに、ペレ
ックスNBL（アルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウ
ム：花王（株）製）５質量％、p-ｔert-ブチル安息香酸
１質量％、さらに水酸化カリウムを添加してpHが１２．
０にした現像液。電導度８mS/cm。 現像液６（pH＝１２．０） アセトオキシム（pka12.5）、０．１５mol/リットル
に、ペレックスNBL（アルキルナフタレンスルフォン酸
ナトリウム：花王（株）製）５質量％、p-ｔert-ブチル
安息香酸１質量％、さらに水酸化カリウムを添加してpH
が１２．０にした現像液。電導度７mS/cm。

【０１４５】現像液７（pH＝１２．０） サッカロース（pka12.７）、０．１５mol/リットルに、
ペレックスNBL（アルキルナフタレンスルフォン酸ナト
リウム：花王（株）製）５質量％、p-ｔert-ブチル安息
香酸１質量％、さらに水酸化カリウムを添加してpHが１
２．０にした現像液。電導度７mS/cm。 現像液８（pH＝１１．７） 珪酸カリウム溶液（珪酸と水酸化カリウムを予め混合し
た溶液：1K珪酸カリウム：日本化学工業（株）製）中の
珪酸濃度が０．１５mol/リットルに、ペレックスNBL
（アルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウム：花王
（株）製）５質量％、p-ｔert-ブチル安息香酸１質量
％、さらに水酸化カリウムを添加してpHが１１．７にし
た現像液。電導度９mS/cm。

【０１４６】現像液９（pH＝１２．０） リン酸（pka12.4）、０．１５mol/リットルに、式Ｙ−
１の界面活性剤５質量％、Ｚ−１のキレート剤０．２質
量％、炭酸カリウム０．２質量％、p-ｔert-ブチル安息
香酸１質量％、さらに水酸化カリウムを添加してpHが１
２．０にした現像液。電導度７mS/cm。

【０１４７】比較現像液１（pH１２．０） ペレックスNBL（アルキルナフタレンスルフォン酸ナト
リウム：花王（株）製）５質量％、p-ｔert-ブチル安息
香酸１質量％、水酸化カリウムを添加してpHが１２．０
にした現像液。電導度５mS/cm。 比較現像液２（pH１２．０） 珪酸カリウム溶液（珪酸と水酸化カリウムを予め混合し
た溶液：1K珪酸カリウム：日本化学工業（株）製）中の
珪酸濃度が０．１５mol/リットルに、ペレックスNBL
（アルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウム：花王
（株）製）５質量％、に水酸化カリウムを添加してpHが
１１．７にした現像液。電導度５mS/cm。

【０１４８】補充液 上記現像液１〜９及び比較現像液１、２について、水酸
化カリウムを添加してpHが１３．１になるよう調整し、
それぞれについての補充液とした。

【０１４９】［不感脂化処理剤例］以下の組成の不感脂
化処理剤Ａ及びＢを調製した。 −不感脂化処理剤Ａ− 白色デキストリン ５０ｇ ヒドロキシプロピルエーテル化でん粉 １００ｇ アラビアガム（１４°Ｂｅに溶解調整） １０ｇ リン酸第一アンモン 1.０ｇ ジラウリルコハク酸ナトリウム 1.５ｇ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル ５ｇ エチレングリコール １０ｇ ＥＤＴＡ 0.０５ｇ デヒドロ酢酸 0.０５ｇ 水 １０００ｇ

【０１５０】 −不感脂化処理剤Ｂ− 白色デキストリン ５．０質量部 ヒドロキシプロピルエーテル化でん粉 １０．０質量部 アラビアガム １．０質量部 燐酸第１アンモン ０．１質量部 ジラウリルコハク酸ナトリウム ０．１５質量部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル ０．５質量部 エチレングリコール １．０質量部 ＥＤＴＡ ０．００５質量部 デヒドロ酢酸 ０．００５質量部 水 １００質量部

【０１５１】［印刷等評価］表１の感材と各種現像液、
不感脂化処理剤を組み合わせて製版した際の結果につい
て下記表２にまとめた。また、露光、印刷、現像条件は
以下のものを使用した。 （現像性の評価）上述の塗布感材を未露光のまま現像
後、版の色を目視評価。残膜がある場合、感光層の色が
残る。

【０１５２】（耐刷性および印刷放置汚れ性の評価）上
述の塗布感材を５３２ｎｍ、１００ｍＷのＦＤ・ＹＡＧ
レーザー（ＣＳＩ社製プレートジェット４）、或いは、
４０５ｎｍ、３０ｍＷのvioletＬＤ（内面ドラム型実験
機）で１００μ／ｃｍ²の露光（標準露光条件）で４０
００ｄｐｉにて１７５線／インチの条件で、ベタ画像と
１〜９９％の網点画像（１％刻み）を走査露光した後、
各種現像液、補充液および各不感脂化処理剤を仕込んだ
自動現像機（富士写真フィルム製ＦＬＰ−８２News）で
水洗処理→現像処理→水洗処理→不感脂化処理を行い平
版印刷版を得た。（露光後のプレヒートは版面到達温度
が１２０℃、現像液への浸漬時間２０秒である。不感脂
化処理剤の塗設量０．１ｇ／ｍ²。） 続いて、得られた平版印刷版についてマン・ローランド
社製Ｒ２０１型印刷機で、大日本インキ社製ＧＥＯＳ
Ｇ墨（Ｎ）を使用して印刷し、３％の網点が版飛びを起
こした印刷枚数を評価した。印刷放置汚れ性は三菱重工
製ダイヤＩＦ２型印刷機で、大日本インキ社製ＧＥＯＳ
Ｇ紅（Ｓ）を使用して印刷し、印刷途中でインキをつ
けた状態で１時間放置した後、再び印刷を行い、非画像
部のインキ汚れを目視で評価した。

【０１５３】（処理時現像液pH変動の評価）pH変動しや
すい条件として、各現像液の最適補充量を設定したのち
（１ｍ²あたり50〜120cc）100ｍ²／日、５０ｍ²／日、
１０ｍ²／日、処理なし、というサイクルで、５回繰り
返し処理を行い、各現像液のpH安定性を調査した。pH変
動の指標として（pH最大値−pH最小値）を表２に示す。

【０１５４】

【表２】

【０１５５】※感材５〜８については４０５ｎｍで露
光、感材１〜４、９については５３２ｎｍで露光した。

【０１５６】表２から明らかなように本発明の現像液は
現像性良好であり、耐刷性と印刷汚れを両立し、さらに
ｐH変動幅が小さく、長期にわたって処理が安定に保た
れて、よって良好なランニング安定性を発揮する。

【０１５７】

【発明の効果】本発明に係る感光性平版印刷版用現像液
及び印刷版製版方法は、画像形成性を損なわずに印刷時
の汚れと耐刷性の両立ができ、かつ、自動現像機、pH変
動に伴う性能変化が少なく処理安定性をも向上すること
ができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ノニオン界面活性剤及び／又はアニオン
   界面活性剤、及び解離定数pkaが１０〜１３の範囲にあ
   る弱酸またはその塩、及び下式１で示されるカルボキシ
   ル基を有する化合物又はその塩を含有し、pHが１１．５
   以上１２．８以下でかつ電導度が３〜４０ｍＳ／cmであ
   ることを特徴とする光重合型感光性平版印刷版用現像
   液。 式１ Ｒ−Ａｒ−（ＣＯＯＭ）_n （Ｒは水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖アルキル基
   または分岐アルキル基を表し、Ａｒは芳香族環を表し、
   Ｍは水素原子、一価の金属原子又はアンモニウム基を表
   し、ｎは１又は２である。）
2. 【請求項２】 粗面化、及び陽極酸化処理を施したアル
   ミニウム支持体上に付加重合可能なエチレン性不飽和結
   合を少なくとも１個有する化合物及びチタノセン系開始
   剤を含有する光重合性感光層を設けた光重合型感光性平
   版印刷版を、露光後、水洗処理し、請求項１記載の現像
   液で処理し、再び水洗した後、（ａ）アラビアゴム０〜
   ３質量％及び（ｂ）加工デンプン５〜３０質量％を含有
   する不感脂化処理剤を乾燥重量で０．０２ｇ／ｍ²以上
   になるように塗設することを特徴とする平版印刷版の製
   版方法。