JP2002504077A - ７―アルファ―カルボキシル―９，１１―エポキシステロイド化合物の製造方法およびこの方法に有用な中間体ならびにオレフィン二重結合の一般的エポキシ化方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 エポキシメキスレノンおよび式（Ｉ）の他の化合物の合成のための、複数の新規反応スキーム、新規操作工程、および新規中間体が提供され、式中：−Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり；Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され；Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基であり；−Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−、または式（III）のアルファ−もしくはベータ−配向の基（式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択される）であり、そして、Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択されるか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、またはＲ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環構造を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】 ７−アルファ−カルボキシル−９，１１−エポキシステロイド化合物の製造方 法およびこの方法に有用な中間体ならびにオレフィン二重結合の一般的エポキ シ化方法発明の背景 本発明は９，１１−エポキシステロイド化合物、特に２０−スピロキサン系化 合物およびそれらの類縁体の新規製造方法、ステロイド化合物の製造に有用な新 規中間体、およびこのような新規中間体の製造方法に関する。さらに特に、本発 明はメチル水素９，１１α−エポキシ−１７α−ヒドロキシ−３−オキシプレグ ン−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトン［エプレレノン （ｅｐｌｅｒｅｎｏｎｅ）；エポキシメキセレノン（ｅｐｏｘｙｍｅｘｒｅｎｏ ｎｅ）］の新規で有利な製造方法に関する。 ２０−スピロキサン系化合物の製造方法は米国特許４，５５９，３３２に記載 されている。’３３２特許の方法に従い生成される化合物は下記一般式で表され る開環状酸素含有環Ｅを有する化合物およびそのＸがオキソを表わし、そしてＹ² がヒドロキシを表わす化合物、すなわち対応する１７β−ヒドロキシ−２１− カルボン酸の塩である： 式中、 −Ａ−Ａ−は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨを表わし、 Ｒ¹はα−配向低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基を表 わし、 −Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−あるいは下記のα−またはβ−配向基を表わし ：（ここで、Ｒ⁶およびＲ⁷は水素である）、 Ｘは２個の水素原子またはオキソを表わし、 Ｙ¹およびＹ²は一緒になって酸素架橋−Ｏ−を表わすか、あるいは Ｙ¹はヒドロキシを表わし、そして Ｙ²はヒドロキシまたは低級アルコキシを表わすか、あるいはＸがＨ₂を表わす 場合にはまた、低級アルカノイルオキシを表わす。 米国特許４，５５９，３３２はエポキシメキセレノンおよび式ＩＡで表わされ る関連化合物を製造するための多くの方法を開示している。エポキシメキセレノ ンの新しい拡大された臨床用途の出現によって、この化合物および他の関連化合 物の改良された製造方法の必要性が生じている。発明の要旨 本発明の第一の目的は、エポキシメキセレノン、他の２０−スピロキサン化合 物および共通の構造上の特徴を有するその他のステロイド化合物の改良された製 造方法を提供することにある。本発明の特定の目的の中には：式ＩＡで表わされ る生成物およびその他の関連化合物を高収率で製造する改良方法を提供すること ；最少の単離工程を包含するこのような方法を提供すること；および妥当な投資 価格で実施することができ、かつまた妥当な変換価格で操作することができるこ のような方法を提供することがある。 従って、本発明はエポキシメキセレノンの一連の合成スキーム、エプレレノン の製造に有用な中間体およびこのような新規中間体の合成に関する。 この新規合成スキームは好適態様の説明において詳細に説明する。 本発明の新規中間体化合物の中には、下記の記載の化合物がある。 式ＩＶで表わされる化合物は下記構造に相当する： 式中、 −Ａ−Ａ−は基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵を表わし、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシからなる群から独立して選択され、 Ｒ¹はα−配向低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基を表 わし、 Ｒ²は１１α−脱離性基であり、この基は９-炭素原子と１１-炭素原子との間 に二重結合を生成させるのに有効である基を意味し、 −Ｂ−Ｂ−は−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−あるいはα−またはβ−配向基を表わし： （ここで、Ｒ⁶およびＲ⁷は水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシア ルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカ ルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立 して選択され）、そして Ｒ⁸およびＲ⁹は水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、 アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル 、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立して選択 され、あるいはＲ⁸とＲ⁹とは一緒になって、炭素環状またはヘテロ環状環構造を 構成しており、あるいはＲ⁸またはＲ⁹はＲ⁶またはＲ⁷と一緒になって、五環状Ｄ 環に縮合している炭素環状またはヘテロ環状環構造を構成している。 式ＩＶＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸とＲ⁹とがこれらが結合している環炭 素と一緒になって、下記構造を形成している式ＩＶに相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＩＶＢで表わされる化合物は、そのＲ⁸とＲ⁹とが一緒になって、式ＸＸＸＩ ＩＩで表わされる構造を形成している式ＩＶＡに相当する： 式ＩＶＣ、式ＩＶＤおよび式ＩＶＥで表わされる化合物はそれぞれ、式ＩＶ、 ＩＶＡまたはＩＶＢにおいて、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれＣＨ₂− ＣＨ₂−であり、Ｒ³が水素であり、そしてＲ¹がアルコキシカルボニル、好まし くはメトキシカルボニルである化合物のいずれかに相当する。式ＩＶの範囲内の 化合物は、低級アルキルスルホニル化剤またはアシル化剤、あるいはハライド生 成剤を式Ｖの範囲内の対応する化合物と反応させることによって製造することが できる。 式Ｖで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＩＶについて定 義されているとおりである）。 式ＶＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合している環 炭素と−緒になって、下記構造を形成している式Ｖに相当する：（ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＶＢで表わされる化合物は、そのＲ⁸とＲ⁹とが一緒になって、下記式ＸＸＸ ＩＩＩで表わされる構造を形成している式ＶＡに相当する： 式ＶＣ、式ＶＤおよび式ＶＥで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ−Ａ− および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、Ｒ³が水素であり、そし てＲ¹がアルコキシカルボニル、好ましくはメトキシカルボニルである式Ｖ、式 ＶＡまたは式ＶＢのいずれかに相当する。式Ｖの範囲内の化合物は、アルカリ金 属アルコキシドを式ＶＩで表わされる対応する化合物と反応させることによって 製造することができる。 式ＶＩで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＩＶについて定義さ れているとおりである）。 式ＶＩＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合している 環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式ＶＩに相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＶＩＢで表わされる化合物は、式ＶＩＡにおいて、Ｒ⁸とＲ⁹とが一緒になっ て、下記式ＸＸＸＩＩＩで表わされる構造を形成している化合物に相当する： 式ＶＩＣ、式ＶＩＤおよび式ＶＩＥで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ −Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、そしてＲ³が水素 である式ＶＩ、式ＶＩＡまたは式ＶＩＢの化合物に相当する。式ＶＩ、式ＶＩＡ 、式ＶＩＢおよび式ＶＩＣで表わされる化合物は、式ＶＩＩ、式ＶＩＩＡ、式Ｖ ＩＩＢおよび式ＶＩＩＣに相当する化合物をそれぞれ、加水分解することによっ て製造される。 式ＶＩＩで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＩＶについて定義さ れているとおりである）。 式ＶＩＩＡで表わされる化合物は、Ｒ⁸およびＲ⁹が、これらが結合している環 炭素と一緒になって、下記構造を形成している式ＶＩＩの化合物に相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＶＩＩＢで表わされる化合物は、Ｒ⁸とＲ⁹とが一緒になって、下記式ＸＸＸ ＩＩＩで表わされる構造を形成している式ＶＩＩＡの化合物に相当する： 式ＶＩＩＣ、式ＶＩＩＤおよび式ＶＩＩＥで表わされる化合物はそれぞれ、そ の−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、そしてＲ³ が水素である式ＶＩＩ、式ＶＩＩＡまたは式ＶＩＩＢの化合物に相当する。式Ｖ ＩＩの範囲内の化合物は、式ＶＩＩＩの範囲内の化合物のシアン化によって製造 することができる。 式ＶＩＩＩで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＩＶについて定義さ れているとおりである）。 式ＶＩＩＩＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合して いる環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式ＶＩＩＩの化合物に相当 する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＶＩＩＩＢで表わされる化合物は、そのＲ⁸とＲ⁹とが−緒になって、下記式 ＸＸＸＩＩＩで表わされる構造を形成している式ＶＩＩＩＡの化合物に相当する ： 式ＶＩＩＩＣ、式ＶＩＩＩＤおよび式ＶＩＩＩＥで表わされる化合物はそれぞ れ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、そし てＲ³が水素である式ＶＩＩＩ、式ＶＩＩＩＡまたは式ＶＩＩＩＢの化合物のい ずれかに相当する。式ＶＩＩＩの範囲内の化合物は、以下で説明するように、式 ＸＸＸで表わされる化合物からなる基質を、当該基質にα−配向で１１−ヒドロ キシ基を導入するのに有効な発酵により酸化することによって製造される。 式ＸＩＶで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＩＶについて定義さ れているとおりである）。 式ＸＩＶＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合してい る環炭素と−緒になって、下記構造を形成している式ＸＩＶに相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである） 式ＸＩＶで表わされる化合物は、そのＲ⁸とＲ⁹とが、これらが結合している環 炭素と一緒になって、下記式ＸＸＸＩＩＩで表わされる構造を形成している式Ｘ ＩＶＡの化合物に相当する： 式ＸＩＶＣ、式ＸＩＶＤおよび式ＸＩＶＥで表わされる化合物はそれぞれ、そ の−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、そしてＲ³ が水素である式ＸＩＶ、式ＸＩＶＡまたは式ＸＩＶＢのいずれかに相当する。式 ＸＩＶの範囲内の化合物は、式ＸＶの範囲内の対応する化合物の加水分解によっ て製造することができる。 式ＸＶで表わされる化合物は下記構造に相当する： 式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＩＶにおいて定義さ れているとおりである）。 式ＸＶＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合している 環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式ＸＶに相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである） 式ＸＶＢで表わされる化合物は、そのＲ⁸とＲ⁹とが−緒になって、下記式ＸＸ ＸＩＩＩで表わされる構造を形成している式ＸＶＡに相当する： 式ＸＶＣ、式ＸＶＤおよび式ＸＶＥで表わされる化合物はそれぞれ、その−Ａ −Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、そしてＲ³が水素 である式ＸＶ、式ＸＶＡまたは式ＸＶＢのいずれかに相当する。式ＸＶの範囲内 の化合物は、式ＸＶＩの範囲内の対応する化合物のシアン化によって製造するこ とができる。 式ＸＸＩで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＩＶについて定義さ れているとおりである）。 式ＸＸＩＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合してい る環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式ＸＸＩに相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＸＸＩＢで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合してい る環炭素とが一緒になって、下記式ＸＸＸＩＩＩで表わされる構造を形成してい る式ＸＸＩＡに相当する： 式ＸＸＩＣ、式ＸＸＩＤおよび式ＸＸＩＥで表わされる化合物はそれぞれ、そ の−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、そしてＲ³ が水素である式ＸＸＩ、式ＸＸＩＡまたは式ＸＸＩＢのいずれかに相当する。式 ＸＸＩの範囲内の化合物は、式ＸＸＩＩの範囲内の対応する化合物の加水分解に よって製造することができる。 式ＸＸＩＩで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＩＶについて定義さ れているとおりである）。 式ＸＸＩＩＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合して いる環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式ＸＸＩＩに相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＸＸＩＩＢで表わされる化合物は、そのＲ⁸とＲ⁹とが一緒になって、下記式 ＸＸＸＩＩＩで表わされる構造を形成している式ＸＸＩＩＡに相当する： 式ＸＸＩＩＣ、式ＸＸＩＩＤおよび式ＸＸＩＩＥで表わされる化合物はそれぞ れ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、そし てＲ³が水素である式ＸＸＩＩ、式ＸＸＩＩＡまたは式ＸＸＩＩＢのいずれかに 相当する。式ＸＸＩＩの範囲内の化合物は、式ＸＸＩＩＩの範囲内の化合物の シアン化によって製造することができる。 式ＸＸＩＩＩで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＩＶについて定義さ れているとおりである）。 式ＸＸＩＩＩＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合し ている環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式ＸＸＩＩＩに相当する ： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＸＸＩＩＩＢで表わされる化合物は、そのＲ⁸とＲ⁹とが一緒になって、下記 式ＸＸＸＩＩＩで表わされる構造を形成している式ＸＸＩＩＩＡに相当する： 式ＸＸＩＩＩＣ、式ＸＸＩＩＩＤおよび式ＸＸＩＩＩＥで表わされる化合物は それぞれ、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞれ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり 、そしてＲ³が水素である式ＸＸＩＩＩ、式ＸＸＩＩＩＡまたは式ＸＸＩＩＩＢ のいずれかに相当する。式ＸＸＩＩＩの範囲内の化合物は、以下で説明するよう に、式ＸＸＩＶで表わされる化合物の酸化によって製造することができる。 式１０４で表わされる化合物は下記構造に相当する：（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ³は式ＩＶについて定義されていると おりであり、そしてＲ¹¹はＣ₁〜Ｃ₄アルキルである）。 式１０４Ａで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞ れ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、そしてＲ³が水素である式１０４に相当する。式１ ０４の範囲内の化合物は、式１０３で表わされる化合物の熱分解によって製造す ることができる。 式１０３で表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³およびＲ¹¹は式１０４について定義され ているとおりである）。 式１０３Ａで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞ れ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、そしてＲ³が水素である式１０３に相当する。式１ ０３の範囲内の化合物は、式１０２で表わされる対応する化合物を、アルカリ金 属アルコキシドなどの塩基の存在下にジアルキルマロネートと反応させることに よって製造することができる。 式１０２で表わされる化合物は下記構造に相当する：（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³およびＲ¹¹は式１０４について定義され ているとおりである）。 式１０２Ａで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞ れ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、そしてＲ³が水素である式１０２に相当する。式１ ０２の範囲内の化合物は、式１０１で表わされる対応する化合物を、塩基の存在 下にトリアルキルスルホニウム化合物と反応させることによって製造することが できる。 式１０１で表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³およびＲ¹¹は式１０４について定義され ているとおりである）。 式１０１Ａで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−がそれぞ れ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、そしてＲ³が水素である式１０１に相当する。式１ ０１の範囲内の化合物は、１１α−ヒドロキシアンドロステン−３，１７−ジオ ンまたは式ＸＸＸＶＩで表わされるその他の化合物を、酸の存在下にトリアルキ ルオルトホーメートと反応させることによって製造することができる。 以下に示されている特定の反応スキームにかかわる説明に基づいて、これらの 化合物が特定の反応スキームに関して最大の利用性を具備することは明白である と見做される。本発明による化合物の使用は、エポキシメキセレノンおよびその 他のステロイド化合物のための中間体として有用である。 その他の目的および特徴は一部は明白であり、そして一部は以下で指摘する。図面の簡単な説明 図１はカンレノン（ｃａｎｒｅｎｏｎｅ）またはカンレノン誘導体を対応する １１α−ヒドロキシ化合物に生物変換（ｂｉｏｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ）する方法 の図解式フローシートである； 図２はカンレノンおよびカンレノン誘導体の１１α−ヒドロキジ化に好適な生 体変換方法の図解式フローシートである； 図３はカンレノンまたはカンレノン誘導体の１１α−ヒドロキシ化に特に好適 な生体変換方法の図解式フローシートである； 図４は図２の方法に従い製造されるカンレノンにかかわる粒子サイズ分布を示 している； 図５は図３の方法に従う形質転換発酵槽において殺菌されたカンレノンにかか わる粒子サイズ分布を示している。 相当する参照記号は、図面全体をとおして対応する部分を示しているものとす る。好適態様の説明 本発明に従い、種々の新規な合成スキームが式Ｉに相当するエポキシメキセレ ノンおよび式Ｉに相当するその他の化合物を製造するために考案された： 式中、 −Ａ−Ａ−は基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−を表わし、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシからなる群から独立して選択され、 Ｒ¹はα−配向低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル基を表 わし、 −Ｂ−Ｂ−は−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−あるいはα−またはβ−配向基を表わし： （ここで、Ｒ⁶およびＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシ アルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシ カルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシからなる群から独 立して選択される）、そして Ｒ⁸およびＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル 、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニ ル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立して選 択され、あるいはＲ⁸とＲ⁹とは一緒になって、炭素環状またはヘテロ環状環構造 を表わし、あるいはＲ⁸またはＲ⁹はＲ⁶またはＲ⁷と一緒になって、五環 状Ｄ環に縮合している炭素環状またはヘテロ環状環構造を表わす。 別段の記載がないかぎり、本明細書の記載中の「低級」として示されている有 機基は、最大で７個、好ましくは１〜４個の炭素原子を含有する。 低級アルコキシカルボニル基は好ましくは、炭素原子１〜４個を有するアルキ ル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、 ｓｅｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルから誘導される基であり；特に好ましく は、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルおよびイソプロポキシカルボニル である。低級アルコキシ基は好ましくは、上記Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル基、特に一級Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル基の一つから誘導される基である；特に好ましくは、メトキシで ある。低級アルカノイル基は好ましくは、炭素原子１〜７個を有する直鎖状アル キル基から誘導される基である；特に好ましくは、ホルミルおよびアセチルであ る。 １５，１６−位置に存在するメチレン架橋は好ましくは、β−配向である。 本発明による方法によって製造することができる化合物の好適群は、米国特許 ４，５５９，３３２に記載されている２０−スピロキサン化合物、すなわち式Ｉ Ａに相当する化合物である： 式中、 −Ａ−Ａ−は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−を表わし、 −Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−あるいは式ＩＩＩＡで表わされるアルファ−ま たはベータ−配向基を表わし： Ｒ¹はアルファ−配向低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボニル 基を表わし、 Ｘは２個の水素原子あるいはオキソまたは＝Ｓを表わし、 Ｙ¹およびＹ²は一緒になって酸素架橋−Ｏ−を表わすか、あるいは Ｙ¹はヒドロキシを表わし、そして Ｙ²はヒドロキシまたは低級アルコキシを表わすか、あるいはＸがＨ₂を表わす 場合にはまた、低級アルカノイルオキシを表わす。 好ましくは、本発明による新規方法によって生成される２０−スピロキサン化 合物は式Ｉにおいて、Ｙ¹およびＹ²が一緒になって酸素架橋−Ｏ−を表わす化合 物である。 式Ｉで表わされる特に好ましい化合物は、そのＸがオキソを表わす化合物であ る。 式ＩＡにおいて、Ｘがオキソを表わす２０−スピロキサン化合物の中で、その Ｙ¹がＹ²と−緒になって酸素架橋−Ｏ−を表わす化合物は最も特に好ましい化合 物である。 前記したように、１７β−ヒドロキシ−２１−カルボン酸化合物は、それらの 塩の形態であることもできる。特に、アルカリ金属およびアルカリ土類金属など の金属塩およびアンモニウム塩、例えばナトリウム塩、カルシウム塩、マグネシ ウム塩、好ましくは、カリウム塩およびアンモニアまたは適当な好ましくは生理 学的に許容される有機窒素含有塩基から誘導されるアンモニウム塩を考慮するこ とができる。考慮される塩基としては、アミン類、例えば低級アルキルアミン類 （例えば、トリエチルアミン）、ヒドロキシ−低級アルキルアミン類［例えば、 ２−ヒドロキシエチルアミン、ジ−（２−ヒドロキジエチル）アミンまたはトリ −（２−ヒドロキシエチル）−アミン］、シクロアルキルアミン類（例えば、ジ シクロヘキシルアミン）あるいはベンジルアミン類（例えば、ベンジルアミンお よびＮ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン）ばかりでなく、また窒素含有ヘテ ロ環状化合物、例えば芳香族性の化合物（例えば、ピリジンまたはキノリン）あ るいは少なくとも部分的に飽和されているヘテロ環状環（例えば、Ｎ−エチルピ ペリジン、モルホリン、ピペラジンまたはＮ，Ｎ’−ジメチルピペラジン）が ある。 また、好適化合物の中には、式ＩＡにおいて、Ｒ¹がアルコキシカルボニルを 表わし、Ｘがオキソを表わし、かつまたＹ¹およびＹ²がそれぞれ、ヒドロキシを 表わす化合物のアルカリ金属塩、特にカリウム塩が包含される。 式Ｉで表わされる特に好ましい化合物には、例として、下記の化合物がある： ９α，１１α−エポキシ−７α−メトキシカルボニル−２０−スピロキシ−４ −エン−３，２１−ジオン、 ９α，１１α−エポキシ−７α−エトキシカルボニル−２０−スピロキシ−４ −エン−３，２１−ジオン、 ９α，１１α−エポキシ−７α−イソプロポキシカルボニル−２０−スピロキ シ−４−エン−３，２１−ジオン、 およびこれらの化合物の各１，２−デヒドロ類縁化合物、 ９α，１１α−エポキシ−６α，７α−メチレン−２０−スピロキシ−４−エ ン−３，２１−ジオン、 ９α，１１α−エポキシ−６β，７β−メチレン−２０−スピロキシ−４−エ ン−３，２１−ジオン、 ９α，１１α−エポキシ−６β，７β；１５β，１６β−ビスメチレン−２０ −スピロキシ−４−エン−３，２１−ジオン、 およびこれらの化合物の各１，２−デヒドロ類縁化合物、 ９α，１１α−エポキシ−７α−メトキジカルボニル−１７β−ヒドロキシ３ −オキソ−プログン−４−エン−２１−カルボン酸、 ９α，１１α−エポキシ−７α−エトキシカルボニル−１７β−ヒドロキシ− ３−オキソ−プログン−４−エン−２１−カルボン酸、 ９α，１１α−エポキシ−７α−イソプロポキシカルボニル−１７β−ヒドロ キシ−３−オキソ−プログン−４−エン−２１−カルボン酸、 ９α，１１α−エポキシ−１７β−ヒドロキシ−６α，７α−メチレン−３− オキソ−プログン−４−エン−２１−カルボン酸、 ９α，１１α−エポキシ−１７β−ヒドロキシ−６β，７β−メチレン−３− オキソ−プログン−４−エン−２１−カルボン酸、 ９α，１１α−エポキシ−１７β−ヒドロキシ−６β，７β；１５β，１６β −ビスメチレン−３−オキソ−プログン−４−エン−２１−カルボン酸、および これらの酸化合物のそれぞれのアルカリ金属塩、特にカリウム塩あるいはアンモ ニウム塩、およびまた上記カルボン酸化合物またはその塩のそれぞれの対応する １，２−デヒドロ類縁化合物。 ９α，１１α−エポキシ−１５β，１６β−メチレン−３，２１−ジオキソ− ２０−スピロキシ−４−エン−７α−カルボン酸メチルエステル、エチルエステ ルおよびイソプロピルエステル、 ９α，１１α−エポキシ−１５６５β，１６β−メチレン−３，２１−ジオキ ソ−２０−スピロキサ−１，４−ジエン−７α−カルボン酸メチルエステル、エ チルエステルおよびイソプロピルエステル、およびまた ９α，１１α−エポキシ−３−オキソ−２０−スピロキシ−４−エン−７α− カルボン酸メチルエステル、エチルエステルおよびイソプロピルエステル、 ９α，１１α−エポキシ−６β，６β−メチレン−２０−スピロキシ−４−エ ン−３−オン、 ９α，１１α−エポキシ−６β，７β；１５β，１６β−ビスメチレン−２０ −スピロキシ−４−エン−３−オン、 およびまた、９α，１１α−エポキシ，１７β−ヒドロキシ−１７α（３−ヒ ドロキシ−プロピル）−３−オキソ−アンドロスト−４−エン−７α−カルボン 酸メチルエステル、エチルエステルおよびイソプロピルエステル、 ９α，１１α−エポキシ，１７β−ヒドロキシ−１７α（３−ヒドロキシプロ ピル）−６α，７α−メチレン−アンドロスト−４−エン−３−オン、 ９α，１１α−エポキシ−１７β−ヒドロキシ−１７α−（３−ヒドロキシプ ロピル）−６β，７β−メチレン−アンドロスト−４−エン−３−オン、 ９α，１１α−エポキシ−１７β−ヒドロキシ−１７α−（３−ヒドロキシプ ロピル）−６β，７β；１５β，１６β ビスメチレン−アンドロスト−４−エ ン−３−オン、 さらに前記アンドロスタン化合物の１７α−（３−アセトキシプロピル）およ び１７α−（３−ホルミルオキシプロピル）類縁化合物を包含する、 およびまた、アンドロスト−４−エン−３−オンおよび２０−スピロキシ−４ −エン−３−オン系の前記化合物の全部の１，２−デヒドロ類縁化合物。 式Ｉおよび式ＩＡで表わされる化合物および同一の化学構造特徴を有する類縁 化合物の化学名は下記の方法で現行の命名法に従い誘導される： Ｙ¹がＹ²と−緒になって、−Ｏ−を表わす化合物の場合は、２０−スピロキサ ンから誘導される（例えば、式ＩＡにおいて、Ｘがオキソを表わし、そしてＹ¹ がＹ²と−緒になって、−Ｏ−を表わす化合物は２０−スピロキサン−２１−オ ンから誘導される）；Ｙ¹およびＹ²がそれぞれヒドロキシを表わし、そしてＸが オキソを表わす化合物の場合は、１７β−ヒドロキシ−１７α−プログネン−２ １−カルボン酸から誘導される；およびＹ¹およびＹ²がそれぞれヒドロキシを表 わし、そしてＸが２個の水素原子を表わす化合物の場合は、１７β−ヒドロキシ −１７α−（３−ヒドロキシプロピル）−アンドロスタンから誘導される。その 環状および開環状形態、すなわちラクトン類および１７β−ヒドロキシ−２１− カルボン酸およびそれらの塩類はそれぞれ、相互に緊密に関連しており、後者の 化合物は単に前者の化合物のハイドレート形態であると考えられることから、前 記および後記の記載において、別段の記載がないかぎり、それぞれ全部が記載さ れている形態と−緒に、式Ｉで表わされる目的生成物ならびに類縁構造を有する 出発物質および中間化合物の両方を包含するものと理解されるべきである。 本発明に従い、式Ｉで表わされる化合物の高収率および妥当な価格での製造に かかわり、数種の相違する合成スキームが考案された。これらの合成スキームは それぞれ、一連の中間体の製造を経て進行する。これらの多くの中間体は新規化 合物であり、従ってこれらの中間体化合物の製造方法は新規方法である。スキーム１（カンレノンまたは関連物質を用いて出発する） 式Ｉで表わされる化合物を製造するための好適合成スキームの一つは有利には 、カンレノンまたは式ＸＩＩＩに相当する関連出発物質を用いて始める： 式中、 −Ａ−Ａ−は基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−を表わし、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シァ ノ、アリールオキシからなる群から独立して選択され、 −Ｂ−Ｂ−は基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−あるいはα−またはβ−配向基を表わし ：（ここで、Ｒ⁶およびＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシ アルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシ カルボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシからなる群から独 立して選択される）、そして Ｒ⁸およびＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル 、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニ ル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシからなる群から独立して選 択され、あるいはＲ⁸とＲ⁹とは一緒になって、炭素環状またはヘテロ環状環構造 を表わし、あるいはＲ⁸およびＲ⁹はＲ⁶またはＲ⁷と一緒になって、五環状Ｄ環に 縮合している炭素環状またはヘテロ環状環構造を表わす。図１および図２に示さ れている形式の生物変換法を使用する場合に、α−配向を有する１１ヒドロキシ 基が、式ＶＩＩＩで表わされる化合物中に導入され、これにより下記式ＶＩＩＩ で表わされる化合物が生成される： 式中、 −Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は上記定義のとおりである。 好ましくは、式ＸＩＩＩで表わされる化合物は下記構造を有し：そして１１α−ヒドロキシ生成物は下記構造を有する： （これらの各式において、 −Ａ−Ａ−は基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−を表わし、 −Ｂ−Ｂ−は基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−あるいはアルファ−またはベータ−配向基を 表わし： Ｘは２個の水素原子あるいはオキソまたは＝Ｓを表わし、 Ｙ¹およびＹ²は−緒になって酸素架橋−Ｏ−を表わすか、あるいは Ｙ¹はヒドロキシを表わし、そして Ｙ²はヒドロキシまたは低級アルコキシを表わすか、あるいはＸがＨ₂を表わす 場合にはまた、低級アルカノイルオキジを表わす）、 およびそのＸがオキソを表わし、そしてＹ²がヒドロキシ−を表わす化合物の塩 、およびこの反応で生成される式ＶＩＩＩで表わされる化合物は下記式ＶＩＩＩ Ａに相当する： 式中、 −Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは式ＸＸＸＡについて定義されて いるとおりである。さらに好ましくは、Ｒ⁸およびＲ⁹は一緒になって、下記２０ −スピロキサン構造を形成している： （式中、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−はそれぞれ、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−を表わし、 そしてＲ³は水素である）。 このヒドロキシル化工程で使用することができる好適生物（ｏｒｇａｎｉｓｍ ｓ）の中には、次の生物がある：アスペルギラス オチラセウス（Ａｓｐｅｒｇ ｉｌｌｕｓ ｏｃｈｒａｃｅｕｓ）ＮＲＲＬ４０５、アスペルギラス オチラセ ウス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｏｃｈｒａｃｅｕｓ）ＡＴＣＣ１８５００、ア スペルギラス ニガー（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｎｉｇｅｒ）ＡＴＣＣ１６８ ８８およびＡＴＣＣ２６６９３、アスペルギラス ニデュランス（Ａｓｐｅｒｇ ｉｌｌｕｓ ｎｉｄｕｌａｎｓ）ＡＴＣＣ１１２６７、リゾパス オリザエ（Ｒ ｈｉｚｏｐｕｓ ｏｒｙｚａｅ）ＡＴＣＣ１１１４５、リゾパス ストロニファ ー（Ｒｈｉｚｏｐｕｓ ｓｔｒｏｎｉｆｅｒ）ＡＴＣＣ６２２７ｂ、ストレプト マイセス フラジアエ（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ ｆｒａｄｉａｅ）ＡＴＣＣ １０７４５、バシラス メガテリウム（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｍｅｇａｔｅｒｉｕ ｍ）ＡＴＣＣ１４９４５、プソイドモナス クルシビアエ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎ ａｓ ｃｒｕｃｉｖｉａｅ）ＡＴＣＣ１３２６２およびトリコテシウム ロゼウ ム（Ｔｒｉｃｈｏｔｈｅｃｉｕｍ ｒｏｓｅｕｍ）ＡＴＣＣ１２５４３。その他 の好適な生物には、フサリウム オキシスポラム エフ．エスピー．セパエ（Ｆ ｕｓａｒｉｕｍ ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ ｆ．ｓｐ．ｃｅｐａｅ）ＡＴＣＣ１１１ ７１およびリゾパス アルヒザス（Ｒｈｉｚｏｐｕｓ ａｒｒｈｉｚｕｓ）ＡＴ ＣＣ１１１４５が包含される。 この反応に対して活性を示す別種の生物には、アブシジア コエルラ（Ａｂｓ ｉｄｉａ ｃｏｅｒｕｌａ）ＡＴＣＣ６６４７、アブジジア グロカ（Ａｂｓｉ ｄｉａ ｇｌａｕｃａ）ＡＴＣＣ２２７５２、アクチノムコール エレガンス（ Ａｃｔｉｎｏｍｕｃｏｒ ｅｌｅｇａｎｓ）ＡＴＣＣ６４７６、アスペルギラス フラビペス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｆｌａｖｉｐｅｓ）ＡＴＣＣ１０３０ 、アスペルギラス フミガタス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｆｕｍｉｇａｔｕｓ ）ＡＴＣＣ２６９３４、ビューベリア バシアナ（Ｂｅａｕｖｅｒｉａ ｂａｓ ｓｉａｎａ）ＡＴＣＣ７１５９およびＡＴＣＣ１３１４４、ボツリオスファエリ ア オブツサ（Ｂｏｔｒｙｏｓｐｈａｅｒｉａ ｏｂｔｕｓａ）ＩＭＩ０３８５ ６０、カロネクトリア デコラ（Ｃａｌｏｎｅｃｔｒｉａ ｄｅｃｏｒａ）ＡＴ ＣＣ１４７６７、カエトミウム コクリオデス（Ｃｈａｅｔｏｍｉｕｍ ｃｏｃ ｈｌｉｏｄｅｓ）ＡＴＣＣ１０１９５、コリネスポラ カシイコラ（Ｃｏｒｙｎ ｅｓｐｏｒａ ｃａｓｓｉｉｃｏｌａ）ＡＴＣＣ１６７１８、クニンガメラブラ ケスリーアナ（Ｃｕｎｎｉｎｇｈａｍｅｌｌａ ｂｌａｋｅｓｌｅｅａｎａ）Ａ ＴＣＣ８６８８ａ、クニンガメラ エチヌラタ（Ｃｕｎｎｉｎｇｈａｍｅｌｌａ ｅｃｈｉｎｕｌａｔａ）ＡＴＣＣ３６５５、クニンガメラ エレガンス（Ｃｕ ｎｎｉｎｇｈａｍｅｌｌａ ｅｌｅｇａｎｓ）ＡＴＣＣ９２４５、カルブラリ ア クラバータ（Ｃｕｒｖｕｌａｒｉａ ｃｌａｖａｔａ）ＡＴＣＣ２２９２１ 、カルブラリア ルナータ（Ｃｕｒｖｕｌａｒｉａ ｌｕｎａｔａ）ＡＴＣＣ１ ２０７１、シリンドロカルポン ラデイシコラ（Ｃｙｌｉｎｄｒｏｃａｒｐｏｎ ｒａｄｉｃｉｃｏｌａ）ＡＴＣＣ１０１１、エピコツカム フミコラ（Ｅｐｉ ｃｏｃｃｕｍ ｈｕｍｉｃｏｌａ）ＡＴＣＣ１２７２２、ゴングロネラ ブトル リ（Ｇｏｎｇｒｏｎｅｌｌａ ｂｕｔｌｅｒｉ）ＡＴＣＣ２２８２２、ハイポマ イセス クリソスペルムス（Ｈｙｐｏｍｙｃｅｓ ｃｈｒｙｓｏｓｐｅｒｍｕｓ ）モルチエレラ イサベリナ（Ｍｏｒｔｉｅｒｅｌｌａ ｉｓａｂｅｌｌｉｎａ ）ＡＴＣＣ４２６１３、ムコール ムセド（Ｍｕｃｏｒ ｍｕｃｅｄｏ）ＡＴＣ Ｃ４６０５、ムコール グリセオーシアヌス（Ｍｕｃｏｒ ｇｒｉｓｅｏ−ｃｙ ａｎｕｓ）ＡＴＣＣ１２０７Ａ、マイロテシウム ベルカリア（Ｍｙｒｏｔｈｅ ｃｉｕｍ ｖｅｒｒｕｃａｒｉａ）ＡＴＣＣ９０９５、ノカルディア コラリナ （Ｎｏｃａｒｄｉａ ｃｏｒａｌｌｉｎａ）、パエシロマイセス カルネウス（ Ｐａｅｃｉｌｏｍｙｃｅｓ ｃａｒｎｅｕｓ）ＡＴＣＣ４６５７９、ペニジリウ ム パツラム（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｕｍ ｐａｔｕｌｕｍ）ＡＴＣＣ２４５５０、 ピトマイセス アトロ−オリバセウス（Ｐｉｔｈｏｍｙｃｅｓ ａｔｒｏ−ｏｌ ｉｖａｃｅｕｓ）ＩＦＯ６６５１、ピトマイセス サイノドンチス（Ｐｉｔｈｏ ｍｙｃｅｓ ｃｙｎｏｄｏｎｔｉｓ）ＡＴＣＣ２６１５０、ピオノスポリウム種 （Ｐｙｃｎｏｓｐｏｒｉｕｍ ｓｐ．）ＡＴＣＣ１２２３１、サッカロコリスポ ラ エリトラエ（Ｓａｃｃｈａｒｏｐｏｌｙｓｐｏｒａ ｅｒｙｔｈｒａｅ）Ａ ＴＣＣ１１６３５、セペドニウム クリソスペルマム（Ｓｅｐｅｄｏｎｉｕｍ ｃｈｒｙｓｏｓｐｅｒｍｕｎ）ＡＴＣＣ１３３７８、スタチリジウム ビコロー ル（Ｓｔａｃｈｙｌｉｄｉｕｍ ｂｉｃｏｌｏｒ）ＡＴＣＣ１２６７２、ストレ プトマイセス ハイグロスコピカス（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ ｈｙｇｒｏｓ ｃｏｐｉｃｕｓ）ＡＴＣＣ２７４３８、ストレプトマイセス プルプラスセンス （Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ ｐｕｒｐｕｒａｓｃｅｎｓ）ＡＴＣＣ２５４８９ 、シンセファラストラム ラセモサム（Ｓｙｎｃｅｐｈａｌａｓｔｒｕｍ ｒａ ｃｅｍｏｓｕｍ）ＡＴＣＣ１８１９２、サモノスチラム ピリホルメ（Ｔｈａｍ ｎｏｓｔｙｌｕｍ ｐｉｒｉｆｏｒｍｅ）ＡＴＣＣ８９９２、チエラビア テリ コ ラ（Ｔｈｉｅｌａｖｉａ ｔｅｒｒｉｃｏｌａ）ＡＴＣＣ１３８０７、およびベ ルチシリウム テオブロマエ（Ｖｅｒｔｉｃｉｌｌｉｕｍ ｔｈｅｏｂｒｏｍａ ｅ）ＡＴＣＣ１２４７４が包含される。 １１α−ヒドロキシル化にかかわる活性を示すことが予想される追加の生物に は、セファロスポリウム アフィジコラ（Ｃｅｐｈａｌｏｓｐｏｒｉｕｍ ａｐ ｈｉｄｉｃｏｌａ）（Ｐｈｙｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（１９９６），４２（２） ，４１１〜４１５）、コクリオボラス ルナタス（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ ｌｕｎａｔａｓ）（Ｊ．Ｂｉｏｔｅｃｈｎｏｌ．（１９９５），４２（２），１ ４５〜１５０）、チエヘメラ オルキディス（Ｔｉｅｃｈｅｍｅｌｌａ ｏｒｃ ｈｉｄｉｓ）（Ｋｈｉｍ．−Ｆａｒｍ．Ｚｈ．（１９８６），２０（７），８７ １〜８７６）、チエヘメラ ハイアロスポラ（Ｔｉｅｃｈｅｍｅｌｌａ ｈｙａ ｌｏｓｐｏｒａ）（Ｋｈｉｍ．−Ｆａｒｍ．Ｚｈ．（１９８６），２０（７）， ８７１〜８７６）、モノスポリウム オリバセウム（Ｍｏｎｏｓｐｏｒｉｕｍ ｏｌｉｖａｃｅｕｍ）（Ａｃｔａ Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌ．Ｐｏｌ．，Ｓｅｒ．Ｂ ．（１９７３），５（２），１０３〜１１０）、アスペルギラス ウスタス（Ａ ｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｕｓｔｕｓ）（Ａｃｔａ Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌ．Ｐｏｌ ．，Ｓｅｒ．Ｂ．（１９７３），５（２）．１０３．〜１１０）、フサリウム グラミネアルム（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｇｒａｍｉｎｅａｒｕｍ）（Ａｃｔａ Ｍ ｉｃｒｏｂｉｏｌ．Ｐｏｌ．，Ｓｅｒ．Ｂ．（１９７３），５（２），１０３〜 １１０）、ベルチシリウム グローカム（Ｖｅｒｔｉｃｉｌｌｉｕｍ ｇｌａｕ ｃｕｍ）（Ａｃｔａ Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌ．Ｐｏｌ．，Ｓｅｒ．Ｂ．（１９７３ ），５（２），１０３〜１１０）、およびリゾプス ニグリカンス（Ｒｐｉｚｏ ｐｕｓ ｎｉｇｒｉｃａｎｓ）（Ｊ．Ｓｔｅｒｏｉｄ Ｂｉｏｃｈｅｍ．（１９ ８７），２８（２），１９７〜２０１）が包含される。 カンレノンまたは式ＸＩＩＩで表わされるその他の基質のヒドロキシル化用の 生産規模発酵を準備するために、種菌（ｓｅｅｄ）用発酵槽または一連の２個ま たは３個以上の種菌発酵槽を包含する種菌発酵装置において、細胞接種源を調製 する。ワーキングシード（ｗｏｒｋｉｎｇ ｓｅｅｄ）胞子懸濁液を細胞増殖栄 養溶液とともに第一種菌用発酵槽に導入する。製造に望まれるが、または必要と される接種源の量が第一種菌用発酵槽で生成される量を越える場合には、種菌の 量を−連の種菌発酵により残りの種菌用発酵槽に順次通すことによって漸進的に かつまた数列的に増幅させることができる。好ましくは、種菌用発酵装置で生成 される接種源は、比較的短い製造バッチサイクルの生産用発酵槽において迅速な 反応の開始および高い生産用発酵槽活動を達成するのに充分な量であり、かつま た生存可能な細胞である。一連の種菌用発酵装置における容器の数について、第 二および後続の種菌用発酵槽は好ましくは、一連の発酵工程のそれぞれにおける 稀釈の程度が実質的に同一であるような大きさである。各種菌用発酵槽における 接種源の初期稀釈は、生産用発酵槽における稀釈とほぼ同一であることができる 。カンレノンまたは他の式ＸＩＩＩ基質を、接種源および栄養溶液とともに、生 産用発酵槽に導入し、ここでヒドロキシル化を行なう。 種菌用発酵装置に導入する胞子懸濁液は、使用以前は低温条件下に保存されて いるワーキング保存細胞バンク（ｗｏｒｋｉｎｇ ｓｔｏｃｋ ｃｅｌｌ ｂａ ｎｋ）を構成する複数のバイアルから採取したワーキング保存胞子懸濁液のバイ アルからのものである。この活動している保存細胞バンクは、下記の方法で調製 されたマスター（ｍａｓｔｅｒ）保存細胞バンクに由来する。適当な供給源、例 えばＡＴＣＣから得た胞子試料を先ず、例えば塩類溶液、栄養溶液または界面活 性剤溶液（例えば、約０．００１重量％の濃度のツイーン［Ｔｗｅｅｎ］２０な どの非イオン性界面活性剤溶液）などの水性培地に懸濁し、次いでこの懸濁液を 培養プレートに分布させる。このプレートはそれぞれ、代表的に寒天などの非消 化性多糖類を基材とする固形栄養混合物を担持しており、ここで胞子を増殖させ る。この固形栄養混合物は好ましくは、グルコース約０．５重量％〜約５重量％ 、窒素供給源、例えばペプトン、約０．０５重量％〜約５重量％、リン酸塩供給 源、例えばリン酸水素二カリウムなどのアルカリ金属リン酸塩またはアンモニウ ム、約０．０５重量％〜約０．５重量％、酵母菌消化物または抽出物（あるいは 肉エキスまたはブレインハートインフュージョンなどの他のアミノ酸供給源）約 ０．２５重量％〜約２．５重量％、寒天またはその他の非消化性多糖類約１重量 ％〜約２重量％を含有する。任意に、この固形栄養混合物は、麦芽エキス約０． １重量％〜約５重量％をさらに含有および（または）包含することができる。こ の固 形栄養混合物のｐＨは好ましくは、約５．０〜約７．０であり、このｐＨは必要 に応じて、アルカリ金属水酸化物またはオルトリン酸によって調整する。有用な 固形栄養混合物の中には、下記の栄養混合物がある： １．固形培地＃１：１％グルコース、０．２５％酵母エキス、０．３％Ｋ₂ＨＰ Ｏ₄および２％寒天（Ｂａｃｔｏ）；ｐＨは２０％ＮａＯＨ により６．５に調整。 ２．固形培地＃２：２％ペプトン（Ｂａｃｔｏ）、１％酵母エキス（Ｂａｃｔｏ ）、２％グルコースおよび２％寒天（Ｂａｃｔｏ）；ｐＨは １０％Ｈ₃ＰＯ₄により５に調整。 ３．固形培地＃３：０．１％ペプトン（Ｂａｃｔｏ）、２％麦芽エキス（Ｂａｃ ｔｏ）、２％グルコースおよび２％寒天（Ｂａｃｔｏ）；ｐ Ｈは５．３である。 ４．液状培地 ：５％ブラックストラップモラセス（ｂｌａｃｋｓｔｒａｐ ｍｏｌａｓｓｅｓ）、０．５％コーンスティープ液、０．２ ５％グルコース、０．２５％ＮａＣｌおよび０．５％ＫＨ₂ ＰＯ₄；ｐＨは５．８に調整。 ５．ジフコ微生物用寒天（Ｄｉｆｃｏ Ｍｙｃｏｌｏｇｉｃａｌ ａｇａｒ）（ 低ｐＨ）。 マスター保存細胞バンクの製造に使用される寒天プレートの数は、マスター保 存細胞バンクの将来の需要の観点から選択することができるが、代表的には、約 １５〜約３０のプレートを用意する。適当な増殖期間、例えば７〜１０日間の後 に、これらのプレートを水性媒質、代表的に塩類溶液または緩衝溶液の存在下に 、掻き取ることによって胞子を収穫し、生成するマスター保存細胞懸濁液を、複 数の１．５ｍｌバイアルのそれぞれに、少量、例えば１ｍｌづつ分割する。検査 または生産用発酵操作で使用するためのワーキング保存胞子懸濁液を調製するた めに、これらの二次生成マスター保存バイアルの１つまたは２つ以上の内容物を 、マスター保存胞子懸濁液の調製について上記した方法で寒天プレートに分布さ せ、次いでインキュベートすることができる。慣例の製造操作を完了させる場合 、二次生成ワーキング保存源の生成に、１００〜４００枚程度のプレートを使用 する ことができる。各プレートを別々のワーキング保存バイアル中に掻き取る。これ らの各バイアルは代表的に、生成された接種源１ｍｌを含有する。長期保存する 場合に、マスター保存懸濁液および二次生成生産用接種源の両方を有利には、液 体Ｎ₂またはその他の低温液体を含有する低温保存バイアルの気体空間で保存す る。 図１に示されている方法において、ペプトン、酵母由来物質または均等物など の窒素源、グルコースおよびリン酸塩などのリン源を含有する水性増殖培地を調 製する。種菌用発酵装置において、この培地で微生物の胞子を培養する。好適微 生物はアスペルギラス オチラセウス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｏｃｈｒａｃ ｅｕｓ）ＮＲＲＬ４０５（ＡＴＣＣ１８５００）である。このようにして生成さ れた保存種菌を次いで、式ＸＩＩＩで表わされる基質とともに、生産用発酵槽中 に導入する。この発酵ブロスを、当該反応を所望の程度の完了度にまで進行させ るのに充分な時間、撹拌し、かつまた通気する。 この種菌用発酵槽の培地は好ましくは、グルコース約０．５重量％〜約５重量 ％、窒素供給源、例えばペプトン、約０．０５重量％〜約５重量％、リン酸塩洪 給源、例えば一塩基性リン酸アンモニウムまたはリン酸水素二カリウムなどのア ンモニウムまたはアルカリ金属リン酸塩、約０．０５重量％〜約０．５重量％、 酵母菌消化物または抽出物（あるいはディスティラーズソルブルスなどの他のア ミノ酸供給源）約０．２５重量％〜約２．５重量％、寒天またはその他の非消化 性多糖類約１重量％〜約２重量％を含有する。特に好適な種菌増殖培地は、窒素 供給源、例えばペプトン、約０．０５重量％〜約５重量％、自己消化酵母または 酵母エキス約０．２５重量％〜約２．５重量％、グルコース約０．５重量％〜約 ５重量％および一塩基性リン酸アンモニウムなどのリン酸塩供給源約０．０５重 量％〜約０．５重量％を含有する。特に経済的な処理操作は、コーンスティープ 液約０．５重量％〜約５重量％、自己消化酵母または酵母エキス約０．２５重量 ％〜約２．５重量％、グルコース約０．５重量％〜約５重量％および一塩基性リ ン酸アンモニウム約０．０５重量％〜約０．５重量％を含有するもう１種の好適 種菌培地を使用することによって行われる。コーンスティープ液は、蛋白質、ペ プチド類、炭水化物類、有機酸類、ビタミン類、金属イオン類、微量成分および リン酸塩の特に経済的な供給源である。その他の穀物からの粉砕液をコーンステ ィープ液の代わりに、あるいはコーンスティープ液に加えて、使用することがで きる。この培地のｐＨは好ましくは、例えばアルカリ金属水酸化物またはオルト リン酸の添加によって、約５．０〜約７．０の範囲内に調整する。窒素および炭 素供給源としてコーンスティープ液を使用する場合に、このｐＨは好ましくは、 約６．２〜約６．８の範囲内に調整する。ペプトンおよびグルコースを含有する 培地は好ましくは、約５．４〜約６．２の範囲内に調整する。種菌発酵に使用す るのに有用な増殖培地の中には、下記の培地がある： １． 培地＃１：２％ペプトン、２％酵母自己消化物（または酵母エキス）お よび２％グルコース；ｐＨは２０％ＮａＯＨにより５．８に 調整。 ２． 培地＃２：３％コーンスティープ液、１．５％酵母エキス、０．３％一 塩基性リン酸アンモニウムおよび３％グルコース；ｐＨは２ ０％ＮａＯＨにより６．５に調整。 微生物の胞子は、代表的にほぼ１０⁹胞子／ｍｌ懸濁液を含有するバアルから 、この培地中に導入する。種菌生成の最適生産性は、種菌培養の開始時点での増 殖培地の稀釈が、約１０⁷／ｍｌ以下にまで胞子密度を減少させない場合に実現 される。好ましくは、これらの胞子は種菌用発酵装置で、種菌用発酵槽内に装入 された菌糸体容積（ＰＭＶ）が少なくとも約２０％、好ましくは３５％〜４５％ になるまで培養する。種菌用発酵容器（あるいは一連の種菌発酵を包含する複数 の容器）におけるこのサイクルは、当該容器内の初期濃度に依存することから、 ２または３の種菌発酵工程を用いて全反応を促進させることが望ましいこともあ る。しかしながら、種菌発酵を過度の工程数を経て行った場合に、活性が弱体化 することがあることから、３工程よりもかなり多くの種菌発酵工程を一連として 使用することは避けることが好ましい。この種菌培養発酵は、約２３°〜約３７ ℃の範囲、好ましくは約２４°〜約２８℃の範囲の温度で行う。 この種菌用発酵装置からの培養物を、生産用増殖培地とともに、生産用発酵槽 中に導入する。本発明の一態様では、非殺菌カンレノンまたは式ＸＩＩＩで表わ される他の基質を反応の基質として使用する。好ましくは、この基質は増殖培地 中の１０重量％〜３０重量％のスラリー形態で生産用発酵槽に添加する。１１α −ヒドロキシル化反応に利用することができる表面積を増大するために、式ＸＩ ＩＩ基質の粒子サイズを、発酵槽に導入する前に、基質をオフライン超微粉機に 通すことによって減少させる。グルコースを含有する無菌栄養供給材料および自 己消化酵母などの酵母誘導体（またはディスティラーズソルブルスなどの別の供 給源由来の均等なアミノ酸発酵物）を含有する第二の無菌栄養溶液をまた、別々 に添加する。この培地は次の成分からなる混合物を含有する：グルコース約０． ５重量％〜約５重量％、窒素供給源、例えばペプトン、約０．０５重量％〜約５ 重量％、リン酸塩供給源、例えばリン酸水素二カリウムなどのアルカリ金属リン 酸塩またはアンモニウム約０．０５重量％〜約０．５重量％、酵母消化物または 抽出物（あるいはディスティラーズソルブルスなどの他のアミノ酸供給源）約０ ．２５重量％〜約２．５重量％、寒天またはその他の非消化性多糖類約１重量％ 〜約２重量％。特に好適な増殖培地は、ペプトンなどの窒素供給源約０．０５重 量 ％〜約５重量％、自己消化酵母または酵母エキス約０．２５重量％〜約２．５重 量％、グルコース約０．５重量％〜約５重量％および一塩基性リン酸アンモニウ ムなどのリン酸塩供給源約０．０５重量％〜約０．５重量％を含有する。もう一 つの好適増殖培地は、コーンスティープ液約０．５重量％〜約５重量％、自己消 化酵母または酵母エキス約０．２５重量％〜約２．５重量％、グルコース約０． ５重量％〜約５重量％および一塩基性リン酸アンモニウム約０．０５重量％〜約 ０．５重量％を含有するもう１種の好適種菌培地を使用することによって行われ る。生産発酵培地のｐＨは好ましくは、種菌発酵培地について上記した方法で、 ペプトン／グルコースを基材とする培地およびコーンスティープ液を基材とする 培地のそれぞれのｐＨと同一の好適範囲に調整する。有用な生物変換用増殖培地 を下記に示す： １．培地＃１：２％ペプトン、２％酵母自己消化物（または酵母エキス）および ２％グルコース；ｐＨは２０％ＮａＯＨにより５．８に調整。 ２．培地＃２：１％ペプトン、１％酵母自己消化物（または酵母エキス）および ２％グルコース；ｐＨは２０％ＮａＯＨにより５．８に調整。 ３．培地＃３：０．５％ペプトン、０．５％酵母自己消化物（または酵母エキス ）および０．５％グルコース；ｐＨは２０％ＮａＯＨにより５． ８に調整。 ４．培地＃４：３％コーンスティープ液、１．５％酵母エキス、０．３％一塩基 性リン酸アンモニウムおよび３％グルコース；ｐＨは２０％Ｎａ ＯＨにより６．５に調整。 ５．培地＃５：２．５５％コーンスティープ液、１．２７５％酵母エキス、０． ２５５％一塩基性リン酸アンモニウムおよび３％グルコース；ｐ Ｈは２０％ＮａＯＨにより６．５に調整。 ６．培地＃６：２．１％コーンスティープ液、１．０５％酵母エキス、０．２１ ％一塩基性リン酸アンモニウムおよび３％グルコース；ｐＨは２ ０％ＮａＯＨにより６．５に調整。 非殺菌カンレノンおよび無菌栄養溶液は、生産バッチサイクル全体にわたりそ れぞれ、５対２０、好ましくは１０対１５、好ましくは実質的に等量で生産用発 酵槽に連鎖的に供給する。有利には、種菌発酵ブロスを接種する前に、基質を先 ず、約０．１重量％〜約３重量％、好ましくは約０．５重量％〜約２重量％の濃 度が得られるのに充分な量で導入し、次いで定期的に、好ましくは８〜２４時間 毎に、約１重量％〜約８重量％の蓄積量が得られるまで添加する。各８時間毎に 追加の基質を添加すると、基質を一日ベースでのみ添加する場合に比較して、総 添加量を僅かに、例えば０．２５重量％〜２．５重量％、減少させることができ る。後者の場合に、必要な蓄積カンレノン添加量は２重量％〜約８重量％の範囲 であることができる。発酵反応中に補給栄養混合物供給物は好ましくは、濃縮物 であり、例えばこの混合物は無菌グルコース約４０重量％〜約６０重量％および 無菌酵母エキスまたはその他の酵母由来の無菌供給源（あるいはその他のアミノ 酸供給源）約１６重量％〜約３２重量％を含有する。図１の生産発酵槽への基質 供給物は殺菌されていないことから、抗生物質を発酵ブロスに定期的に添加して 、望ましくない生物の増殖を制御する。カナマイシン、テトラサイクリンおよび セファレキシンなどの抗生物質を、増殖および生物変換に有害な影響を与えるこ となく添加することができる。好ましくは、これらの抗生物質はブロス総量に基 づき約０．０００４％〜約０．００２％の濃度で導入する。一例として、これら の抗生物質は、またブロス総量に基づき約０．０００２％〜約０．０００６％の カナマイシン硫酸塩、約０．０００２％〜約０．００６％のテトラサイクリンＨ Ｃｌおよび（または）約０．００１％〜約０．００３％のセファレキシンからな る。 代表的に、生産用発酵バッチサイクルは８０〜１６０時間付近である。従って 、式ＸＩＩＩで表わされる基質および栄養溶液の一部はそれぞれ、代表的に２〜 １０時間毎に、好ましくは４〜６時間毎に添加する。有利には、泡形成防止剤を また、種菌発酵系および生産用発酵槽に配合する。 好適には、図１の方法において、生産用発酵槽に添加する接種源は発酵槽中の 総混合物に基づき約０．５〜約７容量％、さらに好ましくは約１〜約２容量％で あり、そしてグルコース濃度は、総バッチ添加物に基づき、０．０５〜約０．２ ５重量％づつ定期的に添加して、総バッチ添加物に基づき約０．０１〜約１．０ 重量％、好ましくは約０．０２５〜約０．５重量％、さらに好ましくは約０．０ ５〜約０．２５重量％に維持する。発酵温度は、約２０°〜約３７℃、好ましく は約２４°〜約２８℃の範囲内に制御すると好ましいが、反応期間中、温度を段 階的に、例えば２℃づつ下げて充填された菌糸体容量（ＰＭＶ）を約６０％以下 、さらに好ましくは約５０％以下に維持し、これにより充分な混合に対する干渉 から発酵ブロスの粘度を保護することが望ましいこともある。バイオマスが液体 表面より上に膨張した場合、このバイオマス内に保有されている基質が反応帯域 がら運び出され、ヒドロキシル化反応に利用できなくなることがある。生産率に 関して、ＰＭＶは発酵反応の最初の２４時間の間、３０〜５０％、好ましくは３ ５％〜４５％の範囲に維持することが望ましい。しかしながら、その後に、後続 の増殖を上記制限範囲内に制御するために、条件を管理することが好ましい。反 応期間中、発酵培地のｐＨは約５．０〜約６．５、好ましくは約５．２〜約５． ８に制御し、そして発酵槽は約４００〜約８００ｒｐｍの速度で撹拌する。バッ チは約０．２〜約１．０ｖｖｍで通気し、発酵槽の上部空間の圧力をほぼ大気圧 〜約１．０バールゲージ、最も好ましくは約０．７バールゲージ付近に維持する ことによって、少なくとも約１０％飽和の溶解酸素レベルを達成する。撹拌速度 はまた、最低溶解酸素レベルを維持するために、必要に応じて増加することがで きる。有利には、この溶解酸素は１０％よりも充分に多い量に維持し、実際に５ ０％程度の量で基質の変換が加速される。ｐＨを５．５±０．２に維持すること はまた、生物変換に最適である。泡の形成は、慣用の泡形成防止剤を必要に応じ て添加することによって制御される。基質の全部が添加された後に、式ＶＩＩＩ 生成物と残りの未反応式ＸＩＩＩとのモル比が少なくとも約９対１になるまで、 反応を継続すると好ましい。当該変換は上記８０〜１６０時間バッチサイクル内 に達成することができる。 高変換率は初期栄養液レベルが初期充填レベル以下に消耗することに関連して 、通気速度および撹拌速度を制御し、液体ブロスからの基質の散逸を回避するこ とに依存することが見出された。図１の方法においては、栄養レベルは初期充填 レベルの約６０％よりも多くなく、好ましくは約５０％よりも多くなくなるまで 消耗させ、維持された；他方、図２および３の方法においては、栄養レベルは初 期充填レベルの約８０％よりも多くなく、好ましくは約７０％よりも多くなくな るまで減少させ、維持された。通気速度は好ましくは、１ｖｖｍよりも早くなく 、 さらに好ましくは約０．５ｖｖｍの範囲にあり、撹拌速度は好ましくは６００ｒ ｐｍよりも早くない。 式ＶＩＩＩで表わされる化合物の特に好適な製造方法は図２に示されている。 この場合もまた、好適微生物はアスペルギラス オチラセウス（Ａｓｐｅｒｇｉ ｌｌｕｓ ｏｃｈｒａｃｅｕｓ）ＮＲＲＬ４０５（ＡＴＣＣ１８５００）である 。この方法において、増殖培地は好ましくは、コーンスティープ液約０．５重量 ％〜約５重量％、グルコース約０．５重量％〜約５重量％、酵母エキス約０．１ 重量％〜約３重量％およびリン酸アンモニウム約０．０５重量％〜約０．５重量 ％を含有する。しかしながら、本明細書に記載されているその他の生産用増殖培 地を使用することもできる。種菌用培地は、基本的に図１の方法について記載さ れている方法で、本明細書に記載の種菌用発酵培地のいずれかを使用することに よって調製することができる。増殖培地中の未微粉砕カンレノンまたはその他の 式ＸＩＩＩの基質の懸濁液をブレンダーで無菌条件下に、好ましくは約１０重量 ％〜約３０重量％の比較的高い基質濃度で調製する。好ましくは、この無菌操作 は、混合後の懸濁液を殺菌または静菌することを包含することができる。生産バ ッチに必要な無菌基質懸濁液の全量を、生産用発酵槽中に、バッチ開始時点で、 あるいは定期的連鎖状供給によって、導入する。この基質の粒子サイズを、オン ライン剪断ポンプで湿潤粉砕することによって減少させ、このスラリーを生産用 発酵槽に移す。これによりオフライン超微粉砕機の使用を省略することができる 。無菌条件を静菌よりも殺菌によって達成する場合、凝集の程度は不十分である ことがあるが、剪断ポンプを使用して、粒子サイズを積極的に制御することがで きる。基本的に前記方法と同一の方法で、無菌増殖培地およびグルコース溶液を 生産用発酵槽中に導入する。生産用発酵槽中への全装入成分は、装入前に殺菌さ れる。従って、抗生物質は不必要である。 好ましくは、図２の方法の操作において、接種源は約０．５％〜約０．７％の 割合で生産用発酵槽に導入する。発酵温度は約２０°〜約３７℃、好ましくは約 ２４°〜約２８℃であり、そしてｐＨは気体状アンモニア、水性水酸化アンモニ ウム、水性アルカリ金属水酸化物、あるいはオルトリン酸の導入により約４．４ 〜約６．５、好ましくは約５．３〜約５．５に制御する。図１の方法と同様に、 この温度を調整して、バイオマスの増殖を制御し、ＰＭＶが５５〜６０％を越え ないようにすると好ましい。初期グルコース装入量は好ましくは、約１重量％〜 約４重量％、最も好ましくは約２．５重量％〜約３．５重量％であるが、発酵期 間中、約１．０重量％以下に変動させると好ましい。補給グルコースは総バッチ 装入物に基づき約０．２重量％〜約１．０重量％づつ定期的に供給し、これによ り発酵帯域のグルコース濃度を約０．１重量％〜約１．５重量％、好ましくは約 ０．２５重量％〜約０．５重量％の範囲内に維持する。任意に、窒素およびリン 酸塩供給源をグルコースとともに補給することができる。しかしながら、カンレ ノンの全部の装入がバッチサイクルの開始時点でなされることから、要求される 窒素およびリン酸塩含有栄養液装入物をまた、この時点で導入することができ、 この場合には、反応中の補給はグルコース溶液のみであることができる。撹拌の 速度および種類は、相当に変えることができる。中程度に激しい撹拌は、固形基 質と水性相との間のバイオマスの転移を促進させる。しかしながら、低剪断力羽 根車を使用して、微生物の菌糸体の分解を防止すべきである。最適撹拌速度は、 培養ブロス粘度、酸素濃度、ならびに容器、そらせ板および羽根車形状によって 影響される混合条件に依存して、２００〜８００ｒｐｍの範囲内で変化する。通 常、好適撹拌速度は、３５０〜６００ｒｐｍの範囲である。撹拌羽根車は軸にそ って下降する押出し機能を提供すると好ましく、これにより発酵したバイオマス の良好な混合が助長される。バッチには好ましくは、約０．３〜約１．０ｖｖｍ 、好ましくは約０．４〜約０．８ｖｖｍの速度で通気し、発酵槽の上部空間の圧 力は好ましくは、約０．５〜約１．０バールゲージである。温度、撹拌、通気お よびバック圧力は好ましくは、生物変換期間中、少なくとも約１０容量％の溶解 酸素が維持されるように制御する。総バッチサイクルは代表的に、約１００〜約 １４０時間である。 図２の方法の操作原則は実質的に全部のカンレノン装入物を初めに導入するこ とに基づいているが、一団のカンレノンを装入する前に、発酵ブロスの増殖を行 うことができるものと理解されるべきである。任意に、若干部のカンレノンをま た、後刻にバッチに添加することもできる。しかしながら、一般に、無菌カンレ ノン装入物の少なくとも約７５％は、発酵開始後の４８時間以内に形質転換発酵 槽に導入すべきである。さらにまた、発酵の開始時点で、あるいは少なくとも最 初の２４時間以内に、カンレノンの少なくとも約２５％を導入し、生物変換酵素 （１種または２種以上）の生成を促進させることが望ましい。 図３に示されているもう一つの好適方法では、バッチ装入物および栄養溶液の 全体を、接種源の導入前に、生産用発酵容器で殺菌する。使用することができる 栄養溶液およびそれらの中の好適溶液は、図２の方法と実質的に同一である。本 発明のこの態様において、別段で殺菌に際して形成される傾向がある基質凝集物 を撹拌機の羽根車の剪断作用により分解させる。カンレノンの平均粒子サイズが 約２００μよりも小さく、かつまたこれらの粒子の少なくとも７５重量％が２４ ０μよりも小さい場合、反応は充分に進行することが見出された。適当な羽根車 、例えばディスクタービン型羽根車を、少なくとも約４００ｃｍ／秒の先端速度 をもって、２００〜８００ｒｐｍの範囲の適度の速度で使用することにより、生 産用発酵槽内における殺菌に際して生じる傾向がある凝集を排除して、このよう な粒子サイブ特徴に充分な剪断率が得られることが見出された。図３の方法の残 りの操作は図２の方法と基本的に同一である。図２および３の方法は、図１の方 法に優る数種の格別の利点を提供する。特別の利点には、コーンスティープ液な どの安価な栄養基材の使用が許容されることがある。しかしながら、追加の利点 は抗生物質の使用を排除すること、装入操作を簡単にすること、およびカンレノ ンまたはその他の式ＸＩＩＩ基質のバッチ殺菌を可能にすることにある。もう一 つの特別の利点は、反応サイクル中の補給に複雑な栄養溶液ではなく、単純なグ ルコース溶液を使用できることにある。 図１〜３に記載の方法において、図ＶＩＩＩで示されている生成物はバイオマ スと一緒になった結晶固形物であり、従って濾過または低速遠心分離によって反 応ブロスから分離することができる。別法として、この生成物は全反応ブロスか ら有機溶剤により抽出することもできる。式ＶＩＩＩで表わされる生成物は溶剤 抽出により採取される。液相濾液およびバイオマスフィルターまたは遠心ケーキ の両方を抽出溶剤により処理することによって最高収穫が得られるが、通常生成 物の≧９５％はバイオマスを付随する。代表的に、抽出には、炭化水素、エステ ル、塩素化炭化水素およびケトンを使用することができる。好適溶剤は酢酸エチ ルである。その他の代表的に適当な溶剤には、トルエンおよびメチルイソブチル ケトンが包含される。液相からの抽出には、接触する反応溶液の容積にほぼ等し い容積の溶剤を好ましくは使用することができる。バイオマスから生成物を採取 する場合、バイオマスを溶剤、好ましくは初期装入カンレノン１グラムに対して ５０〜１００ｍｌの溶剤に懸濁させ、生成する懸濁液を好ましくは、２０分から 数時間にわたり還流させ、生成物をバイオマスの奥底および孔からの溶剤相への 移動を助長する。その後に、バイオマスを濾過または遠心分離によって分離し、 この濾過ケーキを好ましくは新鮮な溶剤および脱イオン化水の両方で洗浄する。 水性および溶剤洗浄液を次いで、一緒にし、次いでこれらの相を分離させる。こ の溶液からの結晶化によって、式ＶＩＩＩの生成物が採取される。収率を最高に するために、菌糸体を新鮮な溶剤と２回接触させる。沈降により水性相を完全に 分離させた後に、生成物を溶剤相から採取する。最も好ましくは、結晶化が生じ るまで、溶剤を減圧下に除去し、次いで濃縮された抽出液を０°〜２０℃、好ま しくは約１０°〜約１５℃の温度に、結晶沈殿に充分な時間、代表的に８〜１２ 時間、冷却させる。 図２の方法および特に図３の方法は特に好ましい。これらの方法は低粘度で操 作され、かつまたｐＨ、温度および溶解酸素などの処理パラメーターの厳重な制 御を可能にする。さらにまた、抗生物質に頼ることなく、無菌条件を容易に保持 することができる。 この生物変換方法は発熱性であり、従ってジャッケット付き発酵槽を用いるが 、または生産用発酵槽内に冷却コイルを用いることによって、熱を除去しなけれ ばならない。別法として、反応ブロスを外部熱交換機に通して循環させることも できる。溶解酸素は好ましくは、ブロス内の酸素存在量の尺度としての意味を有 する反応器内に導入される空気の速度を調整することによって、反応に対するエ ネルギーを提供し、かつまたＣＯ₂およびＨ₂Ｏへのグルコースの変換を確保する のに充分な、少なくとも約５容量％、好ましくは約１０容量％のレベルに維持す る。ｐＨは好ましくは、約４．５〜約６．５に制御する。 式ＸＩＩＩで表わされる基質を１１−ヒドロキシル化するための別法はそれぞ れ、その生産性が固形基質から水性相、あるいは反応が生じるものと理解される 相界面へのバイオマス転移により制限される。上記したように、基質の粒子平均 粒子サイズが約３００μよりも小さく減少されており、かつまた粒子の少なくと も７５重量％が２４０μよりも小さいかぎり、生産性はバイオマス移動速度によ って重大には制限されない。しかしながら、カンレノンまたはその他の式ＸＩＩ Ｉ基質を有機溶剤中に入れて生産用発酵槽に実質的に装入する或る別の態様では 、これらの方法の生産性はさらに増進させることができる。一つの方法では、基 質を水−不混和性溶剤に溶解し、次いで水性増殖培地接種源および界面活性剤と 混合する。有用な水−不混和性溶剤には、例えばＤＭＦ、ＤＭＳＯ、Ｃ₆〜Ｃ₁₂ 脂肪酸、Ｃ₆〜Ｃ₁₂ｎ−アルカン、植物油、および水性界面活性剤溶液が包含さ れる。この装入物を撹拌すると、有機液相から反応部位への基質の団塊的移動の ための拡大された界面領域を有するエマルジョン反応系が得られる。 第二の方法は、その水中溶解度よりも実質的に大きい濃度で、水混和性溶剤、 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノールまたはグリセロ ールに基質を先ず溶解する。初期基質溶液を高められた温度で調製することによ って、溶解度が増大され、これにより反応器に導入される溶液形態の基質の量が 増加され、最終的に反応器正味重量が増加される。この温かい基質溶液を、増殖 培地および接種源からなる比較的冷たい水性装入物とともに、生産用発酵反応器 に装入する。基質溶液が水性培地と混合されると、基質の沈殿が生じる。しかし ながら、実質的過飽和および中程度に激しい撹拌の条件下に、核形成が結晶成長 よりも恩恵を被り、広い表面積を有する非常に細かい粒子が形成される。この広 い表面積は液相と固形基質との間の団塊的移動を促進する。さらにまた、水性液 相中の基質の平衡濃度は、水混和性溶剤の存在下に増進される。従って、生産性 は増進される。 水性相中の有機溶剤の高濃度に対して、微生物が耐用性である必要はないこと もあるが、例えば約３重量％〜約５重量％の範囲のエタノール濃度は有利に使用 することができる。 第三の方法では、水性シクロデキストリン溶液中に基質を溶解させる。シクロ デキストリンの例には、ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリンおよびメ チル−β−シクロデキストリンが包含される。基質対シクロデキストリンのモル 比は約１：１〜約１：１．５基質：シクロデキストリンである。この基質：シク ロデキストリン混合物は次いで、無菌条件下に生物変換反応器に添加することが できる。 １１α−ヒドロキシカンレノンおよびその他の１１α−ヒドロキシル化方法の 生成物（式ＶＩＩＩおよび式ＶＩＩＩＡ）は新規化合物であり、これらの化合物 は反応培地を濾過し、次いで濾過媒質に採取されたバイオマスから生成物を抽出 することによって単離することができる。この抽出に好適な有機溶剤としては、 例えば酢酸エチル、アセトン、トルエン、塩素化炭化水素、およびメチルエチル ケトンを使用することができる。式ＶＩＩＩで表わされる生成物は次いで、同一 種類の有機溶剤から再結晶化させることができる。式ＶＩＩＩで表わされる化合 物は式Ｉで表わされる化合物、特に式ＩＡで表わされる化合物を製造するための 中間体として実質的価値を有する。 式ＶＩＩＩで表わされる好適化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が− ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、Ｒ³が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり 、そしてＲ⁸およびＲ⁹が−緒になって、２０−スピロキサン環を形成している式 ＶＩＩＩＡに相当する： さらにまた、スキーム１の方法に従い、式ＶＩＩＩで表わされる化合物をアル カリ性条件下にジアニドイオン供給源と反応させ、下記式ＶＩＩで表わされるエ ナミン化合物が生成される： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸およびＲ⁹は上記定義のとおりであ る）。この基質が式ＶＩＩＩＡに相当する場合に、生成物は下記式ＶＩＩＡで表 わされる化合物である： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは式ＸＩＩＩについ て定義されているとおりである）。 式ＶＩＩＩで表わされる１１α−ヒドロキシル基質のシアニデーション（ｃｙ ａｎｉｄａｔｉｏｎ）は、塩基およびアルカリ金属塩、最も好ましくはＬｉＣｌ の存在下に、ケトンシアノヒドリンなどのジアニドイオン源、最も好ましくはア セトンシアノヒドリンと反応させることによって行うことができる。別法として 、シアニデーションは、酸の存在下にアルカリ金属シアニドを用いることによっ て、シアノヒドリンを用いることなく行うこともできる。 ケトンシアノヒドリン法において、この反応は溶液として、好ましくはジメチ ルホルムアミドまたはジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒を用い て行う。エナミンの生成には、基質１モルに対して少なくども２モルのシアニド イオン源が必要であり、好適には、僅かに過剰量のシアニド源を使用する。塩基 は好ましくは、ジアルキルアミン、トリアルキルアミン、アルカノールアミン、 ピリジンなどの窒素塩基である。しかしながら、アルカリ金属炭酸塩またはアル カリ金属水酸化物などの無機塩基をまた使用することができる。好ましくは、式 ＶＩＩＩで表わされる基質を初めに、約２０重量％〜約５０重量％の割合で存在 させ、そして塩基は基質の１当量に対して０．５〜２当量の割合で存在させる。 反応温度に制限はないが、高められた温度で操作することによって生産性は増進 される。すなわち、例えば塩基としてトリエチルアミンを使用する場合、この反 応は約８０℃〜約９０℃の範囲で行うと有利である。このような温度において、 反応を進行させると、反応は約５〜約２０時間で完了する。塩基どしてジイソプ ロピルアミンを使用し、反応を１０５℃で行う場合、反応は８時間で完了する。 この反応期間の終了時点で、溶媒を減圧下に除去し、残留する油状物を水に溶解 し、次いで稀酸、例えば塩酸によりｐＨ７に中和する。生成物はこの溶液から沈 殿する。この生成物を次いで、蒸留水で洗浄し、次いで空気乾燥させる。遊離し たＨＣＮは不活性気体とともに留去し、アルカリ溶液中で急冷することができる 。乾燥した沈殿をクロロホルムまたはその池の適当な溶剤中に取り入れ、次いで 濃酸、例えば６Ｎ ＨＣｌにより抽出する。この抽出液を無機塩基、好ましくは アルカリ金属水酸化物の添加によりｐＨ７に中和し、次いで０℃の範囲の温度に 冷却させる。生成する沈殿を洗浄し、次いで乾燥させ、次いで適当な溶剤、例え ばアセトンから再結晶させ、当該方法の後続の工程で使用するのに適する式ＶＩ Ｉで表わされる生成物を生成する。 別法として、この反応はメタノールなどの水混和性有機溶剤を含有する水性溶 媒系または水と酢酸エチルなどの有機溶剤からなる二相系において行うことがで きる。この別法において、反応溶液を水で稀釈し、その後に、メチレンクロライ ドまたはクロロホルムなどの有機溶剤を用いて生成物を抽出し、次いでこの有機 抽出液から濃鉱酸、例えば２Ｎ ＨＣｌを用いて逆抽出することによって生成物 を採取することができる。米国特許３，２００，１１３参照。 もう一つの別法に従う場合、反応はジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア ミド、Ｎ−メチル，ピロリドンまたはジメチルスルホキシドなどの水混和性溶剤 中で行うことができる。その後、反応生成物溶液を水で稀釈し、アルカリ性にし 、例えばアルカリ金属炭酸塩の添加によりアルカリ性にし、次いで０°〜１０℃ に冷却させ、これにより生成物を沈殿させる。好ましくは、この系をアルカリ金 属ハイポハライトまたはシアニドの蒸発を防止するのに有効なその他の試薬を用 いて急冷させる。濾過し、次いで水で洗浄した後に、沈殿した生成物は当該方法 の後続の工程で使用するのに適している。 もう一つの別法に従う場合、式ＶＩＩＩで表わされる基質をプロトン源の存在 下に、ジメチルホルムアミドまたはジメチルアセトアミドなどの非プロトン性水 混和性極性溶剤を含有する水性溶媒中で、過剰のアルカリ金属シアニド、好まし くはＮａＣＮと反応させることによって生成させることができる。このプロトン 源は好ましくは、鉱酸またはＣ₁〜Ｃ₅カルボン酸であり、硫酸は特に好ましい。 例外的に、シアニデーション試薬がＤＭＦ中の市販のＬｉＣＮである場合には、 別のプロトン源の添加は不必要である。 シアニドイオンは好ましくは、基質１モル当量に対して約２．０５〜約５モル 当量の割合で反応器に装入する。鉱酸あるいはその他のプロトン源は、４，５お よび６，７二重結合を横切るＨＣＮの付加を促進するものと見做され、好ましく は基質１モル当量に対して少なくとも１モル当量の割合で存在させる。しかしな がら、反応系に存在する酸よりも過剰のアルカリ金属シアニドを反応系内に維持 することによって塩基性を維持すべきである。反応は好ましくは、少なくとも約 ７５℃、代表的に６０℃〜１００℃の温度で、約１〜約８時間、好ましくは約１ ．５〜約３時間の間行う。反応期間の終了時点で、この反応混合物を冷却させ、 好ましくはほぼ室温に冷却させ、次いで反応混合物を酸性にし、次いで冷水とと もに、好ましくはほぼ氷浴温度で混合することによって、生成物エナミンを沈殿 させる。酸性化は、シアニデーションに有効な塩基性条件下に開環する傾向を有 する１７−ラクトンを閉環させるものと信じられる。この反応混合物は当該反応 中に存在させる酸と同一の酸、好ましくは硫酸を用いて酸性化すると好ましく。 水は、生成物１モルに対して約１０〜約５０モル当量の割合で添加すると好まし い。 式ＶＩＩで表わされる化合物は新規化合物であり、式Ｉ、特に式ＩＡで表わさ れる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。好ましくは、式 ＶＩＩで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が−ＣＨ₂−Ｃ Ｈ₂−であり、Ｒ³が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてＲ⁸ およびＲ⁹が−緒になって２０−スピロキサン環を形成している式ＶＩＩＡに相 当する： 最も好ましくは、式ＶＩＩで表わされる化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β −２０’−アミノヘキサデカヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’ α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５ ’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’ −カルボニトリルである。 スキーム１合成の引き続く工程において、式ＶＩＩで表わされるエナミンを加 水分解させ、式ＶＩで表わされるジケトン化合物を生成させる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＶＩＩＩについて定 義されているとおりである）。 この加水分解には、いずれかの水性有機酸または鉱酸を使用することができる 。塩酸が好適である。生産性を増強するために、水混和性有機溶剤、例えば低級 アルカノールを補助溶剤として使用すると好ましい。この酸は基質式ＶＩＩ １ 当量に対して少なくとも１当量の割合で存在させべきである。水性系において、 このエナミン基質ＶＩＩを、約８０℃で約５時間の間に、式ＶＩＩで表わされる ジケトンに実質的に変換することができる。高められた温度で操作すると、生産 性は増大されるが、温度に制限はない。適当な温度は、酸および溶媒系の揮発性 に基づいて選択される。 式ＶＩＩで表わされる好適エナミン基質は下記式ＶＩＩＡに相当し： そしてジケトン生成物は下記式ＶＩＡに相当する： （上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは式ＶＩＩＩＡにつ いて定義されているとおりである）。 この反応期間の終了時点で、溶液を０°〜２５℃に冷却させ、生成物を結晶化 させる。この生成結晶は、イソプロパノールまたはメタノールなどの適当な溶剤 から再結晶させ、当該方法の引き続く工程で使用するのに適する式ＶＩで表わさ れる生成物を生成することができる。しかしながら、この再結晶は通常、不必要 である。式ＶＩで表わされる化合物は新規化合物であり、式Ｉ、特に式ＩＡで表 わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。好ましい式 ＶＩで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が−ＣＨ₂−ＣＨ₂ −であり、Ｒ³が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてＲ⁸お よびＲ⁹が−緒になって２０−スピロキサン環を形成している式ＶＩＡに相当す る： 式ＶＩで表わされる最も好適な化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサ デカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５ ，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタ ノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボ ニトリルである。 本発明の特に好適な態様において、式ＶＩＩで表わされる生成物エナミンは、 上記方法で式ＶＩＩＩで表わされる化合物から生成させ、次いでその場で、式Ｖ Ｉで表わされるジケトンに変換する。本発明のこの態様では、上記したとおりに 、式ＶＩＩＩ基質を、プロトン源あるいは場合により過剰のケトンシアノヒドリ ンを含有する水性溶媒中で過剰のアルキリ金属シアニドと反応させる。しかしな がら、この反応混合物を冷却させ、酸性化し、次いでエナミンの沈殿を生じさせ る計算量の水を添加する代わりに、この反応混合物の実質的な冷却は省略すると 好ましい。水および酸、好ましくは硫酸などの鉱酸をシアニデーション反応の終 了時点で混合物に添加する。この添加される酸の割合は、過剰のアルカリ金属シ アニドを中和するのに充分な量である。通常、式ＶＩＩＩ基質１モル当量に対し て少なくとも１モル当量、好ましくは基質１当量に対して約２〜約５モル当量の 酸を導入する必要がある。しかしながら、温度は充分に高く維持し、かなり充分 に稀釈する。これにより、実質的な沈殿を回避でき、エナミンのジケトンへの加 水分解を液相で進行させることができる。すなわち、この方法は、最低の中断お よび高い生産性をもって進行する。加水分解は好ましくは、少なくとも８０℃、 さらに好ましくは約９０℃〜約１００℃の範囲の温度で、代表的に約１時間〜約 １０時間、さらに好ましくは約２時間〜約５時間行う。次いで、この反応混合物 を、好ましくは約０℃〜約１５℃の温度に、有利には氷浴中で約５℃〜約１０℃ の温度に冷却させ、式ＶＩで表わされる生成ケトンを沈殿させる。この固形生成 物は、例えば濾過により採取することができ、そして夾雑物は水による洗浄によ って除去することができる。 スキーム１合成の引き続く工程において、式ＶＩで表わされるジケトン化合物 を金属アルコキシドと反応させ、４位置と７位置との間のケトン架橋を開環させ 、かつまたカルボニル基と４−炭素との間の結合を***させ、７位置にα−配向 アルカノイルオキシカルボニル置換基を形成し、そして５−炭素の位置に存在す るシアニドを分離する。この反応の生成物は下記式Ｖに相当するヒドロキシエス テル化合物である： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＶＩＩＩについて定 義されているとおりであり、そしてＲ¹は低級アルコキシカルボニルまたはヒド ロキシカルボニルである）。 この反応に使用される金属アルコキシドは式Ｒ¹⁰ＯＭに相当する（式中、Ｍは アルカリ金属であり、そしてＲ¹⁰はＲ¹のアルコキシ置換基に相当する）。この 反応の収率は、金属アルコキシドがＫまたはＮａメトキシドである場合に最も満 足な程度であるが、その他の低級アルコキシドを使用することもできる。Ｋアル コキシドは特に好適である。フェノキシド類、その他のアリールオキシド類はま た、アリールスルフィド類と同様に使用することができる。この反応は式Ｒ¹⁰Ｏ Ｈ（式中、Ｒ¹⁰は上記定義のとおりである）に相当するアルコールの存在下に行 うと好ましい。その他慣用の溶剤を使用することもできる。好ましくは、式ＶＩ 基質は約２重量％〜約１２重量％、さらに好ましくは少なくとも約６重量％の割 合で存在させ、そしてＲ¹⁰ＯＨは基質１モルに対して約０．５〜約４モルの割合 で存在させる。温度に制限はないが、高められた温度は生産性を増進させる。反 応時間は代表的に、約４時間〜約２４時間、好ましくは約４時間〜約１６時間で ある。好適には、この反応は使用溶媒に応じて大気圧還流温度で行う。 式ＶＩで表わされるジケトンの式ＶＩで表わされるヒドロキシエステルへの変 換において、この生成物を副生成物シアニドイオンと反応させ、５−シアノエス テルを生成させることができる。平衡は低濃度においてより好ましいことから、 Ｎａメトキシドとの反応の場合に、この反応は高稀釈度、例えば４０：１ほどの 高い稀釈度で行うと好ましい。ＮａメトキシドよりもＫメトキシドを使用するこ とによって格別に高い生産性を実現することができ、これはＫメトキシドが反応 剤である場合に、約２０：１の範囲の稀釈度が−般に、リバースシアニデーショ ン（ｒｅｖｅｒｓｅ ｃｙａｎｉｄａｔｉｏｎ）の程度を最低にするのに充分で あることによる。 本発明に従い、適当な化学的または物理的基準を採用して、反応帯域から副生 成物シアニドイオンを除去することによって、リバースシアニデーション反応を 阻止することができることが見出された。従って、本発明のもう一つの態様にお いて、ジケトン化合物とアルカリ金属アルコキシドとの反応をシアニドイオン沈 殿剤、例えば不溶性シアニド化合物を生成するカチオンを含有する塩の存在下に 行うことができる。このような塩には、例えばヨウ化アエン、硫酸第二鉄、また は対応するシアニドよりも可溶性であるアルカリ土類金属または遷移金属の基本 的にすべてのハライド、硫酸塩またはその他の塩が包含される。ヨウ化アエンを ジケトン基質１当量に対して約１当量の範囲の割合で存在させた場合に、この反 応の牢産性はアルカリ金属ハライドの不存在下に行う方法に比較して、実質的に 増大されることが見出された。 シオニドイオンを除去するために沈殿剤を使用した場合でも、依然として相当 に高い稀釈度で行うことが好ましいが、沈殿剤を使用することによって、溶剤対 ジケトン基質モル比を、沈殿剤の不存在下における場合に比較して、相当に減少 させることができる。式Ｖで表わされるヒドロキシエステルの採取は、以下で説 明する非抽出法または抽出法により行うことができる。 好適な式ＶＩで表わされるジケトン基質は下記式ＶＩＡに相当し：そしてヒドロキシエステル生成物は下記式ＶＡに相当する： （上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²、およびＸは式ＸＩＩＩにつ いて定義されているとおりであり、そしてＲ¹は式Ｖについて定義されていると おりである）。 式Ｖで表わされる生成物は新規化合物であり、式Ｉ、特に式ＩＡで表わされる 化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。好適な式Ｖで表わさ れる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、Ｒ³ が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてＲ⁸およびＲ⁹が− 緒になって、２０−スピロキサン環を形成している式ＶＡに相当する： 最も好ましい式Ｖで表わされる化合物は、メチル水素−１１α，１７α−ジヒ ドロキシ−３−オキソプログン−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート、 γ−ラクトンである。 式Ｖで表わされる化合物は、反応溶液を酸性にし、例えば濃ＨＣｌにより酸性 にし、室温まで冷却させ、次いで有機溶剤、例えばメチレンクロライドまたは酢 酸エチルにより生成物を抽出することによって単離することができる。この抽出 液を水性アルカリ性洗浄液で洗浄し、乾燥させ、次いで濾過し、その後、溶剤を 除去する。別法として、式Ｖで表わされる生成物を含有する反応溶液を、濃酸に より急冷することもできる。この生成物溶液を濃縮し、０°〜２５℃に冷却させ 、次いで生成固形物を濾過により単離する。 式Ｖで表わされる生成物の好適単離方法に従う場合、反応期間の終了後に、当 該蒸留の前または蒸留中に添加される水および酸とともに蒸留することによって メタノールおよびＨＣＮを分離する。蒸留前の水の添加は操作を簡単にするが、 蒸留の進行中に徐々に添加すると、容積を実質的に一定に維持することができる 。式Ｖの生成物は、蒸留の進行に従い底部から結晶化する。この採取方法は、抽 出操作を行うことなく、高品質の結晶生成物をもたらす。 もう一つの別法に従う場合、式Ｖの生成物を含有する反応溶液を鉱酸、例えば ４Ｎ ＨＣｌを用いて急冷し、その後、溶剤を蒸留により除去する。溶剤の分離 はまた、反応生成物から残留ＨＣＮの分離にも有効である。式Ｖで表わされる化 合物を精製するための多回溶剤抽出は、式Ｖの化合物をエポキシメキセレノンの 製造方法の中間体として使用する場合には不必要であることが見出された。実際 に、このような抽出はしばしば、完全に省略することができる。生成物の精製に 溶剤抽出を使用する場合、この溶剤洗浄をブラインおよび苛性洗浄により補助す ることが望ましい。しかしながら、溶剤抽出を省略する場合に、このブラインお よび苛性洗浄はまた省略される。この抽出および洗浄の省略は、当該方法の生産 性を、生成物の収率および品質を犠牲にすることなく格別に高め、また硫酸ナト リウムなどの乾燥剤による洗浄溶液の乾燥の必要性を排除する。粗製１１α−ヒ ドロキシ−７α−アルカノイルオキシカルボニル生成物は、当該方法の引き続く 工程で使用するために、溶剤中に再度取り入れることができる。この引き続く工 程は、その１１α−位置のヒドロキシ基の望ましい脱離性基への変換であり、こ れにより下記式ＩＶで表わされる化合物が生成される：（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＶＩＩＩについて定 義されているとおりであり、Ｒ¹は式Ｖについて定義されているとおりであり、 そしてＲ²は低級アリールスルホニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アシ ルオキシまたはハライドである）。好ましくは、この１１α−ヒドロキシルを、 低級アルキルスルホニルハライド、アシルハライドまたは酸無水物によりエステ ル化する。これらの反応剤は式Ｖで表わされる中間生成物を含有する溶液に添加 する。低級アルキルスルホニルハライド、好ましくはメタンスルホニルクロライ ドは好適である。別法として、１１α−ヒドロキシ基は、適当な試薬、例えばチ オニルブロマイド、チオニルクロライド、スルフリルクロライドまたはオキザリ ルクロライドとの反応によって、ハライドに変換することができる。１１α−ス ルホン酸エステルを生成する別の試薬には、トシルクロライド、ベンゼンスルホ ニルクロライドおよび無水トリフルオロメタンスルホン酸が包含される。この反 応は、トリエチルアミンまたはピリジンなどのハロゲン化水素捕獲剤を含有する 溶媒中で行う。ＫまたはＮａ炭酸塩などの無機塩基もまた使用することができる 。式Ｖで表わされるヒドロキシエステルの初期濃度は好ましくは、約５重量％〜 約５０重量％である。このエステル化剤は好ましくは、僅かに過剰量で存在させ る。メチレンクロライドはこの反応に特に好適であるが、ジクロロエタン、ピリ ジン、クロロホルム、メチルエチルケトン、ジメトキシエタン、メチルイソブチ ルケトン、アセトン、その他のケトン類、エーテル類、アセトニトリル、トルエ ンおよびテトラヒドロフランなどのその他の溶剤をまた使用することができる。 反応温度は、主として溶媒の揮発性により支配される。メチレンクロライド中に おける反応温度は好ましくは、約−１０°〜約１０℃の範囲である。 好適な式Ｖで表わされるヒドロキシエステル基質は下記式ＶＡに相当し：そして生成物は下記式ＩＶＡに相当する： （上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²、およびＸは式ＸＩＩＩにつ いて定義されているとおりであり、そしてＲ¹は低級アルカノイルオキシカルボ ニルまたはヒドロキシカルボニルであり、そしてＲ²は式ＩＶについて定義され ているとおりである）。 式ＩＶで表わされる生成物は新規化合物であり、式Ｉ、特に式ＩＡで表わされ る化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。好適な式ＩＶで表 わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり 、Ｒ³が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてＲ⁸およびＲ⁹ が−緒になって、２０−スピロキサン環を形成している式ＶＡに相当する： 最も好ましくは、式ＩＶで表わされる化合物は、メチル水素−１７α−ヒドロ キシ−１１α−（メチルスルホニル）オキシ−３−オキソプログン−４−エン− ７α，２１−ジカルボキシレート、γ−ラクトンである。 所望により、式ＩＶで表わされる化合物は、溶媒を分離することによって単離 することができる。好ましくは、反応溶液を先ず、水性アルカリ洗浄液、例えば ０．５〜２Ｎ ＮａＯＨで洗浄し、次いで酸洗浄液、例えば０．５〜２Ｎ ＨＣ ｌにより洗浄する。反応溶媒を除去した後に、例えば生成物をメチレンクロライ ド中に取り入れ、次いで式ＩＶで表わされる生成物の溶解度を低下させるエチル エーテルなどのもう一種の溶剤を添加し、生成物を結晶形態で沈殿させることに よって、生成物を再結晶化させる。 式ＩＶで表わされる生成物の採取に際して、または以下にさらに説明するよう な式ＩＶの中間体を式ＩＩの中間体に変換するための反応溶液の調製に際して、 酸性または塩基性夾雑物を除去するために、代わりにイオン交換樹脂で処理する 場合に、抽出および（または）洗浄工程の全部を省略することができる。溶液を 先ず、アニオン交換樹脂で処理し、次いでカチオン交換樹脂で処理する。別法と して、反応溶液を先ず、無機吸着剤、例えば塩基性アルミナまたは塩基性シリカ により処理し、次いで稀酸で洗浄する。塩基性シリカまたは塩基性アルミナを代 表的に、生成物１ｋｇに対して約５ｇ〜約５０ｇ、好ましくは生成物１ｋｇに対 して約１５ｇ〜約２０ｇの割合で反応溶液と混合する。イオン交換樹脂を使用す るか、または無機吸着剤を使用するかにかかわらず、この処理はイオン交換樹脂 または無機吸着剤を、撹拌しながら室温で反応溶液によりスラリー化し、次いで この樹脂または無機吸着剤を濾過により分離することによって行うことができる 。 本発明の別のかつまた好適な態様において、式ＩＶで表わされる生成化合物は 溶媒の一部を除去することによって濃縮溶液として粗製形態で採取される。この 濃縮溶液は当該方法の引き続く工程、すなわち式ＩＶで表わされる化合物から１ １α−脱離性基を分離して、下記式ＩＩで表わされる化合物を生成する工程に直 接に使用することができる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＶＩＩＩについて定 義されているとおりであり、そしてＲ¹は式Ｖについて定義されているとおりで ある）。 この反応の目的に応じて、式ＩＶで表わされる化合物のＲ²置換基は、その分 離が９−炭素と１１−炭素との間に二重結合を形成させるのに有効である脱離性 基のいずれかであることができる。好ましくは、この脱離性基は、酸およびアル カリ金属塩との反応により分離される低級アルキルスルホニルオキシまたはアシ ルオキシ置換基である。鉱酸を使用できるが、低級アルカン酸が好適である。有 利には、この反応用試薬はまた、使用されるアルカン酸のアルカリ金属塩を包含 する。特に好適には、脱離性基はメシルオキシからなり、そして反応用試薬はギ 酸または酢酸およびこれらの酸または別の低級アルカン酸の１種のアルカリ金属 塩からなる。脱離性某がメシルオキシであり、そして除去試薬がギ酸およびギ酸 カリウムである場合に、比較的高い９，１１−オレフィン対１１，１２−オレフ ィン比が見出される。脱離性某の分離中に遊離水が存在する場合には、夾雑物、 特に７，９−ラクトンが生成される傾向がある： この夾雑物は最終生成物からの分離が困難である。従って、無水酢酸またはそ の他の乾燥剤を使用して、ギ酸中に存在する水を除去する。反応前の反応混合物 の遊離水含有量は水分析用のカール−フッシャー（Ｋａｒｌ−Ｆｉｓｃｈｅｒ） 分析によって測定して、総反応溶液に基づき約０．５重量％以下、好ましくは約 ０．１重量％以下に維持されるべきである。反応混合物は実用できる程度の乾燥 を保有することが好ましいけれども、０．３重量％の水含有量の場合で満足な結 果が実現された。好ましくは、反応装入混合物はアルカン酸中の式ＩＶで表わさ れる基質を約４重量％〜約５０重量％の量で含有する。約４重量％〜約２０重量 ％の酸のアルカリ金属塩を含有させると好ましい。乾燥剤として無水酢酸を使用 する場合に、これはアルカン酸１モルに対して約０．０５モル〜約０．２モルの 割合で存在させると好ましい。 除去用試薬が、脱離性基を除去し、かつまたエンエステル（９，１１−オレフ ィン）の形成するための試薬が、トリフルオロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸およ び酢酸カリウムの組合わせからなる場合に、反応混合物中の副生成物７，９−ラ クトンおよび１１，１２−オレフィンの割合は、比較的低いことが見出された。 無水トリフルオロ酢酸は乾燥剤として作用する。この無水トリフルオロ酢酸は、 トリフルオロ酢酸除去用試薬に基づき、少なくとも約３重量％、さらに好ましく は少なくとも約１５重量％、最も好ましくは約２０重量％の割合で存在させるべ きである。 別法として、式ＩＶで表わされる化合物のＤＭＳＯ、ＤＭＦまたはＤＭＡなど の有機溶媒中の溶液を加熱することによって、式ＩＶで表わされる化合物から１ １α−脱離性某を分離し、式ＩＩで表わされる化合物を生成することができる。 さらにまた、本発明に従い、式ＩＶで表わされる化合物を先ず、トルエンスル ホン酸などの酸あるいは硫酸などの無水鉱酸の存在下に、イソプロペニルアセテ ートなどのアルケニルアルカノエートと反応させ、式ＩＶで表わされる化合物の ３−エノールエステルを生成させる： 別法として、無水酸と塩基、例えば酢酸と酢酸ナトリウムにより処理することに よって、この３−エノールエステル化合物を生成させることもできる。もう一つ の別法は、酸の存在下におけるケテンによる処理を包含し、ＩＶ（Ｚ）が生成さ れる。式ＩＶ（Ｚ）で表わされる中間体は引き続いて、ギ酸または酢酸の存在下 にギ酸アルカリ金属塩または酢酸アルカリ金属塩と反応させ、下記式ＩＶ（Ｙ） で表わされる△−９，１１−エノールアセテートを生成させる： この生成物は次いで、有機溶媒、好ましくはメタノールなどのアルコール中に おける、当該エノールアセテートの熱分解またはそのアルカリ金属アルコキシド との反応によって式ＩＩで表わされるエンエステルに変換することができる。こ の分離反応は式ＩＩで表わされるエンエステルに対して高い選択性を有し、１１ ，１２−オレフィンおよび７，９−ラクトンに対して優勢である。この選択性は エノールアセテートのエノンへの変換によって保有される。 好適な式ＩＶで表わされる基質は下記式ＩＶＡに相当し： そしてエンエステル生成物は下記式ＩＩＡに相当する： （上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²、およびＸは式ＸＩＩＩにつ いて定義されているとおりであり、そしてＲ¹は式Ｖについて定義されていると おりである）。 所望により、式ＩＩで表わされる化合物は、溶媒を除去し、固形生成物を冷水 中に取り入れ、次いで酢酸エチルなどの有機溶剤により抽出することによって単 離することができる。適当な洗浄工程および乾燥工程の後に、抽出溶剤を除去す ることによって生成物を採取する。このエンエステルを次いで、式Ｉで表わされ る生成物への変換に適する溶媒中に溶解する。別法として、このエンエステルは 、濃縮した生成物溶液に水を添加し、次いで固形生成物を濾別することによって 単離することができ、これにより７，９−ラクトンを有利に除去することができ る。式ＩＩで表わされる基質の式ＩＡで表わされる生成物への変換は、米国特許 ４，５５９，３３２に記載の方法で行うことができ（この記載を引用してここに 組み入れる）、あるいはさらに好ましくは、以下で説明するハロアセトアミド促 進剤を用いる新規反応によって行うことができる。 本発明のもう一つの態様において、式ＩＶで表わされる中間化合物を単離する ことなく、式Ｖで表わされる化合物を式ＩＩで表わされる化合物に変換すること ができる。この方法では、ヒドロキシエステル化合物をメチレンクロライドなど の有機溶媒中に取り、この溶液に、アシル化剤（例えばメタンスルホニルクロラ イド）またはハロゲン化試薬（例えば、スルフリルクロライド）を添加する。こ の混合物を撹拌し、次いでハロゲン化が含まれる場合には、イミダゾールなどの ＨＣｌ捕獲剤を添加する。この溶液と塩基との混合は格別に発熱性であり、従っ て充分の冷却によって制御されている速度で行うべきである。塩基添加後に、生 成する混合物を温和な温度、例えば０℃から室温またはそれよりも僅かに高い温 度に温め、次いで代表的に１〜４時間反応させる。反応が完了した後に、溶媒を 留去し、好ましくは高減圧条件下に（例えば、２４”〜２８Ｈｇ）、−１０°〜 ＋１５℃、さらに好ましくは約０°〜約５℃で留去し、溶液を濃縮させ、過剰の 塩基を除去する。この基質を次いで、エンエステルへの変換用の有機溶剤、好ま しくはメチレンクロライドなどのハロゲン化溶剤に再溶解する。 脱離性基除去用試薬は好ましくは、有機酸、有機酸塩および乾燥剤、好ましく はギ酸、ギ酸アルカリ金属塩および無水酢酸をそれぞれ、乾燥反応器内で混合す ることによって製造する。無水酢酸の添加は発熱性であり、ＣＯの放出をもたら す。従って、この添加速度は制御しなければならない。水の分離を促進するため に、この反応の温度は好ましくは、６０°〜９０℃、最も好ましくは約６５°〜 約７５℃に維持する。この試薬を次いで、式ＩＶで表わされる化合物の生成溶液 に添加し、当該分離反応を行わせる。４〜８時間後に、この反応混合物を好まし くは、少なくとも約８５℃以上であって、しかし８５℃を越えない温度に加熱し 、揮発性留出液の全部を除去し、次いで代表的に約１〜４時間の添加期間で反応 を完了させる。この反応混合物を冷却し、次いで標準抽出技術によって採取した 後に、エンエステル化合物を溶剤の蒸発によって所望のとおりに採取することが できる。 式ＩＩで表わされるエンエステルは、抽出工程および引き続く分離反応を使用 することなく、別法によって反応溶液から採取することもでき、これにより費用 を節約することができ、収率を改善でき、および（または）生産性を改善できる ことがまた見出された。この方法では、ギ酸を除去した後に、反応混合物を水で 稀釈することによって、エンエステル生成物を沈殿させる。この生成物は次いで 、濾過により単離する。抽出は不必要である。 式ＩＶで表わされる化合物を単離することなく、式Ｖで表わされるヒドロキシ エステルを式ＩＩで表わされるエンエステルに変換するもう一つの別法によれば 、式Ｖヒドロキシエステルの１１α−ヒドロキシ基をハロゲンにより置き換え、 次いで熱によるデヒドロハロゲン化によって、式ＩＩエンエステルをその場で生 成させる。このヒドロキシ基のハロゲンによる置換は、イミダゾールなどのハロ ゲン化水素捕獲剤の存在下に冷却状態で、スルフリルハライド、好ましくはスル フリルクロライドとの反応によって行う。このヒドロキシエステルをテトラヒド ロフランなどの溶媒中に溶解し、次いで０℃〜−７０℃に冷却させる。スルフリ ルハライドを添加し、この反応混合物を温和な温度、例えば室温に、当該分離反 応を完了させるのに充分な時間、代表的に１〜４時間温める。この態様の方法は ２工程を１工程にまとめるばかりでなく、またハロゲン化反応溶媒、酸（例えば 、酢酸）、および乾燥剤（無水酢酸または硫酸ナトリウム）の使用を省略させる 。 さらにまた、この反応には還流条件は不必要であり、かつまた酢酸を乾燥剤とし て使用する場合に生じる副生成物ＣＯの発生を回避することができる。 本発明の特に好適な態様において、式ＶＩで表わされるジケトン化合物は、い かなる中間体も単離することなく、純粋な形態でエポキシメキセレノンまたはそ の他の式Ｉで表わされる化合物に変換することができる。この好適方法に従う場 合、ヒドロキシエステル化合物を含有する反応溶液を強酸溶液により急冷し、室 温まで冷却し、次いで適当な抽出溶剤により抽出する。有利には、抽出前の反応 混合物に、無機塩の水性溶液、例えば１０重量％塩類溶液を添加する。この抽出 液を洗浄し、次いで共沸蒸留によって乾燥させ、このケトン分解反応から残留す るメタノール溶剤を分離する。 約５重量％〜約５０重量％の式Ｖで表わされる化合物を含有する生成する濃縮 溶液を次いで、冷却下に、アシル化剤またはアルキルスルホニル化剤と接触させ 、スルホンエステルまたはジカルボン酸エステルを生成する。このアルキルスル ホン化反応またはカルボキシル化反応が完了した後に、この反応溶液を酸交換樹 脂カラムに、次いで塩基交換樹脂カラムに通し、塩基性夾雑物および酸性夾雑物 を除去する。各通過後に、カラムは適当な溶剤、例えばメチレンクロライドで洗 浄し、残留するスルホン酸エステルまたはジカルボン酸エステルをここから回収 する。集めた溶出液および洗浄液を一緒に合わせ、好ましくは減圧下に減少させ 、式ＩＶで表わされるスルホン酸エステルまたはジカルボン酸エステルを含有す る濃縮溶液を生成する。この濃縮溶液を次いで、１１α−エステル脱離性基の分 離および水素の除去に有効な反応剤からなる乾燥剤と接触させ、９，１１−二重 結合を生成する。好ましくは、この脱離性基分離用反応剤は、上記のギ酸／ギ酸 アルカリ金属塩／無水酢酸乾燥剤溶液からなる。反応が完了した後に、この反応 混合物を冷却し、次いでギ酸および（または）その他の揮発性成分を減圧下に除 去する。この残留物を室温まで冷却し、適当な洗浄工程に付し、次いで乾燥させ 、式ＩＩで表わされるエンエステルを含有する濃縮溶液を得る。このエンエステ ルは次いで、前記方法または米国特許４，５５９，３３２に記載の方法を用いて エポキシメキセレノンまたはその他の式Ｉで表わされる化合物に変換することが できる。 本発明の特に好適な態様において、この溶媒は減圧下に反応溶液から分離し、 式ＩＶで表わされる生成物を水と適当な有機溶剤、例えば酢酸エチルとに分配さ せる。この水性相を次いで、有機溶剤により逆抽出し、この逆抽出液を次いで、 アルカリ溶液、好ましくはアルカリ金属ハライドを含有するアルカリ金属水酸化 物の溶液により洗浄する。この有機相を、好ましくは減圧下に濃縮し、式ＩＩで 表わされるエンエステル生成物を生成する。この式ＩＩで表わされる生成物は次 いで、有機溶剤、例えばメチレンクロライド中に取り入れ、次いで’３３２特許 に記載の方法でさらに反応させ、式Ｉで表わされる生成物を生成させることがで きる。 エポキシ化（ｅｐｏｘｉｄａｔｉｏｎ）反応にトリハロアセトニトリルを使用 する場合に、溶媒の選択が重要であることが見出された。この場合、ハロゲン化 溶媒は非常に好適であり、メチレンクロライドは特に好適である。ジクロロエタ ンおよびクロロベンゼンなどの溶媒は、妥当な充分な収率をもたらすが、この収 率はメチレンクロライド反応媒質の方が一般に良好である。アセトニトリルおよ び酢酸エチルなどの溶媒は一般に、貧弱な収率をもたらすが、メタノールまたは 水／テトラヒドロフランなどの溶媒中における反応は所望の生成物を僅かにもた らすのみである。 本発明に従いさらに、エポキシ化反応用の過酸化物活性剤としてトリハロアセ トニトリルよりもトリハロアセトアミドを使用することによって、エポキシメキ セレノンの合成における多くの改良を実現できることが見出された。特定の好適 方法に従う場合、このエポキシ化は、式ＩＩＡで表わされる基質をトリクロロア セトアミドおよび適当な緩衝剤の存在下に過酸化水素と反応させることによって 行われる。好ましくは、この反応は、約３〜約７の範囲の、最も好ましくは約５ 〜約７の範囲のｐＨで行う。しかしながら、これらの考察にもかかわらず、好適 ｐＨ範囲以外でも充分な反応が実現される。 特に望ましい結果は、リン酸水素二カリウムを含有する緩衝剤を用いて、およ び（または）約１：４〜約２：１、最も好ましくは約２：３の範囲の相対割合の リン酸水素二カリウムおよびリン酸二水素カリウム組合わせからなる緩衝剤を用 いて得られる。ホウ酸塩緩衝剤もまた使用することができるが、一般にリン酸二 カリウムまたはＫ₂ＨＰＯ₄またはＫ₂ＨＰＯ₄／ＫＨ₂ＰＯ₄混合物に比較して、変 換は遅くなる。緩衝剤は、どのような構成であっても、上記範囲内のｐＨを付与 しなければならない。緩衝剤は、その総合組成または正確なｐＨが反応に影響を 与えることができる以外に、この緩衝剤の少なくとも一部が二塩基性リン酸水素 イオンからなる場合に、反応はより効果的に進行することが見出された。このイ オンは促進剤および過酸化水素イオンからなる付加物または複合物の形成におけ る均質触媒として実質的に関与することができるものと信じられる。この形成は また、総合的エポキシ化反応メカニズムに対しても必須であることができる。従 って、二塩基性リン酸水素塩（好ましくは、Ｋ₂ＨＰＯ₄からの）の量的要件は、 少量の触媒濃度のみである。一般に、ＨＰＯ₄を基質の１当量に対して 少なくとも約０．１当量、例えば約０．１〜約０．３当量の割合で存在させると 好ましい。 この反応は、適当な溶媒、好ましくはメチレンクロライド中で行うが、別法と して、その他のハロゲン化溶媒、例えばクロロホルムまたはジクロロエタンを使 用することもできる。トルエンおよびトルエンとアセトニトリルとの混合物もま た有効であることが見出された。特定の理論に拘束されないものとして、この反 応は二相系で最も効果的に進行するものと推定され、この二相系では過酸化水素 中間体が生成され、これは低水含有量の有機相に分布し、そして基質は有機相で 反応される。従って、好適溶媒は水溶解度が低いものである。トルエンからの効 果的な採取は、アセトニトリルなどの別種の溶剤を含有させることによって促進 させることができる。 式ＩＩで表わされる基質の式Ｉで表わされる生成物への変換において、この基 質がトルエン中に自由に溶解し、かつまた生成物は溶解しないことから、トルエ ンはこの方法に利点をもたらす。すなわち、変換が４０〜５０％の範囲に達した 時点で、反応中に生成物が沈殿し、三相混合物が生成され、生成物はここから濾 過によって都合よく分離することができる。この方法のこの工程の変換の実施に おいて、酢酸エチル、アセトニトリル単独、ＴＨＦおよびＴＨＦ／水は、ハロゲ ン化溶媒またはトルエンほどには効果的ではない。 トリクロロアセトアミドは格別に好適な反応剤であるが、他のトリハロアセト アミド、例えばトリフルオロアセトアミドもまた使用することができる。トリハ ロメチルベンズアミドおよびその他の電子吸引性トリハロメチル基とアミドのカ ルボニルとの間にアリーレン基を有する別種の化合物もまた有用である。３，３ ，３−トリハロプロピオンアミドもまた使用できるが、あまり好ましい結果は得 られない。−般に、過酸化物活性剤は式： Ｒ⁰Ｃ（Ｏ）ＮＨ₂ （式中、Ｒ⁰はモノクロロメチル基と少なくとも同一の大きさの電子吸引力を有 する基（シグマ定数で測定して）である） に相当することができる。さらに特に、この過酸化物活性剤は式： （式中、Ｘ¹、Ｘ²およびＸ³は、ハロ、水素、アルキル、ハロアルキルおよびシ アノおよびシアノアルキルの中から独立して選択され、そしてＲ^pはアリーレン および−（ＣＸ⁴Ｘ⁵）ｎ^-の中から選択され、ｎはｏまたは１であり、そしてＸ¹ 、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴およびＸ⁵はハロおよび過ハロアルキルである） に相当することができる。Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴またはＸ⁵のいずれかがハロでは ない場合に、ハロアルキルが好ましく、過ハロアルキルは最も好ましい。特に好 適な活性剤は、ｎが０であり、そしてＸ¹、Ｘ²およびＸ³の少なくとも２個がハ ロである化合物；あるいはＸ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴およびＸ⁵の全部がハロまたは過 ハロアルキルである化合物である。Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴およびＸ⁵はそれぞれ、 好ましくはＣｌまたはＦであり、最も好ましくはＣｌである。しかしながら、混 合ハライドもまた適当であることがあり、過クロロアルキルまたは過ブロモアル キルおよびその組合わせもまた適当であることができる。 好ましくは、この過酸化物活性剤は、初期に存在する基質の１当量に対して少 なくとも約１当量、さらに好ましくは約１．５〜約２当量の割合で存在させる。 過酸化水素は少なくとも僅かに過剰量で反応に導入すべきであり、あるいはエポ キシ化反応の進行にともない少しづつ添加すべきである。この反応は基質１モル に対して１〜２当量のみの過酸化水素を消費するが、過酸化水素は初期に存在す る基質および活性剤に対して実質的に過剰量で導入すると好ましい。本発明を特 定の理論に制限するものではないが、この反応のメカニズムは活性剤しＯＯＨ^- との付加物の形成を包含するものであり、この反応の構成は反応を逆行させるの に好都合の平衡を伴って可逆性であり、従って反応を前方方向に誘導するために は、実質的に初期過剰の過酸化水素が必要であるものと信じられる。この反応の 温度に狭い限界はなく、０°〜１００℃の範囲内で効果的に行うことができる。 最適温度は溶媒の選択に依存する。一般に、好適温度は約２０°〜３０℃である が、或る種の溶媒、例えばトルエンの場合には、この反応は６０°〜７０℃の範 囲で有利に行うことができる。２５℃において、反応は代表的に、１０時間より も短い時間、代表的に３〜６時間を要する。必要に応じて、追加の活性剤および 過酸化水素を反応サイクルの終了時点で添加して、基質の完全変換を達成するこ とができる。 この反応サイクルの終了時点で、その水性相を分離し、有機反応溶液を好まし くは洗浄して、水可溶性夾雑物を除去し、その後、生成物を溶媒の除去によって 採取することができる。溶媒を除去する前に、この反応溶液は、少なくとも中程 度または僅かな程度にアルカリ性洗浄液、例えば炭酸ナトリウムにより洗浄すべ きである。好適には、この反応混合物を、温和な還元性溶液、例えば亜硫酸ナト リウムの薄い水溶液（例えば、３重量％）；アルカリ溶液、例えばＮａＯＨまた はＫＯＨ（好ましくは、約０．５Ｎ）；酸溶液、例えばＨＣｌ（好ましくは、約 １Ｎ）；および水またはブライン、好ましくは飽和ブラインからなる最終中性洗 浄液によって順次洗浄し、生成物の損失を最低にする。反応溶媒を除去する前に 、有機溶剤、好ましくはエタノールなどのもう１種の溶剤を添加すると有利であ り、これにより高揮発性の反応溶媒を除去するための蒸留後に、生成物を結晶化 によって採取することができる。 トリクロロアセトアミドまたは他の新規過酸化物活性剤を採用する新規エポキ シ化法はエポキシメキセレノンを製造するための種々のスキームを充分に越える 用途を有するものと理解されるべきである。実際に、この方法は液相で反応に付 される広く種々の基質におけるオレフィン二重結合を横切るエポキシドの生成に 使用することができる。この反応は、オレフィン炭素がテトラ置換またはトリ置 換されている不飽和化合物、すなわちＲ^aＲ^bＣ＝ＣＲ^cＲ^dおよびＲ^aＲ^bＣ＝ＣＲ^c ＲＨ（各式中、Ｒ^a〜Ｒ^dは水素以外の置換基を表わす）に特に有効である。こ の反応は、基質がトリ置換二重結合を有する環状化合物、あるいはテトラ置換二 重を有する環状または非環状化合物である場合に、最も迅速にかつまた完全に進 行する。この反応の基質の例には、△−９，１１−カンレノン、および下記の化 合物が包含される： トリ置換およびテトラ置換二重結合に対して、この反応はより迅速に、かつま た完全に進行することから、オレフィン炭素がモノ置換されているか、あるいは ジ置換されてさえいる、別の二重結合を含有していてもよい化合物中のこのよう な二重結合を横切るエポキシ化に有利に使用することができる。 この反応は、種々のステロイド基質中の１１，１２−オレフィンなどのモノ置 換されているか、あるいはジ置換されてさえいる二重結合のエポキシ化に有利に 使用することができるものと理解されるべきである。しかしながら、高選択性を 有する、多置換されている二重結合、例えば９，１１−オレフィンを好ましくエ ポキシ化させることから、本発明によるこの方法は本明細書に記載されている種 々の反応スキームのエポキシ化工程に特に有効である。 この改良方法は、 のエポキシ化による、 の製造に特に有利な用途を有することを示した。 エポキシ化反応用の酸素移送剤として、トリクロロアセトニトリルの代わりに トリクロロアセトアミドを使用する本発明の方法について多くの利点が証明され た。このトリクロロアセトアミド反応剤系は、同一分子構造内にジ置換された、 α，β−ケトオレフィンを有するトリ置換二重結合を横切るエポキシ化に厳密な レジオ制御（ｒｅｇｉｏｃｏｎｔｒｏｌ）をもたらす。すなわち、反応収率、生 成物の様相および最終純度が実質的に強化される。トリクロロアセトニトリルを 使用して見出された実質的に過剰な酸素発生はトリクロロアセトアミドを用いる と体験されず、当該エポキシ化法に改良された安全性を付与することがまた見出 された。さらにまた、トリクロロアセトニトリルにより促進される方法に比較し て、このトリクロロアセトアミド反応は最低の発熱作用を示し、従って反応の熱 的様相の制御を促進させる。撹拌効果が最低であることも見出され、かつまた反 応器の挙動がより不変であることはまた、トリクロロアセトニトリル法に優る利 点である。この反応はまた、トリクロロアセトニトリルにより促進される方法に 比較して、規模を大きくすることができる。生成物の単離および精製が簡単であ り、例えばｍ−クロロ過オキシ安息香酸またはその他の過酸を用いた場合に体験 されるようなカルボニル官能性基のバイエル−ビラガー（Ｂａｙｅｒ−Ｖｉｌｌ ａｇｅｒ）酸化（過酸化物により促進されるケトンのエステルへの変換）は見ら れず、およびまたこの反応剤は安価であり、容易に入手することができ、かつま た容易に取り扱うことができる。 本発明による新規エポキシ化法はスキーム１の合成の終結工程として格別に有 用である。特に好適な態様において、スキーム１の総合プロセスは下記のとおり に進行する： スキーム２ 本発明の第二の新規反応スキームはカンレノンまたはその他の式ＸＩＩＩに相 当する基質を用いて出発する： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＶＩＩＩについて定 義されているとおりである）。 この方法の第一工程において、式ＸＩＩＩで表わされる基質は、式ＶＩＩＩで 表わされる基質の式ＶＩＩで表わされる中間体への変換について上記したスキー ムと実質的に同一のシアニデーション反応スキームを用いて、下記式ＸＩＩで表 わされる生成物に変換される： 好適な式ＸＩＩＩで表わされる基質は、下記式ＸＩＩＩＡに相当し： そしてエナミン生成物は下記式ＸＩＩＡに相当する： （上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは式ＸＩＩＩについ て定義されているとおりである）。 スキーム２の第二工程では、式ＸＩＩで表わされるエナミンを、式ＶＩＩＩで 表わされる基質の式ＶＩＩで表わされる中間体への変換について上記したスキー ムと実質的に同一の反応スキームを用いて、下記式ＸＩで表わされる中間ジケト ン生成物に加水分解させる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＶＩＩＩについて定 義されているとおりである）。 好適な式ＸＩＩで表わされる基質は、下記式ＸＩＩＡに相当し： そしてジケトン生成物は式ＸＩＡに相当する： （上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは式ＶＩＩＩＡにつ いて定義されているとおりである）。 反応スキーム２に従いさらに、式ＸＩで表わされるジケトンをアルカリ金属ア ルコキシドと反応させ、メキセレノンまたは下記式Ｘに相当する他の生成物を生 成させる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＶＩＩＩについて定 義されているとおりであり、Ｒ¹は式Ｖについて定義されているとおりである） 。 この方法は、式ＶＩで表わされる化合物の式Ｖで表わされる化合物への変換に ついて上記したスキームと実質的に同一の反応スキームを用いて行われる。好適 な式ＸＩＩで表わされる基質は、下記式ＸＩＡに相当し： そして中間生成物は下記式ＸＡに相当する： （上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは式ＸＩＩＩについ て定義されているとおりであり、Ｒ¹は式Ｖについて定義されているとおりであ る）。 カンレノンおよびその他の式Ｘで表わされる化合物は次いで、新規生物変換法 によって９α−ヒドロキシル化させ、下記式ＩＸで表わされる生成物を生成させ る： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＸＩＩＩについて定 義されているとおりであり、そしてＲ¹は式Ｖについて定義されているとおりで ある）。 このヒドロキシル化工程で使用することができる生物の中には下記の生物があ る：ノカルディア コニクラリア（Ｎｏｃａｒｄｉａ ｃｏｎｉｃｒｕｒｉａ） ＡＴＣＣ３１５４８、ノカルディア オーレンチア（Ｎｏｃａｒｄｉａ ａｕｒ ｅｎｔｉａ）ＡＴＣＣ１２６７４、コリネスポラ カシイコラ（Ｃｏｒｙｎｅｓ ｐｏｒａ ｃａｓｓｉｉｃｏｌａ）ＡＴＣＣ１６７１８、ストレプトマイセスハ イドロスコピカス（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ ｈｙｄｒｏｓｃｏｐｉｃｕｓ） ＡＴＣＣ２７４３８、モルチエレラ イサベリナ（Ｍｏｒｔｉｅｒｅｌｌａ ｉ ｓａｂｅｌｌｉｎａ）ＡＴＣＣ４２６１３、ボーブリア バシアナ（Ｂｅａｕｖ ｅｒｉａ ｂａｓｓｉａｎａ）ＡＴＣＣ７１５９、ペニシリウム プルプロゲナ ム（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｕｍ ｐｕｒｐｕｒｏｇｅｎｕｍ）ＡＴＣＣ４６５８１、 ハイポマイセス クリソスペルムス（Ｈｙｐｏｍｙｃｅｓ ｃｈｒｙｓｏｓｐｅ ｒｍｕｓ）ＩＭＩ１０９８９１、サムノスチラム ピリホルメ（Ｔｈａｍｎｏｓ ｔｙｌｕｍ ｐｉｒｉｆｏｒｍｅ）ＡＴＣＣ８９９２、クニンハメラ ブラケス リーアナ（Ｃｕｎｎｉｎｇｎｈａｍｅｌｌａ ｂｌａｋｅｓｌｅｅａｎａ）ＡＴ ＣＣ８６８８ａ）クニンハメラ エチヌラタ（Ｃｕｎｎｉｎｇｎｈａｍｅｌｌａ ｅｃｈｉｎｕｌａｔａ）ＡＴＣＣ３６５５、クニンハメラ エレガンス（Ｃｕ ｎｎｉｎｇｎｈａｍｅｌｌａ ｅｌｅｇａｎｓ）ＡＴＣＣ９２４５、トリコテシ ウム ロゼウム（Ｔｒｉｃｈｏｔｈｅｃｉｕｍ ｒｏｓｅｕｍ）ＡＴＣＣ１２５ ４３、エピコカム フミコラ（Ｅｐｉｃｏｃｃｕｍ ｈｕｍｉｃｏｌａ）ＡＴＣ Ｃ１２７２２、サッカロポリスポラ エリトリア（Ｓａｃｃｈａｒｏｐｏｌｙｓ ｐｏｒａ ｅｒｙｔｈｒａｅ）ＡＴＣＣ１１６３５、ボーブリア バシアナ（Ｂ ｅａｕｖｅｒｉａ ｂａｓｓｉａｎａ）ＡＴＣＣ１３１４４、アルトロバクター シンプレックス（Ａｒｔｈｒｏｂａｃｔｅｒ ｓｉｍｐｌｅｘ）、バクテリウ ム シクロオキシダンス（Ｂａｃｔｅｒｉｕｍ ｃｙｃｌｏｏｘｙｄａｎｓ）Ａ ＴＣＣ１２６７３、シリンドロカルポン ラディシコラ（Ｃｙｌｉｎｄｒｏｃａ ｒｐｏｎ ｒａｄｉｃｉｃｏｌａ）ＡＴＣＣ１０１１、ノカルディア オウレン チア（Ｎｏｃａｒｄｉａ ａｕｒｅｎｔｉａ）ＡＴＣＣ１２６７４、ノカルディ ア カニクルリア（Ｎｏｃａｒｄｉａ ｃａｎｉｃｒｕｒｉａ）、ノカルディア レストスクタス（Ｎｏｃａｒｄｉａ ｒｅｓｔｒｉｃｔｕｓ）ＡＴＣＣ１４８ ８７、プソイドモナス テストステロニ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｔｅｓｔｏ ｓｔｅｒｏｎｉ）ＡＴＣＣ１１９９６、ロードコッカス エクイ（Ｒｈｏｄｏｃ ｏｃｃｕｓ ｅｑｕｉ）ＡＴＣＣ２１３２９、マイコバクテリウム ホルツイタ ム（Ｍｙｃｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ ｆｏｒｔｕｉｔｕｍ）ＡＴＣＣ−６８４２、 およびロードコッカス ロードクロウス（Ｒｈｏｄｏｃｏｃｃｕｓ ｒｈｏｄｏ ｃｈｒｏｕｓ）ＡＴＣＣ１９１５０。 この反応は、図１および２に関連して上記した方法で実質的に行われる。図１ の方法は特に好適である。 この生物変換に有用な増殖培地は好ましくは、利用可能な窒素約０．０５重量 ％〜約５重量％、グルコース約０．５重量％〜約５重量％、酵母由来物約０．２ ５重量％〜約２．５重量％および利用可能なリン酸塩約０．０５重量％〜約５重 量％を含有する。特に好適な増殖培地には下記の培地が包含される： 大豆ミール：グルコース約０．５重量％〜約３重量％；大豆ミール約０．１重量 ％〜約１重量％；アルカリ金属ハライド約０．０５重量％〜約０．５重量％；酵 母由来物、例えば自己消化酵母または酵母エキス、約０．０５重量％〜約５６０ ．５重量％；リン酸塩、例えばＫ₂ＨＰＯ₄ 約０．０５重量％〜約０．５重量％ ；ｐＨ＝７； ペプトン−酵母エキス−グルコース：ペプトン約０．２重量％〜約２重量％；酵 母エキス約０．０５重量％〜約０．５重量％；およびグルコース約２重量％〜約 ５重量％； モーラー−ヒントン（Ｍｕｅｌｌｅｒ−Ｈｉｎｔｏｎ）：ビーフインヒュージョ ン約１０重量％〜約４０重量％；カサミノ酸（ｃａｓａｍｉｎｏ ａｃｉｄｓ） 約０．３５重量％〜約８．７５重量％；デンプン約０．１５重量％〜約０．７重 量％。 菌類（ｆｕｎｇｉ）は大豆ミールまたはペプトン栄養物質中で増殖させること ができ、他方アクチノマイセス類およびオイバクテリア（ｅｕｂａｃｔｅｒｉａ ）は大豆ミール（生物形質転換用にギ酸Ｎａ塩などのカルボン酸０．５重量％〜 約１重量％を添加する）またはモーラー−ヒントンブロスで増殖させることがで きる。 発酵によるメキセレノンからの１１β−ヒドロキシメキセレノンの製造は例１ ９に説明されている。 式ＩＸで表わされる生成物は新規化合物であり、濾過し、適当な有機溶剤、例 えば酢酸エチルにより洗浄し、次いで同一または類似溶剤から再結晶させること によって分離することができる。これらの化合物は式Ｉ、特に式ＩＡで表わされ る化合物を製造するための中間体として実質的価値を有する。好ましい式ＩＸで 表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であ り、Ｒ³が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてＲ⁸およびＲ⁹ が一緒になって、２０−スピロキサン環を構成している式ＩＸＡに相当する： 合成スキーム２の引き続く工程において、式ＩＸで表わされる生成物を脱水剤 と反応させ、下記式ＩＩで表わされる化合物を生成する： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＶＩＩＩについて定 義されているとおりであり、そしてＲ¹は式Ｖについて定義されているとおりで ある）。基質が下記式ＩＸＡに相当する場合に、生成物は下記式ＩＩＡに相当す る： （上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは式ＸＩＩＩについ て定義されているとおりであり、そしてＲ¹は式Ｖについて定義されているとお りである）。 この合成の最終工程では、式ＩＩで表わされる生成物を、米国特許４，５５９ ，３３２に記載の方法に従い、あるいは好ましくは上記の本発明による新規エポ キシ化方法によりエポキシ化することによって、式Ｉで表わされる化合物に変換 す る。 特に好適な態様において、図２の総合方法は下記のとおりに進行する： スキーム３ この場合の合成は、下記式ＸＸに相当する基質を用いて始める： （式中、−Ａ−Ａ−およびＲ³は式ＶＩＩＩについて定義されているとおりであ り、−Ｂ−Ｂ−は式ＶＩＩＩについて定義されているとおりである、ただしＲ⁶ およびＲ⁷はどちらも、１６，１７−位置でＤ環に縮合している環の一部ではな く、そしてＲ²⁶は低級アルキル、好ましくはメチルである）。 式ＸＸで表わされる基質とスルホニウムイリドとの反応は、下記式ＸＩＸに相 当するエポキシド中間体を生成させる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−およびＲ²⁶は式ＸＸについて定義されて いるとおりである）。 合成スキーム３の引き続く工程において、式ＸＩＸで表わされる中間体を下記 式ＸＶＩＩＩで表わされる別の中間体に変換する： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 この工程において、溶媒中で塩基の存在下にＮａＣＨ（ＣＯＯＥｔ）₂と反応 させることによって、式ＸＩＸ基質を式ＸＶＩＩＩ中間体に変換させる。この式 ＸＶＩＩＩで表わされる化合物を熱水およびアルカリハライドにさらすと、下記 式ＸＶＩＩに相当する脱カルボキシル化中間化合物が生成される： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 式ＸＸで表わされる化合物の式ＸＶＩＩで表わされる化合物への変換方法は基 本的に、米国特許３，８９７，４１７、同３，４１３，２８８および同３，３０ ０，４８９に記載の方法に相当する（これらの特許を引用してここに組み入れる ）。基質は相違しているが、１７−スピロラクトン分子の導入条件、反応剤およ びメカニズムは、基本的に同一である。 式ＸＶＩＩで表わされる中間体と脱水素化剤との反応は、下記式ＸＶＩで表わ される別の中間体を生成する： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は上記定義のとおりである）。 代表的に有用な脱水素化剤は、ジクロロジシアノベンゾキノン（ＤＤＱ）およ びクロラニル（２，３，５，６−テトラクロロ−ｐ−ベンゾキノン）を包含する 。別法として、この脱水素は、炭素−６の位置で順次ハロゲン化し、次いで脱ハ ロゲン化水素することによって達成される。 式ＸＶＩで表わされる中間体を次いで、下記式ＸＶで表わされるエナミンに変 換させる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸにっいて定義されていると おりである）。 この変換は基本的に、式ＶＩＩＩで表わされる１１α−ヒドロキシ化合物の式 ＶＩＩで表わされるエナミンへの変換について上記した方法を用いるシアニデー ションによる。代表的に、シアニドイオン源はアルカリ金属シアニドであること ができる。塩基は好ましくは、ピロリドンおよび（または）テトラメチルグアニ ジンである。メタノール溶媒を使用することができる。 式ＸＶで表わされる生成物は新規化合物であり、クロマトグラフイによって単 離することができる。式ＡＸＶで表わされるこれらのおよびその他の化合物は、 式Ｉ、特に式ＩＡで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値 を有する。式ＡＸＶで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は上記定義のとおりであ る）。 式ＸＡで表わされる最も好適な化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ− は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である。 式ＶＩで表わされるジケトン化合物を製造するための上記加水分解に従い、式 ＸＶで表わされるエナミン化合物を下記式ＸＩＶで表わされるジケトン化合物に 変換することができる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 式ＶＩＡの範囲内にまた包含される式ＸＩＶで表わされる化合物はエポキシメ キセレノンの合成に特に好適である。 式ＸＩＶで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿によって単離すること ができる。式ＡＸＩＶで表わされるこれらのおよびその他の新規化合物は、式Ｉ 、 特に式ＩＡで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値を有す る。式ＡＸＩＶで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は上記定義のとおりであ る）。 式ＡＸＩＶおよび式ＸＩＶで表わされる最も好適な化合物において、−Ａ−Ａ −および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である。 式ＸＩＶで表わされる化合物はさらに、式ＶＩで表わされるジケトンの式Ｖで 表わされるヒドロキシエステルへの変換について上記した方法を基本的に使用し て、式ＸＸＸＩで表わされる化合物に変換させる。この場合に、中間体ＸＸＸＩ の単離が必要であり： 次いで、式ＸＸＸＩＩの生成物に変換する： （各式中、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されているとおり である）。 式ＸＸＸＩで表わされる好適化合物は式ＩＩＡの範囲内に包含される化合物で ある。式ＸＸＸＩで表わされる化合物は、上記方法または米国特許４，５５９， ３３２に記載の方法を用いて、式ＸＸＸＩＩで表わされる化合物に変換される。 特に好ましい態様において、このスキーム３の総合方法は下記のとおりに進行す る：スキーム４ スキーム４の最初の３工程はスキーム３の工程、すなわち式ＸＸに相当する化 合物から出発する式ＸＶＩＩで表わされる中間体の製造と同一である。 次いで、式ＸＶＩＩで表わされる中間体を、例えば米国特許４，５５９，３３ ２の方法を用いて、下記式ＸＸＩＶで表わされる化合物を生成する： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 しかしながら、本発明の特に好適な態様において、式ＩＩで表わされるエンエ ステルの式Ｉで表わされる生成物への変換についてスキーム１に上記されている 方法に従い、式ＸＶＩＩで表わされる基質をアミド型過酸活性剤、最も好ましく はトリクロロアセトアミドを含有する酸化剤を用いて、９，１１−二重結合を横 切りエポキシ化させる。この反応の条件および反応剤の割合は実質的に、式ＩＩ で表わされるエンエステルのエポキシメキセレノンへの変換について記載されて いるとおりである。 式ＸＶＩＩで表わされる基質のエポキシ化はまた、例えばｍ−クロロ過オキシ 安息香酸などの過酸を用いて、非常に良好な収率で行うこともできる。しかしな がら、トリクロロアセトアミド反応剤は、バイエル−ビラガー酸化副生成物の形 成を最低にする優れた結果をもたらすことが見出された。後者の副生成物は分離 することができるが、この分離には酢酸エチルなどの溶媒との擦り混ぜ、引き続 くメチレンクロライドなどの別種の溶剤からの結晶化を必要とする。式ＸＸＩＶ で表わされるエポキシ化合物を、ＤＤＱまたはクロラニルなどの脱水素剤（酸化 剤）との反応により、あるいは順に臭素化／脱臭化水素（あるいはハロゲン化／ 脱ハロゲン化水素）を用いて脱水素化し、６−炭素と７−炭素との間の二重結合 を生成させ、下記式ＸＸＩＩＩで表わされるもう１種の新規中間体を生成させる ： （式中、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されているとおりで ある）。 式ＸＸＩＩＩで表わされる特に好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ− Ｂ−が式ＸＩＩＩについて定義されているとおりである化合物である。 式ＸＸＩＩＩで表わされる生成物の生成には、直接酸化が効果的であるが、収 率は一般に低い。従って、この酸化は２工程で行うと好ましい。この第一工程に おいて、式ＸＸＩＶで表わされる基質をそのＣ−６位置でハロゲン化し、次いで 脱ハロゲン化水素に付し、６，７−オレフィンを生成する。このハロゲン化は好 ましくは、例えばＮ−ブロモスクシンアミドなどのＮ−ハロ有機反応剤を用いて 行う。臭素化は、ベンゾイルパーオキシドなどのハロゲン化促進剤の存在の下に 、例えばアセトニトリルなどの適当な溶媒中で行う。この反応は、約５０°〜約 １００℃の範囲の温度、好ましくは大気圧還流温度において、四塩化炭素、アセ トニトリルまたはその混合物などの溶媒中で効果的に進行する。しかしながら、 この反応の完了には、４〜１０時間の反応が代表的に必要である。反応溶媒を留 去し、次いで残留物を水不溶性溶剤、例えば酢酸エチルに取り入れる。生成する 溶液を温和なアルカリ溶液（例えば、アルカリ金属炭酸塩）および水、あるいは 好ましくは飽和ブラインで順次洗浄し、生成物の損失を最低にし、次いで脱ハロ ゲン化水素反応に適する別種の溶剤（例えば、ジメチルホルムアミド）中に取り 入れる。 この溶液に、ＬｉＢｒなどのアルカリ金属ハライドとともに適当な脱ハロゲン 化水素剤、例えば１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（ＤＡＢＣＯ ） を添加し、次いでこの溶液を適当な反応温度、例えば６０°〜８０℃に加熱し、 次いで反応を数時間、代表的に４〜１５時間継続し、脱臭化水素を完了させる。 必要に応じて、この反応サイクル中に追加の脱臭化水素剤を添加し、反応を完了 させることもできる。式ＸＸＩＩＩで表わされる生成物を次いで、例えば水を添 加して生成物を沈殿させ、次いで濾過により分離し、次いで好ましくは追加量の 水で洗浄することによって採取することができる。この生成物は好ましくは、例 えばジメチルホルムアミドから再結晶させる。 式ＸＸＩＩＩで表わされる生成物、例えば９，１１−エポキシカンレノンは新 規化合物であり、抽出／結晶化により単離することができる。これらの化合物は 式Ｉ、特に式ＩＡで表わされる化合物を製造するための中間体として実質的価値 を有する。例えば、これらの化合物は式ＸＸＩＩで表わされる化合物を製造する ための基質として使用することができる。式ＸＸＩＩＩで表わされる最も好まし い化合物において、そして−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であ る。 式ＶＩＩで表わされる化合物を製造するための方法を実質的に使用して、式Ｘ ＸＩＩＩで表わされる化合物をシアニドイオンと反応させ、下記式ＸＸＩＩに相 当する新規エポキシエナミン化合物を生成させる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 式ＸＸＩＩで表わされる特に好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ −が式ＸＩＩＩについて定義されているとおりである化合物である。 式ＸＸＩＩで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿および濾過によって 単離することができる。これらの化合物は、式Ｉ、特に式ＩＡで表わされる化合 物を製造するための中間体として実質的価値を有する。式ＸＸＩＩで表わされる 最も好適な化合物において、そして−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ₂−Ｃ Ｈ₂−である。 式ＶＩで表わされる化合物を製造するための上記方法を実質的に使用して、式 ＸＸＩＩで表わされるエポキシエナミン化合物を、式ＸＸＩで表わされる新規エ ポキシジケトン化合物に変換することができる。 式ＸＸＩで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿および濾過によって単 離することができる。これらの化合物は、式Ｉ、特に式ＩＡで表わされる化合物 を製造するための中間体として実質的価値を有する。式ＸＸＩで表わされる特に 好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式ＸＩＩＩについて定義さ れているとおりである化合物である。式ＸＸＩで表わされる最も好適な化合物に おいて、そして−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である。 式ＸＸＩで表わされる化合物は、上記エポキシ化方法または米国特許４，５５ ９，３３２に記載の方法を用いて、式ＸＸＸＩＩで表わされる化合物に変換され る。特に好ましい態様において、このスキーム４の総合方法は下記のとおりに進 行する： スキーム５ スキーム５の方法は、下記式ＸＸＩＸに相当する基質から出発する：（式中、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されているとおりで ある）。 この基質を、トリメチルオルトホーメートとの反応によって、下記式ＸＸＶＩ ＩＩで表わされる生成物に変換する： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 式ＸＸＶＩＩＩで表わされる化合物を生成させた後に、式ＸＸで表わされる基 質の式ＸＶＩＩへの変換について上記した方法を用いて、式ＸＸＩＸで表わされ る化合物を式ＸＸＶＩＩで表わされる化合物に変換する。式ＸＸＶＩＩで表わさ れる化合物は下記構造を有する： （式中、−Ａ−Ａ−、および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されているとおり であり、そしてＲ^xは慣用のヒドロキシル保護基である）。 式ＸＶＩで表わされる化合物の製造について上記した方法を用いて、式ＸＸＶ ＩＩで表わされる化合物を酸化し、下記式ＸＸＶＩに相当する新規化合物を生成 させる： （式中、−Ａ−Ａ−、および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されているとおり である）。 式ＸＸＩＸ、式ＸＸＶＩＩＩ、式ＸＸＶＩＩおよび式ＸＸＶＩで表わされる特 に好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式ＸＩＩＩについて定義 されているとおりである化合物である。 式ＸＸＶＩで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿／濾過によって単離 することができる。これらの化合物は、式Ｉ、特に式ＩＡで表わされる化合物を 製造するための中間体として実質的価値を有する。式ＸＸＶＩで表わされる特に 好適な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式ＸＩＩＩについて定義さ れているとおりである化合物である。式ＸＸＶＩで表わされる最も好適な化合物 において、そして−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である。 式ＶＩＩＩで表わされる化合物のシアニデーシヨンについて上記した方法を用 いて、式ＸＸＶＩで表わされる新規中間体を、下記式ＸＸＶで表わされる新規９ −ヒドロキシエナミン中間体に変換する： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 式ＸＸＶで表わされる生成物は新規化合物であり、沈殿／濾過によって単離す ることができる。これらの化合物は、式Ｉ、特に式ＩＡで表わされる化合物を製 造するための中間体として実質的価値を有する。式ＸＸＶで表わされる特に好適 な化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が式ＸＩＩＩについて定義されて いるとおりである化合物である。式ＸＸＶＩで表わされる最も好適な化合物にお いて、そして−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である。 式ＶＩで表わされるジケトン化合物の製造について上記した条件を基本的に用 いて、式ＸＸＶで表わされる９−ヒドロキシエナミン中間体を、式ＸＩＶで表わ されるジケトン化合物に変換する。この場合に、この反応がエナミン構造の加水 分解および９，１１−位置における脱水による９，１１−二重結合の導入に同時 に有効であることに留意すべきである。スキーム３に記載の工程と同一の工程を 用いて、式ＸＩＶで表わされる化合物を次いで、式ＸＸＸＩで表わされる化合物 に変換し、次いで式ＸＩＩＩで表わされる化合物に変換する。 特に好適な態様において、スキーム５の総合方法は下記のとおりに進行する： スキーム６ スキーム６は、エポキシメキセレノンおよび式Ｉに相当するその他の化合物を 製造するための有利な方法を提供し、アンドロステンジオンまたは下記式ＸＸＸ Ｖで表わされる化合物の１１α−ヒドロキシル化を用いて出発し： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＩＩＩについて定義されてい るとおりである） 下記式ＸＸＸＶＩに相当する中間体を生成させる：（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＩＩＩについて定義されてい るとおりである）。 基質を選択すること以外、この１１α−ヒドロキシル化を行う方法は基本的に スキーム１について上記されているとおりである。アンドロステンジオンまたは 式ＸＸＸＶで表わされるその他の化合物の１１α−ヒドロキシル化は下記の微生 物を用いて行うことができる： アスペルギラス オチラセウス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｏｃｈｒａｃｅｕ ｓ）ＮＲＲＬ４０５（ＡＴＣＣ１８５００）； アスペルギラス ニガー（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｎｉｇｅｒ）ＡＴＣＣ１ １３９４； アスペルギラス ニデュランス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｎｉｄｕｌａｎｓ ）ＡＴＣＣ１１２６７； リゾパス オリザエ（Ｒｈｉｚｏｐｕｓ ｏｒｙｚａｅ）ＡＴＣＣ１１１４５ ； リゾパス ストロニファー（Ｒｈｉｚｏｐｕｓ ｓｔｒｏｎｉｆｅｒ）ＡＴＣ Ｃ６２２７ｂ； トレコテシウム ロゼウム（Ｔｒｉｃｈｏｔｈｅｃｉｕｍ ｒｏｓｅｕｍ）Ａ ＴＣＣ１２５１９およびＡＴＣＣ８６８５。 １１α−ヒドロキシアンドロスト−４−エン−３，１７−ジオン、または式Ｘ ＸＸＶＩで表わされるその他の化合物を次いで、酸触媒の存在下にエーテル化剤 、例えばトリアルキルオルトホーメートとの反応によって、下記式（１０１）で 表わされる１１α−ヒドロキシ−３，４−エノールエーテルに変換する：（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＩＩＩについて定義されてい るとおりであり、そしてＲ¹¹はメチルまたはその他の低級アルキル（Ｃ₁〜Ｃ₄） である）。 この変換を行うためには、この１１α−ヒドロキシ基質を酸、例えばベンゼン スルホン酸ハイドレートまたはトルエンスルホン酸ハイドレートなどと混合する ことによって酸性にし、次いで低級アルコール溶剤、好ましくはエタノールに溶 解する。トリアルキルオルトホーメート、好ましくはトリエチルオルトホーメー トを５〜４０分間かけて徐々に添加し、この間、混合物を冷たい状態、好ましく は約０°〜約１５℃に維持する。この混合物を次いで、温め、反応を２０℃〜約 ６０℃の温度で行う。好ましくは、この反応は３０℃〜５０℃で１〜３時間行い 、次いで追加の時間、代表的に２〜６時間、加熱還流させ、反応を完了させる。 この反応混合物を冷却し、好ましくは０°〜約１５℃、好ましくは約５℃に冷却 し、 次いで溶媒を減圧で除去する。 式ＸＸで表わされる化合物の式ＸＶＩＩで表わされる化合物への変換にかかわ る上記スキーム３に記載の反応スキームと同一の反応スキームを用いて、式ＸＸ ＸＩＩＩの１７−スピロラクトン部分を式１０１で表わされる化合物中に導入す る。例えば、式１０１基質をＤＭＳＯなどの適当な溶媒中でアルカリ金属水酸化 物などの塩基の存在下に、スルホニウムイリドと反応させ、下記式１０２に相当 する中間体化合物を生成させることができる：（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、Ｒ¹¹、および−Ｂ−Ｂ−は式１０１について定義さ れているとおりである）。 この式１０２で表わされる中間体化合物を次いで、アルカリ金属アルコキシド の存在下にマロン酸ジエステルと反応させ、５員スピロラクトン環を形成させ、 下記式１０３で表わされる中間体化合物を生成させる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＩＩＩについ て定義されているとおりである）。 最終的に、ジメチルホルムアミドなどの適当な溶媒中の式１０３で表わされる 化合物を、アルカリ金属ハライドの存在下に加熱し、アルコキシカルボニル部分 を分離し、下記式１０４で表わされる中間体を生成させる： （式中また、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、Ｒ¹¹および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＩＩＩについて定 義されているとおりである）。 次いで、３，４−エノールエーテル化合物１０４を、式ＸＸＩＩＩで表わされ る化合物、すなわち式ＶＩＩＩにおいて、Ｒ⁸およびＲ⁹が一緒になって式ＸＸＸ ＩＩＩで表わされる基を形成している化合物に変換する。この酸化工程は基本的 に、スキーム４における式ＸＸＩＶで表わされる化合物の式ＸＸＩＩＩで表わさ れる中間体化合物への変換にかかわる酸化工程と同一の方法で行う。２，３−ジ クロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ）またはテトラクロ ロベンゾキノン（クロラニル）などの反応剤を用いる直接酸化を行うことができ 、あるいは好ましくは、先ず例えばＮ−ブロモスクシンアミドまたは１，３−ジ ブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン（ＤＢＤＭＨ）などの臭素化剤を用いて 臭素化し、次いでＬｉＢｒおよび熱の存在の下に、塩基、例えばＤＡＢＣＯを用 いて脱臭化水素することによる２工程酸化を行うことができる。臭素化にＮＢＳ を使用する場合に、酸をまた用いて、３−エノールエーテルをエノンに変換しな ければならない。フリーラディカル臭素化剤というよりはイオン性であるＤＢＤ ＭＨは、それ自体で臭素化およびエノールエーテルのエノンへの変換に有効であ る。 式ＶＩＩＩで表わされる化合物を次いで、スキーム１にかかわり上記した工程 によってエポキシメキセレノンまたはその他の式Ｉで表わされる化合物に変換す る。 式１０１、式１０２、式１０３および式１０４で表わされる中間体はそれぞれ 、エポキシメキセレノンまたはその他の式ＩＡおよび式Ｉで表わされる化合物用 の中間体として実質的価値を有する新規化合物である。式１０１、式１０２、式 １０３および式１０４で表わされる化合物のそれぞれにおいて、その−Ａ−Ａ− および−Ｂ−Ｂ−は好ましくは、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、そしてＲ³は水素、 低級アルキルまたは低級アルコキシである。最も好ましくは、式１０１で表わさ れる化合物は、３−エトキシ−１１α−ヒドロキシアンドロスト−３，５−ジエ ン−１７−オンであり、式１０２で表わされる化合物は、３−エトキシスピロ［ アンドロスト−３，５−ジエン−１７β，２’−オキシラン］−１１α−オール であり、式１０３で表わされる化合物は、エチル水素−３−エトキシ−１１α− １７α−ジヒドロキシプレグナ−３，５−ジエン−２１，２１−ジカルボキシレ ート、ガンマ−ラクトンであり、そして式１０４で表わされる化合物は、３−エ トキシ−１１α，１７α−ジヒドロキシプレグナ−３，５−ジエン−２１−カル ボン酸、ガンマ−ラクトンである。 特に好適な態様において、スキーム６の総合方法は下記のとおりに進行する： スキーム７ スキーム７は、エポキシメキセレノンおよび式Ｉに相当するその他の化合物の 合成方法を提供し、β−シトステロール、コレステロール、スチグマステロール または下記式ＸＸＸＶＩＩで表わされるその他の化合物からなる基質を用いて出 発する：（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＩＩＩについて定義されてい るとおりであり、Ｄ−Ｄは−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、そし てＲ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は、水素またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルの中から独立し て選択される）。 この合成の第一工程において、式ＸＸＸＶＩＩで表わされる化合物の生物変換 によって、１１α−ヒドロキシアンドロステンジオンまたは式ＸＸＸＶで表わさ れるその他の化合物を製造する。この生物変換方法は、カンレノン（または式Ｘ ＩＩＩで表わされるその他の基質）の１１α−ヒドロキシル化にかかわり上記し た方法に実質的に従い行う。 １１α−ヒドロキシアンドロステンジオンの合成において、式ＸＸＸＶＩＩで で表わされる化合物の生物変換によって、４−アンドロステン−３，１７−ジオ ンを先ず製造する。この初めの生物変換は、米国特許３，７５９，７９１に記載 の方法で行うことができる（この特許の記載を引用して、ここに組み入れる）。 次いで、４−アンドロステン−３，１７−ジオンを、カンレノン（または式ＸＩ ＩＩで表わされるその他の基質）の１１α−ヒドロキシル化にかかわり上記した 方法に実質的に従い、１１α−ヒドロキシアンドロステンジオンに変換する。 スキーム７の合成の残りの部分は、スキーム６と同一である。特に好適な態様 において、スキーム７の総合方法は下記のとおりに進行する： 本発明の方法、操作および組成物、および本明細書で使用される条件および試 薬を、以下の例でさらに説明する。例１ 表１に示す増殖培地で斜面培地を作成した。 第１世代培養物を作成するために、アスペルギルス・オクラセウス（Aspergil lus ochraceus）のコロニーを、試験管中の蒸留水（２ml）に懸濁した。この懸 濁液の０．１５mlのアリコートを、前記したように調製した各斜面培地に適州し た。斜面培地を２５℃で７日間インキュベートし、次に表面培養物の出現は、白 色の綿状の菌糸体であった。裏面は下部が橙色に着色し、上部が黄橙色に着色し た。 第１世代斜面培養物を、ツイーン８０非イオン性界面活性剤（３重量％）を含 有する無菌溶液（４ml）に懸濁し、この懸濁液のアリコート０．１５mlを使用し て、表２に示す増殖培地で作成した第２世代斜面培地に接種した。 第２世代斜面培地を２５℃で１０日間インキュベートすると、金色の胞子の大 きな塊が産生され、裏面は褐橙色であった。 表３に示す組成を有する保護培地を調製した。 ５つの第２世代斜面培地の培養物を、１００mlフラスコ中の保護溶液（１５ml ）に懸濁した。懸濁液のアリコート（各０．５ml）を、凍結乾燥のための１００ ×１０mm試験管に蒔いた．これらを、アセトン／ドライアイス浴中で−７０〜− ８０℃で２０分凍結し、次に直ちに、あらかじめ−４０〜−５０℃で冷却した乾 燥屋に移した。あらかじめ凍結したアリコートを、残存圧力５０μＨｇで−３０ ℃以下で凍結乾燥した。凍結乾燥の最後に、水分指示薬として無菌のシリカゲル の粒を２〜３個加え、フレームシールした。 工業的スケールの発酵に適した母培養斜面培地を得るために、前述の方法で調 製した凍結乾燥培養物の１つのアリコートを、蒸留水（１ml）に懸濁し、この０ ．１５mlのアリコートを使用して、表２に示す組成を有する増殖培地の斜面培地 に接種した。母斜面培地を２５℃で７日間インキュベートした。インキュベート の最後に、斜面培地に生成した培養物を４℃で保存した。 適常使用する斜面培養物を調製するために、母斜面培地の培養物をツイーン８ ０（３重量％）を含有する無菌溶液（４ml）に懸濁し、得られた懸濁液のアリコ ート０．１５mlを使用して、表２に示す増殖培地でコーティングした斜面培地に 蒔いた。通常使用する斜面培養物を使用して、実験室または工業的発酵のための 一次種菌フラスコに接種した。 一次種菌フラスコ培養．物を調製するために、前述のように調竪した通常使用 する斜面培地の培養物を採取し、ツイーン８０（３重量％）を含有する溶液（１ ０ml）に懸濁した。得られた懸濁液のアリコート０．１mlを、表４に示す組成を 有する増殖培地を含有する５００mlの邪魔板付きフラスコに導入した。 種菌フラスコを回転シェーカー（２００rpm、移動５cm）上で２８℃で２４時 間インキュベートして〜直径３〜４mmを有するペレット様の菌糸体の形で培養物 を得た。顕微鏡で観察すると、種菌培養物は、束状的増殖を示し、大きな菌糸を 有しよくねじれている、純粋な培養物であることがわかった。この懸濁液のｐＨ は５．４〜５．６であった。ＰＭＶは、遠心分離（３０００rpm×５分）により 誕定すると５〜８％であった。 種菌培養物フラスコからの菌体（１ml）を、第２の５００mlの振盪フラスコ中 の表４に示す組成を有する増殖培地（１００ml）を接種して、変換フラスコ培養 物を調製した。得られた混合物を、回転シェーカー上で２８℃で１８時間インキ ュベート（２００rpm、移動５cm）した。培養物を調べると、直径３〜４mmのペ レット様の菌糸体からなっていた。顕微鏡で観察すると、培養物は、頂端細胞は 細胞質で満たされており、古い細胞はあまり液胞を形成していない、束状および 繊維状増殖を有する、純粋な培養物であった。この培養物のｐＨは、５〜５．２ であり、ＰＭＶは遠心分離により１０％〜１５％であることが測定された。従っ てこの培養物は、カンレノン（canrenone）から１１α−ヒドロキシカンレノン への変換に適していると考えられた。 カンレノン（１ｇ）を約５μの微粉にし、無菌水（２０ml）に懸濁した。この 懸濁液に、４０％(w/v)無菌グルコース溶液、１６％(w/v)無菌の自己分解酵母溶 液、および無菌抗生物獲溶液を〜表５の０時間に示す比率で加えた。抗生物質溶 液は、硫酸カナマイシン（４０mg）、塩酸テトラサイクリン（４０mg）、および セファレキシン（２００mg）を、水（１００ml）に溶解して調製した。シェーカ ーフラスコ中の培養物に、ステロイド懸濁液、グルコース溶液、および自己分解 酵母溶液を、徐々に加えた。 反応の進行中に、反応混合物をグルコース含量について定期的に分析し、薄層 クロマトグラフィーにより１１α−ヒドロキシカンレノンへの変換について測定 した。反応中に発酵反応混合物に、グルコース含量を約０．１重量％の範囲に維 持するように調節した速度で、追加のカンレノン基質と栄養物質を加えた。ステ ロイド懸濁液、グルコース溶液、自己分解酵母溶液および抗生物質溶液の添加ス ケジュールは、表５に示す。変換反応は、回転シェーカー（２００rpm、移動５c m）で２５℃で９６時間続けた。発酵の間ｐＨは４．５〜６であった。ＰＭＶが ６０％に達したかまたは超えた時は、培養ブロスの１０mlを取り出し、１０mlの 蒸留水と交換した。発酵サイクルの開始後４、７、２３、３１、４７、５５、７ １、８０、および９６時間の間隔でブロスをサンプリングしてＴＬＣにより分析 することにより、反応中にカンレノンの消失と１１α−ヒドロキシカンレノンの 出現を追跡した。これらの試料について測定した反応の進行を表６に示す。 例２ 例１と同様に一次種菌フラスコ培養物を調製した。表７に示す組成を有する栄 養混合物を調製した。 この栄養混合物（４リットル）の最初の投入分を、１０リットルの幾何容量の 変換発酵槽に導入した。発酵槽は円錐形で、高さ対直径の比が２．５８である。 ここに、各６枚の羽根を有する２枚のＮｏ．２ディスクを有する４００rpmのタ ービン攪拌機を取り付けた。羽根車の外径は８０mmであり、各羽根の半径は２５ mmで高さは３０mmであり、上の輪は容器の上部から２８０mm下に位置し、下の輪 は上部から３６５mm下に位置し一容器の邪魔板は２１０mmの直さであり、容器の 内部の縦の壁から内側に２５mm半径方向に延びている。 種菌培養物（４０ml）を発酵槽中の栄養投入物と混合し、２８℃で２２時間イ ンキュベートし、０．５リットル／分の通気速度で０．５kg／cm²の圧力で変換 培養物を樹立した。２２時間で、培養物のＰＭＶは２０〜２５％であり、ｐＨは ５〜５．２であった。 無菌水（４００ml）中にカンレノン（８０ｇ）を含有する懸濁液を調製し、そ の１０mlを変一換発酵檀中の混合物に加えた。同時に、４０％(w/v)の無菌グル コース溶液、１６％(w/v)の自己分解酵母の無菌溶液、および無菌抗生物質溶液 を、表８の反応時間０に示す比率で加えた。抗生物質溶液は、例１と同様に調製 した。 反応の進行中に、反応混合物をグルコース含量について定期的に分析し、薄層 クロマトグラフィーにより１１α−ヒドロキシカンレノンへの変換について測定 した。後述する反応ブロス試料のＴＬＣ分析に基づき、反応混合物に追加のカン レノンを加えるとカンレノン基質が消費された。またグルコースレベルを追跡し 、グルコース濃度が約０．０５重量％およびそれ以下に低下した場合は、グルコ ース溶液を補足して濃度を約０．２５重量％とした。反応サイクルの間、不連続 な時間に栄養物質と抗生物質も加えた。ステロイド懸濁液、グルコース溶液、自 己分解酵母溶液および抗生物質溶液の添加スケジュールは、表８に示す。変換反 応は、０．５部の空気／液体１部／分（vvm）の通気速度で、陽性ヘッド圧０． ３kg／cm²で、変換反応を９０時間続けた。ＰＶＭが４５％に達し、次に２６℃ に低下するまで温度を２８℃で維持すると、ＰＶＭは４５％から６０％に増加し 、次に２４℃で調節した。最初の攪拌速度は４００rpmであり、４０時間後７０ ０rpmまで上昇した。ｐＨは、記載したように２Ｍオルトリン酸または２Ｍ Ｎ ａＯＨを加えて、４．７〜５．３に維持した。発泡は、泡が生成した時に数滴の 消泡剤ＳＡＧ４７１を加えて調節した。カンレノンの消失と１１α−ヒドロキシ カンレノンの出現は、反応の間４時間間隔で、ブロス試料をＴＬＣで分析して追 跡した。ブロスから大部分のカンレノンが消失した時、追加分を加えた。 すべてのカンレノンを添加した後、ＴＬＣ分析により、カンレノン基質の濃度 が１１α−ヒドロキシカンレノン生成物に対して約５％に低下した時、反応を停 止させた。 反応サイクルの終了後、液体ブロスから菌糸体を分離するために発酵ブロスを チーズ布でろ過した。反応の過程で添加したカンレノン１ｇ当たり約６５部（５ ．２リットル）を使用して、菌糸体画分を酢酸エチルに再懸濁した。酢酸エチル 中の菌糸体の懸濁液を、攪拌下で１時間還流し、約２０℃に冷却し、ブフナーで ろ過した。菌糸体のケーキを、順に酢酸エチル（５部／ｇ添加カンレノン；０． ４リットル）と、次にケーキから酢酸エチル抽出物を除去するために脱イオン水 （５００ml）で洗浄した。フィルターケーキを捨てた。豊富な抽出物、溶媒洗浄 液および水洗浄液をセパレーター中に採取し、次に２時間放置して層を分離させ た。 次に水層を捨て、有機槽を真空下で残存容量３５０mlまで濃縮した。蒸留器の 底を１５℃に冷却し、約１時間攪拌を続けた。得られた懸濁液をろ過して結晶性 生成物を取り出し、フィルターケーキを酢酸エチル（４０ml）で洗浄した。乾燥 後、１１α−ヒドロキシカンレノンの収率を測定すると６０ｇであった。例３ 例１に記載のように通常使用する斜面培地から、胞子懸濁液を調製した。２０ ００mlの邪魔板付き丸底フラスコ（各５０mm×３０mmの大きさの３つの邪魔板） に胞子懸濁液のアリコート（０．５ml）を、表４に記載の組成を有する栄養液（ ５００ml）に導入した。得られた混合物を、反復シェーカー（１２０ストローク ／分；移動５cm）で２５℃で２４時間、フラスコ中でインキュベートして、培養 物を得て、これを顕微鏡で観察すると、菌糸がよくねじれた純粋な培養物として 出現した。培養物のｐＨは約５．３〜５．５であり、ＰＭＶ（３０００rpmで５ 分間、遠心分離して測定）は８〜１０％であった。 こうして得られた培養物を使用して、容量１６０リットルでアスペクト比２． ３１（高さ＝９８５mm；直径＝４２５mm）を有する縦の円錐形のステンレスの発 酵槽中で種菌培養物を調製した。発酵槽に、各６枚の羽根（半径８０mmで高さ５ ０mm）を有する２枚の輪（外径２４０mm）を有するタービン攪拌機を取り付けた 。上の輪は発酵槽の上部から７８０mm下に位置し、２つ目の輪は、９９５mmの深 さである。高さ８９０mmを有する縦の邪魔板は、発酵槽の内部の縦の壁から内部 に半径方向に４０mm延びている。攪拌機は、１７０rpmで運転した。表９に示す 組成を有する栄養混合物（１００リットル）を、発酵槽に導入し、次に前述のよ うに調製したｐＨ５．７の前接種物（１リットル）の一部を導入した。 接種した混合物を、０．５リットル／分の通気速度で０．５kg／cm²のヘッド 圧で２２時間インキュベートした。ＰＭＶが２５％に連するまで温度を２８℃に 調節し、次に２５℃に低下げた。ｐＨを５．１〜５．３の範囲で調節した。菌糸 体の増殖を、種菌培養反応のｐＨと溶存酸素プロフィールとともに表１０に示す 。 こうして産生した種菌培養物を使用して、直径１．０２ｍ、高さ１．５ｍそし て幾何容量１．４ｍ³を有する縦の円錐形のステンレスの発酵槽中で変換発酵を 行った。発酵槽に、２つの羽根車（１つは反応槽のの上部から８６７cm下に位置 し、他の１つは上部から１４３５cmに位置する）を有するタービン攪拌機を取り 付けた。各輪には、６つの羽根（各半径９５cmで、高さ７５cm）が取り付けてあ る。１４４０cmの縦の邪魔板は、反応槽の内部の縦の壁から内部に半径方向に１ ００cm延びている。表１１に示す組成を有する栄養混合物を調製した。 この栄養混合物（ｐＨ＝５．７）の最初の投入分（７００リットル）を発酵槽 に導入し、次に前述のように調製した本例の種菌接種物（７リットル）を導入し た。 接種物を含有する栄養混合物を、０．５リットル／分の通気速度で０．５kg／ cm²のヘッド圧で２４時間インキュベートした。温度を２８℃に調節し、攪拌速 度は１１０rpmであった。菌糸体の増殖を表１２に、種菌培養反応のｐＨと溶存 酸素プロフィールとともに示す。 インキュベートの終了後、菌糸体のペレット化が観察されたが、ペレットは全 体に小さく比較的ゆるくかたまっていた。拡散している菌糸体をブロスに懸濁し た。最終ｐＨは５．１〜５．３であった。 こうして産生した変換培養物に、無菌水（５リットル）中のカンレノン（１． ２５０kg；５μに微粉化した）の懸濁液を加えた。無菌の添加溶液と抗生物質溶 液を、表１４の反応時間０に示す比率で加えた。低下溶液の組成は、表１３に示 す。 ０．５リットル／L-分の通気速度、０．５kg／cm²のヘッド圧で、そして７． ５Ｍ ＮａＯＨまたは４Ｍ Ｈ₃ＰＯ₄を加えてｐＨを４．７〜５．３の範囲で適 宜調整して、約９６時間、生物変換を行った。攪拌速度は最初１００rpmであり 、４０時間で１６５rpmに、そして６４時間で２５０rpmに増加させた１最初の温 度は２８℃であり、ＰＭＶが４５％に達した時２６℃に下げ、ＰＭＶが６０％に 上昇した時２４℃に下げた．必要に応じてＳＡＧ４７１の小さい液滴を加えて、 発泡を調節した。発酵中のグルコースレベルは、４時間毎に追跡し、グルコース 濃度が１gplより小さくなったら、バッチに無菌添加溶液の増分（１０リットル ）を加えた。反応中のカンレノンの消失と１１α−ヒドロキシカンレノンの出現 も、ＨＰＬＣで追跡した。最初のカンレノン添加分の少なくとも９０％が１１α −ヒドロキシカンレノンに変換された時、１．２５０kgのカンレノンの増分を加 えた。この増分のカンレノンの９０％が変換されたことが証明された時、別の１ ．２５０kgの増分を導入した。同じ基準で、全反応槽分（２０kg）が導入される まで、さらなる増分（１回１．２５０kg）を加えた。カンレノンの全添加分を反 応槽に導入した後、未反応のカンレノンの濃度が、産生された１１α−ヒドロキ シカンレノンの匙に対して５％になった時反応を停止させた。カンレノン、無菌 添加溶液、および抗生物質溶液の添加スケジュールは、表１４に示す。 生物変換が完了後、バスケット遠心分離機で遠心分離してブロスから菌糸体を 分離した。ろ液をＨＰＬＣで測定すると、採取したブロス中の１１α−ヒドロキ シカンレノンの全量のわずか２％を含有するのみであったため、捨てた。菌糸体 は、２ｍ³容量の抽出タンク中で酢酸エチル（１０００リットル）に懸濁した。 この懸濁液を酢酸エチル還流条件下で１時間攪拌しながら加熱し、次に冷却し、 バスケット遠心分離機で遠心分離した。菌糸体ケーキを酢酸エチル（２００リッ トル）で洗浄し、次に捨てた。ステロイドの豊富な溶媒抽出物を１時間放置して 、水層を分離させた。水層をさらに酢酸エチル溶媒（２００リットル）で抽出し 、次に捨てた。合わせた溶媒相を、遠心分離して清澄にし、濃縮器（５００リッ トル幾何容量）に入れ、真空下で濃縮して残存容量を１００リットルにした。溶 媒の留去において、合わせた抽出物と水溶液の、濃度器への最初の添加は１００ リットルであり、この容量は、合わせた溶液の連続的または定期的添加と溶媒の 除去により一定に維持した。溶媒留去工程が終了後、蒸留器の底を２０℃に冷却 し、２時間攪拌し、次にブフナーフィルターでろ過した。濃縮ポットを酢酸エチ ル（２０リットル）で洗浄し、次にこの洗浄溶液を使用して、フィルター上のケ ーキを洗浄した。生成物を、５０℃で１６時間真空下で乾燥した。１１α−ヒド ロキシカンレノンの収率は１４kgであった。例４ アスペルギルス・オクラセウス（Aspergillus ochraceus）ＮＲＲＬ４０５の 凍結乾燥胞子を、表１５に示す組成を有するコーンスティープリカー増殖培地（ ２ml）に懸濁した。 得られた懸濁液を、寒天平板上の胞子の壇殖のための接種物として使用した。 各々が表１６に記載の組成を有する、固体グルコース／酵母エキス／リン酸塩／ 寒天増殖培地を有する、１０枚の寒天平板を調製した。 懸濁液の０．２mlのアリコートを、各平板の表面に移し。平板を２５℃で１０ 日間インキュベートし、次にすべての平板の胞子を、表１７に示す組成を有する 無菌の低温保護培地に採取する。 得られた懸濁液を、各バイアルに１mlを移して２０個のバイアルに分割する。 これらのバイアルは、カンレノンから１１α−ヒドロキシカンレノンへの生物変 換のための後種物の作成に使用される、使用細胞バンクを産生するために利用さ れるマスター細胞バンクを構成する。マスター細胞バンクを含むバイアルは、液 体窒素フリーザーの蒸気相中で−１３０℃で保存した。 使用細胞バンクの調製を開始するために、１つのマスター細胞バンクバイアル からの胞子を、表１５に示す組成を有する無菌壇殖培地（１ml）に再懸濁した。 この懸濁液を０．２mlのアリコートに分割し、各アリコートを使用して、表１６ に示す組成の固体増殖培地を有する寒天平板に接種した。これらの平板を２５℃ で１０日間インキュベートした。インキュベートの３日目までに、増殖培地の裏 側は茶橙色であった。インキュベートの最後に、金色の胞子がたくさんできてい た。各平板からの胞子を、マスター細胞バンクの調製について記載した方法によ り採取した。各バイアルが１mlの懸濁液を有する、全部で１００本のバイアルを 調製した。これらのバイアルが使用細胞バンクを構成した。使用細胞バンクバイ アルはまた、液体窒素フリーザーの蒸気相中で−１３０℃で保存した。 表１５に示す組成を有する増殖培地（５０ml）を、２５０mlの三角フラスコに 入れた。使用細胞懸濁液のアリコート（０．５ml）をフラスコに入れ、増殖培地 ど混合した。接種した混合物を２５℃で２４時間インキュベートして、約４５％ の充填菌糸体容量を有する一次種菌培養物を産生させた。肉眼で調べると、培養 物は、直径１mm〜２mmのペレット様の菌糸体を含んでいた。顕微鏡で観察すると 、純粋な培養物として現れた。 表１５に示す組成を有する増殖培地を２．８リットルのフェルンバッハ（Fern bach）フラスコに導入して、本例の一次種菌培養物（この調製法は前述された） の一部（１０ml）を培地に接種して、２次種菌培養物の培養を開始した。接種し た混合物を回転シェーカー（２００rpm、移動５cm）で２５℃で２４時間インキ ュベートした。インキュベーションの最後に、培養物は、一次種菌培養物につい て記載したものと同じ性質を示し、カンレノンを１１α−ヒドロキシカンレノン に生物変換する変換発酵に適していた。 変換は、以下の構成のブラウンＥバイオスタット（Braun E Biostat）発酵槽 で行った。 容量：丸底で１５リットル 高さ：５３cm 直径：２０cm Ｈ／Ｄ：２．６５ 羽根車：直径７．４６cm、各２．２×１．４cmの６つの羽根 羽根車間隔：タンクの底から６５．５、１４．５および２５．５cm 邪魔板：１．９×４８cmが４つ スパージャー：直径１０．１cm、２１穴（直径約１mm） 温度制御：外部容器ジャケットにより提供される。 ２０ｇ／Ｌの濃度のカンレノンを脱イオン水（４リットル）に懸濁し、表１８ に記載の組成を有する増殖培地の一部（２リットル）を加え、発酵槽の混合物を ３００rpmで攪拌した。 得られた懸濁液を１５分攪拌し、次に脱イオン水をさらに加えて容量を７．５ リットルにした。この時点で懸濁液のｐＨを、２０重量％のＮａＯＨ溶液を加え て５．２〜６．５に潤整し、次にブラウンＥ（Braun E）発酵槽で１２１℃で３ ０分加熱して滅菌した。滅菌後のｐＨは６．３±０．２であり、最終容量は７． ０リットルであった。滅菌した懸濁液に前述のように調製した本例の２次種菌培 養物の一部（０．５リットル）を接種し、５０％無菌グルコース溶液を加えて容 量を８．０リットルにした。発酵は、ＰＭＶが５０％に連するまで２８℃の温度 で行い、次に２６℃に下げ、ＰＭＶが５０％を超えた時、さらに２４℃に下げて 、ＰＭＶを絶えず約６０％以下に維持した。最初の液体容量の０．５vvmの速度 でスパージャーを介して空気を導入し、発酵槽中の圧力を７００ミリバールゲー ジに維持した。６００rpmで攪拌を開始し、溶存酸素含量を３０容量％より上に 維持する必要に応じて、段階的に１０００rpmに上昇させた。グルコース濃度を 追跡した。初期の高グルコース濃度が発酵反応による消費によって１％未満に下 がった場合は、５０重量％の無菌グルコース溶液によりグルコースを補足して、 バッチサイクルの残りの間濃度を０．０５％〜１％の範囲に維持した。接種の前 のｐＨは６．３±０２であった。最初の発酵期間の間ｐＨが約５．３に低下した 後、水酸化アンモニウムを加えて、サイクルの残りについて５．５±０．２に維 持した。泡は、オーエスアイスペシャルティーズ社（OSI Specialties，Inc．） により商品名ＳＡＧ４７１で販売されているポリエチレングリコール消泡剤によ り調節した。 培養物の増殖は主にサイクルの最初の２４時間に起き、この時点でＰＭＶは約 ４０％であり、ｐＨは約５．６であり、溶存酸素含量は約５０容量％であった。 培養物が増殖している時にカンレノン変換が始まった。カンレノンと１１α−ヒ ドロキシカンレノンの濃度は、生物変換の間、毎日試料を分析して追跡した。試 料を熱酢酸エチルで抽出し、得られた試料溶液をＴＬＣとＨＰＬＣで分析した。 残存カンレノン濃度が最初の濃度の約１０％である時、生物変換は完全であると 考えた。およその変換時間は１１０〜１３０時間であった。 生物変換の完了後、遠心分離によりブロスから菌糸体を分離した。上清を等量 の酢酸エチルで抽出し、水盾を捨てた。菌糸体の画分を、発酵槽に投入したカン レノン１ｇ当たり約６５部を使用して、酢酸エチル中に懸濁した。菌糸体懸濁液 を攪拌しながら１時間還流し、約２０℃に冷却し、ブフナーロートでろ過した。 菌糸体のフィルターケーキを、発酵槽に投入したカンレノン１ｇ当たり５部の酢 酸エチルで洗浄し、次に脱イオン水（１リットル）で洗浄して、残存酢酸エチル を排除した。水性抽出物、豊富な溶媒、溶媒洗浄液および水洗浄液を合わせた。 抽出した残りの菌糸体ケーキは、そこに残存しているステロイドについての分析 に依存して、捨てるかまたは再度抽出した。合わせた液相を２時間沈殿させた。 次に、水層を分離し、捨て、残存容量が約５００mlになるまで有機槽を真空下で 濃縮した。次に、約１時間ゆっくり攪拌して、蒸留ビンを約１５℃に冷却した。 結晶性生成物をろ過し、冷酢酸エチル（１００ml）で洗浄して回収した。溶媒を 留去して結晶から溶媒を除去し、結晶性生成物を真空下で５０℃で乾燥した。例５ 例４に記載したように、アスペルギルス・オクラセウス（Aspergillus ochrac eus）ＡＴＣＣ１８５００の凍結乾燥した胞子を、コーンスティープリカー増殖 培地（２ml）に懸濁した。寒天平板も、例４の方法のように調製した。平板をイ ンキュベートし、例４のように採取して、マスター細胞バンクを得た。マスター 細胞バンクを含むバイアルを−１３０℃で液体窒素フリーザーの蒸気相に保存し た。 マスター細胞バンクのバイアルから、例４に記載のように使用細胞バンクを調 製し、−１３０℃で窒素フリーザーに保存した。 表１９に記載の組成を有する増殖培地（３００ml）を、２リットルの邪魔板付 きフラスコに添加した。使用細胞懸濁液のアリコート（３ml）をフラスコに導入 した。接種した混合物を回転シェーカー（２００rpm、移動５cm）で２８℃で２ ０〜２４時間インキュベートし、約４５％の充填菌糸体容量を有する一次種菌培 養物を作成した。肉眼で調べると、培養物は、直径１〜２mmのペレット用菌糸体 を含有しており、顕微鏡で観察すると、純粋な培養物として現れた。 表１９に記栽の組成を有する８リットルの増殖培地を、１４リットルのガラス 発酵槽に導入して、２次種菌培養物の培養を開始した。発酵槽に本例の１６０ml 〜２００mlの一次種菌培養物を接種する。この調製は前述のように行った。 接種した混合物を、２８℃で２００rpmで攪拌して１８〜２０時間培養し、通 気速度は０．５vvmであった。増殖の最後に、培養物は一次種菌について記載さ れたものと同じ性質を示した。 変換は６０リットルの発酵槽中で、実質的に例４に記載の方法により行ったが 、増殖培地は表２０に記載の組成を有し、２次種菌培養物の最初の添加量は３５ ０ml〜７００mlであった。攪拌速度は最初２００rpmであったが、溶存酸素を１ ０容量％より高く維持するために必要に応じて５００rpmに増加させた。２０ｇ ／Ｌのカンレノンのおよその生物変換時間は、８０〜１６０時間であった。 例６ 例４に記載の方法に従って産生した使用細胞バンクからの胞子懸濁液を使用し て、実質的に例４に記載のように一次種菌培養物および２次種菌培養物を調製し た。こうして調製された２次種菌培養物を使用して、図１に例示したタイプの変 法に従って２つの生物変換実験を行い、図２に例示した方法で２つの実験を行っ た。これらの実験の変換増殖培地、カンレノン添加スケジュール、採取時間、お よび変換の程度は、表２１に示す。実験Ｒ２Ａでは、例３と同じ原理に基づくカ ンレノン添加法を使用して、バッチの最初に１回、および２４時間後に１回行っ た。実験Ｒ２ＢとＲ２Ｄでは、バッチの最初に例４に記載の方法で一般的に行っ た方法で全カンレノン添加量を導入したが、カンレノン添加物は別の容器で滅菌 してから、発酵槽に添加し、バッチの進行に伴いグルコースを加えた。ワーリン グ（Waring）ブレンダーを使用して、滅菌で生成される塊を減少させた。実験Ｒ ２ＡとＲ２Ｂでは、カンレノンをメタノール溶液中でバッチに導入し、これらの 実験はさらに、それぞれ例３と４の実験とは異なった。 実験Ｒ２ＡとＲ２Ｂでは、発酵ビール中でメタノール濃度は約６．０％まで蓄 積し、これは、培養物の増殖と生物変換に対して阻害作用があった。しかし、こ れらの実験結果に基づいて、メタノール、または他の水と混ざる溶媒は、低濃度 で有効に作用して、カンレノン添加量を増加させ、カンレノンを微粒子沈殿物と して提供し、反応に対する対象物へのカンレノンの供給のための大きな界面面積 を提供すると、結論された。 カンレノンは滅菌温度（１２１℃）で安定であるが、凝集して塊になった。ワ ーリングブレンダーを使用して、塊を小さな粒子に破砕し、これはうまく生成物 に変換された。例７ 例４に記載の方法に従って産生した使用細胞バンクからの胞子懸濁液を使用し て、また実質的に例４に記載のように一次および２次種菌培養物を調製した。例 ７の説明と結果を表２２に示す。こうして産生された２次種菌培養物を使用して 、実質的に例３のように１つの生物変換（Ｒ３Ｃ）を行い、一般的に例５に記載 の方法に従って３つの生物変換を行った。後者の３つの実験（Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂお よびＲ３Ｄ）において、グルコース以外の増殖培地とともに、カンレノンをポー タブルタンク中で滅菌した。グルコースは別のタンクから無菌的に投入した。滅 菌したカンレノン懸濁液を、接種の前または生物変換の初期に発酵槽に導入した 。実験Ｒ３Ｂにおいて、補足的滅菌カンレノンと増殖培地を４６．５で導入した 。滅菌で生成したカンレノンの塊をワーリングブレンダーでほぐし、こうして発 酵槽に入る微粒子懸濁液を調製した。これらの実験の変換増殖培地、カンレノン 添加スケジュール、栄養物質添加スケジュール、採取時間、および変換の程度を 、表２２と２３に示す。 線維の成長のため、この例のすべての４つの実験で非常に粘性の高い発酵槽ブ ロスが見られた。通気、混合、ｐＨ調節および温度調節に関して高粘性が引き起 こす問題を解決するために、これらの実験中、通気速度と攪拌速度を増加させた 。より厳しい条件下で変換は満足に進行したが、液体ブロスの表面に濃いケーキ が生成した。このケーキにより、ブロスから未反応のカンレノンの一部が排除さ れた。例８ 例８の説明と結果を表２４に要約する。４つの発酵実験を行い、ここでカンレ ノンの生物変換により１１α−ヒドロキシカンレノンを産生した。これらの実験 の２つ（Ｒ４ＡとＲ４Ｄ）では、例６の実験Ｒ３ＡとＲ３Ｄと実質的に同様にし て、生物変換を行った。実験Ｒ４Ｃでは、一般的に例３に記載の方法でカンレノ ンを１１α−ヒドロキシカンレノンに変換した。実験Ｒ４Ｂでは、一般的に例４ に記載のように操作し、すなわち、接種の直前に発酵槽中のカンレノンと増殖培 地の滅菌を行い、すべての窒素およびリン栄養物質をバッチの開始時に投入し、 バッチの進行中のグルコースレベルを維持するために、グルコースのみを含有す る補足溶液を発酵槽に添加した。後者の方法（実験Ｒ４Ｂ）では、グルコース濃 度を６時間毎に追跡し、グルコースレベルを０．５〜１％の範囲に調節するため に記載のようにグルコース溶液を加えた。これらの実験のカンレノン添加スケジ ュールを表２５に示す。 接種後１日程度で発酵ビールは非常に粘性になったため、発酵サイクルの間、 すべての発酵槽は、強い攪拌および通気下で連転した。例９ 本例の実験の変換増殖培地、カンレノン添加スケジュール、採取時間、および 変換の程度を、表２６に記載する。 以下に記載のもの以外は、実質的に例８の実験Ｒ４Ｂについて記載したように 、４つの生物変換実験を行った。実験Ｒ５Ｂでは、他の実験の攪拌について使用 した上部タービンディスク羽根車を、下部ポンプ船舶用羽根車で置き換えた。下 降ポンプ作用は、軸の方向に発酵槽の中心にブロスを注ぎ、ケーキ生成を低下さ せた。実験Ｒ５Ｄで接種直後に、メタノール（２００ml）を加えた。カンレノン は発酵槽で滅菌したため、グルコース以外のすべての栄養物質は、バッチの最初 に添加し、窒素源、リン源または抗生物質源の連続投入の必要性を排除した。 液体表面の上に増殖する固相の浸漬を維持するために、バッチの開始後９６時 間目に各発酵槽に、増殖培地（２リットル）を加えた。混合の問題は、増殖培地 の添加または下降ポンプ羽根車の使用（実験Ｒ５Ｂ）では完全に解決はできなか ったが、実験の結果は、方法の実用性と利点を示し、従来法に従って満足できる 混合が得られることを示した。例１０ 実質的に例９のように、３つの生物変換実験を行った。本例の実験についての 変換増殖培地、カンレノン添加スケジュール、採取時間、および変換の程度を、 表２７に示す。 液体ブロス表面の上で増殖した菌糸体ケーキを沈めるために、増殖培地（１． ３リットル）と無菌水（０．８リットル）を実験Ｒ６Ａで７１時間後に添加した 。同じ目的のために、実験Ｒ６Ｂの９５時間後に、増殖培地（０．５リットル） と無菌水（０．５リットル）を加えた。物質収支データは、より良好な物質収支 が測定され、液体表面より上のケーキの蓄積は最小になった。例１１ 変換発酵槽中でカンレノンの前滅菌とカンレノンと増殖培地の滅菌を比較する ために、発酵槽実験を行った。実験Ｒ７Ａでは、実験Ｒ２Ｃ、Ｒ２Ｄ、Ｒ３Ａ、 Ｒ３Ｂ、Ｒ３Ｄ、Ｒ４Ａ、およびＲ４Ｄの条件に匹敵する条件下で、図２に例示 したように、操作を行った。実験Ｒ７Ｂは、例４、９、および１０、および実験 Ｒ４Ｂに匹敵する条件下で、図３に例示のように行った。本例に記載の実験につ いての変換増殖培地、カンレノン添加スケジュール、採取時間、および変換の程 度を、表２８に示す。 実験Ｒ７Ｂから得られた最終試料に基づく物質収支は８９．５％であり、生物 変換の大きな基質の損失または分解はないことを示している。両方の実験で混合 は充分であることが測定された。 残存グルコース濃度は、最初の８０時間は目的の５〜１０gpl調節範囲より高 かった。実験の結果は、両方の発酵槽の頭部スペースに蓄積した軽いケーキによ り影響されないようであった。例１２ 抽出効率は、表２９に要約するように一連の１リットル抽出実験で測定した。 これらの各実験で、酢酸エチル（１リットル／リットル発酵容量）を使用して菌 糸体からステロイドを抽出した。各実験で２つの連続抽出を行った。ＲＰ−ＨＰ ＬＣに基づき、最初の抽出で総ステロイドの約８０％が回収され、２回目の抽出 までに回収率は９５％に増加した。第３の抽出で、さらに３％のステロイドが回 収されたであろう。残りの２％は上清の水層中に喪失された。この抽出物を真空 下で乾燥したが、さらに溶媒で洗浄することはしなかった。方法の経済性から妥 当であれば、さらに溶媒を調べることで最初の抽出物からの回収率が改善される であろう。 １リットルのブロススケールで１１α−ヒドロキシカンレノン用の抽出／結晶 化溶媒として、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）とトルエンを評価した。前 述の抽出プロトコルを使用すると、ＭＩＢＫとトルエンは、抽出効率と結晶化の 両方で酢酸エチルと同等であった。例１３ 図２と図３の方法の評価の一貫として、これらの方法のそれぞれの発酵の最初 に提供されるカンレノン基質について、粒子サイズの研究を行った。前述のよう に、図１の方法に加えるカンレノンを、発酵槽に加える前に微粉化した。この方 法で、カンレノンは滅菌されず、好ましくない微生物の増殖は抗生物質の添加に より制御される。図２と図３の方法は、反応前にカンレノンを滅菌する。図２の 方法で、これは、カンレノンを発酵槽に導入する前にブレンダー中で行われる。 図３の方法において、増殖培地中のカンレノンの懸濁液は、バッチの最初に発酵 槽で滅菌される。前述のように、滅菌するとカンレノン粒子の凝集を引き起こし 易い。増殖培地水溶液中のカンレノンの溶解度は限定されているため、この方法 の生産性は固相からの物質移動に依存し、従って固体粒状物質により提供される 界面領域に依存することが予胆され、これはまた粒子サイズ分布に依存する。こ れらの考察は、図２と図３の方法に対して抑制的に作用する。 しかし、図２のバッチの移動で使用される剪断ポンプの作用とともに、図２の ブレンダーと図３の発酵タンク中での攪拌は、凝集物を、図１の方法に加えられ た非滅菌および微粉化カンレノンのレベルに近い粒子サイズの範囲まで分解する ことがわかった。これは、３つの方法の各々の反応サイクルの開始時に入手でき るカンレノンの、粒子サイズ分布により例示される。表３０および図４と５を参 照されたい。 表３０のデータから、攪拌機や剪断ポンプは、滅菌カンレノンの平均粒子サイ ズを、非滅菌基質と同じオーダーに低下させるのに有効であるが、非滅菌基質に 偏った大きなサイズ差が残ることに注目されたい。この差にもかかわらず、反応 結果のデータは、少なくとも前滅菌方法は、図１の方法と同様に生産性であった 。さらなる利点は、図２の方法において、粒子サイズのさらなる低下および制御 （例えば、滅菌カンレノンの湿潤粉砕、および／または滅菌より低温殺菌）のた めのいくつかの工程により実現される。例１４ 例５に記載のように種菌培養物を調製した。２０時間目に、接種発酵槽中の菌 糸体は、４０％ＰＭＶを有して柔軟であった。そのｐＨは５．４であり、１４． ８gplのグルコースが使用されずに残った。 表２０に示す組成を有する変換増殖培地（３５リットル）を調製した。添加培 地の調製において、グルコースと酵母エキスは、初期濃度が３０重量％のグルコ ースと１０重量％の酵母エキスの単一の添加物として混合した。添加物のｐＨは ５．７に調整した。 この培地を使用して（表２０）、カンレノンの１１α−ヒドロキシカンレノン への変換について２つの生物変換実験を行った。各実験を、１つのラッシュトン （Ｒｕｓｈｔｏｎ）タービン羽根車と２つのライトニン（Ｌｉｇｈｔｎｉｎ’） Ａ３１５羽根車を含む攪拌機を取り付けた６０リットルの発酵槽中で行った。 発酵槽への増殖培地の最初の添加量は、３５リットルであった。微粉化した非 滅菌カンレノンを、初期濃度０．５％で加えた。発酵槽中の培地は、初期接種比 ２．５％で例５に記載のように調製した種菌培養物を接種した。発酵は、温度２ ８℃、攪拌速度２００〜５００rpm、通気速度０．５vvm、および少なくとも２０ 容量％の溶存酸素レベルを維持するのに充分な背圧で行った。生産実験中に成長 した変換培養物は、非常に小さい楕円形のペレットであった（約１〜２mm）。カ ンレノンと補足栄養物質は、例１に一般的に記載したように発酵槽に連続的に添 加した。栄養物質の添加は、４時間毎に発酵槽中のブロス１リットル当たり３． ４ｇグルコースと０．６ｇ酵母エキスの比で行った。 表３１に記載したのは、本例の各実験の間の記載した間隔中の通気速度、攪拌 速度、溶存酸素、ＰＭＶ、およびｐＨ、ならびにバッチの間に添加したグルコー スである。表３２は、カンレノン変換プロフィールを示す。実験Ｒ１１Ａは、４ ６時間後停止した。実験Ｒ１１Ｂは９６時間続けた。後者の実験では８１時間目 に９３％変換に連した。もう１つの添加は、８４時間に行い、次に添加を停止し た。添加を停止した時間と実験の最後の間に、粘度の大きな変化が起きたことに 注意されたい。 例１５ 上記で概説された方法に従って、カンレノンから１１α−カンレノンへの生物 変換の有効性について種々の培養物を試験した。 アスペルギルス・ニガー（Aspergillus niger）ＡＴＣＣ１１３９４、リゾプ ス・アリズス（Rhizopus arrhizus）ＡＴＣＣ１１１４５、およびリゾプス・ス トロニファー（Rhizopus stolonifer）ＡＴＣＣ６２２７ｂの各使用細胞バンク を、例５に記載のように調製した。表１８に記載の組成を有する増殖培地（５０ ml）に、使月細胞バンクからの胞子懸濁液（１ml）を接種し、インキュベーター に入れた。インキュベーター中で２６℃で約２０時間発酵させて、種菌培養物を 調製した。インキュベーターを２００rpmで攪拌した。 各微生物の種菌培養物のアリコート（２ml）を使用して、表１８の増殖培地（ ３０ml）を含有する変換フラスコに接種した。２つのフラスコの接種のために各 培養物を使用し、全部で６つのフラスコに接種した。カンレノン（２００mg）を ３６℃でメタノール（４ml）に溶解し、この溶液の０．５mlアリコートを各フラ スコに導入した。大体、例５に記載した条件下で、毎日５０重量％のグルコース 溶液（１ml）を加えて、生物変換を行った。最初の７２時間後、各変換発酵フラ スコ中の菌糸体の成長について、以下の観察を行った。 ＡＴＣＣ１１３９４−良好な均一の増殖。 ＡＴＣＣ１１１４５−最初の４８時間は良好な増殖であるが、菌糸体が固まっ てボールになった。最後の２４時間は増殖は見られなかった。 ＡＴＣＣ６２２７ｂ−良好な増殖。菌糸体が塊になったボールを形成した。 ブロスの試料を採取して、生物変換の程度について分析した。３日後、ＡＴＣ Ｃ１１３９４を使用する発酵は、１１α−ヒドロキシカンレノンへの８０〜９０ ％の変換を与え、ＡＴＣＣ１１１４５は５０％の変換を与え、そしてＡＴＣＣ６ ２２７ｂは８０〜９０％の変換を与えた。例１６ 実質的に例１５に記載の方法を使用して、カンレノンから１１α−ヒドロキシ カンレノンへの変換の有効性について追加の微生物を試験した。試験した生物と これらの試験の結果を、表３３に示す。 １培地：CSL−コーンスティープリカー；TSB−トリプチックソイブロス：P&CSL −ペプトンとアコーンスティープリカー；BP−ビーフエキスとペプトン。例１７ カンレノンから９α−ヒドロキシカンレノンへの変換の有効性について種々の 微生物を試験した。本例の実験の発酵培地は、表３４に記載のように調製した： 真菌をソイビーンミール培地とペプトン−酵母エキスグルコースで増殖させた ；アクチノミセーテス（actinomycetes）とユーバクテリア（eubacteria）は、 ソイビーンミール（これに加えて、生物変換のための０．９重量％のギ酸ナトリ ウム）中、およびミューラー−ヒントンブロス中で増殖させた。 スターター培養物を凍結胞子ストックとともに接種した（２５０mlの三角フラ スコ中の２０mlのソイビーンミール）。フラスコを、ミルクフィルターでカバー しバイオシールドした。スターター培養物（２４〜４８時間令）を使用して、１ ０％〜１５％の交差容量で、代謝培養物（これも２５０mlの三角フラスコ中の２ ０ml）を接種し、後者を２４〜４８時間インキュベート後、変換反応のためにス テロイド基質を加えた。 カンレノンをメタノールに溶解／懸濁し（２０mg/ml）し、フィルターで滅菌 し、最終濃度０．１mg/mlになるように培養物に加えた。すべての変換発酵フラ スコを、制御された温度室で２６℃および６０％湿度で２５０rpm（距離２”） で振盪した。 生物変換物を、基質の添加後５時間と４８時間、または２４時間に採取した。 発酵フラスコに酢酸エチル（２３ml）または塩化メチレンを加えて、採取を始め た。次にフラスコを２分振盪し、各フラスコの内容物を５０mlの円錐試験管に入 れた。相を分離するために、試験管を室温ユニットで４０００rpmで２０分遠心 分離した。各試験管の有機槽を２０mlのホウ素ケイ酸ガラスバイアルに移し、ス ピードバック（speed vac）で溶媒を留去した。バイアルに栓をし、−２０℃で 保存した。 構造決定のための材料を得るために、振盪フラスコ発酵の数を２５に増やして ５００mlまでスケールアップした。採取の時間（基質の添加後２４または４８時 間）に、各フラスコに酢酸エチルを加え、フラスコに栓をしてシェーカーに戻し て２０分攪拌した。次にフラスコの内容物をポリプロピレンビンに注ぎ、遠心分 離して相を分離するか、または分液ロートに入れて重量により分離した。有機槽 を乾燥させ、反応混合物中に含有されるステロイドの粗抽出物を得た。 反応生成物をまず、シリカゲル（２５０μｍ）の裏が蛍光のプレート（２５４ nm）の薄層クロマトグラフィーで分析した。反応混合物からの乾燥酢酸エチル抽 出物を含有する各バイアルに、酢酸エチル（５００μｌ）を加えた。高速液体ク ロマトグラフィーと質量スペクトルでさらに分析した。プレートを９５：５ｖ／ ｖクロロホルム／メタノール媒体で展開させた。 高速液体クロマトグラフィーと質量スペクトルによりさらに分析した。ミレニ ウム（Millennium）ソフトウェア、光ダイオードアレイ検出器および自動サンプ ラーを有するウォーターズ（waters）ＨＰＬＣを使用した。逆相ＨＰＬＣは、ウ ォーターズ（waters）のノバパック（NovaPa k）Ｃ−１８（粒子サイズ４μｍ） ラジアルパック（RadialPak）４mmカートリッジを使用した。水：アセトニトリ ル（７５：２５）で初期化したカラムで２５分の直線溶媒勾配を開始し、水：ア セトニトリル（２５：７５）で終了した。次に、１００％アセトニトリルへの３ 分の勾配、および４分のイソクラチック洗浄を行った後、初期条件でカラムを再 生した。 ＬＣ／ＭＳのために、酢酸アンモニウムを２nMの濃度でアセトニトリルと水層 の両方へ加えた。クロマトグラフィーはあまり影響されなかった。カラムからの 溶出液を２２：１に分け、多い方の材料をＰＤＡ検出器に向けた。残りの４．５ ％の材料を、シエックス（Sciex）ＡＰＩ III質量スペクトル装置の電子噴射イ オン化チャンバーに向けた。質量スペクトルは陽性モードで行った。ＨＰＬＣ上 のＰＤＡ検出器からのアナログデータラインは、単一波長クロマトグラムを、Ｕ ＶとＭＳデータの同時分析のための質量スペクトル装置に伝達した。 質量スペクトルフラグメンテーションパターンは、水酸化基質間で分類するの に有用であった。２つの予測される水酸化カンレノン（１１α−ヒドロキシカン レノンと９α−ヒドロキシカンレノン）は、一定の方式で水を失い、これは診断 薬として使用できるであろう。また、９α−ヒドロキシカンレノンは、１１α− ヒドロキシカンレノンより容易にアンモニウム付加物を生成した。表３５には、 カンレノンについてのＴＬＣ、ＨＰＬＣ／ＵＶ、およびＬＣ／ＭＳデータの要約 を示し、カンレノンから９α−ヒドロキシカンレノンへの生物変換に、試験した 微生物のいずれが有効であったかを示す。これらのうち、好適な微生物は、コリ ネスポラ・カシイコラ（Corynespora cassiicola）ＡＴＣＣ１６７１８であった 。 例１８ 上記で概説した方法に従って、アンドロステンジオンから１１α−ヒドロキシ アンドロステンジオンへの生物変換の有効性について種々の培養物を試験した。 アスペルギルス・オクラセウス（Aspergillus ochraceus）ＮＲＲＬ４０５（ ＡＴＣＣ１８５００）、アスペルギルス・ニガー（Aspergillus niger）ＡＴＣ Ｃ１１３９４、アスペルギルス・ニヅランス（Aspergillus nidulans）ＡＴＣＣ １１２６７、リゾプス・オリザエ（Rhizopus oryzae）ＡＴＣＣ１１１４５、リ ゾプス・ストロニファー（Rhizopus stolonifer）ＡＴＣＣ６２２７ｂ、トリコ セシウム・ロセウム（Trichothecium roseum）ＡＴＣＣ１２５１９およびＡＴＣ Ｃ８６８５の各使用細胞バンクを、基本的に例４に記載のように調製した。表１ ８に記載の組成を有する増殖培地（５０ml）に、使用細胞バンクからの胞子懸濁 液（１ml）を接種し、インキュベーターに入れた。インキュベーター中で２６℃ で約２０時間発酵させて、種菌培養物を調製した。インキュベーターを２００rp mで攪拌した。 各微生物の種菌培養物のアリコート（２ml）を使用して、表１５の増殖培地（ ３０ml）を含有する変換フラスコに接種した。２つのフラスコの接種のために各 培養物を使用し、全部で１６のフラスコに接種した。アンドロステンジオン（３ ００mg）を３６℃でメタノール（６ml）に溶解し、この溶液の０．５mlアリコー トを各フラスコに導入した。大体、例６に記載した条件下で、４８時間生物変換 を行った。４８時間後、ブロスの試料をプールし、例１７のように酢酸エチルで 抽出した。酢酸エチルを留去して濃縮し、試料を薄層クロマトグラフィーで分析 して、１１α−ヒドロキシアンドロステンジオン標準物質（シグマケミカル社（ Sigma Chemical Co.）、セントルイス、ミズーリ州と類似のクロマトグラフィ ー移動度を有する生成物が存在するか否かを調べた。結果を表３６に示す。陽性 の結果を「＋」で示す。 表３６のデータは、記載の各培養物は、アンドロステンジオンから、１１α− ヒドロキシアンドロステンジオン標準物質と同じＲｆ値を有する化合物を産生す ることができることを証明している。 アスペルギルス・オクラセウス（Aspergillus ochraceus）ＮＲＲＬ４０５（ ＡＴＣＣ１８５００）を、前述の方法と同じ方法で再試験し、培養産物を単離し 、メタノールを溶媒として使用して、通常の相のシリカゲルカラムクロマトグラ フィーにより精製した。画分を薄層クロマトグラフィーで分析した。ＴＬＣプレ ートは、ワットマン（Whatman）Ｋ６Ｆシリカゲル６０Å、大きさ１０×２０、 厚さ２５０μである。溶媒系はメタノール：黒補、５：９５、ｖ／ｖである。結 晶化した生成物と１１α−ヒドロキシアンドロステンジオン標準物質の両方をＬ Ｃ−ＭＳとＮＭＲスペクトル測定で分析した。両方の化合物は、同様のプロフィ ールと分子量を与えた。例１９ メキスレノン（mexrenone）から１１β−ヒドロキシメキスレノンへの生物変 換の有効性について種々の微生物を試験した。本例の発酵培地は、表３４に記載 したように調製した。 発酵条件および分析方法は、例１７に記載のものと同じである。ＴＬＣプレー トと溶媒系は、例１８に記載の通りである。クロマトグラフィー分析の理論は以 下の通りである：１１α−ヒドロキシメキスレノンと１１α−ヒドロキシカンレ ノンは、同じクロマトグラフィー移動度を有する。１１α−ヒドロキシカンレノ ンと９α−ヒドロキシカンレノンは、１１α−ヒドロキシアンドロステンジオン と１１β−ヒドロキシアンドロステンジオンと同じ移動度パターンを示す。従っ て、１１β−ヒドロキシメキスレノンは、９α−ヒドロキシカンレノンと同じ移 動度を有するはずである。従って増殖培地から抽出された化合物を、９α−ヒド ロキシカンレノンを標準物質として試験した。結果を表３６に示す。 ¹Ｍ＝ミューラー−ヒントン Ｐ＝ＰＹＧ（ペプチド／酵母エキス／グルコース） Ｓ＝ソイビーンミール ＳＦ＝ソイビーンミール＋ギ酸² ？＝基質のない対照からの差は問題がある これらのデータは、この表に記載の生成物の大部分は、メキスレノンから１１ β−ヒドロキシメキスレノンと類似のまたは同じ生成物を産生することを示唆す る。例２０ スキーム１：工程１：５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカ ヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’ａ，１３’α−ジメチル−３’，５−ジ オキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［ ４Ｈ［シクロペンタ［ａ］フェナントレン１５’−カルボニトリルの調製 ５０ガロンのガラス内張反応槽に、６１．２リットル（５７．８kg）のＤＭＦ を添加し、次に２３．５kgの１１α−ヒドロキシカンレノン１を攪拌しながら加 えた。この混合物を２０分攪拌し、１６．９kgのアセトンシアンヒドリンを添加 し、次に５．１kgのトリエチルアミンを添加した。この混合物を８５℃に加熱し 、この温度で１３〜１８時間維持した。反応後３５３リットルの水を加え、次に ５．６kgの重炭酸ナトリウムを加えた。この混合物を０℃に冷却し、２００ガロ ンのガラス内張反応槽に移し、１３０ｋｇの６．７％次亜塩素酸ナトリウム溶液 を静かに加えて反応を停止させた。生成物をろ過し、３×４０リットルの水で洗 浄して、２１．４kgの生成物エナミンを得た。 例２１ スキーム１：工程２：４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’ α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキ ソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロ ペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルの調製 ２００ガロンのガラス内張反応槽に、５０kgのエナミン２、約４４５リットル の０．８Ｎの希塩酸および７５リットルのメタノールを添加した。この混合物を ８０℃に５時間加熱し、０℃に２時間冷却した。固体生成物をろ過して、３６． ５kgの乾燥生成物ジケトンを得た。 例２２ スキーム１：工程３Ａ：メチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３ −オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトン の調製 ５リットルの四ツ首底付きフラスコに、攪拌機、窒素吸込み管を有する圧力平 衡化添加ロート、温度計およびバブラー付き冷却器を取り付けた。バブラーをタ イゴンチューブで２つの２リットルのトラップにつなぎ、第１のトラップは空で 、第２のトラップ（濃縮次亜塩素酸ナトリウム溶液１リットル）中の物質の反応 容器への逆吸引を防ぐために置いた。ジケトン３（７９．５０ｇ；［重量は、８ ５％である純度について補正されていない］）を、３リットルのメタノール中で フラスコに加えた。２５％のメタノール性ナトリウムメトキシド溶液（６４．８ ３ｇ）をロートに入れ、窒素下で攪拌しながら１０分間滴下して加えた。添加が 完了後、橙黄色の反応混合物を２０時間加熱還流した。次に、１６７mlの４ＮＨ Ｃｌを滴下ロートで滴下して、まだ還流している反応混合物に加えた（注意：こ の時点でＨＣＮが出てくる）。反応混合物は色が薄くなり、薄い金橙色になっ た。次に冷却器を、取り外せるヘッドと取り替え、蒸留して１．５リットルのメ タノールを蒸留して除去し、同時に蒸留速度と同調してロートから水を加えた。 反応混合物を周囲温度まで冷却し、２．２５リットルずつの塩化メチレンで２回 抽出した。合わせた抽出物を、７５０mlずつの冷飽和ＮａＣｌ溶液、１Ｎ Ｎａ ＯＨおよび再度飽和ＮａＣｌで連続的に洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで一 晩乾燥し、ろ過し、容量を真空下で約２５０mlにした。トルエン（３００ml）を 加え、減圧下で残りの塩化メチレンを除去し、この間生成物が白色の固体として フラスコの壁に生成し始めた。フラスコの内容物を一晩冷却し、ろ過して固体を 除去した。これを２５０mlのトルエン、２５０mlずつのエーテルで２回で洗浄し 、真空ロートで乾燥して、５８．４９ｇの白色の固体をＨＰＬＣにより９７．３ ％の純度で得た。母液を濃縮すると、さらに６．７６ｇの７７．１％の純度の生 成物が得られた。総収率は純度で補正すると７８％であった。例２３ スキーム１：工程３Ｂ：メチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキ ソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンから、 メチル水素１７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホニル）オキシ−３−オ キソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンへの 変換 ５リットルの四ツ首フラスコに上記のものを取り付けたが、バブラーの上にト ラップ装置は取り付けなかった。１３８．７０ｇのヒドロキシエステルをフラス コに加え、次に窒素下で攪拌しながら１４２５mlの塩化メチレンを加えた。塩／ 氷浴を使用して、反応混合物を−５℃に冷却した。メタンスルホニルクロリド（ ５１．１５ｇ、０．４４７モル）を急速に加え、次に２２５mlの塩化メチレン中 のトリエチルアミン（５４．３７ｇ）をゆっくり滴下して加えた。約３０分間要 した添加は、反応の温度が決して約５℃以上にならないように調整した。添加後 １時間攪拌を続けて、反応内容物を１２リットルの分液ロートに移し、ここに２ １００mlの塩化メチレンを加えた。溶液を７００mlずつの冷１Ｎ ＨＣｌ、１Ｎ ＮａＯＨ、および飽和ＮａＣｌ水溶液で連続的に洗浄した。水性洗浄物を合わ せて、３５００mlの塩化メチレンで逆抽出した。すべての有機洗浄液を、９リッ トルのビンの中で合わせ、ここに５００ｇの中性アルミナ（活性グレードII）お よび５００ｇの無水硫酸ナトリウムを加えた。ビンの内容物を３０分間充分混合 し、ろ過した。ろ液を真空下で乾燥して、ガム状の黄色の泡状物質を得た。これ を３５０mlの塩化メチレンに溶かし、１８００mlのエーテルを攪拌しながら滴下 して加えた。添加速度は、約３分の１のエーテルが３０分間で加えられるように 調節した。約７５０mlを加えた後、生成物が結晶性固体として分離し始めた。残 存するエーテルを１０分間で加えた。ろ過して固体を除去し、フィルターケーキ を２リットルのエーテルで洗浄し、真空オーブン中で５０℃で一晩乾燥して、１ ４４．６１ｇ（８８％）のほとんど白色の固体（融点、１４９℃〜１５０℃）を 得た。こうして調製した物質は典型的にはＨＰＬＣで９８〜９９％（面積％）の 純度であった。１つの実験で、融点が１５３℃〜１５３．５℃の物質が得られ、 純度はＨＰＬＣの面積で測定すると９９．５％であった。例２４ スキーム１：工程３Ｃ：方法Ａ：メチル水素１７α−ヒドロキシ−３−オキソ プレグナ−４，９（１１）−ジエン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラ クトンの調製 １リットルの四ツ首フラスコに第２の例のように取り付けた。ギ酸（２５０ml ）と無水酢酸（６２ml）を、窒素下で攪拌しながらフラスコに加えた。ギ酸カリ ウム（６．１７ｇ）を加え、反応混合物を油浴で内部温度４０℃まで１６時間加 熱した（これは、後に７０℃で繰り返し、より良好な結果が得られた）。１６時 間後、メシレート５を加え、内部温度を１００℃に増加させた。加熱と攪拌を２ 時間続けて、次に溶媒を真空下でロタバップ（ratavap）上に除去した。残渣を ５００mlの氷水で１５分間攪拌し、次に５００Omlずつの酢酸エチルで２回抽出 した。有機層を合わせ、２５０mlずつの冷飽和塩化ナトリウム溶液（２回）、１ Ｎ水酸化ナトリウム溶液、で連続的に洗浄し、次に再度飽和塩化ナトリウムで洗 浄した。次に有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、真空下で乾燥して黄白 色の泡状物質を得て、これはスパテルで触わると粉砕されてガラス状になった。 生成した粉末は分析すると、１４．６５ｇは、８２．１％の６、７．４％の８、 および５．７％の９（ＨＰＬＣの面積％）の混合物であった。例２５ スキーム１：工程３Ｃ：方法Ｂ：メチル水素１７α−ヒドロキシ−３−オキソ プレグナ−４，９（１１）−ジエン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラ クトンの調製 ５リットルの四ツ首フラスコに上記例のように取り付け、２２８．２６ｇの酢 酸と４１．３７ｇの酢酸ナトリウムを、窒素下で攪拌しながら加えた。油浴を使 用して、混合物を内部温度１００℃まで加熱した。メシレート（１２３．６５ｇ ）を加え、さらに３０分加熱を続けた。この期間の最後に、加熱を止め、２００ mlの氷水を加えた。温度は４０℃に低下し、攪拌を１時間続け、次に反応混合物 をゆっくり、５リットルの攪拌フラスコ中の１．５リットルの冷水中に注いだ。 生成物を油状物として分離した。油状物を１リットルの酢酸エチルに溶解し、１ リットルずつの冷飽和塩化ナトリウム溶液、１Ｎ水酸化ナトリウム、および最後 に飽和塩化ナトリウムでもう一度洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、 ろ過した。ろ液を真空下で濃縮して泡状物を得て、これはくずれて粘着性の油状 物となった。これをエーテルでしばらく粉砕し、最終的に固化した。固体をろ過 し、エーテルで洗浄して、７９．５９ｇの黄白色の固体を得た。これは、７０． ４％の目的のΔ^9、11エネスター６、１２．３％のΔ^11、12エネスター８、１０． ８％の７−α，９−α−ラクトン９、および５．７％の未反応の５から成ってい た。例２６ スキーム１：工程３Ｄ：メチル水素９，１１α−エポキシ−１７α−ヒドロキ シ−３−オキソプレグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラ クトンの合成 四ツ首ジャケット付き５００mlフラスコに、攪拌機、冷却器／バブラー、温度 計、および窒素吸込み管を有する添加ロートを取り付けた。反応槽に、８３mlの 塩化メチレン中の８．３２ｇの粗エネスターを窒素下で攪拌しながら添加した。 ここに４．０２ｇのリン酸−水素カリウム、次に１２mlのトリクロロアセトニト リルを加えた。反応槽ジャケットを通して外部冷却水を流し、反応混合物を８℃ に冷却した。添加ロートに、３６mlの３０％過酸化水素を１０分かけて加えた。 最初淡黄色であった反応混合物が、添加完了後ほとんど無色になった。添加の間 および次に連続的に一晩攪拌の間（全部で２３時間）反応混合物は９±１℃であ った。塩化メチレン（１５０ml）を反応混合物に加え、全内容物を約２５０mlの 氷水に加えた。これを１５０mlずつの塩化メチレンで３回抽出した。合わせた塩 化メチレン抽出物を４００mlの冷３％亜硫酸ナトリウムで洗浄して、残存する過 酸化物を分解させた。次に３３０mlの冷１Ｎ水酸化ナトリウムで洗浄、４００ml の１Ｎ塩酸で洗浄、そして最終的に４００mlの食塩水で洗浄した。有機層を硫酸 マグネシウムで乾燥し、ろ過し、フィルターケーキを８０mlの塩化メチレンで洗 浄した。溶媒を真空下で除去して、９．１０ｇの粗生成物を淡黄色の固体として 得た。これを約２５mlの２−ブタノンで再結晶して、５．５２ｇのほとんど白色 の結晶を得た。アセトン（約５０ml）から再結晶化すると、３．１６ｇの長い針 状の結晶（融点２４１〜２４３℃）が得られた。例２７ スキーム１：工程３：オプション１：４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカ ヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２ ０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［ １７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニト リルからメチル水素９，１１α−エポキシ−１７α−ヒドロキシ−３−オキソプ レグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトン ジケトン（２０ｇ）をきれいな乾燥した反応槽に入れ、次に８２０mlのＭｅＯ Ｈと１７．６mlの２５％ＮａＯＭｅ／ＭｅＯＨ溶液を加えた。反応混合物を還流 条件（約６７℃）で１６〜２０℃に加熱した。生成物を、４０mlの４Ｎ ＨＣｌ で反応停止させた。溶媒を大気圧で蒸留して除去した。１００mlのトルエンを加 え、残存メタノールをトルエンとの共沸蒸留により除去した。濃縮後、粗ヒドロ キシエステル４を２０６mlの塩化メチレンに溶解し、０℃に冷却した。メタンス ルホニルクロリド（５ml）を加え、次に１０．８mlのトリエチルアミンをゆっく り加えた。生成物を４５分間攪拌した。真空蒸留により溶媒を除去して、粗メシ レート５を得た。 別の乾燥した反応槽中に、５．９３ｇのギ酸カリウム、２４０mlのギ酸を加え 、次に１１８mlの無水酢酸を加えた。混合物を４時冊間７０℃に加熱した。 ギ酸混合物を、前記で調製した濃縮メシレート溶液５に加えた。混合物を２時 間９５〜１０５℃に加熱した。生成混合物を５０℃に冷却し、揮発性成分を５０ ℃で真空蒸留して除去した。生成物を２７５mlの酢酸エチルと２７５mlの水の間 で分配した。水層を１３７mlの酢酸エチルで逆抽出し、２４０mlの冷１Ｎ水酸化 ナトリウム溶液で洗浄し、次に１２０mlの飽和ＮａＣｌで洗浄した。相分離後、 有機層を真空蒸留により濃縮して粗エネスターを得た。 生成物を１８０mlの塩化メチレンに溶解し、０〜１５℃に冷却した。８．６８ ｇのリン酸水素二カリウムを加え、次に２．９mlのトリクロロアセトニトリルを 加えた。この混合物に、３分かけて７８mlの３０％過酸化水素を加えた。反応混 合物を０〜１５℃で６〜２４時間攪拌した。反応後、２層混合物を分離した。有 機層を１２６mlの３％次亜硫酸ナトリウム溶液、１２６mlの０．５Ｎ水酸化ナト リウム溶液、１２６mlの１Ｎ塩酸および１２６mlの１０％食塩水で洗浄した。生 成物を無水硫酸マグネシウムで乾燥するかまたはセライトでろ過し、溶媒塩化メ チレンを大気圧で蒸留して除去した。生成物をメチルエチルケトンから２回結晶 化して、７．２ｇのエプレレノン（eplerenone）を得た。 例２８ スキーム１：工程３：オプション２：１’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカ ヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２ ０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［ １７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニト リルからメチル水素９，１１α−エポキシ−１７α−ヒドロキシ−３−オキソプ レグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンへの中間体 のない変換 ５リットルの四ツ首丸底フラスコに、攪拌機、窒素吸込み管を有する添加ロー ト、温度計および次亜鉛素酸ナトリウムスクラバーに結合したバブラー付き冷却 器を取り付けた。ジケトン（８３．２０ｇ）を３．０５リットルのメタノール中 でフラスコに加えた。添加ロートにメタノール中のナトリウムメトキシドの２５ ％（ｗ：ｗ）溶液６７．８５ｇを加えた。窒素下で攪拌して、メトキシドを１５ 分間かけてフラスコに滴下して加えた。黒っぽい橙／黄色のスラリーが現れた。 反応混合物を２０時間加熱還流し、還流を続けながら１７５mlの４Ｎ塩酸を滴下 して加えた。（注意：この操作中にＨＣＮが出てくる）。還流冷却器に取り外せ るヘッドを取り付け、蒸留して１．６リットルのメタノールを除去し、同時に蒸 留速度と同調してロートから滴下して１．６リットルの１０％塩化ナトリウム水 溶液を加えた。反応混合物を周囲温度まで冷却し、２．２５リットルずつの塩化 メチレンで２回抽出した。合わせた抽出物を、７５０mlずつの冷１Ｎ水酸化ナト リウムおよび飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄した。有機層を１気圧でメタノール とも共沸蒸留により乾燥して、最終容量を１リットルにした（総量の０．５％を 分析のために取った）。 濃縮した有機溶液（ヒドロキシエステル）を、前述のように取り付けた（しか し、ＨＣＮトラップのない）元々の反応フラスコに戻した。フラスコを０℃に冷 却し、３０．７ｇのメタンスルホニルクロリドを窒素下で攪拌しながら加えた。 添加ロートに３２．６５ｇのトリエチルアミンを添加し、これを温度を５℃に維 持しながら１５分間かけて滴下して加えた。攪拌を２時間続けて、反応混合物を 周囲温度まで暖めた。２５０ｇのダウエックス（Dowex）５０Ｗ×８−１００酸 性イオン交換樹脂よりなるカラムを調製し、使用前に２５０mlの水、２５０mlの メタノールおよび５００mlの塩化メチレンを使用して前述のように洗浄した。反 応混合物をこのカラムに流し、集めた。新鮮なカラムを調製し、上記操作を繰り 返した。ダウエックス（Dowex）１×８−２００塩基性イオン交換樹脂よりなる 第３の２５０ｇのカラムを調製し、上記の酸性樹脂処理のように前処理した。反 応混合物をこのカラムに流し、集めた。塩基性樹脂の第４のカラムを調製し、反 応混合物を再度このカラムに流し集めた。各カラムを流した後に２５０mlの塩化 メチレンで２回洗浄し、各通過には約１０分を要した。溶媒洗浄液を反応混合物 と合わせ、真空下で容量を約５００mlに減らし、この２％を品質管理用に取った 。残りをさらに減らして最終容量を１５０ml（粗メシレート溶液）にした。 元々の５リットルの反応装置に、９６０mlのギ酸、４７２mlの無水酢酸、およ び２３．７０ｇのギ酸カリウムを加えた。この混合物を窒素下で攪拌して１６時 間７０℃に加熱した。次に温度を１００℃に上げ、粗メシレート溶液を添加ロー トにより３０分かけて加えた。塩化メチレンが反応混合物から蒸留され出てきて 温度が８５℃に下がった。このすべてが除去された後、温度は１００℃に戻り、 そのまま２．５時間維持された。反応混合物を４０℃に冷却し、最小の攪拌容量 （約１５０ml）になるまでギ酸を加圧下で除去した。残渣を周囲温度まで冷却し 、３７５mlの塩化メチレンを加えた。希釈した残渣を、１リットルずつの飽和塩 化ナトリウム溶液、１Ｎ 炭酸ナトリウム、および再度塩化ナトリウム溶液で洗 浄した。有機相を硫酸マグネシウム（１５０ｇ）で乾燥し、ろ過して、暗い赤褐 色溶液（粗エネスター溶液）を得た。 四ツ首のジャケット付き１リットル反応槽に、攪拌機、冷却器／バブラー、温 度計、および窒素吸込み管を有する添加ロートを取り付けた。反応槽に、６００ mlの塩化メチレン中の粗エネスター溶液（６０ｇと推定）を窒素下で攪拌しなが ら添加した。ここに２４．０ｇのリン酸−水素カリウム、次に８７mlのトリクロ ロアセトニトリルを加えた。反応槽ジャケットを通して外部冷却水を流し、反応 混合物を１０℃に冷却した。添加ロートに、１４７mlの３０％過酸化水素を３０ 分かけて加えた。最初暗い赤褐色の反応混合物が、添加完了後うすい黄色になっ た。添加の間および連続的に一晩攪拌の間（全部で２３時間）反応混合物は１０ ±１℃に維持された。相を分離し、水性部分を１２０mlずつの塩化メチレンで２ 回抽出した。次に、合わせた有機相を２１０mlの３％亜硫酸ナトリウム溶液で洗 浄した。これを繰り返し、次に有機相部分と水性部分とも、デンプン／ヨウド試 験紙により過酸化物は陰性であった。有機相を連続的に、２１０mlずつの１Ｎ水 酸化ナトリウム、１Ｎ塩酸、および最後に食塩水で２回洗浄した。有機相を共沸 乾燥させて約１００mlにし、新鮮な溶媒を加え（２５０ml）、共沸蒸留して同じ １００mlにして、残りの溶媒を真空下で除去して、５７．０５ｇの粗生成物を粘 性の黄色の泡状物として得た。一部（５１．０１ｇ）をさらに乾燥して４４．３ ｇの一定の重量にし、ＨＰＬＣにより定量分析した。測定の結果２７．１％のＥ ＰＸであった。例２９ １１α−ヒドロキシアンドロステンジオン（４２９．５ｇ）とトルエンスルホ ン酸水和物（７．１）を、窒素下で反応フラスコに加えた。反応槽にエタノール （２．５８リットル）を加え、得られた溶液を５℃に冷却した。この溶液にオル トギ酸トリエチル（３３４．５ｇ）を、０℃〜１５℃で１５分間かけて加えた。 オルトギ酸トリエチルの添加終了後、反応混合物を４０℃に暖め、この温度で２ 時間反応させ、次に温度を上げて還流させ、還流しながらさらに３時間反応を続 けた。反応混合物を真空下で冷却し、真空下で溶媒を除去して、３−エトキシア ンドロスター３，５−ジエン−１７−オンを得た。例３０−１１α−ヒドロキシカンレノンからエナミンの生成 シアン化ナトリウム（１．７２ｇ）を、攪拌機の付いた２５mlの三ツ首フラス コに入れた。水（２．１ml）を加え、混合物を加熱しながら固体が溶解するまで 攪拌した。ジメチルホルムアミド（１５ml）を加え、次に１１α−ヒドロキシカ ンレノン（５．０ｇ）を加えた。この混合物に、水（０．４ml）と硫酸（１．４ ９ｇ）の混合物を加えた。混合物を８５℃に２．５時間加熱し、この時点でＨＰ ＬＣ分析を行うと、完全に生成物に変換されていた。反応混合物を室温にした。 硫酸（０．８３ｇ）を加え、混合物を３０分間攪拌した。氷浴中で冷却した６０ mlの水に反応混合物を加えた。フラスコを、３mlのＤＭＦと５mlの水で洗浄した 。このスラリーを４０分間攪拌し、ろ過した。フィルターケーキを４０mlの水で ２回洗浄し、真空オーブン中で６０℃で一晩乾燥して、１１α−ヒドロキシエナ ミン、すなわち、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ −１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソ スピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］ シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリル（４．９ｇ）を得 た。例３１−１１α−ヒドロキシカンレノンのジケトンへの変換 シアン化ナトリウム（１．０３ｇ）を、攪拌機の付いた５０mlの三ツ首フラス コに入れた。水（１．２６ml）を加え、フラスコを少し加熱して固体を溶解した 。ジメチルアセトアミド［または、ジメチルホルムアミド］（９ml）を加え、次 に１１α−ヒドロキシカンレノン（３．０ｇ）を加えた。硫酸（０．４７ml）と 水（０．２５ml）の混合物を、攪拌しながら反応フラスコに加えた。混合物を９ ５℃に２時間加熱した。ＨＰＬＣ分析は、反応が完了していることを示した。硫 酸（０．２７ｇ）を加え、混合物を３０分間攪拌した。さらに水（２５ml）と硫 酸（０．９０ml）を導入し、反応混合物を１６時間攪拌した。次に混合物を氷浴 中で５〜１０℃に冷却した。焼結ガラスフィルターでろ過して固体を単離し、次 に水で２回洗浄した（２０ml）。固体のジケトン、すなわち、４’Ｓ（４’α） ，７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジ メチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β −［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（ ２’Ｈ）−カルボニトリルを真空オーブンで乾燥して、３．０ｇの固体を得た。例３２ 例３１に記載したように産生したメタノール（１００ml）中の５．０ｇのジケ トンの懸濁物を加熱還流し、メタノール（５．８ml）中のカリウムメトキシド２ ５％溶液を１分間で加えた。混合物は均一になった。１５分後、沈殿物が存在し た。混合物を加熱還流すると、約４時間で再度均一になった。加熱還流を全部で ２３．５時間続け、４．０ＮのＨＣｌ（１０ml）加えた。全部で６０mlのシアン 化水素のメタノール溶液を、蒸留して除去した。１５分間かけて蒸留残渣に水（ ５７ml）を加えた。水の添加の間溶液の温度を８１．５°に上げ、蒸留してさら に４mlのシアン化水素／メタノール溶液を除去した。水の添加の終了後、混合物 は濁り、熱源を除去した。混合物を３．５時間攪拌すると、生成物がゆっくり結 晶化した。懸濁物をろ過し、集めた固体を水で洗浄し、ロート上で空気流で乾燥 し、９２°（２６インチＨｇ）で１６時間乾燥して、２．９８ｇのオフホワイト の固体を得た。固体は９１．４重量％のヒドロキシエステル、すなわちメチル水 素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１ −ジカルボキシレート，γ−ラクトンであった。収率は５６．１％であった。例３３ 例３１に記載したように調製したジケトンを、温度計、ディーンスタークトラ ップおよび攪拌機を取り付けたきれいな乾燥した三ツ首反応フラスコに添加した 。反応槽に室温（２２℃）でメタノール（２４ml）を加え、得られたスラリーを ５分間攪拌した。２５重量％のナトリウムメトキシドのメタノール液（５２．８ ml）を反応槽に加え、混合物を室温で１０分攪拌し、この間に反応混合物は淡褐 色の清澄な溶液になり、わずかに発熱が観察された（２〜３℃）。添加速度を調 節して、反応槽温度が３０℃を超えるのを防いだ。次に、混合物を還流条件（約 ６７℃）まで加熱し、１６時間還流を続けた。次に試料を取り、変換についてＨ ＰＬＣで分析した。残存ジケトンが投入ジケトンの３％以下になるまで、還流し て反応を続けた。還流中、４Ｎ ＨＣｌ（１２０ｍｌ）を反応槽に加えると、Ｈ ＣＮが発生し、これはスクラバーで消した。 反応の終了後、９０〜９５％のメタノール溶媒を大気圧で反応混合物から蒸留 して除去した。蒸留の間ヘッドの温度は６７〜７５℃で変化し、ＨＣＮを含有す る蒸留物は廃棄前に苛性物質と漂白剤で処理した。メタノール除去後、反応混合 物を室温まで冷却すると、混合物が４０〜４５℃の範囲で固体生成物が沈殿し始 めた。２５℃の随時５重量％の重炭酸ナトリウムを含有する水溶液（１２００ml ）を、冷却したスラリーに添加し、次に得られる混合物を約１時間で０℃に冷却 した。重炭酸ナトリウム処理は、反応混合物から残存する未反応のジケトンを排 除するのに有効であった。スラリーを０℃で２時間攪拌して、沈殿と結晶化を完 了させ、次にろ過して固体生成物を回収し、フィルターケーキを水で洗浄した（ １００ml）。生成物を２６”水銀真空下で８０〜９０℃で乾燥して一定の重量に した。乾燥後の水分含量は、０．２５重量％未満であった。調整したモル収率は ７７〜８０重量％であった。例３４ 例３１に従って調製したジケトン（１当量）を、ヨウ化亜鉛（１当量）の存在 下でメタノール中のナトリウムメトキシド（４．８当量）と反応させた。反応生 成物の処理は、本明細書に記載の抽出操作に従うか、または非抽出操作（塩化メ チレン抽出、食塩水および活性物質による洗浄、および硫酸ナトリウム乾燥工程 を排除した）でもよい。また非抽出操作では、トルエンの代わりに５重量％の重 炭酸ナトリウム溶液を使用した。例３５ 例３４のように調製したヒドロキシエステル（１．９７ｇ）をテトラヒドロフ ラン（２０ml）と合わせ、得られる混合物を−７０℃に冷却した。塩化スルフリ ル（０．８ml）を加え、混合物を３０分間攪拌し、次にイミダゾール（１．３ｇ ）を加えた。反応混合物を室温まで暖め、さらに２時間攪拌した。次に混合物を 塩化メチレンで希釈し、水で抽出した。有機層を濃縮して、粗エネスター（１． ９７ｇ）を得た。粗生成物の試料の一部をＨＰＬＣで分析した。分析結果は、９ ，１１−オレフィン：１１，１２−オレフィン：７，９−ラクトンの比は、７５ ．５：７．２：１７．３であることを示した。温度が０℃であること以外は前述 のように行うと、反応により、９，１１−オレフィン：１１，１２−オレフィン ：７，９−ラクトン分布が、７７．６：６．７：１５．７である生成物が得られ た。この方法は、脱離基の導入と、エネスターの９，１１−オレフィン構造の導 入のためのその脱離とを１つの工程にまとめ、すなわち、反応は、塩化スルフリ ルが、式Ｖのヒドロキシエステルの１１α−ヒドロキシ基をハロゲン化物で置換 させ、次にΔ−９，１１構造への脱水素ハロゲン化が続くものである。エネスタ ーの生成は、（ギ酸のような）強い酸または無水酢酸のような乾燥剤を使用せず に行われる。また一酸化炭素を生成する別の方法の還流工程が排除される。例３６ 例３４のように調製したヒドロキシエステル（２０ｇ）と塩化メチレン（４０ ０ml）を、攪拌機、添加ロートおよび熱伝対を取り付けたきれいで乾燥した三ツ 首丸底フラスコに加えた。得られた混合物を完全に溶解するまで周囲温度で攪拌 した。氷浴を使用して、溶液を５℃に冷却した。ヒドロキシエステルを含有する 塩化メチレンの溶液にメタンスルホニルクロリド（５ml）を加え、次に直ちにト リエチルアミン（１０．８ml）をゆっくり滴下して加えた。添加速度は、反応の 温度が５℃を超えないように調整した。反応は強い発熱反応であり、従って冷却 が必要であった。反応混合物を約５℃で１時間攪拌した。反応が完了（ＨＰＬＣ とＴＬＣ分析）後、混合物を約０℃で２６インチ水銀真空下で、濃いスラリーに なるまで濃縮した。得られたスラリーを塩化メチレン（１６０ml）で希釈し、混 合物を約０℃で２６インチ水銀真空下で濃縮して、濃縮物を得た。濃縮物（Ｒ³ ＝Ｈであり、−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−は両方とも−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である式IVの メシレート生成物、すなわち、メチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３− オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトン から、メチル水素１７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホニル）オキシ− ３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクト ン）の純度は、８２％であった（ＨＰＬＣ面積％）。単離することなく、この物 質を次の反応に使用した。 ギ酸カリウム（４．７ｇ）、ギ酸（１６ml）、および無水酢酸（８ml、０．０ ８４モル）を、攪拌機、冷却器、熱伝対、および加熱マントルを取り付けたきれ いな乾燥した反応槽に加えた。得られた溶液を７０℃に加熱し、約４〜８時間攪 拌した。無水酢酸の添加は発熱性であり、気体（ＣＯ）を発生し、従って添加速 度を調節して温度と気体発生（圧力）を制御する必要があった。活性な脱離試薬 を調製するための反応時間は、反応物中に存在する水の量に依存した（ギ酸とギ 酸カリウムは、各々約３〜５％の水を含有した）。脱離反応は、存在する水分量 に敏感であり、＞０．１％の水（ＫＦ）があると、７，９−ラクトンの不純物の レベルが上昇することがある。この副産物は、最終生成物から除去することは困 難であった。ＫＦが＜０．１％の水の場合は、活性な脱離試薬を、前工程で調製 したメシレートの濃縮物（０．０７０モル）に移した。得られた溶液を９５℃に 加熱し、揮発性物質を蒸留して除去し、ディーンスタークトラップに集めた。挿 発性物質の発生が止まった時、ディーンスタークトラップの代わりに冷却器を取 り付け、反応混合物をさらに１時間９５℃で加熱した。終了（ＴＬＣとＨＰＬＣ 分析；＜０．１％出発物質）後、内容物を５０℃に冷却し、真空蒸留を開始した （２６インチ水銀／５０℃）。混合物を濃縮して濃いスラリーにし、次に周囲温 度まで冷却した。得られたスラリーを酢酸エチル（１３７ml）で希釈し、溶液を １５分間攪拌し、水（１３７ml）で希釈した。層を分離し、下の水層を酢酸エチ ル（７０ml）で再度抽出した。合わせた酢酸エチル溶液を食塩水（１２０ml）で １回洗浄し、氷冷した１Ｎ ＮａＯＨ溶液で２回洗浄した（各１２０ml）。水溶 液のｐＨを測定し、使用した水のｐＨが＜８の場合は、有機層を再洗浄した。使 用した洗浄液のｐＨが＞８の場合は、酢酸エチル層を食塩水溶液（１２０ml）で １回洗浄し、５０℃の水浴を使用してロータリーエバポレーターにより濃縮乾固 した。得られたエネスターである固体生成物、すなわちメチル水素１７α−ヒド ロキシ−３−オキソプレグノ−４，９−ジエン−７α，２１−ジカルボキシレー ト，γ−ラクトンは９２ｇ（７７％モル収率）であった。例３７ 例３４のように調製したヒドロキシエステル（１００ｇ；０．２２モル）を、 攪拌機、添加ロートおよび熱伝対を取り付けた２リットルの三ツ首丸底フラスコ に加えた。自動温度制御を有する循環冷却浴を使用した。水に対するメタンスル ホニルクロリドの感受性のために、フラスコを反応前に乾燥した。 塩化メチレン（１リットル）をフラスコに添加し、そこに攪拌しながらヒドロ キシエステルを溶解した。溶液を０℃に冷却し、メタンスルホニルクロリド（２ ５ml；０．３２モル）を、添加ロートでフラスコに添加した。トリエチルアミン （５０ml；０．５９モル）を添加ロートにより反応槽に添加し、ロートを追加の 塩化メチレン（３４ml）ですすいだ。トリエチルアミンの添加は発熱が大きかっ た。添加時間は、冷却下で攪拌しながら約１０分であった。添加混合物を０℃に 冷却し、さらに４５分攪拌しながらこの温度で維持し、この間反応フラスコのヘ ッドスペースに窒素を吹き付けた。次に、反応混合物の試料を薄層クロマトグラ フィーと高速液体クロマトグラフィーで分析して、反応の完了を調べた。次に混 合物を０℃でさらに３０分攪拌し、再度反応の完了を調べた。分析結果は、この 時点で反応が実質的に完了していることを示した。溶媒の塩化メチレンは０℃で ２６”水銀真空下で除去した。蒸留物のガスクロマトグラフィー分析は、メタン スルホニルクロリドとトリエチルアミンの両方の存在を示した。次に、塩化メチ レン（８００ml）を反応槽に加え、得られた混合物を０〜１５℃の範囲の温度で ５分間攪拌した。０〜５℃で２６”水銀真空下で再度溶媒を除去して、式IVのメ シレート（式中、Ｒ³＝Ｈであり、−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−は両方とも−ＣＨ₂− ＣＨ₂−であり、Ｒ¹はメトキシカルボニルである）を得た。この生成物の純度は 、約９０〜９５面積％であった。 脱離試薬を調製するために、ギ酸カリウム（２３．５ｇ；０．２８モル）、ギ 酸（８０ml）、および無水酢酸（４０ml）を、別の乾燥した反応槽中で混合した 。ギ酸と無水酢酸をポンプで反応槽に入れ、無水酢酸の添加中に温度が４０℃を 超えないように維持した。脱離試薬混合物を７０℃に加熱し、反応系から水を除 いた。カールフィッシャー分析で測定した時水分含量が０．３重量％未満になる まで、反応を続けた。次に脱離試薬溶液を、前述のように調製した濃縮粗メシレ ート溶液を含有する反応槽に移した。得られた混合物を最大温度の９５℃まで加 熱し、蒸留物が出なくなるまで揮発性蒸留物を集めた。蒸留は約９０℃で止まっ た。蒸留が完了後、反応混合物を９５℃でさらに２時間攪拌し、反応の完了を薄 層クロマトグラフィーで調べた。反応が完了した時、反応槽を５０℃に冷却し、 ２６”水銀真空下で反応混合物からギ酸と溶媒を除いた。濃縮物を室温まで冷却 し、次に酢酸エチル（６８８ml）を導入し、酢酸エチルと濃縮物の混合物を１５ 分攪拌した。この時点で、１２％の食塩水溶液（６８８ml）加えて、有機相から の可溶性不純物の除去を助けた。次に相を２０分沈降させた。水層を別の容器に 移し、ここに酢酸エチルの追加量（３５０ml）を添加した。水層の逆抽出を３０ 分行い、次に相を沈降させて、酢酸エチル層を合わせた。合わせた酢酸エチル層 に、飽和塩化ナトリウム溶液（６００ml）を添加し、３０分攪拌した。次に相を 沈降させた。水層を除去した。追加の塩化ナトリウム（６００ml）による洗浄を 行った。有機相を第２回目の使用した洗浄液から分離した。次に有機相を１Ｎ水 酸化ナトリウム（６００ml）で攪拌しながら３０分洗浄した。相を３０分沈降さ せて水層を除去した。水層のｐＨを調べると、＞７であった。飽和塩化ナトリウ ム（６００ml）でさらに１５分洗浄した。有機相を最終的に、２６”水銀真空下 で５０℃で濃縮し、生成物をろ過して回収した。最終生成物は、乾燥すると泡状 の褐色の固体であった。減圧下で４５℃でさらに２４時間乾燥させると、９５． ４ｇのエネスター生成物（測定すると６８．８％であった）が得られた。モル収 率は、出発ヒドロキシエステルと最終のエネスターについて補正すると、７４． ４％であった。例３８ 例３７の方法を繰り返したが、反応溶液をイオン交換樹脂で処理することによ り、複数回の洗浄工程を避けた。塩基性アルミナまたは塩基性シリカ。塩基性シ リカによる処理の条件は、表３８に示す。これらの各処理は、例４４の複数回の 洗浄をしなくても不純物の除去に有効であった。 例３９ 酢酸カリウム（４ｇ）とトリフルオロ酢酸（４２．５ｇ）を、１００mlの反応 槽中で混合した。添加中の温度を３０℃未満に維持するために速度を調節して、 この混合物に無水トリフルオロ酢酸（９．５ml）を加えた。次に溶液を３０℃に ３０分加熱して、式IVのメシレートをしきIIのエネスターに変換するのに有用な 脱離試薬を得た。 あらかじめ作成したＴＦＡ／無水ＴＦＡ脱離試薬を、式IVのあらかじめ調製し たメシレートの溶液に加えた。得られた混合物を４０℃で４．５時間加熱し、変 換の程度を定期的にＴＬＣまたはＨＰＬＣで調べた。反応が完了した時、混合物 を一ツ首フラスコに移し、減圧下で室温で（２２℃）濃縮乾固した。酢酸エチル （１３７ml）を混合物に加えて、固相物質を完全に溶解し、次に水／食塩水混合 液（１３７ml）を加え、得られた２つの相の混合物を１０分攪拌した。次に相を ２０分分離させた。食塩水の強度は、２４重量％であった。水層を追加量の酢酸 エチル（６８ml）と接触させ、こうして調製した２つの相の混合物を１０分攪拌 し、次に１５分靜置して相を分離させた。２つの抽出からの酢酸エチル層を合わ せて、２４重量％の食塩水のアリコート（１２０ml）、２４重量％の別の食塩水 のアリコート（６０ml）、１Ｎ水酸化ナトリウム（１５０ml）および食塩水の別 の部分（６０ml）で洗浄した。各水層を添加後、混合物を１０分攪拌し、１５分 靜置して分離させた。得られた溶液を減圧下で４５℃で水アスピレーターを使用 して濃縮乾固した。固体生成物（８．０９ｇ）をＨＰＬＣで分析すると、８３． ４面積％のエネスター、２．４５面積％の１１，１２−オレフィン、１．５％の ７，９−ラクトン、および１．１％の未反応メシレートを含有していた。例４０ 例２３のように調製した構造を有するメシレート（１．０ｇ）、酢酸イソプロ ペニル（１０ｇ）、およびｐ−トルエンスルホン酸（５mg）を、５０mlのフラス コに入れ、攪拌しながら９０℃に加熱した。５時間後、混合物を２５℃に冷却し て、１０mmＨｇの真空下で濃縮した。残渣を塩化メチレン（２０ml）に溶解し、 ５％ＮａＨＣＯ₃水溶液で洗浄した。塩化メチレン層を真空下で濃縮して、１． ４７ｇの淡褐色油状物を得た。この物質を、塩化メチレン／Ｅｔ₂Ｏから再結晶 して、０．５０ｇの式IV（Ｚ）の酢酸エノールを得た。 この物質を、あらかじめ攪拌しながら１００℃に加熱した酢酸ナトリウム（０ ．１２ｇ）と酢酸（２．０ml）の混合物に加えた。６０分後、混合物を２５℃に 冷却し、塩化メチレン（２０ml）で希釈した。溶液を水（２０ml）で洗浄して、 硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過して除去し、ろ液を真空下で濃縮し て、０．４ｇの目的の９，１１−オレフィン、IV（Ｙ）を得た。粗生成物は、２ ％未満の７，９−ラクトン不純物を含有した。例４１−ＤＭＳＯ中のメシレートの熱脱離 フラスコ中の２ｇのメシレートと５mlのＤＭＳＯの混合物を、２２．４時間８ ０℃に加熱した。反応混合物のＨＰＬＣ分析は、出発物質が検出されないことを 示した。反応物に、水（１０ml）を加え、沈殿物を塩化メチレンで３回抽出した 。合わせた塩化メチレン層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して エネスターを得た。例４２ ５０mlのナシ型フラスコに、攪拌しながら、固体として式IIA（１．０７ｇ、 測定により７４．４％エネスター）、トリクロロアセトアミド（０．３２ｇ）， リン酸水素二カリウム（０．７０ｇ）を、塩化メチレン（１５．０ml）と混合し た。清澄な溶液が得られた。ピペットで１分かけて、過酸化水素（３０重量％； ５．０ml）を加えた。得られた混合物を室温で６時間攪拌し、この時点でのＨＰ ＬＣ分析は、反応混合物中のエポキシメキスレノン：エネスターの比は約１：１ であることを示した。追加のトリクロロアセトアミド（０．３２ｇ）を反応混合 物に加え、攪拌しながら反応をさらに８時間続け、次にエネスターの残りの割合 が１０％に低下したことが証明された。追加のトリクロロアセトアミド（０．０ ８ｇ）を加え、反応混合物を一晩放置すると、この時点では混合物中のエポキシ メキスレノンに対してわずかに５％の未反応エネスターが残っていた。例４３ １００mlの反応槽に、式IIAのエネスター（５．４ｇ、測定により７４．４％ エネスター）を加えた。いずれも固体のトリクロロアセトアミド（４．９ｇ）と リン酸水素二カリウム（３．５ｇ）をエネスターに加え、次に塩化メチレン（５ ０ml）を加えた。混合物を１５℃に冷却し、１０分かけて３０％過酸化水素（２ ５ｇ）を加えた。反応混合物を放置して２０℃にし、この温度で６時間攪拌し、 この時点でＨＰＬＣにより変換を調べた。残りのエネスターは１重量％未満であ った。 反応混合物を水（１００ml）に加え、相を分離させ、塩化メチレン層を取った 。水酸化ナトリウム（０．５Ｎ；５０ml）を塩化メチレン層に加えた。２０分後 、相を分離させた。ＨＣｌ（０．５Ｎ：５０ml）を塩化メチレン層に加え、次に 相を分離させ、有機相を飽和食塩水（５０ml）で洗浄した。塩化メチレン層を無 水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除去した。白色の固体（５．７ｇ）を得た 。水性の水酸化ナトリウム層を酸性にし、抽出し、抽出物を処理してさらに０． ２ｇの生成物を得た。エポキシメキスレノンは９０．２％であった。例４４ 式IIAのエネスターを、以下の変更を加えて例４３に記載の方法でエポキシメ キスレノンに変換した：最初の添加量は、エネスター（５．４ｇ、測定により７ ４．４％エネスター）、トリクロロアセトアミド（３．３ｇ）、およびリン酸水 素二カリウム（３．５ｇ）であった。過酸化水素溶液（１２．５ml）を加えた。 反応を２０℃で一晩行うと、ＨＰＬＣはエネスターからエポキシメキスレノンへ の９０％の変換を示した。追加のトリクロロアセトアミド（３．３ｇ）と３０％ 過酸化水素（５．０ml）を加え、反応をさらに６時間行い、この時点で残存エネ スターはエネスター投入量に対してわずかに２％であった。例４３に記載のよう に処理後、５．７１ｇのエポキシメキスレノンが得られた。例４５ 式IIAのエネスターを、例４３に概説したようにエポキシメキスレノンに変換 した。この例の反応において、エネスター投入量は５．４ｇ（測定により７４． ４％エネスター）であり、トリクロロアセトアミド投入量は４．９ｇ、過酸化水 素投入量は２５ｇであり、リン酸水素二カリウム投入量は３．５ｇであった。反 応を２０℃で１８時間行った。残存エネスターは２％未満であった。処理後、５ ．７１ｇのエポキシメキスレノンが得られた。例４６ 式IIAのエネスターを、例４３に概説したようにエポキシメキスレノンに変換 したが、この例の反応温度は２８℃であった。投入した物質は、エネスター（２ ．７ｇ）であり、トリクロロアセトアミド（２．５ｇ）、リン酸水素二カリウム （１．７ｇ）、過酸化水素（１７．０ｇ）および塩化メチレン（５０ml）であっ た。４時間の反応後、未反応のエネスターはエネルギー投入量のわずか２％であ った。例４３に記載のように処理後、３．０ｇのエポキシメキスレノンが得られ た。例４７ 式IIAのエネスター（１７ｇ、測定により７４．４％エネスター）を塩化メチ レン（１５０ml）に溶解し、次にトリクロロアセトアミド（１４．９ｇ）をゆっ くり攪拌しながら加えた。混合物の温度を２５℃に調整し、リン酸水素二カリウ ム（１０．６ｇ）の水溶液（１０．６ml）を、４００rpmで攪拌しながらエネス ター基質溶液に攪拌した。過酸化水素（３０重量％；６９．４ml）を、３〜５分 かけて基質／リン酸／トリクロロアセトアミド溶液に加えた。発熱や酸素発生は 観察されなかった。こうして調製した反応混合物を４００rpmで２５℃で１８． ５時間攪拌した。反応の経過中酸素の発生は観察されなかった。反応混合物を水 （６９．４ml）で希釈し、混合物を約２５０rpmで１５分攪拌した。この操作で 温度制御は不要であり、基本的に室温で行った（５〜２５℃の範囲の任意の温度 が使用可能である）。水層および有機層を分離させ、下の塩化メチレン層を除去 した。 水層を塩化メチレン（６９．４ml）で１５分、２５０rpmで攪拌して逆抽出し た。層を分離させ、下の塩化メチレン層を除去した。水層（１７７ｇ；ｐＨ＝７ ）を過酸化水素測定に使用した。反応でわずかに０．０４３４モルの過酸化水素 が消費されたことを示す結果（１２．２％）は、０．０３０７モルのオレフィン であった。少量の塩化メチレンによる逆抽出は、水層中のエポキシメキスレノン の喪失が無いことを保証するのに充分であった。この結果は、２回目の多量の塩 化メチレン抽出の使用で、わずかのトリクロロアセトアミドしか回収されなかっ たことにより、確認された。 上記抽出からの合わせた塩化メチレンクロリド溶液を合わせ、３重量％の亜硫 酸ナトリウム溶液（１２２ml）で少なくとも１５分約２５０rpmで洗浄した。攪 拌期間の最後に、陰性のデンプンヨード試験結果（ＫＩ紙；発色はなかった；陽 性の場合、紫色の着色は過酸化物の存在を示す）が観察された。 水性および有機層を分離させ、下の塩化メチレン層を取った。水層（ｐＨ＝６ ）を捨てた。亜硫酸ナトリウム溶液の添加によりわずかに発熱があるため、この ような添加は温度制御下で行う必要がある。 塩化メチレン相を０．５Ｎ水酸化ナトリウム（６１ml）で、約２５０rpmおよ び１５〜２５℃の範囲の温度で４５分洗浄した（ｐＨ＝１２〜１３）。トリクロ ロアセトアミドから得られた不純物を、この方法で除去した。アルカリ性水性画 分の酸性化、その後の塩化メチレンの抽出により、この操作でほとんどエポキシ メキスレノンは喪失されないことが証明された。 塩化メチレン相を、０．１Ｎ塩酸（６１ml）で２５０rpmで攪拌して１５〜２ ５℃の範囲の温度で一度洗浄した。次に層を分離させ、下の塩化メチレン層を取 り、再度１０重量％の塩化ナトリウム水溶液（６１ml）で２５０rpmで攪拌して １５〜２５℃の範囲の温度で洗浄した。再度、層を分離させ、有機層を取った。 有機層をソルカフロック（Solkafloc）のパッドでろ過し、次に減圧下で蒸発乾 固した。乾燥は水浴温度６５℃で完了した。オフホワイトの固体（１７．９５ｇ ）が得られ、ＨＰＬＣ測定に使用した。エポキシメキスレノン測定結果は６６． ０５％であった。反応の調整したモル収率は９３．１％であった。 生成物を熱メチルエチルケトン（１８９ml）に溶解し、得られた溶液を大気圧 で９５mlのケトン溶媒が除去されるまで、蒸留した。温度を５０℃に下げて行く と、生成物が結晶化した。５０℃で１時間攪拌を続けた。次に温度を２０〜２５ ℃に下げ、攪拌をさらに２時間続けた。固体をろ過し、ＭＥＫ（２４ml）ですす ぎ、固体を一定の重量の９．９８ｇになるまで乾燥すると、これはＨＰＬＣ測定 で９３．６３％のエポキシメキスレノンを含有していた。この生成物を熱ＭＥＫ （１０６ml）に再溶解し、熱溶液を、１０ミクロンのラインフィルターで加圧下 でろ過した。別の１８mlのＭＥＫをすすぎ用に添加し、ろ過したＭＥＫ溶液を大 気圧で５３mlの溶媒が除去されるまで蒸留した。温度を５０℃まで下げていくと 、生成物が結晶化し、攪拌を５０℃で１時間続けた。次に温度を２０〜２５℃に 下げ、この温度に維持してさらに２時間攪拌を続けた。固体生成物をろ過し、Ｍ ＥＫ（１８ml）ですすいだ。固体生成物を一定重量の８．３２ｇまで乾燥し、こ れは定量ＨＰＬＣ測定法で９９．６％のエポキシメキスレノンを含有した。乾燥 による最終的喪失は、１．０％未満であった。本例の反応と処理によるエポキシ メキスレノンの全体の収率は６５．８％である。この全体の収率は、９３％の反 応収率、７８．９％の初期結晶化回収率、および８９．５％の再結晶化回収率を 反映した。例４８−トルエンを使用する式IIAのエポキシ化 例４６に概説した方法に従うが溶媒としてトルエンを使用して、式IIAのエネ スターをエプレレノン（eplerenone）に変換した。反応槽に添加した材料は、エ ネスター（２．７ｇ）、トリクロロアセトアミド（２．５ｇ）、リン酸水素二カ リウム（１．７ｇ）、過酸化水素（１７．０ｇ）、およびトルエン（５０ml）で ある。反応を２８℃まで発熱させ、４時間で完了した。得られた３相の混合物を １５℃まで冷却し、ろ過し、水で洗浄し、真空下で乾燥して２．５ｇの生成物を 得た。例４９−９，１１−ジエノンのエポキシ化 XVIIAと呼ぶ化合物（−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−がいずれも−ＣＨ₂−ＣＨ₂−で ある化合物XVII）（４０．６７ｇ）を、１リットルの三ツ首フラスコ中の塩化メ チレン（２５０ml）に溶解し、氷と塩の混合物で外から冷却した。リン酸二カリ ウム（２２．５ｇ）とトリクロロアセトニトリル（８３．５ｇ）を加え、混合物 を２℃に冷却し、次に３０％過酸化水素（２００ｇ）をゆつくり１時間かけて加 えた。反応混合物を１２℃で８時間、そして室温で１４時間攪拌した。有機層を 一滴取り、出発物質のエノンについて調べた結果、＜０．５％であった。水（４ ００ml）を加え、１５分攪拌し、層を分離した。有機層を連続的に、２００mlの ヨウ化カリウム（１０％）、２００mlのチオ硫酸ナトリウム（１０％）および１ ００mlの飽和重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、毎回、層を分離した。有機層を無 水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して、粗エポキシド（４１ｇ）を得た。生成 物を酢酸エチル：塩化メチレンから結晶化して、１４．９ｇの純粋な物質を得た 。例５０−ｍ−クロロペル安息香酸を用いる化合物XVIIAのエポキシ化 化合物XVIIA（１８．０ｇ）を２５０mlの塩化メチレンに溶解し、１０℃に冷 却した。攪拌しながら固体ｍ−クロロペル安息香酸（純度５０〜６０％、２１． ８６ｇ）を１５分で加えた。温度の上昇は観察されなかった。反応混合物を３時 間攪拌し、ヂエノンの有無について調べた。反応混合物を連続的に、亜硫酸ナト リウム溶液（１０％）、水酸化ナトリウム溶液（０．５Ｎ）、塩酸溶液（５％） 、そして最後に５０mlの飽和食塩水で処理した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し 溶媒を留去後、１７．６４ｇのエポキシドが得られ、直接次の工程に使用した。 生成物はベイヤー−ビリガー（Baeyer-Villiger）酸化生成物を含有しており、 酢酸エチルで粉砕し次に塩化メチレンで結晶化して除去する必要があった。５０ ０ｇのスケールで、沈降したｍ−クロロペル安息香酸をろ過し、次に通常の処理 を行った。例５１−トリクロロアセトアミドを用いる化合物XVIIAのエポキシ化 化合物XVIIA（２ｇ）を塩化メチレン２５mlに溶解した。トリクロロアセトア ミド（２ｇ）、リン酸二カリウム（２ｇ）を加えた。室温で攪拌しながら、３０ ％の過酸化水素（１０ml）を加え、攪拌を１８時間続けて、エポキシド（１．６ ３ｇ）を得た。ベイヤー−ビリガー（Baeyer-Villiger）生成物は生成されなか った。例５２ 水酸化カリウム（５６．３９ｇ；１００５．０３ミリモル；３．００当量）を 、２０００mlのフラスコに添加し、ジメチルスルホキシド（７５０．０ml）で周 囲温度でスラリーにした。式XX(式中、Ｒ³はＨであり、−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ− はいずれも−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である）に対応するトリエノン（１００．００ｇ； ３３５．０１ミリモル；１．００当量）を、ＴＨＦ（９５６．０ml）とともにフ ラスコに添加した。トリメチルスルホニウムメチルサルフェート（１２６．１４ ｇ；６７０．０２ミリモル；２．００当量）をフラスコに添加し、得られた混合 物を８０〜８５℃に１時間加熱還流した。１７−スピロオキシメチレンへの変換 を、ＨＰＬＣにより調べた。約１mlのＴＨＦを真空下で反応混合物から除去し、 次に反応混合物は１５℃に冷却しながら、水（４６０ml）を３０分かけて添加し た。得られた混合物をろ過し、固体オキシラン生成物を２００mlずつの水で２回 洗浄した。生成物は、高度に結晶性であることが観察され、直ちにろ過した。次 に生成物を真空下で４０℃で乾燥した。１０４．６ｇの３−メチルエノールエー テルΔ−５，６，９，１１−１７−オキシランステロイド生成物を単離した。例５３ ナトリウムエトキシド（４１．９４ｇ；６１６．２５ミリモル；１．９０当量 ）を、窒素雰囲気下で乾燥した５００ml反応槽に添加した。エタノール（２７０ ．９ml）を反応槽に添加し、ナトリウムメトキシドをエタノール中でスラリーに した。ジエチルマロネート（１０３．９０ｇ；６４８．６８ミリモル；２．００ 当量）をスラリーに添加し、次に例５２に記載のように調製したオキシランステ ロイド（１０４．６０ｇ；３２４．３４ミリモル；１．００当量）を加え、得ら れた混合物を８０〜８５℃で加熱還流した。加熱を４時間続け、次に反応の完了 をＨＰＬＣで調べた。混合物を１５℃に冷却しながら、水（３３７．８６ml）を 反応混合物に３０分かけて加えた。攪拌を３０分続け、次に反応スラリーをろ過 して、微細な非晶質の粉末を含むフィルターケーキを得た。フィルターケーキを 水（各２００ml）で２回洗浄し、次に真空下で周囲温度で乾燥した。１３３．８ ｇの３−メチルエノールエーテルΔ−５，６，９，１１−１７−スピロラクトン −２１−メトキシカルボニル中間体を単離した。例５４ 例５３で産生された３−メチルエノールエーテルΔ−５，６，９，１１−１７ −スピロラクトン−２１−メトキシカルボニル中間体（Ｒ³はＨであり、−Ａ− Ａ−と−Ｂ−Ｂ−はいずれも−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である式XVIII；１３３．８０ｇ ；３１３．６８ミリモル；１．０当量）を、塩化ナトリウム（２７．５０ｇ；４ ７０．５２ミリモル；１．５０当量）ジメチルホルムアミド（７０９ml）および 水（５ml）とともに、攪拌しながら２０００mlの反応槽に添加した。得られた混 合物を１３８〜１４２℃で３時間加熱還流し、次に反応混合物をＨＰＬＣにより 反応の完了について調べた。次に、混合物を１５℃に冷却しながら、混合物に３ ０分かけて水を加えた。攪拌を３０分続け、次に反応スラリーをろ過し、非晶質 の固体の反応生成物をフィルターケーキとして回収した。フィルターケーキを２ 回洗浄（水２００mlずつ）した後、乾燥させた。生成物３−メチルエノールエー テル−１７−スピロラクトンを乾燥して、９１．６ｇ（収率８２．３％；９６面 積％測定）を得た。例５５ 例５４に従って産生したエノールエーテル（９１．６０ｇ；２５８．３６ミリ モル；１．００当量）、エタノール（２５０ml）、酢酸（２５０ml）、および水 （２５０ml）を、２０００mlの反応槽に添加し、得られたスラリーを２時間加熱 還流した。反応混合物を１５℃に冷却しながら、３０分かけて水（６００ml）を 加えた。次に、反応スラリーをろ過し、フィルターケーキを水（２００mlずつ） で２回洗浄した。次に、フィルターケーキを乾燥させた；８４．４ｇの生成物３ −ケトΔ４，５，９，１１，−１７−スピロラクトンを単離した（Ｒ³はＨであ り、−Ａ−Ａ−と−Ｂ−Ｂ−はいずれも−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である式XVIIの化合物 ；収率９５．９％）。例５６ 化合物XVIIA（１kg；２．８１モル）を四塩化炭素（３．２リットル）ととも に、２２リットルの四ツ首フラスコに添加した。Ｎ−ブロモ−スクシナミド（５ ３８ｇ）を混合物に加え、次にアセトニトリル（３．２リットル）を加えた。得 られた混合物を加熱還流し、約３時間６８℃の還流温度に維持して、清澄な橙色 の溶液を得た。５時間加熱後に溶液は黒くなった。６時間後、加熱を止め、反応 混合物をサンプリングした。真空下で溶媒を除去し、酢酸エチル（６リットル） を、蒸留器の底の残渣に加えた。得られた混合物を攪拌し、次に５％重炭酸ナト リウム溶液を加え、混合物を１５分攪拌し、次に相を沈降させた。水層を除去し 、飽和食塩水溶液（４リットル）を混合物に導入し、次にこれを１５分攪拌した 。再度、相を分離させ、真空下で有機層を除去して、濃いスラリーを得た。次に 、ジメチルホルムアミド（４リットル）を加え、反応槽の温度５５℃まで溶媒の 除去を続けた。蒸留器の底は一晩放置し、ＤＡＢＣＯ（３３０ｇ）と臭化リチウ ム（２４３ｇ）を加えた。次に混合物を７０℃に加熱した。１．５時間加熱後、 液体クロマトグラフィー試料を取り、３．５０時間加熱後、追加のＤＡＢＣＯ（ ４０ｇ）を加えた。４．５時間加熱後、水（４リットル）を導入し、得られた混 合物を１５℃に冷却した。スラリーをろ過し、ケーキを水（３リットル）で洗浄 し、フィルターで一晩乾燥した。湿ったケーキ（９７８ｇ）を２２リットルのフ ラスコに戻し、ジメチルホルムアミド（７リットル）を加えた。こうして産生し た混合物を１０５℃に加熱し、この時点でケーキは完全に溶液中に取り込まれて いた。加熱を止め、フラスコ中の混合物を攪拌し、冷却した。氷水を反応槽ジャ ケットに添加し、反応槽内の混合物を１４℃に冷却し、２時間維持した。得られ たスラリーをろ過し、２．５リットルずつの水で２回洗浄した。フィルターケー キを真空下で一晩乾燥した。明るい褐色の固体生成物５１０ｇを得た。例５７ ２リットルの四ツ首フラスコに以下を添加した：例４９、５０または５１で産 生した９，１１−エポキシカンレノン（１００．０ｇ；２８２．１ミリモル；１ ．００当量）、ジメチルホルムアミド（６５０．０ml）、塩化リチウム（３０． ００ｇ；７０７．７ミリモル；２．５１当量）、およびアセトンシアンヒドリン （７２．０４ｇ；７７．３ml；８４６．４ミリモル；３．００当量）。得られた 懸濁物を機械的に攪拌し、テトラメチルグアニジン（４５．４９ｇ；４９．６ml ；３９５．０ミリモル；１．４０当量）で処理した。次に系を、水で冷却した冷 却器とドライアイス冷却器（アセトン中のドライアイスで充填）でろ過して、Ｈ ＣＮが漏れるのを防いだ。ドライアイス冷却器からの通気ラインは、大過剰の塩 素漂白剤で充填したスクラバーにつながっている。混合物を８０℃に加熱した。 １８時間後、黒い赤褐色の溶液が得られ、これを攪拌しながら室温まで冷却し た。この冷却の間、窒素を溶液に吹き込んで、残存するＨＣＮを通気ラインを通 してスクラバー中の漂白剤に入れた。２時間後、溶液を酢酸（７２ｇ）で処理し 、３０分攪拌した。次に、粗混合物を攪拌しながら氷水（２リットル）に入れた 。攪拌した懸濁物をさらに１０％のＨＣｌ水溶液（４００ml）で処理し、１時間 攪拌した。次に混合物をろ過して、暗いレンガ赤色の固体を得た（７３ｇ）。ろ 液を４リットルの分液ロートに入れ、塩化メチレン（３×８００ml）で抽出した 。有機層を合わせて、水（２×２リットル）で逆抽出した。塩化メチレン溶液を 真空下で濃縮して、６１ｇの暗い赤色の油状物を得た。 水性の洗浄画分を一晩置いた後、多量の沈殿物が出現した。この沈殿物をろ過 して集め、純粋な生成物のエナミン（１４．８ｇ）であることが測定された。 乾燥後、元々の赤色の固体（７３ｇ）をＨＰＬＣで分析し、主要な成分は９， １１−エポキシエナミンであることが測定された。ＨＰＬＣはさらに、エナミン が、塩化メチレン処理から得られた赤色の油状物の主要な成分であることを示し た。エナミンの計算されたモル収率は４６％であった。例５８ 例５７に従って調製した９，１１−エポキシエナミン（４．６００ｇ；０．０ １１２６１モル；１．００当量）を、１０００mlの丸底フラスコに導入した。メ タノール（３００ml）と０．５重量％のＨＣｌ（１９２ml）を混合物に加え、次 にこれを１７時間還流した。次にメタノールを真空下で除去して、蒸留器中の物 質の量を５０mlに減少させ、白色の沈殿物を生成させた。水（１００ml）をスラ リーに加え、次にこれをろ過して、白色の固体ケーキを得て、これを水で３回洗 浄した。固体９，１１−エポキシジケトン生成物の収率は、３．７４７ｇ（８１ ．３％）であった。例５９ 例５８に従って調製したエポキシジケトン（２００mg；０．４９ミリモル）を メタノール（３ml）に懸濁し、この混合物に１，８−ジアザビシクロ［５．４． ０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）を加えた。２４時間加熱還流後、混合物は均 一になった。次にこれを３０℃でロータリーエバポレーターで濃縮乾固させ、残 渣を塩化メチレンと３．０Ｎ ＨＣｌの間で分配させた。有機相の濃縮により、 黄色の固体（１９３mg）が得られ、これを測定すると２２重量％のエポキシメキ スレノンであった。収率は２０％であった。 例６０ １．5mlのメタノールに懸濁した１００mgのジケトンに、メタノール中の２５ ％(w/w)ナトリウムメトキシド溶液１０μｌ（０．１８当量）を加えた。溶液を 加熱還流した。３０分後、ジケトンは残っておらず、５−シアノエステルが存在 した。この混合物にメタノール中の２５％(w/w)ナトリウムメトキシド溶液４６ μｌを加えた。混合物を２３時間加熱還流し、この時点でＨＰＬＣで測定すると 主要な生成物はエプレレノンであった。 例６１ ３０mlの無水メタノールに懸濁した２ｇのジケトンに、０．３４mlのトリエチ ルアミンを加えた。懸濁液を４．５時間加熱還流した。混合物を２５℃で１６時 間攪拌した。得られた懸濁液をろ過して、１．３ｇの５−シアノエステルを白色 の固体として得た。 ８０mlのメタノールに懸濁した６．６ｇのジケトンに、２．８mlのトリエチル アミンを加えた。混合物を４時間加熱還流して、２５×で８８時間攪拌すると、 この間に溶液から生成物が結晶化した。ろ過後、メタノールで洗浄すると、５． ８ｇのシアノエステルが白色の粉末として得られた。この物質をクロロホルム／ メタノールから再結晶して、３．１ｇの結晶性物質を得て、これはＨＰＬＣによ り均一であった。 上記より、本発明のいくつかの目的が達成され、他の有効な結果が得られてい ることが明らかである。 本発明の精神から逸脱することなく、上記組成物および方法の種々の変更が可 能であるが、上記説明中および添付図面中に示すすべての物質は、例示目的のみ であり、決して本発明を限定するものではない。

【手続補正書】特許法第１８４条の４第４項 【提出日】平成９年１１月２１日（１９９７．１１．２１） 【補正内容】 ６６．式IV： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）であり、および Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選 択されるか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、 またはＲ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した 炭素環または複素環構造を構成し、および Ｒ²は、低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシまたはハロゲン化物 である］の化合物。 ６７．請求の範囲第６６項記載の式IVの化合物であって、化合物は式IVA： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、 Ｒ²は、低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシであり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある］、 および、Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシである化合物の塩に対応す る、上記化合物。 ６８．メチル水素１７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホニル）オキシ− ３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート、γ−ラクト ンである、請求の範囲第６６項記載の式IVの化合物。 ６９．式Ｖ： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は〜アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中−Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）であり、および Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に 選択されるか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか 、またはＲ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環 または複素環構造を構成する］の化合物。 ７０．請求の範囲第６９項記載の式Ｖの化合物であって、化合物は式： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、 Ｒ²は、低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシであり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある］、 および、Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシである化合物の塩に対応す る、上記化合物。 ７１．メチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグノ−４−エ ン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンである、請求の範囲第６９ 項記載の式Ｖの化合物。 ７２．式VI：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）であり、および Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選 択されるか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成する か、またはＲ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素 環または複素環構造を構成する］の化合物。 ７３．請求の範囲第７２項記載の式VIの化合物であって、化合物は式：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある］、 および、Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシである化合物の塩に対応す る、上記化合物。 ７４．４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒドロキシ− １０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン −２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェ ナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルである、請求の範囲第７２項 記載の式VIの化合物。 ７５．式VII：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）であり、および Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選 択されるか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成する か、またはＲ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素 環または複素環構造を構成する］の化合物。 ７６．請求の範囲第７５項記載の式VIIの化合物であって、化合物は式VIIA：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある］、 および、Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシである化合物の塩に対応す る、上記化合物。 ７７．５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−１１’β −ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フ ラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シクロペン タ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲第７５項記 載の式VIIの化合物。 ７８．式VIII：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）であり、および Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選 択されるか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、 またはＲ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した 炭素環または複素環構造を構成する］の化合物。 ７９．請求の範囲第７８項記載の式VIIIの化合物であって、化合物は式VIIIA：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある］、 および、Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシである化合物の塩に対応す る、上記化合物。 ８０．１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４、６−ジエン− ２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第７８項記載の式VIIIの化 合物。 ８１．式XIV：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）である］の化合物。 ８２．４’Ｓ（４’α），７’α−１’１２’，３’，４，４’，５，５’，６ ’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’，１６’−ヘキサデ カヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピ ロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲第２５項記載 の式XIVの化合物。 ８３．式XV：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）である］に対応する化合物。 ８４．メチル水素９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン −７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンである、請求の範囲第８３項 証載の式XVの化合物。 ８５．式XXI：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ⁴とＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒド ロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、および アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）である］に対応する化合物。 ８６．４’Ｓ（４’α），７’α−９’，１１α−エポキシヘキサデカヒドロ− １０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ［フラン −２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェ ナントレン−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第８５項記載の式XXIの 化合物。 ８７．式XXII：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ⁴とＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒド ロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、および アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）である］に対応する化合物。 ８８．５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノ９，１１β−エポキシヘキサ デカヒドロ−１０’，１３’−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン− ２（３Ｈ），１７’ａ（５’Ｈ）−［７，４］メテン［４Ｈ］シクロペンタ［ａ ］フェナントレン−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第８７項記載の式 XXIIの化合物。 ８９．式XXIII：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ⁴とＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒド ロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、および アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）である］に対応する化合物。 ９０．請求の範囲第８９項記載の式XXIIIの化合物［式中、Ｒ⁸とＲ⁹は、結合し ている環の炭素とともに構造： （式中、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある）を形成する］、 および、Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシであるそのような化合物の 塩。 ９１．式XXV： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ⁴とＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒド ロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリー ルオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、および Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成し、および Ｒ^xは、水素またはヒドロキシ保護基よりなる群から選択される］に対応する 化合物。 ９２．５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ−９’β− ヒドロキシ−１０’ａ，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラ ン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ［シクロペンタ ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲第９１項記載 の式XXVの化合物。 ９３．式XXVI： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ⁴とＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒド ロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリー ルオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、および Ｒ^xは、水素またはヒドロキシ保護基よりなる群から選択される］に対応する 化合物。 ９４．９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，６−ジエン−２ １−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第９３項記載の式XXVIの化合 物。 ９５．式１０４： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹¹は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり、および −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中〜Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）である］に対応する化合物。 ９６．３−エトキシ−１１α−１７α−ジヒドロキシプレグナ−３．５−ジエン −２１−カルボン酸、ガンマ−ラクトンである、請求の範囲第９５項記載の式１ ０４の化合物。 ９７．式１０３：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹¹は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり、および −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカル ボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から 独立に選択される）である］に対応する化合物。 ９８．エチル水素３−エトキシ−１１α−１７α−ジヒドロキシプレグナ−３． ５−ジエン−２１，２１−ジカルボキシレート、ガンマラクトンである、請求の 範囲第９７項記載の式１０３の化合物。 ９９．式１０２：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹¹は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり、および −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）である］に対応する化合物。 １００．３−エトキシスピロ［アンドロスタ−３．５−ジエン−１７β，２’− オキシラン］−１１α−オールである、請求の範囲第９９項記載の式１０２の化 合物。 １０１．式１０１：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹¹は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり、および −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）である］に対応する化合物。 １０２、３−エトキシ−１１α−ヒドロキシアンドロスタ−３．５−ジエン−１ ７−オンである、請求の範囲第９９項記載の式１０２の化合物。 １０３．式IX： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独 立に選択される）であり、および Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、およびアリールオキシよりなる群から独立に選 択されるか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、 またはＲ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環ま たは複素環構造を構成する］の化合物。 １０４．請求の範囲第１０３項記載の式IXの化合物であって、化合物は式IXA： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 Ｒ⁴とＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒド ロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリー ルオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある］、 および、Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシである化合物の塩に対応す る、上記化合物。 【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】平成１０年１月１５日（１９９８．１．１５） 【補正内容】 式ＩＶＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸とＲ⁹とがこれらが結合している環炭 素と−緒になって、下記構造を形成している式ＩＶに相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＶＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合している環 炭素と一緒になって、下記構造を形成している式Ｖに相当する：（ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＶＩＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合している 環炭素と−緒になって、下記構造を形成している式ＶＩに相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＶＩＩＡで表わされる化合物は、Ｒ⁸およびＲ⁹が、これらが結合している環 炭素と一緒になって、下記構造を形成している式ＶＩＩの化合物に相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＶＩＩＩＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合して いる環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式ＶＩＩＩの化合物に相当 する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＶＩＩＩの範囲内の化合物は、以下で説明するように、式ＸＩＩＩで表わさ れる化合物からなる基質を、当該基質にα−配向で１１−ヒドロキシ基を導入す るのに有効な発酵により酸化することによって製造される。 式ＸＩＶＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合してい る環炭素と−緒になって、下記構造を形成している式ＸＩＶに相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＸＶＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合している 環炭素と−緒になって、下記構造を形成している式ＸＶに相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＸＸＩで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＩＶについて定義さ れているとおりである）。 式ＸＸＩＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合してい る環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式ＸＸＩに相当する：（ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＸＸＩＩで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＩＶについて定義さ れているとおりである）。 式ＸＸＩＩＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合して いる環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式ＸＸＩＩに相当する： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 式ＸＸＩＩＩで表わされる化合物は下記構造に相当する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＩＶについて定義さ れているとおりである）。 式ＸＸＩＩＩＡで表わされる化合物は、そのＲ⁸およびＲ⁹が、これらが結合し ている環炭素と一緒になって、下記構造を形成している式ＸＸＩＩＩに相当する ： （ここで、Ｘ、Ｙ¹、Ｙ²およびＣ（１７）は上記定義のとおりである）。 （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ³およびＲ¹¹は式１０４について定義され ているとおりであり、そしてＲ¹²はＣ₁〜Ｃ₄低級アルキルである）。 好ましくは、式ＸＩＩＩで表わされる化合物は下記構造を有し： およびそのＸがオキソを表わし、そしてＹ²がヒドロキシ−を表わす化合物の塩 、およびこの反応で生成される式ＶＩＩＩで表わされる化合物は下記式ＶＩＩＩ Ａに相当する： 式中、 −Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは式ＸＩＩＩＡについて定義され ているとおりである。 図１〜３に記載の方法において、式ＶＩＩＩで示されている生成物はバイオマ スと−緒になった結晶固形物であり、従って濾過または低速遠心分離によって反 応ブロスから分離することができる。 この反応に使用される金属アルコキシドは式Ｒ¹⁰ＯＭに相当する（式中、Ｍは アルカリ金属であり、そしてＲ¹⁰Ｏ−はＲ¹のアルコキシ置換基に相当する）。 この反応の収率は、金属アルコキシドがカリウムまたはナトリウムメトキシドで ある場合に最も満足な程度であるが、その他の低級アルコキシドを使用すること もできる。カリウムアルコキシドは特に好適である。 平衡は低濃度においてより好ましいことから、Ｎａメトキシドとの反応の場合に 、この反応は高稀釈度、例えば４０：１ほどの高い稀釈度で行うと好ましい。ナ トリウムメトキシドよりもカリウムメトキシドを使用することによって格別に高 い生産性を実現することができ、これはカリウムメトキシドが反応剤である場合 に、約２０：１の範囲の稀釈度が一般に、リバースシアニデーション（ｒｅｖｅ ｒｓｅ ｃｙａｎｉｄａｔｉｏｎ）の程度を最低にするのに充分であることによ る。 そしてヒドロキシエステル生成物は下記式ＶＡに相当する： （上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²、およびＸは式ＸＩＩＩＡに ついて定義されているとおりであり、そしてＲ¹は式Ｖについて定義されている とおりである）。 粗製１１α−ヒドロキシ−７α−アルコキシカルボニル生成物は、当該方法の引 き続く工程で使用するために、溶剤中に再度取り入れることができる。 好適な式ＩＶで表わされる化合物は、その−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ−が−ＣＨ₂ −ＣＨ₂−であり、Ｒ³が水素、低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そ してＲ⁸およびＲ⁹が−緒になって、２０−スピロキサン環を形成している式ＩＶ Ａに相当する： 脱離性基の分離中に遊離水が存在する場合には、夾雑物、特に７，９−ラクトン が生成される傾向がある： この反応は、オレフィン炭素がテトラ置換またはトリ置換されている不飽和化合 物、すなわちＲ^aＲ^bＣ＝ＣＲ^cＲ^dおよびＲ^aＲ^bＣ＝ＣＲ^cＨ（各式中、Ｒ^a〜Ｒ^d は水素以外の置換基を表わす）に特に有効である。この反応は、基質がトリ置換 二重結合を有する環状化合物、あるいはテトラ置換二重結合を有する環状または 非環状化合物である場合に、最も迅速にかつまた完全に進行する。 （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＸＩＩＩＡについて 定義されているとおりであり、そしてＲ¹は式Ｖについて定義されているとおり である）。 式Ｘで表わされる化合物は次いで、新規生物変換法によって９α−ヒドロキシ ル化させ、下記式ＩＸで表わされる生成物を生成させる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸およびＲ⁹は式ＶＩＩＩについて定 義されているとおりであり、そしてＲ¹は式Ｖについて定義されているとおりで ある）。 クニンハメラ ブラケスリーアナ（Ｃｕｎｎｉｎｇｈａｍｅｌｌａ ｂｌａｋｅ ｓｌｅｅａｎａ）ＡＴＣＣ８６８８ａ、クニンハメラ エチヌラタ（Ｃｕｎｎｉ ｎｇｈａｍｅｌｌａ ｅｃｈｉｎｕｌａｔａ）ＡＴＣＣ３６５５、クニンハメラ エレガンス（Ｃｕｎｎｉｎｇｈａｍｅｌｌａ ｅｌｅｇａｎｓ）ＡＴＣＣ９２ ４５、 （上記各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは式ＸＩＩＩＡにつ いて定義されているとおりであり、そしてＲ¹は式Ｖについて定義されていると おりである）。 る。 特に好適な態様において、図２の総合方法は下記のとおりに進行する： 式ＸＸで表わされる基質とスルホニウムイリドとの反応は、下記式ＸＩＸに相 当するエポキシド中間体を生成させる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−およびＲ²⁶は式ＸＸについて定義されて いるとおりである）。 この場合に、中間体ＸＸＸＩの単離が必要であり：次いで、式ＸＸＸＩＩの生成物に変換する： （各式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ³は式ＸＸについて定義されている とおりである）。次いで、式ＸＶＩＩで表わされる中間体を、例えば米国特許４，５５９，３３２ の方法を用いて、下記式ＸＸＩＶで表わされる化合物を生成する： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 式ＸＸＩＶで表わされるエポキシ化合物を、ＤＤＱまたはクロラニルなどの脱水 素剤（酸化剤）との反応により、あるいは順に臭素化／脱臭化水素（あるいはハ ロゲン化／脱ハロゲン化水素）を用いて脱水素化し、６−炭素と７−炭素との間 の二重結合を生成させ、下記式ＸＸＩＩＩで表わされるもう１種の新規中間体を 生成させる： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ³は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 式ＸＸＩＩＩで表わされる最も好ましい化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ −Ｂ−は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である。 式ＶＩＩで表わされる化合物を製造するための方法を実質的に使用して、式ＸＸ ＩＩＩで表わされる化合物をシアニドイオンと反応させ、下記式ＸＸＩＩに相当 する新規エポキシエナミン化合物を生成させる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 式ＸＸＩＩで表わされる最も好適な化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ −は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である。 式ＸＸＩで表わされる最も好適な化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ− は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である。 スキーム５ スキーム５の方法は、下記式ＸＸＩＸに相当する基質から出発する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ³は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 この基質を、トリメチルオルトホーメートとの反応によって、下記式ＸＸＶＩ ＩＩで表わされる生成物に変換する： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 式ＸＸＶＩＩＩで表わされる化合物を生成させた後に、式ＸＸで表わされる基 質の式ＸＶＩＩへの変換について上記した方法を用いて、式ＸＸＩＸで表わされ る化合物を式ＸＸＶＩＩで表わされる化合物に変換する。式ＸＸＶＩＩで表わさ れる化合物は下記構造を有する： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ³は式ＸＸについて定義されていると おりであり、そしてＲ^xは慣用のヒドロキシル保護基である）。 式ＸＸＶＩで表わされる最も好適な化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ− Ｂ−は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である。 式ＶＩＩＩで表わされる化合物のシアニデーションについて上記した方法を用 いて、式ＸＸＶＩで表わされる新規中間体を、下記式ＸＸＶで表わされる新規９ −ヒドロキシエナミン中間体に変換する： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³および−Ｂ−Ｂ−は式ＸＸについて定義されていると おりである）。 式ＸＸＶＩで表わされる最も好適な化合物において、−Ａ−Ａ−および−Ｂ−Ｂ −は−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である。例えば、式１０１基質をＤＭＳＯなどの適当な溶媒中でアルカリ金属水酸化物な どの塩基の存在下に、スルホニウムイリドと反応させ、下記式１０２に相当する 中間体化合物を生成させることができる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、Ｒ¹¹、および−Ｂ−Ｂ−は式１０１について定義さ れているとおりである）。 この式１０２で表わされる中間体化合物を次いで、アルカリ金属アルコキシド の存在下にマロン酸ジエステルと反応させ、５員スピロラクトン環を形成させ、 下記式１０３で表わされる中間体化合物を生成させる： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、Ｒ¹¹および−Ｂ−Ｂ−は式１０１について定義され ているとおりであり、そしてＲ¹²はＣ₁〜Ｃ₄低級アルキルである）。 ２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ）または テトラクロロベンゾキノン（クロラニル）などの反応剤を用いる直接酸化を行う ことができ、あるいは好ましくは、先ず例えばＮ−ブロモスクシンアミド（ＮＢ Ｓ）または１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン（ＤＢＤＭＨ）な どの臭素化剤を用いて臭素化し、次いでＬｉＢｒおよび熱の存在の下に、塩基、 例えばＤＡＢＣＯを用いて脱臭化水素することによる２工程酸化を行うことがで きる。 この合成の第一工程において、式ＸＸＸＶＩＩで表わされる化合物の生物変換 によって、１１α−ヒドロキシアンドロステンジオンまたは式ＸＸＸＶＩで表わ されるその他の化合物を製造する。例１５ 上記で概説された方法に従って、カンレノンから１１α−ヒドロキシカンレノ ンへの生物変換の有効性について種々の培養物を試験した。例３２ 例３１に記載したように産生したメタノール（１００ml）中の５．０ｇのジケ トンの懸濁物を加熱還流し、メタノール（５．８ml）中のカリウムメトキシド２ ５％溶液を１分間で加えた。混合物は均一になった。１５分後、沈殿物が存在し た。混合物を加熱還流すると、約４時間で再度均一になった。加熱還流を全部で ２３．５時間続け、４．０ＮのＨＣｌ（１０ml）加えた。全部で６０mlのシアン 化水素のメタノール溶液を、蒸留して除去した。１５分間かけて蒸留残渣に水（ ５７ml）を加えた。水の添加の間溶液の温度を８１．５℃に上げ、蒸留してさら に４mlのシアン化水素／メタノール溶液を除去した。水の添加の終了後、混合物 は濁り、熱源を除去した。混合物を３．５時間攪拌すると、生成物がゆっくり結 晶化した。懸濁物をろ過し、集めた固体を水で洗浄し、ロート上で空気流で乾燥 し、９２℃（２６インチＨｇ）で１６時間乾燥して、２．９８ｇのオフホワイト の固体を得た。固体は９１．４重量％のヒドロキシエステル、すなわちメチル水 素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１ −ジカルボキシレート，γ−ラクトンであった。収率は５６．１％であった。例５７ ２リットルの四ツ首フラスコに以下を添加した：例５６で産生した９，１１− エポキシカンレノン（１００．０ｇ；２８２．１ミリモル；１．００当量）、ジ メチルホルムアミド（６５０．０ml）、塩化リチウム（３０．００ｇ；７０７． ７ミリモル；２．５１当量）、およびアセトンシアンヒドリン（７２．０４ｇ； ７７．３ml；８４６．４ミリモル；３．００当量）。得られた懸濁物を機械的に 攪拌し、テトラメチルグアニジン（４５．４９ｇ；４９．６ml：３９５．０ミリ モル；１．４０当量）で処理した。次に系を、水で冷却した冷却器とドライアイ ス冷却器（アセトン中のドライアイスで充填）でろ過して、ＨＣＮが漏れるのを 防いだ。ドライアイス冷却器からの通気ラインは、大過剰の塩素漂白剤で充填し たスクラバーにつながっている。混合物を８０℃に加熱した。 請求の範囲 １．式II［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｒ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロギシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環 または複素環構造を構成する］ の化合物の製造方法であって、 該方法は、 式IV： ［式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は上記で定義した ものであり、Ｒ²は、その除去が９−炭素原子と１１−炭素原子の間に２重結合 を生成するのに有効である脱離基である］の化合物から、１１α−脱離基を除去 することからなる、上記方法。 ２．式IIの化合物は、式IIA： （式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または式IIIA： のアルファ−もしくはベータ−配向の基であり、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある）、および Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請 求の範囲第１項記載の方法であって、 該方法は、 低級アルカン酸および低級アルカン酸の塩を含む溶液を、式IVA： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、−Ｂ−Ｂ−、Ｘ、Ｙ¹、およびＹ²は、式IIAで定義し たものであり、Ｒ²は低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシである ）に対応する化合物に接触させることからなる、上記方法。 ３．式IVの化合物は、メチル水素１７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホ ニル）オキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレー ト，γ−ラクトンであり、式IIの化合物は、メチル水素１７α−ヒドロキシ−３ −オキソブレグナ−４，９（１１）−ジエン−７α，２１−ジカルボキシレート ，γ−ラクトンである、請求の範囲第１項記載の方法。 ４．式IV ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、 Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複 素環構造を構成し、そして Ｒ²は、低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシまたはハロゲン化 物である］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 低級アルキルスルホニル化試薬もしくはアシル化試薬、またはハロゲン化物生 成剤（例えば、ハロゲン化チオニル、ハロゲン化スルフリル、またはハロゲン化 オキサリル）を、式Ｖ（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、上記で定義し たものである）の化合物と反応させることからなる、上記方法。 ５．式IVの化合物は、式IVA： （式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、 Ｒ²は、低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシであり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある）、および Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請 求の範面第４項記載の方法であって、 該方法は、 低級アルキルスルホニルまたはハロゲン化アシルをハロゲン化水素スカベンジ ャーの存在下で、式： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、−Ｂ−Ｂ−、Ｘ、Ｙ¹、およびＹ²は、式IVAで定義し たものである）に対応する化合物と反応させることからなる、上記方法。 ６．式IVの化合物は、メチル水素１７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホ ニル）オキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレー ト，γ−ラクトンであり、式Ｖの化合物は、メチル水素１１α，１７α−ジヒド ロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ −ラクトンである、請求の範囲第４項記載の方法。 ７．式Ｖ： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複 素環構造を構成する］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 式VIの化合物を、式Ｒ¹⁰ＯＭ（式中、Ｍはアルキル金属であり、Ｒ¹⁰Ｏ−はＲ¹ のアルコキシ置換基に対応する）に対応するアルカリ金属アルコキシドと反応 させることからなり、式VIの化合物は構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、上記で定義したも のである）を有する、上記方法。 ８．式Ｖの化合物は、式： （式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある）、および Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請 求の範囲第７項記載の方法であって、 該方法は、 式VIAの化合物を、式Ｒ¹⁰ＯＭに対応するアルカリ金属アルコキシドと、式Ｒ^{1 0} ＯＨを有するアルコールの存在下で反応させることからなり（式中、Ｍはアル キル金属であり、Ｒ¹⁰Ｏ−はＲ¹のアルコキシ置換基に対応する）、式VIAの化合 物は構造：（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹〜Ｙ²およびＸは、式VAで定義したもので ある）を有する、上記方法。 ９．式Ｖの化合物は、メチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプ レグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンであり、式 VIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒド ロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’１５，２０’−トリオキソスピロ ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルである、請求の範囲 第７項記載の方法。 １０．シアンイオンは、反応の副産物として形成される請求の範囲第７項記載の 方法であって、シアンイオンと式Ｖの生成物との反応の程度を低下させるために 、反応中に反応ゾーンからシアンイオンを除去することからなる、上記方法。 １１．シアンイオンは沈殿剤による沈殿により反応から除去される、請求の範囲 第１０項記載の方法。 １２．反応は溶媒媒体中で行われ、沈殿剤は、この媒体中で沈殿剤の溶解度より 低い溶解度のシアン化化合物を形成する陽イオンを含む塩を含む、請求の範囲第 １１項記載の方法。 １３．陽イオンはアルカリ土類金属および遷移金属イオンよりなる群から選択さ れる、請求の範囲第１２項記載の方法。 １４．式VI：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複 素環構造を構成する］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 式VII：（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、前記で定義したも のである）に対応する化合物を加水分解することからなる、上記方法。 １５．式VIの化合物は、式： （式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは，２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある）、および Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請 求の範囲第１４項記載の方法であって、 該方法は、 酸および有機溶媒および／または水の存在下で式VIIAの化合物を加水分解する ことからなり、式VIIAの化合物は、構造： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは、式VIAで定義したもの である）を有する、上記方法。 １６．式VIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’ α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキ ソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロ ペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルであり、式 VIIの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ −１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソ スピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］ シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲 第１４項記載の方法。 １７．式VII：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカル ボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複 素環構造を構成する］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 式VIIIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアン化物イオン源と反応させ ることからなり、式VIIIの化合物は構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、前記で定義したも のである）を有する、上記方法。 １８．式VIIの化合物は、式VIIA： （式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある）、および Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請 求の範囲第１７項記載の方法であって、 該方法は、 ケトンシアノヒドリンのようなシアン源をＬｉＣｌの存在下で塩基の存在下で 、式： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは、式VIIAで定義したもの である）に対応する１１α−ヒドロキシ化合物と反応させることからなる、上記 方法。 １９．式VIIの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデ カヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’α１１３’α−ジメチル−３’，５− ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルであり、 式VIIIの化合物は、１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４， ６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第１７項記載 の方法。 ２０．請求の範囲第１７項記載の方法であって、シアンイオン源はシアン化アル カリ金属からなり、式VIIIの化合物とシアンイオンとの反応は、酸および水の存 在下で行われる、上記方法。 ２１．式VIII ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸とＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環 構造を構成する］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 α−配向で基質中に１１−ヒドロキシ基を導入するのに有効な微生物の存在下 で、式XIIIに対応する基質化合物を発酵させて酸化することからなり、基質は式 ： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は上記で定義した ものである）に対応する、上記方法。 ２２．式VIIIの化合物は、１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ −４，６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第２１ 項記載の方法。 ２３．式： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応するメキスレノン化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XIVの化合物を、式Ｒ¹⁰ＯＭ（式中、Ｍはアルキル金属であり、Ｒ¹⁰Ｏ−は Ｒ¹のアルコキシ置換基に対応する）に対応するアルカリ金属アルコキシドと反 応させることからなり、式XIVの化合物は構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、上記で定義したものである）を有す る、上記方法。 ２４．式ＸＩＶの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−１’，２’１３’，４ ，４’，５，５’，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５ ’，１６’−ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２ ０’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［ １７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請 求の範囲第２３項記載の方法。 ２５．式XIV： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）である］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XV： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）に対応 する化合物を加水分解することからなる、上記方法。 ２６．式XIVの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−１’，２’，３’，４， ４’，５，５’，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’ ，１６’−ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０ ’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１ ７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルであり、式XV の化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノ−１’，２’，３’， ４，５，６’，７’，８’，１０’１１２’，１３’，１４’，１５’，１６’ −テトラデカヒドロ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピ ロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メタノ［４Ｈ］シク ロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第 ２５項記載の方法。 ２７．式XV： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XVIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアンイオン源と反応させるこ とからなり、式XVIの化合物は構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）を有す る、上記方法。 ２８．式XVの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノ−１’，２ ’，３’，４，５，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５ ’，１６’−テトラデカヒドロ−１０'α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジ オキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［ ４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求 の範囲第２７項記載の方法。 ２９．式： ［式中、 −Ａ−Ａ−は（基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXIの化合物を、式Ｒ¹⁰ＯＭ（式中、Ｍはアルキル金属であり、Ｒ¹⁰Ｏ−は Ｒ¹のアルコキシ置換基に対応する）に対応するアルカリ金属アルコキシドと反 応させることからなり、式XXIの化合物は構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、上記で定義したものである）を 有する、上記方法。 ３０．式XXIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−９’，１１α−エポキシ ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオ キソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シク ロペンタ［ａ］フェナントレン−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第２ ９項記載の方法。 ３１．式XXI：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXII：（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）に対応 する化合物を加水分解することからなる、上記方法。 ３２．式XXIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−９’，１１α−エポキシ ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオ キソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シク ロペンタ［ａ］フェナントレン−５’−カルボニトリルであり、式XXIIの化合物 は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノ−９，１１β−エポキシヘキサ デカヒドロ−１０’，１３’−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン− ２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテン［４Ｈ］シクロペンタ［ａ ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第３１項記載の 方法。 ３３．式XXII： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカル ボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXIIIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアンイオン源と反応させる ことからなり、式XXIIIの化合物は構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）を有す る、上記方法。 ３４．式XXIIの化合物は、５’Ｒ（５’α）１７’β−２０’−アミノ９，１１ β−エポキシヘキサデカヒドロ−１０’，１３’−ジメチル−３’，５−ジオキ ソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’ａ（５’Ｈ）−［７，４］メテン［４Ｈ ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルであり、式XXII Iの化合物は、９，１１α−エポキシ−１７α−ヒドロキシ−３−オキソプレグ ナ−４，６−ジエン−２１−カルボキン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第 ３３項記載の方法。 ３５．式XIII： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）に対応 する化合物の６位および７位から水素を除去することからなる、上記方法。 ３６．式XIV： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXV：（式中、Ｒ^xは、ヒドロキシル保護基であり、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸ 、およびＲ⁹は、前記で定義したものである）に対応する化合物を加水分解する ことからなる、上記方法。 ３７．式XIVの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−１’，２’，３’，４， ４’，５，５’，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’ ，１６’−ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０ ’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１ ７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルであり、式XX Vの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロー ９’β−ヒドロキシ−１０’ａ，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピ ロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シク ロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第 ３６項記載の方法。 ３８．式XXV： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成する］に対応す る化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXVIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアンイオン源と反応させるこ とからなり、式XXVIの化合物は構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）を有す る、上記方法。 ３９．式XXVの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデ カヒドロ−９’β−ヒドロキシ−１０’ａ，１３’α−ジメチル−３’，５−ジ オキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［ ４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルであり、式 XXVIの化合物は、９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，６− ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第３８項記載の方 法。 ４０．式XXVI： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、 Ｒ^xは、ヒドロキシ保護基である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）に対応 する化合物の６位および７位の水素を除去（脱水素）することからなる、上記方 法。 ４１．式XXVIの化合物は、９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ− ４，６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンであり、式XXVIIの化合物は 、９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン−２１−カルボ ン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第４０項記載の方法。 ４２．式VIII： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−むしくはベータ− 配向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸とＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環 構造を構成する］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式１０４ （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものであり、Ｒ¹¹は 、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルである）に対応する式の化合物を酸化することからなる、上 記方法。 ４３．式VIIIの化合物は、酸化剤と接触させられる、請求の範囲第４２項記載の 方法。 ４４．酸化剤は、ベンゾキノン誘導体である、請求の範囲第４３項記載の方法。 ４５．酸化剤は、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン およびテトラクロロベンゾキノンよりなる群から選択される、請求の範囲第４４ 項記載の方法。 ４６．式．１０４の化合物を、ハロゲン化剤と接触させて、ハロゲン化中間体を 産生させ；ハロゲン化中間体にデヒドロハロゲン化剤を接触させて、ハロゲン化 中間体をデヒドロハロゲン化し、式１０４の化合物を生成することからなる、請 求の範囲第４２項記載の方法。 ４７．式１０４： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 Ｒ¹¹は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカル ボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式１０３に対応する化合物を、ハロゲン化アルカリ金属の存在下で熱分解する ことからなり、式１０３の化合物は、構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、Ｒ¹¹、および−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したもので あり、Ｒ¹²は、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルである）を有する、上記方法。 ４８．式１０３： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 Ｒ¹¹は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり、Ｒ¹²は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり 、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基：（式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式１０２の化合物を、塩基の存在下でジアルキルマロネートと縮合させること からなり、式１０２の化合物は、構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、Ｒ¹¹、および−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したもので ある）を有する、上記方法。 ４９．式１０２： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 Ｒ¹¹は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式１０１の化合物を、塩基の存在下でスルホニウムイリドと反応させることか らなり、式１０１の化合物は、構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、および−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである） を有する、上記方法。 ５０．式．１０１： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 Ｒ¹¹は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXXVIの化合物を、酸触媒の存在下でエーテル化試薬と反応させることから なり、式XXXVIの化合物は、構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、および−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである） を有する、上記方法。 ５１．式１０１の化合物は、式XXXVIの化合物を、酸性化アルカノール溶媒中の オルトギ酸トリアルキルと反応させることにより製造される、請求の範囲第５０ 項記載の方法。 ５２．式XXXVI：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXXVIIの基質化合物を、該基質化合物を、式XXXVI （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ³は、前記で定義したものである）の 化合物に変換するのに有効な微生物の存在下で、発酵により酸化し［ここで、式 XXXVIIの其質化合物は式： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−および は上記で定義したものであ り、Ｄ−Ｄは、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはＣＨ＝ＣＨ−であり、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵ 、およびＲ¹⁶は、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルよりなる群から独立に選択される）に対応す る］；そして次に、１１α−ヒドロキシル化に有効な微生物の存在下で発酵する ことにより、１１−ヒドロキシ基を、式XXXVIの化合物中のα−配向で導入する 、ことからなる上記方法。 ５３．式II ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基：（式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成する］に対応す る化合物の製造方法であって、 該方法は、 式Ｖ （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、前記で定義し たものである）の化合物を、式VIの化合物に、式Ｒ¹⁰ＯＭ（式中、Ｍはアルカリ 金属であり、Ｒ¹⁰ＯはＲ¹のアルコキシ置換基に対応する）に対応するアルカリ 金属アルコキシドを反応させて製造し［ここで、式VIの化合物は、構造：（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、前記で定義したも のである）を有する］； 式Ｖの化合物を純粋な形で単離することなく、式Ｖの化合物と低級アルキルス ルホニル化試薬またはアシル化試薬と反応させて、式IV （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、前記で定義し たものであり、Ｒ²は、アルキルスルホニルオキシ、アシルオキシ脱離基または ハロゲン化物である）の化合物を製造し； 式IVの化合物を純粋な形で単離することなく、１１α−脱離基を、その除去の ための試薬と反応させてそこから除去して、式IIの化合物を製造する、ことから なる、上記方法。 ５４．請求の範囲第５３項記載の方法であって、 式IIの化合物を純粋な形で単離することなく、式IIの化合物をエポキシ化試薬 と反応させて、式Ｉ（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は請求項５３で定 義したものである）の生成物を生成することからなる、上記方法。 ５５．請求の範囲第５４項記載の方法であって、 式IIの化合物は、式IVの化合物を、アルカリ金属アルコキシドの存在下で、ア ルカン酸を含む脱離基除去試薬と反応させることにより生成し； 揮発性成分は、反応溶液から除去し； 反応溶液の水溶性成分は、水性洗浄溶液で洗浄して除去し、こうして式IIの化 合物を式Ｉの化合物に変換するのに適した、残存する式IIの溶液を産生し；そし て 過酸化物酸化剤を残存する式IIの溶液と合わせて、式IIの化合物を式Ｉの化合 物に変換することからなる、上記方法。 ５６．請求の範囲第５４項記載の方法であって、 式Ｖの化合物は、式VIの化合物を、式Ｖ反応溶液を生成するための有機溶媒中 のアルカリ金属アルコキシドと反応させることにより生成し； 式Ｖの化合物は、有機溶媒を使用して、式Ｖ反応溶液を含む溶液から抽出し、 こうして式Ｖ抽出溶液を産生し；そして 式Ｖ抽出溶液を含む溶液に、低級アルキルスルホニルハロゲン化物またはアシ ルハロゲン化物を導入して、式VIの化合物を製造することからなる、上記方法。 ５７．請求の範囲第５４項記載の方法であって、 式IVの化合物は、式Ｖの化合物を、式IV反応溶液を生成するための有機溶媒中 の脱離基除去試薬と反応させることにより生成し； 式IV反応溶液を含む溶液は、酸***換樹脂カラムそして次に塩基***換樹脂カ ラムに通して、そこから塩基性および酸性の不純物を除去し、こうして式IV溶出 溶液を産生し； アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシ脱離基の除去のための試薬を、 式IV溶出溶液を含む溶液と合わせて、式IIの化合物を製造することからなる、上 記方法。 ５８．オレフィン性２重結合を有する基質化合物に、過酸化物アクチベーターの 存在下で、過酸化物化合物を接触させることからなる、エポキシ化合物の生成方 法であって、過酸化物アクチベーターは、式： （式中、Ｒは、モノクロロメチル以上の電子吸引力を有する置換基である）に対 応する、上記方法。 ５９．請求の範囲第５８項記載の方法であって、 過酸化物アクチベーターは、式 （式中、Ｘ¹、Ｘ²、およびＸ³は、ハロ、水素、アルキル、ハロアルキル、シア ノおよびシアノアルキルよりなる群から選択され、Ｒ^Pは、アリーレンと−（Ｃ Ｘ⁴ＣＸ⁵）_n−よりなる群から選択され、ｎは、０または１であり、Ｘ¹、Ｘ²、 Ｘ³、Ｘ⁴、およびＸ⁵の少なくとも１つは、ハロまたはペルハロアルキルである 、上記方法。 ６０．ｎは０であり、Ｘ¹、Ｘ²、およびＸ³の少なくとも１つは、ハロまたはペ ルハロアルキルである、請求の範囲第５８項記載の方法。 ６１．Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴、およびＸ⁵のすべては、ハロまたはペルハロアルキ ルである、請求の範囲第５８項記載の方法。 ６２．過酸化物アクチベーターは、トリハロアセトアミドである、請求の範囲第 ５８項記載の方法。 ６３．過酸化物アクチベーターは、トリクロロアセトアミドである、請求の範囲 第６２項記載の方法。 ６４．請求の範囲第５８項記載の方法であって、基質化合物は、式： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁶とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁶またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複 素環構造を構成する］に対応する、上記方法。 ６５．請求の範囲第５８項記載の方法であって、基質化合物は、 よりなる群から選択され、かつ、エポキシ化反応の生成物は、よりなる群から選択される、上記方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，Ｓ Ｚ，ＵＧ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ， ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，Ｇ Ｅ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ， ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，Ｐ Ｌ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 バエズ，ジュリオ，エイ. アメリカ合衆国60680―9899 イリノイ州 シカゴ，ピー．オー．ボックス 5110 (72)発明者 リウ，シン アメリカ合衆国60680―9899 イリノイ州 シカゴ，ピー．オー．ボックス 5110 (72)発明者 アンダーソン，デニス，ケイ. アメリカ合衆国60680―9899 イリノイ州 シカゴ，ピー．オー．ボックス 5110 (72)発明者 ロウソン，ヨン，ピー. アメリカ合衆国60680―9899 イリノイ州 シカゴ，ピー．オー．ボックス 5110 (72)発明者 エルブ，デーンハード アメリカ合衆国60680―9899 イリノイ州 シカゴ，ピー．オー．ボックス 5110 (72)発明者 ウィエクゾレク，ジョセフ アメリカ合衆国60680―9899 イリノイ州 シカゴ，ピー．オー．ボックス 5110 (72)発明者 ムシアリエロ，ジェナロ アメリカ合衆国60680―9899 イリノイ州 シカゴ，ピー．オー．ボックス 5110 (72)発明者 バンザネラ，フォーチュネト アメリカ合衆国60680―9899 イリノイ州 シカゴ，ピー．オー．ボックス 5110 (72)発明者 クンダ，サストリィ，エイ. アメリカ合衆国60680―9899 イリノイ州 シカゴ，ピー．オー．ボックス 5110 (72)発明者 レテンドレ，レオ，ジェイ. アメリカ合衆国60680―9899 イリノイ州 シカゴ，ピー．オー．ボックス 5110 (72)発明者 ポゾ，マーク，ジェイ. アメリカ合衆国60680―9899 イリノイ州 シカゴ，ピー．オー．ボックス 5110 (72)発明者 シング，ユエン―ラング，エル. アメリカ合衆国60680―9899 イリノイ州 シカゴ，ピー．オー．ボックス 5110

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．式II ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環 または複素環構造を構成する］ の化合物の製造方法であって、 該方法は、 式IV： ［式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は上記で定義した ものであり、Ｒ²は、その除去が９−炭素原子と１１−炭素原子の間に２重結合 を生成するのに有効である脱離基である］の化合物から、１１α−脱離基を除去 することからなる、上記方法。 ２．式IIの化合物は、式IIA： （式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または式IIIA： のアルファ−もしくはベータ−配向の基であり、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある）、および Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請 求の範囲第１項記載の方法であって、 該方法は、 低級アルカン酸および低級アルカン酸の塩を含む溶液を、式IVA： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、−Ｂ−Ｂ−、Ｘ、Ｙ¹、およびＹ²は、式IIAで定義し たものであり、Ｒ²は低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシである ）に対応する化合物に接触させることからなる、上記方法。 ３．式IVの化合物は、メチル水素１７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホ ニル）オキシ−３−オキソブレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレー ト，γ−ラクトンであり、式IIの化合物は、メチル水素１７α−ヒドロキシ−３ −オキソプレグナ−４，９（１１）−ジエン−７α，２１−ジカルボキシレート ，γ−ラクトンである、請求の範囲第１項記載の方法。 ４．式IV ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、 Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複 素環構造を構成し、そして Ｒ²は、低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシまたはハロゲン化 物である１の化合物の製造方法であって、 該方法は、 低級アルキルスルホニル化試薬もしくはアシル化試薬、またはハロゲン化物生 成剤（例えば、ハロゲン化チオニル、ハロゲン化スルフリル、またはハロゲン化 オキサリル）を、式Ｖ（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、上記で定義し たものである）の化合物と反応させることからなる、上記方法。 ５．式IVの化合物は、式IVA： （式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、 Ｒ²は、低級アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシであり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある）、および Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請 求の範冊第４項記載の方法であって、 該方法は、 低級アルキルスルホニルまたはハロゲン化アシルをハロゲン化水素スカベンジ ャーの存在下で、式： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、−Ｂ−Ｂ−、Ｘ、Ｙ¹、およびＹ²は、式IVAで定義し たものである）に対応する化合物と反応させることからなる、上記方法。 ６．式IVの化合物は、メチル水素１７α−ヒドロキシ−１１α−（メチルスルホ ニル）オキシ−３−オキソプレグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレー ト，γ−ラクトンであり、式Ｖの化合物は、メチル水素１１α，１７α−ジヒド ロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ −ラクトンである、請求の範囲第４項記載の方法。 ７．式Ｖ： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複 素環構造を構成する］の化合物の製造方法であって、 該方去は、 式VIの化合物を、式Ｒ¹⁰ＯＭ（式中、Ｍはアルキル金属であり、Ｒ¹⁰Ｏ−はＲ¹ のアルコキシ置換基に対応する）に対応するアルカリ金属アルコキシドと反応 ざせることからなり、式VIの化合物は構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、上記で定義したも のである）を有する、上記方法。 ８．式Ｖの化合物は、式： （式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある）、および Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請 求の範囲第７項記載の方法であって、 該方法は、 走VIAの化合物を、式Ｒ¹⁰ＯＭに対応するアルカリ金属アルコキシドと、式Ｒ^{1 0} ＯＨを有するアルコールの存在下で反応させることからなり（式中、Ｍはアル キル金属であり、Ｒ¹⁰Ｏ−はＲ¹のアルコキシ置換基に対応する）、式VIの化合 物は構造：（式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは、式VAで定渡したもので ある）を有する、上記方法。 ９．式Ｖの化合物は、メチル水素１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプ レグノ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンであり、式 VIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’α−ヒド ロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキソスピロ ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロペンタ［ ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルである、請求の範囲 第７項記載の方法。 １０．シアンイオンは、反応の副産物として形成される請求の範囲第７項記載の 方法であって、シアンイオンと式Ｖの生成物との反応の程度を低下させるために 、反応中に反応ゾーンからシアンイオンを除去することからなる、上記方法。 １１．シアンイオンは沈殿剤による沈殿により反応から除去される、請求の範囲 第１０項記栽の方法。 １２．反応は溶媒媒体中で行われ、沈殿剤は、この媒体中で沈殿剤の溶解度より 低い溶解度のシアン化化合物を形成する陽イオンを含む塩を含む、請求の範囲第 １１項記載の方法。 １３．陽イオンはアルカリ土類金属および遷移金属イオンよりなる群から選択さ れる、請求の範囲第１２項記載の方法。 １４．式VI：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−むしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複 素環構造を構成する］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 式VII：（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、前記で定義したも のである）に対応する化合物を加水分解することからなる、上記方法。 １５．式VIの化合物は、式： （式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある）、および Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請 求の範囲第１４項記載の方法であって、 該方法は、 酸および有機溶媒および／または水の存在下で式VIIAの化合物を加水分解する ことからなり、式VIIAの化合物は、構造： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは、式VIAで定義したもの である）を有する、上記方法。 １６．式VIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−ヘキサデカヒドロ−１１’ α−ヒドロキシ−１０’β，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオキ ソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シクロ ペンタ［ａ］フェナントレン］−５’β（２’Ｈ）−カルボニトリルであり、式 VIIの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ −１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソ スピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］ シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の範囲 第１４項記載の方法。 １７．式VII：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は〜水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカル ボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複 素環構造を構成する］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 夫VIIIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアン化物イオン源と反応させ ることからなり、式VIIIの化合物は構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、前記で定義したも のである）を有する、上記方法。 １８．式VIIの化合物は、式VIIA： （式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはアルファ−もしくはベータ−配向の 基： であり、 Ｘは、２つの水素原子またはオキソであり、 Ｙ¹とＹ²は、一緒に酸素架橋−Ｏ−であるか、または Ｙ¹は、ヒドロキシであり、かつ Ｙ²は、ヒドロキシ、低級アルコキシ、またはもしＸがＨ₂なら、また低級アル カノイルオキシでもある）、および Ｘは、オキソであり、Ｙ²は、ヒドロキシ−である化合物の塩に対応する、請 求の範囲第１７項記載の方法であって、 該方法は、 ケトンシアノヒドリンのようなシアン源をＬｉＣｌの存在下で塩基の存在下で 、式： （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−、Ｙ¹、Ｙ²およびＸは、式VIIAで定義したもの である）に対応する１１α−ヒドロキシ化合物と反応させることからなる、上記 方法。 １９．式VIIの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデ カヒドロ−１１’β−ヒドロキシ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５− ジオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ ［４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルであり、 式VIIIの化合物は、１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４， ６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第１７項記載 の方法。 ２０．請求の範囲第１７項記載の方法であって、シアンイオン源はシアン化アル カリ金属からなり、式VIIIの化合物とシアンイオンとの反応は、酸および水の存 在下で行われる、上記方法。 ２１．式VIII ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸とＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環 構造を構成する］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 α−配向で基質中に１１−ヒドロキシ基を導入するのに有効な微生物の存在下 で、式Ｘに対応する基質化合物を発酵させて酸化することからなり、基質は式： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は上記で定義した ものである）に対応する、上記方法。 ２２．式VIIIの化合物は、１１α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ −４，６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第２１ 項記載の方法。 ２３．式： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応するメキスレノン化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XIVの化合物を、式Ｒ¹⁰ＯＭ（式中、Ｍはアルキル金属であり、Ｒ¹⁰Ｏ−は Ｒ¹のアルコキシ置換基に対応する）に対応するアルカリ金属アルコキシドと反 応させることからなり、式XIVの化合物は構造：（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、上記で定義したものである）を有す る、上記方法。 ２４．式XIVの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−１’，２’１３’，４， ４’，５，５’，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’ ，１６’−ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０ −トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７ Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルである、請求の 範囲第２３項記載の方法。 ２５．式XIV： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）である］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XV： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）に対応 する化合物を加水分解することからなる、上記方法。 ２６．式XIVの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−１’，２’．３’，４， ４’，５，５’，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’ ，１６’−ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’１５，２０ ’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１ ７Ｈ］シクロベンタ［ａ］フェナントレン１５’−カルボニトリルであり、式XV の化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノ−１’，２’，３’， ４，５，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’，１６’ −テトラデカヒドロ−１０’α，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピ ロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メタノ［４Ｈ］シク ロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第 ２５項記載の方法。 ２７．式XV： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XVIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアンイオン源と反応させるこ とからなり、式XVIの化合物は構造：（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）を有す る、上記方法。 ２８．式XVの化合物は、メチル水素９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプ レグナ−４−エン−７α，２１−ジカルボキシレート，γ−ラクトンである、請 求の範囲第２７項記載の方法。 ２９．式： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXIの化合物を、式Ｒ¹⁰ＯＭ（式中、Ｍはアルキル金属であり、Ｒ¹⁰Ｏ−は Ｒ¹のアルコキシ置換基に対応する）に対応するアルカリ金属アルコキシドと反 応させることからなり、式XXIの化合物は構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、上記で定義したものである）を 有する、上記方法。 ３０．式XXIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−９’，１１α−エポキシ ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０’−トリオ キソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シク ロペンタ［ａ］フェナントレン−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第２ ９項記載の方法。 ３１．式XXI：［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXII：（式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）に対応 する化合物を加水分解することからなる、上記方法。 ３２．式XXIの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−９’，１１α−エポキシ ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’、５，２０’−トリオ キソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１７Ｈ］シク ロペンタ［ａ］フェナントレン−５’−カルボニトリルであり、式XXIIの化合物 は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノ−９，１１β−エポキシヘキサ デカヒドロ−１０’，１３’−ジメチル−３’，５−ジオキソスピロ［フラン− ２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテン［４Ｈ］シクロペンタ［ａ ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第３１項記載の 方法。 ３３．式XXII： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカル ボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXIIIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアンイオン源と反応させる ことからなり、式VIIIの化合物は構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定渡したものである）を有す る、上記方法。 ３４．式XXIIの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノ９，１１ β−エポキシヘキサデカヒドロ−１０’，１３’−ジメチル−３’，５−ジオキ ソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’ａ（５’Ｈ）−［７，４］メテン［４Ｈ ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルであり、式XXII の化合物は、９，１１α−エポキシ−１７α−ヒドロキシ−３−オキソプレグナ −４，６−ジエン−２１−カルボキン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第３ ３項記載の方法。 ３５．式XIII： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）に対応 する化合物の６位および７位から水素を除去することからなる、上記方法。 ３６．式XIV： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXV：（式中、Ｒ^xは、ヒドロキシル保護基であり、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸ 、およびＲ⁹は、前記で定義したものである）に対応する化合物を加水分解する ことからなる、上記方法。 ３７．式XIVの化合物は、４’Ｓ（４’α），７’α−１’，２’，３’，４， ４’，５，５’，６’，７’，８’，１０’，１２’，１３’，１４’，１５’ ，１６’−ヘキサデカヒドロ−１０β−，１３’β−ジメチル−３’，５，２０ ’−トリオキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’β−［４，７］メタノ［１ ７Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］５’−カルボニトリルであり、式XX Vの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデカヒドロ− ９’β−ヒドロキシ−１０’ａ，１３’α−ジメチル−３’，５−ジオキソスピ ロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［４Ｈ］シク ロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルである、請求の範囲第 ３６項記載の方法。 ３８．式XXV： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成する］に対応す る化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXVIの化合物を、アルカリ金属塩の存在下でシアンイオン源と反応させるこ とからなり、式XXVIの化合物は構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）を有す る、上記方法。 ３９．式XXVの化合物は、５’Ｒ（５’α），７’β−２０’−アミノヘキサデ カヒドロ−９’β−ヒドロキシ−１０’ａ，１３’α−ジメチル−３’，５−ジ オキソスピロ［フラン−２（３Ｈ），１７’α（５’Ｈ）−［７，４］メテノ［ ４Ｈ］シクロペンタ［ａ］フェナントレン］−５’−カルボニトリルであり、式 XXVIの化合物は、９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４，６− ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第３８項記載の方 法。 ４０．式XXVI： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、 Ｒ^xは、ヒドロキシ保護基である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである）に対応 する化合物の６位および７位の水素を除去（脱水素）することからなる、上記方 法。 ４１．式XXVIの化合物は、９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ− ４，６−ジエン−２１−カルボン酸，γ−ラクトンであり、式XXVIIの化合物は 、９α，１７α−ジヒドロキシ−３−オキソプレグナ−４−エン−２１−カルボ ン酸，γ−ラクトンである、請求の範囲第４０項記載の方法。 ４２．式VIII： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ− 配向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁸とＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複素環 構造を構成する］に対応する化合物の製造方法であって、 該方去は、 式１０４ （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものであり、Ｒ¹¹は 、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルである）に対応する式の化合物を酸化することからなる、上 記方法。 ４３．式VIIIの化合物は、酸化剤と接触させられる、請求の範囲第４２項記載の 方法。 ４４．酸化剤は、ベンゾキノン誘導体である、請求の範囲第４３項記載の方法。 ４５．酸化剤は、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン およびテトラクロロベンゾキノンよりなる群から選択される、請求の範囲第４４ 項記載の方法。 ４６．式１０４の化合物を、ハロゲン化剤と接触させて、ハロゲン化中間体を産 生させ；ハロゲン化中間体にデヒドロハロゲン化剤を接触させて、ハロゲン化中 間体をデヒドロハロゲン化し、式１０４の化合物を生成することからなる、請求 の範囲第４２項記載の方法。 ４７．式１０４： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 Ｒ¹¹は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカル ボニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式１０３に対応する化合物を、ハロゲン化アルカリ金属の存在下で熱分解する ことからなり、式１０３の化合物は、構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、Ｒ¹¹、および−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したもので あり、Ｒ¹²は、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルである）を有する、上記方法。 ４８．式１０３： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 Ｒ¹¹は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式１０２の化合物を、塩基の存在下でジアルキルマロネートと縮合させること からなり、式１０２の化合物は、構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、Ｒ¹¹、および−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したもので ある）を有する、上記方法。 ４９．式１０２： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 Ｒ¹¹は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式１０１の化合物を、塩基の存在下でスルホニウムイリドと反応させることか らなり、式１０１の化合物は、構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、および−Ｂ−Ｂ−は、前記で定渡したものである） を有する、上記方法。 ５０．式１０１： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 Ｒ¹¹は、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルキルであり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基：（式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］に対応する化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXXVIの化合物を、酸触媒の存在下でエーテル化試薬と反応させることから なり、式XXXVIの化合物は、構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、および−Ｂ−Ｂ−は、前記で定義したものである） を有する、上記方法。 ５１．式１０１の化合物は、式XXXVIの化合物を、酸性化アルカノール溶媒中の オルトギ酸トリアルキルと反応させることにより製造される、請求の範囲第５０ 項記載の方法。 ５２．式XXXVI： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）である］の化合物の製造方法であって、 該方法は、 式XXXVIIの墓質化合物を、該基質化合物を、式XXXVI （式中、−Ａ−Ａ−、−Ｂ−Ｂ−およびＲ³は、前記で定複したものである）の 化合物に変換するのに有効な微生物の存在下で、発酵により酸化し［ここで、式 XXXVIIの基質化合物は式： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−およびは上記で定義したものであり 、Ｄ−Ｄは、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−またはＣＨ＝ＣＨ−であり、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、 およびＲ¹⁶は、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルよりなる群から独立に選択される）に対応する ］；そして次に、１１α−ヒドロキシル化に有効な微生物の存在下で発酵するこ とにより、１１−ヒドロキシ基を、式XXXVIの化合物中のα−配向で導入する、 ことからなる上記方法。 ５３．式II ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコ キシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シア ノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選 択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁸とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成する］に対応す る化合物の製造方法であって、 該方法は、 式Ｖ （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、前記で定義し たものである）の化合物を、式VIの化合物に、式Ｒ¹⁰ＯＭ（式中、Ｍはアルカリ 金属であり、Ｒ¹⁰ＯはＲ¹のアルコキシ置換基に対応する）に対応するアルカリ 金属アルコキシドを反応させて製造し［ここで、式VIの化合物は、構造： （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、前記で定義したも のである）を有する］； 式Ｖの化合物を純粋な形で単離することなく、式Ｖの化合物と低級アルキルス ルホニル化試薬またはアシル化試薬と反応させて、式IV （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、前記で定義し たものであり、Ｒ²は、アルキルスルホニルオキシ、アシルオキシ脱離基または ハロゲン化物である）の化合物を製造し； 式IVの化合物を純粋な形で単離することなく、１１α−脱離基を、その除去の ための試薬と反応させてそこから除去して、式IIの化合物を製造する、ことから なる、上記方法。 ５４．請求の範囲第５３項記載の方法であって、 式IIの化合物を純粋な形で単離することなく、式IIの化合物をエポキシ化試薬 と反応させて、式Ｉ （式中、−Ａ−Ａ−、Ｒ¹、Ｒ³、−Ｂ−Ｂ−、Ｒ⁸、およびＲ⁹は、前記で定義し たものである）の生成物を生成することからなる、上記方法。 ５５．請求の範囲第５４項記載の方法であって、 式IIの化合物は、式IVの化合物を、アルカリ金属アルコキシドの存在下で、ア ルカン酸を含む脱離基除去試薬と反応させることにより生成し； 揮発性成分は、反応溶液から除去し； 反応溶液の水溶性成分は、水性洗浄溶液で洗浄して除去し、こうして式IIの化 合物を式Ｉの化合物に変換するのに適した、残存する式IIの溶液を産生し；そし て 過酸化物酸化剤を残存する式IIの溶液と合わせて、式IIの化合物を式Ｉの化合 物に変換することからなる、上記方法。 ５６．請求の範囲第５４項記載の方法であって、 式Ｖの化合物は、式VIの化合物を、有機溶媒中のアルカリ金属アルコキシドと 反応させることにより生成し； 式Ｖの化合物は、有機溶媒を使用して、式Ｖ反応溶液を含む溶液から抽出し、 こうして式Ｖ抽出溶液を産生し；そして 式Ｖ抽出溶液を含む溶液に、低級アルキルスルホニルハロゲン化物またはアシ ルハロゲン化物を導入して、式VIの化合物を製造することからなる、上記方法。 ５７．請求の範囲第５４項記載の方法であって、 式IVの化合物は、式Ｖの化合物を、有機溶媒中の脱離基除去試薬と反応させる ことにより生成し； 式IV反応溶液を含む溶液は、酸***換樹脂カラムそして次に塩基***換樹脂カ ラムに通して、そこから塩基性および酸性の不純物を除去し、こうして式IV溶出 溶液を産生し； アルキルスルホニルオキシまたはアシルオキシ脱離基の除去のための試薬を、 式IV溶出溶液を含む溶液と合わせて、式IIの化合物を製造することからなる、上 記方法。 ５８．オレフィン性２重結合を有する基質化合物に、過酸化物アクチベーターの 存在下で、過酸化物化合物を接触させることからなる、エポキシ化合物の生成方 法であって、過酸化物アクチベーターは、式： （式中、Ｒは、モノクロロメチル以上の電子吸引力を有する置換基である）に対 応する、上記方法。 ５９．請求の範囲第５８項記載の方法であって、 過酸化物アクチベーターは、式 （式中、Ｘ¹、Ｘ²、およびＸ³は、ハロ、水素、アルキル、ハロアルキル、シア ノおよびシアノアルキルよりなる群から選択され、Ｒ^Pは、アリーレンと−（Ｃ Ｘ⁴ＣＸ⁵）_n−よりなる群から選択され、ｎは、０または１であり、Ｘ¹、Ｘ²、 Ｘ³、Ｘ⁴、およびＸ⁵の少なくとも１つは、ハロまたはペルハロアルキルである 、上記方法。 ６０．ｎは０であり、Ｘ¹、Ｘ²、およびＸ³の少なくとも１つは、ハロまたはペ ルハロアルキルである、請求の範囲第５８項記載の方法。 ６１．Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴、およびＸ⁵のすべては、ハロまたはペルハロアルキ ルである、請求の範囲第５８項記載の方法。 ６２．過酸化物アクチベーターは、トリハロアセトアミドである、請求の範囲第 ５８項記載の方法。 ６３．過酸化物アクチベーターは、トリクロロアセトアミドである、請求の範囲 第６２項記載の方法。 ６４．請求の範囲第５８項記載の方法であって、基質化合物は、式： ［式中、 −Ａ−Ａ−は、基−ＣＨＲ⁴−ＣＨＲ⁵−または−ＣＲ⁴＝ＣＲ⁵−であり、 Ｒ³は、水素、ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ シアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、シアノ、アリールオ キシよりなる群から選択され、 Ｒ¹は、アルファ−配向の低級アルコキシカルボニルまたはヒドロキシカルボ ニル基であり、 −Ｂ−Ｂ−は、基−ＣＨＲ⁶−ＣＨＲ⁷−またはアルファ−もしくはベータ−配 向の基： （式中、Ｒ⁶とＲ⁷は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボ ニル、アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に 選択される）であり、そして Ｒ⁸とＲ⁹は、水素、ハロ、低級アルコキシ、アシル、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシカルボニル、アルキル、アルコキシカルボニル、 アシルオキシアルキル、シアノ、アリールオキシよりなる群から独立に選択され るか、またはＲ⁶とＲ⁹は、一緒に炭素環または複素環構造を構成するか、または Ｒ⁶またはＲ⁹は、Ｒ⁶またはＲ⁷と一緒に、五員環Ｄ環に縮合した炭素環または複 素環構造を構成する］に対応する、上記方法。 ６５．請求の範囲第５８項記載の方法であって、基質化合物は、 よりなる群から選択され、かつ、エポキシ化反応の生成物は、よりなる群から選択される、上記方法。