JP2002226423A - イミド化合物を触媒とするケトンの製造方法 - Google Patents
イミド化合物を触媒とするケトンの製造方法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 第２級アルコールからケトンを、より穏和な
条件下で効率よく製造できる方法を提供する 【解決手段】 本発明はケトンを製造する方法であっ
て、（i）下記式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又は
ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
状イミド骨格を有するイミド化合物を触媒とし、（Ａ）
第２級アルコールと（Ｂ）酸素との反応において、反応
系に、（ii）芳香族カルボン酸又はその塩、及び芳香族
アルデヒドより選ばれた少なくとも一つの反応促進剤を
共存させることを特徴とする。
条件下で効率よく製造できる方法を提供する 【解決手段】 本発明はケトンを製造する方法であっ
て、（i）下記式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又は
ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
状イミド骨格を有するイミド化合物を触媒とし、（Ａ）
第２級アルコールと（Ｂ）酸素との反応において、反応
系に、（ii）芳香族カルボン酸又はその塩、及び芳香族
アルデヒドより選ばれた少なくとも一つの反応促進剤を
共存させることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、イミド化合物触媒
を用いたケトンの製造方法、より詳細には、特定のイミ
ド化合物と、芳香族カルボン酸若しくはその塩、又は芳
香族アルデヒドの存在下で、第２級アルコールと酸素と
を反応させてケトンを製造する方法に関する。
を用いたケトンの製造方法、より詳細には、特定のイミ
ド化合物と、芳香族カルボン酸若しくはその塩、又は芳
香族アルデヒドの存在下で、第２級アルコールと酸素と
を反応させてケトンを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】酸化反応は、有機化学工業における最も
基本的な反応の一つであるため、種々の酸化法が開発さ
れている。資源及び環境上の観点から、好ましい酸化方
法は、分子状酸素又は空気を酸化剤として直接利用する
触媒的な酸化法である。
基本的な反応の一つであるため、種々の酸化法が開発さ
れている。資源及び環境上の観点から、好ましい酸化方
法は、分子状酸素又は空気を酸化剤として直接利用する
触媒的な酸化法である。
【０００３】特開平８−３８９０９号公報及び特開平９
−３２７６２６号公報には、分子状酸素により有機基質
を酸化してケトンを生成するための触媒として、特定の
構造を有するイミド化合物、又は前記イミド化合物と遷
移金属化合物などとで構成された酸化触媒が提案されて
いる。これらのイミド化合物を触媒として用いる方法に
よれば、比較的温和な条件下で酸化反応を進めることが
できる。しかし、この方法においても、目的化合物の収
率等の点で必ずしも充分満足できるものではなかった。
特に、シクロアルカンジオールなどの多価の第２級アル
コールからシクロアルカンジオンなどのポリケトンを得
ようとする場合には、第１番目の第２級アルコールは比
較的速やかに酸化されてケトンに変換されるものの、第
２番目以降の第２級アルコールの酸化速度が遅く、シク
ロアルカンジオンなどのポリケトンを収率よく得ること
が困難である。
−３２７６２６号公報には、分子状酸素により有機基質
を酸化してケトンを生成するための触媒として、特定の
構造を有するイミド化合物、又は前記イミド化合物と遷
移金属化合物などとで構成された酸化触媒が提案されて
いる。これらのイミド化合物を触媒として用いる方法に
よれば、比較的温和な条件下で酸化反応を進めることが
できる。しかし、この方法においても、目的化合物の収
率等の点で必ずしも充分満足できるものではなかった。
特に、シクロアルカンジオールなどの多価の第２級アル
コールからシクロアルカンジオンなどのポリケトンを得
ようとする場合には、第１番目の第２級アルコールは比
較的速やかに酸化されてケトンに変換されるものの、第
２番目以降の第２級アルコールの酸化速度が遅く、シク
ロアルカンジオンなどのポリケトンを収率よく得ること
が困難である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、第２
級アルコールから対応するケトンを、効率よく製造でき
る方法を提供することにある。本発明の他の目的は、シ
クロアルカンジオールなどの多価の第２級アルコール
や、ヒドロキシシクロアルカノンなどのオキソ基を有す
る第２級アルコールから、対応するポリケトンを高い収
率で製造できる方法を提供することにある。
級アルコールから対応するケトンを、効率よく製造でき
る方法を提供することにある。本発明の他の目的は、シ
クロアルカンジオールなどの多価の第２級アルコール
や、ヒドロキシシクロアルカノンなどのオキソ基を有す
る第２級アルコールから、対応するポリケトンを高い収
率で製造できる方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため鋭意検討した結果、特定構造のイミド化
合物と、芳香族カルボン酸又はその塩、及び芳香族アル
デヒドより選ばれた少なくとも一つの反応促進剤との共
存下、第２級アルコールと酸素とを反応させると、穏和
な条件で、対応するケトンを効率よく得られることを見
いだし、本発明を完成した。
を達成するため鋭意検討した結果、特定構造のイミド化
合物と、芳香族カルボン酸又はその塩、及び芳香族アル
デヒドより選ばれた少なくとも一つの反応促進剤との共
存下、第２級アルコールと酸素とを反応させると、穏和
な条件で、対応するケトンを効率よく得られることを見
いだし、本発明を完成した。
【０００６】すなわち、本発明は、（i）下記式（Ｉ）
【化３】 ［式中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又は
ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
状イミド骨格を有するイミド化合物を触媒とし、（Ａ）
第２級アルコールと（Ｂ）酸素とを反応させて対応する
ケトンを製造する方法であって、反応系に（ii）芳香族
カルボン酸又はその塩、及び芳香族アルデヒドより選ば
れた少なくとも一つの反応促進剤を共存させることを特
徴とするケトンの製造方法を提供する。
ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
状イミド骨格を有するイミド化合物を触媒とし、（Ａ）
第２級アルコールと（Ｂ）酸素とを反応させて対応する
ケトンを製造する方法であって、反応系に（ii）芳香族
カルボン酸又はその塩、及び芳香族アルデヒドより選ば
れた少なくとも一つの反応促進剤を共存させることを特
徴とするケトンの製造方法を提供する。
【０００７】前記イミド化合物には、下記式（１）
【化４】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ1及
びＲ2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しく
は非芳香族性の環を形成してもよい。Ｘは酸素原子又は
−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を
示す）を示す。前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに
結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳
香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環
状イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい］
で表される化合物が含まれる。
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ1及
びＲ2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しく
は非芳香族性の環を形成してもよい。Ｘは酸素原子又は
−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を
示す）を示す。前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに
結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳
香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環
状イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい］
で表される化合物が含まれる。
【０００８】前記反応促進剤（ii）として、例えば、安
息香酸又はその塩、及びベンズアルデヒドより選ばれた
少なくとも一つの化合物が好ましく用いられる。反応促
進剤（ii）の使用量は、例えば、第２級アルコール
（Ａ）１モルに対して０．０００１〜０．２モル程度で
ある。
息香酸又はその塩、及びベンズアルデヒドより選ばれた
少なくとも一つの化合物が好ましく用いられる。反応促
進剤（ii）の使用量は、例えば、第２級アルコール
（Ａ）１モルに対して０．０００１〜０．２モル程度で
ある。
【０００９】第２級アルコール（Ａ）として、例えば、
飽和又は不飽和脂環式第２級アルコールを使用できる。
好ましい第２級アルコール（Ａ）として、多価の第２級
アルコール又はオキソ基を有する第２級アルコールが挙
げられる。特に、シクロアルカンジオール又はヒドロキ
シシクロアルカノンが好ましく用いられる。前記ケトン
の製造方法において、金属化合物を助触媒（iii）とし
て用いることもできる。
飽和又は不飽和脂環式第２級アルコールを使用できる。
好ましい第２級アルコール（Ａ）として、多価の第２級
アルコール又はオキソ基を有する第２級アルコールが挙
げられる。特に、シクロアルカンジオール又はヒドロキ
シシクロアルカノンが好ましく用いられる。前記ケトン
の製造方法において、金属化合物を助触媒（iii）とし
て用いることもできる。
【００１０】
【発明の実施の形態】［（i）イミド化合物触媒］式
（Ｉ）において、窒素原子とＸとの結合は単結合又は二
重結合である。前記イミド化合物は、分子中に、式
（Ｉ）で表されるＮ−置換環状イミド骨格を複数個有し
ていてもよい。また、このイミド化合物は、前記Ｘが−
ＯＲ基であり且つＲがヒドロキシル基の保護基である場
合、Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−
オキシ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合して
いてもよい。
（Ｉ）において、窒素原子とＸとの結合は単結合又は二
重結合である。前記イミド化合物は、分子中に、式
（Ｉ）で表されるＮ−置換環状イミド骨格を複数個有し
ていてもよい。また、このイミド化合物は、前記Ｘが−
ＯＲ基であり且つＲがヒドロキシル基の保護基である場
合、Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−
オキシ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合して
いてもよい。
【００１１】式（Ｉ）中、Ｒで示されるヒドロキシル基
の保護基としては、有機合成の分野で慣用のヒドロキシ
ル基の保護基を用いることができる。このような保護基
として、例えば、アルキル基（例えば、メチル、ｔ−ブ
チル基などのＣ1-4アルキル基など）、アルケニル基
（例えば、アリル基など）、シクロアルキル基（例え
ば、シクロヘキシル基など）、アリール基（例えば、
２，４−ジニトロフェニル基など）、アラルキル基（例
えば、ベンジル、２，６−ジクロロベンジル、３−ブロ
モベンジル、２−ニトロベンジル、トリフェニルメチル
基など）；置換メチル基（例えば、メトキシメチル、メ
チルチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｔ−ブトキシ
メチル、２−メトキシエトキシメチル、２，２，２−ト
リクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）
メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基な
ど）、置換エチル基（例えば、１−エトキシエチル、１
−メチル−１−メトキシエチル、１−イソプロポキシエ
チル、２，２，２−トリクロロエチル基など）、テトラ
ヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、１−ヒド
ロキシアルキル基（例えば、１−ヒドロキシエチル、１
−ヒドロキシヘキシル、１−ヒドロキシデシル、１−ヒ
ドロキシヘキサデシル、１−ヒドロキシ−１−フェニル
メチル基など）等のヒドロキシル基とアセタール又はヘ
ミアセタール基を形成可能な基など；アシル基（例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、ピバロイル基などのＣ1-6脂肪
族アシル基；アセトアセチル基；ベンゾイル、ナフトイ
ル基などの芳香族アシル基など）、スルホニル基（メタ
ンスルホニル、エタンスルホニル、トリフルオロメタン
スルホニル、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホ
ニル、ナフタレンスルホニル基など）、アルコキシカル
ボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ1-4アルコ
キシ−カルボニル基など）、アラルキルオキシカルボニ
ル基（例えば、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メト
キシベンジルオキシカルボニル基など）、置換又は無置
換カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカル
バモイル、フェニルカルバモイル基など）、無機酸（硫
酸、硝酸、リン酸、ホウ酸など）からＯＨ基を除した
基、ジアルキルホスフィノチオイル基（例えば、ジメチ
ルホスフィノチオイル基など）、ジアリールホスフィノ
チオイル基（例えば、ジフェニルホスフィノチオイル基
など）、置換シリル基（例えば、トリメチルシリル、ｔ
−ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリル、トリフ
ェニルシリル基など）などが挙げられる。
の保護基としては、有機合成の分野で慣用のヒドロキシ
ル基の保護基を用いることができる。このような保護基
として、例えば、アルキル基（例えば、メチル、ｔ−ブ
チル基などのＣ1-4アルキル基など）、アルケニル基
（例えば、アリル基など）、シクロアルキル基（例え
ば、シクロヘキシル基など）、アリール基（例えば、
２，４−ジニトロフェニル基など）、アラルキル基（例
えば、ベンジル、２，６−ジクロロベンジル、３−ブロ
モベンジル、２−ニトロベンジル、トリフェニルメチル
基など）；置換メチル基（例えば、メトキシメチル、メ
チルチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｔ−ブトキシ
メチル、２−メトキシエトキシメチル、２，２，２−ト
リクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）
メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基な
ど）、置換エチル基（例えば、１−エトキシエチル、１
−メチル−１−メトキシエチル、１−イソプロポキシエ
チル、２，２，２−トリクロロエチル基など）、テトラ
ヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、１−ヒド
ロキシアルキル基（例えば、１−ヒドロキシエチル、１
−ヒドロキシヘキシル、１−ヒドロキシデシル、１−ヒ
ドロキシヘキサデシル、１−ヒドロキシ−１−フェニル
メチル基など）等のヒドロキシル基とアセタール又はヘ
ミアセタール基を形成可能な基など；アシル基（例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、ピバロイル基などのＣ1-6脂肪
族アシル基；アセトアセチル基；ベンゾイル、ナフトイ
ル基などの芳香族アシル基など）、スルホニル基（メタ
ンスルホニル、エタンスルホニル、トリフルオロメタン
スルホニル、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホ
ニル、ナフタレンスルホニル基など）、アルコキシカル
ボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ1-4アルコ
キシ−カルボニル基など）、アラルキルオキシカルボニ
ル基（例えば、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メト
キシベンジルオキシカルボニル基など）、置換又は無置
換カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカル
バモイル、フェニルカルバモイル基など）、無機酸（硫
酸、硝酸、リン酸、ホウ酸など）からＯＨ基を除した
基、ジアルキルホスフィノチオイル基（例えば、ジメチ
ルホスフィノチオイル基など）、ジアリールホスフィノ
チオイル基（例えば、ジフェニルホスフィノチオイル基
など）、置換シリル基（例えば、トリメチルシリル、ｔ
−ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリル、トリフ
ェニルシリル基など）などが挙げられる。
【００１２】また、Ｘが−ＯＲ基である場合において、
Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−オキ
シ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合する場
合、該Ｒとして、例えば、オキサリル、マロニル、スク
シニル、グルタリル、フタロイル、イソフタロイル、テ
レフタロイル基などのポリカルボン酸アシル基；カルボ
ニル基；メチレン、エチリデン、イソプロピリデン、シ
クロペンチリデン、シクロヘキシリデン、ベンジリデン
基などの多価の炭化水素基（特に、２つのヒドロキシル
基とアセタール結合を形成する基）などが挙げられる。
Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−オキ
シ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合する場
合、該Ｒとして、例えば、オキサリル、マロニル、スク
シニル、グルタリル、フタロイル、イソフタロイル、テ
レフタロイル基などのポリカルボン酸アシル基；カルボ
ニル基；メチレン、エチリデン、イソプロピリデン、シ
クロペンチリデン、シクロヘキシリデン、ベンジリデン
基などの多価の炭化水素基（特に、２つのヒドロキシル
基とアセタール結合を形成する基）などが挙げられる。
【００１３】Ｒとしては、アルキル基（メチル基など）
以外の保護基がより好ましい。特に好ましいＲには、例
えば、水素原子；ヒドロキシル基とアセタール又はヘミ
アセタール基を形成可能な基；カルボン酸、スルホン
酸、炭酸、カルバミン酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などの
酸からＯＨ基を除した基（アシル基、スルホニル基、ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基等）などの加水
分解により脱離可能な加水分解性保護基などが含まれ
る。
以外の保護基がより好ましい。特に好ましいＲには、例
えば、水素原子；ヒドロキシル基とアセタール又はヘミ
アセタール基を形成可能な基；カルボン酸、スルホン
酸、炭酸、カルバミン酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などの
酸からＯＨ基を除した基（アシル基、スルホニル基、ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基等）などの加水
分解により脱離可能な加水分解性保護基などが含まれ
る。
【００１４】前記イミド化合物の代表的な例として、前
記式（１）で表されるイミド化合物が挙げられる。この
イミド化合物において、置換基Ｒ1及びＲ2のうちハロゲ
ン原子には、ヨウ素、臭素、塩素およびフッ素原子が含
まれる。アルキル基には、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ヘキシル、デシル基などの炭素数１〜
１０程度の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が含まれる。
好ましいアルキル基としては、例えば、炭素数１〜６程
度、特に炭素数１〜４程度の低級アルキル基が挙げられ
る。
記式（１）で表されるイミド化合物が挙げられる。この
イミド化合物において、置換基Ｒ1及びＲ2のうちハロゲ
ン原子には、ヨウ素、臭素、塩素およびフッ素原子が含
まれる。アルキル基には、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ヘキシル、デシル基などの炭素数１〜
１０程度の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が含まれる。
好ましいアルキル基としては、例えば、炭素数１〜６程
度、特に炭素数１〜４程度の低級アルキル基が挙げられ
る。
【００１５】アリール基には、フェニル、ナフチル基な
どが含まれ、シクロアルキル基には、シクロペンチル、
シクロヘキシル基などが含まれる。アルコキシ基には、
例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ、ヘキシルオキシ基などの炭素数１〜
１０程度、好ましくは炭素数１〜６程度、特に炭素数１
〜４程度の低級アルコキシ基が含まれる。
どが含まれ、シクロアルキル基には、シクロペンチル、
シクロヘキシル基などが含まれる。アルコキシ基には、
例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ、ヘキシルオキシ基などの炭素数１〜
１０程度、好ましくは炭素数１〜６程度、特に炭素数１
〜４程度の低級アルコキシ基が含まれる。
【００１６】アルコキシカルボニル基には、例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル基などのアルコキシ
部分の炭素数が１〜１０程度のアルコキシカルボニル基
が含まれる。好ましいカルボニル基にはアルコキシ部分
の炭素数が１〜６程度、特に１〜４程度の低級アルコキ
シカルボニル基が含まれる。アシル基としては、例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル基な
どの炭素数１〜６程度のアシル基が例示できる。
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル基などのアルコキシ
部分の炭素数が１〜１０程度のアルコキシカルボニル基
が含まれる。好ましいカルボニル基にはアルコキシ部分
の炭素数が１〜６程度、特に１〜４程度の低級アルコキ
シカルボニル基が含まれる。アシル基としては、例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル基な
どの炭素数１〜６程度のアシル基が例示できる。
【００１７】前記置換基Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なっ
ていてもよい。また、前記式（１）において、Ｒ1及び
Ｒ2は互いに結合して、二重結合、または芳香族性又は
非芳香属性の環を形成してもよい。好ましい芳香族性又
は非芳香族性環は５〜１２員環、特に６〜１０員環程度
であり、複素環又は縮合複素環であってもよいが、炭化
水素環である場合が多い。このような環には、例えば、
非芳香族性脂環式環（シクロヘキサン環などの置換基を
有していてもよいシクロアルカン環、シクロヘキセン環
などの置換基を有していてもよいシクロアルケン環な
ど）、非芳香族性橋かけ環（５−ノルボルネン環などの
置換基を有していてもよい橋かけ式炭化水素環など）、
ベンゼン環、ナフタレン環などの置換基を有していても
よい芳香族環（縮合環を含む）が含まれる。前記環は、
芳香族環で構成される場合が多い。前記環は、アルキル
基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、
ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子などの置
換基を有していてもよい。
ていてもよい。また、前記式（１）において、Ｒ1及び
Ｒ2は互いに結合して、二重結合、または芳香族性又は
非芳香属性の環を形成してもよい。好ましい芳香族性又
は非芳香族性環は５〜１２員環、特に６〜１０員環程度
であり、複素環又は縮合複素環であってもよいが、炭化
水素環である場合が多い。このような環には、例えば、
非芳香族性脂環式環（シクロヘキサン環などの置換基を
有していてもよいシクロアルカン環、シクロヘキセン環
などの置換基を有していてもよいシクロアルケン環な
ど）、非芳香族性橋かけ環（５−ノルボルネン環などの
置換基を有していてもよい橋かけ式炭化水素環など）、
ベンゼン環、ナフタレン環などの置換基を有していても
よい芳香族環（縮合環を含む）が含まれる。前記環は、
芳香族環で構成される場合が多い。前記環は、アルキル
基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、
ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子などの置
換基を有していてもよい。
【００１８】前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに結
合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香
族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環状
イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい。例
えば、Ｒ1又はＲ2が炭素数２以上のアルキル基である場
合、このアルキル基を構成する隣接する２つの炭素原子
を含んで前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていても
よい。また、Ｒ1及びＲ2が互いに結合して二重結合を形
成する場合、該二重結合を含んで前記Ｎ−置換環状イミ
ド基が形成されていてもよい。さらに、Ｒ1及びＲ2が互
いに結合して芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成す
る場合、該環を構成する隣接する２つの炭素原子を含ん
で前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていてもよい。
合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香
族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環状
イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい。例
えば、Ｒ1又はＲ2が炭素数２以上のアルキル基である場
合、このアルキル基を構成する隣接する２つの炭素原子
を含んで前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていても
よい。また、Ｒ1及びＲ2が互いに結合して二重結合を形
成する場合、該二重結合を含んで前記Ｎ−置換環状イミ
ド基が形成されていてもよい。さらに、Ｒ1及びＲ2が互
いに結合して芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成す
る場合、該環を構成する隣接する２つの炭素原子を含ん
で前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていてもよい。
【００１９】好ましいイミド化合物には、下記式で表さ
れる化合物が含まれる。
れる化合物が含まれる。
【化５】 （式中、Ｒ3〜Ｒ6は、同一又は異なって、水素原子、ア
ルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子を
示す。Ｒ3〜Ｒ6は、隣接する基同士が互いに結合して芳
香族性又は非芳香族性の環を形成していてもよい。式
（1f）中、Ａはメチレン基又は酸素原子を示す。Ｒ1、
Ｒ2、Ｘは前記に同じ。式（1c）のベンゼン環には、式
（1c）中に示されるＮ−置換環状イミド基がさらに１又
は２個形成されていてもよい）
ルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子を
示す。Ｒ3〜Ｒ6は、隣接する基同士が互いに結合して芳
香族性又は非芳香族性の環を形成していてもよい。式
（1f）中、Ａはメチレン基又は酸素原子を示す。Ｒ1、
Ｒ2、Ｘは前記に同じ。式（1c）のベンゼン環には、式
（1c）中に示されるＮ−置換環状イミド基がさらに１又
は２個形成されていてもよい）
【００２０】置換基Ｒ3〜Ｒ6において、アルキル基に
は、前記例示のアルキル基と同様のアルキル基、特に炭
素数１〜６程度のアルキル基が含まれ、ハロアルキル基
には、トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４程度の
ハロアルキル基、アルコキシ基には、前記と同様のアル
コキシ基、特に炭素数１〜４程度の低級アルコキシ基、
アルコキシカルボニル基には、前記と同様のアルコキシ
カルボニル基、特にアルコキシ部分の炭素数が１〜４程
度の低級アルコキシカルボニル基が含まれる。また、ア
シル基としては、前記と同様のアシル基、特に炭素数１
〜６程度のアシル基が例示され、ハロゲン原子として
は、フッ素、塩素、臭素原子が例示できる。置換基Ｒ3
〜Ｒ6は、通常、水素原子、炭素数１〜４程度の低級ア
ルキル基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子で
ある場合が多い。Ｒ3〜Ｒ6が互いに結合して形成する環
としては、前記Ｒ1及びＲ2が互いに結合して形成する環
と同様であり、特に芳香族性又は非芳香族性の５〜１２
員環が好ましい。
は、前記例示のアルキル基と同様のアルキル基、特に炭
素数１〜６程度のアルキル基が含まれ、ハロアルキル基
には、トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４程度の
ハロアルキル基、アルコキシ基には、前記と同様のアル
コキシ基、特に炭素数１〜４程度の低級アルコキシ基、
アルコキシカルボニル基には、前記と同様のアルコキシ
カルボニル基、特にアルコキシ部分の炭素数が１〜４程
度の低級アルコキシカルボニル基が含まれる。また、ア
シル基としては、前記と同様のアシル基、特に炭素数１
〜６程度のアシル基が例示され、ハロゲン原子として
は、フッ素、塩素、臭素原子が例示できる。置換基Ｒ3
〜Ｒ6は、通常、水素原子、炭素数１〜４程度の低級ア
ルキル基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子で
ある場合が多い。Ｒ3〜Ｒ6が互いに結合して形成する環
としては、前記Ｒ1及びＲ2が互いに結合して形成する環
と同様であり、特に芳香族性又は非芳香族性の５〜１２
員環が好ましい。
【００２１】好ましいイミド化合物の代表的な例とし
て、例えば、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒド
ロキシマレイン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシヘキサヒドロ
フタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシシクロヘキサ
ンテトラカルボン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イ
ミド、Ｎ−ヒドロキシテトラブロモフタル酸イミド、Ｎ
−ヒドロキシテトラクロロフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロ
キシヘット酸イミド、Ｎ−ヒドロキシハイミック酸イミ
ド、Ｎ−ヒドロキシトリメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−
ジヒドロキシピロメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒド
ロキシナフタレンテトラカルボン酸イミドなどのＸが−
ＯＲ基で且つＲが水素原子である化合物；Ｎ−アセトキ
シコハク酸イミド、Ｎ−アセトキシマレイン酸イミド、
Ｎ−アセトキシヘキサヒドロフタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′
−ジアセトキシシクロヘキサンテトラカルボン酸イミ
ド、Ｎ−アセトキシフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテ
トラブロモフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテトラクロ
ロフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシヘット酸イミド、Ｎ
−アセトキシハイミック酸イミド、Ｎ−アセトキシトリ
メリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジアセトキシピロメリッ
ト酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジアセトキシナフタレンテトラ
カルボン酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがアセチ
ル基等のアシル基である化合物；Ｎ−メトキシメチルオ
キシフタル酸イミド、Ｎ−（２−メトキシエトキシメチ
ルオキシ）フタル酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲ
がヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール結合
を形成可能な基である化合物；Ｎ−メタンスルホニルオ
キシフタル酸イミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニルオ
キシ）フタル酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがス
ルホニル基である化合物；Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミ
ドの硫酸エステル、硝酸エステル、リン酸エステル又は
ホウ酸エステルなどのＸが−ＯＲ基で且つＲが無機酸か
らＯＨ基を除した基である化合物などが挙げられる。
て、例えば、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒド
ロキシマレイン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシヘキサヒドロ
フタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシシクロヘキサ
ンテトラカルボン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イ
ミド、Ｎ−ヒドロキシテトラブロモフタル酸イミド、Ｎ
−ヒドロキシテトラクロロフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロ
キシヘット酸イミド、Ｎ−ヒドロキシハイミック酸イミ
ド、Ｎ−ヒドロキシトリメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−
ジヒドロキシピロメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒド
ロキシナフタレンテトラカルボン酸イミドなどのＸが−
ＯＲ基で且つＲが水素原子である化合物；Ｎ−アセトキ
シコハク酸イミド、Ｎ−アセトキシマレイン酸イミド、
Ｎ−アセトキシヘキサヒドロフタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′
−ジアセトキシシクロヘキサンテトラカルボン酸イミ
ド、Ｎ−アセトキシフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテ
トラブロモフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテトラクロ
ロフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシヘット酸イミド、Ｎ
−アセトキシハイミック酸イミド、Ｎ−アセトキシトリ
メリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジアセトキシピロメリッ
ト酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジアセトキシナフタレンテトラ
カルボン酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがアセチ
ル基等のアシル基である化合物；Ｎ−メトキシメチルオ
キシフタル酸イミド、Ｎ−（２−メトキシエトキシメチ
ルオキシ）フタル酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲ
がヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール結合
を形成可能な基である化合物；Ｎ−メタンスルホニルオ
キシフタル酸イミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニルオ
キシ）フタル酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがス
ルホニル基である化合物；Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミ
ドの硫酸エステル、硝酸エステル、リン酸エステル又は
ホウ酸エステルなどのＸが−ＯＲ基で且つＲが無機酸か
らＯＨ基を除した基である化合物などが挙げられる。
【００２２】前記イミド化合物のうち、Ｘが−ＯＲ基で
且つＲが水素原子である化合物は、慣用のイミド化反
応、例えば、対応する酸無水物とヒドロキシルアミンＮ
Ｈ2ＯＨとを反応させ、酸無水物基の開環及び閉環を経
てイミド化する方法により調製できる。前記酸無水物に
は、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸などの飽和
又は不飽和脂肪族ジカルボン酸無水物、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸（１，２−シク
ロヘキサンジカルボン酸無水物）、１，２，３，４−シ
クロヘキサンテトラカルボン酸１，２−無水物などの飽
和又は不飽和非芳香族性環状多価カルボン酸無水物（脂
環式多価カルボン酸無水物）、無水ヘット酸、無水ハイ
ミック酸などの橋かけ環式多価カルボン酸無水物（脂環
式多価カルボン酸無水物）、無水フタル酸、テトラブロ
モ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水ニト
ロフタル酸、無水トリメリット酸、メチルシクロヘキセ
ントリカルボン酸無水物、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、１，８；４，５−ナフタレンテトラカルボン
酸二無水物などの芳香族多価カルボン酸無水物が含まれ
る。
且つＲが水素原子である化合物は、慣用のイミド化反
応、例えば、対応する酸無水物とヒドロキシルアミンＮ
Ｈ2ＯＨとを反応させ、酸無水物基の開環及び閉環を経
てイミド化する方法により調製できる。前記酸無水物に
は、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸などの飽和
又は不飽和脂肪族ジカルボン酸無水物、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸（１，２−シク
ロヘキサンジカルボン酸無水物）、１，２，３，４−シ
クロヘキサンテトラカルボン酸１，２−無水物などの飽
和又は不飽和非芳香族性環状多価カルボン酸無水物（脂
環式多価カルボン酸無水物）、無水ヘット酸、無水ハイ
ミック酸などの橋かけ環式多価カルボン酸無水物（脂環
式多価カルボン酸無水物）、無水フタル酸、テトラブロ
モ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水ニト
ロフタル酸、無水トリメリット酸、メチルシクロヘキセ
ントリカルボン酸無水物、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、１，８；４，５−ナフタレンテトラカルボン
酸二無水物などの芳香族多価カルボン酸無水物が含まれ
る。
【００２３】前記イミド化合物のうち、Ｘが−ＯＲ基で
且つＲがヒドロキシル基の保護基である化合物は、対応
するＲが水素原子である化合物（Ｎ−ヒドロキシ環状イ
ミド化合物）に、慣用の保護基導入反応を利用して、所
望の保護基を導入することにより調製することができ
る。例えば、Ｎ−アセトキシフタル酸イミドは、Ｎ−ヒ
ドロキシフタル酸イミドに無水酢酸を反応させたり、塩
基の存在下でアセチルハライドを反応させることにより
得ることができる。
且つＲがヒドロキシル基の保護基である化合物は、対応
するＲが水素原子である化合物（Ｎ−ヒドロキシ環状イ
ミド化合物）に、慣用の保護基導入反応を利用して、所
望の保護基を導入することにより調製することができ
る。例えば、Ｎ−アセトキシフタル酸イミドは、Ｎ−ヒ
ドロキシフタル酸イミドに無水酢酸を反応させたり、塩
基の存在下でアセチルハライドを反応させることにより
得ることができる。
【００２４】特に好ましいイミド化合物は、脂環式多価
カルボン酸無水物又は芳香族多価カルボン酸無水物、な
かでも芳香族多価カルボン酸無水物から誘導されるＮ−
ヒドロキシイミド化合物（例えば、Ｎ−ヒドロキシフタ
ル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシピロメリット酸イ
ミド）；及び該Ｎ−ヒドロキシイミド化合物のヒドロキ
シル基に保護基を導入することにより得られる化合物な
どが含まれる。
カルボン酸無水物又は芳香族多価カルボン酸無水物、な
かでも芳香族多価カルボン酸無水物から誘導されるＮ−
ヒドロキシイミド化合物（例えば、Ｎ−ヒドロキシフタ
ル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシピロメリット酸イ
ミド）；及び該Ｎ−ヒドロキシイミド化合物のヒドロキ
シル基に保護基を導入することにより得られる化合物な
どが含まれる。
【００２５】式（Ｉ）で表されるＮ−置換環状イミド骨
格を有するイミド化合物は、反応において、単独で又は
２種以上組合せて使用できる。前記イミド化合物は反応
系内で生成させてもよい。
格を有するイミド化合物は、反応において、単独で又は
２種以上組合せて使用できる。前記イミド化合物は反応
系内で生成させてもよい。
【００２６】前記イミド化合物の使用量は、広い範囲で
選択でき、例えば、第２級アルコール１モルに対して
０．００００００１〜１モル、好ましくは０．００００
１〜０．５モル、さらに好ましくは０．０００１〜０．
４モル程度であり、０．００１〜０．３５モル程度であ
る場合が多い。
選択でき、例えば、第２級アルコール１モルに対して
０．００００００１〜１モル、好ましくは０．００００
１〜０．５モル、さらに好ましくは０．０００１〜０．
４モル程度であり、０．００１〜０．３５モル程度であ
る場合が多い。
【００２７】［（ii）反応促進剤］本発明の方法では、
反応促進剤（ii）を、（ａ）前記イミド化合物及び助触
媒、又は（ｂ）前記イミド化合物と組合せて用いること
により、穏やかな反応条件においても、速やかに反応を
進行させることができる。中でも、（ａ）イミド化合物
及び助触媒と組合せると、さらに顕著な効果が見られ
る。
反応促進剤（ii）を、（ａ）前記イミド化合物及び助触
媒、又は（ｂ）前記イミド化合物と組合せて用いること
により、穏やかな反応条件においても、速やかに反応を
進行させることができる。中でも、（ａ）イミド化合物
及び助触媒と組合せると、さらに顕著な効果が見られ
る。
【００２８】反応促進剤としては、芳香族カルボン酸若
しくはその塩、又は芳香族アルデヒドが使用でき、その
種類は特に制限されない。これらの芳香族カルボン酸若
しくはその塩、又は芳香族アルデヒドは、置換基を有し
ていてもよい。
しくはその塩、又は芳香族アルデヒドが使用でき、その
種類は特に制限されない。これらの芳香族カルボン酸若
しくはその塩、又は芳香族アルデヒドは、置換基を有し
ていてもよい。
【００２９】芳香族カルボン酸又はその塩、及び芳香族
アルデヒドにおいては、芳香族性環は、芳香族炭化水素
環（芳香族性同素環）、芳香族複素環のいずれであって
もよい。また、芳香族性縮合複素環において、カルボキ
シル基又はホルミル基は複素環に結合していてもよく、
芳香族炭化水素環に結合していてもよい。
アルデヒドにおいては、芳香族性環は、芳香族炭化水素
環（芳香族性同素環）、芳香族複素環のいずれであって
もよい。また、芳香族性縮合複素環において、カルボキ
シル基又はホルミル基は複素環に結合していてもよく、
芳香族炭化水素環に結合していてもよい。
【００３０】芳香族カルボン酸としては、安息香酸、フ
タル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフトエ酸、ナ
フタレンジカルボン酸、１，３，５−ナフタレントリカ
ルボン酸などの芳香族炭素環式カルボン酸、フランカル
ボン酸、チオフェンカルボン酸、１−ピロールカルボン
酸、２−ピリジンカルボン酸、ニコチン酸、イソニコチ
ン酸などの芳香族複素環式カルボン酸；サリチル酸、プ
ロトカテク酸、没食子酸などのヒドロキシカルボン酸；
アニス酸、ベラトルム酸、ピペロニル酸、ｐ−エトキシ
安息香酸、ｐ−イソプロポキシ安息香酸などのアルコキ
シカルボン酸；ｐ−ベンゾイル安息香酸、ｐ−アセチル
安息香酸、ｐ−プロピオニル安息香酸、ｐ−ブチリル安
息香酸などのオキソカルボン酸；フタルアルデヒド酸、
イソフタルアルデヒド酸、テレフタルアルデヒド酸など
のホルミル基を有するカルボン酸；ｏ−クロロ安息香
酸、ｍ−クロロ安息香酸、ｐ−クロロ安息香酸、２−ク
ロロ−４−ピリジンカルボン酸などのハロゲン置換カル
ボン酸；３−ビフェニルカルボン酸などの芳香族環が置
換したカルボン酸；トルイル酸、５−メチル−１−ナフ
タレンカルボン酸、ｐ−エチル安息香酸、ｐ−イソブチ
ロピル安息香酸、ｐ−プロピル安息香酸、ｐ−ブチル安
息香酸などのアルキル基が置換したカルボン酸；ｏ−ア
セチルオキシ安息香酸、ｍ−アセチルオキシ安息香酸、
ｐ−アセチルオキシ安息香酸、ｐ−プロピオニルオキシ
安息香酸、ｐ−ブチリルオキシ安息香酸などのアシルオ
キシ基が置換したカルボン酸；ｐ−アミノ安息香酸，ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸、アントラニル酸などのアミ
ノカルボン酸等が例示できる。
タル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフトエ酸、ナ
フタレンジカルボン酸、１，３，５−ナフタレントリカ
ルボン酸などの芳香族炭素環式カルボン酸、フランカル
ボン酸、チオフェンカルボン酸、１−ピロールカルボン
酸、２−ピリジンカルボン酸、ニコチン酸、イソニコチ
ン酸などの芳香族複素環式カルボン酸；サリチル酸、プ
ロトカテク酸、没食子酸などのヒドロキシカルボン酸；
アニス酸、ベラトルム酸、ピペロニル酸、ｐ−エトキシ
安息香酸、ｐ−イソプロポキシ安息香酸などのアルコキ
シカルボン酸；ｐ−ベンゾイル安息香酸、ｐ−アセチル
安息香酸、ｐ−プロピオニル安息香酸、ｐ−ブチリル安
息香酸などのオキソカルボン酸；フタルアルデヒド酸、
イソフタルアルデヒド酸、テレフタルアルデヒド酸など
のホルミル基を有するカルボン酸；ｏ−クロロ安息香
酸、ｍ−クロロ安息香酸、ｐ−クロロ安息香酸、２−ク
ロロ−４−ピリジンカルボン酸などのハロゲン置換カル
ボン酸；３−ビフェニルカルボン酸などの芳香族環が置
換したカルボン酸；トルイル酸、５−メチル−１−ナフ
タレンカルボン酸、ｐ−エチル安息香酸、ｐ−イソブチ
ロピル安息香酸、ｐ−プロピル安息香酸、ｐ−ブチル安
息香酸などのアルキル基が置換したカルボン酸；ｏ−ア
セチルオキシ安息香酸、ｍ−アセチルオキシ安息香酸、
ｐ−アセチルオキシ安息香酸、ｐ−プロピオニルオキシ
安息香酸、ｐ−ブチリルオキシ安息香酸などのアシルオ
キシ基が置換したカルボン酸；ｐ−アミノ安息香酸，ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸、アントラニル酸などのアミ
ノカルボン酸等が例示できる。
【００３１】芳香族カルボン酸の塩には広い範囲の塩が
含まれ、典型元素の塩や遷移金属の塩が含まれる。これ
らの芳香族カルボン酸塩は錯塩（例えば、多核錯塩な
ど）であってもよい。典型元素の塩としては、例えば、
周期表１族元素の塩（Ｌｉ塩、Ｎａ塩、Ｋ塩、Ｒｂ塩な
ど）、周期表２族元素の塩（Ｍｇ塩、Ｃａ塩、Ｂａ塩な
ど）が例示でき、遷移金属の塩としては、例えば、周期
表３族元素の塩（Ｓｃ塩、Ｙ塩、Ｌａ塩、Ｃｅ塩な
ど）、周期表４族元素の塩（Ｔｉ塩、Ｚｒ塩など）、周
期表５族元素の塩（Ｖ塩、Ｎｂ塩など）、周期表６族元
素の塩（Ｃｒ塩、Ｍｏ塩、Ｗ塩など）、周期表７族元素
の塩（Ｍｎ塩、Ｔｃ塩など）、周期表８族元素の塩（Ｆ
ｅ塩、Ｃｏ塩、Ｎｉ塩、Ｒｕ塩、Ｒｈ塩、Ｐｄ塩な
ど）、周期表１１族元素の塩（Ｃｕ塩、Ａｇ塩など）、
周期表１２族元素の塩（Ｚｎ塩、Ｃｄ塩など）が例示で
きる。なお、金属元素の原子価（例えば、２価、３価、
４価など）も特に制限されない。
含まれ、典型元素の塩や遷移金属の塩が含まれる。これ
らの芳香族カルボン酸塩は錯塩（例えば、多核錯塩な
ど）であってもよい。典型元素の塩としては、例えば、
周期表１族元素の塩（Ｌｉ塩、Ｎａ塩、Ｋ塩、Ｒｂ塩な
ど）、周期表２族元素の塩（Ｍｇ塩、Ｃａ塩、Ｂａ塩な
ど）が例示でき、遷移金属の塩としては、例えば、周期
表３族元素の塩（Ｓｃ塩、Ｙ塩、Ｌａ塩、Ｃｅ塩な
ど）、周期表４族元素の塩（Ｔｉ塩、Ｚｒ塩など）、周
期表５族元素の塩（Ｖ塩、Ｎｂ塩など）、周期表６族元
素の塩（Ｃｒ塩、Ｍｏ塩、Ｗ塩など）、周期表７族元素
の塩（Ｍｎ塩、Ｔｃ塩など）、周期表８族元素の塩（Ｆ
ｅ塩、Ｃｏ塩、Ｎｉ塩、Ｒｕ塩、Ｒｈ塩、Ｐｄ塩な
ど）、周期表１１族元素の塩（Ｃｕ塩、Ａｇ塩など）、
周期表１２族元素の塩（Ｚｎ塩、Ｃｄ塩など）が例示で
きる。なお、金属元素の原子価（例えば、２価、３価、
４価など）も特に制限されない。
【００３２】好ましいカルボン酸塩としては、安息香酸
などの芳香族カルボン酸と、周期表４族（Ｔｉ，Ｚｒな
ど）、５族（Ｖなど）、６族（Ｃｒ，Ｍｏなど）、７族
（Ｍｎなど）、８族（Ｆｅ，Ｃｏなど）などの遷移金属
との塩（例えば、安息香酸と、２価又は３価の金属との
塩など）が挙げられる。
などの芳香族カルボン酸と、周期表４族（Ｔｉ，Ｚｒな
ど）、５族（Ｖなど）、６族（Ｃｒ，Ｍｏなど）、７族
（Ｍｎなど）、８族（Ｆｅ，Ｃｏなど）などの遷移金属
との塩（例えば、安息香酸と、２価又は３価の金属との
塩など）が挙げられる。
【００３３】芳香族アルデヒドとしては、ベンズアルデ
ヒド、１−ナフタレンカルバルデヒド、２−ナフタレン
カルバルデヒド、ナフタレンジカルバルデヒド、ニコチ
ンアルデヒド、２−ピリジンカルバルデヒド、４−ピリ
ジンカルバルデヒド、２−フランカルバルデヒド、４−
インドールカルバルデヒドなどの芳香族アルデヒド；サ
リチルアルデヒドなどのヒドロキシアルデヒド；アニス
アルデヒド、ベラトルムアルデヒド、ピペロニルアルデ
ヒド、ｐ−エトキシベンズアルデヒド、ｐ−イソプロポ
キシベンズアルデヒドなどのアルコキシアルデヒド；ｐ
−ベンゾイルベンズアルデヒド、ｐ−アセチルベンズア
ルデヒド、ｐ−プロピオニルベンズアルデヒド、ｐ−ブ
チリルベンズアルデヒドなどのオキソアルデヒド；ｏ−
クロロベンズアルデヒド、ｍ−クロロベンズアルデヒ
ド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、２−クロロ−４−ピ
リジンカルバルデヒドなどのハロゲン置換アルデヒド；
３−ビフェニルカルバルデヒドなどの芳香族環が置換し
たアルデヒド；２−メチルベンゼンカルバルデヒド、５
−メチル−１−ナフタレンカルバルデヒド、ｐ−エチル
ベンズアルデヒド、ｐ−イソプロピルベンズアルデヒ
ド、ｐ−プロピルベンズアルデヒド、ｐ−ブチルベンズ
アルデヒドなどのアルキル基が置換したアルデヒド；ｏ
−アセチルオキシベンズアルデヒド、ｍ−アセチルオキ
シベンズアルデヒド、ｐ−プロペオニルオキシベンズア
ルデヒド、ｐ−ブチリルオキシベンズアルデヒドなどの
アシルオキシ基が置換したアルデヒド；ｐ−アミノベン
ズアルデヒド、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド、
アントラニルアルデヒドなどのアミノアルデヒドなどが
例示できる。
ヒド、１−ナフタレンカルバルデヒド、２−ナフタレン
カルバルデヒド、ナフタレンジカルバルデヒド、ニコチ
ンアルデヒド、２−ピリジンカルバルデヒド、４−ピリ
ジンカルバルデヒド、２−フランカルバルデヒド、４−
インドールカルバルデヒドなどの芳香族アルデヒド；サ
リチルアルデヒドなどのヒドロキシアルデヒド；アニス
アルデヒド、ベラトルムアルデヒド、ピペロニルアルデ
ヒド、ｐ−エトキシベンズアルデヒド、ｐ−イソプロポ
キシベンズアルデヒドなどのアルコキシアルデヒド；ｐ
−ベンゾイルベンズアルデヒド、ｐ−アセチルベンズア
ルデヒド、ｐ−プロピオニルベンズアルデヒド、ｐ−ブ
チリルベンズアルデヒドなどのオキソアルデヒド；ｏ−
クロロベンズアルデヒド、ｍ−クロロベンズアルデヒ
ド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、２−クロロ−４−ピ
リジンカルバルデヒドなどのハロゲン置換アルデヒド；
３−ビフェニルカルバルデヒドなどの芳香族環が置換し
たアルデヒド；２−メチルベンゼンカルバルデヒド、５
−メチル−１−ナフタレンカルバルデヒド、ｐ−エチル
ベンズアルデヒド、ｐ−イソプロピルベンズアルデヒ
ド、ｐ−プロピルベンズアルデヒド、ｐ−ブチルベンズ
アルデヒドなどのアルキル基が置換したアルデヒド；ｏ
−アセチルオキシベンズアルデヒド、ｍ−アセチルオキ
シベンズアルデヒド、ｐ−プロペオニルオキシベンズア
ルデヒド、ｐ−ブチリルオキシベンズアルデヒドなどの
アシルオキシ基が置換したアルデヒド；ｐ−アミノベン
ズアルデヒド、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド、
アントラニルアルデヒドなどのアミノアルデヒドなどが
例示できる。
【００３４】これらの反応促進剤（ii）は単独で、又は
２種以上組合せて使用できる。
２種以上組合せて使用できる。
【００３５】好ましい反応促進剤（ii）としては、炭素
数６〜１０の芳香族炭化水素環（特に、ベンゼン環）
に、カルボキシル基及びホルミル基より選ばれた少なく
とも一つの置換基を有する芳香族性化合物又はその塩が
挙げられる。具体的には、例えば、安息香酸若しくはそ
の塩、又はベンズアルデヒドが挙げられる。
数６〜１０の芳香族炭化水素環（特に、ベンゼン環）
に、カルボキシル基及びホルミル基より選ばれた少なく
とも一つの置換基を有する芳香族性化合物又はその塩が
挙げられる。具体的には、例えば、安息香酸若しくはそ
の塩、又はベンズアルデヒドが挙げられる。
【００３６】反応促進剤（ii）の使用量は広い範囲で選
択でき、例えば、第２級アルコール１モルに対して０．
０００１〜０．２モル、好ましくは０．００１〜０．１
８モル、さらに好ましくは０．０１〜０．１５モル程度
である。
択でき、例えば、第２級アルコール１モルに対して０．
０００１〜０．２モル、好ましくは０．００１〜０．１
８モル、さらに好ましくは０．０１〜０．１５モル程度
である。
【００３７】［（iii）助触媒］本発明では、助触媒と
して金属化合物を用いてもよい。前記イミド化合物
（i）と前記反応促進剤（ii）に加え、金属化合物とを
併用することにより、反応速度や反応の選択性を向上さ
せることができる。
して金属化合物を用いてもよい。前記イミド化合物
（i）と前記反応促進剤（ii）に加え、金属化合物とを
併用することにより、反応速度や反応の選択性を向上さ
せることができる。
【００３８】金属化合物を構成する金属元素としては、
特に限定されないが、周期表２〜１５族の金属元素を用
いる場合が多い。なお、本明細書では、ホウ素Ｂも金属
元素に含まれるものとする。例えば、前記金属元素とし
て、周期表２族元素（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａなど）、
３族元素（Ｓｃ、ランタノイド元素、アクチノイド元素
など）、４族元素（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆなど）、５族元素
（Ｖなど）、６族元素（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗなど）、７族元
素（Ｍｎなど）、８族元素（Ｆｅ、Ｒｕなど）、９族元
素（Ｃｏ、Ｒｈなど）、１０族元素（Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ
など）、１１族元素（Ｃｕなど）、１２族元素（Ｚｎな
ど）、１３族元素（Ｂ、Ａｌ、Ｉｎなど）、１４族元素
（Ｓｎ、Ｐｂなど）、１５族元素（Ｓｂ、Ｂｉなど）な
どが挙げられる。好ましい金属元素には、遷移金属元素
（周期表３〜１２族元素）が含まれる。なかでも、周期
表５〜１１族元素、特に５族〜９族元素が好ましく、と
りわけＶ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｏなどが好ましい。金属元素
の原子価は特に制限されず、例えば０〜６価程度であ
る。
特に限定されないが、周期表２〜１５族の金属元素を用
いる場合が多い。なお、本明細書では、ホウ素Ｂも金属
元素に含まれるものとする。例えば、前記金属元素とし
て、周期表２族元素（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａなど）、
３族元素（Ｓｃ、ランタノイド元素、アクチノイド元素
など）、４族元素（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆなど）、５族元素
（Ｖなど）、６族元素（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗなど）、７族元
素（Ｍｎなど）、８族元素（Ｆｅ、Ｒｕなど）、９族元
素（Ｃｏ、Ｒｈなど）、１０族元素（Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ
など）、１１族元素（Ｃｕなど）、１２族元素（Ｚｎな
ど）、１３族元素（Ｂ、Ａｌ、Ｉｎなど）、１４族元素
（Ｓｎ、Ｐｂなど）、１５族元素（Ｓｂ、Ｂｉなど）な
どが挙げられる。好ましい金属元素には、遷移金属元素
（周期表３〜１２族元素）が含まれる。なかでも、周期
表５〜１１族元素、特に５族〜９族元素が好ましく、と
りわけＶ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｏなどが好ましい。金属元素
の原子価は特に制限されず、例えば０〜６価程度であ
る。
【００３９】金属化合物としては、前記金属元素の単
体、水酸化物、酸化物（複合酸化物を含む）、ハロゲン
化物（フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物）、オキソ
酸塩（例えば、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、
炭酸塩など）、イソポリ酸の塩、ヘテロポリ酸の塩など
の無機化合物；有機酸塩（例えば、酢酸塩、プロピオン
酸塩、青酸塩、ナフテン酸塩、ステアリン酸塩など）、
錯体などの有機化合物が挙げられる。前記錯体を構成す
る配位子としては、ＯＨ（ヒドロキソ）、アルコキシ
（メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど）、
アシル（アセチル、プロピオニルなど）、アルコキシカ
ルボニル（メトキシカルボニル、エトキシカルボニルな
ど）、アセチルアセトナト、シクロペンタジエニル基、
ハロゲン原子（塩素、臭素など）、ＣＯ、ＣＮ、酸素原
子、Ｈ2Ｏ（アコ）、ホスフィン（トリフェニルホスフ
ィンなどのトリアリールホスフィンなど）のリン化合
物、ＮＨ 3（アンミン）、ＮＯ、ＮＯ2（ニトロ）、ＮＯ
3（ニトラト）、エチレンジアミン、ジエチレントリア
ミン、ピリジン、フェナントロリンなどの窒素含有化合
物などが挙げられる。
体、水酸化物、酸化物（複合酸化物を含む）、ハロゲン
化物（フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物）、オキソ
酸塩（例えば、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、
炭酸塩など）、イソポリ酸の塩、ヘテロポリ酸の塩など
の無機化合物；有機酸塩（例えば、酢酸塩、プロピオン
酸塩、青酸塩、ナフテン酸塩、ステアリン酸塩など）、
錯体などの有機化合物が挙げられる。前記錯体を構成す
る配位子としては、ＯＨ（ヒドロキソ）、アルコキシ
（メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど）、
アシル（アセチル、プロピオニルなど）、アルコキシカ
ルボニル（メトキシカルボニル、エトキシカルボニルな
ど）、アセチルアセトナト、シクロペンタジエニル基、
ハロゲン原子（塩素、臭素など）、ＣＯ、ＣＮ、酸素原
子、Ｈ2Ｏ（アコ）、ホスフィン（トリフェニルホスフ
ィンなどのトリアリールホスフィンなど）のリン化合
物、ＮＨ 3（アンミン）、ＮＯ、ＮＯ2（ニトロ）、ＮＯ
3（ニトラト）、エチレンジアミン、ジエチレントリア
ミン、ピリジン、フェナントロリンなどの窒素含有化合
物などが挙げられる。
【００４０】金属化合物の具体例としては、例えば、コ
バルト化合物を例にとると、水酸化コバルト、酸化コバ
ルト、塩化コバルト、臭化コバルト、硝酸コバルト、硫
酸コバルト、リン酸コバルトなどの無機化合物；酢酸コ
バルト、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸コバルトな
どの有機酸塩；コバルトアセチルアセトナトなどの錯体
等の２価又は３価のコバルト化合物などが挙げられる。
また、バナジウム化合物の例としては、水酸化バナジウ
ム、酸化バナジウム、塩化バナジウム、塩化バナジル、
硫酸バナジウム、硫酸バナジル、バナジン酸ナトリウム
などの無機化合物；バナジウムアセチルアセトナト、バ
ナジルアセチルアセトナトなどの錯体等の２〜５価のバ
ナジウム化合物などが挙げられる。他の金属元素の化合
物としては、前記コバルト又はバナジウム化合物に対応
する化合物などが例示される。金属化合物は単独で又は
２種以上組合せて使用できる。
バルト化合物を例にとると、水酸化コバルト、酸化コバ
ルト、塩化コバルト、臭化コバルト、硝酸コバルト、硫
酸コバルト、リン酸コバルトなどの無機化合物；酢酸コ
バルト、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸コバルトな
どの有機酸塩；コバルトアセチルアセトナトなどの錯体
等の２価又は３価のコバルト化合物などが挙げられる。
また、バナジウム化合物の例としては、水酸化バナジウ
ム、酸化バナジウム、塩化バナジウム、塩化バナジル、
硫酸バナジウム、硫酸バナジル、バナジン酸ナトリウム
などの無機化合物；バナジウムアセチルアセトナト、バ
ナジルアセチルアセトナトなどの錯体等の２〜５価のバ
ナジウム化合物などが挙げられる。他の金属元素の化合
物としては、前記コバルト又はバナジウム化合物に対応
する化合物などが例示される。金属化合物は単独で又は
２種以上組合せて使用できる。
【００４１】前記金属化合物の使用量は、例えば、第２
級アルコール（Ａ）１モルに対して、０．０００００１
〜０．１モル程度、好ましくは０．００００１〜０．０
１モル程度である。また、前記金属化合物の使用量は、
前記イミド化合物１モルに対して、例えば０．００１〜
０．１モル程度、好ましくは０．００５〜０．０８モル
程度である。
級アルコール（Ａ）１モルに対して、０．０００００１
〜０．１モル程度、好ましくは０．００００１〜０．０
１モル程度である。また、前記金属化合物の使用量は、
前記イミド化合物１モルに対して、例えば０．００１〜
０．１モル程度、好ましくは０．００５〜０．０８モル
程度である。
【００４２】本発明では、また、助触媒として、少なく
とも１つの有機基が結合した周期表１５族又は１６族元
素を含む多原子陽イオン又は多原子陰イオンとカウンタ
ーイオンとで構成された有機塩を用いることもできる。
助触媒として前記有機塩を用いることにより、反応速度
や反応の選択性を向上させることができる。
とも１つの有機基が結合した周期表１５族又は１６族元
素を含む多原子陽イオン又は多原子陰イオンとカウンタ
ーイオンとで構成された有機塩を用いることもできる。
助触媒として前記有機塩を用いることにより、反応速度
や反応の選択性を向上させることができる。
【００４３】前記有機塩において、周期表１５族元素に
は、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉが含まれる。周期表１６
族元素には、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅなどが含まれる。好ま
しい元素としては、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｓが挙げら
れ、特に、Ｎ、Ｐ、Ｓなどが好ましい。
は、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉが含まれる。周期表１６
族元素には、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅなどが含まれる。好ま
しい元素としては、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｓが挙げら
れ、特に、Ｎ、Ｐ、Ｓなどが好ましい。
【００４４】前記元素の原子に結合する有機基には、置
換基を有していてもよい炭化水素基、置換オキシ基など
が含まれる。炭化水素基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、アリ
ルなどの炭素数１〜３０程度（好ましくは炭素数１〜２
０程度）の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基（ア
ルキル基、アルケニル基及びアルキニル基）；シクロペ
ンチル、シクロヘキシルなどの炭素数３〜８程度の脂環
式炭化水素基；フェニル、ナフチルなどの炭素数６〜１
４程度の芳香族炭化水素基などが挙げられる。炭化水素
基が有していてもよい置換基として、例えば、ハロゲン
原子、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基（例え
ば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基
など）、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置
換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置
換又は無置換アミノ基、アルキル基（例えば、メチル、
エチル基などのＣ1-4アルキル基など）、シクロアルキ
ル基、アリール基（例えば、フェニル、ナフチル基な
ど）、複素環基などが例示できる。好ましい炭化水素基
には、炭素数１〜３０程度のアルキル基、炭素数６〜１
４程度の芳香族炭化水素基（特に、フェニル基又はナフ
チル基）などが含まれる。前記置換オキシ基には、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基など
が含まれる。
換基を有していてもよい炭化水素基、置換オキシ基など
が含まれる。炭化水素基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、アリ
ルなどの炭素数１〜３０程度（好ましくは炭素数１〜２
０程度）の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基（ア
ルキル基、アルケニル基及びアルキニル基）；シクロペ
ンチル、シクロヘキシルなどの炭素数３〜８程度の脂環
式炭化水素基；フェニル、ナフチルなどの炭素数６〜１
４程度の芳香族炭化水素基などが挙げられる。炭化水素
基が有していてもよい置換基として、例えば、ハロゲン
原子、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基（例え
ば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基
など）、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置
換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置
換又は無置換アミノ基、アルキル基（例えば、メチル、
エチル基などのＣ1-4アルキル基など）、シクロアルキ
ル基、アリール基（例えば、フェニル、ナフチル基な
ど）、複素環基などが例示できる。好ましい炭化水素基
には、炭素数１〜３０程度のアルキル基、炭素数６〜１
４程度の芳香族炭化水素基（特に、フェニル基又はナフ
チル基）などが含まれる。前記置換オキシ基には、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基など
が含まれる。
【００４５】前記有機塩の代表的な例として、有機アン
モニウム塩、有機ホスホニウム塩、有機スルホニウム塩
などの有機オニウム塩が挙げられる。有機アンモニウム
塩の具体例としては、テトラメチルアンモニウムクロリ
ド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチル
アンモニウムクロリド、テトラヘキシルアンモニウムク
ロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、ト
リエチルフェニルアンモニウムクロリド、トリブチル
（ヘキサデシル）アンモニウムクロリド、ジ（オクタデ
シル）ジメチルアンモニウムクロリドなどの第４級アン
モニウムクロリド、及び対応する第４級アンモニウムブ
ロミドなどの、窒素原子に４つの炭化水素基が結合した
第４級アンモニウム塩；ジメチルピペリジニウムクロリ
ド、ヘキサデシルピリジニウムクロリド、メチルキノリ
ニウムクロリドなどの環状第４級アンモニウム塩などが
挙げられる。また、有機ホスホニウム塩の具体例として
は、テトラメチルホスホニウムクロリド、テトラブチル
ホスホニウムクロリド、トリブチル（ヘキサデシル）ホ
スホニウムクロリド、トリエチルフェニルホスホニウム
クロリドなどの第４級ホスホニウムクロリド、及び対応
する第４級ホスホニウムブロミドなどの、リン原子に４
つの炭化水素基が結合した第４級ホスホニウム塩などが
挙げられる。有機スルホニウム塩の具体例としては、ト
リエチルスルホニウムイオジド、エチルジフェニルスル
ホニウムイオジドなどの、イオウ原子に３つの炭化水素
基が結合したスルホニウム塩などが挙げられる。
モニウム塩、有機ホスホニウム塩、有機スルホニウム塩
などの有機オニウム塩が挙げられる。有機アンモニウム
塩の具体例としては、テトラメチルアンモニウムクロリ
ド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチル
アンモニウムクロリド、テトラヘキシルアンモニウムク
ロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、ト
リエチルフェニルアンモニウムクロリド、トリブチル
（ヘキサデシル）アンモニウムクロリド、ジ（オクタデ
シル）ジメチルアンモニウムクロリドなどの第４級アン
モニウムクロリド、及び対応する第４級アンモニウムブ
ロミドなどの、窒素原子に４つの炭化水素基が結合した
第４級アンモニウム塩；ジメチルピペリジニウムクロリ
ド、ヘキサデシルピリジニウムクロリド、メチルキノリ
ニウムクロリドなどの環状第４級アンモニウム塩などが
挙げられる。また、有機ホスホニウム塩の具体例として
は、テトラメチルホスホニウムクロリド、テトラブチル
ホスホニウムクロリド、トリブチル（ヘキサデシル）ホ
スホニウムクロリド、トリエチルフェニルホスホニウム
クロリドなどの第４級ホスホニウムクロリド、及び対応
する第４級ホスホニウムブロミドなどの、リン原子に４
つの炭化水素基が結合した第４級ホスホニウム塩などが
挙げられる。有機スルホニウム塩の具体例としては、ト
リエチルスルホニウムイオジド、エチルジフェニルスル
ホニウムイオジドなどの、イオウ原子に３つの炭化水素
基が結合したスルホニウム塩などが挙げられる。
【００４６】また、前記有機塩には、メタンスルホン酸
塩、エタンスルホン酸塩、オクタンスルホン酸塩、ドデ
カンスルホン酸塩などのアルキルスルホン酸塩（例え
ば、Ｃ 1-18アルキルスルホン酸塩）；ベンゼンスルホン
酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン
酸塩、デシルベンゼンスルホン酸塩、ドデシルベンゼン
スルホン酸塩などのアルキル基で置換されていてもよい
アリールスルホン酸塩（例えば、Ｃ1-18アルキル−アリ
ールスルホン酸塩）；スルホン酸型イオン交換樹脂（イ
オン交換体）；ホスホン酸型イオン交換樹脂（イオン交
換体）なども含まれる。
塩、エタンスルホン酸塩、オクタンスルホン酸塩、ドデ
カンスルホン酸塩などのアルキルスルホン酸塩（例え
ば、Ｃ 1-18アルキルスルホン酸塩）；ベンゼンスルホン
酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン
酸塩、デシルベンゼンスルホン酸塩、ドデシルベンゼン
スルホン酸塩などのアルキル基で置換されていてもよい
アリールスルホン酸塩（例えば、Ｃ1-18アルキル−アリ
ールスルホン酸塩）；スルホン酸型イオン交換樹脂（イ
オン交換体）；ホスホン酸型イオン交換樹脂（イオン交
換体）なども含まれる。
【００４７】前記有機塩の使用量は、例えば、第２級ア
ルコール（Ａ）１モルに対して、０．０００００１〜
０．１モル程度、好ましくは０．００００１〜０．０１
モル程度である。また、前記有機塩の使用量は、前記イ
ミド化合物１モルに対して、例えば０．００１〜０．１
モル程度、好ましくは０．００５〜０．０８モル程度で
ある。
ルコール（Ａ）１モルに対して、０．０００００１〜
０．１モル程度、好ましくは０．００００１〜０．０１
モル程度である。また、前記有機塩の使用量は、前記イ
ミド化合物１モルに対して、例えば０．００１〜０．１
モル程度、好ましくは０．００５〜０．０８モル程度で
ある。
【００４８】［（Ａ）第２級アルコール］第２級アルコ
ールには、広範囲のアルコールが含まれる。アルコール
は、１価、２価又は多価アルコールの何れであってもよ
く、反応を阻害しない範囲で種々の置換基を有していて
もよい。置換基として、例えば、ハロゲン原子、メルカ
プト基、オキソ基、置換オキシ基（例えば、アルコキシ
基、アルールオキシ基、アシルオキシ基など）、置換チ
オ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換
又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換
又は無置換アミノ基、スルホ基、アルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水
素基、複素環基などが挙げられる。
ールには、広範囲のアルコールが含まれる。アルコール
は、１価、２価又は多価アルコールの何れであってもよ
く、反応を阻害しない範囲で種々の置換基を有していて
もよい。置換基として、例えば、ハロゲン原子、メルカ
プト基、オキソ基、置換オキシ基（例えば、アルコキシ
基、アルールオキシ基、アシルオキシ基など）、置換チ
オ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換
又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換
又は無置換アミノ基、スルホ基、アルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水
素基、複素環基などが挙げられる。
【００４９】代表的な第２級アルコール（Ａ）として
は、２−プロパノール、ｓ−ブチルアルコール、２−ペ
ンタノール、３−ペンタノール、３，３−ジメチル−２
−ブタノール、２−オクタノール、４−デカノール、２
−ヘキサデカノール、２−ペンテン−４−オール、１，
２−プロパンジオール、２，３−ブタンジオールや２，
３−ペンタンジオールなどのビシナルジオール類などの
炭素数３〜３０（好ましくは３〜２０、さらに好ましく
は３〜１５）程度の飽和又は不飽和脂肪族第２級アルコ
ール；１−シクロペンチルエタノール、１−シクロヘキ
シルエタノールなどの、ヒドロキシル基の結合した炭素
原子に脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素（シクロアル
キル基など）とが結合している第２級アルコール；シク
ロブタノール、シクロペンタノール、１，３−シクロペ
ンタンジオール、シクロヘキサノール、１，２−シクロ
ヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、
１，４−シクロヘキサンジオール、シクロヘキサン−１
−オール−２−オン、シクロヘキサン−１−オール−３
−オン、シクロヘキサン−１−オール−４−オン、シク
ロオクタノール、シクロドデカノール、２−シクロヘキ
セン−１−オール、２−アダマンタノール、橋頭位にヒ
ドロキシル基を１〜４個有する２−アダマンタノール、
アダマンタン環にオキソ基を有する２−アダマンタノー
ルなどの３〜２０員（好ましくは３〜１５員、さらに好
ましくは５〜１５員、特に５〜８員）程度の飽和又は不
飽和脂環式第２級アルコール（橋かけ環式第２級アルコ
ールを含む）；１−フェニルエタノール、１−フェニル
プロパノール、１−フェニルメチルエタノール、ジフェ
ニルメタノールなどの芳香族第２級アルコール；１−
（２−ピリジル）エタノールなどの複素環式第２級アル
コールなどが含まれる。
は、２−プロパノール、ｓ−ブチルアルコール、２−ペ
ンタノール、３−ペンタノール、３，３−ジメチル−２
−ブタノール、２−オクタノール、４−デカノール、２
−ヘキサデカノール、２−ペンテン−４−オール、１，
２−プロパンジオール、２，３−ブタンジオールや２，
３−ペンタンジオールなどのビシナルジオール類などの
炭素数３〜３０（好ましくは３〜２０、さらに好ましく
は３〜１５）程度の飽和又は不飽和脂肪族第２級アルコ
ール；１−シクロペンチルエタノール、１−シクロヘキ
シルエタノールなどの、ヒドロキシル基の結合した炭素
原子に脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素（シクロアル
キル基など）とが結合している第２級アルコール；シク
ロブタノール、シクロペンタノール、１，３−シクロペ
ンタンジオール、シクロヘキサノール、１，２−シクロ
ヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、
１，４−シクロヘキサンジオール、シクロヘキサン−１
−オール−２−オン、シクロヘキサン−１−オール−３
−オン、シクロヘキサン−１−オール−４−オン、シク
ロオクタノール、シクロドデカノール、２−シクロヘキ
セン−１−オール、２−アダマンタノール、橋頭位にヒ
ドロキシル基を１〜４個有する２−アダマンタノール、
アダマンタン環にオキソ基を有する２−アダマンタノー
ルなどの３〜２０員（好ましくは３〜１５員、さらに好
ましくは５〜１５員、特に５〜８員）程度の飽和又は不
飽和脂環式第２級アルコール（橋かけ環式第２級アルコ
ールを含む）；１−フェニルエタノール、１−フェニル
プロパノール、１−フェニルメチルエタノール、ジフェ
ニルメタノールなどの芳香族第２級アルコール；１−
（２−ピリジル）エタノールなどの複素環式第２級アル
コールなどが含まれる。
【００５０】好ましいアルコールには、飽和又は不飽和
脂環式第２級アルコール、多価の第２級アルコール、又
はオキソ基を有する第２級アルコールなどが含まれる。
特に、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シク
ロヘキサンジオールなどのシクロアルカンジオールや、
シクロヘキサン−１−オール−３−オン、シクロヘキサ
ン−１−オール−４−オンなどのヒドロキシシクロアル
カノンなどを用いる場合、極めて大きな効果が得られ
る。
脂環式第２級アルコール、多価の第２級アルコール、又
はオキソ基を有する第２級アルコールなどが含まれる。
特に、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シク
ロヘキサンジオールなどのシクロアルカンジオールや、
シクロヘキサン−１−オール−３−オン、シクロヘキサ
ン−１−オール−４−オンなどのヒドロキシシクロアル
カノンなどを用いる場合、極めて大きな効果が得られ
る。
【００５１】［（Ｂ）酸素］酸素は、分子状酸素、活性
酸素の何れであってもよい。分子状酸素は、特に制限さ
れず、純粋な酸素を用いてもよく、窒素、ヘリウム、ア
ルゴン、二酸化炭素などの不活性ガスで希釈した酸素や
空気を使用してもよい。酸素として分子状酸素を用いる
場合が多い。
酸素の何れであってもよい。分子状酸素は、特に制限さ
れず、純粋な酸素を用いてもよく、窒素、ヘリウム、ア
ルゴン、二酸化炭素などの不活性ガスで希釈した酸素や
空気を使用してもよい。酸素として分子状酸素を用いる
場合が多い。
【００５２】［反応］反応は溶媒の存在下又は非存在下
で行われる。溶媒としては、例えば、酢酸、プロピオン
酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸；アセトニトリル、
プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類；
ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ヘ
キサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素；クロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロ
ゲン化炭化水素；ニトロベンゼン、ニトロメタン、ニト
ロエタンなどのニトロ化合物；酢酸エチル、酢酸ブチル
などのエステル類；水；これらの混合溶媒などが挙げら
れる。溶媒としては、酢酸、トリフルオロ酢酸などの有
機酸類、アセトニトリルやベンゾニトリルなどのニトリ
ル類、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭
化水素、酢酸エチルなどのエステル類などを用いる場合
が多い。
で行われる。溶媒としては、例えば、酢酸、プロピオン
酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸；アセトニトリル、
プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類；
ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ヘ
キサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素；クロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロ
ゲン化炭化水素；ニトロベンゼン、ニトロメタン、ニト
ロエタンなどのニトロ化合物；酢酸エチル、酢酸ブチル
などのエステル類；水；これらの混合溶媒などが挙げら
れる。溶媒としては、酢酸、トリフルオロ酢酸などの有
機酸類、アセトニトリルやベンゾニトリルなどのニトリ
ル類、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭
化水素、酢酸エチルなどのエステル類などを用いる場合
が多い。
【００５３】酸素の使用量は、反応性や操作性等を考慮
して適宜選択でき、例えば、第２級アルコール１モルに
対して０．５モル以上（例えば、１モル以上）、好まし
くは１〜１００モル、さらに好ましくは２〜５０モル程
度である。第２級アルコールに対して過剰モルの酸素を
使用する場合が多い。
して適宜選択でき、例えば、第２級アルコール１モルに
対して０．５モル以上（例えば、１モル以上）、好まし
くは１〜１００モル、さらに好ましくは２〜５０モル程
度である。第２級アルコールに対して過剰モルの酸素を
使用する場合が多い。
【００５４】反応温度は、第２級アルコール（Ａ）の種
類等に応じて適当に選択できる。反応温度は、例えば、
０〜２００℃、好ましくは２０〜１５０℃、さらに好ま
しくは３０〜１００℃程度である。
類等に応じて適当に選択できる。反応温度は、例えば、
０〜２００℃、好ましくは２０〜１５０℃、さらに好ま
しくは３０〜１００℃程度である。
【００５５】反応圧力は、常圧、加圧下の何れであって
もよい。加圧下で行う場合には、通常、０．１〜１０Ｍ
Ｐａ、好ましくは０．２〜７ＭＰａ程度である。反応
は、回分式、半回分式、連続式などの慣用の方法により
行うことができる。
もよい。加圧下で行う場合には、通常、０．１〜１０Ｍ
Ｐａ、好ましくは０．２〜７ＭＰａ程度である。反応
は、回分式、半回分式、連続式などの慣用の方法により
行うことができる。
【００５６】反応により、原料の第２級アルコールに対
応するケトンが生成する。また、多価の第２級アルコー
ルやオキソ基を有する第２級アルコールからはポリケト
ンが得られる。より具体的には、シクロアルカンジオー
ルやヒドロキシシクロアルカノンからシクロアルカン−
ポリオンが得られる。
応するケトンが生成する。また、多価の第２級アルコー
ルやオキソ基を有する第２級アルコールからはポリケト
ンが得られる。より具体的には、シクロアルカンジオー
ルやヒドロキシシクロアルカノンからシクロアルカン−
ポリオンが得られる。
【００５７】反応終了後、反応生成物は、例えば、濾
過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、吸着、カラムク
ロマトグラフィーなどの分離手段やこれらを組合せるこ
とにより分離精製できる。
過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、吸着、カラムク
ロマトグラフィーなどの分離手段やこれらを組合せるこ
とにより分離精製できる。
【００５８】この方法によれば、温和な条件下、第２級
アルコールから対応するケトンを収率よく得ることがで
きる。特に、シクロアルカンジオールなどの多価の第２
級アルコールからシクロアルカンジオンなどのポリケト
ンを得ようとする場合には、第２番目以降の第２級アル
コールも速やかに酸化されて、シクロアルカンジオンな
どのポリケトンを収率よく得ることができる。
アルコールから対応するケトンを収率よく得ることがで
きる。特に、シクロアルカンジオールなどの多価の第２
級アルコールからシクロアルカンジオンなどのポリケト
ンを得ようとする場合には、第２番目以降の第２級アル
コールも速やかに酸化されて、シクロアルカンジオンな
どのポリケトンを収率よく得ることができる。
【００５９】
【発明の効果】本発明の方法によれば、特定構造のイミ
ド化合物触媒と、反応促進剤として芳香族カルボン酸若
しくはその塩、又は芳香族アルデヒドとを組合せて用い
るので、第２級アルコールからケトンを温和な条件で、
しかも効率よく製造することができる。また、シクロア
ルカンジオールやヒドロキシシクロアルカノンからシク
ロアルカン−ポリオンを収率よく得ることができる。
ド化合物触媒と、反応促進剤として芳香族カルボン酸若
しくはその塩、又は芳香族アルデヒドとを組合せて用い
るので、第２級アルコールからケトンを温和な条件で、
しかも効率よく製造することができる。また、シクロア
ルカンジオールやヒドロキシシクロアルカノンからシク
ロアルカン−ポリオンを収率よく得ることができる。
【００６０】
【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。
【００６１】実施例１ １，４−シクロヘキサンジオール４ミリモル、Ｎ−ヒド
ロキシフタルイミド０．８ミリモル、酢酸コバルト（I
I）四水和物０．０４ミリモル、安息香酸０．２ミリモ
ル、アセトニトリル８ｍＬの混合物を、酸素雰囲気下
（０．１ＭＰａ）、６５℃で２０時間攪拌した。反応混
合物をガスクロマトグラフィ−で分析したところ、１，
４−シクロヘキサンジオンが収率６６％、シクロヘキサ
ン−１−オール−４−オンが収率１５％で得られた。
１，４−シクロヘキサンジオールの転化率は１００％で
あった。
ロキシフタルイミド０．８ミリモル、酢酸コバルト（I
I）四水和物０．０４ミリモル、安息香酸０．２ミリモ
ル、アセトニトリル８ｍＬの混合物を、酸素雰囲気下
（０．１ＭＰａ）、６５℃で２０時間攪拌した。反応混
合物をガスクロマトグラフィ−で分析したところ、１，
４−シクロヘキサンジオンが収率６６％、シクロヘキサ
ン−１−オール−４−オンが収率１５％で得られた。
１，４−シクロヘキサンジオールの転化率は１００％で
あった。
【００６２】実施例２ 安息香酸の使用量を０．４ミリモルとする以外、実施例
１と同様に反応させたところ、１，４−シクロヘキサン
ジオンが収率５１％、シクロヘキサン−１−オール−４
−オンが収率２６％で得られた。１，４−シクロヘキサ
ンジオールの転化率は１００％であった。
１と同様に反応させたところ、１，４−シクロヘキサン
ジオンが収率５１％、シクロヘキサン−１−オール−４
−オンが収率２６％で得られた。１，４−シクロヘキサ
ンジオールの転化率は１００％であった。
【００６３】実施例３ 安息香酸の使用量を０．１ミリモルとする以外、実施例
１と同様に反応させたところ、１，４−シクロヘキサン
ジオンが収率４５％、シクロヘキサン−１−オール−４
−オンが収率４０％で得られた。１，４−シクロヘキサ
ンジオールの転化率は９５％であった。
１と同様に反応させたところ、１，４−シクロヘキサン
ジオンが収率４５％、シクロヘキサン−１−オール−４
−オンが収率４０％で得られた。１，４−シクロヘキサ
ンジオールの転化率は９５％であった。
【００６４】実施例４ 実施例１において、安息香酸の代わりに、ｏ−クロロ安
息香酸を用いる以外は、実施例１と同様に反応させたと
ころ、１，４−シクロヘキサンジオンが収率５２％、シ
クロヘキサン−１−オール−４−オンが収率２６％で得
られた。１，４−シクロヘキサンジオールの転化率は１
００％であった。
息香酸を用いる以外は、実施例１と同様に反応させたと
ころ、１，４−シクロヘキサンジオンが収率５２％、シ
クロヘキサン−１−オール−４−オンが収率２６％で得
られた。１，４−シクロヘキサンジオールの転化率は１
００％であった。
【００６５】実施例５ 実施例１において、安息香酸の代わりに、ｐ−クロロ安
息香酸を用いる以外は、実施例１と同様に反応させたと
ころ、１，４−シクロヘキサンジオンが収率６１％、シ
クロヘキサン−１−オール−４−オンが収率２７％で得
られた。１，４−シクロヘキサンジオールの転化率は１
００％であった。
息香酸を用いる以外は、実施例１と同様に反応させたと
ころ、１，４−シクロヘキサンジオンが収率６１％、シ
クロヘキサン−１−オール−４−オンが収率２７％で得
られた。１，４−シクロヘキサンジオールの転化率は１
００％であった。
【００６６】実施例６ 実施例１において、安息香酸の代わりに、２，４−ジク
ロロ安息香酸を用いる以外は、実施例１と同様に反応さ
せたところ、１，４−シクロヘキサンジオンが収率５４
％、シクロヘキサン−１−オール−４−オンが収率３３
％で得られた。１，４−シクロヘキサンジオールの転化
率は１００％であった。 実施例７ 実施例１において、安息香酸の代わりに、ベンズアルデ
ヒドを用いる以外は、実施例１と同様に反応させたとこ
ろ、１，４−シクロヘキサンジオンが収率６２％、シク
ロヘキサン−１−オール−４−オンが収率２１％で得ら
れた。１，４−シクロヘキサンジオールの転化率は１０
０％であった。
ロロ安息香酸を用いる以外は、実施例１と同様に反応さ
せたところ、１，４−シクロヘキサンジオンが収率５４
％、シクロヘキサン−１−オール−４−オンが収率３３
％で得られた。１，４−シクロヘキサンジオールの転化
率は１００％であった。 実施例７ 実施例１において、安息香酸の代わりに、ベンズアルデ
ヒドを用いる以外は、実施例１と同様に反応させたとこ
ろ、１，４−シクロヘキサンジオンが収率６２％、シク
ロヘキサン−１−オール−４−オンが収率２１％で得ら
れた。１，４−シクロヘキサンジオールの転化率は１０
０％であった。
【００６７】実施例８ 実施例１において、酢酸コバルト（II）四水和物の代わ
りに、コバルト（II）アセチルアセトナトを用いる以外
は、実施例１と同様に反応させたところ、１，４−シク
ロヘキサンジオンが収率６４％、シクロヘキサン−１−
オール−４−オンが収率１８％で得られた。１，４−シ
クロヘキサンジオールの転化率は１００％であった。
りに、コバルト（II）アセチルアセトナトを用いる以外
は、実施例１と同様に反応させたところ、１，４−シク
ロヘキサンジオンが収率６４％、シクロヘキサン−１−
オール−４−オンが収率１８％で得られた。１，４−シ
クロヘキサンジオールの転化率は１００％であった。
【００６８】比較例１ 安息香酸を添加しなかった点以外は実施例１と同様に反
応させたところ、１，４−シクロヘキサンジオンが収率
２２％、シクロヘキサン−１−オール−４−オンが収率
７５％で得られた。１，４−シクロヘキサンジオールの
転化率は９２％であった。
応させたところ、１，４−シクロヘキサンジオンが収率
２２％、シクロヘキサン−１−オール−４−オンが収率
７５％で得られた。１，４−シクロヘキサンジオールの
転化率は９２％であった。
【００６９】比較例２ 比較例１において、酢酸コバルト（II）四水和物の代わ
りに、コバルト（II）アセチルアセトナトを用いる以外
は、比較例１と同様に反応させたところ、１，４−シク
ロヘキサンジオンが収率２７％、シクロヘキサン−１−
オール−４−オンが収率６７％で得られた。１，４−シ
クロヘキサンジオールの転化率は９５％であった。
りに、コバルト（II）アセチルアセトナトを用いる以外
は、比較例１と同様に反応させたところ、１，４−シク
ロヘキサンジオンが収率２７％、シクロヘキサン−１−
オール−４−オンが収率６７％で得られた。１，４−シ
クロヘキサンジオールの転化率は９５％であった。
【００７０】実施例９ 実施例１において、１，４−シクロヘキサンジオールの
代わりにシクロヘキサン−１−オール−４−オンを用
い、攪拌時間を６時間とした以外は、実施例１と同様に
反応させたところ、１，４−シクロヘキサンジオンが収
率４４％で得られた。シクロヘキサン−１−オール−４
−オンの転化率は５０％であった。
代わりにシクロヘキサン−１−オール−４−オンを用
い、攪拌時間を６時間とした以外は、実施例１と同様に
反応させたところ、１，４−シクロヘキサンジオンが収
率４４％で得られた。シクロヘキサン−１−オール−４
−オンの転化率は５０％であった。
【００７１】実施例１０ 実施例９において、酢酸コバルト（II）四水和物の代わ
りに、コバルト（II）アセチルアセトナトを用いる以外
は、実施例９と同様に反応させたところ、１，４−シク
ロヘキサンジオンが収率４１％で得られた。シクロヘキ
サン−１−オール−４−オンの転化率は４７％であっ
た。
りに、コバルト（II）アセチルアセトナトを用いる以外
は、実施例９と同様に反応させたところ、１，４−シク
ロヘキサンジオンが収率４１％で得られた。シクロヘキ
サン−１−オール−４−オンの転化率は４７％であっ
た。
【００７２】比較例３ 安息香酸を添加しなかった点と攪拌時間を２０時間とし
た以外は実施例９と同様に反応させた。反応混合物をガ
スクロマトグラフィ−で分析したところ、反応は進行し
ていなかった。
た以外は実施例９と同様に反応させた。反応混合物をガ
スクロマトグラフィ−で分析したところ、反応は進行し
ていなかった。
【００７３】比較例４ 安息香酸を添加しなかった点と攪拌時間を２０時間とし
た以外は実施例１０と同様に反応させた。反応混合物を
ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、反応は進行
していなかった。以上の結果を表１にまとめて示す。
た以外は実施例１０と同様に反応させた。反応混合物を
ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、反応は進行
していなかった。以上の結果を表１にまとめて示す。
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G069 AA06 BA21A BA21B BA27A BA27B BB04A BB05A BB06A BB07A BB10A BB12A BB14A BB16A BC08A BC09A BC10A BC12A BC13A BC15A BC16A BC18A BC20A BC21A BC22A BC24A BC25A BC26A BC30A BC31A BC34A BC35A BC38A BC39A BC41A BC45A BC49A BC50A BC51A BC52A BC53A BC54A BC57A BC58A BC59A BC60A BC61A BC62A BC65A BC66A BC67A BC67B BC68A BC69A BC70A BC71A BC72A BC75A BD03A BE08A BE11A BE11B BE19A BE19B BE38A BE38B CB19 4H006 AA02 AC44 BA20 BA45 BA50 BA51 BA60 BC34 BE30 4H039 CA62 CC20
Claims (8)
- 【請求項１】 （i）下記式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又は
ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
状イミド骨格を有するイミド化合物を触媒とし、（Ａ）
第２級アルコールと（Ｂ）酸素とを反応させて、対応す
るケトンを製造する方法であって、反応系に、（ii）芳
香族カルボン酸又はその塩、及び芳香族アルデヒドより
選ばれた少なくとも一つの反応促進剤を共存させること
を特徴とするケトンの製造方法。 - 【請求項２】 イミド化合物（i）が、下記式（１） 【化２】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ1及
びＲ2は互いに結合して二重結合、又は芳香族性若しく
は非芳香族性の環を形成してもよい。Ｘは酸素原子又は
−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を
示す）を示す。前記Ｒ1、Ｒ2、又はＲ1及びＲ2が互いに
結合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳
香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環
状イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい］
で表される化合物である請求項１記載のケトンの製造方
法。 - 【請求項３】 反応促進剤（ii）が安息香酸又はその
塩、及びベンズアルデヒドより選ばれた少なくとも一つ
の化合物である請求項１記載のケトンの製造方法。 - 【請求項４】 反応促進剤（ii）の使用量が、第２級ア
ルコール（Ａ）１モルに対して０．０００１〜０．２モ
ルである請求項１又は３記載のケトンの製造方法。 - 【請求項５】 第２級アルコール（Ａ）が、飽和又は不
飽和脂環式第２級アルコールである請求項１記載のケト
ンの製造方法。 - 【請求項６】第２級アルコール（Ａ）が多価の第２級ア
ルコール又はオキソ基を有する第２級アルコールである
請求項１記載のケトンの製造方法。 - 【請求項７】 第２級アルコール（Ａ）がシクロアルカ
ンジオール又はヒドロキシシクロアルカノンである請求
項１記載のケトンの製造方法。 - 【請求項８】 金属化合物を（iii）助触媒として用い
る請求項１〜７の何れかの項に記載のケトンの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001025655A JP5106719B2 (ja) | 2001-02-01 | 2001-02-01 | イミド化合物を触媒とするケトンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001025655A JP5106719B2 (ja) | 2001-02-01 | 2001-02-01 | イミド化合物を触媒とするケトンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002226423A true JP2002226423A (ja) | 2002-08-14 |
| JP5106719B2 JP5106719B2 (ja) | 2012-12-26 |
Family
ID=18890608
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001025655A Expired - Fee Related JP5106719B2 (ja) | 2001-02-01 | 2001-02-01 | イミド化合物を触媒とするケトンの製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP5106719B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JPH11335304A (ja) * | 1998-02-13 | 1999-12-07 | Daicel Chem Ind Ltd | アシル化剤とそれを用いたアシル化法、及びアダマンタン誘導体 |
| JP2009280585A (ja) * | 1998-02-13 | 2009-12-03 | Daicel Chem Ind Ltd | ビニル基又はエポキシ基含有多環式化合物の製造法 |
| CN110483273A (zh) * | 2019-08-26 | 2019-11-22 | 上海应用技术大学 | 一种仲醇或伯醇催化氧化制备酮或羧酸的方法 |
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| JPH11180913A (ja) * | 1997-12-22 | 1999-07-06 | Daicel Chem Ind Ltd | メチル基又はメチレン基を有する芳香族化合物の酸化方法 |
| JPH11300212A (ja) * | 1998-02-18 | 1999-11-02 | Daicel Chem Ind Ltd | 酸化触媒系及びそれを用いた酸化方法 |
| JP2000212116A (ja) * | 1999-01-26 | 2000-08-02 | Daicel Chem Ind Ltd | ヒドロキシケトンの製造法 |
-
2001
- 2001-02-01 JP JP2001025655A patent/JP5106719B2/ja not_active Expired - Fee Related
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