JP2001354679A - ホスホリルコリン誘導体、中間体、製造方法及び用途 - Google Patents
ホスホリルコリン誘導体、中間体、製造方法及び用途Info
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- JP2001354679A JP2001354679A JP2000173966A JP2000173966A JP2001354679A JP 2001354679 A JP2001354679 A JP 2001354679A JP 2000173966 A JP2000173966 A JP 2000173966A JP 2000173966 A JP2000173966 A JP 2000173966A JP 2001354679 A JP2001354679 A JP 2001354679A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 新規なホスホリルコリン誘導体、中間体、製
造方法および界面活性剤としての用途を提供する。 【解決手段】 一般式１のホスホリルコリン誘導体、お
よび式２の製造中間体、これに一般式５の第３級アミン
を反応させる製造方法。 （ＸはＣ８〜２４の炭化水素基、Ｒ1〜Ｒ3は同一若しく
は異なりＣ１〜４のアルキル基、ＡＯはＣ２〜４のアル
キレンオキシ基を示し、各ＡＯは同一でも異なってても
よく、これらはランダム若しくはブロック状に付加して
もよく、ｍは１〜５０の、ｎは２〜４の整数を示す。） （Ｘ、ＡＯ、ｍ、ｎは前記と同じ） （Ｒ１〜Ｒ３は前記と同じ）
造方法および界面活性剤としての用途を提供する。 【解決手段】 一般式１のホスホリルコリン誘導体、お
よび式２の製造中間体、これに一般式５の第３級アミン
を反応させる製造方法。 （ＸはＣ８〜２４の炭化水素基、Ｒ1〜Ｒ3は同一若しく
は異なりＣ１〜４のアルキル基、ＡＯはＣ２〜４のアル
キレンオキシ基を示し、各ＡＯは同一でも異なってても
よく、これらはランダム若しくはブロック状に付加して
もよく、ｍは１〜５０の、ｎは２〜４の整数を示す。） （Ｘ、ＡＯ、ｍ、ｎは前記と同じ） （Ｒ１〜Ｒ３は前記と同じ）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なホスホリル
コリン誘導体、その中間体、その製造方法、並びに界面
活性剤としての用途に関する。
コリン誘導体、その中間体、その製造方法、並びに界面
活性剤としての用途に関する。
【０００２】
【従来の技術】ヘアケア、ボディケア用化粧料に配合さ
れる一般的な界面活性剤には、親水基として硫酸塩、カ
ルボン酸塩、リン酸塩等を有するアニオン界面活性剤や
アミン塩、４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩等を有
するカチオン界面活性剤、多価アルコール、糖を有する
非イオン界面活性剤、アミノ酸、ベタイン骨格を有する
両性界面活性剤等が知られている。これらは石鹸、シャ
ンプー、リンス等使用目的に応じて使い分け、あるいは
併用されて、粘性、起泡性、泡膜安定性、刺激性等の諸
物性が調整されている。そしてこれら界面活性剤はミセ
ルを形成することで、表皮組織代謝産物である角質や皮
脂を可溶化、乳化、ｒｏｌｌｉｇ−ｕｐ等の機構で除去
することが知られている。
れる一般的な界面活性剤には、親水基として硫酸塩、カ
ルボン酸塩、リン酸塩等を有するアニオン界面活性剤や
アミン塩、４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩等を有
するカチオン界面活性剤、多価アルコール、糖を有する
非イオン界面活性剤、アミノ酸、ベタイン骨格を有する
両性界面活性剤等が知られている。これらは石鹸、シャ
ンプー、リンス等使用目的に応じて使い分け、あるいは
併用されて、粘性、起泡性、泡膜安定性、刺激性等の諸
物性が調整されている。そしてこれら界面活性剤はミセ
ルを形成することで、表皮組織代謝産物である角質や皮
脂を可溶化、乳化、ｒｏｌｌｉｇ−ｕｐ等の機構で除去
することが知られている。
【０００３】一方、生体膜構成成分であるリン脂質は、
分子内に２本の炭素鎖である疎水基と、双性イオン基で
あるホスホリルコリン基等の極性基を有する両親媒性物
質であり、濃度、溶媒極性に応じてミセル、ラメラ相液
晶、ミドル相液晶等の様々な分子集合体を形成すること
が知られている。このリン脂質を用いてリポソームを形
成させ、美白剤や細胞賦活成分、薬剤を封入したり、リ
ン脂質自身の持つ保湿効果を期待し、化粧料に応用する
試みは数多く為されてきている。しかし、天然のリン脂
質は、精製度が低い場合、不飽和脂肪酸由来の経時的な
ｐＨ低下や変臭、変色といった劣化がおきる等安定性の
問題がある。
分子内に２本の炭素鎖である疎水基と、双性イオン基で
あるホスホリルコリン基等の極性基を有する両親媒性物
質であり、濃度、溶媒極性に応じてミセル、ラメラ相液
晶、ミドル相液晶等の様々な分子集合体を形成すること
が知られている。このリン脂質を用いてリポソームを形
成させ、美白剤や細胞賦活成分、薬剤を封入したり、リ
ン脂質自身の持つ保湿効果を期待し、化粧料に応用する
試みは数多く為されてきている。しかし、天然のリン脂
質は、精製度が低い場合、不飽和脂肪酸由来の経時的な
ｐＨ低下や変臭、変色といった劣化がおきる等安定性の
問題がある。
【０００４】天然リン脂質の極性基構造を真似たリン脂
質類似化合物の合成は盛んに行われており、例えば２−
（メタクリロイルオキシ）エチル−２−（トリメチルア
ンモニウム）エチルホスフェート（以下、ＭＰＣと略す
る）（特開昭５８−１５４５９１号公報）や重合性オリ
ゴオキシアルキルホスホリルコリン（特開平７−２４７
３５５号公報）、重合性アルキルホスホリルコリン（特
開昭６３−２２２１８３号公報、“機能性界面活性剤の
開発と最新技術”Ｐ２５−Ｐ２６、シーエムシー）等が
知られている。しかしながら、ＭＰＣや重合性基を有す
る他のホスホリルコリン誘導体は製造時にゲル化が起き
やすいという問題があり、オキシアルキレン鎖とホスホ
リルコリン基の特徴を併せ持ち、容易に製造可能な化合
物が求められていた。また、重合性基を持たないホスホ
リルコリン誘導体としては、従来からアルキルホスホリ
ルコリンが知られており、近年長鎖のアルキルホスホリ
ルコリンが溶血毒性無しに抗腫瘍活性を持つという知見
が得られているが（Ｓ．Ｍ．Ｋｏｎｓｔａｎｔｉｎｏ
ｖ，Ｍ．Ｒ．Ｂｅｒｇｅｒ，Ｃａｎｃｅｒ Ｌｅｔｔｅ
ｒｓ １４４（１９９９）１５３−１６０等）、アルキ
ルホスホリルコリンは水溶性が低いという問題点があっ
た。このような状況から、ホスホリルコリン基を有し、
洗剤や化粧品等に配合しうる、新規な界面活性剤が求め
られていた。
質類似化合物の合成は盛んに行われており、例えば２−
（メタクリロイルオキシ）エチル−２−（トリメチルア
ンモニウム）エチルホスフェート（以下、ＭＰＣと略す
る）（特開昭５８−１５４５９１号公報）や重合性オリ
ゴオキシアルキルホスホリルコリン（特開平７−２４７
３５５号公報）、重合性アルキルホスホリルコリン（特
開昭６３−２２２１８３号公報、“機能性界面活性剤の
開発と最新技術”Ｐ２５−Ｐ２６、シーエムシー）等が
知られている。しかしながら、ＭＰＣや重合性基を有す
る他のホスホリルコリン誘導体は製造時にゲル化が起き
やすいという問題があり、オキシアルキレン鎖とホスホ
リルコリン基の特徴を併せ持ち、容易に製造可能な化合
物が求められていた。また、重合性基を持たないホスホ
リルコリン誘導体としては、従来からアルキルホスホリ
ルコリンが知られており、近年長鎖のアルキルホスホリ
ルコリンが溶血毒性無しに抗腫瘍活性を持つという知見
が得られているが（Ｓ．Ｍ．Ｋｏｎｓｔａｎｔｉｎｏ
ｖ，Ｍ．Ｒ．Ｂｅｒｇｅｒ，Ｃａｎｃｅｒ Ｌｅｔｔｅ
ｒｓ １４４（１９９９）１５３−１６０等）、アルキ
ルホスホリルコリンは水溶性が低いという問題点があっ
た。このような状況から、ホスホリルコリン基を有し、
洗剤や化粧品等に配合しうる、新規な界面活性剤が求め
られていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的
は、安定で親水性に優れる新規なホスホリルコリン誘導
体を提供することにある。本発明の第２の目的は、前記
ホスホリルコリン誘導体の製造に有用な中間体を提供す
ることにある。本発明の第３の目的は、前記ホスホリル
コリン誘導体を簡潔に得ることができる製造方法を提供
することにある。本発明の第４の目的は、前記ホスホリ
ルコリン誘導体の界面活性剤としての用途を提供するこ
とにある。
は、安定で親水性に優れる新規なホスホリルコリン誘導
体を提供することにある。本発明の第２の目的は、前記
ホスホリルコリン誘導体の製造に有用な中間体を提供す
ることにある。本発明の第３の目的は、前記ホスホリル
コリン誘導体を簡潔に得ることができる製造方法を提供
することにある。本発明の第４の目的は、前記ホスホリ
ルコリン誘導体の界面活性剤としての用途を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の問
題点に鑑み鋭意検討した結果、新規のホスホリルコリン
誘導体を見出し、本発明を完成するに至った。本発明
は、即ち次のとおりである。 ［１］式（１）で示されるホスホリルコリン誘導体。
題点に鑑み鋭意検討した結果、新規のホスホリルコリン
誘導体を見出し、本発明を完成するに至った。本発明
は、即ち次のとおりである。 ［１］式（１）で示されるホスホリルコリン誘導体。
【０００７】
【化６】
【０００８】（式中、Ｘは炭素数８〜２４の炭化水素基
を示す。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一若しくは異なる基であ
って、炭素数１〜４のアルキル基示す。ＡＯは炭素数２
〜４のアルキレンオキシ基を示し、ｍが２以上の場合に
は、各ＡＯは同一でも異なっていてもよく、これらはラ
ンダム状若しくはブロック状に付加していてもよい。ｍ
は１〜５０の整数、ｎは２〜４の整数を示す。） ［２］式（１）におけるＸが直鎖アルキル基であり、Ａ
Ｏがエチレンオキシ基であり、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がメチ
ル基であり、ｎが２である前記［１］に記載のホスホリ
ルコリン誘導体。 ［３］式（２）で示される、前記［１］に記載のホスホ
リルコリン誘導体の中間体。
を示す。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一若しくは異なる基であ
って、炭素数１〜４のアルキル基示す。ＡＯは炭素数２
〜４のアルキレンオキシ基を示し、ｍが２以上の場合に
は、各ＡＯは同一でも異なっていてもよく、これらはラ
ンダム状若しくはブロック状に付加していてもよい。ｍ
は１〜５０の整数、ｎは２〜４の整数を示す。） ［２］式（１）におけるＸが直鎖アルキル基であり、Ａ
Ｏがエチレンオキシ基であり、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がメチ
ル基であり、ｎが２である前記［１］に記載のホスホリ
ルコリン誘導体。 ［３］式（２）で示される、前記［１］に記載のホスホ
リルコリン誘導体の中間体。
【０００９】
【化７】
【００１０】（式中、Ｘは炭素数８〜２４の炭化水素基
を示す。ＡＯは炭素数２〜４のアルキレンオキシ基を示
し、ｍが２以上の場合には、各ＡＯは同一でも異なって
いてもよく、これらはランダム状若しくはブロック状に
付加していてもよい。ｍは１〜５０の整数、ｎは２〜４
の整数を示す。） ［４］式（３）で示される化合物と式（４）で示される
化合物とを、有機塩基の存在下で反応させることを特徴
とする前記［３］に記載の中間体の製造方法。
を示す。ＡＯは炭素数２〜４のアルキレンオキシ基を示
し、ｍが２以上の場合には、各ＡＯは同一でも異なって
いてもよく、これらはランダム状若しくはブロック状に
付加していてもよい。ｍは１〜５０の整数、ｎは２〜４
の整数を示す。） ［４］式（３）で示される化合物と式（４）で示される
化合物とを、有機塩基の存在下で反応させることを特徴
とする前記［３］に記載の中間体の製造方法。
【００１１】
【化８】
【００１２】（式中、Ｘは炭素数８〜２４の炭化水素基
を示す。ＡＯは炭素数２〜４のアルキレンオキシ基を示
し、ｍが２以上の場合には、各ＡＯは同一でも異なって
いてもよく、これらはランダム状若しくはブロック状に
付加していてもよい。ｍは１〜５０の整数を示す。）
を示す。ＡＯは炭素数２〜４のアルキレンオキシ基を示
し、ｍが２以上の場合には、各ＡＯは同一でも異なって
いてもよく、これらはランダム状若しくはブロック状に
付加していてもよい。ｍは１〜５０の整数を示す。）
【００１３】
【化９】
【００１４】（式中、Ｚはハロゲン原子を示し、ｎは２
〜４の整数を示す。） ［５］前記［３］に記載の中間体に、下記式（５）で示
される第３級アミンを反応させることを特徴とする前記
［１］に記載のホスホリルコリン誘導体の製造方法。
〜４の整数を示す。） ［５］前記［３］に記載の中間体に、下記式（５）で示
される第３級アミンを反応させることを特徴とする前記
［１］に記載のホスホリルコリン誘導体の製造方法。
【００１５】
【化１０】
【００１６】（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一若しくは
異なる基であって、炭素数１〜４のアルキル基を示
す。） ［６］前記［１］に記載のホスホリルコリン誘導体を用
いた界面活性剤。
異なる基であって、炭素数１〜４のアルキル基を示
す。） ［６］前記［１］に記載のホスホリルコリン誘導体を用
いた界面活性剤。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明のホスホリルコリン誘導体
は、疎水性の長鎖アルキル基と親水性のホスホリルコリ
ン類似基を有する新規化合物であり、下記式（１）で示
される。
は、疎水性の長鎖アルキル基と親水性のホスホリルコリ
ン類似基を有する新規化合物であり、下記式（１）で示
される。
【００１８】
【化１１】
【００１９】式（１）において、Ｘは炭素数８〜２４の
炭化水素基を示す。炭素数８〜２４の炭化水素基として
は、炭化水素基であればいかなるものであってもよく、
直鎖状炭化水素基、分岐鎖状炭化水素基、環状炭化水素
基もしくは芳香族系炭化水素基であってよいが、具体的
には、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタ
デシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル
基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基、エチ
ルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ヘプチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル
基、デシルフェニル基、ウンデシルフェニル基、ドデシ
ルフェニル基、トリデシルフェニル基、テトラデシルフ
ェニル基、ペンタデシルフェニル基、ヘキサデシルフェ
ニル基、ヘプタデシルフェニル基、オクタデシルフェニ
ル基等が好ましく挙げられる。このうち、親水性を付与
する点からは、炭素数が少ない炭化水素基が好ましい。
Ｘは、直鎖アルキル基がより好ましい。
炭化水素基を示す。炭素数８〜２４の炭化水素基として
は、炭化水素基であればいかなるものであってもよく、
直鎖状炭化水素基、分岐鎖状炭化水素基、環状炭化水素
基もしくは芳香族系炭化水素基であってよいが、具体的
には、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタ
デシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル
基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基、エチ
ルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ヘプチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル
基、デシルフェニル基、ウンデシルフェニル基、ドデシ
ルフェニル基、トリデシルフェニル基、テトラデシルフ
ェニル基、ペンタデシルフェニル基、ヘキサデシルフェ
ニル基、ヘプタデシルフェニル基、オクタデシルフェニ
ル基等が好ましく挙げられる。このうち、親水性を付与
する点からは、炭素数が少ない炭化水素基が好ましい。
Ｘは、直鎖アルキル基がより好ましい。
【００２０】式（１）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は同一
若しくは異なる基であって、炭素数１〜４のアルキル基
を示す。このようなアルキル基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられ、ｉ
ｓｏ−プロピル基、ｔ−ブチル基等の分岐アルキル基で
もよい。好ましくはメチル基である。式（１）におい
て、ＡＯは炭素数２〜４のアルキレンオキシ基を示し、
ｍが２以上の場合には、各ＡＯは同一でも異なっていて
もよく、これらはランダム若しくはブロック状に付加し
ていてもよい。好ましいＡＯとしては、具体的にはエチ
レンオキシ基、プロピレンオキシ基、トリメチレンオキ
シ基、１−エチルエチレンオキシ基、１，２−ジメチル
エチレンオキシ基、テトラメチレンオキシ基等が挙げら
れる。親水性を付与する点からはエチレンオキシ基がよ
り好ましい。ｍはＡＯの繰り返し単位数であって、１〜
５０の整数を示す。ｍは小さい方が後述する合成がより
短時間で済む等の理由から、１〜１０の整数が望まし
い。ｎは２〜４の整数であり、原料入手性等の理由から
好ましくは２又は３である。
若しくは異なる基であって、炭素数１〜４のアルキル基
を示す。このようなアルキル基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられ、ｉ
ｓｏ−プロピル基、ｔ−ブチル基等の分岐アルキル基で
もよい。好ましくはメチル基である。式（１）におい
て、ＡＯは炭素数２〜４のアルキレンオキシ基を示し、
ｍが２以上の場合には、各ＡＯは同一でも異なっていて
もよく、これらはランダム若しくはブロック状に付加し
ていてもよい。好ましいＡＯとしては、具体的にはエチ
レンオキシ基、プロピレンオキシ基、トリメチレンオキ
シ基、１−エチルエチレンオキシ基、１，２−ジメチル
エチレンオキシ基、テトラメチレンオキシ基等が挙げら
れる。親水性を付与する点からはエチレンオキシ基がよ
り好ましい。ｍはＡＯの繰り返し単位数であって、１〜
５０の整数を示す。ｍは小さい方が後述する合成がより
短時間で済む等の理由から、１〜１０の整数が望まし
い。ｎは２〜４の整数であり、原料入手性等の理由から
好ましくは２又は３である。
【００２１】本発明のホスホリルコリン誘導体として
は、上述のＸ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、ＡＯ、ｍ、ｎを適宜選
択して組み合わせた化合物を列挙できるが、例えば、下
記構造式で表される式（６）〜（１３）に示した化合物
等が好ましく挙げられる。
は、上述のＸ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、ＡＯ、ｍ、ｎを適宜選
択して組み合わせた化合物を列挙できるが、例えば、下
記構造式で表される式（６）〜（１３）に示した化合物
等が好ましく挙げられる。
【００２２】
【化１２】
【００２３】本発明のホスホリルコリン誘導体の中間体
は、下記式（２）で示される。式（２）中の、Ｘ、Ａ
Ｏ、ｍ、ｎは、前記式（１）のものと同じ内容である。
は、下記式（２）で示される。式（２）中の、Ｘ、Ａ
Ｏ、ｍ、ｎは、前記式（１）のものと同じ内容である。
【００２４】
【化１３】
【００２５】本発明の中間体としては、上述のＸ、Ａ
Ｏ、ｍ、ｎを適宜選択して組み合わせた化合物を列挙で
きるが、例えば下記構造式で表される式（１４）〜（２
１）に示した化合物等が好ましく挙げられる。
Ｏ、ｍ、ｎを適宜選択して組み合わせた化合物を列挙で
きるが、例えば下記構造式で表される式（１４）〜（２
１）に示した化合物等が好ましく挙げられる。
【００２６】
【化１４】
【００２７】本発明のホスホリルコリン誘導体又は中間
体を製造するには、例えば、本発明の中間体は、前記式
（３）で示される化合物と前記式（４）で示される化合
物とを有機塩基の存在下で反応させることによって得る
ことができる。また、本発明のホスホリルコリン誘導体
を製造するには、本発明の中間体に前記式（５）で示さ
れる第３級アミンを反応させ、開環させて本発明のホス
ホリルコリン誘導体を得ることができる。
体を製造するには、例えば、本発明の中間体は、前記式
（３）で示される化合物と前記式（４）で示される化合
物とを有機塩基の存在下で反応させることによって得る
ことができる。また、本発明のホスホリルコリン誘導体
を製造するには、本発明の中間体に前記式（５）で示さ
れる第３級アミンを反応させ、開環させて本発明のホス
ホリルコリン誘導体を得ることができる。
【００２８】前記式（３）で示される化合物としては、
例えば、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウン
デカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデ
カノール、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプ
タデカノール、オクタデカノール、ノナデカノール、イ
コサノール、ヘンイコサノール、ドコサノール、トリコ
サノール、テトラコサノール、エチルフェノール、プロ
ピルフェノール、ブチルフェノール、ペンチルフェノー
ル、ヘキシルフェノール、ヘプチルフェノール、オクチ
ルフェノール、ノニルフェノール、デシルフェノール、
ウンデシルフェノール、ドデシルフェノール、トリデシ
ルフェノール、テトラデシルフェノール、ペンタデシル
フェノール、ヘキサデシルフェノール、ヘプタデシルフ
ェノール、オクタデシルフェノール等のアルコールにエ
チレンオキシ基、プロピレンオキシ基、トリメチレンオ
キシ基、１−エチルエチレンオキシ基、１，２−ジメチ
ルエチレンオキシ基、テトラメチレンオキシ基等が付加
したポリオキシアルキレンアルキルエーテル化合物が挙
げられる。これらのポリオキシアルキレンアルキルエー
テル化合物は、公知の合成方法を駆使することにより得
ることができるが、例えば、前記アルコールに、エチレ
ンオキシド、プロピレンオキシド、オキセタン、１−ブ
テンオキシド、２−ブテンオキシド、テトラヒドロフラ
ン等の試薬を付加重合させる方法等により得ることもで
きる。
例えば、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウン
デカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデ
カノール、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプ
タデカノール、オクタデカノール、ノナデカノール、イ
コサノール、ヘンイコサノール、ドコサノール、トリコ
サノール、テトラコサノール、エチルフェノール、プロ
ピルフェノール、ブチルフェノール、ペンチルフェノー
ル、ヘキシルフェノール、ヘプチルフェノール、オクチ
ルフェノール、ノニルフェノール、デシルフェノール、
ウンデシルフェノール、ドデシルフェノール、トリデシ
ルフェノール、テトラデシルフェノール、ペンタデシル
フェノール、ヘキサデシルフェノール、ヘプタデシルフ
ェノール、オクタデシルフェノール等のアルコールにエ
チレンオキシ基、プロピレンオキシ基、トリメチレンオ
キシ基、１−エチルエチレンオキシ基、１，２−ジメチ
ルエチレンオキシ基、テトラメチレンオキシ基等が付加
したポリオキシアルキレンアルキルエーテル化合物が挙
げられる。これらのポリオキシアルキレンアルキルエー
テル化合物は、公知の合成方法を駆使することにより得
ることができるが、例えば、前記アルコールに、エチレ
ンオキシド、プロピレンオキシド、オキセタン、１−ブ
テンオキシド、２−ブテンオキシド、テトラヒドロフラ
ン等の試薬を付加重合させる方法等により得ることもで
きる。
【００２９】前記式（４）で示される化合物のＺは臭素
原子、塩素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子であり、
好ましくは塩素原子である。ｎは２〜４の整数であり、
好ましくは２または３である。式（４）で示される化合
物としては、例えば、下記構造式で表される式（２２）
〜（２６）に示した化合物を挙げることができる。式
（４）で示される化合物は公知の方法により製造でき
る。
原子、塩素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子であり、
好ましくは塩素原子である。ｎは２〜４の整数であり、
好ましくは２または３である。式（４）で示される化合
物としては、例えば、下記構造式で表される式（２２）
〜（２６）に示した化合物を挙げることができる。式
（４）で示される化合物は公知の方法により製造でき
る。
【００３０】
【化１５】
【００３１】式（３）で示される化合物と式（４）で示
される化合物とを反応させる際の式（４）で示される化
合物の仕込み割合は、式（３）で示される化合物１モル
に対して通常０．８から５モルであり、好ましくは０．
９から１．２モルである。
される化合物とを反応させる際の式（４）で示される化
合物の仕込み割合は、式（３）で示される化合物１モル
に対して通常０．８から５モルであり、好ましくは０．
９から１．２モルである。
【００３２】本発明の中間体の製造方法において、前記
式（３）と前記式（４）で示される化合物を反応させる
際に用いる有機塩基は、脱ハロゲン化水素剤として作用
するものであればよい。また、この有機塩基を反応溶媒
として用いてもよい。このような有機塩基としては、例
えば、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミ
ノピリジン、２，６−ルチジン、ジイソプロピルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン等が挙げられる。有機塩基
の仕込み割合は、式（３）の化合物と等モル以上が望ま
しい。
式（３）と前記式（４）で示される化合物を反応させる
際に用いる有機塩基は、脱ハロゲン化水素剤として作用
するものであればよい。また、この有機塩基を反応溶媒
として用いてもよい。このような有機塩基としては、例
えば、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミ
ノピリジン、２，６−ルチジン、ジイソプロピルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン等が挙げられる。有機塩基
の仕込み割合は、式（３）の化合物と等モル以上が望ま
しい。
【００３３】本発明の中間体の製造方法において、前記
反応は、溶媒の存在下若しくは不存在下で行うことがで
きる。使用できる溶媒は、非プロトン性溶媒であれば特
に限定されず、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル、酢酸エチル、クロロホルム、塩化メチレン、
アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等が挙
げられる。溶媒を用いる場合の使用量は特に限定されな
いが、通常、反応液中の式（３）で示される化合物濃度
が０．００１〜３ｇ／ｍｌの濃度となるようにその量を
調整することが好ましい。
反応は、溶媒の存在下若しくは不存在下で行うことがで
きる。使用できる溶媒は、非プロトン性溶媒であれば特
に限定されず、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル、酢酸エチル、クロロホルム、塩化メチレン、
アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等が挙
げられる。溶媒を用いる場合の使用量は特に限定されな
いが、通常、反応液中の式（３）で示される化合物濃度
が０．００１〜３ｇ／ｍｌの濃度となるようにその量を
調整することが好ましい。
【００３４】本発明の中間体の製造方法における前記反
応は、例えば、式（４）で示される化合物と溶媒とを冷
却しながらかき混ぜ、その中に式（３）で示される化合
物、有機塩基、溶媒の混合溶液を滴下して反応させる方
法、あるいは式（３）で示される化合物と有機塩基と溶
媒を冷却しながらかき混ぜ、その中に式（４）で示され
る化合物を滴下させる方法等により行うことができる。
この際の反応温度は−５０℃から７０℃、好ましくは−
２０℃から３０℃である。この反応が進むにつれて、副
生成物である有機塩基のハロゲン化水素塩が沈殿してく
るが、この沈殿は濾過や抽出操作により容易に除去でき
る。このハロゲン化水素塩を除去した後、反応溶媒を留
去し、生成物を精製等することにより本発明の中間体が
得られる。また、得られた中間体を後述する本発明のホ
スホリルコリン誘導体の製造方法に用いる場合には、必
ずしも精製された中間体を使用する必要はなく、単離、
精製していない中間体をそのまま本発明のホスホリルコ
リン誘導体の製造に用いることもできる。
応は、例えば、式（４）で示される化合物と溶媒とを冷
却しながらかき混ぜ、その中に式（３）で示される化合
物、有機塩基、溶媒の混合溶液を滴下して反応させる方
法、あるいは式（３）で示される化合物と有機塩基と溶
媒を冷却しながらかき混ぜ、その中に式（４）で示され
る化合物を滴下させる方法等により行うことができる。
この際の反応温度は−５０℃から７０℃、好ましくは−
２０℃から３０℃である。この反応が進むにつれて、副
生成物である有機塩基のハロゲン化水素塩が沈殿してく
るが、この沈殿は濾過や抽出操作により容易に除去でき
る。このハロゲン化水素塩を除去した後、反応溶媒を留
去し、生成物を精製等することにより本発明の中間体が
得られる。また、得られた中間体を後述する本発明のホ
スホリルコリン誘導体の製造方法に用いる場合には、必
ずしも精製された中間体を使用する必要はなく、単離、
精製していない中間体をそのまま本発明のホスホリルコ
リン誘導体の製造に用いることもできる。
【００３５】本発明のホスホリルコリン誘導体の製造方
法に用いる前記式（５）で示される第３級アミンとして
は、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リ−ｎ−オクチルアミン等が挙げられ、好ましくはトリ
メチルアミンが用いられる。本発明の中間体に前記式
（５）で示される第３級アミンを反応させる際の第３級
アミンの仕込み割合は、本発明の中間体１モルに対して
通常０．８から１００モル、好ましくは１から２モルと
なるように仕込むことができる。また、前記本発明の中
間体の製造方法に続いて、中間体の精製を行わず前記式
（５）で示される第３級アミンを反応させる場合には、
前記式（３）で示される化合物１モルに対して第３級ア
ミンを通常０．８から１００モル、好ましくは１から２
モルになるように仕込むのが望ましい。
法に用いる前記式（５）で示される第３級アミンとして
は、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リ−ｎ−オクチルアミン等が挙げられ、好ましくはトリ
メチルアミンが用いられる。本発明の中間体に前記式
（５）で示される第３級アミンを反応させる際の第３級
アミンの仕込み割合は、本発明の中間体１モルに対して
通常０．８から１００モル、好ましくは１から２モルと
なるように仕込むことができる。また、前記本発明の中
間体の製造方法に続いて、中間体の精製を行わず前記式
（５）で示される第３級アミンを反応させる場合には、
前記式（３）で示される化合物１モルに対して第３級ア
ミンを通常０．８から１００モル、好ましくは１から２
モルになるように仕込むのが望ましい。
【００３６】本発明のホスホリルコリン誘導体の製造方
法において、上記式（５）で示される第３級アミンによ
る開環反応は、非プロトン性溶媒の存在下に行うことが
できる。このような溶媒としては、例えば、テトラヒド
ロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル、酢酸エチル、
クロロホルム、アセトン、アセトニトリル、 Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド等が挙げられる。溶媒の使用量は
特に限定されないが、例えば、前記本発明の中間体の製
造方法に続いて、得られる中間体の精製を行わずに、式
（５）で示される第３級アミンを反応させる場合には、
本発明の中間体の製造方法において最初に仕込んだ式
（３）で示される化合物に対する濃度として換算し、式
（３）で示される化合物濃度が０．００１〜２ｇ／ｍｌ
となるような溶媒の使用量が好ましい。
法において、上記式（５）で示される第３級アミンによ
る開環反応は、非プロトン性溶媒の存在下に行うことが
できる。このような溶媒としては、例えば、テトラヒド
ロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル、酢酸エチル、
クロロホルム、アセトン、アセトニトリル、 Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド等が挙げられる。溶媒の使用量は
特に限定されないが、例えば、前記本発明の中間体の製
造方法に続いて、得られる中間体の精製を行わずに、式
（５）で示される第３級アミンを反応させる場合には、
本発明の中間体の製造方法において最初に仕込んだ式
（３）で示される化合物に対する濃度として換算し、式
（３）で示される化合物濃度が０．００１〜２ｇ／ｍｌ
となるような溶媒の使用量が好ましい。
【００３７】本発明のホスホリルコリン誘導体の製造方
法において、前記反応条件は、通常０から２００℃、好
ましくは４０から９０℃の温度で、数時間、あるいは数
十時間、撹拌反応させる方法で行うことができる。この
際、式（１）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3のすべてがメチル
基である化合物を得る場合が、反応時間を最も短縮でき
るので好ましい。反応終了後、得られた生成物を必要に
より濾過、抽出、溶媒留去等にて単離した後で、再結
晶、再沈、カラムクロマトグラフィー、活性炭処理、活
性白土処理等の操作で精製を行ってもよい。このように
して、式（１）のホスホリルコリン誘導体を得ることが
できる。
法において、前記反応条件は、通常０から２００℃、好
ましくは４０から９０℃の温度で、数時間、あるいは数
十時間、撹拌反応させる方法で行うことができる。この
際、式（１）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3のすべてがメチル
基である化合物を得る場合が、反応時間を最も短縮でき
るので好ましい。反応終了後、得られた生成物を必要に
より濾過、抽出、溶媒留去等にて単離した後で、再結
晶、再沈、カラムクロマトグラフィー、活性炭処理、活
性白土処理等の操作で精製を行ってもよい。このように
して、式（１）のホスホリルコリン誘導体を得ることが
できる。
【００３８】得られたホスホリルコリン誘導体は、ホス
ホリルコリン類似基に由来する保湿性を有しているの
で、これらの特徴を生かして、例えば新規な界面活性剤
等に用いることができる。本発明のホスホリルコリン誘
導体は、界面活性剤としての応用が期待できる。また、
水溶性かつ安定であり、皮膚に対する刺激もなく、ホス
ホリルコリン類似基の保湿作用も期待できるため、各種
化粧料等に配合できる。更に長鎖アルキル基とホスホリ
ルコリン基の間にアルキレンオキシ基をスペーサーとし
て有するので、従来から知られているアルキルホスホリ
ルコリンやポリオキシアルキレンアルキルエーテルより
も、より親水性を高めることができる。本発明のホスホ
リルコリン誘導体の界面活性剤として各種の用途に使用
でき、その使用方法については、現在、界面活性剤が用
いられているあらゆる分野において、例えば、公知の化
粧料や、洗浄剤等に有効成分として本発明のホスホリル
コリン誘導体を配合して、界面活性剤として使用するこ
とができる。
ホリルコリン類似基に由来する保湿性を有しているの
で、これらの特徴を生かして、例えば新規な界面活性剤
等に用いることができる。本発明のホスホリルコリン誘
導体は、界面活性剤としての応用が期待できる。また、
水溶性かつ安定であり、皮膚に対する刺激もなく、ホス
ホリルコリン類似基の保湿作用も期待できるため、各種
化粧料等に配合できる。更に長鎖アルキル基とホスホリ
ルコリン基の間にアルキレンオキシ基をスペーサーとし
て有するので、従来から知られているアルキルホスホリ
ルコリンやポリオキシアルキレンアルキルエーテルより
も、より親水性を高めることができる。本発明のホスホ
リルコリン誘導体の界面活性剤として各種の用途に使用
でき、その使用方法については、現在、界面活性剤が用
いられているあらゆる分野において、例えば、公知の化
粧料や、洗浄剤等に有効成分として本発明のホスホリル
コリン誘導体を配合して、界面活性剤として使用するこ
とができる。
【００３９】
【発明の効果】本発明によれば、疎水性基とホスホリル
コリン類似極性基を同一分子内に併せ持つ新規ホスホリ
ルコリン誘導体が得られる。本発明の新規ホスホリルコ
リン誘導体の中間体は、新規化合物である。また本発明
の製造方法は、前記の目的物を簡単に、高収率で製造で
きる方法である。前記新規ホスホリルコリン誘導体は、
ホスホリルコリン類似基に由来する保湿性が期待される
ほか、優れた界面活性効果を有しており、新規界面活性
剤として産業上有用である。
コリン類似極性基を同一分子内に併せ持つ新規ホスホリ
ルコリン誘導体が得られる。本発明の新規ホスホリルコ
リン誘導体の中間体は、新規化合物である。また本発明
の製造方法は、前記の目的物を簡単に、高収率で製造で
きる方法である。前記新規ホスホリルコリン誘導体は、
ホスホリルコリン類似基に由来する保湿性が期待される
ほか、優れた界面活性効果を有しており、新規界面活性
剤として産業上有用である。
【００４０】
【実施例】以下に実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明する。なお、例中の化合物の分析、同定には1
Ｈ−ＮＭＲ、31Ｐ−ＮＭＲ、質量分析を用いた。 ＜ＮＭＲの分析方法＞1Ｈ−ＮＭＲ、31Ｐ−ＮＭＲ分析
ではＪＮＭ−ＥＸ２７０（日本電子（株）製）を用い
た。 ＜質量分析の方法＞質量分析はＪＭＳ−７００（日本電
子（株）製）を用い、イオン化方法はＦＡＢ（Ｐｏｓ）
で、ｍ−ニトロベンジルアルコールをマトリクスとして
用いて行った。
的に説明する。なお、例中の化合物の分析、同定には1
Ｈ−ＮＭＲ、31Ｐ−ＮＭＲ、質量分析を用いた。 ＜ＮＭＲの分析方法＞1Ｈ−ＮＭＲ、31Ｐ−ＮＭＲ分析
ではＪＮＭ−ＥＸ２７０（日本電子（株）製）を用い
た。 ＜質量分析の方法＞質量分析はＪＭＳ−７００（日本電
子（株）製）を用い、イオン化方法はＦＡＢ（Ｐｏｓ）
で、ｍ−ニトロベンジルアルコールをマトリクスとして
用いて行った。
【００４１】実施例１−１ 温度計、滴下漏斗、攪拌機を付した３００ｍｌの丸底フ
ラスコに、ポリオキシエチレン（４）ラウリルエーテル
３６．２６ｇ（０．１０ｍｏｌ）、ジイソプロピルアミ
ン１０．１２ｇ（０．１０ｍｏｌ）および酢酸エチル１
７５ｍｌを加えて４℃に冷却した後、滴下漏斗に２−ク
ロロ−オキソ−１、３、２−ジオキサホスホラン１３．
５４ｇ（０．０９５ｍｏｌ）および酢酸エチル２５ｍｌ
を加え、この混合溶液を、反応温度が１０℃を越えない
ように、かきまぜながら、２時間かけて徐々に滴下し
た。滴下終了後、冷却を中止し、反応液の温度を徐々に
２０℃に上げ、さらに２時間かきまぜ続けた。副生成物
として析出したジイソプロピルアミン塩酸塩を濾別した
後、濾液から酢酸エチル１００ｍｌを留去した。
ラスコに、ポリオキシエチレン（４）ラウリルエーテル
３６．２６ｇ（０．１０ｍｏｌ）、ジイソプロピルアミ
ン１０．１２ｇ（０．１０ｍｏｌ）および酢酸エチル１
７５ｍｌを加えて４℃に冷却した後、滴下漏斗に２−ク
ロロ−オキソ−１、３、２−ジオキサホスホラン１３．
５４ｇ（０．０９５ｍｏｌ）および酢酸エチル２５ｍｌ
を加え、この混合溶液を、反応温度が１０℃を越えない
ように、かきまぜながら、２時間かけて徐々に滴下し
た。滴下終了後、冷却を中止し、反応液の温度を徐々に
２０℃に上げ、さらに２時間かきまぜ続けた。副生成物
として析出したジイソプロピルアミン塩酸塩を濾別した
後、濾液から酢酸エチル１００ｍｌを留去した。
【００４２】得られた濃縮液のＮＭＲ分析の結果を以下
に示す。更に、これらの結果から、以下の式（２７）で
示される化合物が得られたことがわかった。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、内部標準ＴＭＳ）：出発原料
のポリオキシエチレン（４）ラウリルエーテルの1Ｈ−
ＮＭＲと比較して、ホスホラン環に由来するピーク４．
４３ｐｐｍ（４Ｈ、ｍ、−ＯＣＨ2ＣＨ2 Ｏ−）の増加と
リン原子に結合したメチレン鎖（２Ｈ、ｍ、−ＯＣＨ2
ＣＨ2 ＯＰ−）のシフト（３．７２ｐｐｍ→４．２５ｐ
ｐｍ）が観測された。31 Ｐ−ＮＭＲ（δ（ppm）、ＣＤＣｌ3、外部標準Ｈ3Ｐ
Ｏ4）：１８．８０（ｍ）
に示す。更に、これらの結果から、以下の式（２７）で
示される化合物が得られたことがわかった。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、内部標準ＴＭＳ）：出発原料
のポリオキシエチレン（４）ラウリルエーテルの1Ｈ−
ＮＭＲと比較して、ホスホラン環に由来するピーク４．
４３ｐｐｍ（４Ｈ、ｍ、−ＯＣＨ2ＣＨ2 Ｏ−）の増加と
リン原子に結合したメチレン鎖（２Ｈ、ｍ、−ＯＣＨ2
ＣＨ2 ＯＰ−）のシフト（３．７２ｐｐｍ→４．２５ｐ
ｐｍ）が観測された。31 Ｐ−ＮＭＲ（δ（ppm）、ＣＤＣｌ3、外部標準Ｈ3Ｐ
Ｏ4）：１８．８０（ｍ）
【００４３】
【化１６】
【００４４】実施例１−２ 実施例１−１で得られた濃縮液とアセトニトリル２６０
ｍｌを１Ｌの密栓付き耐圧容器に移し替えた。この耐圧
容器にトリメチルアミン８．８ｇ（０．１５ｍｏｌ）を
加えて密栓し、７０℃で２４時間かき混ぜた。反応液か
ら過剰のトリメチルアミンと溶媒２００ｍｌを留去し冷
却後、析出した結晶をドライボックス中で濾別し、減圧
乾燥し、白色ロウ状固体１２．５ｇを得た。得られた白
色ロウ状固体のＮＭＲ分析、質量分析の結果を以下に示
す。更に、これらの結果から、得られた化合物は以下の
式（２８）で示される化合物であることがわかった。1 Ｈ−ＮＭＲ（δ(ppm)、ＣＤＣｌ3、内部標準ＴＭ
Ｓ）：０．８８（３Ｈ、ｔ、ＣＨ3 （ＣＨ2）11−）、
１．２６（２０Ｈ、ｍ、ＣＨ3 （ＣＨ2）10 ＣＨ2−）、
１．５６（２Ｈ、ｍ、ＣＨ3（ＣＨ2）10 ＣＨ2 −）、
３．３９（９Ｈ、ｓ、−Ｎ（ＣＨ3）3 ）、３．６１、
３．９７（ｍ、−（ＯＣＨ2ＣＨ2）aＯ−）、３．８４
（２Ｈ、ｍ、−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3）3）、４．３０
（ｍ、２Ｈ、−ＣＨ2 ＣＨ2Ｎ（ＣＨ3）3）31 Ｐ−ＮＭＲ（δ（ppm）、ＣＤＣｌ3、外部標準Ｈ3Ｐ
Ｏ4）：０．７５（ｍ） ＜質量分析＞ ａ＝４…… Ｍｗ：５２７．６８ Ｍ＋１＝５２８が観測された。 ａ＝３…… Ｍｗ：４８３．６３ Ｍ＋１＝４８４が観測された。 ａ＝２…… Ｍｗ：４３９．５７ Ｍ＋１＝４４０が観測された。 ａ＝１…… Ｍｗ：３９５．５２ Ｍ＋１＝３９６が観測された。
ｍｌを１Ｌの密栓付き耐圧容器に移し替えた。この耐圧
容器にトリメチルアミン８．８ｇ（０．１５ｍｏｌ）を
加えて密栓し、７０℃で２４時間かき混ぜた。反応液か
ら過剰のトリメチルアミンと溶媒２００ｍｌを留去し冷
却後、析出した結晶をドライボックス中で濾別し、減圧
乾燥し、白色ロウ状固体１２．５ｇを得た。得られた白
色ロウ状固体のＮＭＲ分析、質量分析の結果を以下に示
す。更に、これらの結果から、得られた化合物は以下の
式（２８）で示される化合物であることがわかった。1 Ｈ−ＮＭＲ（δ(ppm)、ＣＤＣｌ3、内部標準ＴＭ
Ｓ）：０．８８（３Ｈ、ｔ、ＣＨ3 （ＣＨ2）11−）、
１．２６（２０Ｈ、ｍ、ＣＨ3 （ＣＨ2）10 ＣＨ2−）、
１．５６（２Ｈ、ｍ、ＣＨ3（ＣＨ2）10 ＣＨ2 −）、
３．３９（９Ｈ、ｓ、−Ｎ（ＣＨ3）3 ）、３．６１、
３．９７（ｍ、−（ＯＣＨ2ＣＨ2）aＯ−）、３．８４
（２Ｈ、ｍ、−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3）3）、４．３０
（ｍ、２Ｈ、−ＣＨ2 ＣＨ2Ｎ（ＣＨ3）3）31 Ｐ−ＮＭＲ（δ（ppm）、ＣＤＣｌ3、外部標準Ｈ3Ｐ
Ｏ4）：０．７５（ｍ） ＜質量分析＞ ａ＝４…… Ｍｗ：５２７．６８ Ｍ＋１＝５２８が観測された。 ａ＝３…… Ｍｗ：４８３．６３ Ｍ＋１＝４８４が観測された。 ａ＝２…… Ｍｗ：４３９．５７ Ｍ＋１＝４４０が観測された。 ａ＝１…… Ｍｗ：３９５．５２ Ｍ＋１＝３９６が観測された。
【００４５】
【化１７】
【００４６】実施例２−１ 実施例１−１のポリオキシエチレン（４）ラウリルエー
テル３６．２６ｇ（０．１０ｍｏｌ）のかわりにポリオ
キシエチレン（２）ノニルフェニルエーテル３０．８５
ｇ（０．１０ｍｏｌ）を用いて実施例１−１と同様の操
作を行った。得られた濃縮液のＮＭＲ分析の結果を以下
に示す。更に、これらの結果から、以下の式（２９）で
示される化合物が得られたことがわかった。1Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ3、内部標準ＴＭＳ）：出発原料のポリオ
キシエチレン（２）ノニルフェニルエーテルの1Ｈ−Ｎ
ＭＲと比較して、ホスホラン環に由来するピーク４．５
１ｐｐｍ（４Ｈ、ｍ、−ＯＣＨ2ＣＨ2 Ｏ−）の増加とリ
ン原子に結合したメチレン鎖（２Ｈ、ｍ、−ＯＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ＯＰ−）のシフト（３．６５ｐｐｍ→４．３６ｐｐ
ｍ）が観測された。31 Ｐ−ＮＭＲ（δ（ppm）、ＣＤＣｌ3、外部標準Ｈ3Ｐ
Ｏ4）：１８．７６（ｍ）
テル３６．２６ｇ（０．１０ｍｏｌ）のかわりにポリオ
キシエチレン（２）ノニルフェニルエーテル３０．８５
ｇ（０．１０ｍｏｌ）を用いて実施例１−１と同様の操
作を行った。得られた濃縮液のＮＭＲ分析の結果を以下
に示す。更に、これらの結果から、以下の式（２９）で
示される化合物が得られたことがわかった。1Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ3、内部標準ＴＭＳ）：出発原料のポリオ
キシエチレン（２）ノニルフェニルエーテルの1Ｈ−Ｎ
ＭＲと比較して、ホスホラン環に由来するピーク４．５
１ｐｐｍ（４Ｈ、ｍ、−ＯＣＨ2ＣＨ2 Ｏ−）の増加とリ
ン原子に結合したメチレン鎖（２Ｈ、ｍ、−ＯＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ＯＰ−）のシフト（３．６５ｐｐｍ→４．３６ｐｐ
ｍ）が観測された。31 Ｐ−ＮＭＲ（δ（ppm）、ＣＤＣｌ3、外部標準Ｈ3Ｐ
Ｏ4）：１８．７６（ｍ）
【００４７】
【化１８】
【００４８】実施例２−２ 開環反応条件を８０℃で１８時間とした以外は実施例１
−２と同様の条件にて実施例２−１で得られた濃縮液の
開環反応を行い、白色ロウ状固体２４．５ｇを得た。さ
らに得られた白色ロウ状固体をアセトニトリルから再結
晶し、白色固体１６．０ｇを得た。得られた白色固体の
ＮＭＲ分析、質量分析の結果を以下に示す。更に、これ
らの結果から、得られた化合物は以下の式（３０）で示
される化合物であることがわかった。1 Ｈ−ＮＭＲ（δ(ppm)、ＣＤＣｌ3、内部標準ＴＭ
Ｓ）：０．５２−１．６２（１９Ｈ、ｍ、Ｃ9Ｈ19 ）、
３．３３（９Ｈ、ｓ、−Ｎ（ＣＨ3）3 ）、３．６０−
４．３０（ｍ、−（ＯＣＨ2ＣＨ2）bＯ−、−ＣＨ2ＣＨ
2 Ｎ（ＣＨ3）3）、６．７９（ｍ）、７．１６（ｍ）
（４Ｈ、ベンゼン環）31 Ｐ−ＮＭＲ（δ（ppm）、ＣＤＣｌ3、外部標準Ｈ3Ｐ
Ｏ4）：０．７５（ｍ） ＜質量分析＞ ｂ＝２…… Ｍｗ：４７３．５９ Ｍ＋１＝４７４が観測された。 ｂ＝１…… Ｍｗ：４２９．５４ Ｍ＋１＝４３０が観測された。
−２と同様の条件にて実施例２−１で得られた濃縮液の
開環反応を行い、白色ロウ状固体２４．５ｇを得た。さ
らに得られた白色ロウ状固体をアセトニトリルから再結
晶し、白色固体１６．０ｇを得た。得られた白色固体の
ＮＭＲ分析、質量分析の結果を以下に示す。更に、これ
らの結果から、得られた化合物は以下の式（３０）で示
される化合物であることがわかった。1 Ｈ−ＮＭＲ（δ(ppm)、ＣＤＣｌ3、内部標準ＴＭ
Ｓ）：０．５２−１．６２（１９Ｈ、ｍ、Ｃ9Ｈ19 ）、
３．３３（９Ｈ、ｓ、−Ｎ（ＣＨ3）3 ）、３．６０−
４．３０（ｍ、−（ＯＣＨ2ＣＨ2）bＯ−、−ＣＨ2ＣＨ
2 Ｎ（ＣＨ3）3）、６．７９（ｍ）、７．１６（ｍ）
（４Ｈ、ベンゼン環）31 Ｐ−ＮＭＲ（δ（ppm）、ＣＤＣｌ3、外部標準Ｈ3Ｐ
Ｏ4）：０．７５（ｍ） ＜質量分析＞ ｂ＝２…… Ｍｗ：４７３．５９ Ｍ＋１＝４７４が観測された。 ｂ＝１…… Ｍｗ：４２９．５４ Ｍ＋１＝４３０が観測された。
【００４９】
【化１９】
【００５０】実施例３−１ 温度計、滴下漏斗、攪拌機を付した３００ｍｌの丸底フ
ラスコに、ポリオキシエチレン（５）オレイルエーテル
２４．３５ｇ（０．０５ｍｏｌ）、ジイソプロピルアミ
ン５．０６ｇ（０．０５ｍｏｌ）および酢酸エチル１０
０ｍｌを加えて４℃に冷却した後、滴下漏斗に２−クロ
ロ−オキソ−１、３、２−ジオキサホスホラン６．７７
ｇ（０．０５ｍｏｌ）および酢酸エチル２０ｍｌを加
え、この混合溶液を、反応温度が１０℃を越えないよう
に、かきまぜながら、２時間かけて徐々に滴下した。滴
下終了後、冷却を中止し、反応液の温度を徐々に２０℃
に上げ、さらに３時間かきまぜ続けた。副生成物として
析出したジイソプロピルアミン塩酸塩を濾別した後、濾
液から酢酸エチル８０ｍｌを留去した。得られた濃縮液
のＮＭＲ分析の結果を以下に示す。更に、これらの結果
から、以下の式（３１）で示される化合物が得られたこ
とがわかった。出発原料のポリオキシエチレン（５）オ
レイルエーテルの1Ｈ−ＮＭＲと比較して、ホスホラン
環に由来するピーク４．４６ｐｐｍ（４Ｈ、ｍ、−ＯＣ
Ｈ2ＣＨ2 Ｏ−）の増加とリン原子に結合したメチレン鎖
（２Ｈ、ｍ、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＰ−）のシフト（３．７
２ｐｐｍ→４．２７ｐｐｍ）が観測された。31 Ｐ−ＮＭＲ（δ（ppm）、ＣＤＣｌ3、外部標準Ｈ3Ｐ
Ｏ4）：１８．４７（ｍ）
ラスコに、ポリオキシエチレン（５）オレイルエーテル
２４．３５ｇ（０．０５ｍｏｌ）、ジイソプロピルアミ
ン５．０６ｇ（０．０５ｍｏｌ）および酢酸エチル１０
０ｍｌを加えて４℃に冷却した後、滴下漏斗に２−クロ
ロ−オキソ−１、３、２−ジオキサホスホラン６．７７
ｇ（０．０５ｍｏｌ）および酢酸エチル２０ｍｌを加
え、この混合溶液を、反応温度が１０℃を越えないよう
に、かきまぜながら、２時間かけて徐々に滴下した。滴
下終了後、冷却を中止し、反応液の温度を徐々に２０℃
に上げ、さらに３時間かきまぜ続けた。副生成物として
析出したジイソプロピルアミン塩酸塩を濾別した後、濾
液から酢酸エチル８０ｍｌを留去した。得られた濃縮液
のＮＭＲ分析の結果を以下に示す。更に、これらの結果
から、以下の式（３１）で示される化合物が得られたこ
とがわかった。出発原料のポリオキシエチレン（５）オ
レイルエーテルの1Ｈ−ＮＭＲと比較して、ホスホラン
環に由来するピーク４．４６ｐｐｍ（４Ｈ、ｍ、−ＯＣ
Ｈ2ＣＨ2 Ｏ−）の増加とリン原子に結合したメチレン鎖
（２Ｈ、ｍ、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＰ−）のシフト（３．７
２ｐｐｍ→４．２７ｐｐｍ）が観測された。31 Ｐ−ＮＭＲ（δ（ppm）、ＣＤＣｌ3、外部標準Ｈ3Ｐ
Ｏ4）：１８．４７（ｍ）
【００５１】
【化２０】
【００５２】実施例３−２ 実施例３−１で得られた濃縮液とアセトニトリル８０ｍ
ｌを５００ｍＬの密栓付き耐圧容器に移し替えた。この
耐圧容器にトリメチルアミン４．４ｇ（０．０７４ｍｏ
ｌ）を加えて密栓し、７０℃で２４時間かき混ぜた。反
応液から過剰のトリメチルアミンと溶媒５０ｍｌを留去
し冷却後、析出した結晶をドライボックス中で濾別し、
減圧乾燥し、白色ロウ状固体５．８ｇを得た。得られた
白色ロウ状固体のＮＭＲ分析、質量分析の結果を以下に
示す。更に、これらの結果から、得られた化合物は以下
の式（３２）で示される化合物であることがわかった。1 Ｈ−ＮＭＲ（δ(ppm)、ＣＤＣｌ3、内部標準ＴＭ
Ｓ）：０．８８（３Ｈ、ｔ、ＣＨ3 （ＣＨ2）6ＣＨ2ＣＨ
＝ＣＨＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−）、１．２６（２４Ｈ、
ｍ、ＣＨ3 （ＣＨ2）6 ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2 （ＣＨ2）6
ＣＨ2−）、１．５６（２Ｈ、ｍ、ＣＨ3（ＣＨ2）6ＣＨ
2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2（ＣＨ2）7 ＣＨ2 −）、２．００（４
Ｈ、ｍ、ＣＨ3（ＣＨ2）6 ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＣＨ2 （Ｃ
Ｈ2）7ＣＨ2−）、３．３８（９Ｈ、ｓ、−Ｎ（ＣＨ3）
3 ）、３．５９−３．６３（ｍ、−（ＯＣＨ2ＣＨ2）cＯ
−）、３．８１（ｍ）、３．９７（ｍ）、４．３０
（ｍ）（−ＯＣＨ 2 ＣＨ2 ＯＰＯＣＨ2ＣＨ2 Ｎ（Ｃ
Ｈ3）3）、５．３４（２Ｈ、ｍ、ＣＨ3（ＣＨ2） 6ＣＨ2
ＣＨ＝ＣＨＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−）31 Ｐ−ＮＭＲ（δ（ppm）、ＣＤＣｌ3、外部標準Ｈ3Ｐ
Ｏ4）：０．５０（ｍ） ＜質量分析＞ ｃ＝５…… Ｍｗ：６５３．８８ Ｍ＋１＝６５４が観測された。 ｃ＝４…… Ｍｗ：６０９．８２ Ｍ＋１＝６１０が観測された。 ｃ＝３…… Ｍｗ：５６５．７７ Ｍ＋１＝５６６が観測された。 ｃ＝２…… Ｍｗ：５２１．７２ Ｍ＋１＝５２２が観測された。 ｃ＝１…… Ｍｗ：４７７．６７ Ｍ＋１＝４７８が観測された。
ｌを５００ｍＬの密栓付き耐圧容器に移し替えた。この
耐圧容器にトリメチルアミン４．４ｇ（０．０７４ｍｏ
ｌ）を加えて密栓し、７０℃で２４時間かき混ぜた。反
応液から過剰のトリメチルアミンと溶媒５０ｍｌを留去
し冷却後、析出した結晶をドライボックス中で濾別し、
減圧乾燥し、白色ロウ状固体５．８ｇを得た。得られた
白色ロウ状固体のＮＭＲ分析、質量分析の結果を以下に
示す。更に、これらの結果から、得られた化合物は以下
の式（３２）で示される化合物であることがわかった。1 Ｈ−ＮＭＲ（δ(ppm)、ＣＤＣｌ3、内部標準ＴＭ
Ｓ）：０．８８（３Ｈ、ｔ、ＣＨ3 （ＣＨ2）6ＣＨ2ＣＨ
＝ＣＨＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−）、１．２６（２４Ｈ、
ｍ、ＣＨ3 （ＣＨ2）6 ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2 （ＣＨ2）6
ＣＨ2−）、１．５６（２Ｈ、ｍ、ＣＨ3（ＣＨ2）6ＣＨ
2ＣＨ＝ＣＨＣＨ2（ＣＨ2）7 ＣＨ2 −）、２．００（４
Ｈ、ｍ、ＣＨ3（ＣＨ2）6 ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＣＨ2 （Ｃ
Ｈ2）7ＣＨ2−）、３．３８（９Ｈ、ｓ、−Ｎ（ＣＨ3）
3 ）、３．５９−３．６３（ｍ、−（ＯＣＨ2ＣＨ2）cＯ
−）、３．８１（ｍ）、３．９７（ｍ）、４．３０
（ｍ）（−ＯＣＨ 2 ＣＨ2 ＯＰＯＣＨ2ＣＨ2 Ｎ（Ｃ
Ｈ3）3）、５．３４（２Ｈ、ｍ、ＣＨ3（ＣＨ2） 6ＣＨ2
ＣＨ＝ＣＨＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−）31 Ｐ−ＮＭＲ（δ（ppm）、ＣＤＣｌ3、外部標準Ｈ3Ｐ
Ｏ4）：０．５０（ｍ） ＜質量分析＞ ｃ＝５…… Ｍｗ：６５３．８８ Ｍ＋１＝６５４が観測された。 ｃ＝４…… Ｍｗ：６０９．８２ Ｍ＋１＝６１０が観測された。 ｃ＝３…… Ｍｗ：５６５．７７ Ｍ＋１＝５６６が観測された。 ｃ＝２…… Ｍｗ：５２１．７２ Ｍ＋１＝５２２が観測された。 ｃ＝１…… Ｍｗ：４７７．６７ Ｍ＋１＝４７８が観測された。
【００５３】
【化２１】
【００５４】実施例４ 実施例１−２で合成した式（２８）の化合物、実施例２
−２で合成した式（３０）の化合物、実施例３−２で合
成した式（３２）の化合物０．５ｇずつを、５００ｍｌ
のスリ付き三角フラスコ中の蒸留水１００ｍｌにそれぞ
れ溶解させた。その後、各三角フラスコを密栓し、手で
抱えて激しく撹拌した。この操作を行ったところ、式
（２８）、式（３０）、式（３２）の化合物のいずれの
溶液でも明かな泡立ちが観察された。これにより、本発
明化合物である式（２８）、式（３０）、式（３２）の
化合物は界面活性能を有しており、界面活性剤として利
用できることが示された。
−２で合成した式（３０）の化合物、実施例３−２で合
成した式（３２）の化合物０．５ｇずつを、５００ｍｌ
のスリ付き三角フラスコ中の蒸留水１００ｍｌにそれぞ
れ溶解させた。その後、各三角フラスコを密栓し、手で
抱えて激しく撹拌した。この操作を行ったところ、式
（２８）、式（３０）、式（３２）の化合物のいずれの
溶液でも明かな泡立ちが観察された。これにより、本発
明化合物である式（２８）、式（３０）、式（３２）の
化合物は界面活性能を有しており、界面活性剤として利
用できることが示された。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｆ 17/18 Ｂ０１Ｆ 17/18 Ｃ１１Ｄ 1/88 Ｃ１１Ｄ 1/88 Ｆターム(参考） 4C083 AC901 AC902 CC01 CC23 CC38 CC39 EE10 EE12 4D077 AA09 AC03 BA03 BA12 CA03 CA12 CA13 DC02X DC04X DC08Z DC19X DC42X DC67X DD08X DD09X DD10X DD32X DD33X DE02X DE04X DE07X DE17X DE32X 4H003 AD08 4H039 CA90 CD10 4H050 AA01 AA02 AA03 AB68 AB84 AC50 BA51 BD70 WA15 WA23
Claims (6)
- 【請求項１】式（１）で示されるホスホリルコリン誘導
体。 【化１】 （式中、Ｘは炭素数８〜２４の炭化水素基を示す。
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一若しくは異なる基であって、炭
素数１〜４のアルキル基示す。ＡＯは炭素数２〜４のア
ルキレンオキシ基を示し、ｍが２以上の場合には、各Ａ
Ｏは同一でも異なっていてもよく、これらはランダム状
若しくはブロック状に付加していてもよい。ｍは１〜５
０の整数、ｎは２〜４の整数を示す。） - 【請求項２】式（１）におけるＸが直鎖アルキル基であ
り、ＡＯがエチレンオキシ基であり、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3
がメチル基であり、ｎが２である請求項１に記載のホス
ホリルコリン誘導体。 - 【請求項３】式（２）で示される、請求項１に記載のホ
スホリルコリン誘導体の中間体。 【化２】 （式中、Ｘは炭素数８〜２４の炭化水素基を示す。ＡＯ
は炭素数２〜４のアルキレンオキシ基を示し、ｍが２以
上の場合には、各ＡＯは同一でも異なっていてもよく、
これらはランダム状若しくはブロック状に付加していて
もよい。ｍは１〜５０の整数、ｎは２〜４の整数を示
す。） - 【請求項４】式（３）で示される化合物と式（４）で示
される化合物とを、有機塩基の存在下で反応させること
を特徴とする請求項３に記載の中間体の製造方法。 【化３】 （式中、Ｘは炭素数８〜２４の炭化水素基を示す。ＡＯ
は炭素数２〜４のアルキレンオキシ基を示し、ｍが２以
上の場合には、各ＡＯは同一でも異なっていてもよく、
これらはランダム状若しくはブロック状に付加していて
もよい。ｍは１〜５０の整数を示す。） 【化４】 （式中、Ｚはハロゲン原子を示し、ｎは２〜４の整数を
示す。） - 【請求項５】請求項３に記載の中間体に、式（５）で示
される第３級アミンを反応させることを特徴とする請求
項１に記載のホスホリルコリン誘導体の製造方法。 【化５】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一若しくは異なる基であ
って、炭素数１〜４のアルキル基を示す。） - 【請求項６】請求項１または２記載のホスホリルコリン
誘導体を用いた界面活性剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000173966A JP2001354679A (ja) | 2000-06-09 | 2000-06-09 | ホスホリルコリン誘導体、中間体、製造方法及び用途 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000173966A JP2001354679A (ja) | 2000-06-09 | 2000-06-09 | ホスホリルコリン誘導体、中間体、製造方法及び用途 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001354679A true JP2001354679A (ja) | 2001-12-25 |
Family
ID=18676093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000173966A Pending JP2001354679A (ja) | 2000-06-09 | 2000-06-09 | ホスホリルコリン誘導体、中間体、製造方法及び用途 |
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|---|---|
| JP (1) | JP2001354679A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006199749A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Nof Corp | ホスホリルコリン基含有シロキサン化合物、その製造方法及び用途 |
| JP2010070467A (ja) * | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Miyoshi Oil & Fat Co Ltd | 環状リン酸化物 |
| JP2013001645A (ja) * | 2011-06-13 | 2013-01-07 | Nof Corp | ホスホリルコリン類似構造を有する化合物および化粧料 |
| JP2013001644A (ja) * | 2011-06-13 | 2013-01-07 | Nof Corp | ホスホリルコリン類似構造を有する化合物および化粧料 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56156293A (en) * | 1980-05-08 | 1981-12-02 | Takeda Chem Ind Ltd | Ethylene glycol derivative |
| JPS57139086A (en) * | 1981-02-20 | 1982-08-27 | Takeda Chem Ind Ltd | Ethylene glycol derivative |
| JPS57179192A (en) * | 1981-04-27 | 1982-11-04 | Takeda Chem Ind Ltd | Ethylene glycol derivative |
| JPS5810592A (ja) * | 1981-07-11 | 1983-01-21 | ベ−リンガ−・マンハイム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 燐脂質、その製造法及び該化合物を含有する制癌剤 |
| JPH10287687A (ja) * | 1997-02-13 | 1998-10-27 | Nof Corp | ホスホリルコリン基含有ジオール、製造方法、ポリウレタン及び用途 |
-
2000
- 2000-06-09 JP JP2000173966A patent/JP2001354679A/ja active Pending
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| JPH10287687A (ja) * | 1997-02-13 | 1998-10-27 | Nof Corp | ホスホリルコリン基含有ジオール、製造方法、ポリウレタン及び用途 |
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| JP2013001644A (ja) * | 2011-06-13 | 2013-01-07 | Nof Corp | ホスホリルコリン類似構造を有する化合物および化粧料 |
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