JP2001348392A - 不斉合成触媒用組成物を用いた不斉シアノシリル化物の製造法 - Google Patents
不斉合成触媒用組成物を用いた不斉シアノシリル化物の製造法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 不斉合成用触媒組成物を用いて反応時間を延
長させることなく不斉シアノシリル化物を製造する。 【解決手段】 従来の不斉合成用触媒組成物を用いて、
アルデヒドとトリメチルシリルシアニドにより不斉シア
ノシリル化反応を行う際、反応系内にプロトン源を添加
することにより、短時間で、高い単離収率、不斉収率で
不斉シアノシリル化物を得ることができる。
長させることなく不斉シアノシリル化物を製造する。 【解決手段】 従来の不斉合成用触媒組成物を用いて、
アルデヒドとトリメチルシリルシアニドにより不斉シア
ノシリル化反応を行う際、反応系内にプロトン源を添加
することにより、短時間で、高い単離収率、不斉収率で
不斉シアノシリル化物を得ることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は医薬中間体のみなら
ず不斉化合物を利用する分野全般に利用可能な不斉合成
用触媒組成物を用いた不斉シアノシリル化物の効率的な
製造法に関する。
ず不斉化合物を利用する分野全般に利用可能な不斉合成
用触媒組成物を用いた不斉シアノシリル化物の効率的な
製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明者らは、無水条件において、光学
活性ビナフトール類と塩化ジエチルアルミニウムとホス
フィンオキシド化合物を添加した不斉合成用触媒組成物
を調製し、これが不斉シアノシリル化反応の触媒として
有用であることを見出している。基質となるアルデヒド
の量を０．１９２ｍｍｏｌというごく少量用いた場合、
種々のアルデヒドから生成する不斉シアノシリル化物の
反応収率および不斉収率が良好であることを報告してい
る（J.Am.Chem.Soc.,1999,121,2641-2642）。しかしな
がら、この従来法を工業スケールに転用する場合、スケ
ールアップに伴い、反応速度が顕著に低下し、更には不
斉収率が低下するという問題点を有していた
活性ビナフトール類と塩化ジエチルアルミニウムとホス
フィンオキシド化合物を添加した不斉合成用触媒組成物
を調製し、これが不斉シアノシリル化反応の触媒として
有用であることを見出している。基質となるアルデヒド
の量を０．１９２ｍｍｏｌというごく少量用いた場合、
種々のアルデヒドから生成する不斉シアノシリル化物の
反応収率および不斉収率が良好であることを報告してい
る（J.Am.Chem.Soc.,1999,121,2641-2642）。しかしな
がら、この従来法を工業スケールに転用する場合、スケ
ールアップに伴い、反応速度が顕著に低下し、更には不
斉収率が低下するという問題点を有していた
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、光学活性ビ
ナフトール類と金属化合物とホスフィンオキシド化合物
を反応させて不斉合成用触媒組成物を調製し、この不斉
合成用触媒組成物存在下にアルデヒド及びトリメチルシ
リルシアニドを反応させて不斉シアノシリル化物を製造
する方法において、工業的規模にスケールアップした場
合でも、反応時間を延長させることなく、高い反応収率
および不斉収率で不斉シアノシリル化物を製造する方法
を提供することにある。
ナフトール類と金属化合物とホスフィンオキシド化合物
を反応させて不斉合成用触媒組成物を調製し、この不斉
合成用触媒組成物存在下にアルデヒド及びトリメチルシ
リルシアニドを反応させて不斉シアノシリル化物を製造
する方法において、工業的規模にスケールアップした場
合でも、反応時間を延長させることなく、高い反応収率
および不斉収率で不斉シアノシリル化物を製造する方法
を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、光学活性ビナフトール
類と金属化合物とホスフィンオキシド化合物を反応させ
て不斉合成用触媒組成物を調製し、この不斉合成用触媒
組成物、アルデヒド及びトリメチルシリルシアニドを含
む反応系内に、プロトン源を添加することにより、反応
時間を延長させることなく、不斉シアノシリル化物を満
足できる反応収率および不斉収率で得られることを見出
し、本発明を完成するに至った。
を解決すべく鋭意検討した結果、光学活性ビナフトール
類と金属化合物とホスフィンオキシド化合物を反応させ
て不斉合成用触媒組成物を調製し、この不斉合成用触媒
組成物、アルデヒド及びトリメチルシリルシアニドを含
む反応系内に、プロトン源を添加することにより、反応
時間を延長させることなく、不斉シアノシリル化物を満
足できる反応収率および不斉収率で得られることを見出
し、本発明を完成するに至った。
【０００５】即ち、本発明は、下記式(1)
【化８】 （式中、Ｒ1は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、アリール基、又はベンジル基を示し、二重結合
や三重結合を含んでいても構わない。）で表されるアル
デヒドを不斉合成用触媒組成物存在下、トリメチルシリ
ルシアニドと反応させて、下記式(2)
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、アリール基、又はベンジル基を示し、二重結合
や三重結合を含んでいても構わない。）で表されるアル
デヒドを不斉合成用触媒組成物存在下、トリメチルシリ
ルシアニドと反応させて、下記式(2)
【化９】 （式中、Ｒ1は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、アリール基、又はベンジル基を示し、二重結合
や三重結合を含んでいても構わない。）又は、下記式
(3)
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、アリール基、又はベンジル基を示し、二重結合
や三重結合を含んでいても構わない。）又は、下記式
(3)
【化１０】 （式中、Ｒ1は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、アリール基、又はベンジル基を示し、二重結合
や三重結合を含んでいても構わない。）で表される不斉
シアノシリル化物を製造する方法において、反応系内に
プロトン源を添加することを特徴とする不斉シアノシリ
ル化物を製造する方法に関するものである。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、アリール基、又はベンジル基を示し、二重結合
や三重結合を含んでいても構わない。）で表される不斉
シアノシリル化物を製造する方法において、反応系内に
プロトン源を添加することを特徴とする不斉シアノシリ
ル化物を製造する方法に関するものである。
【０００６】本発明の不斉シアノシリル化反応は、従来
の不斉シアノシリル化反応に対して反応系内にプロトン
源が添加されていることを特徴としているものである。
従来の不斉シアノシリル化反応は、先に記載した文献に
詳細な調製法が記載されているように、無水条件におい
て、光学活性ビナフトール類と塩化ジエチルアルミニウ
ムとホスフィンオキシド化合物を添加して生成した不斉
合成用触媒組成物を使用している。
の不斉シアノシリル化反応に対して反応系内にプロトン
源が添加されていることを特徴としているものである。
従来の不斉シアノシリル化反応は、先に記載した文献に
詳細な調製法が記載されているように、無水条件におい
て、光学活性ビナフトール類と塩化ジエチルアルミニウ
ムとホスフィンオキシド化合物を添加して生成した不斉
合成用触媒組成物を使用している。
【０００７】本発明の不斉合成用触媒組成物の構成成分
である光学活性ビナフトール類は、下記式(4)
である光学活性ビナフトール類は、下記式(4)
【化１１】 または式(5)
【化１２】 で示される。
【０００８】不斉合成用触媒組成物に添加される金属化
合物としては、下記式(6)
合物としては、下記式(6)
【化１３】 （式中、Ｍはアルミニウム原子、チタン原子、亜鉛原
子、希土類金属原子等を表し、Ｘは、ハロゲン原子、シ
アノ基等を表し、Ｙはアルキル基を表し、Ｚはアルコキ
シル基を表す。また、ａは１〜１０の整数を示し、ｂ、
ｃ、ｄは同時に０とならない０〜１０の整数を示す。）
で表されるものが使用される。
子、希土類金属原子等を表し、Ｘは、ハロゲン原子、シ
アノ基等を表し、Ｙはアルキル基を表し、Ｚはアルコキ
シル基を表す。また、ａは１〜１０の整数を示し、ｂ、
ｃ、ｄは同時に０とならない０〜１０の整数を示す。）
で表されるものが使用される。
【０００９】具体的には、Et2 AlCl、Et2 AlBr、 Et2 A
lI、Me3 Al、 Et2 AlOEt、EtAlCl2、Me2 AlCl、Et2 AlC
N、TiCl4 、Ti(O-i-Pr)4 、Ti(O-t-Bu)4 、Ti(O-i-Pr)
2 Cl 2 、 TiCl(O-i-Pr)3 、Ti(O-n-Bu)4 、Ti(OEt)4 、
La(O-i-Pr)3 、Yb(O-i-Pr)3、Zr(O-t-Bu)4 、Zr(O-i-P
r)4 、 Zr(O-n-Pr)4 、Zr(O-t-Bu)4 、Sc(Tf)3 、Yb(T
f)3 、ZnI2 等を挙げることができる。
lI、Me3 Al、 Et2 AlOEt、EtAlCl2、Me2 AlCl、Et2 AlC
N、TiCl4 、Ti(O-i-Pr)4 、Ti(O-t-Bu)4 、Ti(O-i-Pr)
2 Cl 2 、 TiCl(O-i-Pr)3 、Ti(O-n-Bu)4 、Ti(OEt)4 、
La(O-i-Pr)3 、Yb(O-i-Pr)3、Zr(O-t-Bu)4 、Zr(O-i-P
r)4 、 Zr(O-n-Pr)4 、Zr(O-t-Bu)4 、Sc(Tf)3 、Yb(T
f)3 、ZnI2 等を挙げることができる。
【００１０】本発明は、従来の不斉合成用触媒組成物存
在下、アルデヒドおよびトリメチルシリルシアニドを用
いた不斉シアノシリル化反応系内にプロトン源を添加さ
せるものである。従来の不斉シアノシリル化反応系内に
プロトン源を添加しない系では、アルデヒドが０．１９
２ｍｍｏｌの反応スケールでは不斉シアノシリル化反応
は満足する反応速度で進行するが、１ｍｍｏｌ以上に反
応スケールを上げると反応時間が極端に延長する。この
現象に対して、反応系内にプロトン源を添加することに
より、反応時間を延長させることなく、不斉シアノシリ
ル化物を満足できる反応収率および不斉収率で得られる
ことができる。
在下、アルデヒドおよびトリメチルシリルシアニドを用
いた不斉シアノシリル化反応系内にプロトン源を添加さ
せるものである。従来の不斉シアノシリル化反応系内に
プロトン源を添加しない系では、アルデヒドが０．１９
２ｍｍｏｌの反応スケールでは不斉シアノシリル化反応
は満足する反応速度で進行するが、１ｍｍｏｌ以上に反
応スケールを上げると反応時間が極端に延長する。この
現象に対して、反応系内にプロトン源を添加することに
より、反応時間を延長させることなく、不斉シアノシリ
ル化物を満足できる反応収率および不斉収率で得られる
ことができる。
【００１１】本発明において反応系内に添加するプロト
ン源としては、水、青酸、アルコール、ビナフトール類
を挙げることが出来る。好ましいものとして、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノール、又はフェノールが挙げられる。プロトン源を
反応系内に添加する方法としては、トリメチルシアニド
と混合して添加する方法が好ましい。また、本発明にお
いて用いられるプロトン源の添加量は、アルデヒドに対
し、０．０１ｍｏｌ％以上が好ましく、０．０１〜２０
ｍｏｌ％の範囲がさらに好ましい。
ン源としては、水、青酸、アルコール、ビナフトール類
を挙げることが出来る。好ましいものとして、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノール、又はフェノールが挙げられる。プロトン源を
反応系内に添加する方法としては、トリメチルシアニド
と混合して添加する方法が好ましい。また、本発明にお
いて用いられるプロトン源の添加量は、アルデヒドに対
し、０．０１ｍｏｌ％以上が好ましく、０．０１〜２０
ｍｏｌ％の範囲がさらに好ましい。
【００１２】本発明の不斉シアノシリル化物の製造法に
おいて使用する上記式(1)のアルデヒドとしては、ヘキ
サアルデヒド、ヘプタアルデヒドなどの炭素数１〜１０
のアルキル基を持つものが挙げられ、アルキル基中に二
重結合や三重結合を含んでいても、アルキル基が分岐し
ていてもよい。またフェニル基、チエニル基、ピロリル
基、フリル基、ピロリジル基等の芳香環を有するアルデ
ヒドでもよい。さらに、シクロヘキシルアルデヒド等の
脂環式アルデヒドを挙げることができる。
おいて使用する上記式(1)のアルデヒドとしては、ヘキ
サアルデヒド、ヘプタアルデヒドなどの炭素数１〜１０
のアルキル基を持つものが挙げられ、アルキル基中に二
重結合や三重結合を含んでいても、アルキル基が分岐し
ていてもよい。またフェニル基、チエニル基、ピロリル
基、フリル基、ピロリジル基等の芳香環を有するアルデ
ヒドでもよい。さらに、シクロヘキシルアルデヒド等の
脂環式アルデヒドを挙げることができる。
【００１３】また、上記式(1)のアルデヒドは置換基を
有していてもよく、その置換基としては塩素原子、臭素
原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基等の低級ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ニトロ基等、
またチエニル基、ピロリル基、フリル基、ピロリジル基
等の複素環基、フェニル基等の芳香族炭化水素基が挙げ
られる。
有していてもよく、その置換基としては塩素原子、臭素
原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基等の低級ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ニトロ基等、
またチエニル基、ピロリル基、フリル基、ピロリジル基
等の複素環基、フェニル基等の芳香族炭化水素基が挙げ
られる。
【００１４】本発明の不斉シアノシリル化反応の反応温
度は−１００℃〜５０℃の間が好ましい。特に−５０℃
〜−３０℃の範囲が反応収率、不斉収率の面から特に良
好である。
度は−１００℃〜５０℃の間が好ましい。特に−５０℃
〜−３０℃の範囲が反応収率、不斉収率の面から特に良
好である。
【００１５】本発明の不斉シアノシリル化反応は、一般
に溶媒中で実施されるが、不斉合成用触媒を変化させな
ければどのような溶媒を使用してもかまわない。具体的
には、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン
等のエーテル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、
１，１，１−トリクロロエタン及びモノクロロベンゼン
等のハロゲン系溶媒、トリフルオロベンゼン等のフッ素
系溶媒、ベンゼン、トルエン、ｎ−ヘキサン及びｎ−ヘ
プタン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル等
の脂肪酸エステル類、ジメチルスルホキシド、Ｎ， Ｎ
−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒を挙げることがで
きる。これらの溶媒は、単独もしくは２種類以上混ぜて
使用できる。
に溶媒中で実施されるが、不斉合成用触媒を変化させな
ければどのような溶媒を使用してもかまわない。具体的
には、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン
等のエーテル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、
１，１，１−トリクロロエタン及びモノクロロベンゼン
等のハロゲン系溶媒、トリフルオロベンゼン等のフッ素
系溶媒、ベンゼン、トルエン、ｎ−ヘキサン及びｎ−ヘ
プタン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル等
の脂肪酸エステル類、ジメチルスルホキシド、Ｎ， Ｎ
−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒を挙げることがで
きる。これらの溶媒は、単独もしくは２種類以上混ぜて
使用できる。
【００１６】本発明の不斉シアノシリル化反応は、不斉
合成用触媒組成物存在下、トリメチルシリルシアニドと
アルデヒドとを反応させる反応系内にプロトン源を添加
してシアノシリル化物を生成するものである。反応収率
および不斉収率は直接シアノシリル化物を単離すること
により求めることができるが、不斉シアノシリル化反応
後、過剰に使用するトリメチルシリルシアニドを失活さ
せる際、同時にシアノシリル化物から変換され、該シア
ノシリル化物に対応するシアノヒドリン化物として単離
して反応収率および不斉収率を求めることもできる。さ
らには該シアノヒドリン化物を酸無水物等と反応される
ことにより、該シアノヒドリン化物のヒドロキシル基を
より安定なエステル体等へ誘導した後、反応収率および
不斉収率を求めることができる。
合成用触媒組成物存在下、トリメチルシリルシアニドと
アルデヒドとを反応させる反応系内にプロトン源を添加
してシアノシリル化物を生成するものである。反応収率
および不斉収率は直接シアノシリル化物を単離すること
により求めることができるが、不斉シアノシリル化反応
後、過剰に使用するトリメチルシリルシアニドを失活さ
せる際、同時にシアノシリル化物から変換され、該シア
ノシリル化物に対応するシアノヒドリン化物として単離
して反応収率および不斉収率を求めることもできる。さ
らには該シアノヒドリン化物を酸無水物等と反応される
ことにより、該シアノヒドリン化物のヒドロキシル基を
より安定なエステル体等へ誘導した後、反応収率および
不斉収率を求めることができる。
【００１７】本発明の不斉シアノシリル化反応に用いる
トリメチルシリルシアニドは、青酸の生成を避けるため
反応終了後、失活させることが好ましい。トリメチルシ
リルシアニドを失活させる際に用いる試薬としては酸、
塩基、水、フッ素化物等が考えられる。これらの試薬の
使用により、本不斉シアノシリル化反応によって生成す
るシアノシリル化物も同時に対応するシアノヒドリン化
物へ変換される場合がある。該シアノシリル化物の安定
性を考慮すると一般に酢酸、塩酸、硫酸等の酸による失
活が好ましい。
トリメチルシリルシアニドは、青酸の生成を避けるため
反応終了後、失活させることが好ましい。トリメチルシ
リルシアニドを失活させる際に用いる試薬としては酸、
塩基、水、フッ素化物等が考えられる。これらの試薬の
使用により、本不斉シアノシリル化反応によって生成す
るシアノシリル化物も同時に対応するシアノヒドリン化
物へ変換される場合がある。該シアノシリル化物の安定
性を考慮すると一般に酢酸、塩酸、硫酸等の酸による失
活が好ましい。
【００１８】
【実施例】以下、不斉シアノシリル化物の製造法を不斉
合成用触媒組成物の調製、実施例および比較例を用いて
詳細に説明する。なお、本実施例および比較例は、本発
明をなんら限定するものではない。また、実施例および
比較例における不斉収率は、ＨＰＬＣ（カラム；ダイセ
ル化学工業(株)製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＯＤ、溶離液；
ヘキサン／ｉ−プロパノール）によって測定したもので
ある。
合成用触媒組成物の調製、実施例および比較例を用いて
詳細に説明する。なお、本実施例および比較例は、本発
明をなんら限定するものではない。また、実施例および
比較例における不斉収率は、ＨＰＬＣ（カラム；ダイセ
ル化学工業(株)製ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＯＤ、溶離液；
ヘキサン／ｉ−プロパノール）によって測定したもので
ある。
【００１９】（不斉合成用触媒組成物Ａの調製）５０℃
で６時間真空乾燥したトリブチルホスフィンオキシド
（基質アルデヒドに対して３６ｍｏｌ％）をアルゴン雰
囲気下において塩化メチレンに溶解して０℃に冷却した
後、該溶液に対し、市販されている塩化ジエチルアルミ
ニウム（基質アルデヒドに対して９．５ｍｏｌ％）のヘ
キサン溶液を滴下して調製混合溶液を得る。さらに該混
合溶液をアルゴン雰囲気下において０℃に冷却し、５０
℃で６時間真空乾燥した上記式(4) で表される光学活性
ビナフトール類（基質アルデヒドに対して９．０ｍｏｌ
％）の塩化メチレン溶液を滴下して１時間攪拌した後、
不斉合成用触媒組成物Ａの調製を行った。
で６時間真空乾燥したトリブチルホスフィンオキシド
（基質アルデヒドに対して３６ｍｏｌ％）をアルゴン雰
囲気下において塩化メチレンに溶解して０℃に冷却した
後、該溶液に対し、市販されている塩化ジエチルアルミ
ニウム（基質アルデヒドに対して９．５ｍｏｌ％）のヘ
キサン溶液を滴下して調製混合溶液を得る。さらに該混
合溶液をアルゴン雰囲気下において０℃に冷却し、５０
℃で６時間真空乾燥した上記式(4) で表される光学活性
ビナフトール類（基質アルデヒドに対して９．０ｍｏｌ
％）の塩化メチレン溶液を滴下して１時間攪拌した後、
不斉合成用触媒組成物Ａの調製を行った。
【００２０】（不斉合成用触媒組成物Ｂの調製）５０℃
で６時間真空乾燥したジフェニルメチルホスフィンオキ
シド（基質アルデヒドに対して３６ｍｏｌ％）をアルゴ
ン雰囲気下において塩化メチレンに溶解して０℃に冷却
した後、該溶液に対し、市販されている塩化ジエチルア
ルミニウム（基質アルデヒドに対して９．５ｍｏｌ％）
のヘキサン溶液を滴下して調製混合溶液を得た。さらに
該混合溶液をアルゴン雰囲気下において０℃に冷却し、
５０℃で６時間真空乾燥した上記式(4) で表される光学
活性ビナフトール類（基質アルデヒドに対して９．０ｍ
ｏｌ％）の塩化メチレン溶液を滴下して１時間攪拌した
後、不斉合成用触媒組成物Ａの調製を行った。
で６時間真空乾燥したジフェニルメチルホスフィンオキ
シド（基質アルデヒドに対して３６ｍｏｌ％）をアルゴ
ン雰囲気下において塩化メチレンに溶解して０℃に冷却
した後、該溶液に対し、市販されている塩化ジエチルア
ルミニウム（基質アルデヒドに対して９．５ｍｏｌ％）
のヘキサン溶液を滴下して調製混合溶液を得た。さらに
該混合溶液をアルゴン雰囲気下において０℃に冷却し、
５０℃で６時間真空乾燥した上記式(4) で表される光学
活性ビナフトール類（基質アルデヒドに対して９．０ｍ
ｏｌ％）の塩化メチレン溶液を滴下して１時間攪拌した
後、不斉合成用触媒組成物Ａの調製を行った。
【００２１】実施例１ 不斉合成用触媒組成物Ａを−４０℃で３０分間撹拌し、
さらに、同温度において、ヘプタアルデヒド０．１４８
ｍＬ（１．０６ｍｍｏｌ）を滴下し、メタノール４μＬ
（０．１０６ｍｍｏｌ）を混合したトリメチルシリルシ
アニド０．１７０ｍＬ（１．２７ｍｍｏｌ）を２４時間
かけて添加した後、−４０℃で撹拌しながら反応させ
た。６０時間後に−４０℃にて３Ｎ塩酸２ｍＬおよび酢
酸エチル２ｍＬを加えた後、室温にて1時間攪拌するこ
とにより反応を終了させると同時にトリメチルシリルオ
キシ基をヒドロキシル基に変換した。続いて、塩化メチ
レンを用いて得られた生成物の抽出操作を行ない、該有
機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させ、溶媒を減圧留去した後、フラッシュクロマトグラ
フィ（ＳｉＯ2、ヘキサン／酢酸エチル＝１００／１
５）で精製し、（Ｓ）―２−ヒドロキシオクタニトリル
を得た。得られた化合物の単離収率は９５％であった。
また得られた化合物を塩化メチレン中、塩化ベンゾイル
およびピリジンにてエステル体へと変換した後、不斉収
率を求めたところ、９７％ｅｅであった。
さらに、同温度において、ヘプタアルデヒド０．１４８
ｍＬ（１．０６ｍｍｏｌ）を滴下し、メタノール４μＬ
（０．１０６ｍｍｏｌ）を混合したトリメチルシリルシ
アニド０．１７０ｍＬ（１．２７ｍｍｏｌ）を２４時間
かけて添加した後、−４０℃で撹拌しながら反応させ
た。６０時間後に−４０℃にて３Ｎ塩酸２ｍＬおよび酢
酸エチル２ｍＬを加えた後、室温にて1時間攪拌するこ
とにより反応を終了させると同時にトリメチルシリルオ
キシ基をヒドロキシル基に変換した。続いて、塩化メチ
レンを用いて得られた生成物の抽出操作を行ない、該有
機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させ、溶媒を減圧留去した後、フラッシュクロマトグラ
フィ（ＳｉＯ2、ヘキサン／酢酸エチル＝１００／１
５）で精製し、（Ｓ）―２−ヒドロキシオクタニトリル
を得た。得られた化合物の単離収率は９５％であった。
また得られた化合物を塩化メチレン中、塩化ベンゾイル
およびピリジンにてエステル体へと変換した後、不斉収
率を求めたところ、９７％ｅｅであった。
【００２２】実施例２ 不斉合成用触媒組成物Ｂを−４０℃で３０分間撹拌し、
さらに、同温度において、ベンズアルデヒド０．９６６
ｍＬ（９．５０ｍｍｏｌ）を滴下し、メタノール１９μ
Ｌ（０．４７５ｍｍｏｌ）を混合したトリメチルシリル
シアニド１．５２ｍＬ（１１．４ｍｍｏｌ）を添加後、
−４０℃で撹拌しながら反応させた。９６時間後に−４
０℃にて３Ｎ塩酸１０ｍＬおよび酢酸エチル１０ｍＬを
加えた後、室温にて1時間攪拌することにより反応を終
了させさせると同時にトリメチルシリルオキシ基をヒド
ロキシル基に変換した。続いて、塩化メチレンを用いて
得られた生成物の抽出操作を行ない、該有機層を飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を
減圧留去した後、フラッシュクロマトグラフィ（ＳｉＯ
2、ヘキサン／酢酸エチル＝１００／１５）で精製し、
（Ｓ）―マンデロニトリルを得た。得られた化合物の単
離収率は９６％であった。また得られた化合物を塩化メ
チレン中、クロロ炭酸エチルおよびピリジンにてエステ
ル体へと変換した後、不斉収率を求めたところ、不斉収
率は９６％ｅｅであった。
さらに、同温度において、ベンズアルデヒド０．９６６
ｍＬ（９．５０ｍｍｏｌ）を滴下し、メタノール１９μ
Ｌ（０．４７５ｍｍｏｌ）を混合したトリメチルシリル
シアニド１．５２ｍＬ（１１．４ｍｍｏｌ）を添加後、
−４０℃で撹拌しながら反応させた。９６時間後に−４
０℃にて３Ｎ塩酸１０ｍＬおよび酢酸エチル１０ｍＬを
加えた後、室温にて1時間攪拌することにより反応を終
了させさせると同時にトリメチルシリルオキシ基をヒド
ロキシル基に変換した。続いて、塩化メチレンを用いて
得られた生成物の抽出操作を行ない、該有機層を飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を
減圧留去した後、フラッシュクロマトグラフィ（ＳｉＯ
2、ヘキサン／酢酸エチル＝１００／１５）で精製し、
（Ｓ）―マンデロニトリルを得た。得られた化合物の単
離収率は９６％であった。また得られた化合物を塩化メ
チレン中、クロロ炭酸エチルおよびピリジンにてエステ
ル体へと変換した後、不斉収率を求めたところ、不斉収
率は９６％ｅｅであった。
【００２３】比較例１ メタノールを添加しない以外は実施例２と同様にして得
られた（Ｓ）―マンデロニトリルの単離収率は４０％で
あった。また得られた化合物を塩化メチレン中、クロロ
炭酸エチルおよびピリジンにてエステル体へと変換した
後、不斉収率を求めたところ、不斉収率は８６％ｅｅで
あった。
られた（Ｓ）―マンデロニトリルの単離収率は４０％で
あった。また得られた化合物を塩化メチレン中、クロロ
炭酸エチルおよびピリジンにてエステル体へと変換した
後、不斉収率を求めたところ、不斉収率は８６％ｅｅで
あった。
【００２４】比較例２ メタノールを添加せず、反応時間を３２０時間とした以
外は実施例２と同様にして得られた（Ｓ）―マンデロニ
トリルの単離収率は９５％であった。また得られた化合
物を塩化メチレン中、クロロ炭酸エチルおよびピリジン
にてエステル体へと変換した後、不斉収率を求めたとこ
ろ、不斉収率は８６％ｅｅであった。
外は実施例２と同様にして得られた（Ｓ）―マンデロニ
トリルの単離収率は９５％であった。また得られた化合
物を塩化メチレン中、クロロ炭酸エチルおよびピリジン
にてエステル体へと変換した後、不斉収率を求めたとこ
ろ、不斉収率は８６％ｅｅであった。
【００２５】
【発明の効果】不斉合成反応系内にプロトン源を添加し
て不斉シアノシリル化反応を行う本発明の方法によれば
反応時間を延長することなく、高い単離収率、不斉収率
で不斉シアノシリル化物を得ることができる。
て不斉シアノシリル化反応を行う本発明の方法によれば
反応時間を延長することなく、高い単離収率、不斉収率
で不斉シアノシリル化物を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G069 AA06 AA08 BA27B BC16B BE26B BE39B CB57 DA02 FA01 FB05 4H039 CA92 CF30 4H049 VN01 VP01 VQ41 VR23 VR41 VS41 VT08 VT32 VT33 VT35 VT36 VT40 VT44 VT52 VU36 VW02
Claims (6)
- 【請求項１】 下記式(1) 【化１】 （式中、Ｒ1は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、アリール基、又はベンジル基を示し、二重結合
や三重結合を含んでいても構わない。）で表されるアル
デヒドを不斉合成用触媒組成物存在下、トリメチルシリ
ルシアニドと反応させて、下記式(2) 【化２】 （式中、Ｒ1は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、アリール基、又はベンジル基を示し、二重結合
や三重結合を含んでいても構わない。）または、下記式
(3) 【化３】 （式中、Ｒ1は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、アリール基、又はベンジル基を示し、二重結合
や三重結合を含んでいても構わない。）で表される不斉
シアノシリル化物を製造する方法において、反応系内に
プロトン源を添加することを特徴とする不斉シアノシリ
ル化物の製造法。 - 【請求項２】 不斉合成用触媒組成物が下記式(4) 【化４】 で表される光学活性ビナフトール類と金属化合物とを反
応させて得られる不斉合成用触媒組成物であり、不斉シ
アノシリル化物が下記式(2) 【化５】 （式中、Ｒ1は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、アリール基、又はベンジル基を示し、二重結合
や三重結合を含んでいても構わない。）で表される化合
物である請求項１記載の不斉シアノシリル化物の製造
法。 - 【請求項３】 不斉合成用触媒組成物が式(5) 【化６】 で表される光学活性ビナフトール類と金属化合物とを反
応させて得られる不斉合成用触媒組成物であり、不斉シ
アノシリル化物が下記式(3) 【化７】 （式中、Ｒ1は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、アリール基、又はベンジル基を示し、二重結合
や三重結合を含んでいても構わない。）で表される化合
物である請求項１記載の不斉シアノシリル化物の製造
法。 - 【請求項４】 反応系内に添加するプロトン源が、水、
青酸、アルコール又はビナフトール類である請求項１乃
至３いずれか１項記載の不斉シアノシリル化物の製造
法。 - 【請求項５】 反応系内に添加するプロトン源が、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノール、又はフェノールである請求項１乃至３
いずれか１項記載の不斉シアノシリル化物の製造法。 - 【請求項６】 反応系内に添加するプロトン源をトリメ
チルシアニドと混合して添加する請求項１乃至５いずれ
か１項記載の不斉シアノシリル化物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000167305A JP3844639B2 (ja) | 2000-06-05 | 2000-06-05 | 不斉合成触媒用組成物を用いた不斉シアノシリル化物の製造法 |
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| JP2000167305A JP3844639B2 (ja) | 2000-06-05 | 2000-06-05 | 不斉合成触媒用組成物を用いた不斉シアノシリル化物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001348392A true JP2001348392A (ja) | 2001-12-18 |
| JP3844639B2 JP3844639B2 (ja) | 2006-11-15 |
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| JP2000167305A Expired - Fee Related JP3844639B2 (ja) | 2000-06-05 | 2000-06-05 | 不斉合成触媒用組成物を用いた不斉シアノシリル化物の製造法 |
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002040573A1 (en) * | 2000-11-17 | 2002-05-23 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Solid-supported optically active binaphthyls and process for preparing asymmetric amino nitrile derivatives with the same |
| JP2006035125A (ja) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Japan Science & Technology Agency | 不斉触媒、光学活性アルコールの製造方法及びビナフトール誘導体 |
| JP2008264762A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-11-06 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 有機カルボニル化合物のシアノシリル化触媒 |
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| CN102309985A (zh) * | 2011-10-12 | 2012-01-11 | 大连理工大学 | 用于醛与三甲基氰硅烷的硅氰化反应的高活性催化剂 |
| CN106365962A (zh) * | 2015-07-23 | 2017-02-01 | 华东师范大学 | 1,3-二羟基-3,7-二甲基-6-辛烯-2-酮的合成方法 |
-
2000
- 2000-06-05 JP JP2000167305A patent/JP3844639B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| CN106365962B (zh) * | 2015-07-23 | 2019-04-26 | 华东师范大学 | 1,3-二羟基-3,7-二甲基-6-辛烯-2-酮的合成方法 |
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