JP2001242631A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は被露光体となる被露光基板を垂直姿
勢とした状態で露光処理を行なう露光装置に関し、処理
速度の向上を図ることを課題とする。 【解決手段】 水平姿勢で供給されるプリント基板１１
を垂直姿勢となるよう姿勢変換させる受取り側吸着アー
ムと、プリント基板１１を姿勢変換される姿勢変換位置
(P1)から、露光処理を行なう露光位置(P2,P4)、露光処
理が終了したプリント基板１１を搬出する搬出位置(P5)
にプリント基板１１を順次搬送する搬送機構２０Ａとを
備えた露光装置において、露光ランプ３１Ａ，３１Ｂの
光軸(LL1,LL2)がプリント基板１１の搬送方向（Ｘ１方
向）に対して直交するよう露光ランプ３１Ａ，３１Ｂを
配置し、かつプリント基板１１の搬送過程において、プ
リント基板１１の露光処理面が前記光軸(LL1,LL2)に対
して直角状態を維持しつつ搬送されるよう構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は露光装置に係り、特
に被露光体となる被露光基板を垂直姿勢とした状態で露
光処理を行なう露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、プリント配線基板に配設パター
ンを形成する場合、プリント基板（基板材）に予め形成
された導体箔にエッチングレジスト膜（フォトレジスト
膜）を配設し、このエッチングレジスト膜を所要のパタ
ーンで耐エッチング処理した後、導体箔をエッチングす
ることで所要の配線パターンを形成する方法が採られて
いる。この方法において、エッチングレジスト膜に対す
る耐エッチング処理は、必要な配線パターンと同じパタ
ーンの露光パターンが形成された露光マスクをエッチン
グレジスト膜と対向するよう配置し、光源から光をこの
露光マスク通してエッチングレジスト膜に照射し露光す
ることで行なわれる。

【０００３】この種の露光マスクを用いて露光を行なう
露光装置は、装置に供給されたプリント基板を露光位
置，排出位置に順次搬送する搬送機構と、露光位置でエ
ッチングレジスト膜に対し露光処理を行なう露光手段等
を備えている。また、プリント基板の表裏両面に配線パ
ターンを有する両面プリント基板に対応した露光装置も
提供されており、この種の露光装置は表面用の光源及び
露光マスクと裏面用の光源及び露光マスクを有してお
り、表面側露光位置においてプリント基板の表面露光を
行ない、続いてプリント基板を裏面露光位置に搬送して
裏面露光を行なう構成とされている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来、この種の露光装
置は、プリント基板及び露光マスクを水平な姿勢で扱う
ものが一般的であったため、プリント基板や露光マスク
にはどうしても塵埃が付着し、この塵埃が露光用の光を
遮って露光不良を招いてしまうという問題があった。特
に、要求される露光精度のレベルが高い場合は、露光用
の光として平行光を用いることが絶対的な条件とされる
ため、塵埃の付着は露光不良に直結する重大な問題にな
る。また、露光マスクが常時水平な姿勢で保持された構
成では、経時的に自重による所謂自然撓みが必然的に発
生し、露光マスクと被露光板との接触に隙間ができてし
まうという問題もある。

【０００５】更に、従来のプリント基板を水平方向に搬
送する露光装置では、表裏両面に露光処理を行なおうと
した場合、光源及び露光マスクをプリント基板の搬送位
置を挟んで上部と下部に配設する必要があり、露光装置
の高さが高くなってしまうと共に、メンテナンス性が悪
化してしまうという問題点があった。

【０００６】また、プリント基板の姿勢を垂直状態とし
て搬送を行なうことにより上記の問題を解決しようとし
た露光装置も提案されているが、従来のこの種の露光装
置は装置内におけるプリント基板の搬送経路が複雑で、
処理スピードが低下してしまうという問題点があった。

【０００７】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり装置を大型化しないで高精度、高スピードで露光処
理を行ないうる露光装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴と
するものである。

【０００９】請求項１記載の発明は、光源からの光を所
定の露光パターンが形成された露光マスクを通して被露
光基板の露光処理面に露光する露光装置であって、水平
姿勢で供給される前記被露光基板を垂直姿勢となるよう
姿勢変換させる姿勢変換機構と、前記被露光基板を前記
姿勢変換される姿勢変換位置から、前記被露光基板に露
光処理を行なう露光位置、露光処理が終了した前記被露
光基板を搬出する搬出位置に前記被露光基板を順次搬送
する搬送機構とを備え、前記光源の光軸が前記被露光基
板の搬送方向に対して直交するよう、前記光源を前記被
露光基板の搬送経路の側部位置に配置し、かつ、前記被
露光基板の搬送過程において、前記露光処理面が前記光
軸に対して直角状態を維持しつつ搬送されるよう前記搬
送機構を構成したことを特徴とするものである。

【００１０】本発明に係る露光装置によれば、姿勢変換
機構により垂直姿勢とされた被露光基板は、この姿勢変
換位置から搬送機構により露光位置、搬出位置に順次搬
送される。このため、被露光基板及び露光マスクに塵埃
が付着することを防止でき、よって高精度の露光処理を
行なうことが可能となる。また、光源はその光軸が被露
光基板の搬送方向に対して直交するよう配置され、かつ
搬送機構は搬送過程において被露光基板の露光処理面が
光軸に対して直角状態を維持しつつ搬送するため、装置
内における被露光基板の搬送距離を短くすることができ
る。これにより、搬送機構による被露光基板の搬送時間
は短縮され、よって露光処理の高速化を図ることができ
る。更に、光源は被露光基板の搬送経路の側部位置に配
置されているため、装置の低背化を図ることができる。

【００１１】また、請求項２記載の発明は、請求項１記
載の露光装置において、前記搬送機構は、前記被露光基
板を着脱可能に保持する複数の保持アームを有し、該複
数の保持アーム間で前記被露光基板を受け渡しつつ、前
記被露光基板を搬送する構成としたことを特徴とするも
のである。

【００１２】本発明によれば、ひとつの保持アームで搬
送処理を行なう構成に比べ、複数の保持アームを個別に
動作させることができるため、搬送効率の向上を図るこ
とができる。例えば、一の保持アームが被露光基板を露
光位置から排出位置に搬送している間に、他の保持アー
ムが姿勢変換位置から露光位置に被露光基板を搬送する
ことが可能となり、搬送処理の効率化及び露光処理全体
の高速化を図ることができる。

【００１３】また、請求項３記載の発明は、請求項１ま
たは２記載の露光装置において、前記搬送機構は、前記
露光処理面の中心位置の移動軌跡が一直線状となるよう
前記被露光基板を搬送する構成とされていることを特徴
とするものである。

【００１４】本発明によれば、露光処理面の中心位置の
移動軌跡が一直線状であるため、装置内における被露光
基板の搬送距離を最短化することができる。よって、搬
送機構による被露光基板の搬送時間を短くすることがで
き、露光処理の高速化を図ることができる。

【００１５】また、請求項４記載の発明は、請求項２ま
たは３記載の露光装置において、前記保持アームをスラ
イド移動するよう構成し、該スライド移動に伴い前記被
露光基板が搬送されるよう構成したことを特徴とするも
のである。

【００１６】本発明によれば、保持アームはスライド移
動し、上下方向の移動を含まないため、搬送機構による
被露光基板の搬送時間を短縮することができる。また、
被露光基板の搬送に必要となる装置内における搬送空間
を小さくすることができるため、露光装置の小型化を図
ることができる。

【００１７】また、請求項５記載の発明は、請求項２記
載の露光装置において、前記保持アームを回動するよう
構成し、該回動に伴い前記被露光基板が搬送されるよう
構成したことを特徴とするものである。

【００１８】本発明によれば、保持アームをスライド移
動する構成に比べて移動機構の簡単化を図ることができ
る。

【００１９】また、請求項６記載の発明は、請求項２乃
至５記載の露光装置において、前記保持アームは前記被
露光基板を吸引吸着する吸引部と、前記被露光基板の姿
勢保持を行なう保持部とを設けてなることを特徴とする
ものである。

【００２０】本発明によれば、被露光基板は保持部に吸
引されることにより保持アームに保持されるが、この際
に保持部による保持位置とは異なる位置において保持部
は被露光基板を保持し、被露光基板の姿勢保持を行な
う。よって、保持時において被露光基板に反りや撓みが
発生することを抑制でき、高精度の露光処理を行なうこ
とが可能となる。

【００２１】更に、請求項７記載の発明は、請求項２乃
至６記載の露光装置において、前記保持アームは、前記
被露光基板の受け渡しを行ないうる範囲において前記光
源の光軸方向に移動する構成とされていることを特徴と
するものである。

【００２２】本発明によれば、被露光基板の受け渡しを
行ないうる範囲において、保持アームが光源の光軸方向
に移動するよう構成されているため、一の保持アームか
ら他の保持アームへ被露光基板を受け渡す処理を円滑に
行なうことができる。また、保持アームは光源の光軸方
向に移動する構成であるため、被露光基板が光軸に対し
直角状態を維持したままで受け渡し処理を行なうことが
できる。このため、被露光基板の姿勢変換を行なう必要
がないため、受け渡しに要する時間の短縮を図ることが
でき処理の高速化を図ることができる。また、受け渡し
に要する装置内の空間を小さくすることができるため、
装置の小型化を図ることができる。

【００２３】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面と共に説明する。

【００２４】図１から図１１は本発明の第１実施例であ
る露光装置１Ａを示している。図１〜図３は露光装置１
Ａの全体構成を示す図であり、図４〜図８はマスクホル
ダ２９Ａ、２９Ｂ及び吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂを説明
するための図であり、図９〜図１１は搬送装置２０Ａの
動作を説明するための図である。尚、本実施例で説明す
る露光装置１Ａは、プリント基板１１を被露光基板とす
るものであり、またプリント基板１１の両面に対して露
光処理を行なうよう構成されている。

【００２５】露光装置１Ａは、図１及び図２に示すよう
に、大略するとハウジング３、メインフレーム１０、受
入れ部１６、第１の露光部１７、第２の露光部１８、排
出部１９、及び搬送機構２０Ａ等により構成されてい
る。この各構成要素の内、受入れ部１６，第１の露光部
１７，第２の露光部１８，及び排出部１９はそれぞれユ
ニット化した構成とされている。

【００２６】また、受入れ部１６と排出部１９、及び第
１の露光部１７と第２の露光部１８は略同一構成とされ
ている。即ち、受入れ部１６と排出部１９は、図中矢印
Ｘ１，Ｘ２方向に左右対称な構成とされており、また第
１及び第２の露光部１７，１８は同一構成とされてお
り、図中矢印Ｙ１，Ｙ２方向に配設位置が逆な構成とさ
れている。このため、部品共通化を図ることができ、装
置コストの低減を図ることができると共に、メンテナン
ス性の向上を図ることができる。

【００２７】尚、図１においては、受入れ部１６、第１
の露光部１７、第２の露光部１８、排出部１９のそれぞ
れにプリント基板１１が位置するよう図示しているが、
実際には後述する搬送動作に従った位置に位置すること
になる。

【００２８】以下、上記した露光装置１Ａの各構成要素
の詳細について説明する。

【００２９】ハウジング３の図中Ｘ２方向端部にはプリ
ント基板１１を装置内に搬入するための基板搬入口５が
形成されており、またハウジング３の図中Ｘ１方向端部
にはプリント基板１１を装置外に搬出するための基板搬
出口７が形成されている。基板搬入口５にはプリント基
板１１を供給する供給コンベア９が接続されており、ま
た基板搬出口７にはプリント基板１１を排出する排出コ
ンベア１３が接続されている。

【００３０】プリント基板１１は、その表裏両面に紫外
線硬化型レジスト膜が形成された状態で供給コンベア９
により露光装置１Ａに搬入され、露光装置１Ａ内におい
て後述するようにその表裏両面に露光処理が行なわれ、
露光処理されたプリント基板１１は基板搬出口７から搬
出コンベア１３に乗って次の工程、例えば、現像工程へ
搬送されて行く。

【００３１】受入れ部１７は、受取りコンベア２１、受
取りベース２２、及び受取り側吸着アーム２３等により
構成されている。受取りベース２２は、プリント基板１
１よりも大きな面積を有している。プリント基板１１
は、供給コンベア９により水平姿勢の状態でこの受取り
コンベア２１上に搬入される。ここで、プリント基板１
１の水平姿勢とは、プリント基板面が図中矢印Ｘ１、Ｘ
２、Ｙ１、Ｙ２方向に延在する面と平行となる姿勢をい
う。具体的には、プリント基板１１が図３に破線で示す
姿勢にある状態をいう。

【００３２】受取りベース２２には、受取りコンベア２
１、受取り側吸着アーム２３、及び図示しないプリアラ
イメント用センサが配設されている。本実施例では、受
取りコンベア２１は４個設けられており、それぞれの受
取りコンベア２１は独立して駆動できる構成とされてい
る。

【００３３】プリント基板１１は、供給コンベア９によ
り受取りコンベア２１上に搬入されるが、この搬送状態
ではプリント基板１１の搬送位置が所定搬送位置から大
きくずれている可能性がある。受取りベース２２に配設
されたプリアライメント用センサは、搬送されたプリン
ト基板１１のエッジ検出時を行なうことによりプリント
基板１１のずれ量を検出し、このずれ量が所定値以上で
ある場合には、前記した４個の受取りコンベア２１を選
択的に駆動してプリント基板１１のプリアライメント処
理を行なう。

【００３４】但し、このプリアライメント処理は、高精
度に行なう必要はなく、後述するプリント基板１１と露
光マスク２７Ａ，２７Ｂとを位置決めする本アライメン
ト処理が実施可能となる程度の精度で足りる。

【００３５】一方、受取り側吸着アーム２３は略Ｔ字状
の平面形状を有しており、図示しない駆動機構により、
受取りベース２２に対して図３に矢印Ｆ１，Ｆ２で示す
方向に回動可能な構成とされている。この受取り側吸着
アーム２３は、プリント基板１１が受取りベース２２上
に水平姿勢で搬送された状態において、プリント基板１
１の下面と対向するよう構成されている。また、受取り
側吸着アーム２３のプリント基板１１の下面と対向する
位置には、複数の吸着口２４が配設されている。この吸
着口２４は吸引装置に接続されており、この吸引装置が
駆動することにより、受取り側吸着アーム２３はプリン
ト基板１１を吸着する構成とされている。

【００３６】上記構成とされた受取り側吸着アーム２３
は、プリアライメント処理が終了した後、吸着口２４に
よりプリント基板１１を吸着固定し、この固定状態を維
持しつつ回動し、プリント基板１１を水平姿勢から垂直
姿勢となるよう姿勢変換させる。即ち、この受取り側吸
着アーム２３は、受入れ部１６に水平姿勢で供給される
プリント基板１１を垂直姿勢となるよう姿勢変換させる
姿勢変換機構として機能する。

【００３７】また、プリント基板１１は垂直姿勢となっ
た状態において、その被露光面が後述する第１及び第２
の露光部１７，１８に設けられた露光ランプ３１Ａ，３
１Ｂ（光源）の光軸ＬＬ１，ＬＬ２に対して直交するよ
う構成されている。また、垂直姿勢とされたプリント基
板１１は、後述する搬送機構２０Ａにより、垂直姿勢を
維持しつつ図中矢印Ｘ１方向に露光装置１Ａ内を搬送さ
れ、その過程において第１及び第２の露光部１７，１８
により露光処理が行なわれる。

【００３８】続いて、第１及び第２の露光部１７，１８
について説明する。尚、前記したように、第１及び第２
の露光部１７，１８は同一構成とされており、図中矢印
Ｙ１，Ｙ２方向に配設位置が逆な構成とされている。こ
のため、第１及び第２の露光部１７，１８の説明は、一
括的に行なうものとする。

【００３９】第１及び第２の露光部１７，１８は、大略
すると露光ランプ３１Ａ，３１Ｂ、マスクホルダ２９、
２９Ｂ、吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂ等により構成されて
いる。この第１及び第２の露光部１７，１８は、プリン
ト基板１１に対する露光処理を行なう。具体的には、第
１の露光部１７はプリント基板１１の表面に対して露光
処理を行ない、第２の露光部１７，１８はプリント基板
１１の裏面に対して露光処理を行なう。

【００４０】露光ランプ３１Ａ，３１Ｂは例えば水銀シ
ョートアークランプを用いることができ、搬送されてく
るプリント基板１１と対向する位置に配設されている。
具体的には、露光ランプ３１Ａ，３１Ｂは、その光軸Ｌ
Ｌ１、ＬＬ２がプリント基板１１の搬送方向に対して直
交するよう、プリント基板１１の搬送経路の側部位置に
配置されている。よって、プリント基板１１が所定露光
位置（図２にＰ２、Ｐ４で示す位置）に搬送された状態
において、露光ランプ３１Ａ，３１Ｂの光軸ＬＬ１、Ｌ
Ｌ２とプリント基板１１の露光面とがなす角度θは直角
（θ＝９０°）となる。

【００４１】また、露光ランプ３１Ａ，３１Ｂには、固
定反射鏡３２Ａ，３２Ｂが配設されている。露光ランプ
３１Ａ，３１Ｂから出射した光は、この固定反射鏡３２
Ａ，３２Ｂで反射され、略平行光束となってマスクホル
ダ２９，２９Ｂ、及び吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂの配設
位置に向け照射される。

【００４２】次に、マスクホルダ２９Ａ，２９Ｂ及び吸
着ホルダ３０Ａ，３０Ｂの詳細について、図４〜図８を
用いて説明する。尚、前記したように第１及び第２の露
光部１７，１８は同一構成とされており、よってマスク
ホルダ２９Ａとマスクホルダ２９Ｂ及び吸着ホルダ３０
Ａと吸着ホルダ３０Ｂも同一構成である。このため、以
下の説明ではマスクホルダ２９Ａ，２９Ｂ及び吸着ホル
ダ３０Ａ，３０Ｂをそれぞれ一括的に説明するものとす
る。

【００４３】マスクホルダ２９Ａ，２９Ｂは露光マスク
２９Ａ、２９Ｂを装着するものであり、また吸着ホルダ
３０Ａ，３０Ｂは露光位置（Ｐ１，Ｐ２）に搬送されて
きたプリント基板１１を吸着することにより保持するも
のである。プリント基板１１は、マスクホルダ２９Ａ，
２９Ｂと吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂとの間に挟まれた状
態で露光処理が行なわれる。

【００４４】マスクホルダ２９Ａ，２９Ｂは、カメラ３
３、枠状フレーム３５，ガラス板３７、位置決めピン３
８，３９、アライメント機構，及び移動機構（アライメ
ント機構及び移動機構は図示せず）等により構成されて
いる。

【００４５】カメラ３３は固体撮像素子を備えた所謂Ｃ
ＣＤカメラであり、枠状フレーム３５の四隅位置にそれ
ぞれ設けられている。このカメラ３３は、吸着ホルダ３
０Ａ，３０Ｂに保持されたプリント基板１１のエッジ検
出を行なうよう構成されており、これによりマスクホル
ダ２９Ａ，２９Ｂのプリント基板１１に対する相対的な
位置検出を行なえるよう構成されている。また、露光装
置１Ａで露光処理されるプリント基板１１の大きさは一
定ではないため、露光装置１Ａで露光処理されるプリン
ト基板１１の最大外形位置（図８に矢印Ｅ_ＭＡＸで示
す）と最小外形位置（図８に矢印Ｅ_ＭＩＮで示す）との
間を図７に矢印Ｄ示す方向に移動可能な構成とされてい
る。

【００４６】枠状フレーム３５は、例えばアルミニウム
よりなる枠状体である。よって、枠状フレーム３５の中
央位置には広く開口した開口部３６が形成されている。
この枠状フレーム３５の吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂと対
向する面にはガラス板３７が配設されており、よって上
記した開口部３６はこのガラス板３７により塞がれた構
成とされている。

【００４７】また、枠状フレーム３５の上部には一対の
位置決めピン３８，３９が設けられており、この各位置
決めピン３８，３９は駆動機構４０により図中矢印Ｃ方
向に進退可能な構成されている。この一対の位置決めピ
ン３８，３９は、それぞれ形状が異なるよう構成されて
おり、例えば位置決めピン３８の断面形状が円形である
のに対し、位置決めピン３９の断面形状は矩形状とされ
ている。

【００４８】ガラス板３７には、各位置決めピン３８，
３９に対応した孔が形成されている。このため、各位置
決めピン３８，３９は、図５に拡大して示すように、こ
の孔を挿通して矢印Ｃ方向に移動できるよう構成されて
いる。また、ガラス板３７には、吸引溝４１が形成され
ている。この吸引溝４１は、図７に示すように、位置決
めピン３８，３９の配設位置を除きガラス板３７の外周
に沿って形成されている。また、この吸引溝４１は図示
しない吸引装置に接続されている。

【００４９】露光マスク２７Ａ，２７Ｂは、プリント基
板１１に形成しようとする配線パターンと同じパターン
の露光パターンが形成されたフィルム状部材である。具
体的には、露光マスク２７Ａ（表面露光マスク）にはプ
リント基板１１の表面に形成しようとする配線パターン
と同じパターンの露光パターンが形成されており、露光
マスク２７Ｂ（裏面露光マスク）にはプリント基板１１
の裏面に形成しようとする配線パターンと同じパターン
の露光パターンが形成されている。

【００５０】この露光マスク２７Ａ，２７Ｂは、上部に
一対の位置決め孔が形成されており、この位置決め孔は
前記した位置決めピン８３，３９と対応するよう構成さ
れている。そして、露光マスク２７Ａ，２７Ｂは、位置
決めピン８３，３９に位置決め孔が挿通されることによ
り係止され、かつ吸引溝４１に吸引されることによりマ
スクホルダ２９Ａ，２９Ｂに装着され保持される。

【００５１】この際、上記のように一対の位置決めピン
８３，３９はそれぞれ形状が異なるよう構成されてお
り、これに伴い露光マスク２７Ａ，２７Ｂに形成された
位置決め孔の形状も異なった形状とされている。このた
め、露光マスク２７Ａ，２７Ｂをマスクホルダ２９Ａ，
２９Ｂに装着する際、露光マスク２７Ａ，２７Ｂが表裏
逆に装着されることを防止することができる。

【００５２】また、マスクホルダ２９Ａ，２９Ｂには、
アライメント機構が設けられている。このアライメント
機構により枠状フレーム３５は、図中矢印Ｘ１，Ｘ２方
向、及び図中矢印Ｚ１，Ｚ２方向に若干量にわたり移動
可能な構成となっている。従って、プリント基板１１と
露光マスク２７Ａ，２７Ｂとの間にずれがあった場合、
このずれをカメラ３３で検出し、この検出結果に基づき
アライメント機構により露光マスク２７Ａ，２７Ｂ（枠
状フレーム３５）を変位させることにより、露光マスク
２７Ａ，２７Ｂとプリント基板１１との位置決めを高精
度に行なうことができる。これにより、精度の高い露光
処理を行なうことが可能となる。

【００５３】更に、マスクホルダ２９Ａ，２９Ｂは、移
動機構により図中矢印Ｙ１，Ｙ２方向に移動可能な構成
とされている。後述する搬送機構２０Ａによりプリント
基板１１が各露光位置Ｐ２，Ｐ４に搬送される際、マス
クホルダ２９Ａ，２９Ｂは、吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂ
から離間した退避位置に移動するよう構成されている。
そして、プリント基板１１が吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂ
に吸着された後、マスクホルダ２９Ａ，２９Ｂは吸着ホ
ルダ３０Ａ，３０Ｂに近接するよう移動し、これにより
プリント基板１１はマスクホルダ２９Ａ，２９Ｂと吸着
ホルダ３０Ａ，３０Ｂとの間に挟まれた状態となる。そ
して、この状態において露光処理が実施される。

【００５４】次に、吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂについて
説明する。吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂは、多孔フレーム
４５、リッド４６、吸引ノズル４７、バックライト５
１、基板押圧部材５２、及び多孔プレート５５等により
構成されている。

【００５５】多孔フレーム４５は例えばアルミニウムよ
りなり、マスクホルダ２９Ａ，２９Ｂと対向する面には
多数の吸引孔４９が形成されている。この多孔フレーム
４５の裏側には凹部５９が形成されており、リッド４６
はこの凹部５９を覆うように配設されている。このよう
に多孔フレーム４５にリッド４６を配設することによ
り、吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂの内部には空間部４８が
形成される。

【００５６】リッド４６の略中央位置には、吸引ノズル
４７が取り付けられている。この吸引ノズル４７は図示
しない吸引装置に接続されており、よって吸引装置が駆
動することにより吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂの内部に形
成された空間部４８は負圧となる。これにより、各吸引
孔４９から吸引が行なわれる。

【００５７】また、リッド４６の四隅位置近傍には、光
透過板５０が配設されている。また、この光透過板５０
と対向する位置には、発光するバックライト５１が配設
されている。このバックライト５１から発せられた光
は、光透過板５０，空間部４８，及び吸引孔４９を通過
し、吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂのマスクホルダ２９Ａ，
２９Ｂと対向する側まで到るよう構成されている。

【００５８】基板押圧部材５２は、多孔フレーム４５の
外周に沿って環状に形成されている。この基板押圧部材
５２は、図６に拡大して示すように、基部５３及びゴム
突起５４により構成されている。基部５３は多孔フレー
ム４５に嵌着されており、これにより基板押圧部材５２
は多孔フレーム４５に固定される。また、基部５３の所
定位置には、ブロー配管６０が接続されている。このブ
ロー配管６０は、図示しないコンプレッサーに接続され
ており、高圧エアーがブローされる構成となっている。

【００５９】また、ゴム突起５４は基板押圧部材５２に
固定されており、その先端部には凹凸部５４ａが形成さ
れている。このゴム突起５４はブロー配管６０から高圧
エアーがブローされることにより、多孔フレーム４５に
対して突出する構成とされている。

【００６０】よって、前記のように露光位置Ｐ２，Ｐ４
に搬送されたプリント基板１１をマスクホルダ２９Ａ，
２９Ｂと吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂとの間に挟持した
際、このゴム突起５４を突出させることによりプリント
基板１１をマスクホルダ２９Ａ，２９Ｂと吸着ホルダ３
０Ａ，３０Ｂとの間に確実に保持することができる。こ
の際、前記のようにゴム突起５４の先端部には凹凸部５
４ａが形成されているため、突出したゴム突起５４は確
実にプリント基板１１に当接し（複数の凸部のいずれか
は必ずプリント基板１１に当接する）、よってプリント
基板１１を確実に保持することができる。また、このゴ
ム突起５４は、クッション材としての機能も奏する。

【００６１】多孔プレート５５は、吸着ホルダ３０Ａ，
３０Ｂのマスクホルダ２９Ａ，２９Ｂと対向する面に固
定されている。この多孔プレート５５は、例えばチタン
合金よりなる金属板であり、多数の小孔及び長孔５８が
形成されている。よって、前記しように吸引装置が駆動
し吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂの内部に形成された空間部
４８が負圧となると、各吸引孔４９から吸引が行なわ
れ、これに伴い多孔プレート５５に形成された小孔から
も吸引処理が行なわれる。この吸引力により、プリント
基板１１は吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂに保持される。

【００６２】また、小孔の形成領域は、図５に示すよう
に、多孔プレート５５の外周近傍に形成された傾斜孔形
成部５６と、多孔プレート５５の中央近傍に形成された
垂直孔形成部５７とに画成される。傾斜孔形成部５６に
形成された小孔は、放射状となるよう傾斜した孔形状と
されている。これに対して垂直孔形成部５７に形成され
た小孔は、多孔プレート５５の面方向に対して垂直とな
るよう形成されている。

【００６３】上記構成とすることにより、吸着ホルダ３
０Ａ，３０Ｂにプリント基板１１が吸着された際、傾斜
孔形成部５６ではプリント基板１１は外側に向け引っ張
られるように吸引され、また垂直孔形成部５７ではプリ
ント基板１１は多孔プレート５５に向け垂直方向に吸引
される。これにより、例えば薄いプリント基板１１を吸
着した場合においても、プリント基板１１に撓みや曲が
りが発生することを防止でき、高精度の露光処理を行な
うことが可能となる。

【００６４】また、多孔プレート５５には、図８に示す
ように４本の長孔５８が形成されている。この長孔５８
の延在方向は、前記したカメラ３３の移動方向（Ｄ方
向）となるよう構成されている。よって、カメラ３３が
移動したとしても、バックライト５１から発せられた光
は長孔５８を介して確実にカメラ３３に照射される。

【００６５】前記したように、カメラ３３は吸着ホルダ
３０Ａ，３０Ｂに吸着されたプリント基板１１のエッジ
（四隅位置）を検出する構成とされている。また、具体
的な検出方法としては、プリント基板１１が存在する場
合にはプリント基板１１によりバックライト５１からの
光が遮られるため、このバックライト５１からの光の有
無によりエッジ検出を行なう構成とされている。従っ
て、上記構成とすることにより、プリント基板１１のエ
ッジ位置に確実にバックライト５１からの光が照射され
るためエッジ検出処理を精度よく行なうことができ、こ
れに伴いアライメント処理の精度向上を図ることができ
る。

【００６６】尚、上記構成とされた吸着ホルダ３０Ａ，
３０Ｂは、図１に実線で示す位置から二点鎖線で示す位
置まで回動可能な構成とされている。また、ハウジング
３の吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂと対向する位置にはメン
テナンス用扉２５，２６が設けられている。これによ
り、各マスクホルダ２９Ａ，２９Ｂ，及び各吸着ホルダ
３０Ａ，３０Ｂのメンテナンス性の向上を図っている。

【００６７】次に、排出部１９について説明する。排出
部１９は、排出コンベア７１、排出ベース７２、及び排
出用吸着アーム７３等により構成されている。排出ベー
ス７２は、プリント基板１１よりも大きな面積を有して
いる。各露光部１７，１８で露光処理が終了したプリン
ト基板１１は、搬送機構２０Ａにより垂直姿勢の状態で
排出位置Ｐ５（図２参照）に搬送される。

【００６８】排出ベース７２には、排出コンベア７１、
及び排出側吸着アーム２３が配設されている。前記した
ように排出部１９は受入れ部１６と同一構成とされてい
るため、排出コンベア７１は４個設けられており、それ
ぞれの受取りコンベア２１は独立して駆動可能な構成と
されている。しかしながら、排出部１９においては、受
入れ部１６のようなプリアライメント処理は必要ないた
め、各排出コンベア７１は同時に駆動する構成とされて
いる。

【００６９】排出側吸着アーム７３は略Ｔ字状の平面形
状を有しており、図示しない駆動機構により、前記した
受取り側吸着アーム２３と同様に排出ベース７２に対し
て回動可能な構成（回動方向は、図３に矢印Ｆ１，Ｆ２
で示す方向と同じ）とされている。また、露光処理が終
了したプリント基板１１が排出部１９に搬送された状態
において、この排出側吸着アーム７３は矢印Ｆ１方向に
回動し、排出ベース７２に対して直角な状態（即ち、搬
送されたプリント基板１１と対向する状態）となるよう
構成されている。

【００７０】更に、排出側吸着アーム７３のプリント基
板１１の下面と対向する位置には、複数の吸着口７４が
配設されている。この吸着口７４は吸引装置に接続され
ており、この吸引装置が駆動することにより排出側吸着
アーム７３はプリント基板１１を吸着する構成とされて
いる。

【００７１】上記構成とされた吸着アーム２３は、搬送
機構２０Ａから吸着口７４を用いて露光が終了したプリ
ント基板１１を受け渡され、プリント基板１１を吸着し
た状態を維持しつつ図中矢印Ｆ２方向（排出ベース７２
に向かう方向）に回動する。これにより、プリント基板
１１は、垂直姿勢から水平姿勢に姿勢変換される。水平
姿勢に姿勢変換されたプリント基板１１は、排出コンベ
ア７１により搬出コンベア１３に送られ、次の工程に搬
送される。

【００７２】尚、本実施例では排出部１９において、搬
送機構２０Ａにより垂直姿勢で搬送されてくるプリント
基板１１を水平姿勢に変換する処理を行なう構成とし
た。しかしながら、垂直姿勢を維持させたままで、即ち
水平姿勢に姿勢変換することなく、プリント基板１１を
排出部１９から排出することも可能である。この構成と
した場合、姿勢変換に要する時間を短縮することがで
き、露光装置１Ａによる露光処理のスループットを向上
させることができる。

【００７３】次に、搬送機構２０Ａについて、再び図１
〜図３を用いて説明する。

【００７４】搬送機構２０Ａは、大略するとメインフレ
ーム１０、複数（本実施例では３台用いている）の保持
アーム６１Ａ，６２Ａ，６３Ａ、天井レール６５等によ
り構成されている。

【００７５】メインフレーム１０は、前記した受取りベ
ース２２、マスクホルダ２９Ａ，２９Ｂ、吸着ホルダ３
０Ａ，３０Ｂ、及び排出ベース７２等を支持するもので
あり、受入れ部１６，第１及び第２の露光部１７，１
８、及び排出部１９を横架するよう図中矢印Ｘ１，Ｘ２
方向に長く配設されている。このメインフレーム１０の
上部には天井レール６５が配設されており、この天井レ
ール６５も受入れ部１６，第１及び第２の露光部１７，
１８、及び排出部１９を横架するよう配設されている。

【００７６】第１乃至第３の保持アーム６１Ａ，６２
Ａ，６３Ａはプリント基板１１を保持して搬送するもの
であり、天井レール６５に図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向にス
ライド移動可能に配設されている。この各保持アーム６
１Ａ，６２Ａ，６３Ａには駆動装置（例えば、パルスモ
ータ等）が配設されており、よって各保持アーム６１
Ａ，６２Ａ，６３Ａは独立して移動可能な構成とされて
いる。

【００７７】上記の各保持アーム６１Ａ，６２Ａ，６３
Ａは、第１及び第２の保持アーム６１Ａ，６２Ａは同一
構成とされており、また第３の保持アーム６３Ａも後述
する姿勢規制ローラ６９が設けられてない点を除けば同
一構成とされている。

【００７８】各保持アーム６１Ａ，６２Ａ，６３Ａは、
移動ベース６６，アーム部６７Ａ，吸着部６８Ａを有し
た構成とされている。更に、第１及び第２の保持アーム
６１Ａ，６２Ａにおいては、上記構成に加えて姿勢規制
ローラ６９が設けられた構成とされている。

【００７９】移動ベース６６は、天井レール６５に移動
可能に係合している。また、移動ベース６６の内部に
は、前記した駆動装置が内設されている。この駆動装置
は、各保持アーム６１Ａ，６２Ａ，６３Ａを天井レール
６５に沿って図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向にスライド移動さ
せると共に、各保持アーム６１Ａ，６２Ａ，６３Ａを図
中矢印Ｙ１，Ｙ２方向にも移動させる構成とされてい
る。

【００８０】このように、プリント基板１１の搬送方向
（図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向）ばかりでなく、図中矢印Ｙ
１，Ｙ２方向にも各保持アーム６１Ａ，６２Ａ，６３Ａ
を移動できる構成としたことにより、各保持アーム６１
Ａ，６２Ａ，６３Ａ間、各保持アーム６１Ａ，６２Ａ，
６３Ａと各吸着アーム２３，７３との間、及び各保持ア
ーム６１Ａ，６２Ａ，６３Ａと吸着ホルダ３０Ａ，３０
Ｂとの間でプリント基板１１の受け渡しが可能となる。

【００８１】アーム部６７Ａは、移動ベース６６から垂
下した状態に配設されている。このアーム部６７Ａの中
央位置には吸着部６８Ａが設けられている。この吸着部
６８Ａには、図示しない吸引装置が接続されている。そ
して、この吸引装置が駆動することにより、吸着部６８
Ａはプリント基板１１を吸着し、プリント基板１１を保
持する構成とされている。

【００８２】よって、吸着部６８Ａはプリント基板１１
を保持する保持部として機能する。また、吸着部６８Ａ
の配設位置は、プリント基板１１を吸着した際、このプ
リント基板１１の略中央位置となるよう選定されてお
り、吸着時におけるプリント基板１１のバランスを良好
に保つよう構成されている。

【００８３】姿勢規制ローラ６９は、第１及び第２の保
持アーム６１Ａ，６２Ａにのみ配設されている。この姿
勢規制ローラ６９は、プリント基板１１が吸着部６８Ａ
に吸着された状態において、プリント基板１１と当接す
るよう構成されている。前記のように、プリント基板１
１は吸着部６８Ａに吸引されることにより保持アーム６
１Ａ，６２Ａに保持されるが、この際に姿勢規制ローラ
６９は吸着部６８Ａによる保持位置とは異なる位置にお
いてプリント基板１１を保持する。

【００８４】よって、プリント基板１１が撓みや変形が
発生し易いものであったとしても、プリント基板１１の
姿勢保持を確実に行なうことができる。これにより、搬
送時においてプリント基板１１に反りや撓みが発生する
ことを抑制でき、高精度の露光処理を行なうことが可能
となる。

【００８５】尚、排出部１９にプリント基板１１を搬送
する保持アーム６１Ｃに姿勢規制ローラ６９を設けなか
ったのは、排出部１９にプリント基板１１を搬送する際
は既に露光処理が終了した後であり、露光処理終了後は
プリント基板１１に撓みや変形が発生しても特に問題が
生じないからである。

【００８６】続いて、上記構成とされた搬送機構２０Ａ
の動作について、主に図９〜図１１を用いて説明する。

【００８７】尚、以下の説明において、図３に示した露
光装置１Ａ内の各位置Ｐ１〜Ｐ５の名称を「Ｐ１：姿勢
変換位置、Ｐ２：表面露光位置、Ｐ３：アーム待機位
置、Ｐ４：裏面露光位置、Ｐ５：排出位置」とする。

【００８８】図９（Ａ）は、最初に処理するプリント基
板１１-1が受取りベース２２上に搬送された状態を示し
ている。この搬送された状態において、プリント基板１
１-1は水平姿勢となっており、かつプリアライメント処
理は終了している。また、第１の保持アーム６１Ａは姿
勢変換位置Ｐ１に、第２の保持アーム６２Ａはアーム待
機位置Ｐ３に、第３の保持アーム６３Ａは排出位置Ｐ５
に位置している。各マスクホルダ２９Ａ，２９Ｂと吸着
ホルダ３０Ａ，３０Ｂは図中矢印Ｙ１，Ｙ２方向に離間
した状態となっている。

【００８９】上記のようにプリント基板１１-1が搬送さ
れると、続いて受取り側吸着アーム２３はプリント基板
１１-1を吸着すると共に回動し、プリント基板１１-1を
垂直姿勢に変換させる。プリント基板１１-1が垂直姿勢
に姿勢変換されると、プリント基板１１-1と当接する位
置まで第１の保持アーム６１Ａは図中矢印Ｙ２方向に移
動する。この状態において、第１の保持アーム６１Ａの
吸着部６８Ａは吸引を開始し、これに伴い受取り側吸着
アーム２３は吸引を停止する。これによりプリント基板
１１-1は、図９（Ｂ）に示すように、受取り側吸着アー
ム２３から第１の保持アーム６１Ａに受け渡される。

【００９０】プリント基板１１-1を吸着することにより
保持した第１の保持アーム６１Ａは、図中矢印Ｘ１方向
に天井レール６５に沿って第１の露光位置Ｐ２までスラ
イド移動する。この際、プリント基板１１-1は、その露
光処理面が光軸ＬＬ１，ＬＬ２に対して直角状態を維持
しつつ、即ち垂直姿勢を維持しつつ搬送される。

【００９１】そして、第１の露光位置Ｐ２までプリント
基板１１-1を搬送すると、続いて第１の保持アーム６１
Ａは図中矢印Ｙ２方向に移動し、図９（Ｃ）に示すよう
に、プリント基板１１-1を吸着ホルダ３０Ａに当接させ
る。尚、この処理の間に二番目に処理するプリント基板
１１-2は、受取りベース２２に搬送される。

【００９２】この状態において、吸着ホルダ３０Ａは吸
引を開始し、これに伴い第１の保持アーム６１Ａは吸引
を停止する。これによりプリント基板１１-1は、第１の
保持アーム６１Ａから吸着ホルダ３０Ａに受け渡され
る。

【００９３】上記のようにしてプリント基板１１-1が吸
着ホルダ３０Ａに装着されると、続いて表面露光用マス
クホルダ２９Ａが吸着ホルダ３０Ａに向け、図中矢印Ｙ
２方向に移動を開始する。そして、図９（Ｄ）に示すよ
うに、表面露光用マスクホルダ２９Ａはプリント基板１
１-1に当接し、これによりプリント基板１１-1は表面露
光用マスクホルダ２９Ａと吸着ホルダ３０Ａとの間に挟
まれた状態となる。

【００９４】また、表面露光用マスクホルダ２９Ａはプ
リント基板１１-1に当接する前に、表面露光用マスクホ
ルダ２９Ａに設けられたカメラ３３及びアライメント機
構により、露光マスク２７Ａとプリント基板１１-1のア
ライメント処理が行なわれる。更に、表面露光用マスク
ホルダ２９Ａがプリント基板１１-1に当接すると、前記
のように吸着ホルダ３０Ａに設けられた基板押圧部材６
２は突出し、プリント基板１１-1を表面露光用マスクホ
ルダ２９Ａと吸着ホルダ３０Ａとの間により確実に保持
する。

【００９５】上記のようにプリント基板１１-1が露光位
置に装着されると、光源３１Ａからプリント基板１１-1
に向け光が照射され、露光処理が行なわれる。これによ
り、プリント基板１１-1に塗付されているレジスト膜
は、表面露光マスク２７Ａに形成されているパターンに
対応して感光する。尚、この露光処理の間は、第１の保
持アーム６１Ａは姿勢変換位置Ｐ１に移動しており、第
１の保持アーム６１Ａが露光処理の邪魔になるようなこ
とはない。

【００９６】露光処理が終了すると、表面露光用マスク
２９Ａはプリント基板１１-1（吸着ホルダ３０Ａ）から
離間する。また、第１の保持アーム６１Ａは姿勢変換位
置Ｐ１から再び第１の露光位置Ｐ２まで移動し、図９
（Ｅ）に示すように、プリント基板１１-1に当接する。

【００９７】この状態において、第１の保持アーム６１
Ａは吸引を開始し、これに伴い吸着ホルダ３０Ａは吸引
を停止する。これによりプリント基板１１-1は、吸着ホ
ルダ３０Ａから第１の保持アーム６１Ａに受け渡され
る。尚、上記した図９（Ａ）〜（Ｅ）までの処理を行な
う際、第２の保持アーム６２Ａはアーム待機位置Ｐ３に
位置しており、また第３の保持アーム６３Ａは排出位置
Ｐ５に位置している。

【００９８】第１の保持アーム６１Ａは、プリント基板
１１-1を保持すると図中矢印Ｙ１方向に移動し、これに
よりプリント基板１１-1は吸着ホルダ３０Ａから離間す
る。続いて、第２の保持アーム６２Ａはアーム待機位置
Ｐ３から第１の露光位置Ｐ２まで移動すると共に矢印Ｙ
１方向に移動し、図９（Ｆ）に示すように、プリント基
板１１-1と当接する。

【００９９】この状態において、第２の保持アーム６２
Ａは吸引を開始し、これに伴い第１の保持アーム６１Ａ
は吸引を停止する。これによりプリント基板１１-1は、
第１の保持アーム６１Ａから第２の保持アーム６２Ａに
受け渡される。

【０１００】プリント基板１１-1を吸着することにより
保持した第２の保持アーム６２Ａは、図１０（Ｇ）に示
されるように、図中矢印Ｘ１方向に天井レール６５に沿
って第２の露光位置Ｐ４までスライド移動する。この
際、プリント基板１１-1は、その露光処理面が光軸ＬＬ
１，ＬＬ２に対して直角状態を維持しつつ、即ち垂直姿
勢を維持しつつ搬送される。また、この搬送過程におい
て、プリント基板１１-２は垂直姿勢に位置変換される
共に、第１の保持アーム６１Ａに保持される。

【０１０１】そして、第２の露光位置Ｐ４までプリント
基板１１-1を搬送すると、続いて第２の保持アーム６２
Ａは図中矢印Ｙ１方向に移動し、図１０（Ｈ）に示すよ
うに、プリント基板１１-1を吸着ホルダ３０Ｂに当接さ
せる。尚、この処理の間に二番目に処理するプリント基
板１１-2は、第１の保持アーム６１Ａにより吸着ホルダ
３０Ｂに当接される。

【０１０２】この状態において、吸着ホルダ３０Ａ，３
０Ｂは吸引を開始し、これに伴い第１及び第２の保持ア
ーム６１Ａ，６２Ａは吸引を停止する。これによりプリ
ント基板１１-1，１１-2は、第１及び第２の保持アーム
６１Ａ，６２Ａから吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂに受け渡
される。尚、この処理の間に、三番目に処理するプリン
ト基板１１-3が受取りベース２２に搬送される。

【０１０３】上記のようにしてプリント基板１１-1，１
１-2が吸着ホルダ３０Ａ，３０Ｂに装着されると、続い
て表面露光用マスクホルダ２９Ａが吸着ホルダ３０Ａに
向け図中矢印Ｙ２方向に移動を開始し、裏面露光用マス
クホルダ２９Ｂが吸着ホルダ３０Ｂに向け図中矢印Ｙ１
方向に移動を開始する。そして、図１０（Ｉ）に示すよ
うに、裏面露光用マスクホルダ２９Ｂはプリント基板１
１-1に当接し、これによりプリント基板１１-1は表面露
光用マスクホルダ２９Ｂと吸着ホルダ３０Ｂとの間に挟
まれた状態となる。これと同時に、表面露光用マスクホ
ルダ２９Ａはプリント基板１１-2に当接し、これにより
プリント基板１１-2は表面露光用マスクホルダ２９Ａと
吸着ホルダ３０Ａとの間に挟まれた状態となる。

【０１０４】また、表面露光用マスクホルダ２９Ｂはプ
リント基板１１-1に当接する前に、表面露光用マスクホ
ルダ２９Ｂに設けられたカメラ３３及びアライメント機
構により、露光マスク２７Ｂとプリント基板１１-1のア
ライメント処理が行なわれる。更に、表面露光用マスク
ホルダ２９Ｂがプリント基板１１-1に当接すると、前記
のように吸着ホルダ３０Ｂに設けられた基板押圧部材６
２は突出し、プリント基板１１-1を表面露光用マスクホ
ルダ２９Ｂと吸着ホルダ３０Ｂとの間により確実に保持
する。尚、プリント基板１１-２が表面露光用マスクホ
ルダ２９Ａと吸着ホルダ３０Ａとの間に保持される際に
も前記したように同様の処理が実施される。

【０１０５】上記のようにプリント基板１１-1及びプリ
ント基板１１-２が各露光位置Ｐ２，Ｐ４に装着される
と、光源３１Ａ，３０Ｂからプリント基板１１-1，１１
-２に向け光が照射され、露光処理が行なわれる。これ
により、プリント基板１１-1，１１-２に塗付されてい
るレジスト膜は、表面露光マスク２７Ａ，２７Ｂに形成
されているパターンに対応して感光する。尚、この露光
処理の間は、第１の保持アーム６１Ａは姿勢変換位置Ｐ
１に移動しており、また第２の保持アーム６２Ａアーム
待機位置Ｐ３に移動しており、第１及び第２の保持アー
ム６１Ａ，６２Ａが露光処理の邪魔になるようなことは
ない。

【０１０６】露光処理が終了すると、表面露光用マスク
２９Ｂはプリント基板１１-1（吸着ホルダ３０Ｂ）から
離間する。また、第２の保持アーム６２Ａはアーム待機
位置Ｐ３から第２の露光位置Ｐ４まで移動し、図１０
（Ｊ）に示すように、プリント基板１１-1に当接する。
この状態において、第２の保持アーム６２Ａは吸引を開
始し、これに伴い吸着ホルダ３０Ｂは吸引を停止する。
これによりプリント基板１１-1は、吸着ホルダ３０Ｂか
ら第２の保持アーム６２Ａに受け渡される。

【０１０７】また、これと同時に表面露光用マスク２９
Ａはプリント基板１１-2（吸着ホルダ３０Ａ）から離間
する。また、第１の保持アーム６１Ａは姿勢変換位置Ｐ
１から再び第１の露光位置Ｐ２まで移動し、プリント基
板１１-2に当接する。この状態において、第１の保持ア
ーム６１Ａは吸引を開始し、これに伴い吸着ホルダ３０
Ａは吸引を停止する。これによりプリント基板１１-2
は、吸着ホルダ３０Ａから第１の保持アーム６１Ａに受
け渡される。

【０１０８】第２の保持アーム６２Ａは、プリント基板
１１-1を保持すると図中矢印Ｙ２方向に移動し、これに
よりプリント基板１１-1は吸着ホルダ３０Ｂから離間す
る。続いて、第３の保持アーム６３Ａは排出位置Ｐ５か
ら第２の露光位置Ｐ４まで移動すると共に矢印Ｙ２方向
に移動し、図１０（Ｋ）に示すように、プリント基板１
１-1と当接する。この状態において、第３の保持アーム
６３Ａは吸引を開始し、これに伴い第２の保持アーム６
２Ａは吸引を停止する。これによりプリント基板１１-1
は、第２の保持アーム６２Ａから第３の保持アーム６３
Ａに受け渡される。尚、この処理の間は、第１の保持ア
ーム６１Ａはプリント基板１１-２と当接した状態を維
持している。

【０１０９】プリント基板１１-1を吸着することにより
保持した第３の保持アーム６３Ａは、図１０（Ｌ）に示
されるように、図中矢印Ｘ１方向に天井レール６５に沿
って排出位置Ｐ５までスライド移動する。この際、プリ
ント基板１１-1は、その露光処理面が光軸ＬＬ１，ＬＬ
２に対して直角状態を維持しつつ、即ち垂直姿勢を維持
しつつ搬送される。また、プリント基板１１-１が排出
位置Ｐ５に搬送されるまでに、排出ベース７２に設けら
れている排出側吸着アーム７３は、垂直姿勢となるよう
回動する。更に、受取り側吸着アーム２３はプリント基
板１１-３を吸着すると共に、回動することによりプリ
ント基板１１-３を垂直姿勢となるよう姿勢変換する。

【０１１０】一方、上記のようにプリント基板１１-１
が第２の保持アーム６２Ａから第３の保持アーム６３Ａ
に受け渡されると、第１の露光位置Ｐ２に位置すると共
にプリント基板１１-２を保持した第１の保持アーム６
１Ａは図中Ｙ１方向に移動し、また第２の保持アーム６
２Ａは第２の露光位置Ｐ４から第１の露光位置Ｐ２まで
移動する。そして、この状態において第２の保持アーム
６２Ａは吸引を開始し、これに伴い第１の保持アーム６
１Ａは吸引を停止する。これによりプリント基板１１-2
は、第１の保持アーム６１Ａから第２の保持アーム６２
Ａに受け渡される（、図１０（Ｌ）参照）。

【０１１１】上記のように第３の保持アーム６３Ａによ
りプリント基板１１-１が排出位置Ｐ５に搬送される
と、続いて第３の保持アーム６３Ａは図中矢印Ｙ２方向
に移動し、これによりプリント基板１１-１は垂直姿勢
にある排出側吸着アーム７３に当接する。この状態にお
いて排出側吸着アーム７３は吸引を開始し、これに伴い
第３の保持アーム６３Ａは吸引を停止する。これにより
プリント基板１１-１は、第３の保持アーム６３Ａから
排出側吸着アーム７３に受け渡される。また、プリント
基板１１-１が受け渡されると、排出側吸着アーム７３
は排出ベース７２に向け回動を行ない、これにより図１
１（Ｍ）に示すように、プリント基板１１-１は再び水
平姿勢に位置変換される。

【０１１２】また、上記動作を行なう間に、第１の保持
アーム６１Ａは姿勢変換位置Ｐ１で受取り側吸着アーム
２３からプリント基板１１-３を受け渡され、また第２
の保持アーム６２Ａはプリント基板１１-２を第２の露
光位置Ｐ４まで搬送する。

【０１１３】続いて、排出ベース７２に装着されたプリ
ント基板１１-１は、排出ベース７２に設けられた排出
コンベア７１により排出コンベア１３に送られ、次の工
程を行なう処理装置に向け搬送される。図１１（Ｎ）
は、プリント基板１１-１が露光装置１Ａから搬送され
た状態を示している。以下、上記した処理を繰り返し実
施することにより、プリント基板１１に対する露光処理
が連続して実施される。

【０１１４】上記したように本実施例では、プリント基
板１１は搬送過程において垂直姿勢を維持した状態、即
ちプリント基板１１の露光処理面が光軸ＬＬ１，ＬＬ２
に対して直角状態を維持しつつ姿勢変換位置Ｐ１から排
出位置Ｐ５に向け搬送される。また、これに伴い各露光
マスク２７Ａ，２２７Ｂは、垂直姿勢で各マスクホルダ
２９Ａ，２９Ｂに装着される。このため、プリント基板
１１及び各露光マスク２７Ａ，２２７Ｂに塵埃が付着す
ることを防止でき、よって高精度の露光処理を行なうこ
とが可能となる。

【０１１５】また、各露光部１７，１８において、光軸
ＬＬ１，ＬＬ２がプリント基板１１の搬送方向（図中、
矢印Ｘ１，Ｘ２方向）に対して直交するよう露光ランプ
３１Ａ，３１Ｂが配置され、かつ搬送機構２０Ａは搬送
過程においてプリント基板１１の露光処理面が光軸ＬＬ
１，ＬＬ２に対して直角状態を維持するよう搬送する構
成とされている。更に、搬送機構２０Ａはプリント基板
１１を搬送する際，その露光処理面の中心位置（以下、
基板中心位置という）の移動軌跡が一直線状となるよう
搬送を行なう構成とされている。具体的には、本実施例
では、第１乃至第３の保持アーム６１Ａ〜６３Ａが天井
レール６５に沿ってスライド移動するよう構成すること
により、基板中心の移動軌跡が一直線状となるよう構成
している。尚、図２に矢印ＭＬで示す一点鎖線は、基板
中心位置の移動軌跡を示している。

【０１１６】本実施例のように、基板中心位置の移動軌
跡が一直線状となるよう構成することにより、即ち基板
中心位置の移動軌跡が上下方向（図中矢印Ｚ１，Ｚ２方
向）の移動を含まないよう構成したことにより、露光装
置１Ａ内におけるプリント基板１１の搬送距離を最短化
することができる。よって、搬送機構２０Ａによるプリ
ント基板１１の搬送時間を短くすることができ、露光処
理の高速化を図ることができる。更に、本実施例では、
露光ランプ３１Ａ，３１Ｂ（光源）は、プリント基板１
１の搬送経路の側部位置に配置されているため、露光装
置１Ａの低背化を図ることができる。

【０１１７】また、搬送機構２０Ａは、複数の保持アー
ム６１Ａ〜６３Ａを有し、この複数の保持アーム６１Ａ
〜６３Ａ間でプリント基板１１を受け渡しつつ搬送処理
を行なう構成としている。よって、ひとつの保持アーム
で搬送処理を行なう構成に比べ、各保持アーム６１Ａ〜
６３Ａを個別に動作させることができるため、搬送効率
の向上を図ることができる。例えば、第２の保持アーム
６２Ａがプリント基板１１を第１の露光位置Ｐ２から第
２の露光位置Ｐ４に搬送している間に、第１の保持アー
ム６１Ａが姿勢変換位置Ｐ１から第１の露光位置Ｐ２に
プリント基板１１を搬送することが可能となり、搬送処
理の効率化及び露光処理全体の高速化を図ることができ
る。

【０１１８】更に、各保持アーム６１Ａ〜６３Ａは、各
プリント基板１１の受け渡し位置において、受け渡しを
行ないうる範囲において光軸方向（図中矢印Ｙ１，Ｙ２
方向）に移動可能な構成とされている。これにより、一
の保持アームから他の保持アームへプリント基板１１を
受け渡す処理を円滑に行なうことができる。

【０１１９】また、上記のように各保持アーム６１Ａ〜
６３Ａを図中矢印Ｙ１，Ｙ２方向に移動可能な構成とす
ることにより、プリント基板１１が光軸ＬＬ１，ＬＬ２
に対し直角状態を維持したままで受け渡し処理を行なう
ことができる。このため、受け渡し実施時にプリント基
板１１の姿勢変換を行なう必要はなく、よって受け渡し
に要する時間の短縮を図ることができ、処理の高速化を
図ることができる。また、受け渡しに要する装置内の空
間を小さくすることができるため、露光装置１Ａの小型
化を図ることができる。

【０１２０】続いて、本発明の第２実施例について説明
する。

【０１２１】図１２は、本発明の第２実施例である露光
装置１Ｂを示している。尚、図１２において、先の説明
に用いた図１〜図１１に示した構成と対応する構成につ
いては同一符号を付してその説明を省略する。また、本
実施例の後に説明する各実施例で用いる図においても同
様とする。

【０１２２】前記した第１実施例に係る露光装置１Ａで
は、３本の保持アーム６１Ａ〜６３Ａを用いた構成とさ
れていた。これに対して本実施例に係る露光装置１Ｂで
は、搬送機構２０Ｂが４本の保持アーム６１Ｂ〜６４Ａ
を有しており、この４本の保持アーム６１Ｂ〜６４Ａを
用いてプリント基板１１を搬送するよう構成したもので
ある。

【０１２３】第１の保持アーム６１Ｂは、姿勢変換位置
Ｐ１から第１の露光位置Ｐ２までの間を移動する構成と
されている。また、第２の保持アーム６２Ｂは、第１の
露光位置Ｐ２からアーム待機位置Ｐ３の間を移動する構
成とされている。また、第３の保持アーム６３Ｂは、第
２の露光位置Ｐ４から排出位置Ｐ５の間を移動する構成
とされている。更に、第４の保持アーム６４Ｂは、アー
ム待機位置Ｐ３から第２の露光位置Ｐ４の間を移動する
構成とされている。このように、保持アームの数は特に
限定されるものではなく、任意に設定することが可能で
ある。

【０１２４】また本実施例では、第１の露光部１７と第
２の露光部１８との間に、図中矢印Ｗで示す空間部を形
成している。この空間部分は、メンテナンス時にメンテ
ナンスを行なう人（修理者という）が通行する通路とな
る。即ち、修理者は第１の露光部１７に形成されている
メンテナンスエリア（図中、矢印Ｑ１で示すエリア）と
第２の露光部１８に形成されているメンテナンスエリア
（図中、矢印Ｑ２で示すエリア）とを自由に行き来する
ことが可能となり、メンテナンス性の向上を図ることが
できる。

【０１２５】また、空間部Ｗの大きさをプリント基板１
１の幅寸法より大きく設定しておくことにより、第2或
いは第４の保持アーム６２Ｂ，６４Ｂに保持させた状態
でプリント基板１１をアーム待機位置Ｐ３に一時的に待
機させることが可能となる。このように、搬送過程にお
いて一時的にプリント基板１１を待機できるエリアを設
けることにより、プリント基板１１の搬送の仕方に自由
度を持たせることができる。よって、各保持アーム６１
Ｂ〜６４Ｂの効率のよい動作を設定することができ、こ
れによりプリント基板１１の搬送時間の短縮を図ること
ができる。

【０１２６】続いて、本発明の第３実施例について説明
する。

【０１２７】図１３〜図１５は、本発明の第３実施例で
ある露光装置１Ｃを示している。

【０１２８】前記した第１及び第２実施例に係る露光装
置１Ａ，１Ｂでは、保持アーム６１Ａ〜６３Ａ，６１Ｂ
〜６４Ｂをスライド移動させることにより、プリント基
板１１を搬送する構成とされていた。これに対して本実
施例に係る露光装置１Ｃでは、搬送機構２０Ｃに設けら
れた各保持アーム６１Ｃ〜６３Ｃが回動（スイング）す
るよう構成し、この回動に伴いプリント基板１１が搬送
されるよう構成したことを特徴とするものである。

【０１２９】各保持アーム６１Ｃ〜６３Ｃは、メインフ
レーム１０に設けられた支軸７５を中心として回動する
構成とされている。また、各保持アーム６１Ｃ〜６３Ｃ
は、図示しないステップモータにより、回動角度を制御
しうる構成とされている。更に、各保持アーム６１Ｃ〜
６３Ｃは、図中矢印Ｙ１，Ｙ２方向にも移動可能な構成
とされており、前記したと同様にプリント基板１１の受
け渡しの円滑化が図られている。

【０１３０】本発明によれば、第１及び第２実施例のよ
うな保持アーム６１Ａ〜６３Ａ，６１Ｂ〜６４Ｂをスラ
イド移動する構成に比べ天井レール６５を不要とするこ
とができ、移動機構２０Ｃの簡単化を図ることができ
る。

【０１３１】また、スライド動作する保持アーム６１Ａ
〜６３Ａ，６１Ｂ〜６４Ｂの移動速度に比べ、回動（ス
イング）する保持アーム６１Ｃ〜６３Ｃの方が移動速度
を速くすることができ、よって搬送処理に要する時間短
縮を図ることができる。尚、保持アーム６１Ｃ〜６３Ｃ
を回動させる場合、プリント基板１１には若干の上下動
することとなるが、この動作を考慮してもスライド動作
に比べて移動速度を速めることができる。

【０１３２】更に、上記のようにプリント基板１１の移
動速度が速くなることにより、移動時にプリント基板１
１の表面に発生する空気流の流速も速くなる。このた
め、プリント基板１１の露光処理面に付着した塵埃をこ
の空気流で除去することができ、露光精度の向上を図る
こともできる。

【０１３３】続いて、本発明の第４実施例について説明
する。

【０１３４】図１６〜図１８は、本発明の第４実施例で
ある露光装置１Ｄを示している。前記した各実施例に係
る露光装置１Ａ〜１Ｃでは、プリント基板１１の表面及
び裏面を露光するのに、それぞれ専用の露光ランプ３１
Ａ，３１Ｂを設けた構成とされていた。しかしながら、
露光ランプ３１Ａは非常に高価な部品であり、かつ消耗
品である。このため、本実施例に係る露光装置１Ｄで
は、一つの露光ランプ３１によりプリント基板１１の表
面及び裏面を共に露光できるよう構成したことを特徴と
するものである。

【０１３５】また、本実施例の他の特徴的な構成は、露
光処理が終了したプリント基板１１を、その露光処理面
が光軸ＬＬ１，ＬＬ２に対して直角状態を維持したまま
で、露光装置１Ｄから搬出させるよう構成した点にあ
る。

【０１３６】以下、本実施例の特徴となる各構成につい
て説明する。先ず、一つの露光ランプ３１によりプリン
ト基板１１の表面及び裏面を共に露光できるようにした
構成について説明する。

【０１３７】本実施例では、アーム待機位置Ｐ３に単一
の露光ランプ３１（光源）が配設されている。この露光
ランプ３１から出射された光は、図１８に示されるよう
に、露光ランプ３１の下部に配設された第１の反射ミラ
ー８２Ａ，８２Ｂにより表面露光用光と裏面露光用光に
分離される。この表面露光用光及び裏面露光用光は、図
１６に示すようにプリント基板１１の搬送方向（図中矢
印Ｘ１，Ｘ２方向）に直角な方向である。

【０１３８】この搬送方向に対し直角な方向へ進行した
表面露光用光及び裏面露光用光は、第２の反射ミラー８
３Ａ，８３Ｂにより進行方向を直角に曲げられ、更にそ
の進行方向前方に配置された第３の反射ミラー８４Ａ，
８４Ｂにより、上方に向け進行方向が曲げられる。この
第３の反射ミラー８４Ａ，８４Ｂの上部には、ポリメー
ションレンズ８５Ａ，８５Ｂが配設されている。

【０１３９】ポリメーションレンズ８５Ａ，８５Ｂは、
図１８に示されるように、回転放物面を有した反射鏡で
ある。このポリメーションレンズ８５Ａ，８５Ｂに入射
した表面露光用光及び裏面露光用光は，マスクホルダ２
９Ａ，２９Ｂに向け反射される。この際、ポリメーショ
ンレンズ８５Ａ，８５Ｂの曲率は、表面露光用光及び裏
面露光用光がマスクホルダ２９Ａ，２９Ｂに対して平行
光となる曲率に設定されている。

【０１４０】上記構成とすることにより、一つの露光ラ
ンプ３１によりプリント基板１１の表面及び裏面を共に
露光することが可能となる。尚、本実施例の構成製で
は、第１乃至第３の反射ミラー８２Ａ〜８４Ａ，８２Ｂ
〜８４Ｂ及びポリメーションレンズ８５Ａ，８５Ｂが必
要となるが、露光ランプのコストはこれらの光学部品全
体のコストよりも高いため、本実施例の構成とすること
により、露光装置１Ｄのコスト低減を図ることができ
る。

【０１４１】一方、本実施例に係る露光装置１Ｄは、図
１６及び図１７に示すように、他の実施例では設けられ
ていた排出部１９が設けられていない。また、天井レー
ル６５はハウジング３の外へ延出形成されており、第３
の保持アーム６３Ｂもハウジング３の内部から、天井レ
ール６５に沿ってハウジング３の外部にまで移動できる
構成とされている。

【０１４２】更に、第３の保持アーム６３Ｂの図中矢印
Ｘ１方向の移動限位置には、基板キャリア８０が配設さ
れている。この基板キャリア８０は、昇降機構８１によ
り図中矢印Ｚ１，Ｚ２方向に昇降される構成とされてい
る。

【０１４３】上記したように、本実施例に係る露光装置
１Ｄでは、排出部１９が設けられて異なため、露光処理
が終了したプリント基板１１は水平姿勢に姿勢変換をさ
れることなく、垂直姿勢を維持したままの状態で第３の
保持アーム６３Ｂによりハウジング３の外部に搬出され
る。また、基板キャリア８０は、プリント基板１１を垂
直姿勢のまま保管し得る構成とされている。よって、本
実施例の露光装置１Ｄによれば、他の実施例で排出部１
９において実施される姿勢変換処理を不要とすることが
でき、搬送時間の更なる短縮を図ることができる。

【０１４４】以上、本発明の実施の形態について詳述し
てきたが、具体的な構成はこの実施の形態に限られるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲における設
計の変更などがあっても本発明に含まれる。特に、実施
の形態においては、本発明をプリント基板のレジスト膜
を露光するための露光装置に適用したが、本発明は、所
定の露光パターンが形成された露光マスクを通して露光
されるべき各種の被露光板の一面又は両面を露光するた
めの露光装置として広く適用することができる。

【０１４５】

【発明の効果】上述の如く本発明によれば、次に述べる
種々の効果を実現することができる。

【０１４６】請求項１記載の発明によれば、被露光基板
は搬送機構により姿勢変換位置から露光位置、搬出位置
に順次搬送されるため、被露光基板及び露光マスクに塵
埃が付着することを防止でき、よって高精度の露光処理
を行なうことが可能となる。また、装置内における被露
光基板の搬送距離を短くすることができるため、搬送機
構による被露光基板の搬送時間は短縮され、露光処理の
高速化を図ることができる。また、光源は被露光基板の
搬送経路の側部位置に配置されているため、装置の低背
化を図ることができる。

【０１４７】また、請求項２記載の発明によれば、ひと
つの保持アームで搬送処理を行なう構成に比べ、複数の
保持アームを個別に動作させることができるため、搬送
効率の向上を図ることができる。

【０１４８】また、請求項３記載の発明によれば、露光
処理面の中心位置の移動軌跡が一直線状であるため、装
置内における被露光基板の搬送距離を最短化することが
でき、よって搬送機構による被露光基板の搬送時間を短
くすることができ、露光処理の高速化を図ることができ
る。

【０１４９】また、請求項４記載の発明によれば、保持
アームはスライド移動し、上下方向の移動を含まないた
め、搬送機構による被露光基板の搬送時間を短縮するこ
とができる。また、被露光基板の搬送に必要となる装置
内における搬送空間を小さくすることができるため、露
光装置の小型化を図ることができる。

【０１５０】また、請求項５記載の発明によれば、保持
アームをスライド移動する構成に比べて移動機構の簡単
化を図ることができる。

【０１５１】また、請求項６記載の発明によれば、被露
光基板が保持アームに保持された際、保持部による保持
位置とは異なる位置において保持部は被露光基板を保持
し被露光基板の姿勢保持を行なうため、被露光基板に反
りや撓みが発生することを抑制でき、高精度の露光処理
を行なうことが可能となる。

【０１５２】更に、請求項７記載の発明によれば、被露
光基板の受け渡しを行ないうる範囲において、保持アー
ムが光源の光軸方向に移動するよう構成されているた
め、一の保持アームから他の保持アームへ被露光基板を
受け渡す処理を円滑に行なうことができる。また、受け
渡し処理時において被露光基板の姿勢変換を行なう必要
がないため、受け渡しに要する時間の短縮を図ることが
でき処理の高速化を図ることができる。また、受け渡し
に要する装置内の空間を小さくすることができるため、
装置の小型化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例である露光装置のハウジン
グを切断して示す平面図である。

【図２】図１におけるＡ−Ａ線に沿った断面図である。

【図３】図１におけるＢ−Ｂ線に沿った断面図である。

【図４】マスクホルダ及び吸着ホルダの断面図である。

【図５】マスクホルダ及び吸着ホルダの要部を拡大して
示す断面図である。

【図６】吸着ホルダに配設される基板押圧部材を拡大し
て示す断面図である。

【図７】マスクホルダの正面図である。

【図８】吸着ホルダの正面図である。

【図９】本発明の第１実施例である露光装置に設けられ
た搬送機構の動作を説明するための図である（その
１）。

【図１０】本発明の第１実施例である露光装置に設けら
れた搬送機構の動作を説明するための図である（その
２）。

【図１１】本発明の第１実施例である露光装置に設けら
れた搬送機構の動作を説明するための図である（その
３）。

【図１２】本発明の第２実施例である露光装置のハウジ
ングを切断して示す平面図である。

【図１３】本発明の第３実施例である露光装置のハウジ
ングを切断して示す平面図である。

【図１４】図１３におけるＡ−Ａ線に沿った断面図であ
る。

【図１５】図１３におけるＢ−Ｂ線に沿った断面図であ
る。

【図１６】本発明の第４実施例である露光装置のハウジ
ングを切断して示す平面図である。

【図１７】本発明の第４実施例である露光装置の縦断面
図である。

【図１８】図１６におけるＧ−Ｇ線に沿う断面図であ
る。

【符号の説明】

１Ａ〜１Ｄ 露光装置 ３ ハウジング １０ メインフレーム １１，１１-1〜１１-4 プリント基板 １６ 受入れ部 １７ 第１の露光部 １８ 第２の露光部 １９ 排出部 ２０Ａ〜２０Ｃ 搬送機構 ２１ 受取りコンベア ２２ 受取りベース ２３ 受取り側吸着アーム ２５，２６ メンテナンス用扉 ２７Ａ 表面露光マスク ２７Ｂ 裏面露光マスク ２９Ａ 表面露光用マスクホルダ ２９Ｂ 裏面露光用マスクホルダ ３０Ａ，３０Ｂ 吸着ホルダ ３１，３１Ａ，３１Ｂ 露光ランプ ３３ カメラ ３５ 枠状フレーム ３７ ガラス板 ３８，３９ 位置決めピン ４１ 吸着溝 ４５ 多孔フレーム ４７ 吸引ノズル ５２ 基板押圧部材 ５４ ゴム突起 ５５ 多孔プレート ５６ 傾斜孔形成部 ５７ 垂直孔形成部 ５８ 長孔 ６１Ａ〜６１Ｃ 第１の保持アーム ６２Ａ〜６２Ｃ 第２の保持アーム ６３Ａ〜６３Ｃ 第３の保持アーム ６４Ｂ 第４の保持アーム ６５ 天井レール ６６ 移動ベース ６７Ａ，６７Ｂ アーム部 ６８Ａ，６８Ｂ 吸着部 ６９ 位置規制ローラ ７１ 排出コンベア ７２ 排出ベース ７３ 排出側吸着アーム ８０ 基板キャリア ８２Ａ，８２Ｂ 第１の反射ミラー ８３Ａ，８３Ｂ 第２の反射ミラー ８４Ａ，８４Ｂ 第３の反射ミラー ８５Ａ，８５Ｂ ポリメーションミラー

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H097 AA01 BA06 DB07 DB14 GA45 LA09 5F031 CA20 FA02 FA07 FA12 FA14 FA18 FA21 GA24 GA30 GA36 GA47 GA48 GA50 GA51 HA13 HA14 HA25 HA28 HA45 HA59 JA04 JA05 JA13 JA17 JA28 JA29 JA36 KA01 KA06 KA07 KA11 KA12 KA18 KA20 MA03 MA13 MA27 PA13 PA23 5F046 BA02 CD01 CD04 CD08

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光源からの光を所定の露光パターンが形成
   された露光マスクを通して被露光基板の露光処理面に露
   光する露光装置であって、 水平姿勢で供給される前記被露光基板を垂直姿勢となる
   よう姿勢変換させる姿勢変換機構と、 前記被露光基板を前記姿勢変換される姿勢変換位置か
   ら、前記被露光基板に露光処理を行なう露光位置、露光
   処理が終了した前記被露光基板を搬出する搬出位置に前
   記被露光基板を順次搬送する搬送機構とを備え、 前記光源の光軸が前記被露光基板の搬送方向に対して直
   交するよう、前記光源を前記被露光基板の搬送経路の側
   部位置に配置し、 かつ、前記被露光基板の搬送過程において、前記露光処
   理面が前記光軸に対して直角状態を維持しつつ搬送され
   るよう前記搬送機構を構成したことを特徴とする露光装
   置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の露光装置において、 前記搬送機構は、前記被露光基板を着脱可能に保持する
   複数の保持アームを有し、該複数の保持アーム間で前記
   被露光基板を受け渡しつつ、前記被露光基板を搬送する
   構成としたことを特徴とする露光装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２記載の露光装置におい
   て、 前記搬送機構は、前記露光処理面の中心位置の移動軌跡
   が一直線状となるよう前記被露光基板を搬送する構成と
   されていることを特徴とする露光装置。
4. 【請求項４】 請求項２または３記載の露光装置におい
   て、 前記保持アームをスライド移動するよう構成し、該スラ
   イド移動に伴い前記被露光基板が搬送されるよう構成し
   たことを特徴とする露光装置。
5. 【請求項５】 請求項２記載の露光装置において、 前記保持アームを回動するよう構成し、該回動に伴い前
   記被露光基板が搬送されるよう構成したことを特徴とす
   る露光装置。
6. 【請求項６】 請求項２乃至５記載の露光装置におい
   て、 前記保持アームは前記被露光基板を吸引吸着する吸引部
   と、前記被露光基板の姿勢保持を行なう保持部とを設け
   てなることを特徴とする露光装置。
7. 【請求項７】 請求項２乃至６記載の露光装置におい
   て、 前記保持アームは、前記被露光基板の受け渡しを行ない
   うる範囲において前記光源の光軸方向に移動する構成と
   されていることを特徴とする露光装置。