JPH10333337A

JPH10333337A - 露光装置

Info

Publication number: JPH10333337A
Application number: JP9343971A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Okamoto; 惇岡本
Original assignee: OKAMOTO GIKEN KK
Current assignee: OKAMOTO GIKEN KK
Priority date: 1997-04-01
Filing date: 1997-11-27
Publication date: 1998-12-18

Abstract

(57)【要約】【課題】従来の露光装置には、塵埃の付着や、露光マス
クの自然撓み、アライメント精度の崩れ、サイズの大型
化等の問題があった。【解決手段】外筐１４３内を仕切り壁１４７で前側空間
１４９と後側空間１５１とに仕切り、前側空間には上下
方向へ移動する垂直保持ベース２９やマスク保持機構２
１Ｌ、２１Ｒ、プリアライメント機構１９５等を配置
し、この垂直保持ベース等の駆動手段は後側空間に設け
た。垂直保持ベースの左右両吸着面には垂直姿勢にされ
たプリント基板材１１が順次載せ替えられて両面露光さ
れる。前側空間の下部としての受渡し室１５５において
は、プリント基板材のプリアライメント、垂直保持ベー
スへの着脱を行い、前側空間の上部としての露光室１５
７においては露光と載替えを行う。プリント基板材と露
光マスク４３を垂直姿勢にして処理を行うので塵芥付着
や露光マスクの自然撓みは殆ど無く、平面的サイズも小
さく、作業も一方向からできる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置に係り、
特に、プリント基板材やリードフレーム材等の被露光板
の露光処理面を所定の露光パターンが形成された露光マ
スクを通して露光する露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば、プリント配線板をサブトラクテ
ィブ法により形成する場合は、基板材に設けた導体箔に
エッチングレジスト膜を塗布し、このエッチングレジス
ト膜を所要のパターンで耐エッチング処理した後、導体
箔をエッチングすることで所要の導体パターンを形成す
る。この場合、エッチングレジスト膜に対する耐エッチ
ング処理は、通常、必要な導体パターンと同じパターン
の露光パターンが形成された露光マスクを通してエッチ
ングレジスト膜を露光することで行われる。

【０００３】このような露光マスクを用いて露光を行う
ための露光装置には従来から各種の方式があるが、基本
的には、基板材等の被露光板と露光マスクとの間で相対
的な位置合わせを行うアライメント手段と、位置合わせ
終了後に露光を行う露光手段等を備えており、位置合わ
せの方式には、位置合わせ用マスターに対して被露光板
の位置を合わせる間接方式と、露光マスクを被露光板に
位置合わせする直接方式とがある。

【０００４】そして、両面に露光処理面がある被露光
板、例えば、両面プリント基板等を露光するための露光
装置には、従来、次の２つの方式があった。一つの方式
は、一方の露光処理面用と他方の露光処理面用の２枚の
露光マスクを互いに上下方向で対向し合うように配置し
ておき、被露光板の露光マスクに対する位置合わせを前
記した間接方式で行った後に、被露光板を下側の露光マ
スク上に載置し、その状態から上側の露光マスクを下げ
て被露光板に接触させるように構成されている。もう一
つの方式は、２枚の露光マスクに対する位置合わせと露
光を一方の露光処理面と他方の露光処理面で別々に行う
ように構成されており、この場合の位置合わせには、通
常、直接方式が用いられる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来のこの種の露光装
置にあっては、被露光板及び露光マスクを水平な姿勢で
扱うようにしているのが一般的であったため、被露光板
や露光マスクにはどうしても塵埃が付着し、この塵埃が
露光用の光を遮って露光不良を招いてしまうという問題
があった。この点、要求される露光精度のレベルが低い
ために露光用の光として拡散光を用いることが可能な場
合は塵埃の付着を多少許容できることもある。ところ
が、要求される露光精度のレベルが高い場合は、露光用
の光として平行光を用いることが絶対的な条件とされる
ため、この場合は塵埃の付着が露光不良に直結する重大
な問題になる。

【０００６】そこで、露光マスクや被露光板を浄化する
ためのエアブロー装置を付設したものがあるが、エアブ
ロー装置を付設したとしても塵埃を除去するには充分で
無く、しかも、そのような方策を講じると露光装置を大
型化したりコスト高にしてしまうという別の問題が生じ
る。

【０００７】また、従来の露光装置にあっては、露光マ
スクが常時水平な姿勢で保持されているために、経時的
にはどうしても、自重による所謂自然撓みが発生して露
光マスクと被露光板との接触に隙間ができてしまうとい
う問題もある。この隙間は露光パターンのボケに直結す
る重大な問題であり、露光マスクのサイズが大きくなる
ほど自然撓みも顕著なものになって来る。

【０００８】そして、２枚の露光マスクを上下に対向し
て配置した方式の両面露光装置にあっては、露光マスク
に対する被露光板の位置決め手段を設けることが事実上
不可能であるため、上側の露光マスクを被露光板に重ね
る際に、どうしても被露光板が横移動してしまって、露
光マスクと被露光板との位置合わせが狂ってしまうとい
う問題があった。特に、高密度なプリント配線板のよう
に１０ミクロン程度での高い位置合わせ精度が要求され
る場合、上記横移動は致命的なものになってしまう。ま
た、２つの露光処理面に対する露光を別々に行う方式の
両面露光装置にあっては、露光マスクと被露光板との位
置合わせが狂わされる惧れは無いが、装置の平面的サイ
ズが大型化したり、処理時間が長くかかる等の問題があ
った。

【０００９】更に、従来の露光装置にあっては、露光用
のランプを露光回数分点燈するようにしていたので、繰
り返し点滅されることで寿命が短くなり、従って、ラン
ニングコストがかかり、ランプの取替えのために稼働が
中断されて処理能率が低下するという問題があった。

【００１０】本発明は上記した従来の問題点に鑑みて為
されたものであり、少なくとも露光時における被露光板
の姿勢を工夫するだけで、塵埃付着の惧れを殆ど無くす
ことができると共に、装置の平面的サイズを大幅に小型
化することができ、且つ、露光マスクに自然撓みが生じ
ることの無い露光装置を提供することを目的とする。ま
た、本発明は、露光マスクと被露光板との相対的な位置
合わせに要する時間を短縮できて、処理スピードの速い
露光装置を提供することを目的とする。更に、本発明
は、表裏両面が露光処理面である被露光板を露光するた
めの露光装置であって、装置を大型化しないで高精度、
高スピードでの処理を行うことができる露光装置を提供
することを目的とする。

【００１１】また本発明は、被露光板を着脱自在に保持
する垂直保持ベースの移動方向や、この垂直保持ベース
と駆動部との配置関係を工夫することによって、平面的
サイズの小型化と塵埃付着の防止効果を一層高めること
ができると共に、露光マスクの交換等各種メンテナンス
を行い易い露光装置を提供することを目的とする。そし
て、本発明は、露光動作を損なうこと無く露光ランプの
寿命を延ばすことができる露光装置を提供することを目
的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明露光装置は、供給されて来た被露光板を垂直
な姿勢で受け取るワーク保持面を有した垂直保持ベース
と、露光マスクを前記垂直保持ベースに保持された被露
光板に対して接触離間自在に且つ位置合わせ自在に支持
した露光マスク支持手段と、露光を行うための光学系と
を備え、垂直保持ベースは被露光板を受け取るピックア
ップ位置と露光マスク支持手段に対向した露光位置との
間を相対的に移動するようにしたものである。これによ
り、被露光板と露光マスクに塵埃が付着する惧れをかな
り小さくすることができると共に、装置の平面的サイズ
を大幅に小型化することができ、露光マスクに自然撓み
が生じるのをほぼ皆無にすることができる。

【００１３】請求項２の発明は、供給されて来た被露光
板を垂直保持ベースに受け取らせる前に被露光板の予備
的位置合わせを行うプリアライメント手段を設けること
により、マスク支持手段によるアライメント処理の時間
を短縮できるようにした。

【００１４】請求項３の発明は、請求項２に記載の露光
装置において、垂直保持ベースに保持された被露光板に
対しての露光マスク支持手段による位置合わせ及び露光
が進行する間に、次の被露光板に対してのプリアライメ
ント手段による予備的位置合わせが進行するようにした
ものである。これにより、予備的位置合わせを行うため
の特別な時間枠を設けなくて済む。

【００１５】請求項４の発明は、請求項１から３に記載
した露光装置のいずれかにおいて、垂直保持ベースは互
いに反対側を向いた２つのワーク保持面を有し、この２
つのワーク保持面に各別に対応した２つの露光マスク支
持手段と、前記２つのワーク保持面のそれぞれに対応し
て設けられた２つのワーク載替えハンドとを備え、一方
のワーク保持面に保持された被露光板の第一の露光処理
面に対する一方のマスク支持手段による位置合わせ及び
露光が終了した後、この被露光板を一方のワーク載替え
ハンドから他方のワーク載替えハンドを経て他方のワー
ク保持面に保持させ、ここで第二の露光処理面に対する
他方のマスク支持手段による位置合わせ及び露光を行う
ようにしたものである。従って、被露光板の２つの露光
処理面に対する露光マスクの位置合わせ及び露光は、２
つの露光処理面のいずれについても、被露光板が位置決
めされた状態で行われるために処理精度が高く、しか
も、２つの露光処理面を順番に露光処理するにも拘ら
ず、被露光板を保持するための垂直保持ベースは１つで
済むので、装置が大型化されることも無い。

【００１６】請求項５の発明は、請求項１から４に記載
の露光装置において、ピックアップ位置に来た垂直保持
ベースを挾んでプリアライメント手段と反対側の位置に
ワーク取外し手段を配置し、第一の露光処理面に対する
露光が終了した被露光板がワーク載替えハンドに保持さ
れた後垂直保持ベースをピックアップ位置に戻し、他方
のワーク保持面が保持していた被露光板を前記ワーク取
外し手段により取外すと共に次の被露光板を垂直保持ベ
ースに保持させた後垂直保持ベースを露光位置へと移動
させるようにしたものである。このようにすることで、
取外しのために特別な時間枠を設けなくて済むので、処
理速度を更に高めることができる。

【００１７】請求項６の発明は、請求項１から５に記載
した露光装置のいずれかにおいて、垂直保持ベースの移
動が上下方向へ行われるようにしたものである。従っ
て、この発明にあっては、垂直保持ベースに対する被露
光板の着脱やプリアライメントを担う手段と、露光を担
う手段とが上下に配置されることになるので、これらを
平面的に配置する場合と較べて、装置に必要な平面的サ
イズがかなり小さくて済む。

【００１８】請求項７の発明は、請求項６に記載の露光
装置において、この装置の外筐内部を仕切り壁によって
前側空間と後側空間とに仕切り、前側空間には垂直保持
ベースと露光マスク支持手段と光学系等の作業手段を配
置し、後側空間には前記作業手段を移動させるための駆
動手段を配置したものである。このようにすれば、駆動
手段から発生する塵埃が被露光板や露光マスクに付着す
るのをより確実に防止することができると共に、露光マ
スクの交換とか、アライメント手段の調整や各種の整備
といったメンテナンスの多くを一方向から行うことがで
きる。

【００１９】請求項８の発明は、請求項７に記載の露光
装置において、前側空間を仕切り壁によって上室と下室
とに仕切り、この下室を被露光板の垂直保持ベースに対
する着脱等が行われる受渡し室とし、上室を被露光板に
対する露光が行われる露光室としたものである。これに
よって、露光が行われる空間を一層クリーンに保つこと
ができる。

【００２０】請求項９の発明は、請求項４から８に記載
の露光装置のいずれかにおいて、光学系にシャッターを
介挿すると共に、第一の露光処理面に対する露光の開始
から第二の露光処理面に対する露光が終了するまでの
間、露光ランプを点燈させたままとし、露光時のみ前記
シャッターを開放するようにしたものであり、これによ
って露光ランプの寿命を大幅に延ばすことができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る露光装置
を、図面に示した各実施の形態に従って説明する。図１
から図１３は本発明の第一の実施の形態に係るプリント
基板材両面露光装置１を示すものである。３はプリント
基板材両面露光装置１の外筐を示し（図１から図３を参
照）、その右側壁（図１における右方へ向かう方向を右
側とし、同図における上方へ向かう方向を後側とする。
以下の説明において向きを言うときは、この方向による
ものとする。）の後下部にはワーク入口５が形成され、
左側壁のうちワーク入口５と対向した位置にはワーク出
口７が形成されている。

【００２２】９は外筐３の右側に配置された供給コンベ
ア（図１、図２を参照）を示し、その左端はワーク入口
５に近接している。１１はプリント基板材を示し、この
プリント基板材１１は、その表裏両面１１ａ、１１ｂに
紫外線硬化型レジスト膜が形成された状態で、供給コン
ベア９に乗って供給されて来て、その両面１１ａ、１１
ｂが外筐３内で露光処理される。１３は外筐３の左側に
配置された搬送コンベア（図１、図２を参照）を示し、
その右端はワーク出口７に近接し、露光処理されたプリ
ント基板材１１はこの搬送コンベア１３に乗って次の工
程、例えば、現像工程へ搬送されて行く。１５（図１等
参照）は基準孔を示し、この基準孔１５はプリント基板
材１１の長手方向両端部の各中間位置に設けられてい
る。

【００２３】外筐３の内部の後部右側には、受入れ部１
７が、後部左側には、取外し部１９がそれぞれ設けられ
ている。また、外筐３の内部の前部には、左右２つのマ
スク保持機構２１Ｌ、２１Ｒと光学系２３（図２参照）
等を備えた露光部２５が設けられており、外筐３の下端
部中央には前後方向へ延びる中央ガイドレール２７が配
置されている。

【００２４】２９は垂直保持ベースを示し、この垂直保
持ベース２９はプリント基板材１１を垂直な姿勢で保持
して前後方向へ移動するものである。垂直保持ベース２
９は、前後方向から見て背の高い逆Ｔ字形をしたスライ
ドベース３１と、スライドベース３１の垂直壁の左右両
側面に各別に取り付けられた２つの吸着ベース３３Ｌ、
３３Ｒとから成り、スライドベース３１の底部３５の下
面に固定された脚が中央ガイドレール２７に摺動自在に
係合されている。そして、底部３５の下面にはナット３
７が取り付けられ、このナット３７に、前後方向へ延び
る送りネジ３９（図２のみに示してある。）が螺合さ
れ、この送りネジ３９が回転することによって垂直保持
ベース２９が前後方向へ移動される。垂直保持ベース２
９の移動は、図１に実線で示すように受入れ部１７と取
外し部１９との間に入ったピックアップ位置と、同図に
二点鎖線で示すように左右のマスク保持機構２１Ｌと２
１Ｒとの間に入った露光位置との間で行われる。

【００２５】吸着ベース３３Ｌ、３３Ｒは長方形状の薄
い箱形をしており、その内部空間は図示しない吸気手段
によって随時負圧状態とされ、互いに反対側を向いた側
壁は外周部を除く領域に図示しない多数の吸気溝又は吸
気孔が形成された吸着面４１になっている。この吸着面
４１にプリント基板材１１が着脱自在に吸着保持され
る。

【００２６】露光部２５はプリント基板材１１に対する
露光処理を担う部分である。この露光部２５は、露光マ
スク４３を保持した左右２つのマスク保持機構２１Ｌ、
２１Ｒと、一つの露光ランプ４５を有しており、この光
源ランプ４５からの光を左右のマスク保持機構２１Ｌ、
２１Ｒに選択的に導く光学系２３と、片面の露光が済ん
だプリント基板材１１を右側の吸着ベース３３Ｒから左
側の吸着ベース３３Ｌに載せ替えるための載替え機構４
７等から構成されている。この実施の形態においては、
露光ランプ４５に水銀ショートアークランプを用いてい
る。

【００２７】マスク保持機構２１Ｌ、２１Ｒは、それぞ
れ、スライドベース４９と、アライメントユニット５１
と、露光マスク４３と、整合誤差検出用のカメラ５３等
から構成されている。尚、左右のマスク保持機構２１
Ｌ、２１Ｒは互いに左右対称を為す点が異なるだけで、
構造には違いが無いので、右側のマスク保持機構２１Ｒ
についてだけ説明し、左側のマスク保持機構２１Ｌにつ
いては、その各部に、右側のマスク保持機構２１Ｒの各
部位に付した符号と同じ符号を付することで説明を省略
する。

【００２８】スライドベース４９は、前方から見て略Ｌ
字形をしており、その底部の下面に固定された脚５５が
左右方向へ延びるガイドレール５７に摺動自在に係合さ
れることで左右方向へ一定の範囲内で移動自在に設けら
れている。スライドベース４９の垂直壁５９には、左右
方向から見て横長の長方形状をした大きな窓６１が形成
されている。また、垂直壁５９の左側面の上下両端部に
は横長の支持部材６２が固定されており（下側の支持部
材６２については、図４に、左側のマスク保持機構２１
Ｌのもののみを示してある）、上側の支持部材６２には
下に向かって開口した支持溝６３が設けられ、下側の支
持部材６２には上に向かって開口した支持溝６３が設け
られている。

【００２９】アライメントユニット５１はスライドベー
ス４９の垂直壁５９に取り付けられたパルスモータ６５
と、このパルスモータ６５によって傾動されるマスク保
持枠６７とから成る。マスク保持枠６７は中空構造にな
っていて、垂直保持ベース２９の吸着ベース３３Ｌ、３
３Ｒの外形よりやや大きい矩形を為している。マスク保
持枠６７には、スライドベース４９の窓６１と同じ大き
さの窓６９が形成され、その上下両端部が前記上下の支
持溝６３に摺動自在に係合することで垂直な姿勢に保持
され、スライドベース４９の垂直壁５９に左側から近接
して配置されている。そして、マスク保持枠６７の内部
空間には図示しない吸気手段が接続されると共に、その
左側壁のうち窓６９の周縁部は図示しない吸気溝又は吸
気孔が多数形成された吸着面になっている。

【００３０】パルスモータ６５は３つあり、そのうちの
２つは軸方向が上下方向を向く向きで垂直壁５９の左側
面下端部の前後両端に固定され、別の１つは軸方向が左
右方向を向く向きで垂直壁５９の後端部の略中間から突
出したブラケットに固定されている。そして、下側２つ
のパルスモータ６５のリーチ軸の上端部がマスク保持枠
６７の下端部に連結され、後側のパルスモータ６５のリ
ーチ軸の前端部がマスク保持枠６７の後端部に連結され
ている。従って、パルスモータ６５が駆動することによ
り、マスク保持枠６７が垂直面内において傾動される。

【００３１】露光マスク４３には所定の透光パターンが
設けられると共に、上下方向における中間部の前後両端
寄りの位置にフォトマスクマーク７１（図４参照）が設
けられており、その外周部がマスク保持枠６７の吸着面
に吸着されることでマスク保持枠６７に着脱自在に保持
され、フォトマスクマーク７１はマスク保持枠６７の窓
６９の前後両側縁近くに位置する。

【００３２】カメラ５３は固体撮像素子を備えた所謂Ｃ
ＣＤカメラであり、左右２つ設けられている。７３はス
ライドベース４９の垂直壁５９の前後両側部から右側へ
突出したブラケットを示し、このブラケット７３に図示
しない駆動手段により前後方向へ移動されるカメラ支持
アーム７５が設けられ、このカメラ支持アーム７５にカ
メラ５３が前方を向いた向きで支持されている。従っ
て、カメラ５３は前後方向へ移動され、その移動は、図
１に実線で示す検出位置と同図に二点鎖線で示す待機位
置との間で行われ、待機位置に来た状態では窓６１及び
６９から外に逃げ、検出位置に来た状態ではその光軸が
露光マスク４３のフォトマスクマーク７１と一致する。

【００３３】露光ランプ４５は外筐３内の上端部左端に
配置され、その反射鏡が右方に向かって開口する向きで
設けられている。７７は露光ランプ４５の右側に配置さ
れた固定反射鏡を示す。７９は外筐３内の前部の左右両
端に配置された回転放物面反射鏡を示し、これら回転放
物面反射鏡８１はその光軸が左右方向に延びる互いに内
向きの姿勢で設けられている。露光ランプ４５からの光
は、光束を絞られて固定反射鏡７７に照射され、ここで
左側の回転放物面反射鏡８１に向かって反射された後、
平行光束となって右方に向け、即ち、左側のマスク保持
機構２１Ｌへ向けて照射される。

【００３４】８３は可動反射鏡を示す（図２参照）。こ
の可動反射鏡８３は実線で示す退避位置と同図に二点鎖
線で示す突出位置との間を移動され、突出位置に来た状
態では、固定反射鏡８３から来た光を右側の回転放物面
反射鏡８１に向かって反射し、この右側の回転放物面反
射鏡８１で左方に向け、即ち、右側のマスク保持機構２
１Ｒに向けて平行光束となって照射される。従って、露
光ランプ４５からの光を左右２つのマスク保持機構２１
Ｌ、２１Ｒに導く光路は可動反射鏡８３の位置を制御す
ることで選択的に切り替えられる。回転放物面反射鏡８
１からマスク保持機構２１Ｌ、２１Ｒに向けて照射され
る光は窓６１、６９及び露光マスク４３の透光パターン
を通して先へ照射される。

【００３５】８５はシャッターを示し、このシャッター
８５は突出位置に来た状態の可動反射鏡８３と固定反射
鏡７７との間の光路に介挿されている。そして、露光ラ
ンプ４５の点灯は、プリント基板材両面露光装置１が被
露光板１１ごとの露光モードに入っている間、即ち、被
露光板１１の第一の露光処理面１１ａに対する露光の開
始から第二の露光処理面１１ｂに対する露光の完了まで
の間は継続され、露光を行うときだけ上記シャッター８
５が所定の時間開く。

【００３６】載替え機構４７は、左右２つの移動ベース
８７Ｌ、８７Ｒ及び載替えハンド８９Ｌ、８９Ｒ（図５
等参照）を有する。移動ベース８７Ｌ、８７Ｒは左右方
向から見て略逆Ｔ字形をしており、その後側面には垂直
ガイドレール９１が固定されている。９３は前記中央ガ
イドレール２７の前側に左右方向へ延びるように設けら
れた水平ガイドレールを示し、この水平ガイドレール９
３に移動ベース８７Ｌ、８７Ｒの底部が摺動自在に支持
されている。

【００３７】載替えハンド８９Ｌ、８９Ｒは上下方向か
ら見て互いに背を向け合ったＬ字形を為し、その前端部
が垂直ガイドレール９１に摺動自在に支持されている。
また、載替えハンド８９Ｌ、８９Ｒの後方突出部９５は
中空構造になっていて、その内部空間には図示しない吸
気手段が接続されている。そして、この後方突出部９５
の互いに対向する側壁には内部空間と続いた８つの吸着
突部９７が設けられ、内部空間が負圧になると、吸着突
部９７の先端面に負圧吸引力が働く。

【００３８】従って、載替えハンド８９Ｌ、８９Ｒは移
動ベース８７Ｌ、８７Ｒに対しては上下方向へ移動し、
移動ベース８７Ｌ、８７Ｒが移動するのに従って左右方
向へ移動する。載替えハンド８９Ｌ、８９Ｒの上下方向
への移動は、図２等に示す上昇位置と図８等に示す下降
位置との間で行われ、上昇位置に来た状態では２つのマ
スク保持機構２１Ｌ、２１Ｒの間から上に逃げており、
下降位置に来ると２つのマスク保持機構２１Ｌ、２１Ｒ
の間に位置する。載替えハンド８９Ｌ、８９Ｒが下降位
置に来た状態で前記垂直保持ベース２９が露光位置に来
ると、右側の載替えハンド８９Ｒの吸着突部９７は垂直
保持ベース２９の右側の吸着ベース３３Ｒと対向し、左
側の載替えハンド８９Ｌの吸着突部９７は垂直保持ベー
ス２９の左側の吸着ベース３３Ｌと対向する（図７参
照）。

【００３９】受入れ部１７は、中央ガイドレール２７の
後部右脇に配置されたプリアライメント機構１０１と、
このプリアライメント機構１０１の右側に位置した受取
コンベア１０３と、受取コンベア１０３上のプリント基
板材１１をプリアライメント機構１０１に移すための移
載ハンド１０５等から成る。

【００４０】１０７はプリアライメント機構１０１の回
動ベースを示し、この回動ベース１０７はプリント基板
材１１より一回り大きい矩形を為している。回動ベース
１０７には前記パルスモータ６５と同様の図示しない傾
動手段が設けられ、その傾動手段にプリアライメントテ
ーブル１０９が支持されている。１１１は中央ガイドレ
ール２７の後端部右脇に前後方向へ延びる向きで配置さ
れた支持軸を示す。そして、回動ベース１０７は、その
左端部に設けられた軸受に支持軸１１１が挿通されるこ
とで支持軸１１１の軸回りへ回動自在に支持されてい
る。回動ベース１０７の回動は、図３に実線で示すよう
に水平な姿勢となっている倒伏位置と、同図に二点鎖線
で示すように垂直な姿勢となった起立位置との間で行わ
れる。

【００４１】受取コンベア１０３はプリアライメント機
構１０１と前記供給コンベア９との間に配置され、供給
コンベア９に乗って移送されて来たプリント基板材１１
は、ワーク入口５を通ってこの受取コンベア１０３に乗
載される。

【００４２】１１３は移載ハンド１０５のスライドベー
スを示し、このスライドベース１１３上にエアシリンダ
１１５が固定され、このエアシリンダ１１５は後方へ突
出した腕１１７を備えている。そして、腕１１７には左
右方向へ延びる中空な吸着アーム１１９が前後に３つ取
り付けられており、その内部空間には図示しない吸気手
段が接続されている。これら吸着アーム１１９の下面の
両端部には吸着突部１２１が設けられていて、吸着アー
ム１１９の内部空間が負圧にされたときはこの吸着突部
１２１の下面に吸引力が働く。１２３はプリアライメン
ト機構１０１及び受取コンベア１０３の前側に左右方向
へ延びるように設けられたガイドレールを示し、移載ハ
ンド１０５のスライドベース１１３はこのガイドレール
１２３に摺動自在に支持されている。

【００４３】取外し部１９は中央ガイドレール２７の後
部左脇に配置された取外しハンド１２５及び取出コンベ
ア１２７とから成る。１２９は取外しハンド１２５のベ
ース部を示し、このベース部１２９は中央ガイドレール
２７の後部左脇に配置された支持軸１３１に回動自在に
支持されている。ベース部１２９の前後両端部と中間部
からは中空な吸着アーム１３３が突出し、これら吸着ア
ーム１３３の内部空間には図示しない吸気手段が接続さ
れている。各吸着アーム１３３の下面には吸着突部１３
５が設けられていて、吸着アーム１３３の内部空間が負
圧にされると吸着突部１３５の上面に吸引力が働く。こ
のような取外しハンド１２５は図示しない駆動手段によ
り回動され、その回動は、図３に実線で示すように水平
な姿勢となった倒伏位置と同図に二点鎖線で示すように
垂直な姿勢となった起立位置との間で行われる。

【００４４】取出コンベア１２７は左右方向へ延びる向
きで、前後方向に４つ、互いにやや間隔をおいて配置さ
れ、その左端はワーク出口７から外に出て前記した搬送
コンベア１３と近接している。そして、取外しハンド１
２５が倒伏位置に来ると、その３つの吸着アーム１３３
は取出コンベア１２７の間に各別に位置し、その吸着突
部１３５の上面は取出コンベア１２７の上面よりやや低
いところに位置する（図３参照）。プリント基板材両面
露光装置１は以上のように構成されている。

【００４５】次に、プリント基板材両面露光装置１の動
作を説明する（図１３参照）。初期状態において、移載
ハンド１０５は図３に二点鎖線で示す待機位置におい
て、取外しハンド１２５は倒伏位置において、垂直保持
ベース２９はピックアップ位置において、プリアライメ
ント機構１０１の回動ベース１０７は倒伏位置において
それぞれ待機している。また、マスク保持機構２１Ｌ、
２１Ｒは図１に示すように露光位置に来た垂直保持ベー
ス２９よりある程度離間した後退位置において、載替え
ハンド８９Ｌ、８９Ｒは上昇位置においてそれぞれ待機
している。そして、可動反射鏡８３は突出位置に来てい
る。

【００４６】この状態からプリント基板材１１が受取コ
ンベア１０３に乗載すると、移載ハンド１０５の腕１１
７が図３に実線で示すように下降してプリント基板材１
１を吸着した後、腕１１７が引き上げられ、次いで、こ
の移載ハンド１０５が同図に１点鎖線で示すように左方
へ移動してそのプリント基板材１１をプリアライメント
テーブル１０９上に降す。その後、移載ハンド１０５は
待機位置に戻される。プリアライメントテーブル１０９
に降ろされたプリント基板材１１は、このプリアライメ
ントテーブル１０９に吸着保持される。

【００４７】プリアライメントテーブル１０９上にプリ
ント基板材１１が載置されると、図示しない傾動手段が
働いてプリアライメント、即ち、予備的位置合わせを行
う。このプリアライメントは、図示しない位置決めマス
ターのフォトマークとプリント基板材１１に設けられて
いる基準孔１５との位置関係をセンサーが検出して、そ
の位置関係の誤差量を演算し、その誤差量の分、プリア
ライメントテーブル１０９を水平面内で傾動させること
で行う。

【００４８】このようなプリアライメントが済むと、回
動ベース１０７が起立位置へと回動される。すると、プ
リアライメントテーブル１０９上のプリント基板材１１
が垂直保持ベース２９の右側の吸着ベース３３Ｒに吸着
される。具体的には、回動ベース１０７が起立位置に来
て当該プリント基板材１１が吸着ベース３３Ｒの吸着面
４１に接触した後、この吸着ベース３３Ｒが負圧駆動さ
れ、それと略同時にプリアライメントテーブル１０９に
対する負圧駆動が解除され、それによって、プリント基
板材１１が吸着ベース３３Ｒに受け渡される。次いで、
垂直保持ベース２９が露光位置へと移動される。

【００４９】垂直保持ベース２９が露光位置に来ると、
右側のマスク保持機構２１Ｒが垂直保持ベース２９に対
し前進して、その露光マスク４３が当該プリント基板材
１１にソフトコンタクトする（図６参照）。そして、露
光マスク４３のフォトマスクマーク７１とプリント基板
材１１の基準孔１５との位置関係をカメラ５３を通して
検出し、その位置ズレの誤差量を演算し、マスク保持機
構２１Ｒをやや後退させた状態で、誤差に応じた量だけ
パルスモータ６５を駆動する。それにより、マスク保持
枠６７が垂直面内で所定の方向へ所定量動かされて、露
光マスク４３の位置がプリント基板材１１に対してアラ
イメントされる。このようなアライメントは誤差が許容
範囲内に収まるまでトライされる。

【００５０】この後、マスク保持機構２１Ｒが再び前進
して露光マスク４３がプリント基板材１１に接し、カメ
ラ５３が待機位置へと移動される。この状態で、露光ラ
ンプ４５が点燈し、シャッター８５が開いて露光ランプ
４５からの光が露光マスク４３を通してプリント基板材
１１に照射される。このようにして、プリント基板材１
１の一方の面である第一の露光処理面１１ａに対する露
光が実行される。この後、可動反射鏡８３は退避位置へ
と移動される。前記したように、露光ランプ４５の点灯
は、プリント基板材１１の他方の面である第二の露光処
理面１１ｂに対する露光が終了するまで継続する。即
ち、第一の露光処理面１１ａと第二の露光処理面１１ｂ
の両面の露光が終了するまで露光ランプ４５を点燈させ
たままとし、次のプリント基板材１１に対する露光動作
が開始する直前までは消しておく。

【００５１】この露光が済むと、図７に示すように、マ
スク保持機構２１Ｒが後退位置に戻される。次いで、先
ず、右側の載替えハンド８９Ｒが下降位置に来て更に左
へ移動してその吸着突部９７をプリント基板材１１に押
し当てる。ここで、載替えハンド８９Ｒが負圧駆動さ
れ、それと略同時に吸着ベース３３Ｒの吸気が停止して
プリント基板材１１が載替えハンド８９Ｒに引き渡され
る。そして、この載替えハンド８９Ｒが同図に二点鎖線
で示すように右に移動して垂直保持ベース２９から離間
する。

【００５２】プリン基板材１１が載替えハンド８９Ｒに
引き渡されると、垂直保持ベース２９がピックアップ位
置に戻され、今度は左側の載替えハンド８９Ｌが下降位
置に来る。そして、左右の載替えハンド８９Ｌと８９Ｒ
とが図８に実線で示すようにプリント基板材１１を挾ん
で互いに接触される。ここで、左側の載替えハンド８９
Ｌが負圧駆動され、それと略同時に右側の載替えハンド
８９Ｒの吸気が停止してプリント基板材１１が左側の載
替えハンド８９Ｌに載せ替えられる。そして、載替えハ
ンド８９Ｌ及び８９Ｒが同図に二点鎖線で示すように互
いに離間し、ここで、右側の載替えハンド８９Ｒは上昇
位置に戻される。

【００５３】載替えハンド８９Ｌと８９Ｒとの間でこの
ような受渡しが行われている間、受入れ部１７において
は、次のプリント基板材１１に対するプリアライメント
テーブル１０９への移載、プリアライメント及び垂直保
持ベース２９への引渡しが実行され、載替えハンド８９
Ｌ、８９Ｒが互いに離間した後に、垂直保持ベース２９
が再び露光位置に来る（図９参照）。

【００５４】ここからは、図１０に示すように、左側の
載替えハンド８９Ｌが右に寄って、保持しているプリン
ト基板材１１を垂直保持ベース２９の左側の吸着ベース
３３Ｌに渡し、この後、この載替えハンド８９Ｌは上昇
位置に戻される。また、この動作と並行して、垂直保持
ベース２９の右側の吸着ベース３３Ｒが受け取ってきた
プリント基板材１１に対する右側のマスク保持機構２１
Ｒによるアライメント及び露光が前記したと同様に進行
する（図１０参照）。そして、左側の載替えハンド８９
Ｌが上昇位置に戻ったのに次いで、左側のマスク保持機
構２１Ｌによる左側のプリント基板材１１、即ち、片面
露光が済んでいるプリント基板材１１に対するアライメ
ント及び露光が進行し（図１１参照）、左側のプリント
基板材１１に対する露光を行うときは可動反射鏡８３が
退避位置へと移動される。このようにして左右での露光
が実行される。

【００５５】左側のマスク保持機構２１Ｌによる左側の
プリント基板材１１に対するアライメント及び露光が進
行するのと略並行して、右側のマスク保持機工２１Ｒが
後退され、直ちに、右側の載替えハンド８９Ｒが下降位
置を経て左に寄って片面露光済みのプリント基板材１１
を受取り、垂直保持ベース２９から右へ離れる（図１２
参照）。次いで、左側のマスク保持機構２１Ｌが後退し
た後、垂直保持ベース２９は、左側の吸着ベース３３Ｌ
で両面露光済みのプリント基板材１１を保持した状態の
ままピックアップ位置に戻される。

【００５６】垂直保持ベース２９がピックアップ位置に
来ると、取外しハンド１２５が起立位置へと移動され
て、両面露光済みのプリント基板材１１を吸着保持して
倒伏位置に戻る。このとき、所定のタイミングで取外し
ハンド１２５の吸気が停止され、当該プリント基板材１
１が図３に二点鎖線で示すように取出しコンベア１２７
上に載置される。このプリント基板材１１は取出しコン
ベア１２７により搬送コンベア１３に移されて次の工程
へ搬送されて行く。

【００５７】このようにして両面が露光済みのプリント
基板材１１が取り出されて行く間に、受入れ部１７にお
いては次のプリント基板材１１の処理が前記同様に実行
され、また、露光部２５においては右側の載替えハンド
８９Ｒに保持されているプリント基板材１１が左側の載
替えハンド８９Ｌに前記同様にして受け渡される。そし
て、垂直保持ベース２９が露光位置へと移動されて、左
側の載替えハンド８９Ｌに保持されているプリント基板
材１１が左側の吸着ベース３３Ｌに移され、ここから左
右のプリント基板材１１に対するアライメント及び露光
が実行される。以上の動作が繰返し行われることで、プ
リント基板材１１に対する両面の露光が次々実行されて
行く。

【００５８】図１４から図１６は、本発明の第二の実施
の形態に係るプリント基板材両面露光装置１４１を示す
ものである。このプリント基板材両面露光装置１４１が
前記プリント基板材両面露光装置１と相違する点は、垂
直保持ベースを上下方向へ移動させるようにしたこと及
びそれに伴う各部の位置関係にあるが、各部の機能や基
本的構成において大きな違いは無い。従って、前記プリ
ント基板材両面露光装置１における各部の機能や基本的
構成と大きな違いが無い部分については、同じ符号を使
用し、重複する説明は省略する。

【００５９】１４３は外筐を示し、その前面パネルには
大きな扉１４５が設けられている。１４７は前後仕切り
壁を示し、この前後仕切り壁１４７は、外筐１４３内部
の前後方向における中間より稍後ろ寄りの位置に垂直な
姿勢で設けられており、これによって外筐１４３の内部
は前側空間１４９と後側空間１５１とに仕切られる。１
５３は上下仕切り壁を示し、この上下仕切り壁１５３は
前側空間１４９の上下方向における略中間の位置に水平
に設けられており、この上下仕切り壁１５３の下側の部
分が受渡し室１５５になっていて、ここではプリント基
板材１１の受取と取外し及びプリアライメントだけが行
われる。また、上下仕切り壁１５３の上側の部分は露光
室１５７になっていて、ここでは、垂直保持ベース２９
に保持された状態のプリント基板材１１に対する露光マ
スク４３のアライメント及び露光と、垂直保持ベース２
９に対する載せ替えだけが行われる。

【００６０】後側空間１５１には垂直な姿勢の機構ベー
ス１５９が設けられており、この機構ベース１５９の背
面の左右方向における中央には上下方向へ延びる垂直ガ
イドレール１６１が固定されており、この垂直ガイドレ
ール１６１に垂直スライドベース１６３が摺動自在に支
持されている。垂直スライドベース１６３からは水平な
アーム１６５が前方へ向けて突出されている。このアー
ム１６５は機構ベース１５９と前後仕切り壁１４７に形
成された縦長の長孔１６７を通して前方へ突出し、この
アーム１６５の前端に垂直保持ベース２９が固定されて
いる。垂直保持ベース２９はその吸着ベース３３Ｌ、３
３Ｒが左右方向を向く向きになっている。

【００６１】垂直スライドベース１６３にはボールナッ
ト１６９が固定されており、このボールナット１６９に
はサーボモータ１７１によって回転されるボールスクリ
ュー１７３が螺合されている。従って、ボールスクリュ
ー１７３が回転することによって垂直スライドベース１
６３が上下方向へ移動され、これと一体的に垂直保持ベ
ース２９が上下方向へ移動する。垂直保持ベース２９の
移動は、図１４及び図１５に実線で示す位置すなわち受
渡し室１５５のピックアップ位置と、同図に二点鎖線で
示す位置すなわち露光室１５７の露光位置との間で行わ
れる。上下仕切り壁１５３の左右方向における中央部に
は比較的大きな通り孔１５３ａが形成されており、垂直
保持ベース２９はこの通り孔１５３ａを通って受渡し室
１５５と露光室１５７との間を移動する。

【００６２】機構ベース１５９の背面における垂直ガイ
ドレール１６１の左右両脇には左右方向へ延びる水平ガ
イドレール１７５が固定され、この水平ガイドレール１
７５に水平スライドベース１７７が摺動自在に支持され
ている。これら左右の水平スライドベース１７７から
は、それぞれ、上下２つのアーム１７９が前方へ向けて
水平に突出されている。このアーム１７９は機構ベース
１５９と前後仕切り壁１４７に形成された横長の長孔１
８１（図１６参照）を通して前方へ突出し、左側上下２
つのアーム１７９の前端には左側のマスク保持機構２１
Ｌのベース部１８３が固定され、右側上下２つのアーム
１７９の前端には右側のマスク保持機構２１Ｒのベース
部１８３が固定されている。これら左右のマスク保持機
構２１Ｌ、２１Ｒは露光室１５７にあって、その露光マ
スク４３は露光位置に来た垂直保持ベース２９を挟んで
互いに対向する向きになっている。

【００６３】水平スライドベース１７７には図示しない
ボールナットが固定されており、このボールナットには
サーボモータ１８５によって回転されるボールスクリュ
ー１８７が螺合されている。従って、ボールスクリュー
１８７が回転することによって水平スライドベース１７
７が移動され、これと一体的にマスク保持機構２１Ｌ、
２１Ｒが左右方向へ移動する。１８９は左右のマスク保
持機構２１Ｌ、２１Ｒに各別に対応して設けられた露光
用光源を示し、いずれも露光室１５７に配置されてい
る。

【００６４】外筐１４３の左側板における受渡し室１５
５と対応した上端寄りの位置にはワーク入口１９１が形
成され、右側板におけるワーク入口１９１と対向した位
置にはワーク出口１９３が形成されている。受渡し室１
５５内に配置された受取コンベア１０３の一端はワーク
入り口１９１に臨んでおり、取出しコンベア１２７の一
端はワーク出口１９３に臨んでいる。

【００６５】受渡し室１５５には、ピックアップ位置に
来た垂直保持ベース２９の左側にプリアライメント機構
１９５が、右側に取出機構１９７がそれぞれ配置されて
おり、これらプリアライメント機構１９５及び取出機構
１９７はベルトコンベア状のコンベア１９９と、このコ
ンベア１９９を支持した回動・スライド機枠２０１を備
えている。２０３は前後方向へ水平に延びる回動軸を示
し、この回動軸２０３は後側空間１５１に設けられた図
示しない制御機構によって軸回りへ９０°回動されると
共に、左右方向へ水平移動される。これにより、回動・
スライド機枠２０１は、図１５に実線で示すようにコン
ベア１９９を水平にした水平姿勢と、コンベア１９９を
垂直に立てた横倒姿勢に切替え制御され、左右方向への
移動は横倒姿勢の状態で行われる。

【００６６】回動・スライド機枠２０１の内部には図示
しない吸引手段が設けられていて、コンベア１９９の上
面が随時負圧にされる。図示しない供給コンベアに乗っ
て移送されて来たプリント基板材１１は、ワーク入口１
９１を通って受取コンベア１０３に乗載された後、プリ
アライメント機構１９５のコンベア１９９に移される。
プリアライメント機構１９５の回動・スライド機枠２０
１には、上下仕切り壁１５３の下面に取り付けられたア
ライメントセンサ２０５と協働してコンベア１９９上の
プリント基板材１１に対するプリアライメントを行う図
示しない調整手段が設けられている。

【００６７】前記機構ベース１５９の前面の左右方向に
おける略中央には別の垂直ガイドレール２０７が固定さ
れており、この垂直ガイドレール２０７に載替えハンド
用スライドベース２０９が摺動自在に支持されている。
載替えハンド用スライドベース２０９からは水平で細長
い２つの載替えハンド２１１が前方へ向けて突出されて
いる。この載替えハンド２１１は前後仕切り壁１４７に
形成された略Ｕ字形の切り溝２１３を通して前方へ突出
すると共に、載替えハンド用スライドベース２０９上で
左右方向へ移動され、互いに対向し合う面には多数の吸
着突部９７が設けられている。尚、載替えハンド用スラ
イドベース２０９の上下移動や載替えハンド２１１の左
右移動等も図示しないサーボモータ及びボールスクリュ
ーなどによって行われ、これらサーボモータ及びボール
スクリューなどは全て後側空間１５１に配置されてい
る。

【００６８】このように構成されたプリント基板材両面
露光装置１４１による動作及びその順序は、垂直保持ベ
ース２９の移動方向を除き、第一の実施の形態に示した
プリント基板材両面露光装置１における動作及びその順
序と略同様に行われる。先ず、供給されて来たプリント
基板材１１は、プリアライメント機構１９５のコンベア
１９９に移されて吸着保持され、ここでプリアライメン
トされる。このプリアライメントが終了すると、プリア
ライメント機構１９５の回動・スライド機枠２０１が横
倒姿勢になって右移動し、コンベア１９９が保持してい
るプリント基板材１１をピックアップ位置に来ている垂
直保持ベース２９の左側の吸着ベース３３Ｌに保持させ
る。次いで、垂直保持ベース２９が露光位置へと移動さ
れる。

【００６９】垂直保持ベース２９が露光位置に来ると、
左側のマスク保持機構２１Ｌが動作してプリント基板材
１１に対するアライメントを行い、この後、このマスク
保持機構２１Ｌと左側の光源１８９によって、プリント
基板材１１の第一の露光処理面１１ａに対する露光が実
行される。この露光が済むと、マスク保持機構２１Ｌが
後退する。次いで、左右の載替えハンド２１１が下降
し、先ず、左側の載替えハンド２１１が垂直保持ベース
２９から片面露光済みのプリント基板材１１を受取り、
ここで、垂直保持ベース２９がピックアップ位置に戻さ
れ、次いで、左右の載替えハンド２１１が互いに近づい
てプリント基板材１１を右側の載替えハンド２１１に渡
す。

【００７０】左右の載替えハンド２１１の間でこのよう
な受渡しが行われている間、プリアライメント機構１９
５においては次のプリント基板材１１に対するプリアラ
イメント及び垂直保持ベース２９への受渡しが実行さ
れ、次いで、垂直保持ベース２９が再び露光位置に来
る。ここからは、右側の載替えハンド２１１が保持して
いるプリント基板材１１（片面露光が済んでいるプリン
ト基板材）を垂直保持ベース２９の右側の吸着ベース３
３Ｒに渡し、この後、載替えハンド２１１が元の位置ま
で戻される。

【００７１】次いで、垂直保持ベース２９の左側の吸着
ベース３３Ｌが受け取ってきた未露光のプリント基板材
１１に対する左側のマスク保持機構２１Ｌによるアライ
メント及び露光と、右側のマスク保持機構２１Ｒによる
右側のプリント基板材１１、即ち、片面露光が済んでい
るプリント基板材１１の第二の露光処理面１１ｂに対す
るアライメント及び露光が進行する。このようにして左
右での露光が実行される。

【００７２】そして、左側のプリント基板材１１が左側
の載替えハンド２１１によって保持された後、垂直保持
ベース２９は、右側の吸着ベース３３Ｒで両面露光済み
のプリント基板材１１を保持した状態のままピックアッ
プ位置に戻され、今度は、取出機構１９７が横倒姿勢で
左移動してそのコンベア１９９が両面露光済みのプリン
ト基板材１１を吸着保持して元の位置に戻り、このプリ
ント基板材１１は取出しコンベア１２７上に移され、次
の工程へ搬送されて行く。

【００７３】このようにして両面が露光済みのプリント
基板材１１が取り出されて行く間に、次のプリント基板
材１１の処理が前記同様に実行され、また、露光室１５
７においては左側の載替えハンド２１１に保持されてい
る片面露光済みのプリント基板材１１が右側の載替えハ
ンド２１１に受け渡される。そして、垂直保持ベース２
９が露光位置へと移動されると、右側の載替えハンド２
１１が保持していたプリント基板材１１を垂直保持ベー
ス２９に吸着させ、ここで、左右のプリント基板材１１
に対するアライメント及び露光が実行される。

【００７４】以上のように、このプリント基板材両面露
光装置１４１においては、プリント基板材１１に対する
受渡し時の処理を行うためのプリアライメント機構１９
５や取出機構１９７等と、アライメントや露光処理等を
行うための左右のマスク保持機構２１Ｌ、２１Ｒとが階
層状に設けられているので、これら各部を平面状に配置
した前記プリント基板材両面露光装置１に較べて、平面
的サイズを４分の３から３分の２程度にまで小さくでき
る。

【００７５】しかも、ガイドレール１６１、１７５、２
０７と摺動するスライドベース１６３、１７７、２０９
や、サーボモータ１７１、１８５及びボールスクリュー
１７３、１８７等、塵埃を発生し易い駆動手段の全てが
後側空間１５１にまとまめて配置され、この後側空間１
５１はプリント基板材１１や露光マスク４３が位置する
前側空間１４９とは前後仕切り壁１４７によって隔絶さ
れているため、これらプリント基板材１１や露光マスク
４３に塵埃が付着するのを防止することができる。

【００７６】その上、前側空間１５１は上下仕切り壁１
５３によって下側の受渡し室１５５と上側の露光室１５
７とに区画され、受渡し室１５５ではプリント基板材１
１の受取と取外し及びプリアライメントだけが行われ、
露光は上の階にある露光室１５７において行うようにな
っているので、最もクリーンな状態を要求される露光マ
スク４３に塵埃が付着するのを効果的に防止できる。

【００７７】以上、本発明の実施の形態について詳述し
てきたが、具体的な構成はこの実施の形態に限られるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲における設
計の変更などがあっても本発明に含まれる。特に、実施
の形態においては、本発明をプリント基板材のレジスト
膜を露光するための露光装置に適用したが、本発明は、
所定の露光パターンが形成された露光マスクを通して露
光されるべき各種の被露光板の一面又は両面を露光する
ための露光装置として広く適用することができる。

【００７８】

【発明の効果】以上のように、本発明露光装置にあって
は、供給されて来た被露光板は垂直保持ベースのワーク
保持面に受け取られることで垂直な姿勢にされ、この姿
勢で、垂直姿勢の露光マスクとの間の相対的位置合わせ
と露光とが実行されるので、被露光板と露光マスクに塵
埃が付着する惧れをかなり小さくすることができると共
に、装置の平面的サイズを大幅に小型化することができ
る。そして、露光マスクは、常時、垂直な姿勢に保持さ
れるので、水平な姿勢で設けられる場合に生じる自然撓
みの発生をほぼ皆無にすることができ、従って、被露光
板と露光マスクとが隙間無く接触することが保証され、
このことは、露光精度の信頼性を大きく高めることにな
る。

【００７９】請求項２の発明によれば、供給されて来た
被露光板は、垂直保持ベースに保持される前にプリアラ
イメント手段により予備的位置合わせが行われるので、
露光マスク支持手段によるアライメント処理の絞り込み
回数が少なくて済み、それにより、最終的な位置合わせ
のための処理時間を短縮することができる。

【００８０】請求項３の発明にあっては、垂直保持ベー
スに保持された被露光板に対しての露光マスク支持手段
による位置合わせ及び露光が進行する間に、次の被露光
板に対してのプリアライメント手段による予備的位置合
わせが進行するので、予備的位置合わせを行うための特
別な時間枠を設けなくて済む。

【００８１】請求項４の発明にあっては、被露光板の２
つの露光処理面に対する露光マスクの位置合わせ及び露
光は、２つの露光処理面のいずれもについても、被露光
板が垂直保持ベースに位置決めされた状態で行われるた
めに、被露光板が位置ズレすることは無く、従って、高
い精度で露光を行うことができる。しかも、２つの露光
処理面を順番に露光処理するにも拘らず、被露光板を保
持するための垂直保持ベースは１つで済むので、装置が
大型化することも無い。

【００８２】請求項５の発明によれば、第一の露光処理
面の露光が済んだ被露光板を２つのワーク載替えハンド
が受渡ししている間に、両面の露光が済んだ被露光板の
取外しと次の被露光板の受取が実行されるので、両面の
露光を別々に行うにも拘らず、全体としての処理時間が
長くなるこは無い。

【００８３】請求項６の発明は、請求項１から５に記載
した露光装置のいずれかにおいて、垂直保持ベースの移
動が上下方向へ行われるようにしたものである。従っ
て、この発明にあっては、垂直保持ベースに対する被露
光板の着脱やプリアライメントを担う手段と、露光を担
う手段とが階層状に配置されることになるので、これら
を平面的に配置する場合と較べて、装置に必要な平面的
サイズがかなり小さくて済む。

【００８４】請求項７の発明は、請求項６に記載の露光
装置において、この装置の外筐内部を仕切り壁によって
前側空間と後側空間とに仕切り、前側空間には垂直保持
ベースと露光マスク支持手段と光学系等の作業手段を配
置し、後側空間には前記作業手段を移動させるための駆
動手段を配置したものである。このようにすれば、駆動
手段から発生する塵埃が被露光板や露光マスクに付着す
るのをより確実に防止することができると共に、露光マ
スクの交換とか、アライメント手段の調整や各種の整備
といったメンテナンスの多くを一方向から行うことがで
きる。

【００８５】請求項８の発明は、請求項７に記載の露光
装置において、前側空間を仕切り壁によって上室と下室
とに仕切り、この下室を被露光板の垂直保持ベースに対
する着脱等が行われる受渡し室とし、上室を被露光板に
対する露光が行われる露光室としたものである。これに
よって、露光が行われる空間を一層クリーンに保つこと
ができる。

【００８６】請求項９の発明によれば、第一の露光処理
面に対する露光の開始から第二の露光処理面に対する露
光が終了するまでの間、露光ランプを点燈させたままに
できるので、露光ランプの寿命を大幅に延ばすことがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一の実施の形態に係るプリント基板
材両面露光装置を外筐を切断して示す平面図である。

【図２】図１に示すプリント基板材両面露光装置におけ
る露光部の垂直断面図である。

【図３】図１に示すプリント基板材両面露光装置におけ
る受入れ部及び取外し部の垂直断面図である。

【図４】図１に示すプリント基板材両面露光装置におけ
る露光部の要部斜視図である。

【図５】図１に示すプリント基板材両面露光装置におけ
る載替えハンドの斜視図である。

【図６】図１に示すプリント基板材両面露光装置におい
て、初期のプリント基板材に対する露光等の処理が行わ
れている状態を示す要部正面図である。

【図７】図１に示すプリント基板材両面露光装置におい
て、片面の露光が済んだプリント基板材を載替えハンド
が受け取っている状態を示す要部正面図である。

【図８】図１に示すプリント基板材両面露光装置におい
て、片面の露光が済んだプリント基板材を左右の載替え
ハンドが受渡しする状態を示す要部正面図である。

【図９】図１に示すプリント基板材両面露光装置におい
て、未露光のプリント基板材を受け取って来た垂直保持
ベースが露光位置に来た状態を示す要部正面図である。

【図１０】図１に示すプリント基板材両面露光装置にお
いて、片面の露光が済んだプリント基板材が垂直保持ベ
ースの左側の吸着ベースに移載された状態を示す要部正
面図である。

【図１１】図１に示すプリント基板材両面露光装置にお
いて、左右２枚のプリント基板材に対する露光等が行わ
れている状態を示す要部正面図である。

【図１２】図１に示すプリント基板材両面露光装置にお
いて、両面露光が済んだ状態を示す要部正面図である。

【図１３】図１に示すプリント基板材両面露光装置の動
作フローを示すチャート図である。

【図１４】本発明の第二の実施の形態に係るプリント基
板材両面露光装置を一部切り欠いて示す要部斜視図であ
る。

【図１５】図１４に示すプリント基板材両面露光装置を
外筐を切断して示す拡大正面図である。

【図１６】図１４に示すプリント基板材両面露光装置を
外筐を切断して示す拡大平面図である。

【符号の説明】

１露光装置１１被露光板１１ａ（第一の）露光処理面１１ｂ（第二の）露光処理面２１Ｌ露光マスク支持手段２１Ｒ露光マスク支持手段２３光学系２９垂直保持ベース３３Ｌワーク保持面３３Ｒワーク保持面４３露光マスク４５露光ランプ８５シャッター８９Ｌ（他方の）ワーク載替えハンド８９Ｒ（一方の）ワーク載替えハンド１０９プリアライメント手段１２５ワーク取外し手段１４１露光装置１４３外筐１４７前後仕切り壁１４９前側空間１５１後側空間１５３仕切り壁１５５下室（受渡し室）１５７上室（露光室）１６９、１７１、１７３駆動手段１８５、１８７駆動手段１８９光学系（露光ランプ）１９５プリアライメント手段２１１載替えハンド

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＨ０１Ｌ 21/30 ５０８Ａ５１１

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被露光板の露光処理面を所定の露光パター
ンが形成された露光マスクを通して露光する露光装置で
あって、供給されて来た被露光板を垂直な姿勢で受け取
るワーク保持面を有した垂直保持ベースと、露光マスク
を前記垂直保持ベースに保持された被露光板に対して接
触離間自在に且つ位置合わせ自在に支持した露光マスク
支持手段と、露光を行うための光学系とを備え、垂直保
持ベースは被露光板を受け取るピックアップ位置と露光
マスク支持手段に対向した露光位置との間を相対的に移
動することを特徴とする露光装置。
【請求項２】請求項１に記載の露光装置において、供給
されて来た被露光板を垂直保持ベースに受け取らせる前
に被露光板の予備的位置合わせを行うプリアライメント
手段を設けたことを特徴とする露光装置。
【請求項３】請求項２に記載の露光装置において、垂直
保持ベースに保持された被露光板に対しての露光マスク
支持手段による位置合わせ及び露光が進行する間に、次
の被露光板に対してのプリアライメント手段による予備
的位置合わせが進行するようにしたことを特徴とする露
光装置。
【請求項４】請求項１から３に記載した露光装置のいず
れかにおいて、垂直保持ベースは互いに反対側を向いた
２つのワーク保持面を有し、この２つのワーク保持面に
各別に対応した２つの露光マスク支持手段と、前記２つ
のワーク保持面のそれぞれに対応して設けられた２つの
ワーク載替えハンドとを備え、一方のワーク保持面に保
持された被露光板の第一の露光処理面に対する一方のマ
スク支持手段による位置合わせ及び露光が終了した後、
この被露光板を一方のワーク載替えハンドから他方のワ
ーク載替えハンドを経て他方のワーク保持面に保持さ
せ、ここで第二の露光処理面に対する他方のマスク支持
手段による位置合わせ及び露光を行うようにしたことを
特徴とする露光装置。
【請求項５】請求項１から４に記載の露光装置におい
て、ピックアップ位置に来た垂直保持ベースを挾んでプ
リアライメント手段と反対側の位置にワーク取外し手段
を配置し、第一の露光処理面に対する露光が終了した被
露光板がワーク載替えハンドに保持された後垂直保持ベ
ースをピックアップ位置に戻し、他方のワーク保持面が
保持していた被露光板を前記ワーク取外し手段により取
外すと共に次の被露光板を垂直保持ベースに保持させた
後垂直保持ベースを露光位置へと移動させるようにした
ことを特徴とする露光装置。
【請求項６】請求項１から５に記載した露光装置のいず
れかにおいて、垂直保持ベースの移動が上下方向へ行わ
れるようにしたことを特徴とする露光装置。
【請求項７】請求項６に記載の露光装置において、この
装置の外筐内部を仕切り壁によって前側空間と後側空間
とに仕切り、前側空間には垂直保持ベースと露光マスク
支持手段と光学系等の作業手段を配置し、後側空間には
前記作業手段を移動させるための駆動手段を配置したこ
とを特徴とする露光装置。
【請求項８】請求項７に記載の露光装置において、前側
空間を仕切り壁によって上室と下室とに仕切り、この下
室を被露光板の垂直保持ベースに対する着脱が行われる
受渡し室とし、上室を被露光板に対する露光が行われる
露光室としたことを特徴とする露光装置。
【請求項９】請求項４から８に記載の露光装置のいずれ
かにおいて、光学系にシャッターを介挿すると共に、第
一の露光処理面に対する露光の開始から第二の露光処理
面に対する露光が終了するまでの間、露光ランプを点燈
させたままとし、露光時のみ前記シャッターを開放する
ことを特徴とする露光装置。