JPH07249671A - 搬送装置 - Google Patents
搬送装置Info
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- JPH07249671A JPH07249671A JP3954494A JP3954494A JPH07249671A JP H07249671 A JPH07249671 A JP H07249671A JP 3954494 A JP3954494 A JP 3954494A JP 3954494 A JP3954494 A JP 3954494A JP H07249671 A JPH07249671 A JP H07249671A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- hand
- sensor
- cassette
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Specific Conveyance Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板を位置合わせした状態でカセット等から
取出可能で、取出等に際してパーティクルの発生がな
く、簡易でスループットの高い搬送装置を提供するこ
と。 【構成】 ハンド4上の所定位置に対する基板5端部の
ずれの有無を検出するセンサDSと、ハンド4をカセッ
ト内に挿入するとともにセンサDSの出力に基づいてハ
ンド4上の所定位置に対する基板5端部のずれがなくな
るまでハンド4の位置を調整する制御装置とを備える。
カセット内の基板5とハンド4の相対的位置を調整した
状態でこの基板5をハンド4で保持しカセット外に取り
出す。したがって、何らかの原因でカセット6外へ基板
5の飛び出しが生じている場合にも、基板5の位置ズレ
を補償した状態でカセット6外に搬出できる。なお、ハ
ンド4と基板5が擦れないので基板5搬出に際してパー
ティクル発生の問題がほとんど生じない。
取出可能で、取出等に際してパーティクルの発生がな
く、簡易でスループットの高い搬送装置を提供するこ
と。 【構成】 ハンド4上の所定位置に対する基板5端部の
ずれの有無を検出するセンサDSと、ハンド4をカセッ
ト内に挿入するとともにセンサDSの出力に基づいてハ
ンド4上の所定位置に対する基板5端部のずれがなくな
るまでハンド4の位置を調整する制御装置とを備える。
カセット内の基板5とハンド4の相対的位置を調整した
状態でこの基板5をハンド4で保持しカセット外に取り
出す。したがって、何らかの原因でカセット6外へ基板
5の飛び出しが生じている場合にも、基板5の位置ズレ
を補償した状態でカセット6外に搬出できる。なお、ハ
ンド4と基板5が擦れないので基板5搬出に際してパー
ティクル発生の問題がほとんど生じない。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示器用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板等の各種基板の搬送装置
に関するものである。
板、フォトマスク用ガラス基板等の各種基板の搬送装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体基板、液晶表示器用ガラス基板等
の微細表面処理等のため、各種の処理装置が用いられて
いるが、このような処理装置では、自動搬送装置を用い
て、複数の基板を格納したカセットとプロセスラインと
の間で被処理体である基板を遣り取りしている。
の微細表面処理等のため、各種の処理装置が用いられて
いるが、このような処理装置では、自動搬送装置を用い
て、複数の基板を格納したカセットとプロセスラインと
の間で被処理体である基板を遣り取りしている。
【0003】しかし、何らかの原因でカセットから基板
が飛び出してしまっている場合や、プロセスライン内で
基板の位置がずれている場合には、このような位置ズレ
によって基板を破損する問題や、カセットや処理部への
収容不良の状態を生じる問題がある。
が飛び出してしまっている場合や、プロセスライン内で
基板の位置がずれている場合には、このような位置ズレ
によって基板を破損する問題や、カセットや処理部への
収容不良の状態を生じる問題がある。
【0004】このような不都合を防止するための方法と
して、以下のような従来技術が存在する。
して、以下のような従来技術が存在する。
【0005】第1の従来技術は、発明協会公開技報93
−8376号に記載のように、吸着ハンドであるチャッ
ク部上にブロックを設け、このブロックでカセットから
飛び出した基板をこのカセット内の正規の位置まで押し
込んで位置合わせし、このように位置合わせした状態で
基板を取り出す。
−8376号に記載のように、吸着ハンドであるチャッ
ク部上にブロックを設け、このブロックでカセットから
飛び出した基板をこのカセット内の正規の位置まで押し
込んで位置合わせし、このように位置合わせした状態で
基板を取り出す。
【0006】第2の従来技術は、特公平5−73347
号に記載のように、カセットから飛び出している基板を
そのままの状態で取り出し、一旦位置合わせ用の載置台
に乗せ換えてここで基板の位置合わせを行い、位置合わ
せした状態の基板を測定部に供給する。
号に記載のように、カセットから飛び出している基板を
そのままの状態で取り出し、一旦位置合わせ用の載置台
に乗せ換えてここで基板の位置合わせを行い、位置合わ
せした状態の基板を測定部に供給する。
【0007】第3の従来技術は、発明協会公開技報93
−13849号に記載のように、吸着ハンドであるツイ
ーザの先端に反射型光センサを設け、この反射型センサ
によって基板の飛び出しの有無を検知し、基板をプロセ
スラインに挿入する際の引っかかり、破損等を未然に防
止する。
−13849号に記載のように、吸着ハンドであるツイ
ーザの先端に反射型光センサを設け、この反射型センサ
によって基板の飛び出しの有無を検知し、基板をプロセ
スラインに挿入する際の引っかかり、破損等を未然に防
止する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、第1の従来技
術では、基板の位置合わせはできるが、カセットと基板
が擦れるため、パーティクルが発生し基板が汚染される
おそれがある。
術では、基板の位置合わせはできるが、カセットと基板
が擦れるため、パーティクルが発生し基板が汚染される
おそれがある。
【0009】また、第2の従来技術では、パーティクル
の発生がほとんどないが、位置合わせ用の追加の装置が
必要となり、スループットが下がり、省スペースの要求
に反し、コストアップとなる。
の発生がほとんどないが、位置合わせ用の追加の装置が
必要となり、スループットが下がり、省スペースの要求
に反し、コストアップとなる。
【0010】さらに、第3の従来技術では、以上のよう
な問題がほとんど生じないが、破損を未然に検知するの
みで、位置合わせの操作自体はオペレータが行わざるを
得ない。しかも、基板の種類や各処理段階に応じて基板
端部の反射率や加工状態が異なるため、基板の有無の判
断が正確でない。殊に、透明なガラス基板の場合、基板
の飛び出しの有無が検出できない場合も生じ得る。
な問題がほとんど生じないが、破損を未然に検知するの
みで、位置合わせの操作自体はオペレータが行わざるを
得ない。しかも、基板の種類や各処理段階に応じて基板
端部の反射率や加工状態が異なるため、基板の有無の判
断が正確でない。殊に、透明なガラス基板の場合、基板
の飛び出しの有無が検出できない場合も生じ得る。
【0011】そこで、本発明は、基板の位置ズレに拘ら
ず、基板を位置合わせした状態でカセット等から取出可
能で、取出等に際してパーティクルの発生がなく、簡易
でスループットの高い搬送装置を提供することを目的と
する。
ず、基板を位置合わせした状態でカセット等から取出可
能で、取出等に際してパーティクルの発生がなく、簡易
でスループットの高い搬送装置を提供することを目的と
する。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、この発明の請求項1の搬送装置は、基板を保持可能
なハンドと、ハンドに設けられるとともに、ハンド上の
所定位置に対する基板端部のずれの有無を検出するセン
サと、所定の受け渡し場所に置かれた前記基板に向けて
前記ハンドを進出させるとともに、センサの出力に基づ
いて、ハンド上の所定位置に対する基板端部のずれがな
くなるまでハンドの位置を調整する制御装置とを備え
る。
め、この発明の請求項1の搬送装置は、基板を保持可能
なハンドと、ハンドに設けられるとともに、ハンド上の
所定位置に対する基板端部のずれの有無を検出するセン
サと、所定の受け渡し場所に置かれた前記基板に向けて
前記ハンドを進出させるとともに、センサの出力に基づ
いて、ハンド上の所定位置に対する基板端部のずれがな
くなるまでハンドの位置を調整する制御装置とを備え
る。
【0013】また、請求項2の搬送装置は、受け渡し場
所内の基板がガラス基板であり、センサがハンド上の所
定位置の近傍で基板端部に当接して基板とともに変位す
る変位部材を備えることを特徴とする。
所内の基板がガラス基板であり、センサがハンド上の所
定位置の近傍で基板端部に当接して基板とともに変位す
る変位部材を備えることを特徴とする。
【0014】また、請求項3の搬送装置は、センサが、
ハンド上の所定位置における基板の有無に応じて出力が
切り替わり、制御装置が、ハンドを基板に向けて進出さ
せるに際して比較的高速度で進出を開始させるととも
に、ハンドが基板受け渡し場所の所定部位に達する前に
センサが基板の存在を検知した場合に、ハンドの挿入の
進出を停止し、センサが基板の存在を検知しなくなるま
で、ハンドを前記所定部位から遠ざかる方向に比較的低
速度で後退させることを特徴とする。
ハンド上の所定位置における基板の有無に応じて出力が
切り替わり、制御装置が、ハンドを基板に向けて進出さ
せるに際して比較的高速度で進出を開始させるととも
に、ハンドが基板受け渡し場所の所定部位に達する前に
センサが基板の存在を検知した場合に、ハンドの挿入の
進出を停止し、センサが基板の存在を検知しなくなるま
で、ハンドを前記所定部位から遠ざかる方向に比較的低
速度で後退させることを特徴とする。
【0015】
【作用】請求項1の搬送装置は、ハンド上の所定位置に
対する基板端部のずれの有無を検出するセンサと、ハン
ドを所定の受け渡し場所に置かれた基板に向けて進出さ
せるとともにセンサの出力に基づいてハンド上の所定位
置に対する基板端部のずれがなくなるまでハンドの位置
を調整する制御装置とを備えるので、受け渡し場所にお
ける基板端部とハンドの所定位置との相対位置、すなわ
ち基板とハンドとの相対的位置を調整した状態でこの基
板をハンドで保持して受け渡し場所から取り出すことが
できる。したがって、何らかの原因で受け渡し場所にお
ける基板の飛び出し等が生じている場合にも、基板の位
置ズレを補償した状態で基板を受け渡し場所から搬出で
きる。この場合、ハンドと基板が擦れないので基板搬出
に際してパーティクル発生の問題がほとんど生じない。
また、ハンドのみの位置調整によって基板の位置ズレを
補償しているので、位置ズレ補償用の特別の装置を必要
とせず、省スペースでスループットの高い搬送装置を提
供することができる。
対する基板端部のずれの有無を検出するセンサと、ハン
ドを所定の受け渡し場所に置かれた基板に向けて進出さ
せるとともにセンサの出力に基づいてハンド上の所定位
置に対する基板端部のずれがなくなるまでハンドの位置
を調整する制御装置とを備えるので、受け渡し場所にお
ける基板端部とハンドの所定位置との相対位置、すなわ
ち基板とハンドとの相対的位置を調整した状態でこの基
板をハンドで保持して受け渡し場所から取り出すことが
できる。したがって、何らかの原因で受け渡し場所にお
ける基板の飛び出し等が生じている場合にも、基板の位
置ズレを補償した状態で基板を受け渡し場所から搬出で
きる。この場合、ハンドと基板が擦れないので基板搬出
に際してパーティクル発生の問題がほとんど生じない。
また、ハンドのみの位置調整によって基板の位置ズレを
補償しているので、位置ズレ補償用の特別の装置を必要
とせず、省スペースでスループットの高い搬送装置を提
供することができる。
【0016】また、請求項2の搬送装置は、受け渡し場
所における基板がガラス基板であり、センサがハンド上
の所定位置の近傍で基板端部に当接して基板とともに変
位する変位部材を備えるので、この変位部材の変位を検
出することにより、ハンド上の所定位置に対する基板端
部のずれの有無を検出することができる。この場合、基
板端面を直接光学的に検出しないので、ガラス基板の各
処理段階に応じて基板端部の反射率や加工状態が異なっ
ている場合であっても、基板の位置ズレを正確に補償し
た状態で受け渡し場所外に搬出できる。
所における基板がガラス基板であり、センサがハンド上
の所定位置の近傍で基板端部に当接して基板とともに変
位する変位部材を備えるので、この変位部材の変位を検
出することにより、ハンド上の所定位置に対する基板端
部のずれの有無を検出することができる。この場合、基
板端面を直接光学的に検出しないので、ガラス基板の各
処理段階に応じて基板端部の反射率や加工状態が異なっ
ている場合であっても、基板の位置ズレを正確に補償し
た状態で受け渡し場所外に搬出できる。
【0017】また、請求項3の搬送装置は、制御装置
が、ハンドを受け渡し場所に進出させるに際して、ハン
ドが受け渡し場所内の所定部位に達する前にセンサが基
板の存在を検知した場合に、ハンドの進出を停止させ、
センサが基板の存在を検知しなくなるまで、ハンドを前
記所定部位から遠ざかる方向に比較的低速度で後退させ
る。したがって、ハンドを位置合わせの直前まで迅速に
移動させることができるので、基板端部とハンドの所定
位置とを迅速に位置合わせでき、搬送速度を簡易に高め
ることができる。
が、ハンドを受け渡し場所に進出させるに際して、ハン
ドが受け渡し場所内の所定部位に達する前にセンサが基
板の存在を検知した場合に、ハンドの進出を停止させ、
センサが基板の存在を検知しなくなるまで、ハンドを前
記所定部位から遠ざかる方向に比較的低速度で後退させ
る。したがって、ハンドを位置合わせの直前まで迅速に
移動させることができるので、基板端部とハンドの所定
位置とを迅速に位置合わせでき、搬送速度を簡易に高め
ることができる。
【0018】
【実施例】以下、この発明の搬送装置をカセットからガ
ラス基板を順次取り出してプロセスラインに搬送するた
めのローダに応用した実施例について詳細に説明する。
ラス基板を順次取り出してプロセスラインに搬送するた
めのローダに応用した実施例について詳細に説明する。
【0019】図1は、実施例のローダの全体を示す側面
図である。ローダ2から延びる吸着ハンド4は、複数の
液晶表示器用ガラス基板5を収納したカセット6内に進
入し、液晶表示器用ガラス基板5を保持し、これをカセ
ット6外に搬出し、所定のプロセスライン(図示せず)
の最初の処理部に搬入する。プロセスラインとは、複数
の処理部からなる基板処理装置であり、例えば成膜、洗
浄、レジストコーティング、露光、現像、エッチング、
レジスト剥離等の各種の処理工程用の処理部を含む。
図である。ローダ2から延びる吸着ハンド4は、複数の
液晶表示器用ガラス基板5を収納したカセット6内に進
入し、液晶表示器用ガラス基板5を保持し、これをカセ
ット6外に搬出し、所定のプロセスライン(図示せず)
の最初の処理部に搬入する。プロセスラインとは、複数
の処理部からなる基板処理装置であり、例えば成膜、洗
浄、レジストコーティング、露光、現像、エッチング、
レジスト剥離等の各種の処理工程用の処理部を含む。
【0020】吸着ハンド4は、ステージ7に設けられた
レール(図示せず)にガイドされていて、ステージ7上
を水平X方向に往復動する。吸着ハンド4の往復動は、
モータ7aの回転をベルト7bを介して伝達することに
よって制御する。
レール(図示せず)にガイドされていて、ステージ7上
を水平X方向に往復動する。吸着ハンド4の往復動は、
モータ7aの回転をベルト7bを介して伝達することに
よって制御する。
【0021】ステージ7は、基台8内に設けられたモー
タ8aによって軸8bを中心としてθ方向に自在に回転
(旋回)する。また、ステージ7は、基台8内に設けら
れた別のモータ8cの回転を垂直往復動に変換する伝達
機構8dによって軸8bごと垂直Z方向に上下動する。
この結果、吸着ハンド4は、円筒座標の任意の点に移動
することができる。吸着ハンド4の位置は、ステッピン
グモータである各モータ7a、8a、8cの制御信号を
カウントすることによって行っている。コントローラ9
は、各モータ7a、8a、8cを駆動しつつその制御信
号をモニタし、吸着ハンド4を所望の位置に制御しつつ
移動させる。
タ8aによって軸8bを中心としてθ方向に自在に回転
(旋回)する。また、ステージ7は、基台8内に設けら
れた別のモータ8cの回転を垂直往復動に変換する伝達
機構8dによって軸8bごと垂直Z方向に上下動する。
この結果、吸着ハンド4は、円筒座標の任意の点に移動
することができる。吸着ハンド4の位置は、ステッピン
グモータである各モータ7a、8a、8cの制御信号を
カウントすることによって行っている。コントローラ9
は、各モータ7a、8a、8cを駆動しつつその制御信
号をモニタし、吸着ハンド4を所望の位置に制御しつつ
移動させる。
【0022】図2は、図1のローダ2の吸着ハンド4部
分を拡大した部分破断平面図である。
分を拡大した部分破断平面図である。
【0023】また、図3は図2の − 方向から見た概
念的部分断面図である。さらに、図4は、後述する回転
アーム44とズレセンサDSの配置関係を示した部分拡
大図であり、図5は、ハンド本体14の側方部分断面図
であって、回転アーム44とズレセンサDSの立体的位
置関係を示す側面図となっている。
念的部分断面図である。さらに、図4は、後述する回転
アーム44とズレセンサDSの配置関係を示した部分拡
大図であり、図5は、ハンド本体14の側方部分断面図
であって、回転アーム44とズレセンサDSの立体的位
置関係を示す側面図となっている。
【0024】図2に示されているようにハンド本体14
(金属製ハウジング)の上面には、液晶表示器用ガラス
基板5(一点鎖線)を吸着する3つの真空チャック24
が設けられており、図示しない真空装置からの負圧がこ
の真空チャック24に与えられる。ハンド本体14の中
央部は中空となっていて、基板有無センサ34と回転ア
ーム44とズレセンサDSとが内蔵されている。これら
のセンサ34、DSは、ケース64内に収納されたセン
サ駆動回路その他の装置によって駆動される。これらの
センサ34、DSの検出結果は、図1の制御装置9に入
力される。
(金属製ハウジング)の上面には、液晶表示器用ガラス
基板5(一点鎖線)を吸着する3つの真空チャック24
が設けられており、図示しない真空装置からの負圧がこ
の真空チャック24に与えられる。ハンド本体14の中
央部は中空となっていて、基板有無センサ34と回転ア
ーム44とズレセンサDSとが内蔵されている。これら
のセンサ34、DSは、ケース64内に収納されたセン
サ駆動回路その他の装置によって駆動される。これらの
センサ34、DSの検出結果は、図1の制御装置9に入
力される。
【0025】基板有無センサ34は、液晶表示器用ガラ
ス基板5の存在の有無を補助的に検出するために用いる
もので、発光部34a及び受光部34bを備える。図3
に示すように発光部34aからの検査光は、スリット1
4aをへて液晶表示器用ガラス基板5の下面で通常反射
され、再びスリット14aをへて受光部34bに入射す
る。液晶表示器用ガラス基板5が図示の位置にない場
合、受光部34bに検査光が入射しなくなるので、液晶
表示器用ガラス基板5が吸着ハンド4の上方にないこと
を認識できる。この場合、吸着ハンド4は、液晶表示器
用ガラス基板5の搬出動作を行わず、カセット6から迅
速に後退して次の動作にうつる。
ス基板5の存在の有無を補助的に検出するために用いる
もので、発光部34a及び受光部34bを備える。図3
に示すように発光部34aからの検査光は、スリット1
4aをへて液晶表示器用ガラス基板5の下面で通常反射
され、再びスリット14aをへて受光部34bに入射す
る。液晶表示器用ガラス基板5が図示の位置にない場
合、受光部34bに検査光が入射しなくなるので、液晶
表示器用ガラス基板5が吸着ハンド4の上方にないこと
を認識できる。この場合、吸着ハンド4は、液晶表示器
用ガラス基板5の搬出動作を行わず、カセット6から迅
速に後退して次の動作にうつる。
【0026】図2の回転アーム44は、ベアリングを内
蔵する回転軸44aを中心に、水平面内でシーソー様に
往復回転(旋回)する。この旋回の様子が図4に示され
ている。この回転アーム44の一端には、水平面内で回
転可能にベアリングで軸支された樹脂製のローラ44b
(好ましくはフッ素樹脂製ローラ)が取り付けられてい
る。図5に示されているようにこのローラ44bは、ハ
ンド本体14の上面から突出しており、ハンド本体14
がカセット6中に並ぶ液晶表示器用ガラス基板5の直下
に近接して挿入された場合に、液晶表示器用ガラス基板
5の端部に当接してこの基板5の端部によって図4の右
方向に押圧される。図4に仮想線で示すように、ローラ
44bへのこの押圧力によって回転アーム44は水平面
内で旋回するが、この旋回につれてローラ44bは回転
軸44aを中心にして公転するとともに、基板5の端部
上を相対的に転がるような関係で自転する。すなわち、
液晶表示器用ガラス基板5が図4の一点鎖線の位置にあ
るとき、ローラ44bは図示の位置にあるが、液晶表示
器用ガラス基板5が二点鎖線の位置に移動したとき、ロ
ーラ44bは液晶表示器用ガラス基板5の端部の位置に
応じて変位するとともにそれに応じた角度だけ自転して
いる。
蔵する回転軸44aを中心に、水平面内でシーソー様に
往復回転(旋回)する。この旋回の様子が図4に示され
ている。この回転アーム44の一端には、水平面内で回
転可能にベアリングで軸支された樹脂製のローラ44b
(好ましくはフッ素樹脂製ローラ)が取り付けられてい
る。図5に示されているようにこのローラ44bは、ハ
ンド本体14の上面から突出しており、ハンド本体14
がカセット6中に並ぶ液晶表示器用ガラス基板5の直下
に近接して挿入された場合に、液晶表示器用ガラス基板
5の端部に当接してこの基板5の端部によって図4の右
方向に押圧される。図4に仮想線で示すように、ローラ
44bへのこの押圧力によって回転アーム44は水平面
内で旋回するが、この旋回につれてローラ44bは回転
軸44aを中心にして公転するとともに、基板5の端部
上を相対的に転がるような関係で自転する。すなわち、
液晶表示器用ガラス基板5が図4の一点鎖線の位置にあ
るとき、ローラ44bは図示の位置にあるが、液晶表示
器用ガラス基板5が二点鎖線の位置に移動したとき、ロ
ーラ44bは液晶表示器用ガラス基板5の端部の位置に
応じて変位するとともにそれに応じた角度だけ自転して
いる。
【0027】ズレセンサ本体54は、回転アーム44の
他端の動きを検出するフォトインタラプタ54aを備
え、液晶表示器用ガラス基板5の位置ズレを電気的に検
知し、制御装置9に出力する。
他端の動きを検出するフォトインタラプタ54aを備
え、液晶表示器用ガラス基板5の位置ズレを電気的に検
知し、制御装置9に出力する。
【0028】アーム本体44cは、上下部材とこれらに
挟まれた中間部材からなる断面がコ字状の材料から形成
され、その溝部分にバネ44fを収容している。このア
ーム本体44cの一端に形成されたローラ44bは、ハ
ンド本体14の上面に形成されている開口44d(図
4)を介してハンド本体14上に突出している(図
5)。アーム本体44cの他端に形成された遮光用の板
状のセクタ44eは、ズレセンサ54のフォトインタラ
プタ54aの間に進出したり待避したりする(図5)。
アーム本体44cは、ハンド本体14側に固定されたピ
ン44fとこれに係止されたバネ44gとよって、図4
の時計方向に向けて付勢されている。ただし、アーム本
体44cは、ストッパ44fによって、実線の位置以上
の時計方向の回転が禁止されている。
挟まれた中間部材からなる断面がコ字状の材料から形成
され、その溝部分にバネ44fを収容している。このア
ーム本体44cの一端に形成されたローラ44bは、ハ
ンド本体14の上面に形成されている開口44d(図
4)を介してハンド本体14上に突出している(図
5)。アーム本体44cの他端に形成された遮光用の板
状のセクタ44eは、ズレセンサ54のフォトインタラ
プタ54aの間に進出したり待避したりする(図5)。
アーム本体44cは、ハンド本体14側に固定されたピ
ン44fとこれに係止されたバネ44gとよって、図4
の時計方向に向けて付勢されている。ただし、アーム本
体44cは、ストッパ44fによって、実線の位置以上
の時計方向の回転が禁止されている。
【0029】ここで、ハンド本体14がカセット6中の
いずれか1つの液晶表示器用ガラス基板5の直下に近接
して挿入された場合を考える。液晶表示器用ガラス基板
5の端面が図4の一点鎖線Aの位置にあるとき、回転ア
ーム44は図示実線の位置にあり、フォトインタラプタ
54aの出力はオフとなっている。液晶表示器用ガラス
基板5の端面が二点鎖線Bの位置にあるとき、回転アー
ム44’は図示二点鎖線の位置にあり、フォトインタラ
プタ54aの出力はオンとなっている。液晶表示器用ガ
ラス基板5がこの間を往復する間、ローラ44bは、液
晶表示器用ガラス基板5の端面に当接して基板とともに
往復動する。この場合、ローラ44bが滑らかに自転す
る樹脂で出来ているので、液晶表示器用ガラス基板5が
図示のように変位しても、パーティクルは発生しない。
いずれか1つの液晶表示器用ガラス基板5の直下に近接
して挿入された場合を考える。液晶表示器用ガラス基板
5の端面が図4の一点鎖線Aの位置にあるとき、回転ア
ーム44は図示実線の位置にあり、フォトインタラプタ
54aの出力はオフとなっている。液晶表示器用ガラス
基板5の端面が二点鎖線Bの位置にあるとき、回転アー
ム44’は図示二点鎖線の位置にあり、フォトインタラ
プタ54aの出力はオンとなっている。液晶表示器用ガ
ラス基板5がこの間を往復する間、ローラ44bは、液
晶表示器用ガラス基板5の端面に当接して基板とともに
往復動する。この場合、ローラ44bが滑らかに自転す
る樹脂で出来ているので、液晶表示器用ガラス基板5が
図示のように変位しても、パーティクルは発生しない。
【0030】以下、図1に示すローダ2の動作について
説明する。
説明する。
【0031】図6は、ローダ2の吸着ハンド4をカセッ
ト6中の1つの液晶表示器用ガラス基板5直下に他の液
晶表示器用ガラス基板5と擦れないように進入させる場
合における、制御装置9での処理フローを示す。最初の
ステップS1で、吸着ハンド4の前進を開始させる。次
のステップS2では、ズレセンサDSの出力のオン・オ
フを判別する。ズレセンサDSがオフ、すなわち液晶表
示器用ガラス基板5の端面が一点鎖線Aの位置を超えて
いない場合には、次のステップS3で、吸着ハンド4が
減速位置に達したか否かを判別する。減速位置とは、液
晶表示器用ガラス基板5がカセット6内に正確に収まっ
ている場合の吸着ハンド4の減速開始位置のことをい
う。減速開始位置に達している場合には、次のステップ
S4で、吸着ハンド4の進入速度を減速させる。このよ
うな減速段階を設けているのは、吸着ハンド4を迅速に
液晶表示器用ガラス基板5直下に進入させるとともに、
吸着ハンド4の停止時における衝撃を緩和するためであ
る。ステップS5では、吸着ハンド4が停止位置に達し
たか否かを判別する。停止位置とは、液晶表示器用ガラ
ス基板5がカセット6内に正確に収まっている場合の吸
着ハンド4の停止予定位置のことをいう。
ト6中の1つの液晶表示器用ガラス基板5直下に他の液
晶表示器用ガラス基板5と擦れないように進入させる場
合における、制御装置9での処理フローを示す。最初の
ステップS1で、吸着ハンド4の前進を開始させる。次
のステップS2では、ズレセンサDSの出力のオン・オ
フを判別する。ズレセンサDSがオフ、すなわち液晶表
示器用ガラス基板5の端面が一点鎖線Aの位置を超えて
いない場合には、次のステップS3で、吸着ハンド4が
減速位置に達したか否かを判別する。減速位置とは、液
晶表示器用ガラス基板5がカセット6内に正確に収まっ
ている場合の吸着ハンド4の減速開始位置のことをい
う。減速開始位置に達している場合には、次のステップ
S4で、吸着ハンド4の進入速度を減速させる。このよ
うな減速段階を設けているのは、吸着ハンド4を迅速に
液晶表示器用ガラス基板5直下に進入させるとともに、
吸着ハンド4の停止時における衝撃を緩和するためであ
る。ステップS5では、吸着ハンド4が停止位置に達し
たか否かを判別する。停止位置とは、液晶表示器用ガラ
ス基板5がカセット6内に正確に収まっている場合の吸
着ハンド4の停止予定位置のことをいう。
【0032】停止位置に達している場合には、次のステ
ップS6で、吸着ハンド4を完全に停止させる。ステッ
プS7では、再びズレセンサDSの出力のオン・オフを
判別する。ズレセンサDSがオフ、すなわち液晶表示器
用ガラス基板5の端面が一点鎖線Aの位置を超えていな
い場合には、吸着ハンド4が適正な位置まで進入して液
晶表示器用ガラス基板5との位置合わせが完了したもの
として、最後のステップS8で吸着ハンド4の進入動作
を終了させる。
ップS6で、吸着ハンド4を完全に停止させる。ステッ
プS7では、再びズレセンサDSの出力のオン・オフを
判別する。ズレセンサDSがオフ、すなわち液晶表示器
用ガラス基板5の端面が一点鎖線Aの位置を超えていな
い場合には、吸着ハンド4が適正な位置まで進入して液
晶表示器用ガラス基板5との位置合わせが完了したもの
として、最後のステップS8で吸着ハンド4の進入動作
を終了させる。
【0033】図7(a)は、上記のような吸着ハンド4
の動作を示した図である。この場合、液晶表示器用ガラ
ス基板5は、カセット6内の正規の位置に収まってい
る。時刻t1で、ステップS3からステップS4に進
み、吸着ハンド4の減速を開始する。時刻t3で、ステ
ップS5からステップS6に進み、吸着ハンド4を停止
させ、吸着ハンド4の位置合わせを終了する(S8)。
の動作を示した図である。この場合、液晶表示器用ガラ
ス基板5は、カセット6内の正規の位置に収まってい
る。時刻t1で、ステップS3からステップS4に進
み、吸着ハンド4の減速を開始する。時刻t3で、ステ
ップS5からステップS6に進み、吸着ハンド4を停止
させ、吸着ハンド4の位置合わせを終了する(S8)。
【0034】再び図6に戻って説明する。ステップS7
で、ズレセンサDSがオン、すなわちハンド4の進入過
程の途中において液晶表示器用ガラス基板5の端面が一
点鎖線Aの位置を超えた場合には、液晶表示器用ガラス
基板5がカセット6の正規の位置に収まっておらず、図
1に破線5aで示すようにカセット6の正規位置から突
出していることになる。このため、このときにはその基
板5の実際の位置を基準にして考えた場合には吸着ハン
ド4がオーバーランしたことになる。したがって、ステ
ップS15に進み、吸着ハンド4をいったん停止させた
後に比較的低速で後退させ始める。ステップS16で
は、再びズレセンサDSの出力のオン・オフを判別す
る。ズレセンサDSがオフ、すなわち液晶表示器用ガラ
ス基板5の端面が一点鎖線Aの位置まで戻っている場合
には、吸着ハンド4と液晶表示器用ガラス基板5との位
置合わせが完了したものとして、ステップS17で吸着
ハンド4を停止させ、最後のステップS8で吸着ハンド
4の進入動作を終了させる。
で、ズレセンサDSがオン、すなわちハンド4の進入過
程の途中において液晶表示器用ガラス基板5の端面が一
点鎖線Aの位置を超えた場合には、液晶表示器用ガラス
基板5がカセット6の正規の位置に収まっておらず、図
1に破線5aで示すようにカセット6の正規位置から突
出していることになる。このため、このときにはその基
板5の実際の位置を基準にして考えた場合には吸着ハン
ド4がオーバーランしたことになる。したがって、ステ
ップS15に進み、吸着ハンド4をいったん停止させた
後に比較的低速で後退させ始める。ステップS16で
は、再びズレセンサDSの出力のオン・オフを判別す
る。ズレセンサDSがオフ、すなわち液晶表示器用ガラ
ス基板5の端面が一点鎖線Aの位置まで戻っている場合
には、吸着ハンド4と液晶表示器用ガラス基板5との位
置合わせが完了したものとして、ステップS17で吸着
ハンド4を停止させ、最後のステップS8で吸着ハンド
4の進入動作を終了させる。
【0035】図7(b)は、上記のような吸着ハンド4
の動作を示した図である。この場合、液晶表示器用ガラ
ス基板5は、既述したようにカセット6内の正規の位置
(受け渡し場所における所定の部位)からわずかに飛び
出している。時刻t1で、ステップS3からステップS
4に進み、図7(a)同様に吸着ハンド4の減速を開始
する。時刻t2で、ズレセンサDSがオンとなるが、減
速を続ける。時刻t3、ステップS5からステップS6
に進み、吸着ハンド4を停止させるが、ズレセンサDS
がオンであるためステップS7からステップS15に進
み、吸着ハンド4を後退させ始める。時刻t4で、ズレ
センサDSがオフとなるため、ステップS16からステ
ップS17に進み、吸着ハンド4を停止させ、吸着ハン
ド4の位置合わせを終了する(S8)。
の動作を示した図である。この場合、液晶表示器用ガラ
ス基板5は、既述したようにカセット6内の正規の位置
(受け渡し場所における所定の部位)からわずかに飛び
出している。時刻t1で、ステップS3からステップS
4に進み、図7(a)同様に吸着ハンド4の減速を開始
する。時刻t2で、ズレセンサDSがオンとなるが、減
速を続ける。時刻t3、ステップS5からステップS6
に進み、吸着ハンド4を停止させるが、ズレセンサDS
がオンであるためステップS7からステップS15に進
み、吸着ハンド4を後退させ始める。時刻t4で、ズレ
センサDSがオフとなるため、ステップS16からステ
ップS17に進み、吸着ハンド4を停止させ、吸着ハン
ド4の位置合わせを終了する(S8)。
【0036】再び図6に戻って説明する。ステップS2
で、ズレセンサDSがオン、すなわち減速開始前に液晶
表示器用ガラス基板5の端面が一点鎖線Aの位置を超え
ることになった場合には、液晶表示器用ガラス基板5が
カセット6の正規の位置からかなり飛び出しているため
吸着ハンド4がオーバーランしたものとしてステップS
10に進み、正規の減速開始位置に至る前に吸着ハンド
4を減速させ始める。吸着ハンド4が減速開始後所定距
離だけ進んだ場合には、ステップS10からステップS
11に進み、吸着ハンド4を停止させる。吸着ハンド4
の停止後、ステップS11からステップS15に進み、
吸着ハンド4を比較的低速で後退させ始める。以下は既
述した図7(a)(b)の場合と同様であり、その詳細
は省略する。
で、ズレセンサDSがオン、すなわち減速開始前に液晶
表示器用ガラス基板5の端面が一点鎖線Aの位置を超え
ることになった場合には、液晶表示器用ガラス基板5が
カセット6の正規の位置からかなり飛び出しているため
吸着ハンド4がオーバーランしたものとしてステップS
10に進み、正規の減速開始位置に至る前に吸着ハンド
4を減速させ始める。吸着ハンド4が減速開始後所定距
離だけ進んだ場合には、ステップS10からステップS
11に進み、吸着ハンド4を停止させる。吸着ハンド4
の停止後、ステップS11からステップS15に進み、
吸着ハンド4を比較的低速で後退させ始める。以下は既
述した図7(a)(b)の場合と同様であり、その詳細
は省略する。
【0037】図7(c)は、上記のような吸着ハンド4
の動作を示した図である。この場合、液晶表示器用ガラ
ス基板5は、カセット6内の正規の位置からかなり飛び
出している。時刻t0で、ズレセンサDSがオンとなる
ことから、ステップS2からステップS10に進み、吸
着ハンド4の減速を開始する。時刻t2’で、ステップ
S10からステップS11に進み、吸着ハンド4を停止
させて、さらにステップS15に進み、吸着ハンド4を
後退させ始める。時刻t5で、ズレセンサDSがオフと
なるため、ステップS16からステップS17に進み、
吸着ハンド4を停止させ、吸着ハンド4の位置合わせを
終了する(S8)。
の動作を示した図である。この場合、液晶表示器用ガラ
ス基板5は、カセット6内の正規の位置からかなり飛び
出している。時刻t0で、ズレセンサDSがオンとなる
ことから、ステップS2からステップS10に進み、吸
着ハンド4の減速を開始する。時刻t2’で、ステップ
S10からステップS11に進み、吸着ハンド4を停止
させて、さらにステップS15に進み、吸着ハンド4を
後退させ始める。時刻t5で、ズレセンサDSがオフと
なるため、ステップS16からステップS17に進み、
吸着ハンド4を停止させ、吸着ハンド4の位置合わせを
終了する(S8)。
【0038】以上のような位置合わせの終了後、吸着ハ
ンド4を若干上昇させ、液晶表示器用ガラス基板5を下
方から支持しつつ真空チャックする。その後、吸着ハン
ド4を後退させて液晶表示器用ガラス基板5をカセット
6から取り出し、プロセスラインに投入する。
ンド4を若干上昇させ、液晶表示器用ガラス基板5を下
方から支持しつつ真空チャックする。その後、吸着ハン
ド4を後退させて液晶表示器用ガラス基板5をカセット
6から取り出し、プロセスラインに投入する。
【0039】以上、実施例に即して本発明を説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではない。例
えば、実施例では液晶表示器用ガラス基板5を保持する
ために吸着ハンド4を用いたが、この代わりに機械的機
構によって動作するチャックその他の各種の保持機構を
用いたハンドを用い、このハンドに回転アーム44やズ
レセンサDSを取り付けることもできる。
が、本発明は上記実施例に限定されるものではない。例
えば、実施例では液晶表示器用ガラス基板5を保持する
ために吸着ハンド4を用いたが、この代わりに機械的機
構によって動作するチャックその他の各種の保持機構を
用いたハンドを用い、このハンドに回転アーム44やズ
レセンサDSを取り付けることもできる。
【0040】また、上記実施例では、カセット6から液
晶表示器用ガラス基板5を取り出す場合について説明し
たが、プロセスラインの終端の処理部から液晶表示器用
ガラス基板5を取り出してカセット6に収納する場合に
も、実施例のローダ2をアンローダとして用いることが
できる。この場合、プロセスラインの終端の処理部の基
板受け渡し場所で液晶表示器用ガラス基板5が正規の位
置に収まっていなくても、吸着ハンド4と液晶表示器用
ガラス基板5とを位置合わせして、処理済基板収容のた
めのカセット内に適宜収納することができる。さらに、
プロセスラインを構成する各処理部間で液晶表示器用ガ
ラス基板5を遣り取りする場合にも、実施例のようなロ
ーダ2を使用することができる。
晶表示器用ガラス基板5を取り出す場合について説明し
たが、プロセスラインの終端の処理部から液晶表示器用
ガラス基板5を取り出してカセット6に収納する場合に
も、実施例のローダ2をアンローダとして用いることが
できる。この場合、プロセスラインの終端の処理部の基
板受け渡し場所で液晶表示器用ガラス基板5が正規の位
置に収まっていなくても、吸着ハンド4と液晶表示器用
ガラス基板5とを位置合わせして、処理済基板収容のた
めのカセット内に適宜収納することができる。さらに、
プロセスラインを構成する各処理部間で液晶表示器用ガ
ラス基板5を遣り取りする場合にも、実施例のようなロ
ーダ2を使用することができる。
【0041】また、上記実施例では、液晶表示器用ガラ
ス基板5の搬送について説明したが、液晶表示器用ガラ
ス基板5以外の各種基板の搬送にも実施例のローダ2と
同一または類似の構成を用いることができる。例えば、
プラズマディスプレィ用ガラス基板の搬送、半導体製造
用のクロームマスクの搬送、半導体ウエハの搬送、プリ
ント配線基板の搬送等に実施例のローダ2を用いること
ができる。ただし、検査光に対して透過率の高いガラ
ス、透明樹脂等の基板の搬送に適用する場合、光学的な
検出では、端面の乱反射や処理工程毎に反射率が変動す
ることに起因して検出精度が低下・劣化するが、実施例
の回転アーム44のように機械的機構による検出では、
検出精度が変動しない。
ス基板5の搬送について説明したが、液晶表示器用ガラ
ス基板5以外の各種基板の搬送にも実施例のローダ2と
同一または類似の構成を用いることができる。例えば、
プラズマディスプレィ用ガラス基板の搬送、半導体製造
用のクロームマスクの搬送、半導体ウエハの搬送、プリ
ント配線基板の搬送等に実施例のローダ2を用いること
ができる。ただし、検査光に対して透過率の高いガラ
ス、透明樹脂等の基板の搬送に適用する場合、光学的な
検出では、端面の乱反射や処理工程毎に反射率が変動す
ることに起因して検出精度が低下・劣化するが、実施例
の回転アーム44のように機械的機構による検出では、
検出精度が変動しない。
【0042】液晶表示器用ガラス基板5のように方形の
基板の搬送の場合、搬送装置側の基板端面端面のいずれ
かの位置を検出すれば足るが、円形の基板の場合、端面
の検出位置によって回転アーム44の変位量が変わるの
で、このような基板についてはこの発明は横方向の位置
ズレが生じない場合に好適となる。
基板の搬送の場合、搬送装置側の基板端面端面のいずれ
かの位置を検出すれば足るが、円形の基板の場合、端面
の検出位置によって回転アーム44の変位量が変わるの
で、このような基板についてはこの発明は横方向の位置
ズレが生じない場合に好適となる。
【0043】また、上記実施例では、単一の回転アーム
44やズレセンサDSで基板の位置ズレを検出している
が、複数の回転アーム44やズレセンサDSを設けて基
板の位置ズレを検出することができる。液晶表示器用ガ
ラス基板5のように方形(矩形)の基板では、基板の微
少な回転も検出して位置合わせすることができ、半導体
ウエハのようにオリエンテーションフラットがある基板
では、ひとつのセンサが基板の端面を検出していなくて
も他のセンサが検出していれば基板の端面がハンドの所
定位置に至っていると判断させることによって、誤動作
を防止できる。
44やズレセンサDSで基板の位置ズレを検出している
が、複数の回転アーム44やズレセンサDSを設けて基
板の位置ズレを検出することができる。液晶表示器用ガ
ラス基板5のように方形(矩形)の基板では、基板の微
少な回転も検出して位置合わせすることができ、半導体
ウエハのようにオリエンテーションフラットがある基板
では、ひとつのセンサが基板の端面を検出していなくて
も他のセンサが検出していれば基板の端面がハンドの所
定位置に至っていると判断させることによって、誤動作
を防止できる。
【0044】また、上記実施例では、基板の端面の位置
を検出するため、基板端面に当接する回転アーム44を
用いているが、各種の往復機構を用い基板端面に当接さ
せつつ移動させて、基板の位置ズレを検出させることが
できる。ただし、実施例のようにシーソー様の回転アー
ム44を用いた場合、回転アーム44を基板端面の変位
に応じて滑らかに回転させることができるので、位置ズ
レの調整精度を高めることができ、また基板端面の変位
を拡大することもできる。
を検出するため、基板端面に当接する回転アーム44を
用いているが、各種の往復機構を用い基板端面に当接さ
せつつ移動させて、基板の位置ズレを検出させることが
できる。ただし、実施例のようにシーソー様の回転アー
ム44を用いた場合、回転アーム44を基板端面の変位
に応じて滑らかに回転させることができるので、位置ズ
レの調整精度を高めることができ、また基板端面の変位
を拡大することもできる。
【0045】また、回転アーム44の回転軸の方向は任
意であるが、実施例のように水平面内の回転ではなくた
とえば垂直面内で回転できるようにすることもできる
が、前者の場合には吸着ハンド4を厚くする必要がない
ため、カセットなど複数の基板が収容されている容器か
ら基板を取り出す場合などに好適である。
意であるが、実施例のように水平面内の回転ではなくた
とえば垂直面内で回転できるようにすることもできる
が、前者の場合には吸着ハンド4を厚くする必要がない
ため、カセットなど複数の基板が収容されている容器か
ら基板を取り出す場合などに好適である。
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の請求項
1の搬送装置は、ハンドを受け渡し場所に進出させると
ともにセンサの出力に基づいてハンド上の所定位置に対
する基板端部のずれがなくなるまでハンドの位置を調整
する制御装置を備えるので、基板とハンドの相対的位置
を調整した状態でこの基板をハンドで保持し受け渡し場
所から取り出すことができる。したがって、受け渡し場
所における基板の飛び出し等が生じている場合にも、基
板の位置ズレを補償した状態で受け渡し場所外に搬出で
きる。この場合、ハンドと基板が擦れないので基板搬出
に際してパーティクル発生の問題がほとんど生じない。
また、ハンドのみの位置調整によって基板の位置ズレを
補償しているので、位置ズレ補償用の特別の装置を必要
とせず、小スペースでスループットの高い搬送装置を提
供することができる。
1の搬送装置は、ハンドを受け渡し場所に進出させると
ともにセンサの出力に基づいてハンド上の所定位置に対
する基板端部のずれがなくなるまでハンドの位置を調整
する制御装置を備えるので、基板とハンドの相対的位置
を調整した状態でこの基板をハンドで保持し受け渡し場
所から取り出すことができる。したがって、受け渡し場
所における基板の飛び出し等が生じている場合にも、基
板の位置ズレを補償した状態で受け渡し場所外に搬出で
きる。この場合、ハンドと基板が擦れないので基板搬出
に際してパーティクル発生の問題がほとんど生じない。
また、ハンドのみの位置調整によって基板の位置ズレを
補償しているので、位置ズレ補償用の特別の装置を必要
とせず、小スペースでスループットの高い搬送装置を提
供することができる。
【0047】また、請求項2の搬送装置は、受け渡し場
所における基板がガラス基板であり、センサがハンド上
の所定位置の近傍で基板端部に当接して基板とともに変
位する変位部材を備えるので、この変位部材の変位を検
出することにより、ハンド上の所定位置に対する基板端
部のずれの有無を検出することができる。この場合、基
板端面を直接光学的に検出しないので、ガラス基板の各
処理段階に応じて基板端部の反射率や加工状態が異なっ
ている場合であっても、基板の位置ズレを正確に補償し
た状態で受け渡し場所外に搬出できる。
所における基板がガラス基板であり、センサがハンド上
の所定位置の近傍で基板端部に当接して基板とともに変
位する変位部材を備えるので、この変位部材の変位を検
出することにより、ハンド上の所定位置に対する基板端
部のずれの有無を検出することができる。この場合、基
板端面を直接光学的に検出しないので、ガラス基板の各
処理段階に応じて基板端部の反射率や加工状態が異なっ
ている場合であっても、基板の位置ズレを正確に補償し
た状態で受け渡し場所外に搬出できる。
【0048】また、請求項3の搬送装置は、制御装置
が、ハンドを受け渡し場所に進出させるに際して、ハン
ドが受け渡し場所内の所定部位に達する前にセンサが基
板の存在を検知した場合にハンドの進出を停止させ、セ
ンサが基板の存在を検知しなくなるまでハンドを受け渡
し場所の外側に比較的低速度で後退させる。したがっ
て、ハンドを位置合わせの直前まで迅速に移動させるこ
とができるので、基板端部とハンドの所定位置とを迅速
に位置合わせでき、搬送速度を簡易に高めることができ
る。
が、ハンドを受け渡し場所に進出させるに際して、ハン
ドが受け渡し場所内の所定部位に達する前にセンサが基
板の存在を検知した場合にハンドの進出を停止させ、セ
ンサが基板の存在を検知しなくなるまでハンドを受け渡
し場所の外側に比較的低速度で後退させる。したがっ
て、ハンドを位置合わせの直前まで迅速に移動させるこ
とができるので、基板端部とハンドの所定位置とを迅速
に位置合わせでき、搬送速度を簡易に高めることができ
る。
【図1】実施例の搬送装置の構成を示した図である。
【図2】図1の搬送装置の吸着ハンドの平面図である。
【図3】図2のIII−III方向から見た概念的部分断面図
である。
である。
【図4】図2の吸着ハンドの要部である回転アームの拡
大平面図である。
大平面図である。
【図5】図4の回転アームの側方断面図である。
【図6】図1の搬送装置の動作説明するフローチャート
である。
である。
【図7】図1の搬送装置の動作説明するタイミングチャ
ートである。
ートである。
2 搬送装置 4 吸着ハンド 5 液晶表示器用ガラス基板 6 カセット(受け渡し場所) 9 制御装置 44 回転アーム(変位部材) DS ズレセンサ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年4月19日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0023
【補正方法】変更
【補正内容】
【0023】また、図3は図2のIII−III方向から見た
概念的部分断面図である。さらに、図4は、後述する回
転アーム44とズレセンサDSの配置関係を示した部分
拡大図であり、図5は、ハンド本体14の側方部分断面
図であって、回転アーム44とズレセンサDSの立体的
位置関係を示す側面図となっている。
概念的部分断面図である。さらに、図4は、後述する回
転アーム44とズレセンサDSの配置関係を示した部分
拡大図であり、図5は、ハンド本体14の側方部分断面
図であって、回転アーム44とズレセンサDSの立体的
位置関係を示す側面図となっている。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0028
【補正方法】変更
【補正内容】
【0028】アーム本体44cは、上下部材とこれらに
挟まれた中間部材からなる断面がコ字状の材料から形成
され、その溝部分にバネ44fを収容している。このア
ーム本体44cの一端に形成されたローラ44bは、ハ
ンド本体14の上面に形成されている開口44d(図
4)を介してハンド本体14上に突出している(図
5)。アーム本体44cの他端に形成された遮光用の板
状のセクタ44eは、ズレセンサ54のフォトインタラ
プタ54aの間に進出したり待避したりする(図5)。
アーム本体44cは、ハンド本体14側に固定されたピ
ン44fとこれに係止されたバネ44gとによって、図
4の時計方向に向けて付勢されている。ただし、アーム
本体44cは、ストッパ44fによって、実線の位置以
上の時計方向の回転が禁止されている。
挟まれた中間部材からなる断面がコ字状の材料から形成
され、その溝部分にバネ44fを収容している。このア
ーム本体44cの一端に形成されたローラ44bは、ハ
ンド本体14の上面に形成されている開口44d(図
4)を介してハンド本体14上に突出している(図
5)。アーム本体44cの他端に形成された遮光用の板
状のセクタ44eは、ズレセンサ54のフォトインタラ
プタ54aの間に進出したり待避したりする(図5)。
アーム本体44cは、ハンド本体14側に固定されたピ
ン44fとこれに係止されたバネ44gとによって、図
4の時計方向に向けて付勢されている。ただし、アーム
本体44cは、ストッパ44fによって、実線の位置以
上の時計方向の回転が禁止されている。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0046
【補正方法】変更
【補正内容】
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の請求項
1の搬送装置は、ハンドを受け渡し場所に進出させると
ともにセンサの出力に基づいてハンド上の所定位置に対
する基板端部のずれがなくなるまでハンドの位置を調整
する制御装置を備えるので、基板とハンドの相対的位置
を調整した状態でこの基板をハンドで保持し受け渡し場
所から取り出すことができる。したがって、受け渡し場
所における基板の飛び出し等が生じている場合にも、基
板の位置ズレを補償した状態で受け渡し場所外に搬出で
きる。この場合、ハンドと基板が擦れないので基板搬出
に際してパーティクル発生の問題がほとんど生じない。
また、ハンドのみの位置調整によって基板の位置ズレを
補償しているので、位置ズレ補償用の特別の装置を必要
とせず、省スペースでスループットの高い搬送装置を提
供することができる。
1の搬送装置は、ハンドを受け渡し場所に進出させると
ともにセンサの出力に基づいてハンド上の所定位置に対
する基板端部のずれがなくなるまでハンドの位置を調整
する制御装置を備えるので、基板とハンドの相対的位置
を調整した状態でこの基板をハンドで保持し受け渡し場
所から取り出すことができる。したがって、受け渡し場
所における基板の飛び出し等が生じている場合にも、基
板の位置ズレを補償した状態で受け渡し場所外に搬出で
きる。この場合、ハンドと基板が擦れないので基板搬出
に際してパーティクル発生の問題がほとんど生じない。
また、ハンドのみの位置調整によって基板の位置ズレを
補償しているので、位置ズレ補償用の特別の装置を必要
とせず、省スペースでスループットの高い搬送装置を提
供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G01B 11/00 A
Claims (3)
- 【請求項1】 基板を保持可能なハンドと、 前記ハンドに設けられるとともに、当該ハンド上の所定
位置に対する基板端部のずれの有無を検出するセンサ
と、 所定の受け渡し場所に置かれた前記基板に向けて前記ハ
ンドを進出させるとともに、前記センサの出力に基づい
て、前記ハンド上の前記所定位置に対する基板端部のず
れがなくなるまで前記ハンドの位置を調整する制御装置
と、を備えることを特徴とする搬送装置。 - 【請求項2】 前記受け渡し場所内の基板は、ガラス基
板であり、前記センサは、前記ハンド上の前記所定位置
の近傍で基板端部に当接して基板とともに変位する変位
部材を備えることを特徴とする請求項1記載の搬送装
置。 - 【請求項3】 前記センサは、前記ハンド上の前記所定
位置における基板の有無に応じて出力が切り替わり、前
記制御装置は、前記ハンドを前記基板に向けて進出させ
るに際して比較的高速度で進出を開始させるとともに、
前記ハンドが前記受け渡し場所の所定部位に達する前に
前記センサが基板の存在を検知した場合に、前記ハンド
の進出を停止させ、前記センサが基板の存在を検知しな
くなるまで、前記ハンドを前記所定部位から遠ざかる方
向に比較的低速度で後退させることを特徴とする請求項
1記載の搬送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3954494A JPH07249671A (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3954494A JPH07249671A (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 搬送装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07249671A true JPH07249671A (ja) | 1995-09-26 |
Family
ID=12556002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3954494A Withdrawn JPH07249671A (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 搬送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07249671A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1064970A (ja) * | 1996-08-23 | 1998-03-06 | Rohm Co Ltd | ウェハ・サーチ方法およびその装置 |
JPH11238775A (ja) * | 1998-02-20 | 1999-08-31 | Hirata Corp | ロボット装置 |
JP2000183131A (ja) * | 1998-12-16 | 2000-06-30 | Samsung Electronics Co Ltd | 基板のアンロ―ディング装置及びアンロ―ディング方法 |
JP2009255255A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | ロボットハンド装置 |
JP2012032805A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-02-16 | Nsk Technology Co Ltd | 露光ユニット |
JP2013149703A (ja) * | 2012-01-18 | 2013-08-01 | Nippon Steel & Sumikin Fine Technology Co Ltd | ウエハ搬送装置 |
-
1994
- 1994-03-10 JP JP3954494A patent/JPH07249671A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1064970A (ja) * | 1996-08-23 | 1998-03-06 | Rohm Co Ltd | ウェハ・サーチ方法およびその装置 |
JPH11238775A (ja) * | 1998-02-20 | 1999-08-31 | Hirata Corp | ロボット装置 |
JP2000183131A (ja) * | 1998-12-16 | 2000-06-30 | Samsung Electronics Co Ltd | 基板のアンロ―ディング装置及びアンロ―ディング方法 |
JP4632470B2 (ja) * | 1998-12-16 | 2011-02-16 | 三星電子株式会社 | 基板のアンローディング装置及びアンローディング方法 |
JP2009255255A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | ロボットハンド装置 |
JP2012032805A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-02-16 | Nsk Technology Co Ltd | 露光ユニット |
JP2013149703A (ja) * | 2012-01-18 | 2013-08-01 | Nippon Steel & Sumikin Fine Technology Co Ltd | ウエハ搬送装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010605 |