JP2001209038A - 液晶表示素子用基板 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 広範囲な光学特性に対応可能であると共に、
光の利用効率を向上させることができ、しかも信号遅延
を引き起こす可能性のない液晶表示素子用基板を提供す
る。 【解決手段】 透明基板上に高屈折率透明膜及び低屈折
率透明膜の組の所定数を積層し、高屈折率透明膜は、５
５０ｎｍの波長における光屈折率が１．８以上であり、
低屈折率透明膜は、高屈折率透明膜上に積層されると共
に、５５０ｎｍの波長における光屈折率が１．５以下で
ある液晶表示素子用基板であって、所定数は１以上であ
り、高屈折率透明膜及び低屈折率透明膜の各膜厚を可視
光領域における光反射率が５〜９５％となるように設定
するので、広範囲な光学特性に対応可能であると共に、
光の利用効率を向上させることができ、しかも信号遅延
を引き起こす可能性をなくすことができる。
光の利用効率を向上させることができ、しかも信号遅延
を引き起こす可能性のない液晶表示素子用基板を提供す
る。 【解決手段】 透明基板上に高屈折率透明膜及び低屈折
率透明膜の組の所定数を積層し、高屈折率透明膜は、５
５０ｎｍの波長における光屈折率が１．８以上であり、
低屈折率透明膜は、高屈折率透明膜上に積層されると共
に、５５０ｎｍの波長における光屈折率が１．５以下で
ある液晶表示素子用基板であって、所定数は１以上であ
り、高屈折率透明膜及び低屈折率透明膜の各膜厚を可視
光領域における光反射率が５〜９５％となるように設定
するので、広範囲な光学特性に対応可能であると共に、
光の利用効率を向上させることができ、しかも信号遅延
を引き起こす可能性をなくすことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子用基
板に関し、特に、光を一部透過する半過型液晶表示素子
に使用される液晶表示素子用基板に関する。
板に関し、特に、光を一部透過する半過型液晶表示素子
に使用される液晶表示素子用基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、携帯電子機器等の薄型化・軽量化
と、長時間の電池駆動との両立を実現する目的で、低消
費電力を特徴とする液晶表示素子に、外部光を利用する
反射型液晶表示素子が使用されるようになった。しか
し、反射型液晶表示素子の表示品質（特にコントラス
ト）は外部光の強度に依存するため、暗所ではバックラ
イトを使う透過型液晶表示素子に較べて十分な明るさが
得られず、画質が劣化するという問題があった。この問
題を解決する１つの方法として、反射板として半透過板
を使用し、明所では反射型として、暗所ではバックライ
トを用いた透過型としてそれぞれ利用できる半透過型液
晶表示素子が提案されている（特開平１１−００２７０
９号公報）。
と、長時間の電池駆動との両立を実現する目的で、低消
費電力を特徴とする液晶表示素子に、外部光を利用する
反射型液晶表示素子が使用されるようになった。しか
し、反射型液晶表示素子の表示品質（特にコントラス
ト）は外部光の強度に依存するため、暗所ではバックラ
イトを使う透過型液晶表示素子に較べて十分な明るさが
得られず、画質が劣化するという問題があった。この問
題を解決する１つの方法として、反射板として半透過板
を使用し、明所では反射型として、暗所ではバックライ
トを用いた透過型としてそれぞれ利用できる半透過型液
晶表示素子が提案されている（特開平１１−００２７０
９号公報）。
【０００３】この半透過型液晶表示素子に使用される液
晶表示素子用基板は、液晶駆動用電極を設けた一対の透
明基板間に液晶層を挟持し、該液晶層に印加した電圧の
大きさによって液晶層の光散乱性を制御し、且つ背面側
の基板にアルミニウム等の金属から成る半透過反射板を
積層した構造を有し、この半透過反射板には、光が一部
透過する程度まで薄くした金属薄膜を用いている。
晶表示素子用基板は、液晶駆動用電極を設けた一対の透
明基板間に液晶層を挟持し、該液晶層に印加した電圧の
大きさによって液晶層の光散乱性を制御し、且つ背面側
の基板にアルミニウム等の金属から成る半透過反射板を
積層した構造を有し、この半透過反射板には、光が一部
透過する程度まで薄くした金属薄膜を用いている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、金属薄
膜では、光の反射を抑えて光透過率を高くするために膜
厚を極端に薄くする必要があり、製造工程において高い
膜厚制御性が要求されるので、その実現が困難であり、
また、膜厚を薄くしたとしても光が透過する際光の吸収
があるために光の利用効率が悪い。
膜では、光の反射を抑えて光透過率を高くするために膜
厚を極端に薄くする必要があり、製造工程において高い
膜厚制御性が要求されるので、その実現が困難であり、
また、膜厚を薄くしたとしても光が透過する際光の吸収
があるために光の利用効率が悪い。
【０００５】更に、液晶駆動時に金属薄膜と透明電極
（透明導電膜）との間にキャパシタンスが発生して信号
遅延を引き起こし、液晶表示素子の駆動信号速度が遅く
なる可能性がある。
（透明導電膜）との間にキャパシタンスが発生して信号
遅延を引き起こし、液晶表示素子の駆動信号速度が遅く
なる可能性がある。
【０００６】本発明は、広範囲な光学特性に対応可能で
あると共に、光の利用効率を向上させることができ、し
かも信号遅延を引き起こす可能性のない液晶表示素子用
基板を提供することを目的とする。
あると共に、光の利用効率を向上させることができ、し
かも信号遅延を引き起こす可能性のない液晶表示素子用
基板を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の液晶表示素子用基板は、透明基板上
に各々誘電体材料から成る高屈折率透明膜及び低屈折率
透明膜の組の所定数を積層し、前記高屈折率透明膜は、
５５０ｎｍの波長における光屈折率が１．８以上であ
り、前記低屈折率透明膜は、前記高屈折率透明膜上に積
層されると共に、５５０ｎｍの波長における光屈折率が
１．５以下である液晶表示素子用基板であって、前記所
定数は１以上であり、前記高屈折率透明膜及び前記低屈
折率透明膜の各膜厚を可視光領域における光反射率が５
〜９５％となるように設定されていることを特徴とす
る。
に、請求項１記載の液晶表示素子用基板は、透明基板上
に各々誘電体材料から成る高屈折率透明膜及び低屈折率
透明膜の組の所定数を積層し、前記高屈折率透明膜は、
５５０ｎｍの波長における光屈折率が１．８以上であ
り、前記低屈折率透明膜は、前記高屈折率透明膜上に積
層されると共に、５５０ｎｍの波長における光屈折率が
１．５以下である液晶表示素子用基板であって、前記所
定数は１以上であり、前記高屈折率透明膜及び前記低屈
折率透明膜の各膜厚を可視光領域における光反射率が５
〜９５％となるように設定されていることを特徴とす
る。
【０００８】請求項１記載の液晶表示素子用基板によれ
ば、透明基板上に各々誘電体材料から成る高屈折率透明
膜及び低屈折率透明膜の組の所定数を積層し、前記高屈
折率透明膜は、５５０ｎｍの波長における光屈折率が
１．８以上であり、前記低屈折率透明膜は、前記高屈折
率透明膜上に積層されると共に、５５０ｎｍの波長にお
ける光屈折率が１．５以下である液晶表示素子用基板で
あって、前記所定数は１以上であり、前記高屈折率透明
膜及び前記低屈折率透明膜の各膜厚を可視光領域におけ
る光反射率が５〜９５％となるように設定したので、可
視光領域における光透過率と光反射率との比を用途に応
じて広範囲に亘って自由に設定できる等、広範囲な光学
特性に対応できると共に、誘電体材料から成る高屈折率
透明膜及び低屈折率透明膜を用いるので、光の利用効率
を向上させることができ、しかも各透明膜に金属薄膜を
用いないので信号遅延を引き起こす可能性をなくすこと
ができる。
ば、透明基板上に各々誘電体材料から成る高屈折率透明
膜及び低屈折率透明膜の組の所定数を積層し、前記高屈
折率透明膜は、５５０ｎｍの波長における光屈折率が
１．８以上であり、前記低屈折率透明膜は、前記高屈折
率透明膜上に積層されると共に、５５０ｎｍの波長にお
ける光屈折率が１．５以下である液晶表示素子用基板で
あって、前記所定数は１以上であり、前記高屈折率透明
膜及び前記低屈折率透明膜の各膜厚を可視光領域におけ
る光反射率が５〜９５％となるように設定したので、可
視光領域における光透過率と光反射率との比を用途に応
じて広範囲に亘って自由に設定できる等、広範囲な光学
特性に対応できると共に、誘電体材料から成る高屈折率
透明膜及び低屈折率透明膜を用いるので、光の利用効率
を向上させることができ、しかも各透明膜に金属薄膜を
用いないので信号遅延を引き起こす可能性をなくすこと
ができる。
【０００９】請求項２記載の液晶表示素子用基板は、請
求項１記載の液晶表示素子用基板において、前記透明基
板上に透明凹凸散乱層を積層することを特徴とする。
求項１記載の液晶表示素子用基板において、前記透明基
板上に透明凹凸散乱層を積層することを特徴とする。
【００１０】請求項２記載の液晶表示素子用基板によれ
ば、反射光による見た目のギラツキを抑えることができ
る。
ば、反射光による見た目のギラツキを抑えることができ
る。
【００１１】請求項３乃至７記載の液晶表示素子用基板
は、請求項１又は２記載の液晶表示素子用基板におい
て、前記可視光領域における光反射率が５％以上２５％
未満である場合、前記所定数が１のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が２０〜１３０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が５０〜１１０ｎｍであり、前記所定数が２のと
き、前記高屈折率透明膜の膜厚が５〜６０ｎｍ、前記低
屈折率透明膜の膜厚が５〜１５０ｎｍであり、前記所定
数が３のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が３〜８０ｎ
ｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が５〜１６０ｎｍであ
り、前記所定数が４のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚
が５〜８０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が５〜８０
ｎｍであることを特徴とする。
は、請求項１又は２記載の液晶表示素子用基板におい
て、前記可視光領域における光反射率が５％以上２５％
未満である場合、前記所定数が１のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が２０〜１３０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が５０〜１１０ｎｍであり、前記所定数が２のと
き、前記高屈折率透明膜の膜厚が５〜６０ｎｍ、前記低
屈折率透明膜の膜厚が５〜１５０ｎｍであり、前記所定
数が３のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が３〜８０ｎ
ｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が５〜１６０ｎｍであ
り、前記所定数が４のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚
が５〜８０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が５〜８０
ｎｍであることを特徴とする。
【００１２】請求項８乃至１４記載の液晶表示素子用基
板は、請求項１又は２記載の液晶表示素子用基板におい
て、前記可視光領域における光反射率が２５％以上４５
％未満である場合、前記所定数が１のとき、前記高屈折
率透明膜の膜厚が８０〜１１０ｎｍ、前記低屈折率透明
膜の膜厚が４０〜６０ｎｍであり、前記所定数が２のと
き、前記高屈折率透明膜の膜厚が２０〜１８０ｎｍ、前
記低屈折率透明膜の膜厚が３０〜１００ｎｍであり、前
記所定数が３のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が１０
〜１３０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が１０〜１７
０ｎｍであり、前記所定数が４のとき、前記高屈折率透
明膜の膜厚が２０〜１１０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の
膜厚が５〜１００ｎｍであり、前記所定数が５のとき、
前記高屈折率透明膜の膜厚が１０〜１１０ｎｍ、前記低
屈折率透明膜の膜厚が５〜１１０ｎｍであり、前記所定
数が６のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が１０〜８０
ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が３０〜１００ｎｍで
あることを特徴とする。
板は、請求項１又は２記載の液晶表示素子用基板におい
て、前記可視光領域における光反射率が２５％以上４５
％未満である場合、前記所定数が１のとき、前記高屈折
率透明膜の膜厚が８０〜１１０ｎｍ、前記低屈折率透明
膜の膜厚が４０〜６０ｎｍであり、前記所定数が２のと
き、前記高屈折率透明膜の膜厚が２０〜１８０ｎｍ、前
記低屈折率透明膜の膜厚が３０〜１００ｎｍであり、前
記所定数が３のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が１０
〜１３０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が１０〜１７
０ｎｍであり、前記所定数が４のとき、前記高屈折率透
明膜の膜厚が２０〜１１０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の
膜厚が５〜１００ｎｍであり、前記所定数が５のとき、
前記高屈折率透明膜の膜厚が１０〜１１０ｎｍ、前記低
屈折率透明膜の膜厚が５〜１１０ｎｍであり、前記所定
数が６のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が１０〜８０
ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が３０〜１００ｎｍで
あることを特徴とする。
【００１３】請求項１５乃至２３記載の液晶表示素子用
基板は、請求項１又は２記載の液晶表示素子用基板にお
いて、前記可視光領域における光反射率が４５％以上６
５％未満である場合、前記所定数が２のとき、前記高屈
折率透明膜の膜厚が６０〜１８０ｎｍ、前記低屈折率透
明膜の膜厚が４０〜９０ｎｍであり、前記所定数が３の
とき、前記高屈折率透明膜の膜厚が２０〜１６０ｎｍ、
前記低屈折率透明膜の膜厚が１０〜１５０ｎｍであり、
前記所定数が４のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が２
０〜１８０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が１０〜１
１０ｎｍであり、前記所定数が５のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が３０〜１９０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が１０〜１４０ｎｍであり、前記所定数が６のと
き、前記高屈折率透明膜の膜厚が１０〜１５０ｎｍ、前
記低屈折率透明膜の膜厚が１０〜１００ｎｍであり、前
記所定数が７のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が２０
〜１５０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が５〜１１０
ｎｍであり、前記所定数が８のとき、前記高屈折率透明
膜の膜厚が２０〜１３０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜
厚が５〜１１０ｎｍであり、前記所定数が９のとき、前
記高屈折率透明膜の膜厚が２０〜１２０ｎｍ、前記低屈
折率透明膜の膜厚が１０〜９０ｎｍであることを特徴と
する。
基板は、請求項１又は２記載の液晶表示素子用基板にお
いて、前記可視光領域における光反射率が４５％以上６
５％未満である場合、前記所定数が２のとき、前記高屈
折率透明膜の膜厚が６０〜１８０ｎｍ、前記低屈折率透
明膜の膜厚が４０〜９０ｎｍであり、前記所定数が３の
とき、前記高屈折率透明膜の膜厚が２０〜１６０ｎｍ、
前記低屈折率透明膜の膜厚が１０〜１５０ｎｍであり、
前記所定数が４のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が２
０〜１８０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が１０〜１
１０ｎｍであり、前記所定数が５のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が３０〜１９０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が１０〜１４０ｎｍであり、前記所定数が６のと
き、前記高屈折率透明膜の膜厚が１０〜１５０ｎｍ、前
記低屈折率透明膜の膜厚が１０〜１００ｎｍであり、前
記所定数が７のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が２０
〜１５０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が５〜１１０
ｎｍであり、前記所定数が８のとき、前記高屈折率透明
膜の膜厚が２０〜１３０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜
厚が５〜１１０ｎｍであり、前記所定数が９のとき、前
記高屈折率透明膜の膜厚が２０〜１２０ｎｍ、前記低屈
折率透明膜の膜厚が１０〜９０ｎｍであることを特徴と
する。
【００１４】請求項２４乃至３１記載の液晶表示素子用
基板は、請求項１又は２記載の液晶表示素子用基板にお
いて、前記可視光領域における光反射率が６５％以上９
５％未満である場合、前記所定数が３のとき、前記高屈
折率透明膜の膜厚が８０〜１６０ｎｍ、前記低屈折率透
明膜の膜厚が４０〜１１０ｎｍであり、前記所定数が４
のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が６０〜１４０ｎ
ｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が４０〜１００ｎｍであ
り、前記所定数が５のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚
が３０〜１３０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が２０
〜１７０ｎｍであり、前記所定数が６のとき、前記高屈
折率透明膜の膜厚が２０〜１８０ｎｍ、前記低屈折率透
明膜の膜厚が１０〜１４０ｎｍであり、前記所定数が７
のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が１０〜１５０ｎ
ｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が３０〜１３０ｎｍであ
り、前記所定数が８のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚
が５〜２００ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が５〜１
５０ｎｍであり、前記所定数が９のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が５〜２００ｎｍ、前記低屈折率透明膜の
膜厚が５〜１４０ｎｍであることを特徴とする。
基板は、請求項１又は２記載の液晶表示素子用基板にお
いて、前記可視光領域における光反射率が６５％以上９
５％未満である場合、前記所定数が３のとき、前記高屈
折率透明膜の膜厚が８０〜１６０ｎｍ、前記低屈折率透
明膜の膜厚が４０〜１１０ｎｍであり、前記所定数が４
のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が６０〜１４０ｎ
ｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が４０〜１００ｎｍであ
り、前記所定数が５のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚
が３０〜１３０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が２０
〜１７０ｎｍであり、前記所定数が６のとき、前記高屈
折率透明膜の膜厚が２０〜１８０ｎｍ、前記低屈折率透
明膜の膜厚が１０〜１４０ｎｍであり、前記所定数が７
のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚が１０〜１５０ｎ
ｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が３０〜１３０ｎｍであ
り、前記所定数が８のとき、前記高屈折率透明膜の膜厚
が５〜２００ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚が５〜１
５０ｎｍであり、前記所定数が９のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が５〜２００ｎｍ、前記低屈折率透明膜の
膜厚が５〜１４０ｎｍであることを特徴とする。
【００１５】請求項３乃至３１記載の液晶表示素子用基
板によれば、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜の各膜厚
を所定の範囲に設定することにより、可視光領域におけ
る光反射率を広範囲で設定することができ、広範囲な光
学特性に対応することができる。
板によれば、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜の各膜厚
を所定の範囲に設定することにより、可視光領域におけ
る光反射率を広範囲で設定することができ、広範囲な光
学特性に対応することができる。
【００１６】請求項３２記載の液晶表示素子用基板は、
請求項１乃至３１のいずれか１項に記載の液晶表示素子
用基板において、前記低屈折率透明膜は、二酸化珪素、
フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、及びフッ化リ
チウムから成る群から選択された少なくとも一種の化合
物から成る低屈折率材料で形成されることを特徴とす
る。
請求項１乃至３１のいずれか１項に記載の液晶表示素子
用基板において、前記低屈折率透明膜は、二酸化珪素、
フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、及びフッ化リ
チウムから成る群から選択された少なくとも一種の化合
物から成る低屈折率材料で形成されることを特徴とす
る。
【００１７】前記二酸化珪素は、化学的耐久性が優れて
いる点で好んで用いられる。
いる点で好んで用いられる。
【００１８】請求項３３記載の液晶表示素子用基板は、
請求項１乃至３２のいずれか１項に記載の液晶表示素子
用基板において、前記透明基板から最も遠い前記低屈折
率透明膜は二酸化珪素であり、その膜厚は、２０ｎｍ以
上であることを特徴とする。
請求項１乃至３２のいずれか１項に記載の液晶表示素子
用基板において、前記透明基板から最も遠い前記低屈折
率透明膜は二酸化珪素であり、その膜厚は、２０ｎｍ以
上であることを特徴とする。
【００１９】請求項３３記載の液晶表示素子用基板によ
れば、透明基板から最も遠い低屈折率透明膜上に被覆形
成されるカラーフィルム等の他の材料との密着性をより
よくすることができる。
れば、透明基板から最も遠い低屈折率透明膜上に被覆形
成されるカラーフィルム等の他の材料との密着性をより
よくすることができる。
【００２０】請求項３４記載の液晶表示素子用基板は、
請求項１乃至３３のいずれか１項に記載の液晶表示素子
用基板において、前記高屈折率透明膜は、二酸化チタ
ン、二酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、及び酸化錫
から成る群から選択された少なくとも一種の化合物から
成る高屈折率材料で形成されることを特徴とする。
請求項１乃至３３のいずれか１項に記載の液晶表示素子
用基板において、前記高屈折率透明膜は、二酸化チタ
ン、二酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、及び酸化錫
から成る群から選択された少なくとも一種の化合物から
成る高屈折率材料で形成されることを特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】発明者等は、上記目的を達成すべ
く鋭意研究を行った結果、透明基板上に各々誘電体材料
から成る高屈折率透明膜及び低屈折率透明膜の組の所定
数を積層し、高屈折率透明膜は、５５０ｎｍの波長にお
ける光屈折率が１．８以上であり、低屈折率透明膜は、
高屈折率透明膜上に積層されると共に、５５０ｎｍの波
長における光屈折率が１．５以下である液晶表示素子用
基板であって、前記所定数は１以上であり、前記高屈折
率透明膜及び低屈折率透明膜の各膜厚を可視光領域にお
ける光反射率が５〜９５％となるように設定されている
ことにより、広範囲な光学特性に対応可能であると共
に、光の利用効率を向上させることができ、しかも信号
遅延を引き起こす可能性をなくすことができることを見
い出した。
く鋭意研究を行った結果、透明基板上に各々誘電体材料
から成る高屈折率透明膜及び低屈折率透明膜の組の所定
数を積層し、高屈折率透明膜は、５５０ｎｍの波長にお
ける光屈折率が１．８以上であり、低屈折率透明膜は、
高屈折率透明膜上に積層されると共に、５５０ｎｍの波
長における光屈折率が１．５以下である液晶表示素子用
基板であって、前記所定数は１以上であり、前記高屈折
率透明膜及び低屈折率透明膜の各膜厚を可視光領域にお
ける光反射率が５〜９５％となるように設定されている
ことにより、広範囲な光学特性に対応可能であると共
に、光の利用効率を向上させることができ、しかも信号
遅延を引き起こす可能性をなくすことができることを見
い出した。
【００２２】すなわち、本発明の液晶表示素子用基板に
よれば、可視光領域における光透過率と光反射率との比
を用途に応じて広範囲に亘って自由に設定できる等、広
範囲な光学特性に対応できるので、光の利用効率が向上
する。更に、金属薄膜に代えて誘電体材料から成る高屈
折率透明膜及び低屈折率透明膜を用いるので、透明膜と
透明電極との間にキャパシタンスが発生せず、信号遅延
を引き起こす可能性がなくなる。
よれば、可視光領域における光透過率と光反射率との比
を用途に応じて広範囲に亘って自由に設定できる等、広
範囲な光学特性に対応できるので、光の利用効率が向上
する。更に、金属薄膜に代えて誘電体材料から成る高屈
折率透明膜及び低屈折率透明膜を用いるので、透明膜と
透明電極との間にキャパシタンスが発生せず、信号遅延
を引き起こす可能性がなくなる。
【００２３】更に、可視光領域における赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）の各波長の光反射率の最大値と最小値
との差を約１０％以内とすることができるので、可視光
領域において広範囲に光学特性がフラットになる。
（Ｇ）、青（Ｂ）の各波長の光反射率の最大値と最小値
との差を約１０％以内とすることができるので、可視光
領域において広範囲に光学特性がフラットになる。
【００２４】本発明は、上記研究の結果に基づいてなさ
れてものである。
れてものである。
【００２５】以下、本発明の実施の形態に係る代表的な
液晶表示素子用基板を図を参照して説明する。
液晶表示素子用基板を図を参照して説明する。
【００２６】図１は、本発明の液晶表示素子用基板を用
いて製造される代表的な液晶表示素子の構造を示す模式
断面図である。図１において、一対の背面側の透明基板
１及び前面側の透明基板１ａが対向して配されている。
透明基板１ａの外側の面には、拡散板５、位相差板２
ａ、及び偏光板３ａが順に積層されている一方、透明基
板１ａの内側の面には酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等
から成る透明導電膜６ａが積層されている。透明基板１
の外側には、位相差板２及び偏光板３が順に積層され、
更にその外側に光源であるバックライト４が配されてい
る。
いて製造される代表的な液晶表示素子の構造を示す模式
断面図である。図１において、一対の背面側の透明基板
１及び前面側の透明基板１ａが対向して配されている。
透明基板１ａの外側の面には、拡散板５、位相差板２
ａ、及び偏光板３ａが順に積層されている一方、透明基
板１ａの内側の面には酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等
から成る透明導電膜６ａが積層されている。透明基板１
の外側には、位相差板２及び偏光板３が順に積層され、
更にその外側に光源であるバックライト４が配されてい
る。
【００２７】透明基板１及び１ａは、一般にガラス基板
が用いられるが、これに限られるものではなくソーダラ
イムガラス、透明なプラスティック基板等でもよい。ガ
ラス基板として、ソーダライムガラスを用いる場合には
基板内部から溶出するナトリウムイオンによる汚染が問
題となる可能性があるため、これを防止するために二酸
化珪素薄膜をコーティングするのが好ましい。また、透
明なプラスティック基板を用いる場合には基板内部から
水分が出てくる可能性があるので、ポリオルガノシロキ
サン類からなるハードコーティングの上に、更に二酸化
珪素薄膜をコーティングして用いるのが好ましい。
が用いられるが、これに限られるものではなくソーダラ
イムガラス、透明なプラスティック基板等でもよい。ガ
ラス基板として、ソーダライムガラスを用いる場合には
基板内部から溶出するナトリウムイオンによる汚染が問
題となる可能性があるため、これを防止するために二酸
化珪素薄膜をコーティングするのが好ましい。また、透
明なプラスティック基板を用いる場合には基板内部から
水分が出てくる可能性があるので、ポリオルガノシロキ
サン類からなるハードコーティングの上に、更に二酸化
珪素薄膜をコーティングして用いるのが好ましい。
【００２８】透明基板１の内側の面には、光吸収の少な
い誘電体であり、高屈折率材料から成る高屈折率透明膜
７と、光吸収の少ない誘電体であり、低屈折率材料から
成る低屈折率透明膜８との組が所定数ｍ（ｍは正の整
数）積層されている。低屈折率透明膜８は高屈折率透明
膜７上に積層されているが、低屈折率透明膜８上に高屈
折率透明膜７が積層されていてもよい。また、図示して
いないが透明基板１の内側の面には、熱硬化性の有機系
樹脂（例えば、アクリル等）を塗布して型押しにより形
成された透明凹凸散乱層が積層されていてもよい。透明
凹凸散乱層には、その表面に微細な凹凸が設けられ、こ
の凹凸によって反射光が乱反射するので、製品時におけ
る見た目のギラツキを抑えることができる。また、透明
凹凸散乱層の屈折率は、透明基板１，１ａとほぼ同一で
あることが好ましい。
い誘電体であり、高屈折率材料から成る高屈折率透明膜
７と、光吸収の少ない誘電体であり、低屈折率材料から
成る低屈折率透明膜８との組が所定数ｍ（ｍは正の整
数）積層されている。低屈折率透明膜８は高屈折率透明
膜７上に積層されているが、低屈折率透明膜８上に高屈
折率透明膜７が積層されていてもよい。また、図示して
いないが透明基板１の内側の面には、熱硬化性の有機系
樹脂（例えば、アクリル等）を塗布して型押しにより形
成された透明凹凸散乱層が積層されていてもよい。透明
凹凸散乱層には、その表面に微細な凹凸が設けられ、こ
の凹凸によって反射光が乱反射するので、製品時におけ
る見た目のギラツキを抑えることができる。また、透明
凹凸散乱層の屈折率は、透明基板１，１ａとほぼ同一で
あることが好ましい。
【００２９】これらの所定数ｍ組積層された高屈折率透
明膜７及び低屈折率透明膜８が光を反射する反射膜とし
ての機能を持つ。つまり、高屈折率透明膜７及び低屈折
率透明膜８の各膜厚と所定数ｍを適当に与えることで、
透過率と光反射率を所望の値にすることができる。
明膜７及び低屈折率透明膜８が光を反射する反射膜とし
ての機能を持つ。つまり、高屈折率透明膜７及び低屈折
率透明膜８の各膜厚と所定数ｍを適当に与えることで、
透過率と光反射率を所望の値にすることができる。
【００３０】これらの光透過率と光反射率とは、液晶表
示素子用基板の設計上の要求仕様（用途等）に従って設
定されるものである。例えば、光反射率は、５〜９５％
の範囲で設定され、比較的明るい環境の下で反射型液晶
表示素子として用いることが多い場合は高い値（６５〜
９５％）に、比較的暗い環境の下で透過型液晶表示素子
として用いることが多い場合は低い値（５〜４５％）に
設定される。光反射率が４５〜６５％の範囲に設定され
た場合には、反射型と透過型の両方に適した液晶表示素
子を作製することができる。
示素子用基板の設計上の要求仕様（用途等）に従って設
定されるものである。例えば、光反射率は、５〜９５％
の範囲で設定され、比較的明るい環境の下で反射型液晶
表示素子として用いることが多い場合は高い値（６５〜
９５％）に、比較的暗い環境の下で透過型液晶表示素子
として用いることが多い場合は低い値（５〜４５％）に
設定される。光反射率が４５〜６５％の範囲に設定され
た場合には、反射型と透過型の両方に適した液晶表示素
子を作製することができる。
【００３１】図１において、上記高屈折率透明膜７又は
低屈折率透明膜８のうち、透明基板１から最も遠い透明
膜８ａ上には、モザイク状につけられたカラーフィルタ
９、カラーフィルタ９を保護するためのオーバーコート
１０、及びＩＴＯ等から成る透明導電膜６が積層され、
透明導電膜６及び透明導電膜６ａ間には液晶層１１が挟
持されているが、これらに代わり、光学的に等価である
単層の透明膜（マッチングオイル）１３が積層されてい
てもよい。マッチングオイルの屈折率は１．５〜１．６
であり、好ましくは１．５５である。
低屈折率透明膜８のうち、透明基板１から最も遠い透明
膜８ａ上には、モザイク状につけられたカラーフィルタ
９、カラーフィルタ９を保護するためのオーバーコート
１０、及びＩＴＯ等から成る透明導電膜６が積層され、
透明導電膜６及び透明導電膜６ａ間には液晶層１１が挟
持されているが、これらに代わり、光学的に等価である
単層の透明膜（マッチングオイル）１３が積層されてい
てもよい。マッチングオイルの屈折率は１．５〜１．６
であり、好ましくは１．５５である。
【００３２】高屈折率透明膜７に用いられる高屈折材料
としては、屈折率が１．８以上で光吸収が少ない誘電体
材料が好ましい。具体的には、二酸化チタン、二酸化ジ
ルコニウム、五酸化タンタル、酸化錫等が挙げられる。
また、低屈折率透明膜８に用いられる低屈折率材料とし
ては、屈折率が１．５以下で光吸収が少ない誘電体材料
が好ましい。具体的には、二酸化珪素、フッ化マグネシ
ウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム等が挙げられ
る。各層の膜厚は、５〜２００ｎｍの範囲にあることが
望ましいが、正確には所望の光学特性を実現する上で最
適な膜厚が用いられる。
としては、屈折率が１．８以上で光吸収が少ない誘電体
材料が好ましい。具体的には、二酸化チタン、二酸化ジ
ルコニウム、五酸化タンタル、酸化錫等が挙げられる。
また、低屈折率透明膜８に用いられる低屈折率材料とし
ては、屈折率が１．５以下で光吸収が少ない誘電体材料
が好ましい。具体的には、二酸化珪素、フッ化マグネシ
ウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム等が挙げられ
る。各層の膜厚は、５〜２００ｎｍの範囲にあることが
望ましいが、正確には所望の光学特性を実現する上で最
適な膜厚が用いられる。
【００３３】最適な膜厚は、上記の可視光領域における
赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各波長の光反射率の最
大値と最小値との差が約１０％以内とすることを条件と
して、可視光領域における光反射率及び高屈折率透明膜
７と低屈折率透明膜８との組の数（積層数）に応じて下
記のように設定するのが好ましい。
赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各波長の光反射率の最
大値と最小値との差が約１０％以内とすることを条件と
して、可視光領域における光反射率及び高屈折率透明膜
７と低屈折率透明膜８との組の数（積層数）に応じて下
記のように設定するのが好ましい。
【００３４】（１）光反射率が５％以上２５％未満の場
合 （ｉ）積層数ｍが１のとき 高屈折率透明膜７：２０〜
１３０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５０〜１１０ｎｍ （ii）積層数ｍが２のとき 高屈折率透明膜７：５〜６
０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１５０ｎｍ （iii）積層数ｍが３のとき 高屈折率透明膜７：３〜
８０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１６０ｎｍ （iv）積層数ｍが４のとき 高屈折率透明膜７：５〜８
０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜８０ｎｍ （２）光反射率が２５％以上４５％未満の場合 （ｉ）積層数ｍが１のとき 高屈折率透明膜７：８０〜
１１０ｎｍ 低屈折率透明膜８：４０〜６０ｎｍ （ii）積層数ｍが２のとき 高屈折率透明膜７：２０〜
１８０ｎｍ 低屈折率透明膜８：３０〜１００ｎｍ （iii）積層数ｍが３のとき 高屈折率透明膜７：１０
〜１３０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜１７０ｎｍ （iv）積層数ｍが４のとき 高屈折率透明膜７：２０〜
１１０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１００ｎｍ （v）積層数ｍが５のとき 高屈折率透明膜７：１０〜
１１０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１１０ｎｍ （vi）積層数ｍが６のとき 高屈折率透明膜７：１０〜
８０ｎｍ 低屈折率透明膜８：３０〜１００ｎｍ （３）光反射率が４５％以上６５％未満の場合 （ｉ）積層数ｍが２のとき 高屈折率透明膜７：６０〜
１８０ｎｍ 低屈折率透明膜８：４０〜９０ｎｍ （ii）積層数ｍが３のとき 高屈折率透明膜７：２０〜
１６０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜１５０ｎｍ （iii）積層数ｍが４のとき 高屈折率透明膜７：２０
〜１８０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜１１０ｎｍ （iv）積層数ｍが５のとき 高屈折率透明膜７：３０〜
１９０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜１４０ｎｍ （v）積層数ｍが６のとき 高屈折率透明膜７：１０〜
１５０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜１００ｎｍ （vi）積層数ｍが７のとき 高屈折率透明膜７：２０〜
１５０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１１０ｎｍ （vii）積層数ｍが８のとき 高屈折率透明膜７：２０
〜１３０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１１０ｎｍ （viii）積層数ｍが９のとき 高屈折率透明膜７：２０
〜１２０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜９０ｎｍ （４）光反射率が６５％以上９５％未満の場合 （ｉ）積層数ｍが３のとき 高屈折率透明膜７：８０〜
１６０ｎｍ 低屈折率透明膜８：４０〜１１０ｎｍ （ii）積層数ｍが４のとき 高屈折率透明膜７：６０〜
１４０ｎｍ 低屈折率透明膜８：４０〜１００ｎｍ （iii）積層数ｍが５のとき 高屈折率透明膜７：３０
〜１３０ｎｍ 低屈折率透明膜８：２０〜１７０ｎｍ （iv）積層数ｍが６のとき 高屈折率透明膜７：２０〜
１８０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜１４０ｎｍ （v）積層数ｍが７のとき 高屈折率透明膜７：１０〜
１５０ｎｍ 低屈折率透明膜８：３０〜１３０ｎｍ （vi）積層数ｍが８のとき 高屈折率透明膜７：５〜２
００ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１５０ｎｍ （vii）積層数ｍが９のとき 高屈折率透明膜７：５〜
２００ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１４０ｎｍ 透明基板１から最も遠い透明膜８ａが低屈折率透明膜８
である場合、その膜厚は、カラーフィルタ９との密着性
を考慮し、２０ｎｍ以上とすることが望ましく、また、
該透明膜８ａの材質は二酸化珪素が好ましい。上記の高
屈折率透明膜７、低屈折率透明膜８、及び透明膜８ａの
成膜方法としては、主に、電子線加熱蒸発による蒸着イ
オンプレーティングやスパッタリングが用いられるが、
それ以外の方法を用いてもよい。
合 （ｉ）積層数ｍが１のとき 高屈折率透明膜７：２０〜
１３０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５０〜１１０ｎｍ （ii）積層数ｍが２のとき 高屈折率透明膜７：５〜６
０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１５０ｎｍ （iii）積層数ｍが３のとき 高屈折率透明膜７：３〜
８０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１６０ｎｍ （iv）積層数ｍが４のとき 高屈折率透明膜７：５〜８
０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜８０ｎｍ （２）光反射率が２５％以上４５％未満の場合 （ｉ）積層数ｍが１のとき 高屈折率透明膜７：８０〜
１１０ｎｍ 低屈折率透明膜８：４０〜６０ｎｍ （ii）積層数ｍが２のとき 高屈折率透明膜７：２０〜
１８０ｎｍ 低屈折率透明膜８：３０〜１００ｎｍ （iii）積層数ｍが３のとき 高屈折率透明膜７：１０
〜１３０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜１７０ｎｍ （iv）積層数ｍが４のとき 高屈折率透明膜７：２０〜
１１０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１００ｎｍ （v）積層数ｍが５のとき 高屈折率透明膜７：１０〜
１１０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１１０ｎｍ （vi）積層数ｍが６のとき 高屈折率透明膜７：１０〜
８０ｎｍ 低屈折率透明膜８：３０〜１００ｎｍ （３）光反射率が４５％以上６５％未満の場合 （ｉ）積層数ｍが２のとき 高屈折率透明膜７：６０〜
１８０ｎｍ 低屈折率透明膜８：４０〜９０ｎｍ （ii）積層数ｍが３のとき 高屈折率透明膜７：２０〜
１６０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜１５０ｎｍ （iii）積層数ｍが４のとき 高屈折率透明膜７：２０
〜１８０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜１１０ｎｍ （iv）積層数ｍが５のとき 高屈折率透明膜７：３０〜
１９０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜１４０ｎｍ （v）積層数ｍが６のとき 高屈折率透明膜７：１０〜
１５０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜１００ｎｍ （vi）積層数ｍが７のとき 高屈折率透明膜７：２０〜
１５０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１１０ｎｍ （vii）積層数ｍが８のとき 高屈折率透明膜７：２０
〜１３０ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１１０ｎｍ （viii）積層数ｍが９のとき 高屈折率透明膜７：２０
〜１２０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜９０ｎｍ （４）光反射率が６５％以上９５％未満の場合 （ｉ）積層数ｍが３のとき 高屈折率透明膜７：８０〜
１６０ｎｍ 低屈折率透明膜８：４０〜１１０ｎｍ （ii）積層数ｍが４のとき 高屈折率透明膜７：６０〜
１４０ｎｍ 低屈折率透明膜８：４０〜１００ｎｍ （iii）積層数ｍが５のとき 高屈折率透明膜７：３０
〜１３０ｎｍ 低屈折率透明膜８：２０〜１７０ｎｍ （iv）積層数ｍが６のとき 高屈折率透明膜７：２０〜
１８０ｎｍ 低屈折率透明膜８：１０〜１４０ｎｍ （v）積層数ｍが７のとき 高屈折率透明膜７：１０〜
１５０ｎｍ 低屈折率透明膜８：３０〜１３０ｎｍ （vi）積層数ｍが８のとき 高屈折率透明膜７：５〜２
００ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１５０ｎｍ （vii）積層数ｍが９のとき 高屈折率透明膜７：５〜
２００ｎｍ 低屈折率透明膜８：５〜１４０ｎｍ 透明基板１から最も遠い透明膜８ａが低屈折率透明膜８
である場合、その膜厚は、カラーフィルタ９との密着性
を考慮し、２０ｎｍ以上とすることが望ましく、また、
該透明膜８ａの材質は二酸化珪素が好ましい。上記の高
屈折率透明膜７、低屈折率透明膜８、及び透明膜８ａの
成膜方法としては、主に、電子線加熱蒸発による蒸着イ
オンプレーティングやスパッタリングが用いられるが、
それ以外の方法を用いてもよい。
【００３５】本実施の形態によれば、光屈折率の異なる
誘電体からなる高屈折率透明膜７及び低屈折率透明膜８
の組を所定数ｍだけ多層に積層することにより、背面側
の透明基板１上に金属薄膜を積層した従来の液晶表示素
子用基板と比較して、可視光領域における光反射率を５
〜９５％に設定できるので広範囲な光学特性に対応する
ことができ、また、高屈折率透明膜７及び低屈折率透明
膜８が光吸収の少ない誘電体から成るので、光吸収を低
減して光の利用効率を向上させることができ、しかも信
号遅延を引き起こす可能性をなくする。
誘電体からなる高屈折率透明膜７及び低屈折率透明膜８
の組を所定数ｍだけ多層に積層することにより、背面側
の透明基板１上に金属薄膜を積層した従来の液晶表示素
子用基板と比較して、可視光領域における光反射率を５
〜９５％に設定できるので広範囲な光学特性に対応する
ことができ、また、高屈折率透明膜７及び低屈折率透明
膜８が光吸収の少ない誘電体から成るので、光吸収を低
減して光の利用効率を向上させることができ、しかも信
号遅延を引き起こす可能性をなくする。
【００３６】
【実施例】次に、本発明の実施例について説明する。
【００３７】（実施例１）まず、上記のような背面側の
透明基板１をソーダライムガラス材料（主として、Ｓｉ
Ｏ２７２重量％、Ｎａ２Ｏ１３重量％、ＣａＯ８重量
％、Ａｌ２Ｏ３１．８重量％、Ｋ２Ｏ０．９重量％）で
作製した。その一方の面に表１に示す積層数及び膜厚の
高屈折率透明膜７及び低屈折率透明膜８の組を積層した
ものに屈折率１．５５のマッチングオイル１３及び透明
基板１ａを積層した試料（実施例１〜１７）を準備し
た。高屈折率透明膜７の材質として二酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ２）を、低屈折率透明膜８の材質として二酸化珪素
（ＳｉＯ２）をそれぞれ使用した（以下の各実施例でも
同様である）。また、各透明膜７，８の膜厚は、可視光
領域における光反射率が５％以上２５％未満となるよう
に積層数に応じて設定した。
透明基板１をソーダライムガラス材料（主として、Ｓｉ
Ｏ２７２重量％、Ｎａ２Ｏ１３重量％、ＣａＯ８重量
％、Ａｌ２Ｏ３１．８重量％、Ｋ２Ｏ０．９重量％）で
作製した。その一方の面に表１に示す積層数及び膜厚の
高屈折率透明膜７及び低屈折率透明膜８の組を積層した
ものに屈折率１．５５のマッチングオイル１３及び透明
基板１ａを積層した試料（実施例１〜１７）を準備し
た。高屈折率透明膜７の材質として二酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ２）を、低屈折率透明膜８の材質として二酸化珪素
（ＳｉＯ２）をそれぞれ使用した（以下の各実施例でも
同様である）。また、各透明膜７，８の膜厚は、可視光
領域における光反射率が５％以上２５％未満となるよう
に積層数に応じて設定した。
【００３８】上記各試料に対して、一方の面から可視光
を照射し、当該可視光に対する透過光及び反射光のＲ、
Ｇ、Ｂの各波長成分についての光透過率［％］と光反射
率［％］とを測定し、その測定結果を表１に示す。
を照射し、当該可視光に対する透過光及び反射光のＲ、
Ｇ、Ｂの各波長成分についての光透過率［％］と光反射
率［％］とを測定し、その測定結果を表１に示す。
【００３９】
【表１】
【００４０】表１において、成膜方法の欄における
「Ｓ」はスパッタリングにより成膜した場合を示し、
「Ｅ」は蒸着により成膜した場合を示す。積層数ｍは、
高屈折率透明膜７と低屈折率透明膜８の組の数を示す。
ＬＡＹＥＲの欄における「Ｈ」は、高屈折率透明膜７の
膜厚を示し、「Ｌ」は低屈折率透明膜８の膜厚を示す。
光透過率［％］は、可視光がＲ、Ｇ、Ｂの各波長成分に
ついて試料を透過した割合を示し、光反射率［％］は、
可視光がＲ、Ｇ、Ｂの各波長成分の反射した割合を示
し、Δはそれらの最大値と最小値との差を示す。以下の
各表についても同様である。
「Ｓ」はスパッタリングにより成膜した場合を示し、
「Ｅ」は蒸着により成膜した場合を示す。積層数ｍは、
高屈折率透明膜７と低屈折率透明膜８の組の数を示す。
ＬＡＹＥＲの欄における「Ｈ」は、高屈折率透明膜７の
膜厚を示し、「Ｌ」は低屈折率透明膜８の膜厚を示す。
光透過率［％］は、可視光がＲ、Ｇ、Ｂの各波長成分に
ついて試料を透過した割合を示し、光反射率［％］は、
可視光がＲ、Ｇ、Ｂの各波長成分の反射した割合を示
し、Δはそれらの最大値と最小値との差を示す。以下の
各表についても同様である。
【００４１】高屈折率透明膜７及び低屈折率透明膜８の
積層数及び各膜厚を表１のように設定することにより、
可視光領域における光反射率が５％以上２５％未満の範
囲では、実施例１〜１７のいずれもＲ、Ｇ、Ｂの各波長
における光反射率の最大値と最小値との差はおよそ１０
％以内であることが表１からわかる。
積層数及び各膜厚を表１のように設定することにより、
可視光領域における光反射率が５％以上２５％未満の範
囲では、実施例１〜１７のいずれもＲ、Ｇ、Ｂの各波長
における光反射率の最大値と最小値との差はおよそ１０
％以内であることが表１からわかる。
【００４２】（実施例２）次いで、上記透明基板１の一
方の面に表２に示す積層数及び膜厚の高屈折率透明膜７
及び低屈折率透明膜８の組を積層したものに屈折率１．
５５のマッチングオイル１３び透明基板１ａを積層した
試料（実施例１８〜３９）を準備して、上記と同様の測
定を行った測定結果を表２に示す。また、各透明膜７，
８の膜厚は、可視光領域における光反射率が２５％以上
４５％未満となるように積層数に応じて設定した。
方の面に表２に示す積層数及び膜厚の高屈折率透明膜７
及び低屈折率透明膜８の組を積層したものに屈折率１．
５５のマッチングオイル１３び透明基板１ａを積層した
試料（実施例１８〜３９）を準備して、上記と同様の測
定を行った測定結果を表２に示す。また、各透明膜７，
８の膜厚は、可視光領域における光反射率が２５％以上
４５％未満となるように積層数に応じて設定した。
【００４３】
【表２】
【００４４】表２に示すように、高屈折率透明膜７及び
低屈折率透明膜８の組の積層数及び各膜厚を設定するこ
とにより、可視光領域における光反射率が２５％以上４
５％未満の範囲では、実施例１８〜３９のいずれもＲ、
Ｇ、Ｂの各波長における光反射率の最大値と最小値との
差はおよそ１０％以内である。
低屈折率透明膜８の組の積層数及び各膜厚を設定するこ
とにより、可視光領域における光反射率が２５％以上４
５％未満の範囲では、実施例１８〜３９のいずれもＲ、
Ｇ、Ｂの各波長における光反射率の最大値と最小値との
差はおよそ１０％以内である。
【００４５】（実施例３）表３及び表４は、上記と同様
に測定した測定結果であり、可視光領域における光反射
率が４５％以上６５％未満の場合を示す。
に測定した測定結果であり、可視光領域における光反射
率が４５％以上６５％未満の場合を示す。
【００４６】
【表３】
【００４７】
【表４】
【００４８】表３及び表４に示すように、高屈折率透明
膜７及び低屈折率透明膜８の組の積層数及び各膜厚を設
定することにより、可視光領域における光反射率が４５
％以上６５％未満の範囲では、実施例４０〜７８のいず
れもＲ、Ｇ、Ｂの各波長における光反射率の最大値と最
小値との差はおよそ１０％以内である。
膜７及び低屈折率透明膜８の組の積層数及び各膜厚を設
定することにより、可視光領域における光反射率が４５
％以上６５％未満の範囲では、実施例４０〜７８のいず
れもＲ、Ｇ、Ｂの各波長における光反射率の最大値と最
小値との差はおよそ１０％以内である。
【００４９】（実施例４）表５及び表６は、上記と同様
に測定した測定結果であり、可視光領域における光反射
率が６５％以上９５％未満の場合を示す。
に測定した測定結果であり、可視光領域における光反射
率が６５％以上９５％未満の場合を示す。
【００５０】
【表５】
【００５１】
【表６】
【００５２】表５及び表６に示すように、高屈折率透明
膜７及び低屈折率透明膜８の組の積層数及び各膜厚を設
定することにより、可視光領域における光反射率が６５
％以上９５％未満の範囲では、実施例７９〜１１３のい
ずれもＲ、Ｇ、Ｂの各波長における光反射率の最大値と
最小値との差はおよそ１０％以内である。
膜７及び低屈折率透明膜８の組の積層数及び各膜厚を設
定することにより、可視光領域における光反射率が６５
％以上９５％未満の範囲では、実施例７９〜１１３のい
ずれもＲ、Ｇ、Ｂの各波長における光反射率の最大値と
最小値との差はおよそ１０％以内である。
【００５３】また、上記各試料の透明基板１の内側の面
に透明凹凸散乱層を追加して積層した試料について上記
と同様に測定を行った結果、可視光領域における光反射
率が５％以上９５％未満の範囲では、高屈折率透明膜７
及び低屈折率透明膜８の組の積層数及び各膜厚を設定す
ることにより、いずれの試料もＲ、Ｇ、Ｂの各波長にお
ける光反射率の最大値と最小値との差はおよそ１０％以
内であった。
に透明凹凸散乱層を追加して積層した試料について上記
と同様に測定を行った結果、可視光領域における光反射
率が５％以上９５％未満の範囲では、高屈折率透明膜７
及び低屈折率透明膜８の組の積層数及び各膜厚を設定す
ることにより、いずれの試料もＲ、Ｇ、Ｂの各波長にお
ける光反射率の最大値と最小値との差はおよそ１０％以
内であった。
【００５４】次に、本発明の実施例の液晶表示素子用基
板の光吸収率と従来の液晶表示素子用基板の光吸収率と
の差について説明する。ここに、光吸収率は、可視光か
ら透過光と反射光を減算した残りが吸収されるという考
えに基づいて、１００−（光透過率＋光反射率）なる式
により算出した。表７は、本発明の実施例の代表的なも
の（実施例９，２９，７６，９２，１７，３８，７７，
１０５）と従来の液晶表示素子用基板（比較例１〜４）
における光吸収率を比較したものである。
板の光吸収率と従来の液晶表示素子用基板の光吸収率と
の差について説明する。ここに、光吸収率は、可視光か
ら透過光と反射光を減算した残りが吸収されるという考
えに基づいて、１００−（光透過率＋光反射率）なる式
により算出した。表７は、本発明の実施例の代表的なも
の（実施例９，２９，７６，９２，１７，３８，７７，
１０５）と従来の液晶表示素子用基板（比較例１〜４）
における光吸収率を比較したものである。
【００５５】比較例１〜４の液晶表示素子の積層構造に
ついて図４を参照して簡単に説明する。図４は、従来の
液晶表示素子の積層構造を示す模式断面図である。図１
に対する相違点は、透明基板１の内側の面に所定数ｍ組
の高屈折率透明膜７及び低屈折率透明膜８に代えて、金
属薄膜１２が積層されていることである。
ついて図４を参照して簡単に説明する。図４は、従来の
液晶表示素子の積層構造を示す模式断面図である。図１
に対する相違点は、透明基板１の内側の面に所定数ｍ組
の高屈折率透明膜７及び低屈折率透明膜８に代えて、金
属薄膜１２が積層されていることである。
【００５６】比較例１〜４の各試料は、上記実施例と同
様に背面側の透明基板１をソーダライムガラス材料で作
製した。
様に背面側の透明基板１をソーダライムガラス材料で作
製した。
【００５７】上記各試料に対して、一方の面から可視光
を照射し、当該可視光に対する透過光及び反射光を５５
０ｎｍの波長成分についての光透過率［％］と光反射率
［％］とを測定し、その測定結果を表７に示す。
を照射し、当該可視光に対する透過光及び反射光を５５
０ｎｍの波長成分についての光透過率［％］と光反射率
［％］とを測定し、その測定結果を表７に示す。
【００５８】
【表７】
【００５９】表７において、本発明の実施例の代表的な
ものでは、透明基板１上に、所定数ｍ組分積層された高
屈折率透明膜７及び低屈折率透明膜８は、光吸収の少な
い誘電体から成るので、光の吸収がほとんどなく、光吸
収率の値が小さい。一方、比較例１〜４では、透明基板
１上に半透明のアルミニウム金属薄膜を積層しているた
め光が金属薄膜に吸収され、光吸収率の値が大きい。こ
の場合、実施例の代表的なものに対し２０％大きい。
ものでは、透明基板１上に、所定数ｍ組分積層された高
屈折率透明膜７及び低屈折率透明膜８は、光吸収の少な
い誘電体から成るので、光の吸収がほとんどなく、光吸
収率の値が小さい。一方、比較例１〜４では、透明基板
１上に半透明のアルミニウム金属薄膜を積層しているた
め光が金属薄膜に吸収され、光吸収率の値が大きい。こ
の場合、実施例の代表的なものに対し２０％大きい。
【００６０】表７の結果を図２に示す。図２は、本発明
の実施例の代表的ものと比較例１〜４における光透過率
と光反射率との関係を示したグラフであり、ａは本実施
例の液晶表示素子用基板の特性を示し、ｂは比較例の液
晶表示素子用基板の特性を示す。
の実施例の代表的ものと比較例１〜４における光透過率
と光反射率との関係を示したグラフであり、ａは本実施
例の液晶表示素子用基板の特性を示し、ｂは比較例の液
晶表示素子用基板の特性を示す。
【００６１】次に、本発明の実施例の液晶表示素子用基
板と従来の液晶表示素子用基板との光学特性（光透過率
（Ｔ［％］）、光反射率（Ｒ［％］））について図３を
参照して説明する。図３は、本発明の実施例の液晶表示
素子用基板と従来の液晶表示素子用基板の各光学特性
（Ｔ，Ｒ［％］）を示す図であり、（ａ）は実施例１，
２の光学特性を示し、（ｂ）は比較例１，２の光学特性
を示す。図３のグラフでは、横軸を波長［ｎｍ］、縦軸
をＴ，Ｒ［％］にしており、光の入射角が０°，４５°
の場合の光透過率と光反射率が示されている。
板と従来の液晶表示素子用基板との光学特性（光透過率
（Ｔ［％］）、光反射率（Ｒ［％］））について図３を
参照して説明する。図３は、本発明の実施例の液晶表示
素子用基板と従来の液晶表示素子用基板の各光学特性
（Ｔ，Ｒ［％］）を示す図であり、（ａ）は実施例１，
２の光学特性を示し、（ｂ）は比較例１，２の光学特性
を示す。図３のグラフでは、横軸を波長［ｎｍ］、縦軸
をＴ，Ｒ［％］にしており、光の入射角が０°，４５°
の場合の光透過率と光反射率が示されている。
【００６２】図３において、実施例１、２の光学特性は
可視光領域において、光の入射角が０°でも、４５°で
もフラットな特性を有しており、カラー表示を行うと
き、余分な色補正等の必要がない。反対に、比較例１、
２の光学特性はフラットではなく、カラー表示を行うと
き、余分な色補正を行う必要が生じる。
可視光領域において、光の入射角が０°でも、４５°で
もフラットな特性を有しており、カラー表示を行うと
き、余分な色補正等の必要がない。反対に、比較例１、
２の光学特性はフラットではなく、カラー表示を行うと
き、余分な色補正を行う必要が生じる。
【００６３】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、請求項１
記載の液晶表示素子用基板によれば、透明基板上に各々
誘電体材料から成る高屈折率透明膜及び低屈折率透明膜
の組の所定数を積層し、高屈折率透明膜は、５５０ｎｍ
の波長における光屈折率が１．８以上であり、低屈折率
透明膜は、高屈折率透明膜上に積層されると共に、５５
０ｎｍの波長における光屈折率が１．５以下である液晶
表示素子用基板であって、所定数は１以上であり、高屈
折率透明膜及び低屈折率透明膜の各膜厚を可視光領域に
おける光反射率が５〜９５％となるように設定されてい
るので、可視光領域における光透過率と光反射率との比
を用途に応じて広範囲に亘って自由に設定できる等、広
範囲な光学特性に対応できると共に、光の利用効率を向
上させ、しかも信号遅延を引き起こす可能性をなくすこ
とができる。
記載の液晶表示素子用基板によれば、透明基板上に各々
誘電体材料から成る高屈折率透明膜及び低屈折率透明膜
の組の所定数を積層し、高屈折率透明膜は、５５０ｎｍ
の波長における光屈折率が１．８以上であり、低屈折率
透明膜は、高屈折率透明膜上に積層されると共に、５５
０ｎｍの波長における光屈折率が１．５以下である液晶
表示素子用基板であって、所定数は１以上であり、高屈
折率透明膜及び低屈折率透明膜の各膜厚を可視光領域に
おける光反射率が５〜９５％となるように設定されてい
るので、可視光領域における光透過率と光反射率との比
を用途に応じて広範囲に亘って自由に設定できる等、広
範囲な光学特性に対応できると共に、光の利用効率を向
上させ、しかも信号遅延を引き起こす可能性をなくすこ
とができる。
【００６４】また、請求項２記載の液晶表示素子用基板
によれば、前記透明基板上に透明凹凸散乱層を積層する
ので、反射光によるギラツキを抑えることができる。
によれば、前記透明基板上に透明凹凸散乱層を積層する
ので、反射光によるギラツキを抑えることができる。
【００６５】また、請求項３乃至３１記載の液晶表示素
子用基板によれば、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜の
各膜厚を所定の範囲に設定することにより、可視光領域
における光反射率を広範囲で設定することができ、広範
囲な光学特性に対応することができる。
子用基板によれば、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜の
各膜厚を所定の範囲に設定することにより、可視光領域
における光反射率を広範囲で設定することができ、広範
囲な光学特性に対応することができる。
【００６６】また、請求項３３記載の液晶表示素子用基
板によれば、透明基板から最も遠い低屈折率透明膜と他
の材料の膜との密着性をよりよくすることができる。
板によれば、透明基板から最も遠い低屈折率透明膜と他
の材料の膜との密着性をよりよくすることができる。
【図１】本発明の液晶表示素子用基板を用いて製造され
る代表的な液晶表示素子の構造を示す模式断面図であ
る。
る代表的な液晶表示素子の構造を示す模式断面図であ
る。
【図２】本発明の実施例の代表的なものと比較例１〜４
における光透過率と光反射率の関係を示したグラフであ
る。
における光透過率と光反射率の関係を示したグラフであ
る。
【図３】本発明の実施例の液晶表示素子用基板と従来の
液晶表示素子用基板の各光学特性を示す図であり、
（ａ）は実施例１，２の光学特性を示し、（ｂ）は比較
例１，２の光学特性を示す。
液晶表示素子用基板の各光学特性を示す図であり、
（ａ）は実施例１，２の光学特性を示し、（ｂ）は比較
例１，２の光学特性を示す。
【図４】従来の液晶表示素子の積層構造を示す模式断面
図である。
図である。
１，１ａ 透明基板 ２，２ａ 位相差板 ３，３ａ 偏光板 ４ バックライト ５ 拡散板 ６，６ａ 透明導電膜 ７ 高屈折率透明膜 ８ 低屈折率透明膜 ８ａ 透明膜 ９ カラーフィルタ １０ オーバーコート １１ 液晶層 １２ 金属薄膜 １３ マッチングオイル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/08 Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA12 BA15 BA20 DA08 DA12 DB00 DC02 DE00 2H090 JC07 JD06 JD10 LA06 LA09 LA10 LA15 LA16 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA11X FA16Z FA37Y FA41Z FD06 LA30 2K009 AA05 AA07 AA09 BB02 BB06 CC03 CC06 CC42 DD04 EE00 4F100 AA20C AA21B AG00A AR00D AT00A BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C DD07D GB41 JG05B JG05C JK06 JM02B JM02C JN01A JN01B JN01C JN01D JN06B JN06C JN18B JN18C JN26D YY00B YY00C
Claims (34)
- 【請求項１】 透明基板上に各々誘電体材料から成る高
屈折率透明膜及び低屈折率透明膜の組の所定数を積層
し、前記高屈折率透明膜は、５５０ｎｍの波長における
光屈折率が１．８以上であり、前記低屈折率透明膜は、
前記高屈折率透明膜上に積層されると共に、５５０ｎｍ
の波長における光屈折率が１．５以下である液晶表示素
子用基板であって、 前記所定数は１以上であり、前記高屈折率透明膜及び前
記低屈折率透明膜の各膜厚を可視光領域における光反射
率が５〜９５％となるように設定されていることを特徴
とする液晶表示素子用基板。 - 【請求項２】 前記透明基板上に透明凹凸散乱層を積層
したことを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子用基
板。 - 【請求項３】 前記可視光領域における光反射率は、５
％以上２５％未満であることを特徴とする請求項１又は
２記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項４】 前記所定数が１のとき、前記高屈折率透
明膜の膜厚が２０〜１３０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の
膜厚が５０〜１１０ｎｍであることを特徴とする請求項
３記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項５】 前記所定数が２のとき、前記高屈折率透
明膜の膜厚が５〜６０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚
が５〜１５０ｎｍであることを特徴とする請求項３記載
の液晶表示素子用基板。 - 【請求項６】 前記所定数が３のとき、前記高屈折率透
明膜の膜厚が３〜８０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚
が５〜１６０ｎｍであることを特徴とする請求項３記載
の液晶表示素子用基板。 - 【請求項７】 前記所定数が４のとき、前記高屈折率透
明膜の膜厚が５〜８０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の膜厚
が５〜８０ｎｍであることを特徴とする請求項３記載の
液晶表示素子用基板。 - 【請求項８】 前記可視光領域における光反射率は、２
５％以上４５％未満であることを特徴とする請求項１又
は２記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項９】 前記所定数が１のとき、前記高屈折率透
明膜の膜厚が８０〜１１０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の
膜厚が４０〜６０ｎｍであることを特徴とする請求項８
記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項１０】 前記所定数が２のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が２０〜１８０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が３０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求
項８記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項１１】 前記所定数が３のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が１０〜１３０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が１０〜１７０ｎｍであることを特徴とする請求
項８記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項１２】 前記所定数が４のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が２０〜１１０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が５〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項
８記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項１３】 前記所定数が５のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が１０〜１１０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が５〜１１０ｎｍであることを特徴とする請求項
８記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項１４】 前記所定数が６のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が１０〜８０ｎｍ、前記低屈折率透明膜の
膜厚が３０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項
８記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項１５】 前記可視光領域における光反射率は、
４５％以上６５％未満であることを特徴とする請求項１
又は２記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項１６】 前記所定数が２のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が６０〜１８０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が４０〜９０ｎｍであることを特徴とする請求項
１５記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項１７】 前記所定数が３のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が２０〜１６０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が１０〜１５０ｎｍであることを特徴とする請求
項１５記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項１８】 前記所定数が４のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が２０〜１８０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が１０〜１１０ｎｍであることを特徴とする請求
項１５記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項１９】 前記所定数が５のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が３０〜１９０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が１０〜１４０ｎｍであることを特徴とする請求
項１５記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項２０】 前記所定数が６のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が１０〜１５０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が１０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求
項１５記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項２１】 前記所定数が７のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が２０〜１５０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が５〜１１０ｎｍであることを特徴とする請求項
１５記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項２２】 前記所定数が８のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が２０〜１３０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が５〜１１０ｎｍであることを特徴とする請求項
１５記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項２３】 前記所定数が９のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が２０〜１２０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が１０〜９０ｎｍであることを特徴とする請求項
１５記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項２４】 前記可視光領域における光反射率は、
６５％以上９５％未満であることを特徴とする請求項１
又は２記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項２５】 前記所定数が３のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が８０〜１６０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が４０〜１１０ｎｍであることを特徴とする請求
項２４記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項２６】 前記所定数が４のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が６０〜１４０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が４０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求
項２４記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項２７】 前記所定数が５のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が３０〜１３０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が２０〜１７０ｎｍであることを特徴とする請求
項２４記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項２８】 前記所定数が６のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が２０〜１８０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が１０〜１４０ｎｍであることを特徴とする請求
項２４記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項２９】 前記所定数が７のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が１０〜１５０ｎｍ、前記低屈折率透明膜
の膜厚が３０〜１３０ｎｍであることを特徴とする請求
項２４記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項３０】 前記所定数が８のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が５〜２００ｎｍ、前記低屈折率透明膜の
膜厚が５〜１５０ｎｍであることを特徴とする請求項２
４記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項３１】 前記所定数が９のとき、前記高屈折率
透明膜の膜厚が５〜２００ｎｍ、前記低屈折率透明膜の
膜厚が５〜１４０ｎｍであることを特徴とする請求項２
４記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項３２】 前記低屈折率透明膜は、二酸化珪素、
フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、及びフッ化リ
チウムから成る群から選択された少なくとも一種の化合
物から成る低屈折率材料で形成されることを特徴とする
請求項１乃至３１のいずれか１項に記載の液晶表示素子
用基板。 - 【請求項３３】 前記透明基板から最も遠い前記低屈折
率透明膜は二酸化珪素であり、その膜厚は２０ｎｍ以上
であることを特徴とする請求項１乃至３２のいずれか１
項に記載の液晶表示素子用基板。 - 【請求項３４】 前記高屈折率透明膜は、二酸化チタ
ン、二酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、及び酸化錫
から成る群から選択された少なくとも一種の化合物から
成る高屈折率材料で形成されることを特徴とする請求項
１乃至３３のいずれか１項に記載の液晶表示素子用基
板。
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