JP2017526972A - ディスプレイ装置用基板 - Google Patents
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Abstract
本発明は、ディスプレイ装置用基板に係り、より詳しくは、優れた耐久性を有し、且つディスプレイ装置への適用の際にカラーシフト(color shift)の発生が最小化できるディスプレイ装置用基板に関する。このために、本発明は、基材;前記基材上に形成される第1コーティング膜;前記第1コーティング膜上に形成され、前記第1コーティング膜よりも屈折率が相対的に低い物質からなる第2コーティング膜;前記第2コーティング膜上に形成され、前記第2コーティング膜よりも屈折率が相対的に高い物質からなる第3コーティング膜;前記第3コーティング膜上に形成され、前記第3コーティング膜よりも屈折率が相対的に低い物質からなる第4コーティング膜;及び前記第4コーティング膜上に形成され、前記第4コーティング膜よりも屈折率が相対的に高いAlONからなるハードコート膜を含むことを特徴とするディスプレイ装置用基板を提供する。
Description
本発明は、ディスプレイ装置用基板に係り、より詳しくは、優れた耐久性を有し、且つディスプレイ装置への適用の際にカラーシフト(color shift)の発生が最小化できるディスプレイ装置用基板に関する。
現代社会が高度情報化していくにつれ、顕著に進歩したイメージディスプレイ(image display)関連部品や機器が普及されつつある。その中でも、画像を表示するディスプレイ装置は、テレビ装置用、パーソナルコンピュータのモニタ装置用等としてその普及が顕著になっている。これに伴い、表示装置に代表されていた陰極線管(cathode ray tube:CRT)は、液晶ディスプレイ装置(liquid crystal display:LCD)、プラズマディスプレイ装置(plasma display panel:PDP)、電界放出表示装置(field emission display:FED)、有機発光ディスプレイ装置(organic light emitting display:OLED)等のようなフラットパネルディスプレイ装置(flat panel display:FPD)に急速に代替されてきている。
一方、近年に入り、スマートフォンの登場によって、モバイルディスプレイ装置を中心にタッチパネルの使用が急速に拡大されてきている。タッチパネルは、ディスプレイ装置の前面に配設され、ユーザがディスプレイ装置を見ながら指先またはスタイラス(stylus)等の入力装置でこれをタッチすれば信号が出力できるようにした装置である。このとき、この種のタッチパネルを介して直接的に圧力を受けるカバー基板は、その機能上、高い透光性を満たすと共に、数百万回の接触に耐えられる必要があることから高い機械的耐久性を必要とする。このため、より優れた耐久性や光学特性を同時に実現可能なカバー基板を作製するための努力が続いている。
本発明は、上述したような従来技術の問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、優れた耐久性を有し、且つディスプレイ装置への適用の際にカラーシフト(color shift)の発生が最小化できるディスプレイ装置用基板を提供することである。
このために、本発明は、基材;前記基材上に形成される第1コーティング膜;前記第1コーティング膜上に形成され、前記第1コーティング膜よりも屈折率が相対的に低い物質からなる第2コーティング膜;前記第2コーティング膜上に形成され、前記第2コーティング膜よりも屈折率が相対的に高い物質からなる第3コーティング膜;前記第3コーティング膜上に形成され、前記第3コーティング膜よりも屈折率が相対的に低い物質からなる第4コーティング膜;及び前記第4コーティング膜上に形成され、前記第4コーティング膜よりも屈折率が相対的に高いAlONからなるハードコート膜を含むことを特徴とするディスプレイ装置用基板を提供する。
ここで、前記第1コーティング膜及び前記第3コーティング膜は互いに同一の物質からなるものであってよい。
このとき、前記第1コーティング膜及び前記第3コーティング膜はAlONからなるものであってよい。
また、前記第1コーティング膜、前記第3コーティング膜、及び前記ハードコート膜のうち、前記第1コーティング膜が相対的に最も薄い膜厚で形成され、前記ハードコート膜が相対的に最も厚い膜厚で形成されていてよい。
そして、前記ハードコート膜は、前記第1コーティング膜乃至前記第4コーティング膜の全体の膜厚よりも少なくとも10倍以上の膜厚で形成されていてよい。
このとき、前記ハードコート膜は、1,000〜3,000nmの範囲の膜厚で形成されていてよい。
さらに、前記第2コーティング膜及び前記第4コーティング膜は互いに同一の物質からなるものであってよい。
このとき、前記第2コーティング膜及び前記第4コーティング膜は、屈折率が1.35〜1.6の物質からなるものであってよい。
また、前記ハードコート膜上に形成され、前記ハードコート膜よりも屈折率が相対的に低い物質からなる第5コーティング膜を更に含んでいてよい。
このとき、前記第5コーティング膜は、前記第2コーティング膜及び前記第4コーティング膜をなす物質と同一の物質からなるものであってよい。
本発明によれば、AlONからなるハードコート膜を含む多層のコーティング膜が基材上に積層形成されることで、優れた耐久性を有し、且つディスプレイ装置への適用の際にカラーシフト(color shift)の発生が最小化できる。
特に、本発明によれば、ディスプレイ装置に使用されるタッチパネルのカバー基板への適用の際、優れた耐久性により、数百万回の接触に耐えられ、且つ、カラーシフトの発生の最小化によって、要求される優れた光学的特性をも同時に満足させることができる。
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板について詳しく説明する。
なお、本発明を説明するにあたって、関連公知機能あるいは構成についての具体的な説明が本発明の要旨を不必要に曖昧にし得ると判断された場合、その詳細な説明は省略することにする。
図1に示すように、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板100は、各種のディスプレイ装置のカバー基板やディスプレイ装置の前面に配設されるタッチパネルのカバー基板への適用が可能な基板である。この種のディスプレイ装置用基板100は、基材110、第1コーティング膜120、第2コーティング膜130、第3コーティング膜140、第4コーティング膜150、及びハードコート膜160を含んでなる。
基材110は、これらのコーティング膜を支持する役割をする。このような基材110は、ディスプレイ装置への適用のために、高透明性や耐熱性を有する物質からなることが好ましい。このとき、基材110の透明性に関しては、可視光線透過率が80%以上であることが好ましく、また耐熱性に関しては、ガラス転移温度が50℃以上であることが好ましい。さらに、基材110は、無機化合物成形物と有機高分子成形物からなるものであってよい。このとき、無機化合物成形物としては、半強化ガラス、石英等が挙げられる。また、有機高分子成形物としては、ポリエチレンテレフタルレート(polyetylene terephthalate、PET)、アクリル(acryl)、ポリカーボネート(polycabonate、PC)、ウレタンアクリレート(urethane acrylate)、ポリエステル(polyester)、エポキシアクリレート(epoxy acrylate)、臭素化アクリレート(brominate acrylate)、ポリ塩化ビニル(polyvinyl chloride、PVC)等が挙げられる。
第1コーティング膜120は、基材110上に形成される。本発明の実施例において、第1コーティング膜120は、第2コーティング膜130よりも屈折率が相対的に高い物質からなるものであってよい。また、第1コーティング膜120は、第3コーティング膜140をなす物質と同一の物質からなるものであってよい。そして、第1コーティング膜120は、ハードコート膜160をなす物質と同一の物質からなるものであってよい。すなわち、第1コーティング膜120は、屈折率が1.8〜2.3のAlONからなるものであってよい。
このように、本発明の実施例では、第1コーティング膜120、第3コーティング膜140、及びハードコート膜160のいずれもが、AlONからなるものであってよい。このとき、AlONからなる第1コーティング膜120、第3コーティング膜140、及びハードコート膜160のうち、第1コーティング膜120が相対的に最も薄い膜厚で形成される。本発明の実施例において、第1コーティング膜120は、14nmの膜厚で形成されていてよいが、これは一例に過ぎず、残りの他のコーティング膜の形成膜厚に応じて、第1コーティング膜120の形成膜厚は変化され得る。
第2コーティング膜130は、第1コーティング膜120上に形成される。このような第2コーティング膜130は、光を取り出すといった光学特性の向上のために、第1コーティング膜120よりも屈折率が相対的に低い物質からなる。これにより、第1コーティング膜120と第2コーティング膜130とは、高屈折/低屈折の積層構造をなすようになる。このとき、第2コーティング膜130は、第4コーティング膜150をなす物質と同一の物質からなるものであってよい。本発明の実施例において、第1コーティング膜120が1.8〜2.3の屈折率を示すAlONからなるため、第2コーティング膜130は、屈折率が1.35〜1.6の物質からなるものであってよい。例えば、第2コーティング膜130は、SiO2やMgF2からなるものであってよいが、必ずしもこれらに限定するものではない。
一方、本発明の実施例において、第2コーティング膜130は、38nmの膜厚で形成されていてよいが、これは一例に過ぎず、残りの他のコーティング膜の形成膜厚に応じて、第2コーティング膜130の形成膜厚は変化され得る。
第3コーティング膜140は、第2コーティング膜130上に形成される。このような第3コーティング膜140は、第2コーティング膜130よりも屈折率が相対的に高い物質からなる。このとき、第3コーティング膜140は、第1コーティング膜120をなす物質と同一の物質からなるものであってよい。また、第3コーティング膜140は、ハードコート膜160をなす物質と同一の物質からなるものであってよい。すなわち、第3コーティング膜140は、第1コーティング膜120と同様、屈折率が1.8〜2.3のAlONからなるものであってよい。これにより、第1コーティング膜120、第2コーティング膜130、及び第3コーティング膜140は、高屈折/低屈折/高屈折の積層構造をなすようになる。
一方、本発明の実施例において、AlONからなる第1コーティング膜120、第3コーティング膜140、及びハードコート膜160のうち、第3コーティング膜140は、第1コーティング膜120よりは厚い膜厚で形成され、且つハードコート膜160よりは薄い膜厚で形成される。本発明の実施例において、第1コーティング膜120が14nmの膜厚で形成されるため、第3コーティング膜140は、これよりも厚い37nmの膜厚で形成されていてよい。
第4コーティング膜150は、第3コーティング膜140上に形成される。このような第4コーティング膜150は、第3コーティング膜140よりも屈折率が相対的に低い物質からなる。このとき、第4コーティング膜150は、第2コーティング膜130をなす物質と同一の物質からなるものであってよい。本発明の実施例において、第2コーティング膜130が、SiO2やMgF2のように屈折率が1.35〜1.6の物質からなるため、第4コーティング膜150もまた、これと同一の物質からなるものであってよい。これにより、第1コーティング膜120、第2コーティング膜130、第3コーティング膜140、及び第4コーティング膜150は、高屈折/低屈折/高屈折/高屈折の積層構造をなすようになり、このように、光が外部へ放出される経路に屈折率差を有する多層膜が配設されると、ディスプレイ装置の光学特性は一層向上することができる。
一方、本発明の実施例において、第4コーティング膜150は、38nmの膜厚で形成される第2コーティング膜130よりも薄い13nmの膜厚で形成されていてよい。
ハードコート膜160は、第4コーティング膜150上に形成される。このようなハードコート膜160は、第4コーティング膜150よりも屈折率が相対的に高いAlONからなる。本発明の実施例では、高屈折層をなす第1コーティング膜120、第3コーティング膜140、及びハードコート膜160のいずれもがAlONからなる。これにより、ディスプレイ装置用基板100の高い耐久性が確保できるとともに、カラーシフトの発生が最小化できるが、これについては後述する。
AlONからなるハードコート膜160は、ディスプレイ装置用基板100の表面強度を強化させる層であるため、残りの他のコーティング膜よりも相対的に厚い厚膜で形成される。すなわち、ハードコート膜160は、同一のAlONからなる第1コーティング膜120及び第3コーティング膜140よりも厚い膜厚で形成されるとともに、第1コーティング膜120乃至第4コーティング膜150の全体の膜厚よりも少なくとも10倍以上の厚い膜厚で形成されることが好ましい。これにより、ハードコート膜160は、1,000〜3,000nmの膜厚、好ましくは、2,000nmの膜厚で形成されていてよい。
一方、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板100は、第5コーティング膜170を更に含んでなるものであってよい。ここで、第5コーティング膜170は、ハードコート膜160上に形成され、ハードコート膜16よりも屈折率が相対的に低い物質からなるものであってよい。このとき、第5コーティング膜170は、第2コーティング膜130及び第4コーティング膜150をなす物質と同一の物質からなるものであってよい。すなわち、第5コーティング膜170は、SiO2やMgF2からなるものであってよい。本発明の実施例において、第5コーティング膜170は、第4コーティング膜150と等しい厚さの13nmの膜厚で形成されていてよい。このような第5コーティング膜170は、ディスプレイ装置用基板100の保護層としての役割をする。
このように、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板100は、基材110上に順に形成された第1コーティング膜120、第2コーティング膜130、第3コーティング膜140、第4コーティング膜150、ハードコート膜160、及び第5コーティング膜170からなる6層構造のコーティング膜を含んでなる。これにより、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板100は、ディスプレイ装置から発せられる光の放出経路に沿って高屈折/低屈折/高屈折/低屈折/高屈折/低屈折の積層構造をなし、このような屈折率差によって優れた光学特性を実現することができる。また、本発明の実施例では、第1コーティング膜120、第3コーティング膜140、及びハードコート膜160がAlONからなることにより、AlONが多層をなす構造になる。
ここで、AlONは硬く且つ透過率に優れる材料と評価される。しかし、角度による光学特性の変化が大きいため、言い換えれば、角度によるカラーシフトの発生によってディスプレイ装置のカバー基板材料への使用には不向きであると認識されてきた。
そこで、本発明の実施例では、このようなAlONを多層で備えることで、AlONによるカラーシフトの発生問題を解消した。
図2及び図3は、AlONからなる単一膜と多層膜の波長による透過率及び反射率の変化を示すグラフであって、AlONからなる単一膜の場合、波長による透過率及び反射率の偏差が相当大きいと確認され、このような大きな偏差は、カラーシフトの発生要因になる。一方、AlONが多層膜からなる場合は、波長による透過率及び反射率の双方ともその偏差が、AlONが単一膜からなる場合よりも相当低減すると確認され、これは、その分カラーシフトの発生が低減することを意味する。
このように、AlONが多層をなすと、AlONが単層からなる場合よりも光学的特性が向上すると確認された。
このような結果から、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板の波長による透過率及び反射率の変化を示す図4及び図5のグラフに示されるように、多層のAlONを備える本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板は、波長による透過率の変化が大きくないことが確認でき、且つ、多様な角度からの波長による反射率の変化も大きくないことが確認できる。
図6乃至図8は、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板の光学特性に関するシミュレーション結果を示す図であり、図9乃至図11は、AlONが単一膜からなる基板の光学特性に関するシミュレーション結果を示す図であり、色a、bに対するそれぞれのシミュレーション結果を示している。図2乃至図5のグラフからの確認と同様、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板は、AlONが単一膜からなる基板に比べて、色a、bに対する透過率及び反射率の偏差が小さいと示された。
前記の結果から分かるように、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板は、AlONからなる多層膜を含む6層構造からなることで、優れた耐久性を有し、且つ多様な角度からの透過率及び反射率の偏差も大きくないことから、ディスプレイ装置への適用の際にカラーシフトの発生が最小化できる。特に、本発明の実施例に係るディスプレイ装置用基板がタッチパネルのカバー基板へ適用されると、優れた耐久性によって数百万回の接触に耐えられ、且つカラーシフトの発生の最小化によって、要求される優れた光学的特性も同時に満足させることができる。
一方、本発明の実施例では、3層のAlONからなる層を含む6層コーティング膜構造を例示した。しかし、AlONが多層で形成されれば、ディスプレイ装置用基板の光学的特性を向上させることができるので、例えば、ディスプレイ装置用基板を、4層のAlONからなる層を含む8層構造で形成することもできる。しかし、コーティング層数の増加に伴い構造が複雑化し、工程能力が低下するという不具合が発生する。また、AlONとSiO2とが繰り返し積層される工程の場合、各層ではガスの気密保持がなされる必要があるため、各層毎にガスを遮断することができるパーツ(parts)が必要となり、この結果、設備が長くなるという不具合がある。そして、何よりもディスプレイ装置用基板を8層構造で形成しても、6層構造からなるディスプレイ装置用基板と同等または類似の光学的特性しか実現できないので、敢えて6層よりも多層でディスプレイ装置用基板を形成する理由がない。
したがって、ディスプレイ装置用基板は、3層のAlONからなる層を含む6層コーティング膜構造で形成されることが工程的、費用的側面、耐久性及び光学的側面で最も好ましい。
以上、本発明を限定された実施例や図面に基づいて説明してきたが、本発明は前記の実施例に限定されるものではなく、本発明の属する分野における通常の知識を有する者であればこのような記載から種々の修正及び変形が可能である。
よって、本発明の範囲は説明された実施例に限定されて決められてはならず、後述する特許請求の範囲及び特許請求の範囲と均等なもの等によって決められるべきである。
100:ディスプレイ装置用基板
110:基材
120:第1コーティング膜
130:第2コーティング膜
140:第3コーティング膜
150:第4コーティング膜
160:ハードコート膜
170:第5コーティング膜
110:基材
120:第1コーティング膜
130:第2コーティング膜
140:第3コーティング膜
150:第4コーティング膜
160:ハードコート膜
170:第5コーティング膜
Claims (10)
- 基材;
前記基材上に形成される第1コーティング膜;
前記第1コーティング膜上に形成され、前記第1コーティング膜よりも屈折率が相対的に低い物質からなる第2コーティング膜;
前記第2コーティング膜上に形成され、前記第2コーティング膜よりも屈折率が相対的に高い物質からなる第3コーティング膜;
前記第3コーティング膜上に形成され、前記第3コーティング膜よりも屈折率が相対的に低い物質からなる第4コーティング膜;及び
前記第4コーティング膜上に形成され、前記第4コーティング膜よりも屈折率が相対的に高いAlONからなるハードコート膜;
を含むことを特徴とするディスプレイ装置用基板。 - 前記第1コーティング膜及び前記第3コーティング膜は互いに同一の物質からなることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ装置用基板。
- 前記第1コーティング膜及び前記第3コーティング膜はAlONからなることを特徴とする請求項2に記載のディスプレイ装置用基板。
- 前記第1コーティング膜、前記第3コーティング膜、及び前記ハードコート膜のうち、前記第1コーティング膜が相対的に最も薄い膜厚で形成され、前記ハードコート膜が相対的に最も厚い膜厚で形成されることを特徴とする請求項3に記載のディスプレイ装置用基板。
- 前記ハードコート膜は、前記第1コーティング膜乃至前記第4コーティング膜の全体の膜厚よりも少なくとも10倍以上の膜厚で形成されることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ装置用基板。
- 前記ハードコート膜は、1,000〜3,000nmの範囲の膜厚で形成されることを特徴とする請求項5に記載のディスプレイ装置用基板。
- 前記第2コーティング膜及び前記第4コーティング膜は互いに同一の物質からなることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ装置用基板。
- 前記第2コーティング膜及び前記第4コーティング膜は、屈折率が1.35〜1.6の物質からなることを特徴とする請求項7に記載のディスプレイ装置用基板。
- 前記ハードコート膜上に形成され、前記ハードコート膜よりも屈折率が相対的に低い物質からなる第5コーティング膜を更に含むことを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ装置用基板。
- 前記第5コーティング膜は、前記第2コーティング膜及び前記第4コーティング膜をなす物質と同一の物質からなることを特徴とする請求項9に記載のディスプレイ装置用基板。
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