JP2001202889A

JP2001202889A - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法

Info

Publication number: JP2001202889A
Application number: JP2000008881A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Yonehara; 浩幸米原; Hideki Ashida; 英樹芦田; Shinya Fujiwara; 伸也藤原; Yasuyuki Akata; 靖幸赤田; Nobuyuki Tai; 伸幸田井; Sadao Uemura; 貞夫植村; Kazuo Otani; 和夫大谷; Shigeo Suzuki; 茂夫鈴木
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2000-01-18
Filing date: 2000-01-18
Publication date: 2001-07-27

Abstract

(57)【要約】【課題】容易に一度に所望の厚さの厚膜を面内に均一
に塗布、乾燥形成することを可能な製造方法を用いるこ
とにより、低コストで高品位な表示を可能とするプラズ
マディスプレイパネルと、その製造方法を提供する。【解決手段】各種厚膜ペースト材料に少なくともポリ
ビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂または、エチルセルロ
ース系樹脂と少なくともポリビニルブチラール（ＰＶ
Ｂ）樹脂、またはアクリル系樹脂のいずれかを含有させ
ることにより、容易に形成できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスなど
に用いるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法
に関するものであり、特に厚膜の形成工程に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、薄型に適したディスプレイ装置と
して注目されているプラズマディスプレイパネルは、例
えば図１に示す構成を有する。このプラズマディスプレ
イパネルは、互いに対向して配置された前面基板３００
と背面基板３０１とを備えており、前面基板３００の上
には、表示電極３０２及び３０３、誘電体層３０４、及
びＭｇＯ誘電体保護層３０５が、順に形成されている。

【０００３】また、背面基板３０１の上には、アドレス
電極３０６及び誘電体層３０７が形成されており、その
上には、更に隔壁３０８が形成されている。そして、隔
壁３０８の側面には、蛍光体層３０９が塗布されてい
る。

【０００４】なお、実際、前面基板３００と背面基板３
０１は、アドレス電極３０６と表示電極３０２及び３０
３は互いの長手方向が直交するように対向させた状態で
配されるが、図１においては便宜的に前面基板を背面基
板に対し、９０°回転させて表記している。

【０００５】前面基板３００と背面基板３０１との間に
は、放電ガス３１０（例えばＮｅ-Ｘｅの混合ガス）
が、６６５００Ｐａ（５００Ｔｏｒｒ）〜８００００Ｐ
ａ（６００Ｔｏｒｒ）の圧力で封入されている。この放
電ガス３１０を表示電極３０２及び３０３の間で放電さ
せて紫外線を発生させ、その紫外線を蛍光体層３０９に
照射することによって、カラー表示を含む画像表示が可
能になる。

【０００６】例えば、隔壁３０２は、個々の画素の色
（Ｒ、Ｇ、Ｂ）毎に微小な放電空間を形成して放電セル
を形成するための仕切りであり、この隔壁３０８によっ
て、放電を各セル毎に制御することを可能とし、誤放電
や誤表示を防ぐことができる。隔壁３０８のサイズは、
典型的には４０インチのＮＴＳＣパネルにおいて、隔壁
ピッチが1色あたり３６０μｍ、隔壁頂部の幅が５０〜
１００μｍ、及び隔壁の高さが１００〜１５０μｍであ
る。

【０００７】従来の隔壁の形成方法としては、第１にス
クリーン印刷技術を用いて隔壁を形成する印刷法、第２
に隔壁材料を背面基板の前面に塗布後に感光性フィルム
層を塗布された隔壁材料の上に形成し、写真法により所
定パターンを形成した後に、サンドブラストにより隔壁
材料の不要部分を除去して感光性フィルム層を剥離し、
隔壁を形成するサンドブラスト法、第３に感光性ペース
トを塗布後に、写真法により不要部分を除去して隔壁を
形成するフォトペースト法、などが挙げられる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの隔壁
形成方法は、それぞれ問題点を有しているが、特に背面
基板３０１上に形成された誘電体層３０７上へ隔壁材料
を塗布形成する場合、従来の多数回の繰り返しにて塗布
形成する方法から、低コスト化の目的により一度に所望
の厚さを面内均一に塗布形成（塗布直後膜厚２００から
３００μｍ）することが試みられている。

【０００９】しかし、塗布直後の乾燥工程において、乾
燥中の塗布膜にクラックまたシワが発生し易いこと、ま
た乾燥後に図３に示すような膜外周部に盛り上がり（以
下、サドル現象と称す）が発生し易い等の問題点を有し
ている。

【００１０】また、これは前面基板３００上に誘電体層
３０４を形成する場合においても同様である。

【００１１】更には、多数回の繰り返し形成の場合は、
印刷と乾燥の繰り返しであることから膜内均一に乾燥す
ることが容易であるが、一度に塗布形成する場合すなわ
ち塗布直後膜厚が２００から３００μｍの厚膜を均一に
乾燥することは非常に困難であり、その結果、後のサン
ドブラストにより基板内の切削むらが発生し均一な隔壁
形状が得られないという問題点も有している。

【００１２】本発明は、上記課題に対してなされたもの
であって、低コストで高品質及び高精度な厚膜を形成し
て、高品位な表示を可能とするプラズマディスプレイパ
ネルを実現することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に形成
される厚膜が少なくともポリビニルブチラール（ＰＶ
Ｂ）樹脂または、エチルセルロース系樹脂と少なくとも
ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、またはアクリル
系樹脂のいずれかを含む厚膜材料であることを特徴とす
る。

【００１４】また、ある実施形態では、１対の基板と、
１対の基板間に配置された電極、保護層及び蛍光体層と
を更に備えており、厚膜は１対の基板間に配置されてお
り、前記放電空間にはガス媒体が封入されていて、ガス
媒体の放電に伴って発生された紫外線が該蛍光体層の照
射時に可視光に変換されることによって発光することを
特徴とする。

【００１５】また、前記厚膜の材料の主要組成が、少な
くとも鉛（Ｐｂ）系を含んだガラスと、無機材料である
アルミナまたはシリカまたはジルコニアであることを特
徴とする。、または、環境負荷を低減するため厚膜の材
料の主要組成が鉛（Ｐｂ）系を含まないガラスもしくは
ビスマス（Ｂｉ）系を含まないガラスと、無機材料であ
るアルミナまたはシリカまたはジルコニアであってもよ
い。または厚膜塗布材の顔料成分として無機顔料が含ま
れるものであってもよい。

【００１６】また、前記の樹脂材料は、焼成工程におい
て除去されるものであってよいことを特徴とする。

【００１７】

【発明の実施の形態】図２は、実施の形態にかかるＡＣ
面放電型ＰＤＰの主要構成を示す部分的な断面斜視図で
ある。図中、ｚ方向がＰＤＰの厚み方向、ｘｙ平面がＰ
ＤＰ面に平行な平面に相当する。図２に示すように、本
ＰＤＰは互いに主面を対向させて配設された前面板１０
１および背面板２０１から構成される。

【００１８】前面板１０１の基板となる前面板ガラス１
０２には、その片面に一対の透明電極１０３がｘ方向を
長手方向として複数並設される。さらに透明電極１０３
には、透明電極１０３よりも十分に幅が狭く、導電性に
優れるバス電極１０４が積層される。この透明電極１０
３とバス電極１０４とが面放電にかかる表示電極１０７
として動作する。表示電極１０７を配設した前面板ガラ
ス１０２には、当該ガラス面全体にわたって誘電体層１
０５がコートされ、誘電体層１０５には保護膜１０６が
コートされている。

【００１９】背面板２０１の基板となる背面板ガラス２
０２には、その片面に複数のアドレス電極２０３がｙ方
向を長手方向としてストライプ状に並設され、誘電体層
２０４がアドレス電極２０３を配した背面板ガラス２０
２の全面にわたってコートされる。この誘電体層２０４
上には、隣接するアドレス電極２０３の間隔に合わせて
隔壁２０５が配設される。そして隣接する隔壁２０５と
その間の誘電体層２０４の面上には、Ｒ、Ｇ、Ｂの何れ
かに対応する蛍光体層２０７が形成されている。

【００２０】このような構成を有する前面板１０１と背
面板２０１は、アドレス電極２０３と表示電極１０７の
互いの長手方向が直交するように対向させた状態で配さ
れ、両板１０１、２０１の外周縁部は封着ガラスで接着
し封止されている。そして前記両面板１０１、２０１の
間には、Ｈｅ、Ｘｅ、Ｎｅなどの希ガス成分からなる放
電ガス（封入ガス）が６６５００Ｐａ（５００Ｔｏｒ
ｒ）〜８００００Ｐａ（６００Ｔｏｒｒ）程度の圧力で
封入されている。これにより、隣接する隔壁２０５間に
形成される空間が放電空間２０８となり、隣り合う一対
の表示電極１０７と１本のアドレス電極２０３が放電空
間２０８を挟んで交叉する領域が、画像表示にかかるセ
ルとなる。

【００２１】ＰＤＰ駆動時には各セルにおいて、アドレ
ス電極２０３と表示電極１０７、また一対の表示電極１
０７同士での放電によって短波長の紫外線（波長約１４
７ｎｍ）が発生し、蛍光体層２０７が発光して画像表示
がなされる。ここで、本発明のＰＤＰとその製造方法に
おける主な特徴部分は、隔壁２０５と誘電体層１０５の
形成に関する。

【００２２】次に、本ＰＤＰの作製方法を具体的に説明
する。

【００２３】（ＰＤＰの作製方法）ｉ）前面板１０１の作製厚さ約２．８ｍｍのソーダーガラスからなる前面板ガラ
ス１０２の表面上に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）ま
たはＳｎＯ₂などの導電体材料により、厚さ約３０００
オングストロームの透明電極１０３を略平行に作製す
る。さらに、この透明電極１０３の上に銀またはクロム
−銅−クロムの３層からなるバス電極１０４を積層し、
表示電極１０７とする。これらの電極の作製方法に関し
ては、スクリーン印刷法、フォトリソグラフィー法など
の公知の各作製法が適用できる。

【００２４】次に表示電極１０７を作製した前面板ガラ
ス１０２の面上に、鉛系ガラスのペーストを全面にわた
ってコートし、焼成して約２０〜３０μｍの誘電体層１
０５を形成する。そして、誘電体層１０５の表面に、厚
さ約１μｍの酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護
膜１０６を蒸着法あるいはＣＶＤなどにより形成する。

【００２５】これで前面板１０１が完成する。

【００２６】ｉｉ）背面板２０１の作製厚さ約２．６ｍｍのソーダーガラスからなる背面板ガラ
ス２０２の面上に、スクリーン印刷法により、銀を主成
分とする導電体材料を一定間隔でストライプ状に塗布
し、厚さ約５〜１０μｍのアドレス電極２０３を形成す
る。ここで作製するＰＤＰを４０インチクラスのハイビ
ジョンテレビとするためには、隣り合う２つのアドレス
電極２０３の間隔を０．２ｍｍ程度以下に設定する。

【００２７】続いてアドレス電極２０３を形成した背面
板ガラス２０２の面全体にわたって、鉛系ガラスのペー
ストをコートして焼成し、厚さ約２０〜３０μｍの誘電
体層２０４を形成する。

【００２８】なお、ここからの工程に本発明の製造方法
の特徴が含まれる。ここではその工程を（ａ）第一工
程：隔壁膜塗布形成工程、（ｂ）第二工程：隔壁膜乾燥
工程、（ｃ）第三工程：感光性被覆膜パターン形成工
程、（ｄ）第四工程：ブラスト加工工程、（ｅ）第五工
程：感光性被覆膜の剥離工程に分けて順次説明する。図
４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）はそれぞれ
第一工程、第二工程、第三工程、第四工程の様子を示す
パネル断面図である。

【００２９】（ａ）第一工程：隔壁膜塗布形成工程高分子樹脂エチルセルロースとポリビニルブチラール
（以下、ＰＶＢと称する）を５０：５０の重量比で配合
し、次にあるα−ターピネオールとＥＰ酢酸ジエチレン
グリコールモノｎブチルエーテル（以下、ＢＣＡと称す
る）を２０：８０の重量比で混合した有機溶剤と混合
し、ビヒクルを作製する。このビヒクルと誘電体４０２
と同じ鉛系ガラス（ＰｂＯ・Ｂ₂Ｏ₃・ＳｉＯ₂・Ｃａ
Ｏ）粉末とアルミナからなるフィラー粉末（骨材）と更
に酸化チタン（ＴｉＯ₂）からなる顔料粉末を８０：１
０：１０の重量比で混合した固形分とを重量比で２５：
７５程度で混合し、隔壁形成用ペーストを作製する。な
お、ここで上記ＰＶＢ樹脂の変わりにアクリル系樹脂を
使用することもできる。このペーストを誘電体層４０２
の上に一度に厚さ約２００〜３００μm塗布できるダイ
コート方法等により一様に形成し、隔壁膜４０４を得
る。

【００３０】（ｂ）第二工程：隔壁膜乾燥工程基板４０３上へ隔壁膜４０４を上記のように塗布形成し
た後、約１３０℃のホットプレート４０５上へ基板を置
くことによりペーストを乾燥させる。この時の基板加熱
方法は、他に赤外線（ＩＲ）炉や熱風炉等であっても均
一な乾燥硬化状態が得られる。また、乾燥プロファイル
はペースト中に添加するエチルセルロース樹脂に対する
ＰＶＢ樹脂またはアクリル系樹脂の重量比により変わ
る。

【００３１】（ｃ）第三工程：感光性被覆膜パターン形
成工程隔壁膜を上記のように形成した基板４０３の上に、感光
性被覆膜４０６を形成する。本実施形態では、感光性被
覆膜４０６として、感光性のドライフィルムレジスト
（以下、ＤＦＲと称する）を用いて、厚さ５０μｍのＤ
ＦＲをラミネート形成する。

【００３２】次に、所定の幅及びピッチを有するフォト
マスクを用いて紫外線光（ＵＶ光）を照射し、露光を行
う。露光量は、フォトマスクのパターン幅及びピッチに
応じて適正化させる。

【００３３】次に、１％炭酸ナトリウム水溶液の現像液
を使用し、現像を行い、現像後直ちに水洗する。露光及
び現像を経て、ＤＦＲ１０６にストライプ状の所定パタ
ーンの溝（開溝部）４０７を形成する。溝４０７のサイ
ズは、典型的には、上部の開口幅を８０μｍ、ピッチを
３６０μｍとする。

【００３４】（ｄ）第四工程：ブラスト加工工程溝４０７のパターン形成後に、基板４０３の上部からサ
ンドブラストを行い、具体的には、ブラストノズル４０
８より研磨材（例えばガラスビーズ材）４０９をＡｉｒ
流量１５００ＮＬ／ｍｉｎ、研磨材供給量１５００ｇ／
ｍｉｎの条件下で基板４０３上へ吹き付け溝４０７に露
出している隔壁膜４０４をブラスト加工する。尚、典型
的には、ブラスト加工は溝４０７部の隔壁膜４０４が全
てブラスト除去するまで行い、溝４１０（開口部）を形
成する。

【００３５】（ｅ）第五工程：感光性被覆膜の剥離溝４１０を形成した後、基板４０３を剥離液、例えば５
％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬することによって、Ｄ
ＦＲ４０６を剥離する。これによって所定の形状の隔壁
４１１が形成される。

【００３６】感光性皮膚膜４０６の剥離除去が完了した
後、ピーク温度が約５５０℃程度となるようにプロファ
イル形成された焼成炉を用いて、隔壁４１１を焼成し、
最終形状の隔壁４１１を形成する。尚、この焼成におい
て、樹脂材料が除去されるものであってもよい。

【００３７】以上のようにすれば、一度に所望の厚さを
面内に均一に塗布形成（塗布直後膜厚２００〜３００μ
ｍ）することにより、塗布直後の乾燥工程において、乾
燥中の塗布膜にクラックまたシワそしてサドル現象の発
生が抑えられ、更には、基板面内の均一な乾燥状態が得
られることからサンドブラスト時の加工バラツキも低減
し、均一な隔壁が容易に形成できる。また、前面板の誘
電体層についても同様の方法で均一な誘電体膜を得るこ
とができる。

【００３８】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、プラズマ
ディスプレイパネルにおける各種厚膜材に少なくともポ
リビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂または、エチルセル
ロース系樹脂と少なくともポリビニルブチラール（ＰＶ
Ｂ）樹脂、またはアクリル系樹脂のいずれかを含有させ
ることにより低コストで高品質及び高精度な厚膜を形成
することができ、低コストで高品位な表示を可能とする
プラズマディスプレイパネルを実現することが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】プラズマディスプレイパネルの構成を模式的に
示す図

【図２】ＡＣ面放電型プラズマディスプレイパネルの主
要構成を示す一部断面斜視図

【図３】厚膜を一度に塗布し、乾燥をした後の両端部盛
り上がり（サドル現象）を説明する図

【図４】（ａ）〜（ｅ）は本発明の実施の形態における
厚膜材料を使用した隔壁形成プロセスの各工程を説明す
る断面図

【符号の説明】

１０１前面板１０２前面板ガラス１０３透明電極１０４バス電極１０５，３０４誘電体層１０６保護層１０７表示電極２０１背面板２０２背面板ガラス２０３，３０６，４０１アドレス電極２０４，３０７，４０２誘電体層２０５，３０８隔壁２０６隔壁頂部２０７，３０９蛍光体層３００前面基板３０１背面基板３０２，３０３表示電極３０５誘電体保護層３１０放電ガス４００ガラス基板４０３基板４０４隔壁膜４０５ホットプレート４０６感光性被覆膜４０７開溝部４０８ブラストノズル４０９研磨材４１０開溝部４１２塗布膜４１３端部盛り上がり（サドル現象）部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者藤原伸也大阪府高槻市幸町１番１号松下電子工業株式会社内 (72)発明者赤田靖幸大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者田井伸幸大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者植村貞夫大阪府高槻市幸町１番１号松下電子工業株式会社内 (72)発明者大谷和夫大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者鈴木茂夫大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内Ｆターム(参考） 5C027 AA06 AA09 5C040 FA01 GD07 GF18 GF19 JA02 JA03 JA17 JA21 KA04 KA08 KA10 KA14 KB02 KB03 KB14 KB19 MA23

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に厚膜が形成されたまたは所定のパ
ターンへ形成されたプラズマディスプレイパネルであっ
て、前記厚膜の材料が少なくともポリビニルブチラール
（ＰＶＢ）樹脂材料を含有することを特徴とするプラズ
マディスプレイパネル。
【請求項２】基板上に厚膜が形成されたまたは所定のパ
ターンへ形成されたプラズマディスプレイパネルであっ
て、前記厚膜の材料が少なくともエチルセルロース系樹
脂及びポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂を含有する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】基板上に厚膜が形成されたまたは所定のパ
ターンへ形成されたプラズマディスプレイパネルであっ
て、前記厚膜の材料が少なくともエチルセルロース系樹
脂及びアクリル系樹脂を含有することを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネル。
【請求項４】１対の基板と、前記１対の基板の間に配置
された電極、保護層及び蛍光体層とを更に備えており、
前記厚膜は前記１対の基板間に配置されており、放電空
間にはガス媒体が封入され、前記ガス媒体の放電に伴っ
て発生した紫外線が前記蛍光体層の照射時に可視光に変
換されることによって発光することを特徴とする請求項
１から３のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネ
ル。
【請求項５】前記厚膜の材料の主要組成が、少なくとも
鉛（Ｐｂ）系を含んだガラスであることを特徴とする請
求項１から３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ
パネル。
【請求項６】前記厚膜の材料の主要組成が、少なくとも
鉛（Ｐｂ）系を含まないガラスであることを特徴とする
請求項１から３のいずれかに記載のプラズマディスプレ
イパネル。
【請求項７】前記厚膜の材料の主要組成が、少なくとも
ビスマス（Ｂｉ）系を含まないガラスであることを特徴
とする請求項１から３のいずれかに記載のプラズマディ
スプレイパネル。
【請求項８】前記厚膜の材料の主要組成が、少なくとも
アルミナを含むことを特徴とする請求項４から７のいず
れかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】前記厚膜の材料の主要組成が、少なくとも
シリカを含むことを特徴とする請求項４から７のいずれ
かに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】前記厚膜の材料の主要組成が、少なくと
もジルコニアを含むことを特徴とする請求項４から７の
いずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】前記厚膜の材料が着色用の無機顔料材料
を含むことを特徴とする請求項４から7のいずれかに記
載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】前記厚膜材料の中に含まれる少なくとも
ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂材料が、後の厚膜
焼成工程において除去されることを特徴とする請求項１
に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】前記厚膜材料の中に含まれる少なくとも
エチルセルロース系樹脂及びポリビニルブチラール（Ｐ
ＶＢ）樹脂材料が、後の厚膜焼成工程において除去され
ることを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプ
レイパネル。
【請求項１４】前記厚膜材料の中に含まれる少なくとも
エチルセルロース系樹脂及びアクリル系樹脂が、後の厚
膜焼成工程において除去されることを特徴とする請求項
３に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】基板上に厚膜が形成されたまたは所定の
パターンへ形成されたプラズマディスプレイパネルであ
って、前記厚膜の材料が少なくともポリビニルブチラー
ル（ＰＶＢ）樹脂材料を含んで構成し、厚膜形成工程を
包含するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】基板上に厚膜が形成されたまたは所定の
パターンへ形成されたプラズマディスプレイパネルであ
って、前記厚膜の材料が少なくともエチルセルロース系
樹脂及びポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂を含んで
構成し、厚膜形成工程を包含するプラズマディスプレイ
パネルの製造方法。
【請求項１７】基板上に厚膜が形成されたまたは所定の
パターンへ形成されたプラズマディスプレイパネルであ
って、前記厚膜の材料が少なくともエチルセルロース系
樹脂及びアクリル系樹脂を含んで構成し、厚膜形成工程
を包含するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】前記厚膜形成工程は、基板の上に誘電体
層を形成する工程と、隔壁層を所定のパターンへ形成す
る工程の少なくともいずれかの工程を含むことを特徴と
する請求項１５から１７のいずれかに記載のプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。
【請求項１９】前記厚膜の材料の主要組成が、少なくと
も鉛（Ｐｂ）系を含んだガラスであることを特徴とする
請求項１５から１７のいずれかに記載のプラズマディス
プレイパネルの製造方法。
【請求項２０】前記厚膜の材料の主要組成が、少なくと
も鉛（Ｐｂ）系を含まないガラスであることを特徴とす
る請求項１５から１７のいずれかに記載のプラズマディ
スプレイパネルの製造方法。
【請求項２１】前記厚膜の材料の主要組成が、少なくと
もビスマス（Ｂｉ）系を含まないガラスであることを特
徴とする請求項１５から１７のいずれかに記載のプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２２】前記厚膜の材料の主要組成が、少なくと
もアルミナを含むことを特徴とする請求項１９から２１
のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
【請求項２３】前記厚膜の材料の主要組成が、少なくと
もシリカを含むことを特徴とする請求項１９から２１の
いずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法。
【請求項２４】前記厚膜の材料の主要組成が、少なくと
もジルコニアを含むことを特徴とする請求項１９から２
１のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製
造方法。
【請求項２５】前記厚膜の材料が着色用の無機顔料材料
を含むことを特徴とする請求項１９から２１のいずれか
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２６】前記厚膜材料の中に含まれる少なくとも
ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂材料が、後の厚膜
焼成工程において除去されることを特徴とする請求項１
５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２７】前記厚膜材料の中に含まれる少なくとも
エチルセルロース系樹脂及びポリビニルブチラール（Ｐ
ＶＢ）樹脂が、後の厚膜焼成工程において除去されるこ
とを特徴とする請求項１６に記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。
【請求項２８】前記厚膜材料の中に含まれる少なくとも
エチルセルロース系樹脂及びアクリル系樹脂が、後の厚
膜焼成工程において除去されることを特徴とする請求項
１７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。