JP2001118494A

JP2001118494A - プラズマディスプレイパネルの製造方法及びその製造装置

Info

Publication number: JP2001118494A
Application number: JP29632099A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Yonehara; 浩幸米原; Sadao Uemura; 貞夫植村; Hiroshi Watanabe; 拓渡邉; Shigeo Suzuki; 茂夫鈴木; Hajime Ueda; 一上田
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1999-10-19
Filing date: 1999-10-19
Publication date: 2001-04-27

Abstract

(57)【要約】【課題】サンドブラスト時に発生する基板への帯電を
解消することにより、基板へのダメージ軽減とブラスド
性の向上を可能とし、高歩留りで高品質及び高精度な隔
壁を形成することができ、低コストで高品位な表示を可
能とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供
することにある。【解決手段】サンドブラスト時に使用する研磨材粒子
の表面を導電性材料で被覆することにより、基板への帯
電が容易に解消できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスなど
に用いるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法
において特に隔壁の形成工程に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、薄型に適したディスプレイ装置と
して注目されているプラズマディスプレイパネルは、例
えば図１に示す構成を有する。このプラズマディスプレ
イパネルは、互いに対向して配置された前面基板３００
と背面基板３０１とを備えている。前面基板３００の上
には、表示電極３０２及び３０３、誘電体層３０４、及
びＭｇＯ誘電体保護層３０５が、順に形成されている。
また、背面基板３０１の上には、アドレス電極３０６及
び誘電体層３０７が形成されており、その上には、更に
隔壁３０８が形成されている。そして、隔壁３０８の側
面には、蛍光体層３０９が塗布されている。なお、実
際、前面基板３００と背面基板３０１は、アドレス電極
３０６と表示電極３０２および３０３は互いの長手方向
が直交するように対向させた状態で配されるが、図１に
おいては便宜的に前面基板を背面基板に対し、９０°回
転させて表記している。

【０００３】前面基板３００と背面基板３０１との間に
は、放電ガス３１０（例えばＮｅ-Ｘｅの混合ガス）
が、５００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒの圧力で封入され
ている。この放電ガス３１０を表示電極３０２及び３０
３の間で放電させて紫外線を発生させ、その紫外線を蛍
光体層３０９に照射することによって、カラー表示を含
む画像表示が可能になる。

【０００４】例えば、隔壁３０２は、個々の画素の色
（Ｒ，Ｇ，Ｂ）毎に微小な放電空間を形成して放電セル
を形成するための仕切りであり、この隔壁３０８によっ
て、放電を各セル毎に制御することを可能とし、誤放電
や誤表示を防ぐことができる。隔壁３０８のサイズは、
典型的には４０インチのＮＴＳＣパネルにおいて、隔壁
ピッチが1色あたり３６０μｍ、隔壁頂部の幅が５０〜
１００μｍ、及び隔壁の高さが１００〜１５０μｍであ
る。

【０００５】従来の隔壁の形成方法としては、一般的に
よく用いられるのが、隔壁材料を背面基板の前面に塗布
後に感光性フィルム層を塗布された隔壁材料の上に形成
し、写真法により所定パターンを形成した後に、サンド
ブラストにより隔壁材料の不要部分を除去して感光性フ
ィルム層を剥離し、隔壁を形成するサンドブラスト法で
ある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、このサンドブ
ラスト法は、特にサンドブラスト時の隔壁材料の不要部
分を除去する際、研磨材粒子の基板への衝突や摩擦によ
り基板が帯電し、アドレス電極及び誘電体層へのダメー
ジなどが発生し、また、サンドブラスト性の悪化を引き
起こす問題点を有している。

【０００７】本発明は、上記課題に対してなされたもの
であって、高品質及び高精度な隔壁を形成して、高品位
な表示を可能とするプラズマディスプレイパネルを実現
することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、サンドブラス
トにて隔壁形成の際に、導電性材料により表面被覆され
た研磨材粒子を使用することを特徴とする。

【０００９】また、ある実施形態では、本発明のプラズ
マディスプレイパネルは、１対の基板と、該１対の基板
の間に配置された電極、保護層及び蛍光体層とを更に備
えており、前記隔壁は該１対の基板の間に配置されてお
り、前記放電空間にはガス媒体が封入されていて、該ガ
ス媒体の放電に伴って発生された紫外線が該蛍光体層の
照射時に可視光に変換され、これによって発光すること
を特徴とする。

【００１０】また、前記研磨材粒子の表面に被覆する導
電性材料は、有機樹脂叉は金属叉は金属の酸化物あるい
は窒化物であることを特徴とする。また前記研磨材粒子
の粒径は、リブのピッチの９分の１以下であることを特
徴とする。

【００１１】以上のような特徴を有する本発明による
と、導電性材料により研磨材粒子の表面を被覆すること
により、研磨材粒子が導電性を有するため、基板への帯
電が抑制されアドレス電極や誘電体へのダメージを軽減
し、更にブラストレートの向上、リブ形状の安定化が実
現される。

【００１２】

【発明の実施の形態】（実施の形態１）図２は、実施の
形態にかかるＡＣ面放電型ＰＤＰの主要構成を示す部分
的な断面斜視図である。図中、ｚ方向がＰＤＰの厚み方
向、ｘｙ平面がＰＤＰ面に平行な平面に相当する。当図
に示すように、本ＰＤＰは互いに主面を対向させて配設
された前面板１０１および背面板２０１から構成され
る。

【００１３】前面板１０１の基板となる前面板ガラス１
０２には、その片面に一対の透明電極１０３がｘ方向を
長手方向として複数並設される。さらに透明電極１０３
には、透明電極１０３よりも十分に幅が狭く、導電性に
優れるバス電極１０４が積層される。この透明電極１０
３とバス電極１０４とが面放電にかかる表示電極１０７
として動作する。表示電極１０７を配設した前面板ガラ
ス１０２には、当該ガラス面全体にわたって誘電体層１
０５がコートされ、誘電体層１０５には保護膜１０６が
コートされている。

【００１４】背面板２０１の基板となる背面板ガラス２
０２には、その片面に複数のアドレス電極２０３がｙ方
向を長手方向としてストライプ状に並設され、誘電体層
２０４がアドレス電極２０３を配した背面板ガラス２０
２の全面にわたってコートされる。この誘電体層２０４
上には、隣接するアドレス電極２０３の間隔に合わせて
隔壁２０５が配設される。そして隣接する隔壁２０５と
その間の誘電体層２０４の面上には、ＲＧＢの何れかに
対応する蛍光体層２０７が形成されている。

【００１５】このような構成を有する前面板１０１と背
面板２０１は、アドレス電極２０３と表示電極１０７の
互いの長手方向が直交するように対向させた状態で配さ
れ、両板１０１、２０１の外周縁部は封着ガラスで接着
し封止されている。そして前記両面板１０１、２０１の
間には、Ｈｅ、Ｘｅ、Ｎｅなどの希ガス成分からなる放
電ガス（封入ガス）が５００〜６００Ｔｏｒｒ程度の圧
力で封入されている。これにより、隣接する隔壁２０５
間に形成される空間が放電空間２０８となり、隣り合う
一対の表示電極１０７と１本のアドレス電極２０３が放
電空間２０８を挟んで交叉する領域が、画像表示にかか
るセルとなる。

【００１６】ＰＤＰ駆動時には各セルにおいて、アドレ
ス電極２０３と表示電極１０７、また一対の表示電極１
０７同士での放電によって短波長の紫外線（波長約１４
７ｎｍ）が発生し、蛍光体層２０７が発光して画像表示
がなされる。

【００１７】ここで、本発明のＰＤＰの製造方法におけ
る主な特徴部分は、少なくとも隔壁２０５の形成に関す
るところにあり、次に、本ＰＤＰの作製方法を具体的に
説明する。

【００１８】（前面板１０１の作製）厚さ約２．８ｍｍ
のソーダーガラスからなる前面板ガラス１０２の表面上
に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）またはＳｎＯ₂など
の導電体材料により、厚さ約３０００オングストローム
の透明電極１０３を平行に作製する。さらに、この透明
電極１０３の上に銀またはクロム−銅−クロムの３層か
らなるバス電極１０４を積層し、表示電極１０７とす
る。これらの電極の作製方法に関しては、スクリーン印
刷法、フォトリソグラフィー法などの公知の各作製法が
適用できる。

【００１９】次に表示電極１０７を作製した前面板ガラ
ス１０２の面上に、鉛系ガラスのペーストを全面にわた
ってコートし、焼成して約２０〜３０μｍの誘電体層１
０５を形成する。そして、誘電体層１０５の表面に、厚
さ約１μｍの酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護
膜１０６を蒸着法あるいはＣＶＤなどにより形成するこ
とにより、前面板１０１が完成する。

【００２０】（背面板２０１の作製）厚さ約２．６ｍｍ
のソーダーガラスからなる背面板ガラス２０２の面上
に、スクリーン印刷法により、銀を主成分とする導電体
材料を一定間隔でストライプ状に塗布し、厚さ約５〜１
０μｍのアドレス電極２０３を形成する。ここで作製す
るＰＤＰを４０インチクラスのハイビジョンテレビとす
るためには、隣り合う２つのアドレス電極２０３の間隔
を０．２ｍｍ程度以下に設定する。

【００２１】続いてアドレス電極２０３を形成した背面
板ガラス２０２の面全体にわたって、鉛系ガラスのペー
ストをコートして焼成し、厚さ約２０〜３０μｍの誘電
体層２０４を形成する。

【００２２】なお、ここからの工程に本発明の製造方法
の特徴が含まれる。図３（ａ）〜図３（ｅ）を参照し
て、本発明における隔壁形成プロセスを説明する。図３
（ａ）〜図３（ｅ）は、上記プロセスの各工程を説明す
る断面図である。

【００２３】まず、図３（ａ）に示すように、形成した
基板４０３の上に、感光性被覆層４０５を形成する。本
実施形態では、感光性被覆層４０５として感光性のドラ
イフィルムレジスト（以下、ＤＦＲと称する）を用い
て、厚さ５０μｍのＤＦＲをラミネート形成する。

【００２４】次に、図３（ｂ）に示すように、所定の幅
及びピッチを有するフォトマスク４０６を用いて紫外線
光（ＵＶ光）を照射し、露光を行う。露光量は、フォト
マスク４０６のパターン幅及びピッチに応じて適正化さ
せる。

【００２５】図３（ｃ）の工程では、１％炭酸ナトリウ
ム水溶液の現像液を使用し、現像を行い、現像後直ちに
水洗する。露光及び現像を経て、ＤＦＲ１０６にストラ
イプ状の所定パターンの溝（開溝部）４０７を形成す
る。溝４０７のサイズは、典型的には、上部の開口幅を
８０μｍ、ピッチを３６０μｍとする。

【００２６】次に図３（ｄ）に示すように、溝４０７の
パターン形成後に、基板４０３の上部からサンドブラス
トを行い、具体的には、ブラストノズル４０８より導電
性樹脂を被覆コートした球状のガラスビーズ４０９をＡ
ｉｒ流量１５００ＮＬ／ｍｉｎ、研磨材供給量１５００
ｇ／ｍｉｎの条件下で基板４０３上へ吹き付け溝４０７
に露出している隔壁膜４０４をブラスト加工する。尚、
典型的には、ブラスト加工は溝４０７部の隔壁膜４０４
が全てブラスト除去するまで行い、溝４１０（開口部）
を形成する。

【００２７】次に、溝４１０を形成した後、基板４０３
を剥離液、例えば５％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬す
ることによって、ＤＦＲ４０６を剥離する。これによっ
て図３の（ｅ）に示すような所定の形状の隔壁４１１が
形成される。

【００２８】感光性皮膚膜４０６の剥離除去が完了した
後、ピーク温度が約５５０℃となるようにプロファイル
形成されたの焼成炉を用いて、前記隔壁４１１を焼成す
る。

【００２９】以上のようにすれば、サンドブラスト時の
研磨材粒子による基板へのダメージが軽減され、また、
ブラストレート向上やリブ形状の安定化などブラスト性
が向上が実現する。

【００３０】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、プラズマ
ディスプレイパネルにおける隔壁を導電性を有した研磨
剤粒子によるサンドブラストにて形成することにより、
基板上に形成されている電極や誘電体層へのダメージの
軽減と安定化が図れ、高歩留りで高品質及び高精度な隔
壁を形成することができるので、低コストで高品位な表
示を可能とするプラズマディスプレイパネルを実現する
ことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】プラズマディスプレイパネルの構成を模式的に
示す図

【図２】ＡＣ面放電型プラズマディスプレイパネルの主
要構成を示す一部断面斜視図

【図３】（ａ）〜（ｅ）は本発明の実施の形態における
隔壁形成プロセスの各工程を説明する断面図

【符号の説明】

１０１前面板１０２前面板ガラス１０３透明電極１０４バス電極１０６保護層１０７表示電極２０１背面板２０２背面板ガラス２０３アドレス電極２０４誘電体層２０５隔壁２０６隔壁頂部２０７蛍光体層３０１背面基板３０２，３０３表示電極３０４誘電体層３０５誘電体保護層３０６アドレス電極３０７誘電体層３０８隔壁３０９蛍光体層３１０放電ガス４００ガラス基板４０１アドレス電極４０２誘電体層４０３基板４０４隔壁膜４０５感光性被覆層４０６フォトマスク４０７開溝部４０８ブラストノズル４０９研磨材粒子４１０開溝部４１１隔壁

フロントページの続き (72)発明者渡邉拓大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者鈴木茂夫大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者上田一大阪府高槻市幸町１番１号松下電子工業株式会社内Ｆターム(参考） 5C027 AA09 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GF02 GF19 JA17 MA23 5C094 AA42 AA44 BA31 CA19 FB01 FB02 FB12 FB20 GB01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性材料にて表面被覆された研磨材粒
子を使用し、隔壁形成することを特徴とするプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】前記隔壁形成工程は、隔壁材料を形成す
る工程と、所定パターンの開溝部を形成する工程と、少
なくとも該開溝部の内部をブラスト研磨し、所定の形状
の隔壁を得る工程とを含むことを特徴とする請求項１に
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】前記導電性材料が、有機被膜であること
を特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。
【請求項４】前記導電性材料が、金属被膜であること
を特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。
【請求項５】前記金属被膜が、金属の酸化物であるこ
とを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイ
パネルの製造方法。
【請求項６】前記金属被膜が、金属の窒化物であるこ
とを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイ
パネルの製造方法。
【請求項７】前記研磨材粒子の粒径が、リブのピッチ
の９分の１以下であることを特徴とする請求項１に記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】前記研磨材粒子を使用することを特徴と
する請求項１〜７のいずれかに記載のプラズマディスプ
レイパネルの製造装置。
【請求項９】導電性材料にて表面被覆された球形の研
磨材粒子を使用し、隔壁形成することを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】前記隔壁形成工程は、隔壁材料を形成
する工程と、所定パターンの開溝部を形成する工程と、
少なくとも該開溝部の内部をブラスト研磨し、所定の形
状の隔壁を得る工程とを含むことを特徴とする請求項９
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】前記導電性材料が、有機被膜であるこ
とを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイ
パネルの製造方法。
【請求項１２】前記導電性材料が、金属被膜であるこ
とを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイ
パネルの製造方法。
【請求項１３】前記金属被膜が、金属の酸化物である
ことを特徴とする請求項１２に記載のプラズマディスプ
レイパネルの製造方法。
【請求項１４】前記金属被膜が、金属の窒化物である
ことを特徴とする請求項１２に記載のプラズマディスプ
レイパネルの製造方法。
【請求項１５】前記研磨材粒子の粒径が、リブのピッ
チの９分の１以下であることを特徴とする請求項９に記
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】前記研磨材粒子を使用することを特徴
とする請求項９〜１５のいずれかに記載のプラズマディ
スプレイパネルの製造装置。