JP2001185680A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JP2001185680A
JP2001185680A JP36468899A JP36468899A JP2001185680A JP 2001185680 A JP2001185680 A JP 2001185680A JP 36468899 A JP36468899 A JP 36468899A JP 36468899 A JP36468899 A JP 36468899A JP 2001185680 A JP2001185680 A JP 2001185680A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
internal
circuit
semiconductor device
voltage
terminals
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP36468899A
Other languages
English (en)
Inventor
Akiko Ota
明子 太田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP36468899A priority Critical patent/JP2001185680A/ja
Priority to US09/598,466 priority patent/US6417718B1/en
Priority to TW089117359A priority patent/TW483149B/zh
Priority to KR10-2000-0055956A priority patent/KR100418230B1/ko
Publication of JP2001185680A publication Critical patent/JP2001185680A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/60Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being bipolar transistors
    • H03K17/62Switching arrangements with several input- output-terminals, e.g. multiplexers, distributors
    • H03K17/6207Switching arrangements with several input- output-terminals, e.g. multiplexers, distributors without selecting means
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/60Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being bipolar transistors
    • H03K17/62Switching arrangements with several input- output-terminals, e.g. multiplexers, distributors
    • H03K17/6242Switching arrangements with several input- output-terminals, e.g. multiplexers, distributors with several inputs only and without selecting means
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • H03K17/693Switching arrangements with several input- or output-terminals, e.g. multiplexers, distributors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体装置を誤った方向で回路基板に実装し
ても故障することがなくかつ正常に動作する半導体装置
を実現する。 【解決手段】 入力電圧発生/外部出力電圧発生回路
(5)を装置内部に設け、電源供給ピン端子(2A−
0,2B−0)に対応するパッド(3A−0,3B−
0)の電圧を検出し、その検出結果に基いて半導体装置
の挿入方向を特定し、正しい電圧をチップ内部回路
(6)へ与える。また、この特定方向に従って、回転対
称または線対称の位置の複数のピン端子の1つを選択し
てチップ内部回路に結合する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体装置に関
し、特に、パッケージ実装後、プリント回路基板への実
装時に、この半導体装置の回路基板への挿入方向がいず
れの方向であっても、正常に動作することのできる半導
体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図22は、従来の半導体装置の構成を概
略的に示す図である。図22において、半導体装置1は
矩形形状を有し、長辺方向に沿って一方側に外部装置と
の電気的接続を行なうためのピン端子2A−0〜2A−
nが配置され、その長辺方向に沿って他方側に、外部装
置との電気的接続を取るためのピン端子2B−0〜2B
−nが配列される。ピン端子2A−0には電源電圧VC
Cが与えられまたこのピン端子2A−0と点対称の位置
にあるピン端子2B−0には接地電圧VSSが与えられ
る。
【0003】ピン端子2A−1〜2A−nはそれぞれ、
信号A1−Anを受け、またピン端子2B−1〜2B−
nそれぞれも、信号B1−Bnを受ける。ピン端子2A
−1〜2A−nおよび2B−1〜2B−nは、それぞ
れ、信号を入出力する入出力ピン端子のように示すが、
これらは、入力ピン端子、または出力ピン端子であって
もよい。
【0004】半導体装置1は、さらに、ピン端子2A−
0〜2A−nおよび2B−0〜2B−nそれぞれに対応
して設けられるパッド3A−0〜3A−nおよび3B−
0〜3B−nを含む。これらのパッド3A−0〜3A−
nおよび3B−0〜3B−nは、それぞれ対応のピン端
子2A−0〜2A−nおよび2B−0〜2B−nに、ボ
ンディングワイヤを介して電気的に接続される。
【0005】ピン端子2A−0へ与えられる電源電圧V
CCは、パッド3A−0を介してチップ内部回路6に与
えられ、またピン端子2B−0へ接地電圧VSSが、パ
ッド3B−0を介してチップ内部回路6へ与えられる。
このチップ内部回路6は、ピン端子2A−0へ与えられ
る電源電圧VCCを一方動作電源電圧として所定の処理
を行なってもよく、またこのピン端子2A−0に与えら
れる電源電圧VCCを内部で降圧して動作電源電圧を生
成する構成であってもよい。
【0006】パッド3A−1〜3A−nそれぞれに対応
してバッファ回路4A−1〜4A−nが配置され、また
パッド3B−1〜3B−nそれぞれに対応してバッファ
回路4B−1〜4B−nが配置される。これらのバッフ
ァ回路4A−1〜4A−nおよび4B−1〜4B−n
は、入出力バッファ回路のように示すが、入力バッファ
回路または出力バッファ回路であってもよい。これらの
バッファ回路4A−1〜4A−nおよび4B−1〜4B
−nは、外部装置とチップ内部回路6の間の信号のイン
ターフェイスを取り、それぞれ与えられた信号をバッフ
ァ処理してチップ内部回路6または外部装置へ伝達す
る。
【0007】この図22に示すような半導体装置1のパ
ッケージは、その矩形形状の長辺方向に沿ってピン端子
が配列されており、通常、DIL(デュアル・イン・ラ
イン)パッケージと呼ばれている。半導体チップに形成
される半導体装置1を、このようなパッケージで封止
し、ピン端子を介して外部装置と電気的に接続する構成
により、微細加工された半導体装置1を、ピン端子2A
−0〜2A−nおよび2B−0〜2B−nを介して、外
部装置と電気的に接続することができ、また回路基板へ
の挿入時においても、そのピン端子2A−0〜2A−n
および2B−0〜2B−nにより、容易に、回路基板上
に実装することができる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】この図22に示す半導
体装置1においては、ピン端子2A−0〜2A−nおよ
び2B−0〜2B−nが矩形形状の長辺方向に沿って整
列して配置され、ピン番号により特定され、また入力/
出力する信号/電圧も予め定められている。このピン端
子2A−0〜2A−nおよび2B−0〜2B−nは、リ
ードフレームにより形成されており、すべて同一形状を
有している。したがってこの半導体装置1の上下方向を
明確に区別するために、図23に示すように、半導体装
置1のパッケージ上面には、この上下方向を示すための
マーク(凹み)20が、パッケージの短辺の一方側に形
成される。しかしながら、単に、この凹み20により、
半導体装置の上下方向を区別しているだけであり、この
半導体装置1自身は、上下方向を反転しても、ピン端子
のピッチは変化せず、逆方向に回路基板のたとえばIC
ソケットに挿入することができる。
【0009】このような逆方向に半導体装置1を回路基
板に実装し、この回路基板全体に電源を投入した場合、
ピン端子に与えられる信号/電圧は、正規のものと異な
り、この半導体装置1は正常に動作しない。また、一般
に、DILパッケージにおいては、短絡を防止するため
に、電源電圧VCCを受けるピン端子2A−0と接地電
圧VSSを受けるピン端子2B−0は、図22に示すよ
うに、点対称となる位置に配置される。このようなピン
配置において、半導体装置1を、上下逆方向に回路基板
に挿入した場合、ピン端子2A−0および2B−0の位
置が入れ替わることになるため、接地電圧VSSを受け
るピン端子2B−0に電源電圧VCCが印加され、電源
電圧VCCを受けるピン端子2A−0に、接地電圧VS
Sが印加される。この場合、半導体装置1のチップ内部
回路6において、接地電圧VSSに固定すべき接地線が
電源電圧VCCレベルに設定され、内部で大きな電流が
流れ、発熱が生じ、内部素子が発熱により破壊される場
合がある。たとえば、以下のような経路で、大きな電流
が流れる。
【0010】図24は、この半導体装置1の信号入力部
の構成の一例を示す図である。図24において、パッド
PDが信号線SGを介してバッファ回路BFに結合され
る。信号線SGと電源ノードPS0の間にダイオードD
F0が接続され、信号線SGと電源ノード(接地ノー
ド)PS1の間にダイオードDF1が接続される。ダイ
オードDF0は、アノードが信号線SGに接続され、カ
ソードが電源ノードPS0に接続される。ダイオードD
F1は、アノードが接地ノードPS1に接続され、カソ
ードが信号線SGに接続される。
【0011】半導体装置1が正常な方向で、回路基板に
挿入されたとき、電源ノードPS0および接地ノードP
S1には、それぞれ電源電圧VCCおよび接地電圧VS
Sが与えられる。パッドPDに与えられた正のサージ電
圧は、ダイオードDF0を介して電源ノードPS0へ放
出される。負のサージ電圧がパッドPDに生じた場合に
は、ダイオードDF1が導通し、接地ノードPS1から
信号線SGに電流が流れて負のサージ電圧が吸収され
る。
【0012】半導体装置1が、逆方向に回路基板に挿入
された場合、電源ノードPS0に接地電圧VSSが印加
され、接地ノードPS1に電源電圧VCCが印加され
る。この場合、ダイオードDF1およびDF0が常時オ
ン状態となり、この経路に大きな電流が常時流れること
になる。
【0013】また、チップ内部回路においても、論理ゲ
ート回路などにおいて、その出力レベルが反転し、この
逆方向の挿入により、内部の信号の論理レベルがすべて
反転した場合、たとえば半導体記憶装置においてロウデ
コーダの出力信号およびワード線駆動信号の論理レベル
(電圧レベル)が変化した場合、非選択状態において接
地状態とすべきワード線が電源電圧VCCレベルに駆動
され、このためワード線駆動部において大きな電流が流
れる。
【0014】したがって、このような半導体装置1を回
路基板に実装する場合にその向きを逆にした場合、半導
体装置に故障が生じ、システム全体が正常に動作しなく
なるという問題が生じる。
【0015】従来、このような半導体装置を逆向きに回
路基板に挿入した場合の対策として、内部回路を非作動
状態とする構成、または対称なピン端子位置に同一機能
を有する回路を接続するなどの方法が考えられているも
のの、電源供給端子(電源端子および接地端子)に与え
られる電圧極性が逆転した場合の対策については何ら考
察されていない。
【0016】上述のような問題は、単にDILパッケー
ジに限定されず、パッケージ四辺に沿ってピン端子が配
置されるQFP(カド・フラット・パッケージ)または
BGA(ボールグリッドアレイ)パッケージなどにおい
ても同様に生じる。
【0017】また、逆方向に回路基板に実装した場合に
おいても半導体装置が正常に動作するように、対称位置
に同一機能を有するピン端子を設け、上下方向を逆にし
て回路基板に半導体装置を挿入した場合においても、チ
ップ内部回路へは、正常な信号/電圧が与えられるよう
にする構成も考えられる。しかしながら、この場合、同
一の機能を有するピン端子を、この挿入方向の可能性に
応じて複数配置することにより、ピン端子数が増大し、
応じてパッケージ全体のサイズが大きくなり、小規模な
システム構築という現在の流れに反することになる。
【0018】また、回路基板上の装置数が増大した場
合、半導体装置のピン端子の機能が固定されているた
め、配線レイアウトが錯綜し、効率的に半導体装置を配
置することができなくなる。
【0019】それゆえ、この発明の目的は、ピン端子数
を増加させることなく、回路基板実装時の半導体装置の
挿入方向にかかわらず正常に動作することのできる半導
体装置を提供することである。
【0020】この発明の他の目的は、回路基板上のレイ
アウトを簡略化することのできる半導体装置を提供する
ことである。
【0021】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体装
置は、複数の端子と、内部ノード上の電圧を一方動作電
源電圧として受ける内部回路と、複数の端子に結合さ
れ、これら複数の端子の電圧に従って、複数の端子の電
圧から内部ノードへ伝達すべき電圧を選択して内部ノー
ドへ伝達するための選択回路を備える。
【0022】請求項2に係る半導体装置は、請求項1の
複数の端子が第1および第2の端子を含み、選択回路
が、これら第1および第2の端子各々に対応して設けら
れ、かつ第1および第2の端子の電圧に各々が応答して
第1および第2の端子の一方を内部ノードへ結合する1
対のスイッチング素子を含む。
【0023】請求項3に係る半導体装置は、請求項1の
複数の端子が複数の第1および第2の端子の対を含み、
選択回路が、これら複数の第1および第2の端子の対の
各対に対応して設けられ、対応の対の第1および第2の
端子の電圧に応答して選択的に導通し、導通時対応の対
の予め定められた一方の端子を内部ノードへ電気的に結
合するための複数のスイッチング素子を含む。
【0024】請求項4に係る半導体装置は、請求項1の
装置がさらに、複数の信号端子と、これら複数の信号端
子に対応して設けられ、かつ複数の端子に結合され、こ
れら複数の端子の電圧に応答して複数の信号端子の1つ
を内部ノードと異なる第2の内部ノードに結合する手段
備える。この第2の内部ノードは内部回路に結合され
る。
【0025】請求項5に係る半導体装置は、請求項1の
半導体装置が所定形状の外形を有し、かつこの外形の回
転対称な位置に配置され、同一種類の信号を受ける複数
の信号端子を備える。これら複数の信号端子は複数の端
子の電圧レベルにかかわらず、それぞれ、内部回路の対
応のノードに結合される。
【0026】請求項6に係る半導体装置は、請求項4の
内部回路が、第2の内部ノードに結合され、かつ与えら
れた信号をバッファ処理するバッファ回路を含む。
【0027】請求項7に係る半導体装置は、請求項1の
複数の端子は、回転対称または線対称の位置に配置され
る。
【0028】請求項8に係る半導体装置は、請求項3の
複数対が線対称または回転対称位置に配置される。
【0029】内部回路に結合される内部ノードに、複数
の端子の電圧に従って複数の端子の電圧を選択して伝達
することにより、これら複数の端子の電圧が、正常な状
態と異なる場合においても、正確に、内部回路には正常
な電圧を印加することができ、半導体装置の挿入方向に
かかわらず、この半導体装置を正常に動作させることが
できる。
【0030】また、半導体装置の回路基板への実装時、
この半導体装置の挿入方向を考慮する必要がなくなり、
半導体装置の実装工程が簡略化される。
【0031】
【発明の実施の形態】[実施の形態1]図1は、この発
明の実施の形態1に従う半導体装置の全体の構成を概略
的に示す図である。この図1に示す半導体装置は、短辺
および長辺を有する矩形形状を有し、この半導体装置1
の中心点を軸に、180°回転させても、同一形状を有
し、またピン配置も同じとなる(ピン端子番号は異な
る)。すなわち、この半導体装置1は、裏表および縦横
を明確に区別することができるものの、半導体装置1の
中心点を軸にして180°回転させても、外見形状とし
ては同一となる。縦横の区別は、短辺および長辺により
行なえ、表裏は、ピン端子の延在する方向または、図2
3に示すような凹みにより識別される。
【0032】この半導体装置1は、従来と同様、長辺に
沿って一方側に配置されるピン端子2A−0〜2A−n
と、長辺の他方側に配置されるピン端子2B−0〜2B
−nと、これらのピン端子2A−0〜2A−nおよび2
B−0〜2B−nそれぞれに対応して設けられるパッド
3A−0〜3A−nおよび3B−0〜3B−nを含む。
この半導体装置1の両長辺の斜め方向に対向する位置
に、電源供給端子2A−0および2B−0が設けられ
る。
【0033】パッド3A−1〜3A−nおよび3B−1
〜3B−nそれぞれに対応して与えられた信号をバッフ
ァ処理するバッファ回路4A−1〜4A−nおよび4B
−1〜4B−nが設けられる。これらのバッファ回路4
A−1〜4−nおよび4B−1〜4B−nは、入力バッ
ファ回路、出力バッファ回路、および入出力バッファ回
路のいずれであってもよい。
【0034】ピン端子2A−0および2B−0は、第1
の方向に挿入した時には、それぞれ電源電圧VCCおよ
び接地電圧VSSが与えられ、第1の方向と逆の第2の
方向に挿入した時においては、それぞれ接地電圧VSS
および電源電圧VCCが与えられる。回路基板上では、
配線により、伝達される電圧/信号は固定されており、
その半導体装置1の挿入方向に応じて各ピン端子に接続
される電圧/信号が異なる。図1においては、各ピン端
子に対し、斜線の左側に、第1の方向挿入時に印加され
る電圧/信号を示し、斜線の右側に、逆向きの第2の方
向に回路基板へ挿入したときに与えられる電圧/信号を
示す。
【0035】この発明の実施の形態1に従う半導体装置
1は、さらに、バッファ回路4A−1〜4−nおよび4
B−1〜4B−nに結合され、パッド3A−0および3
B−0上の電圧に従って、挿入方向が第1および第2の
方向いずれであってもチップ内部回路6の各内部ノード
に同じ正常な信号/電圧が常時与えられるように選択動
作をバッファ回路4A−1〜4−nおよび4B−1〜4
B−nに対して行なうとともに、パッド3A−0および
3B−0上に与えられた電圧に従って、チップ内部回路
6に対し、正常に内部電源電圧intVCCおよび内部
接地電圧intVSSを印加する内部入力電圧発生/外
部出力電圧発生回路5を含む。
【0036】この内部入力電圧発生/外部出力電圧発生
回路5により、半導体装置1が第1の方向に回路基板に
挿入されたときおよび逆方向の第2の方向に挿入された
ときいずれの場合にも、チップ内部回路6が正常に動作
するように、チップ内部回路6と各パッドとの接続を切
換える。それにより、半導体装置1の回路基板への挿入
方向にかかわらず、半導体装置1を常時正常状態で動作
させることができる。次に、動作について簡単に説明す
る。
【0037】ピン端子2A−0および2B−0には、電
源電圧VCCおよび接地電圧VSSの一方および他方が
それぞれ印加される。第1の方向にこの半導体装置1が
装着された場合、ピン端子2A−0および2B−0に、
それぞれ、電源電圧VCCおよび接地電圧VSSが与え
られ、ピン端子2A−1〜2A−nには、信号A1〜A
nが結合され、ピン端子2B−1〜2B−nには、信号
B1〜Bnが結合される。パッド3A−1〜3A−nお
よび3B−1〜3B−nを介して、それぞれ対応のピン
端子2A−1〜2A−nおよび2B−0〜2B−nと対
応のバッファ回路4A−1〜4A−nおよび4B−1〜
4B−nの間で信号/電圧を伝達する。
【0038】内部入力電圧発生/外部出力電圧発生回路
5は、パッド3A−0および3B−0から与えられる電
圧VCCおよびVSSに従って、この半導体装置1がい
ずれの方向に挿入されているかを判定し、その判定結果
に従ってバッファ回路4A−1〜4A−nおよび4B−
1〜4B−nを、それぞれ、半導体装置1のチップ内部
回路6に対する正常状態での信号入力/出力ノードに結
合する。すなわち、第1の方向でこの半導体装置1が装
着されている場合には、内部入力電圧発生/外部出力電
圧発生回路5は、パッド3A−0および3B−0に与え
られる電圧VCCおよびVSSを受けて、チップ内部回
路6に対し、このチップ内部回路6の電源ノードおよび
接地ノードへ内部電源電圧intVCCおよび内部接地
電圧intVSSを印加する。したがってチップ内部回
路6は、正常に、動作電源電圧が供給される。同様、内
部入力電圧発生/外部出力電圧発生回路5は、バッファ
回路4A−1〜4A−nおよび4B−1〜4B−nを、
パッド3A−0および3B−0上の電圧に従って、チッ
プ内部回路6の正常状態時における内部ノードに結合す
る。
【0039】したがって、たとえば、この半導体装置1
が正常状態で挿入されている場合には、バッファ回路4
A−1〜4A−nおよび4B−1〜4B−nは、それぞ
れ、チップ内部回路6の、内部信号intA1〜int
AnおよびintB1〜intBnを受けるノードに結
合する。これらの内部信号intA1〜intAnおよ
びintB1〜intBnは、入力信号および出力信号
のいずれであってもよい。
【0040】この半導体装置1がピン端子2A−0およ
び2B−0に接地電圧VSSおよび電源電圧VCCがそ
れぞれ印加される第2の方向で回路基板に挿入されてい
る場合には、内部入力電圧発生/外部出力電圧発生回路
5は、バッファ回路4A−1〜4A−nおよび4B−1
〜4B−nとチップ内部回路6の内部ノードとの接続を
変更する。したがってこの場合においては、バッファ回
路4A−1〜4A−nには、信号B1〜Bnが結合され
ているため、内部入力電圧発生/外部出力電圧発生回路
5は、チップ内部回路6のこれらの信号B1〜Bnに対
応する内部ノードにバッファ回路4A−1〜4A−nを
結合し、バッファ回路4B−1〜4B−nは、信号A1
〜Anに対応しているため、これらのバッファ回路4B
−1〜4B−nは、内部入力電圧発生/外部出力電圧発
生回路5によりチップ内部回路6の信号An〜A1に対
応する内部ノードに結合される。
【0041】したがって、この半導体装置1が、回路基
板に対して挿入される方向にかかわらず、チップ内部回
路6は、常に正常状態で装着された状態と同一の状態で
内部信号を入出力することができる。電源電圧VCCお
よび接地電圧VSSについても同様である。
【0042】この内部入力電圧発生/外部出力電圧発生
回路5は、各ピン端子2A−0〜2A−nおよび2B−
0〜2B−nに対し、正常状態時と逆方向挿入時に対応
するピン端子を対として、パッド3A−0および3B−
0の電圧に従って挿入方向を特定し、特定結果に従って
その信号電圧伝搬経路を設定する。次に各部の具体的構
成について説明する。
【0043】図2は、図1に示す内部入力電圧発生/外
部出力電圧発生回路5に含まれる内部電源電圧(int
VCC)発生回路5A−0の構成を示す図である。図2
において、内部電源電圧発生回路5A−0は、パッド3
A−0および3B−0それぞれに対応して設けられ、こ
れらのパッド3A−0および3B−0上の電圧に応答し
て互いに相補的に導通し、導通時チップ内部回路6の内
部電源ノードN5A−0に対応のパッドの電圧を伝達す
るCMOSトランスミッションゲートS5A−0aおよ
びS5A−0bを含む。CMOSトランスミッションゲ
ートS5A−0aは、パッド3A−0に電源電圧VCC
が与えられかつパッド3B−0に接地電圧VSSが与え
られたときに導通し、このパッド3A−0上に与えられ
た電圧VCCをチップ内部回路6の内部電源ノードN5
A−0に伝達する。これらのパッド3A−0および3B
−0は、図1において、この半導体装置1の斜め方向に
対向するピン端子に対応して配置されており、内部入力
電圧発生/外部出力電圧発生回路5内において内部配線
により、この内部電源電圧発生回路5A−0にまで、そ
の電圧が伝達される。これらのパッド3A−0および3
B−0の電圧により挿入方向が特定される。
【0044】パッド3A−0に接地電圧VSSが与えら
れ、かつパッド3B−0に電源電圧VCCが与えられた
場合、ノードN5A−0aが接地電圧VSSレベル、ノ
ードN5A−0bが電源電圧VCCレベルであり、CM
OSトランスミッションゲートS5A−0aがオフ状
態、CMOSトランスミッションゲートS5A−0bが
オン状態となり、チップ内部回路6の内部電源ノードN
5A−0がCMOSトランスミッションゲートS5A−
0bを介してノードN5A−0bに結合され、パッド3
B−0に与えられた電圧VCCを受ける。したがって、
チップ内部回路6においては、その内部電源ノードN5
A−0には常時内部電源電圧intVCCが与えられ、
チップ内部回路6は、この半導体装置1の挿入方向にか
かわらず正常に内部電源電圧intVCCを受けること
ができる。
【0045】図3は、内部入力電圧発生/外部出力電圧
発生回路5に含まれる内部接地電圧intVSSを発生
する内部接地電圧(intVSS)発生回路5B−0の
構成を示す図である。図3において、内部接地電圧発生
回路5B−0は、パッド3A−0および3B−0それぞ
れに対応して設けられ、かつそれらのパッド3A−0お
よび3B−0上の電圧に応答して相補的に導通し、導通
時対応のパッド上の電圧を内部接地ノードN5B−0に
伝達するCMOSトランスミッションゲートS5B−0
aおよびS5B−0bを含む。CMOSトランスミッシ
ョンゲートS5B−0aは導通時、パッド3A−0上の
電圧を内部接地ノードN5B−0に伝達し、CMOSト
ランスミッションゲートS5B−0bが、導通時対応の
パッド3B−0上の電圧を内部接地ノードN5B−0に
伝達する。
【0046】パッド3A−0および3B−0それぞれ
に、電源電圧VCCおよび接地電圧VSSが与えられた
場合、CMOSトランスミッションゲートS5B−0b
がオン状態、CMOSトランスミッションゲートS5B
−0aがオフ状態となり、内部接地ノードN5B−0
は、ノードN5B−0bを介してパッド3B−0に結合
される。したがって内部接地ノードN5B−0には、こ
のパッド3B−0に与えられた接地電圧VSSが伝達さ
れ、チップ内部回路6は、内部接地ノードN5B−0上
の電圧を内部接地電圧intVSSとして受ける。
【0047】パッド3A−0および3B−0へ、それぞ
れ、接地電圧VSSおよび電源電圧VCCが与えられた
場合、CMOSトランスミッションゲートS5B−0a
がオン状態、CMOSトランスミッションゲートS5B
−0bがオフ状態となる。この状態においては、内部接
地ノードN5B−0が、CMOSトランスミッションゲ
ートS5B−0aおよびノードN5B−0aを介してパ
ッド3A−0に電気的に結合され、このパッド3A−0
上の接地電圧VSSが内部接地ノードN5B−0に伝達
される。チップ内部回路6は、この半導体装置の挿入方
向にかかわらず、常に、内部接地ノードN5B−0を介
して内部接地電圧intVSSを受ける。
【0048】したがって、半導体装置の回路基板実装
時、その挿入方向にかかわらず、常時チップ内部回路6
は、内部電源ノードN5A−0を介して内部電源電圧i
ntVCCを受け、内部接地ノードN5B−0を介して
接地電圧intVSSを受ける。応じて、チップ内部回
路6においては、この電源電圧VCCおよび接地電圧V
SSの逆印加は生じず、この半導体装置における発熱に
よる素子の破壊は防止される。
【0049】図4は、図1に示す内部入力電圧発生/外
部出力電圧発生回路5の信号AiおよびBiに対応する
部分の選択回路の構成を示す図である。図4において
は、バッファ4A−iおよび4B−iに対する内部信号
発生回路の構成を示す。ここで、i=1〜nである。バ
ッファ回路4A−iおよび4B−iは、パッド3A−i
および3B−iを介して、半導体装置の点対称位置に配
置されるピン端子2A−iおよび2B−iに結合され
る。これらのバッファ回路4A−iおよび4B−iは、
入力バッファ、出力バッファおよび入出力バッファのい
ずれであってもよい。1つの要件が要求される。すなわ
ち、バッファ回路4A−iおよび4B−iは、同一種類
のバッファ回路、すなわち入力バッファ回路同士、出力
バッファ回路同士または入出力バッファ回路同士であ
る。バッファ回路4A−iおよび4B−iは、それぞれ
信号AiおよびBiに結合する。
【0050】チップ内部回路6とバッファ回路4A−i
および4B−iは、内部ノードN5A−iを介して内部
信号intAiを伝達し、また内部ノードN5B−iを
介して内部信号intBiを伝達する。
【0051】この内部信号intAiに対して、パッド
3A−0および3B−0上の電圧に応答して、バッファ
回路4A−iおよび4B−iの一方を内部ノードN5A
−iに結合する選択回路5A−iが設けられ、内部信号
intBiに対して、これらのパッド3A−0および3
B−0上の電圧に応答してバッファ回路4A−iおよび
4B−iの一方を内部ノードN5B−iに結合する選択
回路5B−iが設けられる。これらの選択回路5A−i
および5B−iは、互いに相補的に選択動作を実行す
る。
【0052】選択回路5A−iは、パッド3A−0およ
び3B−0上の電圧に応答して選択的に導通し、導通時
バッファ回路4A−iを内部ノードN5A−iに結合す
るCMOSトランスミッションゲートS5A−iaと、
パッド3A−0および3B−0上の電圧に応答してCM
OSトランスミッションゲートS5A−iaと相補的に
導通し、導通時バッファ回路4B−iを内部ノードN5
A−iに結合するCMOSトランスミッションゲートS
5A−ibを含む。
【0053】選択回路5B−iは、パッド3A−0およ
び3B−0上の電圧に応答して選択的に導通し、導通時
バッファ回路4B−iを内部ノードN5B−iに結合す
るCMOSトランスミッションゲートS5B−ibと、
パッド3A−0および3B−0上の電圧に応答してCM
OSトランスミッションゲートS5B−ibと相補的に
導通し、導通時バッファ回路4A−iを内部ノードN5
B−iに電気的に結合するCMOSトランスミッション
ゲートS5B−iaを含む。次に動作について簡単に説
明する。
【0054】この半導体装置がピン端子2A−0および
2B−0に電源電圧VCCおよび接地電圧VSSがそれ
ぞれ与えられる第1の方向へ回路基板に実装された場
合、パッド3A−0に電源電圧VCCが与えられ、パッ
ド3B−0には、接地電圧VSSが与えられる。選択回
路5A−iにおいては、CMOSトランスミッションゲ
ートS5A−iがオフ状態、CMOSトランスミッショ
ンゲートS5A−iaがオン状態となり、バッファ回路
4A−iが内部ノードN5A−iに結合される。
【0055】また、このとき、選択回路5B−iにおい
ては、CMOSトランスミッションゲートS5B−ia
がオフ状態、CMOSトランスミッションゲートS5B
−ibがオン状態となり、バッファ回路4B−iが、内
部ノードN5B−iに結合される。したがって、チップ
内部回路6は、内部信号intAiおよびintBiを
それぞれ、バッファ回路4A−iおよび4B−iの機能
に従う方向に伝達する。
【0056】半導体装置1が、逆に第2の方向に挿入さ
れた場合、パッド3A−0には接地電圧VSSが印加さ
れ、パッド3B−0には電源電圧VCCが印加される。
またこの場合、バッファ回路4A−iおよび4B−i
は、対応して設けられるピン端子2A−iおよび2B−
iは、外部信号BiおよびAiを受けるように結合され
る。この状態においては、選択回路5A−iにおいて、
CMOSトランスミッションゲートS5A−iaがオフ
状態、CMOSトランスミッションゲートS5A−ib
がオン状態となり、バッファ回路4B−iが内部ノード
N5A−iに結合される。したがって、チップ内部回路
6は、この内部信号intAiとバッファ回路4B−i
の機能に応じた方向で信号伝送を行なう。
【0057】選択回路5B−iにおいては、CMOSト
ランスミッションゲートS5B−iaがオン状態、CM
OSトランスミッションゲートS5B−ibがオフ状態
となり、内部ノードN5B−iは、バッファ回路4A−
iに結合される。したがってチップ内部回路6は、内部
信号intBiをバッファ回路4A−iとの間で伝送す
る。
【0058】したがって信号AiおよびBiについて
も、パッド3A−0および3B−0の電圧により挿入方
向が特定され、特定結果に従って信号伝搬経路が選択さ
れるため、半導体装置がいずれの方向に挿入された場合
においても、常にチップ内部回路6へは、常に同じ正常
な内部信号が入出力され、対応のバッファ回路が受ける
または送信する信号が異なる場合においても、外部装置
との間で正確に、送受を行ない、正確に指定された内部
動作を行なうことができる。
【0059】以上のように、この発明の実施の形態1に
従えば、特定のパッドに与えられる電圧に応じて、内部
信号/電圧の伝搬経路を切換えるように構成しており、
この半導体装置の回路基板実装時その挿入方向がいずれ
の方向であっても、半導体装置へは、常に正常な内部信
号/電圧が伝達され、この半導体装置の発熱を防止する
ことができるのみならず、正常に半導体装置が動作して
外部装置と信号の授受を行なうことができる。また、こ
の半導体装置1の、回路基板実装時その方向を考慮する
ことなく回路基板に実装することができ、実装工程が簡
略化される。
【0060】[実施の形態2]図5は、この発明の実施
の形態2に従う内部入力電圧発生/外部出力電圧発生回
路5の構成を示す図である。図5においては、内部電源
電圧intVCCを発生する内部電源電圧(intVC
C)発生回路5A−0と内部接地電圧intVSSを発
生する内部接地電圧(intVSS)発生回路5B−0
の構成を示す。
【0061】図5において、内部電源電圧発生回路5A
−0は、パッド3A−0と内部電源ノードN5A−0の
間にパッド3A−0に対し順方向に接続されるダイオー
ド素子D5A−0aと、パッド3B−0と内部電源ノー
ドN5A−0の間にパッド3B−0に対し順方向に接続
されるダイオード素子D5A−0bを含む。
【0062】内部接地電圧発生回路5B−0は、パッド
3A−0と内部接地ノードN5B−0の間にパッド3A
−0に対し逆方向に接続されるダイオード素子D5B−
0aと、パッド3B−0と内部接地ノードN5B−0の
間にパッド3B−0に対し逆方向に接続されるダイオー
ド素子D5B−0bを含む。
【0063】内部電源電圧発生回路5A−0において、
パッド3A−0に電源電圧VCCが与えられ、パッド3
B−0に接地電圧VSSが与えられた場合、ダイオード
素子D5A−0aが導通し、パッド3A−0に与えられ
た電源電圧VCCを内部電源ノードN5A−0に伝達す
る。ダイオード素子D5A−0bは逆方向にバイアスさ
れ、オフ状態を維持し、パッド3B−0は内部電源ノー
ドN5A−0から切離される。
【0064】パッド3A−0に接地電圧VSSが与えら
れ、パッド3B−0に電源電圧VCCが与えられた場
合、ダイオード素子D5A−0bが導通し、パッド3B
−0上の電源電圧VCCを内部電源電圧N5A−0に伝
達し、ダイオード素子D5A−0aは逆方向にバイアス
されてオフ状態を維持する。
【0065】内部接地電圧発生回路5B−0において
は、パッド3A−0に電源電圧VCCが印加され、パッ
ド3B−0に接地電圧VSSが印加された場合、ダイオ
ード素子D5B−0bが導通し、内部接地ノードN5B
−0がパッド3B−0に結合されて接地電圧VSSを受
ける。ダイオード素子D5B−0aは、逆バイアス状態
となり、オフ状態を維持し、パッド3A−0は内部接地
ノードN5B−0から切離される。
【0066】パッド3A−0に接地電圧VSSが印加さ
れ、パッド3B−0に電源電圧VCCが印加された場
合、ダイオード素子D5B−0aが導通し、一方、ダイ
オード素子D5B−0bが非導通状態となり、内部接地
ノードN5B−0は、パッド3A−0に電気的に接続さ
れて接地電圧VSSを受ける。したがって、このような
ダイオード論理ゲートにより、内部電源電圧発生回路5
A−0および内部接地電圧発生回路5B−0を構成して
も、同様の効果を得ることができる。
【0067】[変更例1]図6は、図5に示す内部電源
電圧発生回路5A−0の変更例の構成を概略的に示す図
である。図6においては、パッド3A−0と内部電源ノ
ードN5A−0の間に、ダイオード接続されたデプレシ
ョン型PチャネルMOSトランジスタPA−aが接続さ
れ、パッド3B−0と内部電源ノードN5A−0の間
に、ダイオード接続されたデプレション型PチャネルM
OSトランジスタPA−bが接続される。これらのMO
SトランジスタPA−aおよびPA−bは、そのしきい
値電圧が正であり、導通時、確実に、パッド3A−0ま
たは3B−0に与えられた電圧に従って、しきい値電圧
損失を伴うことなく内部電源ノードN5A−0へ電源電
圧VCCを伝達する。したがって、これらのデプレショ
ン型PチャネルMOSトランジスタを利用することによ
り、確実に、PNダイオードの順方向降下電圧の影響を
受けることなく外部から与えられる電源電圧VCCに対
応する内部電源電圧intVCCを内部電源ノードN5
A−0に伝達することができる。
【0068】[変更例2]図7は、内部接地電圧発生回
路5B−0の変更例を概略的に示す図である。図7にお
いて、内部接地電圧発生回路5B−0は、パッド3A−
0と内部接地ノードN5B−0の間に接続されるデプレ
ション型のダイオード接続されたNチャネルMOSトラ
ンジスタNB−aと、パッド3B−0と内部接地ノード
N5B−0の間に接続されかつダイオード接続されたデ
プレション型NチャネルMOSトランジスタNB−bを
含む。
【0069】これらのMOSトランジスタNB−aおよ
びNB−bは、対応のパッド3A−0および3B−0に
電源電圧VCCが与えられた場合、逆バイアス状態とな
り、オフ状態となり、一方、対応のパッド3A−0およ
び3B−0に接地電圧VSSが与えられた場合には導通
し、内部接地ノードN5B−0へ接地電圧VSSを伝達
する。これらのMOSトランジスタNB−aおよびNB
−bのしきい値電圧は負の値であり(ただしその絶対値
は電源電圧VCCよりも低い)、確実に、内部接地ノー
ドN5B−0に、接地電圧VSSを伝達することができ
る。この場合にも、したがってダイオード素子の順方向
降下電圧による接地電圧の浮き上がりを防止することが
でき、接地電圧を確実に内部接地ノードN5B−0に伝
達することができる。
【0070】以上のように、この発明の実施の形態2に
従えば、内部電圧発生回路および内部接地電圧発生回路
を、ダイオード素子を用いた論理ゲートで構成し対応の
パッドの電圧それぞれに応じて選択的にダイオード素子
を導通させて対応のパッドの電圧を内部電源/接地ノー
ドへ伝達しており、少ない構成要素数で確実にかつ正確
に、チップ内部回路に対し、電源電圧および接地電圧を
伝達することができる。
【0071】[実施の形態3]図8は、この発明の実施
の形態3に従う内部入力電圧発生/外部出力電圧発生回
路5の構成を示す図である。図8においても、内部電源
電圧intVCCを発生する内部電源電圧(intVC
C)発生回路5A−0と内部接地電圧intVSSを発
生する内部接地電圧(intVSS)発生回路5B−0
の構成を示す。
【0072】内部電源電圧発生回路5A−0は、パッド
3A−0と内部電源ノードN5A−0の間に接続され、
パッド3B−0上の電圧が接地電圧VSSレベルのとき
導通し、パッド3A−0上の電圧を内部電源ノードN5
A−0に伝達するPNPバイポーラトランジスタT5A
−0aと、パッド3B−0と内部電源ノードN5A−0
の間に接続され、パッド3A−0の電圧が接地電圧VS
Sレベルのとき導通しパッド3B−0上の電圧を内部電
源ノードN5A−0に伝達するPNPバイポーラトラン
ジスタT5A−0bを含む。
【0073】内部接地電圧発生回路5B−0は、パッド
3A−0と内部接地ノードN5B−0の間に接続され、
パッド3B−0上の電圧が電源電圧VCCレベルのとき
導通し、内部接地ノードN5B−0をパッド3A−0に
電気的に結合するNPNバイポーラトランジスタT5B
−0aと、パッド3B−0と内部接地ノードN5B−0
の間に接続され、パッド3A−0上の電圧が電源電圧V
CCレベルのとき導通し、内部接地ノードN5B−0を
パッド3B−0に電気的に結合するNPNバイポーラト
ランジスタT5B−0bを含む。バイポーラトランジス
タT5A−0aおよびT5B−0aは、エミッタがパッ
ド3A−0に接続され、バイポーラトランジスタT5A
−0bおよびT5B−0bは、エミッタがパッド3B−
0に接続される。
【0074】パッド3A−0に電源電圧VCCが印加さ
れ、パッド3B−0に接地電圧VSSが与えられたと
き、内部電源電圧発生回路5A−0においては、バイポ
ーラトランジスタT5A−0aがオン状態、バイポーラ
トランジスタT5A−0bがオフ状態となる。したがっ
て、パッド3A−0上の電源電圧VCCが内部電源ノー
ドN5A−0に伝達される。一方、内部接地電圧発生回
路5B−0においては、バイポーラトランジスタT5B
−0bがオン状態、バイポーラトランジスタT5B−0
aがオフ状態となり、内部接地ノードN5B−0が、バ
イポーラトランジスタT5B−0bを介してパッド3B
−0に電気的に結合される。したがって、内部接地ノー
ドN5B−0は、パッド3B−0上の電圧、すなわち接
地電圧VSSレベルとなる。
【0075】一方、パッド3A−0に接地電圧VSSが
与えられ、パッド3B−0に電源電圧VCCが与えられ
る場合には、内部電源電圧発生回路5A−0において、
バイポーラトランジスタT5A−0aがオフ状態、バイ
ポーラトランジスタT5A−0bがオン状態となる。し
たがって、この場合、バイポーラトランジスタT5A−
0bを介してパッド3B−0上の電源電圧VCCが内部
電源ノードN5A−0に伝達される。内部接地電圧発生
回路5B−0においては、バイポーラトランジスタT5
B−0aがオン状態となり、バイポーラトランジスタT
5B−0bがオフ状態となる。したがって、内部接地ノ
ードN5B−0は、バイポーラトランジスタT5B−0
aを介してパッド3A−0に電気的に結合され、この内
部接地ノードN5B−0の電圧レベルは、パッド3A−
0上の接地電圧VSSレベルとなる。
【0076】したがってこの図8に示す構成において
も、その半導体装置の挿入方向にかかわらず、常にチッ
プ内部回路6に対しては内部電源ノードN5A−0を介
して内部電源電圧intVCCが印加され、かつ内部接
地ノードN5B−0を介して内部接地電圧intVSS
が印加され、チップ内部回路6は、正常な態様で内部電
源電圧intVCCおよび接地電圧intVSSを受け
ることができる。
【0077】[実施の形態4]図9は、この発明の実施
の形態4に従う内部入力電圧発生/外部出力電圧発生回
路5の構成を示す図である。図9においても、内部電源
電圧intVCCおよび内部接地電圧intVSSを発
生する回路の構成を示す。
【0078】図9において、内部電源電圧(intVC
C)発生回路5A−0は、パッド3B−0上の電圧が接
地電圧VSSのとき導通しパッド3A−0を内部電源ノ
ードN5A−0に電気的に結合するPチャネルMOSト
ランジスタM5A−0aと、パッド3A−0上の電圧が
接地電圧VSSのとき導通しパッド3B−0を内部電源
ノードN5A−0に電気的に結合するPチャネルMOS
トランジスタM5A−0bを含む。
【0079】内部接地電圧(intVSS)発生回路5
B−0は、パッド3B−0上の電圧が電源電圧VCCレ
ベルのとき導通し、パッド3A−0を内部接地ノードN
5B−0に電気的に結合するNチャネルMOSトランジ
スタM5B−0aと、パッド3A−0上の電圧が電源電
圧VCCレベルのとき導通し、パッド3B−0を内部接
地ノードN5A−0に電気的に結合するNチャネルMO
SトランジスタM5B−0bを含む。
【0080】この図9に示す構成において、パッド3A
−0に電源電圧VCCが与えられ、パッド3B−0に接
地電圧VSSが与えられるとき、PチャネルMOSトラ
ンジスタM5A−0aおよびNチャネルMOSトランジ
スタM5B−0bがオン状態となり、PチャネルMOS
トランジスタM5A−0bおよびNチャネルMOSトラ
ンジスタM5B−0aがオフ状態となる。したがって内
部電源ノードN5A−0には、パッド3A−0上の電源
電圧VCCが伝達され、内部接地ノードN5B−0に
は、パッド3B−0上の接地電圧VSSが与えられる。
【0081】パッド3A−0に接地電圧VSSが与えら
れ、パッド3B−0に電源電圧VCCが与えられると
き、PチャネルMOSトランジスタM5A−0bおよび
NチャネルMOSトランジスタM5B−0aがオン状
態、PチャネルMOSトランジスタM5A−0aおよび
NチャネルMOSトランジスタM5B−0bがオフ状態
となる。したがって、内部電源ノードN5A−0には、
パッド3B−0上の電源電圧VCCが与えられ、内部接
地ノードN5B−0には、パッド3A−0上の接地電圧
VSSが与えられる。したがってこの図9に示す構成に
おいても、チップ内部回路6へは、この半導体装置の回
路基板への挿入方向にかかわらず、正常な態様で電源電
圧intVCCおよび接地電圧intVSSが供給され
る。
【0082】この図9に示す構成の場合においても、先
の実施の形態1から3と同様の効果を得ることができ
る。また、チップ内部回路6が、CMOS構成の場合、
製造工程を付加することなく、内部入力電圧発生/外部
出力電圧発生回路5を形成することができる。
【0083】[実施の形態5]図10は、この発明の実
施の形態5に従う半導体装置のピン配置を概略的に示す
図である。図10において、この半導体装置1は、メモ
リ装置であり、長辺の一方側にアドレスビットAdを受
けるアドレス入力ピン端子2A−j〜2A−kと、この
長辺の他方側にアドレス入力ピン端子2A−j〜2A−
kと回転対称な位置に配置されてアドレスビットAdを
受けるアドレス入力ピン端子2B−j〜2B−kとを有
する。また、電源電圧または接地電圧を受ける端子2A
−0および2B−0がそれぞれ長辺の回転対称な位置に
配置される。
【0084】この図10に示すようなピン配置を有する
半導体装置において、挿入可能な第1および第2の方向
のうちのいずれの方向で回路基板にこの半導体装置1を
挿入しても常に、アドレス入力ピン端子2A−j〜2A
−kおよび2B−j〜2B−kには、アドレス信号ビッ
トが与えられる。20ビットのアドレスAd0〜Ad1
9を例として、10ビットのアドレスA0−A9が、第
1の方向での挿入時において、アドレスピン端子2A−
a〜2A−kに与えられ、残りのアドレスビットA10
−A19が、アドレスピン端子2B−j〜2B−kに与
えられる場合を考える。この場合、アドレスA0−A1
9に従ってチップ内部回路内においてメモリセルが選択
される。
【0085】一方、この半導体装置を回路基板に逆の第
2の方向に実装した場合、アドレスピン端子2A−j〜
2A−kに、アドレスビットA10−A19が与えら
れ、一方、アドレスピン端子2B−j〜2B−kにアド
レスビットA0−A9が与えられる。したがってこの状
態においては、アドレスA10−A19,A0−A9に
より、内部でメモリセル選択動作が行なわれる。外部か
ら見た場合、与えられたアドレス信号に従って内部でメ
モリセル選択動作が行なわれており、この半導体装置1
は正常に動作している。挿入方向により選択メモリセル
の物理的位置が異なるだけである。
【0086】図11は、この発明の実施の形態5に従う
半導体装置の内部入力電圧発生/外部出力電圧発生回路
の構成を概略的に示す図である。図11において、パッ
ド3A−0および3B−0に対しては内部電源電圧発生
回路5A−0および内部接地電圧発生回路5B−0が設
けられる。これらの内部電源電圧発生回路5A−0から
の内部電源電圧intVCCおよび内部接地電圧発生回
路5B−0からの内部接地電圧intVSSが、チップ
内部回路6へ与えられる。
【0087】アドレスビットAdを受けるパッド3−i
が、バッファ回路4−iを介して、チップ内部回路6に
含まれるアドレスラッチ回路6aに結合される。このバ
ッファ回路4−iと次段のアドレスラッチ回路6aの間
には、選択回路は設けられない。パッド3−iは、パッ
ド3A−iおよび3B−iのいずれであってもよく、ア
ドレスビットを受けるアドレス入力パッドであればよ
く、図10に示すアドレス入力ピン端子2A−j〜2A
−kおよび2B−j〜2B−kのいずれかに対応して配
置されるパッドである。
【0088】パッド3−iへは、逆向きにこの半導体装
置1を回路基板に実装した場合においてもアドレスビッ
トが与えられる。したがって、バッファ回路4iの出力
信号をアドレスラッチ回路6aに与えても、このチップ
内部回路6においては、与えられたアドレス信号に従っ
てメモリセル選択動作が行なわれる。バッファ回路4−
iからアドレスラッチ回路6aの間に、正しいアドレス
信号ビットを選択するためのトランスミッションゲート
を設ける必要がなく、このトランスミッションゲートま
たはトランスファーゲートにおける信号伝搬遅延をなく
すことができ、高速でアドレス信号をチップ内部回路6
のアドレスラッチ回路6aへ伝達することができ、高速
動作する半導体装置を実現することができる。
【0089】なお、内部電源電圧発生回路5A−0およ
び内部接地電圧発生回路5B−0の構成としては、先の
実施の形態1から4のいずれの構成が用いられてもよ
い。
【0090】[変更例1]図12は、この発明の実施の
形態5の変更例1の構成を概略的に示す図である。図1
2において、この半導体装置1は、半導体記憶装置であ
り、データDQを入出力するピン端子を有する。すなわ
ち、この半導体装置1は、長辺の一方側に、データDQ
を入出力するためのDQピン端子2A−a〜2A−b
と、第1の方向での挿入時、電源電圧VCCを受けるた
めの電源ピン端子2A−cと、DQピン端子2A−d〜
2A−eを有する。この半導体装置1の長辺の一方側に
は、またピン端子2A−0が設けられ、第1の方向での
挿入時、また、電源電圧VCCがこのピン端子2A−0
に与えられる。
【0091】この半導体装置1は、また長辺の他方側
に、データを入出力するためのDQピン端子2B−a〜
2B−bと、第1の方向での挿入時接地電圧VSSを受
けるための接地端子2B−cと、DQピン端子2B−d
〜2B−eと、第1の方向での挿入時接地電圧VSSを
受けるピン端子2B−0を有する。DQ端子2A−a〜
2A−bとDQピン端子2B−a〜2B−bは、回転対
称な位置に配置され、またDQピン端子2A−d〜2A
−eは、DQピン端子2B−d〜2B−eと回転対称な
位置に配置される。またピン端子2A−cおよび2B−
cは、互いに対向して配置され、回転対称な位置に配置
される。
【0092】ピン端子2A−0、2A−c、2B−0お
よび2B−cに対しては、図11に示すような、選択回
路が設けられる。しかしながら、DQピン端子2A−a
〜2A−bおよび2A−d〜2A−e、2B−a〜2B
−bおよび2B−d〜2B−eに対しては、先の図11
に示す構成と同様、この半導体装置1の挿入方向に応じ
て接続を切換えるための選択回路は、設けられない。デ
ータDQは、半導体装置1の内部においてビット位置が
異なるものの、メモリセルがデータビットを格納してお
り、外部装置においては、いずれの方向で半導体装置1
が挿入されても、同様のデータビット位置順序のデータ
を授受することができる。すなわち、データ書込時にお
いては半導体装置1においてピン端子の位置に応じて内
部でデータビット位置が変更されてメモリセルに格納さ
れ、またデータ読出時再びこのビット位置が変更された
データが、ピン端子において元の正常位置に変更されて
外部装置に伝達される。したがって、外部装置が何らこ
の半導体装置1の挿入方向の影響を受けることなく正確
にデータビットを授受することができる。
【0093】なおこの変更例において、DQピン端子が
回転対称な位置に配置されている。しかしながら、この
半導体装置1は、入力データDおよび出力データQが別
々のピン端子を介して入出力するDQ分離構成であって
もよい。この場合には、出力データQを出力するための
ピン端子が回転対称の位置に配置され、また入力データ
Dを受けるピン端子が回転対称な位置に配置される。た
だし、入力データDの半導体装置内部でのビット位置の
変更順序と、出力データQの出力時のビット位置変更態
様は同じである必要がある。
【0094】[変更例2]図13は、この発明の実施の
形態5の変更例2の構成を概略的に示す図である。図1
3において、半導体装置1は、ツーポートメモリであ
り、長辺の一方側にピン端子2A−f〜2A−mを有
し、他方側の長辺に沿ってピン端子2B−f〜2B−m
を有する。これらのピン端子2A−f〜2A−mとピン
端子2B−f〜2B−mはそれぞれ回転対称の位置に配
置される。ピン端子2A−f〜2A−mは、ポートAお
よびBの一方に配置された外部装置とデータの送受を行
ない、またピン端子2B−f〜2B−mが、ポートAお
よびBの他方側に配置された外部装置とデータの授受を
行なう。これらのピン端子2A−f〜2A−mの組およ
び2B−f〜2B−mの組は、それぞれアドレス信号、
データビット、および制御信号のピン端子を含む。
【0095】1つのポートに対するピン端子を他方のポ
ートに対するピン端子と回転対称の位置に配置する。し
たがって、この場合、ポートAおよびBが入換えられて
も、内部では単に接続されたピン端子の配置に従ってメ
モリセルへのアクセス動作が行なわれる。外部装置は、
この半導体装置1のポートAおよびBのいずれを通して
アクセスしているかを何ら考慮することなく、半導体装
置1へアクセスする。したがって、このような場合にお
いても、ピン端子2A−f〜2A−mおよび2B−f〜
2B−mに対しては、この半導体装置1の挿入方向に応
じて信号/電圧伝搬経路を変更する必要がなく、選択回
路は設けられない。単にピン端子2A−0および2B−
0に対する電源電圧VCCおよび接地電圧VSSに対す
る切換回路が設けられるだけである。データ/信号の送
受を、選択回路を介することなく行なうことができ、高
速のアクセスが実現される。
【0096】また、上述のような半導体装置1は、半導
体メモリに限定されず一般の半導体集積回路装置におい
て、ピン端子位置が交代され、別の信号が入出力される
場合でも内部動作が変更されない場合には、そのような
特定のピン端子に対しては、何ら選択回路を設ける必要
はない。
【0097】以上のように、この発明の実施の形態5に
従えば、ピン端子と信号との接続関係が異なる場合でも
内部動作が正常に行なわれる場合、対応のピン端子に対
しては選択回路を設けないため、この選択回路における
信号伝搬遅延を排除することができ、高速動作を実現す
ることができ、またこの選択回路の占有面積を低減する
ことができ、応じてチップ面積を低減することができ
る。
【0098】[実施の形態6]図14は、この発明の実
施の形態6に従う半導体装置のピン配置を概略的に示す
図である。この図14に示す半導体装置1は、フラット
パッケージ(FP)に実装される。したがって、この半
導体装置1の4辺A、B、CおよびDそれぞれにピン端
子が配置される。この半導体装置1の辺Aには、ピン端
子20A−0〜20A−nが配置され、辺Bに沿っては
ピン端子20B−0〜20B−nが配置され、辺Cに沿
ってはピン端子20C−0〜20C−nが配置される。
辺Dに沿っては、ピン端子20D−0〜20D−nが配
置される。
【0099】半導体装置1においては、このフラットパ
ッケージにおいて正方形の形状の場合、ICソケットな
どにおいて、ピン端子のピッチはすべて等しいため、9
0度単位で角度を異ならせて実装することが可能であ
る。したがって、この場合、4つの状態で挿入されて
も、半導体装置1の内部で正確に動作させる必要があ
る。各辺に沿って互いに相補な電源供給電圧VCCおよ
びVSSが供給されるピン端子対を配置する。すなわ
ち、辺Aに沿っては、ピン端子20A−0および20A
−00を、電源/接地ピン端子として配置する。各辺
B、CおよびDにおいて、このピン端子20A−0およ
び20A−00と90度の回転時重なるように、電源/
接地ピン端子が配置される。すなわち、辺Bにおいてピ
ン端子20B−0および20B−00が配置され、辺C
においてはピン端子20C−0および20C−00が配
置され、辺Dにおいてはピン端子20D−0および20
D−00が配置される。これらの対をなすピン端子は、
隣接して配置されるように示すが、これらは離れて配置
されてもよい。各辺において、半導体装置1の中心点に
対して90度の回転角で重なり合ういわゆる「C4対称
性」を有する位置に、電源/接地ピン端子が配置されれ
ばよい。
【0100】ピン端子20A−1〜20A−n、20B
−1〜20B−n、20C−1〜20C−n、および2
0D−1〜20D−nには、それぞれ信号または電圧が
与えられる。この図14に示す半導体装置1の構成にお
いては、回転角90度単位で、各ピン端子に与えられる
信号/電圧が異なる。したがって、4つの状態に対応す
るために選択回路においては、4状態に対応する切換ス
イッチが設けられる。この4つの状態を識別するため
に、挿入可能な4つの方向のうちの1つの方向(第1の
状態と称す)での挿入時1ピン端子20A−0および2
0A−00に与えられる電圧の配置は、他のピン端子対
20B−0および20B−00、20C−0,20C−
00、および20D−0,20D−00と反対にされ
る。すなわち、第1の状態においてピン端子20A−0
および20A−00に電源電圧VCCおよび接地電圧V
SSが印加されるとき、残りのピン端子20B−0、2
0C−0および20B−0には、接地電圧VSSが印加
され、ピン端子20B−00、20C−00、および2
0D−00には、電源電圧VCCが印加される。この態
様により、回転角または挿入方向を検出する。図14に
おいては、この半導体装置1を反時計方向に回転させた
場合の電圧および信号の遷移を各ピン端子に対応させて
示す。
【0101】図15は、チップ内部回路26に対し内部
電源電圧intVCCを供給する内部電源電圧(int
VCC)発生回路25−0の構成の一例を示す図であ
る。この内部電源電圧発生回路25−0は、それぞれ電
源供給ピン端子に対応して設けられるパッド23A−
0、23A−00、23B−0、23B−00、23C
−0、23C−00、23D−0および23D−00の
電圧を受ける。内部電源電圧発生回路25−0は、パッ
ド23A−0および23A−00に対応して設けられ、
パッド23A−0の電圧が接地電圧レベルのとき導通
し、パッド23A−00の電圧を内部ノードN20−0
に伝達するスイッチング回路SWAと、パッド23B−
0および23B−00に対応して設けられ、パッド23
B−0上の電圧が接地電圧VSSレベルのとき導通し、
パッド23B−00を内部電源ノードN20−0に電気
的に結合するスイッチング回路SWBと、パッド23C
−0および23−00に対応して設けられ、パッド23
C−0上の電圧が接地電圧VSSレベルのとき導通しパ
ッド23C−00の電圧を内部電源ノードN20−0に
伝達するスイッチング回路SWCと、パッド23D−0
および23D−00に対応して設けられ、パッド23D
−0の電圧が接地電圧レベルのとき導通し、パッド23
D−00の電圧を内部電源ノードN20−0に伝達する
スイッチング回路SWDを含む。これらのスイッチング
回路SWA−SWDは、CMOSトランスミッションゲ
ートで構成される。
【0102】ピン端子20A−0および20A−00に
電源電圧VCCおよび接地電圧VSSが印加される第1
の状態での挿入時においては、パッド23A−0、23
B−00、23−C−00および23D−00に電源電
圧VCCが供給され、パッド23A−00、23B−
0、23C−0、および23D−0に接地電圧VSSが
伝達される。したがって、この場合、スイッチング回路
SWAのみが非導通状態となり、残りのスイッチング回
路SWB−SWDがすべて導通状態となり、パッド23
B−00、23C−00、23D−00に与えられた電
源電圧VCCを内部電源ノードN20−0に伝達する。
4つのスイッチング回路SWA−SWDのうち3つのス
イッチング回路SWB−SWDを導通状態とし、安定に
内部電源ノードN20−0に電源電圧VCCを供給す
る。
【0103】この半導体装置1を反時計方向に回転させ
た場合、ピン端子20A−0の位置にピン端子20D−
0が配置される。この場合、パッド23D−0が電源電
圧VCCを受け、パッド23D−00が接地電圧VSS
を受ける。パッド23A−0、23B−0、23C−0
は接地電圧のVSSを受け、またパッド23A−00、
23B−00および23C−00が、電源電圧VCCを
受ける。したがって、この場合、スイッチング回路SW
Dが非導通状態となり、残りの3つのスイッチング回路
SWA−SWCが導通状態となり、内部電源ノードN2
0−0に、電源電圧VCCが供給される。以降90度ず
つ反時計方向に回転させるごとに、スイッチング回路S
WC、スイッチング回路SWBが順次非導通状態とな
り、3つのスイッチング回路により、内部電源ノードN
20−0に、電源電圧VCCが伝達される。
【0104】したがって、この矩形チップにおいて電源
端子/接地端子を配置して1つの辺における電源/接地
端子の電圧印加態様を残りの辺の電源/接地ピン端子の
対の電圧印加態様と異ならすことにより、この半導体装
置の回転角度を検出して、正確に内部電源電圧を内部電
源ノードへ供給することができる。
【0105】図16は、内部入力電圧発生/外部出力電
圧発生回路25の内部接地電圧intVSSを発生する
内部接地電圧発生回路25−1の構成を示す図である。
図16において、内部接地電圧(intVSS)発生回
路25−1は、パッド23A−0および23A−00に
対応して設けられ、パッド23A−0上の電圧が接地電
圧VSSのとき導通し、パッド23A−0上の電圧を内
部接地ノードN20−1に伝達するスイッチング回路S
TAと、パッド23B−0および23B−0に対応して
設けられ、パッド23B−0上の電圧が接地電圧VSS
のとき導通し、パッド23B−0上の電圧を内部接地ノ
ードN20−1に伝達するスイッチング回路STBと、
パッド23C−0および23−00に対応して設けら
れ、パッド23C−0上の電圧が接地電圧VSSレベル
のとき導通し、パッド23C−0上の電圧を内部接地電
圧ノードN20−1に伝達するスイッチング回路STC
と、パッド23D−0および23D−00に対応して設
けられ、パッド23D−0上の電圧が接地電圧レベルの
とき導通し、パッド23A−0上の電圧を内部接地ノー
ドN20−1上に伝達するスイッチング回路STDを含
む。これらのスイッチング回路STA−STDは、それ
ぞれ、CMOSトランスミッションゲートで構成され、
対応のパッド対の電圧を受け、電圧損失なくパッド上の
電圧を内部接地ノードN20−1上に伝達する。
【0106】第1の状態にこの半導体装置が実装された
場合、パッドA23−0上の電圧は電源電圧VCCレベ
ルであり、パッド23A−00上の電圧は接地電圧VS
Sレベルである。残りのパッド23B−0〜23D−0
へは接地電圧VSSが与えられ、パッド23B−00〜
23D−00に、電源電圧VCCが与えられる。したが
って、この状態においては、スイッチング回路STAが
非導通状態、スイッチング回路STB−STDが導通状
態となり、これらの導通状態の3つのスイッチング回路
STB−STDを介して接地電圧VSSが内部接地ノー
ドN20−1に伝達される。
【0107】図14の配置において半導体装置を90度
反時計方向に回転させた場合、ピン端子22D−0が元
の端子22A−0の位置に配置される。したがって、パ
ッド23D−0に電源電圧VCCが供給され、パッド2
3D−00に、接地電圧VSSが供給される。残りのパ
ッド23A−0〜23C−0には接地電圧VSSが供給
され、パッド23A−00〜23C−00には、電源電
圧VCCが供給される。したがって、スイッチング回路
STDが非導通状態、スイッチング回路STA−STC
が導通状態とされ、これら3つの導通状態のスイッチン
グ回路STA−−STCを介して内部接地ノードN20
−1に接地電圧VSSが伝達される。
【0108】以降、90度ずつこの半導体装置を反時計
方向に90度ずつ回転させて回路基板に実装した場合、
スイッチング回路STCおよびSTBが順次非導通状態
となり残りの3つのスイッチング回路が導通状態とな
る。したがって、内部接地ノードN20−1には、3つ
のスイッチング回路を介して接地電圧VSSが与えられ
る。
【0109】したがって、図15および図16に示すよ
うに、スイッチング回路SWA−SWDおよびSTA−
STDを用いることにより、3つのスイッチング回路を
介して内部電源電圧intVCCおよび内部接地電圧i
ntVSSをチップ内部回路26へ常時安定に供給する
ことができる。
【0110】なお、図15に示す内部電源電圧発生回路
25−0の構成において、スイッチング回路AWA−S
WDのCMOSトランスミッションゲートのトランジス
タの極性を反転したものを内部接地電圧発生回路25−
1として用い、図16に示す内部接地電圧発生回路25
−1の構成においてスイッチング回路STA−STDの
CMOSトランスミッションゲートのトランジスタの極
性を反転したものを内部電源電圧発生回路25−0とし
て用いることもできる。この場合、内部電源電圧発生回
路25−0および内部接地電圧発生回路25−1各々に
おいて、1つのスイッチング回路のみが導通し、内部電
源電圧intVCCおよび内部接地電圧intVSS各
々を1つのパッドを介して供給する状態を実現すること
もできる。
【0111】図17は、内部信号intAiに対する選
択回路25A−iの構成を示す図である。この内部入力
電圧発生/外部出力電圧発生回路25においては、先に
図15および図16を参照して説明した内部電源電圧発
生回路25−0および内部接地電圧発生回路25−1が
含まれる。他の内部信号に対しても、この図17に示す
選択回路25A−iと同様の構成が用いられる。
【0112】図17において、選択回路25A−iは、
パッド23A−0および23A−00の電圧に応答して
選択的に導通し、導通時バッファ回路24A−iを内部
ノードN20−iに結合するスイッチング回路SCA
と、パッド23B−0および23B−00上の電圧に応
答して選択的に導通し、導通時バッファ回路24B−i
を内部ノードN20−iに結合するスイッチング回路S
CBと、パッド23C−0および23C−00上の電圧
に応答して選択的に導通し、導通時バッファ回路24C
−iを内部ノードN20−iに結合するスイッチング回
路SCCと、パッド23D−0および23D−00上の
電圧に応答して導通し、導通時バッファ回路24D−i
を内部ノードN20−iに電気的に結合するスイッチン
グ回路SCDを含む。これらのスイッチング回路SCA
−SCDは、CMOSトランスミッションゲートで構成
される。
【0113】スイッチング回路SCAは、パッド23A
−0が電源電圧VCCを受け、かつパッド23A−00
が接地電圧VSSを受けるときに導通する。スイッチン
グ回路SCBは、パッド23B−0が電源電圧VCCを
受け、パッド23B−00が接地電圧VSSを受けると
きに導通する。スイッチング回路SCCは、パッド23
C−0が電源電圧VCCを受け、パッド23C−00が
接地電圧VSSを受けるときに導通する。スイッチング
回路SCDは、パッド23D−0が電源電圧VCCを受
け、パッド23D−00が接地電圧VSSを受けるとき
に導通する。すなわち、この選択回路25A−iは、パ
ッド23A−0〜23D−0および23A−00〜23
D−00上の電圧により、この半導体装置の回転角を検
出し、その回転角度に応じて、対応のバッファ回路を選
択して、選択されたバッファ回路を内部ノードN20−
iに結合している。したがって、この半導体装置が第1
の状態に回路基板に挿入された場合には、スイッチング
回路SCAが導通し、スイッチング回路SCB−SCD
は非導通であり、、バッファ回路24A−iが内部ノー
ドN20−iに結合される。このバッファ回路24A−
iは、第1の状態においてはチップ内部回路26と内部
信号intAiを授受する。バッファ回路24A−i〜
24D−iは、入力バッファ、出力バッファまたは入出
力バッファであり、そのバッファ回路の特性に応じて信
号の伝達方向が決定される。
【0114】この半導体装置が図14に示すように反時
計方向に90度回転させて回路基板に実装された場合、
パッド23D−0が電源電圧VCCを受け、パッド23
D−0が、接地電圧VSSを受ける。したがって、この
ときバッファ回路24D−iに対応するパッド23D−
iの対応のピン端子20D−iが、信号Aiに結合され
る。したがって、このときには、スイッチング回路SC
Dが導通し、バッファ回路24D−iが内部ノードN2
0−iに結合される。以降、90度ずつ反時計方向に回
転させることにより、スイッチング回路SCCおよびS
CBが順次導通し、信号Aiに結合されるバッファ回路
24C−iおよび24B−iが順次内部ノードN20−
iに結合される。
【0115】上述のように、この半導体装置の各辺に、
1対の電源端子を設け、一辺の電源供給端子対の電圧印
加態様を他の辺の電源供給電圧端子の電圧印加態様と異
ならすことにより、半導体装置の回転角度を検出するこ
とができる。この回転角度に応じてバッファ回路を選択
することにより、チップ内部回路26は、常に、正しい
態様で外部装置と信号の授受を行なうことができる。
【0116】図18は、辺B、CおよびDに対して設け
られるピン端子に対応する内部信号intBi、int
Ci、およびintDiに対する選択回路におけるスイ
ッチング回路の導通順序を示す図である。この半導体装
置1が、反時計方向に90度ずつ回転させて回路基板に
実装される場合を考える。内部信号intBi、int
Ci、およびintDiそれぞれに対応して、図17に
示す選択回路と同様の構成を設ける。ただし、電源/接
地パッドの接続先は、辺の位置に応じて1つずつスイッ
チング回路に対してずらせる。すなわち、内部信号in
tBiに対しては、スイッチング回路STB、STA、
STDおよびSTCの順序で順次導通させる(各90度
の回転について)。また内部信号intCiについて
は、スイッチング回路STC、STB、STA、および
STDの順序で各90度の回転に対応して導通させる。
内部信号intDiについては、この半導体装置1の9
0度の反時計方向の回転に対応して、スイッチング回路
STD、STC、STB、およびSTAの順序で順次導
通させる。これにより、各内部信号intAi〜int
Diは、正確に、外部信号と対応付けられる。
【0117】以上のように、この発明の実施の形態6に
従えば、チップ4辺に沿ってピン端子が配置され、90
度ずつ回転させても回路基板に実装可能な場合において
も、この回転角に応じてパッドと内部ノードとの間の接
続を切換えるように構成しており、半導体装置の誤挿入
時においてもこの半導体装置を正常に動作させることが
できる。
【0118】内部入力電圧発生/外部出力電圧発生回路
25の内部レイアウトについては、このチップ内部回路
26の構成に応じて適当に定められる。たとえばチップ
内部回路26を取り囲むように、半導体チップ周辺に沿
って延在して配置されてもよい。これは、フラットパッ
ケージのようにピン端子が半導体装置の4辺に沿って配
置される場合、半導体チップ内においてパッドもチップ
4辺に沿って配置され、バッファ回路が各パッドに対応
して配置されるため、バッファ回路も同様、この半導体
チップ周辺に沿って延在して配置される。したがって、
選択回路も、バッファ回路に応じて、チップ周辺に延在
して内部回路を取り囲むように配置されてもよい。ただ
し、チップ4辺に配置される電源供給ピン端子(電源端
子および接地端子)からの配線は、この選択回路全体に
わたって延在して配置される必要がある。
【0119】[実施の形態7]図19は、この発明の実
施の形態7に従う半導体装置の要部の構成を概略的に示
す図である。図19においては、パッド20A−i〜2
0D−iとバッファ回路24−iの間に選択回路25−
iが設けられる。この選択回路25−iは、VCCパッ
ドおよびVSSパッドからの電圧を受け、この半導体装
置の向きを検出し、このパッド20A−i〜20D−i
の1つをバッファ回路24−iに結合する。VCCパッ
ドおよびVSSパッドは、先の実施の形態6におけるパ
ッド23A−0,23A−00〜23D−0,23D−
00に対応する。
【0120】この図19に示す構成の場合、各回転対称
な位置に、入力ピン端子、出力ピン端子および入出力ピ
ン端子の3種類のピン端子のうち同種類のピン端子を配
置する必要がなくなる。すなわち、選択回路25−iに
より、正しいパッドが選択されてバッファ回路24−i
に結合される。すなわち、パッド20A−i〜20D−
iに対応するバッファ回路24−iを含む4つのバッフ
ァ回路が、それぞれ入力バッファ回路、出力バッファ回
路および入出力バッファ回路のいずれであっても、パッ
ド20A−i〜20D−iのうちバッファ回路24−i
に対応する信号を入出力(または入力のみまたは出力の
み)するパッドが、選択回路25−iにより選択されて
バッファ回路24−iに結合される。したがって、ピン
端子の配置の自由度がより改善される。
【0121】この図19に示す構成は、半導体装置のパ
ッケージ2辺に沿ってピン端子が配置される構成にも適
用可能である。したがって、先の実施の形態1から6の
構成に対し、発明の実施の形態7はすべて適用すること
ができる。また、このチップ内部回路の構成に応じてバ
ッファ回路を配置することができ、レイアウトが簡略化
される。
【0122】以上のように、この発明の実施の形態7に
従えば、パッドとバッファ回路の間に、この半導体装置
の挿入の動きに応じて接続経路を切換える選択回路(ス
イッチ回路)を配置したため、回路には、常に正しいパ
ッドが結合されるため、回転対称な位置に同一特性(入
出力ピン同士、出力ピン同士または入出力ピン同士)を
配置する必要がなく、チップ内部回路の構成に応じてバ
ッファ回路を配置するだけでよく、バッファ回路のレイ
アウトが容易化される。
【0123】[実施の形態8]図20は、この発明の実
施の形態8に従う半導体装置のピン配置を概略的に示す
図である。図20において、半導体装置30は、長辺の
一方側に、電源供給端子32A−0と信号入出力端子3
2A−1〜32A−nを有し、他方の長辺に、電源供給
端子32B−0、および信号ピン端子32B−1〜32
B−nを有する。この電源供給ピン端子32A−0およ
び32B−0は、この半導体装置30の長辺方向に沿っ
た軸に関して線対称に配置される。この半導体装置30
は、裏表の区別のない半導体装置である。ただし、上下
の方向すなわち、端子32A−0および32B−0が存
在する側が、端子32A−nおよび32B−nの存在す
る側に対し、上下いずれの側にくるかは区別できる。た
とえば、TSOPパッケージにおいては、このピン端子
を、順方向および逆方向それぞれに曲げることにより、
正ベント品および逆ベント品と呼ばれる半導体装置が形
成される。正ベント品および逆ベント品は、回路基板実
装時回路基板表面および裏面に実装される。電源供給ピ
ン端子32A−0および32B−0の電圧を検出し、こ
の半導体装置の回路実装方向を検出して、パッドをチッ
プ内部回路に結合する。この選択回路の配置位置は、実
施の形態1から6のように、バッファ回路とチップ内部
回路の間であってもよく、また実施の形態7におけるよ
うに、パッドとバッファ回路の間であってもよい。
【0124】電源供給ピン端子32A−0および32B
−0における電圧により実装方向を検出する。この構成
は、先の実施の形態1から6において説明した選択回路
の構成をそのまま利用することができる。回転対称位置
のピン端子に代えて、線対称の位置にあるピン端子の対
が1つの選択回路に結合される。この図20に示すよう
なピン配置を有する場合、たとえば回路基板実装時、回
路基板の一方側および他方側表面に実装しても、同一機
能を有する半導体装置を実現することができ、回路基板
上の配線レイアウトが簡略化される。
【0125】また、TSOPパッケージのように、正ベ
ント品および逆ベント品を別々に作り分ける必要もな
く、容易に正ベント品を逆ベント品として動作させるこ
とも可能となる。
【0126】なお、図20に示す構成においては、半導
体装置の両側に、ピン端子が配置されている。しかしな
がら、半導体装置の4辺に沿ってピン端子が配置される
場合においても同様の効果を得ることができる。4辺に
ピン端子が配置される場合、たとえばQFPパッケージ
の場合、正方形であるが、ある対向する2辺のうちいず
れの辺がどちら側に配置されているかが決まっていれ
ば、上述のような半導体装置の両側の2辺に沿ってピン
端子が配置される場合と同様に、線対称な位置にある2
つの電源供給ピン端子に供給される電圧により半導体装
置の裏表の向きを判定し、上述のような正ベント品およ
び逆ベント品として利用することができる。
【0127】また、回路基板の同一面に正ベント品また
は逆ベント品を交互に配置すれば、同一信号/電圧を対
向ピン端子に供給することができ配線レイアウトが簡略
化される。
【0128】以上のように、この発明の実施の形態8に
従えば、電源供給ピンを、線対称の位置に配置し、これ
らの電源供給端子の電圧に応じて、内部で選択回路を用
いて選択動作を行ない、またこの電源供給端子の電圧に
より線対称のピン端子対の一方を選択しており、裏表の
ない半導体装置を実現することができる。
【0129】[実施の形態9]図21(A)は、この発
明の実施の形態9に従う半導体装置のピン配置を概略的
に示す図である。この図21(A)に示す半導体装置に
おいては、パッケージ長辺方向に沿ってピン端子が配置
される。図21(A)において、電源供給端子を示す。
この半導体装置は、上下および裏表の区別が存在しな
い。したがっていずれの方向においても挿入することが
できる。すなわち、半導体装置の長辺方向に沿った軸を
回転軸として180°回転させた場合すなわち裏返した
場合、この平面において180°回転させた場合、18
0°回転させ(上下反転)かつ裏表を反対にした場合
(鏡映反転)である。したがって、回路基板への挿入状
態としては、4つの状態が存在する。これらの4つの状
態を区別するためには、すべての状態において同一位置
に存在するピン端子を電源供給ピン端子として利用する
必要があり、これらの4つの状態を識別するために、8
個の電源供給ピン端子を利用する。対をなす電源供給ピ
ン端子における印加電圧に従ってこの半導体装置の回路
基板への挿入方向を検出する。この場合、この図21
(A)に示すように、1対の電源供給端子における電圧
印加態様が、残りの3対の電源供給ピン端子と異なるよ
うに、電源供給ピン端子の供給電圧を決定する。図21
(A)においては、第1の状態に対し、この半導体装置
を裏返した状態の印加電圧、次いで上下反対に挿入した
状態(180°この平面内で回転させた状態)、および
上下および裏表すべてを逆にした状態の印加電圧を示
す。
【0130】図21(A)においては、このチップ長辺
方向の右側の上部の2つのピン端子の供給電圧が、残り
の3つのピン端子の電源供給端子の印加電圧と異なって
おり、この組合せの印加電圧がいずれの位置に存在する
かにより、半導体装置の挿入方向を検出する。
【0131】図21(B)は、この発明の実施の形態9
の変更例の構成を示す図である。この図21(B)に示
す半導体装置は矩形形状を有し、4辺に沿ってピン端子
が配置される。この場合、平面内における回転により4
状態が存在し、また裏表を反対にした状態での各状態が
存在し、合計8つの状態、すなわち8方向で挿入するこ
とができる。したがってこれらの8つの方向(状態)を
検出するために、各辺に沿って2対の電源供給端子を配
置し、8個の状態を検出する。図21(B)において
は、反時計回りに90°ずつ反転させたときの各ピン端
子の印加電圧および裏表逆にして次いで90°ずつ回転
させた場合の電源供給端子に対する印加電圧を示す。こ
の場合においても、1対の電源供給端子の印加電圧を残
りの7対の電源供給端子の印加電圧と第1の状態におい
て異ならせる。図21(B)においては、この図の左辺
の上部の電源供給ピン端子の印加電圧が、残りの7対の
電源供給端子の印加電圧と異なる。この位置におけるピ
ン端子の印加電圧を検出することにより、回転方向およ
び裏および表を検出する。
【0132】いずれの方向で挿入しても、その挿入方向
を検出して、半導体装置を正常に動作させることができ
る。ここで、印加電圧が電源電圧VCCであるか接地電
圧VSSであるかにより、半導体装置の挿入方向を特定
することができ、したがって、この方向検出のために用
いる電源供給ピン端子の数は、半導体装置が取り得る方
向(状態)と同じ数が少なくとも必要である。たとえ
ば、1つの電源供給ピン端子に、第1の方向のとき電源
電圧VCCが供給され、それ以外の状態では、接地電圧
VSSが供給される場合には、この電源供給ピン端子に
対する選択回路として、NチャネルMOSトランジスタ
のみを用い、この対応の電源供給ピン端子からの印加電
圧をNチャネルMOSトランジスタのゲートに与えれ
ば、電源電圧VCCを受ける電源供給ピン端子に対応す
るNチャネルMOSトランジスタのみが導通状態とな
り、方向検出および選択を行なうことができる。
【0133】電源供給ピン端子と第1の方向のときのみ
接地電圧VSSが与えられ、かつそれ以外の方向のとき
には電源電圧VCCとなる電源供給ピン端子の2つが必
要であり、したがって3方向以上の方向で半導体装置を
挿入することができる場合には、この倍の数の電源供給
ピン端子が少なくとも必要となる。半導体装置の挿入可
能な方向が2つの方向の場合には、実施の形態1のよう
に、2つの電源供給ピン端子が少なくともあれば、実現
することができる。
【0134】[他の適用例]本発明は、半導体装置パッ
ケージを二次元平面または三次元空間で回転させても回
路基板に実装することのできるあらゆる半導体集積回路
装置に対して適用することができる。
【0135】また、電源および接地ピン端子は、その数
は任意であり、単に二次元的または三次元的に線対称の
位置または回転対称の位置に配置されていればよい。ま
た、パッケージとして、他のCSP(チップサイズパッ
ケージ)パッケージの半導体装置にも適用することがで
きる。また、半導体集積回路装置は、モジュールであっ
てもよい。この場合、ピン端子とチップ内部配線との間
に内部入力電圧発生/外部出力電圧発生回路が配置され
る。
【0136】また、半導体装置の形状は任意であり、平
面図的に見てある角度での回転対称性または線対称性を
有する半導体装置であれば本発明は適用可能である。ま
た、選択回路の位置は、電圧/信号が外部印加されてか
ら内部で使用されるまでの間または、信号/電圧が確定
されてから外部出力までの間のいずれの位置に設けられ
てもよい。たとえば、入力データについてはライトデー
タバス上にあってもよく、また出力データについてはリ
ードデータバス上にあってもよい。
【0137】
【発明の効果】以上のように、この発明に従えば、半導
体装置の回路実装への方向を電源供給パッドの電圧によ
り特定し、正確な信号/電圧をその特定された方向に応
じて選択して内部回路へ与えるように構成しており、回
路実装時の方向にかかわらず正常に動作する半導体装置
を得ることができ、製品歩留りおよび回路実装基板への
実装の手間を簡略化することができ、また回路基板上で
の配線レイアウトを簡略化することができる。
【0138】すなわち、請求項1に係る発明に従えば、
複数の端子の電圧に従ってこれらの複数の端子の電圧か
ら結合する内部ノードへ伝達すべき電圧を選択して内部
ノードへ伝達しており、この半導体装置の回路基板実装
時の方向にかかわらず、内部回路には正常な電圧を印加
することができ、過電流が流れて発熱が生じ、この半導
体装置が故障するのを防止することができる。
【0139】請求項2に係る発明に従えば、複数の端子
に含まれる第1および第2の端子の各々に対応して設け
られ、これら第1および第2の端子の電圧にそれぞれ応
答して第1および第2の端子の一方の内部ノードへ結合
しており、容易に、これらの第1および第2の端子の電
圧に応じて正確な電圧を内部ノードへ伝達することがで
きる。
【0140】請求項3に係る発明に従えば、複数の端子
に含まれる第1および第2の端子の対それぞれに対応し
て設けられ、対応の対の第1および第2の端子の電圧に
従って選択的に導通して、導通時対応の対の予め定めら
れた一方の端子を内部ノードへ電気的に結合するように
構成しており、同様、この半導体装置は複数の端子対が
存在する場合においても正確に、半導体装置の回路実装
方向に応じて必要とされる電圧を内部ノードへ供給する
ことができ、この半導体装置が誤実装時故障するのを防
止することができる。
【0141】請求項4に係る発明に従えば、第1および
第2の端子の電圧に従って第1および第2の信号端子に
この半導体装置の回路実装方向に応じて正確に信号を内
部回路へ供給することができ、誤実装時においても半導
体装置を正常に動作させることができる。
【0142】請求項5に係る発明に従えば、この半導体
装置の回転対称および線対称の少なくとも一方の位置に
おける複数の信号端子を配置しており、これらの複数の
信号端子に対しては、選択回路を設けておらず、これら
の複数の端子に関連する信号を高速で、高速動作する半
導体装置を得ることができる。また、選択回路が不要と
なり、信号経路切換のための回路の占有面積を低減する
ことができる。
【0143】請求項6に係る発明に従えば、選択回路を
バッファ回路とパッドの間に接続しており、これらの対
応のパッドの信号を、すべて同一種類とする必要がな
く、ピン端子の配置の自由度が大きくなり、またバッフ
ァ回路を内部回路の構成に応じて適当に配置することが
でき、レイアウト効率が改善される。
【0144】請求項7に係る発明に従えば、複数の端子
が線/回転対称に配置されており、容易に実装方向を検
出することができる。
【0145】請求項8に係る発明に従えば、複数対が線
/回転対称に配置されており、容易に実装方向を検出す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1に従う半導体装置の
要部の構成を概略的に示す図である。
【図2】 図1に示す内部入力電圧発生/外部出力電圧
発生回路に含まれる内部電源電圧発生回路の構成を概略
的に示す図である。
【図3】 図1に示す内部入力電圧発生/外部出力電圧
発生回路に含まれる内部接地電圧発生回路の構成を示す
図である。
【図4】 図1に示す内部入力電圧発生/外部出力電圧
発生回路に含まれる信号選択回路の構成を示す図であ
る。
【図5】 この発明の実施の形態2に従う内部電圧発生
回路の構成を示す図である。
【図6】 この発明の実施の形態2の変更例の内部電源
電圧発生回路の構成を示す図である。
【図7】 この発明の実施の形態2の変更例の内部接地
電圧発生回路の構成を示す図である。
【図8】 この発明の実施の形態3に従う内部電圧発生
回路の構成を示す図である。
【図9】 この発明の実施の形態4の内部電圧発生回路
の構成を概略的に示す図である。
【図10】 この発明の実施の形態5に従う半導体装置
のピン配置を概略的に示す図である。
【図11】 この発明の実施の形態5に従う半導体装置
の要部の構成を概略的に示す図である。
【図12】 この発明の実施の形態5の変更例を概略的
に示す図である。
【図13】 この発明の実施の形態5の変更例2の構成
を概略的に示す図である。
【図14】 この発明の実施の形態6に従う半導体装置
のピン配置を概略的に示す図である。
【図15】 図14に示す半導体装置の内部電源電圧発
生回路の構成を概略的に示す図である。
【図16】 図14に示す半導体装置の内部接地電圧発
生回路の構成を概略的に示す図である。
【図17】 図14に示す半導体装置の信号選択回路の
構成を概略的に示す図である。
【図18】 図14に示す半導体装置の各信号端子の内
部接続のための選択態様を概略的に示す図である。
【図19】 この発明の実施の形態7に従う半導体装置
の要部の構成を概略的に示す図である。
【図20】 この発明の実施の形態8に従う半導体装置
の構成を概略的に示す図である。
【図21】 (A),(B)はこの発明の実施の形態9
に従う半導体装置の構成を概略的に説明する図である。
【図22】 従来の半導体装置の構成を概略的に示す図
である。
【図23】 従来の半導体装置のパッケージの形状を概
略的に示す図である。
【図24】 従来の半導体装置の問題点を説明するため
の図である。
【符号の説明】
1 半導体装置、2A−0〜2A−n,2B−0〜2B
−n ピン端子、3A−0〜3A−n,3B−0〜3B
−n パッド、4A−1〜4A−n,4B−0〜AB−
n バッファ回路、5 内部入力電圧発生/外部出力電
圧発生回路、6チップ内部回路、5A−0 内部電源電
圧発生回路、5B−0 内部接地電圧発生回路、5A−
i,5B−i 選択回路、4A−i,4B−i バッフ
ァ回路、D5A−0a,D5A−0b,D5B−0a,
D5B−0b ダイオード素子、T5A−0a,T5A
−0b,T5B−0a,T5B−0b スイッチング素
子(バイポーラトランジスタ)、M5A−0a,M5A
−0b,M5B−0a,M5B−0b MOSトランジ
スタ、2A−j〜2A−k,2B−j〜2B−kピン端
子、3i パッド 2B−a〜2B−b データ入出力
ピン端子、20A−0〜20A−n,20B−0〜20
B−n,20C−0〜20C−n,20D−0〜20D
−n ピン端子、23D−00 パッド、SWA−SW
D スイッチ回路、25−0 内部電源電圧発生回路、
25 内部入力電圧発生/外部出力電圧発生回路、25
−1 内部接地電圧発生回路、STA−STD 選択回
路、 SCA−SCD スイッチ回路、25−i 選択
回路、24−i バッファ回路、20A−i〜20D−
i パッド、30 半導体装置、32A−0〜32A−
n,32B−0〜32B−n ピン端子。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の端子、内部ノード上の電圧を一方
    動作電源電圧として受ける内部回路、および前記複数の
    端子に結合され、前記複数の端子の電圧に従って、前記
    複数の端子の電圧から前記内部ノードへ伝達すべき電圧
    を選択して前記内部ノードへ伝達するための選択回路を
    備える、半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記複数の端子は、第1および第2の端
    子を含み、 前記選択回路は、前記第1および第2の端子各々に対応
    して設けられ、前記第1および第2の端子の電圧に各々
    が応答して前記第1および第2の端子の一方を前記内部
    ノードへ結合する1対のスイッチング素子を含む、請求
    項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記複数の端子は、複数の第1および第
    2の端子の対を含み、 前記選択回路は、前記第1および第2の端子の対各々に
    対応して設けられ、対応の対の第1および第2の端子の
    電圧に応答して選択的に導通し、導通時対応の第1およ
    び第2の端子対の予め定められた一方の端子を前記内部
    ノードへ電気的に結合するための複数のスイッチング素
    子を含む、請求項1記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 複数の信号端子、 前記複数の信号端子に対応して設けられ、かつ前記複数
    の端子に結合され、前記複数の端子上の電圧に応答して
    前記複数の信号端子の1つを前記内部ノードと異なる第
    2の内部ノードに電気的結合する手段をさらに備え、前
    記第2の内部ノードは、前記内部回路に結合される、請
    求項1記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記半導体装置は所定形状の外形を有
    し、かつ前記外形の回転または線対称な位置に配置さ
    れ、同一種類の信号を受ける複数の信号端子をさらに備
    え、前記複数の信号端子は各々前記複数の端子の電圧レ
    ベルにかかわらず、前記内部回路の対応のノードに結合
    される、請求項1記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記内部回路は、前記第2の内部ノード
    に結合され、与えられた信号をバッファ処理するバッフ
    ァ回路を含む、請求項4記載の半導体装置。
  7. 【請求項7】 前記複数の端子は、回転または線対称の
    位置に配置される、請求項1記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】 前記複数対は線対称または回転対称の位
    置に配置され、1対の端子の電圧印加態様が他の対のそ
    れと異なる、請求項3記載の半導体装置。
JP36468899A 1999-12-22 1999-12-22 半導体装置 Withdrawn JP2001185680A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36468899A JP2001185680A (ja) 1999-12-22 1999-12-22 半導体装置
US09/598,466 US6417718B1 (en) 1999-12-22 2000-06-22 Semiconductor device without limitation on insert orientation on board
TW089117359A TW483149B (en) 1999-12-22 2000-08-28 Semiconductor device
KR10-2000-0055956A KR100418230B1 (ko) 1999-12-22 2000-09-23 반도체 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36468899A JP2001185680A (ja) 1999-12-22 1999-12-22 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001185680A true JP2001185680A (ja) 2001-07-06

Family

ID=18482429

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP36468899A Withdrawn JP2001185680A (ja) 1999-12-22 1999-12-22 半導体装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6417718B1 (ja)
JP (1) JP2001185680A (ja)
KR (1) KR100418230B1 (ja)
TW (1) TW483149B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007000916A1 (ja) * 2005-06-29 2007-01-04 Rohm Co., Ltd. 半導体集積回路装置
JP2019519860A (ja) * 2016-06-28 2019-07-11 インターデジタル シーイー パテント ホールディングス リバーシブルインターフェース用スイッチ

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3623762B2 (ja) * 2001-08-20 2005-02-23 エルピーダメモリ株式会社 半導体装置
KR100454123B1 (ko) * 2001-12-06 2004-10-26 삼성전자주식회사 반도체 집적 회로 장치 및 그것을 구비한 모듈
JP4313544B2 (ja) * 2002-05-15 2009-08-12 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路
KR100689812B1 (ko) * 2004-05-20 2007-03-08 삼성전자주식회사 반도체 장치, 이 장치의 미러 모드 설정 방법, 및 이장치를 이용한 모듈
KR100795027B1 (ko) * 2007-03-12 2008-01-16 주식회사 하이닉스반도체 반도체 집적 회로 및 이를 포함하는 반도체 패키지 모듈
JP2010251319A (ja) 2009-04-15 2010-11-04 Chou Hsien Tsai 双方向電気的連接が可能なソケット構造
US9668356B2 (en) * 2013-10-01 2017-05-30 Sierra Wireless, Inc. Method and apparatus for electrical keying of an integrated circuit package having rotationally symmetric footprint
KR20220059983A (ko) 2020-11-02 2022-05-11 삼성전자주식회사 메모리 패키지, 메모리 패키지를 포함하는 스토리지 장치, 그리고 스토리지 장치의 동작 방법

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6073257A (ja) 1983-09-30 1985-04-25 株式会社東芝 冷凍サイクル
JPH01120045A (ja) 1987-11-02 1989-05-12 Hitachi Ltd 半導体集積回路
US4945267A (en) * 1989-01-10 1990-07-31 Actel Corporation Integrated circuit bus switching circuit
JPH0729386A (ja) * 1993-07-13 1995-01-31 Hitachi Ltd フラッシュメモリ及びマイクロコンピュータ
US5661420A (en) * 1995-03-08 1997-08-26 Etymotic Research, Inc. Mounting configuration for monolithic integrated circuit
JPH10303366A (ja) 1997-04-30 1998-11-13 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JPH10313091A (ja) 1997-05-13 1998-11-24 Nec Corp 半導体装置
US6169418B1 (en) * 1998-06-24 2001-01-02 S3 Incorporated Efficient routing from multiple sources to embedded DRAM and other large circuit blocks

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007000916A1 (ja) * 2005-06-29 2007-01-04 Rohm Co., Ltd. 半導体集積回路装置
JP2007012798A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 Rohm Co Ltd 半導体集積回路装置
US7835122B2 (en) 2005-06-29 2010-11-16 Rohm Co., Ltd. Semiconductor integrated circuit device
JP2019519860A (ja) * 2016-06-28 2019-07-11 インターデジタル シーイー パテント ホールディングス リバーシブルインターフェース用スイッチ
JP7076382B2 (ja) 2016-06-28 2022-05-27 インターデジタル マディソン パテント ホールディングス, エスアーエス リバーシブルインターフェース用スイッチ

Also Published As

Publication number Publication date
KR20010070097A (ko) 2001-07-25
KR100418230B1 (ko) 2004-02-11
US6417718B1 (en) 2002-07-09
TW483149B (en) 2002-04-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10591544B2 (en) Programmable integrated circuits with in-operation reconfiguration capability
EP0654168B1 (en) Fault-tolerant hierarchical bus system
JP2001185680A (ja) 半導体装置
KR960010962B1 (ko) 불량비트를 교정할 수 있는 반도체 기억장치
US20050200005A1 (en) Semiconductor device, semiconductor package, and method for testing semiconductor device
US6034912A (en) Semiconductor integrated circuit device and method of manufacturing the same
US20080309372A1 (en) Semiconductor memory device
US7253457B2 (en) Semiconductor device with external terminals arranged symmetrically with respect to a normal external terminal arrangement
US9607666B2 (en) Input/output circuit and input/output device including the same
US5287345A (en) Data handling arrays
US10468386B1 (en) TSV redundancy and TSV test select scheme
US9042192B2 (en) Semiconductor device and semiconductor system including the same
JP4977838B2 (ja) マルチポートメモリ素子
US7131033B1 (en) Substrate configurable JTAG ID scheme
US6754865B2 (en) Integrated circuit
JP2603145B2 (ja) 半導体集積回路装置
WO1998007161A9 (en) Programmable circuit having common access and/or programming switches
WO1998007161A1 (en) Programmable circuit having common access and/or programming switches
JP3204198B2 (ja) 半導体メモリ装置
JP3557773B2 (ja) 半導体装置
JPH1145600A (ja) 複合データテスト回路が簡素化された半導体メモリ装置
JP3051141B2 (ja) 連想メモリ装置
US20220037207A1 (en) Method for fabricating semiconductor memory and the semiconductor memory
JP2005228932A (ja) 半導体装置
KR100361664B1 (ko) 반도체 기억장치

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20070306