JP2001118515A

JP2001118515A - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法

Info

Publication number: JP2001118515A
Application number: JP29631399A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Yonehara; 浩幸米原; Hiroshi Watanabe; 拓渡邉; Hideki Ashida; 英樹芦田; Shigeo Suzuki; 茂夫鈴木; Kazuo Otani; 和夫大谷
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1999-10-19
Filing date: 1999-10-19
Publication date: 2001-04-27

Abstract

(57)【要約】【課題】溶射膜による隔壁形成において、強固で緻密
な膜、且つ、隔壁の頂部の表面粗さを高精度に制御可能
とし、低コストで高品位な表示を可能とするプラズマデ
ィスプレイパネルおよびその製造方法を提供することに
ある。【解決手段】溶射法によって形成された溶射膜の上部
へ、厚膜または封孔材を塗布形成することにより、容易
に形成できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスなど
に用いるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法
において特に隔壁の形成工程に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、薄型に適したディスプレイ装置と
して注目されているプラズマディスプレイパネルは、例
えば図１に示す構成を有する。このプラズマディスプレ
イパネルは、互いに対向して配置された前面基板３００
と背面基板３０１とを備えている。前面基板３００の上
には、表示電極３０２及び３０３、誘電体層３０４、及
びＭｇＯ誘電体保護層３０５が、順に形成されている。
また、背面基板３０１の上には、アドレス電極３０６及
び誘電体層３０７が形成されており、その上には、更に
隔壁３０８が形成されている。そして、隔壁３０８の側
面には、蛍光体層３０９が塗布されている。

【０００３】前面基板３００と背面基板３０１との間に
は、放電ガス３１０（例えばＮｅ-Ｘｅの混合ガス）
が、６６０００Ｐａ〜８００００Ｐａの圧力で封入され
ている。この放電ガス３１０を表示電極３０２及び３０
３の間で放電させて紫外線を発生させ、その紫外線を蛍
光体層３０９に照射することによって、カラー表示を含
む画像表示が可能になる。

【０００４】隔壁３０２は、個々の画素の色（Ｒ、Ｇ、
Ｂ）毎に微小な放電空間を形成して放電セルを形成する
ための仕切りであり、この隔壁３０８によって、放電を
各セル毎に制御することを可能とし、誤放電や誤表示を
防ぐことができる。隔壁３０８のサイズは、典型的には
４０インチのＮＴＳＣパネルにおいて、隔壁ピッチが1
色あたり３６０μｍ、隔壁頂部の幅が５０〜１００μ
ｍ、及び隔壁の高さが１００〜１５０μｍである。

【０００５】なお、前面基板３００と背面基板３０１
は、アドレス電極３０６と表示電極３０２の互いの長手
方向が直交するように対向させた状態で配されるが、図
１では便宜上、前面基板を９０°回転させて表記してい
る。

【０００６】従来の隔壁の形成方法としては、（１）ス
クリーン印刷技術を用いて隔壁を形成する印刷法、
（２）隔壁材料を背面基板の前面に塗布後に感光性フィ
ルム層を塗布された隔壁材料の上に形成し、写真法によ
り所定パターンを形成した後に、サンドブラストにより
隔壁材料の不要部分を除去して感光性フィルム層を剥離
し、隔壁を形成するサンドブラスト法、（３）感光性ペ
ーストを塗布後に、写真法により不要部分を除去して隔
壁を形成するフォトペースト法、或いは、（４）基板に
感光性フィルム層を形成した後に写真法によって所定パ
ターンを形成し、更にパターンの溝部にペーストを埋め
込んでから感光性フィルムを剥離し、その後にペースト
を焼成工程で焼き固めるフォト埋め込み法（或いはリフ
トオフ法）、（５）基板に感光性フィルム層を形成した
後に写真法によって所定パターンを形成し、更にパター
ンの溝部に溶射により隔壁材料を埋め込んでから感光性
フィルムを剥離するプラズマ溶射法、などが挙げられ
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの隔壁
形成方法は、それぞれ問題点を有しているが、特にプラ
ズマ溶射法を用いて隔壁形成する場合、以下のような問
題点を有している。

【０００８】プラズマ溶射法を用いて隔壁３０８を形成
する際、感光性フィルム層を露光及び現像を用いた写真
法によって所定のパターンを形成後、隔壁材料として溶
射膜を溝部に形成するが、ここで形成された溶射膜は、
従来のペースト材を用いて形成する隔壁に比べ、特に膜
の緻密性及び強度そして誘電体層３０７との密着性に関
して劣る傾向があり、プロセス中での隔壁の欠陥または
不良を発生させ歩留まり低下の要因となっていた。更に
溶射膜の表面は、表面粗さが１０〜１５μｍと大きいた
め、前面基板３００を貼り合わせ時に隔壁３０８の頂部
と前面基板３００の間に隙間ができるという問題があっ
た。

【０００９】本発明は、上記課題に対してなされたもの
であって、その目的は、溶射法によって形成された溶射
膜の上部へ、厚膜または封孔材を塗布形成することによ
り、高品質及び高精度な隔壁を形成して、高品位な表示
を可能とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を
提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、隔壁材料とし
て形成された溶射膜の上部に少なくとも厚膜形成または
封孔材を塗布形成することを特徴とする。

【００１１】また、ある実施形態では、本発明のプラズ
マディスプレイパネルは、１対の基板と、該１対の基板
の間に配置された電極、保護層及び蛍光体層と、を更に
備えており、前記隔壁は該１対の基板の間に配置されて
おり、前記放電空間にはガス媒体が封入されていて、該
ガス媒体の放電に伴って発生された紫外線が該蛍光体層
の照射時に可視光に変換され、これによって発光するこ
とを特徴とする。

【００１２】前記隔壁は、その底部から所定の高さまで
単一色の色で形成、または第１の色の隔壁材料で形成さ
れ、該所定高さから頂部までは、厚膜による隔壁材料ま
たは封孔材による隔壁材料で第２の色が形成され得る。
例えば、第１の色は白色であり、前記第２の色は黒色で
ある。

【００１３】第１の色の隔壁材料は、アルミナまたはス
ピネルというガラス材のの混合または溶融物であり得
て、前記第２の色の隔壁材料は、少なくともガラス材を
含む厚膜材料または無機ポリマーを含む封孔材料であり
得る。

【００１４】また、溶射法により堆積した溶射膜の上部
に少なくとも厚膜材料を使用し塗布し焼成することによ
り、厚膜材料中のガラス材が軟化し溶射膜中へ含浸さ
れ、溶射膜の緻密性と強度の向上が可能となり、且つ硬
化後の表面粗さも小さくすることが可能となる。

【００１５】更に、溶射法により堆積した溶射膜の上部
に少なくとも封孔材料を使用し塗布することにより、溶
射膜中に封孔材料が含浸し、熱による硬化させることに
より溶射膜の緻密性と強度の向上が可能となり、且つ硬
化後の表面粗さも小さくすることが可能となる。

【００１６】本発明のプラズマディスプレイパネルの製
造方法は、放電空間を規定する隔壁を、あらかじめ溶射
法によって形成された溶射膜の上部に、少なくとも厚膜
形成または封孔材を塗布形成する隔壁形成工程を包含し
ている。

【００１７】ある実施形態では、前記隔壁形成工程は、
基板の上に感光性被覆層を形成する工程と、該感光性被
覆層に所定のパターンの開溝部を形成する工程と、少な
くとも該開溝部の内部に、溶射法によって前記隔壁材料
を所定の高さまで体積させて、前記溶射膜を形成する工
程と、前記溶射膜の上部に厚膜材料を塗布する工程と、
前記厚膜を乾燥する工程と、該感光性被覆層を除去し、
所定の形状の前記隔壁を得る工程と、前記厚膜を焼成す
る工程とを含む。

【００１８】また、前記溶射膜の上部へ封孔材を塗布す
る工程の場合は、前記封孔材を乾燥する工程と、該感光
性被覆層を除去し、所定の形状の前記隔壁を得る工程
と、前記封孔材を硬化する工程と、を含む。

【００１９】以上のような特徴を有する本発明による
と、感光性被覆層に所定のパターンの溝を形成した後に
溶射法（例えばプラズマ溶射法）によって溝内に隔壁材
料を堆積させ、その後、該堆積膜の上部に少なくとも厚
膜材料を塗布形成し焼成するか、または封孔材を塗布形
成し硬化することにより、溶射法によって形成された堆
積膜の緻密性及び強度また誘電体層との密着性を向上す
ることができ、且つ、隔壁頂部の表面粗さも５μｍ以下
へ向上することができる。これらにより、後工程中での
隔壁の欠陥また不良の低減による歩留まり向上から低コ
スト化が実現される。また前面基板との貼り合わせ精度
が向上し、高品位な表示を可能とする隔壁が形成され
る。

【００２０】また、上記の隔壁形成に際して、隔壁の底
部から所定の高さまでを溶射膜と厚膜材料または溶射膜
と封孔材の各々白色材料で形成すれば、隔壁の可視光反
射率を向上させることができるので、隔壁側面に塗布さ
れた蛍光体からの放電による可視光の利用効率が向上
し、その結果として、プラズマディスプレイパネルの輝
度が向上する。

【００２１】また、隔壁の所定高さから頂部までを黒色
の厚膜材料または封孔材料で形成すれば、外光の反射が
抑制され、その結果として、プラズマディスプレイパネ
ルの高コントラスト化が実現される。

【００２２】更に、基板上に形成した感光性被覆層に所
定パターンの開溝部を形成後に、溶射法（例えばプラズ
マ溶射法）またスクリーン印刷法などによって隔壁材料
を前記開溝部に堆積させて隔壁を形成すれば、隔壁の形
状が感光性被覆層に形成させたパターンの形状に限定さ
れるため、隔壁を高精度に形成することが可能である。

【００２３】また、上記の感光性被覆層に形成した開口
部の断面形状を、頂部よりも底部が広い台形形状であ
り、且つその台形状開溝部の底角を６０度以上且つ９０
度未満にすれば、隔壁材料がパターンの開溝部へ充填し
て堆積し、隔壁の形状精度や基板との密着性を均一にす
ることが可能になる一方で、感光性被覆層の剥離を容易
にし、感光性被覆層の剥離時における隔壁の欠損をなく
すことが可能になる。

【００２４】

【発明の実施の形態】（実施の形態１）図２は、実施の
形態にかかるＡＣ面放電型ＰＤＰの主要構成を示す部分
的な断面斜視図である。図中、ｚ方向がＰＤＰの厚み方
向、ｘｙ平面がＰＤＰ面に平行な平面に相当する。当図
に示すように、本ＰＤＰは互いに主面を対向させて配設
された前面板１０１および背面板２０１から構成され
る。

【００２５】前面板１０１の基板となる前面板ガラス１
０２には、その片面に一対の透明電極１０３がｘ方向を
長手方向として複数並設される。さらに透明電極１０３
には、透明電極１０３よりも十分に幅が狭く、導電性に
優れるバス電極１０４が積層される。この透明電極１０
３とバス電極１０４とが面放電にかかる表示電極１０７
として動作する。表示電極１０７を配設した前面板ガラ
ス１０２には、当該ガラス面全体にわたって誘電体層１
０５がコートされ、誘電体層１０５には保護膜１０６が
コートされている。

【００２６】背面板２０１の基板となる背面板ガラス２
０２には、その片面に複数のアドレス電極２０３がｙ方
向を長手方向としてストライプ状に並設され、誘電体層
２０４がアドレス電極２０３を配した背面板ガラス２０
２の全面にわたってコートされる。この誘電体層２０４
上には、隣接するアドレス電極２０３の間隔に合わせて
隔壁２０５が配設される。そして隣接する隔壁２０５と
その間の誘電体層２０４の面上には、ＲＧＢの何れかに
対応する蛍光体層２０７が形成されている。

【００２７】このような構成を有する前面板１０１と背
面板２０１は、アドレス電極２０３と表示電極１０７の
互いの長手方向が直交するように対向させた状態で配さ
れ、両板１０１、２０１の外周縁部は封着ガラスで接着
し封止されている。そして前記両面板１０１、２０１の
間には、Ｈｅ、Ｘｅ、Ｎｅなどの希ガス成分からなる放
電ガス（封入ガス）が６６０００〜８００００Ｐａ程度
の圧力で封入されている。これにより、隣接する隔壁２
０５間に形成される空間が放電空間２０８となり、隣り
合う一対の表示電極１０７と１本のアドレス電極２０３
が放電空間２０８を挟んで交叉する領域が、画像表示に
かかるセルとなる。

【００２８】ＰＤＰ駆動時には各セルにおいて、アドレ
ス電極２０３と表示電極１０７、また一対の表示電極１
０７同士での放電によって短波長の紫外線（波長約１４
７ｎｍ）が発生し、蛍光体層２０７が発光して画像表示
がなされる。

【００２９】ここで、本発明のＰＤＰとその製造方法に
おける主な特徴部分は、隔壁頂部２０６と保護膜１０６
の接着に関するところにある。

【００３０】次に、本ＰＤＰの作製方法を具体的に説明
する。

【００３１】（前面板１０１の作製）厚さ約２．６ｍｍ
のソーダーガラスからなる前面板ガラス１０２の表面上
に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）またはＳｎＯ₂など
の導電体材料により、厚さ約３０００オングストローム
の透明電極１０３を平行に作製する。さらに、この透明
電極１０３の上に銀またはクロム−銅−クロムの３層か
らなるバス電極１０４を積層し、表示電極１０７とす
る。これらの電極の作製方法に関しては、スクリーン印
刷法、フォトリソグラフィー法などの公知の各作製法が
適用できる。

【００３２】次に表示電極１０７を作製した前面板ガラ
ス１０２の面上に、鉛系ガラスのペーストを全面にわた
ってコートし、焼成して約２０〜３０μｍの誘電体層１
０５を形成する。そして、誘電体層１０５の表面に、厚
さ約１μｍの酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護
膜１０６を蒸着法あるいはＣＶＤなどにより形成する。

【００３３】これで前面板１０１が完成する。

【００３４】（背面板２０１の作製）厚さ約２．６ｍｍ
のソーダーガラスからなる背面板ガラス２０２の面上
に、スクリーン印刷法により、銀を主成分とする導電体
材料を一定間隔でストライプ状に塗布し、厚さ約５〜１
０μｍのアドレス電極２０３を形成する。ここで作製す
るＰＤＰを４０インチクラスのハイビジョンテレビとす
るためには、隣り合う２つのアドレス電極２０３の間隔
を０．２ｍｍ程度以下に設定する。

【００３５】続いてアドレス電極２０３を形成した背面
板ガラス２０２の面全体にわたって、鉛系ガラスのペー
ストをコートして焼成し、厚さ約１０〜２０μｍの誘電
体層２０４を形成する。

【００３６】なお、ここからの工程に本発明の製造方法
の特徴が含まれる。図３（ａ）〜図３（ｅ）を参照し
て、本発明における隔壁形成プロセスを説明する。図３
（ａ）〜図３（ｅ）は、上記プロセスの各工程を説明す
る断面図である。

【００３７】まず、図３（ａ）に示すように、形成した
基板４０３の上に、感光性被覆層４０５を形成する。本
実施形態では、感光性被覆層４０４として感光性のドラ
イフィルムレジスト（以下、ＤＦＲと称する）を用い
て、厚さ６０μｍのＤＦＲを２層重ねて１２０μｍの厚
さにラミネート形成する。

【００３８】次に、図３（ｂ）に示すように、所定の幅
及びピッチを有するフォトマスク４０５を用いて紫外線
光（ＵＶ光）を照射し、露光を行う。露光量は、フォト
マスク４０５のパターン幅及びピッチに応じて適正化さ
せる。

【００３９】図３（ｃ）の工程では、１％炭酸ナトリウ
ム水溶液の現像液を使用し、現像を行い、現像後直ちに
水洗する。露光及び現像を経て、ＤＦＲ４０４にストラ
イプ状の所定パターンの溝（開溝部）４０７を形成す
る。溝４０６のサイズは、典型的には、上部の開口幅を
８０μｍ、ピッチを３６０μｍとする。

【００４０】次に図３（ｄ）に示すように、溝４０６の
パターン形成後に、基板４０３の上部からプラズマ溶射
を行い、ＤＦＲ４０４の溝４０６の中に溶射膜（隔壁材
料）４１０を堆積させる。具体的には、プラズマ溶射ト
ーチ４０７には冷却ガスポート４０８が設置されてお
り、プラズマジェット４０９の溶射と同時に、冷却ガス
を基板４０３へ吹き付ける。

【００４１】この冷却ガスには窒素を用いる。冷却ガス
の作用により、溶射時の熱によるＤＦＲ４０４へのダメ
ージを軽減し、精度のよい隔壁形成が可能となる。ま
た、この溶射工程で、溶射膜４１０はＤＦＲ４０４の溝
４０６の内部に主として堆積され、またＤＦＲ４０４の
表面から約１５μｍ下方まで堆積される。しかし、その
周囲のＤＦＲ４０４の上には、溶射膜はほとんど堆積
（付着）しない。

【００４２】次に図３（ｅ）に示すように、隔壁の頂部
幅とほぼ同寸法に開口したスクリーンマスク４１１を用
い、例えばＰｂＯ-Ｂ₂Ｏ₃-ＳｉＯ₂-ＣａＯ系のガラス材
と溶剤であるターピネオール及び高分子樹脂であるエチ
ルセルロースを主組成とする厚膜ペースト材４１３をス
キージー４１２により隔壁頂部のみへ印刷塗布する。塗
布後、レベリングを行った後、８０℃にて２０分間乾燥
し、その後１５０℃にて３０分硬化する。

【００４３】次に図３（ｆ）に示すように、基板４０３
を剥離液、例えば５％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬す
ることによって、ＤＦＲ４０４を剥離する。これによっ
て所定の形状の隔壁４１５が形成される。

【００４４】感光性皮膚膜４０４の剥離除去が完了した
後、ピーク温度が約５５０℃となるようにプロファイル
形成されたの焼成炉を用いて、前記隔壁４１５を焼成す
る。

【００４５】次に図３（ｇ）に示すように、隔壁４１５
の壁面と、隣接する隔壁４１５間で露出している誘電体
層４０２に表面に、赤色（Ｒ）、蛍光体、緑色（Ｇ）蛍
光体、青色（Ｂ）蛍光体の何れかを含む蛍光体インクを
塗布する。この後に蛍光体インクを乾燥、焼成して各色
の蛍光体層４０６を形成する。

【００４６】ここで、一般的にＰＤＰに使用されている
蛍光体材料の一例を以下に列挙する。

【００４７】赤色蛍光体（Ｙ_XＧｄ_1-X）ＢＯ₃：Ｅｕ緑色蛍光体Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ青色蛍光体ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ³⁺ 各蛍光体材料は平均粒径約３μｍの粉末を使用した。蛍
光体インクの塗布法は幾つかの方法が考えられるが、こ
こではメニスカス法と称される極細ノズルからメニスカ
ス（表面張力による架橋）を形成しながら蛍光体インク
を吐出する方法を用いる。この方法は蛍光体インクを目
的の領域に均一に塗布するのに好都合である。メニスカ
ス法の一例を以下に説明する。

【００４８】蛍光体インクは、蛍光体材料とバインダー
（エチルセルロース）および有機溶剤（α-ターピネオ
ール）を４５：２：５３の重量比で混合したものを用い
ることとする。この蛍光体インクをタンク（不図示）に
入れ、当該タンクに連結したノズル（先端径８０μｍ）
の先端を隔壁４１５の感覚に合わせる。そしてこのノズ
ルを、誘電体層４０２から約１００μｍの距離を保ちつ
つ、隔壁４１５の長手方向に沿って、速度５０ｍｍ／ｓ
で走査しながら圧力４８００Ｐａで蛍光体インクを吐出
することにより、ノズルと隔壁４１５との間、もしくは
ノズルと誘電体層４０２表面との間に蛍光体インクのメ
ニスカスを形成しながら塗布する。

【００４９】蛍光体インクはこのようにして塗布した
後、最大温度約５２０℃で２時間プロファイルの焼成を
行うことによって蛍光体層４１６が形成される。

【００５０】以上のようにすれば、溶射法によって形成
された溶射膜の上部へ、厚膜または封孔材を塗布形成す
ることにより、高品質及び高精度の形成が実現する。

【００５１】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、プラズマ
ディスプレイパネルにおける隔壁形成において、溶射法
によって形成された溶射膜の上部へ、厚膜または封孔材
を塗布形成することにより、強固で緻密な膜を得ること
ができ、且つ、隔壁の頂部の表面粗さを高精度に制御可
能とするため、低コストで高品位な表示を可能とするプ
ラズマディスプレイパネルを実現することが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】プラズマディスプレイパネルの構成を模式的に
示す図

【図２】ＡＣ面放電型プラズマディスプレイパネルの主
要構成を示す一部断面斜視図

【図３】（ａ）〜（ｇ）は本発明の実施の形態における
隔壁形成プロセスの各工程を説明する断面図

【符号の説明】

１０１前面板１０２前面板ガラス１０３透明電極１０４バス電極１０６保護層１０７表示電極２０１背面板２０２背面板ガラス２０３アドレス電極２０４誘電体層２０５隔壁２０６隔壁頂部２０７蛍光体層３００前面基板３０１背面基板３０２，３０３表示電極３０４誘電体層３０５誘電体保護層３０６アドレス電極３０７誘電体層３０８隔壁３０９蛍光体層３１０放電ガス４００ガラス基板４０１アドレス電極４０２誘電体層４０３基板４０４感光性被覆層（ＤＦＲ）４０５フォトマスク４０６開溝部４０７プラズマ溶射トーチ４０８冷却ガスポート４０９プラズマジェット４１０溶射膜（隔壁材料）４１１スクリーンマスク４１２スキージー４１３厚膜ペースト４１４厚膜材料４１５隔壁４１６蛍光体層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者芦田英樹大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者鈴木茂夫大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者大谷和夫大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内Ｆターム(参考） 5C027 AA09 5C040 GF13 GF18 GF19 JA02 JA07 JA15 JA20 JA22 KA04 KA07 KB09 KB13 KB14 KB19 MA04 MA10 MA23 MA26 5C094 AA42 AA44 BA31 CA19 DA13 FB02 FB05 FB20 GB01 5G435 AA17 BB06 HH01 HH20 KK05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】放電空間を規定する隔壁が、隔壁材料の
溶射によって形成された溶射膜から構成されており、そ
の上部に更に厚膜形成されていることを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネル。
【請求項２】前記隔壁が、隔壁材料の溶射によって形
成された溶射膜から構成されており、その上部に更に封
孔材塗布形成されていることを特徴とするプラズマディ
スプレイパネル。
【請求項３】１対の基板と、該１対の基板の間に配置
された電極、誘電体層、及び蛍光体層と、を更に備えて
おり、前記隔壁は該１対の基板の間に配置されており、
前記放電空間にはガス媒体が封入されていて、該ガス媒
体の放電に伴って発生された紫外線が該蛍光体層の照射
時に可視光に変換され、これによって発光する請求項１
または２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】隔壁は単一の色である請求項１または２
に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】前記隔壁は、その底部から所定の高さま
では溶射による隔壁材料である第１の色で形成され、所
定高さから頂部までは厚膜による隔壁材料である第２の
色で形成されている請求項１に記載のプラズマディスプ
レイパネル。
【請求項６】前記隔壁は、その底部から所定の高さま
では溶射による隔壁材料である第１の色で形成され、所
定高さから頂部までは封孔材による隔壁材料である第２
の色で形成されている請求項２に記載のプラズマディス
プレイパネル。
【請求項７】前記第１の色はほぼ白色であり、前記第
２の色はほぼ黒色である請求項５または６に記載のプラ
ズマディスプレイパネル。
【請求項８】前記第１の色はほぼ白であり、前記第２
の色はほぼ透明である請求項５または６に記載のプラズ
マディスプレイパネル。
【請求項９】前記溶射がプラズマ溶射である請求項１
または２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】前記溶射の隔壁材料がアルミナまたは
スピネルを含むことを特徴とする請求項１または２に記
載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】前記溶射の隔壁材料が、ガラスを含む
ことを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマデ
ィスプレイパネル。
【請求項１２】前記上部に形成される厚膜材料が、ガ
ラス材を含むことを特徴とする請求項１または２に記載
のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】前記上部に形成される封孔材が、少な
くとも最大１０μｍ以下の粒子を含むことを特徴とする
請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１４】前記上部に形成される封孔材が、少な
くとも無機ポリマーを含むことを特徴とし、熱により硬
化する請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】放電空間を規定する隔壁が、隔壁材料
の溶射によって形成された溶射膜とから構成されてお
り、その上部を更に厚膜を形成するプラズマディスプレ
イパネルの製造方法であって、隔壁形成工程を包含する
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】放電空間を規定する隔壁が、隔壁材料
の溶射によって形成された溶射膜から構成されており、
その上部に更に封孔材が塗布形成するプラズマディスプ
レイパネルの製造方法であって、隔壁形成工程を包含す
るプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１７】前記隔壁形成工程は、基板の上に感光
性被覆層を形成する工程と、該感光性被覆層に所定のパ
ターンの開口部を形成する工程と、少なくとも、該開口
部の内部に、溶射法によって前記隔壁材料を所定の高さ
まで堆積させて、前記溶射膜を形成する工程と、前記溶
射膜の上部に厚膜材料を塗布する工程と、前記厚膜材料
を乾燥する工程と、該感光性被覆層を除去し、所定の形
状の前記隔壁を得る工程と、前記厚膜材料を焼成する工
程とを含む請求項１５に記載のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。
【請求項１８】前記隔壁形成工程は、基板の上に感光
性被覆層を形成する工程と、該感光性被覆層に所定のパ
ターンの開口部を形成する工程と、少なくとも、該開口
部の内部に、溶射法によって前記隔壁材料を所定の高さ
まで堆積させて、前記溶射膜を形成する工程と、前記溶
射膜の上部に封孔材を塗布する工程と、前記封孔材を乾
燥する工程と、該感光性被覆層を除去し、所定の形状の
前記隔壁を得る工程と、前記封孔材を硬化する工程とを
含む請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
【請求項１９】前記感光性被覆層に形成された前記所
定パターンの開口部が、頂部より底部が広い台形状の断
面形状を有していることを特徴とする請求項１５または
１６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２０】隔壁は単一の色である請求項１５また
は１６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法。
【請求項２１】前記隔壁は、その底部から所定の高さ
までは溶射による隔壁材料である第１の色で形成され、
所定高さから頂部までは厚膜による隔壁材料である第２
の色で形成されている請求項１５に記載のプラズマディ
スプレイパネルの製造方法。
【請求項２２】前記隔壁は、その底部から所定の高さ
までは溶射による隔壁材料である第１の色で形成され、
所定高さから頂部までは封孔材による隔壁材料である第
２の色で形成されている請求項１６に記載のプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。
【請求項２３】前記第１の色はほぼ白色であり、前記
第２の色はほぼ黒色である請求項１５または１６に記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２４】前記第１の色はほぼ白であり、前記第
２の色はほぼ透明である請求項１５または１６に記載の
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２５】前記溶射がプラズマ溶射である請求項
１５または１６に記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
【請求項２６】前記溶射の隔壁材料がアルミナまたは
スピネルを含むことを特徴とする請求項１５または１６
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２７】前記溶射の隔壁材料が、ガラスを含む
ことを特徴とする請求項１５または１６に記載のプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２８】前記上部に形成される厚膜材料が、ガ
ラス材を含むことを特徴とする請求項１５または１６に
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２９】前記上部に形成される封孔材が、少な
くとも最大１０μｍ以下の粒子を含むことを特徴とする
請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
【請求項３０】前記上部に形成される封孔材が、少な
くとも無機ポリマーを含むことを特徴とする請求項１６
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３１】前記溶射膜の形成工程は、前記基板を
裏面から加熱して、該基板内の温度分布を所定の範囲内
に維持する工程を含む請求項１５または１６に記載のプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３２】前記溶射膜の形成工程は、前記基板の
表面を冷却して、該基板内の温度分布を所定の範囲内に
維持する工程を含む請求項１５または１６に記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３３】前記溶射膜の形成工程は、前記基板の
裏面から加熱及び該基板表面の冷却を行って、該基板内
の温度分布を所定の範囲内に維持する工程を含む請求項
１５または１６に記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
【請求項３４】前記感光性被覆膜の除去後に、蛍光体
層を形成する工程を更に含む請求項１５または１６に記
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。