JP2001056382A - 放射線検出器及び放射線診断装置 - Google Patents

放射線検出器及び放射線診断装置

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JP2001056382A
JP2001056382A JP2000108099A JP2000108099A JP2001056382A JP 2001056382 A JP2001056382 A JP 2001056382A JP 2000108099 A JP2000108099 A JP 2000108099A JP 2000108099 A JP2000108099 A JP 2000108099A JP 2001056382 A JP2001056382 A JP 2001056382A
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radiation detector
switching element
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Takayuki Tomizaki
隆之 富崎
Michitaka Honda
道隆 本田
Seiichiro Nagai
清一郎 永井
Manabu Tanaka
学 田中
Takuya Sakaguchi
卓弥 坂口
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Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明の目的は、放射線検出器において、S/
N比を向上することにある。 【解決手段】本発明の放射線検出器は、マトリクス状に
配列された入射放射線を電荷に変換する複数の電荷変換
素子31と、この電荷変換素31子で発生する電荷を蓄
積する複数のキャパシタ32と、このキャパシタ32に
蓄積された電荷を読み出すTFT33とを備えている。
TFT33のオン/オフ切替等により生じる、キャパシ
タ32に蓄積された電荷による信号以外の信号は、ダミ
ー画素9によりキャンセルされる。これによりS/N比
は向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜トランジスタ
(TFT)を読み出し用のスイッチング素子として用い
ている放射線検出器に関する。
【0002】
【従来の技術】TFTを各画素のスイッチング素子とし
て使用する放射線検出器は、ガラス基板の片側面に薄膜
を生成し、エッチングによりパターンニングし、薄膜を
重ねて形成し、再びパターンニングするという工程を繰
り返すことにより形成される。
【0003】図1に従来の放射線検出器の構成を示して
いる。放射線検出器は、格子状に配列された複数の画素
203を有する。各画素203は、入射放射線(例えば
X線)を直接的に電荷に変換できるセレンで形成される
光電変換素子102と、発生された電荷を蓄積するキャ
パシタ103と、信号読み出し用TFT101とから構
成される。各画素のキャパシタ103に蓄積された電荷
は、TFT101及び信号線105を介して、積分回路
112に読み出される。
【0004】図2に示すように、ゲートドライバ108
は、垂直選択線106の電位を変えることにより、TF
T101のオン/オフを切り替える。TFT101がオ
ン/オフ間で切り替わる際、オフセット電圧ΔVout が
TFT101から発生する。オフセット電圧ΔVout
は、 ΔVout =(Cgs/Cout )×(Von−Voff ) により与えられる。ここで、図3に示すように、Cgsは
TFT101のゲートと信号線105との間の実効キャ
パシタ、VonはTFT101のオン電圧、VoffはTF
T101のオフ電圧、Cout は積分回路112のキャパ
シタ110の容量である。
【0005】つまり、Cout が小さい場合には、ΔVou
t が大きくなる。特に、放射線検出器をX線透視に使用
する場合には、微小な検出信号に応じて、積分回路11
2のキャパシタ110は小さい容量Cout のものが用い
られており、信号電圧を増幅する必要がある。信号電圧
と共に、オフセット電圧ΔVout も増幅され、非常に大
きくなる。増幅されたオフセット電圧ΔVout は、積分
回路112のダイナミックレンジを実効的に狭める。ま
た、増幅されたオフセット電圧ΔVout は、積分回路1
12を飽和させてしまう。これらは、S/N比低下の原
因である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、放射
線検出器において、S/N比を向上することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の放射線検出器
は、入射放射線を電荷に変換する電荷変換素子と、前記
変換された電荷を蓄積するキャパシタと、前記蓄積され
た電荷を読み出す電荷読出素子と、前記キャパシタから
前記電荷読出素子を介して読み出される信号を調整する
ために、前記キャパシタに蓄積された電荷による信号以
外の信号をキャンセルする調整手段とを具備する。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明を好ましい実施形態
により詳細に説明する。
【0009】第1実施形態 図4は本発明の第1実施形態による放射線検出器の構成
図である。図4に示すように、この第1実施形態の放射
線検出器は、入射した放射線、例えばX線を検出するX
線検出部1と、X線検出部1において検出されたX線強
度に応じた信号を読み出す読出回路部2とを備えてい
る。
【0010】X線検出部1は、2次元マトリクス状に配
置された複数の画素3と、画素3から信号を読み出すた
めの信号線4と、画素3からの信号読み出しを選択する
ための垂直選択線5と、後述する積分回路におけるオフ
セットを低減させるために画素3から出力された信号を
調整する調整部6と、調整部6を制御するための調整部
制御線7とを有している。
【0011】各画素3は、入射放射線をその強度に応じ
た量の電荷に変換する光電変換素子31と、光電変換素
子31で発生した電荷を蓄積するキャパシタ32と、信
号読出用の薄膜トランジスタ(以下、読出用TFTとい
う)33とからなる。
【0012】光電変換素子31としては、例えば、X線
を直接電荷に変換するセレンが用いられる。また、キャ
パシタ32の一端は接地されている。また、光電変換素
子31の端子31aは所定の電位に保たれている。
【0013】なお、光電変換素子31としては、入射放
射線をその強度に応じた量の電荷に間接的に変換するタ
イプであってもよい。この場合、光電変換素子31は、
入射放射線を光に変換する蛍光体と、その変換された光
を電荷に変換するフォトダイオードとから構成される。
【0014】調整部6は、複数のダミー画素9からな
る。複数のダミー画素9は、複数の信号線4に対してそ
れぞれ接続されている。各ダミー画素9は、調整用薄膜
トランジスタ(以下、調整用TFTという)61と、キ
ャパシタ62とからなる。各ダミー画素9は、画素3と
は異なり、光電変換素子を備えていない、又は光電変換
素子が調整用TFT61に電気的に接続されていない。
このため、各ダミー画素9は、信号電荷を発生しない
で、TFTのスイッチングに伴うオフセットだけを発生
する。複数の調整用TFT61は、制御線7に共通接続
されている。調整用TFT61は読出用TFT33と同
一プロセスにより読出用TFT33と共に形成され、ま
た、キャパシタ62は、信号電荷蓄積用のキャパシタ3
2と同一プロセスにより信号電荷蓄積用のキャパシタ3
2と共に形成される。これにより調整用TFT61は、
読出用TFT33と略同一の特性を有している。また、
キャパシタ62は、信号電荷蓄積用のキャパシタ32と
略同一の容量を有している。
【0015】読出回路部2は、複数の読出用TFT33
を一斉にオン/オフするために垂直選択線5に選択的に
電圧を印加するゲートドライバ21と、複数の調整用T
FT61を一斉にオン/オフするために制御線7に電圧
を印加するゲートドライバ22と、読出用TFT33を
介して読み出された電荷を積分する積分回路23と、各
積分回路23によって増幅された信号を順次選択するマ
ルチプレクサ24と、ゲートドライバ21,22やマル
チプレクサ24等読出回路部2の構成各部を制御するコ
ントロール部25とを有している。積分回路23は、読
出用TFT33を介して読み出された信号を増幅するア
ンプ23aと、積分用のキャパシタ23bとを有する。
【0016】コントロール部25は、垂直選択線5に選
択的にオン電圧を印加させるために、ゲートドライバ2
1を制御する。オン電圧を印加された垂直選択線5に連
なる読出用TFT33は一斉にオン状態になる。読出用
TFT33がオン状態にあるとき、キャパシタ32に蓄
積されている信号電荷がそれぞれの信号線4に読み出さ
れる。コントロール部25は、垂直選択線5に選択的に
オフ電圧を印加させるために、ゲートドライバ21を制
御する。オフ電圧を印加された垂直選択線5に連なる読
出用TFT33は一斉にオフ状態になる。読出用TFT
33がオフ状態になると、キャパシタ32からの信号電
荷の読み出しは停止する。
【0017】図5に示すように、コントロール部25
は、読出用TFT33のオン/オフ動作に対して、調整
用TFT61のオン/オフ動作が逆相になるように、ゲ
ートドライバ22を制御する。つまり、垂直選択線5に
オン電圧が印加されるとき、それに同期して制御線7に
はオフ電圧が印加され、また垂直選択線5にオフ電圧が
印加されるとき、それに同期して制御線7にはオン電圧
が印加される。
【0018】コントロール部25は、調整用TFT61
がオフ状態にある期間を含む期間以外に、リセット用制
御線8にリセット信号を供給することによって各積分回
路23をリセットする。
【0019】次にこの放射線検出器の動作について説明
する。
【0020】図5に示すように、ゲートドライバ21
は、複数の垂直選択線5にそれぞれ対応する制御信号a
1 ,a2 ,a3 ,a4 の電圧をオン電圧に順番に切り替
える。これにより読出用TFT33は行単位で順番にオ
ンする。一方、ゲートドライバ22は、制御信号a1 ,
a2 ,a3 ,a4 の電圧切り替えに同期して、制御線7
の制御信号b1 の電圧をオフ電圧に切り替える。なお、
制御信号b1 の振幅は、制御信号a1 (a2 ,a3 ,a
4 )の振幅と略等価に設定される。
【0021】図6に示すように、まず、コントロール部
25の制御の下、ゲートドライバ22が、調整用TFT
61のゲートに接続されている調整部制御線7にオフ電
圧を印加して各調整用TFT61をオフとする。
【0022】これと略同時に、ゲートドライバ21が、
例えば、1行目の垂直選択線5にオン電圧を印加して、
この垂直選択線5に繋がる画素3の読出用TFT33を
オンとする。これによって各画素3のキャパシタ32に
蓄積された電荷が読出用TFT33を介して信号線4に
流れ、積分回路23において読み出される。
【0023】ゲートドライバ21は、所定の読出時間が
経過すると例えば制御信号a1 をオフ電圧とし、これと
略同時に、ゲートドライバ22が、制御信号b1 にオン
電圧を印加して各調整用TFT61をオンとする。
【0024】ここで、コントロール部25は、リセット
用制御線8にリセット信号c1 を供給して、上記所定の
読出時間の前後の期間において、各積分回路23をリセ
ットする。
【0025】また、各読出用TFT33のゲートと信号
線4との間、調整用TFT61のゲートと信号線4との
間には、図7に示すように、それぞれ、電気的等価回路
としてコンデンサ91,92で表されるキャパシタが形
成される。
【0026】これらコンデンサ91,92の容量Cgs,
Cgs.subが等しい場合には、読出用TFT33のゲート
に与えるゲートオン電圧Von、ゲートオフ電圧Voff
と、調整用TFT61のゲートに与えるゲートオン電圧
Von.sub、ゲートオフ電圧Voff.sub とは等しくされ
る。すなわち、ゲートオン電圧Von、ゲートオフ電圧V
off は、それぞれ、(2)式、(3)式によって与えら
れる。
【0027】 Von=Von.sub ・(2) Voff =Voff.sub ・(3) または、ゲートオン電圧とゲートオフ電圧との差が等し
くなるようにしても良い。この場合(4)式が成り立
つ。
【0028】 Von−Voff =Von.sub−Voff.sub ・(4) 図6に示すように、積分アンプ23aからの出力波形d
1 は、制御信号b1 がオンからオフになると、調整用T
FT61は信号線4から切り離されて、調整用TFT6
1によるオフセットΔVout.sub 分だけ低下する。
【0029】この直後に、例えば制御信号a1 がオンか
らオフになると、読出用TFT33が信号線4に接続さ
れ、出力波形d1 は、オフセットΔVout.sub と略等し
い読出用TFT33によるオフセットΔVout 分だけ上
昇し、ここからさらに所定の時定数にしたがって検出信
号Vout 分だけ上昇する。
【0030】この際、オフセットΔVout は、図7に示
すようなコンデンサ91の容量Cgsと、ゲート電圧差
(Von−Voff )と、積分回路23の積分キャパシタ2
3bの容量Cout とによって決まり、(5)式によって
与えられる。
【0031】 ΔVout =Cgs(Von−Voff )/Cout ・(5) 積分回路23において読み出されると、制御信号a1 は
オフ電圧とされ、読出用TFT33は信号線4から切り
離され、これに伴って出力波形d1 は、オフセットΔV
out 分低下する。
【0032】この直後に、制御信号b1 がオフからオン
になると、調整用TFT61が信号線4に接続され、出
力波形d1 はオフセットΔVout.sub 分上昇し、この
後、コントロール部25は、リセット用制御線8にリセ
ット信号c1 を供給して、出力波形d1 は零レベルとな
る。
【0033】なお、調整用TFT61におけるオフセッ
トΔVout.sub は、同図に示すようなコンデンサ92の
容量Cgs-subと、ゲート電圧差(Von.sub−Voff.sub
)と、積分回路23の積分キャパシタ23bの容量Co
ut とによって決まり、(6)式によって与えられる。
【0034】 ΔVout.sub =Cgs.sub(Von.sub−Voff.sub )/Cout ・(6) 以上の動作が2行目以下の読出用TFT33においても
順次実行されて1枚の画像を読み出す。
【0035】つまり、読出用TFTは垂直方向走査周期
内に1回オン状態となるのに対して、調整用TFTは水
平方向走査周期内に1回オン状態となるように駆動され
る。
【0036】以上説明したように、第1実施形態によれ
ば、調整用TFT61と、各画素の読出用TFT33と
を逆相で動作させることで、それぞれのオフセット電圧
が互いに打ち消しあう。これにより、スイッチングによ
るオフセット電圧を実効的に低減させることができる。
したがって、透視などの小信号を検出する場合に、積分
回路23のダイナミックレンジを無駄にすることなく、
信号を十分に増幅することができるために、S/N比も
向上させることができる。しかも、アレイ設計上、従来
の製造技術を用いることができるために、例えば新たな
工程を加えることなく容易に製造することができる。
【0037】第2実施形態 図8は第2実施形態による放射線検出器の動作を説明す
るためのタイムチャートである。第2実施形態が上述し
た第1実施形態と異なるところは、同時に2本の垂直選
択線5をオンにして、列方向に隣接するペアの画素3か
ら信号電荷を同時に読み出すことにある。
【0038】この第2実施形態においては、同時に2本
の垂直選択線5をオンとするのに伴って、図8に示すよ
うに、調整用TFT33のゲートに与えるゲートオン電
圧Von.sub1 とゲートオフ電圧Voff.sub1との差が、第
1実施形態において採用したゲートオン電圧Von.subと
ゲートオフ電圧Voff.sub の差の2倍になるように設定
される。すなわち、ゲートオン電圧Von.sub1 とゲート
オフ電圧Voff.sub1との差が、(7)式に従うようにす
る。
【0039】 Von.sub1 −Voff.sub1=2(Von.sub−Voff.sub ) ・(7) 以上説明したように、本第2実施形態によれば、上述し
た第1実施形態と略同一の効果を得ることができる。加
えて、水平方向の走査を速く行うようにすることができ
る。
【0040】第3実施形態 図9は本発明の第3実施形態による放射線検出器の構成
図、また、図7は同放射線検出器の動作を説明するため
のタイムチャートである。
【0041】第3実施形態が上述した第1実施形態と異
なるところは、複数の信号線4に対してそれぞれダミー
画素9を2つずつ設けた点である。
【0042】図9に示すように、この第3実施形態の放
射線検出器は、X線検出部1Aと、読出回路部2Aとを
備え、X線検出部1Aは、複数の画素3と、複数の信号
線4と、複数の垂直選択線5と、調整部6Aと、調整部
6Aを制御するための調整部制御線7とを有している。
【0043】各画素3は、光電変換素子31とキャパシ
タ32と読出用TFT33とを有している。調整部6A
は、複数のダミー画素9を有する。1本の信号線4に対
して2つのダミー画素9が設けられる。すなわち、調整
用TFT61は2行並列され、各行の調整用TFT61
にはそれぞれ調整部制御線7が接続されている。読出回
路部2は、ゲートドライバ21Aと、ゲートドライバ2
2Aと、積分アンプ23aと積分キャパシタ23bとを
有する積分回路23と、マルチプレクサ24と、コント
ロール部25Aとを有している。
【0044】次にこの放射線検出器の動作について説明
する。
【0045】図10に示すように、ゲートドライバ21
Aは、1行目乃至4行目の各読出用TFT33に垂直選
択線5を介して制御信号a5 (a6 ,a7 ,a8 )を供
給して、順次オン/オフさせると共に、ゲートドライバ
22Aは、各行の調整用TFT61に各調整部制御線7
を介して制御信号b2 (b3 )を供給し、各読出用TF
T33のオン/オフ状態に対応させて各調整用TFT6
1をオン/オフさせる。
【0046】ここで、コントロール部25Aの制御の
下、ゲートドライバ22Aは2本の調整部制御線7,7
上を送られる制御信号b2 ,b3 をオフ電圧とし、これ
と略同時にゲートドライバ21Aは例えば1行目及び2
行目の2本の垂直選択線5,5上を送られる制御信号a
5 ,a6 をオン電圧とする。
【0047】ゲートドライバ21Aは所定の読出時間が
経過すると制御信号a5 ,a6 をオフ電圧とし、これと
略同時にゲートドライバ22Aは制御信号b2 ,b3 を
オン電圧とし、コントロール部25Aは積分回路23を
リセットする。
【0048】これにより、読出用TFT33がオン状態
となった各画素のキャパシタ32に蓄積された電荷が上
記読出用TFT33を介して信号線4に流れ、積分回路
23によって読み出される。
【0049】そして次の水平方向走査周期において、ゲ
ートドライバ22Aは再び制御信号b2 ,b3 をオフ電
圧とし、これと略同時にゲートドライバ21Aは3行目
及び4行目の2本の垂直選択線5,5上を送られる制御
信号a7 ,a8 をオン電圧とし、これらの行の信号を読
み出す。以上の動作を繰り返して1枚の画像を読み出
す。
【0050】なお、この本第3実施形態においても、上
述した第1実施形態の場合と同様に、コンデンサ91,
92の容量Cgs,Cgs.subが等しい場合には、読出用T
FT33のゲートに与えるゲートオン電圧Von、ゲート
オフ電圧Voff と、調整用TFT61のゲートに与える
ゲートオン電圧Von.sub、ゲートオフ電圧foff.subと
は等しくされる。または、ゲートオン電圧とゲートオフ
電圧との差が等しくされる。
【0051】以上説明したように、本第3実施形態によ
れば、上述した第1実施形態と略同一の効果を得ること
ができる。また、2行分の読出しが同時に行われるの
で、高速の走査が可能となる。
【0052】第4実施形態 図11は本発明の第4実施形態による放射線検出器の動
作を説明するためのタイムチャートである。第4実施形
態が上述した第3実施形態と異なるところは、垂直選択
線を1本ずつ選択して駆動するように構成した点であ
る。これ以外の構成は第3実施形態と略同一であるの
で、その説明を省略する。
【0053】次にこの平面型X線固体検出部の動作につ
いて説明する。図11に示すように、ゲートドライバ2
1Aは、1行目乃至4行目の各読出用TFT33に垂直
選択線5を介して制御信号a9 (a10,a11,a12)を
供給して、順次オン/オフさせると共に、ゲートドライ
バ22Aは、各行の調整用TFT61に各調整部制御線
7を介して制御信号b4 (b5 )を供給し、各読出用T
FT33のオン/オオフ状態に対応させて各調整用TF
T61をオン/オフさせる。
【0054】ここで、コントロール部25Aの制御の
下、ゲートドライバ22Aは1行目の調整部制御線7上
を送られる制御信号b4 をオフ電圧とし、これと略同時
にゲートドライバ21Aは例えば1行目の垂直選択線5
上を送られる制御信号a9 をオン電圧とする。
【0055】ゲートドライバ21Aは所定の読出時間が
経過すると制御信号a9 をオフ電圧とし、これと略同時
にゲートドライバ22Aは制御信号b4 をオン電圧と
し、コントロール部25Aは積分回路23をリセットす
る。
【0056】これにより、読出用TFT33がオン状態
となった各画素のキャパシタ32に蓄積された電荷が上
記読出用TFT33を介して信号線4に流れ、積分回路
23によって読み出される。なお、この間制御信号b5
はオン電圧とされる。
【0057】そして次の水平方向走査周期においては、
ゲートドライバ22Aは制御信号b4 はオフ電圧のまま
として、今度は制御信号b5 をオフ電圧とし、これと略
同時にゲートドライバ21Aは2行目の垂直選択線5上
を送られる制御信号a10をオン電圧とし、この行の信号
を読み出す。
【0058】この後制御信号b4 をオフ電圧、3行目の
垂直選択線5上を送られる制御信号a11をオン電圧とし
てこの行の画素の電荷を読み出し、制御信号b5 をオフ
電圧,4行目の垂直選択線5上を送られる制御信号a12
をオン電圧としてこの行の画素の電荷を読み出す。
【0059】このように、ゲートドライバ22Aは各行
の画素の電荷の読出し時に対応させて、制御信号b4 ,
b5 を交互にオフ電圧とする。以上のように、動作を繰
り返して1枚の画像を読み出す。
【0060】1つの調整用TFT61で駆動させた場
合、調整用TFT61がオン状態となってから次にオフ
状態となるまでに要する時間は、数μsecであるのに
対して、図11に示すようなこの第4実施形態の駆動方
法では、数十μsecとなる。
【0061】以上説明したように、本第4実施形態によ
れば、上述した第1実施形態と略同一の効果を得ること
ができる。加えて、1つの行の調整用TFT61がオン
状態となってから次にオフ状態となるまでの時間が十分
に確保されるために、より安定した動作をさせることが
できる。
【0062】第5実施形態 図12は本発明の第5実施形態による放射線検出器の動
作を説明するためのタイムチャートである。第5実施形
態が上述した第4実施形態と異なるところは、1行の調
整用TFT61のオフ状態の期間を2行分の読取用TF
T33の読出時間を含むように設定して、2つの行の調
整用TFT61を交互にオン/オフさせるようにした点
である。これ以外の構成は第4実施形態と略同一である
ので、その説明を省略する。
【0063】次にこの放射線検出器の動作について説明
する。図12に示すように、ゲートドライバ21Aは、
1行目乃至4行目の各読出用TFT33に垂直選択線5
を介して制御信号a13(a14,a15,a16)を供給し
て、順次オン/オフさせると共に、ゲートドライバ22
Aは、各行の調整用TFT61に各調整部制御線7を介
して制御信号b6 (b7 )を供給し、各読出用TFT3
3のオン/オフ状態に対応させて各調整用TFT61を
オン/オフさせる。
【0064】ここで、コントロール部25Aの制御の
下、ゲートドライバ22Aは1行目の調整部制御線7上
を送られる制御信号b6 をオフ電圧とし、これと略同時
にゲートドライバ21Aは例えば1行目の垂直選択線5
上を送られる制御信号a13をオン電圧とする。
【0065】ゲートドライバ21Aは所定の読出時間が
経過すると制御信号a13をオフ電圧とし、これと略同時
にゲートドライバ22Aは制御信号b6 をオフ電圧のま
まとして制御信号b7 をオン電圧とし、コントロール部
25Aは積分回路23をリセットする。
【0066】これにより、読出用TFT33がオン状態
となった各画素のキャパシタ32に蓄積された電荷が上
記読出用TFT33を介して信号線4に流れ、積分回路
23によって読み出される。
【0067】そして次の水平方向走査周期においては、
ゲートドライバ22Aは制御信号b6 はオフ電圧のまま
として、制御信号b7 をオフ電圧とし、これと略同時に
ゲートドライバ21Aは2行目の垂直選択線5上を送ら
れる制御信号a14をオン電圧とし、この行の信号を読み
出す。
【0068】次に、ゲートドライバ22Aは制御信号b
7 はオフ電圧のままとして、制御信号b6 をオフ電圧と
し、これと略同時にゲートドライバ21Aは3行目の垂
直選択線5上を送られる制御信号a15をオン電圧とし、
この行の信号を読み出す。
【0069】この後、ゲートドライバ22Aは制御信号
b6 はオフ電圧のままとして制御信号b7 をオフ電圧と
し、これと略同時にゲートドライバ21Aは4行目の垂
直選択線5上を送られる制御信号a16をオン電圧とし、
この行の信号を読み出す。
【0070】このように、ゲートドライバ22Aは各行
の画素の電荷の読出し時に対応させて、制御信号b6 ,
b7 を交互にオフ電圧とする。以上のように、動作を繰
り返して1枚の画像を読み出す。
【0071】以上説明したように、本第5実施形態によ
れば、上述した第4実施形態と略同一の効果を得ること
ができる。
【0072】以上、本発明の実施形態を詳述したきた
が、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではな
い。例えば、上述した実施形態では、光電変換素子とし
てセレンを用いる場合について述べたが、増感紙とフォ
トダイオードとの組合せを用いるようにしても良い。
【0073】また、第1実施形態では、コンデンサ9
1,92の容量Cgs,Cgs.subが等しい場合について述
べたが、容量Cgs,Cgs.subが異なる場合は、(8)式
が成り立つように、ゲートオン電圧Von.sub及びゲート
オフ電圧Voff.subを決定する。
【0074】 Cgs(Von−Voff )=Cgs.sub(Von.sub−Voff.sub) ・(8) また、第1実施形態では、図1及び図13(a)に示す
ように、調整用TFT61に容量62を接続した場合に
ついて説明したが、図13(b)に示すように、調整用
TFT61の一端を接地しても良い。図13(c)に示
すように、調整用TFT61の一端を定電位に維持する
ようにしても良い。さらに、図13(d)に示すよう
に、調整用TFT61の一端を開放しても良い。
【0075】但し、図13(b)に示したような調整用
TFT61に接地を接続する方式を採用する際には、何
らかの原因で調整用TFT61のソース・ドレイン間に
電位差が生じたときに電荷の出入りがあるので、ノイズ
の発生に留意する。また、図13(c)に示すような調
整用TFT61に定電位を接続する方式を採用する際に
は、調整用TFT61のソース・ドレイン間の電位差に
よるリーク電流の発生に留意する。また、図13(d)
に示すような調整用TFT61の一端を開放する際に
は、接続しなかった側のCgsの影響によって生じる調整
用TFTのソース・ドレイン間の電位差に留意する。
【0076】また、第2実施形態では、同時に2本の垂
直選択線4をオンにして、2画素を同時に読み出すよう
な駆動を行う場合について述べたが、同時に3本以上の
n本の垂直選択線4をオンにして、n画素を同時に読み
出すようにしても良い。
【0077】一般に、同時にn本の垂直選択線4をオン
にして、n画素を同時に読み出すようにする場合は、ゲ
ートオン電圧Von-sub2 とゲートオフ電圧Voff.sub2と
の差Von.sub2 −Voff.sub2について、(9)式が成り
立つ。
【0078】 Von.sub2 −Voff.sub2=n(Von.sub−Voff.sub) ・(9) また、第3実施形態では、同時に2本の垂直選択線をオ
ンにして、2画素を同時に読み出すような駆動を行う場
合について説明したが、n本の垂直選択線を同時にオン
とするような駆動を行うようにしても良い。この場合に
は、調整用TFTのゲートに与えるゲートオン電圧とゲ
ートオフ電圧との差がn倍になるような電圧を与えるよ
うにする。
【0079】また、第3実施形態において、コンデンサ
91,92の容量Cgs,Cgs.subが異なる場合は、調整
用TFT61のゲートに与えるゲートオン電圧Vonとゲ
ートオフ電圧Voff を調整することにより、読出用TF
T32のスイッチングによるオフセット電圧の影響を最
小にする。
【0080】また、第4実施形態では、2行の調整用T
FTを交互にオン/オフさせて垂直選択線を1本ずつ選
択する場合の駆動方法について述べたが、2行の調整用
TFTのうち、一方の調整用TFTのゲートに接続され
る調整部制御線7を常にオフ状態とし、他方の調整用T
FTを第1実施形態の場合と同様に駆動することによっ
て、垂直選択線を1本ずつ選択するようにしても良い。
【0081】また、第4実施形態では、調整用TFT6
1の信号線4と反対側の端子を容量に接続する場合につ
いて述べたが、開放させるようにしても良い(図13
(d)参照)。
【0082】また、第5実施形態では、第1実施形態の
場合と同様に、調整用TFT61に容量を接地する他
に、接地を接続するようにしても良いし、定電位を接続
しても良いし、さらに、何も接続せずに開放しても良い
(図13(a)〜図13(d)参照)。
【0083】第6実施形態 図14に示すように、上述した第1〜第5実施形態で
は、複数の画素3及びダミー画素9のアレイは一つのセ
クションにデザインされていた。これに対して、第6実
施形態では、複数の画素3及びダミー画素9のアレイ
は、複数のセクションに分かれてデザインされる。
【0084】図15乃至図19に示すように、2つ又は
4つのセクションが形成される。検出視野の大きさによ
って信号を上下2方向から読み出す場合や垂直選択線5
を左右2方向から駆動させる場合がある。垂直選択線5
の信号が、各セクション毎に鈍り方などに違いが生じる
ために、各セクション毎に、調整部制御線7をそれぞれ
独立に制御することが必要となる。また、1本の信号線
4に対して複数の調整用制御部を持つこともある。
【0085】調整用制御線7には、通常の画素と同じよ
うなダミー画素(調整部)9が繋がる。このダミー画素
9は、信号電荷を蓄積させないことが特徴である。この
ダミー画素9に、信号電荷が蓄積すると、画素3のTF
Tのオフセットを正しくキャンセルできない。このた
め、光電変換素子が無いか、光電変換素子が有っても、
ダミー画素9のTFTに接続させない構造とする。ま
た、調整用TFTは、画素3の読み出し用TFTと同じ
構造を持つ方が良く、オフセットの原因であるチャージ
インジェクションの発生に関与する容量、つまり、信号
線4と垂直選択線5との間の容量と、信号線4と調整用
制御線7との間の容量が同じになるような構造を持つ方
が良い(図20(a)乃至図20(d))。また、ダミ
ー画素9の画素容量については、いくつかの場合が考え
られる。画素容量を持つ場合、定電位に接続される場
合、開放端とする場合などがある(図20(d))。
【0086】また、各セクションにおける、垂直選択線
5の信号と調整用制御線7の信号の調整を行う必要があ
る。この調整には、オン/オフの切り替えるタイミング
と、時定数と、振幅及び電圧値とを制御する。理想的に
は、垂直選択線5の信号と調整用制御線7の信号の時定
数、タイミングを一致させるべきであるが、実際、これ
らを完全に一致させることは困難である。また、複数の
垂直選択線5の信号と最低1本の調整用制御線7とで、
補正を行う必要があり、垂直選択線5のばらつきを考え
ると、一定の調整用制御線7で、すべての垂直選択線5
の信号とタイミング、時定数を一致させることは困難で
ある。実際には、積分回路などの後段の回路で、信号が
飽和しない程度に調整すれば良い。この場合、図21に
示すように、過渡状態において、積分回路の出力値ピー
クを持つが、このピークが、飽和に達しなければ良い。
【0087】また、調整用制御線7の信号の振幅につい
ては、同時にオンする垂直選択線5の本数や関与する容
量によって異なってくる。関与する容量は、垂直選択線
5と信号線4間の容量であり、これをCgsとし、調整用
制御線7と信号線4の容量をCgs sub、垂直選択線5の
オン・オフ電圧をそれぞれVon,Voff 、調整用制御線
7のオン・オフ電圧をそれぞれVon sub,Voff sub 、
とすると、理想的には、 (Von・sub−Voff・sub)×Cgs・sub=(Von−Vof
f)×Cgs が成り立つように、Von sub,Voff sub を選べば、垂
直選択線4によるオフセットをキャンセルすることがで
きる。
【0088】また、同時にS本(Sは自然数)の垂直選
択線5をON状態にし、T本(Tは自然数)の調整用制
御線7を用いて、オフセットをキャンセルする場合に
は、 T×(Von・sub−Voff・sub)×Cgs・sub=S×(V
on−Voff)×Cgs が成り立つように、Von sub,Voff sub を選べば良
い。
【0089】第7実施形態 画素3に信号が無かった場合には、積分回路の出力は0
付近になる。信号電荷が一方向にしか蓄積されなくて、
積分回路が正負両側に出力できる場合には、およそ半分
のレンジしか使用しないことになり、ダイナミックレン
ジを無駄にしていることになる。そこで、信号電荷と逆
極性の電荷が発生するように調整用制御線7のオン・オ
フ電圧をシフトし、積分回路のダイナミックレンジを最
大限に利用できるようにすることができる(図22)。
【0090】例えば、積分回路のオフセット調整を行い
たい場合、シフト後のオン電圧をVon・sub´、オフ電
圧をVoff・sub´とすれば、シフト電圧ΔVon・off・s
ubにしたがって、シフトする。
【0091】Von・sub´−Voff・sub´=Von・sub−
Voff・sub+ΔVon・off・sub シフト電圧ΔVon・off・subは、積分回路のキャパシタ
をCint 、オフセットさせたい電圧をΔVとすれば、 ΔV×Cint =ΔVon・off・sub×Cgs sub を満たすように設定される。
【0092】第8実施形態 なお、振幅については、上記関係より決めることができ
るが、調整用制御線7のオン・オフの電圧値について
は、調整用制御用のTFTが常にOFFの領域(リーク
電流が小さい領域:ΔVbetter図23中)で、動作でき
るようにオン電圧でも、十分小さくした方がよい。これ
により、調整用制御線7に繋がるダミー画素9内部の影
響を最低限に抑えることができる。
【0093】第9実施形態 実際、各垂直選択線5に繋がるTFTにばらつきがあっ
たり、垂直選択線5に信号を与えるゲートドライバにば
らつきがあったり、画素から積分回路までの距離に違い
があったりする為に、単純にオン・オフを繰り返す調整
用制御線7では、十分に補正しきれない場合も存在す
る。このような際に、調整用制御線7の電圧を各垂直選
択毎に調整することにより、微妙なばらつきも補正する
ことができる。このため、図24,図25に示すよう
に、垂直選択線5毎に、調整用制御線7の駆動情報(時
定数、タイミング)を保持しておく為のメモリ26を設
け、それに応じた電圧をコントロール部25の制御で発
生させることを必要とする。
【0094】なお、上述した全ての実施形態において、
積分回路の出力から信号成分を抽出する為に、出力波形
をサンプリングする。そのサンプリング方法として、2
つの方法がある。1つの方法は、読み出しTFTのオン
直前(S/H0)と読み出しTFTのオフ直前(S/H
1)の2個所をサンプリングし、その差を出力とする方
法である。この場合、画素からの信号転送時間を十分に
確保することができる一方、各読み出し用TFTによる
チャージインジェクションのばらつきも信号に含まれて
しまうという問題がある。
【0095】もう一つの方法は、図26に示すように、
読み出しTFTのオン直前(S/H0)と、読み出しT
FTのオフ後(S/H2)の2個所をサンプリングし、
その差を出力(信号)とする方法である。この方法の場
合、画素からの信号電荷転送時間は短くなるが、読み出
しTFTのオン・オフ動作が含まれる為に、読み出しT
FTによるチャージインジェクションが自己のオン・オ
フによってキャンセルされ、読み出しTFT個々のばら
つきがキャンセルできる。
【0096】ただし、積分回路の積分容量が小さい場合
には、読み出しTFTをオンにした際に飽和してしま
う。そのために、前記調整用TFTを駆動することによ
り、チャージインジェクションによる飽和を回避するこ
とができる。つまり、一時的な飽和は、垂直選択線5に
よるものと調整用制御線7によるものにおいて、キャン
セルし、固体差によるばらつきは、読み出しTFTも調
整用TFTも、それぞれオン動作、オフ動作の2つの動
作を行うことにより、自己のチャージインジェクション
でキャンセルすることができる。これにより、面内分布
を抑えることができる。
【0097】第10実施形態 図27A、図27Bに示すように、一つのセクション内
で、調整用制御線7を複数備える場合、そのうちの全数
ではない調整用制御線7に点欠陥及び線欠陥が生じた際
に、その制御線7を使用せずに、残りの調整用制御線7
で、チャージインジェクションのキャンセルを補償す
る。その際、欠陥ライン分の電荷を発生させるために、
使用する調整用制御線7の振幅を増幅させることにより
対応する。もし、点欠陥が存在する調整用制御線7を用
いた場合、点欠陥のある信号線4が正しく補正されずに
欠陥ラインとして画像に現れることになる。つまり、欠
陥の調整用制御線7を使用しないことにより、画像への
影響を最小限に抑えることが可能となる。
【0098】調整用制御線7を用いずに、チャージイン
ジェクションによる飽和を防ぐ方法として、積分回路の
入力端に直接電荷を入力してチャージインジェクション
をキャンセルする方法がある。一つの方法として、積分
回路の入力端に容量の片側を接続し、容量の他端の電圧
を変化させることにより、電荷を入力することができ
る。電圧を変化させる方法として、一定のパルス信号を
与える方法がある。上記の場合と同様に、タイミングや
時定数や振幅についても、画素毎に対応して変化させる
ことにより、より正確な補正が可能となる。このような
場合には、画素情報を保存しておくメモリとその情報に
従って信号を発生させるドライバを必要とする。
【0099】変形例1 図28(a),図28(b),図28(c)に示すよう
に、積分回路に差動アンプを使用していた場合には、信
号入力とは異なる入力端に、容量を接続しても同様の効
果が得られる。
【0100】変形例2 上述した全ての放射線検出器は、放射線診断装置、例え
ばX線診断装置に適用可能である。図29には、放射線
検出器を適用したX線診断装置の構成を示している。X
線を発生するためのX線発生源303に対して、被検体
を載置する寝台302を挟んで、放射線検出器301を
配置する。X線発生源303及び放射線検出器301
は、被検体に対するアングルを任意に変えることができ
るように、Cアーム形スタンド310に保持されてい
る。このアングルの制御は、システムコントロール部3
04により行われる。システムコントロール部304に
は入力デバイス309が接続される。入力デバイス30
9からは、透視/撮影選択指令が入力される。システム
コントロール部304は、入力された透視/撮影選択指
令に従って、X線の照射条件及び検出器301の画像収
集条件を制御する。ディスプレイ307は、放射線検出
器301で収集された画像、画像処理部306で処理さ
れた画像を表示するために設けられている。また、画像
記録部308は、放射線検出器301で収集された画
像、画像処理部306で処理された画像を記録するため
に設けられている。
【0101】システムコントロール部304は、X線発
生源303からのX線発生シーケンスと、放射線検出器
301の画像収集シーケンスとの同期をとるための制御
信号を、X線発生源303と放射線検出器301とに供
給する。また、システムコントロール部304は、シス
テムコントロール部304に接続された入力デバイス3
09から入力される透視/撮影選択指令に従って、駆動
速度と解像度との関係を選択し、それに応じて放射線検
出器301に対して同時にオンする垂直選択線5の本数
及び同時にオンする制御線7の本数、垂直選択線5の駆
動電圧及び制御線7の駆動電圧を設定するための制御信
号を放射線検出器301のコントローラ22に供給す
る。なお、入力デバイス309から、同時にオンする垂
直選択線5の本数及び同時にオンする制御線7の本数、
垂直選択線5の駆動電圧及び制御線7の駆動電圧が直接
的に入力されるようになっていてもよい。これら制御信
号は、電圧及び駆動本数を直接的に決定する信号であっ
ても、検出器301の透視/撮影の駆動モードを選択す
ることで電圧及び駆動本数を間接的に決定する信号であ
ってもよい。なお、間接的な制御信号は、検出器301
の内部にあるコントロール部22で直接的な信号に変換
される。
【0102】これにより検出器301に対して各種駆動
モード毎に最適なオフセットキャンセルを機能させるこ
とができ、術者の望む画像を収集することができる。本
発明は、上述した実施形態に限定されることなく、種々
変形して実施可能である。
【0103】
【発明の効果】本発明の放射線検出器は、マトリクス状
に配列された入射放射線を電荷に変換する複数の電荷変
換素子と、この電荷変換素子で発生する電荷を蓄積する
複数のキャパシタと、このキャパシタに蓄積された電荷
を読み出す電荷読出素子とを備えている。電荷読出素子
のオン/オフ切替等により生じる、キャパシタに蓄積さ
れた電荷以外の電荷は、調整手段によりキャンセルされ
る。これによりS/N比は向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の放射線検出器の構成図。
【図2】従来の動作説明図。
【図3】従来の画素及び積分回路の等価回路図。
【図4】本発明の第1実施の形態による放射線検出器の
構成図。
【図5】第1実施の形態の動作説明図。
【図6】図4の積分回路の出力信号を示す図。
【図7】図4の画素、ダミー画素及び積分回路の等価回
路図。
【図8】本発明の第2実施の形態の動作説明図。
【図9】本発明の第3実施の形態による放射線検出器の
構成図。
【図10】第3実施の形態の動作説明図。
【図11】本発明の第4実施の形態の動作説明図。
【図12】本発明の第5実施の形態の動作説明図。
【図13】図4のダミー画素のバリエーションを示す
図。
【図14】第1乃至第5実施の形態の画素アレイの平面
略図。
【図15】第6実施の形態に係る画素アレイセクション
のバリエーション1を示す図。
【図16】第6実施の形態に係る画素アレイセクション
のバリエーション2を示す図。
【図17】第6実施の形態に係る画素アレイセクション
のバリエーション3を示す図。
【図18】第6実施の形態に係る画素アレイセクション
のバリエーション4を示す図。
【図19】第6実施の形態に係る画素アレイセクション
のバリエーション5を示す図。
【図20】図14−図19のダミー画素のバリエーショ
ンを示す図。
【図21】第6実施の形態において、ダミー画素の出力
エラーに対する許容性を示す図。
【図22】本発明の第7実施の形態の動作説明図。
【図23】本発明の第8実施の形態において、ダミー画
素のTFTに対するゲート信号の適正範囲を示す図。
【図24】本発明の第9実施の形態による放射線検出器
の構成図。
【図25】第9実施の形態の動作説明図。
【図26】第1乃至第9実施の形態において、積分回路
の出力信号に対するサンプリング動作説明図。
【図27】(a)は本発明の第10実施の形態による放
射線検出器の構成図、(b)は図27(a)のコントロ
ール部の制御に従ってゲートドライバからダミー画素の
TFTに与えられるゲート信号を示す図。
【図28】第1乃至第10実施の形態において、積分回
路の変形例を示す図。
【図29】第1乃至第10実施の形態の放射線検出器を
搭載した放射線診断装置の構成図。
【符号の説明】
1…X線検出部、 2…読出回路部、 3…画素、 4…信号線、 5…垂直選択線、 6…調整部、 7…制御線、 9…ダミー画素、 21…ゲートドライバ、 22…ゲートドライバ、 23…積分回路、 24…マルチプレクサ、 25…コントロール部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 27/146 H04N 1/028 A 27/14 5/32 31/09 7/18 L H04N 1/028 H01L 27/14 C 5/32 K 7/18 31/00 A (72)発明者 永井 清一郎 東京都北区赤羽2丁目16番4号 東芝医用 システムエンジニアリング株式会社内 (72)発明者 田中 学 栃木県大田原市下石上1385番の1 株式会 社東芝那須工場内 (72)発明者 坂口 卓弥 栃木県大田原市下石上1385番の1 株式会 社東芝那須工場内

Claims (52)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入射放射線を電荷に変換する電荷変換素
    子と、 前記変換された電荷を蓄積するキャパシタと、 前記蓄積された電荷を読み出す電荷読出素子と、 前記キャパシタから前記電荷読出素子を介して読み出さ
    れる信号を調整するために、前記キャパシタに蓄積され
    た電荷による信号以外の信号をキャンセルする調整手段
    とを具備することを特徴とする放射線検出器。
  2. 【請求項2】 前記調整手段は、前記キャパシタに蓄積
    された電荷以外の電荷をキャンセルすることを特徴とす
    る請求項1記載の放射線検出器。
  3. 【請求項3】 前記調整手段は、前記電荷読出素子と同
    じ基板上に形成されることを特徴とする請求項1記載の
    放射線検出器。
  4. 【請求項4】 前記電荷読出素子は、スイッチング素子
    であることを特徴とする請求項1記載の放射線検出器。
  5. 【請求項5】 前記電荷読出素子は、薄膜トランジスタ
    であることを特徴とする請求項1記載の放射線検出器。
  6. 【請求項6】 前記調整手段は、前記電荷読出素子と同
    一の製造プロセスで製造された素子を有することを特徴
    とする請求項1記載の放射線検出器。
  7. 【請求項7】 前記調整手段は、ダイオード又はキャパ
    シタから構成されることを特徴とする請求項1記載の放
    射線検出器。
  8. 【請求項8】 入射した放射線を電荷に変換する電荷変
    換素子と、 前記変換された電荷を蓄積するキャパシタと、 前記蓄積された電荷を読み出す電荷読出素子と、 前記キャパシタから前記電荷読出素子を介して読み出さ
    れる信号を調整するために、前記電荷読出素子のオン/
    オフの間での状態変化に起因して発生する電荷をキャン
    セルする調整手段とを具備することを特徴とする放射線
    検出器。
  9. 【請求項9】 前記調整手段は、前記電荷読出素子と同
    じ基板上に形成されることを特徴とする請求項8記載の
    放射線検出器。
  10. 【請求項10】 前記電荷読出素子は、薄膜トランジス
    タであることを特徴とする請求項8記載の放射線検出
    器。
  11. 【請求項11】 入射した放射線を電荷に変換する電荷
    変換素子と、 前記変換された電荷を蓄積するキャパシタと、 前記蓄積された電荷を読み出す電荷読出素子と、 前記キャパシタから前記電荷読出素子を介して読み出さ
    れる信号を調整するために、前記キャパシタから前記電
    荷読出素子を介して電荷が読み出される期間には前記電
    荷読出素子から電気的に切り離され、前記期間以外では
    前記電荷読出素子に電気的に接続される調整手段とを具
    備することを特徴とする放射線検出器。
  12. 【請求項12】 前記調整手段は、前記電荷読出素子と
    同じ基板上に形成されることを特徴とする請求項11記
    載の放射線検出器。
  13. 【請求項13】 前記電荷読出素子は、薄膜トランジス
    タであることを特徴とする請求項11記載の放射線検出
    器。
  14. 【請求項14】 入射した放射線を電荷に変換する電荷
    変換素子と、 前記変換された電荷を蓄積するキャパシタと、 前記蓄積された電荷を読み出す電荷読出素子と、 この電荷読出素子を介して読み出された電荷を積分する
    積分回路と、 前記積分回路に読み出される信号を調整するために、前
    記電荷が読み出される期間には前記電荷読出素子及び前
    記積分回路から電気的に切り離され、前記期間以外では
    前記電荷読出素子及び前記積分回路に電気的に接続され
    る調整手段とを具備することを特徴とする放射線検出
    器。
  15. 【請求項15】 前記調整手段は、前記電荷読出素子と
    前記積分回路との間に設けられることを特徴とする請求
    項14記載の放射線検出器。
  16. 【請求項16】 入射した放射線を電荷に変換する電荷
    変換素子と、 前記変換された電荷を蓄積するキャパシタと、 前記蓄積された電荷を読み出す読出用スイッチング素子
    と、 前記読み出された電荷を積分する積分回路と、 前記キャパシタから前記スイッチング素子を介して前記
    積分回路に読み出される信号を調整するための調整用ス
    イッチング素子と、 前記読出用スイッチング素子と前記調整用スイッチング
    素子とを駆動するドライバと、 前記読出用スイッチング素子と前記調整用スイッチング
    素子とを逆相で動作させるために前記ドライバを制御す
    るコントロール部とを具備することを特徴とする放射線
    検出器。
  17. 【請求項17】 前記調整手段は、前記電荷読出素子と
    前記積分回路との間に設けられることを特徴とする請求
    項16記載の放射線検出器。
  18. 【請求項18】 前記読出用スイッチング素子と前記調
    整用スイッチング素子とはそれぞれ薄膜トランジスタで
    あることを特徴とする請求項16記載の放射線検出器。
  19. 【請求項19】 前記コントロール部は、前記調整用ス
    イッチング素子がオフ状態にある期間を含む期間以外
    に、前記積分回路にリセット信号を供給することを特徴
    とする請求項16記載の放射線検出器。
  20. 【請求項20】 前記調整用スイッチング素子の前記積
    分回路と反対側は信号電荷が蓄積されない構造になって
    いることを特徴とする請求項16記載の放射線検出器。
  21. 【請求項21】 前記調整用スイッチング素子の前記積
    分回路と反対側の端子は所定電位に設定されることを特
    徴とする請求項16記載の放射線検出器。
  22. 【請求項22】 前記調整用スイッチング素子の前記積
    分回路と反対側の端子は接地されることを特徴とする請
    求項16記載の放射線検出器。
  23. 【請求項23】 前記調整用スイッチング素子の前記積
    分回路と反対側の端子には容量性素子が接続されること
    を特徴とする請求項16記載の放射線検出器。
  24. 【請求項24】 前記キャパシタを前記積分回路に接続
    するための信号線と前記調整用スイッチング素子の開閉
    ための制御線との間の容量は、前記信号線と前記読出用
    スイッチング素子の開閉ための垂直選択線との間の容量
    に対して、略等価であることを特徴とする請求項16記
    載の放射線検出器。
  25. 【請求項25】 前記電荷変換素子、前記キャパシタ及
    び前記読出用スイッチング素子は複数の信号線と複数の
    垂直選択線との交点にそれぞれ配置され、前記信号線各
    々に対して前記調整用スイッチング素子が少なくとも1
    つずつ設けられ、前記調整用スイッチング素子は少なく
    とも1本の制御線に共通接続されることを特徴とする請
    求項16載の放射線検出器。
  26. 【請求項26】 前記電荷変換素子、前記キャパシタ及
    び前記読出用スイッチング素子は、第1セクション内に
    おいて複数の第1信号線と複数の第1垂直選択線との交
    点に配置され、前記第1セクションに垂直方向に隣接す
    る第2セクション内において複数の第2信号線と複数の
    第2垂直選択線との交点に配置され、前記第1、第2信
    号線各々に対して前記調整用スイッチング素子が少なく
    とも1つずつ設けられ、前記調整用スイッチング素子は
    前記第1セクション内において第1制御線に共通接続さ
    れ、前記第2セクション内において第2制御線に共通接
    続されることを特徴とする請求項16載の放射線検出
    器。
  27. 【請求項27】 前記電荷変換素子、前記キャパシタ及
    び前記読出用スイッチング素子は、第1セクション内に
    おいて複数の第1信号線と複数の第1垂直選択線との交
    点に配置され、前記第1セクションに水平方向に隣接す
    る第2セクション内において複数の第2信号線と複数の
    第2垂直選択線との交点に配置され、前記第1、第2信
    号線各々に対して前記調整用スイッチング素子が少なく
    とも1つずつ設けられ、前記調整用スイッチング素子は
    前記第1セクション内において第1制御線に共通接続さ
    れ、前記第2セクション内において第2制御線に共通接
    続されることを特徴とする請求項16記載の放射線検出
    器。
  28. 【請求項28】 前記電荷変換素子、前記キャパシタ及
    び前記読出用スイッチング素子は複数の信号線と複数の
    垂直選択線との交点にそれぞれ配置され、前記信号線各
    々に対して前記調整用スイッチング素子が所定数(2以
    上)ずつ設けられ、前記調整用スイッチング素子は所定
    数ずつ制御線に共通接続されることを特徴とする請求項
    16記載の放射線検出器。
  29. 【請求項29】 前記コントロール部は、前記制御線の
    印加電圧を個別に調整することを特徴とする請求項28
    記載の放射線検出器。
  30. 【請求項30】 前記コントロール部は、同時に電圧印
    加する制御線の本数を、同時に電圧印加する垂直選択線
    と同じ本数に設定することを特徴とする請求項28記載
    の放射線検出器。
  31. 【請求項31】 前記コントロール部は、前記垂直選択
    線及び前記制御線各々の電圧印加タイミング及び/又は
    過渡特性を個別に調整することを特徴とする請求項27
    記載の放射線検出器。
  32. 【請求項32】 前記コントロール部は、前記制御線各
    々の電圧印加タイミングを、前記垂直選択線各々の電圧
    印加タイミング及び/又は過渡特性に応じて変えること
    を特徴とする請求項28記載の放射線検出器。
  33. 【請求項33】 前記コントロール部は、前記読出用ス
    イッチング素子と前記調整用スイッチング素子のオン電
    圧とオフ電圧を、素子毎に設定することを特徴とする請
    求項28記載の放射線検出器。
  34. 【請求項34】 前記コントロール部は、前記制御線の
    印加電圧を前記垂直選択線各々に応じて変えることを特
    徴とする請求項28記載の放射線検出器。
  35. 【請求項35】 前記コントロール部は、前記制御線の
    印加電圧を、前記調整用スイッチング素子がオフ状態に
    ある電圧範囲内から選択することを特徴とする請求項2
    8記載の放射線検出器。
  36. 【請求項36】 前記コントロール部は、前記読出用ス
    イッチング素子のオン電圧とオフ電圧との差と、対応す
    る信号線と垂直選択線との間に形成される容量との積
    が、前記調整用スイッチング素子のオン電圧とオフ電圧
    との差と、対応する信号線と制御線との間に形成される
    容量との積に略等価になるように、前記読出用スイッチ
    ング素子のオン電圧及びオフ電圧と、同時駆動する制御
    線の本数とを制御することを特徴とする請求項28記載
    の放射線検出器。
  37. 【請求項37】 前記信号線と前記垂直選択線との間に
    形成される容量と、前記信号線と前記制御線との間に形
    成される容量とが略同一であり、前記コントロール部
    は、前記読出用スイッチング素子及び前記調整用スイッ
    チング素子をオン/オフする際に、前記読出用スイッチ
    ング素子のオン電圧とオフ電圧との差と、同時に電圧印
    加する垂直選択線の本数との積が、前記調整用スイッチ
    ング素子のオン電圧とオフ電圧との差と、同時に電圧印
    加する制御線の本数との積に対して、略等価になるよう
    に、前記読出用スイッチング素子のオン電圧及びオフ電
    圧と、前記調整用スイッチング素子のオン電圧及びオフ
    電圧とを制御することを特徴とする請求項28記載の放
    射線検出器。
  38. 【請求項38】 入射した放射線を電荷に変換する電荷
    変換素子と、 前記変換された電荷を蓄積するキャパシタと、 前記蓄積された電荷を読み出す読出用スイッチング素子
    と、 前記読み出された電荷を積分する積分回路と、 前記キャパシタから前記スイッチング素子を介して前記
    積分回路に読み出される信号を調整するための調整用ス
    イッチング素子と、 前記読出用スイッチング素子と前記調整用スイッチング
    素子とを駆動するドライバと、 前記読出用スイッチング素子と前記調整用スイッチング
    素子とを逆相で動作させるために前記ドライバを制御す
    るコントロール部とを具備し、 前記コントロール部は、前記調整用スイッチング素子の
    オン電圧とオフ電圧との差を、前記読出用スイッチング
    素子のオン電圧とオフ電圧との差よりも大きく設定する
    ことを特徴とする放射線検出器。
  39. 【請求項39】 前記スイッチング素子のオン/オフ電
    圧の差は、前記積分回路が出力し得る電圧幅に略一致す
    ることを特徴とする請求項38記載の放射線検出器。
  40. 【請求項40】 前記スイッチング素子のオン/オフ電
    圧の差は、オン電圧をVon・sub、オフ電圧をVoff・su
    b、シフト後のオン電圧をVon・sub´、シフト後のオフ
    電圧をVoff・sub´、シフト電圧をΔVon・off・subと
    すれば、 Von・sub´−Voff・sub´=Von・sub−Voff・sub+
    ΔVon・off・sub を満たすようにシフトされ、 前記シフト電圧ΔVon・off・subは、前記積分回路のキ
    ャパシタをC(nt 、オフセット電圧をΔV、前記調整
    用スイッチング素子のための制御線と前記電荷のための
    信号線との間の容量をCgs subとすれば、 ΔV×Cint =ΔVon・off・sub×Cgs sub を満たすように設定されることを特徴とする請求項38
    記載の放射線検出器。
  41. 【請求項41】 前記コントロール部は、ある調整用ス
    イッチング素子の欠陥を、その調整用スイッチング素子
    と同じ信号線に接続されている他の調整用スイッチング
    素子で補償させることを特徴とする請求項28記載の放
    射線検出器。
  42. 【請求項42】 前記積分回路の出力は、前記読出用ス
    イッチング素子のオン直前とオフ直前との2回サンプリ
    ングされることを特徴とする請求項16記載の放射線検
    出器。
  43. 【請求項43】 前記積分回路の出力は、前記読出用ス
    イッチング素子のオン直前とオフ直後との2回サンプリ
    ングされることを特徴とする請求項16記載の放射線検
    出器。
  44. 【請求項44】 入射した放射線を電荷に変換する電荷
    変換素子と、 前記変換された電荷を蓄積するキャパシタと、 前記キャパシタに蓄積された電荷を読み出す電荷読出素
    子と、 前記読み出された電荷を積分する積分回路と、 前記積分回路と並列に設けられたオフセット調整用のキ
    ャパシタと、 前記オフセット調整用のキャパシタに接続された、任意
    の電圧及び過渡特性を与えるための読出制御手段とを具
    備することを特徴とする放射線検出器。
  45. 【請求項45】 前記読出制御手段は、前記オフセット
    調整用のキャパシタに与える信号の過渡特性を、垂直選
    択線毎に調整するために、メモリ機能及び過渡特性制御
    手段を有することを特徴とする請求項44に記載の放射
    線検出器。
  46. 【請求項46】 前記読出制御手段は、前記オフセット
    調整用のキャパシタに与える信号の電圧を、垂直選択線
    毎に調整するために、メモリ機能及び電圧制御手段を有
    することを特徴とする請求項44に記載の放射線検出
    器。
  47. 【請求項47】 被検体に対して放射線を照射する放射
    線発生源と、前記被検体を挟んで前記放射線発生源と対
    向配置され、前記被検体を透過した放射線を検出する放
    射線検出器とを有する放射線診断装置において、 前記放射線検出器は、 マトリクス状に配列された入射放射線を電荷に変換する
    電荷変換素子と、 前記変換された電荷を蓄積するキャパシタと、 前記蓄積された電荷を読み出す電荷読出素子と、 前記キャパシタに蓄積された電荷以外の電荷をキャンセ
    ルするための調整手段とを備えることを特徴とする放射
    線診断装置。
  48. 【請求項48】 被検体に対して放射線を照射する放射
    線発生源と、前記被検体を挟んで前記放射線発生源と対
    向配置され、前記被検体を透過した放射線を検出する放
    射線検出器と、この放射線検出器で得られた信号を医用
    画像として表示する画像表示装置と、これら全体を制御
    するシステム制御装置とを有する放射線診断装置におい
    て、 前記放射線検出器は、 マトリクス状に配列された入射放射線を電荷に変換する
    電荷変換素子と、 前記変換された電荷を蓄積するキャパシタと、 前記蓄積された電荷を読み出す電荷読出素子と、 前記キャパシタに蓄積された電荷以外の電荷をキャンセ
    ルするための調整手段とを備え、前記システム制御装置
    は、前記放射線検出器の動作を制御する制御信号を送
    り、その制御信号に基づいて得られた検出器信号を医用
    画像として表示することを特徴とする放射線診断装置。
  49. 【請求項49】 前記放射線発生源と前記放射線検出器
    との同期をとるためのコントロール部をさらに備えるこ
    とを特徴とする請求項47記載の放射線診断装置。
  50. 【請求項50】 前記コントロール部は、撮影条件に応
    じて、前記調整手段の動作条件を変更することを特徴と
    する請求項49記載の放射線診断装置。
  51. 【請求項51】 被検体に対して放射線を照射する放射
    線発生源と、前記被検体を挟んで前記放射線発生源と対
    向配置され、前記被検体を透過した放射線を検出する放
    射線検出器とを有する放射線診断装置において、 前記放射線検出器は、 マトリクス状に配列された入射放射線を電荷に変換する
    電荷変換素子と、 前記変換された電荷を蓄積するキャパシタと、 前記蓄積された電荷を読み出す電荷読出素子と、 前記キャパシタから前記電荷読出素子を介して読み出さ
    れる信号を調整するために、前記電荷読出素子のオン/
    オフの間での状態変化に起因して発生する電荷をキャン
    セルための調整手段とを備えることを特徴とする放射線
    診断装置。
  52. 【請求項52】 被検体に対して放射線を照射する放射
    線発生源と、前記被検体を挟んで前記放射線発生源と対
    向配置され、前記被検体を透過した放射線を検出する放
    射線検出器とを有する放射線診断装置において、 前記放射線検出器は、 マトリクス状に配列された入射放射線を電荷に変換する
    電荷変換素子と、 前記変換された電荷を蓄積するキャパシタと、 前記蓄積された電荷を読み出す電荷読出素子と、 前記キャパシタから前記電荷読出素子を介して読み出さ
    れる信号を調整するために、前記キャパシタから前記電
    荷読出素子を介して電荷が読み出される期間には前記電
    荷読出素子から電気的に切り離され、前記期間以外では
    前記電荷読出素子に電気的に接続される調整手段とを備
    えることを特徴とする放射線診断装置。
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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003087656A (ja) * 2001-09-13 2003-03-20 Toshiba Corp X線画像診断装置
US7223980B2 (en) 2002-07-05 2007-05-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Radiation detector that adjusts offset component
WO2009011465A1 (en) 2007-07-19 2009-01-22 Canon Kabushiki Kaisha Radiation detecting apparatus and radiation imaging system
JP2009044587A (ja) * 2007-08-10 2009-02-26 Fujifilm Corp 放射線画像検出器
JPWO2008012897A1 (ja) * 2006-07-27 2009-12-17 株式会社島津製作所 光または放射線撮像装置
JP2011196992A (ja) * 2010-02-26 2011-10-06 Mitsubishi Electric Corp 赤外線固体撮像素子
JP2012090032A (ja) * 2010-10-19 2012-05-10 Toshiba Corp ラインアーチファクト検出器及びその検出方法
JP2012130406A (ja) * 2010-12-20 2012-07-12 Shimadzu Corp 二次元画像撮影装置
CN102597806A (zh) * 2009-11-03 2012-07-18 皇家飞利浦电子股份有限公司 用于探测电磁辐射的探测器单元
JP2012253741A (ja) * 2011-05-12 2012-12-20 Canon Inc 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、固体撮像システム
WO2013133136A1 (ja) * 2012-03-09 2013-09-12 富士フイルム株式会社 放射線画像撮影装置、放射線画像撮影システム、放射線画像撮影装置の制御方法、及び放射線画像撮影装置の制御プログラム
JP2014037984A (ja) * 2012-08-10 2014-02-27 Canon Inc 放射線撮像装置、その製造方法、及び放射線撮像システム
US8680470B2 (en) 2011-02-01 2014-03-25 Fujifilm Corporation Radiographic imaging device, computer-readable medium storing program for controlling radiographic imaging device, and method for controlling radiographic imaging device
US8816265B2 (en) 2010-03-31 2014-08-26 Fujifilm Corporation Solid-state image pickup device and image pickup apparatus
JP2016072340A (ja) * 2014-09-29 2016-05-09 株式会社東芝 放射線検出器用アレイ基板、および放射線検出器
JP2016201665A (ja) * 2015-04-09 2016-12-01 キヤノン株式会社 放射線撮像装置および放射線撮像システム
WO2023153375A1 (ja) * 2022-02-09 2023-08-17 国立大学法人静岡大学 距離計測装置及び距離計測方法

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002151669A (ja) * 2000-11-14 2002-05-24 Toshiba Corp X線撮像装置
US7248671B2 (en) * 2002-06-26 2007-07-24 Kabushiki Kaisha Toshiba X-ray diagnosis apparatus
US6989538B2 (en) * 2003-07-22 2006-01-24 General Electric Co. Method of reducing recovery time in an x-ray detector
US7550732B2 (en) * 2004-09-30 2009-06-23 Fujifilm Corporation Radiation image detector
US7302039B2 (en) * 2005-02-24 2007-11-27 Canon Kabushiki Kaisha Radiography apparatus, radiography system, and control method thereof
JP4773768B2 (ja) * 2005-08-16 2011-09-14 キヤノン株式会社 放射線撮像装置、その制御方法及び放射線撮像システム
JP4847202B2 (ja) 2006-04-27 2011-12-28 キヤノン株式会社 撮像装置及び放射線撮像システム
JP5171431B2 (ja) * 2008-06-26 2013-03-27 株式会社ジャパンディスプレイウェスト 光電変換装置、放射線撮像装置及び放射線検出装置
US9545239B2 (en) * 2008-07-28 2017-01-17 Orthosoft Inc. X-ray detection device for C-arm tracker and method
WO2010058369A2 (en) * 2008-11-24 2010-05-27 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh X-ray detector
KR101306512B1 (ko) * 2010-03-09 2013-09-09 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼 이차원 어레이 x선 검출기의 검사 방법
JP5847472B2 (ja) * 2011-07-20 2016-01-20 キヤノン株式会社 検出装置及び検出システム
JP5583191B2 (ja) * 2011-11-25 2014-09-03 富士フイルム株式会社 放射線画像検出装置およびその作動方法
TWI488500B (zh) * 2011-12-23 2015-06-11 Ind Tech Res Inst X射線主動式畫素感測器讀取電路與讀取方法
KR20130104563A (ko) * 2012-03-14 2013-09-25 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치의 어레이 시험 장치 및 시험 방법, 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
JP2014081358A (ja) * 2012-09-27 2014-05-08 Fujifilm Corp 放射線画像検出装置
US20150256765A1 (en) * 2012-10-30 2015-09-10 Carestream Health, Inc. Charge injection compensation for digital radiographic detectors
DE102013205461A1 (de) * 2013-03-27 2014-10-16 Siemens Aktiengesellschaft Detektoreinheit
JP5886793B2 (ja) * 2013-06-11 2016-03-16 浜松ホトニクス株式会社 固体撮像装置
CN110233978B (zh) 2014-02-07 2022-03-11 拉姆伯斯公司 馈通补偿图像传感器
JP6777421B2 (ja) * 2015-05-04 2020-10-28 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
TWI738569B (zh) * 2015-07-07 2021-09-01 日商半導體能源研究所股份有限公司 成像裝置及其運作方法
EP3324609A4 (en) * 2015-07-13 2018-08-01 Sharp Kabushiki Kaisha Radiation detector
CN113805221A (zh) * 2020-06-11 2021-12-17 睿生光电股份有限公司 辐射检测装置
TWI785342B (zh) * 2020-06-11 2022-12-01 睿生光電股份有限公司 輻射偵測裝置
JP2022012182A (ja) * 2020-07-01 2022-01-17 キヤノン電子管デバイス株式会社 放射線検出器
CN115855271B (zh) * 2023-02-22 2023-05-23 昆明钍晶科技有限公司 一种具有大电荷处理能力的读出电路及红外热成像仪

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS637082A (ja) * 1986-06-27 1988-01-12 Nikon Corp アドレス方式のイメ−ジセンサの制御方法
JPS6328167A (ja) * 1986-07-22 1988-02-05 Fuji Xerox Co Ltd イメ−ジセンサの駆動装置
JPS63181370A (ja) * 1987-01-22 1988-07-26 Tokyo Electric Co Ltd 原稿読取り装置
JPH01109975A (ja) * 1987-10-23 1989-04-26 Nikon Corp イメージセンサの読出回路
JPH01185066A (ja) * 1988-01-19 1989-07-24 Sanyo Electric Co Ltd リニアイメージセンサ及びリニアイメージセンサによる画像読取方式
JPH0247980A (ja) * 1988-08-09 1990-02-16 Fuji Xerox Co Ltd 画像読取装置
JPH02183148A (ja) * 1989-01-09 1990-07-17 Toshiba Corp X線ct装置
JPH04212456A (ja) * 1990-01-27 1992-08-04 Philips Gloeilampenfab:Nv 光感知又はx線感知センサよりなる装置
JPH0946597A (ja) * 1995-07-31 1997-02-14 Sony Corp 固体撮像装置およびその駆動方法
JPH1152058A (ja) * 1997-07-30 1999-02-26 Shimadzu Corp 2次元放射線検出器
JPH1187681A (ja) * 1997-09-04 1999-03-30 Shimadzu Corp フラット・パネル形センサ
JP2000101931A (ja) * 1998-09-17 2000-04-07 Sharp Corp 固体撮像装置のクランプ回路

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3949162A (en) * 1974-02-25 1976-04-06 Actron Industries, Inc. Detector array fixed-pattern noise compensation
FR2593987B1 (fr) * 1986-01-24 1989-08-04 Thomson Csf Dispositif photosensible a l'etat solide
JPH01276887A (ja) * 1988-04-27 1989-11-07 Fuji Xerox Co Ltd 画像読取装置
JPH06105069A (ja) * 1992-09-17 1994-04-15 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 画像読取方法及びその装置
JPH06113136A (ja) * 1992-09-30 1994-04-22 Fuji Xerox Co Ltd 画像読取装置及びその画像読取方法
US5319206A (en) * 1992-12-16 1994-06-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method and apparatus for acquiring an X-ray image using a solid state device
DE4426451C2 (de) * 1994-07-26 1998-07-16 Siemens Ag Röntgendiagnostikeinrichtungen mit einem Festkörperbildwandler
US5818898A (en) * 1995-11-07 1998-10-06 Kabushiki Kaisha Toshiba X-ray imaging apparatus using X-ray planar detector
JP3415348B2 (ja) * 1995-11-07 2003-06-09 東芝医用システムエンジニアリング株式会社 X線撮像装置
US5648660A (en) * 1996-01-05 1997-07-15 Sterling Diagnostic Imaging, Inc. Method and apparatus for reducing noise in a radiation capture device
GB2318473B (en) * 1996-10-17 2000-11-29 Sony Corp Solid state imaging device,signal processing method and camera
JP3027569B2 (ja) * 1998-04-14 2000-04-04 松下電子工業株式会社 増幅型固体撮像装置、その駆動方法及び物理量分布検知半導体装置

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS637082A (ja) * 1986-06-27 1988-01-12 Nikon Corp アドレス方式のイメ−ジセンサの制御方法
JPS6328167A (ja) * 1986-07-22 1988-02-05 Fuji Xerox Co Ltd イメ−ジセンサの駆動装置
JPS63181370A (ja) * 1987-01-22 1988-07-26 Tokyo Electric Co Ltd 原稿読取り装置
JPH01109975A (ja) * 1987-10-23 1989-04-26 Nikon Corp イメージセンサの読出回路
JPH01185066A (ja) * 1988-01-19 1989-07-24 Sanyo Electric Co Ltd リニアイメージセンサ及びリニアイメージセンサによる画像読取方式
JPH0247980A (ja) * 1988-08-09 1990-02-16 Fuji Xerox Co Ltd 画像読取装置
JPH02183148A (ja) * 1989-01-09 1990-07-17 Toshiba Corp X線ct装置
JPH04212456A (ja) * 1990-01-27 1992-08-04 Philips Gloeilampenfab:Nv 光感知又はx線感知センサよりなる装置
JPH0946597A (ja) * 1995-07-31 1997-02-14 Sony Corp 固体撮像装置およびその駆動方法
JPH1152058A (ja) * 1997-07-30 1999-02-26 Shimadzu Corp 2次元放射線検出器
JPH1187681A (ja) * 1997-09-04 1999-03-30 Shimadzu Corp フラット・パネル形センサ
JP2000101931A (ja) * 1998-09-17 2000-04-07 Sharp Corp 固体撮像装置のクランプ回路

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4723767B2 (ja) * 2001-09-13 2011-07-13 株式会社東芝 X線画像診断装置
JP2003087656A (ja) * 2001-09-13 2003-03-20 Toshiba Corp X線画像診断装置
US7223980B2 (en) 2002-07-05 2007-05-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Radiation detector that adjusts offset component
JPWO2008012897A1 (ja) * 2006-07-27 2009-12-17 株式会社島津製作所 光または放射線撮像装置
WO2009011465A1 (en) 2007-07-19 2009-01-22 Canon Kabushiki Kaisha Radiation detecting apparatus and radiation imaging system
JP2009044587A (ja) * 2007-08-10 2009-02-26 Fujifilm Corp 放射線画像検出器
CN102597806A (zh) * 2009-11-03 2012-07-18 皇家飞利浦电子股份有限公司 用于探测电磁辐射的探测器单元
US8431900B2 (en) 2010-02-26 2013-04-30 Mitsubishi Electric Corporation Infrared solid-state imaging device
JP2011196992A (ja) * 2010-02-26 2011-10-06 Mitsubishi Electric Corp 赤外線固体撮像素子
US8816265B2 (en) 2010-03-31 2014-08-26 Fujifilm Corporation Solid-state image pickup device and image pickup apparatus
JP2012090032A (ja) * 2010-10-19 2012-05-10 Toshiba Corp ラインアーチファクト検出器及びその検出方法
JP2012130406A (ja) * 2010-12-20 2012-07-12 Shimadzu Corp 二次元画像撮影装置
US8680470B2 (en) 2011-02-01 2014-03-25 Fujifilm Corporation Radiographic imaging device, computer-readable medium storing program for controlling radiographic imaging device, and method for controlling radiographic imaging device
JP2012253741A (ja) * 2011-05-12 2012-12-20 Canon Inc 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、固体撮像システム
WO2013133136A1 (ja) * 2012-03-09 2013-09-12 富士フイルム株式会社 放射線画像撮影装置、放射線画像撮影システム、放射線画像撮影装置の制御方法、及び放射線画像撮影装置の制御プログラム
JP2014037984A (ja) * 2012-08-10 2014-02-27 Canon Inc 放射線撮像装置、その製造方法、及び放射線撮像システム
JP2016072340A (ja) * 2014-09-29 2016-05-09 株式会社東芝 放射線検出器用アレイ基板、および放射線検出器
JP2016201665A (ja) * 2015-04-09 2016-12-01 キヤノン株式会社 放射線撮像装置および放射線撮像システム
WO2023153375A1 (ja) * 2022-02-09 2023-08-17 国立大学法人静岡大学 距離計測装置及び距離計測方法

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