DE922733C - Lichtempfindliches Glas - Google Patents
Lichtempfindliches GlasInfo
- Publication number
- DE922733C DE922733C DEC6318A DEC0006318A DE922733C DE 922733 C DE922733 C DE 922733C DE C6318 A DEC6318 A DE C6318A DE C0006318 A DEC0006318 A DE C0006318A DE 922733 C DE922733 C DE 922733C
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- glass
- silver
- opaque
- agcl
- sio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 title claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 59
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 claims description 8
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims 1
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- YTZVWGRNMGHDJE-UHFFFAOYSA-N tetralithium;silicate Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YTZVWGRNMGHDJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 4
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 3
- WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N dilithium oxido-[oxido(oxo)silyl]oxy-oxosilane Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])=O WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 3
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- -1 hydrofluoric acid Form fluorides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
- C03C14/006—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of microcrystallites, e.g. of optically or electrically active material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/02—Compositions for glass with special properties for coloured glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/04—Compositions for glass with special properties for photosensitive glass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf Glas, das auf Grund seiner Lichtempfindlichkeit undurchsichtig
gemacht werden kann, d. h. auf Glas, in dem die Einwirkung von Kurzwellenstrahlungen, wie z. B.
Ultraviolettstrahlen, eine unsichtbare Veränderung hervorbringt, wodurch bestrahlte Flächen durch
Entwicklung mittels Wärme undurchsichtig gemacht werden können, während nichtbestrahlte
Flächen auf das Erwärmen hin im wesentlichen unverändert bleiben.
In der USA.-Patentschrift 2 515 940 wurde ein
Silikatglas dieser Art beschrieben, das 10 bis 25% Li2O und ein primäres lichtempfindlich machendes
Mittel enthält, das seinerseits Gold, Silber oder Kupfer in folgenden Mengen enthält: 0,004 bis
0,05% Au, 0,025 bis 0,31VoAgCl oder 0,04 bis 1%
Cu2 O, wobei die Bestrahlung mit Kurzwellenbestrahlungen
bei darauffolgendem Erwärmen in dem bestrahlten Teil ein undurchsichtiges Bild erzeugt, das
durch das Ausfällen von undurchsichtig machenden Kristalliten von Lithiumdisilikat entsteht.
Es wurde nun gefunden, daß der undurchsichtig gemachte Teil eines solchen Glases in verdünnter
Fluorwasserstoffsäure löslicher ist als der klare unbestrahlte Teil, und daß dieser undurchsichtig gemachte
Teil dadurch vollständig aufgelöst werden kann, während der klare Teil nur leicht angegriffen
wird. Ein solcher Unterschied hinsichtlich der Löslichkeit, nachstehend als Löslichkeitsunterschied bezeichnet,
kann wie folgt bestimmt werden. Eine kleine polierte Glasplatte, die einen undurchsichtig
gemachten und einen klaren Teil besitzt, wird in eine gerührte Lösung von verdünnter Fluorwasserstoffsäure
(z. B. 10 Gewichtsprozent) bei Raumtemperatur eingetaucht. In bestimmten Abständen,
z. B. 15 Minuten, wird die Platte herausgenommen,
mit Wasser gespült und die Dicke des undurchsichtigen Teils und die des klaren Teils gemessen. Das
Verhältnis der Dickenänderung eines jeden Teils zu der verstrichenen Ätzzeit wird als die Ätz-'geschwindigkeit
des betreffenden Teils bezeichnet. Das Verhältnis der Ätzgeschwindigkeit des undurchsichtigen
Teils zu der des klaren Teils ist der Lösliehkeitsunterschied des Glases.
Bei einem aus solchem Glas hergestellten Gegenstand ist das undurchsichtige Bild dreidimensional
und kann sich, wenn gewünscht, ganz durch das Glas erstrecken. Wird es entfernt, so· bleibt daher
eine entprechende Vertiefung oder ein Loch in dem Glas zurück. Fadenwerkmuster und andere Muster
verschiedener Art einschließlich solcher, die herzustellen bisher entweder unmöglich war oder die ein
langes und mühevolles mechanisches Schleifen erforderlich machten, können hierdurch leicht und
schnell in Glas hervorgebracht werden. Die Erfindung gründet sich auf die Entdeckung
von Mitteln zur Verstärkung der Lichtempfindlichkeit und des Löslichkeitsumterschiedes von derartigem
Glas, wodurch das chemische Bearbeiten und Gestalten eines solchen Glases nach dem obenerwähnten
Verfahren beträchtlich verbessert wird. Das neue, auf Grund seiner Lichtempfindlichkeit undurchsichtig
zu machende Glas nach der vorliegenden Erfindung wird durch Schmelzen unter reduzierenden
Bedingungen hergestellt utnd enthält im wesentlichen 70 bis 85% SiO2, die folgende Menge
von mindestens einem Alkalimetalloxyd, z. B. 9 bis 15% Li2O, bis zu 8 % Na2O, bis 8 % K2O, oder
bis zu 8% einer Mischung aus Na2O und K2O,
wobei zu dem gewählten Alkalimetalloxyd Li2 O gehört
und der Gesamtgehalt an. Alkalimetalloxyd
9 bis 213 % beträgt, und 0,001% bis 0,020% als
AgCl berechnetes Silber, wobei diese wesentlichen Bestandteile zusammen mindestens 84% ausmachen.
Mit Vorteil werden bis zu 10% Al2O3 und bis zu
0,05% CeO2 in solche Gläser einbezogen. Vorzugsweise
besteht das erfindungsgemäße Glas im wesentlichen aus 78 bis 83%) SiO2, 10 bis. 13% Li2O,
2 bis 5% K2O, bis zu 10% Al2O3, 0,001% bis
0,020% als AgCl berechnetes Silberund 0,005 bis
0,05% CeO2.
Die hervorragenden Kennzeichen des neuen Glases sind sein ungewöhnlich niedriger Silbergehalt
im Vergleich zu dem Glas nach der USA.-Patentschrit 2 515 940, das mindestens 0,025% als
AgCl berechnetes Silber enthält, und die Tatsache, daß es unter milden reduzierenden Bedingungen geschmolzen
wird. Früher wurde angenommen, daß silberhaltige, lichtempfindliche Gläser nicht unter
reduzierenden Bedingungen geschmolzen werden könnten, sondern daß sie unter oxydierenden Bedingungen
geschmolzen werden müßten, weil bekannt war, daß, wenn solche Gläser, die die bisher
verwendeten Silbermengen enthalten, unter reduzierenden Bedingungen geschmolzen werden, sie
nicht lichtempfindlich sind. Während dies für solche Gläser gilt, die 0,025 % oder mehr als AgCl berechnetes
Silber enthalten, wurde gefunden, daß Gläser aus dem obenerwähnten Zusammenstellungsbereich
unerwarteterweise nicht nur unter reduzierenden Bedingungen geschmolzen werden müssen, um lichtempfindlich
zu sein, sondern daß sie, wenn sie so • geschmolzen werden, eine größere Lichtempfindlichkeit
aufweisen als die bekannten Gläser. Natürlich bedeutet der geringe Silbergehalt der neuen Gläser
auch eine wesentliche Kostenersparnis.
Es wurde ferner gefunden, daß ein Glas, das eine Zusammenstellung innerhalb des obenerwähnten
Bereiches hat und K2 0· enthält, einen größeren Löslichkeitsunterschied
besitzt als solche Gläser, die kein K2 O enthalten und daß der Löslichkeitsunterschied
noch größer bei Gläsern ist, die K2O, aber
kein Na2O enthalten. Es wird angenommen, daß
diese unerwartete Zunahme des Löslichkeitsunterschieds wie folgt erklärt werden kann:
Röntgenanlysen solcher Gläser, die Kurzwellen-Strahlungen ausgesetzt und danach durch Wärmeeinwirkung
gemäß dem im allgemeinen in der USA.-Patentschrift 2515 940 beschriebenen Verfahren
entwickelt worden sind, zeigen, daß bei Fehlen von K2O die ausgefällten, undurchsichtig machenden
Kristallite in dem Glas eine größere Menge Lithiumdisilikat und nur eine kleine Menge Lithiummonosilikat,
wenn überhaupt irgendwelches, zusammen mit wesentlichen Mengen Quarz und Cristobalit
enthalten. Wenn jedoch K2O anwesend ist, dann ist
die Lithiummonosilikatmenge wesentlich größer und nimmt mit zunehmender K2O-Menge zu. Wenn
K2 O, aber kein Na2 O anwesend ist, können die undurchsichtig
machenden Kristallite ausschließlich aus Lithiummonosilikat bestehen. Da die Löslichkeit
von Lithiummonosilikat in verdünnter Fluorwasserstoffsäure viel größer ist als die von Lithiumdisilikat.und
Quarz und Cristobalit, erhöht die Zunahme der Lithiummonosilikatmenge den Löslichkeitsunterschied
des Glases erheblich.
Während sowohl Gold als auch Silber oder Kupfer in den Gläsern nach der USA.-Patentschrift
2 515 940 als primäres lichtempfindliches Mittel verwendet werden können, wird bei den erfindungsgemäßen
Gläsern Silber für solche Zwecke bevorzugt. Das für diese Gläser erforderliche Reduktionsschmelzen verursacht die Ausfällung von Gold und
dadurch einen Verlust an Lichtempfindlichkeit; Kupfer erfodert eine zu starke Reduktion, um für Zwecke
der Erfindung geeignet zu sein. no
Nur die für die Bestandteile angegebenen Bereiche ergeben Gläser, die die gewünschten Ergebnisse
Wirklichkeit werden lassen, und Änderungen in den Mengen solcher Bestandteile sollten sich aus folgenden
Gründen innerhalb solcher Bereiche halten:
Mit weniger als 70% SiO2 ist das Glas an sich
zu sehr löslich, und der Löslichkeitsunterschied ist in nachteiliger Weise niedrig. Al2O3 vergrößert
den Löslichkeitsunterschied, und seine Anwesenheit ist erwünscht. In Mengen unter 10% verringert es
die Neigung zur Entglasung. Auf der anderen Seite macht ein Überschuß von SiO2 oder Al2O3 das Glas
schwer schmelzbar und verleiht ihm während des gesamten Schmelz- oder Bearbeitungsvorganges
oder der nachfolgenden Wärmebehandlung eine Neigung zur Entglasung.
Ein Mangel von Li2 O oder ein Überschuß von
Na2O oder K2O ergeben ein Glas, das auf eine
Belichtung und eine nachfolgende Wärmebehandlung hin keine geeignete Undurchsichtigkeit entwickelt.
Ein Überschuß von Li2O oder Na2O oder
K2O erhöht die Löslichkeit des Glases und verringert
den Löslichkeitsunterschied in nachteiliger Weise.
Ein Überschuß oder ein Mangel an Silber oder ein Überschuß an Ce O2 senkt die Lichtempfindlichkeit
des Glases in nachteiliger Weise.
Die nachstehenden, in Gewichtsprozenten angegebenen Zusammenstellungen erläutern Gläser, die in
den Bereich der Erfindung fallen; diese Zusammenstellungen
sind aus den Beschickungen auf Oxydbasis berechnet.
I | II | 85 | III | IV | V | 80 | VI | VII | VIII |
77,5 | IO | 82,5 | 82,5 | 12,5 | 79 | 72,5 | 80 | ||
12,5 | — | 12,5 | 12,5 | 7,5 | 9 | 12,5 | 12,5 | ||
— | — | 2,5 | — | — | 2 | — | — | ||
— | 5 | — | 2,5 | — | 2,5 | 5 | 5 | ||
IO | 0,002 | 2,5 | 2,5 | 0,002 | 7,5 | IO | 2,5 | ||
0,002 | 0,02 | 0,006 | 0,006 | 0,02 | 0,002 | 0,002 | 0,002 | ||
0,02 | 0,003 | 0,02 | 0,02 | 0,02 | 0,02 |
IX
SiO2..
Li2O ,
Na0O.
K1O..
Af2O3
AgCl.
CeO2 .
Li2O ,
Na0O.
K1O..
Af2O3
AgCl.
CeO2 .
Die obigen Zusammenstellungen werden unter reduzierenden Bedingungen geschmolzen, indem
man zu diesem Zweck den jeweiligen Einsätzen eine geringe Menge Stärke zusetzt, die z. B. in Zusammenstellung
VI beim Schmelzen in einem Tiegel gleich etwa 0,35 °/o der Zusammenstellung auf
Oxydbasis ist. Da die Stärke während des Schmelzens vollständig aus dem Glas entfernt wird, ist sie
in den oben aufgeführten Endzusammenstellungen angegeben. Die Stärkemenge oder die Menge eines
anderen Reduktionsmittels, das das gewünschte Ergebnis hervorruft, ändert sich nach der jeweiligen
Glaszusammenstelliumg, wobei eine zu starke Reduktion
eine Ausfällung des Silbers verursacht, was vermieden werden muß. Zum Schmelzen in einem
geschlossenen Schmelzbehälter ist weniger Reduktionsmittel erforderlich als für das Schmelzen in
einem offenen Schmelzbehälter, wie z. B. einem Tank. Die genaue Menge des Reduktionsmittels
kann nicht für alle Verhältnisse angegeben werden, kann aber für die jeweiligen Verhältnisse durch
Versuch leicht bestimmt werden.
Wie ersichtlich, hängt der Wert des Löslichkeitsunterschiedes des Glases zum Teil von der Zusammenstellung
des Glases und seiner Reduktion, aber auch von der Zeit und der Starke der Belichtung
und der Temperatur und der Dauer der anschließenden Wärmebehandlung ab.
Zum Beispiel wurde eine klare, aus Zusammenstellung III hergestellte polierte Platte sechs Minuten
lang durch einen 3 mm diclcen Fensterglasfilter auf eine Entfernung von 30,5 cm von einer
60 Ampere starken Bogenlampe mit Kohleelektroden selektiv belichtet und anschließend 1 Stunde
lang bei 6500 durch Wärmeeinwirkung entwickelt. Dies waren die optimalen Bedingungen für das
maximale Undurchsichtigmachen der Zusammenstellung III. Die Ätzgeschwindigkeiten des umdurchsichtig
gemachten und des durchsichtigen Teils wurden durch Ätzen der Platte in einer gerührten,
gewichtsmäßig io°/oigen FluorwasserstofFsäurelösung bei Raumtemperatur bestimmt. Der sich ergebende
Löslichkeitsunterschied war 23 :1.
8i,5
12
12
3,5
3,o
0,002 0,02
3,o
0,002 0,02
Eine ähnliche, aus Zusammenstellung IV hergestellte Platte wurde auf dieselbe Weise mit der
Abweichung behandelt, daß sie wegen des Unterschiedes in der Zusammenstellung und eines leichten
Unterschiedes in dem Ausmaß der Reduktion dieses Glases im Vergleich zu Zusammenstellung III
80 Minuten lang exponiert >u/nd 2 Stunden lang bei
6400 erwärmt wurde, um eine maximale Undurchsichtigkeit zu erzielen. Der sich ergebende Löslichkeitsunterschied
dieses Glases war 46:1.
Die Einbeziehung anderer Metalloxyde in die erfindungsgemäßen Zusammenstellungen bringt keinen
besonderen Vorteil. Auf jeden Fall sollten solche Oxyde aus folgenden Gründen nicht mehr als insgesamt
6% betragen:
Die bivalenten Metalloxyde, d. h. Oxyde von Metallen
der 2. Gruppe des Periodischen Systems und von Blei, sollten, falls anwesend, einen Gesamtwert
von 3% nicht übersteigen, da solche Metalle während der Behandlung mit Fluorwasserstoffsäure unlösliche
Fluoride bilden oder in dem gesamten Glas eine Entglasung verursachen. Unlösliche Fluoride
verlangsamen die lösende Wirkung der Fluorwasserstoffsäure und verringern so den wirksamen Löslichkeitsunterschied,
wenn das Glas damit behandelt wird.
Wenn Boroxyd anwesend ist, sollte es 2 bis 3% nicht übersteigen, da es in größeren Mengen dazu
neigt, in dem 'gesamten Glas eine Entglasung zu verursachen.
Da SnO2 die reduzierende Wirkung des Reduktionsmittels
erhöht, sollte seine Anwesenheit vermieden werden.
Claims (7)
- Patentansprüche:i. Lichtempfindliches Glas, das als lichtempfindlichen Bestandteil Silber enthält, dadurch gekennzeichnet, daß das Glas als wesentliche Bestandteile 70 bis 85% SiO2 und 9 bis 23% Alkalimetalloxyde enthält, wobei der Alkalimetalloxydgehalt aus 9 bis 15% Li2O, ο bis 8% Na2O, ο bis 8% K2O und ο bis 8% einer Mischung aus Na2 O und K2 O besteht, und daߧ22das Glas ο,οοι bis 0,020% als AgCl berechnetes Silber enthält, wobei die Bestandteile an Kieselsäure und Alkalioxyden zusammen mindestens 84% des Glases ausmachen.
- 2. Glas nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es 70 bis 85% SiO2, 9 bis 15% Li2O, bis zu 8% K2O und 0,001 bis 0,020% als AgCl berechnetes Silber enthält.
- 3. Glas nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es bis zu 10% Al2O3 enthält.
- 4. Glas nach einem der Ansprüche r bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es bis zu 0,05 % Ce O2 enthält.
- 5. Glas nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß es aus 78 bis 83% SiO2, 10 bis 13% Li2O, 2 bis 5% K2O, bis zu 10% Al2O3, 0,001 bis 0,020% als AgCl berechnetem Silber und 0,005 bis 0,05% CeO2 besteht.
- 6. Glaskörper, der aus einem Glas nach einem der Ansprüche 1 bis 5 hergestellt ist, dadurch ■gekennzeichnet, daß das Glas ein Relief-, Intaglio-, Fadenwerk- oder anderes Muster besitzt.
- 7. Verfahren zum Herstellen eines Glasgegenstands nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch Belichten ausgewählter Teile des Glaskörpers mit Kurziwellenstrahlungen, um in den exponierten Teilen ein latentes photographisches Bild zu erzeugen, Erwärmen des Gegenstands, um das latente Bild in ein undurchsichtiges Bild zu verwandeln, das undurchsichtig machende Kristallite eines Lithiumsilikats enthält, während der übrige Teil des Glases klar und durchsichtig bleibt, und Behandeln des Gegenstands mit einer verdünnten wäßrigen Lösung von Fluorwasserstoffsäure, um den undurchsichtig gemachten Teil aufzulösen.Angezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 809 847;
USA.-Patentschriften Nr. 2515936, 2515939.»583 1.55
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US244478A US2684911A (en) | 1951-08-30 | 1951-08-30 | Photosensitively opacifiable glass |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE922733C true DE922733C (de) | 1955-01-24 |
Family
ID=22922948
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEC6318A Expired DE922733C (de) | 1951-08-30 | 1952-08-24 | Lichtempfindliches Glas |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US2684911A (de) |
BE (1) | BE513836A (de) |
DE (1) | DE922733C (de) |
FR (1) | FR1065719A (de) |
GB (1) | GB699898A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1284882B (de) * | 1966-03-04 | 1968-12-05 | Corning Glass Works | Verfahren zum Einaetzen von mustergemaessen Vertiefungen in eine mit einer entsprechenden Maske versehene plane Oberflaeche eines Gegenstandes |
DE1596847B1 (de) * | 1966-12-24 | 1970-04-09 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Phototropes Glas |
Families Citing this family (74)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2971853A (en) * | 1953-03-05 | 1961-02-14 | Corning Glass Works | Ceramic body and method of making it |
DE1197862B (de) * | 1958-08-11 | 1965-08-05 | Titan Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von von Zwillingsbildung freien Calciumtitanat-Einkristallen |
NL261774A (de) * | 1960-02-29 | |||
US3278319A (en) * | 1962-08-06 | 1966-10-11 | Pittsburgh Plate Glass Co | Phototropic glass and method |
NL125550C (de) * | 1963-05-06 | |||
GB1118648A (en) * | 1966-05-03 | 1968-07-03 | Ferranti Ltd | A method of producing an array of light pipes |
US3323926A (en) * | 1966-10-10 | 1967-06-06 | Corning Glass Works | Fluorescent glass and method of making it |
US3498803A (en) * | 1967-04-13 | 1970-03-03 | Corning Glass Works | Glass or glass-ceramic steam treatment method and article |
US4017318A (en) * | 1976-01-02 | 1977-04-12 | Corning Glass Works | Photosensitive colored glasses |
US4329400A (en) * | 1979-12-13 | 1982-05-11 | Corning Glass Works | Glass article having a pattern formed in its surface and method |
US4337295A (en) * | 1979-12-13 | 1982-06-29 | Corning Glass Works | Borosilicate, opal glass article |
WO1983002035A1 (en) * | 1981-12-04 | 1983-06-09 | Burroughs Corp | Method of making an electrode assembly |
US4407934A (en) * | 1981-12-04 | 1983-10-04 | Burroughs Corporation | Method of making an assembly of electrodes |
US5019538A (en) * | 1989-11-13 | 1991-05-28 | Coring Incorporated | Colored photosensitive opal glasses |
GB2315266B (en) * | 1996-07-12 | 1999-11-17 | Ibm | Magnet and method for manufacturing a magnet |
US6802894B2 (en) * | 1998-12-11 | 2004-10-12 | Jeneric/Pentron Incorporated | Lithium disilicate glass-ceramics |
US6517623B1 (en) | 1998-12-11 | 2003-02-11 | Jeneric/Pentron, Inc. | Lithium disilicate glass ceramics |
US20050127544A1 (en) * | 1998-06-12 | 2005-06-16 | Dmitri Brodkin | High-strength dental restorations |
WO2000034196A2 (en) | 1998-12-11 | 2000-06-15 | Jeneric/Pentron Incorporated | Pressable lithium disilicate glass ceramics |
US9220576B2 (en) | 2003-08-07 | 2015-12-29 | Ivoclar Vivadent Ag | Machining of ceramic materials |
US7955159B2 (en) * | 2003-08-07 | 2011-06-07 | Ivoclar Vivadent Ag | Machining of ceramic materials |
DE10362377C5 (de) | 2003-08-07 | 2018-10-25 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithiumsilicatrohling und dessen Verwendung |
DE10336913C9 (de) | 2003-08-07 | 2019-02-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Verwendung eines Lithiumsilicatmaterials |
US8444756B2 (en) | 2003-08-07 | 2013-05-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithium silicate materials |
DE10362378C5 (de) | 2003-08-07 | 2019-02-14 | Ivoclar Vivadent Ag | Verfahren zur Herstellung eines Lithiumsilicatrohlings |
EP2261184B8 (de) | 2005-02-08 | 2017-05-31 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-Glaskeramik |
ES2489523T3 (es) | 2005-02-08 | 2014-09-02 | Ivoclar Vivadent Ag | Material vitrocerámico de silicato de litio |
DE102007011337A1 (de) | 2007-03-06 | 2008-09-11 | Hermsdorfer Institut Für Technische Keramik E.V. | Verblendkeramik für dentale Restaurationen aus yttriumstabilisiertem Zirkoniumdioxid und Verfahren zur Verblendung von dentalen Restaurationen aus yttriumstabilisiertem Zirkoniumdioxid |
WO2008119080A1 (en) * | 2007-03-28 | 2008-10-02 | Life Bioscience Inc. | Compositions and methods to fabricate a photoactive substrate suitable for shaped glass structures |
US7829489B2 (en) * | 2007-05-31 | 2010-11-09 | Corning Incorporated | Low CTE photomachinable glass |
US8492315B2 (en) * | 2007-08-28 | 2013-07-23 | Life Bioscience, Inc. | Method of providing a pattern of biological-binding areas for biological testing |
US7799711B2 (en) * | 2007-08-31 | 2010-09-21 | Corning Incorporated | Photomachinable glass compositions having tunable photosensitivity |
DE202009018951U1 (de) | 2009-12-23 | 2014-09-09 | Degudent Gmbh | Verwendung von Glaskeramiken in Form von Lithiumdisilikat-Glaskeramik als Dentalmaterial |
DE202009018953U1 (de) | 2009-12-23 | 2014-09-22 | Degudent Gmbh | Glaskeramik in Form von Lithiumdisilikat-Glaskeramik |
DE202009019061U1 (de) | 2009-12-23 | 2016-02-23 | Degudent Gmbh | Lithiummetasilicat-Glaskeramik und deren Verwendung |
WO2011100445A1 (en) | 2010-02-10 | 2011-08-18 | Life Bioscience, Inc. | Methods to fabricate a photoactive substrate suitable for microfabrication |
US20110217657A1 (en) * | 2010-02-10 | 2011-09-08 | Life Bioscience, Inc. | Methods to fabricate a photoactive substrate suitable for microfabrication |
US8865606B2 (en) | 2010-04-16 | 2014-10-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Process for the preparation of dental restorations |
EP2377830B1 (de) | 2010-04-16 | 2016-04-13 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-Glaskeramik und -Glas mit Übergangsmetalloxid |
DE102010050275A1 (de) | 2010-11-02 | 2012-05-03 | Degudent Gmbh | Lithiumsilikat-Gläser oder -Glaskeramiken, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
JP5989770B2 (ja) | 2011-06-22 | 2016-09-07 | ヴィタ ツァーンファブリク ハー.ラウター ゲーエムベーハー ウント コー.カーゲー | 歯科用修復材、その製造方法およびガラスセラミック |
RU2631484C2 (ru) | 2011-06-22 | 2017-09-22 | Вита Цанфабрик Х. Раутер Гмбх Унд Ко. Кг | Стоматологический восстановительный материал, способ его изготовления и заготовка |
KR20140075777A (ko) | 2011-10-14 | 2014-06-19 | 이보클라 비바덴트 아게 | 3가 금속 산화물을 포함하는 리튬 실리케이트 유리 세라믹 및 리튬 실리케이트 유리 |
ES2563739T3 (es) | 2011-10-14 | 2016-03-16 | Ivoclar Vivadent Ag | Vitrocerámica y vidrio de silicato de litio con óxido metálico pentavalente |
WO2013053863A2 (de) | 2011-10-14 | 2013-04-18 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithiumsilikat-glaskeramik und -glas mit einwertigem metalloxid |
RU2633485C2 (ru) | 2011-10-14 | 2017-10-12 | Ивоклар Вивадент Аг | Литиево-силикатные стеклокерамика и стекло с оксидом четырехвалентного металла |
RU2607557C2 (ru) | 2011-10-14 | 2017-01-10 | Ивоклар Вивадент Аг | Литиево-силикатные стеклокерамика и стекло с оксидом шестивалентного металла |
EP2844213B1 (de) | 2012-05-04 | 2019-12-04 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumdisilikat-apatit-glaskeramik |
CN104334509B (zh) | 2012-05-11 | 2018-01-02 | 义获嘉伟瓦登特公司 | 用于牙科目的的预烧结坯料 |
JP6340362B2 (ja) | 2012-05-11 | 2018-06-06 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 歯科目的のための予備焼結ブランク |
ES2894961T3 (es) | 2013-02-12 | 2022-02-16 | Ivoclar Vivadent Ag | Pieza en bruto para fines dentales |
EP2792345B1 (de) | 2013-04-15 | 2019-10-09 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-Glaskeramik und -Glas mit Gehalt an Cäsiumoxid |
EP2792649B1 (de) | 2013-04-15 | 2019-11-27 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-Glaskeramik und -Glas mit Gehalt an Rubidiumoxid |
EP3097440A4 (de) * | 2014-01-24 | 2017-09-06 | 3D Glass Solutions, Inc | Verfahren zur herstellung von fotoaktiven substraten für mikrolinsen und arrays |
JP6574207B2 (ja) | 2014-05-05 | 2019-09-11 | スリーディー グラス ソリューションズ,インク3D Glass Solutions,Inc | 光活性基板を製造する、2d及び3dインダクタ、アンテナ、並びにトランス |
EP2944619B1 (de) * | 2014-05-13 | 2023-08-09 | Ivoclar Vivadent AG | Verfahren zur Herstellung von Lithiumsilikatgläsern und Lithiumsilikat-Glaskeramiken |
EP3050856B1 (de) | 2015-01-30 | 2019-05-29 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-Diopsid-Glaskeramik |
US10070533B2 (en) | 2015-09-30 | 2018-09-04 | 3D Glass Solutions, Inc. | Photo-definable glass with integrated electronics and ground plane |
CA3015525C (en) | 2016-02-25 | 2022-04-26 | 3D Glass Solutions, Inc. | 3d capacitor and capacitor array fabricating photoactive substrates |
WO2017177171A1 (en) | 2016-04-08 | 2017-10-12 | 3D Glass Solutions, Inc. | Methods of fabricating photosensitive substrates suitable for optical coupler |
US11198639B2 (en) | 2016-06-13 | 2021-12-14 | Corning Incorporated | Multicolored photosensitive glass-based parts and methods of manufacture |
JP7150342B2 (ja) | 2017-04-28 | 2022-10-11 | スリーディー グラス ソリューションズ,インク | Rfサーキュレータ |
US11342896B2 (en) | 2017-07-07 | 2022-05-24 | 3D Glass Solutions, Inc. | 2D and 3D RF lumped element devices for RF system in a package photoactive glass substrates |
WO2019118761A1 (en) | 2017-12-15 | 2019-06-20 | 3D Glass Solutions, Inc. | Coupled transmission line resonate rf filter |
AU2018399638B2 (en) | 2018-01-04 | 2021-09-02 | 3D Glass Solutions, Inc. | Impedance matching conductive structure for high efficiency RF circuits |
KR102626372B1 (ko) | 2018-04-10 | 2024-01-16 | 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 | Rf 집적형 전력 조절 커패시터 |
CA3071138C (en) | 2018-05-29 | 2021-05-25 | 3D Glass Solutions, Inc. | Low insertion loss rf transmission line |
KR102518025B1 (ko) | 2018-09-17 | 2023-04-06 | 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 | 접지면을 갖는 고효율 컴팩트형 슬롯 안테나 |
WO2020139951A1 (en) | 2018-12-28 | 2020-07-02 | 3D Glass Solutions, Inc. | Heterogenous integration for rf, microwave and mm wave systems in photoactive glass substrates |
EP3903339A4 (de) | 2018-12-28 | 2022-08-31 | 3D Glass Solutions, Inc. | Kondensator für hochfrequenz-, mikrowellen- und mm-wellensysteme |
CA3135975C (en) | 2019-04-05 | 2022-11-22 | 3D Glass Solutions, Inc. | Glass based empty substrate integrated waveguide devices |
KR102601781B1 (ko) | 2019-04-18 | 2023-11-14 | 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 | 고효율 다이 다이싱 및 릴리스 |
WO2021211855A1 (en) | 2020-04-17 | 2021-10-21 | 3D Glass Solutions, Inc. | Broadband inductor |
CN117550810A (zh) * | 2023-11-14 | 2024-02-13 | 河北美科微晶材料有限公司 | 一种光敏微晶玻璃及其生产工艺 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2515939A (en) * | 1943-12-08 | 1950-07-18 | Corning Glass Works | Opacifiable photosensitive glasses |
US2515936A (en) * | 1943-12-08 | 1950-07-18 | Corning Glass Works | Silver-containing photosensitive glass |
DE809847C (de) * | 1943-12-08 | 1951-08-02 | Corning Glass Works | Lichtempfindliches Glas |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2370214A (en) * | 1940-08-14 | 1945-02-27 | Alncin Inc | Optical device |
US2377062A (en) * | 1943-02-27 | 1945-05-29 | Pittsburgh Plate Glass Co | Fortification of glass surfaces |
NL71886C (de) * | 1946-09-09 | |||
US2515942A (en) * | 1948-04-05 | 1950-07-18 | Corning Glass Works | Photosensitive glass containing palladium |
-
0
- BE BE513836D patent/BE513836A/xx unknown
-
1951
- 1951-08-30 US US244478A patent/US2684911A/en not_active Expired - Lifetime
-
1952
- 1952-08-18 GB GB20755/52A patent/GB699898A/en not_active Expired
- 1952-08-24 DE DEC6318A patent/DE922733C/de not_active Expired
- 1952-08-30 FR FR1065719D patent/FR1065719A/fr not_active Expired
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2515939A (en) * | 1943-12-08 | 1950-07-18 | Corning Glass Works | Opacifiable photosensitive glasses |
US2515936A (en) * | 1943-12-08 | 1950-07-18 | Corning Glass Works | Silver-containing photosensitive glass |
DE809847C (de) * | 1943-12-08 | 1951-08-02 | Corning Glass Works | Lichtempfindliches Glas |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1284882B (de) * | 1966-03-04 | 1968-12-05 | Corning Glass Works | Verfahren zum Einaetzen von mustergemaessen Vertiefungen in eine mit einer entsprechenden Maske versehene plane Oberflaeche eines Gegenstandes |
DE1596847B1 (de) * | 1966-12-24 | 1970-04-09 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Phototropes Glas |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE513836A (de) | |
GB699898A (en) | 1953-11-18 |
FR1065719A (fr) | 1954-05-28 |
US2684911A (en) | 1954-07-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE922733C (de) | Lichtempfindliches Glas | |
DE922734C (de) | Verfahren zur Herstellung von gemusterten Glasgegenstaenden aus vorzugsweise lichtempfindlichem Glas | |
DE809847C (de) | Lichtempfindliches Glas | |
DE3927174C2 (de) | Gefärbte Transparent-Glaskeramik mit geringer Ausdehnung und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE1596764B1 (de) | Glaskoerper mit photochromatischer oberflaechenschicht und verfahren seiner herstellung | |
DE2910006A1 (de) | Photochromes glas | |
DE1421886B2 (de) | Verfahren zur herstellung von glas kristall mischkoerpern grosser mechanischer festigkeit | |
DE1496078B2 (de) | Phototroper Glasgegenstand, dessen Durchlässigkeit für sichtbares Licht sich im umgekehrten Verhältnis zur Menge der einfallenden aktinischen Strahlung ändert, sowie Verf=hrpn zu seiner Herstellung und seine Verwendung | |
DE2911796A1 (de) | Photochrome glaeser | |
DE844648C (de) | Lichtempfindliches Glas | |
DE2140915A1 (de) | Photochromes Glas | |
DE816129C (de) | Lichtempfindliches Glas | |
DE2047372A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Glas mit veränderlicher Durchlässigkeit | |
DE2218142B2 (de) | Phototropes Glas des Systems SiO tief 2-B tief 2 O tief 3-Al tief 2 O tief 3 -BaO-K tief 2 O und Silberhalogenen mit erhöhter optischer Dichte und erhöhter Geschwindigkeit der Lichtdurchlässigkeitsänderung sowie Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1596917C3 (de) | Schnell umschlagendes phototropes Glas auf der Basis eines Tonerde-Boratglases mit Zusätzen an Silberhalogeniden und Kupferoxid und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1924493C3 (de) | Schnell reagierendes phototropes Glas hoher Stabilität auf Borat- oder Borosilikatbasis sowie Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1496082A1 (de) | Phototropischer Silikatglaskoerper | |
DE2626961C2 (de) | Photochrome Aluminiumsilikatgläser | |
DE620347C (de) | Verfahren zur Herstellung von fuer ultraviolette Strahlen durchlaessigen, bestrahlungsbestaendigen Glaesern | |
EP0616984A1 (de) | Bleifreies Kristallglas mit hoher Lichttransmission | |
DE2140914A1 (de) | Thermisch dunkelbares, photochromes Glas | |
DE2703916A1 (de) | Photochromes aluminophosphat-glas | |
DE2063106C3 (de) | Borfreies lichtempfindliches Silikatglas mit photochromatischen Eigenschaften | |
DE1421886C (de) | Verfahren zur Herstellung von Glas Kristall Mischkorpern großer mechanischer Festigkeit | |
DE1496078C (de) | Phototroper Glasgegenstand dessen Durchlässigkeit fur sichtbares Licht sich im umgekehrten Verhältnis zur Menge der einfallenden aktimschen Strahlung ändert, sowie Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |