DE69022281T2 - Photographische Silberhalogenidmaterialien. - Google Patents
Photographische Silberhalogenidmaterialien.Info
- Publication number
- DE69022281T2 DE69022281T2 DE69022281T DE69022281T DE69022281T2 DE 69022281 T2 DE69022281 T2 DE 69022281T2 DE 69022281 T DE69022281 T DE 69022281T DE 69022281 T DE69022281 T DE 69022281T DE 69022281 T2 DE69022281 T2 DE 69022281T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- group
- silver halide
- poly
- methacrylate
- halide photographic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims description 287
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 60
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims description 58
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 58
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 91
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 60
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 37
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 34
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 32
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 28
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 25
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 21
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 19
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 19
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 19
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 19
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 19
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 17
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 17
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 13
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims description 12
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 11
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 9
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 9
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 9
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 8
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 6
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 5
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 claims description 3
- 125000002813 thiocarbonyl group Chemical group *C(*)=S 0.000 claims description 3
- PFTAWBLQPZVEMU-DZGCQCFKSA-N (+)-catechin Chemical compound C1([C@H]2OC3=CC(O)=CC(O)=C3C[C@@H]2O)=CC=C(O)C(O)=C1 PFTAWBLQPZVEMU-DZGCQCFKSA-N 0.000 claims description 2
- NVXLIZQNSVLKPO-UHFFFAOYSA-N Glucosereductone Chemical compound O=CC(O)C=O NVXLIZQNSVLKPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ADRVNXBAWSRFAJ-UHFFFAOYSA-N catechin Natural products OC1Cc2cc(O)cc(O)c2OC1c3ccc(O)c(O)c3 ADRVNXBAWSRFAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000005487 catechin Nutrition 0.000 claims description 2
- 229950001002 cianidanol Drugs 0.000 claims description 2
- PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-diol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=C(O)C2=C1 PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 46
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 40
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 39
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 34
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 32
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 26
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 15
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 15
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 15
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 14
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 14
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 14
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 14
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 13
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 9
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 9
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 9
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 8
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 8
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 8
- 125000005420 sulfonamido group Chemical group S(=O)(=O)(N*)* 0.000 description 8
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 7
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 7
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 7
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical class C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 6
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 6
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 5
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 5
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 229920003088 hydroxypropyl methyl cellulose Polymers 0.000 description 5
- XFHJDMUEHUHAJW-UHFFFAOYSA-N n-tert-butylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)(C)NC(=O)C=C XFHJDMUEHUHAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical class C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940048053 acrylate Drugs 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003402 intramolecular cyclocondensation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 4
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 4
- 125000006296 sulfonyl amino group Chemical group [H]N(*)S(*)(=O)=O 0.000 description 4
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 4
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical class C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroimidazole-2-thione Chemical class SC1=NC=CN1 OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 1h-tetrazol-1-ium-5-thiolate Chemical class SC1=NN=NN1 JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical class [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical class C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 3
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 3
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 3
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 3
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 3
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2-thiol Chemical class SC1=NC=CC=N1 HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 3
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 3
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JJJPTTANZGDADF-UHFFFAOYSA-N thiadiazole-4-thiol Chemical class SC1=CSN=N1 JJJPTTANZGDADF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 1H-indazole Chemical compound C1=CC=C2C=NNC2=C1 BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLCOQBODWBFTDD-UHFFFAOYSA-N 1h-triazol-1-ium-4-thiolate Chemical class SC1=CNN=N1 LLCOQBODWBFTDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLOAINVMNYBDNR-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-1,3-dihydrobenzimidazole-5-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C2NC(=S)NC2=C1 LLOAINVMNYBDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAWQXWZJKKICSZ-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethyl-2-methylidenebutanamide Chemical compound CC(C)(C)C(=C)C(N)=O ZAWQXWZJKKICSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CAEQSGPURHVZNG-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydro-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound S=C1NCN=N1 CAEQSGPURHVZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOWPRWCAMGTPHI-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-5-nitro-2h-indazole Chemical compound C1=C([N+](=O)[O-])C=CC2=NNC(Cl)=C21 UOWPRWCAMGTPHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPYMXLXNEYZTMQ-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl prop-2-enoate Chemical compound COC(C)CCOC(=O)C=C NPYMXLXNEYZTMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-thiazole-2-thione Chemical compound SC1=NC=CS1 OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJMDCOVWQOJGCB-UHFFFAOYSA-N 5-aminopentanoic acid Chemical compound [NH3+]CCCCC([O-])=O JJMDCOVWQOJGCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100294115 Caenorhabditis elegans nhr-4 gene Proteins 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDOUBTXJBXLRGM-UHFFFAOYSA-N [N+](=O)([O-])CC=1NC=CC=1 Chemical class [N+](=O)([O-])CC=1NC=CC=1 SDOUBTXJBXLRGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMQUICCWRPKDB-UHFFFAOYSA-N acetic acid;cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC(O)=O.OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O AEMQUICCWRPKDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001555 benzenes Chemical group 0.000 description 2
- JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N benzenesulfinic acid Chemical compound O[S@@](=O)C1=CC=CC=C1 JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 2
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- GHLKSLMMWAKNBM-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCCCO GHLKSLMMWAKNBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002081 enamines Chemical class 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- BTCSSZJGUNDROE-UHFFFAOYSA-N gamma-aminobutyric acid Chemical compound NCCCC(O)=O BTCSSZJGUNDROE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 150000002473 indoazoles Chemical class 0.000 description 2
- 208000015181 infectious disease Diseases 0.000 description 2
- 230000002458 infectious effect Effects 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 2
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 125000005328 phosphinyl group Chemical group [PH2](=O)* 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 2
- 229920000205 poly(isobutyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 2
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical class [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 2
- 150000004764 thiosulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 2
- HCEPYODGJFPWOI-UHFFFAOYSA-N tridecane-1,13-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCCCCO HCEPYODGJFPWOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSMIOONHPKRREI-UHFFFAOYSA-N undecane-1,11-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCCO XSMIOONHPKRREI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNISBYCBIMPXKH-UHFFFAOYSA-N (1,1-dichloro-2-ethoxyethyl) prop-2-enoate Chemical compound CCOCC(Cl)(Cl)OC(=O)C=C HNISBYCBIMPXKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBVJQAULALBKDU-UHFFFAOYSA-N (1-bromo-2-methoxyethyl) prop-2-enoate Chemical compound COCC(Br)OC(=O)C=C GBVJQAULALBKDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGDOLKDENPCYIS-UHFFFAOYSA-N (2-chlorocyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound ClC1CCCCC1OC(=O)C=C NGDOLKDENPCYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical class OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) prop-2-enoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C=C MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFJNXICXEHGDLB-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound COC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 WFJNXICXEHGDLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUPVXOENTCJV-UHFFFAOYSA-N (6-phenylpyridin-3-yl)boronic acid Chemical compound N1=CC(B(O)O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 XSQUPVXOENTCJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- MPUZDPBYKVEHNH-BQYQJAHWSA-N (e)-2-methyl-3-phenylprop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(/C)=C/C1=CC=CC=C1 MPUZDPBYKVEHNH-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatoethane Chemical compound O=C=NCCN=C=O ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXYPGICASMVMLQ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzo[e]benzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=CC2=C(NC(=S)N3)C3=CC=C21 BXYPGICASMVMLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC(N=C=O)=C1 VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=C(CN=C=O)C=C1 OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQARLYLUUYQTIR-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroimidazole-2-thione Chemical compound S=C1NCC=N1 MQARLYLUUYQTIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBVUOFGHMNGHIH-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2-diethoxyethyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound CCOC(OCC)CN1NN=NC1=S MBVUOFGHMNGHIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNXXWYFEFQMLGP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dichlorophenyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1N1C(=S)N=NN1 KNXXWYFEFQMLGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYLCNJJHRCVHAE-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dihydroxyphenyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1N1C(=S)N=NN1 XYLCNJJHRCVHAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBZSZXWPIMXWLG-UHFFFAOYSA-N 1-(2-aminoethyl)-2h-tetrazole-5-thione;hydrochloride Chemical compound Cl.NCCN1N=NN=C1S JBZSZXWPIMXWLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCCAUOFIVYLQMS-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyphenyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound COC1=CC=CC=C1N1C(=S)N=NN1 JCCAUOFIVYLQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIRRAGHBDDIANU-UHFFFAOYSA-N 1-(4-aminophenyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1N1C(=S)N=NN1 YIRRAGHBDDIANU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPTIWFZSPZVBEW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=C(Cl)C=C1 QPTIWFZSPZVBEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOXZSKYLLSPATM-UHFFFAOYSA-N 1-(4-hydroxyphenyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N1C(=S)N=NN1 MOXZSKYLLSPATM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFALKIBIWOKBDL-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methoxyphenyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1C(S)=NN=N1 UFALKIBIWOKBDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBCMZLIIYLERKB-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylphenyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N1C(=S)N=NN1 VBCMZLIIYLERKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HULJXMCAQUUEKF-UHFFFAOYSA-N 1-(4-nitrophenyl)-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1N1C(=S)N=NN1 HULJXMCAQUUEKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHNKCWROIOOUOO-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(diethylazaniumyl)ethyl]tetrazole-5-thiolate Chemical compound CCN(CC)CCN1NN=NC1=S HHNKCWROIOOUOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 1-[3,5-di(prop-2-enoyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CN(C(=O)C=C)CN(C(=O)C=C)C1 FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBBRDGHVXLFFFS-UHFFFAOYSA-N 1-[3-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC(N2C(N=NN2)=S)=C1 KBBRDGHVXLFFFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLRDYNTUPRWAGK-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound C1=CC(OCCO)=CC=C1N1C(=S)N=NN1 XLRDYNTUPRWAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEEJQUPOTWSXDB-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)phenyl]-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound S=C1N=NNN1C1=CC=C(N2C(N=NN2)=S)C=C1 WEEJQUPOTWSXDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IURONGQHOPTYGU-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1N1C(=S)N=NN1 IURONGQHOPTYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFYPTOJTJONMJG-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound S=C1N=NNN1C1CCCCC1 UFYPTOJTJONMJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZOALRWXDKRYDU-UHFFFAOYSA-N 1-dodecyl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound CCCCCCCCCCCCN1NN=NC1=S UZOALRWXDKRYDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXZPMXGRNUXGHN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methoxyethane Chemical compound COCCOC=C GXZPMXGRNUXGHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexane Chemical compound CCCCCCOC=C YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLQLTELAOKOFBV-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound CCN1N=NN=C1S JLQLTELAOKOFBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMAUULKNZLEMGN-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3,5-dimethylbenzene Chemical compound CCC1=CC(C)=CC(C)=C1 LMAUULKNZLEMGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUKBKBNSQWGUGN-UHFFFAOYSA-N 1-hexadecyl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCN1N=NN=C1S BUKBKBNSQWGUGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,4-dioxo-1,3-diazinane-5-carboximidamide Chemical compound CN1CC(C(N)=N)C(=O)NC1=O IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOHZHMUQBFJTNH-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound CN1N=NN=C1S XOHZHMUQBFJTNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUFRGNOIJAGRFY-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-yl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound S=C1N=NNN1C1=CC=CC2=CC=CC=C12 QUFRGNOIJAGRFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVUHNRBYOXLUKL-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-2-yl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound S=C1N=NNN1C1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1 JVUHNRBYOXLUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQSDEYQNRWICCX-UHFFFAOYSA-N 1-octyl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound CCCCCCCCN1NN=NC1=S MQSDEYQNRWICCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBQFBEBEBCHTBK-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(C=C)C1=CC=CC=C1 CBQFBEBEBCHTBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVVDPRQMYYDZHL-UHFFFAOYSA-N 1-propyl-2h-tetrazole-5-thione Chemical compound CCCN1N=NN=C1S BVVDPRQMYYDZHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDVRPQIPVMARSE-UHFFFAOYSA-N 11-aminododecanoic acid Chemical compound CC(N)CCCCCCCCCC(O)=O ZDVRPQIPVMARSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Substances C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZJTCQWIDBCCE-UHFFFAOYSA-N 1h-triazine-6-thione Chemical class SC1=CC=NN=N1 HAZJTCQWIDBCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUAXHMVRKOTJKP-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylbutyric acid Chemical compound CCC(C)(C)C(O)=O VUAXHMVRKOTJKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXWPLAQHZMBYPU-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloropropyl 2h-benzotriazole-5-carboxylate Chemical compound C1=C(C(=O)OCC(Cl)CCl)C=CC2=NNN=C21 BXWPLAQHZMBYPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZAXYQQRMDUTM-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpentan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)OC(=O)C=C BUZAXYQQRMDUTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-1h-1,3,5-triazin-4-one Chemical compound OC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGTBRAFPWNISIJ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C QGTBRAFPWNISIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEVOENGLLAAIKA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(=O)C=C KEVOENGLLAAIKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFTWWOCWRSUGAW-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOCCOCCOC(=O)C(C)=C WFTWWOCWRSUGAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKLMKZINKNMVKA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxypropoxy)propan-1-ol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(O)COC(C)CO ZKLMKZINKNMVKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAVVKEZTUOGEAK-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCOCCOC(=O)C(C)=C DAVVKEZTUOGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZMXJTJBSWOCQB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOCCOC(=O)C=C HZMXJTJBSWOCQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRRYHGFIJXAGHN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoylamino)ethyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCCNC(=O)C(C)=C CRRYHGFIJXAGHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRAMZQXXPOLCIY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethanesulfonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCS(O)(=O)=O PRAMZQXXPOLCIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBDVWXAVKPRHCU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCCOC(=O)C(C)=C IBDVWXAVKPRHCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTZYQZQFXMSRAQ-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylpropoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCCC1=CC=CC=C1 UTZYQZQFXMSRAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWGICHSXPKQMRR-UHFFFAOYSA-N 2-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)N1N=NN=C1S TWGICHSXPKQMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTBIHKZYDZQMQA-UHFFFAOYSA-N 2-(n-ethylanilino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN(CC)C1=CC=CC=C1 WTBIHKZYDZQMQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUYYZQCJUGZUCW-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-enoylamino)ethyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCCNC(=O)C=C RUYYZQCJUGZUCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVYVKSBVZFBBPL-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)NC(=O)C=C MVYVKSBVZFBBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZGMQAMKOBOIDR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCO MZGMQAMKOBOIDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNHOISKXMSMPX-UHFFFAOYSA-N 2-[butyl(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound CCCCN(CCO)CCO GVNHOISKXMSMPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTJNPDLOIVDEEL-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(C)=O ZTJNPDLOIVDEEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFIOPCXETLAGLR-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CC(=O)OCCOC(=O)C=C UFIOPCXETLAGLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICGLGDINCXDWJB-UHFFFAOYSA-N 2-benzylprop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(=C)CC1=CC=CC=C1 ICGLGDINCXDWJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHPYXVIHDRDPDI-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC(Br)=NC2=C1 PHPYXVIHDRDPDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDZAAIHWZYWBSS-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethyl prop-2-enoate Chemical compound BrCCOC(=O)C=C CDZAAIHWZYWBSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJKKWVGWYCKUFC-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C(C)=C DJKKWVGWYCKUFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYPSHJCKSDNETA-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC(Cl)=NC2=C1 AYPSHJCKSDNETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEPWOCLBLLCOGZ-UHFFFAOYSA-N 2-cyanoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC#N AEPWOCLBLLCOGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUOKWZRAWBZOQM-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(=C)C1CCCCC1 XUOKWZRAWBZOQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCUZVMHXDRSBKX-UHFFFAOYSA-N 2-decylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O HCUZVMHXDRSBKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWCDUUFOAZFFMX-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n,n-dimethylethanamine Chemical compound CN(C)CCOC=C JWCDUUFOAZFFMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C=C FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDYJJKHDNNVUDR-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-methylbutanedioic acid Chemical compound CCC(C)(C(O)=O)CC(O)=O FDYJJKHDNNVUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDIHUFWYKQCZDV-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-n-(2-sulfanylidene-1,3-dihydrobenzimidazol-5-yl)hexanamide Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)NC1=CC=C2NC(=S)NC2=C1 FDIHUFWYKQCZDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNXWGROWIZESDV-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3-methylidenebutanedinitrile Chemical compound N#CC(O)C(=C)C#N MNXWGROWIZESDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006290 2-hydroxybenzyl group Chemical group [H]OC1=C(C([H])=C([H])C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSAHAOQXCSZZHG-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-(2-methylprop-2-enoylamino)butane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(CC)NC(=O)C(C)=C FSAHAOQXCSZZHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUVYCYJUUGPYFS-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-[(2-sulfanylidene-3h-1,3,4-thiadiazol-5-yl)sulfanyl]propanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CSC1=NNC(=S)S1 OUVYCYJUUGPYFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEBNPEXFDZBTIB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylbut-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(C)=CCC1=CC=CC=C1 AEBNPEXFDZBTIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFTHUBZIEMOORC-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-2-enamide Chemical compound CC=C(C)C(N)=O KFTHUBZIEMOORC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXQOBTQMLMZFOW-UHFFFAOYSA-N 2-methylhex-2-enamide Chemical compound CCCC=C(C)C(N)=O ZXQOBTQMLMZFOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPNSCOVIJFIXTJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanamide Chemical compound CCC(=C)C(N)=O LPNSCOVIJFIXTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GASMGDMKGYYAHY-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenehexanamide Chemical compound CCCCC(=C)C(N)=O GASMGDMKGYYAHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YICILWNDMQTUIY-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenepentanamide Chemical compound CCCC(=C)C(N)=O YICILWNDMQTUIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLLJBUZYAVNFOG-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-ene-1,1-diol Chemical compound CC(C)=C(O)O RLLJBUZYAVNFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODPPVFMETNCIRW-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyloxymethanesulfonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCS(O)(=O)=O ODPPVFMETNCIRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGNSTCICFBACB-UHFFFAOYSA-N 2-octylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O QJGNSTCICFBACB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=CC1=CC=CC=C1 FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMOLAGKJZFODRK-UHFFFAOYSA-N 2-phenylprop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(=C)C1=CC=CC=C1 IMOLAGKJZFODRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQTFHSAAODFMHB-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCOC(=O)C=C GQTFHSAAODFMHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPXZAISSLVEZTK-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OCCOC(=O)C(C)=C JPXZAISSLVEZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCDNCYSNKCATRD-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OCCOC(=O)C=C PCDNCYSNKCATRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZGTYCFBIJQZMA-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylbenzimidazole-2-sulfonic acid Chemical class C1=CC=CC2=NC(S(=O)(=O)O)(S)N=C21 HZGTYCFBIJQZMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCRZVUIGGYMOBI-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-1,3-dihydrobenzimidazole-5-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2NC(=S)NC2=C1 DCRZVUIGGYMOBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLPZRWDNWKLLCI-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-3h-1,3-benzothiazole-5-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2SC(=S)NC2=C1 NLPZRWDNWKLLCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOPUIFSTGVXMLL-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-3h-1,3-benzothiazole-5-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C2SC(=S)NC2=C1 YOPUIFSTGVXMLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUGDWCNTMFYFRB-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-3h-1,3-benzoxazole-5-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2OC(=S)NC2=C1 GUGDWCNTMFYFRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZHULBXGOUSAIV-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-3h-1,3-benzoxazole-5-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C2OC(=S)NC2=C1 IZHULBXGOUSAIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylideneimidazolidin-4-one Chemical compound O=C1CNC(=S)N1 UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 2-thiobarbituric acid Chemical compound O=C1CC(=O)NC(=S)N1 RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSFHICWNEBCMNN-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazol-5-amine Chemical compound NC1=CC=C2NN=NC2=C1 XSFHICWNEBCMNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIJUXZAARBQNOH-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazol-5-ylurea Chemical compound NC(=O)NC1=CC=C2NN=NC2=C1 CIJUXZAARBQNOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUOVBFFLXKJFEE-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazole-5-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(=O)O)C=CC2=NNN=C21 GUOVBFFLXKJFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWJHCOPTQCMPO-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazole-5-sulfonic acid Chemical compound C1=C(S(=O)(=O)O)C=CC2=NNN=C21 VFWJHCOPTQCMPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 2h-triazol-4-amine Chemical class NC1=CNN=N1 JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBHTTYDJRXOHHL-UHFFFAOYSA-N 2h-triazolo[4,5-c]pyridazine Chemical class N1=NC=CC2=C1N=NN2 CBHTTYDJRXOHHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKFLOVGORAZDI-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethyloxetan-2-one Chemical compound CC1(C)COC1=O ULKFLOVGORAZDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrachlorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C(O)=O WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVWPIDMVMOHYEG-UHFFFAOYSA-N 3,4-diphenyl-1h-imidazole-2-thione Chemical compound C=1C=CC=CC=1N1C(=S)NC=C1C1=CC=CC=C1 WVWPIDMVMOHYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZBUBYILVFRSTB-UHFFFAOYSA-N 3-(2-hydroxyethyl)-1h-benzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(=S)N(CCO)C2=C1 HZBUBYILVFRSTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFNGWPXYNSJXOP-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propane-1-sulfonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCS(O)(=O)=O KFNGWPXYNSJXOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIERACSHCALJOM-UHFFFAOYSA-N 3-(2h-tetrazol-5-yl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 MIERACSHCALJOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYVLMLSHPCLECL-UHFFFAOYSA-N 3-(3-nitrophenyl)-1h-imidazole-2-thione Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(N2C(NC=C2)=S)=C1 LYVLMLSHPCLECL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSMAJQIKZPQQAH-UHFFFAOYSA-N 3-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(N2C(N=NN2)=S)=C1 KSMAJQIKZPQQAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZLLHXXADRILOZ-UHFFFAOYSA-N 3-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(N2C(N=NN2)=S)=C1 FZLLHXXADRILOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSJBSUHYCGQTHZ-UHFFFAOYSA-N 3-Methoxy-1,2-propanediol Chemical compound COCC(O)CO PSJBSUHYCGQTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXYMTDGRUCPPFX-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2-sulfanylidene-1h-pyrimidin-4-one Chemical compound NN1C(=O)C=CNC1=S RXYMTDGRUCPPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBTDFRNUVWFUGL-UHFFFAOYSA-N 3-aminopropyl carbamimidothioate;dihydrobromide Chemical compound Br.Br.NCCCSC(N)=N JBTDFRNUVWFUGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYYRRBOMNHUCLB-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-n,n-dimethylpropan-1-amine Chemical class CN(C)CCCCl NYYRRBOMNHUCLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVIVBQJVHLJFFS-UHFFFAOYSA-N 3-cyclopenta-1,3-dien-1-ylfuran-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=2CC=CC=2)=C1 DVIVBQJVHLJFFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHULUQRDNLRXPF-UHFFFAOYSA-N 3-ethenyl-1,3-oxazolidin-2-id-4-one Chemical compound C(=C)N1[CH-]OCC1=O XHULUQRDNLRXPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDNHWPVAYKOIGU-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-2-methylpent-2-enamide Chemical compound CCC(CC)=C(C)C(N)=O SDNHWPVAYKOIGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpent-2-enamide Chemical compound CCC(CC)=CC(N)=O UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXBMPEBBRQPJDL-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-methylprop-2-enamide Chemical compound OC=C(C)C(N)=O UXBMPEBBRQPJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWKKCUWIMOZYOO-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COC(C)CCOC(=O)C(C)=C NWKKCUWIMOZYOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGSUUFDRDVJCLT-UHFFFAOYSA-N 3-methylazepan-2-one Chemical compound CC1CCCCNC1=O FGSUUFDRDVJCLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBRPXLXYCFYGU-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)C=CC1=CC=CC=C1 CEBRPXLXYCFYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)=C(C)C1=CC=CC=C1 ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNPOQXWAMXPTA-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enamide Chemical compound CC(C)=CC(N)=O WHNPOQXWAMXPTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEUGLRMYAXWKM-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-1h-imidazole-2-thione Chemical compound S=C1NC=CN1C1=CC=CC=C1 VXEUGLRMYAXWKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYUTUWAFOUJLKI-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCOC(=O)C=C NYUTUWAFOUJLKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWIVRAVCZJXOQC-UHFFFAOYSA-N 3h-oxathiazole Chemical compound N1SOC=C1 KWIVRAVCZJXOQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYYSPVRERVXMLJ-UHFFFAOYSA-N 4,4-difluorocyclohexan-1-one Chemical compound FC1(F)CCC(=O)CC1 NYYSPVRERVXMLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPOHHKQFJSIPBW-UHFFFAOYSA-N 4,5,6-trichloro-2h-benzotriazole Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=CC2=NNN=C21 UPOHHKQFJSIPBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCBOMVKQNIBOG-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1-sulfanyltriazole Chemical compound SN1N=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 SLCBOMVKQNIBOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIEIAVACOCLACU-UHFFFAOYSA-N 4,6-dichloro-2h-benzotriazole Chemical compound ClC1=CC(Cl)=C2NN=NC2=C1 JIEIAVACOCLACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRBFWTDIRYEDBQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-aminoethyl)benzoic acid Chemical compound NCCC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MRBFWTDIRYEDBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZBJOMBBUPNFKQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-sulfanylidene-1h-imidazol-3-yl)benzenesulfonic acid Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C1N1C(=S)NC=C1 OZBJOMBBUPNFKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNFFXFYIHZSXFP-UHFFFAOYSA-N 4-(2-sulfanylidene-1h-imidazol-3-yl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1N1C(=S)NC=C1 ZNFFXFYIHZSXFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGZUMTAWLOEQKZ-UHFFFAOYSA-N 4-(3-sulfanyltriazol-4-yl)benzenesulfonic acid Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C1C1=CN=NN1S HGZUMTAWLOEQKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBHLFWNKEWLHBP-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenyl)butanoic acid Chemical compound NC1=CC=C(CCCC(O)=O)C=C1 RBHLFWNKEWLHBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZTVIVQQYCNWHY-UHFFFAOYSA-N 4-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)benzenesulfonamide Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)N)=CC=C1N1C(=S)N=NN1 NZTVIVQQYCNWHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJSVZVAZMJXQNA-UHFFFAOYSA-N 4-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)benzenesulfonic acid Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C1N1C(=S)N=NN1 ZJSVZVAZMJXQNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDVFHEXRJFFDDB-UHFFFAOYSA-N 4-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1N1C(=S)N=NN1 GDVFHEXRJFFDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALYNCZNDIQEVRV-PZFLKRBQSA-N 4-amino-3,5-ditritiobenzoic acid Chemical compound [3H]c1cc(cc([3H])c1N)C(O)=O ALYNCZNDIQEVRV-PZFLKRBQSA-N 0.000 description 1
- VVAAYFMMXYRORI-UHFFFAOYSA-N 4-butoxy-2-methylidene-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCCOC(=O)CC(=C)C(O)=O VVAAYFMMXYRORI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPYPMOKNVPZWKZ-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-1h-benzimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC2=C1N=CN2 RPYPMOKNVPZWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSZCRKZKNKSJNU-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobutyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCCCOC(=O)C=C MSZCRKZKNKSJNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZHLUTZGFZAYCH-UHFFFAOYSA-N 4-cyano-2-methylidenebutanamide Chemical compound NC(=O)C(=C)CCC#N LZHLUTZGFZAYCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTAGBVNSDJDTE-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxy-2-methylidene-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCOC(=O)CC(=C)C(O)=O RTTAGBVNSDJDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIYTYGOUZOARSH-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-2-methylidene-4-oxobutanoic acid Chemical compound COC(=O)CC(=C)C(O)=O OIYTYGOUZOARSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIRPEUWCTMKABH-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-2-methylidenebutanamide Chemical compound COCCC(=C)C(N)=O PIRPEUWCTMKABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYLHQVQTQOULEN-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-5-phenyl-1-sulfanyltriazole Chemical compound N1=NN(S)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C BYLHQVQTQOULEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTMDJGPRCLQPBT-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-1h-1,2,3-benzotriazole Chemical class [O-][N+](=O)C1=CC=CC2=NNN=C12 UTMDJGPRCLQPBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXBVSRMHOPMXBA-UHFFFAOYSA-N 4-nitrothiophenol Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(S)C=C1 AXBVSRMHOPMXBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHEBHJLYNLALHM-UHFFFAOYSA-N 5,6-dichloro-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Cl)C(Cl)=CC2=NNN=C21 HHEBHJLYNLALHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVPKIPGHRNIOPT-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethyl-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC2=NNN=C21 MVPKIPGHRNIOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJUQGASMPRMWIW-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethylbenzimidazole Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC2=C1NC=N2 LJUQGASMPRMWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLNOCUKOZFUIRJ-UHFFFAOYSA-N 5-(3-nitrophenyl)-1-sulfanyltriazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(C=2N(N=NC=2)S)=C1 QLNOCUKOZFUIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIUOBAHGBPSRKY-UHFFFAOYSA-N 5-(4-nitrophenyl)-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1C1=NNN=N1 MIUOBAHGBPSRKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXGZJSKVCIUYMT-UHFFFAOYSA-N 5-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)benzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(N2C(N=NN2)=S)=C1 LXGZJSKVCIUYMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPSQQAGVARBNR-UHFFFAOYSA-N 5-[2-(dimethylazaniumyl)ethylsulfanyl]-1,3,4-thiadiazole-2-thiolate Chemical compound CN(C)CCSC1=NNC(=S)S1 FBPSQQAGVARBNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXDMTLVCACMNJO-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound NC1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 BXDMTLVCACMNJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIJWPKDPZNHD-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Br)C=CC2=NNN=C21 BQCIJWPKDPZNHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INDZKPPEDDBRFJ-UHFFFAOYSA-N 5-butoxy-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(OCCCC)C=CC2=NNN=C21 INDZKPPEDDBRFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCFMGIGLXOKMJC-UHFFFAOYSA-N 5-butyl-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(CCCC)C=CC2=NNN=C21 ZCFMGIGLXOKMJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZIHEYOZBRPWMB-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound ClC1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 ZZIHEYOZBRPWMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZBQVZFITSVHAW-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Cl)C=CC2=NNN=C21 PZBQVZFITSVHAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYBWJPAOAQCXAX-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-2-sulfanylidene-1h-pyrimidin-4-one Chemical compound CCC1=CNC(=S)NC1=O JYBWJPAOAQCXAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLJYQXMUUKOBBO-UHFFFAOYSA-N 5-ethylsulfanyl-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical compound CCSC1=NNC(=S)S1 JLJYQXMUUKOBBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRROYQPJEAZQFA-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxy-2-sulfanylidene-1h-pyrimidin-4-one Chemical compound OC1=CN=C(S)NC1=O WRROYQPJEAZQFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INRQKLGGIVSJRR-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxypentyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCCOC(=O)C=C INRQKLGGIVSJRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOFBRZWVWJCLGM-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound COC1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 KOFBRZWVWJCLGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHAZBFRQQCSOJ-UHFFFAOYSA-N 5-methoxypent-1-en-3-one Chemical compound COCCC(=O)C=C RYHAZBFRQQCSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWMIYKGAOPXNMP-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1-sulfanyltriazole Chemical compound CC1=CN=NN1S VWMIYKGAOPXNMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWXZXCZBMQPOBF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzimidazole Chemical compound CC1=CC=C2N=CNC2=C1 RWXZXCZBMQPOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFWGYKRJMYXYND-UHFFFAOYSA-N 5-methylsulfanyl-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical compound CSC1=NN=C(S)S1 CFWGYKRJMYXYND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZNIJCUDFFPHEY-UHFFFAOYSA-N 5-naphthalen-1-yl-1-sulfanyltriazole Chemical compound SN1N=NC=C1C1=CC=CC2=CC=CC=C12 GZNIJCUDFFPHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPXQSGWOGQPLQO-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2N=C(S)NC2=C1 YPXQSGWOGQPLQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLTOGNYOQHDCAN-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole-3-carboxylic acid Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(C(=O)O)=NNC2=C1 MLTOGNYOQHDCAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOCDQWRMYHJTMY-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C([N+](=O)[O-])C=CC2=NNN=C21 AOCDQWRMYHJTMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFZDOFMXGCPMCX-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-3h-1,3-benzothiazole-2-thione Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2SC(=S)NC2=C1 NFZDOFMXGCPMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQOGSTGLRLMQOV-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-3h-1,3-benzoxazole-2-thione Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2OC(=S)NC2=C1 FQOGSTGLRLMQOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVKPOJHRZWGROT-UHFFFAOYSA-N 5-nonyl-2-sulfanylidene-1H-pyrimidin-4-one Chemical compound CCCCCCCCCC1=CNC(=S)NC1=O WVKPOJHRZWGROT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSCHHGYVKWVBGW-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1-sulfanyltriazole Chemical compound SN1N=NC=C1C1=CC=CC=C1 QSCHHGYVKWVBGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIQKIFWTIQDQMM-UHFFFAOYSA-N 5h-1,3-oxazole-2-thione Chemical compound S=C1OCC=N1 GIQKIFWTIQDQMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUXLDNTZFXDNBA-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-2-methyl-4h-1,4-benzoxazin-3-one Chemical compound C1=C(Br)C=C2NC(=O)C(C)OC2=C1 NUXLDNTZFXDNBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGQBDMCTWLXZIV-UHFFFAOYSA-N 6-butyl-1h-benzimidazole Chemical compound CCCCC1=CC=C2N=CNC2=C1 FGQBDMCTWLXZIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKLOLMQJDLMZRE-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-1h-benzimidazole Chemical compound ClC1=CC=C2N=CNC2=C1 NKLOLMQJDLMZRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRBBUEDJKCLTQE-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-4-nitro-2h-benzotriazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(Cl)=CC2=NNN=C12 HRBBUEDJKCLTQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPAZGLFMMUODDK-UHFFFAOYSA-N 6-nitro-1h-benzimidazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2N=CNC2=C1 XPAZGLFMMUODDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEJRBJIEEALTTL-UHFFFAOYSA-N 6-nitro-2-(trifluoromethyl)-1h-benzimidazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2N=C(C(F)(F)F)NC2=C1 FEJRBJIEEALTTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical class [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- ZGGQMTZNONPOPK-UHFFFAOYSA-N Cc1nc2ncnn2c(O)c1[N+]([O-])=O Chemical compound Cc1nc2ncnn2c(O)c1[N+]([O-])=O ZGGQMTZNONPOPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-ARJAWSKDSA-N Ethyl hydrogen fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(O)=O XLYMOEINVGRTEX-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical class C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical class OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- MZNHUHNWGVUEAT-XBXARRHUSA-N Hexyl crotonate Chemical compound CCCCCCOC(=O)\C=C\C MZNHUHNWGVUEAT-XBXARRHUSA-N 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWGBHCRJGXAGEU-UHFFFAOYSA-N Methylthiouracil Chemical compound CC1=CC(=O)NC(=S)N1 HWGBHCRJGXAGEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- ISLYUUGUJKSGDZ-UHFFFAOYSA-N OC1=CC=NC2=NC=NN12 Chemical compound OC1=CC=NC2=NC=NN12 ISLYUUGUJKSGDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001141 Poly(2-naphthyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002730 Poly(butyl cyanoacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004285 Potassium sulphite Substances 0.000 description 1
- KNAHARQHSZJURB-UHFFFAOYSA-N Propylthiouracile Chemical compound CCCC1=CC(=O)NC(=S)N1 KNAHARQHSZJURB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGTQWXCGYALXJH-UHFFFAOYSA-N SC=1N2N=CN=C2N=C(C=1[N+](=O)[O-])C Chemical compound SC=1N2N=CN=C2N=C(C=1[N+](=O)[O-])C AGTQWXCGYALXJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- LKOIPYBSUJWJSM-UHFFFAOYSA-N [2-(dimethylamino)-2-phenoxyethyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(N(C)C)OC1=CC=CC=C1 LKOIPYBSUJWJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical class [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUYKWWDOUAZKNC-UHFFFAOYSA-J [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].Cl.Cl.[K+].[Ir+3] Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].Cl.Cl.[K+].[Ir+3] FUYKWWDOUAZKNC-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- DQVUUGHMHQPVSI-UHFFFAOYSA-N [chloro(phenyl)methyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(Cl)C1=CC=CC=C1 DQVUUGHMHQPVSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXSXCWXUCMJUGI-UHFFFAOYSA-N [methoxy(phenyl)methyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(OC)C1=CC=CC=C1 CXSXCWXUCMJUGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- GFFGJBXGBJISGV-UHFFFAOYSA-N adenyl group Chemical group N1=CN=C2N=CNC2=C1N GFFGJBXGBJISGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005599 alkyl carboxylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005116 aryl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940000635 beta-alanine Drugs 0.000 description 1
- VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N beta-propiolactone Chemical compound O=C1CCO1 VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N butyl maleate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 description 1
- 125000005518 carboxamido group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 239000007806 chemical reaction intermediate Substances 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- FCSHDIVRCWTZOX-DVTGEIKXSA-N clobetasol Chemical compound C1CC2=CC(=O)C=C[C@]2(C)[C@]2(F)[C@@H]1[C@@H]1C[C@H](C)[C@@](C(=O)CCl)(O)[C@@]1(C)C[C@@H]2O FCSHDIVRCWTZOX-DVTGEIKXSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002946 cyanobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIMUXQLLGBMSAI-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CCCCC1 FIMUXQLLGBMSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- JBSLOWBPDRZSMB-BQYQJAHWSA-N dibutyl (e)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- OGVXYCDTRMDYOG-UHFFFAOYSA-N dibutyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(=C)C(=O)OCCCC OGVXYCDTRMDYOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- XSBSXJAYEPDGSF-UHFFFAOYSA-N diethyl 3,5-dimethyl-1h-pyrrole-2,4-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C=1NC(C)=C(C(=O)OCC)C=1C XSBSXJAYEPDGSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- ZWWQRMFIZFPUAA-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound COC(=O)CC(=C)C(=O)OC ZWWQRMFIZFPUAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ONEGZZNKSA-N dimethyl fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C\C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- 229960004419 dimethyl fumarate Drugs 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N dimethyl maleate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002012 dioxanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCN QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMXXMZYAYIHTBU-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-hydroxybenzoate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC=C CMXXMZYAYIHTBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFIQVBFAKUPHOA-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methoxyacetate Chemical compound COCC(=O)OC=C AFIQVBFAKUPHOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNMORWGTPVWAIB-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)C(=O)OC=C WNMORWGTPVWAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N ethenyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC=C LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- XWNVSPGTJSGNPU-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-chloro-1h-indole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2NC(C(=O)OCC)=CC2=C1Cl XWNVSPGTJSGNPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKIRSCKRJJUCNI-UHFFFAOYSA-N ethyl 7-bromo-1h-indole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC(Br)=C2NC(C(=O)OCC)=CC2=C1 FKIRSCKRJJUCNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXYBXUYUKHUNOM-UHFFFAOYSA-M ethyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C UXYBXUYUKHUNOM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monoethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC(O)=O XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monomethyl ester Natural products COC(=O)C=CC(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003692 gamma aminobutyric acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002791 glucosyl group Chemical group C1([C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O1)CO)* 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- UYTPUPDQBNUYGX-UHFFFAOYSA-N guanine Chemical class O=C1NC(N)=NC2=C1N=CN2 UYTPUPDQBNUYGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 1
- SXCBDZAEHILGLM-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diol Chemical compound OCCCCCCCO SXCBDZAEHILGLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AKCUHGBLDXXTOM-UHFFFAOYSA-N hydroxy-oxo-phenyl-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound SS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 AKCUHGBLDXXTOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 description 1
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- RTWNYYOXLSILQN-UHFFFAOYSA-N methanediamine Chemical compound NCN RTWNYYOXLSILQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMMBQCILDZFYKX-UHFFFAOYSA-N methyl 2h-benzotriazole-5-carboxylate Chemical compound C1=C(C(=O)OC)C=CC2=NNN=C21 ZMMBQCILDZFYKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-IHWYPQMZSA-N methyl hydrogen fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002545 methylthiouracil Drugs 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 238000003541 multi-stage reaction Methods 0.000 description 1
- QRWZCJXEAOZAAW-UHFFFAOYSA-N n,n,2-trimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C(C)=C QRWZCJXEAOZAAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYHOHIOSQKQEON-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-2-(3-sulfanyltriazol-4-yl)ethanamine Chemical compound CN(C)CCC1=CN=NN1S TYHOHIOSQKQEON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRDNVESFWXDNSI-UHFFFAOYSA-N n-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)NC(=O)C=C YRDNVESFWXDNSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEOJXQORMIVKQQ-UHFFFAOYSA-N n-(2-cyanoethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCC#N HEOJXQORMIVKQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSCJIBOZTKGXQP-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCO BSCJIBOZTKGXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRUUXNSSLDIEPL-UHFFFAOYSA-N n-(2-sulfanylidene-1,3-dihydrobenzimidazol-5-yl)hexanamide Chemical compound CCCCCC(=O)NC1=CC=C2NC(=S)NC2=C1 NRUUXNSSLDIEPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCBBWYIVFRLKCD-UHFFFAOYSA-N n-[2-(dimethylamino)ethyl]-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)CCNC(=O)C(C)=C DCBBWYIVFRLKCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQGWOOIHSXNRPW-UHFFFAOYSA-N n-butyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCNC(=O)C(C)=C VQGWOOIHSXNRPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBLADNFGVOKFSU-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1CCCCC1 JBLADNFGVOKFSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C(C)=C ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCLLINSDAJVOHP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n',n'-dimethylprop-2-enehydrazide Chemical compound CCN(N(C)C)C(=O)C=C RCLLINSDAJVOHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOHPTROUZUOHHO-UHFFFAOYSA-N n-hexan-3-yl-2-sulfanylidene-1h-imidazole-3-carboxamide Chemical compound CCCC(CC)NC(=O)N1C=CNC1=S UOHPTROUZUOHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZXAODFGRZKJT-UHFFFAOYSA-N n-tert-butyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(C)(C)C QQZXAODFGRZKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC=C2C(OC(=O)C(=C)C)=CC=CC2=C1 HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 235000012149 noodles Nutrition 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 238000007344 nucleophilic reaction Methods 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N oxymethurea Chemical compound OCNC(=O)NCO QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005308 oxymethurea Drugs 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVZFXCWDIKQLAS-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-[(2-sulfanylidene-3h-1,3,4-thiadiazol-5-yl)sulfanyl]acetate Chemical compound S1C(S)=NN=C1SCC(=O)OC1=CC=CC=C1 XVZFXCWDIKQLAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZBGAMJVNYEBLF-UHFFFAOYSA-N phenyl 2h-benzotriazole-5-carboxylate Chemical compound C1=CC2=NNN=C2C=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 AZBGAMJVNYEBLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTULKOYQXCVEQE-UHFFFAOYSA-N phenyl 3-(5-sulfanylidene-2h-tetrazol-1-yl)benzoate Chemical compound C=1C=CC(N2C(N=NN2)=S)=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 KTULKOYQXCVEQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000002743 phosphorus functional group Chemical group 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N piperidin-2-one Chemical compound O=C1CCCCN1 XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001603 poly (alkyl acrylates) Polymers 0.000 description 1
- 229920000933 poly (ε-caprolactam) Polymers 0.000 description 1
- 229920002250 poly(2-ethoxyethyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002883 poly(2-hydroxypropyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002885 poly(4-carboxy phenylmethacrylamide) Polymers 0.000 description 1
- 229920003989 poly(N-sec-butylacrylamide) Polymers 0.000 description 1
- 229920003991 poly(N-tert-butyl acrylamide) Polymers 0.000 description 1
- 229920000191 poly(N-vinyl pyrrolidone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002006 poly(N-vinylimidazole) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005593 poly(benzyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001485 poly(butyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000212 poly(isobutyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000196 poly(lauryl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002776 polycyclohexyl methacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002720 polyhexylacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000129 polyhexylmethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000182 polyphenyl methacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- IBGXDQCATAOYOE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxymethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)COC(=O)C=C IBGXDQCATAOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000380 propiolactone Drugs 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002662 propylthiouracil Drugs 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 235000018102 proteins Nutrition 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical compound O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- 238000003385 ring cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010413 sodium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000661 sodium alginate Substances 0.000 description 1
- 229940005550 sodium alginate Drugs 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 235000010356 sorbitol Nutrition 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000003431 steroids Chemical class 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003567 thiocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005323 thioketone group Chemical group 0.000 description 1
- WZMPOCLULGAHJR-UHFFFAOYSA-N thiophen-2-ol Chemical compound OC1=CC=CS1 WZMPOCLULGAHJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEMGGZBWXRYJHK-UHFFFAOYSA-N thiouracil Chemical compound O=C1C=CNC(=S)N1 ZEMGGZBWXRYJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000329 thiouracil Drugs 0.000 description 1
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003079 width control Methods 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/305—Substances liberating photographically active agents, e.g. development-inhibiting releasing couplers
- G03C7/30511—Substances liberating photographically active agents, e.g. development-inhibiting releasing couplers characterised by the releasing group
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/002—Photosensitive materials containing microcapsules
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/061—Hydrazine compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/42—Developers or their precursors
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/156—Precursor compound
- Y10S430/158—Development inhibitor releaser, DIR
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
- Die Erfindung betrifft photographische Silberhalogenidmaterialien und ein Verfahren zur Erzeugung von Negativbildern mit ultrahohem Kontrast, bei dem diese Materialien verwendet werden. Genauer betrifft sie photographische photoempfindliche Negativmaterialien mit ultrahohem Kontrast, welche für die photomechanische Plattenherstellungsverfahren geeignet sind.
- Photographische Materialien, welche geeignet sind, eine Originalreproduktion mit hoher Qualität zu ergeben, stabile Entwicklungsbäder und ein vereinfachtes Nachfüllsystem sind auf dem Gebiet der photomechanischen Plattenherstellung erforderlich, um mit der Vielfalt der verschiedenen und komplizierten Druckformen umzugehen.
- Originaldokumente, welche Kameraprozessen zur Linienverarbeitung unterzogen werden, umfassen insbesondere Photosatzbuchstaben, handgeschriebene Buchstaben, Illustrationen und Rasterpunktbildaufnahmen (Halbtonpunktbildaufnahmen). Daher schließen die Originaldokumente für diese Verfahren eine Mischung von Bildern mit unterschiedlichen Dichten und Linienbreiten ein. Es besteht daher ein Bedürfnis für photomechanische Prozeßkameras, photographische Materialien und Verfahren zur Bilderzeugung, mit welchen diese Originaldokumente genau kopiert werden können. Andererseits wird eine Vergrößerung (Ausbreitung) oder Verkleinerung (Drosselung) von Punktbildaufnahmen weit verbreitet bei der Plattenherstellung für Kataloge und Poster und bei der Plattenherstellung, bei der Rasterpunkte vergrößert werden, verwendet. Bei solchen Verfahren wird die Zahl der Linien gröber und ausgeblutete Punkte werden photographiert. Bei der Verkleinerung ist die Linienzahl pro Inch größer als bei dem Originaldokument und feinere Punkte werden photographiert. Daher besteht ein Bedürfnis für ein Verfahren zur Erzeugung von Bildern, welches einen weiteren Belichtungsspielraum zum Aufrechterhalten der Reproduzierbarkeit der Rasterpunktbild-Gradation besitzt.
- Als Lichtquellen für photomechanische Prozeßkameras werden Halogenlampen oder Xenonlampen verwendet. Photographische Materialien sind normalerweise orthosensibilisiert, um die photographische Empfindlichkeit gegenüber diesen Lichtquellen zu erhöhen. Jedoch werden orthosensibilisierte photographische Materialien in größerem Maße durch die chromatische Aberration der Linsen beeinflußt, was leicht zu einer Verschlechterung der Bildqualität führen kann. Diese Verschlechterung wird insbesondere bei Xenonlampen-Lichtquellen betont.
- Bekannte Systeme, welche sich an das Bedürfnis für einen breiteren Belichtungsspielraum wenden, schließen solche ein, bei welchen Linienbilder oder Rasterpunktbilder, welche eine klare Unterscheidbarkeit zwischen Bildteilen und Nichtbildteilen enthalten und hohen Kontrast und hohe Schwärzungsdichten zeigen (ficturing) durch Verarbeitung von lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterialien vom Lith-Typ, umfassend Silberchlorbromide (bei welchen der Silberchloridgehalt wenigstens 50% beträgt) in Hydrochinon-Entwicklern mit einer sehr niedrigen wirksamen Konzentration an Sulfitionen (normalerweise weniger als 0,1 Mol/Liter) erhalten werden. Jedoch ist bei diesen Verfahren der Entwickler gegenüber der Luftoxidation instabil aufgrund seiner niedrigen Sulfitkonzentration, und verschiedene Bemühungen und Vorrichtungen wurden zum Aufrechterhalten einer stabilen Badaktivität eingesetzt. Zur Zeit jedoch ist das Verarbeiten sehr langsam und die Betriebswirksamkeit ist niedrig.
- Konsequenterweise entstand ein Bedürfnis fur ein System zur Bilderzeugung, bei welchem die Instabilität der Bilderzeugung mit den wie oben erwähnten Entwicklungsverfahren (Lith- Entwicklungssysteme) bewältigt werden und bei dem die Entwicklung in Verarbeitungsbädern mit guter Lagerstabilität durchgeführt wird und bei dem photographische Charakteristiken realisiert werden können. Die Systeme, bei denen Bilder von ultrahohem Kontrast mit einem Gamma-Wert von über 10 erhalten werden, werden durch Verarbeiten von photographischen Silberhalogenidmaterialien vom Typ eines latenten Oberflächenbildes erzeugt, wobei spezifizierte Acylhydrazinverbindungen den Entwicklungsbädern mit einem pH von 11,0 bis 12,3, enthaltend wenigstens 0,15 Mol/Liter Sulfit-Haltbarkeitsmittel, zugegeben wurden, und welche eine gute Lagerstabilität besitzen, wie in US-A-4 166 742, 4 168 977, 4 221 857, 4 224 401, 4 243 739, 4 272 606 und 4 311 781 angegeben. Ein Unterscheidungsmerkmal dieser neuen Systeme zur Bilderzeugung ist, daß Silberiodbromide und Silberchloriodbromide verwendet werden können, während nur Silberchlorbromide, welche einen hohen Silberchloridgehalt besitzen, bei einem herkömmlichen System zur Bilderzeugung mit ultrahohem Kontrast verwendet werden können.
- Die oben erwähnten Systeme zur Bilderzeugung schaffen eine ausgezeichnete scharfe Siebpunktqualität, ausgezeichnete Verarbeitungsstabilität, Verarbeitungsgeschwindigkeit und Original- Reproduktionseigenschaften. Jedoch sind Systeme, welche verbesserte Original-Reproduktions eigenschaften schaffen, wünschenswert, um mit der Mannigfaltigkeit gedruckter Gegenstände umzugehen.
- Andererseits ist die Betriebswirksamkeit verbessert, wenn eine Plattenanordnung und Punkt-zu-Punkt-Verfahren (Registerverfahren) bei Lichtumgebung durchgeführt werden. Konsequenterweise wurde die Entwicklung von photographischen Materialien für Zwecke der Plattenherstellung, welche in Umgebungen gehandhabt werden können, die als Lichträume bekannt sind, sowie die Entwicklung von Belichtungsdruckern durchgeführt. Die photographischen Materialien für die Verwendung in einem hier beschriebenen Lichtraum sind photographische Materialien, welche sicher für lange Zeitperioden unter Verwendung von Licht mit einer Wellenlänge von wesentlich höher als 400 nm verwendet werden können, welche jedoch keine Ultraviolett-Sicherheitslichtkomponente enthalten.
- Die photographischen Materialien für die Verwendung in einem Lichtraum, welche für eine Plattenanordnung und für Punkt-zu- Punkt-Verfahren verwendet werden können, sind photographische Materialien, welche verwendet werden, um eine Negativbild/Postivbild- oder Positivbild/Positivbild-Konversion durchzuführen, wobei entwickelte und verarbeitete Filme, auf welchen Buchstaben und Rasterpunktbilder erzeugt worden sind, als Originale verwendet werden, und eine Kontaktbelichtung mit einem photographischen Material für das Punkt-zu-Punkt- Verarbeiten durchgeführt wird. Jedoch ist es wünschenswert, daß (1) das Material so wirkt, daß Halbtonpunktbilder, Linienbilder und Buchstabenbilder einer Negativbild/Positivbild-Umwandlung in Einklang mit den Halbtonpunktflächen und der Linienbreite oder mit der Buchstaben-Bildbreite unterzogen werden können, und (2), daß das Material so wirkt, daß die Tonsteuerung der Rasterpunktbilder und die Steuerung der Linienbreite der Buchstabenlinienbilder möglich ist. Photographische Materialien für die Punkt-zu-Punkt-Arbeit in einem Lichtraum wurden als Antwort auf diese Erfordernisse zur Verfügung gestellt.
- Jedoch ist bei der fortgeschrittenen Bildumwandlungsoperation, bekannt als Bildung eines überlagerten Buchstabenbildes durch Punkt-zu-Punkt-Verarbeitung, ein Nachteil der, daß im Vergleich zu Verfahren, bei welchen eine Punkt-zu-Punkt-Verarbeitung im dunklen Raum mit herkömmlichen lichtempfindlichen Punkt-zu- Punkt-Materialien für einen dunklen Raum durchgeführt wird, eine unvermeidliche Verschlechterung der Qualität des überlagerten Buchstabenbildes auftritt, wenn das Punkt-zu-Punkt-Verfahren in einem Lichtraum mit vorhandenen lichtempfindlichen Materialien für einen Lichtraum verwendet wird.
- Das Verfahren zur Bildung eines überlagerten Buchstabenbildes durch Punkt-zu-Punkt-Verarbeitung wird nachfolgend genauer in Verbindung mit der einzigen Figur in dieser Beschreibung beschrieben. Wie in der Figur gezeigt, sind transparente oder lichtdurchlässige Träger (a) und (c) (im allgemeinen Polyethylenterephthalatfilm mit einer Dicke von ungefähr 100 µm) an einem Buchstaben- oder Linienbild-enthaltenden Film (Linienoriginal) (b) und einem Rasterpunktbild-enthaltenden Film (Halbtonoriginal) (d) befestigt, um ein kombiniertes Original zu erzeugen und ein photographisches Material für die Punkt-zu-Punkt-Bearbeitung (e) wird in Berührung mit dem Halbtonoriginal (d) gebracht, so daß die Emulsionsoberfläche des Materials (e) der Halbtonbildoberfläche des Originals (d) gegenüberliegt und diese berührt. Anschließend wird das Material durch das kombinierte Original durch Kontaktbelichtung belichtet.
- Nach dem Belichten wird das Material einer Entwicklungsbehandlung unterzogen, und die transparenten Teile des Linienbildes werden in einem Rasterpunktbild erzeugt.
- Der wichtige Gesichtspunkt dieses Verfahrens zur Bildung eines überlagerten Buchstabenbildes ist der, daß es ideal für die Durchführung einer Negativbild/Positivbild-Konversion in Einklang mit der Rasterpunktfläche und der Bildbreite des Rasterpunktoriginals und des Linienoriginals ist. Wie jedoch in der Figur gezeigt, steht das Rasterpunktoriginal in direkter Berührung mit der Emulsionsoberfläche des photographischen Punkt-zu-Punkt-Materials, wenn die Belichtung durchgeführt wird. Andererseits liegt zwischen dem Linienoriginal und dem photographischen Punkt-zu-Punkt-Material der Träger (c) und das Rasterpunktoriginal (d).
- Konsequenterweise wird, falls eine Belichtung, welche eine genaue Negativbild/Positivbild-Umwandlung des Rasterpunktoriginals ergibt, die Bildbreite in den transparenten Teilen des Linienbilds unvermeidlich reduziert, da das Linienoriginal unter Ausbluten durch den Träger (c) und das Rasterpunktoriginal (d) belichtet wird. Dies ist die Ursache für die unvermeidliche Verschlechterung der Qualität des überlagerten Buchstabenbildes.
- Systeme, bei welchen Hydrazine zur Bewältigung des oben beschriebenen Problems verwendet werden, sind in JP-A-62-80640, JP-A-62-235938, JP-A-62-235939, JP-A-63-104046, JP-A-63-103235, JP-A-63-2906031, JP-A-63-314541 und JP-A-64-13545 (der Ausdruck "JP-A", wie hier verwendet, bezeichnet eine "nicht geprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung") beschrieben. Jedoch sind diese Systeme nicht zufriedenstellend und eine weitere Verbesserung ist wünschenswert.
- Die Verwendung von Redox-Verbindungen, welche bei der Oxidation Entwicklungsinhibitoren freisetzen können, ist in JP-A-61-213847, US-A-4 684 604, JP-A-64-72140 und JP-A-64-72139 beschrieben.
- Jedoch entstehen verschiedene Probleme, wenn diese Redox- Verbindungen in photographischen Materialien vom Negativ-Typ mit ultrahohem Kontrast, welche Hydrazinderivate enthalten, verwendet werden, und daher kann das Potential dieser Redox- Verbindungen nicht zufriedenstellend realisiert werden.
- Spezifisch tritt ein Verlust des Kontrasts auf und eine adäquate Verbesserung für die Original-Reproduzierbarkeit wird nicht erreicht.
- EP-A-0 393 720, welche Stand der Technik gemäß Artikel 54(3) EPC ist, offenbart ein photographisches Silberhalogenidmaterial, enthaltend ein Hydrazinderivat, welches einen Entwicklungsinhibitor nach dem Oxidieren freisetzen kann, wobei in der gleichen, das Hydrazinderivatenthaltenden Schicht ein Polyethylacrylat anwesend sein kann. Die bloße Zugabe feiner Polymerteilchen und einer Redox-Verbindung zu einer Beschichtungslösung ist nicht vergleichbar mit einem Polymerlatex, welcher mit einer Redox-Verbindung beladen ist.
- Ein Ziel der Erfindung ist die Schaffung photographischer Silberhalqgenidmaterialien für die Verwendung auf dem Gebiet der photomechanischen Plattenherstellung, mit welchen eine ausgezeichnete Reproduktion erhalten wird durch Photographieren von Buchstabenoriginalen und Rasterpunktoriginalen.
- Ein weiteres Ziel der Erfindung ist die Schaffung von photographischen Punkt-zu-Punkt-Materialien, welche in Umgebungen, die als Lichträume bekannt sind, gehandhabt werden können, welche auf dem Gebiet der photomechanischen Plattenherstellung verwendet werden können und welche eine ausgezeichnete überlagerte Buchstabenbildqualität schaffen.
- Diese und andere Ziele der Erfindung wurden mittels eines photographischen Silberhalogenidmaterials realisiert, umfassend einen Träger mit einer darauf angeordneten, Gelatine-enthaltenden hydrophilen Kolloidschicht, worin die hydrophile Kolloidschicht feine Polymerteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 0,02 bis 2 µm enthält, welche eine Redox-Verbindung enthalten, die fähig ist zum Freisetzen eines Entwicklungsinhibitors durch Oxidation, und wobei eine Hydrazinverbindung, welche nicht die gleiche wie die Redox-Verbindung ist, in der hydrophilen Kolloidschicht und/oder einer anderen hydrophilen Kolloidschicht enthalten ist.
- Die zuvor genannten Redox-Verbindungen enthalten vorzugsweise ein Hydrochinon, ein Catechin, ein Naphthohydrochinon, ein Aminophenol, ein Pyrazolidon, ein Hydrazin, ein Hydroxylamin oder ein Redukton als Redox-Gruppe.
- Unter diesen Redox-Verbindungen sind solche bevorzugt, welche als Redox-Gruppe ein Hydrazin besitzen.
- Darüberhinaus sind die am meisten gewünschten der zuvor genannten Redox-Verbindungen solche, welche durch die allgemeine, unten angegebene Formel (I) dargestellt werden können:
- worin sowohl A&sub1; und A Wasserstoffatome bedeuten, oder eines bedeutet ein Wasserstoffatom und das andere bedeutet eine substituierte oder nichtsubstituierte Alkylsulfonylgruppe, eine substituierte oder nichtsubstituierte Arylsulfonylgruppe oder -( ) -R&sub0; (worin R&sub0; eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe oder eine Aryloxygruppe bedeutet, und l bedeutet 1 oder 2). Time bedeutet eine zweiwertige Verknüpfungsgruppe und t bedeutet 0 oder 1. PUG bedeutet einen Entwicklungsinhibitor. V bedeutet eine Carbonylgruppe, - - -, eine sulfonylgruppe, eine Sulfoxygruppe,
- (worin R&sub1; eine Alkoxygruppe oder eine Aryloxygruppe bedeutet), eine Iminomethylengruppe oder eine Thiocarbonylgruppe. R bedeutet eine aliphatische Gruppe, eine aromatische Gruppe oder eine heterocyclische Gruppe.
- Die einzige Figur zeigt eine Ausführungsform für die Erzeugung eines überlagerten Buchstabenbildes unter Verwendung der Punktzu-Punkt-Arbeit, worin die Code-Buchstaben unten definiert sind.
- (a) Ist ein transparenter oder lichtdurchlässiger Träger,
- (b) ist ein Linienoriginal (die schwarzen Teile zeigen die Zeilenbilder),
- (c) ist ein transparenter oder lichtdurchlässiger Träger,
- (d) ist ein Rasterpunktoriginal (die schwarzen Teile geben die Punkte an, und
- (e) ist ein photographisches Material vom Punkt-zu-Punkt-Typ (der schraffierte Teil zeigt die photoempfindliche Schicht).
- In folgendem wird die allgemeinen Formel (I) genau beschrieben.
- A&sub1; und A in allgemeiner Formel (I) bedeuten jeweils ein Wasserstoffatom, oder eines bedeutet ein Wasserstoffatom und das andere bedeutet eine substituierte oder nichtsubstituierte Alkylsulfonylgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine substituierte oder nichtsubstituierte Arylsulfonylgruppe (vorzugsweise eine nichtsubstituierte Phenylsulfonylgruppe oder eine substituierte Phenylsulfonylgruppe, worin die Summe der Hammett-Substituenten-Konstanten wenigstens -0,5 beträgt) oder -( ) R&sub0; ((worin R&sub0; vorzugsweise eine geradkettige, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe mit 30 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkenylgruppe, eine Arylgruppe (vorzugsweise eine nichtsubstituierte Phenylgruppe oder eine substituierte Phenylgruppe, worin die Summe der Hammett-Substituenten- Gruppenkonstanten wenigstens -0,5 beträgt), eine Alkoxygruppe (z.B. Ethoxy) oder eine Aryloxygruppe (welche vorzugsweise einen Einfachring besitzt)) ist. Diese Gruppen können Substituentengruppe tragen, Beispiele dafür sind unten angegeben. Diese Substituentengruppen können auch weiter substituiert sein.
- Beispielsweise kann die Substituentengruppe eine Alkylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Arylgruppe, eine substituierte Aminogruppe, eine Acylaminogruppe, eine Sulfonylaminogruppe, eine Ureidogruppe, eine Urethangruppe, eine Aryloxygruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Sulfinylgruppe, eine Hydroxylgruppe, ein Halogenatom, eine Cyanogruppe, eine Sulfo- oder Carboxylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Acylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Acyloxygruppe, eine Carboxamidogruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine Nitrogruppe, eine Alkylthiogruppe oder eine Arylthiogruppe. Spezifische Beispiele für Gruppen, welche durch A&sub1; und A dargestellt werden können, sind in US-A-4 478 928 offenbart.
- Weiterhin kann A&sub1; mit -(Time)t- unter Ausbildung eines Rings verknüpft sein, wie dies im folgenden beschrieben wird.
- A&sub1; und A sind insbesondere Wasserstoffatome.
- Time stellt eine zweiwertige Verknüpfungsgruppe dar und besitzt eine Zeitgeberfunktion. Darüberhinaus bedeutet t 0 oder 1, und falls t = 0 ist, ist PUG direkt an V gebunden.
- Die durch Time dargestellten zweiwertigen Verknüpfungsgruppen sind Gruppen, welche PUG über Ein- oder Vielstufenreaktion aus der Time-PUG-Hälfte, welche aus der oxidierten Form des Redox- Kerns freigesetzt wird, freisetzenn.
- Beispiele für durch Time dargestellte Verknüpfungsgruppen schließen ein: (1) solche, welche PUG. durch eine intramolekulare Ringschluß-Reaktion einer p-Nitrophenoxyverbindung freisetzen, wie beispielsweise US-A-4 248 962 (JP-A-54-145135) offenbart ist, (2) solche, welche PUG durch eine intramolekulare Ringschluß-Reaktion nach der Ringspaltung freisetzen, wie beispielsweise in US-A-4 310 612 (JP-A-55-53330) und 4 358 252 offenbart ist, (3) solche, welche PUG zusammen mit der Bildung eines Säureanhydrids mittels einer intramolekularen Ringschluß- Reaktion der Carboxylgruppe eines Monoesters von Succinsäure oder deren Derivat freisetzen, wie beispielsweise in US-A- 4 330 617, 4 446 216 und 4 438 919 und JP-A-59 121328 beschrieben ist, (4) solche, worin PUG mit der Bildung von Chinomonomethan oder dessen Derivat durch einen Elektronentransfer über die konjugierten Doppelbindungen einer Aryloxygruppe oder einer heterocyclischen Oxygruppe freigesetzt wird, wie beispielsweise in US-A-4 409 323 und 4 421 845, Rese,arch Disclosure, Nr. 21228 (Dezember 1981), US-A-4 416 977 (JP-A-57-135944), JP-A-58- 209736 und JP-A-58-209738 offenbart ist, (5) solche, welche PUG aus der 7-Stellung eines Enamins durch Elektronentransfer in einem Teil eines Stickstoff-enthaltenden heterocyclischen Rings mit Enaminstruktur freisetzen, wie beispielsweise in US-A- 4 420 554 (JP-A-57-136640), JP-A-57-135945, JP-A-57-188035, JP- A-58-98728 und JP-A-58-209737, JP-A-57-188035, JP-A-58-98728 und JP-A-58-209737 beschrieben, (6) solche welche PUG durch eine intramolekulare Ringschluß-Reaktion einer Oxygruppe, welche durch Elektronentransfer auf eine Carbonylgruppe, die mit dem Stickstoffatom eines Stickstoff-enthaltenden heterocyclischen Rings konjugiert ist, gebildet ist, freisetzen, wie in JP-A-57-56837 beschrieben, (7) solche, welche PUG mit der Bildung eines Aldehyds freisetzen, wie z.B. in US-A-4 146 396 (JP- A-52-90932), JP-A-59-93442 und JP-A-59-75475 beschrieben, (8) solche, welche PUG mit der Decarboxylierung einer Carboxylgruppe freisetzen, wie in JP-A-51-146828, JP-A-57-179842 und JP-A- 59-104641 offenbart, (9) solche, welche eine -O-COOCRRbPUG- Struktur besitzen und PUG über die Reaktion des Alkyls mit nachfolgender Decarboxylierung freisetzen, (10) solche, welche PUG mit der Bildung eines Isocyanats freisetzen, wie in JP-A- 60-7429 offenbart, und (11) solche, welche PUG durch eine Kupplungsreaktion mit der oxidierten Form eines Farbentwicklungsmittels freisetzen, wie z.B. in US-A-4 438 193 offenbart.
- Spezifische Beispiele für zweiwertige Verknüpfungsgruppen, welche durch Time dargestellt werden können, wurden im Detail beispielsweise in JP-A-61-236549 und JP-A-1-269936 beschrieben. Bevorzugte spezifische Beispiele sind unten angegeben, worin (*) die Stellung angibt, bei welcher in allgemeiner Formel (I) -(Time)t-PUG an V gebunden ist, und (*)(*) die Stellung angibt, an welche PUG gebunden ist.
- PUG bedeutet eine Gruppe, welche als (Time)t-PUG oder PUG als eine entwicklungshemmende Wirkung besitzt.
- Entwicklungsinhibitoren, welche durch PUG oder (Time)t-PUG dargestellt werden können, sind bekannte Entwicklungsinhibitoren, welche ein Heteroatom besitzen und an
- in Formel (I) über das Heteroatom gebunden sind.
- Diese wurden z.B. von C.K.E. Mees und T.H. James in The Theory of Photographic Processes, dritte Ausgabe, 1966, Seiten 344- 346, veröffentlicht von Macmillan beschrieben. Spezifische Beispiele schließen Mercaptotetrazole, Mercaptotriazole, Mercaptoimidazole, Mercaptopyrimidine, Mercaptobenzimidazole, Mercaptobenzthiazole, Mercaptobenzoxazole, Mercaptothiadiazole, Benztriazole, Benzimidazole, Indazole, Adenine, Guanine, Tetrazole, Tetraazaindene, Triazaindene und Mercaptoaryle ein&sub0;
- Die durch PUG dargestellten Entwicklungsinhibitoren könne substituiert sein. Beispiele für die Substituentengruppen sind unten angegeben und diese Gruppen können weiter substituiert sein.
- Beispielsweise kann die Substituentengruppe eine Alkylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Arylgruppe, eine Nitrogruppe, eine substituierte Aminogruppe, eine Acylaminogruppe, eine Sulfonylaminogruppe, eine Ureidogruppe, eine Urethangruppe, eine Aryloxygruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine Alkythiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Sulfinylgruppe, eine Hydroxylgruppe, ein Halogenatom, eine Cyanogruppe, eine Sulfogruppe, eine Alkyloxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Acylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Acyloxygruppe, eine Carbonamidogruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Sulfoxygruppe, eine Phosphongruppe, eine Phosphinylagruppe oder eine Phosphorsäureamidogruppe sein.
- Die bevorzugten Substituentengruppen sind eine Nitrogruppe, eine Sulfogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine Phosphongruppe, eine Phosphinylgruppe und eine Sulfonamidogruppe.
- Die Hauptentwicklungsinhibitoren sind nachfolgend angegeben:
- (1) 1-Phenyl-5-mercaptotetrazol
- (2) 1-(4-Hydroxyphenyl)-5-mercaptotetrazol
- (3) 1-(4-Aminophenyl)-5-mercaptotetrazol
- (4) 1-(4-Carboxyphenyl)-5-mercaptotetrazol
- (5) 1-(4-chlorphenyl)-5-mercaptotetrazol
- (6) 1-(4-Methylphenyl)-5-mercaptotetrazol
- (7) 1-(2,4-Dihydroxyphenyl)-5-mercaptotetrazol
- (8) 1-(4-Sulfamoylphenyl)-5-mercaptotetrazol
- (9) 1-(3-Carboxyphenyl)-5-mercaptotetrazol
- (10) 1-(3,5-Dicarboxyphenyl)-5-mercaptotetrazol
- (11) 1-(4-Methoxyphenyl)-5-mercaptotetrazol
- (12) 1-(2-Methoxyphenyl)-5-mercaptotetrazol
- (13) 1-[4-(2-Hydroxyethoxy)phenyl]-5-mercaptotetrazol
- (14) 1-(2,4-Dichlorphenyl)-5-mercaptotetrazol
- (15) 1-(4-Dimethylaminophenyl)-5-mercaptotetrazol
- (16) 1-(4-Nitrophenyl)-5-mercaptotetrazol
- (17) 1,4-Bis(5-mercapto-1-tetrazolyl)benzol
- (18) 1-(α-Naphthyl)-5-mercaptotetrazol
- (19) 1-(4-Sulfophenyl)-5-mercaptotetrazol
- (20) 1-(3-Sulfophenyl)-5-mercaptotetrazol
- (21) 1-(β-Naphthyl)-5-mercaptotetrazol
- (22) 1-Methyl-5-mercaptotetrazol
- (23) 1-Ethyl-5-mercaptotetrazol
- (24) 1-Propyl-5-mercaptotetrazol
- (25) 1-Octyl-5-mercaptotetrazol
- (26) 1-Dodecyl-5-mercaptotetrazol
- (27) 1-Cyclohexyl-5-mercaptotetrazol
- (28) 1-Palmityl-5-mercaptotetrazol
- (29) 1-Carboxyethyl-5-mercaptotetrazol
- (30) 1-(2,2-Diethoxyethyl)-5-mercaptotetrazol
- (31) 1-(2-Aminoethyl)-5-mercaptotetrazolhydrochlorid
- (32) 1-(2-Diethylaminoethyl)-5-mercaptotetrazol
- (33) 2-(5-Mercapto-1-tetrazol)ethyltrimethylammoniumchlorid
- (34) 1-(3-Phenoxycarbonylphenyl)-5-mercaptotetrazol
- (35) 1-(3-Maleimidophenyl)-5-mercaptotetrazol
- (1) 4-Phenyl-3-mercaptotriazol
- (2) 4-Phenyl-5-methyl-3-mercaptotriazol
- (3) 4,5-Diphenyl-3-mercaptotriazol
- (4) 4-(4-carboxyphenyl)-3-mercaptotirazol
- (5) 4-Methyl-3-mercaptotriazol
- (6) 4-(2-Dimethylaminoethyl)-3-mercaptotriazol
- (7) 4-(α-Naphthyl)-3-mercaptotriazol
- (8) 4-(4-Sulfophenyl)-3-mercaptotriazol
- (9) 4-(3-Nitrophenyl)-3-mercaptotriazol
- (1) 1-Phenyl-2-mercaptoimidazol
- (2) 1,5-Diphenyl-2-mercaptoimidazol
- (3) 1-(4-Carboxyphenyl)-2-mercaptoimidazol
- (4) 1-(4-Hexylcarbamoyl)-2-mercaptoimidazol
- (5) 1-(3-Nitrophenyl)-2-mercaptoimidazol
- (6) 1-(4-Sulfophenyl)-2-mercaptoimidazol
- (1) Thiouracil
- (2) methylthiouracil
- (3) Ethylthiouracil
- (4) Propylthiouracil
- (5) Nonylthiouracil
- (6) Aminothiouracil
- (7) Hydroxythiouracil
- (1) 2-Mercaptobenzimidazol
- (2) 5-Carboxy-2-mercaptobenzimidazol
- (3) 5-Amino-2-mercaptobenzimidazol
- (4) 5-Nitro-2-mercaptobenzimidazol
- (5) 5-Chlor-2-mercaptobenzimidazol
- (6) 5-Methoxy-2-mercaptobenzimidazol
- (7) 2-Mercaptonaphthimidazol
- (8) 2-Mercapto-5-sulfobenzimidazol
- (9) 1-(2-Hydroxyethyl)-2-mercaptobenzimidazol
- (10) 5-Caproamido-2-mercaptobenzimidazol
- (11) 5-(2-Ethylhexanoylamino)-2-mercaptobenzimidazol
- (1) 5-Methylthio-2-mercapto-1,3,4-thiadiazol
- (2) 5-Ethylthio-2-mercapto-1,3,4-thiadiazol
- (3) 5-(2-Dimethylaminoethylthio)-2-mercapto-1,3,4-thiadiazol
- (4) 5-(2-Carboxypropylthio)-2-mercapto-1,3,4-thiadiazol
- (5) 2-Phenoxycarbonylmethylthio-5-mercapto-1,3,4-thiadiazol
- (1) 2-Mercaptobenzthiazol
- (2) 5-Nitro-2-mercaptobenzthiazol
- (3) 5-Carboxy-2-mercaptobenzthiazol
- (4) 5-Sulfo-2-mercaptobenzthiazol
- (1) 2-Mercaptobenzoxazol
- (2) 5-Nitro-2-mercaptobenzoxazol
- (3) 5-Carboxy-2-mercaptobenzoxazol
- (4) 5-Sulfo-2-mercaptobenzoxazol
- (1) 5,6-Dimethylbenzotriazol
- (2) 5-Butylbenzotriazol
- (3) 5-Methylbenzotriazol
- (4) 5-Chlorbenzotriazol
- (5) 5-Brombenzotriazol
- (6) 5,6-Dichlorbenzotriazol
- (7) 4,6-Dichlorbenzotriazol
- (8) 5-Nitrobenzotriazol
- (9) 4-Nitro-6-chlorbenzotriazol
- (10) 4,5,6-Trichlorbenzotriazol
- (11) 5-Carboxybenzotriazol
- (12) 5-Sulfobenzotriazol, Natriumsalz
- (13) 5-Methoxycarbonylbenzotriazol
- (14) 5-Aminobenzotriazol
- (15) 5-Butoxybenzotriazol
- (16) 5-Ureidobenzotriazol
- (17) Benzotriazol
- (18) 5-Phenoxycarbonylbenzotriazol
- (19) 5-(2,3-Dichlorpropyloxycarbonyl)benzotriazol
- (1) Benzimidazol
- (2) 5-Chlorbenzimidazol
- (3) 5-Nitrobenzimidazol
- (4) 5-n-Butylbenzimidazol
- (5) 5-Methylbenzimidazol
- (6) 4-Chlorbenzimidazol
- (7) 5,6-Dimethylbenzimidazol
- (8) 5-Nitro-2-(trifluormethyl)benzimidazol
- (1) 5-Nitromdazol
- (2) 6-Nitromdazol
- (3) 5-Aminomdazol
- (4) 6-Aminomdazol
- (5) Indazol
- (6) 3-Nitromdazol
- (7) 5-Nitro-3-chlorindazol
- (8) 3-Chlor-5-nitroindazol
- (9) 3-Carboxy-5-nitroindazol
- (1) 5-(4-Nitrophenyl)tetrazol
- (2) 5-Phenyltetrazol
- (3) 5-(3-Carboxyphenyl)tetrazol
- (1) 4-Hydroxy-6-methyl-5-nitro-1,3,3a,7-tetraazainden
- (2) 4-Mercapto-6-methyl-5-nitro-1,3,3a,7-tetraazainden
- (1) 4-Nitrothiophenol
- (2) Thiophenol
- (3) 2-Carboxythiophenol
- V bedeutet eine Carbonylgruppe, - - -, eine Sulfonylgruppe, eine Sulfoxygruppe,
- (worin R&sub1; eine Alkoxygruppe oder eine Aryloxygruppe bedeutet), eine Iminomethylengruppe oder eine Thiocarbonylgruppe, und V ist vorzugsweise eine Carbonylgruppe.
- Die durch R dargestellten aliphatischen Gruppen sind linearkettige, verzweigte oder cyclische Alkylgruppen, Alkenylgruppen oder Alkinylgruppen, und Gruppen mit 1 bis 30 Kohlenstoffatomen sind bevorzugt. Solche mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen sind die am meisten erwünschten. Eine verzweigte Alkylgruppe kann unter Ausbildung eines gesättigten heterocyclischen Rings, welcher ein oder mehrere Heteroatome enthält, cyclisiert sein.
- Beispiele schließen Methyl-, t-Butyl-, n-Octyl-, t-Octyl-, Cyclohexyl-, Hexenyl-, Pyrrolidyl-, Tetrahydrofuryl- und n- Dodecylgruppen ein.
- Die aromatischen Gruppen sind Einfachring- oder Doppelring- Arylgruppen, z.B. Phenyl oder Naphthyl.
- Die heterocyclischen Gruppen sind drei- bis zehngliedrige, gestättigte oder ungesättigte heterocyclische Ringe, welche wenigstens 1 Atom enthalten, ausgewählt aus Stickstoff, Sauerstoff und Schwefel. Diese Gruppen können Einfachringbindungen sein oder können kondensierte Ringe mit anderen aromatischen Ringen oder heterocyclischen Ringen bilden. Fünfoder sechsgliedrige aromatische heterocyclische Ringe sind bevorzugt. Beispiele schließen einen Pyridinring und Imidazolyl-, Chinolinyl-, Benzimidazolyl-, Pyrimidinyl-, Pyrazolyl-, Isochinolinyl-, Benzthiazolyl- und Thiazolylgruppen ein.
- R kann mit Substituentengruppen substituiert sein. Diese Gruppen können weiterhin substituiert sein. Beispiele für Substituentengruppen für R schließen ein: eine Alkylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkinylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Arylgruppe, eine substituierte Aminogrupe, eine Acylaminogruppe, eine Sulfonylaminogruppe, eine Ureidogruppe, eine Urethangruppe, eine Aryloxygruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Sulfinylgruppe, eine Hydroxylgruppe, ein Halogenatom, eine Cyanogruppe, eine Sulfogruppe, eine Alkyloxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Acylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Acyloxygruppe, eine Carbonamidogruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine Carboxygruppe und ein Phosphorsäureamidogruppe.
- Weiterhin kann R oder -(Time)t-PUG in der allgemeinen Formel (I) eine Ballastgruppe vom Typ einverleibt besitzen, welcher üblicherweise für nicht-diffusionsfähige photographisch nützliche Additive, wie Kuppler, verwendet wird, und eine Gruppe, welche die Adsorption der durch die allgemeinen Formel (I) dargestellten Verbindung an Silberhalogenide fördert&sub0; Die Ballastgruppen sind organische Gruppen, welche die durch die allgemeine Formel (I) dargestellte Verbindung mit einem genügendem Molekulargewicht versehen, um zu verhindern, daß die Verbindung in andere Schichten oder in die Prozeßbäder diffundiert. Beispiele für die Ballastgruppen schließen eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine heterocyclische Gruppe, eine Ethergruppe, eine Thioethergruppe, eine Amidogruppe, eine Ureidogruppe, eine Urethangruppe, eine Sulfonamidogruppe und Kombinationen dieser Gruppen ein. Ballastgruppen, welche substituierte Benzolringe besitzen, sind bevorzugt, und solche, welche mit verzweigten Alkylgruppen substituierte Benzolringe besitzen, sind insbesondere erwünscht.
- Spezifische Beispiele für Gruppen, welche die Adsorption auf Silberhalogeniden fördert, sind eine cyclische Thioamidogruppe, wie 4-Thiazolin-2-thion, 4-Imidazolin-2-thion, 2-Thiohydantoin, Rhodanin, Thiobarbitursäure, Tetrazolin-5-thion, 1,2,4- Triazolin-3-thion, 1,2,4-Triazolin-3-thion, 1,3,4-Oxazolin-2- thion, Benzimidazolin-2-thion, Benzoxazolin-2-thion, Benzothia zolin-2-thion, Thiotriazin und 1,3-Imidazolin-2-thion; eine kettenartige Thioamidogruppe; eine aliphatische Mercaptogruppe; eine aromatische Mercaptogruppe; eine heterocyclische Mercaptogruppe (wenn ein Stickstoffatom dem Kohlenstoffatom benachbart ist, an welches die -SH-Gruppe gebunden ist, sind die Gruppen im wesentlichen die gleiche wie die cyclische Thioamidogruppe, welche Tautomere sind); unter diesen Mercaptogruppen eine Gruppe, welche eine Disulfidbindung besitzt; eine 5- oder 6- gliedrige Stickstoff-enthaltende heterocyclische Gruppe, umfassend wenigstens ein Kohlenstoffatom und Kombinationen aus Stickstoff-, Sauerstoff- oder Schwefelatomen, wie Benzotriazol, Triazol, Tetrazol, Indazol, Benzimidazol, Imidazol, Benzothiazol, Thiazol, Thiazolin, Benzoxazol, Oxazol, Oxazolin, Thiadiazol, Oxathiazol, Triazin und Azainden; und ein heterocyclisches quaternäres Salz, wie ein Benzimidazoliniumsalz.
- Diese können mit geeigneten Substituentengruppen substituiert sein.
- Die als substituentengruppen für R beschriebenen Gruppen können beispielsweise als solche Substituentengruppen genannt werden.
- Spezifische Beispiele für die Redox-Verbindungen, welche in der Erfindung verwendet werden, sind unten angegeben, jedoch ist die Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt.
- Verfahren für die Synthesen der Redox-Verbindungen, welche in der Erfindung verwendet werden können, wurden beispielsweise in JP-A-61-213847, JP-A-62-260153, JP-A-1-269936, US-A-4 684 604, 3 379 529, 3 620 746, 4 377 634 und 4 332 878, JP-A-49-129536, JP-A-56-153336 und JP-A-56-153342 offenbart.
- Eine besonders gute Eigenschaft wird erhalten, wenn die in der Erfindung verwendeten Redox-Verbindungen in feinen Polymerteilchen dispergiert sind.
- Verfahren für den Einschluß von hydrophoben Substanzen in feine Polymerteilchen waren in der Vergangenheit bekannt. Beispielsweise Verfahren zum Beladen von Polymeren, worin eine hydrophobe Substanz, wie ein öllöslicher Kuppler, in einem wassermischbaren organischen Lösungsmittel gelöst wird, und die Lösung mit einem beladbaren Polymerlatex gemischt wird, wurde z.B. in US-A-4 203 716 (JP-B-58-35214), JP-B-60-56175, JP-A-54- 32552, JP-A-53-126060, JP-A-53-137131, US-A-4 201 589 und 4 199 363, EP-14 921A und US-A-4 247 627 (der Ausdruck "JP-B", wie hier verwendet, bezeichnet eine "geprüfte japanische Patentveröffentlichung") offenbart. Weiterhin wurden Verfahren, bei welchen hydrophobe Verbindungen in einem organischen Lösungmittel mit hohem Siedepunkt gelöst sind und mit einem Polymer gemischt und emulgiert und dispergiert sind, z.B. in JP-A-60-140344, DE-A-2 830 917, US-A-3 619 195, JP-B-60-18978, JP-A-51-25133 und JP-A-50-102334 offenbart.
- Die feinen Polymerteilchen, welche die in der Erfindung verwendeten Redox-Verbindungen enthalten, können mittels dieser bekannten Verfahren hergestellt werden.
- Die Verwendung von wasserunlöslichen und in organischem Lösungsmittel löslichen Polymeren ist, wie unten angegeben, in der Erfindung bevorzugt, jedoch ist die Erfindung nicht auf diese Polymere beschränkt.
- Monomere, welche Vinylpolymere der Erfindung bilden können, schließen Acrylsäureester, z.B. Methylacrylat, Ethylacrylat, n- Propylacrylat, Isopropylacrylat, n-Butylacrylat, Isobutylacrtylat, sec-Butylacrylat, tert-Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, Octylacrylat, tert- Octylacrylat, 2-Chlorethylacrylat, 2-Bromethylacrylat, 4- Chlorbutylacrylat, Cyanoethylacrylat, 2-Acetoxyethylacrylat, Dimethylaminoethylacrylat, Benzylacrylat, Methoxybenzylacrylat, 2-Chlorcyclohexylacryxlat, Cyclohexylacrylat, Furfurylacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat, Phenylacrylat, 5-hydroxypentylacrylat, 2,2-Dimethyl-3-hydroxypropylacrylat, 2-Methoxyethylacrylat, 3-Methoxybutylacrylat, 2-Ethoxyethylacrylat, 2- Isopropoxyethylacrylat, 2-Butoxyethylacrylat, 2-(2-Methoxyethoxy) ethylacrylat, 2-(2-Butoxyethoxy) ethylacrylat, ω- Methoxypolyethylenglykolacrylat (Zahl der Ethyleneinheiten im Molekül beträgt 9), 1-Brom-2-methoxyethylacrylat und 1,1- Dichlor-2-ethoxyethylacrylat ein. Die unten angegebenen Monomeren können auch zur Bildung von Vinylpolymeren verwendet werden;
- (1) Methacrylsäureester: z.B. Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, n-Propylmethacrylat, Isopropylmethacrylat, n-Butylmethacrylat, Isobutylmethacrylat, sec-Butylmethacrylat, tert-Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexalmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, Chlorbenzylmethacrylat, Octylmethacrylat, Stearylmethacrylat, Sulfpropylmethacrylat, N-Ethyl-N-phenylaminoethylmthacrylat, 2-(3- Phenylpropyloxy) ethylmethacrylat, Dimethylaminophenoxyethylmethacrylat, Phenylmethacrylat, Cresylmethacrylat, Naphthylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat, Triethylenglykolmonomethacrylat, Dipropylenglykolmonomethacrylat, 2-Methoxymethylmethacrylat, 3- Methoxybutylmethacrylat, 2-Acetoxyethylmethacrylat, 2-Acetoacetoxyethylmethacrylat, 2-Ethoxyethylmethacrylat, 2- Isopropoxyethylmethacrylat, 2-Butoxyethylmethacrylat, 2-(2- Methoxyethoxy) ethylmethacrylat, 2-(2- Ethoxyethoxy) ethylmethacrylat, 2-(2-Butoxyethoxy) ethylmethacrylat, ω-Methoxypolyethylenglykolmethacrylat (Zahl der Ethyleneinheiten im Molekül beträgt 6), Allylmetharylat und das Dimethylaminoethylmethylchloridsalz von Methacryl säure:
- (2) Vinylester: z.B. Vinylacetat, Vinylpropionat, Vinylbutyrat, Vinylisobutyrat, Vinylcaproat, Vinylchloracetat, Vinylmethoxyacetat, Vinylphenylacetat, Vinylbenzoat und vinylsalicylat;
- (3) Acrylamide: z.B. Acrylamid, methylacrylamid, Ethylacrylamid, Propylacrylamid, Butylacrylamid, tert-Butylacrylamid, Cyclohexylacrylamid, Benzylacrylamid, Hydroxymethylacrylamid, Methoxyethylacrylamid, Dimethylaminoethylacrylamid, Phenylacrylamid, Dimethylacrylamid, Diethylacrylamid, β- Cyanoethylacrylamid, N-(2-Acetoacetoxyethyl) acrylamid, Diacetonacrylamid und tert-octylacrylamid;
- (4) Methacrylamide: z.B. Methacrylamid, Methylmethacrylamid, Ethylmethacrylamid, Propylmethacrylamid, Butylmethacryl amid, tert-Butylmethacrylamid, Cyclohexylmethacrylamid, Benzylmethacrylamid, Hydroxymethacrylamid, Hydroxyethylmethacrylamid, Dimethylaminoethylmethacrylamid, Phenylmethacrylamid, Dimethylmethacrylamid, Diethylmethacrylamid, β- Cyanoethylmethacrylamid und N-(2-Acetoacetoxyethyl) methacrylamid;
- (5) Olefine: z.B. Dicyclopentadien, Ethylen, Propylen, 1-Buten, 1-Penten, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Isopren, Chlorpren, Butadien und 2,3-Dimethylbutadien, und ein Styrol: z.B. Styrol, Methylstyrol, Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Ethylstryrol, Isopropylstyrol, Chiormethylstyrol, Methoxystyrol, Acetoxystyrol, Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Bromstyrol und Methylester von Vinylbenzoesäure;
- (6) Vinylether: z.B. Methylvinylether, Butylvinylether, Hexylvinylether, Methoxyethylvinylether und Dimethylaminoethylvinylether; und
- (7) andere: z.B. Butylcrotonat, Hexylcrotonat, Dimethylitaconat, Dibutylitaconat, Diethylmaleat, Dimethylmaleat, Dibutalmaleat, Diethylfumarat, Dimethylfumarat, Dibutylfumarat, Methylvinylketon, Phenylvinylketon, Methoxyethylvinylketon, Glycidylacrylat, Glycidylmethacrylat, N-Vinyloxazolidon, N-Vinylpyrrolidon, Acrylnitril, Methacrylnitril, Methylenmalonitril und Vinylidenchlorid.
- Zwei oder mehr der oben erwähnten Monomere können gemeinsam als Comonomere in den in der Erfindung verwendeten Polymeren für verschiedene Zwecke (z.B. zum Verbessern der Löslichkeit) verwendet werden.
- Weiterhin können auch Monomere, welche wie unten angegebene Säuregruppen besitzen, auch als Comonomere innerhalb eines Bereichs, bei dem das Copolymer nicht wasserlöslich ist, für Löslichkeitsangleichungszwecke verwendet werden: Acrylsäure; Methacrylsäure; Itaconsäure; Maleinsäure; ein Monoalkylitaconat, z.B. Monomethylitaconat, Monoethylitaconat und Monobutylitaconat; ein Monoalkylmaleat, z.B. Monomethylmaleat, Monoethylmaleat und Monobutylmaleat; Citraconsäure; Styrolsulfonsäure; Vinylbenzylsulfonsäure; Vinylsulfonsäure; eine Acryloyloxyalkylsulfonsäure, z.B. Acryloyloxymethylsulfonsäure, Acryloyloxyethylsulfonsäure und Acryloyloxypropylsulfonsäure; eine Methacryloyloxyalkylsulfonsäure, z.B. Methacryloyloxymethylsulfonsäure, Methacryloyloxyethylsulfonsäure und Methacryloyloxypropylsulfonsäure, eine Acrylamidoalkylsulfonsäure, z.B. 2-Acrylamido-2-methylethansulfonsäure, 2-Acrylamido-2-methylpropansulfonsäure und 2-Methacrylamido-2- methylbutansulfonsäure; und ein Alkalimetall (z.B. Na, K) oder Ammoniumionensalz dieser Säuren.
- In solchen Fällen, bei denen die angegebenen Vinylmonomeren und die anderen hydrophilen Monomeren oder den Vinylmonomeren, welche in der Erfindung verwendet werden können (auf welche hier als Monomere Bezug genommen wird, deren Homopolymere wasserlöslich sind) als Comonomere verwendet werden, besteht keine bestimmte Beschränkung bezüglich des Anteils des hydrophilen Monomers im Copolymer, vorausgesetzt, daß das Copolymer nicht wasserlöslich wird. Jedoch beträgt der Anteil des hydrophilen Monomers unter normalen Umständen vorzugsweise nicht mehr als 40 Mol%, erwünschterweise nicht mehr als 20 Mol%, und am meisten erwünscht nicht mehr als 10 Mol%. Weiterhin beträgt in solchen Fällen, bei denen das hydrophile Comonomer, welches mit einem Monomer der Erfindung copolymerisiert wird, eine Säuregruppe besitzt, des Comonomers mit einer Säuregruppe in Copolymeren gewöhnlich nicht mehr als 20 Mol% und insbesondere nicht mehr als 10 Mol%, und die Abwesenheit solcher Comonomere ist am meisten erwünscht.
- Die Monomere, welche die in der Erfindung verwendeten Polymere bilden können, basieren vorzugsweise auf Methacrylat, Acrylamid oder Methacrylamid.
- Polyester, welche aus mehrwertigen Alkohlen und mehrbasischen Säuren erhalten wurden, und Polyamide, welche aus Diaminen und zweibasischen Säuren erhalten wurden, und aus ω-Amino-ω'- carbonsäuren, sind beispielsweise bekannt als Polymere, welche durch Kondensationspolymerisation erhalten werden, und beispielsweise Polyurethane, erhalten aus Diisocyanaten und mehrwertigen Alkoholen sind bekannt als Polymere, welche mittels einer Polyadditionsreaktion erhalten wurden. Glykole, welche eine HO-R&sub1;-OH-Struktur besitzen (worin R&sub1; eine Kohlenwasserstoffkette, insbesondere eine aliphatische Kohlenwasserstoffkette mit 2 bis 12 Kohlenstoffatome ist), oder Polyalkylenglykole sind als mehrwertige Alkohole wirksam und zweibasischen Säuren, welche eine HOOC-R-COOH-Struktur besitzen (worin R eine Einfachbindung oder eine Kohlenwasserstoffkette mit 1 bis etwa 12 Kohlenstoffatomen darstellt), sind als mehrbasische Säuren wirksam.
- Beispiele für mehrwertige Alkohole schließen Ethylenglykol, Diethylenglykol, Triethylenglykol, 1,2-Propylenglykol, 1,3-Propylenglykol, Trimethylolpropan, 1,4-Butandiol, Isobutylendiol, 1,5-Pentandiol, Neopentylglykol, 1,6-Hexandiol, 1,7-Heptandiol, 1,8-Octandiol, 1,9-Nonandiol, 1,10-Decandiol, 1,11-Undecandiol, 1,12-Dodecandiol, 1,13-Tridecandiol, Glycerin, Diglycerin, Triglycerin, 1-Methylglycerin, Erythrit, Mannit und Sorbit ein.
- Beispiele für mehrbasische Säuren schließen Oxalsäure, Succinsäure, Glutarsäure, Adipinsäure, Pimelinsäure, Suberinsäure, Azelainsäure, Sebacinsäure, Nonandicarbonsäure, Decandicarbonsäure, Undecandicarbonsäure, Dodecandicarbonsäure, Fumarsäure, Maleinsäure, Itaconsäure, Citraconsäure, Phthalsäure, Isophthalsäure, Terephthalsäure, Tetrachlorphthalsäure, Metaconsäure, Isopimelinsäure, Cyclopentadien-Maleinsäureanhydridaddukt und Kolophoniummaleinsäureaddukt ein. Beispiele für Diamine schließen Hydrazin, Methylendiamin, Ethylendiamin, Trimethylendiamin, Tetramethylendiamin, Hexamethylendiamin, Dodecamethylendiamin, 1,4-Diamincyclohexan, 1,4-Diaminomethylcyclohexan, o-Aminoanilin, p-Aminoanilin, 1,4- Diaminomethylbenzol und (4-Aminophenyl)ether ein.
- Beispiele für ω-Amino-ω-carbonsäuren schließen Glycin, β- Alanin, 3-Aminopropionsäure, 4-Aminobutansäure, 5-Aminopentansäure, 11-Aminododecansäure, 4-Aminobenzoesäure, 4-(2-Aminoethyl) benzoesäure und 4-(4-Aminophenyl)butansäure ein.
- Beispiele für Isocyanate schließen Ethylendiisocyanat, Hexamethylendiisocyanat, m-Phenylendiisocyanat, p-Phenylendiisocyanat, p-xylendiisocyanat und 1,5-Naphthyldiisocyanat ein.
- Die in der Erfindung verwendbaren Celluloseverbindungen sind solche, welche in den wasserunmischbaren organischen Lösungs mitteln mit niedrigem Siedepunkt löslich sind (welche für Emulgierzwecke, wie hier zuvor oder nachfolgend beschrieben, verwendet werden) und welche in Wasser bei pH 7 bei Raumtemperatur unlöslich sind. Diese schließen beispielsweise Cellulosenitrat, Celluloseacetat, Celluloseacetatpropionat, Celluloseacetatbutyrat und 2-Hydroxypropylmethylcellulose ein, und hydrierte phthalierte Celluloseverbindungen, welche zur Zeit bevorzugt sind.
- Hydrierte phthalierte Celluloseverbindungen werden beispielsweise durch folgende allgemeine Formel dargestellt:
- Rm¹Rn²Rp³Rq&sup4;A
- worin bedeuten: A einen Glucoserest der Cellulosestruktur, R¹ eine Hydroxyalkylgruppe mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen, R² eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen, R³ eine Monoacylgruppe von Tetrahydrophthalsäure oder Hexyhydrophthalsäure, R&sup4; eine aliphatische Monoacylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen, m 0 bis 1,0, n 0 bis 2,0, p 0,2 bis 1,0, q 0 bis 2,0, und worin die Gesamtsumme von m + n + p einen Maximumwert von 3 (die numerischen Werte zeigen die Molzahl an) besitzt.
- Beispiele für R¹ schließt die 2-Hydroxylethylgruppe, die 2- Hydroxypropylgruppe und die 4-Hydroxybutylgruppe ein.
- Weiterhin schließen Beispiele für R&sup4; die Acetylgruppe, die Propionylgruppe und die Butyrylgruppe ein.
- Beispiele für hydrierte phthallylierte Celluloseverbindungen, welche in der Erfindung verwendet werden können, sind unten angegeben, jedoch ist die Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt. Die in Klammern gezeigten numerischen Werte für die illustrativen Verbindungen P-168) bis P-174) zeigen die Molzahlen für die Substituentengruppe pro Glykoserest an.
- Beispielsweise Polyester und Polyamide, erhalten durch die Ringöffnungspolymerisation: Ringöffnungspolymerisation
- In dieser Formel bedeutet X -O- oder -NH- und m eine ganze Zahl von 4 bis 7. Darüberhinaus können die -CH-Gruppen verzweigt sein.
- Beispiele solcher Monomere schließen β-Propiolacton, ε-Caprolacton, Dimethylpropiolacton, α-Pyrrolidon, α-Piperidon, ε-Caprolactam und α-Methyl-ε-caprolactam ein.
- Wahlweise können zwei oder mehrere Typen der in der Erfindung verwendeten Polymere zusammen verwendet werden.
- Die in der Erfindung wasserunlöslichen Polymere sind Polymere, welche eine Löslichkeit besitzen, derart, daß nicht mehr als 3 Gramm, vorzugsweise nicht mehr als 1 Gramm, in 100 Gramm destilliertem Wasser gelöst werden können.
- Die in der Erfindung verwendeten öllöslichen Polymere enthalten 30 bis 70% einer Verbindung mit einem Molekulargewicht von nicht mehr als 40.000.
- Spezifische Beispiele für in der Erfindung verwendbare Polymere sind unten angegeben, wobei die in Klammern angegebenen Zahlen nach dem Polymername bei den Polymeren P-1) bis P-167) die Mol- Prozent des Monomers angeben, jedoch ist die Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt. Beispiel Polymer-Typ Poly(vinylacetat) Poly(vinylpropionat) Poly(methylmethacrylat) Poly(ethylmethacrylat) Poly(ethylacrylat) Vinylacetat/Vinylalkohol-Copolymer (95:5) Poly(n-butylacrylat) Poly(n-butylmethacrylat) Poly(isobutylmethacrylat) Poly(isopropylmethacrylat) Poly(decylmethacrylat) Butylacrylat/Acrylamid-Copolymer Poly(chlormethylacrylat) 1,4-Butandiol/Adipinsäurepolyester Ethylenglykol/Sebacinsäurepolyester Polycarpolacton Poly(2-tert-butylphenylacrylat) Poly( 4-tert-butylphenylacrylat) n-Butylmethacrylat/N-Vinyl-2-pyrrolidon- Copolymer (90:10) Methylmethacrylat/Vinylchlorid-Copolymer (70:30) Methylmethacrylat/Styrol-Copolymer(90:10) Methylmethacrylat/Ethylacrylat-Copolymer (50:50) n-Butylmethacrylat/Methylmethacrylat-Copolymer Vinylacetat/Acrylamid-Copolymer(85:15) Vinylchlorid/Vinylacetat-Copolymer(65:35) Methylmethacrylat/Acrylnitril-Copolymer Diacetonacrylamid/Methylmethacrylat-Copolymer Vinylmethylketonilsobutylmethacrylat-Copolymer Ethylmethacrylat/n-Butylacrylat-Copolymer Diacetonacrylamid/n-Butylacrylat-Copolymer Methylmethacrylat/Cyclohexylmethacrylat- Copolymer n-Butylacrylat/Styrolmethacrylat/Diaceton- Copolymer(70:20:10) N-tert-Butylacrylamid/Methylmethacrylat/Acrylsäure-Copolymer(60:30:10) Methylmethacrylat/Styrol/Vinylsulfonamid- Methylmethacrylat/Phenylvinylketon-Copolymer n-Butylacrylat/Methylmethacrylat/n-Butylmethacrylat-Copolymer/35:35:30) n-Butylacrylat/Pentylmethacrylat/N-Vinyl-2- pyrrolidon-Copolymer(38:38:24) Methylmethacrylat/n-Butylmethacrylat/Isobutylmethacrylat/Acrylsäure-Copolymer(37:29:25:9) n-Butylmethacrylat/Acrylsäure-Copolymer(95:5) Methylmethacrylat/Acrylsäure-Copolymer Benzylmethacrylat/Acrylsäure-Copolymer(90:10) n-Butylmethacrylat/Methylmethacrylat/Benzyl- methacrylat/Acrylsäure-copolymer(35:35:25:5) n-Butylmethacrylat/Methylmethacrylat/Benzylmethacrylat-Copolymer(35:35:30) Poly(3-pentylacrylat) Cyclohexylmethacrylat/Methylmethacrylat/n Propylmethacrylat-Copolymer(37:29:34) Methylmethacrylat/n-Butylmethacrylat-Copolymer Vinylacetat/Vinylpropionat-Copolymer(75:25) n-Butylmethacrylat/3-Acryloxybutan-1-sulfonsäure,Natriumsalz,Copolymer(97:3) n-Butylmethacrylat/Methylmethacrylat/Acrylamid n-Butylmethacrylat/Methylmethacrylat/Vinylchlorid-Copolymer(37:36:27) n-Butylmethacrylat/Styrol-Copolymer(90:10) Methylmethacrylat/N-Vinyl-2-pyrrolidon- n-Butylmethacrylat/Vinylchlorid-Copolmyer n-Butylmethacrylat/Styrol-Copolymer(70:30) Poly(N-sec-butylacrylamid) Poly(N-tert-butylacrylamid) Diacetonacrylamid/Methylmethacrylat-Copolymer Cyclohexylmethacrylat/Methylacrylat-Copolymer N-tert-Butylacrylamid/Methylmethyacrylat- Poly(N-n-butylacrylamid) tert-Butylmethacrylat/N-tert-Butylacrylamid- Copolymer(50:50) tert-Butylmethacrylat/methylmethacrylat- Copolymer(70:30) Poly(N-tert-butylmethacrylamid) N-tert-Butylacrylamid/Methylmethacrylat- Copolymer(60:40) Methylmethacrylat/Acrylnitril-Copolymer Methylmethacrylat/Vinylmethylketon-Copolymer Methylmethacrylat/Styrol-Copolymer(75:25) Methylmethacrylat/Hexylmethacrylat-Copolymer Poly(benzylacrylat) Poly(4-biphenylacrylat) Poly(4-butoxycarbonylphenylacrylat) Poly(sec-butylacrylat) Poly(tert-butylacrylat) Poly(3-chlor-2,2-(chlormethyl)propylacrylat) Poly(2-chlorphenylacrylat) Poly(4-chlorphenylacrylat) Poly(pentachlorphenylacrylat) Poly(4-cyanobenzylacrylat) Poly(cyanoethylacrylat) Poly(4-cyanophenylacrylat) Poly(4-cyano-3-mercaptobutylacrylat) Poly(cyclohexylacrylat) Poly(2-ethoxycarbonylphenylacrylat) Poly(3-ethoxycarbonylphenylacrylat) Poly(4-ethoxycarbonylphenylacrylat) Poly(2-ethoxyethylacrylat) Poly(2-ethoxypropylacrylat) Poly(1H,1H,5H-octafluorpentylacrylat) Poly(heptylacrylat) Poly(hexadecylacrylat) Poly(hexylacrylat) Poly(isobutylacrylat) Foly(isopropylacrylat) Foly(3-methoxybutylacrylat) Poly(2-methoxycarbonylphenylacrylat) Poly(3-methoxycarbonylphenylacrylat) Poly(4-methoxycarbonylphenylacrylat) Poly(2-Methoxyethylacrylat) Poly/4-methoxyphenylacrylat) Poly(3-methoxypropylacrylat) Poly(3,5-dimethyladamantylacrylat) PolyB3-dimethylaminophenylacrylat) Poly/vinyl-tert-butyrat) Poly(2-methylbutylacrylat) Poly(3-methylbutylacrylat) Poly(1,3-dimethylbutylacrylat) Poly(2-methylpentylacrylat) Poly(2-naphthylacrylat) Poly(phenylmethacrylat) Poly(propylacrylat) Poly(m-tolylacrylat) Poly(o-tolylacrylat) Poly/p-tolylacrylat Poly(N,N-dibutylacrylamid) Poly(isohexylacrylamid) Poly(isooctylacrylamid) Poly(N-methyl-N-phenylacrylamid) Poly(adamantylmethacrylat) Poly(benzylmethacrylat) Poly(2-bromethylmethacrylat) Poly(2-tert-butylaminoethylmethacrylat) Poly(sec-butylmethacrylat) Poly(tert-butylmethacrylat) Poly(2-chlorethylmethacrylat) Poly(2-cyanoethylmethacrylat) Poly(2-cyanomethylphenylmethacrylat) Poly(4-cyanomethylphenylmethacrylat) Poly(cyclohexylmethacrylat) Poly(dodecylmethacrylat) Poly(diethylaminoethylmethacrylat) Poly(2-ethylsulfinylethylmethacrylat) Poly(hexadecylmethacrylat) Poly(hexylmethacrylat) Poly(2-hydroxypropylmethacrylat) Poly(4-methoxycarbonylphenylmethacrylat) Poly(3,5-dimethyladamantylmethacrylat) Poly(dimethylaminoethylmethacrylat) Poly(3,3-dimethylbutylmethacrylat) Poly(3,3-dimethyl-2-butylmethacrylat) Poly(3,5,5-trimethylhexylmethacrylat) Poly/octadecylmethacrylat) Poly(tetradecylmethacrylat) Poly(4-butoxycarbonylphenylmethacrylamid) Poly(4-carboxyphenylmethacrylamid) Poly(4-ethoxycarbonylphenylmethacrylamid) Poly(4-methoxycarbonylphenylmethacrylamid) Poly(butylbutoxycarbonylmethacrylat) Poly(butylchloracrylat) Poly(butylcyanoacrylat) Poly(cyclohexylchloracrylat) Poly(chlorethylacrylat) Poly(ethylethoxycarbonylmethacrylat) Poly(ethylethacrylat) Poly(fluorethylmethacrylat) Poly(hexylhexyloxycarbonylmethacrylat) Poly(chlorisobutylacrylat) Poly(isopropylchloracrylat) Trimethylendiamin/Glutarsäurepolyamid Hexamethylendiamin/Adipinsäurepolyamid Poly(α-pyrrolidon) Poly(ε-caprolactam) Hexamethylendiisocyanat/1,4-Butandiolpolyurethan p-Phenylendiisocyanat/Ethylenglykolpolyurethan Poly(vinylhydrogenphthalat) Poly(vinylacetalphthalat) Poly(vinylacetal) 2-Hydroxypropylmethylcellulosehexahydro- phthalat (2-Hydroxypropylgruppe: 0,28, Methylgruppe: 1,65, Hexahydrophthalylgruppe: 0,60) 2-Hydroxypropylmethylcellulosehexahydrophthalat (2-Hydroxypropylgruppe: 0,33, Methylgruppe: 1,60, Hexahydrophthalylgruppe: 0,69) 2-Hydroxypropylmethylcellulosehexahydrophthalat (2-Hydroxypropylgruppe: 0,22, Methylgruppe: 1181, Hexahydrophthalylgruppe: 0,84) Celluloseacetathexahydrophthalat (Acetylgruppe: 1,23, Hexahydrophthalylgruppe: 0,67) 2-Hydroxypropyl-4-hydroxybutylmethylcellulosehexahydrophthalat (2-Hydroxylgruppe: 0,28, 4- Hydroxybutylgruppe: 0,06, Methylgruppe: 1,53, Hexahydrophthalylgruppe: 0,39) 2-Hydroxypropylethylcellulosetetrahydrophthalat (2-Hydroxypropylgruppe: 0,44, Ethylgruppe: 0,92, Tetrahydrophthalylgruppe: 0,41) 2-Hydroxypropylmethylcelluloseacetathexahydrophthalat (2-Hydroxypropylgruppe: 0,16, Methylgruppe: 1,50, Acetylgruppe: 0,42, Hexahydrophthalylgruppe: 0,68)
- Diese Verbindungen können unter Verwendung bekannter Verfahren hergestellt werden, die beispielsweise im US-Patent 3 392 022 und JP-B-49-17367 offenbart sind.
- P-175) tert-Butylacryalmid/Polyoxyethylenmethacrylat- Copolymer (90:10) (die Zahl der oxyethyleneinheiten im Polyoxyethylen beträgt 1 bis 50)
- Methylmethacrylat (50,0 g), 015 g Poly(natriumacrylat), 0,1 g Dodecylmercaptan und 200 ml destilliertes Wasser wurden in einen 3-Halskolben mit 50 ml Kapazität eingefüllt und auf 80ºC unter Rühren und unter Stickstoff erhitzt.
- Azobis(dimethylisobutyrat) (500 mg) wurde als Polymerisationsinitiator zugegeben und die Polymerisation wurde ausgelöst.
- Die Polymerisationsmischung wurde nach Polymerisieren für eine Periode von 2 Stunden abgekühlt, und 48,7 g des Polymer P-3 wurden erhalten durch Wiedergewinnen der Polymerkügelchen durch Filtration und deren Waschen mit Wasser. Der Anteil mit einem Molekulargewicht von nicht mehr als 40.000 betrug 53% beim Messen des Molekulargewichts unter Verwendung von GPC.
- Eine Mischung, umfassend 50,0 g t-Butylacrylamid, 50 ml Isopropylalkohol und 250 ml Toluol, wurde in einen 3-Halskolben mit 500 ml Fassungsvermögen eingefüllt und unter Rühren und Stickstoff auf 80ºC erhitzt.
- 10 ml einer Toluollösung, welche 500 mg Azobisisobutyronitril enthielt, wurden als Polymerisationsinitiator zugegeben, und die Polymerisation wurde gestartet.
- Die Polymerisationsmischung wurde nach Polymerisieren für eine Periode von 3 Stunden abgekühlt und 47,9 g P-57 wurden erhalten durch Eingießen der Reaktionsmischung in 1 Liter Hexan, Wiedergewinnen des ausgefällten Feststoffs durch Filtration, Waschen des Feststoffs mit Hexan und anschließendem Trocknen des Feststoffs durch Erhitzen unter vermindertem Druck.
- Der Anteil mit einem Molekulargewicht von nicht mehr als 40.000, beobachtet beim Messen des Molekulargewichts unter Verwendung von GPC, betrug 36%.
- Verfahren zum Einschließen der in der Erfindung verwendeten Redox-Verbindungen in die feinen Polymerteilchen schließen ein (1) Verfahren, bei denen die Redox-Verbindungen in einem wassermischbaren organischen Lösungsmittel gelöst werden, die so erhaltene Lösung mit einem beladbaren Polymerlatex gemischt wird und die Redox-Verbindung auf das Polymer aufgebracht wird und (2) Verfahren, bei welchem die Redox-Verbindung und das Polymer in einem organischen Lösungsmittel mit niedrigem Siedepunkt, welches in Wasser unlöslich ist (d.h. Löslichkeit für Wasser beträgt nicht mehr als 30%), und die so erhaltene Lösung in einer wäßrigen Phase emulgiert und dispergiert wird (Emulgationsförderer, wie beispielsweise oberflächenaktive Mittel, und Gelatine sind verwendbar, falls zu dieser Zeit erforderlich). In beiden Fällen ist die Entfernung von unerwünschtem organischem Lösungsmittel nach Einschluß der Redox-Verbindung in die feinen Polymerteilchen vom Standpunkt der Lagerstabilität wünschenswert. Weiterhin besteht ein Vorteil mit dem ersteren Verfahren insofern, als keine große Kraft für die Emulgierung und Dispersion für das Einschließen der Redox-Verbindung in die feinen Polymerteilchen erforderlich ist, jedoch ist es schwierig, große Mengen an Redox-Verbindung dem Polymer einzuverleiben. Andererseits ist mit dem letzteren Verfahren eine große Kraft für die Emulsifikation und Dispersion erforderlich, jedoch können große Mengen der Redox- Verbindung in das Polymer eingeschlossen werden, und darüberhinaus ist auch die Größe der Polymerteilchen steuerbar. Daher kann die Reaktivität der Redox-Verbindung gesteuert und eine Vielzahl von Redox-Verbindungen, welche verschiedene Wirkungen auf photographische Charakteristiken besitzen, können gleichförmig in die feinen Polymerteilchen in jedem Verhältnis eingebaut werden, und daher ist dieses Verfahren gegenüber dem ersteren Verfahren als Dispersionsverfahren bevorzugt.
- Dispersionen feiner Polymerteilchen, welche die in der Erfindung verwendeten Redox-Verbindungen enthalten, können auf folgendem Weg hergestellt werden.
- Die Redox-Verbindung und das Polymer werden vollständig in einem organischen Lösungsmittel mit niedrigem Siedepunkt gelöst und anschließend wird die Lösung zu feinen Teilchen mit Ultraschall dispergiert unter Verwendung einer Kolloidmühle, oder unter Verwendung eines Desorbers, beispielsweise in Wasser, vorzugsweise in einer wäßrigen hydrophilen Kolloidlösung, und insbesondere in einer wäßrigen Gelatinelösung, unter Verwendung eines Dispersionsförderers, wie einem oberflächenaktives Mittel, falls erforderlich, und welches in der Beschichtungsflüssigkeit enthalten ist.
- Ein Entfernen des Lösungsmittels mit niedrigem Siedepunkt aus der Dispersion, welche hergestellt wurde, ist zur Stabilisierung der Dispersion nützlich und insbesondere für die Verhinderung des Ausfällens der Redox-Verbindung während der Lagerung. Verfahren für die Entfernung des organischen Lösungsmittels mit niedrigem Siedepunkt schließen ein Erhitzen und Destillieren unter vermindertem Druck ein, Erhitzen bei normalem Druck und Destillieren unter einer Stickstoff- oder Argonatmosphäre, Nudelwaschen und Ultrafiltration.
- Ein organisches Lösungsmittel mit niedrigem Siedepunkt ist ein organisches Lösungsmittel, welches zur Zeit der Emulsifikation und Dispersion nützlich ist, welches aus dem photographischen Material in der Praxis während des Trocknungsprozesses zur Zeit des Beschichtens oder unter Verwendung der zuvor erwähnten Verfahren entfernt werden kann und welches einen niedrigen Siedepunkte und eine gewisse Löslichkeit in Wasser besitzt und welches beispielsweise durch Waschen mit Wasser entfernt werden kann.
- Beispiele für Lösungsmittel mit niedrigem Siedepunkt schließen Ethylacetat, Butylacetat, Ethylpropionat, sec-Butylalkohol, Methylethylketon, Methylisobutylketon, β-Ethoxyethylacetat, Methylcellusolv und Cyclohexanon ein.
- Darüberhinaus können organische Lösungsmittel, welche vollständig mit Wasser mischbar sind, beispielsweise Methylalkohol, Ethylalkohol, Aceton und Tetrahydrofuran, miteinander verwendet werden
- Zwei oder mehrere dieser organischen Lösungsmittel können, falls erforderlich, in Kombination verwendet werden.
- Die durchschnittliche Teilchengröße der Teilchen in den auf diesem Weg erhaltenen Dispersionen beträgt 0,02 µm bis 2 µm, vorzugsweise 0,04 µm bis 0,4 µm. Die Teilchengröße der Teilchen in dem emulgierten Material kann beispielsweise unter Verwendung einer Vorrichtung, wie einem Nanosizer, hergestellt von British Coal Tar Co., vermessen werden.
- Verschiedene photographisch nützliche hydrophobe Substanzen können in den feinen Polymerteuchen in den in der Erfindung verwendeten Emulsionen verwendet werden, vorausgesetzt, daß sie in solch einer Menge einverleibt sind, daß die Redox-Verbindung fähig ist, ihre Rolle zufriedenstellend zu erfüllen.
- Beispiele für solche photographisch nützlichen hydrophoben Substanzen schließen Mittel zum Herabsetzen der Schmelzpunkte der Redox-Verbindungen, organische Lösungsmittel mit hohem Siedepunkt, gefärbte Kuppler, Nichtfarbe-bildende Kuppler, Entwicklungsmittel, Entwicklungsmittelvorläufer, Entwicklungsinhibitoren, Entwicklungsinhibitorvorläufer, Ultraviolett-Absorptionsmittel, Entwicklungsbeschleuniger, Mittel zur Steuerung der Gradation, wie Hydrochinon, Farbstoffe, Farbstoff-freisetzende Mittel, Antioxidantien, Fluoreszenzaufheller und Antischleiermittel ein. Weiterhin können diese hydrophoben Substanzen miteinander verwendet werden.
- Die zuvor erwähnten Redox-Verbindungen werden in der Erfindung üblicherweise mit einer Rate von 1,0 x 10&supmin;&sup6; bis 5,0 x 10&supmin;² Mol, vorzugsweise mit einer Rate von 1,0 x 10&supmin;&sup5; bis 1,0 x 10&supmin;² Mol, pro Mol Silber verwendet. Weiterhin können die Redox-Verbindungen individuell oder in einer Kombination aus zwei oder mehreren dieser Verbindungen können verwendet werden.
- Üblicherweise werden die zuvor genannten Polymere in der Erfindung in Mengen von 10 bis 400 Gew.-%, vorzugsweise von 20 bis 300 Gew.-%, bezüglich der Redox-Verbindung, verwendet.
- Die photographischen Materialien besitzen in der Erfindung vorzugsweise Hilfsschichten, wie Schutzschichten, Zwischenschich ten, Filterschichten, Antilichthofschichten und Rückseitenschichten, welche geeignet angeordnet sind, zusätzlich zu der Silberhalogenidemulsionsschicht.
- Die feinen Polymerteilchen, welche die in der Erfindung verwendeten Redox-Verbindungen enthält, können auch durch Zugabe zu jeder der oben erwähnten Schichten, ja nach Erfordernis, verwendet werden. Es ist bevorzugt, daß die Polymerteilchen zu der Silberhalogenidemulsionsschicht und/oder der benachbarten Schicht zu der Silberhalogenidemulsionsschicht zugegeben werden.
- Die in der Erfindung verwendete Redox-Verbindung wird vorzugsweise in Kombination mit einer Hydrazinverbindung verwendet.
- Verbindungen, welche durch die unten gezeigte allgemeine Formel (II) dargestellt werden können, sind als Hydrazinverbindungen, welche in der Erfindung verwendet werden, bevorzugt.
- In Formel (II) bedeutet R&sub1; eine aliphatische Gruppe oder eine aromatische Gruppe, R ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe, eine Aminogruppe, eine Carbamoylgruppe oder eine oxycarbonylgruppe, G&sub1; bedeutet eine Carbonylgruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Sulfoxygruppe, eine
- Gruppe, worin R wie oben definiert ist, oder eine Iminomethylengruppe, und A&sub1; und A bedeuten beide Wasserstoffatome oder eines davon bedeutet ein Wasserstoffatom und das andere bedeutet eine substituierte oder nichtsubstituierte Alkylsulfonylgruppe, eine substituierte oder nichtsubstituierte Arylsulfonylgruppe oder eine substituierte oder nichtsubstituierte Acylgruppe.
- Die durch R&sub1; in allgemeiner Formel (II) dargestellten aliphatischen Gruppen besitzen vorzugsweise 1 bis 30 Kohlenstoffatome und sind insbesondere linearkettige, verzweigte oder cyclische Alkylgruppen mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen. Die verzweigten Alkylgruppen können auf solchem Weg cyclisiert werden, daß ein gesittigter heterocyclischer Ring, enthaltend ein oder mehrere Heteroatome, gebildet wird. Weiterhin kann die Alkylgruppe Substituentengruppen tragen, beispielsweise Aryl-, Alkoxy-, Sulfoxy-, Sulfonamido- oder Carbonamidogruppen.
- Die durch R&sub1; in allgemeiner Formel (II) dargestellten aromatischen Gruppen sind Einfachring- oder Doppelringarylgruppen oder ungesättigte heterocyclische Gruppen. Die ungesättigten heterocyclischen Gruppen können mit einem Einfachring oder können mit Einfachring- oder Doppelringarylgruppen unter Ausbildung von Heteroarylgruppen kondensiert sein. Beispiele für R&sub1; schließen einen Benzolring, einen Naphthalinring, einen Pyridinring, einen Pyrimidinring, einen Imidazolring, einen Pyrazolring, einen Chinolinring, einen Isochinolinring, einen Benzimidazolring, einen Thiazolring oder einen Benzothiazolring ein. Unter diesen sind solche, welche einen Benzolring enthalten, bevorzugt.
- Insbesondere sind für R&sub1; Arylgruppen wünschenswert.
- Die durch R&sub1; dargestellten Arylgruppen oder nicht gesättigten heterocyclischen Gruppen können substituiert sein. Typische Substituentengruppen schließen beispielsweise eine Alkylgruppe, eine Aralkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkynylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Arylgruppe, eine substituierte Aminogruppe, eine Acylaminogruppe, eine Sulfonylaminogruppe, eine Ureidogruppe, eine Urethangruppe, eine Aryloxygruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Sulfonylgruppe, eine Sulfinylgruppe, eine Hydroxylgruppe, ein Halogenatom, eine Cyanogruppe, eine Sulfogruppe, eine Alkyloxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Acylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Adoxygruppe, eine Caarbonamidogruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Phosphorsäureamidogruppe, eine Diacylamiinogruppe und eine Imidogruppe. Die bevorzugten Substituentengruppen sind beispielsweise eine linearkettige, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe (vorzugsweise mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen), eine Aralkylgruppe (vorzugsweise eine Einfachring- oder Doppelringgruppe, deren Alkylteil 1 bis 3 Kohlenstoffatome besitzt), eine Alkoxygruppe (vorzugsweise mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen), eine substituierte Aminogruppe (vorzugsweise eine Aminogruppe, die mit einer Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen substituiert ist), eine Acylaminogruppe (vorzugsweise mit 2 bis 30 Kohlenstoffatomen), eine Sulfonamidogruppe (vorzugsweise mit 1 bis 30 Kohlenstoffatomen), eine Ureidogruppe (vorzugsweise mit 1 bis 30 Kohlenstoffatomen) und eine Phosphorsäureamidogruppe (vorzugsweise mit 1 bis 30 Kohlenstoffatomen) ein.
- Die durch R in allgemeiner Formel (II) dargestellten Alkylgruppen snd vorzugsweise Alkylgruppen mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen und diese können beispielsweise mit einem Halogenatom, einer Cyanogruppe, einer Carboxylgruppe, einer Sulfogruppe, einer Alkoxygruppe, einer Phenylgruppe und einer Sulfonylgruppe substituiert sein.
- Die Arylgruppen sind vorzugsweise Einfachring- oder Doppelringarylgruppen, beispielsweise Gruppen, welche einen Benzolring enthalten. Diese Arylgruppen können beispielsweise mit einem Halogenatom, einer Alkylgruppe, einer Cyanogruppe, einer Carboxylgruppe, einer Sulfogruppe und einer Sulfonylgruppe substituiert sein.
- Die Alkoxygruppen besitzen vorzugsweise 1 bis 8 Kohlenstoffatome und sie können beispielsweise mit einem Halogenatom und einer Arylgruppe substituiert sein.
- Die Aryloxygruppen besitzen vorzugsweise einen Einfachring, und dieser Ring kann beispielsweise als Substituentengruppe ein Halogenatom tragen.
- Die Aminogruppen sind vorzugsweise nichtsubstituierte Aminogruppen oder Alkylaminogruppen mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder Arylaminogruppen. Sie können beispielsweise mit einer Alkylgruppe, einem Halogenatom, einer Cyanogruppe, einer Nitrogruppe und einer Carboxylgruppe substituiert sein.
- Die Carbamoylgruppen sind vorzugsweise nichtsubstituierte Carbamoylgruppen oder Alkylcarbamoylgruppen, welche 2 bis 10 Kohlenstoffatome besitzen,, oder Arylcarbamoylgruppen. Sie können beispielsweise mit einer Alkylgruppe, einem Halogenatom, einer Cyanogruppe und einer Carboxylgruppe substituiert sein.
- Die Oxycarbonylgruppen sind vorzugsweise Alkoxycarbonylgruppen mit 2 bis 10 Kohlenstoffatomen oder Aryloxycarbonylgruppen. Sie können beispielsweise mit einer Alkylgruppe, einem Halogenatom, einer Cyanogruppe und einer Nitrogruppe substituiert sein.
- In solch einem Fall, bei dem G&sub1; eine Carbonylgruppe ist, sind die bevorzugten Gruppen unter solchen, welche durch R dargestellt werden können, beispielsweise ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe (beispielsweise Methyl, Trifluormethyl, 3- Hydroxypropyl, 3-Methansulfonamidopropyl, Phenylsulfonylmethyl), eine Aralkylgruppe (z.B. o-Hydroxybenzyl) und eine Arylgruppe (z.B. Phenyl, 3,5-Dichlorphenyl, o-Methansulfonamidophenyl, 4-Methansulfonylphenyl) und das Wasserstoffatom ist insbesondere wünschenswert.
- Weiterhin ist in solchen Fällen, bei denen G&sub1; eine Sulfonylgruppe ist, R vorzugsweise eine Alkylgruppe (z.B. Methyl), eine Aralkylgruppe (z.B. 0-Hydroxyphenylmethyl), eine Arylgruppe (z.B. Phenyl) oder eine substituierte Aminogruppe (z.B. Dimethylamino)
- In solchen Fällen, bei denen G&sub1; eine Sulfoxygruppe ist, ist R vorzugsweise eine Cyanobenzylgruppe oder eine Methylthiobenzylgruppe, und in solchen Fällen, bei denen G&sub1;
- eine
- Gruppe ist, ist R vorzugsweise Methoxy, Ethoxy, Butoxy, Phenoxy oder Phenyl und insbesondere eine Phenoxygruppe.
- In solchen Fällen, bei denen G&sub1; eine N-substituierte oder nichtsubstituierte Iminomethylengruppe darstellt, ist vorzugsweise R eine Methyl-, Ethyl- oder eine substituierte oder nichtsubstituierte Phenylgruppe.
- Die in Zusammenhang mit R&sub1; genannten Substituentengruppen sind als Substituentengruppen für R geeignet.
- G&sub1; in allgemeiner Formel (II) ist insbesondere eine Carbonylgruppe.
- Weiterhin kann R solch eine Gruppe sein, daß die G&sub1;-R-Hälfte vom Rest des Moleküls abgespalten wird, und eine Zyklisierungsreaktion eintritt unter Ausbildung einer Ringstruktur, welche die Atome der -G&sub1;-R-Hälfte enthält, und in der Praxis kann solch eine R-Gruppe durch die allgemeine Formel (a)
- -R&sub3;-Z&sub1; (a)
- dargestellt werden.
- In Formel (a) ist Z&sub1; eine Gruppe, welche nudeophil G&sub1; angreift, und die G&sub1;-R-Z&sub1;-Hälfte vom Rest des Moleküls spaltet, und R&sub3; ist eine Gruppe, abgeleitet durch Entfernen eines Wasserstoffatoms aus R&sub1; und Z&sub1; kann einen nudeophilen Angriff auf G&sub1; durchführen und eine Ringstruktur mit G&sub1;, R&sub3; und Z&sub1; ausbilden.
- Genauer ist Z&sub1; eine Gruppe, welche, wenn das Reaktionszwischenprodukt R&sub1;-N=N-G&sub1;-R&sub3;-Z&sub1; durch Oxidation der Hydrazinverbindung der allgemeinen Formel (II) gebildet worden ist, leicht eine nudeophile Reaktion mit G&sub1; eingeht und bewirkt, daß die R&sub1;- N=N-Gruppe aus G&sub1; abgespalten wird. Sie kann eine funktionelle Gruppe sein, welche direkt mit der Gruppe G&sub1; reagiert, wie OH, SH oder NHR&sub4; (worin R&sub4; ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, -COR&sub5; oer -SOR&sub5; ist, worin R&sub5; beispielsweise ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine heterocyclische Gruppe darstellt), oder COOH (wonach die OH, SH, NHR&sub4; und -COOH-Gruppen zeitweise auf solch einem Weg geschützt werden können, daß diese Gruppen eine freie Gruppe durch Hydrolyse mit beispielsweise Alkali bilden), oder eine funktionelle Gruppe, welche mit G&sub1; als Ergebnis der Reaktion eines nudeophilen Mittels, wie einem Hydroxidion oder einem Sulfition, wie
- oder - -R&sub6; (worin R&sub6; und R&sub7; ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Arylgruppe oder eine heterocyclische Gruppe bedeuten) reagieren kann.
- Weiterhin ist der durch G&sub1;, R&sub3; und Z&sub1; gebildete Ring vorzugsweise ein fünf- oder sechsgliedriger Ring.
- Unter den durch die allgemeine Formel (a) dargestellten Gruppen sind solche, welche durch die allgemeine Formel (b) und (c) dargestellt werden, bevorzugt.
- In dieser Formel (b) bedeuten Rb¹ - Rb&sup4; beispielsweise ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe (vorzugsweise mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen), eine Alkenylgruppe (vorzugsweise mit 2 bis 12 Kohlenstoffatomen), oder eine Arylgruppe (vorzugsweise mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen), und sie können gleich oder verschieden sein. B bedeutet die Atome, welche zur Vervollständigung eines fünf- oder sechsgliedrigen Rings, welcher Substituentengruppen tragen kann, erforderlich sind, m und n bedeuten 0 oder 1, und (m + n) besitzt einen Wert von 1 oder 2.
- Beispiele für durch B gebildete fünf- oder sechsgliedrige Ringe schließen einen Cyclohexenring, einen Cyclopentenring, einen Benzolring, einen Naphthalinring, einen Pyridinring und einen Chinolinring ein.
- Z¹ in Formel (b) besitzt die gleiche Bedeutung wie in allgemeiner Formel (a).
- In dieser Formel (c) bedeuten Rc¹ und Rc² beispielsweise ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Arylgruppe oder ein Halogenatom und sie können gleich oder verschieden sein.
- Rc³ bedeutet ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe oder eine Arylgruppe.
- Darüberhinaus bedeutet p 0 oder 1, und q bedeutet 1, 2, 3 oder 4.
- Rc¹&sub1; Rc und Rc³ können miteinander verknüpft sein zur Ausbildung eines Rings, vorausgesetzt, daß die Struktur einen intramolekularen nudeophilen Angriff von Z&sub1; auf G&sub1; erlaubt.
- Rc¹ und Rc² sind vorzugsweise ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom oder eine Alkylgruppe, und Rc³ ist vorzugsweise eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe.
- q besitzt vorzugsweise einen Wert von 1 bis 3, und, falls q 1 ist, ist p 1, und wenn q 2 ist, ist p 0 oder 1, und wenn q 3 ist, ist p 0 oder 1, und wenn q 2 oder 3 ist, können die CRC¹Rc²-Gruppen gleich oder verschieden sein.
- Z&sub1; in Formel (c) besitzt die gleiche Bedeutung wie in allgemeiner Formel (a).
- A&sub1; und A bedeuten jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylsulfonylgruppe, welche nicht mehr als 20 Kohlenstoffatome besitzt, eine Arylsulfonylgruppe (vorzugsweise eine nichtsubstituierte Phenylsulfonylgruppe oder eine substituierte Phenylsulfonylgruppe, worin die Summe der Hammett-Substituentenkonstanten wenigstens -0,5 beträgt) oder ein Acylgruppe, welche nicht mehr als 20 Kohlenstoffatome (vorzugsweise eine nichtsubstituierte Benzoylgruppe oder eine substituierte Benzoylgruppe, worin die Summe der Hammett-Substituentenkonstanten wenigstens 0,5 beträgt) besitzt, oder eine geradkettige, verzweigte oder cyclische nichtsubstituierte oder substituierte aliphatische Acylgruppe (welche ein Halogenatom, eine Ethergruppe, eine Sulfonamidogruppe, eine Carbonamidogruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Carboxylgruppe oder eine Sulfonsäuregruppe als Substituentengruppe tragen kann).
- A&sub1; und A sind insbesondere Wasserstoffatome.
- R&sub1; oder R in allgemeiner Formel (II) können darin einverleibt Ballastgruppen enthalten, welche üblicherweise als nichtdiffusionsfähige photographisch nützliche Additive, wie Kuppler, verwendet werden.
- Ballastgruppen sind vergleichsweise inerte Gruppen im photographischen Sinn, welche wenigstens 8 Kohlenstoffatome besitzen, und sie können beispielsweise ausgewählt werden aus einer Alkylgruppe, eine Alkoxygruppe, einer Phenylgruppe, einer Alkylphenylgruppe, einer Phenoxygruppe und eine Alkylphenoxygruppe.
- R&sub1; oder R in allgemeiner Formel (II) können darin Gruppen einverleibt haben, welche leicht auf Silberhalogenidkornoberflächen adsorbieren. Beispiele solcher adsorbierenden Gruppen schließen Gruppen ein, wie Thioharnstoffgruppe, eine heterocyclische Thioamidogruppe, eine Mercapto-heterocyclische Gruppe und eine Triazolgruppe, wie beispielsweise in US-A-4 385 108 und 4 459 347, JP-A-59-195233, JP-A-59-200231, JP-A-59-201045, JP-A-59-201046, JP-A-59-201047, JP-A-59-201048, JP-A-59-201049, JP-A-61-170733, JP-A-61-270744, JP-A-62-948, JP-A-63-234244, JP-A-63-234246 und in der japanischen Patentanmeldung Nr. 62- 67510 offenbart wird.
- Spezifische Beispiele für durch die allgemeine Formel (II) dargestellte Verbindungen sind unten angegeben, jedoch ist die Erfindung nicht auf diese Verbindungen beschränkt.
- Die in der Erfindung verwendbaren Hydrazinverbindungen schließen ebenso wie die oben angegebenen solche ein, die in Research Disclosure, Item 23516 (November 1983, S. 346) und in der darin zitierten Literatur genannt sind, und die in US-A- 4 080 207, 4 269 929, 4 276 364, 4 278 748, 4 385 108, 4 459 3471 4 560 638 und 4 478 928, GB-B-2 011 39, JP-A-60- 179734, JP-A-62-270948, JP_A-63-29751,JP-A-61-170733, JP-A-61- 270744, JP-A-62-948, EP-B-217 310, JP-A-63-32538, JP-A-63- 104047, JP-A-63-121838, JP-A-63-129337, JP-A-63-234244, JP-A- 63-234245, JP-A-63-234246, JP-A-63-223744, JP-A-63-294552, JP- A-63-306448, JP-A-1-10233, US-A-4 686 167, JP-A-62-178246, JP- A-63-234244, JP-A-63-234245, JP-A-63-234246, JP-A-63-294552, JP-A-63-306438, JP-A-1-10233, JP-A-1-90439 und die japanischen Patentanmeldungen Nr. 63-105682, 63-114118, 63-110051, 63- 114119, 63-116239, 63-147339, 63-179760, 63-229163, H1-40792, H1-42615 und H1-42616 offenbarten ein.
- Die in der Erfindung verwendete Hydrazinverbindung ist vorzugsweise in einer silberhalogenidemulsionsschicht enthalten, kann jedoch auch an dessen Stelle in einer nicht-lichtempfindlichen hydrophilen Kolloidschicht (beispielsweise in einer Schutzschicht, einer Zwischenschicht, einer Filterschicht oder einer Antilichthofschicht) enthalten sein. In solchen Fällen, bei denen die Verbindung, die im praktischen Gebrauch verwendet wird, wasserlöslich ist, kann sie in Wasser für die Zugabe zu dem hydrophilen Kolloid in Form einer Lösung gelöst werden. In den Fällen, bei denen sie nur schwach löslich im Wasser ist, kann sie in einem organischen Lösungsmittel gelöst werden, welches mit Wasser mischbar ist, wie in einem Alkohol, einem Ester oder einem Keton, beispielsweise für die Zugabe zu dem hydrophilen Kolloid. In solchen Fällen, bei denen die Hydrazinverbindung zu der Silberhalogenidemulsionsschicht zugegeben wird, kann die Zugabe zu jeder Zeit während der Periode vom Beginn des chemischen Reifens und vor dem Beschichten durchgeführt werden, jedoch ist die Zugab&während der Periode nach der Vervollständigung des chemischen Reifens und vor dem Beschichten bevorzugt. Zugabe zu der Beschichtungsflüssigkeit, welche für das Beschichten verwendet wird, ist höchst wünschenswert.
- Die Menge der in der Erfindung verwendeten Hydrazinverbindung wird vorzugsweise als optimummenge im Einklang mit der Korngröße der Silberhalogenidemulsion, der Halogenzusammensetzung, dem Verfahren und dem Ausmaß der chemischen Sensibilisierung, der Schicht, in welche die Hydrazinverbindung eingebaut werden soll und deren Verwandtschaft mit der Silberhalogenidemulsionsschicht und der Art der Antischleierverbindungen, ausgewählt. Die Testverfahren zur Durchführung solch einer Auswahl sind in der Industrie gut bekannt. Normalerweise ist die Verwendung einer Menge von 1 x 10&sup6; Mol bis 1 x 10&supmin;¹ Mol pro Mol Silberhalogenid bevorzugt und die Menge von 1 x 10&supmin;&sup5; bis 4 x 10&supmin;² Mol pro Mol Silberhalogenid ist höchst wünschenswert.
- Die in der Erfindung verwendeten Silberhalogenidemulsionen können von jeglicher Zusammensetzung sein, wie beispielsweise Silberchlorid, Silberchlorbromid, Silberiodbromid oder Silberiodchlorbromid.
- Die durchschnittliche Korngröße des in der Erfindung verwendeten Silberhalogenids ist vorzugsweise sehr fein (z.B. nicht mehr als 0,7 µm) und eine Korngröße von nicht mehr als 0,5 µm ist höchst wünschenswert. Grundsätzlich wird keine Beschränkung der Korngrößenverteilung auferlegt, jedoch ist die Verwendung von monodispersen Dispersionen bevorzugt. Hier bezeichnet der Ausdruck "Monodispersion", daß die Emulsion aus Körnern zusammengesetzt ist, derart, daß wenigstens 95% der Körner, ausgedrückt als Zahl der Körner oder nach Gewicht, innerhalb einer Größe von ± 40% der durchschnittlichen Korngröße liegen.
- Die Silberhalogenidkörner in der photographischen Emulsion können eine reguläre kristalline Form, wie eine kubische oder octaedrische Form, besitzen, oder sie können eine unregelmäßige Form, wie eine sphärische oder plättchenartige Form, besitzen, oder sie können eine Form besitzen, welche aus diesen Formen zusammengesetzt ist.
- Die Silberhalogenidkörner können der Art sein, daß das Innere und die Oberflächenschicht aus einer gleichförmigen Phase gebildet sind, oder das Innere und die Oberflächenschichten können aus verschiedenen Phasen gebildet sein. Es können auch Mischungen von zwei oder mehreren Typen von Silberhalogenidemulsionen verwendet werden, welche separat hergestellt worden sind.
- Cadmiumsalze, Sulfite, Bleisalze, Thalliumsalze, Rhodiumsalze oder Komplexsalze davon und Iridiumsalze oder Komplexsalze davon können auch während der Bildung und den physikalischen Reifungsprozessen der Silberhalogenidkörner in den in der Erfindung verwendeten Silberhalogenidemulsionen vorhanden sein.
- Wasserlösliche Farbstoffe können in den Emulsionsschichten oder anderen hydrophilen Kolloidschichten in der Erfindung als Filterfarbstoffe für die Verhinderung der Bestrahlung oder für verschiedene andere Zwecke enthalten sein. Farbstoffe zum weiteren Verringern der photographischen Geschwindigkeit und vorzugsweise Ultraviolett-Absorptionsmittel, mit einem spektralen Absorptionspeak in dem eigenen Empfindlichkeitsbereich von Silberhalogeniden und Farbstoffen, welche wesentlich Licht prinzipiell innerhalb des 350 nm bis 600 nm Bereichs für die Erhöhung der Stabilität bezüglich des Sicherheitsbelichtens, falls Materialien als Raumlicht-photosensitive Materialien behandelt werden, können als Filterfarbstoffe verwendet werden.
- Diese Farbstoffe können zu der Emulsionsschicht zugegeben werden oder sie können zusammen mit einem Beizmittel zu einer nicht-photoempfindlichen hydrophilen Schicht über der Silberhalogenidemulsionsschicht zugegeben Werden, welche weiter vom Träger als die Silberhalogenidemulsionsschicht entfernt ist, und in dieser Schicht in Abhängigkeit vom beabsichtigten Zweck des Farbstoffs fixiert werden.
- Die Menge des zugegebenen Farbstoff 5 ist unterschiedlich entsprechend dem molaren Extinktionskoeffizienten des Farbstoffs, beträgt jedoch üblicherweise 10&supmin;² g/m² bis 1 g/m² und vorzugsweise 50 mg/m² bis 500 mg/m².
- Spezifische Beispiele für Farbstoffe wurden im Detail in JP-A- 63-64039 beschrieben und sind unten angegeben.
- Die oben erwähnten Farbstoffe werden in einem geeigneten Lösungsmittel (beispielsweise Wasser, einem Alkohol (beispielsweise Methanol, Ethanol, Propanol), Aceton oder Methylcellusolv oder eine Mischung aus solchen Lösungsmitteln) gelöst und zu der Beschichtungsflüssigkeit, welche für eine nicht-lichtempfindliche hydrophile Schicht in der Erfindung verwendet wird, zugegeben.
- Gelatine ist nützlich als Bindemittel oder Schutzkolloid für photographische Emulsionen, jedoch können für diesen Zweck andere hydrophile Kolbide verwendet werden. Beispielsweise Gelatineverbindungen, Pfropfpolymere von anderen Polymeren mit Gelatine, und Proteine, wie Albumin und Kasein; Celluloseverbindungen, wie Hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose und Cellulosesulfatester, Natriumalginat, Zuckerderivate, wie Stärkederivate, und viele synthetische hydrophile Polymermatenahen, wie Poly(vinylalkohol), partiell acetalierter Poly(vinylalkohol), Poly(N-vinylpyrrölidon), Poly(acrylsäure), Poly(methacrylsäure), Polyacrylamid, Polyvinylimidazol und Polyvinylpyrazol, entweder als Homopolymere oder als Copolymere, können verwendet werden.
- Säurebehandelte Gelatine kann ebenso wie kalkbehandelte Gelatine verwendet werden und Gelatinehydrolysate und Enzymabbauprodukte von Gelatine können auch verwendet werden.
- Die in der Erfindung verwendeten Silberhalogenidemulsionen können oder können nicht einer chemischen Sensibilisierung unterzogen werden. schwefelsensibilisierung, Reduktionssensibilisierung und Edelmetallsensibilisierung sind bekannte chemische Sensibilisierungsverfahren für Silberhalogenidemulsionen und die chemische Sensibilisierung kann unter Verwendung dieser Verfahren entweder individuell oder gemeinsam durchgeführt werden.
- Die Goldsensibilisierung ist unter den Edelmetall-Sensibilisierungsverfahren typisch und Goldverbindungen, prinzipiell Goldkomplexsalze, werden in diesem Fall verwendet, und Komplexsalze von Gold verschiedener Edelmetallen, beispielsweise von Platin, Palladium oder Iridium, können ebenso eingeschlossen sein. Aktuelle Beispiele wurden beispielsweise in US- A-2 448 060 und GB-B-618 061 offenbart.
- Ebenso wie Schwefelverbindungen, welche in Gelatine enthalten sind, können verschiedene Schwefelverbindungen, z.B. Thiosulfate, Thioharnstoffe, Thiazole und Rhodanine als Schwefelsensibilisierungsmittel verwendet werden.
- Zinnsalze, Amine, Formamidinsulfinsäure und Silanverbindungen können beispielsweise als Reduktionssensibilisierungsmittel verwendet werden.
- Bekannte spektralsensibilisierende Farbstoffe können den Silberhalogenidemulsionen, welche in der Erfindung verwendet werden, zugesetzt werden.
- Verschiedene Verbindungen können in den erfindungsgemäßen photographischen Materialien eingeschlossen sein mit Blick auf eine Verhinderung des Auftretens der Schleierbildung während der Herstellung, der Lagerung oder dem photographischen Verarbeiten des photoempfindlichen Materials, oder mit Hinblick auf eine Stabilisierung der photographischen Eigenschaften. Auf diese Weise können viele Verbindungen, welche als Antischleiermittel oder Stabilisatoren bekannt sind, wie Azole, z.B. Benzothiazohumsalze, Nitromdazole, Chlorbenzimidazole, Brombenzimidazole, Mercaptothiazole, Mercaptobenzothiazole, Mercaptothiadiazole, Aminotriazole, Benzothiazole, Nitrobenzotriazole; Mercaptopyrimidine; Mercaptotriazine; Thioketoverbindungen, wie Oxazolinthion; Azaindene, z.B. Triazaindene, Tetraazaindene (insbesondere 4-Hydroxy-substituierte (1,3,3a,7) Tetraazaindene) und Pentaazaindene; Benzolthiosulfonsäure; Benzolsulfinsäure und Benzolsulfonsäureamid, können beispielsweise für diesen Zweck verwendet werden. Unter diesen Verbindungen sind Benzotriazole (z.B. 5-Methylbenzotriazol) und Nitromdazole (z.B. 5-Nitromdazol) bevorzugt. Weiterhin können diese Verbindungen in Prozeßbädern enthalten sein.
- Anorganische oder organische Filmhärtungsmittel können in den photographischen Emulsionsschichten oder anderen hydrophilen Kolloidschichten in den erfindungsgemäßen Materialien enthalten sein. Beispielweise Chromsalze (z.B. Chromdoppelsalz), Aldehyde (z.B. Glutaraldehyd), N-Methylolverbindungen (z.B. Dimethylolharnstoff), Dioxanderivate, aktive Vinylverbindungen (z.B. 1,3,5-Triacryloylhexahydro-s-triazin, 1,3-Vinylsulfonyl-2-propanol), aktive Halogenverbindungen (z.B. 2,4-Dichlor-6-hydroxy- s-triazin) und Mucohalogensäuren können individuell oder in Kombinationen für diesen Zweck verwendet werden.
- Eine Vielzahl von oberflächenaktiven Mitteln können für verschiedene Zwecke in den photographischen Emulsionsschichten und anderen hydrophilen Schichten der erfindungsgemäßen photographischen Materialien enthalten sein, beispielsweise für die Verwendung als Beschichtungsförderer oder als antistatische Mittel mit Hinblick auf die Verbesserung der Gleiteigenschaften für die Emulsifikation und Dispersion, für die Verhinderung des Verklebens und für die Verbesserung der photographischen Leistungsfähigkeit (z.B. für die Beschleunigung der Entwicklung, Erhöhung des Kontrastes oder Erhöhung der Geschwindigkeit).
- Beispielsweise können nichtionische oberflächenaktive Mittel verwendet werden, wie Saponin (Steroid-basierend), Alkylenoxidderivate (z.B. Polyethylenglykol, Polyethylenglykol, Polyethylenglykol/Polypropylenglykol-Kondensat, Polyethylenglykolalkylether oder Polyethylenglykolalkylarylether, Polyethylenglykolester, Polyethylenglykolsorbitanester, Polyalkylenglykolalkylamine oder -amide und Poly(ethylenoxid)addukte von Siliconen, Glycidolderivate (z.B. Alkenylsuccinsäurepolyglycerid, Alkylphenolpolyglycerid), Fettsäureester von mehrwertigen Alkoholen und Zuckeralkylestern; anionische oberflächenaktive Mittel, welche saure Gruppen enthalten, wie Carbonsäuregruppen, Sulfogruppen, Phosphorgruppen, Sulfatestergruppen und Phosphatestergruppen, z.B. Alkylcarboxylate, Alkylsulfonate, Alkylbenzolsulfonate, Alkylnaphthalinsulfonate, Alkylsulfatester, Alkylphosphatester, N-Acyl-N-alkyltaurine, Sulfosuccinatester, Sulfoalkylpolyoxyethylenalkylphenylether und Polyoxyethylenalkylphosphatester; amphotere oberflächenaktive Mittel, wie Aminosäuren, Aminoalkylsulfonsäuren, Aminoalkylsulfat oder Phosphatester, Alkylbetaine und Aminoxide, und kationische oberflächenaktive Mittel, wie Alkylaminsalze, aliphatische und aromatische quaternäre Ammoniumsalze, heterocyclische quaternäre Ammoniumsalze, z.B. Pyridiniumsalze und Imidazohumsalze, und Phosphoniumsalze und Sulfoniumsalze, welche aliphatische oder heterocyclische Ringe enthalten.
- Die Polyalkylenoxide mit einem Molekulargewicht von wenigstens 500, offenbart in JP-B-58-9412 sind besonders wünschenswerte oberflächenaktive Mittel für die Verwendung in der Erfindung. Weiterhin können Polymerlatices, wie Poly(alkylacrylat)latices, zur Schaffung der Dimensionsstabilität eingeschlossen werden.
- Ebenso wie die in JP-A-53-77616, JP-A-54-37732, JP-A-53-137133, JP-A-60-140340 und JP-A-60-14949 offenbarten Verbindungen, können verschiedene Verbindungen, welche N- oder S-Atome enthalten, wirksam sein als Entwicklungsbeschleuniger oder Entwicklungsbeschleuniger für die infektiöse Keimbildung, welche geeignet sind für die Verwendung in dieser Erfindung.
- Die geeignete Menge dieser Beschleuniger ist gemäß dem Typus der Verbindung unterschiedlich, jedoch werden diese im allgemeinen in Mengen von 1,0 x 10&supmin;³ bis 0,5 g/m², insbesondere in Mengen von 5,0 x 10&supmin;³ bis 0,1 g/m² zugegeben. Die Beschleuniger werden in einem geeigneten Lösungsmittel (z.B. Wasser, Alkoholen, wie Methanol und Ethanol, Aceton, Dimethylformamid oder Methylcellusolv) gelöst und der Beschichtungsflüssigkeit zugegeben.
- Eine Vielzahl dieser Additive kann miteinander verwendet werden.
- Stabile Entwicklungsbäder können verwendet werden, um unter Verwendung der lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterialien der Erfindung photographische Charakteristiken, wie ultrahohen Kontrast, zu erhalten, und es besteht keine Notwendigkeit für die Verwendung herkömmlicher infektiöser Entwickler oder den hochalkalischen Entwicklern mit einem pH in der Nähe von 13, wie in US-A-2 419 975 offenbart.
- Das heißt, Negativbilder mit ultrahohem Kontrast können auf zufriedenstellende Weise mit den lichtempfindlichen Silberhabgenidmaterialien dieser Erfindung erhalten werden unter Verwendung von Entwicklern mit einem pH von 10,5 bis 12,3, vorzugsweise einem pH von 11,0 bis 12,0, welcher wenigstens 0,15 Mol/Liter Sulfitionen als Haltbarkeitsmittel enthält.
- Es besteht keine bestimmte Beschränkung bezüglich der in der Erfindung zu verwendenden Entwicklungsmittel, und es können beispielsweise Dihydroxybenzole (z.B. Hydrochinon), 3-Pyrazohdone (z.B. 1-Phenyl-3-pyrazolidon, 4,4-Dimethyl-1-phenyl-3- pyrazolidon) und Aminophenole (z.B. N-Methyl-p-aminophenol) entweder individuell oder in Kombination verwendet werden.
- Die erfindungsgemäßen photographischen Silberhalogenidmaterialien sind insbesondere geeignet, um in Entwicklern verarbeitet zu werden, welche Dihydroxybenzole als Hauptentwicklungsmittel und 3-Pyrazolidone oder Aminophenole als Hilfsentwicklungsmittel enthalten. Die gemeinsame Verwendung von 0,05 bis 0,5 Mol/Liter Dihydroxybenzolen und nicht mehr als 0,06 Mol/Liter von 3-Pyrazolidonen oder Aminophenolen in dem Entwickler ist bevorzugt.
- Weiterhin kann die Entwicklungsrate erhöht werden und die Entwicklungszeit kann verkürzt werden durch Zugabe von Ammen zum Entwickler, wie dies in US-A-4 269 929 offenbart ist.
- Darüberhinaus können pH-Puffer, wie Alkalimetallcarbonate, Borate und Phosphate, und Entwicklungsinhibitoren oder Antischleiermittel, Bromide, Iodide und organische Antischleiermittel (Nitromdazole und Benzotriazole sind insbesondere wünschenswert) ebenso in dem Entwickler enthalten sein. Weichmacher für hartes Wasser, Löseförderer, Toner, Entwicklungsbeschleuniger, oberflächenaktive Mittel (die zuvor genannten Polyalkylenoxide sind insbesondere wünschenswert), Antischäumungsmittel, Filmhärtungsmittel und Mittel zum Verhindern der Silberkontaminierung des Films (z.B. 2-Mercaptobenzimidazolsulfonsäuren) können ebenso, wie erforderlich, enthalten sein.
- Die üblichen Zusammensetzungen können für das Fixierbad verwendet werden. Ebenso wie Thiosulfate und Thiocyanate können Organoschwefelverbindungen, welche bekannt sind als Fixiermittel zu wirken, als Fixiermittel verwendet werden. Wasserlösliche Aluminiumsalze können beispielsweise ebenso in dem Fixierbad als Filmhärtungsmittel enthalten sein.
- Die Verarbeitungstemperatur in der Erfindung wird üblicherweise zwischen 18 und 50ºC ausgewählt.
- Die Vewendung automatischer Prozessoren ist für das photographische Verarbeiten bevorzugt, und photographische Charakteristiken, wie negative Gradation von ultrahohem Kontrast, kann zufriedenstellend erhalten werden, selbst wenn die gesamte Prozeßzeit von der Einführung des lichtempfindlichen Materials in dem Prozessor bis zur Entfernung des Materials aus dem Prozessor 90 bis 120 Sekunden beträgt.
- Die in JP-A-56-24347 offenbarten Verbindungen können in den Entwicklungsbädern in der Erfindung als Mittel zum Verhindern der Silberkontaminierung verwendet werden. Die in JP-A-61- 267759 offenbarten Verbindungen können als Löseförderer, welche dem Entwickler zugegeben werden, verwendet werden. Darüberhinaus können die in JP-A-60-93433 und die in JP-A-62-186259 offenbarten Verbindungen als pH-Puffer in den Entwicklungsbädem verwendet werden.
- Im folgenden wird die Erfindung genauer unten mittels illustrativer Beispiele beschrieben, welche jedoch nicht beschränkend wirken.
- Ein Lösung, umfassend 3,0 g der Redox-Verbindung (17), 6,0 g der illustrativen Polymerverbindung P-57 und 50 ml Ethylacetat, wurde auf 60ºC erhitzt. Anschließend wurde die Lösung zu 120 ml einer wäßrigen Lösung, enthaltend 12 g Gelatine und 0,7 g Natriumdodecylbenzolsulfonat, zugegeben und eine emulgierte Dispersion aus feinen Teilchen wurde unter Verwendung eines Hochgeschwindigkeitsrührers (Homogenisator, hergestellt von Nippon Seiki Seisakujo) erhalten. Das Ethylacetat wurde aus der Emulsion unter Verwendung eines Rotationsverdampfers (60ºC, etwa 0,533 bar [400 Torr]) für 1 Stunde) entfernt.
- Eine wäßrige Lösung aus Silbernitrat und eine wäßrige Lösung aus Kaliumiodid und Kaliumbromid wurden simultan über eine Periode von 60 Minuten zu einer wäßrigen Gelatinelösung, welche bei 50ºC gehalten wurde, in Gegenwart von 4 x 10&supmin;&sup7; Mol Kaliumhexachloriridium(III)/Mol Ag zugegeben, während der pAg- Wert bei 7,8 gehalten wurde. Eine kubische monodisperse Emulsion mit einer durchschnittlichen Korngröße von 0,28 jim und einem durchschnittlichen Silberiodidgehalt von 0,3 Mol% wurde erhalten. Nach dem Entsalzen dieser Emulsion unter Verwendung eines Ausflockungsverfahrens wurden 40 g inaktive Gelatine pro Mol Silber zugegeben. Anschließend wurde die Emulsion zu einer Lösung von 10&supmin;³ Mol pro Mol Silber von KJ, enthaltend 5,5'- Dichlor-9-ethyl-3,3'-bis(3-sulfopropyl)oxacarbocyanin als Sensibilisierungsfarbstoff, zugegeben, während die Emulsion bei 50ºC gehalten wurde, und die Temperatur wurde auf 10ºC oder niederiger als 10ºC nach Altern für 15 Minuten herabgesetzt.
- Die oben hergestellte Emulsion wurde wieder aufgelöst und die die Redox-Verbindung enthaltenden Polymerteilchen, die ebenfalls oben hergestellt wurden, wurden bei 40ºC zu der Emulsion in einer Menge von 5,7 x 10&supmin;&sup4; Mol der Redox-Verbindung pro Mol Silberhalogenid zugegeben. Darüberhinaus wurden Hydrazinverbindungen zugegeben, wie in Tabelle 1 gezeigt, und 5- Methylbenzotriazol, 4-Hydroxy-1,3,3a,7-tetraazainden, die Verbindungen (a) und (b), 30 Gew.-% bezüglich der Gelatine Poly(ethylacrylat) und die Verbindung (c), wie unten angegeben, als Gelatinehärtungsmittel wurden zugegeben und die Mischungen wurden auf einen Polyethylenterephthalatfilm (Dicke: 150 µM) mit einer Unterschicht (Dicke: 0,5 µm), zusammengesetzt aus Vinylidenchlorid, in einer Menge von 3,8 g/m² Silber, aufgezogen.
- 2,0 Gew.-% bezüglich Gelatine
- Eine Schutzschicht, umfassend 1,5 g/m² Gelatine und 0,3 g/m² Polymethylmethacrylatteilchen (durchschnittliche Teilchengröße: 2,5 µm) wurde über diese Schichten unter Verwendung der unten angegebenen oberflächenaktiven Mitteln beschichtet. Auf diese Weise wurden Proben erhalten. Oberflächenaktive Mittel
- Die gleichen wie in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren wurden wiederholt, mit der Ausnahme, daß bei der Herstellung der lichtempfindlichen Emulsion die Redox-Verbindung (17) als 0,6 Gew.-%ige Lösung in Methanol anstelle der Polymerteilchen, enthaltend die Redox-Verbindung in Beispiel 1, zugegeben wurde. Auf diese Weise wurden Proben erhalten.
- Es wurden die gleichen Verfahren wie in Beispiel 1 wiederholt, mit der Ausnahme, daß die Redox-Verbindung (31) anstelle der Redox-Verbindung (17) in Beispiel 1 verwendet wurde. Auf diese Weise wurden Proben erhalten.
- Es wurden die gleichen Verfahrensschritte wie in Beispiel 1 wiederholt, mit der Ausnahme, daß die Redox-Verbindung (38) anstelle der Redox-Verbindung (17) in Beispiel 1 verwendet wurde. Auf diese Weise wurden Proben erhalten.
- Diese Proben wurden durch einen Kontaktschirm (150L-Kettenpunkttyp, hergestellt von Fuji Photo Film Co.) und einen optischen Keil unter Verwendung von Wolfram-Licht einer Farbtemperatur von 3200 K belichtet. Anschließend wurden sie für 30 Sekunden bei 34ºC in dem unten angegebenen Entwickler entwickelt, fixiert, gewaschen und getrocknet.
- Die erhaltenen Ergebnisse aus den Meßwerten für G, die Halbtonpunktqualität und die Punktgradation der erhaltenen Proben sind in Tabelle 1 aufgeführt. Die Punktgradation wurde durch folgende Gleichung ausgedrückt: G: der Gradient der geraden Linie, welche die Punkte mit einer Dichte von 0,3 und 3,0 auf der charakteristischen Kurve verbindet. Der höhere Wert von G zeigt den höheren Kontrast der Proben.
- Punktgradation (ΔlogE) = Belichtungsmenge, welche ein Punktflächenverhältnis von 95% (log E95%) - Belichtungsmenge, welche ein Punktflächenverhältnis von 5% (log E5%) ergab.
- Die Punktqualität wurde visuell in fünf Ränge eingeteilt. Die Fünfrang-Bewertung war wie folgt. Rang "5" zeigt die beste Qualität und Rang "1" zeigt die schlechteste Qualität. Solche der Ränge "5" und (4" können als Punktoriginale für die Plattenherstellung verwendet werden, solche mit Rang "3" sind am Limit für den praktischen Gebrauch und solche der Ränge "2" und "1" sind von einer Qualität, welche nicht für den praktischen Gebrauch geeignet ist.
- Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle 1 aufgeführt.
- Es ist klar, daß die Proben der Erfindung ein hohes G, einen bemerkenswert hohen Kontrast, eine bemerkenswert weite Punktgradation und gute Punktqualität besaßen.
- Hydrochinon 50,0 g
- N-Methyl-p-aminophenol 0,3 g
- Natriumhydroxid 18,0 g
- 5-Sulfosalicylsäure 55,0 g
- Kaliumsulfit 110,0 g
- Ethylendiamintetraessigsäuredinatriumsalz 1,0 g
- Kaliumbromid 10,0 g
- 5-methylbenzotriazol 0,4 g
- 2-Mercaptobenzimidazol-5-sulfonsäure 0,3 g
- Natrium-3-(5-mercaptotetrazol)benzolsulfonat 0,2 g
- N-n-Butyldiethanolamin 15,0 g
- Natriumtoluolsulfonat 8,0 g
- Wasser auf 1 Liter
- pH eingestellt auf 11,6
- (durch Zugabe von Kaliumhydroxid) pH 11,0 Tabelle 1 Probe Redox-Verbindung Hydrazinverbindung Photographische Eigenschaft Zugabeverfahren Zugabemenge Punkt-Gradation Punktqualitat Beispiel Polymerteilchen Methanollösung
- Die Proben der Beispiele 1 bis 3 und Vergleichsbeispiele 1 bis 3 wurden verstärkten Alterungstests unterzogen.
- Die Proben wurden 3 Tage unter den Bedingungen von 50ºC, 30% RH, oder 50ºC, 65% RH, gelagert und anschließend wurde die photographische Eigenschaft auf dem gleichen Weg wie in Beispiel 1 beschrieben bewertet.
- Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle 2 aufgeführt.
- Die photographische Empfindlichkeit wurde durch den log-Wert der Belichtugnsmenge angezeigt, welche erforderlich ist, um dieselbe Dichte von 1,5 (log E) zu schaffen, und der Unterschied in der Empfindlichkeit ohne verstärktes Altern ist in Tabelle 2 gezeigt.
- Die Proben der Erfindung zeigten eine merklich geringe Änderung beim verstärkten Altern und einen hohen Stabilitätspegel. Tabelle 2 Verstärkte Alterung Probe Frische Probe Empfindlichkeit Beispiel Standard
- Die Empfindlichkeit nach den verstärken Ältern wird gezeigt als Änderung der Empfindlichkeit, die im Vergleich zu einer frischen Probe beobachtet wird.
Claims (13)
1. Photographisches Silberhalogenidmaterial, umfassend einen
Träger mit einer darauf angeordneten, Gelatine enthaltenden
hydrophilen Kolloidschicht, worin die hydrophile
Kolloidschicht feine Polymerteilchen mit einer durchschnittlichen
Teilchengröße von 0,02 bis 2 µm enthält, welche eine
Redoxverbindung enthalten, die fähig ist zum Freisetzen eines
Entwicklungsinhibitors durch Oxidation und wobei eine
Hydrazinverbindung, welche nicht die gleiche, wie die
Redoxverbindung ist, in der hydrophilen Kolloidschicht
und/oder einer anderen hydrophilen Kolloidschicht enthalten
ist.
2. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch 1,
worin die durchschnittliche Partikelgröße der feinen
Polymerpartikel 0,04 bis 0,4 µm beträgt.
3. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch 1,
worin die Redoxverbindung ein Hydrochinon, ein Catechin,
ein Naphthohydrochinon, ein Aminophenol, ein Pyrazolidon,
ein Hydrazin, ein Hydroxyamin oder ein Redukton als
Redoxgruppe enthält.
4. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch 1,
worin die Redoxverbindung ein Hydrazin als Redoxgruppe
besitzt.
5. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch 4,
worin die Redoxverbindung durch folgende unten angegebene
allgemeine Formel (I) dargestellt wird:
R- - -V-(Time)t-PUG (I)
worin bedeuten: sowohl A&sub1; und A Wasserstoffatome oder
eines ein Wasserstoffatom und das andere eine substituierte
oder nicht substituierte Alkylsulfonylgruppe, eine
substituierte oder nicht substituierte Arylsulfonylgruppe oder
(wobei R&sub0; eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine
Arylgruppe, eine Alkoxygruppe oder eine Aryloxygruppe
bedeutet, und l bedeutet 1 oder 2); Time eine zweiwertige
Verknüpfungsgruppe und t 0 oder 1; PUG einen
Entwicklungsinhibitor; V eine Carbonylgruppe, - - -, eine
Sulfonylgruppe, eine
Sulfoxygruppe,
(worin R&sub1; eine Alkoxygruppe oder eine
Aryloxygruppe bedeutet), eine Iminomethylengruppe oder eine
Thiocarbonylgruppe; und R eine aliphatische Gruppe, eine
aromatische Gruppe oder eine heterocyclische Gruppe.
6. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch 1,
worin die Hydrazinverbindung durch die unten angegebene
allgemeine Formel (II) dargestellt wird:
R&sub1;- - -G&sub1;-R (II)
worin bedeuten: R&sub1; eine aliphatische Gruppe oder eine
aroma tische Gruppe, R ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe,
eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe,
eine Aminogruppe, eine Carbamoylgruppe oder eine
Oxycarbonylgruppe, G&sub1; eine Carbonylgruppe, eine
Sulfonylgruppe, eine Sulfoxygruppe, eine
Gruppe,
(worin R wie oben definiert ist) oder eine
Iminomethylengruppe, und A&sub1; und A beide Wasserstoffatome, oder eines
ein Wasserstoffatom und das andere eine substituierte oder
nicht substituierte Alkylsulfonylgruppe, eine substituierte
oder nicht substituierte Arylsulfonylgruppe oder eine
substituierte oder nicht substituierte Acylgruppe.
7. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch 1,
worin die feinen Polymerpartikel Vinylpolymere sind.
8. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch 5,
worin die feinen Polymerpartikel durch
Kondensationspolymerisation erhaltene Polymere sind.
9. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch 1,
worin die feinen Polymerpartikel durch
Polyadditionsreaktion erhaltene Polymere sind.
10. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch 1,
worin die feinen Polymerpartikel Celluloseverbindungen
sind.
11. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch 1,
worin die Redoxverbindung in einer Menge von 1,0 x 10&supmin;&sup6; bis
5,0 x 10&supmin;² Mol pro Mol Silber verwendet wird.
12. Photographisches silberhalogenidmaterial nach Anspruch 1,
worin das Polymer für die feinen Polymerpartikel in einer
Menge von 10 bis 400 Gew.-% bezüglich der Redoxverbindung
verwendet wird.
13. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch 1,
worin die Hydrazinverbindung in einer Menge von 1 x 10&supmin;&sup6;
bis 1 x 10&supmin;¹ Mol pro Mol Silberhalogenid verwendet wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1122346A JP2813746B2 (ja) | 1989-05-16 | 1989-05-16 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69022281D1 DE69022281D1 (de) | 1995-10-19 |
DE69022281T2 true DE69022281T2 (de) | 1996-06-13 |
Family
ID=14833673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69022281T Expired - Lifetime DE69022281T2 (de) | 1989-05-16 | 1990-05-16 | Photographische Silberhalogenidmaterialien. |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5085971A (de) |
EP (1) | EP0398285B1 (de) |
JP (1) | JP2813746B2 (de) |
DE (1) | DE69022281T2 (de) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5204214A (en) * | 1989-04-21 | 1993-04-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material |
US5278025A (en) * | 1989-05-17 | 1994-01-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming images |
US5258259A (en) * | 1989-09-14 | 1993-11-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming method with redox development inhibitor |
EP0420005B1 (de) * | 1989-09-18 | 1996-07-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photographisches Hochkontrast-Silberhalogenidmaterial |
JP2879110B2 (ja) * | 1989-11-16 | 1999-04-05 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
US5230983A (en) * | 1990-04-13 | 1993-07-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material |
JP2757063B2 (ja) * | 1990-05-14 | 1998-05-25 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2709647B2 (ja) * | 1990-09-13 | 1998-02-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成方法 |
JP2665693B2 (ja) * | 1990-09-28 | 1997-10-22 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2869577B2 (ja) * | 1990-09-28 | 1999-03-10 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料、およびそれを用いた画像形成方法 |
JP2676426B2 (ja) * | 1990-10-25 | 1997-11-17 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2725088B2 (ja) * | 1991-01-17 | 1998-03-09 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2879119B2 (ja) * | 1991-03-11 | 1999-04-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成方法 |
JP2717462B2 (ja) * | 1991-04-15 | 1998-02-18 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2794227B2 (ja) * | 1991-04-19 | 1998-09-03 | 富士写真フイルム株式会社 | 高コントラストハロゲン化銀感光材料 |
JPH05333467A (ja) * | 1991-05-02 | 1993-12-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2687189B2 (ja) * | 1991-05-22 | 1997-12-08 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
JP2709226B2 (ja) * | 1991-06-06 | 1998-02-04 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
US5278036A (en) * | 1991-09-24 | 1994-01-11 | Konica Corporation | Photographic developer composition |
US5286598A (en) * | 1991-10-28 | 1994-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material |
JPH05281653A (ja) * | 1992-03-30 | 1993-10-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
DE69325963T2 (de) * | 1992-10-06 | 1999-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographisches lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial |
US5698385A (en) * | 1994-02-21 | 1997-12-16 | Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. | Silver halide photosensitive material |
GB9410425D0 (en) * | 1994-05-24 | 1994-07-13 | Ilford Ag | Novel bishydrazides |
US5686222A (en) * | 1994-05-24 | 1997-11-11 | Ilford A.G. | Dihydrazides |
JP5009116B2 (ja) | 2006-09-28 | 2012-08-22 | 富士フイルム株式会社 | 自発光表示装置、透明導電性フイルム、エレクトロルミネッセンス素子、太陽電池用透明電極及び電子ペーパー用透明電極 |
JP5207728B2 (ja) | 2006-12-21 | 2013-06-12 | 富士フイルム株式会社 | 導電膜およびその製造方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5139853A (ja) * | 1974-09-28 | 1976-04-03 | Aikoku Kogyo Kk | Aamusojugatakureen |
JPS5432552A (en) * | 1977-08-17 | 1979-03-09 | Konishiroku Photo Ind | Method of making impregnating polymer latex composition |
JPS5564236A (en) * | 1978-11-07 | 1980-05-14 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Silver halide color photographic material |
JPS56153336A (en) * | 1980-04-30 | 1981-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Formation of photographic image |
DE3036846A1 (de) * | 1980-09-30 | 1982-05-27 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von dispersionen hydrophober substanzen in wasser |
JPS58126525A (ja) * | 1982-01-20 | 1983-07-28 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
US4490461A (en) * | 1982-07-23 | 1984-12-25 | Ciba-Geigy Ag | Process for the preparation of photographic materials |
JPS60140344A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-25 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 疎水性写真用添加剤の分散方法及びハロゲン化銀写真感光材料 |
JPH0690486B2 (ja) * | 1985-03-19 | 1994-11-14 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPH0687153B2 (ja) * | 1986-04-18 | 1994-11-02 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀感光材料および熱現像感光材料 |
JPH07119982B2 (ja) * | 1986-04-18 | 1995-12-20 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
US4684604A (en) * | 1986-04-24 | 1987-08-04 | Eastman Kodak Company | Oxidative release of photographically useful groups from hydrazide compounds |
JP2655324B2 (ja) * | 1987-05-28 | 1997-09-17 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
HU203120B (en) * | 1987-06-16 | 1991-05-28 | Forte Fotokemiai Ipar | Process for reductive sensibilisation of silver-halogenid foto-emulsions |
JPH0778616B2 (ja) * | 1987-09-12 | 1995-08-23 | コニカ株式会社 | 返し特性の改良されたハロゲン化銀写真感光材料 |
JPH0778617B2 (ja) * | 1987-09-12 | 1995-08-23 | コニカ株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
US4923787A (en) * | 1988-04-21 | 1990-05-08 | Eastman Kodak Company | Photographic element containing scavenger for oxidized developing agent |
US5134055A (en) * | 1989-04-21 | 1992-07-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic materials |
-
1989
- 1989-05-16 JP JP1122346A patent/JP2813746B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-05-15 US US07/523,690 patent/US5085971A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-05-16 EP EP90109232A patent/EP0398285B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-05-16 DE DE69022281T patent/DE69022281T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02301743A (ja) | 1990-12-13 |
DE69022281D1 (de) | 1995-10-19 |
EP0398285A3 (de) | 1992-09-30 |
US5085971A (en) | 1992-02-04 |
EP0398285A2 (de) | 1990-11-22 |
EP0398285B1 (de) | 1995-09-13 |
JP2813746B2 (ja) | 1998-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69022281T2 (de) | Photographische Silberhalogenidmaterialien. | |
DE3872744T2 (de) | Photographische silberhalogenid-materialien. | |
DE69308909T2 (de) | Photographisches, lichtempfindliches Schwarzweiss-Silberhalogenidmaterial und Verfahren zur Verarbeitung dieses Materials | |
DE3887382T2 (de) | Photographische Silberhalogenidmaterialien. | |
DE69027725T2 (de) | Photographisches Hochkontrast-Silberhalogenidmaterial | |
DE69021762T2 (de) | Photographische Silberhalogenidmaterialien. | |
JPH0782219B2 (ja) | 超硬調ネガ型写真感光材料 | |
DE69027703T2 (de) | Photographische Silberhalogenidmaterialien | |
US4978603A (en) | Image forming process comprising developing fine grain silver halide emulsion with a hydroquinone developer | |
DE69022275T2 (de) | Photographisches Silberhalogenidmaterial. | |
DE69025642T2 (de) | Photographisches Silberhalogenidmaterial | |
DE3707849C2 (de) | Verfahren zur Erzeugung eines Bildes | |
DE3886960T2 (de) | Photographisches Silberhalogenidmaterial und Verfahren zur Herstellung eines kontrastreichen Bildes mit diesem Material. | |
JPS601614B2 (ja) | ゼラチンの硬化方法 | |
DE3887042T2 (de) | Photographisches Silberhalogenidmaterial. | |
DE3223316A1 (de) | Lichtempfindliches photographisches silberhalogenidmaterial | |
US5124231A (en) | Silver halide photographic material | |
US4897344A (en) | Method of hardening gelatin | |
DE69032186T2 (de) | Photographische Silberhalogenidmaterialien | |
JP2813747B2 (ja) | 画像形成法 | |
DE3340571C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer photographischen Silberhalogenidemulsion | |
JP2663037B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH02285340A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
US5175074A (en) | Silver halide photographic materials | |
JP2699207B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: FUJIFILM CORP., TOKIO/TOKYO, JP |