DE68928457T2 - Energie-härtbare Zusammensetzungen: Zweikomponentenvernetzungsmittel - Google Patents
Energie-härtbare Zusammensetzungen: ZweikomponentenvernetzungsmittelInfo
- Publication number
- DE68928457T2 DE68928457T2 DE68928457T DE68928457T DE68928457T2 DE 68928457 T2 DE68928457 T2 DE 68928457T2 DE 68928457 T DE68928457 T DE 68928457T DE 68928457 T DE68928457 T DE 68928457T DE 68928457 T2 DE68928457 T2 DE 68928457T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- eta6
- ligands
- compounds
- electrons
- groups
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 99
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 title claims description 19
- -1 sulfonate anions Chemical class 0.000 claims description 88
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 75
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 60
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 53
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 42
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 42
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 40
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 36
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 33
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 32
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 32
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 32
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 28
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 28
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 20
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 claims description 17
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 12
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 10
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 8
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 7
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-acid Natural products C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 7
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 5
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 claims description 3
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims description 3
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012704 polymeric precursor Substances 0.000 claims description 3
- 229910017048 AsF6 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021630 Antimony pentafluoride Inorganic materials 0.000 claims 2
- VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I antimony pentafluoride Chemical compound F[Sb](F)(F)(F)F VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 claims 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 22
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 18
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 13
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 11
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 11
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 10
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 9
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 9
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 9
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 9
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 8
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 8
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 8
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 6
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KEJOCWOXCDWNID-UHFFFAOYSA-N Nitrilooxonium Chemical compound [O+]#N KEJOCWOXCDWNID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 4
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N anthranilic acid Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(O)=O RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMHDGJOMLMDPJN-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2,2'-diol Chemical group OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1O IMHDGJOMLMDPJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 4
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KYIMHWNKQXQBDG-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CCCCCC Chemical compound N=C=O.N=C=O.CCCCCC KYIMHWNKQXQBDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 3
- UUZRATKFAUQBJJ-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;iron Chemical compound [Fe].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] UUZRATKFAUQBJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 125000004989 dicarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 3
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N dimethylacetylene Natural products CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- HVYVMSPIJIWUNA-UHFFFAOYSA-N triphenylstibine Chemical compound C1=CC=CC=C1[Sb](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 HVYVMSPIJIWUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012991 xanthate Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- JJZONEUCDUQVGR-WXUKJITCSA-N (NE)-N-[(2E)-2-hydroxyimino-1,2-diphenylethylidene]hydroxylamine Chemical compound c1ccccc1\C(=N/O)\C(=N\O)\c1ccccc1 JJZONEUCDUQVGR-WXUKJITCSA-N 0.000 description 2
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYWJHRRJYGYFBI-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisocyanopropane Chemical compound [C-]#[N+]CCC[N+]#[C-] AYWJHRRJYGYFBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PZEXNMSXAVGEAP-UHFFFAOYSA-N 2-diphenylarsanylethyl(diphenyl)arsane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[As](C=1C=CC=CC=1)CC[As](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PZEXNMSXAVGEAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyacetophenone Chemical compound OCC(=O)C1=CC=CC=C1 ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- RJWBTWIBUIGANW-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 RJWBTWIBUIGANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical class NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical group [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBRZGNYIMPFKEV-UHFFFAOYSA-N FC(F)(F)C1(C=CSS1)C(F)(F)F Chemical compound FC(F)(F)C1(C=CSS1)C(F)(F)F DBRZGNYIMPFKEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical class ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N L-alanine Chemical compound C[C@H](N)C(O)=O QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012565 NMR experiment Methods 0.000 description 2
- YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N Oxamide Chemical compound NC(=O)C(N)=O YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUGQZFFCHPXWKQ-UHFFFAOYSA-N Propanolamine Chemical compound NCCCO WUGQZFFCHPXWKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000004279 alanine Nutrition 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- AXYSDZQJEIAXBL-UHFFFAOYSA-N bis(oxomethylidene)iron Chemical compound O=C=[Fe]=C=O AXYSDZQJEIAXBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000707 boryl group Chemical group B* 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical compound CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLCSWKVOHICRDD-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diyne Chemical group C#CC#C LLCSWKVOHICRDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- JNZSJDBNBJWXMZ-UHFFFAOYSA-N carbon diselenide Chemical compound [Se]=C=[Se] JNZSJDBNBJWXMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N carbon disulfide-14c Chemical compound S=[14C]=S QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N chrysene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=C3C4=CC=CC=C4C=CC3=C21 WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 2
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- UVJHQYIOXKWHFD-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,4-diene Chemical compound C1C=CCC=C1 UVJHQYIOXKWHFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;iron(3+) Chemical class [Fe+3].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- PCERBVBQNKZCFS-UHFFFAOYSA-N dibenzylcarbamodithioic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(C(=S)S)CC1=CC=CC=C1 PCERBVBQNKZCFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940116901 diethyldithiocarbamate Drugs 0.000 description 2
- LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N diethyldithiocarbamic acid Chemical compound CCN(CC)C(S)=S LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JGUQDUKBUKFFRO-CIIODKQPSA-N dimethylglyoxime Chemical compound O/N=C(/C)\C(\C)=N\O JGUQDUKBUKFFRO-CIIODKQPSA-N 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- WQGPPBHFCXJZLP-UHFFFAOYSA-N diphenylstibane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SbH]C1=CC=CC=C1 WQGPPBHFCXJZLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 2
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 125000001905 inorganic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002527 isonitriles Chemical class 0.000 description 2
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 2
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N methanediol Chemical compound OCO CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- 125000003357 methylseleno group Chemical group [H]C([H])([H])[Se][*] 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 2
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- RCIBIGQXGCBBCT-UHFFFAOYSA-N phenyl isocyanide Chemical compound [C-]#[N+]C1=CC=CC=C1 RCIBIGQXGCBBCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical group CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- ORIHZIZPTZTNCU-YVMONPNESA-N salicylaldoxime Chemical compound O\N=C/C1=CC=CC=C1O ORIHZIZPTZTNCU-YVMONPNESA-N 0.000 description 2
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- PIILXFBHQILWPS-UHFFFAOYSA-N tributyltin Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)CCCC PIILXFBHQILWPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEOGRWUNSVGMMJ-UHFFFAOYSA-N trimethylgermane Chemical compound C[GeH](C)C AEOGRWUNSVGMMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPLUKJNHPBNVQL-UHFFFAOYSA-N triphenylarsine Chemical compound C1=CC=CC=C1[As](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BPLUKJNHPBNVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFVHFEXIVQSRNV-QMDOQEJBSA-N (1z,5z)-cycloocta-1,5-diene;iridium;tetrafluoroborate Chemical compound [Ir].F[B-](F)(F)F.C\1C\C=C/CC\C=C/1.C\1C\C=C/CC\C=C/1 ZFVHFEXIVQSRNV-QMDOQEJBSA-N 0.000 description 1
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCC(OC(=O)C=C)CC1 OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTUXVDJHGIEBAA-BQYQJAHWSA-N (e)-3,4-dimethylhex-3-ene Chemical compound CC\C(C)=C(/C)CC XTUXVDJHGIEBAA-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- XGCDBGRZEKYHNV-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(diphenylphosphino)methane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 XGCDBGRZEKYHNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-Hexanetriol Chemical compound OCCCCC(O)CO ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatoethane Chemical compound O=C=NCCN=C=O ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJKSTNDFUHDPQJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 XJKSTNDFUHDPQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008841 1,6-hexamethylene diisocyanate Drugs 0.000 description 1
- ZVEMLYIXBCTVOF-UHFFFAOYSA-N 1-(2-isocyanatopropan-2-yl)-3-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC(C(C)(C)N=C=O)=C1 ZVEMLYIXBCTVOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAXNXOMKCGKNCI-UHFFFAOYSA-N 1-diphenylphosphanylethyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)C(C)P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UAXNXOMKCGKNCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKKSKKMOIOGASY-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromobut-1-ene-1,1-diol Chemical compound CC(Br)C(Br)=C(O)O QKKSKKMOIOGASY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEPJZNUAPYIHOI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCOC(=O)C(C)=C QEPJZNUAPYIHOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUNMZYACEKOSPI-UHFFFAOYSA-N 2-(dihydroxymethyl)benzene-1,4-diol Chemical compound OC(O)C1=CC(O)=CC=C1O ZUNMZYACEKOSPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3,3-dimethyl-7-nitro-4h-isoquinolin-1-one Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(O)C(C)(C)CC2=C1 NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,3-diol Chemical compound OCC(C)CO QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C(C)=C HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOC(=O)C=C GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEZWFBJCEWZGHX-UHFFFAOYSA-N 4-isocyanato-n-(oxomethylidene)benzenesulfonamide Chemical class O=C=NC1=CC=C(S(=O)(=O)N=C=O)C=C1 CEZWFBJCEWZGHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 6-methylheptyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCOC(=O)C=C DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N Carbazole Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRYAPECLTRYCTR-UHFFFAOYSA-N NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NCCNCCN Chemical compound NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NCCNCCN LRYAPECLTRYCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWMAPNNZOCSAPF-UHFFFAOYSA-N Nickel(1+) Chemical compound [Ni+] YWMAPNNZOCSAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N acenaphthene Chemical compound C1=CC(CC2)=C3C2=CC=CC3=C1 CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- IWCQVOVBDXJJDF-UHFFFAOYSA-N benzene;chromium;cyclohexane Chemical compound [Cr].[CH-]1[CH-][CH-][CH-][CH-][CH-]1.C1=CC=CC=C1 IWCQVOVBDXJJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- JGCWKVKYRNXTMD-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]heptane;isocyanic acid Chemical class N=C=O.N=C=O.C1CC2CCC1C2 JGCWKVKYRNXTMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCC(=O)OC=C AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) hexanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCCCC(=O)OC=C JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMVFGTABSHECNI-UHFFFAOYSA-N bis(oxomethylidene)manganese Chemical compound O=C=[Mn]=C=O OMVFGTABSHECNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000010504 bond cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- YMQUHROOFPZMRB-UHFFFAOYSA-N butane-1,2,4-triol;2,3-dimethylbut-2-enoic acid Chemical compound OCCC(O)CO.CC(C)=C(C)C(O)=O YMQUHROOFPZMRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGFPDDKHVBSPBT-UHFFFAOYSA-N butyl(methylidyne)azanium Chemical compound CCCC[N+]#C LGFPDDKHVBSPBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N carbodiimide group Chemical group N=C=N VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- HAUXSVQKDKQHTF-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;chromium Chemical compound [Cr].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] HAUXSVQKDKQHTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSXLZCNUCYUGCH-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;rhenium Chemical compound [Re].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] FSXLZCNUCYUGCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N cyclobutene Chemical compound C1CC=C1 CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N cycloheptene Chemical compound C1CCC=CCC1 ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKONPUDBRVKQLM-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diol Chemical compound OC1CCC(O)CC1 VKONPUDBRVKQLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 150000002083 enediols Chemical class 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N ethoxymethanedithioic acid Chemical compound CCOC(S)=S ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- BGGOFYXWCDIHOX-UHFFFAOYSA-N formic acid;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound OC=O.CC(=C)C(O)=O BGGOFYXWCDIHOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000005826 halohydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N isonitrile group Chemical group N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 description 1
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical group [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- IRUCBBFNLDIMIK-UHFFFAOYSA-N oct-4-ene Chemical compound CCCC=CCCC IRUCBBFNLDIMIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930184652 p-Terphenyl Natural products 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- IBLIPXZPVULTID-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2-phenylphenyl)-thiophen-2-ylsulfanium Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C=1SC=CC=1 IBLIPXZPVULTID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920003251 poly(α-methylstyrene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006149 polyester-amide block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 229920003226 polyurethane urea Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 description 1
- XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N telluride(2-) Chemical compound [Te-2] XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKUYRAMKJLMYLO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OC(C)(C)C JKUYRAMKJLMYLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N toluene Substances CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTTGYFREQJCEML-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphite Chemical compound CCCCOP(OCCCC)OCCCC XTTGYFREQJCEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- LOFJKBAHPJENQS-UHFFFAOYSA-N tris(oxomethylidene)chromium Chemical compound O=C=[Cr](=C=O)=C=O LOFJKBAHPJENQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKSLVGGUXOMSLN-UHFFFAOYSA-N tris(oxomethylidene)tungsten Chemical compound O=C=[W](=C=O)=C=O YKSLVGGUXOMSLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N urea-1-carboxylic acid Chemical group NC(=O)NC(O)=O AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical group 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D175/04—Polyurethanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/40—High-molecular-weight compounds
- C08G18/63—Block or graft polymers obtained by polymerising compounds having carbon-to-carbon double bonds on to polymers
- C08G18/637—Block or graft polymers obtained by polymerising compounds having carbon-to-carbon double bonds on to polymers characterised by the in situ polymerisation of the compounds having carbon-to-carbon double bonds in a reaction mixture of saturated polymers and isocyanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/04—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with vinyl compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D163/00—Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/107—Polyamide or polyurethane
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/115—Cationic or anionic
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/117—Free radical
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft eine energiepolymerisierbare Zusammensetzung, die mindestens ein ethylenisch ungesättigtes Monomer in Kombination mit Polyurethan-Präkursoren oder Polyurethan-Präkursoren, sowie als Vernetzungsmittel eine Kombination eines metallorganischen Salzes und eines Onium-Salzes umfaßt, sowie ein Verfahren dafür. In einem weiteren Aspekt werden die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen aufweisende gehärtete Artikel offenbart. Die Zusammensetzungen sind beispielsweise als Schutzüberzüge, Bindemittel für magnetische Medien oder Schleifmittel, als Klebstoffe und bei graphischen Anwendungen verwendbar.
- Zahlreiche polymere Beschichtungen und Artikel werden in Verfahren unter Einbeziehung der Verwendung organischer Lösemittel erzeugt. Von Seiten der Gesetzgeber, Wissenschaftler und der Industrie gibt es intensive Bemühungen, lösemittelarme und lösemittelfreie Ausgangsgemische zu fördern, um die Verwendung solcher Lösemittel und die damit zusammenhängenden Kosten und Umweltverschmutzung zu verringern oder zu eliminieren. Diese Prozesse erfordern einen latenten Katalysator oder latenten Reaktionsbeschleuniger, der sich in kontrollierter Form aktivieren läßt.
- Das thermische Vernetzen ((auch bezeichnet als "Curing")) von Polyurethan-Präkursoren unter Verwendung von Reaktionsbeschleunigern, wie beispielsweise Zinn-Salzen und tertiären Ammen, ist auf dem Gebiet bekannt. Das Vernetzen von polymerisierbaren Mischungen von Polyisocyanaten mit Polyolen (bezeichnet als Polyurethan-Präkursoren) unter Verwendung thermisch latenter Katalysatoren ist auf dem Gebiet bekannt (siehe beispielsweise die US-P-4 521 545 und 4 582 861).
- Das Photocuring ((lichtinduziertes Vernetzen)) von Urethan(meth)acrylaten ist gut bekannt (siehe T. A. Speckhard, K.K.S. Hwang, S.B. Lin, S.Y. Tsay, M. Koshiba, Y.S. Ding, S.L. Cooper, J. Appl. Polymer Science, 1985, 30, 647...666. C. Bluestein Polym.-Plast. Technol. Eng. 1981, 17 83...93). Photocuring von Polyurethan- Präkursoren unter Verwendung von Diazonium-Salzen, tertiären Amin-Präkursoren und zinnorganischen Verbindungen ist bekannt (siehe die US-P-4 544 466, 4 549 945 und EP-28 696, Derwent-WPI). Alle diese Methoden haben ein oder mehrere der folgenden Nachteile: Empfindlichkeit gegenüber Sauerstoff, Bedarf von ultraviolettem Licht und/oder Licht hoher Intensität, Bedarf von modifizierten Harzen, Verlust oder Abschwächen der Eigenschaften von Urethan, geringe Aktivität, schlechte Löslichkeit und geringe Gebrauchsfähigkeitsdauer.
- Im Stand der Technik werden Verfahren zur Polymerisation von Epoxy-Materialien offenbart. Ferner ist bekannt, daß ein Metallocen, wie beispielsweise Ferrocen, bei Epoxy- Materialien als Vernetzungsbeschleuniger ((Härtungsbeschleuniger)) verwendet werden kann (US-P-3 705 129). Die US-P-3 709 861, 3 714 006, 3 867 354 und A 237 242 beziehen sich auf die Verwendung von Übergangsmetall-Komplexen bei der Reaktion zwischen Polyepoxiden und polyfunktionellen Vernetzungs- Additiven, jedoch lehren sie nicht die Polymerisation von Zusammensetzungen, die Epoxid-Gruppen enthalten und kein Vernetzungs-Additiv enthalten. Die Polymerisation von Materialien, die Epoxid-Gruppen enthalten, ist ebenfalls bekannt. Unter diesen Prozessen befinden sich solche, bei denen der Polymerisations-Katalysator ein strahlungsempfindliches Onium- Salz einer Lewis-Säure ist (z.B. Diazonium-Salze entsprechend der Beschreibung in den US-P-3 794 576 und 4 080 274; Halonium- Salze entsprechend der Offenbarung in der US-P-4 026 705 sowie Dionium-Salze der Elemente der Gruppe VIA, speziell die Sulfonium-Salze, die in der US-P-4 058 400 offenbart wurden) oder entsprechend der Offenbarung der US-P-4 086 091 eine Dicarbonyl-Chelatverbindung eines Elements der Gruppe IIIA- VA ist. Diese Zusammensetzungen beschränken sich auf UV- Strahlung für die Polymerisation. Darüber hinaus sind die Dicarbonyl-Chelate feuchtigkeitsempfindlich.
- Die US-P-4 216 288 lehrt das thermische Vernetzen von kationisch polymerisierbaren Zusammensetzungen unter Verwendung von Onium-Salzen und Reduktionsmitteln.
- Es wurden energiepolymerisierbare Zusammensetzungen mit ionischen Salzen metallorganischer Komplex-Kationen und kationisch empfindlichen Materialien und deren Vernetzen gelehrt (siehe EP-A- 109 851, 094 914, Derwent-WPI; sowie 094 915, Derwent-WPI).
- Neutrale metallorganische Verbindungen wurden in Verbindung mit neutralen halogenierten Verbindungen für das Photocuring ethylenisch ungesättigter Monomere verwendet (G. Smets, Pure G. Appl. Chem., 53, 611 615 (1981);. H.M. Wagner, M.D. Purbrick, J. Photograph Science, 29, 230...235 (1981)).
- Die Verwendung bestimmter Photosensibilisiermittel mit Onium-Salzen zur Initiierung der Polymerisation von ethylenisch ungesättigten Monomeren ist auf dem Gebiet gut bekannt. Diese Methode hat bei Anwendungen wie Drucken, Vervielfältigung, Kopieren und anderen bildgebenden Systemen Verwendung gefunden (siehe J. Kosar in "Light Sensitive Systems: Chemistry and Application of Nonsilver Halide Photographic Processes" ("Lichtempfindliche Systeme: Chemie und Annendungen von Silberhalogenidfreien photographischen Prozessen"), Wiley, New York, 1965, S. 158...193). Aryliodoniumsalze wurden bereits zur Verwendung als Photomitiatoren in additionspolymerisierbaren Zusammensetzungen beschrieben (siehe die US-P-3 729 313, 3 741 769, 3 808 006, 4 228 232, 4 250 053 und 4 428 807; H. J. Timpe und H. Baumann, Wiss. Z. Tech. Hochschule der Leuna-Merseburg, 26, 439 (1984); H. Baumann, B. Strehmel, H.J. Tippe und U. Lammel, J. Prakt. Chem., 326 (3), 415 (1984) und H. Baumann, U. Oertel und H.J. Timpe, Euro. Polym. J., 22 (4), 313 (3. April 1986)
- Dual strahlungsvernetzbare Zusammensetzungen, die ethylenisch ungesättigte Monomere und Epoxy-Monomere enthalten, wurden in den US-P-4 156 035, 4 227 978 und 4 623 676 beschrieben. Diese Zusammensetzungen enthalten Onium-Salze in Verbindung mit organischen Verbindungen als das Vernetzungsmittel, enthalten jedoch keinerlei metallorganische Verbindungen.
- Das Dual-Vernetzen von Acrylat/Polyurethan-Präkursormischungen ist bekannt, jedoch sind diese Vernetzungsmethoden nicht ausschließlich photoaktiviert und es sind keinerlei andere Methoden bekannt, die ein gleichzeitiges Vernetzen der Polyurethan-Präkursoren und Acrylate ermöglichen (siehe die US-P-4 342 793 und von Roesler, Modern Paint and Coatings, April 1986, S. 46...55).
- Die US-P-4 677 137 lehrt die Verwendung eines Träger- Onium-Salzes oder eines ionischen Salzes eines metallorganischen Komplexes als einen Initiator der Polymerisation von kationisch polymerisierbaren Materialien. In dieser Literaturstelle findet sich keine Lehre über eine Kombination eines ionisches Salz eines metallorganischen Komplexes und eines Oniumn-Salzes als Photomitiatoren.
- Die US-P-740 577 und EP-A-0 250 364 lehren die Verwendung eines ionischen Salzes eines metallorganischen Komplexes in Verbindung mit Polyurethan-Präkursoren in einer energiepolymerisierbaren Zusammensetzung. Diese Literaturstellen offenbaren nicht die Verwendung eines Onium-Salzes mit dem ionischen Salz eines metallorganischen Komplexes zum Curing von Polyurethan-Präkursoren. Die US-P-4 707 432 lehrt eine radikalisch polymerisierbare Zusammensetzung aus einem radikalisch polymerisierbaren Material und einem Photoinitiatorsystem, umfassend eine alpha-Aufspaltung oder einen Aufspaltungs-Photoinitiator einer homolytischen Bindung und ein Ferrocenium-Salz. Diese Literaturstellen offenbaren nicht die Verwendung der Kombination eines Onium-Salzes mit dem ionischen Salz eines metallorganischen Komplexes. Sie lehren speziell, daß der radikalische Inititator keine Onium-Verbindung ist.
- Die EP-126 712 und EP 152 377 (Derwent-WPI) offenbaren eine härtbare Zusammensetzung, die ein radikalisch und/oder kationisch polymerisierbares Material enthält oder deren Mischungen, und mindestens eine aromatische Eisen(II)-Komplexverbindung und mindestens einenelektronenakzeptor als Oxidationsmittel. Onium-Salze werden nicht offenbart.
- Die GB-A-2191199 vom 9. Dezember 1987, lehrt die Kombination eines Onium-Salzes mit dem ionischen Salz eines metallorganischen Komplexes zur Polymerisation von Zusammensetzungen durch Bestrahlen bei zwei unterschiedlichen Wellenlängen. Diese Literaturstelle lehrt nicht den gleichzeitigen Start der Polymerisation zweier unterschiedlicher polymerisierbarer Materialien noch zeigt sie die verbesserte thermische Stabilität, die sich aus dieser Zusammensetzung ableitet. Diese Literaturstellen lehren nicht die Polymerisation von Polyurethan-Präkursoren, noch lehrt sie, daß derartige Zusammensetzungen schneller vernetzen und eine erhöhte Stabilität aufweisen.
- Die US-P-4 707 432 (Gatechair) lehrt eine radikalisch polymerisierbare Zusammensetzung, umfassend ein radikalisch polymerisierbares Material, das als Initiator eine Kombination eines Ferrocenium-Salzes und eines Onium-Salzes enthält. Der Zusatz von Epoxy zu der Zusammensetzung wird in Spalte 8, Zeile 12, dieser Quelle offenbart.
- Eine der Ausführungen der vorliegenden Erfindung gewährt eine polymerisierbare Zusammensetzung ((Mischung)), umfassend einen polymeren Präkursor, ausgewählt aus:
- (1) Polyurethan-Präkursoren oder
- (2) mindestens einem ethylenisch ungesättigten Monomer und Polyurethan-Präkursoren, sowie
- ein zweikomponentiges Vernetzungsmittel, umfassend:
- (1) ein metallorganisches Salz mit der Formel:
- {[(L¹)(L²)M]b(L³)(L&sup4;)}+exf I
- worin sind:
- M gleiche oder verschiedene Metalle, ausgewählt aus den Elementen der Gruppen des Periodensystems IVB, VB, VIB, VIIB und VIII;
- L¹ kein Ligand, 1, 2, oder 3 Liganden, die pi-Elektronen beitragen und gleiche oder verschiedene Liganden sein können, ausgewählt aus substituierten und nichtsubstituierten, acyclischen und cyclischen, ungesättigten Verbindungen und Gruppen sowie substituierten und nichtsubstituierten, carbocyclischen aromatischen und heterocyclischen aromatischen Verbindungen, die jeweils zwei bis zwölf pi- Elektronen zur Valenzschale von M beitragen können;
- L² kein Ligand oder 1 bis 6 Liganden, die eine gerade Zahl von sigma-Elektronen beitragen und gleich oder verschieden sein können, ausgewählt aus einzähnigen, zweizähnigen und dreizähnigen Liganden, die jeweils 2, 4 oder 6 sigma-Elektronen zur Valenzschale von M beitragen;
- L³ kein Brückenligand, 1 oder 2 Brückenliganden, die pi-Elektronen beitragen und gleiche oder verschiedene Liganden sein können, ausgewählt aus substituierten und nichtsubstituierten, acyclischen und cyclischen, ungesättigten Verbindungen und Gruppen sowie substituierten und nichtsubstituierten, carbocyclischen aromatischen und heterocyclischen, aromatischen Verbindungen, die jeweils als Brückenligand wirken können und 4 bis 24 pi-Elektronen zu den Valenzschalen von zwei Metallatomen gleichzeitig beitragen;
- L&sup4; kein Brückenligand, 1, 2 oder 3 Brückenliganden, die eine gerade Zahl von sigma-Elektronen beitragen und gleich oder verschieden sein können, ausgewählt aus einzähnigen, zweizähnigen und dreizähnigen Liganden, die jeweils 2, 4 oder 6 sigma-Elektronen an die Valenzschalen von zwei M gleichzeitig abgeben;
- und zwar unter der Voraussetzung, daß die Gesamt-Elektronenladung von M, mit der die Liganden L¹, L², L³ und L&sup4; beitragen, plus das Produkt der lonenladung an M mit b, eine positive Netto-Restladung von e für das Kation ergibt;
- b eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 oder 2;
- e eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 oder 2 als die Restelektronenladung des Kations;
- X ein Anion, ausgewählt aus organischen Sulfonat- Anionen und Halogen-enthaltenden Komplex-Anionen eines Metalls oder "Metalloids";
- f eine ganze Zahl von 1 oder 2 als die Zahl von Anionen, die zum Neutralisieren der Ladung e an dem Kation erforderlich ist, sowie
- (2) ein Onium-Salz,
- wobei die Zusammensetzung wahlweise ferner eine wirksame Menge eines Photosensibilisiermittels aufweist.
- In einer weiteren Ausführungsform gewährt die vorliegende Erfindung ein Bindemittel für ein magnetisches Medium oder ein Schleifmittel, umfassend die vorstehend beschriebene polymerisierbare Zusammensetzung oder das vernetzte Bindemittel oder Schleifmittel daraus.
- In noch einer weiteren Ausführungsform gewährt die vorliegende Erfindung einen Artikel, umfassend einen Schutzüberzug auf einem Substrat, wobei der Schutzüberzug die vorstehend beschriebene polymerisierbare Zusammensetzung aufweist, oder den Artikel mit dem vernetzten Schutzüberzug. Die Zusammensetzungen sind auch als Schutzschichten und Dekorschichten, Druckfarben, Klebstoffe und bei restaurativen Anwendungen und bei ihren Anwendungen als Dichtstoff sowie bei bildgebenden Anwendungen verwendbar.
- Sofern zwei polymerisierbare Komponenten vorliegen, können sie in jedem beliebigen Verhältnis und vorzugsweise im Bereich von 0,1:99,9 ... 99,9:0,1 Gewichtsteilen vorliegen, mehr bevorzugt in 1:99 ... 99:1 Gewichtsteilen und am meisten bevorzugt in 2:98 ... 98:2 Gewichtsteilen.
- Im Gegensatz zum Stand der Technik wird in der vorliegenden Erfindung die Verwendung von metallorganischen Salzen für das lichtinduzierte oder durch beschleunigte Partikel induzierte (z.B. Auslösung durch Elektronenstrahl) oder thermische Vernetzen von durch freie Radikale polymerisierbarem speziellem Monomer oder Oligomer in Kombination entweder mit Polyurethan-Präkursoren oder Epoxy-Monomeren gelehrt. Wenn zwei verschiedene polymerisierbare Materialien vorliegen, beziehen sich die Zusammensetzung und das Verfahren der vorliegenden Erfindung auf die gleichzeitige Inituerung der Polymerisation beider Materialien. Es gelangt lediglich ein einziger Bestrahlungsschritt zum Einsatz.
- Die Vorteile der erfindungsgemäßen Zusammensetzungen bei Einsatz in 100 % reaktionsfähigen Beschichtungszusammensetzungen umfassen:
- Es wird ein neuartiger technischer Prozeß offenbart, mit dem die Erzeugung technischer Lösemittelabfälle bei gleichzeitiger Verringerung des Energieverbrauchs verringert, auf ein Minimum herabgesetzt oder eliminiert wird.
- Die Strahlungsbehandlung, speziell der Einsatz von Elektronenstrahlen und lichtinduzierten Katalysatoren bietet potentiell die Möglichkeit zum Penetrieren und Polymerisieren dicker und pigmentierter Beschichtungen.
- Anstelle von funktionalisierten Oligomeren (die bei den bekannten Ausführungen zum Einsatz gelangen) können leichter verfügbare Monomere verwendet werden, woraus Monomerlösungen mit geringerer Viskosität resultieren, die sich leichter auftragen lassen als viskosere Oligomerlösungen.
- Indem der Bereich der vernetzbaren Monomere auf Polyisocyanate/Polyole und Epoxide erweitert wird, ist bei dem Aufbau von Beschichtungen mit speziellen Eigenschaften eine erhöhte Flexibilität möglich.
- Die Kombination der Photomitiatoren gewährt eine erhöhte thermische Stabilität in Verbindung mit einer erhöhten Vernetzungsgeschwindigkeit.
- In der vorliegenden Patentbeschreibung bedeuten:
- "energieinduziertes Vernetzen" Vernetzen ((Curing)) mindestens mit Hilfe elektromagnetischer Strahlung (UV und sichtbar), beschleunigter Partikel (einschließend Elektronenstrahlen) und thermischer Mittel (Infrarot und Wärme);
- "ethylenisch ungesättigtes Monomer" solche Monomere, die nach einem radikalischen Mechanismus polymerisieren;
- "katalytisch wirksame Menge" eine ausreichende Menge, um Polymerisation der vernetzbaren. Zusammensetzung zu einem polymerisierten Produkt mindestens bis zu einem Grad herbeizuführen, in welchem eine Erhöhung der Viskosität der Zusammensetzung bewirkt wird;
- "metallorganisches Salz" ein oder mehrere ionische Salze von metallorganischen Komplex-Kationen, wobei die Kationen mindestens ein Kohlenstoffatom einer organischen Gruppe enthalten, gebunden an einem Metallatom ("Basic Inorganic Chemistry", FA. Cotton, G. Wilkinson, Wiley, New York, 1976, S.497);
- "Polyurethan-Präkursoren" eine Mischung von einem oder mehreren Monomeren des Typs, einschließend Diisocyanate und Polyisocyanate, und eines oder mehrerer Monomere des Typs, einschließend Diole und Polyole. Verbindungen, die mindestens zwei mit Isocyanat reaktionsfähige Wasserstoffatome aufweisen, können für Diole und Polyole ersetzt werden; das Verhältnis von Isocyanat-Gruppen zu mit Isocyanat reaktionsfähigen Wasserstoffatomen beträgt 1:2 ... 2:1;
- "Brückenligand" ein Ligand, der sich an zwei oder mehreren Metallen in, Gegenwart oder bei Abwesenheit von Metall-Metall-Bindungen bindet;
- "Polyisocyanat" ein aliphatisches oder aromatisches Isocyanat mit zwei oder mehreren Isocyanat-Gruppen;
- "Polyol" eine aliphatische oder aromatische Verbindung mit zwei oder mehreren Hydroxyl-Gruppen;
- "Onium-Salze" ein odere mehrere Salze kationischer Verbindungen, wie beispielsweise Diazonium, Halonium und hypervalente Elemente der Gruppe VIA, sowie
- "zweifachreaktionsfähiges Monomer", das eine ethylenisch ungesättigte Gruppe und mindestens eine Epoxy-, eine Isocyanat- und eine mit Isocyanat reaktionsfähige Gruppe enthält.
- Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend zusammengefaßt und gewährt zahlreiche polymerisierbare Zusammensetzungen, die alle ein zweikomponentiges Vernetzungsmittel dafür aufweisen, welches zweikomponentige Vernetzungsmittel vorzugsweise umfaßt:
- (1) ein metallorganisches Salz mit der Formel:
- {[(L¹)(L²)M]b(L³)(L&sup4;)}+exf I
- worin sind:
- M gleiche oder verschiedene Metalle, ausgewählt aus den Elementen der Gruppen des Periodensystems IVB, VB, VIB, VIIB und VIII;
- L¹ kein Ligand, 1, 2, oder 3 Liganden, die pi-Elektronen beitragen und gleiche oder verschiedene Liganden sein können, ausgewählt aus substituierten und nichtsubstituierten, acyclischen und cyclischen, ungesättigten Verbindungen und Gruppen sowie substituierten und nichtsubstituierten, carbocyclischen aromatischen und heterocyclischen aromatischen Verbindungen, die jeweils zwei bis zwölf pi- Elektronen zur Valenzschale von M beitragen können;
- L² kein Ligand oder 1 bis 6 Liganden, die eine gerade Zahl von sigma-Elektronen beitragen und gleich oder verschieden sein können, ausgewählt aus einzähnigen, zweizähnigen und dreizähnigen Liganden, die jeweils 2, 4 oder 6 sigma-Elektronen zur Valenzschale von M beitragen;
- L³ kein Brückenligand, 1 oder 2 Brückenliganden, die pi-Elektronen beitragen und gleiche oder verschiedene Liganden sein können, ausgewählt aus substituierten und nichtsubstituierten, acyclischen und cyclischen, ungesättigten Verbindungen und Gruppen sowie substituierten und nichtsubstituierten, carbocyclischen aromatischen und heterocyclischen aromatischen Verbindungen, die jeweils als Brückenligand wirken können und 2 bis 24 pi-Elektronen zu den Valenzschalen der zwei Metallatome M gleichzeitig beitragen;
- L&sup4; kein Brückenligand, 1, 2 oder 3 Brückenliganden, die eine gerade Zahl von sigma-Elektronen beitragen und gleich oder verschieden sein können, ausgewählt aus einzähnigen, zweizähnigen und dreizähnigen Liganden, die jeweils 2, 4 oder 6 sigma-Elektronen an die Valenzschalen von zwei M gleichzeitig abgeben;
- und zwar unter der Voraussetzung, daß die Gesamt-Elektronenladung von M, mit der die Liganden L¹, L², L³ und L&sup4; beitragen, plus das Produkt der Ionenladung an M mit b, eine positive Netto-Restladung von e für das Kation ergibt;
- b eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 oder 2;
- e eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 oder 2 als die Restelektronenladung des Kations;
- X ein Anion, ausgewählt aus organischen Sulfonat- Anionen und Halogen-enthaltenden Komplex-Anionen eines Metalls oder "Metalloids";
- f eine ganze Zahl von 1 oder 2 als die Zahl von Anionen, die zum Neutralisieren der Ladung e an dem Kation erforderlich ist, sowie
- (2) ein Onium-Salz als Oxidationsmittel mit der Struktur
- AY III
- worin sind:
- A ein organisches Kation, ausgewählt aus denen, die beschrieben wurden in den US-P-3 708 296, 3 729 313, 3 741 769, 3 794 576, 3 808 006, 4 026 705, 4 058 401, 4 069 055, 4 101 513, 4 216 288, 4 394 403 und 4 623 676, vorzugsweise ausgewählt aus Diazonium-, Iodonium- und Sulfonium-Kationen, wobei A mehr bevorzugt ausgewählt wird aus Diphenyliodonium, Triphenylsulfonium und Phenylthiophenyldiphenylsulfonium; sowie
- Y ein Anion als das Gegenion der Onium-Salze, einschließend solche, in denen Y ein organisches Sulfonat, oder halogeniertes Metall oder "Metalloid" ist, wie beispielsweise CH&sub3;SO&sub3;&supmin;, CF&sub3;SO&sub3;&supmin;, C&sub6;H&sub5;SO&sub3;&supmin;, p-Toluolsulfonat, p-Chlorbenzolsulfonat und verwandte Isomere u.dgl., sowie solche, bei denen Y die Formel DZr, worin D ein Metall der Gruppen IB bis VIIIB oder ein Metall oder "Metalloid" der Gruppen IIIA bis VA des Periodensystems der Elemente ist, Z ist ein Halögenatom oder eine Hydroxy-Gruppe und r eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 6.
- Vorzugsweise sind die Metalle Kupfer, Zink, Titan, Vanadium, Chrom, Mangan, Eisen, Kobalt oder Nickel und die "Metalloide" vorzugsweise Bor, Aluminium, Antimon, Zinn, Arsen und Phosphor. Vorzugsweise ist das Halogen Z Chlor oder Fluor. Veranschaulichend für die geeigneten Anionen sind BF&sub4;&supmin;, PF&sub6;&supmin;, AsF&sub6;&supmin;, SbF&sub6;&supmin;, FeCl&sub4;&supmin;, SnCl&sub5;&supmin;, SbF&sub4;&supmin;, AlF&sub6;&supmin;, GaCl&sub4;&supmin;, InF&sub4;&supmin;, TiF&sub6;&supmin;, usw. Vorzugsweise sind die Anionen CF&sub3;SO&sub3;&supmin;, BF&sub4;&supmin;, PF&sub6;&supmin;, SbF&sub6;&supmin;, SbF&sub5;OH&supmin;, AsF&sub6; und SbCl&sub6;&supmin;.
- In einer bevorzugten Zusammensetzung der Erfindung haben die Salze des metallorganischen Komplex-Kations die Formel:
- [(L&sup5;)(L&sup6;)M]+e Xf II
- worin sind:
- M ein Metallatom, ausgewählt aus den Elementen der Gruppen des Periodensystems IVB, VB, VIB, VIIB und VIII;
- L&sup5; kein Ligand, 1 oder 2 Liganden, die gleich oder verschieden sein können und 3 pi-Elektronen beitragen, ausgewählt aus den gleichen Gruppen von Liganden, aus denen der Ligand L¹ der Formel I ausgewählt wird;
- L&sup6; kein Ligand oder 1 ... 6 Liganden, die gleich oder verschieden sein können und eine gerade Zahl von sigma- Elektronen beitragen, ausgewählt aus der gleichen Gruppe von Liganden, aus der der Ligand L² der Formel I ausgewählt wird; und zwar unter der Voraussetzung, daß die Gesamt- Elektronenladung von M, zu der L&sup5; und L&sup6; beitragen, plus die lonenladung von M eine positive Netto-Restladung "e" an dem Komplex ergeben; sowie e, f und X wie für Formel I vorstehend festgelegt.
- Salze metallorganischer Komplex-Kationen der Formeln I und II sind zusätzlich dazu, daß sie thermisch vernetzbar sind, strahlungsvernetzend ((auch bezeichnet als "selbstvernetzend")) oder können in einem zweistufigen Vernetzungsprozeß unter Anwendung von Strahlung, gefolgt von Wärme vernetzt werden.
- Liganden L¹ bis L&sup6; sind auf dem Gebiet metallorganischer Übergangsmetall-Verbindungen gut bekannt.
- Der Ligand L¹ der allgemeinen Formel I und der Ligänd L&sup5; der allgemeinen Formel II werden durch jede beliebige monomere oder polymere Verbindung mit einer zugänglichen ungesättigten Gruppe, d.h. einer ethylenischen ((olefinischen)) Gruppe (- = -) einer ethylenischen Gruppe (-C C-); oder einer aromatischen Gruppe mit zugänglichen pi- Elektronen unabhängig von der Gesamtmolekülmasse der Verbindung gestellt. "Zugänglich" soll hierin bedeuten, daß die Verbindung (oder Präkursor-Verbindung, von der die zugängliche Verbindung hergestellt wird), welche die ungesättigte Gruppe aufweist, in einem Reaktionsmittel löslich ist, wie beispielsweise einem Alkohol, z.B. Methanol; einem Keton, z.B. Methylethylketon; einem Ester, z.B. Amylacetat; einem Halogenkohlenwasserstoff, z.B. Trichlorethylen; einem Alkan, z.B. Decalin; einem aromatischen Kohlenwasserstoff, z.B. Anisol; einem Ether, z.B. Tetrahydrofuran; oder bedeutet, daß die Verbindung zu sehr feinen Partikeln mit großer Oberfläche teilbar ist, so daß sich die ungesättigte Gruppe (einschließend die aromatische Gruppe) ausreichend nahe an einem Metallatom befindet, um eine pi-Bindung zwischen dieser ungesättigten Gruppe und dem Metallatom zu erzeugen. "Polymere Verbindung" bedeutet, wie nachfolgend ausgeführt wird, daß der Ligand eine Gruppe an einer polymeren Kette sein kann.
- Für die Liganden L¹ und L&sup5; veranschaulichend sind lineare und cyclische olefinische und acetylenische Verbindungen mit weniger als 100 Kohlenstoffatomen, vorzugsweise mit weniger als 60 Kohlenstoffatomen und von Null bis 10 Heteroatomen, ausgewählt aus Stickstoff, Schwefel, nichtperoxidischem Sauerstoff, Arsen, Phosphor, Selen, Bor, Antimon, Tellur, Silicium, Germanium und Zinn, wie beispielsweise Ethylen, Acetylen, Propylen, Methylacetylen, 1-Buten, 2-Buten, Diacetylen, Butadien, 1,2-Dimethylacetylen, Cyclobuten, Penten, Cyclopenten, Hexen, Cyclohexen, 1,3-Cyclohexadien, Cyclopentadien, 1,4-Cyclohexadien, Cyclohepten, 1-Octen, 4-Octen, 3,4-Dimethyl-3-hexen und 1-Decen; eta³-Allyl,eta³-Pentenyl, Norbornadien, eta&sup5;-Cyclohexadienyl, eta&sup6;-Cycloheptatrien, eta&sup8;- Cyclooctatetraen und substituierte und nichtsubstituierte carbocyclische und heterocyclische, aromatische Liganden mit bis zu 25 Ringen und bis zu 100 Kohlenstoffatomen und bis zu 10 Heteroatomen, ausgewählt aus Stickstoff, Schwefel, nichtperoxidischen Sauerstoff, Phosphor, Arsen, Selen, Bor, Antimon, Tellur, Silicium, Germanium und Zinn, wie beispielsweise eta&sup5;-Cyclopentadienyl, eta&sup6;-Benzol, eta&spplus;&sup6;-Mesitylen, eta&sup6;-Hexamethylbenzol, eta&sup6;-Fluoren, eta&sup6;-Naphthalin, eta&sup6;- Anthracen, eta&sup6;-Chrysen, eta&sup6;-Pyren, eta&sup7;-Cycloheptatrienyl, eta&sup6;-Triphenylmethan, eta¹²-Paracyclophan, eta¹²-1,4-Diphenylbutan, eta&sup5;-Pyrrol, eta&sup5;-Thiophen, eta&sup5;-Furan, eta&sup6;-Pyridin, eta&sup6;-gamma-Picolin, eta&sup6;-Chinaldin, eta&sup6;-Benzopyran, eta&sup6;- Thiochrom, eta&sup6;-Benzoxazin, eta&sup6;-Indol, eta&sup6;-Acridin, eta&sup6; - Carbazol, eta&sup6;-Triphenylen, eta&sup6;-Silabenzol, eta&sup6;-Arsabenzol, eta&sup6;-Stibabenzol, eta&sup6;-2,4,6-Triphenylphosphabenzol, eta&sup5;-Selenophen, eta&sup6;-Dibenzostannepin, eta -Tellurophen, eta&sup6;-Phenothiarsin, eta&sup6;-Selenanthren, eta&sup6;-Phenoxaphosphin, eta&sup6;-Phenarsazin, eta&sup6;-Phenatellurazin und eta&sup6;-1-Phenylborabenzol. Weitere geeignete aromatische Verbindungen lassen in den zahlreichen chemischen Handbüchern nachschlagen.
- Wie bereits erwähnt, kann der Ligand eine Einheit eines Polymers sein, beispielsweise die Phenyl-Gruppe in Polystyrol, Poly(styrol-co-butadien), Poly(styrol-co-methylmethacrylat), Poly(alpha-methylstyrol), Polyvinylcarbazol und Polymethylphenylsiloxan; die Cyclopentadien-Gruppe in Poly(vinylcyclopentadien); die Pyridin-Gruppe in Poly(vinylpyridin). Polymere mit einer massegemittelten relativen Molekülmasse bis zu 1.000.000 oder darüber können zur Anwendung kommen. Vorzugsweise sind 5 ... 50 Prozent der in dem Polymer vorliegenden nichtgesättigten oder aromatischen Gruppen mit Metall-Kationen komplexiert.
- Jeder der Liganden L¹ und L&sup5; kann durch Gruppen substituiert sein, welche das Komplexieren des Liganden mit dem Metallatom nicht stören oder welche die Löslichkeit des Liganden nicht bis zu einem solchen Umfang herabsetzen, daß das Komplexieren mit dem Metallatom nicht erfolgen kann. Beispiele für substituierende Gruppen, die vorzugsweise alle weniger als 30 Kohlenstoffatome und bis zu 10 Heteroatome aufweisen, werden ausgewählt aus Stickstoff, Schwefel, nichtperoxidischen Sauerstoff, Phosphor, Arsen, Selen, Antimon, Tellur, Silicium, Germanium, Zinn und Bor, einschließend Hydrocarbyl-Gruppen, wie beispielsweise Methyl, Ethyl, Butyl, Dodecyl, Tetracosanyl, Phenyl, Benzyl, Allyl, Benzyliden, Vinyl und Acetylenyl; Hydrocarbyloxy-Gruppen, wie beispielsweise Methoxy, Mutoxy und Phenoxy; Hydrocarbylmercapto-Gruppen, wie beispielsweise Methylmercapto (Thiomethoxy), Phenylmercapto (Thiophenoxy); Hydrocarbyloxycarbonyl, wie beispielsweise Methoxycarbonyl und Phenoxycarbonal; Hydrocarbylcarbonyl, wie beispielsweise Formyl, Acetyl und Benzoyl; Hydrocarbylcarbonyloxy, wie beispielsweise Acetoxy, Benzoxy und Cyclohexancarbonyloxy; Hydrocarbylcarbonamido, z.B. Acetamido, Benzamido; Azo, Boryl; Halogeno, z.B. Chloro, Iodo, Bromo und Fluoro; Hydroxy; Cyano; Nitro; Nitroso, Oxo; Dimethylamino; Diphenylphosphino, Diphenylarsino; Diphenylstibin; Trimethylgerman; Tributylzinn; Methylseleno; Ethyltelluro; sowie Trimethylsiloxy; kondensierte Ringe, wie beispielsweise Benzo, Cyclopenta; Naphtho und Indeno.
- Die Liganden L² in der Formel I und L&sup6; in der Formel II werden durch einzähnige und mehrzähnige Verbindungen gestellt, die vorzugsweise bis zu 30 Kohlenstoffatome und bis zu 10 Heteroatome enthalten, ausgewählt aus Stickstoff, Schwefel, nichtperoxidischem Sauerstoff, Phosphor, Arsen, Selen, Antimon und Tellur, bei Zusatz zu dem Metallatom, gefolgt von keinem, von einem oder von zwei Wasserstoffen, wobei die mehrzähnigen Verbindungen vorzugsweise mit Metall, M, einen 4-, 5- oder 6-gliedrigen gesättigten oder ungesättigten Ring bilden. Beispiele für geeignete einzähnige Verbindungen oder Gruppen sind Kohlenstoffmonoxid, Schwefelkohlenstoff, Kohlenstoffselenid, Kohlenstofftellund, Alkohole, wie beispielsweise Ethanol, Butanol; und Phenol; Nitrosonium (d.h. NO&spplus;); Verbindungen der Elemente der Gruppe VA, wie beispielsweise Ammoniak, Phosphin, Trimethylamin, Trimethylphosphin, Triphenylamin, Triphenylphosphin, Triphenylarsin, Triphenylstibin, Tributylphosphit, Isonitrile, wie beispielsweise Phenylisonitril, Butylisonitril; Carben- Gruppen, wie beispielsweise Ethoxymethylcarben, Dithiomethoxycarben; Alkylidene, wie beispielsweise Methyliden, Ethyliden; geeignete mehrzähnige Verbindungen oder Gruppen schließen ein: 1,2-Bis(diphenylphosphino)ethan, 1,2-Bis(diphenylarsino)ethan, Bis(diphenylphosphimo)methan, Ethylendiamin, Propylendiamin, Diethylentriamin, 1,3-Diisocyanpropan und Hydridotripyrrazolyborat; die Hydrocarbonsäuren, wie beispielsweise Glykolsäure, Milchsäure, Salicylsäure; mehrwertige Phenole, wie beispielsweise Catechol und 2,2'- Dihydroxybiphenyl; Hydroxyamine, wie beispielsweise Ethanolamm, Propanolamin und 2-Aminophenol; Dithiocarbamate, wie beispielsweise Diethyldithiocarbamat, Dibenzyldithiocarbamat; Xanthate, wie beispielsweise Ethylxanthat, Phenylxanthat; die Dithiolene, wie beispielsweise Bis(perfluormethyl)-1,2-dithiolen; Aminocarbonsäuren, wie beispielsweise Alanin, Glycin und o-Aminobenzoesäure; Dicarbonsäurediamine, wie beispielsweise Oxalamid, Biuret; Diketone wie beispielsweise 2,4-Pentandion; Hydroxyketone, wie beispielsweise 2- Hydroxyacetophenon; alpha-Hydroxyoxime, wie beispielsweise Salicylaldoxim; Ketoxime, wie beispielsweise Benziloxim; sowie Glyoxime, wie beispielsweise Dimethylglyoxim. Weitere geeignete Gruppen sind die anorganischen Gruppen, wie beispielsweise CN&supmin;, SCN&supmin;, F&supmin;, OH&supmin;, Cl&supmin;, Br&supmin;, I&supmin; und H&supmin;, und die organischen Gruppen, wie beispielsweise Acetoxy, Formyloxy, Benzoyloxy, usw. Wie bereits erwähnt, kann der Ligand eine Einheit eines Polymers sein, beispielsweise die Amino-Gruppe im Poly(ethylenamin); die Phosphin-Gruppe im Poly(4-vinylphenyldiphenylphosphin); die Carbonsäure-Gruppe in Poly(acrylsäure); sowie die Isonitril-Gruppe im Poly(4-vinylphenylisonitril).
- Der Ligand L³ in Formel I wird durch jede beliebige monomere oder polymere Verbindung gestellt, die über eine zugängliche ungesättigte Gruppe verfügt, wie beispielsweise jede beliebige ethylenische Gruppe (- = -) oder eine acetylenische Gruppe (- -) oder eine aromatische Gruppe, die unabhängig von dem Gesamtmolekulargewicht der Verbindung über zugängliche pi-Elektronen verfügt.
- Veranschaulichend für den Liganden L³ sind die linearen und cyclischen Dien- und acetylenischen Verbindung, vorzugsweise mit weniger als 60 Kohlenstoffatomen und bis zu 10 Heteroatomen, ausgewählt aus: Stickstoff, Schwefel, nichtperoxidischem Sauerstoff, Phosphor, Arsen, Selen, Bor, Antimon, Tellur, Silicium, Germanium und Zinn, wie beispielsweise Acetylen, Methylacetylen, Diacetylen, Butadien, 1,2- Dimethylacetylen, 1,3-Cyclohexadien, Cyclopentadien und 1,4- Cyclohexadien; Norbornadien, eta&sup5;-Cyclohexadienyl, eta&sup6;-Cycloheptatrien, eta&sup8;-Cyclooctatetraen und substituierte und nichtsubstituierte carbocyclische und heterocyclische aromatischen Liganden mit bis zu 25 Ringen und bis zu 100 Kohlenstoffatomen und bis zu 10 Heteroatomen, ausgewählt aus Stickstoff, Schwefel, nichtperoxidischem Sauerstoff, Phosphor, Arsen, Selen, Bor, Antimon, Tellur, Silicium, Germanium und Zinn, wie beispielsweise eta&sup5;-Cyclopentadienyl, eta&sup6;-Benzol, eta&sup6;-Mesitylen, eta&sup6;- Hexametylbenzol, eta&sup6;-Fluoren, eta&sup6;-Naphthalin, eta&sup6;-Anthracen, eta&sup6;-Chrysen, eta&sup6;-Pyren, eta&sup7;-Cycloheptatrienyl, eta&sup6;-Triphenylmethan, eta&sup5;-Pyrrol, eta&sup5;-Thiophen, eta&sup5;-Furan, eta&sup6;- Pyridin, eta&sup6;-gamma-Picolin, eta&sup6;-Chinaldin, eta&sup6;-Benzopyran, eta&sup6;-Thiochrom, eta&sup6;-Benzoxazin, eta&sup6;-Indol, eta&sup6;- Acridin, eta&sup6;-Carbazol, eta&sup6;(1,2,3,4,4a,12a)-eta&sup6;-(7,8,9,10,10a,10b)- Chrysen, eta&sup6;-Triphenylen, eta&sup6;,eta&sup6;'-Paracyclophan, eta&sup6;,eta&sup6;'-1,4- Diphenylbutan, eta&sup6;-Silabenzol, eta&sup6;-Arsabenzol, eta&sup6;-Stibabenzol, eta&sup6;-2,4,6-Triphenylphosphabenzol, eta&sup5;-Selenophene, eta&sup6;- Dibenzostannepin, eta&sup5;-Tellurophen, eta&sup6;-Phenothiarsin, eta&sup6;-Selenanthren, eta&sup6;-Phenoxaphosphin, eta&sup6;-Phenarsazin, eta&sup6;-Phenatellurazin und eta&sup6;-1-Phenylborabenzol. Weitere geeignete aromatische Verbindungen lassen sich in zahlreichen chemischen Handbüchern nachschlagen.
- Jeder der Liganden L³ kann durch Gruppen substituiert werden, die das Komplexieren des Liganden mit dem Metallatom nicht stören oder die Löslichkeit des Liganden nicht bis zu dem Umfange herabsetzen, daß das Komplexieren mit dem Metallatom nicht stattfinden kann. Beispiele für substituierende Gräippen, die vorzugsweise alle weniger als 30 Kohlenstoffatome und Null bis 10 Heteroatome aufweisen, werden ausgewählt aus: Stickstoff, Schwefel, nichtperoxidischen Sauerstoff, Phosphor, Arsen, Selen, Antimon, Tellur, Silicium, Germanium, Zinn und Bor, einschließend Hydrocarbyl-Gruppen, wie beispielsweise Methyl, Ethyl, Butyl, Dodecyl, Tetracosanyl, Phenyl, Benzyl, Allyl, Benzyliden, Vinyl und Acetylenyl; Hydrocarbyloxy-Gruppen, wie beispielsweise Methoxy, Butoxy und Phenoxy; Hydrocarbylmercapto- Gruppen, wie beispielsweise Methylmercapto (Thiomethoxy), Phenylmercapto (Thiophenpxy); Hydrocarbyloxycarbonyl, wie beispielsweise Methoxycarbonyl und Phenoxycarbonyl; Hydrocarbylcarbonyl, wie beispielsweise Formyl, Acetyl und Benzoyl; Hydrocarbylcarbonyloxy, wie beispielsweise Acetoxy, Benzoxy und Cyclohexancarbonyloxy; Hydrocarbylcarbonamido, z.B. Acetamido, Benzamido; Azo, Boryl; Halogeno, z.B. Chloro, Iodo, Bromo und Fluoro; Hydroxy; Cyano; Nitro; Nitroso; Oxo; Dimethylamino; Diphenylphosphino; Diphenylstibin; Trimethylgerman; Tributylzinn; Methylseleno; Ethyltelluro; sowie Trimethylsiloxy; kondensierte Ringe, wie beispielsweise Benzo, Cyclopenta, Naphtho und Indeno.
- Der Ligand L&sup4; wird von einzähnigen und mehrzähnigen Verbindungen gestellt, die vorzugsweise bis zu 30 Kohlenstoffatome und Null bis 10 Heteroatome enthalten, ausgewählt aus Stickstoff, Schwefel, nichtperoxidischem Sauerstoff, Phosphor, Selen, Antimon und Tellur. Beispiele für geeignete einzähnige Verbindungen oder Gruppen sind Kohlenmonoxid, Schwefelkohlenstoff, Kohlenstoffselenid, Kohlenstofftellurid, Alkohole, wie beispielsweise Ethanol, Butanol und Phenol; Nitrosonium (d.h. NO&spplus;); Verbindungen der Elemente der Gruppe VA, wie beispielsweise Triphenylamin, Triphenylphosphin, Triphenylarsin, Triphenylstibin, Isonitrile, wie beispielsweise Phenylisonitril; geeignete mehrzähnige Verbindungen oder Gruppen schließen ein: 1,2-Bis(diphenylphosphino)ethan, 1,2-Bis(diphenylarsino)ethan, Bis(diphenylphosphino)methan, Ethylendiamin, Propylendiamin, Diethylentriamin, 1,3-Diisocyanopropan und Hydridotripyrazolylborat; die Hydrocarbonsäuren, wie beispielsweise Glykolsäure, Milchsäure, Salicylsäure; mehrwertige Phenole, wie beispielsweise Catechol und 2,2'-Dihydroxybiphenyl; Hydroxyamine, wie beispielsweise Ethanolamin, Propanolamin und 2-Aminophenol; Dithiocarbamate, wie beispielsweise Diethyldithiocarbamat, Dibenzyldithiocarbamat; Xanthate, wie beispielsweise Bis(perfluormethyl)-1,2- dithiolen; Amionocarbonsäuren, wie beispielsweise Alanin, Glycin und o-Aminobenzoesäure; Dicarbonsäurediamide, wie beispielsweise Oxalamid, Biuret; Diketone, wie beispielsweise 2,4-Pentandion; Hydroxyketone, wie beispielsweise 2- Hydroxyacetophenon; alpha-Hydroxyoxime, wie beispielsweise Salicylaldoxim; Ketoxime, wie beispielsweise Benziloxim; sowie Glyoxime, wie beispielsweise Dimethylglyoxim. Weitere geeignete Gruppen sind die anorganischen Gruppen, wie beispielsweise CN&supmin;, SCN&supmin;, F&supmin;, OH&supmin;, Cl&supmin;, Br&supmin;, I&supmin; und H&supmin; und die organischen Gruppen, wie beispielsweise Acetoxy, Formyloxy, Benzoyloxy.
- M kann jedes Element aus den Gruppen des Periodensystems IVB, VB, VIB, VIIB und VIII sein, wie beispielsweise Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Tc, Re, Fe, Ru, Os, Co, Rh, Ir, Ni, Pd und Pt.
- Geeignete Anionen X in den Formeln I und II zur Verwendung als das Gegenion in den ionischen Salzen des metallorganischen Komplex-Kations in den bevorzugten erfindungsgemäßen, strahlungsvernetzbaren Zusammensetzungen sind solche, bei denen X die Formel DZr aufweist, worin D ein Metall der Gruppen IB bis VIII oder ein Metall oder "Metalloid" der Gruppen IIIA bis VA des Periodensystems sind, Z ist ein Halogenatom oder eine Hydroxy-Gruppe und r eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 6. Vorzugsweise sind die Metalle Kupfer, Zink, Titan, Vanadium, Chrom, Mangan, Eisen, Kobalt oder Nickel und die "Metalloide" vorzugsweise Bor, Aluminium, Antimon, Zinn, Arsen und Phosphor. Vorzugsweise ist das Halogen Z der Formel II Chlor oder Fluor. Veranschaulichend für geeignete Anionen sind BF&sub4;&supmin;, PF&sub4;&supmin;, AsF&sub6;&supmin;, SbF&sub6;&supmin;, FeCl&sub4;&supmin;, SnCl&sub3;&supmin;, SbF&sub5;&supmin;, AlF&sub6;&supmin;, GaCl&sub4;&supmin;, InF&sub4;&supmin;, TiF&sub6;&supmin;, ZrF&sub6;&supmin;, usw. Vorzugsweise sind die Anionen BF&sub4;&supmin;, PF&sub6;&supmin;, SbF&sub6;&supmin;, SbF&sub5;OH&supmin;, AsF&sub6;&supmin; und SbCl&sub6;&supmin;.
- Zusätzliche geeignete Anionen X in den Formel I und II zur Verwendung als Gegenion in den ionischen Salzen der metallorganischen Komplex-Kationen umfassen solche, bei denen X ein organisches Sulfonat ist. Veranschaulichend für geeignete, Sulfonat-enthaltende Anionen sind CH&sub3;SO&sub3;&supmin;, CF&sub3;SO&sub3;&supmin;, C&sub6;H&sub3;SO&sub3;&supmin;, p-Toluolsulfonat, p-Chlorbenzolsulfonat und verwandte Isomere.
- Hinsichtlich der Summe der von den Liganden L¹, L², L³ und L&sup4; der Formel I und L&sup5; und L&sup6; der Formel II abgegebenen Elektronen und der Valenz-Elektronen, die das Metall besitzt, gibt es Einschränkungen. Bei den meisten komplexen Verbindungen, die keine intramolekulare Metall-Metall-Bindung enthalten, wird diese Summe von der "18-Elektronen- Regel" bestimmt (siehe J. Chem., 46, 811 (1969)). Diese Regel wird gelegentlich bezeichnet als die "9-Orbital-Regel", "die Regel der effektiven Zahl" oder die "Edelgas-Regel". Diese Regel besagt, daß die stabilsten metallorganischen Verbindungen im allgemeinen diejenigen Verbindungen sind, bei denen die Summe von den Liganden und dem Metall abgegebenen Elektronen 18 beträgt. Dem Fachmann ist jedoch bekannt, daß es Ausnahmen von dieser Regel gibt und daß es metallorganische Komplexverbindungen mit einer Summe von 16, 17, 19 und 20 Elektronen gibt. Einige dieser Komplexe sind Zwischenstufen. In den Schutzumfang der vorliegenden Erfindung werden daher ionische Salze der metallorganischen Komplex-Kationen einbezogen, die keine intramolekuläre Metall-Metall-Bindung enthalten, wie sie in den Formeln I und II beschrieben wurden, in denen das komplexgebundene Metall über eine Summe von 16, 17, 18, 19 oder 20 Elektronen in der Valenzschale und über eine positive Netto-Restladung von 1 oder 2 verfügt.
- Bei Komplexverbindungen, die in der Formel I beschrieben wurden und in denen es eine intramolekuläre Metall- Metall-Bindung gibt, kann es zu starken Abweichungen von der "18-Elektronen-Regel" kommen. Es wurde vorgeschlagen (J. Amer. Chem. Soc. 100, 5305 (1978)), das die Abweichung von der "18- Elektronen-Regel" bei diesen Übergangsmetall-Komplexen zurückzuführen ist auf Metall-Metall-Wechselwirkungen, die die p-Orbitale des Metalls in einem solchen Maße destabilisieren, daß sie für die Liganden-Bindung nicht mehr verfügbar sind. Anstelle die Elektronen um jedes Metall herum in einem Metall-Cluster separat zu zählen, wurden daher die Cluster-Valenzelektronen (CVE) gezählt. Ein binudearer Komplex, MM, läßt sich mit 34 CVE's betrachten. In den Schutzumfang der vorliegenden Erfindung werden daher ionische Salze von binudearen metallorganischen Komplex- Kationen einbezogen, wie sie durch die Formel I beschrieben werden und bei denen der komplexe Metall-Cluster, MM, eine Summe von 34 CVE's in der Valenzschale und eine positive Netto-Restladung von 1 oder 2 aufweist. Geeignete zweikomponentige Vernetzungsmittel zur Verwendung in den erfindungsgemäßen Zusammensetzungen, einschließend metallorganische, ionische Komplexsalze, wie sie durch die Formeln I oder II beschrieben werden, sowie Onium-Salze, wie durch Formel III beschrieben wurden sind solche Kombinationen von Salzen, die bei Aufbringung einer ausreichenden Energie, und zwar thermisch, beschleunigte Partikel (Elektronenstrahl) oder elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von etwa 200 ... 800 nm, eine aktive Spezies erzeugen, die die Polymerisation der erfindungsgemäßen Zusammensetzungen katalysieren kann. Der Umfang der katalytischen Aktivität hängt selbstverständlich von der Wahl des Metall, der Liganden und der Gegenionen in dem metallorganischen Salz und den speziellen Onium-Salz ab.
- Beispiele für geeignete Salze von metallorganischen Komplex-Kationen, die in erfindungsgemäßen Zusammensetzungen verwendbar sind, umfassen die folgenden (die vorgeschlagenen Strukturen von typischen Verbindungen sind am Ende der Liste dargestellt):
- (eta&sup5;-Cyclopentadienyl)tricarbonyleisen(1+)-hexafluorphosphat(a) ;
- (eta&sup5;-Cyclopentadienyl)dicarbonylthiocarbonyleisen(1+)-tetrafluoroborat;
- (eta&sup5;-Cyclopentadienyl)carbonylbis-(triphenylstibin)eisen(1+ )-hexafluorophosphat;
- (eta&sup5;-Cyclopentadienyl)tricarbonylruthenium(1+)-tetrachloroferrat;
- (eta&sup5;-Cyclopentadienyl)dicarbonyltriphenylstibineisen(1+)- hexafluoroantimonat;
- (eta&sup5;-Methylcyclopentadienyl)dicarbonylnitrosylmangan(1+)- hexafluoroantimonat(b) ;
- (eta&sup5;-Methylcyclopentadienyl((eta³-allyl)dicarbonylmangan(1+)- tetrafluoroborat(c) ;
- (eta&sup5;-Cyclopentadienyl)tetracarbonylmolybdän(1+)-hexafluorophosphat;
- (eta&sup5;-Pentadienyl)tricarbonyleisen(1+)-tetrafluoroborat;
- (eta&sup5;-Cyclohexadienyl)tricarbonyleisen(1+)-hexafluoroarsenat(d) ;
- (eta&sup5;-cyclohexadienyl)(ethyliden)carbonyltriphenylphosphineisen(1+)-tetrafluoroborat;
- (eta&sup5;-Cyclopentadienyl)(ethoxymethylcarben)carbonyl-tripehylphosphineisen(1+)-tetrafluoroborat;
- (eta&sup5;-Cyclopentadienyl)(dithiomethoxycarbol)dicarbonyleisen(1+)-hexafluorophosphat;
- (eta&sup5;-Cyclopentadienyl)dicarbonylmethylisonitrileisen(1+)- hexafluoroarsenat;
- (eta&sup6;-Toluol)tricarbonylmangan(1+)-hexafluoroantimonat(e);
- (eta&sup6;-Mesitylen)tricarbonylrhenium(1+)-hexafluoroantimonat;
- (eta&sup7;-Cycloheptatrienyl))tricarbonylchrom(1+)-hexafluorophosphat;
- (eta&sup7;-Cycloheptatrienyl(tricarbonylwolfram(1+)-hexafluoroarsenat(f);
- (eta&sup5;-Cyclopentadienyl)(eta²-1-penten)dicarbonyleisen(1+ )-tetrafluoroborat;
- (eta&sup6;-Benzol)(eta&sup5;-cyclopentadienyl)eisen(1+)-hexafluorophosphat;
- (eta&sup6;-Mesitylen)(eta&sup5;-cyclopentadienyl)eisen(1+)-tetrafluoroborat;
- (eta&sup6;-Naphthalen)(eta&sup5;-cyclopentadienyl(eisen(1+)-hexafluoroantimonat;
- (eta&sup6;-Acetophenon)(eta&sup5;-methylcyclopentadienyl)eisen(1+)hexafluoroar-
- senat;
- Bis(eta&sup5;-cyclopentadienyl)kobalt(1+)-hexafluorophosphat;
- Bis(eta&sup5;-cyclopentadienyl)eisen(1+)-hexafluoroantimonat;
- Bis(eta&sup5;-chlorcyclopentadienyl)nickel(1+)-hexafluorophosphat;
- Bis(eta&sup6;-Benzol)chrom(1+)-hexafluoroantimonat(g);
- Bis(eta&sup6;-hexamethylbenzol)kobalt(2+)-hexafluoroarsenat;
- Bis(eta&sup6;-hexamethylbenzol)nickel(2+)-hexafluoroantimoant;
- Tetracarbonyltriphenylphosphinkobald(1+)-hexafluorophosphat;
- Tricarbonylbis(triphenylphosphin)iridium(1+)-hexafluorophosphat;
- (eta³-Allyl)pentacarbonylchrom(1+)-tetrafluoroborat;
- Pentacarbonylnitrosylmolybdän(1+)-hexafluorophosphat;
- (eta³-Allyl)tetracarbonyleisen(1+)-hexafluoroantimonat;
- Hexacarbonylrhenium(1+)-hexafluoroantimoant;
- Bis(eta&sup6;-mesitylen)eisen(2+)-hexafluoroantimonat(h);
- Bis(eta&sup6;-hexamethylbenzol)mangan(1+)-tetrafluoroborat;
- Bis(eta&sup6;-mesitylen)vanadium(1+)-hexafluorophosphat;
- (eta&sup7;-Cycloheptatrienyl)(eta&sup5;-Cyclopentadienyl)mangen(1+)- hexafluoroarsenat;
- (eta&sup8;-Cyclooctatetraenyl)(eta&sup5;-cyclopentadienyl)chrom(1+)- hexafluorophosphat;
- (eta&sup6;-Fluoren)(eta&sup5;-cyclopentadienyl)eisen(1+)-hexafluorophosphat(i);
- (eta&sup6;-1-Phenylborabenzol)(eta&sup5;-cyclopentadienyl)kobalt(1+)- hexafluorophosphat;
- (eta&sup5;-Cyclopentadienyl)(eta&sup5;-N-methylpyrrolyl)eisen(1+)- hexafluorophosphat;
- (eta&sup6;-2,3,4,5-Tetrathiomethoxybenzuol)(eta&sup5;-cyclopentadienyl)eisen(1+)-hexafluoroarsenat;
- [(eta&sup6;-1,2,3,4,5,6)(eta&sup6;-7,8,9,10,11,12)Biphenyl]-bis(eta&sup5;- cyclopentadienayl)-dieisen(2+)-tetrafluoroborat;
- [(eta&sup6;-1,2,3,4,4a,9a) (eta&sup6;-5,6,7,8,8a,5a)Fluoren]-bis(eta&sup5;- cyclopentadienyl)dieisen(2+)-hexafluorophosphat;
- [(eta&sup6;-1,2,3,4,4a,12a)(eta&sup6;-7,8,9,10,10a,6a)Chrysol]- bis(eta&sup6;-benzol)dichrom(2+)-hexafluoroantimonat;
- Dicarbonyl[bis(diphenylphosphino)ethan]bis(eta&sup5;- cyclopentadienyl)dieisen(1+)-hexafluorophosphat;
- [(eta&sup6;-4,5,5a,28c,28b,3a)(eta&sup6;-8a,8b,20d,22a,22b,24c)- 1H,14H-Dipyrano)3,4,5-gh: 3',4',5'-g'h')anthra(2",1",9": 4,5,6;6",5",10":4',5',6')diisochino(2,1-a:2',1'-a¹)- diperimidin]bis(eta&sup5;-cyclopentadienyl)dieisen(2+)- hexafluoroantimonat;
- [(eta&sup6;-1,2,3,3a,13b,13a)Benzo(10,11)chryseno(2,3-d)(1,3)-dioxol](eta&sup5;- methylcyclopentadienyl)eisen(1+)-hexafluorophosphat;
- [(eta&sup6;-1,2,3,3a,16c,16b)-(eta&sup6;-9,10,11,11a,13c,8b)Cycloocta(1,2,3,4,- def: 5,6,7,8-d'e'f')diphenanthren]bis-(eta&sup5;-acetylcyclopentadienyl)dieisen(2+)-tetrafluoroborat;
- Bis(eta&sup5;-acetylcyclopentadienyl)eisen(1+)-tetrafluoroborat;
- (eta&sub3;-1-Methylallyl)tetracarbonyleisen(+1)-hexafluorophosphat;
- (eta³-1,3-Dimethylallyl)tetracarbonyleisen(+1)-hexafluoroantimoant;
- Metallorganische Salze sind auf dem Gebiet bekannt und können entsprechend der Offenbarung beispielsweise der EP-A- 109 851, 094 914, 094 915 und 126 712 dargestellt werden. Zusätzlich zu den Verbindungen der Formeln I und II sind alle in diesen Literaturstellen offenbarten metallorganischen Salze in der vorliegenden Erfindung verwendbar.
- Das zweikomponentige Vernetzungsmittel kann in einer wirksamen Menge vorliegen, die in der Regel im Bereich von 0,01 % ... 20 Gewichtsprozent und vorzugsweise 0,1 % ... 10 Gewichtsprozent der Gesamtzusammensetzung liegt. Das Gewichtsverhältnis von metallorganischem Salz zu Onium-Salz liegt im Bereich von 10:1 ... 1:10 und vorzugsweise 5:1 ... 1:5.
- Die vorliegende Erfindung gewährt ebenfalls ein Verfahren für die Polymerisation von einem der ethylenisch ungesättigten Monomere in Kombination mit Polyurethan- Präkursoren oder Polyurethan-Präkursoren allein, umfassend die Schritte:
- (a) Bereitstellen von mindestens einem der ethylenisch ungesättigten Monomere in Kombination mit Polyurethan- Präkursoren oder Polyurethan-Präkursoren;
- (b) Zusetzen einer katalytisch wirksamen Menge eines Vernetzungsmittels zu der Verbindung oder den Verbindungen, welches Vernetzungsmittel ein metallorganisches Salz und ein Onium-Salz umfaßt (sowie alle Permutationen der Reihenfolge des Mischens der vorgenannten Komponenten), wodurch eine polymerisierbare Mischung erzeugt wird; sowie
- (c) die Mischung polymerisieren lassen oder der Mischung zum Herbeiführen der Polymerisation Energie zuführen.
- In einem weiteren Aspekt wird ebenfalls ein Verfahren zum Herstellen beschichteter Artikel gewährt, welche Artikel die vernetzte Zusammensetzung der Erfindung enthalten, umfassend die Schritte:
- (a) Bereitstellen eines Substrats;
- (b) Auftragen einer energiepolymerisierbaren Mischung entsprechend der vorstehenden Beschreibung auf mindestens eine Oberfläche des Substrats nach Verfahren bekannter Ausführung, wie beispielsweise Stabauftrag, Rakelauftrag, Umkehrwalzenauftrag, Rändelwalzenauftrag, Vorhangbeschichten oder Schleuderbeschichten, oder durch Tauchen, Spritzen, Aufstreichen u.dgl., mit oder ohne ein Beschichtungslösemittel; sowie
- (c) Aufbringen von Energie (nach dem Abdampfen des eventuell vorhandenen Lösemittels) und, sofern angestrebt, auf den Artikel, um die Polymerisation der Beschichtung zu bewirken.
- In noch einem weiteren Aspekt werden ebenfalls geformte Artikel gewährt, welche die polymerisierbaren Mischungen aufweisen. Die Artikel können beispielsweise nach Methoden geschaffen werden wie Formpressen, Spritzgießen, Gießen und Extrusion. Die Aufbringung von Energie auf die Mischung bewirkt die Polymerisation und schafft den gehärteten, geformten Artikel.
- Zum Solubilisieren der Komponenten und Unterstützung der Verarbeitung kann der Zusatz eines Lösemittels angestrebt werden. Es können Lösemittel verwendet werden, vorzugsweise organische Lösemittel, in einer Menge bis zu 99 Gewichtsprozent, vorzugsweise jedoch im Bereich von 0 % ... 90 Gewichtsprozent und am meisten bevorzugt im Bereich von 0 % ... 75 Gewichtsprozent der polymerisierbaren Zusammensetzung.
- Unter Verwendung des erfindungsgemäßen Vernetzungsmittels läßt sich eine große Vielzahl von Monomeren durch Energie polymerisieren. Geeignete Verbindungen, die mindestens eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung enthalten, können Monomere oder Oligomere sein, wie beispielsweise (Meth)acrylate, (Meth)arylamide und Vinyl-Verbindungen, wobei diese eine radikalische Polymerisation eingehen können. Derartige Monomere schließen ein: Mono-, Di- oder Polyacrylate und -methacrylate, wie beispielsweise Methylacrylat, Methylmethacrylat, Ethylacrylat, Isopropylmethacrylat, Isooctylacrylat, Acrylsäure, n-Hexylacrylat, Stearylacrylat, Allylacrylat, Glyceroldiacrylat, Glyceroltriacrylat, Ethylenglykoldiacrylat, Diethylenglykoldiacrylat, Triethylenglykoldimethacrylat, 1,3-Propandioldieacrylat, 1,3-Propandioldimethacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, 1,2,4-Butantrioltrimethylacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat, Pentaerythrittetramethacrylat, Sorbitolhexacrylat, Bis[1-(2-acryloxy)]-p-ethoxyphenyldimethyl methan, Bis[1-(3-acryloxy-2-hydroxy)]-p-propoxyphenyldimethylmethan, Tris-hydroxyethylisocyanurattrimethacrylat; die Bisacrylate und Bis-methacrylate von Polyethylenglykolen einer relativen Molekülmasse von 200 ... 500, copolymerisierbare Mischungen von acrylierten Monomeren, wie beispielsweise solche der US-P-4 652 274 und acrylierte Oligomere, wie beispielsweise die der US-P-4 642 126; bireaktive Monomere, wie beispielsweise Epoxy(meth)acrylate, Isocyanat(meth)acrylate und Hydroxy(meth)acrylate, wobei bevorzugte Beispiele einschließen: Hydroxyethyl(meth)acrylat, Hydroxypropyl(meth)acrylat, Isocyanatethyl(meth)acrylat, Glycidyl(meth)acrylat und m-Isopropenyl-alpha,alpha-dimethylbenzylsiocyanat; ungesättigte Amide, wie beispielsweise Acrylamid, Methylen-bis- acrylamid, Methylen-bis-methacrylamid, 1,6-Hexamethylen-bis- acrylamid, Diethylentriamin-tris-acrylamid und beta-Methacrylaminoethylmethacrylat; sowie Vinyl-Verbindungen, wie beispielsweise Styrol, Divinylbenzoldiallylphthalat, Divinylsuccinat, Divinyladipat, Divinylphthalat und Vinylazlactone entsprechend der Offenbarung in der US-P-4 304 705. Mischungen von zwei oder mehreren Monomeren können, sofern angestrebt, verwendet werden. Bireaktive Monomere sind besonders verwendbar beim Vernetzen von zwei verschiedenen polymerisierbaren Spezies.
- Die Polyisocyanat-Komponente der Polyurethan-Präkursoren, die in der vorliegenden Erfindung vernetzt oder polymerisiert werden können, können jedes beliebige aliphatische, cycloaliphatische, araliphatische, aromatische oder heterocyclische Polyisocyanat oder jede beliebige Kombination solcher Polyisocyanate sein. Besonders geeignete Polyisocyanate entsprechen der Formel
- Q(HCO)P IV
- worin p eine ganze Zahl von 2 bis 4 und Q eine aliphatisches Kohlenwasserstoff-Biradikal, -Triradikal oder -Tetraradikal mit einem Gehalt von 2 bis 100 Kohlenstoffatomen und Null bis 50 Heteroatomen, ein cycloaliphatisches Kohlenwasserstoff-Radikal mit 4 bis 100 Kohlenstoffatomen und Null bis 50 Heteroatomen, ein aromatisches Kohlenwasserstoff-Radikal oder heterocyclisches aromatisches Radikal mit 5 bis 15 Kohlenstoffatomen und Null bis 10 Heteroatomen oder ein araliphatisches Kohlenwasserstoff-Radikal mit 8 bis 100 Kohlenstoffatomen und Null bis 50 Heteroatomen sind. Die Heteroatome, die in Q vorliegen können, schließen nichtperoxidischen Sauerstoff, Schwefel, nicht in einem Amin enthaltenen Stickstoff, Halogen, Silicium und nicht in einem Phosphin enthaltenen Phosphor ein.
- Beispiele für Polyisocyanate sind die folgenden: Ethylendiisocyanat, 1,4-Tetramethylendiisocyanat, 1,6-Hexamethylendiisocyanat, Trimethylhexamethylendiisocyanat, 1,12- Dodecandiisocyanat, Cyclobutan-1,3-diisocyanat, Cyclohexan 1,3- und -1,4-diisocyanat und Mischungen dieser Isomere; 1- Isocyanato-3,3,5-trimethyl-5-isocyanatomethylcyclohexan (siehe die DE-A-1 202 785, die US-P-3 401 190), 2,4- und 2,6-Hexahydrotolylendiisocyanat und Mischungen dieser Isomere, Hexahydro-1,3- und/oder -1,4-phenylendiisocyanat, Perhydro-2,4'- und/oder -4,4'-diphenylmethandiisocyanat, 1,3- und 1,4- Phenylendiisocyanat, 2,4- und 2,6-Tolylendiisocyanat und Mischungen dieser Isomere, Diphenylmethan-2,4'- und/oder-4,4'-diisocyanat, Naphthylen-1,5-diisocyanat und die Reaktionsprodukte von vier Äquivalenten der vorgenannten Isocyanatenthaltenen Verbindungen mit Verbindungen, die zwei mit Isocyanat reaktionsfähige Gruppen enthalten.
- Nach der vorliegenden Erfindung ist es beispielsweise auch möglich, die folgenden zu verwenden: Triphenylmethan-4,4',4"-triisocyanat, Polyphenylpolymethylenpolyisocyanate entsprechend der Beschreibung. der GB-P-874 430 und 848 671, m- und p-Isocyanatophenylsulfonylisocyanate nach der US-P-3 454 606, perchlorierte Arylpolyisocyanate des beispielsweise in der DE-A-1 157 601 (US-P-3 277 138) beschriebenen Typs, Polyisocyanate, die Carbodiimid-Gruppen des in den US-P-3 152 162 und der DE-A-2 504 400, 2 537 685 und 2 552 350 beschriebenen Typs, Norbornandiisocyanate entsprechend der US-P-3 492 330, Polyisocyanate, die Allophanat-Gruppen des beispielsweise in der GB-P-994 890 und BE-P-761 626 und in der NL-A-7 102 524 beschriebenen Typs enthalten, Polyisocyanate, die Isocyanurat-Gruppen des beispielsweise in der US-P-3 001 973 und den DE-P-1 022 789, 1 222 067 und 1 027 394 und der DE-A-1 929 034 und 2 004 048 beschriebenen Typs enthalten, Polyisocyanate mit Urethan-Gruppen des beispielsweise in der BE-P-752 261 oder in den US-P-3 394 164 und 3 644 457 beschriebenen Typs, Polyisocyanate mit acrylierten Carbamid-Gruppen nach der DE-P-1 230 778, Polyisocyanate mit Biuret-Gruppen des beispielsweise in den US-P-3 124 605, 3 201 372 und 3 124 605 und in der GB-P-889 050 beschriebenen Typs, Polyisocyanate, die hergestellt werden durch Telomerisationsreaktionen des beispielsweise in der US-P-3 654 106 beschriebenen Typs, Polyisocyanate mit Ester-Gruppen des beispielsweise in der GB-P-965 474 und 1 072 956 und in der US-P- 3 567 763 und der DE-P-1 231 688 beschriebenen Typs, Reaktionsprodukte der vorgenannten Diisocyanate mit Acetalen entsprechend der DE-P-1 072 385 sowie Polyisocyanate mit polymeren Fettsäureestern entsprechend der US-P-3 455 883.
- Es ist ebenfalls möglich, Destillationsrückstände zu verwenden, die Isocyanat-Gruppen aufweisen und bei der kommerziellen Produktion von Isocyanaten erhalten wurden, wahlweise in Lösung in einem oder mehreren der vorgenannten Polyisocyanate. Es ist ebenfalls möglich, beliebige Mischungen der vorgenannten Polyisocyanate zu verwenden.
- Bevorzugte Polyisocyanate sind: Hexamethylendiisocyanat, dessen Isocyanurat und dessen Biuret; 4,4'-Methylen-bis- (cyclohexylisocyanat); 1-Isocyanat-3,3,5-trimethyl-5-isocyanatomethylcyclohexan(isophorondiisocyanat); die Tolylendiisocyanate und deren Isocyanurate; das gemischte Isocyanurat von Tolylendiisocyanat und Hexamethylendiisocyanat; das Reaktionsprodukt von 1 Mol Trimethylolpropan und 3 Molen Tolylendiisocyanat und auch rohes Diphenylmethandiisocyanat.
- Ebenfalls verwendbar sind geblockte Polyisocyanate, die auf dem Gebiet bekannt und kommerziell verfügbar sind, wobei die blockierende Gruppe beispielsweise Phenol, epsilon-Caprolactam, Hydroxaminsäureester, Ketoxim, tert-Butylacetoacetat und andere sein können, die in Z.W. Wicks, Jr., "Progress in Organic Coatings", Bd. 9, S. 3...28 (1981) beschrieben wurden.
- Geeignete Verbindungen, die mindestens 2 mit Isocyanat reaktionsfähige Wasserstoffatome enthalten, können hochmolekulare oder niedermolekulare Verbindungen sein mit einer massegemittelten relativen Molekülmasse in der Regel von 50 ... 50.000. Zusätzlich zu den Verbindungen, die Amino- Gruppen, Thiol-Gruppen oder Carbocyl-Gruppen enthalten, sind vorzugsweise Hydrocyl-Gruppen enthaltende Verbindungen, speziell Verbindungen, die 2 ... 50 Hydroxyl-Gruppen enthalten und vor allem Verbindungen mit einer massegemittelten relativen Molekülmasse von 500 ... 25.000, vorzugsweise 700 ... 2.000, beispielsweise Polyester, Polyether, Polythioether, Polyacetale, Polycarbonate, Poly(meth)acrylate und Polyesteramide, die mindestens 2 und in der Regel etwa 2 ... 8, vorzugsweise jedoch 2 ... 4 Hydroxyl-Gruppen enthalten, oder sogar Hydroxyl-Gruppen enthaltende Präpolymere dieser Verbindungen sowie weniger als die Äquivalente Menge von Polyisocyanat des bekannten Typs der Herstellung von Polyurethanen.
- Repräsentative Beispiele der vorgenannten Verbindungen zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung wurden beispielsweise beschrieben in High Polymers", Bd. XVI, "Polyurethanes, Chemistry and Technology", von Saunders und Frisch, Interscience Publishers, New York/Londeon; sowie Bd. 1, 1962, Seiten 32...42 und Seiten 44 ... 54 sowie Bd. II, 1964, Seiten 5...6 und 198...199; sowie in "Kunststoff-Handbuch", Bd. VII, Vieweg-Höchtlen, Carl-Hanser-Verlag, München, 1966, beispielsweise auf den Seiten 45...71. Selbstverständlich ist die Verwendung von Mischungen der vorgenannten Verbindungen möglich, die mindestens zwei mit Isocyanat reaktionsfähige Wasserstoffatome enthalten und eine relative Molekülmasse von 50 ... 50.000 aufweisen, beispielsweise Mischungen von Polyethern und Polyestern.
- In einigen Fällen ist es besonders vorteilhaft, niedrig schmelzende und hochschmelzende Polyhydroxyl enthaltende Verbindungen miteinander zu vereinigen (DE-A-2 706 297).
- Niedermolekulare Verbindungen, die mindestens zwei mit Isocyanat reaktionsfähige Wasserstoffatome enthalten (relative Molekülmasse von 50 bis 400) und für die Verwendung entsprechend der vorliegenden Erfindung geeignet sind, sind Verbindungen, die vorzugsweise Hydroxyl-Gruppen und im allgemeinen 2 ... 8 und vorzugsweise 2 ... 4 mit Isocyanat reaktionsfähige Wasserstoffatome enthalten. Es ist ebenfalls möglich, Mischungen verschiedener Verbindungen zu verwenden, die mindestens zwei mit Isocyanat reaktionsfähige Wasserstoffatome enthalten und eine relative Molekülmasse im Bereich von 50 ... 400 haben. Beispiele für derartige Verbindungen sind: Ethylenglykol, 1,2- und 1,3-Propylenglykol, 1,4- und 2,3- Butylenglykol, 1,5-Pentandiol, 1,6-Hexandiol, 1,8-Octandiol, Neopentylglykol, 1,4-Bis-hydroxymethylcyclohexan, 2-Methyl- 1,3-propandiol, Dibrombutendiol (US-P-3 723 392), Gylcerin, Trimethylolpropan, 1,2,6-Hexantriol, Trimethylolethan, Pentaerytrit, Chinitol, Manitiol, Sorbitol, Diethylenglykol, Triethylenglykol, Tetraethylenglykol, höhere Polyethylenglykole, Dipropylenglykol, höhere Polypropylenglykole, Dibutylenglykol, höhere Polybutylenglykole, 4,4'-Dihydroxydiphenylpropan und Dihydroxymethylhydrochinon.
- Andere für die Aufgaben der vorliegenden Erfindung geeignete Polyole sind die Mischungen von Hydroxyaldehyden und Hydroxyketonen ("Formose") oder die mehrwertigen Alkohole, die daraus durch Reduktion ("Formitol") erhalten werden, die in der Autokondensation des Formaldehydhydrats in Gegenwart von Metallverbindungen als Katalysatoren erzeugt werden, und Verbindungen, die zur Endiol-Bildung als Co-Katalysatoren in der Lage sind (DE-A-2 639 084, 2 714 084, 2 714 104, 2 721 186, 2 738 154 und 2 738 512). Lösungen von Produkten der Polyisocyanat-Polyaddition, speziell Lösungen von Polyurethan-Harnstoffen, die ionische Gruppen enthalten, und/oder Lösungen von Polyhydrazodicarbonamiden in niedermolekularen mehrwertigen Alkoholen können ebenfalls als die Polyol-Komponente entsprechend der vorliegenden Erfindung verwendet werden (DE-A-2 638 759).
- In der vorliegenden Erfindung sind zahlreiche andere Verbindungen verwendbar, die mit Isocyanat reaktionsfähige Wasserstoffatome und Polyisocyanate enthalten und die dem Fachmann auf dem Gebiet des Polyurethans vertraut sind.
- Wo in Verbindung mit einem Polyurethan-Präkursor ethylenisch ungesättigte Verbindungen verwendet werden, können die polymerisierbaren Komponenten in jedem beliebigen Verhältnis vorliegen, vorzugsweise mit 0,1:99,9 ... 99,9:0,1, mehr bevorzugt 1:99 ... 99:1 und am meisten bevorzugt 2:98 ... 98:2 Gewichtsteilen.
- In der Regel läßt sich für die Mehrzahl der energievernetzbaren Zusammensetzungen die srahlungsinduzierte Polymerisation von ethylenisch ungesättigten Monomeren in Kombination entweder mit Polyurethan-Präkursoren oder Polyurethan-Präkursoren mit latenten Vernetzungs-Hilf smitteln, die ein metallorganisches Salz und ein Onium-Salz aufweisen, bei Raumtemperatur ausführen, obgleich eine niedrige Temperatur (z.B. -10 ºC) bzw. erhöhte Temperatur (z.B. 30 ºC ... 400 ºC und vorzugsweise 50 ºC ... 300 ºC) zur Dämpfung des exothermen Verlaufs der Polymerisation bzw. zur Beschleunigung der Polymerisation verwendet werden können. Die Polymerisationstemperatur und die Menge des Katalysators werden variieren und von der speziellen verwendeten vernetzbaren Zusammensetzung und der gewünschten Anwendung des polymerisierten oder vernetzten Produktes abhängen. Die Menge des zu verwendenden erfindungsgemäßen Vernetzungsmittels sollte ausreichend sein, um unter den angestrebten Anwendungsbedingungen die Polymerisation der Monomere oder Präkursoren zu bewirken (d.h. eine katalytisch wirksame Menge). Eine derartige Menge wird in der Regel im Bereich von 0,01 % ... 20 Gewichtsprozent und vorzugsweise 0,1 % ... 10,0 Gewichtsprozent bezogen auf die Masse der vernetzbaren Zusammensetzung liegen.
- Zur Unterstützung der Auflösung des Vernetzungsmittels in dem ethylenisch ungesättigten Monomer oder den Polyurthan-Präkursoren, sowie als ein Verarbeitungs-Hilfsmittel, können Lösemittel und vorzugsweise organische Lösemittel eingesetzt werden. Repräsentative Lösemittel schließen ein: Aceton, Methylethylketon, Cyclopentanon, Methylcellosoveacetat, Dichlormethan, Nitromethan, Methalformiat, Acetonitril, gamma-Butyrolacton und 1,2-Dimethoxyethan (Glyme). Bei einigen Anwendungen kann es vorteilhaft sein, die Vernetzungsmittel auf einem inerten Träger zu adsorbieren, wie beispielsweise Silica, Aluminiumoxid und Tone, und zwar entsprechend der Beschreibung in der US-P-4 677 137.
- Bei solchen Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung, die strahlungsvernetzbar sind, kann jede beliebige Strahlungsquelle verwendet werden, einschließend beschleunigte Partikel (z.B. Elektronenstrahlung) und Strahlungsquellen, die aktive Strahlung im ultravioletten und sichtbaren Bereich des Spektrums emittieren (z.B. etwa 200 ... 800 nm). Geeignete Strahlungsquellen umfassen Quecksilberdampf-Entladungs lampen, Kohlelichtbogen, Wolframlampen, Xenonlampen, Laser, Sonnenlicht, usw. Die erforderliche Exponierungsmenge zur Herbeiführung der Polymerisation hängt von Faktoren ab, wie beispielsweise der Identität und den Konzentrationen des metallorgnischen Salzes und des Onium-Salzes, dem speziellen ethylenisch ungesättigten Monomer oder Polyurethan- Präkursoren, der Dicke des exponierten Materials, der Art des Substrats, der Intensität der Strahlungsquelle und der im Zusammenhang mit der Strahlung auftretenden Wärmemenge.
- Wahlweise können im Rahmen des Schutzumfanges der vorliegenden Erfindung photosensibilisiermittel oder Photobeschleuniger in die strahlungsvernetzbaren Zusammensetzungen einbezogen werden. Die Verwendung von Photosensibiliermitteln oder Photobeschleunigern verändert die Wellenlängenempfindlichkeit der strahlungsvernetzbaren Zusammensetzungen bei Einsatz der erfindungsgemäßen latenten Katalysatoren. Dieses ist besonders dann vorteilhaft, wenn der latente Katalysator die einfallende Strahlung nicht stark absorbiert. Die Verwendung eines Photosensibilisiermittels oder Photobeschleunigers erhöht die Strahlungsempfindlichkeit, ermöglicht kürzere Exponierungszeiten und/oder die Verwendung von energieärmeren Strahlungsquellen. Es sind jedes beliebige Photosensibilisiermittel oder jeder beliebige Photobeschleuniger verwendbar, wenn deren Triplett-Energie mindestens 45 kcal pro Mol beträgt. Beispiele für derartige Photosensibilisiermittel sind in Tabelle 2-1 der Literaturstelle von Steven L. Murov, "Handbook of Photochemistry", Marcel Dekker Inc., NY, 27...35 (1973) gegeben und umfassen: Pyren, Fluoranthren, Xanthon, Thioxanthon, Benzophenon, Acetonphenon, Benzil, Benzoin und Ether von Benzoin, Chrysen, p-Terphenyl, Acenaphthen, Naphthalen, Phenantren, Biphenyl, substituierte Derivate der vorgenannten Verbindungen u.dgl. Sofern vorliegend, liegt die Menge des verwendeten Photosensibilisiermittels oder Photobeschleunigers in der Praxis der vorliegenden Erfindung in der Regel im Bereich von 0,01 ... 10 Gewichtsteilen und vorzugsweise 0,1 ... 1,0 Gewichtsteilen Photosensibilisiermittel oder Photobeschleuniger bezogen auf das metallorganische Salz.
- Zum Vernetzen der Zusammensetzungen nach den Lehren der vorliegenden Erfindung kann die thermische Polymerisation unter Anwendung des direkten Erhitzens oder unter Anwendung von IR-Strahlung nach bekannter Ausführung zum Einsatz gelangen.
- Im Rahmen des Schutzumfanges der vorliegenden Erfindung kann eine zweistufige Polymerisation (Curing) einbezogen werden, indem zunächst das Vernetzungsmittel durch Bestrahlen der vernetzbaren Zusammensetzung aktiviert und danach die so erhaltenen aktivierten Präkursoren thermisch vernetzt werden, wobei die Temperatur bei der Bestrahlung unterhalb der Temperatur ist, die für das nachfolgende Warmvernetzen eingesetzt wird. Die aktivierten Präkursoren können normalerweise bei Temperaturen vernetzt werden, die wesentlich niedriger liegen als diejenigen, die für das direkte thermische Vernetzen benötigt werden, was in einigen Fällen einen Vorteil im Bereich von 50 ºC ... 110 ºC bringt. Dieses zweistufige Vernetzen macht es auch möglich, die Polymerisation in einfacher und vorteilhafter Weise zu steuern.
- Zu den erfindungsgemäßen Zusammensetzungen können Adjuvantien zugesetzt werden, wie beispielsweise Lösemittel, Pigmente, Schleifkörner, Stabilisiermittel, Lichtschutzmittel, Antioxidantien, Fließmittel, Mittel zum Erhöhen der Viskosität, Einebnungsmittel, Mattierungsmittel, Farbmittel, inerte Füllstoffe, Bindemittel, Blähmittel, Fungizide, Bakteriozide, Tenside, Weichmacher und andere, dem Fachmann bekannte Additive. Diese können in einer für den vorgesehenen Zweck wirksamen Menge zugesetzt werden.
- Die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen sind verwendbar für: Beschichtungen, Schaumstoffe, geformte Artikel, Klebstoffe, gefüllte oder verstärkte Verbundstoffe, Schleifmittel, Dichtungsmassen und Siegel, Verguß- und Formpressmassen, Massen zum Einbetten und Verkapseln, Massen zum Imprägnieren und Beschichten.
- Die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen können vorzugsweise als eine Flüssigkeit auf ein Substrat aufgetragen werden, wie beispielsweise Stahl, Aluminium, Kupfer, Cadmium, Zink, Keramik, Glas, Papier, Holz oder verschiedene Kunststoff-Folien, wie beispielsweise Poly(ethylenterephthalat), plastifiziertes Poly(vinylchlorid), Poly(propylen), Poly(ethylen) u.dgl. und können bestrahlt werden. Durch Polymerisieren eines Teils der Beschichtung, z.B. mit Hilfe einer Bestrahlung durch eine Maske, lassen sich solche Abschnitte, die nicht exponiert worden waren, mit einem Lösemittel zur Entfernung der nichtpolymerisierten Abschnitte abwaschen, während die photopolymerisierten, unlöslichen Abschnitte zurückbleiben. Auf diese Weise lassen sich die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen zur Herstellung von Artikeln verwenden, die auf dem Gebiet der Graphik verwendbar sind, wie beispielsweise Druckplatten und gedruckte Leiterplatten. Verfahren zum Erzeugen von Druckplatten und gedruckten Leiterplatten durch Photopolymerisieren von Zusammensetzungen sind auf dem Gebiet bekannt (siehe beispielsweise die GB-P-1 495 746).
- Aufgaben und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden anhand der nachfolgenden Beispiele weiter veranschaulicht, wobei jedoch die in diesen Beispielen angegebenen speziellen Materialien und deren Mengen sowie die übrigen Bedingungen und Details nicht als eine unzulässige Beschränkung der vorliegenden Erfindung auszulegen sind. In den Beispielen sind, sofern nicht anders angegeben, alle Angaben auf Gewichtsteile bezogen. Sofern nicht anders angegeben, wurden sämtliche Beispiele in Umgebungsatmosphäre (in Anwesenheit von Sauerstoff und Wasserdampf) ausgeführt.
- Dieses Beispiel demonstriert das gleichzeitige Vernetzen ((Curing)) von ethylenisch ungesättigten und Epoxy-Monomeren in einem vernetzungsfähigen System. Die vernetzbare Zusammensetzung bestand aus Methylacrylat, Cyclohexenoxid und Glycidylacrylat. Sofern das Vernetzen lediglich von Epoxy oder Acrylat eingeleitet wurde, erzeugte dieses System ein lösliches Polymer. Sofern das Vernetzen sowohl von Epoxy als auch Acrylat eingeleitet wurde, wurde ein vernetztes, unlösliches Polymer erzeugt.
- Die Zubereitung der Proben wurde unter gedämpftem Licht (unterhalb des zum Auslösen der Polymerisation erforderlichen Niveaus) ausgeführt. Die polymerisierbare Mischung bestand aus 1,0 g Glycidylacrylat, 5,0 g Methylacrylat und 5,0 g Cyclohexenoxid. In allen Fällen wurden den polymerisierbaren Zusammensetzungen 0,1 g des angestrebten metallorganischen Salzes und 0,1 g Diphenyliodonium-hexafluorophosphat zugesetzt. Es wurde eine Portion von 3 g der Zusammensetzung in ein Glasfläschchen gegeben und zwischen zwei 15 Watt-Lappen (General Elektric-Tageslicht-Leuchtstofflampen) unter Verwendung eines UV- Lampenhalters (Lampenabstand 4 cm) bestrahlt. Die Probe wurde mit Stickstoff für eine Minute vor und dauerhaft während der Photolyse gespült. Die zur Erzeugung eines in Chloroform unlöslichen Polymers erforderliche Bestrahlungsdauer wurde aufgezeichnet und ist in Tabelle I angegeben.
- Diese Zusammensetzungen können wahlweise thermisch oder in einem zweistufigen Verfahren vernetzt werden. Tabelle I:Gleichzeitige Photoinitiierung einer radikalischen und einer Epoxy-Vernetzung in einem vernetzungsfähigen System
- a ... Zeit in Sekunden zum Erzeugen eines unlöslichen vernetzten Systems. Diphenyliodoniumhexafluorophosphat (als Vergleich) lieferte allein unter diesen Bedingungen nach einer Bestrahlung von 20 Minuten kein vernetztes System.
- b ... Zur vollständigen Solubilisierung dieser Verbindung wurden 0,2 g gamma-Butyrolacton zugesetzt.
- Die Daten in Tab. I zeigen, daß die zweikomponentigen Initiatoren wirksame Vernetzungsmittel für radikalische und Epoy-Polymerisation sind.
- Es wurden in der folgenden Weise Versuche zum Vernetzen unter Verwendung von kationischen metallorganischen Salzen und Onium-Salzen als Photoinitiatoren für radiklaisch vernetzte Monomere ausgeführt: Die Exponierungen erfolgten auf einer mit einem großen Aluminiumblech abgedeckten Heizplatte, um die Temperatur konstant zu halten. Die Lichtquelle war eine 275 Watt-Silvania-Bräunungslampe in einer Position 10 cm oberhalb der Probe. Für die radikalische Polymerisation wurde eine Stammlösung aus 0,1 g kationischem metallorganischen Salz und/oder Iodoniumhexafluorophosphat- Salz, 0,2 g gamma-Butyrolacton, 10 g 1,6-Hexandioldiacrylat zubereitet. Die Testproben bestanden aus 1 g Stammlösung und 1 g Pentaerythrittetraacrylat (SR-295 , Sartomer Co., West Chester, PA). Es wurden näherungsweise 0,2 g dieser vernetzbaren Zusammensetzung in einzelne Aluminium-Behälter gegeben, um die Zeit zur Erzeugung einer harten Vernetzung aufzuzeichnen. Die Ergebnisse dieser Versuche sind in Tabelle II zusammengestellt. Tabelle II: Acrylat-Vernetzungszeiten
- a ... bei 80 ºC in Luft IODONIUM war in allen Fällen Diphenyliodonium-hexafluorophosphat
- Es erfolgte im wesentlichen keine Vernetzung, wenn diese Proben in der Dunkelheit für 4 Stunden bei 80 ºC erhitzt wurden.
- Es wurden in der folgenden Weise Versuche zum Vernetzen unter Verwendung von metallorganischen Salzen und Onium- Salzen als Photomitiatoren für Epoxy-Monomere ausgeführt: Die Exponierungen erfolgten auf einer mit einem großen Aluminiumblech abgedeckten Heizplatte, um die Temperatur konstant zu halten. Die Lichtquelle war eine 275 Watt-Silvania-Bräunungslampe in einer Position 10 cm oberhalb der Probe. Für die Epoxy-Vernetzung wurde eine Stammlösung aus 0,1 g metallorganischen Salz und/oder 0,1 g Iodonium-Salz, 0,2 g gamma-Butyrolacton, 10 g einer 1:9-Mischung (Gewicht/Gewicht) von Polyethylenglykol (Molmasse 400) (Carbowax 400,Union Carbide Danbury, CT) und 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexancarboxylat (ERL -4221,Union Carbide Danbury, CT) zubereitet. Es wurden näherungsweise 0,2 g dieser Probe in einzelne Aluminium-Behälter gegeben, um die Vernetzungszeiten auszuwerten. Die Ergebnisse dieser Versuche sind in Tabelle III zusammengestellt. Tabelle III Epoxy-Vernetzungszeiten
- a ... bei 90 ºC in Luft
- b ... bei 80 ºC in Luft
- Es erfolgte im wesentlichen keine Vernetzung, wenn diese Proben in der Dunkelheit für 4 Stunden bei 80 ºC erhitzt wurden.
- Wie aus den Ergebnissen der Tabellen II und III ersichtlich, liefert die Kombination von kationischem metallorganischen Salz und Onium-Salz ein wirksameres System zur Photoiniierung als vergleichsweise Vernetzungsmittel, während sie gleichzeitig über eine gute thermische Stabilität in der Dunkelheit verfügen.
- Genauere Informationen über die relative Aktivität der Kombination von metallorganischem Salz und Onium-Salz als Initiator werden aus einer Reihe von NMR-Versuchen erhalten, die zur Messung des Umwandlungsgrades von Monomer zu Polymer ausgeführt wurden. Die Ergebnisse dieser Versuche sind in der nachfolgenden Tabelle IV dargestellt. Die Versuche mit den Ergebnissen in Tabelle IV wurden in der folgenden Weise ausgeführt: Es wurde ein 1:1 (Gewicht/Gewicht)-Gemisch von Methylacrylat/Cyclohexenoxid zubereitet. Zu einer 10 g-Probe dieser Mischung wurden 0,1 des angestrebten kationischen metallorganischen Salzes und/oder 0,1 g Diphenyliodoniumhexafluorophosphat zugesetzt. Es wurden 2 g der Probe in ein kleines Fläschchen gegeben und für 1 Minute vor und während der Bestrahlung mit Stickstoff gespült. Die Lichtquelle waren zwei 15 Watt-Sylvania-Tageslichtleuchtstofflampen. Die Bestrahlungsdauer betrug 3 Minuten. Unmittelbar nach Beendigung der Photolyse wurde das NMR-Spektrum in CDCl&sub3; aufgenommen. Der Umfang der Polymerisation wurde anhand des Quotienten des Intensitätspeaks des Polymers und des Polymers plus Monomer bestimmt. Tabelle IV: Prozentuale Umwandlung zu Polymer anhand der NMR-Untersuchunga
- a ... NMR-Spektrum aufgenommen mit einem 400 Mhz-Instrument
- Die Daten in Tabelle IV zeigen, daß die Kombination von metallorganischem Salz und Onium-Salz ein wirksames System zur Photoinitiierung für die radikalische und Epoxy- Polymerisation ist.
- Genauere Information zur relativen Aktivität der Kombination von Initiatoren wurde aus einer Reihe von NMR-Versuchen erhalten, die zur Messung des Umwandlungsgrades von Monomer zu Polymer ausgeführt wurden. Die Ergebnisse dieser Versuche sind in der nachfolgenden Tabelle V dargestellt. Die Versuchsreihe mit den Ergebnissen in Tabelle V wurde in der folgenden Weise ausgeführt: Es wurde eine 1:1 (Gewichtsteil/Gewichtsteil)-Mischung von Methylacrylat/Cyclohexenoxid zubereitet. Zu einer 0,5 g-Probe dieser Mischung wurden 0,046 g des angestrebten kationischen metallorganischen Salzes und/oder 0,030 g Diphenyliodoniumhexafluorophosphat zugesetzt. In ein kleines Fläschchen wurden 1 g der Probe gegeben und für 1 Minute vor und durchgehend während der Bestrahlung mit Stickstoff gespült. Die Lichtquelle waren zwei 15 Watt-Schwarzlichtlampen (General Elektric). Die Bestrahlungsdauer betrug 4 Minuten. Unmittelbar nach Beendigung der Photolyse wurde das NMR-Spektrum in CDCl&sub3; aufgenommen. Der Umfang der Polymerisation wurde mit Hilfe des Quotienten des Intensitätspeaks des Polymers und des von Polymer plus Monomer bestimmt. Tabelle V: Prozentuale Umwandlung von Polymer anhand der NMR- Untersuchunga
- a ... NMR-Spektrum, aufgenommen mit einem 400 MHz-Instrument
- Die Daten in Tabelle V zeigen, daß die Kombination von kationischem metallorganischen Salz und Onium-Salz ein für die redikalische und Epoxy-Polymerisation wirksames Photoinitiatorsystem ist.
- Dieses Beispiel demonstriert das gleichzeitige Photovernetzen von zweikomponentigen Polyurethanen und Acrylaten.
- Es wurde eine Stammlösung mit 1,5 Teilen Hexandiisocyanat (Aldrich Chemical Co., Milwaukee, Wisconsin), 3,5 g Poly(ethylenglykol) (Carbowax 400, Union Carbide, Danbuty, Connecticut, mit einer Molmasse von 400) und 5 Teilen destilliertem Methylacrylat (Aldrich) zubereitet. Es wurden 4 Proben aus 1,1 g Stammlösung und Initiatorkombination entsprechend den Angaben in der nachfolgenden Tabelle V zubereitet. Die Probe 1 wurde bei Raumtemperatur im Dunkeln gelassen. Die Proben 2, 3 und 4 wurden in ein Wasserbad bei 73 ºC + 1 ºC gegeben und für 5 Minuten mit einem Kodak Carousel -Projektor mit einem 360 nm-Sperrfilter bestrahlt. Die Proben wurden in dem Wasserbad für weitere 2,0 Minuten im Dunkeln belassen und sodann auf die prozentuale Umwandlung von Monomer zu Polymer mit Hilfe der 400 MHz-¹HNMR-Spektroskopie analysiert. Die Ergebnisse sind in der nachfolgenden Tabelle VI zusammengestellt. Tabelle VI Dual-Vernetzung von Urethan- und Acrylat-Zusammensetzung: prozentuale Umwandlung anhand der NMR-Untersuchung
- Die Daten in Tabelle VI zeigen, daß zweikomponentigen Vernetzungsmittel wirksame Initiatoren für die radikalische und Polyurethan-Präkursor-Zusammensetzungen sind.
- Es wurde eine Stammlösung aus 2 Teilen Hexandiisocyanat, 3,5 Teilen Poly(ethylenglykol) (Molmasse 400), 5 Teilen Methylacrylat und 0,3 Teilen Hydroxyethylacrylat (Aldrich Chemical Co.) zubereitet. Zu 3,0 g Aliquoten wurde ausreichend Photokatalysator zugesetzt, um die in Tabelle VII angegebene Konzentration zu erzielen. Die Proben wurden in ein Glasfläschchen auf einem bei 70 ºC ± 2 ºC gehaltenen Wasserbad gegeben und unter Verwendung des Kodak-Carousel-Projektors mit einem 360 nm-Sperrfilter in einem Abstand von 16 cm bestrahlt. Zu 0,5 ml Chloroform wurde unter Rühren in 1 Minuten-Intervallen Aliquote (1/4 ml) der bestrahlten Probe gegeben. Die Gelbildungsdauer ((Erstarrungszeit)) war der früheste Zeitpunkt, zu dem das Aliquot sich nicht mehr in dem Chloroform auflöste und in Tabelle VI aufgezeichnet. Tabelle VII: Gelbildungszeiten für Dual-Vernetzungssysteme
- Die Daten in Tabelle VI zeigen, daß das zweikomponentige Vernetzungsmittel ein wirksameres Photoinitiierungssystem ist als die Vernetzungsmittel im Vergleich.
- Es wurde eine Stammlösung aus 1,5 Teilen Hexandiisocyanat, 3,5 Teilen Poly(ethylenglykol) (Molmasse 400) zubereitet. Zu 1,0 g Proben in offenen Fläschchen wurde ausreichend Photokatalysator zugesetzt, um die in der nachfolgenden Tabelle VIII angegebene Konzentration zu erzielen. Die Proben wurden auf einem Wasserbad bei 75 ºC gegeben und unter Verwendung des Kodak- Carousel-Projektors mit einem 360 nm-Sperrfilter bestrahlt. Die Vernetzungszeiten ((Erstarrungszeiten)) sind in Tabelle VIII gezeigt. Tabelle VIII:
- Die Daten in Tabelle VIII zeigen, daß das zweikomponentige Vernetzungsmittel ein wirksameres Photoinitiierungssystem ist als die Vernetzungsmittel im Vergleich.
- Für den Fachmann sind zahlreiche Modifikationen und Abänderungen der vorliegenden Erfindung offensichtlich, ohne vom Schutzumfang der Erfindung abzuweichen, wobei davon auszugehen ist, daß die vorliegende Erfindung durch die veranschaulichenden Ausführungsformen nicht unzulässig beschränkt wird.
Claims (13)
1. Polymerisierbare Zusammensetzung, umfassend einen
polymeren Präkursor, ausgewählt aus:
(1) Polyurethan-Präkursoren oder
(2) mindestens einem ethylenisch ungesättigten Monomer
und Polyurethan-Präkursoren, sowie
ein zweikomponentiges Vernetzungsmittel, umfassend:
(1) ein metallorganisches Salz mit der Formel:
{[(L¹)(L²)M]b(L³)(L&sup4;)}+exf I
worin sind:
M gleiche oder verschiedene Metalle, ausgewählt aus
den Elementen der Gruppen des Periodensystems IVB, VB, VIB,
VIIB und VIII;
L¹ kein Ligand, 1, 2, oder 3 Liganden, die pi-Elektronen
beitragen und gleiche oder verschiedene Liganden sein
können, ausgewählt aus substituierten und
nichtsubstituierten, acyclischen und cyclischen, ungesättigten
Verbindungen und Gruppen sowie substituierten und
nichtsubstituierten, carbocyclischen aromatischen und heterocyclischen
aromatischen Verbindungen, die jeweils zwei bis zwölf pi-
Elektronen zur Valenzschale von M beitragen können;
L² kein Ligand oder 1 bis 6 Liganden, die eine gerade
Zahl von sigma-Elektronen beitragen und gleich oder
verschieden sein können, ausgewählt aus einzähnigen, zweizähnigen
und dreizähnigen Liganden, die jeweils 2, 4 oder 6
sigma-Elektronen zur Valenzschale von M beitragen;
L³ kein Brückenligand, 1 oder 2 Brückenliganden, die
pi-Elektronen beitragen und gleiche oder verschiedene
Liganden sein können, ausgewählt aus substituierten und
nichtsubstituierten, acyclischen und cyclischen, ungesättigten
Verbindungen und Gruppen sowie substituierten und
nichtsubstituierten, carbocyclischen aromatischen und
heterocyclischen aromatischen Verbindungen, die jeweils als
Brückenligand wirken können und 4 bis 24 pi-Elektronen zu den
Valenzschalen der zwei Metallatome gleichzeitig beitragen;
L&sup4; kein Brückenligand, 1, 2 oder 3 Brückenliganden, die
eine gerade Zahl von sigma-Elektronen beitragen und gleich
oder verschieden sein können, ausgewählt aus einzähnigen,
zweizähnigen und dreizähnigen Liganden, die jeweils 2, 4 oder
6 sigma-Elektronen an die Valenzschalen von zwei M
gleichzeitig abgeben;
und zwar unter der Voraussetzung, daß die
Gesamt-Elektronenladung von M, mit der die Liganden L¹, L², L³ und L&sup4;
beitragen, plus das Produkt der lonenladung an M mit b, eine
positive Netto-Restladung von e für das Kation ergibt;
b eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 oder 2;
e eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 oder 2 als
die Restelektronenladung des Kations;
X ein Anion, ausgewählt aus organischen Sulfonat-
Anionen und Halogen-enthaltenden Komplex-Anionen eines Metalls
oder "Metalloids";
f eine ganze Zahl von 1 oder 2 als die Zahl von Anionen,
die zum Neutralisieren der Ladung e an dem Kation
erforderlich ist, sowie
(2) ein Onium-Salz,
wobei die Zusammensetzung wahlweise ferner eine wirksame
Menge eines Photosensibilisiermittels aufweist.
2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, bei welcher die
Polyurethan-Präkursoren mindestens ein Polyisocyanat und
mindestens ein Polyol oder andere mit Isocyanat
reaktionsfähige Gruppen sind, die mindestens zwei mit Isocyanat
reaktionsfähige Gruppen aufweisen.
3. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 und 2,
bei welcher das zweikomponentige Vernetzungsmittel in einer
Menge im Bereich von 0,01 % ... 20 Gewichtsprozent der
polymerisierbaren Zusammensetzung vorliegt.
4. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
bei welcher das Onium-Salz die Formel hat:
AY III
worin sind:
A ein Iodonium, Sulfonium- oder Diazonium-Kation und
Y ein organisches Sulfonat-Gegenion oder ein
Halogenenthaltendes Metall- oder "Metalloid"-Gegenion.
5. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
bei welcher das metallorganische Salz ausgewählt wird aus
der Gruppe, bestehend aus:
(eta&sup6;-Mesitylen)(eta&sup5;-cyclopentadienyl)eisen(1+
)-hexafluoroantimonat,
(eta&sup6;-Mesitylen)(eta&sup5;-cyclopentadienyl)eisen(1+
)-hexafluorophosphat,
(eta&sup6;-Naphthalen)(eta&sup5;-cyclopentadienyl)eisen(1+
)-hexafluoroantimonat,
(eta&sup6;-Naphthalen)(eta&sup5;-cyclopentadienyl)eisen(1+
)-hexafluorophosphat,
(eta&sup5;-Cyclopentadienyl)dicarbonyltriphenylphosphineisen(1+)-hexafluorophosphat sowie
(eta&sup5;-Cyclopentadienyl)dicarbonyltriphenylphosphineisen(1+)-hexafluoroantimonat,
und worin das Onium-Salz mindestens eines der folgenden ist:
Ph&sub2;I&spplus;PF&sub6;&supmin;, Ph&sub2;I&spplus;SbF&sub6;&supmin;, Ph&sub2;I&spplus;AsF&sub6;&supmin;, Ph&sub2;I&spplus;SbF&sub5;(OH)&supmin;, Ph&sub3;S&spplus;PF&sub6;,
Ph&sub3;S&spplus;SbF&sub6;, Ph&sub3;S&spplus;AsF&sub6;, PhSC&sub6;H&sub4;SPh&sub2;+SbF&sub6;&supmin; und Ph&sub3;S&spplus;SbF&sub5;(OH)&supmin;,
worin Ph Phenyl ist.
6. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
bei welcher das ethylenisch ungesättigte Monomer ausgewählt
wird aus der Gruppe, bestehend aus Acrylaten, Acrylamiden,
Vinyl-Verbindungen und bireaktiven Monomeren.
7. Vernetzte Zusammensetzung nach einem der Ansprüche
1 bis 6.
8. Verfahren, umfassend die Schritte:
a) Schaffen der polymerisierbaren Zusammensetzung nach
einem der Ansprüche 1 bis 7 und
b) Polymerisierenlassen der Zusammensetzung oder
Zusetzen von Energie zu der Zusammensetzung, um die
Polymerisation zu bewirken.
9. Verfahren nach Anspruch 8, bei welchem die Energie
mindestens eine elektromagnetische Strahlung, beschleunigte
Partikel oder Wärmeenergie ist.
10. Verfahren nach einem der.Ansprüche 8 oder 9, bei
welchem die Polymerisation in zwei Stufen ausgeführt wird
und die erste Stufe eine Strahlungsvernetzung und die zweite
Stufe eine thermische Vernetzung umfaßt.
11. Graphische Konstruktion, umfassend eine
polymerisierbare Zusammensetzung mit einem polymeren Präkursor nach
einem der Ansprüche 1 bis 6.
12. Bindemittel für eine magnetisches Mittel oder ein
Schleifmittel, umfassend die Zusammensetzungen nach einem
der Ansprüche 1 bis 7.
13. Artikel, umfassend einen Schutzüberzug auf einem
Substrat, wobei der Schutzüberzug die Zusammensetzung nach
einem der Ansprüche 1 bis 7 aufweist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/201,572 US4985340A (en) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | Energy curable compositions: two component curing agents |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE68928457D1 DE68928457D1 (de) | 1998-01-08 |
DE68928457T2 true DE68928457T2 (de) | 1998-05-20 |
Family
ID=22746370
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE68928457T Expired - Fee Related DE68928457T2 (de) | 1988-06-01 | 1989-04-28 | Energie-härtbare Zusammensetzungen: Zweikomponentenvernetzungsmittel |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4985340A (de) |
EP (1) | EP0344910B1 (de) |
JP (1) | JPH0220508A (de) |
KR (1) | KR0141493B1 (de) |
AU (1) | AU616002B2 (de) |
CA (1) | CA1338194C (de) |
DE (1) | DE68928457T2 (de) |
ES (1) | ES2109221T3 (de) |
ZA (1) | ZA894117B (de) |
Families Citing this family (226)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5191101A (en) * | 1982-11-22 | 1993-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy polymerizable compositions containing organometallic initiators |
US5147900A (en) * | 1987-08-28 | 1992-09-15 | Minnesosta Mining And Manufacturing Company | Energy-induced dual curable compositions |
US4952612A (en) * | 1987-08-28 | 1990-08-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-induced curable compositions |
US4950696A (en) * | 1987-08-28 | 1990-08-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-induced dual curable compositions |
US4966922A (en) * | 1988-06-09 | 1990-10-30 | General Electric Company | Dual curable silicone compositions |
JP2873482B2 (ja) * | 1989-02-09 | 1999-03-24 | 関西ペイント株式会社 | 光架橋性樹脂組成物 |
EP0419043B1 (de) * | 1989-08-24 | 1995-10-11 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Hitzehärtbare flüssige (meth)acrylate Harze und Zusammenfassungen, die diesen enthalten |
EP0526463B1 (de) * | 1990-04-23 | 1996-05-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energiehärtbare, kationisch oder radikalisch polymerisierbare druckempfindliche zusammensetzungen |
JP2795729B2 (ja) * | 1990-05-29 | 1998-09-10 | 日本化薬株式会社 | エポキシ樹脂硬化物の製造方法及びその硬化物 |
US5238744A (en) * | 1990-08-16 | 1993-08-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Tough polymeric mixtures |
US5102924A (en) * | 1990-08-16 | 1992-04-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymeric mixtures and process therefor |
CA2048232A1 (en) * | 1990-09-05 | 1992-03-06 | Jerry W. Williams | Energy curable pressure-sensitive compositions |
EP0487086B2 (de) * | 1990-11-22 | 2008-08-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Verfahren zum Herstellen von einem Volumen-Phasenhologram mit einem photoempfindlichen Aufzeichnungsmedium |
JPH0586149A (ja) * | 1991-09-30 | 1993-04-06 | I C I Japan Kk | 光立体成形用樹脂組成物並びに立体成形体の形成方法 |
US5652280A (en) * | 1991-11-12 | 1997-07-29 | University Of Georgia Research Foundation, Inc. | Anionic photoinitiation |
WO1993010483A1 (en) * | 1991-11-12 | 1993-05-27 | University Of Georgia Research Foundation, Inc. | Anionic photoinitiation |
US5437754A (en) * | 1992-01-13 | 1995-08-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article having precise lateral spacing between abrasive composite members |
US5256170A (en) * | 1992-01-22 | 1993-10-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive article and method of making same |
US5252694A (en) * | 1992-01-22 | 1993-10-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-polymerization adhesive, coating, film and process for making the same |
US5212210A (en) * | 1992-03-18 | 1993-05-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy curable compositions having improved cure speeds |
WO1993023794A1 (en) * | 1992-05-21 | 1993-11-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Organometallic monomers and polymers with improved adhesion |
CA2134334A1 (en) * | 1992-05-21 | 1993-11-25 | Wesley J. Bruxvoort | Organometallic monomers and polymers with improved adhesion |
US5331018A (en) * | 1992-08-26 | 1994-07-19 | Three Bond Co., Ltd. | Bimodal cured intermixed polymeric networks which are stable at high temperature |
US6399206B1 (en) | 1992-09-30 | 2002-06-04 | The Dow Chemical Company | Electrostatically painted polymers and a process for making same |
AU679005B2 (en) * | 1992-12-17 | 1997-06-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Reduced viscosity slurries, abrasive articles made therefrom, and methods of making said articles |
US5342419A (en) * | 1992-12-31 | 1994-08-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive composites having a controlled rate of erosion, articles incorporating same, and methods of making and using same |
US5435816A (en) * | 1993-01-14 | 1995-07-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of making an abrasive article |
JPH06294907A (ja) * | 1993-02-09 | 1994-10-21 | A G Technol Kk | 保護膜用組成物及びそれを用いたカラーフィルター付き基板ならびに液晶表示素子 |
US5800373A (en) * | 1995-03-23 | 1998-09-01 | Focal, Inc. | Initiator priming for improved adherence of gels to substrates |
EP0700326A1 (de) * | 1993-05-26 | 1996-03-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Verfahren zum erzeugen einer glatten oberfläche auf einer unterlage |
JP3650108B2 (ja) * | 1993-06-16 | 2005-05-18 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 熱重合エポキシドを使用した防振構造物 |
US5494943A (en) * | 1993-06-16 | 1996-02-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stabilized cationically-curable compositions |
US5453450A (en) * | 1993-06-16 | 1995-09-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stabilized curable adhesives |
US5549962A (en) * | 1993-06-30 | 1996-08-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Precisely shaped particles and method of making the same |
DE4324322B4 (de) * | 1993-07-20 | 2005-11-24 | Delo Industrieklebstoffe Gmbh & Co. Kg | Flexibilisierte, lichtinitiiert härtende Epoxidharzmassen, ihre Herstellung und Verwendung |
US6120878A (en) * | 1993-07-21 | 2000-09-19 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive articles comprising vinyl ether functional resins |
US5514728A (en) * | 1993-07-23 | 1996-05-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Catalysts and initiators for polymerization |
BR9407536A (pt) * | 1993-09-13 | 1997-08-26 | Minnesota Mining & Mfg | Artigo abrasivo processos de fabricação e de refino de peça em trabalho corn o mesmo ferramenta de produção para fabricação do mesmo e processo de produção de matriz mestra para formação da mesma |
US5658184A (en) * | 1993-09-13 | 1997-08-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Nail tool and method of using same to file, polish and/or buff a fingernail or a toenail |
JP3397326B2 (ja) * | 1993-10-19 | 2003-04-14 | ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチュアリング・カンパニー | ラミネートにより転写されるメイク被膜を含有する研磨物品 |
US5632668A (en) * | 1993-10-29 | 1997-05-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for the polishing and finishing of optical lenses |
CA2134156A1 (en) * | 1993-11-22 | 1995-05-23 | Thomas P. Klun | Coatable compositions, abrasive articles made therefrom, and methods of making and using same |
DE4340949A1 (de) * | 1993-12-01 | 1995-06-08 | Thera Ges Fuer Patente | Lichtinitiiert kationisch härtende Epoxidmasse und ihre Verwendung |
US5785784A (en) * | 1994-01-13 | 1998-07-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive articles method of making same and abrading apparatus |
CA2182580A1 (en) * | 1994-02-22 | 1995-08-24 | Timothy L. Hoopman | Abrasive article, a method of making same, and a method of using same for finishing |
AU684891B2 (en) * | 1994-03-17 | 1998-01-08 | Toppan Printing Co. Ltd. | Photosensitive recording material, photosensitive recording medium, and process for producing hologram using this photosensitive recording medium |
US5856373A (en) * | 1994-10-31 | 1999-01-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dental visible light curable epoxy system with enhanced depth of cure |
AU3971895A (en) * | 1994-10-31 | 1996-05-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Visible-light curable epoxy system with enhanced depth of cure |
US5591527A (en) * | 1994-11-02 | 1997-01-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Optical security articles and methods for making same |
US5721289A (en) * | 1994-11-04 | 1998-02-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stable, low cure-temperature semi-structural pressure sensitive adhesive |
US5700302A (en) * | 1996-03-15 | 1997-12-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation curable abrasive article with tie coat and method |
US5784197A (en) * | 1996-04-01 | 1998-07-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Ultra-flexible retroreflective sheeting with coated back surface |
US5754338A (en) * | 1996-04-01 | 1998-05-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Structured retroreflective sheeting having a rivet-like connection |
US5882796A (en) * | 1996-04-01 | 1999-03-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Bonded structured retroreflective sheeting |
US5910858A (en) * | 1996-04-01 | 1999-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Retroreflective sheeting with coated back surface |
US6475253B2 (en) | 1996-09-11 | 2002-11-05 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article and method of making |
US5897727A (en) * | 1996-09-20 | 1999-04-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for assembling layers with a transfer process using a crosslinkable adhesive layer |
US5766277A (en) * | 1996-09-20 | 1998-06-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive article and method of making same |
US5858624A (en) * | 1996-09-20 | 1999-01-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for assembling planarization and indium-tin-oxide layer on a liquid crystal display color filter with a transfer process |
US5730764A (en) * | 1997-01-24 | 1998-03-24 | Williamson; Sue Ellen | Coated abrasive systems employing ionizing irradiation cured epoxy resins as binder |
CN100335930C (zh) | 1997-02-28 | 2007-09-05 | 古河电气工业株式会社 | 光纤芯丝粘结剂和光纤元件 |
US6524681B1 (en) | 1997-04-08 | 2003-02-25 | 3M Innovative Properties Company | Patterned surface friction materials, clutch plate members and methods of making and using same |
US6054007A (en) * | 1997-04-09 | 2000-04-25 | 3M Innovative Properties Company | Method of forming shaped adhesives |
US8092707B2 (en) | 1997-04-30 | 2012-01-10 | 3M Innovative Properties Company | Compositions and methods for modifying a surface suited for semiconductor fabrication |
US6194317B1 (en) | 1998-04-30 | 2001-02-27 | 3M Innovative Properties Company | Method of planarizing the upper surface of a semiconductor wafer |
US6121143A (en) * | 1997-09-19 | 2000-09-19 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive articles comprising a fluorochemical agent for wafer surface modification |
US5965256A (en) * | 1997-10-14 | 1999-10-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Protective films and coatings |
US6001936A (en) | 1997-10-24 | 1999-12-14 | 3M Innovative Properties Company | Dye enhanced durability through controlled dye environment |
US5928394A (en) * | 1997-10-30 | 1999-07-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Durable abrasive articles with thick abrasive coatings |
US6217432B1 (en) | 1998-05-19 | 2001-04-17 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article comprising a barrier coating |
US6187836B1 (en) | 1998-06-05 | 2001-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Compositions featuring cationically active and free radically active functional groups, and methods for polymerizing such compositions |
JP3737285B2 (ja) * | 1998-08-28 | 2006-01-18 | 積水化学工業株式会社 | 光硬化性組成物、光硬化性接着シート、及び接合方法 |
US6306926B1 (en) * | 1998-10-07 | 2001-10-23 | 3M Innovative Properties Company | Radiopaque cationically polymerizable compositions comprising a radiopacifying filler, and method for polymerizing same |
US6528218B1 (en) * | 1998-12-15 | 2003-03-04 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating circuitized structures |
PT1145607E (pt) * | 1998-12-22 | 2012-01-05 | Huntsman Adv Mat Switzerland | Produção de revestimentos de resina fotossensível |
US6312484B1 (en) | 1998-12-22 | 2001-11-06 | 3M Innovative Properties Company | Nonwoven abrasive articles and method of preparing same |
US6239049B1 (en) | 1998-12-22 | 2001-05-29 | 3M Innovative Properties Company | Aminoplast resin/thermoplastic polyamide presize coatings for abrasive article backings |
US6056794A (en) * | 1999-03-05 | 2000-05-02 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive articles having bonding systems containing abrasive particles |
DE19920799A1 (de) | 1999-05-06 | 2000-11-16 | Basf Coatings Ag | Thermisch und mit aktinischer Strahlung härtbarer Beschichtungsstoff und seine Verwendung |
DE19924674C2 (de) | 1999-05-29 | 2001-06-28 | Basf Coatings Ag | Thermisch und mit aktinischer Strahlung härtbarer Beschichtungsstoff und seine Verwendung |
JP2001089639A (ja) * | 1999-09-24 | 2001-04-03 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | エネルギー線硬化樹脂組成物 |
US6565969B1 (en) | 1999-10-21 | 2003-05-20 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive article |
US6387981B1 (en) | 1999-10-28 | 2002-05-14 | 3M Innovative Properties Company | Radiopaque dental materials with nano-sized particles |
CA2387215C (en) * | 1999-10-28 | 2010-02-09 | 3M Innovative Properties Company | Dental materials with nano-sized silica particles |
US6730156B1 (en) | 1999-10-28 | 2004-05-04 | 3M Innovative Properties Company | Clustered particle dental fillers |
US6572693B1 (en) | 1999-10-28 | 2003-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Aesthetic dental materials |
US6376590B2 (en) | 1999-10-28 | 2002-04-23 | 3M Innovative Properties Company | Zirconia sol, process of making and composite material |
DE60125808T2 (de) | 2000-10-06 | 2007-10-11 | 3M Innovative Properties Co., St. Paul | Keramische aggregatteilchen |
MXPA03003063A (es) | 2000-10-16 | 2004-02-12 | 3M Innovative Properties Co | Metodo para elaborar particulas de agregado ceramico. |
ATE382671T1 (de) * | 2000-10-16 | 2008-01-15 | 3M Innovative Properties Co | Verfahren zur herstellung von agglomeratteilchen |
US6521004B1 (en) | 2000-10-16 | 2003-02-18 | 3M Innovative Properties Company | Method of making an abrasive agglomerate particle |
US20020065031A1 (en) | 2000-10-17 | 2002-05-30 | 3M Innovative Properties Company | Unitary brush having abrasive coated bristles and method of making the same |
US20050020189A1 (en) * | 2000-11-03 | 2005-01-27 | 3M Innovative Properties Company | Flexible abrasive product and method of making and using the same |
US20020090901A1 (en) * | 2000-11-03 | 2002-07-11 | 3M Innovative Properties Company | Flexible abrasive product and method of making and using the same |
US6605128B2 (en) | 2001-03-20 | 2003-08-12 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article having projections attached to a major surface thereof |
US6582487B2 (en) | 2001-03-20 | 2003-06-24 | 3M Innovative Properties Company | Discrete particles that include a polymeric material and articles formed therefrom |
DE10113884B4 (de) * | 2001-03-21 | 2005-06-02 | Basf Coatings Ag | Verfahren zum Beschichten mikroporöser Oberflächen und Verwendung des Verfahrens |
US6835759B2 (en) * | 2001-08-28 | 2004-12-28 | Basf Corporation | Dual cure coating composition and processes for using the same |
US6852771B2 (en) * | 2001-08-28 | 2005-02-08 | Basf Corporation | Dual radiation/thermal cured coating composition |
US20030077394A1 (en) * | 2001-08-28 | 2003-04-24 | Bradford Christophen J. | Dual cure coating composition and process for using the same |
US6709738B2 (en) | 2001-10-15 | 2004-03-23 | 3M Innovative Properties Company | Coated substrate with energy curable cyanate resin |
US6613113B2 (en) | 2001-12-28 | 2003-09-02 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive product and method of making the same |
US6949128B2 (en) * | 2001-12-28 | 2005-09-27 | 3M Innovative Properties Company | Method of making an abrasive product |
US6846232B2 (en) | 2001-12-28 | 2005-01-25 | 3M Innovative Properties Company | Backing and abrasive product made with the backing and method of making and using the backing and abrasive product |
US20030215736A1 (en) * | 2002-01-09 | 2003-11-20 | Oberlander Joseph E. | Negative-working photoimageable bottom antireflective coating |
US7070914B2 (en) * | 2002-01-09 | 2006-07-04 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Process for producing an image using a first minimum bottom antireflective coating composition |
JP4748938B2 (ja) * | 2002-01-31 | 2011-08-17 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 歯科ペースト、歯科物品、および方法 |
US6808657B2 (en) * | 2002-02-12 | 2004-10-26 | 3M Innovative Properties Company | Process for preparing a K-type polarizer |
DE10206225C1 (de) * | 2002-02-15 | 2003-09-18 | Basf Coatings Ag | Verfahren zur Herstellung farb- und/oder effektgebender Mehrschichtlackierungen |
US6949207B2 (en) * | 2002-04-04 | 2005-09-27 | 3M Innovative Properties Company | K-type polarizer and preparation thereof |
US7087194B2 (en) * | 2002-04-04 | 2006-08-08 | 3M Innovative Properties Company | K-type polarizer and preparation thereof |
US20030221770A1 (en) * | 2002-05-28 | 2003-12-04 | 3M Innovative Properties Company | Segmented curable transfer tapes |
US7713604B2 (en) * | 2002-06-17 | 2010-05-11 | 3M Innovative Properties Company | Curable adhesive articles having topographical features therein |
US7091259B2 (en) * | 2002-07-03 | 2006-08-15 | 3M Innovative Properties Company | Dental fillers, pastes, and compositions prepared therefrom |
US7767629B2 (en) * | 2002-08-14 | 2010-08-03 | 3M Innovative Properties Company | Drilling fluid containing microspheres and use thereof |
US6906009B2 (en) * | 2002-08-14 | 2005-06-14 | 3M Innovative Properties Company | Drilling fluid containing microspheres and use thereof |
FR2845241B1 (fr) * | 2002-09-26 | 2005-04-22 | Ge Med Sys Global Tech Co Llc | Dispositif d'emission de rayons x et appareil a rayons x. |
US20040062682A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-01 | Rakow Neal Anthony | Colorimetric sensor |
US7449146B2 (en) * | 2002-09-30 | 2008-11-11 | 3M Innovative Properties Company | Colorimetric sensor |
DE10248324A1 (de) * | 2002-10-17 | 2004-05-06 | Basf Coatings Ag | Thermisch und mit aktinischer Strahlung härtbarer Beschichtungsstoff und Verfahren zum Beschichten miktoporöser Oberflächen |
US6841333B2 (en) | 2002-11-01 | 2005-01-11 | 3M Innovative Properties Company | Ionic photoacid generators with segmented hydrocarbon-fluorocarbon sulfonate anions |
US7025791B2 (en) * | 2002-12-02 | 2006-04-11 | Gi Dynamics, Inc. | Bariatric sleeve |
US6777460B2 (en) * | 2002-12-23 | 2004-08-17 | 3M Innovative Properties Company | Curing agents for cationically curable compositions |
US6984261B2 (en) * | 2003-02-05 | 2006-01-10 | 3M Innovative Properties Company | Use of ceramics in dental and orthodontic applications |
US20040180734A1 (en) * | 2003-03-07 | 2004-09-16 | Puniello Paul A. | Co-injection nozzle, method of its use, and resulting golf ball |
US20040176184A1 (en) * | 2003-03-07 | 2004-09-09 | Morgan William E. | Multi-layer golf ball with translucent cover |
US6949595B2 (en) * | 2003-03-07 | 2005-09-27 | Acushnet Company | Multi-layer golf ball with translucent cover |
US20040176185A1 (en) * | 2003-03-07 | 2004-09-09 | Morgan William E. | Multi-layer golf ball with translucent cover |
US7862760B2 (en) * | 2003-03-07 | 2011-01-04 | Acushnet Company | Co-injection nozzle, method of its use, and resulting golf ball |
US8617004B2 (en) | 2007-02-16 | 2013-12-31 | Acushnet Company | Golf ball with translucent cover |
US20040176188A1 (en) * | 2003-03-07 | 2004-09-09 | Morgan William E. | Multi-layer golf ball with translucent cover |
US20040219338A1 (en) * | 2003-05-01 | 2004-11-04 | Hebrink Timothy J. | Materials, configurations, and methods for reducing warpage in optical films |
US7122294B2 (en) * | 2003-05-22 | 2006-10-17 | 3M Innovative Properties Company | Photoacid generators with perfluorinated multifunctional anions |
US20050060945A1 (en) * | 2003-09-23 | 2005-03-24 | 3M Innovative Properties Company | Method of making a coated abrasive |
US20050060941A1 (en) * | 2003-09-23 | 2005-03-24 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article and methods of making the same |
US7300479B2 (en) * | 2003-09-23 | 2007-11-27 | 3M Innovative Properties Company | Compositions for abrasive articles |
US7267700B2 (en) * | 2003-09-23 | 2007-09-11 | 3M Innovative Properties Company | Structured abrasive with parabolic sides |
US20050060942A1 (en) * | 2003-09-23 | 2005-03-24 | 3M Innovative Properties Company | Structured abrasive article |
US7192991B2 (en) * | 2003-11-26 | 2007-03-20 | 3M Innovative Properties Company | Cationically curable composition |
US7166008B2 (en) * | 2003-12-22 | 2007-01-23 | 3M Innovative Properties Company | Method of curing using an electroluminescent light |
US7261535B2 (en) * | 2003-12-31 | 2007-08-28 | Acushnet Company | Co-injection nozzle |
EP1557449A1 (de) * | 2004-01-22 | 2005-07-27 | 3M Innovative Properties Company | Klebeband für Strukturverbindung |
US7553670B2 (en) * | 2004-04-28 | 2009-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample |
KR100590881B1 (ko) * | 2004-05-14 | 2006-06-19 | 삼성전자주식회사 | 광경화성 수지 조성물 및 그의 패터닝 방법 |
US7294048B2 (en) * | 2004-06-18 | 2007-11-13 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article |
US7592376B2 (en) * | 2004-08-23 | 2009-09-22 | Rensselaer Polytechnic Institute | Photopolymerizable epoxide and oxetane compositions |
EP1650279B1 (de) * | 2004-10-19 | 2009-05-27 | 3M Innovative Properties Company | Klebeartikel mit Kern/Mantelstruktur |
US20060093809A1 (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-04 | Hebrink Timothy J | Optical bodies and methods for making optical bodies |
EP1805013A1 (de) * | 2004-10-29 | 2007-07-11 | 3M Innovative Properties Company | Optische filme mit zyklischen olefincopolymeren |
US20060159888A1 (en) * | 2004-10-29 | 2006-07-20 | Hebrink Timothy J | Optical films incorporating cyclic olefin copolymers |
US7329465B2 (en) * | 2004-10-29 | 2008-02-12 | 3M Innovative Properties Company | Optical films incorporating cyclic olefin copolymers |
US7169029B2 (en) * | 2004-12-16 | 2007-01-30 | 3M Innovative Properties Company | Resilient structured sanding article |
EP1710286A1 (de) * | 2005-04-04 | 2006-10-11 | 3M Innovative Properties Company | Verstärkungskissen |
US7521492B2 (en) * | 2005-06-01 | 2009-04-21 | 3M Innovative Properties Company | Self-extinguishing polymer composition |
US20070066186A1 (en) * | 2005-09-22 | 2007-03-22 | 3M Innovative Properties Company | Flexible abrasive article and methods of making and using the same |
US7618306B2 (en) * | 2005-09-22 | 2009-11-17 | 3M Innovative Properties Company | Conformable abrasive articles and methods of making and using the same |
US7767736B2 (en) * | 2005-12-05 | 2010-08-03 | 3M Innovative Properties Company | Flame retardant polymer composition |
US7424176B2 (en) * | 2005-12-20 | 2008-09-09 | Schlumberger Technology Corporation | Optical fiber termination apparatus and methods of use, and optical fiber termination process |
US7845409B2 (en) * | 2005-12-28 | 2010-12-07 | 3M Innovative Properties Company | Low density proppant particles and use thereof |
KR100805605B1 (ko) * | 2006-01-18 | 2008-02-20 | 주식회사 엘지화학 | 아크릴계 대전방지 점착제 조성물 |
US20070243798A1 (en) * | 2006-04-18 | 2007-10-18 | 3M Innovative Properties Company | Embossed structured abrasive article and method of making and using the same |
US7410413B2 (en) * | 2006-04-27 | 2008-08-12 | 3M Innovative Properties Company | Structured abrasive article and method of making and using the same |
US7767143B2 (en) * | 2006-06-27 | 2010-08-03 | 3M Innovative Properties Company | Colorimetric sensors |
US7732057B2 (en) * | 2006-07-20 | 2010-06-08 | Neenah Paper, Inc. | Formaldehyde-free paper backed veneer products and methods of making the same |
US8701441B2 (en) | 2006-08-21 | 2014-04-22 | 3M Innovative Properties Company | Method of making inorganic, metal oxide spheres using microstructured molds |
CN101610749B (zh) * | 2006-12-28 | 2013-01-02 | 3M创新有限公司 | 牙科填料及方法 |
US8070626B2 (en) * | 2007-02-16 | 2011-12-06 | Acushnet Company | Golf ball with a translucent layer comprising composite material |
US9295882B2 (en) | 2007-02-16 | 2016-03-29 | Acushnet Company | Golf ball having a translucent layer containing fiber flock |
US7901301B2 (en) | 2007-02-16 | 2011-03-08 | Acushnet Company | Golf ball having visually enhanced non-uniform thickness intermediate layer |
US7922607B2 (en) | 2007-02-16 | 2011-04-12 | Acushnet Company | Noncontact printing on subsurface layers of translucent cover golf balls |
US20080233845A1 (en) * | 2007-03-21 | 2008-09-25 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive articles, rotationally reciprocating tools, and methods |
CA2681316C (en) | 2007-03-21 | 2016-07-19 | 3M Innovative Properties Company | Methods of removing defects in surfaces |
US7651830B2 (en) * | 2007-06-01 | 2010-01-26 | 3M Innovative Properties Company | Patterned photoacid etching and articles therefrom |
US8038750B2 (en) | 2007-07-13 | 2011-10-18 | 3M Innovative Properties Company | Structured abrasive with overlayer, and method of making and using the same |
US20090155596A1 (en) * | 2007-12-12 | 2009-06-18 | 3M Innovative Properties Company | Nozzle sealing composition and method |
US8080073B2 (en) | 2007-12-20 | 2011-12-20 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article having a plurality of precisely-shaped abrasive composites |
US8371616B2 (en) * | 2007-12-26 | 2013-02-12 | Judy Wailing WU | False positive testing device |
WO2009088606A2 (en) * | 2007-12-31 | 2009-07-16 | 3M Innovative Properties Company | Plasma treated abrasive article and method of making same |
FR2936106B1 (fr) * | 2008-09-16 | 2010-10-01 | Commissariat Energie Atomique | Micro-batterie au lithium comportant une couche d'encapsulation et procede de fabrication. |
USD610430S1 (en) | 2009-06-18 | 2010-02-23 | 3M Innovative Properties Company | Stem for a power tool attachment |
US8628597B2 (en) * | 2009-06-25 | 2014-01-14 | 3M Innovative Properties Company | Method of sorting abrasive particles, abrasive particle distributions, and abrasive articles including the same |
US8425278B2 (en) * | 2009-08-26 | 2013-04-23 | 3M Innovative Properties Company | Structured abrasive article and method of using the same |
EP2343336A1 (de) | 2010-01-06 | 2011-07-13 | Unilever Plc, A Company Registered In England And Wales under company no. 41424 of Unilever House | Härtungsflüssigkeiten |
US8915804B2 (en) | 2012-03-26 | 2014-12-23 | Acushnet Company | Color golf ball |
US8915803B2 (en) | 2012-03-26 | 2014-12-23 | Acushnet Company | Color golf ball |
US9339843B2 (en) | 2010-10-14 | 2016-05-17 | Acushnet Company | Multi-colored golf ball and method for visually enhancing dimple arrangement |
US8785517B2 (en) | 2011-05-25 | 2014-07-22 | 3M Innovative Properties Company | Pressure-sensitive adhesives with onium-epdxy crosslinking system |
KR20140047666A (ko) | 2011-06-23 | 2014-04-22 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 오늄-에폭시 수지 가교결합 시스템을 갖는 감압 접착제 |
JP5804328B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2015-11-04 | スリーボンドファインケミカル株式会社 | 硬化性組成物 |
US10947396B2 (en) | 2012-11-13 | 2021-03-16 | 3M Innovative Properties Company | Curable antifouling composition, method of use, and articles |
US9434866B2 (en) | 2013-03-13 | 2016-09-06 | 3M Innovative Properties Company | Adhesives comprising epoxy-acid crosslinked groups and methods |
US9340458B2 (en) | 2013-05-30 | 2016-05-17 | Laticrete International, Inc. | Premixed hybrid grout |
WO2014197551A2 (en) | 2013-06-07 | 2014-12-11 | 3M Innovative Properties Company | Method of forming a recess in a substrate, abrasive wheel, and cover |
BR112016007358A2 (pt) | 2013-10-04 | 2017-08-01 | 3M Innovative Properties Co | bloco bruto para usinagem de próteses dentárias |
EP3068581B1 (de) | 2013-11-12 | 2019-12-25 | 3M Innovative Properties Company | Strukturierte schleifartikel und verfahren zur verwendung davon |
JP6561058B2 (ja) | 2013-12-09 | 2019-08-14 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 集塊性研磨粒子、その粒子を含む研磨物品、及びその製造方法 |
US9333396B2 (en) | 2014-03-06 | 2016-05-10 | Acushnet Company | Color golf ball constructions incorporating durable and light-stable compositions |
MX2016015119A (es) | 2014-05-20 | 2017-02-22 | 3M Innovative Properties Co | Material abrasivo con diferentes conjuntos de pluralidad de elementos abrasivos. |
US9873180B2 (en) | 2014-10-17 | 2018-01-23 | Applied Materials, Inc. | CMP pad construction with composite material properties using additive manufacturing processes |
US11745302B2 (en) | 2014-10-17 | 2023-09-05 | Applied Materials, Inc. | Methods and precursor formulations for forming advanced polishing pads by use of an additive manufacturing process |
KR102630261B1 (ko) | 2014-10-17 | 2024-01-29 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 애디티브 제조 프로세스들을 이용한 복합 재료 특성들을 갖는 cmp 패드 구성 |
US10875153B2 (en) | 2014-10-17 | 2020-12-29 | Applied Materials, Inc. | Advanced polishing pad materials and formulations |
CN104387601B (zh) * | 2014-11-06 | 2017-02-08 | 东莞市德聚胶接技术有限公司 | 一种uv环氧树脂滴注成型方法及应用 |
WO2016140950A1 (en) | 2015-03-05 | 2016-09-09 | 3M Innovative Properties Company | Composite material having ceramic fibers |
US10518512B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-12-31 | 3M Innovative Properties Company | Method of forming dual-cure nanostructure transfer film |
US10106643B2 (en) | 2015-03-31 | 2018-10-23 | 3M Innovative Properties Company | Dual-cure nanostructure transfer film |
EP3356084A4 (de) | 2015-10-02 | 2020-02-12 | 3M Innovative Properties Company | Trockenwandschleifblock und verfahren zur verwendung |
CN108136568B (zh) * | 2015-10-16 | 2020-10-09 | 应用材料公司 | 使用增材制造工艺形成先进抛光垫的方法和设备 |
US10662372B2 (en) | 2015-10-22 | 2020-05-26 | Halliburton Energy Services, Inc. | Multifunctional brush photopolymerized coated proppant particulates use in subterranean formation operations |
US10391605B2 (en) | 2016-01-19 | 2019-08-27 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for forming porous advanced polishing pads using an additive manufacturing process |
EP3487664B1 (de) | 2016-07-20 | 2022-02-16 | 3M Innovative Properties Company | Geformtes verglastes schleifagglomerat, schleifartikel und verfahren zum schleifen |
US11446787B2 (en) | 2016-09-27 | 2022-09-20 | 3M Innovative Properties Company | Open coat abrasive article and method of abrading |
EP3533075A4 (de) | 2016-10-25 | 2020-07-01 | 3M Innovative Properties Company | Verfahren zur herstellung von magnetisierbaren schleifpartikeln |
CN109862999B (zh) | 2016-10-25 | 2022-05-10 | 3M创新有限公司 | 粘结砂轮及其制备方法 |
EP3532246B1 (de) | 2016-10-25 | 2022-11-30 | 3M Innovative Properties Company | Geformtes verglastes schleifagglomerat mit geformten schleifpartikeln, schleifartikel und zugehörige verfahren |
EP3532562B1 (de) | 2016-10-25 | 2021-05-19 | 3M Innovative Properties Company | Magnetisierbare schleifartikel und verfahren zur herstellung davon |
US11253972B2 (en) | 2016-10-25 | 2022-02-22 | 3M Innovative Properties Company | Structured abrasive articles and methods of making the same |
US11072732B2 (en) | 2016-10-25 | 2021-07-27 | 3M Innovative Properties Company | Magnetizable abrasive particles and abrasive articles including them |
CN112055737B (zh) | 2018-03-01 | 2022-04-12 | 3M创新有限公司 | 具有成型磨料颗粒的成型硅质磨料团聚物、磨料制品及相关方法 |
EP3768795A1 (de) | 2018-03-21 | 2021-01-27 | 3M Innovative Properties Company | Strukturierte schleifmittel mit poliermaterialien zur verwendung im haushalt |
WO2019220414A1 (en) * | 2018-05-17 | 2019-11-21 | King Abdullah University Of Science And Technology | Supported onium salts as initiators for the synthesis of polycarbonates by copolymerization of co2 with epoxides |
JP2021534006A (ja) | 2018-08-13 | 2021-12-09 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 構造化研磨物品及びそれを製造する方法 |
WO2020075006A1 (en) | 2018-10-09 | 2020-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Treated backing and coated abrasive article including the same |
KR20210152291A (ko) * | 2020-06-08 | 2021-12-15 | 삼성전자주식회사 | 포토레지스트 조성물 |
CN116157235A (zh) | 2020-07-30 | 2023-05-23 | 3M创新有限公司 | 磨料制品及其制备方法 |
AU2022378929A1 (en) | 2021-10-27 | 2024-02-22 | Construction Research & Technology Gmbh | (meth)acrylate compounds as reactive diluents for polyaddition systems |
Family Cites Families (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1277204A (en) * | 1968-08-15 | 1972-06-07 | Secr Defence | Improvements in epoxide reactions |
US4080274A (en) * | 1968-08-20 | 1978-03-21 | American Can Company | Photopolymerization of lactone-epoxide mixtures with aromatic diazonium salts as photocatalyst |
GB1285284A (en) * | 1969-05-26 | 1972-08-16 | Hitachi Ltd | Epoxy resin composition |
US3709861A (en) * | 1970-12-14 | 1973-01-09 | Shell Oil Co | Process for light-induced curing of epoxy resins in presence of cyclopentadienylmanganese tricarbonyl compounds |
US3794576A (en) * | 1971-05-18 | 1974-02-26 | American Can Co | Epoxide blend radiation sensitive catalyst precursor |
US3808006A (en) * | 1971-12-06 | 1974-04-30 | Minnesota Mining & Mfg | Photosensitive material containing a diaryliodium compound, a sensitizer and a color former |
US3729313A (en) * | 1971-12-06 | 1973-04-24 | Minnesota Mining & Mfg | Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use |
US3714006A (en) * | 1972-05-15 | 1973-01-30 | W Anderson | Cyclopentadienylmanganese tricarbonyl compounds as a catalyst for the radiation curing of polyepoxides |
US3741769A (en) * | 1972-10-24 | 1973-06-26 | Minnesota Mining & Mfg | Novel photosensitive polymerizable systems and their use |
US4058400A (en) * | 1974-05-02 | 1977-11-15 | General Electric Company | Cationically polymerizable compositions containing group VIa onium salts |
US4026705A (en) * | 1975-05-02 | 1977-05-31 | General Electric Company | Photocurable compositions and methods |
US4237242A (en) * | 1976-01-20 | 1980-12-02 | Rohm And Haas Company | Uses of chelated metal catalysts for acid/epoxy polymer systems |
US4342793A (en) * | 1977-01-14 | 1982-08-03 | Henkel Corporation | Interpenetrating dual cure resin compositions |
US4086091A (en) * | 1977-05-20 | 1978-04-25 | General Electric Company | Method of applying and curing epoxy coating compositions using dicarbonyl chelate of group IIIa-Va element and UV irradiation |
US4156035A (en) * | 1978-05-09 | 1979-05-22 | W. R. Grace & Co. | Photocurable epoxy-acrylate compositions |
US4428807A (en) * | 1978-06-30 | 1984-01-31 | The Dow Chemical Company | Composition containing polymerizable entities having oxirane groups and terminal olefinic unsaturation in combination with free-radical and cationic photopolymerizations means |
US4216288A (en) * | 1978-09-08 | 1980-08-05 | General Electric Company | Heat curable cationically polymerizable compositions and method of curing same with onium salts and reducing agents |
US4228232A (en) * | 1979-02-27 | 1980-10-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable composition containing ethylenically unsaturated oligomers |
US4250053A (en) * | 1979-05-21 | 1981-02-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Sensitized aromatic iodonium or aromatic sulfonium salt photoinitiator systems |
US4227978A (en) * | 1979-06-27 | 1980-10-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photohardenable composition |
DE2940332A1 (de) * | 1979-10-04 | 1981-04-23 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verwendung von quartaeren ammoniumsalzen als latente katalysatoren in beschichtungsmassen auf basis von polyurethan- oder epoxidharz-vorprodukten, die diese katalysatoren enthaltenden beschichtungsmassen, sowie ein verfahren zur herstellung von beschichtungen |
DE3366408D1 (en) * | 1982-05-19 | 1986-10-30 | Ciba Geigy Ag | Photopolymerisation with organometal salts |
DE3369398D1 (en) * | 1982-05-19 | 1987-02-26 | Ciba Geigy Ag | Curable compositions containing metallocen complexes, activated primers obtained therefrom and their use |
US5089536A (en) * | 1982-11-22 | 1992-02-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy polmerizable compositions containing organometallic initiators |
US5073476A (en) * | 1983-05-18 | 1991-12-17 | Ciba-Geigy Corporation | Curable composition and the use thereof |
DE3328661A1 (de) * | 1983-08-09 | 1985-02-21 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verwendung von ammoniumsalzen als latente katalysatoren fuer die isocyanat-polyadditionsreaktion |
US4544466A (en) * | 1983-12-06 | 1985-10-01 | Phillips Petroleum Company | Process of making U.V. cured polyurethanes using diazonium salt promoters |
US4549945A (en) * | 1984-01-11 | 1985-10-29 | Phillips Petroleum Company | UV Cured polyurethanes using organotin promoters |
EP0152377B1 (de) * | 1984-02-10 | 1987-12-09 | Ciba-Geigy Ag | Härtbare Zusammensetzung und deren Verwendung |
US4582861A (en) * | 1984-11-13 | 1986-04-15 | Air Products And Chemicals, Inc. | Delayed action/enhanced curing catalysis in polyurethane systems |
US4623676A (en) * | 1985-01-18 | 1986-11-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Protective coating for phototools |
US4677137A (en) * | 1985-05-31 | 1987-06-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Supported photoinitiator |
US4707432A (en) * | 1985-09-23 | 1987-11-17 | Ciba-Geigy Corporation | Ferrocenium/alpha-cleavage photoinitiator systems for free radical polymerizable compositions |
CH678897A5 (de) * | 1986-05-10 | 1991-11-15 | Ciba Geigy Ag | |
EP0250634A1 (de) * | 1986-07-03 | 1988-01-07 | PROTECTOR SAL S.a.s. di Giovanni Salutati | Gleitschutzüberschuh mit Kopfnägeln |
US4751138A (en) * | 1986-08-11 | 1988-06-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive having radiation curable binder |
US4950696A (en) * | 1987-08-28 | 1990-08-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-induced dual curable compositions |
US4740577A (en) * | 1987-08-28 | 1988-04-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy polymerizable polyurethane precursors |
US4952612A (en) * | 1987-08-28 | 1990-08-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-induced curable compositions |
US4889792A (en) * | 1987-12-09 | 1989-12-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Ternary photoinitiator system for addition polymerization |
-
1988
- 1988-06-01 US US07/201,572 patent/US4985340A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-04-17 AU AU33108/89A patent/AU616002B2/en not_active Ceased
- 1989-04-20 CA CA000597243A patent/CA1338194C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-28 ES ES89304315T patent/ES2109221T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-28 EP EP89304315A patent/EP0344910B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-28 DE DE68928457T patent/DE68928457T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-22 JP JP1128622A patent/JPH0220508A/ja active Pending
- 1989-05-30 ZA ZA894117A patent/ZA894117B/xx unknown
- 1989-06-01 KR KR1019890007613A patent/KR0141493B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR900000453A (ko) | 1990-01-30 |
ES2109221T3 (es) | 1998-01-16 |
EP0344910B1 (de) | 1997-11-26 |
EP0344910A2 (de) | 1989-12-06 |
ZA894117B (en) | 1991-01-30 |
DE68928457D1 (de) | 1998-01-08 |
EP0344910A3 (de) | 1991-01-16 |
AU3310889A (en) | 1989-12-07 |
AU616002B2 (en) | 1991-10-17 |
JPH0220508A (ja) | 1990-01-24 |
CA1338194C (en) | 1996-03-26 |
KR0141493B1 (ko) | 1998-06-15 |
US4985340A (en) | 1991-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE68928457T2 (de) | Energie-härtbare Zusammensetzungen: Zweikomponentenvernetzungsmittel | |
DE3854597T2 (de) | Strahlenhärtbare Dual-Zusammensetzung. | |
US4952612A (en) | Energy-induced curable compositions | |
US5086086A (en) | Energy-induced curable compositions | |
DE69321713T2 (de) | Verbesserte haertungsgeschwindigkeiten aufweisende energiehaertbare zusammensetzungen | |
US5147900A (en) | Energy-induced dual curable compositions | |
DE68909550T2 (de) | Durch Energie härtbare Cyanat-Zusammensetzungen. | |
DE69124891T2 (de) | Energiehärtbare druckempfindliche Zusammensetzungen | |
KR0180534B1 (ko) | 에너지 경화가능한 양이온 및 유리-라디칼 중합성 감압성 조성물 | |
DE3382815T2 (de) | Durch Energie polymerisierbare Zusammensetzungen, die metallorganische Initiatoren enthalten | |
DE68928290T2 (de) | Energie-härtbare Zusammensetzungen: Einkomponentenvernetzungsmittel | |
KR970004936B1 (ko) | 에너지 중합성 폴리우레탄 전구물질 | |
DE2602574A1 (de) | Photopolymerisierbare massen | |
EP0146501B1 (de) | Polymerisierbare Zusammensetzungen | |
DE2856407A1 (de) | Mit aktinischer bestrahlung haertbare zusammensetzungen | |
EP0141110A2 (de) | Photopolymerisierbare Mischungen, enthaltend tertiäre Amine als Photaktivatoren | |
DE2264181C2 (de) | Photopolymerisierbare Polyurethanmasse | |
DE2421118A1 (de) | Drahtbeschichtungsverfahren | |
DE2411000A1 (de) | Photopolymerisierbare masse, ihre verwendung und photopolymerisationsverfahren | |
DE2636425A1 (de) | Haertbare ueberzugsmassen | |
DE2410219A1 (de) | Photosensibilisierende masse | |
DE2612525A1 (de) | Fotopolymerisierbare masse | |
WO2023247374A1 (de) | Cyanatester als monomere in polymerisierbaren zusammensetzungen | |
DE3131359A1 (de) | Photopolymerisierbare formmassen und ihre verwendung zur herstellung von insbesondere druckformen und druckfarben | |
DE2410220A1 (de) | Photopolymerisierbare masse |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |