DE2506445A1 - Verfahren zur herstellung von photomasken - Google Patents

Verfahren zur herstellung von photomasken

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DE2506445A1
DE2506445A1 DE19752506445 DE2506445A DE2506445A1 DE 2506445 A1 DE2506445 A1 DE 2506445A1 DE 19752506445 DE19752506445 DE 19752506445 DE 2506445 A DE2506445 A DE 2506445A DE 2506445 A1 DE2506445 A1 DE 2506445A1
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silver
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pyrylium
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DE19752506445
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Jan Frans Van Besauw
Albert Lucien Dr Poot
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Agfa Gevaert AG
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Agfa Gevaert AG
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    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
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Description

AGi1A-GEVAER? Aktiengesellschaft
LEVERKUSEN
Verfahren zur Herstellung von Photomasken.
Priorität : Grossbritannien, den 19-Februar 1974-, Anin.Nr. 7^7/7*
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung vor.·. Photomasken sowie die nach diesem Verfahren erhaltenen Phctomasken.
In dor TvT-OS 2 201 700 ist ein Verfahren zur Herstellung einer Phot"· maske mittels eines photo graphischen Silberhalogenidmaterials beschrieben. Die Photomaske besteht aus einem transparenten Träger und einer Kolloidschicht, welche ein Maskenbild enthält, dessen Bildteile gegenüber Ultraviolettstrahlung und Blaulicht nicht transparent sind, jedoch sichtbares Licht mit einer Wellenlänge über 500 mn. durchlassen.
Die Herstellung einer solchen Photomaske, deren Bildteile eine spezifische Durchlässigkeit für sichtbares Licht zeigen, ist besonders wertvoll im Hinblick auf die genaue visuelle Registrierung ο er Photomaske mit einem schon erhaltenen Reliefmus ν sr. beispielsweise auf eine herzustellende integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung.
Eine visuelle Registrierung ist besonders schwierig, wenn die Photomaske die üblichen schwarzen Silberbildteile aufweist, welche kein sichtbares Licht durchlassen. Da die üblichen Photowiderstands-Polymerzusammensetzungen überwiegend gegen Ultraviolettstrahlung empfindlich sind (z.B. für einen Wellenlängenbereich von 275 bis 425 nm), gibt es kein besonderes Erfordernis für ein schwarzes Photomaskenbild, das Ultraviolettstrahlung und das Licht des gesamten sichtbaren Spektrums absorbiert.
A-G 1318
509834/0890
Im Hinblick auf eine Erleichterung der Photomaskenaufzeichnung wurden Photomasken mit Bildteilen erzeugt, welche selektiv UV-Strahlung und Blaulicht absorbieren und sichtbares Licht innerhalb eines Wellenlängenbereiches über 500 nm durchlassen.
Pur diesen Zweck ist in der genannten DT-OS ein photo graphisch es SiIberhalogenidmaterial beschrieben, wobei ein Bild aus einem Silberkomplex und einem heterocyclischen Ammoniumsalzkomplex in dem Material erzeugt wird. Dieses Bild ist besonders opak gegen ultraviolette Strahlung und Blaulicht, lässt jedoch fast alles sichtbax'es Licht mit einem Vellenlängenbereich über 500 nm durch.
Gemäss yiner Ausführungsform dieses Verfahrens, das Negativ-Po sitiv-Verfahren genannt wird, wird ein entwickeltes und fixiertes Silbermetallbild zuerst durch Oxidation mit beispielsweise Kaliumcyanoferrat(III) und Kaliumbromid in ein wasserunlösliches Silbersalzbild überführt.
In einer zweiten Stufe wird das erhaltene Silberbromidbild in den Komplex durch Umsetzung des SiIberbromids mit dem heterocyclischen Ammoniumsalz überführt. Diese Ausführungsform liefert Negativmasken von den positiven Originalen.
Gemäss einer weiteren Ausführungsform dieses Verfahrens, das Positiv-Positiv-Verfahren genannt wird, wird ein. lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial bildweise belichtet, so dass ein Silberbild erzeugt wird, das bezüglich des Originals negativ ist. In den belichteten Bereichen wird ein Silbermetallbild entwickelt, und in den nicht-belichteten Bereichen wird ein unangegriffenes Silberhalogenidbild belassen, das bezüglich des Originals positiv ist. Dieses Silberhalogenidbild wird mit dem genannten heterocyclischen Ammoniumsalz behandelt und in den Komplex überführt, der Licht oberhalb des Blaulichts durchlässt. Das verbleibende Silberbild wird dann aus dem photographischen Material durch allgemein bekannte Bleich- und Fixierverfahren entfernt.
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Gemäss den Beispielen dieser DT-OS dauert die Umwandlung des Silberhalogenids in den genannten Komplex drei bis fünf Minuten bei 200C, ^e nach der Art des verwendeten heterocyclischen Ammoniumsalzes.
Es wurde nun gefunden, dass Diazoniumsalze, Pyryliumsalze und Thiapyryliumsalze in entsprechender Weise Photomaskenbilder erzeugen, die für sichtbares Licht oberhalb des Blau transparent sind, wie die obigen heterocyclischen Ammoniumsalze. Gemäss dor Erfindung ist die Umwandlung des Silberhalogenids in einem gefärbten Silberkomplex innerhalb weniger als drei Minuten bei Zimmertemperatur (200C) möglich.
Gegenstand der Erfindung sind demnach Photomasken mit einem Träger, der gegenüber ultravioletter Strahlung und Bichfbarem Licht durchlässig ist, und einer Schicht, die ein Photomaskenbild enthält, dessen Bildteile einen Komplex aus einem Silberhalogenid und einem Diazonium-, Pyrylium- oder Thiapyryliumsalz enthalten, wobei der Komplex gegenüber ultravioletter Strahlung und Blaulicht im wesentlichen opak ist, jedoch fast alles sichtbares Licht im Wellenlängenbereich über 500 nm durchlässt.
Die Photomaske gemäss der Erfindung wird erhalten durch Behandlung eines photographischen Materials, welches in bildweiser Verteilung ein wasserunlösliches Silbersalz enthält, mit einer wässrigen Lösung, welche wenigstens ein Diazonium-, Pyrylium- und/oder Thiapyryliumsalz enthält.
Gemäss dem "Negativ-Positiv"-Verfahren wird eine bildweise belichtete, entwickelte und fixierte (das nicht-belichtete Silberhalogenid ist entfernt) Silberhalogenidemulsionsschicht mit einer oxidierenden Lösung behandelt, welche das erhaltene Silberbild wieder in ein wasserunlösliches Silbersalz überführt, beispielsweise mit einer wässrigen Oxidationslösung, die Cyanoferrat(III)-Ionen und Bromidionen enthält. Durch die letzteren Reaktionsteilnehmer wird das Silber wieder nach dem
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folgenden Reaktionsschema halogeniert :
Ag + K Pe(CN)6 + KEr * AgBr + K4Pe(CN)6
Das erhaltene wasserunlösliche Silbersalz wird dann mit einer wässrigen Lösung behandelt, welche das Diazoniumsalz enthält, vorzugsweise in Gegenwart von Hydroniumionen und Jodidionen, oder mit einer wässrigen Lösung, welche das Pyrylium- und/oder Thiapyryliumsalz enthält, vorzugsweise in Gegenwart eines mit V/asser mischbaren organischen Lösungsmittels, wie Dimethylformamid, was die Löslichkeit des Salzes verbessert.
Unter dem Ausdruck "wasserunlösliches Silbersalz" ist ein Silbersalz zu verstehen, dessen Löslichkeit in Wasser bei 2O°C unterhalb etwa 9.10"^ g pro 100 ml Wasser liegt. Bevorzugte wasserunlösliche Silbersalze zur Bildung des Komplexes siud Silberhalcgenide vom Chlorid-, Bromid- oder Jodidtyp oder Gemische davon. Die Silberhalogenidkörner sind vorzugsweise in einem hydrophilen Kolloid als Bindemittel verteilt.
Gemäss dem "Positiv-Positiv"-Verfahren wird ein lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial bildweise belichtet und entwickelt, um ein Silbermetallbild zu liefern, das ein Negativ des Originals ist. In den nicht-belichteten Teilen wird das zurückgelassene Silberhalogenid mit dem Diazoniumsalz, Pyrylium- und/oder Thiapyryliumsalz behandelt und somit ein gefärbter Koppler mit dem Silberhalogenid gebildet. Ohne Verschlechterung des gefärbten Komplexbildes wird das verbleibende Metallsilberbild dann in üblicher Weise durch Bleichen (Oxidation) und Fixieren (z.B. Komplexieren mit Thiosulfat) und Spülen entfernt.
Gemäss einem anderen Positiv-Positiv-Verfahren, das tatsächlich auf dem üblichen Schwarzweiss-Umkehr-Verfahren beruht, wird ein lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial bildweise belichtet und entwickelt, um ein Silberbild zu liefern, das negativ bezüglich des Originals ist, und das erhaltene Silberbild wird wieder oxidiert, z.B. mit Dichromat-Ionen, um ein nicht-photo-empfindliches Silbersalz zu bilden. Das so behan-
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delte Material wird einer Gesamtbelichtung mit aktinischer Strahlung unterzogen, gegenüber welcher das verbleibende Silberhalogenid empfindlich ist, wieder entwickelt und fixiert. Das erhaltene Silberbild wird darauf gebleicht und re-halogeniert. Das re-halogenierte Silberbild wird unter Bildung eines gefärbten Komplexbildes mit dem genannten Diazoniumsalz, Pyrylium- und/oder Thiapyryliumsalz behandelt.
Diazoniumsalze, die typisch für die zur Durchführung der Erfindung verwendbaren Art sind, stammen z.B. von p-Diaminen der Beiizolreihe oder p-Arylanilinen ab. Bevorzugt werden die Diazoniumsalze, die von p-Phenylendiamin abstammen, d.h. die an einer der Aminogruppen mono- oder dialkyl-substituiert sind, oder bei welchen eine der Aminogruppen Teil eines gesättigten heterocyclischen Rings bildet, z.B. eines Morpholinrings.
Diazoniumsalze, die sich besonders für die Zwecke der Erfindung eignen, sind in der folgenden Tabelle 1 aufgeführt :
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Tabelle 1
R„-
X"
Ko (CBL)2N- R2 H η X"*
H ZnCl4
0,H1-NH-
6 5 		H 2
2 0O E H 1 HSO4
3
ί 		H H ZnCl4
4 0 S- H 1 BF4
5 O^ V S- ,-OH3O- 6-CH3O- ZnCl4
~2
6 HCCH2OH2CO2H551, 2-CH3C- H 1 ZnCl3
7 H H ZnCl4
~2
8 H H 1 ZnCl,
9 C2H -<Q.- H 6-C2H5O 1 BP4 :
10 2-O2H5O- « (COO)2
2
Ein I^rylttimsalze und Thiapyryliumsalze, die sich, besonders für die Zwecke der Erfindung eignen, sind in der folgenden Tabelle 2 zusammengestellt.
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Tabelle 2
Ri
R,-
-JT
-GH,
-CH,
HIT TT TT Π £Χ Jj.
.-CH-
ClO,
ClO7
ClO,
Cl
Die Diazinium-Verbindungen werden durcn Diazotieren der entsprechenden primären Amine gemass einer in der Chemie bekannten Arbeitsweise hergestellt.
Die Pyryliumsalze, die auch "Pyroxoniumsalze" genannt werden, können gemass J.prakt.Chem. (6) (1971) S.1113-1117 hergestellt werden.
Die Thiapyryliumsalze können gemass Zh.Nauch.Prikl.Photogr. Kinematogr. 2 (1964) S.209-210 hergestellt werden.
Bei der beschriebenen Komplexbildung werden die Diazoniumsalze vorzugsweise in einer wässrigen Lösung in einer Konzentration von etwa 10"2 bis etwa 10"1 Mol/l verwendet.
Die Pyrylium- und Thiapyryliumsalze werden vorzugsweise in gelöster Form in einem Gemisch von Wasser und einem mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel, z.B. Dimethylformamid, GV.801 509834/0890
—4· —2
in einer Salzkonzentration von etwa 10" bis etwa 10 Mol/l eingesetzt.
Die Eeoxidation des Silberbildes beim "Negativ-Positiv"-Verfahren wird vorzugsweise mit einem Alkalicyanoferrat(III), z.B. Kaliumcyanoferrat(III), in einer Konzentration von 2 bis 10 Gewichtsprozent in Wasser in Gegenwart eines Alkalibrotnids, z.B. von Kaliumbromid, in einer Konzentration von 1 bis 7 Gewichtsprozent durchgeführt.
Das C.yanoferrat(III) kann ganz oder teilweise durch Kaliumdichromat ersetzt werden, wie es in einem gerbenden Bleichbad benutzt wird, (vgl. das Buch von P.Glafkides, Photographic Chemistry, Bd.II, Fountain Press, London (i960), S.666).
Ein geeignetes Bleich-Fixierbad zur Verwendung beim obigen "Positiv-Positiv"-Verfahren enthält Thiosulfationen, Bromidionen und Cyanoferrat(III)-Ionen (siehe das oben erwähnte Buch S. 633).
Um zu bestimmen, ob ein besonderes Diazonium-, Pyrylium- oder Thiäpyryliumsalz einen gefärbten Komplex mit hinreichender Opazität unter 500 nm und genügender Durchlässigkeit über 500 nm bildet oder nicht, kann eine nicht-belichtete Silberbromidemulsionsschicht einer Behandlung mit einer Lösung unterzogen werden; welche das zu untersuchende Salz enthält. Nach Trocknen der behandelten Schicht werden ihre spektralen Absorptionseigenschaften mit einem Densitometer unter Anwendung einer UV-Strahlungsquelle und eines geeigneten Filters, z.B. eines Sperrfilters, das das sichtbare Licht über 5OO nm ■durchlässt, bestimmt.
Die in Kombination mit den obigen Behandelungsflussigkeiten zur Herstellung von Photomasken verwendeten photographischen Silberhalogenidmaterialien enthalten vorzugsweise eine Emulsionsschicht von feinkörnigem Silberhalogenid, die Silberbromid-JodidkSrner mit einem maximalen Gehalt von 10 Mol % Silberjodid aufweist. Die Korngrösse liegt vorzugsweise
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unterhalb 0,1 pH» z.B. etwa O1O^ um. Bevorzugt werden Banilsiansschichten, die naclt Belichtung int Kontakt mit einem Linienraster eine Auf lösung von wenigstens 560 Linien/mct halten.
Die spektrale !Empfindlichkeit der SilberhalogenidenralsioneiL kann nach bekannten Methoden vergrossert oder verbessert werden, indem man spektral sensihilisiert mit gebräuchlichen Sensibilisierungsfarhstoffen, welche iiir Silberhalogenidemulsianen verwendet werden, z.B. Cyanin- und Merocyaninfarbstoffe ebenso wie andere Farbstoffe» wie sie von F.M. Hamer in "The cyanine dyes and related compounds"ι Interscience Publishers (1964} beschrieben werden. Biese Farbstoffe werden vorzugsweise in einer Menge im Bereich von 20 ng bis 250 mg pro MbI Silberhalogenid verwendet.
Die bilderzeugenden. Silberhalagenidemulsianen können chemisch durch irgendeines der bekannten Yerf ahren sensibilisiert werden. Sie können mit natürlich aktiver Gelatine oder mit geringen Mengen schwefelhaltiger Verbindungen wie Allyl— thiocyanat, Allylthioharnstoff, Hatriumthiosulfat usw. gereift werden- Sie können auch, mit Hilfe von Seduktions— mitteln sensibilisiert werden» z.B. mit Zinnverbindungen * wie sie in der GB-BS 789 823 beschrieben, sind, mit Polyaminen, z.B. Siathyltriamip. % und geringen Mengen von Edelmetall verbindungen wie Gold, Platin, Palladium, Iridiumt Ruthenium und Bhodium, wie von fi.Eoslowskyt Z.¥iss-Phot., 46, (Ί951), S.67-72, beschrieben. Typische Beispiele von Edelmetallverbindungen sind Aramoniumcliloropalladat, Kalium— chloroplatinat, JEaXiumchlaroaurat und Ealiumauritniaeyaiiat.
Ennilsionsstabilisierungsmittel und Antischleiermittel können den Silberhalogenidemulsionen zugefügt werden, z.B. die bekannten SaIf in- und Selensauren oder ihre Salze, aliphatischen aromatische oder heterocyclische Mercaptanverbindungen oder Disulfide, z.B. die in der IKC-OS 2 iOO 622 beschriebenen die vorzBLgsweise Sulfo- oder Carboxylgruppen umfassen, Quecksilberverbindungen, z.B. die in ä.en BE-PS 524 121, 67? 357,
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_ 10 -
707 386 und 709 195 beschriebenen» und Tetraazaindene, wie sie von Birr in Z.Viss.Phot. 47 (1952), S. 2-58 beschrieben werden» z.B. die Hydroxytetraazaindene der folgenden allgemeinen Formel :
OH
ι
t I 1
cir
worin bedeuten :
R, und R~ jeweils Wasserstoff, einen Alkyl-, Aralkyl- oder
Arylrest und
R-* Masserstoff, einen Alkyl—, Carboxyl— oder Alkoxy— carbonylrest, wie 5-Methyl-7-hydroxy-s-triazalj~1ι5-ajjpyrimidin.
Andere Zusätze können in einer oder mehreren der hydrophilen Kblloidschichten der strahlungsempfindlichen Silberhalogenidelemente der vorliegenden Erfindung vorliegen, so z.B. HartungsBtittel wie Formaldehyd, Maldehyde, Hydroxyaldehyde, Mucochlor— und Jfucobromsaure, Acrolein wad. Glyoxal. Die Photoplatten, wie die KECROMÄSK (eingetragenes Warenzeichen Agfa-Gevaert N.V.)-Platte, die eine Silberbrom;}odidemulsion axt mikro-feinem Korn von etwa 0,07 /um enthält, eignen sich besonders für das Verfahren der Erfindung, wobei das Auflösungsvermögen 2.000 Linien/cm übersteigt. Die MECROMÄSK-Platten werden mit Glasträgern in zwei Arten von Glas geliefert: " ausgewähltes Flachglas (selected flat glass)"t Bit einer Flachheitstoleranz von 0,001 cm/linearem cm und "ültra-Flach-glas (ultra-flat glass)", mit einer Flachheitstoleranz von 0,0002 cm/linearem cm.
Die Entwicklung wird vorzugsweise in einem hoch auflösenden hydrochinon enthaltenden Plattenentwickler mit einem pH-Vfert von etwa 10,8 durchgeführt.
Sie gemass der Erfindung hergestellten Photomasken sind besonders brauchbar bei der überlagerungsregistrierung, wenn mehr als eine Maske erforderlich ist.
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Es ist bekannt, dass die durchschnittliche integrierte Schaltung zehn oder mehr Masken erfordern kann. Die vorliegenden Photomasken sind jedoch nicht nur wertvoll bei der Herstellung von mikroelektronischen Vorrichtungen, einschliesslich von mikroelektronischen Schaltungen, sondern auch bei der Herstellung von üblichen gedruckten Schaltungen und Arbeiten auf dem Gebiet der Präzisionsmechanik, die durch Ätzen und/oder Elektroplattieren erzeugt werden sollen.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung.
Beispiel 1
Ein photographisches Silberhalogenidemulsionsmaterial mit mikro-feinem Korn, das eine Gelatine-Silberbromjodid-Emulsionsschicht mit Silberhalogenidkörnern einer mittleren Eorngrb'sse von 0,068 um enthält und auf einem Ultraflachglasträger aufgebracht ist, wurde durch ein Mikrodruck-Original belichtet und in üblicher Weise entwickelt und fixiert.
Das erhaltene Silberbild hatte eine optische Dichte von 2,3 bis 2,5-
Das Silberbild wurde mit der folgenden Bleichlösung gebleicht : KaliumcyanoferratClII) 60 g
Kaliumbromid 60 g
Wasser 1000 ml
Die Bleichung dauerte 2 min bei 20 bis 25°C.
Die gebleichte Platte wurde etwa 30 s mit Wasser gespült.
Das so behandelte Material wurde 30 s bis 2 min bei 200C
in die folgende Lösung getaucht, welche einen gefärbten
Silberkomplex bildete :
Zitronensäure 100 g
ein Diazoniumsalz von Tabelle 1 2.10 Mol
Kaliumiodid 10 g
Wasser 1000 ml
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2506U5
Die Platte wurde dann 30 s in Wasser gespült.
Die gefärbten Bildteile, die mit den ursprünglichen schwarzen Silberbildteilen übereinstimmten, hatten eine optische Dichte von mehr als 3 für kurzwelliges Licht bis zu 425 nm, und eine optische Dichte von mehr als 2 bis zu 460 nm. Der erhaltene Druck war ein gefärbtes Negativ des Mikrodruck-Originals.
Beispiel 2
Ein photographisches Material wie in Beispiel 1 beschrieben wurde durch ein Mikrodruck-Original exponiert, in üblicher Weise entwickelt und 30 s bei 200C in Wasser gespült.
Das gespülte Material wurde 30 s bis 2 min mit einer ein Diazoniumsalz enthaltenden Lösung wie in Beispiel 1 beschrieben behandelt. Das so behandelte photographische Material war in den exponierten Bereichen schwarz und in den nicht-belichteten Bereichen gefärbt.
Die Färbung war gelb, gelb-grün, grün oder orange-grün, je nach der Struktur der verwendeten Diazonium-Verbindung.
Das Material wurde gespült, worauf das Silberbild wie in Beispiel 1 gebleicht und mit einer Natriumthiοsulfat enthaltenden Fixierlösung fixiert wurde.
Schliesslich wurde eine positiv gefärbte Kopie des Mikrodruck-Original s erhalten.
Beispiel 3
Ein photographisches Silberhalogenidemulsionsmaterial mit mikro-feinem Korn, wie in Beispiel 1 beschrieben, wurde in üblicher Weise belichtet und entwickelt.
Das erhaltene Silberbild wurde mit einer saueren Kalium- dichromatlösung gebleicht und dann mit einer Natriumhydrogensulfitlösung behandelt.
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Anschliessend wurde das so behandelte Material einer Gesamtbelichtung mit aktinischer Strahlung unterworfen, gegenüber der das verbleibende Silberhalogenid empfindlich war, und dann wieder entwickelt und fixiert.
Auf diese Weise wurde ein positives schwarzes Silberbild mit einer optischen Dichte von etwa 2,5 (gemessen durch einen Sichtbar-Filter mit einem Macbeth QUANTALOG TD 102 (Warenzeichen) Densitometer) erhalten. Ein Sichtbar-Filter ist ein Filter, das nur sichtbares Licht durchlässt.
Das so erhaltene Silberbild wurde wie in Beispiel 1 beschrieben gebleicht und 30 s bis 2 min mit einer Lösung behandelt, die ein Diazoniumsalz enthielt, wie in Beispiel 1 beschrieben.
Es wurde eine transparente, gelb bis orsaige gefärbte Mikrokopie des Mikrodruck-Originals erhalten.
Beispiele 4-6
Die Beispiele 1 bis 3 wurden wiederholt mit dem Unterschied, dass die Behandlungslösung zur Erzielung eines gefärbten Silberkomplexbildes die folgende Zusammensetzung hatte :
Pyrylium- oder Thiapyryliumverbindung
von Tabelle 2 10~5 Mol
Dimethylformamid 100 ml
Wasser . 900 ml
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Claims (12)

  1. Patentansprüche
    (λJ Photomaske mit einem Träger, der für ultraviolette Strahlung und sichtbares Licht transparent ist, und einer Schicht, welche ein Photomaskenbild enthält, dadurch gekennzeichnet, dass die Bildteile des Photomaskenbildes einen Komplex eines Silberhalogenids und eines Diazonium-, Pyrylium- oder Thiapyryliumsalzes enthalten, wobei dieser Komplex gegenüber ultravioletter Strahlung und Blaulicht opak, jedoch für sichtbares Licht in einem Wellenlängenbereich über 500 nm in wesentlichen durchlässig ist.
  2. 2. Photomaske nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Biazoniumsalz von einem -p-Diamin der Benzolreihe oder von einem p-Arylanilin abgeleitet ist.
  3. 3. Photomaske nach Anspruch Λ oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Diazoniumsalz von p-Phenylendiamin abgeleitet ist, das an einer seiner Aminogruppen mono- oder dialkylsubstituiert ist, oder von dem eine der Aminogruppen Teil eines gesättigten heterocyclischen Ringes ist.
  4. 4. Verfahren zur Herstellung einer Photomaske durch Behandlung eines photographischen Materials, das in bildweiser Verteilung ein wasserunlösliches Silbersalz enthält mit einer wässrigen Lösung, die Verbindungen enthält, die das Silbersalz in ein gegenüber ultravioletter Strahlung und Blaulicht opakes für sichtbares Licht über 500 nm jedoch im wesentlichen lichtdurchlässiges Bild überführt, dadurch gekennzeichnet, dass die wässrige Lösung wenigstens ein Diazonium-, Pyrylium- und/ oder Thiapyryliumsalz enthält.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass ein photographisches Material verwendet wird, das als wasserunlösliches Silbersalz ein photo-empfindliches Silberhalogenid enthält.
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    ..- 15 -
  6. 6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass ein photographisches Material verwendet wird, das das wasserunlösliche Silbersalz in bildweiser Verteilung enthält, das durch Belichtung, Entwicklung und Fixierung eines lichtempfindlichen Materials mit mindestens einer Silberhalogenidemulsionsschicht und Überführung des so erhaltenen Silberbildes durch Behandlung mit einer oxidierenden Lösung in das wasserlösliche Silbersalz erzeugt wird}und das so behandelte Material mit dem Diazonium-, Pyrylium- und/oder Thiapyryliumsalz zur Erzeugung des Photomaskenbildes behandelt wird.
  7. 7· Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dans das Diazoniumsalz in einer wässrigen Lösung in Gegenwart von Hydronium- und Jodidionen verwendet wird.
  8. 8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Pyrylium- und/oder Thiapyryliumsalz in Gegenwart eines mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittels, welches die Löslichkeit dieses Salzes in wässrigem Medium verbessert, verwendet wird.
  9. 9. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass ein photographisches Material verwendet wird, das ein durch bildweise Belichtung und Entwicklung erzeugtes Silberbild und in den nicht-belichteten Bezirken ein Silberhalcgenidbild enthält, das ein Positiv des Originals ist, und das Material mit dem Diazoniumsalz, Pyryliumsalz und/oder Thiapyryliumsalz unter Bildung eines Komplexes mit dem Silberhalogenid und das Silbermetallbild ohne nachteilige Beeinflussung des Komplexbildes anschließend durch Bleichen, Fixieren und Spülen des photographischen Materials entfernt wird.
  10. 10. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein photographisches Material verwendet wird, das ein durch bildweise Belichtung und Entwicklung und anschließende Behandlung des entstandenen Silberbildes in Gegenwart einer das Bildsilber in lichtunempfindliche Silberverbindung überführende Verbindung erzeugtes negatives Bild einer lichtunempfindlichen Verbindung und in den nicht belichteten Bezirken ein Silber-
    GV. 801
    50983 47 0890
    halogenidbild enthält, das ein Positiv des Originals ist und das Material zunächst einer Gesamtbelichtung mit aktinischem Licht, gegenüber welchem das verbleibende Silberhalogenid empfindlich ist, unterworfen wird, anschließend wieder entwickelt und fixiert wird und das so erhaltene Silberbild nach Bleichung und Rehalogenierung mit dem Diazoniumsalz, Pyryliumsalz und/oder Thiapyryliumsalz unter Bildung eines Komplexbildes behandelt wird.
  11. 11.Verfahren nach einem der Ansprüche 4- bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass ein Diazoniumsalz verwendet wird, das von einem p-Diamin der Benzolreihe oder von einem p-Arylanilin abgeleitet ist.
  12. 12.Verfahren nach einem der Ansprüche 4- bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass ein Diazoniumsalz verwendet wird, das von p-Phenylendiamin abgeleitet ist, welches an einer seiner Aminogruppen mono- oder dialkyl-substituiert ist, oder bei welchem eine der Aminogruppen Teil eines gesättigten heterocyclischen Ringes ist.
    13·Verfahren nach einem der Ansprüche 4- bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Diazoniumsalz in einer wässrigen Lösung
    —P —1
    in einer Konzentration von etwa 10" bis etwa 10" Mol/l verwendet wird.
    14·.Verfahren zur Herstellung einer mikroelektronischen Vorrichtung, einer gedruckten Schaltung oder von feinmechanischen Erzeugnissen durch Ätzung und/oder Elektroplattierung, dadurch gekennzeichnet, dass eine Photoätzreserveschicht auf dem zu ätzenden oder zu galvanisierenden Materials bildweise durch eine Photomaske belichtet wird, die wie in einem der Ansprüche 4- bis 15 beschrieben hergestellt ist.
    GV. 801
    509834/0890
DE19752506445 1974-02-19 1975-02-15 Verfahren zur herstellung von photomasken Withdrawn DE2506445A1 (de)

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GB (1) GB1493111A (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2487089A1 (fr) * 1980-07-21 1982-01-22 Drexler Tech Matiere a deux couches photosensibles pour enregistrement d'informations
WO2009067160A1 (en) * 2007-11-20 2009-05-28 Eastman Kodak Company Use of gradient colored mask
US8756659B2 (en) 2007-04-19 2014-06-17 At&T Intellectual Property I, L.P. Access authorization servers, methods and computer program products employing wireless terminal location

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4211834A (en) * 1977-12-30 1980-07-08 International Business Machines Corporation Method of using a o-quinone diazide sensitized phenol-formaldehyde resist as a deep ultraviolet light exposure mask
US4225659A (en) * 1979-04-10 1980-09-30 Drexler Technology Corporation Method for making thermochromic photomasks

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL162215C (de) * 1967-07-03 Ibm
US3506442A (en) * 1968-09-27 1970-04-14 Bell Telephone Labor Inc Photomask modification and registration test methods
US3639125A (en) * 1969-01-10 1972-02-01 Ibm Process for producing photographic relief patterns
US3716363A (en) * 1971-02-05 1973-02-13 Gte Laboratories Inc Method of making photomasks of the type used in the fabrication of microelectronic circuits

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2487089A1 (fr) * 1980-07-21 1982-01-22 Drexler Tech Matiere a deux couches photosensibles pour enregistrement d'informations
US8756659B2 (en) 2007-04-19 2014-06-17 At&T Intellectual Property I, L.P. Access authorization servers, methods and computer program products employing wireless terminal location
US9262877B2 (en) 2007-04-19 2016-02-16 At&T Intellectual Property I, L.P. Access authorization servers, methods and computer program products employing wireless terminal location
WO2009067160A1 (en) * 2007-11-20 2009-05-28 Eastman Kodak Company Use of gradient colored mask
US8173355B2 (en) 2007-11-20 2012-05-08 Eastman Kodak Company Gradient colored mask

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Publication number Publication date
GB1493111A (en) 1977-11-23
US4004925A (en) 1977-01-25
BE825234A (nl) 1975-08-06

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