DE2460547C2 - Verfahren zur Herstellung einer photothermographischen Beschichtungsmasse sowie photothermographisches Aufzeichnungsmaterial - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer photothermographischen Beschichtungsmasse sowie photothermographisches Aufzeichnungsmaterial

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DE2460547C2
DE2460547C2 DE2460547A DE2460547A DE2460547C2 DE 2460547 C2 DE2460547 C2 DE 2460547C2 DE 2460547 A DE2460547 A DE 2460547A DE 2460547 A DE2460547 A DE 2460547A DE 2460547 C2 DE2460547 C2 DE 2460547C2
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Description

dadurch gekennzeichnet, daß man frühestens während des Vermlschens der Komponenten (A) bis (F) zusätzlich die Komponente (G), bestehend aus einem Alkalljodld, In einer Konzentration von 0,01 bis 0,5 2« Mol pro Mol des in der Komponente (C) enthaltenen SUberhalogenlds, zumischt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man der Komponente (A) die übrigen Komponenten In folgender Reihenfolge zumischt:
1): C-D-E-B-G, 25 H): D-C-E-B-G,
III): D-G-C-E-B oder IV): G-D-C-E-B.
3. Verfahren nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, daß man der Komponente (C) die übrigen M) Komponenten In folgender Reihenfolge zumischt:
V): D-G-A-E-B oder VI): G - D - A - E - B.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man als Alkalljodld gemäß Kompo
nente (G) Lithiumiodid verwendet.
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man als organisches Silbersalze gemäß Komponente (A) Silberbehenat verwendet.
6. Verfahren nach Anspruch 1 b's 3, dadurch gekennzeichnet, daß man als Reduktionsmittel gemäß 4u Komponente (B) ein Sulfonamidophenol oder ein Sulfonamidonaphthol verwendet.
7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man als synthetisches Polymer gemäß Komponente (C) Poly(vlnylbutyral) verwendet. ;
8. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man als Toner gemäß Komponente (D) Succlnlmid verwendet.
9. Photothermographisches Aufzeichnungsmaterial aus einem Schichtträger und mindestens einer photothermographlschen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß es als photothermographlschc Schicht eine aus dem Verfahren nach Anspruch 1 bis 8 hergestellte Beschlchtungsmasse aufweist.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer phtotothcrmographlschcn Beschlchtungsmasse durch Vermischen der folgenden Komponenten:
(A) einer Dispersion eines llchtstabllen organischen Silbersalzes In einem aus einem synthetischen Polymeren bestehenden Bindemittel,
(B) eines organischen Reduktionsmittels für Sllberloncn,
(C) einer Dispersion eines lichtempfindlichen SUberhalogenlds In einem aus einem synthetischen Polymeren bestehenden Bindemittel,
6(i (D) eines Toners,
(E) eines aus einem synthetischen Polymeren bestehenden Bindemittels,
sowie gegebenenfalls ι.·> (I·) eines spektral senslblllslerenden Farbstoffs.
Des weiteren betrifft die Erfindung ein pholothermographlsches Aufzeichnungsmaterial aus einem Schichtträger und mindestens einer photothermographlschcn Schicht.
Unter photothermographslchen Aufzeichnungsmateriallen versteht man bekanntlich Aufzelchnungsmaterlallen, die nach der bildweisen Belichtung durch Erhitzen In Abwesenheit einer Entwicklungsflüssigkeit entwikkelt werden können.
Photothermographische Aufzelchnungsmaterlallen sowie Verfahren zu Ihrer Herstellung sind beispielsweise aus den BE-PS 7 65 452, 7 65 601, 7 65 601, 7 66 590, 7 66 589 uod 7 72 371, den US-PS 31 52 904, 34 57 075 und 33 92 020 sowie der GB-PS 11 61 777 bekannt.
Nachteilig an diesen photothermographlschen Aufzelchnungsmaterlallen Ist, daß ihre Lichtempfindlichkeit noch zu wünschen Dbrlg läßt. Es hat daher nicht an Versuchen gefehlt, die Lichtempfindlichkeit der photothermographlschen Aufzeichnungsmaterialien zu erhöhen. Es hat des weiteren nicht an Versuchen gefehlt, den Kontrast der erzeugten Bilder zu erhöhen.
Ein bekanntes Verfahren zur Erhöhung der Lichtempfindlichkeit photothermographlscher Aufzelchnungsmateriailen, das z. B. aus der US-PS 34 57 07S bekannt ist, besteht darin. Im Aufzeichnungsmaterial lichtempfindliches Silberhalogenid zu erzeugen. In einem so'chen Falle spricht man von »In situ« erzeugtem Silberhalogenid. Die Erzeugung von »In situ« erzeugtem lichtempfindlichen Silberhalogenid 1st jedoch schwierig zu steuern. Infolgedessen 1st es zweckmäßig, das lichtempfindliche Silberhalogenid getrennt von den anderen Komponenten is einer photothermographslchen Beschlchtungsmasse herzustellen und dann das Silberhalogenid mit den übrigen Komponenten zu vermischen. Ein solches, getrennt von den anderen Komponenten einer photothermographischen Beschlchiungsmasse hergestelltes Silberhalogenid wird als »ex sltu«-SUberhalogenld bezeichnet. Photothermographlsche Aufzelchnungsmaterialien mit sogenanntem »ex slUw-Sllberhalcgenld sind beispielsweise aus der BE-PS 7 74 436 bekannt. Die aus dieser Patentschrift bekannten photothermographlschen Aufzelchnungs- Jo materialien enthalten Silberhalogenid, das unter Verwendung eines aus einem Polymeren bestehenden Peptisationsmittel hergestellt wurde. Ein typisches geeignetes, aus einem Polymeren bestehendes Peptisationsmittel für diesen Zweck Ist Polyvinylbutyral. Das zunächst »ex situ« hergestellte Silberhalogenid kann dann mit den anderen Komponenten einer photothermographlschen Beschlchtungsmasüe vermischt werden, und zwar mit der ein Bild erzeugenden Kombination aus einem llchtstabllen organischen Silbersalz und einem organischen Reduktionsmittel sowie gegebenenfalls anderen Komponenten. Dieses Silbersalz kann beispielsweise aus Sllberbehenat bestehen und das organische Reduktionsmittel aus einem Sulfonamldophenol.
Aus der US-PS 36 79 422 1st es weiterhin bekannt, pholothermographlschen Aufzelchnungsmaterlallen zur Erhöhung der Empfindlichkeit Onlumhalogenlde zuzusetzen. Bei diesen Onlumhalogenlden handelt es sich um quaternare Ammonium- oder Phosphonlumhalogenlde sowie tertlSre Sulfonlumhalogenlde. Es hat sich jedoch ■'» gezeigt, daß die hierdurch crzlelbare Erhöhung der Empfindlichkeit noch nicht befriedigt. Auch hat sich gezeigt, daß die bloße Zugabe von Sllberjodld zu einer photothermographlschen Beschlchtungsmasse mit einer ein Bild erzeugenden Kombination aus einem llchistabllen organischen Silbersalz und einem organischen Reduktionsmittel, z. B. einer Kombination aus Silberbehenat und einem Sulfonamldophenol, mit in Gegenwart von Polyvinylacetat peptlslertem Silberhalogenid In einem polymeren Bindemittel nicht zu der gewünschten Erhöhung der M Lichtempfindlichkeit führt.
Es 1st des weiteren bekannt, z. B. aus der Zeltschrift »Photographic Science and Engineering«, Band 14, Nr. 4, Juli-August 1970, Selten 258 bis 261 und 262 bis 268, bestimmten lichtempfindlichen Aufzelchnungsmaterialien auf Silberhalogenldbasls Jodlde zuzusetzen.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung einer photothermographlschen Beschlchtungs- -w müsse anzugeben, mit der sich die Lichtempfindlichkeit photothermographlscher Aufzelchnungsmaterlallen erhöhen läßt, ohne daß dabei andere wünschenswerte sensltometrlsche Eigenschaften der Aufzelchnungsmaterlallen benachteiligt werden.
Gelöst wird die gestellte Aufgabe dadurch, daß man frühestens wahrend des Vermlschens der Komponenten (A) bis (F) zusätzlich die Komponente (G), bestehend aus einem Alkalljodld, in einer Konzentration von 0,01 *5 bis 0,5 Mol pro Mol des In der Komponente (C) enthaltenen Sllberhalogenlds, zumischt. Vorzugswelse wird als Alkalijodld ein Alkallmetalljodld, wie beispielsweise Lithiumiodid, verwendet. Es kann jedoch auch Animonlumjodld verwendet werden.
Vorzugswelse wird als Toner ein aus einem cyclischen ImId bestehender Toner verwendet.
Die Tatsache, daß durch den Zusatz eines Alkalijodides die Lichtempfindlichkeit einer photothermographl- >■' sehen Beschlchtungsmasse wesentlich erhöht wird, Ist überraschend. Das Alkalljodld kann mit den übrigen Komponenten der Beschlchtungsmasse zu verschiedenen Zeltpunkten der Herstellung der Beschlchtungsmasse vermischt werden, wobei der im Einzelfalle günstigste Zeltpunkt von verschiedenen Faktoren abhängen kann, z. B. den für die blldwelse Belichtung angewandten Wellenlängen und den einzelnen Komponenten der Beschlchtungsmasse.
Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung verfährt man In der Welse, daß man der Komponente (A) die übrigen Komponenten In folgender Reihenfolge zumischt:
I): C - D - E - 3 - G,
II): D-C-E-B-G, w'
III): D-G-C-E-B oder
IV): G-D-C-E-B.
Der bloße Zusatz von beispielsweise einer Sllberjodldemulslon zur photothermographlschen Beschlchtungsmasse anstatt des Alkalljodldes führt demgegenüber nicht zur gewünschten Erhöhung der Lichtempfindlichkeit. <* Das beim Verfahren der Erfindung zugesetzte Alkalljodld wird vorzugsweise In Konzentrationen von 0,01 bis 0,50 Mol pro Mol lichtempfindliches Silberhalogenid zugesetzt. Besonders vorteilhafte Konzentrationen an Alkalijodld liegen bei 0,01 bis 0,05 Mol Jodld, beispielsweise Lithiumiodid, pro Mol lichtempfindliches Silber-
halogenid.
Erfindungsgemäß verwendbare Alkalljodlde sind außer den bereits genannten, beispielsweise Natrlumjodld, Kaliumiodid, Mischungen hiervon sowie Ammoniumjodld. Die Auswahl des Im Einzelfalle günstigsten Alkalljodides und der günstigste Zeitpunkt seines Zusatzes hangen von der Zusammensetzung der Im Einzelfalle verwendeten photothermographlschen Beschlchtungsmasse, der Art des gewünschten Bildes, d. h. den physikalischen und visuellen Charakterlstlka und den Entwicklungsbedingungen ab.
Die Verwendung von Lit>Jumjodld hat sich dann als besonders vorteilhaft erwiesen, wenn als organisches Reduktionsmittel für Sllberlonen ein Sulfonamldophenol und wenn als lichtstabiles organisches Silbersalz
beispielsweise Silberbehenat verwendet werden, wenn das »ex situ« erzeugte Silberhalogenid aus mit Polyvlny!-
i» butyral peptlslertem lichtempfindlichem S.iberbromld besteht und wenn ferner als Bindemittel Polyvinylbutyral
ausgewählt wird.
Die Im Einzelfalle günstigste Methode der Herstellung der photothermographlschen Beschlchtungsmasse aus einer Dispersion einer ein Bild erzeugenden Kombination aus einem lichtslabilen organischen Silbersalz und einem organischen Reduktionsmittel sowie von »ex situ« hergestelltem, mittels eines synthetischen Polymeren peptlsleriem, lichtempfindlichen Silberhalogenid und einem Toner In einem polymeren Bindemittel kann etwas von der speziellen Zusammensetzung des im Einzelfalle verwendeten photothermographlschen Aufzeichnungsmaterials, dem Typ der herzustellenden Bilder und den Entwicklungsbedingungen abhängen.
Das Vermischen der einzelnen Komponenten kann nach bekannten Methoden In üblichen Mlschvorrlchtungen erfolgen, z. B. einer Kugelmühle, wie es beispielsweise aus der BE-PS 7 74 436 bekannt Ist. 2» Das lichtstabile organische Silbersalz kann beispielsweise aus dem Silbersalz einer organischen Säure, z. B. einer Fettsäure, bestehen, beispielsweise Sllberstearat, Sllberoleal, Silberlaureat, Sllberhydroxyslearat, Sllbercaprat, Sllbermyristat und Sllberpalmltat. Vorzugswelse wird Silberbehenat verwendet.
Verwendbar sind jedoch auch solche Hchtstablle organische Silbersalze, die keine Silbersalze von Iangkettlgen Fettsäuren sind. Derartige Silbersalze sind beispielsweise Sllberbenzoal, Sllberbenzotrlazol, Sllberterephthalat und Sllberphthalat.
Als organische Reduktionsmittel können übliche organische Reduktionsmittel eingesetzt werden. Als besonders vorteilhaft hat sich die Verwendung von Sulfonamldorhenolen und Sulfonamldonaphtholen erwiesen, deren Verwendung als Reduktionsmittel In photothermographlschen Aufzelchnungsmaterlallcn beispielsweise aus der BE-PS 8 02 519 bekannt Ist.
■1{> Erfindungsgemäß verwendbare Sufonamldophenole sind des weiteren beispielsweise aus der CA-PS 8 15 526 bekannt.
Eine vorteilhafte Klasse von Sufonamldophenolen, die verwendet werden kann, läßt sich durch die folgende allgemeine Formel wiedergeben:
35 OH
worin bedeuten:
R1 und R2 jeweils einzeln ein Wasserstoff-, Chlor-, Brom- oder Jodatom, einen Alkylrcst mit I bis 4 Kohlcn-
J5 Stoffatomen, z. B. einen Methyl-, Äthyl-, Propyl- oder Butylrest, einen Arylrest mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen, z. B. einen Phenyl- oder Tolylrest, einen Arylsulfonylrest mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen, z. B. einen Phenylsulfonylrest, einen Amino- oder Hydroxyrest, einen Alkoxyrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, /.. B. einen Methoxy- oder Äthoxyrest, oder gemeinsam die Atome, die zur Vervollständigung eines Naphthalinringes erforderlich sind;
Z' und Z3 jeweils ein Wasserstoff-, Brom- oder Chloralom, einen Alkylrest mit I bis 4 Kohlenstoffatomen, einen Arylrest mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, z. S. einen Phenyl- oder Tolylrest, einen Arylsulfonylrest mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen, einen Amino- oder Hydroxyrest, einen Alkoxyrcsl mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, z. B. einen Methoxy- oder Äthoxyrest, einen Rest der Formel R6SO2NH-, worin R* ein Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen ist. ι. B. ein Methyl-, Äthyl-, Propyl- oder Butylrest, oder ein Arylrest mit 6 bis 10 Kohlen-
?< sioffaiomen. z. B. ein Phenyl- oder Tolylrest Ist, und schließlich heterocyllsche Reste, z. B. Thlenyl-, Chlnolinyl- oder Thiazylreste oder Reste der Formeln
HO—/ΟΥ-NHSO2-<^o\— oder HO-^o\— NHSO2
Z2 ein Wasserstof'fatom oder einen Alkylrest mit I bis 4 Kohlenstoffatomen, beispielsweise einen Methyl-, Äthyl-, Propyl- oder Butyirest, oder ein Chlor- oder Bromatom, wenn R' und R2 eine andere Bedeutung haben als die Atome, die zur Vervollständigung eines Napht^allnrlnges erforderlich sind, wobei gilt, daß mindestens einer der Reste Z1, Z1 und Z1 ein Rest der Formel R6SO2NH- Ist.
Die erwähnten Alkyl-, Alkoxy- und Arylreste können wiederum substituiert sein, beispielsweise durch Alkylreste mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen, z. B. Metzyl-, Äthyl- oder Propylrestc, und/oder Chlor- und/oder Bromaiome oder Phenylreslc. In manchen Fällen Ist es zweckmäßig, einen Amlnorcst als Substltuentcn zu vcr-
melden. Ein Amlnorest kann in manchen Fällen zu einem Reduktionsmittel mit besonderer Aktivität fuhren, d. h. einem Reduktionsmittel, das auch ohne Katalysator mit dem Oxidationsmittel zu reagieren vermag. Eine besonders vorteilhafte Klasse von aus Sulfonamldophenolen bestehenden Reduktionsmitteln laßt sich durch die folgende allgemeine Formel wiedergeben:
NHSO2-R3
worin bedeuten:
R5 einen Phenyl-, Naphthyl-, Methylphenyl-, Thlenyl-, Chlnollnyl-, Thlazylrest oder einen Alkylrest mit 1 bis 4 υ Kch'criStoffstcrrisn', R4 ein Wasserstoffatom, einen Rest der Formel R3SO2NH-, worin RJ die angegebene Bedeutung hat, einen Alkoxyrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, einen Hydroxyrest, einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen
oder ein Brom- oder Chloratom;
R5 ein Wasserstoff-, Brom- oder Chloratom, einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, z. B. einen Methyl-, Äthyl-, Propyl- oder Butylrest, oder einen Alkoxyrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, z. B. einen Methoxy-, Äthoxy- oder Propoxyrest.
Die Reste R3, R4 und/oder R! können des weiteren wiederum substlutlert sein. Bei diesen Substltuenten kann es sich um die gleichen Substltuenten handeln, wie im Falle der Erläuterung der Formel I angegeben.
Eine andere vorteilhafte Klasse von geeigneten Reduktionsmitteln sind Sulfonamidonaphthole der folgenden allgemeinen Formel:
NHSO2-(T O
Der Sulfonamldophenolrest kann sich dabei In ortho-, meta- oder para-Posltlon befinden. Bei diesen Sulfonamldonaphtholen handelt es sich um besonders aktive Verbindungen der allgemeinen Klasse der Sllfonamido- phenol-Reduktionsmlttel. Auch gilt, daß Sulfonamldophenole mit drei Sulfonamldophenolresten besonders aktiv sind. Bei Verwendung von derartigen Sulfonamldophenolen lassen sich besonders kurze Entwicklungszeiten erreichen. Auch lassen sie sich In vorteilhafter Welse mit solchen llchtstabllen organischen Silbersalzen verwenden, die weniger aktiv sind als Silberbehenat.
In manchen Fallen kann die Bildauflösung bei Verwendung von Sulfonamldonaphtholen und drei funktlonel- -to len Sulfonamldophenolen etwas geringer sein als bei Verwendung von anderen Sulfonamldophenolen.
Außer einzelnen Sulfonamidophenolen und Sulfonamldonaphtholen können auch Kombinationen der verschiedensten Sulfonamldophenole und Sulfonamidonaphthole verwendet werden. Als besonders vorteilhafte Sulfonamidophenol-Reduktlonsmittel haben sich Benzolsulfonamldophenol-RedukUonsmittel, beispielsweise 2,6-Dlchlor-4-benzolsulfonamldophenol und/oder 4-Benzolsulfonamldophenol, erwiesen. «
Andere organische Reduktionsmittel, die sich allein oder in Kombination mit Sulfonamldophenol-Reduktionsmltteln verwenden lassen, sind substituierte Phenole und Naphthole, beispielsweise Bis-0-naphthole, wie sie beispielsweise aus der US-PS 36 72 904 bekannt sind. Besonders vorteilhafte Bis-/)-naphthole sind beispielsweise 2,2'-D!hydroxy-l,l'-dlnaphthyl; 6,6'-Dlbrom-2,2'-dihydroxy-l,r-blnaphthyl; 6,6'-Dlnltro-2,2'-dlhydroxy-l,l'-blnaphthyl und/oder Bls-(2-hydroxy-l-naphthol)-methan.
Andere vorteilhafte Reduktionsmittel, die erflndungsaemaß verwendbar sind, sind Polyhydroxybenzole, z. B. Hydrochinon, durch Aikyiresie subsiituierte iiydrochlnonc, z. B. tert.-Butyihydroehtnon, Methylhydrochlnon, 2,5-Dimethylhydrochinon und 2,6-Dimethylhydrochlnon, ferner Brenzkatechlne und Pyrogallol, ferner Aminophenole, beispielsweise 2,4-Dlaminophenole und Methylaminophenole, Ascorbinsäureverbindungen, beispielsweise Ascorbinsäure selbst und Ascorblnsaurederlvate, z. B. Ascorblnsäureketale, Hydroxylamine und 3-Pyrazoiidone, z. B. 1 -Phenyl-3-pyrazolldon. Auch können Kombinationen der verschiedensten Reduktionsmittel verwendet werden. Das lim Einzelfalle günstigste Reduktionsmittel oder die Im Einzelfalle günstigste Reduktionsmittelkombination hängt von der speziellen Zusammensetzung der photothermographlschen Schicht ab, z. B. dem verwendeten llchtstabllen organischen Silbersalz, den Entwicklungsbedingungen und der Art des erwünschten Bildes.
Als Toner können die verschiedensten üblichen bekannten Toner verwendet werden. Die Toner werden dabei oftmals auch als sogenannte Aktlvator-Tonerverblndungen bezeichnet. Vorzugswelse wird als Toner ein cyclisches ImId verwendet, vorzugsweise In einer Konzentration von 0,1 bis 1,1 Mol pro Mol llchtstablles organisches Silbersalz.
Typische verwendbare Toner sind beispielsweise aus der BE-PS 7 66 590 bekannt. In vorteilhafter Weise »S besteht der Toner beispielsweise aus Phthalimid, N-Hydroxyphthallmld, N-Hydroxy-l,8-naphthallmld, N-KaIlumphthallmid, N-Quecksliberphthallmid, Succlnlmld und/oder N-Hydroxysucdnlmld. Auch können Kombinationen von Tonern verwendet werden. Andere geeignete Tcner sind beispielsweise Phthalazlnonverbindungen,
beispielsweise Phthalazines und 2-Acetyl-phthalazlnon.
Als Bindemittel können die verschiedensten Nlcht-Gelatineblndemlttel verwendet werden. Die Bindemittel können dabei aus hydrophoben oder hydrophilen Bindemitteln bestehen. Sie können transparente Schichten bilden und beispielsweise aus synthetischen polymeren Stoffen, wie In Wasser löslichen Polyvlnyiverblndungen, beispielsweise Polyvinylpyrrolidon und Acrylamldpolymeren, bestehen. Auch können zur Herstellung der Beschlchtungsmassen und zum Aufbau der Schichten dlsperglerte Polyvlnyiverblndungen, beispielsweise In Latexform, verwendet werden, und zwar Insbesondere solche, welche zur Erhöhung der Dlmenslonsstabllltät des Aufzeichnungsmaterials beitragen. Vorteilhafte Polymere zum Aufbau der Schichten sind beispielsweise In Wasser unlösliche Polyester und Polycarbonate sowie Polymere aus Alkylacrylaten und Alkylmethacrylaten,
I» Acrylsäure, Sulfoalkylacrylaten und Sulfoalkylmethacrylaten und solche Polymeren, welche quervernetzbare Zentren aufweisen, welche die Härtung erleichtern, wie auch solche Polymere, die wiederkehrende Sulfobetalnelnhelten aufweisen, wie sie beispielsweise aus der CA-PS 7 74 054 bekannt sind. Zum Aufbau der Schichten besonders geeignete Bindemittel sind hochmolekulare Polymere, wie beispielsweise Polyvinylbutyral, Celluloseacetatbutyrate, Polymethylmethacrylate, Polyvinylpyrrolidone, Äthylcellulose, Polystyrole, Polyvinylchloride, chlorierte Gummis, Polyisobutylen, Butadlen-Styrolcopolymere, Vlnylchlorld-Vlnylacetatcopolymere, Copolymere des Vinyiacetats, des Vinyichiorides und der Maleinsäure sowie Polyvinylalkohol.
Die Alkalijodlde können mit den übrigen Bestandteilen der photothermographlschcn Beschlchtungsmasse zu verschiedenen Zeltpunkten der Herstellung der Beschlchtungsmasse vermischt werden. Der optimale Zellpunkt der Zugabe hängt dabei von solchen Faktoren wie der zur bildweisen Exponierung des photothermogra-
2" phlschen Aufzeichnungsmaterial verwendeten Wellenlänge ab, den speziellen anderen Bestandteilen der photothermographlschen Beschlchtungsmasse bzw. photothermographlschen Schicht, der gewünschten Art des Bildes und dem Im Einzelfalle verwendeten Toner.
Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung erfolgt die Herstellung einer photothermographlschen Beschlchtungsmasse In der Welse, daß man ausgeht entweder von der Komponente (A) und die übrigen
25 Komponenten In folgender Reihenfolge zumischt:
I): C-D-E-B-G, II): D-C-E-B-G, III): D-G-C-E-B oder 3» IV): G-D-C-E-B;
oder von der Komponente (C) und die übrigen Komponenten In folgender Reihenfolge zumischt:
V) D-G-A-E-B oder 35 VI) G - D - A - E - B.
Oftmals hat es sich als besonders vorteilhaft erwiesen, nach Vermischen des Alkalljodlds mit den anderen Komponenten der Beschlchtungsmasse die Beschlchtungsmasse eine bestimmte Zeitspanne lang aufzubewahren, bis die erwünschte Empfindlichkeit der Beschlchtungsmasse erreicht Ist, d. h. 10 Sekunden bis 48 Stunden bei
*i Raumtemperatur, d. h. bei 20 bis 30° C, bevor eine Weiterverarbeitung erfolgt. Ganz offensichtlich erfolgen bei dieser Aufbewahrung bestimmte Reaktionen, welche sich günstig auf die Erhöhung der Lichtempfindlichkeit der Masse auswirken. Der genaue Mechanismus derartiger Reaktionen, die stattfinden können. Ist jedoch noch
nicht geklärt.
Nach der Aufbewahrungszelt kann die Beschlchtungsmasse In üblicher Welse auf einen üblichen Schlchtträ-
·»' ger aufgetragen werden, bestehend beispielsweise aus Cellulosenitrat, Celluloseestern, Polyvinylacetat, Polystyrol, Polyäthylenterephthalat, Polycarbonaten und dergleichen. Als Schichtträger können jedoch auch solche aus Glas, Papier, Metall und dergleichen verwendet werden, sofern sie den Entwicklungstemperaturen zu widerstehen vermögen. In typischer vorteilhafter Welse werden flexible Schichtträger verwendet.
Gegebenenfalls kann es vorteilhaft sein, einen Bildstabilisator und/oder eine Blldslablllsatorvorläuferverbln-
5i> dung zuzusetzen, z. B. aus der BE-PS 7 68 071 bekannte. Sie bestehen beispielsweise aus Azolthloäthern und blockierten Azolinthlonen, die aus der zitierten BE-PS und des weiteren auch aus der US-PS 37 00 457 bekannt sind.
Den Beschlchtungsmassen können des weiteren die verschiedensten üblichen Zusätze einverleibt werden, beispielsweise Entwicklungsmodlflzlerungsmittel, welche als zusätzliche, die Empfindlichkeit erhöhende Verblndüngen wirken, ferner Härtungsmittel, antistatisch wirksame Verbindungen, Plastifizierungsmittel, Gleitmittel, Beschichtungshllfsmittel, optische Aufheller, spektral senslbillsierende Farbstoffe und Absorptions- und Filterfarbstoffe, wie sie beispielsweise In der Zeltschrift »Product Licensing Index«, Band 92, Dezember 1971, Publikation 9232, Selten 107-110, beschrieben werden.
In vorteilhafter Weise werden zur Herstellung der erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien spektral
w sensiblllsierende Farbstoffe verwendet, um eine zusätzliche Empfindlichkeit der Aufzelchnungsmaterlallen herbeizuführen. Typische geeignete Sensiblllslerungsfarbstoffe werden In der Zeitschrift »Product Licensing Index«, Band 92, Dezember 1971, Publikation 9232 auf Selten 107 bis 110 In Abschnitt XV und In der BE-PS 2 72 371 beschrieben. Wird beispielsweise ein erfindungsgemäßes photothermographlsches Aufzeichnungsmaterial blldwelse einem sogenannten roten Laser exponiert, so kommt ein spektral senslblllslcrender Farbstoff in Frage, welcher zu einer Empfindlichkeit gegenüber dem roten Bereich des Spektrums führt.
Das Auftragen der Beschlchtungsmasse kann nach üblichen bekannten Beschlchtungsmethoden erfolgen, beispielsweise durch Tauchbeschichtung, Beschichtung mittels eines Luftmessers oder durch Vorhang- oder Extrusionsbeschichtung unter Verwendung von Beschickungsvorrichtungen, wie sie beispielsweise aus der
3. US-PS 26 81 294 bekannt sind. Weist ein erfindungsgemäßes Aufzeichnungsmaterial mehr als eine Schicht auf, ;1 so können diese Schichten gegebenenfalls gleichzeitig auf den Schichtträger aufgetragen werden, nach Ver- $ fahren, wie sie beispielsweise aus der US-PS 27 61 791 und der GB-PS 8 37 095 bekannt sind. S';! Die Konzentration der einzelnen Komponenten einer nach defl Verfahren der Erfindung herstellbaren
Beschlchtungsmasse kann sehr verschieden sein. Vorzugswelse wird das Reduktionsmittel In einer Konzentra- s tion von 0,25 bis 4 Mol pro Mol lichtempfindliches Silberhalogenid angewandt. Bezüglich des lichtstabilen organischen Sllbersalzes liegt die Konzentration des Reduktionsmittels In vorteilhafter Welse bei 0,10 bis 20,0 Mol Reduktionsmittel pro Mol Silbersalz, z. B. Sllberbehenat und/oder Sllberstearat. Wird eine Kombination von Reduktionsmitteln verwendet, so liegt die Gesamtkonzentration der Reduktionsmittel In vorteilhafter Welse In dem angegebenen Konzentrationsbereich. ι»
Es wird angenommen, daß das latente Bildsilber, das bei der blldwelsen Exponierung des Aufzelchnungsmaterlals erzeugt wird, die Reaktion der ein Bild erzeugenden Kombination aus einem lichtstabilen organischen Silbersalz und einem organischen Reduktionsmittel bei nachfolgender Erhitzung katalysiert.
Ein vorteilhafter Konzentrationsbereich des lichtempfindlichen Sllberhalogenlds liegt bei 0.01 bis 20 Mol Silberhalogenid pro Mol llchtstablles organisches Silbersalz, beispielsweise Sllberbehenat und/oder Sllberstearat.
Das lichtempfindliche Silberhalogenid kann aus Sllberchlorld, Sllberbromld, Sllberbromidjodld, Sllberchlorldbromldjodid oder Mischungen hiervon bestehen. Es kann grob- oder feinkörnig sein, wobei sich sehr feinkörniges Silberhalogenid als besonders vorteilhaft erwiesen hat. Das photosensitive Silberhalogenid kann chemisch senslblllslert, gegenüber dem Auftreten von Schleier geschützt und/oder gegenüber einem Empflndllchkeltsverlust bei der Lagerung stabilisiert werden.
Die ex-sltu-Herstellung des lichtempfindlichen Sllberhalogenlds kann unter Verwendung der verschiedensten synthetischen, aus Polymeren bestehenden Peptisationsmittel erfolgen. Typische gelgnete, aus synthetischen Polymeren bestehende Peptisationsmittel sind beispielsweise solche, wie sie In den US-PS 37 13 833 und 37 06 565 beschrieben werden. Geeignet sind ferner Vlnylpyrldlnpolymere, z. B. Polymere des 2-Vlnylpyridlns, des 4-Vinylpyridlns und des 2-Methyl-5-vlnylpyrldlns. ->
Als besonders vorteilhafte Peptisationsmittel zur Herstellung des ex-sltu-Sllberhalogenldes haben sich Polyvinylacetat, beispielsweise Polyvinylbutyral, erwiesen. Die Herstellung des Sllberhalogenldes kann In einem nicht wäßrigen Medium unter genau gesteuerten Reaktionsbedingungen durchgeführt werden. Beispielsweise erfolgt die Herstellung des Sllberhalogenldes unter Verwendung eines organischen Lösungsmittels, beispielsweise Aceton oder Methyllsobutylketon mit einem Peptisationsmittel, wie beispielsweise Polyvinylbutyral. In typischer .'■" Welse kann das photosentlve Silberhalogenid wie folgt hergestellt werden:
Llthlumbromld, Sllbertrlfluoracetat und Polyvinylbutyral werden In Aceton unter geeigneten Bedingungen miteinander vermischt. Das dabei anfallende feinkörnige Sllberbromld kann dann mit der ein Bild erzeugenden Kombination aus einem llchtstabllen organischen, z. B. Sllberbehenat, und einem organischen Reduktionsmittel, z. B. einem Sulfonamldophenol, vermischt werden. 3S
Das ex-sltu erzeugte Silberhalogenid kann in ungewaschener wie auch In gewaschener Form unter Entfernung der löslichen Salze verwendet werden. Im letzteren Falle können die löslichen Salze durch Abschrecken und Dekantieren entfernt werden oder aber die das Silberhalogenid enthaltende Emulsion kann einer Koagulationswäsche unterworfen werden.
In vorteilhafter Welse kann mit Polyvinylacetat peptlslertes lichtempfindliches Silberhalogenid verwendet « werden, dessen Herstellung beispielsweise aus der BE-PS 7 74 436 bekannt Ist. Nach dem aus der BE-PS 7 74 436 bekannten Verfahren wird das Silberhalogenid dadurch hergestellt, daß ein Silberionenlieferant mit einem Halogenldlonenlleferanten in Gegenwart eines Polyvinylacetat, beispielsweise eines Polyvinylbutyral, vermischt wird. Ein solches peptlslertes lichtempfindliches Silberhalogenid eignet sich Insbesondere zur Herstellung eines photothermographlschen Aufzeichnungsmaterials mit einem aus einem Polymeren bestehenden Bindemittel, das Identisch 1st mit dem Polymeren, das zur Peptlsatlon des Sllberhalogenides verwendet wird. Dies bedeutet, daß zur Herstellung eines photothermographlschen Aufzeichnungsmaterial nach der Erfindung beispielsweise als Bindemittel Polyvinylbutyral verwendet werden kann, das ebenfalls zur Peptlsatlon des lichtempfindlichen Sllberhalogenldes verwendet werden kann.
Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung besteht eine photothermographische *<> Beschlchtungsmasse aus
einer ein Bild erzeugenden Kombination aus
(a) Sllberbehenat und/oder Sllberstearat, dlsperglert In Polyvinylbutyral;
(b) einem Sulfonamldophenol-Reduktionsmlttel;
(c) mit Polyvinylbutyral peptislertem Silberhalogenid;
(d) Succlnlmld als Toner,
(e) Polyvinylbutyral als zusätzliches Bindemittel, und
(g) 0,01 bis 0,5 Mol, Insbesondere 0,01 bis 0,15 Mol Llthlumjodld pro Mol Silberhalogenid, sowie gegebenenfalls weiteren üblichen Zusätzen. '*
Nach der bildweisen Exponierung eines erfindungsgemäßen photothermographlschen Aufzeichnungsmaterials, In typischer Welse mit sichtbarem Licht, läßt sich das bei der Belichtung erzeugte latente Bild allein durch gleichmäßiges Erhitzen auf erhöhte Temperaturen entwickeln. Zweckmäßig erfolgt dabei eine Erhitzung des blldwelse belichteten Materials auf 80 bis 250° C, und zwar beispielsweise 0,5 bis 60 Sekunden lang. Durch 6S Erhöhen oder Vermindern der Länge der Erhitzungsdauer lassen sich höhere bzw. geringere Temperaturen Innerhalb des angegebenen Bereiches anwenden, je nach der Art des gewünschten Bildes und dem im Einzelfalle verwendeten photothermographlschen Material.
Die Entwicklung eines Bildes erfolgt In typischer Welse Innerhalb weniger Sekunden, beispielsweise 0,5 bis 60 Sekunden. Als besonders vorteilhafte Erhitzungstemperatur hat sich eine Temperatur von 100 bis 165° C erwiesen.
Obgleich In vorteilhafter Welse sichtbares Licht zur Erzeugung des latenten Bildes verwendet wird, können > doch auch andere elektromagnetische Strahlungsquellen verwendet werden. So sind die erflndungsgcmüßcn photothermographlschen Aufzelchnungsmaterlallen beispielsweise für eine hoch Intensive blldwelse Exponierung geeignet. So lassen sich beispielsweise zur Erzeugung des latenten Bildes Laserstrahlen verwenden.
Die Entwicklung des Aufzeichnungsmaterials kann In üblicher Welse erfolgen unter Verwendung üblicher Heizvorrichtungen, die beispielsweise aus einer einfachen aufheizbaren Platte oder Walze oder einem Bügelelsen 1(1 bestehen können.
Die Entwicklung erfolgt normalerweise unter normalen Druck- und Feuchtigkeitsbedingungen. Jedoch kann die Entwicklung auch bei nlcht-atmosphärlschem Druck, d. h. bei Unter- oder Überdruck erfolgen und bei anormalen Feuchtigkeitsbedingungen.
Gegebenenfalls können die einzelnen Komponenten, die für die Erzeugung eines Bildes erforderlich sind, auch In mehreren Schichten des Aufzeichnungsmaterials untergebracht werden. So 1st es beispielsweise möglich, einen bestimmten Prozentsatz des Reduktionsmittels, des Toners, einer Bild stabilisierenden Verbindung und/oder einer Stablllsator-Vorläuferverbindung In einer Deck- oder Art Schutzschicht über der eigentlichen photothermographischen Schicht des Aufzeichnungsmaterials unterzubringen. Auf diese Welse läßt sich In manchen Fällen die Wanderung bestimmter Zusätze In den Schichten eines photothermographlschen Aufzeich-
-'" nungsmaterlals vermindern.
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.
Beispiel 1 (Vergleichsbeispiel)
Zunächst wurde eine Sllberbehenat-Dlsperslon durch Vermählen der folgenden Komponenten In einer Kugelmühle bei einer Mahldauer von 100 Stunden hergestellt:
Silberbehenat 50,0 g
Polyvinylbutyral 15,0 g
Methyllsobutylketon 500 ml
Nunmehr wurde eine photothermographlsche Beschlchtungsmasse dadurch hergestellt, daß 100 ml der beschriebenen Dispersion In der folgenden Reihenfolge mit den folgenden Zusätzen vermischt wurden:
■^ Polyvlnylbutyral-Sllberbromidemulslon (0,167 Mol AgX/1) 40,0 ml
10 gew.-%lge Lösung von Succlnlmld In Aceton 10,0 ml 10 Minuten Aufbewahren bei Raumtemperatur.
14 gew.-%lge Polyvlnylbutyrallösung in Aceton 36,0 ml
6,3 gew.-%lge Lösung von 4-Benzolsulfonamldophenol In Aceton 36,0 ml
*' 5 gew.-%lge Lösung von 2,4-Dlhydroxybenzophenon In Aceton 10,0 ml
Mischung aus Aceton und Tolul Im Volumenverhältnis 1 : I mit einem 6,0 ml
Gehalt an 2 Vol.-96 einer oberflächenaktiven Verbindung auf Silikonbasis
Lösung von 0,66 mg 2-(5,5-Dlcyano-4-phenyl-2,4-pcntadlcnyllden)-l-äthyl-/)-napthothlazolln 12,0 ml als Sensibilisierungsfarbstoff pro ml In Aceton
Die Mischung wurde dann 4 Stunden lang bei Raumtemperatur, d. h. bei etwa 20° C, aufbewahrt. Die erhaltene Beschlchtungsmasse wurde dann auf einen keine Haftschicht aufweisenden Polyäthylenterephthalatschlchtträger derart aufgetragen, daß auf eine Trägerfläche von 0,0929 m2 6.9 ml der Beschlchtungsmasse entfielen.
Auf das erhaltene Aufzeichnungsmaterial wurde eine Deckschicht aus einer Beschlchtungsmasse der folgenden Zusammensetzung In einer Beschlchtungsstärke von 2,3 ml/0,0929 m2 Trägerfläche aufgetragen:
Poly^'-ihexahydro-SJ-methanoindan-S-ylldenWlphenylencarbonat] 5,0 g
Dichloräthan 95 ml Aceton 4 ml
Oberflächenaktives Mittel auf Slllkonbasls 0,5 ml
Das getrocknete Aufzeichnungsmaterial wurde dann sensitometrisch In einem Sensltometer vom Typ Mark VIl, Hersteller Edggeeerton, Germeshausen und Grler, Inc. 10,3 Sekunden lang belichtet und daraufhin 6I! 5 Sekunden lang auf 132° C erhitzt. Die sensitometrlschen Ergebnisse sind in der später folgenden Tabelle I aufgeführt.
Beispiel 2
Das In Beispiel 1 beschriebene Verfahren wurde wiederholt mit der Ausnahme jedoch, daß diesmal 4 ml einer 2,28 gew.-%lgen Lösung von wasserfreien Lithiumiodid In Aceton zu der Beschlchtungsmasse vor deren Auftrag auf den Schichtträger zugesetzt wurden. Das hergestellte Aufzeichnungsmaterial wurde wiederum sensitometrisch exponiert und durch 5 Sekunden langes Erhitzen auf 132° C, wie In Beispiel 1 beschrieben, entwickelt. Die
erhaltenen sensltoraelrischen Ergebnisse ergeben sich aus tier folgenden Tabelle!. ft
Tabelle I Relative
Empfindlichkeit *) 		Gradation 0,17
0,17 		4»
Beispiel 100
159 		1,73
2,12 		2,02
1,80
1
2
IQ *) gemessen bei 0.30 über Dmm
Beispiel 2A
Das In Beispiel 1 beschriebene Verfahren wurde wiederholt mit der Ausnahme, daß diesmal kein spektral senslbilis&render Farbstoff und keine Deckschicht verwendet wurden. Die Im Falle dieses Aufzeichnungsmaterial erhaltenen Ergebnisse sind In der folgenden Tabelle I A aufgeführt.
Beispiel 2 B ■<>
Das In Beispiel 2 beschriebene Verfahren vmrde wiederholt mit der Ausnahme jedoch, daB diesmal kein spektral senslblllsierender Farbstoff und kerne Deckschicht verwendet wurden. Die erhaltenen Ergebnisse sind ebenfalls in der spater folgenden Tabelle 1A aufgeführt.
Beispiel 2C
Das In Beispiel 2 A beschriebene Verfahren wurde wiederholt mit der Ausnahme jedoch, daB anstelle der verwendeten Sllberbromldemulslon diesmal eine Sllberbromldjodldemulsion verwendet wurde. Die erhaltenen Ergebnisse sind ebenfalls In der folgenden Tabelle IA zusammengestellt.
Tabelle I A
Beispiel Relative Gradation Dmin Dmm
Empfindlichkeit *) ■·>
2Λ 100 0,52 0,17 0,94
2B 219 0,58 0,23 1.19
2C 363 1.34 0,22 1,56
40 1,JH \J,tt I ,JO
*) gemessen hei (1,10 über />„,»
Die Dichtemessungen erfolgten unter Verwendng einer Blaufllterkomblnation, bestehend aus drei Wratten-Flltern, nBmlich 47 B, X 12740 und C 9782. Diese Fllterkomblnatlon führte zu einer Spitzendurchlasslgkelt Im Bereich von 440 nm.
Beispiel 3
Das in Beispiel 2 beschriebene Verfahren wurde wiederholt mit der Ausnahme jedoch, daß anstelle von Llthl- so umjodld diesmal Kallumjodld verwendet wurde. Es wurden entsprechende Ergebnisse, wie In Beispiel 2 beschrieben, erhalten.
Beispiel 4
Das In Beispiel 2 beschriebene Verfahren wurde wiederholt mit der Ausnahme jedoch, daß diesmal anstelle von Lithiumiodid Ammonlumjodld verwendet wurde. Es wurden entsprechende Ergebnisse, wie In Beispiel 2 beschrieben, erhalten.
Beispiel 4A W)
Das In Beispiel 2 beschriebene Verfahren wurde wiederholt mit der Ausnahme jedoch, daß diesmal anstelle von Lithiumiodid Natriumiodid verwenden wurde. Es wurden entsprechende Ergebnisse, wie In Beispiel 2 beschrieben, erhallen.
Beispiel S Das In Beispiel 2 beschriebene Verfahren wurde wiederholt mit der Ausnahme jedoch, das anstelle des In
Beispiel 2 angegebenen Sensiblllslerungsfarbstoffes diesmal das Natriumsalz von Anhydro-9-athyl-3,3'-dl(3-sulfopropylH^^'.S'-dlbenzothlacarbocyanlnhydroxld verwendet wurde. Es wurden entsprechende Ergebnisse, wie in Beispiel 2 beschrieben, erhalten.
Beispiel 6 (Vergleichsbeispiel)
Keine ins Gewicht fallende Erhöhung der Lichtempfindlichkeit wurde beobachtet, wenn das In Beispiel 2 beschriebene Verfahren wiederholt wurde, jedoch unter Verwendung von Natriumbromid anstelle von Lithiumiodid. Demzufolge läßt sich durch Verwendung von Natrimbromld ganz offensichtlich die Lichtempfindlichkeit ίο des photothermographischen Aufzeichnungsmaterials unter den angegebenen Bedingungen nicht erhohen.
Beispiel 7
Das In Beispiel 2 beschriebene Verfahren wurde wiederholt mit der Ausnahme jedoch, daß 0,05 Mol Lithium -jodid pro Mol lichtempfindliches Sllberbromld in der photothermographischen Beschlchtungsmasse verwendet wurden. Es wurden entsprechende Ergebnisse, wie In Beispiel 2 beschrieben, erhalten.
Beispiel 8
Xt Das in Beispiel 2 beschriebenen Verfahren wurde wiederholt mit der Ausnahme jedoch, daß 0,25 Mol Llthlumjodld pro Mol lichtempfindliches Sllberbromld In der photothermographischen Beschlchtungsmasse verwendet wurden. Es wurden entsprechende Ergebnisse, wie In Beispiel 2 beschrieben, erhalten.
Beispiele 9 bis 12
Fs wurden weitere photothermographlsche Aufzelchnungsmaterlallen, wie In Beispiel 2 beschrieben, hergestellt mit der Ausnahme jedoch, daß das Verfahren der Herstellung der Beschlchtungsmassen verändert wurde. Aus der folgenden Tabelle II ergibt sich die Reihenfolge des Mischverfahrens. Des weiteren sind die erzielten Empfindlichkeiten aufgeführt, ermittelt aus einer 2 ■ 10~6 Sekunden langen Exponierung mit einem roten Laser •ίο vom Typ McCowan als Erg · cm"2. Der erhaltene Wert verhält sich dabei reziprok. Aus den Beispielen 9 bis 12 ergibt sich, daß besonders vorteilhafte Ergebnisse dann erhalten werden, wenn man von entweder einer Sllberbehenatdlsperslon ausgeht oder einer unter Verwendung von Polyvlnylbutylral als Peptisationsmittel hergestellten Silberhalogenidemulsion, und wenn man dann entweder die Lithiumiodid- oder Succlnlmldlösungen vor den anderen Komponenten zusetzt.
Tabelle Il
Beispiel AgBr- AgBe- LiJ- Toner- PVB- Reduktions- Phcnon**) Lösung der Farbstoff- Empfind-
Emul- henat Lösung Lösung Lösung*) mitlellösung oberflächen- lösung lichkcil
sion Disper- aktiven (Erg-cnr2)
sion Verbindung
2319245
9 14 3 2 5 6
10 142356
11 413256 s» 12 4 1 2 3 5 6
7 8
7 8
7 8
7 8
8 1880
(Vergleich)
9 805
9 885
9 855
9 1025
*) Polyvinylbutyral;
*) 2.4-Dihydroxybenzophenon.
Beispiele 13 bis 20
Es wurden weitere photothermographlsche Beschlchtungsmassen, wie In Beispiel 2 beschrieben, hergestellt mit
der Ausnahme jedoch, daß das Verfahren zur Herstellung der Beschlchlungsmasse etwas verändert wurde. Die Reihenfolge des Mischverfahrens ergibt sich aus der letzten Spalte der folgenden TabelleUl. Die Abkürzungen
«' dieser Spalte sind am Ende der Tabelle 111 erläutert. Aus der Tabelle ergeben sich des weiteren die Ergebnisse
der Beispiele 13 bis 20.
Zusammenfassend ergibt sich, daß das Aufzeichnungsmaterial, das gegenüber rotem Licht am empfindlichsten war, d. h. gegenüber Licht, demgegenüber die Aufzelchnungsmaterlallen spektral senslblllsler! wurden, das Aufzeichnungsmaterial des Beispiels 15 war. Dieses Aufzeichnungsmaterial wurde hergestellt durch Vereinigung <>? der folgenden Komponenten In der folgenden Reihenfolge:
1. Herstellung einer Sllberbehenat-Behensäure-Dlsperslon
2. Zusatz von Sueclnlmld als Toner
3. Zusatz von Llthlumjudld
4. Zusatz einer Polyvlnylbutyral-Sllbcrbrumldemulslon
5. Zusatz von weiterem Polyvinylbutyral
6. Zusatz von 4-Benzolsulfonamidophenol-Redukilonsmlttel
7. Zusatz von 2,4-Dlhydroxybenzophenon s
8. Zusatz von oberflächenaktiver Verbindung auf Siliconbasis, und 9; Zusatz eines spektral senslblilsierenden Farbstoffes.
Das Aufzeichnungsmaterial, das gegenüber nicht gefiltertem Licht und gegenüber blauen Exponierungen am empfindlichsten war, war das Aufzeichnungsmaterial des Beispiels 14, bei dem es sich um eine Wiederholung io des Beispiels 2 handelte. Das Aufzeichnungsmaterial des Beispiels 14 zeigt eine Verbesserung gegenaber dem Aufzeichnungsmaterial des Beispiels 13, hergestellt unter Zusatz von Lithiumiodid zu einer photothermographischen Beschlchtu.ngsmasse mit einer Sllberbromldemulslon.
Aus den Ergebnissen der Beispiele 18 bis 20 ergibt sich, daß die Veränderungen der Blauempfindlichkeit bei Aufzeichnungsmaterial^ ohne spektral senslblilsierenden Farbstoff die gleichen sind wie bei Aufzelchnungs- 1> materialien mit spektral senslbllislerendem Farbstoff.
11
Tabelle III Spektral sensibilisierende Schichten
Bei ungefiltertes Licht Dmin "max Blau Gradation D„„„ Rot Gradation Dmin Dt Reihenfolge
spiel Relative Gradation Relative Dmax Relative der Zugabe**)
Empfind Empfind Empfind
lichkeit*) lichkeit*) lichkeit*)
100
166
148
141
162
0,91 1,07 1,01 1,33 1,11
0,20 0,18 0,20 0,17 0,18
Spektral unsensibilisierte Schichten
18 100 0,65 0,17
19 74 1,21 0,16
20 87 0,70 0.18
1,45 1,78 1.88 2.00 1,84
1.16 1,77 1,37
100 550 282 457 468
100 73 91
0,66 1.14 1,19 1,11 1,15
0,62 1.37 0,75
0,18 0,20 0,18 0,20 0,22
0,20 0,17 0,20
0,62 1,43 1,21 1,41 1,44
100 102 204 186 135
0,84
1.14
1,21
1,11
1,06
0,18 0,20 0,18 0,20 0,21
0,80 1,24 1,54 1,35 1,32
Exponierung: 11Γ-' Sekunden lang in einem Sensitometer vom Typ Mark VII. Hersteller Edgerton. Germeshausen und Grier. Inc.: Enraicklungsdauer: 5 Sekunden bei 13O0C: Bhu-Exponierung: Wratten-Filter 47B:
Rot-Exponierun«: Filterkombination aus Dichroic-Filter (läßt sichtbares Licht, nicht jedoch Infrarotstrahlung durch) und Wratten-Filter Nr. 29 (642 nm-SpitzendurchlässiGkeit); "ι bei 0.30 über D-.,: ""> D:s Abkürzungen bedeuten folgende:
λ = Silberbtfhenat-Polyvinylbuiyral-Methylisobuiyl-Dispersion;
B = Andere Zusalze. z. B. Polyvinylbutyral: Reduktionsmittel, ζ. B. 2.4-Dihydroxybenzophenon; C - Silberbromid-Polyvinylbutyral-Aceton-Emulsion: D = Succimmid als Toner: F = Spektral sensibilisierender Farbstoff: G = Lithiumjodid in acetonischer Lösung.
ADCBF
ADCBFG
ADGCBG
CDGABF
CDGABF
ADCBG ADGCB CDGAB
Beispiele 21 bis 28
I is wurden weitere Aufzeichnungsmaterial^, wie In Beispiel 2 beschrieben, hergestellt, jedoch erfolgte die Herstellung der phoioihumiographlschcn Bcschichtungsmasse in anderer Welse. Die Reihenfolge der Vermischung der einzelnen Komponenten ergibt sich aus der letzten Spalte der folgenden Tabelle IV. In der Tabelle sind des weiteren die erhaltenen Meliergcbnlssc zusammengestellt.
Tabelle IV
Hei- Exponierung mil ungellllcrlcm Licht
sP'el Relative Gradation l>„„„ I)n,
Empfindlichkeit *)
Kot-Exponierung Relative Gradation D1,,,„ Empfindlichkeit *)
Reihenfolge der Zugabe **)
0,27 2,28 1380 1,40 0,24 1.79 ADGCBF
0,38 2,34 955 1,66 0,42 2,07 ADCBFG
0,39 2,16 1450 1,21 0,41 1,82 CDGABF
2! 100 0,21 0,10 0,41 100 0,18 0,10 0,40 ACBF
(Vcrglcichsbeispicl)
22 3550 1,83
23 5500 2,03
24 5130 1,46
ΙίχρηιυοΓυημ: IO ' Sekunden Ι.ιιιμ mil einem Scnsiloineler vom Typ Murk VII. Hersteller lidgerlun. Ciermeshauscn und Grier. Inc.;
Umwicklung: S Sekunden hei 15(1" C; Kiil-lixiHinicriing: l:illcrki>iiihin;ili<in aus Dichniic-I iller (liiUl Mchih:ires Licht, jedoch keine Infrarotstrahlung durchI und Wrallen-
liller Nr. 2'> (M2 nni-S|>il/endurihUissiRkeil>; ' I bei IU<! über />„„„; ") Die Abkür/.untien hciieiilen: Λ Silbcrbehenal-I'oyvinylhnlyral-Dispcrsiidi;
H Andere /usiil/e. /.. Il l'iilyvinylhulyral: Kcdiiklninsiiiillcl. /. H. 2.4-l)ihydn>xyben/o|>hennn; ubertliichenaktive Verbindung ju! Siliconbasis;
C Gewaschene Silbcrhrnniid-I'olyunylhiilyral-Kimilsion; I) f'hthala/.innn als Inner; I Spektral scnsibilisiercnder l'arhsloli; (i l.ilhiunijodid.
Beispiel 29
Zunächst wurden nach dem In Beispiel I beschriebenen Verfahren 4 verschiedene photothermographIsche Beschlehtungsmassen A. B, C und D hergestellt. Die Beschlchtungsmasse A wurde dann, wie in Beispiel 1 beschrieben, auf einen Schichtträger aufgetragen.
Die Beschlehtungsmassen B, C und D unterscheiden sich von der Bcschichtungsmasse A lediglich dadurch, daß Ihnen Empfindlichkeit erhöhende Zusätze einverleibt wurden.
Der Bcschlchiungsmassc B wurde crflndungsgemäU Lithiumiodid In der in Beispiel 2 angegebenen Konzentration zugesetzt. Der Bcschlchlungsmasse C wurde gemäß US-PS 36 79 422 anstelle von Lithiumiodid ein entsprechendes morales Äquivalent an Tclramclhylammonlumjodid zugesetzt.
Der Beschlchtungsmassc D wurde gcmüß US-PS 36 79 422 anstelle von Lithiumiodid ein entsprechendes molares Äquivalent an Tcira-n-propylammoniumjodld zugesetzt. Die Beschlehtungsmassen B, C und D wurden dann wie die Beschlchtungsmasse A auf Schichtträger aufgetragen.
Abschnitte der erhaltenen trockenen Aufzeichnungsmaterial^ wurden dann In einem Sensltometer - wie in Beispiel I beschrieben - U)' Sekunden lang belichtet und danach erhitzt. Es wurden die in der folgenden Tabelle V aufgeführten Ergebnisse erhalten.
Tabelle V
Aufzeichnungs Am,, « Empfindlichkeit
material hergestellt bei 0,3 über
aus lieschichluiigs- A,,,«
masse
>„,„, Gradation
A B C D
0,8 0,6
0,7 0.6
1,5 1,7 1,4 1,3
Aus den erhaltenen Vcrglclchsdaten ergibt sich die Vortcllhaftlgkclt des Aufzeichnungsmateriais. das unter Verwendung der Beschlchtungsmasse B hergestellt wurde. In diesem Falle wird eine Gradation von 1.0 erzielt, d. h. eine Gradation, die hoher lsi als Im Falle der Verglelchsmateriallcn A, C und D. Im Falle des Aufzeichnungsmateriais, hergestellt aus Beschlchtungsmassc D, Ist zwar die Empfindlichkeit am höchsten, doch liegen die D,„,„-, /■>,„„,- und Cirudatlonswerte unter denen des Aufzeichnungsmateriais A ohne jeglichen Zusatz.
13

Claims (1)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung einer photothermographlschen Beschlchlungsmasse durch Vermischen der folgenden Komponenten:
(A) einer Dispersion eines llchtstabllen organischen Silbersalzes in einem aus einem synthetischen Polymeren bestehenden Bindemittel,
(B) eines organischen Reduktionsmittels für Silberionen,
(C) einer Dispersion eines lichtempfindlichen SUberhalogenlds in einem aus einem synthetischen Polymeren ίο bestehenden Bindemittel,
(D) eines Toners,
(E) eines aus einem synthetischen Polymeren bestehenden Bindemittels,
sowie gegebenenfalls
(F) eines spektral senslblllslerenden Farbstoffs,
DE2460547A 1974-01-02 1974-12-20 Verfahren zur Herstellung einer photothermographischen Beschichtungsmasse sowie photothermographisches Aufzeichnungsmaterial Expired DE2460547C2 (de)

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