DE2436132A1

DE2436132A1 - Verfahren und aufzeichnungstraeger fuer die aufzeichnung von abbildungen bzw. nachrichten

Info

Publication number: DE2436132A1
Application number: DE2436132A
Authority: DE
Inventors: Yew Chun Chang; Stanford Robert Ovshinsky; David Alan Strand
Original assignee: Energy Conversion Devices Inc
Current assignee: Energy Conversion Devices Inc
Priority date: 1973-07-30
Filing date: 1974-07-26
Publication date: 1975-02-13
Also published as: CA1068149A; DK400274A; NO742746L; SE7409752L; FR2239702A1; FR2239702B1; NL7410233A; IT1017676B; AU7157774A

Description

Patentanwälte

Dr. E. Eoettncr
Dipl.-Ing. H.-J. Mü:ier

Dr. lh. Bci-uuat

D S3 München 80

Eucfle-Grahnütr. 3O₁ IeI. 47 51 55

Case 10332 As/P

ENERGY CONVERSION DEVICES, INC., 1675 West Maple Road, Troy, Mich.48084 (V.St.A.)

Verfahren und Aufzeichnungsträger für die Aufzeichnung von Abbildungen bzw. Nachrichten

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und einen Aufzeichnungsträger für die Aufzeichnung von Abbildungen bzw. Nachri cht en.

Es sind mannigfaltige Verfahren zur Herstellung von Abbildungen oder Kopien von Abbildungen bekannt. Die verwendeten Abbildungsmaterialien sind in gewissen Fällen besondere anorganische Verbindungen und in anderen Verfahren besondere organische Verbindungen. Einige dieser bisher bekannten Verfahren beruhen auf der Verwendung von Gemischen anorganischer Verbindungen, wie Silberhalogenid oder Silbersalzen, Kupfersalzen oder anderen Metallsalzen, mit mannigfaltigen Typen organischer

Sen-Verbindungen als sibilisatoren als Zusatz in einem einen Film

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-2-

-2- 2'4 3G) 3

bildenden Träger.

Die Erfindung befaßt sich mit einem neuen Abbildungssystem unter Verwendung von Organo-Tellur-Verbindungen, d.h. bilderzeugenden Organo-Tellur-Verbindungen, bei denen Tellur direkt an mindestens ein Kohlenstoffatom eines organischen

Restes der Organo-Tellur-Verbindungen gebunden ist, wobei die bilderzeugende Organo-Tellur-Verbindung von einer Struktur mit einer feststellbaren Eigentümlichkeit ist und fähig ist, eine Änderung, wie eine chemische Änderung, als Folge der Einwirkung von Energie zu erfahren, bei der ein Material unterschiedlicher Struktur mit einer abweichenden feststellbaren Eigentümlichkeit erzeugt wird. Die Organo-Tellur-Verbindungen können mannigfaltige Formen annehmen, wie dies im folgenden noch erläutert wird. Besonders vorteilhaft sind diejenigen, die mindestens eine Carbonylgruppe in einem organischen Rest oder in organischen Resten der Organo-Tellur-Verbindungen enthalten. In anderen Organo-Tellur-Verbindungen ist in den Molekülen Halogen enthalten und ist insbesondere das Halogen direkt an ein Telluratom gebunden. In wieder anderen Organo-Tellur-Verbindungen ist mindestens eine Carbonylgruppe in einem organischen Rest vorhanden und ist außerdem Halogen vorhanden, das direkt an ein Telluratom gebunden ist. In anderen Organo-Tellur-Verbindungen sind keine Carbonylgruppen in einem organischen Rest vorhanden, und in solchen und anderen dieser Organo-Tellur-Verbindungen ist kein Halogen vorhanden. Zahlreiche Beispiele von bilderzeugenden Organo-Tellur-Verbindungen werden im folgenden offenbart.

Bei den besonders wichtigen Ausführungbeispielen der Erfindung sind die genannten bilderzeugenden oder abbildenden Organo-Tellur-Verbindungen zusammen mit einem BKotosensibilisator (der im folgenden der Einfachheit halber als "Sensibilisator" bezeichnet ist) in einem Grundmaterial eingebaut, wie dies im folgenden noch eingehend beschrieben wird. Die so entstehende

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Materialkombination wird zu einem dünnen Film oder einer Schicht verarbeitet, die fähig ist, bei Einwirkung einer Abbildungsenergie, beispielsweise einer aktinisehen Strahlung oder einer elektromagnetischen Strahlung, ein latentes Bild zu erzeugen. Das so entstehende latente Abbild läßt sich dann ohne weiteres zu einem Abbild von hervorragendem.Kontrast entwickeln. Dies geschieht durch Anwendung eines Naßentwicklungsverfahrens oder eines Trockenentwicklungsverfahrens, beispielsweise, indem.das latente Abbild einer Entwicklungsenergiequelle ausgesetzt wird, die ±m allgemeinen Wärmeenergie ist oder solche enthält.

Dementsprechend schafft die Erfindung eine neue Lehre und neue Gegenstände sowie Massen für die Erzeugung von abrufbaren Nachrichtenaufzeichnungen, wie Abbildungen und Doppeln bestehender Abbildungen, die auf einer Schicht beruhen, die bilderzeugende Organo-Tellur-Verbindungen enthält, die eine gegebene Konstruktion aufweisen und eine feststellbare Eigenschaft haben und fähig sind, als Folge der Einwirkung einer Bilderzeugungsenergie eine Änderung zu erfahren, bei der ein Material abweichender Struktur mit einer abweichenden feststellbaren Eigenschaft erzeugt wird, und der Unterschied der feststellbaren Eigenschaften kann durch eine geeignete Prüf-, Ausgabeoder Leseeinrichtung festgestellt werden. Das Material mit der abweichenden Struktur und den abweichenden feststellbaren Eigenschaften, das beim Abbilden erhalten wird, wird im folgenden mitunter als "Bilderzeuger" bezeichnet.

Vie unten eingehender erörtert wird, hat es sich gezeigt, daß Organo-Tellur-Verbindungen gewisse Eigenschaften besitzen, die sie für die Verwendung bei Abbildungsverfahren besonders geeignet machen.Bemerkenswert ist die Tatsache, daß als Folge des Abbildens und Entwickeins entsprechend der folgenden Beschreibung aus den Organo-Tellur-Verbindungen metallisches Tellur abgeschieden wird. Obwohl Tellur eigentlich kein Metall ist, hat es gewisse Metalleigenschaften und wirkt in manchen

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Hinsichten als Metall, und in manchen Fällen wird das abgeschieden Tellur im folgenden daher als metallisches Tellur bezeichnet. Tellur ist seinem Charakter nach kettenbildend und wird allgemein aus den Organo-Tellur-Verbindungen in Kettenform abgeschieden, die vorzugsweise dünne Nadeln einschließt, die der schnellen Kernbildung und eines schnellen Kristallitenwachstums fähig sind, und die Kristalliten wachsen als Ketten und weitgehend und hauptsächlich als Nadeln. Solche Ketten oder Nadeln sind undurchsichtig und zeichnen sich durch hervorragende Streufähigkeit gegenüber Licht aus, und sie erzeugen optische Dichten, die nach thermischer oder anderer Entwicklung zu beobachten sind; solche Wirkungen, bei denen es zu einer Oxydbildung kommen kann, sind im wesentlichen auf Oberflächenwirkungen beschränkt, ohne eine Qual-itätsveränderung zu verursachen, die sich durch die Körper solcher Ketten oder Nadeln erstreckt.

Wie oben bemerkt, zählen zu den abbildenden Organo-Tellur-Verbindungen für die Verwendung bei der Druchführung der Erfindung diejenigen, zu denen die organischen Verbindungen gehören, die in den Molekülen einen Organorest, Tellur und Halogen, direkt an das Telluratom angehängt, enthalten, wobei mindestens eine Carbonylgruppe in einem organischen Rest enthalten ist. Einige von ihnen sind Addukte von Tellurhalogeniden, insbesondere Tellurtetrachlorid, mit organischen Verbindungen, insbesondere Ketonen oder ähnlichen Chromophoren, die mindestens eine Carbonylgruppe in der organischen Verbindung enthalten. Diese besondere Gruppe von abbildenden Verbindungen kann daher als Organo-Tellur-Verbindungen oder als Addukte betrachtet oder bezeichnet werden, die ein Halogen, nämlich Chlor, Brom, Jod und Fluor, in direkter Bindung an das Telluratom, enthalten. Die meisten dieser besonderen Gruppe von abbildenden Verbindungen haben zwei Carbonyl enthaltende organische Reste, und einige derselben enthalten deren drei. Diejenigen, die bei der Durchführung der Erfindung besonders nützlich sind, haben als Halogen Chlor, je-

i a doch können in gewissen Fällen, obwohl dies weniger befriedigt,

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andere Halogene vorhanden sein. Die abbildenden Verbindungen
sollten derart ausgewählt sein, daß sie in einem beliebigen,
in der im folgenden beschriebenen Weise verwendbaren, besonderen Grundmaterial löslich oder homogen dispergierbar sind.
Viele abbildende Organo-Tellur-Verbindungen dieser Gruppe
können durch die folgende Formel beschrieben werden: '

R -Te-HaI ,
χ y'

worin R ein Organo-Rest, der mindestens eine Carbonylgruppe
enthält, Halogen, speziell Chlor, χ =4,2 oder 3 und X plus y = 4 ' χ = 2, y = 2 und, bei χ = 1, y = 3 ist und Te direkt an dem
Kohlenstoff in einem Organo-Rest gebunden ist. Dar Rest R
kann aliphatisch, cycloaliphatisch oder aromatisch (mit einem Kern oder zwei Kernen) oder eine Kombination hiervon sein und ein oder mehrere Hetero-Atome in der Kette oder den Ringen
enthalten. Es kann unsubstituiert oder substituiert sein, und Beispiele solcher Substituenten sind C₁-C-:- Alkyl, entsprechende Oxyalkyl-Reste, Acetyl, Nitro, CN, Cl, Br, F, usw. Allgemein gesprochen neigen die genannten abbildenden Organo-Tellur-Verbindungen, die eine Trihalogenid-Gruppe enthalten, beispielsweise Acetophenontellurtrichlorid, dazu, einen verhältnismäßig niedrigen Schmelzpunkt (ca. 70... 80 c) zu haben und sind in höherem Maße hygroskopisch und weniger stabil als die im allgemeinen ähnlichen Verbindungen, die zwei Halogenatome
enthalten, und solche Trihalogenide sind daher zur Verwendung bei der Durchführung der Erfindung weniger wünschenswert.

Eine begenztere Klasse dieser besonderen Gruppe von
abbildenden Organo-Tellur-Verbindungen kann durch die folgende Formel umschrieben werden:

(Ar-CO-CH₂)₂ Te HaI₃,

worin Ar ein aromatischer Kohlenwasserstoffrest ist, der, wie oben erwähnt, substituiert oder unsubstituiert sein kann, und worin Hai ein Halogen, speziell Chlor, ist. Dieser Gruppe von Verbindungen, insbesondere derjenigen, bei denen Hai .Chlor
ist, stellt die besonders vorteilhaften Ausführungsformen der

*)
'mit der Maßgabe, daß bei ₆

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Erfindung hinsichtlich der abbildenden Organo-Tellur-Verbindungen, die bei der Durchführung der Erfindung verwendet werden, dar.

Unter den abbildenden O rgano-Tellur-Verbindungen, die keine Carbonylgruppe in einem Organo-Rest enthalten, in denen jedoch, wie oben angedeutet, Tellur direkt an ein Kohlenstoffatom des Organo-Restes gebunden ist, befinden sich Tellurtetrahaiogenid-Addukte aromatischer Amine, in denen an den aromatischen Rest direkt oder indirekt gebundener oder angehängter Stickstoff durch Alkyle mit einem Gehalt von je 1 bis '♦Kohlenstoffatomen substituiert ist. Eine Anzahl veranschaulichender Beispiele solcher Verbindungen wird im folgenden angegeben.

Eine weitere Gruppe abbildender Organo-Tellur-Verbindungen, die keine Carbonylgruppe in einem Organo—Rest enthalten, bei denen jedoch Tellur direkt an Kohlenstoff gebunden ist, bilden Verbindungen, die als Tellurtetrahotlogenid-Addukte von Äthylen oder Acetylen-Kohlenwasserstoffen betrachtet oder bezeichnet werden können. Diese Verbindungen werden im allgemeinen bequemerweise durch Reaktion von 1 bis 2 mol, insbesondere 2 mol, des Äthylen oder Acetylen-KohlenwasserstoffS mit 1 mol Tellurtetrahalogenid, hergestellt, wobei für diesen Zweck insbesondere Te Cl. bevorzugt wird. Gewisse Verbindungen dieser Gruppe können durch die nachfolgenden Formeln bezeichnet werden:

Hai

Hal—R Te R¹ Hai

I
Hai

(Hai

worin R und R je der Rückstand «ines Alkene oder eines Cyclo_

Alkene, Hai Chlor, Brom oder Jod, insbesondere Chlor, mal bis 2 und η a 1 bis 3 mit der Maßgab· ist, daß die Summe m + η = k ist. Anschauliche Beispiele der Äthylen-und Acetylen-Kohlenwaseer- »toffe, die zur Erzeugung eolcher bilderzeugenden Organo-Tellur-

-7- + Äthylen-Kohlenwasserstoffes z.B. eines

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Verbindungen mit Tellur-Tetrahalogeniden adduziert werden können, sind:

Propylen, Buten-1 ; Isobutylen; Buten-2; 2,3-Dimeöiyl-2-Buten; 3,3 Dimethyl-1-buten; 2,4-Dimethyl-i-penten; 4,4-Dimethyl-1-penten; 2,5-Dimethyl-3-hexen; Dipenten; 1,1-Diphenyläthylen; 1-Hepten; 1-Hexen; 2-Methyl-1-hexen; 3-Methyl-1-Hexen; 4-Methyl-1-hexen; 2-Äthyl-1-hexen; 2-Methyl-1-penten; 2-Isopropyl-1-hexen; 2-Methyl-2-penten; 2-Äthyl-2-penten; 3-Methyl-1-penten; Piperylen; Vinylcyclohexen; Vinylcyclopenten; 2-vinylnaphtalin; 1,2,4-Trivinylcyclohexen; 4-Methyl-1-cyclohexen; 3-Methyl-1-cyclohexen; 1-Methyl-1-Cyclohexen; 1-Methyl-1-Cyclopenten; Cyclohepten, Cyclopenten; Cyclohexen; k_f 4-Dimethyl-1-cyclohexen; 2-Methylbuten-1; 3-Methylbuten-1 und 1-Octen; niedere Alcyl und niedere Alkoxyderivate verschiedener Alkene, wie Cyclohexen; 1-Pentin; 2-Pentin; 1-Hexin und 3-Methyl-1-Butin.

Die Bereitung verschiedener solcher Organo-Tellur-Verbindungen durch Anlagerungvon Äthylen- oder Acetylen-Kohlenwasserstoffen oder Alkenen oder Alkinen mit Tellurtetrahalogeniden ist beispielsweise in folgenden Druckschriften offenbart: M. Ogawa, Bull, Chem. Soc. Japan, _4i , 3031 (19-68); H. Funk und ¥. Weiss, J. Prakt. Chem. J_, 33 (195*0; und W.V. Farrar und J.M. Gulland, J« Chem. Soc, 11 (19^5)/ M. De Moura Campos u.N.Petragnani, Tetrahedron, Rd.18,S.521 (1962).

Weitere solche abbildende Organo-Tellur-Verbindungen besitzen in ihren Molekülen weder eine Carbonylgruppe in einem Organo-Rest noch Halogen noch direkt an Tellur gebundenes Halogen wie dies im folgenden noch dargelegt wird.

+(angelagert)

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Im folgenden sind einige veranschaulichende Beispiele der besprochenen, abbildenden Materialien genanntι

(1) (C₆H₅COCH₂)₂TeCl₂

(2) (p-C₂H₅OC

(3) (p-CH₃C₆H₄₂₂₂ (k) (p-CNC₆H₄COCH₂)₂Te Cl,,

(5) (CH₃COC₆H₄COCH₂)₂TeCI₂

(6) (O₂NC₆H₄COC

(7) (C₁QH₇COCH₂

(8) P-CH₃OC₆H₄Te(Cl₂)CH₂COC₆H₅

Cl

(9) ^C-CH₂- Te-CH₂-C

(10) (CH₃COCH₂;^

(11) ( (CH₃J₃CCOCH₂

(12) (C₂H COCHCH )TeCl

(13) (C₆H₅COCHCOCH₃

(14) (C₆H₅COCH₂)TeCl₃

(15) (0-CH₃OC₆H₄COCH₂

(16) / OCH₃ ν

2 ^TeC1 (17)

OCH₂ / TeCl₂

(18) (p-r C₆H₄COCH₂

-9-

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V-CH=CH-

COCH₂J₂TeCl₂

-OCH JTeCl₂

C 0

(C₃H₇-C-CH₂-J-C₃H₇;

ο ο

0 0

CHCl

^Η1

H„C

2 /2

T.C1

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-10-

.(CH2-CH-) C=O

TeCl,

^J2

C=O CHL

TeCl.

TeCl,

-CH₂-Te-CH₂-C-

((CH₃)₂N

TeCl,

2A36132

-11-

509807/10 S

(42)

(43)

(44) (45)

(W) (*7) (48) (49) (50)

H - C₆H₅ j TeCl^

CH ^TeC1

C₂H_e

((CH₃J₂N C₆H₅)₂ TeCl₂Br₂

H₅N₂C₆H₄N (CH₃)₂)₂TeCl₂Br₂

C₅H₅CH C₆H₅

TeCl

N(CH₃J

(51) (52) (53)

(54)

TeF

/ Cl

C1-

Cl

Cl Cl

Cl T

Cl -12-

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(55)

(56) (57)

(58) (59) (60) (61) (62) (63)

Cl

)₂TeCl₂

Cl

(P-Br-C₆H₄COCH₂

((CH₃J₂NC₆H₄COC₆H₄N

((C₂H₅J₂NC₆H₄COC₆H₄N

Cl

J-CH -Te-CH I

> ei

-13-

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2Α36Ί32

worin R^ und R C₁-Cj, Alkyl oder Cycloalkyl, beispielsweise Cyclohexyl, ist.

(64) Cl C_oH_e

TeCl

y ^— C =C TeCl₃

χ ι

JbH-CH₀-CH₀-Te-CH₀-CH-CH

/ ²²J ²I ι

Cl

Il 0

(66)

Die Verwendung der oben zur Veranschaulichung beispielsweise genannten Verbindungen in der Form ihrer entsprechenden Bromide und Jodide liegen im Rahmen des Erfindungsgedankens, jedoch sind mindestens in den meisten FällenChloride ausgesprochen vorzuziehen.

Verschiedene der genannten Verbindungen sind zwar an sich bekannte Verbindungen, jedoch ist ihr Nutzen für den Verwendungszweck gemäß der Erfindung bisher nicht bekannt oder nahegelegt worden. Andere solche Verbindungen sind nach Wissen der Anmelderin bisher nicht bekannt.

Die im Beispiel (1) beispielsweise genannten Verbindungen können zweckmäßigerweise nach den Verfahren von Rust (Ber. 1897, .22, 2833) und G.T. Morgan und O.C. Elvins, J.C.S. 1925_? 2625 oder Abwandlungen dieser Verfahren hergestellt werden.

509807/1054 -U-

2Λ36132

So kann die Verbindung des Beispiels (i), Bis (Acetophenon)-Tellurdichlorid erwünschtermaßen nach den folgenden Verfahren hergestellt werden?

Acetophenon (5,0g) und Tellurtetrachlorid (5,6g) in Benzol (60ml) und Chloroform (40 ml) werden bei Raumtemperatur fünf Stunden lang gerührt. Am Ende der Reaktkmszeit wird das Lösungsmittel durch Umlaufverdampfung unter Entwicklung von HCl beseitigt. Das Gemisch wird auf ein Volumen von 20 ml konzentriert, und dann wird Methylenchlorid (5 ml) zugesetzt» Nach Zusatz von Diäthyläther (50 ml) zu dem Gemisch und Stehenlassen erhält man eine erste Ausbeute an weißen kristallinen Nadeln mit einem Schmelzpunkt von 188 ... I⁰O⁰C.

Die V_erbindungen, für die das Beispiel (14) oben ein Beispiel ist, können zweckmäßigerweise durch folgendes Verfahren hergestellt werden:

Acetophenon (2,4 g_'■, 2 χ 10~ mol) und Tellurtetrachlorid (5,4g, 2 χ 10 "" mol) in Chloroform (50 ml) werden eine Stunde lang gerührt. Nach Beseitigung von 70$ des Lösungsmittels werden gelbe hygroskopische Prismen mit einem Schmelzpunkt von 75 ... 78°C gebildet.

Weitere Abbildungsmaterialien der ersten Gruppe, die gemäß der ErSfindung verwendbar sind, sind sogenannte "gelbe" Verbindungen oder Addukte, die von der Reaktion von Ketonen mit Tellurhalogeniden, insbesondere Tellurtetrachlorid, herrühren, wofür die folgende ein Beispiel istl

(63) "Gelbe" Verbindung, aus der Bis (Acetophenon)-Tellurdichlorid-Synthese.

Acetophenon (5,0 g) und Tellurtetrachlorid (5,6 g) in 2.^ ml CHCl,, werden bei Raumtemperatur gerührt. Nach 70 Stunden wii das Lösungsmittel beseitigt, und es bleibt ein viscoses

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grünlichgelbes Öl zurück. Das Öl wird in Methylenchlorid (10 ml) und Diäthyääther (50 ml) gelöst. Nach Stehenlassen erhält man orangefarbene Prismen. Ausbeute 3,3 g» Schmelzpunkt 132... 134 C I.R. (KBr) 16OO cm" , 1590. Beobachtete Elementaranalyse: C= 4?,22, 42,24; H = 3,27, 2,98; Te = 15#3O? Cl = 23,50. Die Reaktion kann durch Rückflußbehandlung des genannten Reaktionsgemisches beschleunigt werden. In einem solchen Fall werden jedoch ausgesprochen unreine Produkte, einschließlich 8is (Acetophenon)-Tellurdichlorid gebildet.

Es ist zu bemerken, daß diese "gelbe" Verbindung anscheinend dem vorher beschriebenen Bis (Acetophenon)-Tellurdichlorid verwandt ist. Es handelt sich jedoch um ein ausgesprochen un;-terschiedlich.es Material mit einem sehr wesentlich abweichenden Schmelzpunkt und wird hergestellt, indem die Reaktion während einer viel längeren Zeitdauer als der zur Erzeugung von Bis (Acetophenon)-Tellurdichlorid durchgeführt wird, welch letzteres die Form weißer kristalliner Nadeln mit einem Schmelzpunkt von 188 -... 190^oC hat. Diese "gelbe" Verbindung als solche ist in einem Bereich bis zu ca. 550 nm empfindlich, schließt also den sieht -rbaren Bereich ein. Im allgemeinen ist es bei den "gelben" Varianten der Abbildungsmaterialien erwünscht, Entwicklungstemperaturen zu verwenden, die etwas niedriger liegen als diejenigen, die zweckmäßigerweise bei den nicht-gelsn Varianten verwendet werden. Zur Veranschaulichung s.ei erwähnt, daß, wenn bei Verwendung von beispielsweise weißem Bis (Acetophenon)-Tellurdichlorid als AbbilduRgsmaterial im Verein mit einem getrennten oder äußeren Sensibilisator eine Entwicklungstemperatur von 150 C während einer festgelegten Zeitdauer im wesentlichen optimal ist, mitunter bei den "gelben·¹ Varianten des Abbildung »materials zur Verhinderung von Nebelwirkungen in dem ,entwickelten Abbild eine etwas niedrigere Entwicklicngs temperatur, beispielsweise 120°C, erwünscht sein kann. Allgemein gesprochen, hat diese "gelbe" Variante einen geringeren Spielraum bei der thermischen Entwiklung als die gereinigte weiße Verbindung.

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Die Verbindung (64) ist, wie oben erwähnt, ein "selbstsensibil±s±©ren.d@s" Äbbildungsmaterial, das in sichtbarem Bereich wirksam ist, ebne daß ein getrennter Sensibilisator verwendet au werden braucht. Dennoch können, wenn erwünscht, getrennte Sensibilisatoren zugesetzt werden.

(68) "gelbes" Addukt aus der Bis (2-AcetylBiiophen)-Tellurdi chloridsynthes e

Bei der Bereitung des "weißen" Bis (2-Acetylfliiophen)-Tellurdichiorides (Beispiel (9)), bei der 2-AcetyBhiophen mit Tellurtetrachlorid zur Reaktion gebracht wird, das nach der oben für die Herstellung von "weißem" ßis (AcetophenonJ-Tellurdichlorides angegebenen allgemeinen Verfahrensweise hergestellt wird, wird eine Reaktionsdauer von ca. 5 Stunden verwendet. Bei der Herstellung der "gelben" Variante des ßis (2-Acety3J*iiophen)-Tellurdichlorides wird eine ReaktioHsdauer von 60 Stunden unter Rühren bei Raumtemperatur angewendet und ergibt eine braune Lösung. Nach Stehenlassen bilden sich orangefarbene Kristalle aus 1,0g Keton und 1/2 Äquivalent Te Cl. mit einem Schmelzpunkt von 142 bis 1 45°C ; 0,66 g I.R. (KBr) I575 cm"¹ und I5I5. Zum Unterschied hiervon hat die "weiße" Verbindung des Beispiels (9) einen Schmelzpunkt von 184 .... 185°C. Das "gelbe" Addukt aus 2-Acetylthiophen und Tellurtetrachlorid hat eine Empfindlichkeit im Bereich von bis zu 550 mn oder etwaa darüber.

Die Verbindungen (60) und (61) sind beispielsweise u.a. ¹¹ selbstsensibilisierte" Abbildungsverbindungen,die im sichtbaren Bereich ohne die Notwendigkeit der Verwendung eines getrennten Sensibilisators wirksam sind.

Die Abbildungeverbindungen gemäß der Erfindung können auch in der Form von Organo-Tellur-Polymeren vaiiegen. So können beispielsweise Acetophenon-Tellurtrichlorid und analo«ge oder ähnliche Abbildungsverbindungen laut obiger Beschreibung mit

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polymeren Ketonen, beispielsweise Acetylpolystyrol, Acetyl-Methyl-Polystyrol und Polyvinylmethylketon, kondensiert werden. Dies wird durch, folgendes veranschaulicht:

(69) Acetophenon-Tellurtrichlorid (3,0g, 8,5 χ 10~^ mol) und Acetylpolystyrol (0,6g, 4,0 1 10" moi) in Chloroform werden 2 Stunden lang gerührt. Nach Beseitigung des Lösungsmittels erhält man einen Feststoff, der dann mit Diäthyläther gewaschen wird. Dieser Feststoff dunkelt bei 175°C und wird bei 190 bis 200 C !Ersetzt. Diese und ähnliche Polymerisate können wechselnde Molekulargewichte haben, und die Polymerisate, aus denen sie hergestellt sind, wie Acetylpolystyrol, haben allgemein Molekulargewichte in dem Bereich von ca. 2000 bis ca. 30 000, der jedoch etwas unterschritten oder ganz wesentlich überschritten werden kann.Die fertigen Polymere können nicht nur als Abbildungsverbindungen sondern in manchen Fällen zweifach als Grundmaterial oder in Beimischung mit anderen Abbildungsverbindungen und/oder anderen Grundmaterialien zur Lösung der Aufgabe gemäß der Lehre der Erfindung dienen.

Wenn die Organo-Tellur-Verbindung von solcher Art ist, daß sie bei Erhitzen auf Schmelztemperatur und Aufrechterhaltung dieser Temperatur während einer vernünftigen Zeitdauer unter Bildung von metallischem Tellur zersetzt wird, ist es mindestens in vielen, wenn nicht in allen Fällen, nützlich als Abbildungsmaterial, wenn es unter den Bedingungen und für die Zwecke der Erfindung verwendet wird. Derartige Organo-Tellur-Verbindungen werden für die Zwecke der Erfindung allgemein als "abbildende Organo-Tellur-Materialien¹¹ bezeichnet.

Viele dieser abbildenden Organo-Tellur-Materialien laut obiger Be-schreibung, beispielsweise diejenigen nach den Beispielen (1). (2), (3), (k), (15), (16), (17) und zahlreich· ander· erfordern, obwohl sie hier zweckmäßigerwei·· als abbildend· Organo-Tellur-Materialien bezeichnet werden, di· Mitverwendung eines Sensibilisators für die Bildung «ines latenten Abbiidee

-18-

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bei Einwirkung der BiIderzeugungsenergie oder bei aktinisclier BesfemixLuHg_s wie durch UV-Licht oder sichtbares Licht oder durch, andere Formen der Bilderzeugungsenergie. I_n gewissen Fällen wirken, wi© bereits oben angedeutet, infolge der kommerziellen Herstellung der abbildenden Organo-Tellur-Materialien vorhandene Verunreinigungen als Sensibilisatoren. So ist beispielsweise bei der Herstellung von Bis (Acetophenon)-Tellurdichlorid ,im allgemeinen Acetophenon als Verunreinigung vorhanden und wirkt so als Sensibilisator. Reines ßis (Acetoph@non)-Tellurdichlorid ist im wesentlichen lichtunempfindlich. In gewiseen anderen Fällen werden durch einen gewissen Zusammenbruch eines Abbildungsmaterials, beispielsweise durch Hydrolyse zwei Arten von Zerstörungsprodukten, deren eines als Sensibilisator und deren anderes als Tellurquelle wirken kann, erzeugt. In anderen Fällen, und zwar allgemein in der vorherrschenden Zahl der Fälle, ist ein getrennter Sensibilisator erforderlich, der zur Erzeugung eines latenten Bildes oder eines ausreichenden latenten Bildes bei Einwirkung von Abbildungsenergie auf das Abbildungsmaterial zugesetzt wird, welches Abbild dann nach Entwicklung durch Einwirkung von beispielsweise trockener Wärme oder durch Naßentwicklung oder durch eine Kombination von Naßentwicklung und Wärmeeinwirkung das fertige Abbild liefert.

Die Grundmaterialien, in die die abbildenden Organo-Tellur-Materialien und die getrennten Sensibilisatoren ggf. zur Bildung des Abbildungsfilmes oder Überzuges eingebaut werden, sind bei Raumtemperatur fest und können aus einer verhältnismäßig großen Anzahl von Materialien ausgewählt werden. Sie sollten vorzugsweise mindestens teilweise von amorpher Natur sein und sollten insbesondere glasige, polare amorphe Materialien mit einer Glasübergangs temperatur sein, die vorzugsweise ca. 200°C nicht überschreitet und bis zu 50 C herab betragen kann und noch besser im Bereich von ca. 80 bis 120°C liegen sollte. Sie sind allgemein polymere Materialien. Veranschaulichende Beispiele für dies sind cyanoäthylierte Stärken|und Amylosen mit einem

+ Cellulosen und -19-

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Substitutionsgrad der Cyanoäthylierung von = 2; Polyvinylbenzophenon; Polyvinylidenchlorid! Polyäthylenterephtalat ("MYLAR"); Celluloseester und -ä.ther, wie Celluloseacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Methylcellulose, Äthylcellulose, Hydroxypropylcellulose;

Polyvinylcarbazol; Polyvinylchlorid; Polyvinylmethylketon ; Polyvinylalkohol; Polyvinylpyrrolidon; Polyvinylmethyläther; Polyacrylsäure- und Polymethacrylsäurealkylester, wie PoIymethylmethacrylat und Polyäthylmethacrylat; Mischpolymerisat aus PolyvinylmethyläthBr und Maleinsäureanhydrid; Verschiedene Qualitäten von Polyvinylformalharzen, z.B. die als 12/851 6/95E, 15/95S, 15/95E, B-79» B-98 o.dgl. bezeichneten und unter der Warenbezeichnung "FORMVAR" - (Monsanto Company) vertriebenen. Von besonderem Nutzen ist Polyvinylformalharz I5/95E ein weißes, freischüttfähiges Pulver mit einem Molekulargewicht in der Größenordnung von 24 000 bis kO 000 und einem Formalgehalt von ca. 829ε, bezogen auf Polyvinylformal, hoher Wärmestabilität, ausgezeichneter mechanischer Dauerhaftigkeit und Widerstandsfähigkeit gegen Materialien wie aliphatischen Kohlenwasserstoffen und mineralischen, tierischen und pflanzlichen Ölen. Diese polymeren Materialien oder Harze und ihre Bereitung sind in der Technik bekannt. Viele die_ ser Materialien wirken nicht allein als Träger und Mittel zum Zusammenhalt der abbildenden Organo-Tellur-Materialien, Sensibilisatoren und etwaiger anderer in dem Abbildungsfilm oder dem Überzug oder der Schicht enthaltenen Zusätze in einer einheitlichen Masse und wirken nicht nur als trockene oder im wesentlichen trockene filmbildende Materialien für die Schaffung dünner Filme von mechanischer Dauerhaftigkeit, auch in dem fertig mit einem Bild versehenen Zustand, sondern viele von ihnen scheinen auch bei dem Abbildungsverfahren eine chemische oder physikalische Rolle zu spielen, indem sie in wichtiger Weise eine Quelle von leicht abstrahierbarem Wasserstoff bilden, und dadurch anscheinend eine bedeutende Rolle bei dem im folgenden zu besprechenden Mechanismus zur Erzeugung des latenten Bildes spielen. In gewissen Fällen kann es erwünscht

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die Viskosität des Grundmaterials zu senken, und dies kann beispielsweise dadurch geschehen, daß gewisse Plastifizierungsmittel, beispielsweise Dibutylphtalat oder Bphenylphtalat, zugesetzt werden, was zwar zur Erzeugung von Abbildern mit erwünschter höherer optischer Dichte, jedoch auch zu einer Neigung zu einer nachteiligen Verunschärfung des Hintergrundes führt.

Es kann bemerkt werden, daß Grundmaterialien des Typs mit einem Gehalt an basischen Gruppen mit den abbildenden Organo-Tellur-Materialien Komplexe bilden können, und insofern als solche Komplexe auftreten können, ist daher die Verwendung solcher Grundmaterialien zu vermeiden.

Die bei der Durchführung der Erfindung nützlichen Sensibilisatoren können aus einer großen Gruppe ausgewählt werden. Sie sollten in dem Grundmaterial löslich oder homogen verteilbar sein. Ihre Auswahl für die Verwendung bei bestimmten Abbildungsmassen wird zum Teil durch das Spektrum der Sensibilisierung beeinflußt. Im Falle von Sensibilisatoren für UV-Strahlung und sichtbares Licht können diese beispielsweise der folgenden Aufstellung entnommen werden, in der auch das Spektrum der Sensibilisierung (in mn) annähernd angegeben ist.

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Sensibilisator

Spektrum der Sensibilisierung (nm)

9,1 O-Phenanthrenchinon

1,1'-Dibenzoylferrocen 1-Phenyl-1,2-Propandion 2-Hydroxy-1,4-naphtochinon Benzil

Furil

Diacetylferrocen Acetylferrocen 1,4-Bis(phenylglyoxal)benzol ο-Napht ο chinon 4,5-Pyrinchinon ^»5 » 9»1O-Pyrinchinon

%00^-kpo - 500 U.V. sichtbar

400 - 600 400 - 500 400 - 500 400 - 450 400 - 480 400 - 450 400 - 450 400 - 500

bis zu 56O " 530 ¹¹ 550

Bei der Durchführung der Erfindung ist 9»1O-Phenanthrenchinon besonders befriedigend.

Beispiele von Sensibilisatoren mit einer Empfindlichkeit im Bereich von ca. 400 nm, die also nur im U.V.-Bereich nützlich sind, sindtBenzophenon; Acetophenon; 1,5-Diphenyl-i,3,5-Pentantrion; Ninhydrinj 4,4^f-Dibrombenzophenon und 1,8 Dichloranthrachinon.

Verschiedene andere S ensibilisatoren können verwendet werden, insbesondere diejenigen vom Typ der substituierten oder unsubstituierten .mehrkernigen Chinonen, von denen oben mehrere genannt wurden und zu denen auch 1,2-Benzanthrachinon; 2-Methylanthrachiun; 1-Chloranthrachinon; 7» 8, 9» 1O-Tetrahydronaphtacenchinon; 9_t 10-Anthrachinon; und 1,4-Dimethylanthrachinon gehören.

Natürlich ist nicht jeder dieser Sensibilisatoren im Verein mit jedem beliebigen Organo-Tellur-Abbildungsmaterial wirksam bzw.

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gleich wirksam, selbst wenn auf die Verwendung von Bilder-%euguagsenergie in dem Sensibilisierungsbereich (nm) des verwendeten Sensibilisatoren geachtet wird,und zur Erzielung der gewünschten oder optimalen Ergebnisse muß die jeweilige Kombination eines bestimmten Organo-Tellur- Abbildungsmaterials und eines zuzuordnenden Sensibilisators geeignet gewählt werden» Eine solche Auswahl ist jedoch verhältnismäßig leicht.

Im Zusammenhang mit den obigen Ausführungen, ist zu 'erwähnen, dass Sensibilisatoren im allgemeinen n#" -Zustände sowohl Singulett als auch Triplett, niedrigerer Energien als JT₁ Τι -Zustände haben und daß mindestens in den meisten Fällen Verbindungen, die ihre TT, Tt -Zustände niedrigster Energie haben, nicht photosensibel wirksam sind, obwohl in gewissen begrenzten Fällen Verbindungen, die die Prüfung erfüllen, daß sie niedrigere Energie Übergänge von η nach TT als von #~nach TT haben, nicht als photosensible Reagenzien wirken. Dies ist in der Hauptsache ein wirkungsvoller Gesichtspunkt für die Vorausbestimmung, ob eine gegebene Verbindung als Photosensibilsisator zur Verwendung bei der Durchführung der Erfindung brauchbar ist. Auf jeden Fall ist eine einfache vorherige empirische Prüfung, wenn erwünscht, in jedem gegebenen Falle ohne weiteres durchzuführen.

Venn ein Diapositiv hergestellt werden soll oder wenn das Abbild durch Reflexionsbetrachtung wahrgenommen "werden soll, ist es für Abbildungszwecke mitunter vorzuziehen, daß sowohl das Grundmaterial aus amorphem Material als auch das abbildende Organo-Tellur-Material durchsichtig oder mindestens durchscheinend ist oder keine oder nahes« keine Färbung hat. Andererseits kann es erwünscht sein, in der Schicht des abbildenden Organo-Tellur-Materials etwas Farbe vorzusehen, so daß die Absorption von Ener^gie einer gewissen Wellenlänge bevorzugt wird· Die zu verwendenden Sensibilisatoren können also derart ausgewählt werden, daß sie die jeweiligen Forderungen erfüllen. Sie können also von einen Typ sein, der gefärbt ist, oder von

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einem Typ, der zur Bildung farbloser und durchsichtiger oder durchscheinender Zersetzungsprodukte zersetzt wird.

Bei den Abbildungsmassen sind die Proportionen des Grundmaterials, des abbildenden Organo-Tellur-Materials und des Sensibilisators variabel. Xn denjenigen Spezialfallen, in de_ nen das verwendete abbild-ende "Organo-Tellur-Material ein solches ist, das inherent oder als Begleiteigenschaft die gewünschten Sensibilisierungseigenschaften aufweist, wie oben bemerkt, ist ein eigener Sensibilisator nicht erforderlich. Es kann jedoch selbst in diesen Fällen wünschenswert sein, einen getrennten oder zusätzlichen Sensibilisator zu verwenden, dessen Sensibilisierungseigenschaften von den inhärenten Sensibilisierungseigenschaften des betreffenden verwendeten abbildenden Organo-Tellur-Materials völlig verschieden sind. Abgesehen von dem organischen Lösungsmittel oder den organischen Lösungsmitteln, so weit sie, wie unten beschrieben, verwendet werden, wird, allgemein gesprochen, jedenfalls, mindestens in den meisten Fällen,das Grundmaterial, das ein normalerweise festes Material, d.h. ein bei Raumtemperatur festes Material ist, in größeren Mengen als irgendeines der übrigen Materialen verwendet und wird auch gewöhnlich den Hauptanteil, d.h. mehr als 50 Gew.°/o bilden und im Bereich von bis zu 90%, vorzugsweise ca. 60 bis 70 Gew.% (der Gesamtheit der in der Abbildungsmasse vorhandenen Materialien) stellen. Das abbild-ende Organo-T_ellur-MaterL al, ebenfalls ein normalerweise festes Material, wird gewöhnlich oder allgemein den nächstgrößten Anteil stellen, der gewöhnlich von ca. 5 oder 7 bis ca. 30 Gew.JG, gewöhnlich ca. 10 oder 15 bis 20 Gew.%, der Abbildungsmasse beträgt. Wenn als getrennter Bestandteil vorhanden, wird der Sensibilisator, der normalerweise ein fester Stoff ist, jedoch bei Raumtemperatur flüssig sein kann, gewöhnlich in geringeren Anteilen verwendet, die gewöhnlich in der Größenordnung von ca. 5 bis 20 Gew.#, üblicherweise ca. 6 bis 15 Gew.% der Abbildungsmasse betragen, obwohl in gewissen Fällen der Anteil des Sensibilisators wesentlich höher, und zwar annähernd gleich oder

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selbst größer als der Anteil des abbildenden Organo-Tellur-Materials sein kann« Auch ist im Zusammenhang mit den Anteilen der genannten Bestandteile zu erwähnen, daß die Flächendichte des S_ensibilisators, beisp-ielsweise des 9f 10-Phenanibrenchinons vorzugsweise so zu wählen ist, daß ca. 8O^ der auf den Film auffalenden Photonen im Bereich des Absorptionsbandes von 9»10-Phenantferenofainon absorbiert werden. Erheblich höhere Konzentrationen von 9f10-Phenanthrenchinon würden die dunkle Seite des Filmes unbelichtet lassen, und es könn-.te dann kein Vorteil erzielt werden. Im allgemeinen und in den meisten Fällen zur Erzielung optimaler Resultate sollte die Mol-Konzentration des abbildenden Organo-Tellur-Materials vernünftigerweise nahezu oder grob angenähert die gleiche wie die des Sensibilisators sein. Bie Konzentration des polymeren Grundmaterials sollte ausreichen, um einen im wesentlichen amorphen Film zu bilden,ohne daß das abbildende Organo-Tellur-Material, der Sensibilisator oder ggf. zusätzlich verwendete Bestandteile ausgefällt werden. Überschüssiges polymeres Grundmaterial führt auch zu einer Verminderung der Empfindlichkeit des Filmes.

In gewissen Fällen kann es wünschenswert sein, in der abbildenden Masse zusätzliche oder ergänzende Materialien zur Erzielung gewisser Sonderwirkungen einzuschließen. So hat es sich beispielsweise gezeigt, daß gewisse Materialien, die Lagerungsfähigkeit der unbelichteten, frischen, (jungfräulichen) Filmmassen gemäß der Erfindung verlängern so wie in gewissen Fällen auch die Empfindlichkeit der Filmmassen erhöhen. Veranschaulichende Beispiele solcher zusätzlicher oder ergänzender Materialien, die in ihren Molekülen Äther- oder Polyäther-Bindungen enthalten, sind solche Materialien oder Polymere wie Polyäthylen-20-Sorbitanmonolaurat; Polyäthylen-20-sorbitan-monooleat; Polyox-10j Polyox-80j Polyox-750; Polyäthylenglykol-400-distearat| PoIyäthyl©nglykol-600-Distearat; PoIy-(I,3-dtoxolan)f Poly-(tetrahydrofuran); PoIy-(I,3-dioxepan); Poly-(1,3dioxan); Polyacetaldehyde; RiLyoxymethylene; Fettsäureester von Polyoxymethylene^ , Poly-icyclohexanmethylenoxyd); Poly-(4-methyl-1,3-dioxan);

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Polyoxäthane; Polyphenylenoxyde; Poly- 3f3-t>is(halomethyl)-oxocyclobutan ; Poly-(oxypropylen)-glykol-epoxidharzej und Copolymere von Propylenoxyden und Styroloxyden. Derartige Materialien können in den abbildenden Fimmassen in verschiedenen Mengen, im allgemeinen von 5 bis 20 Gew.$ der festen abbildenden Filmmassen, vorhanden sein. In gewissen Fällen fördern oder verlängern sie die mögliche Lagerungsdauer unter gegebenen Lagerungsbedingungen um 50% oder sogar ga,nz wesentlich mehr, und sie erhöhen, wie angedeutet, in verschiedenen Fällen auch in wirksamer Weise die Empfindlichkeit des Filmes.

Es hat sich auch gezeigt, daß ein Gehalt der abbildenden Filme an reduzierenden Zuckern eine Erhöhung der optischen Dichte der Abbildungsbereiche (des Verhältnisses der optischen Dichten der belichteten Bereiche und der Hintergrundbereiche·) bewirkt, wenn der Film in der oben beschriebenen Weise mit einem Bild versehen und dann beispielsweise bei ca. 120 bis 150 C oa. 15 Sekunden lang entwickelt wird, insbesondere, wenn der Abbildungsfilm frisch hergestellt und nicht älter a.\a ca. einen Tag nach der ursprünglichen Herstellung ist. Venn solche Filme einer Bilderzeugungsenergie ausgesetzt und dann entwickelt werden, erhält man - zum Unterschied von der bei der gewöhnlichen Durchführung der Erfindung bestehenden negativen Arbeitsweise ein Positiv (d.h. die optische Dichte ist in den nicht belichteten Flächenteilen größer als in den belichteten). Dieser Gehalt an reduzierenden Zuckern in den Abbildungsmassen ermöglicht auch das Entwickeln der Abbildung nach Einwirkung der Bilderzeugungsenergie bei niedrigeren Temperaturen, selbst bei Raumtemperaturen, in einem Zeitraum von beispielsweise einigen Stunden, beispielsweise allgemein in 10, 12 oder 15 Stunden. Es sind zahlreiche reduzierende Zucker verwendbar, und Beispiele hierfür sind Dextrose, Glucose, Arabinose, Erythrose, Fructose, Galactose, Fucose, Manose und Ribose. Speziell wirksam sind Dextrose, Arabinose, Galactose, Fucose und Ribose. Die reduzierenden Zucker können in wechselnden Mengen verwendet werden, im allgemeinen jedoch in äquivalenten Mengen in bezug

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auf die Menge an abbildendem Organo-Tellur-Material in der Afobildungsmas©©, oder etwas darunter oder darüber.

Bai der Herstellung der Filme oder dünnen Schichten der abbildenden Materialmassea, die allgmein in der Form von Lösungen oder homogenen Dispersionen zubereitet und als Überzug auf ein Substrat- aufgebracht oder aufgelegt werden, ist es insbesondere erwünscht, die Bestandteile in einem organischen Lösungsmittel zu lösen oder homogen zu dispergieren. Beispiele geeigneter Lösungsmittel sind Dimethylformamid (DMF), Chloroform, Tetrahydrofuran (THF), DimethyIacetamid (DMA), Dioxan, Dichlormethan und Äthylendichlorid oder verträgliche Gemische solcher organischer Lösungsmittel oder mit anderen organischen Lösungsmitteln. Nach Lösung· oder homogenem Dispergieren wird die Lösung in beliebiger geeigneter Weise als Film auf ein Substrat aufgebracht, die größeren Anteile des organischen Lösungsmittels oder der Lösungsmittel werden, vorzugsweise bei verhältnismäßig niedriger Temperatur und, was mitunter erwünscht ist, bei unteratmosphärischem Druck oder im Vakuum, so weit ausgedampft, daß der Film oder der Überzug im wesentlichen berührungstrocken ist, und ein solcher berührungstrockener Überzug ist besonders für die Handhabung und Veiterverarbeitung erwünscht. Obwohl solche Filme oder Überzüge allgemein gesprochen berührungstrocken sein können, bedeutet dies natürlich nicht, daß der Film von organischem Lösungsmittel frei sein muß. Es hat sich in der Tat gezeigt, daß es häufig sehr erwünscht ist, daß der fertige Film oder Überzug vor Einwirkung der Bilderzeugüngsenergie einen kleinen Prozentsatz, im allgemeinen in der Größenordnung von ca. 2 bis 3 Gew.?6 des. Filmes oder Überzuges, anorganischem Lösungs-

mittel, beispielsweise Dimethylformamid (DMF) enthält, da dessen Vorhandensein anscheinend eine günstige Rolle bei der Empfindlichkeit des Systems gegenüber der Bildung des latenten Bildes und/ oder bei dem nach Entwicklung erhaltenen endgültigen Abbild spielt. Die vollständige oder im wesentlichen vollständige Beseitigung des DMF oder sonstiger organischer Lösungsmittel von dem ungebrauchten Film vor der Bilderzeugung und Entwicklung

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führt häufig zu einer Minderung der Empfindlichkeit. Wenn jedoch in einem gegebenen Falle das Trocknen des ungebrauchten Filmes so weit getrieben worden ist, daß im wesentlichen kein organisches Lösungsmittel mehr vorhanden ist, und die Empfindlichleit darunter gelitten hat, kann die Empfindlichkeit gesteigert oder wiederhergestellt werden, indem vor der Einwirkung der Bilderzeugungsenergie dem Film eine geringe Menge an organischem Lösungsmittel zugesetzt wird.

Die Dicke des Abbildungsfilmes oder -Überzuges kann verschieden sein, fällt jedoch gewöhnlich in den Bereich von ca. 1 bis ca. 35 /um, wobei der Bereich von ca. 5 bis 15 /um im allgemeinen einen guten Durchschnitt bildet. Die Dicke in mm kann also von 0,0005 bis ca. 0,05 mm oder weit darüber, z.B. von 0,05 bis 5 nun, betragen, und die gewählte Dicke hängt von dem besonderen Verwendungszweck ab, für den der Abbildungsfilm bestimmt ist.

Die Herstellung des abbildenden Organo-Tellur-Materials und das Überziehen, die Handhabung und die Verarbeitungin dem erforder-Üchen Maß werden in für den Fachmann verständlicher Veise unter geeigneten Beleuchtungsbedingungen durchgeführt. Beispielsweise werden die Bereitung der Überzugmassen, das Überziehen und Trocknen zweckmäßigerweise unter gelblichtgefiltertem Licht (amberlite filtered light) (schwache Durchlässigkeit bei 550 mn) durchgeführt. Der trockene Film wird vor der Bilderzeugung vorzugsweise im Dunkeln gelagert. In gewissen Fällen empfiehlt es sich, die Berührung gewisser Bestandteile mit gewissen Metallen, zu vermeiden, wenn unerwünschte Reaktionen, beispielsweise Reduktionen, auftreten können. Im allgemeinen sollten die verwendeten Gefäße oder Behälter, Rühreinrichtungen usw. aus Glas oder anderen glasartigen Materialien oder sonstigen gegenüber den Bestandteilen des Überzuges inerten Materialien hergestellt sein, um Verschmutzungen oder mögliche unerwünschte Reaktionen mit Sicherheit zu verhindern. Vorteilhaft ist es im allgemeinen, die Abbildungsmassen kurz vor dem Auftragen derselben auf das gewählte Substrat herzustellen. Unter geeigneten Lage-

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rungsbedingungen, im allgemeinen uiter Dunkelheit, vernünftigem Ausschluß von Luft oder oxydationsfördernder Umgebung und Vermeidung von Feuchtigkeit, ist die Beständigkeit der Abbildungsmassen gut. Ungünstige und übermäßig langeLagerung beein-

trächtigen jedoch bei der Bilderzeugung die Anforderungen an die Belichtungszeit sowie an den Kontrast.

Bei der Verwendung der Abbildungsfilme oder -schichten gemäß der Erfindung werden diese beispielsweise durch eine geeignete oder gewünschte Maske einer Bilderzeugungsenergie, die beispielsweise je nach dem verwendeten speziellen, abbildenden, Qgano-Tellur-Material und dem verwendeten Sensibilisator, als aktinisches Licht,UV-Strahlung ader sichtbares Licht zur Wirkung gebracht werden kann, ausgesetzt, um ein latentes Bild zu erzeugen, das mit dem bloßen Auge normalerweise nicht wahrnehmbar ist. Bei Beispiel D (siehe unten) und bei Belichtung mit einer Xenonlampe kann der gesamte auf die Filmoberfläche auffallende Lichtstrom im allgemeinen Bereich von 3*10 bis 10 erg/cm der Filmfläche liegen. Die anschließende Entwicklung zum Hervorbringen des latenten Bildes wird vorteilhafterweise durch Wärmeeinwirkung, beispielsweise bei einer Temperatur von ca. 130 bis 160 C, vorzugsweise 150 C, während einiger Sekunden, etwa 3 bis 15 oder 20 s, oder durch Naßentwicklung oder eine Kombination von Warm- und Naßentwicklung bewirkt. Das Entwickeln durch Wärme oder die thermische Entwicklung kann mit mannigfaltigen Mitteln, beispielsweise mit einer Heizplatte, heißem Mineralöl oder heißem Siliconöl bei den genannten Temperaturen oder mit einer Infrarotlampe durchgeführt werden. Dies erzeugt ein dunkles Bild mit einer optischen Dichte (o.D.)i nur in den belichteten oder bestrahlten Flächen, worin der Hintergrund im allgemeinen verhältnismäßig hell oder klar bleibt.

Beim Entwickeln wird nur ein kleiner Prozentsatz des gesamten in der Grundmasse vorhandenen abbildenden Organo-Tellur-Materials zu metallischem Tellur reduziert. Nach der Entwicklung kann

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der Film oder die Schicht vorzugsweise einem Fixieren unterzogen werden, das dazu dient, den Sensibilisator zu entfernen, und das abbildende Organo-Tellur-Material, das an der Reaktion nicht teilgenommen hat, zu inaktivieren. Obwohl dies auf mannigfaltige Weise geschehen kann, besteht eine besonders wirksame Maßnahme darin, daß der Film durch Waschen oder Befeuchten, Aufsprühen oder Eintauchen mit einer mit Amoniak oder organischen Aminen gesättigten Chloroform-Toluol-Lösung (im VolumenverhäLtnis 20:80) zur Berü-hrung gebracht wird. Auf diese Weise wird der Sensibilisator und natürlich dessen Farbe beseitigt und das abbildende Organo-Tellur-Material inaktiviert, so daß bei späterer Belichtung und Erhitzung kein Bild mehr erzeugt wird und der Film daher stabilisiert wird. B_eispiele organischer Amine für diese Verwendung sind Trimethylamin, Triäthylamin, DxEithylaniin, Triisopropylamin, Anilin und Benzylamin (beispielsweise 10$>ige Lösungen). Im fixierten Zustand dunkelt der Film allgemein nicht nach, es sei denn, daß er etwas überhöhten Temperaturen, beispielsweise in der Größenordnung von ca. 90 bis 100 C, ausgesetzt wird.

Die folgenden Beispiele illustrieren die Herstellung der Filme oder Schichten gemäß der Erfindung. Die Beispiele sind keineswegs als beschränkend aufzufassen, da nach den leitenden Grundsätzen und der Lehre der Erfindung mannigfaltige Abwandlungen der Filme und Schichten verwendet werden können.

Beispiel A

50 mg Bis(Acetophenon)-Tellurdichlorid, 250 mg Polyvinylformal ("FORMVAR" 15/95 E), 20 mg o-Naphtochinon und 3 ml DMF werden bei Raumtemperatur zu einer homogenen gelben viskosen Lösung gerührt. Die Lösung wird dann auf ein 75.100 mm (3 x V¹) großes Blatt aus "MYLAR" gegossen, wodurch ein Film oder eine Schicht von einer Dicke von ca. 10 mm gebildet wird, die dann in einem Ofen bei 50°c ca. 30 bis 45 min erhitzt wird. Innerhalb dieser Zeit wird der Film oder die Schicht berührungstrocken. Wenn erwünscht, kann der getrocknete Film, obwohl dies keineswegs

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erforderlich ist, 3 bis 5 s lang auf 1 50°C vorerhitzt werden, was eine Vernetzung der Polymeren zur Folge hat, wodurch die Grundmasse gegenüber Wasser undurchlässiger gemacht wird.

Beispiel B

Das Vorgehen ist das gleiche wie oben in Beispiel A beschrieben, jedoch wird anstelle von DMF Chloroform verwendet. Der Film wird unter einer gut belüfteten Haube 30 min lang bei Raumtemperatur bis zur Trockenheit des Filmes bei Berührung getrocknet.

Beispiel G

Das Vorgehen ist das gleiche wie bei Beispiel A, jedoch wird anstelle von DMF ein Gemisch aus DMF und Chloroform im Volumenverhältnis von 2Ofo DMF zu 8O^c/o Chloroform verwendet. Der erhaltene Film ist berührungstrocken.

Beispiel D

50 mg Bis(Acetophenon)-Tellur-Dichlorid, 250 mg Polyvinylformal ("FOHMVAR" 15/95E),5O mg «enzophenon und 3 ml DMF werden bei Raumtemperatur zu einer homogenen viskosen Lösung zusammengerührt. Diese wird dann, wie in Beispiel A beschrieben, auf ein Blatt aus ¹¹MYLAR" gegossen und zur Bildung eines klaren, berührungstrockenen Filmes getrocknet.

Beispiel E

50 mg Acetophenon-Tellur-TriChlorid, 250 mg Polyvinylformal ("FORMVAR" 15/95 E), 20 mg 4,5-Pyrinchinon und 3 ml DMF werden gemischt und auf ein Blatt "MYLAR" aufgetragen und in der im Beispiel A beschriebenen Weise zur Bildung eines klaren berührungstrockenen Filmes erhitzt.

Beispiel F

40 mg Bis(p-methylacetophen-on)-Tellur-Dichlorid, 200 mg cyanoäthylierte Stärke, 16 mg 4,5,9,10-Pyrinchi-non und 2,8 ml DMF werden bei Raumtemperatur zu einer homogenen viskose Lösung

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zusammengemischt. Diese wird dann auf ein 75··1ΟΟ nun (3 x ^¹¹) großes Blatt "MYLAR" gegossen. Dabei wird ein Film oder eine Schicht von einer Dicke von ca. 10/um gebildet. Das Trocknen erfolgt in einem Ofen bei 50 C während ca. 30 bis k$ min, innerhalb welcher Zeit der Film oder die Schicht berührungstrocken wird.

Beispiel G

2 g der Masse gemäß Beispiel (15) werden mit 5 g cyanoäthilierter Stärke gemischt und in ca. 100 Gew.-Teilen Aceton gelöst. Die Lösung wird .auf eine Glasplatte aufgetragen und bildet nach dem Trocknen einen Film von ca. 10 /um Dicke.

Beispiel H

Das Vorgehen ist das gleiche wie bei Beispiel A, jedoch wird anstelle des abbildenden Organo-Tellur-Materials des Beispiels A dasjenige gemäß Beispiel (38) verwendet.

Beispiel I

50 mg der Verbindung nach Beispiel (1), 250 mg Polyvinylformal ("FORMVAR" I5/95E ) ,20 mg 9, 10-Phenanflrenchinon und 41 mg DMF werden bei Raumtemperatur bis zur Erzielung einer homogenen viskosen Lösung zusamraengerührt. Diese wird dann zur Bildung eines Filmes von ca. 3/um Dicke auf ein Blatt"MYLAR" gegossen und, wie in Beispiel A,zur Bildung eines berührungtrockenen Filmes getrocknet.

Beispiel J

52mg Bis-(Acetophenon)-Tellur-Diehlorid, 260 mg Polyvinylformal ("FORMVAR" ,I5/95E), 22 mg 9,1O-Phenanthrenchinon und 3 ml DMF werden bei Raumtemperatur zu einer homogenen gelben, viskosen Lösung zusammengerührt. Diese wird dann auf ein 75·100 mm (3 x ^ ") großes Blatt aus"MYLAR" gegossen, wobei ein gelber, klarer Film oder eine Schicht einer Dicke von ca. 8/um gebildet wird, und dann wird in einem Ofen bei 50°C während 30 bis k5 min getrocknet, innerhalb welcher Zeit der Film oder die Schicht berührungstrocken wird,

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Beispiel K

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35 mg Bis(p-Methylaceto*-phenon)-Tellu:i?tnilorid ,185 mg Polyvinylformal (¹¹FORMVAR" 15/95 E) , 14 mg 9,10-Phenanthrenchinon und 2,5 ml DMF/Chloroform im Verhältnis 70:30 werden bei Raumtemperatur zu einer homogenen gelben viskosen Lösnng zusammengerührt. Diese wird dann auf ein 75*100 ram (3 x 4 ") großes Blatt "MYLAR" gegossen, wobei ein gelber klarer Film oder eine Schicht einer Dicke von ca. 10 /um hergestellt wird, die dann in einem Ofen bei ko C während ca. 30 bis 45 min erhitzt wird, innerhalb welcher Zeit der Film oder die Schicht berührungstrocken wird.

Beispiel L

16mg Bis(Acetophenon)-Tellurdichlorid, 77»6 mg Polyvinylformal ('FORMVAR" 1 5/95 E), 6,7 mg 9,1O-Phenanthrenchinon und 3 ml einer Lösung von 5 vol-Teilen DMF und 1 vol-Teil Chloroform wrden bei Raumtemperatur zu einer homogenen gelben viskosen Lösung zusammengerührt. Diese wird auf ein Substrat aus "MYLAR" aufgetragen undj wie im Beispiel J beschrieben, erhitzt.

Beispiel M

25 mg Bis(Acetophenon)-Tellurdichlorid,125mg Polyvinylformal (FORMVAR 15/95E) 50 mg Polyoxyäthylen-(20)-Sorbitanmonolaurat, 7mg 9» 10-Phenantfrenchinon und 3 ml einer Lösung aus DMF und Chloroform gemäß Beschreibung in Beispiel L werden bei Raumtemperatur zu einer homogenen gelben viskosen Lösung zusammengerührt, die dann auf ein MYLAR-Substrat aufgetragen, und wie in Beispiel J beschrieben, erhitzt wird.

Beispiel N

Eine Abbildungsmasse wird unter Verwendung von 0,050 g der Verbindung (1), 0,020g 9,10-Phenanthrenchi-non, 0,25 g Polyvinylformal ("FORMVAR" 15/95 E) und DMF/Dichlormethan 2,25/0,75 ml - hergestellt. Die Masse wird gleichmäßig auf ein 75-cm (I2squ.in.) großes Blatt aus MYLAR aufgetragen und bei 50 C 45 min lang getrocknet. Dann wird es mittels einer

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Xenonbiitzlampe vom Typ 700 Honeywell Flash Gun 2 ms lang belichtet. Durch Bestrahlung mit einer Wärmelampe bei 150 C während 20 s wird der Film zur Bildung eine s sichtbaren Abbildes mit gutem Kontrast entwickelt.

Gemäß der Erfindung werden also ausgewählte Bereiche einer Schicht, die als Abbildungsmaterial eine Organo-Tellur-Verbindung enthält oder aus einer solchen besteht— wofür BLs(1,5-Diphenyl-1,J,5 Propantrion)-Tellurdichlorid ein Beispiel ist - in Anwesenheit eines Photosensibilisators der Bilderzeugungswirkung einer Bilderzeugungsenergie sowie einer Entwicklung, vorteilhafterweise einer Entwicklungsenergie, ausgesetzt, wodurch in den mit der Abbildung versehenen (belichteten) Bereichen eine Änderung in dem .abbildenden Orgario-Tellur-Material verursacht wird, die von einer Änderung in einer feststellbaren Eigenschaft des abbildenden Materials in den belichteten Bereichen verursacht wird. Das genannte Abbildungsmaterial wird mit besonderem Vorteil in einer Grundmasse aus einem polymeren oder harzartigen fUmbildenden Material verteilt. In ihrer allgemein vorteilhaftesten Form geschieht die Bilderzeugung unter Verwendung eine r Bilderzeugungsenergie zur Erzeugung eines latenten Abbildes,und einer nachfolgenden Entwicklung durch Wärme zur Erzeugung der wahrnehmbaren Aufzeichnung der Imformation bzw. des wahrnehmbaren Abbildes.

Die Erfindung wird im folgenden anhand der Zeichnung und der darin dargestellten Ausführungsbeispiele näher erläutert.

Fig. 1 ist ein schematischer Teilschnitt durch eine Ausgangskonstruktion gemäß der Erfindung, bestehend, aus einer Schicht, die ein abbildendes Organo-Tellur-Material enthält und durch eine Öffnung in einer Maske einer Bilderzeugungsenergie ausgesetzt wird;

Fig. 2 entspricht Fig. 1 und deutet das durch die Belichtung ausgewählter Filmteile durch die BiIderzeugungsi-energie

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gebildete, für das bloße Auge jedoch nicht erkennbare, latente Bild an;

Fig. 3 entspricht Fig. 2, zeigt jedoch die Konstruktion nach Abnehmen der Maske und bei Einwirkung der Entwicklungsenergie;

Fig. k entspricht Fig. 1 , zeigt jedoch die voll entwickelte Konstruktionjund

Fig. 5 ist eine schematische Darstellung einer Mikrophotographie, die einen Teil eines Bereiches, der einen Auftrag eines kristallinen Bilderzeugers enthält, in 2000-facher Vergrößerung zeigt.

Die Konstruktion gemäß Fig. 1 weist ein Substrat 12, beispielsweise aus Glas, auf, auf dem eine dünne lichtdurchlässige Schicht 1^· aufgetragen ist, die aus einer Grundmasee aus einem glasigen amorphen Material, wie !Polyvinylformal^ besteht, in dem ein abbildendes Organo-Tellur-Material und ein Sensibilisator, beispielsweise gemäß einem der Veranschaulichungsbeispiele A bis N,verteilt sind. Auf der Schicht ^k der Konstruktion ist eine Bildmaske 16 aufgelegt, die lichtundiarchlässige Bereiche 18 und einen licht- durchlässigen Bereich 20 enthält. Wie dargestellt, fällt durch den lichtdurchlässigen Bereich 20 der Maske auf einen unter diesem liegenden Flächenteil der Schicht 14 eine elektromagnetische Strahlung oder aktinisches Licht 22 ein. Die Strahlung wird in Form eines kurzen Impulses zur Wirkung gebracht. Fig. 2 zeigt die Konstruktion gemäß Fig. 1 nach Beendigung der Einwirkung der elektromagnetischen Strahlung. In der Schicht 14 ist durch kleine Wellenlinien das Vorhandensein eines latenten Abbildes 24 angedeutet, das jedoch, wie oben erwähnt, mit dem bloßen Auge im allgemeinen nicht wahrnehmbar ist.

Fig. 3 zeigt die Konstruktion gemäß Fig. 2 mit dem latenten

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Abbild Zk im mittleren Teil der Schicht I*+. Die Maske 16 ist entfernt worden. Die Konstruktion ist, wie dargestellt, oberhalb der Strahlungswärmequelle 26, beispielsweise einem elektrischen Heizkörper, aufgehängt, und die Temperatur ist auf den gewünschten Bereich, beispielsweise von 130 bis I50 C, eingeregelt. Die Strahlungswärmeenergie 28 geht, wie dargestellt, durch das Substrat 12 hindurch und erhitzt die Schicht 1^+. Bei E_rhitzen der Schicht 14 findet in dem Bereich, der das latente Abbild Zk enthält, eine chemische Reaktion statt, durch die das Tellur des oben erwähnten Abbildungsmaterials von seiner Bindung in der . (1) freigesetzt und in elementarer Form in der Schicht 1k ausgefällt wird. Das Tellur ist in dem dem latenten Abbild Zk entsprechenden Flächenbereich in der Schicht 1k in Form von Nadeln oder nadeiförmigen Kristalliten von äußerst geringer Größe vorhanden. Die Konstruktion, wie sie nach Beendigung des Erhitzens erscheint, ist in Fig. k

dargestellt und weist eten undurchsichtigen Abschnitt 30 in der Mitte auf, wo die Strahlung die Schicht 14 trifft, und der lichtdurchlässige Abschnitt 32 stellt die durch die undurchsichtigen Bereiche 18 der Maske 16 vor der Strahlung geschützten Bereiche dar(Fig. 1 ).

Wenn das Substrat 12 lichtdurchlässig oder durchsichtig ist, wie Glas, erscheint beim Durchblick durch die Konstruktion der Bereich 30 dunkel oder im wesentlichen lichtundurchlässig, während die Bereiche 32 in hohem Maße lichtdurchlässig sind. Eine solche Konstruktion stellt daher ein Diapositiv dar.

Wenn das Substrat 12 aus einem undurchsichtigen, jedoch hoch reflexionsfähigen Material, wie weißem Papier, besteht und die Schicht 1^ ursprünglich lichtdurchlässig war, wird bei Betrachtung der Flächenbereich 32 weiß erscheinen und die Reflexionsfähigkeit des Papiers haben, während dar Bereich 30 nicht-reflektiert und bei Reflexionsbetrachtung dunkel oder schwarz erscheint.

Die Trennlinie bei 3^ in der Konstruktion gemäß Fig. k ist mit

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2000-facher Vergrößerung photographiert worden. Das Aussehen der so erhaltenen Mikrophotographie ist in Fig. 5 schematisch dargestellt. Die Trennlinie zwischen durchsichtigen und undurchsichtigen Bereichen ist durch einen Pfeil bei 3^ angedeutet. Links in dem lichtdurchlässigen Bereich 32 erscheinen leine oder nur wenige größere Tellurkristalle 35» während rechts davon Wolken von kleinen Teilchen 36 zu erkennen sind. Bei Betrachtung unter dem Mikroskop ist zu erkennen, daß in der Schicht 14 zerstreute Teilchen von Tellurnadeln vorhanden sind, die den Bereich 30 undurchsichtig machen.

Bei dem Beispiel der Abbildung in Fig. 5 sind die Tellurteilchen, die den Bilderzeuger im Bereich 30 darstellen, vorzugsweise und vorteilhafterweise in der Form von Nadeln mit sehr enger Größenverteilung. Dies ist eine sehr günstige Eigenheit des abbildenden Organo-Tellur-Materials gemäß der Erfindung, da es die Herstellung von Abbildungen hoher Qualität und gleichmäßiger Eigenschaften ermöglicht. Dies ermöglicht auch die Herstellung einer wohlausgewogenen Grauskala. Durch Variieren der Zusammensetzung der abbildenden Organo-Tellur-Materialien, durch Veränderung der Konzentration desselben in dem glasigen Material der Grundmasse und/oder durch Variieren des Anteils des Sensibilisators und durch Einstellen der Abbildungs- und Entwicklungsbedingungen, wie der Intensität und Dauer der Einwirkung der Bilderzeugungsenergie sowie der Intensität und Dauer der Einwirkung der Entwicklungsenergie lassen sich die Größen der Tellurteilchen, insbesondere die Länge der Tellurnadeln, die den Bilderzeuger darstellen, steuern. Je nach dem angestrebten Verwendungszweck der Abbildung wird man Nadeln von extrem geringer Größe bevorzugen. In gewissen Fällen kann durch Erhöhen der Länge der Tellurnadeln die relative Dichte und der Kontrast erhöht, jedoch das Auflösungsvermögen des Systems vermindert werden. Im allgemeinen werden die photοgraphische Lichtausbeute und die Beide htungsgeschwindigkeit (photographic gain andspeed) des Systems um so ausgeprägter sein, je größer unter sonst gleichen Bedingungen die Länge der Tellurnadeln ist. Die Wahl bestimmter abbildender

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Organo-Tellur-Materialien, die eine veränderliche chemische oder sonstige Reaktionsfähigkeit haben, ermöglicht die Herstellung neuer photographischer Systeme, die hinsichtlich Auflösungsvermögen, Empfindlichkeit gegenüber umgebenden Licht, photogt'aphischer Sensibilisierung, Zeitaufwand für das Entwickeln und Zugriff zum Abbild mannigfaltige Bedürfnisse befriedigen, für die photographische Systeme zur Zeit verwendet worden oder mit Nutzen verwendet werden können.

Bei einem anderen Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei dem tlur Abbi idungs film aus Beispiel G in der in Fig. I gezeigten Konstruktion verwendet wird, wird eine Elektronenblitzkanone verwendet, die einen Blitz von 1 ms Dauer mit breitem Lichtijpektruiu liefert. Die geschichtete Konstruktion wird dann tiir 3 bis 15 s auf eine Heizplatte mit einer Temperatur von CcX. 130 bis 1 ^O C gelegt, worauf nahezu augenblicklich ein scharfes Bild erscheint, das eine exakte Negativkopie des durch die Bildmaske dargestellten Bildes ist. Das Abbild zeigt eine ausgezeichnete Auflösung und Schärfe. Wenn von der "weißen" Abbildungsverbindung nach Beispiel (i) mit einem gewissen Gehalt an Acetophenon eine Probe hergestellt wird und in der beschriebenen Weise blitzbelichtet wird, kann mit dem bloßen Auge keine Änderung des Filmes beobachtet werden. Bei Erhitzen in der beschriebenen Weise erscheint ein Abbild mit gutem Kontrast und guter Konturenschärfe.

Obwohl die bei der Vorbereitung des Abbildungsfilmes verwendeten abbildenden Organo-Tellur-Materialien gewöhnlich von kristalliner Natur sind, erscheint der unbelichtete Film in dem als Film auf das Substrat aufgelegten, berührmngstrockenen Zustand vor der ersten Bilderzeugung im allgemeinen oder gewöhnlich, so weit durch Prüfung durch Röntgenstrahlen Diffraktion bestimmt wurde, nicht-kristallin. Nach dem Entwickeln tritt das metallische Tellur, vorzugsweise in Nadelform, auf, obwohl die Teilchengröße und -form infolge von Kernbildung

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und möglicherweise anderer Kräfte Veränderungen erfahren, deren Natur und Charakter noch nicht voll erkannt sind. Die Größe der Nadeln aus metallischem Tellur scheint von solchen Farktoren, wie der Dicke des Abbildungsfilmes, der Art und Viskosität der G_rundmasse, dem Vorhandensein und der Menge organischer Lösungsmittel in dem Film zum Zeitpunkt der Einwirkung der Abbildungsenergie sowie der Temperatur, bei der das Entwickeln vorgenommen wird und die auch auf die Farbe des endgültigen Abbildes Einfluß hat, abzuhängen.

Je nach dem gewünschten Ergebnis bei einem verwendeten bestimmten System kann die Dicke der Schicht 14 (Fig. 1) in der Konstruktion gemäß der Erfindung, wie bereits bemerkt, in weiten Grenzen variiert werden. Die Dicke der Schicht, die das abbildende Organo-Tellur-Mafcerial enthält, braucht nur 1000 A* oder noch weniger und kann bis zu 1 mm oder noch darüber betragen. Für die Herstellung von Diapositiven oder Reflexionskopien sind Schichtdicken von ca. 0,2 /um bis ca. 20/um allgemein am günstigsten. Die bevorzugte Dicke der Schicht hängt von Faktoren ab, wie der Konzentration des abbildenden Organo-Tellur-Materials in dem Grundmaterial, der Art des Bilderzeugers, der gewünschten maximalen Dichte, den gewünschten Unterschieden in der Reflexion?- fähigkeit bzw. Durchlässigkeit sowie vielen anderen Faktoren. In jedem System läßt sich die günstigste Dicke der Schicht unter Berücksichtigung dieser Faktoren leicht bestimmen. Für gewisse Zwecke, beispielsweise für die Aufzeichnung von Informationen in Datenverarbeitungsgeräten, können die Schichten des Abbildungsmaterials weitaus dicker oder dünner sein als oben angegeben. Die Bildung von Kernen und der bevorzugten abbildung«- erzeugenden Kristalliten wird in einem gewissen Grad von der Dicke des Filmes beeinflußt. Anscheinend müssen bei der Kernbildungsreaktion sowie bei der zu den kleinen bilderzeugenden Kristalliten führenden Reaktion Oberflächenwirkungen und Grenzflächenwirkungen berücksichtigt werden. Bei der Auswahl der günstigsten Filmdicke der Abbildungsschicht müssen also auch diese Faktoren berücksichtigt werden.

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Ahnliche Überlegungen werden bei der Wahl der Konzentration des Abbildungsmaterials in dem Material der Grundmasse angestellt. Im allgemeinen ist es erwünscht, das Abbildungsmaterial in möglichst hoher Konzentration zu verwenden. Die von dem Material der Grundmasse zu erfüllenden Funktionen sind oben erwähnt worden und brauchen nicht wiederholt zu werden. Dieses Grundmaterial selbst und der Einschluß ggf. von Plastifizierungsmitteln neigen dazu, als Lösungsmittel für die Abbildungsmaterialien zu wirken und den Film im aufgetragenen und getrock·*· neten Zustand amorph zu machen. Die Verträglichkeit des Materials der Grundmasse und der abbildenden Organo-Tellur-Materialien scheint zur Empfindlichkeit eines gegebenen Systems beizutragen und führt zu besseren Abbildungen oder besserem Kontrast und höherer Dichte.

Eine andere massgebende Überlegung besteht in dem Verhältnis der Glasübergangstemperatur des Materials der Grundmasse und der Temperatur, bei der im Einzelfalle die Spaltung des Moleküls des abbildenden Organo-Tellur-Materials unter der bestimmten Reaktionsbedingung und in der bestimmten Umgebung auftritt. Wenn beispielsweise das Molekül des abbildenden Organo-Tellur-Materials sich bei einer weit niedrigeren Temperatur als dasjenige des Filmes zu zersetzen oder zu spalten beginnt, können örtlich sekundäre Reaktionen auftreten, die die Spaltungsprodukte des abbildenden Organo-Tellur-Materials zur Gänze oder zum Teil inaktivieren, wodurch natürlich die Wirksamkeit des besondren Abbildungssystems beeinträchtigt wird. In gewissen Systemen kann es erwünscht sein, daß die Spaltung des abbildenden Orfcano-Tellur-Materials bei einer niedrigeren Temperatur als der Glasübergangstemperatur des Materials der Grundmasse eingeleitet wird, und wenn die Glasübergangstemperatur bei der Entwicklung erreicht wird, wandern Reaktionsprodukte zu den Orten der Kernbildung und liefern die Atome des metallds chen Tellurs für den Aufbau der bilderzeugenden Tellurnadeln. Durch die sorgfältige Abstimmung dieser Faktoren aufeinander können bessere.Abbildungsleistungen erzielt werden.

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Im Hinblick auf die Substrate, die oben bereits erwähnt wurden und von denen gewisse erläuternde Beispiele gegeben wurden, kann bemerkt werden, daß das Substrat einbeliebiges Material sein kann, aus der ein Film oder eine Platte gebildet werden kann, vorausgesetzt, daß sein Schmelz- oder Erweichungspunkt höher liegt als die für die Entwicklung des latenten Bildes verwendete Temperatur, und vorausgesetzt, daß es genügend reaktionslos ist, so daß es die Abbildungsreaktion nicht stört. Geeignete Substrate sind Glas, Glimmer, Polyamide, Polyester, Polystyrole, gehärtete Kondensationspolymerisate, wie vom Epoxy-Typ, usw. . Es sind zahlreiche wärmebeständige Polymerisate im Handel erhältlich, die diese Bedingungen in hervorragender Weise erfüllen und daher in hervorragender Weise als Substrate bei den Abbildungskonstruktionen gemäß der Erfindung verwendbar sind. Für die meisten kommerziellen Anwendungen der abbildenden Organo-Tellur-Materialien ist es erwünscht, daß das Substrat flexibel ist, so daß es in Kopiermaschinen oder in Leseeinrichtungen in Form durchgehender Rollen verwendbar ist. Wenn in einem bestimmten Abbilduig ssystem Diapositive hergestellt werden sollen, ist es natürlich erwünscht, daß das Substrat lichtdurchlässig ist. Wenn andereseits Kopien für die Reflexionsbetrachtung hergestellt werden sollen, sollte das verwendete Substrat vorzugsweise eine hohe Reflexionsfähigkext haben, wie schwer gefüllte weiße oder gefärbte Pappe oder andere ähnliche Materialien.

In gewissen Fällen ist es erwünscht, das Substrat fortzulassen, und die Schicht 1 k kann dann als selbsttragende Konstruktion verwendet werden, die während der Bilderzeugung und Entwicklung beispielsweise auf einem vorübergehenden Träger aufgelagert wird. In diesem Falle besteht die fertige Bildkonstruktion ausschließlich aus einem dünnen Film aus dem anorphen glasigen Material der Grundmasse und dem darin enthaltenen abbildenden Organo-Tellur-Materi al und dem Sensibilisator, ggf. zuzüglich von Zusätzen oder ergänzenden Materialien und dem daraus ausgefällten oder darin umgewandelten Bilderzeuger.

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Obwohl, wie oben beschrieben, die Bestandteile der Abbildungsmasse, nämlich das Material der Grundmasse, das abbildende Or.«;ano-Tellur-Material und der Sensibilisator, zuzüglich etwaiger Zusätze oder ergänzender Materialien zur Erzielung bestimmter Toufiere!,-',enschaften, einer einzigen Schicht zugesetzt oder in dleser enthalten sind oder eine einzige Schicht auf einem ausgewählten Substrat bilden, liegt es durchaus im Rahmen des Krl'üuluriffsgedankens, ein System aus mehreren, insbesondere zwei, Schichten zu verwenden. So kann beispielsweise eine Schicht den Sensibilisator, beispielsweise 9,1O-Phenanthrenchinon, in der Grundmasse getragen oder verteilt, enthalen, die ihrerseits aus einem Polvinylformal bestehen und auf einem Substrat, wie einem "MY"LAR"-Blat t, aufgetragen ist. Die andere Schicht kann das abbildende Organo-Tellur-Material, in der Grundmasse getragen oder verteilt, enthalten, die ihrerseits die gleiche oder eine andere, vorzugsweise aber die gleiche Grundmasse sein kann, und diese Schicht ist ebenfalls auf einem Substrat, z.B. ebenfalls auf einem "MYLAR"-Blatt getragen. Zusätzliche oder ergänzende Materialien können zur Gänze oder zum Teil in einer der beiden Schichten eingebaut oder auf beide Schichten verteilt sein. Der Einwirkung der Abbildungsenergie (der Belichtung) wird nur die eine Schicht ausgesetzt, die den Sensibilisator enthält und in der das latente Bild erzeugt wird. Die Herstellung des entwickelten oder sichtbaren Abbildes kann dann beispielsweise dadurch geschehen, daß die Schicht, die das latente Bild trägt, gegen oder auf die das abbildende Organo-Tellur-Material enthaltende ähicht, im allgemeinen sandwichartig, gepreßt wird, und das Ganze dann z.B. 15 s lang bei ca. 15© C wärmebehandelt wird, wobei die Wärmevon der exen oder anderen Seite oder von beiden Seiten her durch das Substrat bzw. die Substrate aus "MYLAR" zur Wirk ung gebracht wird. Prompt erscheint ein Bild von allgemein neutralem Ton. Diese Art des Vorgehens sorgt in einfacher Weise und ohne kritische Erfordernisse für eine günstige Ausrichtung.

In gewissen Fällen fördert ein Vorwärmen des unbelichteten Ab-

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bildungsfilmes vor der Einwirkung der Bilderzeugungsenergie auf eine Temperatur in dem Bereich von 80 bis 150 C während einiger oder mehrerer Sekunden die Widerstandsfähigkeit des unbelichteten Filmes gegen Feuchtigkeit, ohne die Empfindlichkeit des Filmes zu beeinträchtigen.

Wie bereits erwähnt, können zur Bilderzeugung und zum Entwickeln mannigfaltige Energieformen verwendet werden. Zu diesen gehören elektromagnitische Strahlung, Wärme, Elektronenelektrischer Strom,monochromatisches Licht usv. Die bevorzugte Energie hängt auch davon ab, ob ein negativ oder positiv arbeitendes System verwendet wird. Bei der Bilderzeugung wird aLlgemein aktinisches Licht oder elektromagnetische Strahlung, beispielsweise Licht einer Wellenlänge von koO nm unter Verwendung eines Monochromators nach Bausch und Lomb und einer

Xenonlampe von 150 W verwendet. Elektromagnetische Strahlung ist zur Erzeugung eines Abbildes durch Projektion oder unter Verwendung einer Maske o.dgl. gewöhnlich am besten geeignet;. Dies gilt auch für die Erzeugung eines Abbildes mit gewünschter Grauskala bzw. Tönungsabstufung. Welche. Art elektromagnetischer Strahlung oder sonstiger Strahlungsenergie bzw. welche Wellenlänge in einem bestimmten Falle verwendet wird, hängt auch von der gestellten Aufgabe sowie von der bestimmten Empfindlichkeit des verwendeten abbildenden Organo-Tellur-Materials ab. Verschiedene dieser abbildenden Materialien sind bei Anwesenheit eines Sensibilisator, der inherent vorhanden oder getrennt zugesetzt sein kann, gegenüber aktinischer Strahlung einschließlich Laser» Energe empfindlich (o.dgl.) Wenn ein gegebenes ausgewähltes abbildendes Organo-Tellur-Material an sich bei einer zu verwendenden oder für die Bilderzeugung verfügbaren Wellenlänge von aktinischem Licht oder elektromagnetischer Strahlung unempfindlich ist bzw. nicht seine optimale Empfindlichkeit hat, werden ausgewählte Sensibilisatoren, wie oben erwähnt und angegeben, zugesetzt, um das abbildende Material empfindlich zu machen oder die Empfindlichkeit in den gewünschten Bereich zu rücken. Auf diese Weise kann beispielsweise ein abbildendes Organo-Tellur-Material,

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das seine maximale Empfindlichkeit im UV-Wellenlängenbereich hat, verwendet und seine Empfindlichkeit in den Bereich des sichtbaren Lichtes oder der Röntgenstrahlen usw. verschoben werden. Ähnliche Überlegungen gelten für die bei der Entwicklung verwendete Energie. Mit größtem Vorzug und Vorteil wird für die Entwicklung Wärme verwendet. Diese kann als Strahlungswärme, wie Infrarotstrahlung oder Mikrowellen, oder als Heißluft oder als Berührungs- oder Konvektionswärme von einem erhitzten Körper oder als Wärme eines erhitzten Naßentwicklungsbades zugeführt werden. Die Verwendung von Wärme für die Entwicklung bietet den Vorteil, daß die Wärme leicht hinsichtlich Intensität und Einwirkungsdauer gesteuert werden kann. Wärme kann außerdem unter geringen Kosten mit billigen Gerätschaften verfügbar gemacht werden. Wenn erwünscht, können jedoch beliebige der anderen Energieformen verwendet werden, um das belichtete bilderzeugende Organo-Tellur-Material zu entwickeln, nur vorausgesetzt, daß dieses auf die betreffende Energieform anspricht.

Sowohl bei der Bilderaaigung als auch bei der Entwicklung kann auch eine Kombination verschiedener Energieformen verwendet werden. In diesem Falle ist die Verwendung einer Kombination der für die Bilderzeugung wirksamsten Energie mit der für die

Entwicklung wirksamsten Energie zu bevorzugen. Die Entwicklungsais
wärme kann auch durch Absorption elektromagne-tischer Strahlung erzeugte Wärme zugeführt werden, wie im Falle bei Laserstrahlung. Für die Bidlerzeugung können Glühlampen, Infrarotlampen, Laserstrahlen, Elektronenblitz- oder Blitzlampeneinheiten, Quecksilberquarzlampen uw. verwendet werden. In einigen Fällen können für die Entwicklung ähnliche, wie natürlich auch andere Energiequellen verwendet werden.

Die Energie kann je nach der Intensität der verwendeten Energiequelle verschieden lang zur Wirkung gebracht werden. Bei Quellen hoher Bilderzeugungsenergie reichen im allgemeinen Impulse von der Dauer von 1 /us oder darunter bis zu einigen ms oder darüber

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um die Bilderzeugung durchzuführen. Bei Energiequellen niedrigerer Intensität können längere Zeiten, beispielsweise von einem Bruchteil einer Sekunde bis zu mehreren oder 20 bis 90 s oder noch darüber verwendet werden. Je nach der voraussichtlichen Verwendung der Abbilder und je nach dem, ob eine Unempfindlich-keit gegen Umgebungslicht gewünscht wird oder nicht, wird das eine oder andere abbildende Organo-Tellur-Material verwendet, und die Bilderzeugungszeit und die Intensität der Bilderzeugungsenergie wird an die Erfordernisse des ausgewählten abbildenden Organo-T_ellur-Materials angepaßt.

Die Entwicklungszeit hängt auch zu einem gewissen Grad von der Intensität der verwendeten Entwicklungs energie ab, obwohl in diesem Falle gewöhnlich eine Schwellenenergie besteht, die überschritten werden muß. Diese Schwelle ist eine Intensitätsschwelle, im Falle von Wärmeenergie eine Temperaturschwelle, und muß überschritten werden, damit die Entwicklung erfolgt. Wenn diese Vorkehrung beobachtet wird, wird die Entwicklung in einer oder wenigen Sekunden oder darüber, beispielsweise innerhalb von 15 bis 20 s, oder im allgemeinen innerhalb von 5 s bis 2 min, zu Ende geführt, je nach der angewendeten Temperatur und der Art des betreffenden abbildenden Organo-Tellur-Materials. Die Dicke der Schicht des abbildenden Materials sowie die Dicke des Substrats können ebenfalls die für die Entwicklung erforderliche Zeit beeinflussen. In allen Fällen ist jedoch die Entwicklungszeit sehr kurz, so daß die Abbildungsmaterialien und das Verfahren gemäß der Erfindung edren schnellen Zugriff zu dem fertigen stabilen Bild ermöglichen. Allgmein gesprochen steigen Belichtungsgeschwindigkeit und Kontrast mit den Temperaturen und der Entwicklungszeit.

Je nach Zusammensetzung des Organo-Tellur-Materials kann es beispielsweise erwünscht sein, die Entwicklung bei einer vorherbestimmten Temperatur durchzuführen. Wie erwähnt, sollte die Entwicklungstemperatur auf einen Wert oberhalb der Schwelle eingestellt werden, bei der die zur Bildung des Bilderzeugers führenden

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Reaktionen, nämlich das Ausfällen der Nadeln aus metallischem Tellur, stattfinde n. Andererseits sollte die Temperatur nicht hoch genug sein, um die thermisch herbeigeführte Kernbilduiifj und Reaktion in den Bereichen zu verursachen, die der Bi1derzeugungsenergie nicht ausgesetzt worden sind. Gewöhnlich ist der Eiereich zwischen diesen beiden Grenz temperatur en ziemlich weit, und die Temperatur läßt sich leicht derart einstellen, daU sie in den nutzbaren Zwischenbereich fällt. Wenn diese
Vorkehrungen beobach-tet werden, erhält man ein Bild mit hohem Kontrast und geringer Kernbildung in den Hintergrundbereichen. Bei der Entwicklung durch Wärme und insbesondere durch trockene Wärme,fallen die Entwicklungstemperaturen im allgemeinen in den Bereich von ca. 120 bis 170 C, wobei natürlich im allgemeinen die erforderliche Zeit der Erwärmung zur Erzielung der gleichen optischen Dichte umso länger ist, je niedriger die Entwicklungstemperatur ist. Im allgemeinen ist auch der Ton oder die Färbung des fertigen Bildes je nach der verwendeten Entwicklungszeit gemeinhin verschieden. So ergibt bei dem Ausführungsbeispiel nach Beispiel A eine Entwicklungstemperatur von ca. 130 C ein bräunliches Bild, während bei der Entwicklungstemperatur von zwischen 150 und 160 C ein bläulich-schwarzes Bild erzeugt wird, und dies kann möglicherweise auf Größenunterschiede der nadelformigen Tellurkristalliten zurückzuführen sein. Die Wirkung einer nennenswerten Erhöhung der Konzentration des bilderzeugenden Organo-Tellur-Materials und des Sensibilisators besteht - ebenfalls allgemein ausgedrückt - darin, daß bei Anwendung thermischer Verfahren für die Entwicklung niedrigere Entwicklungstemperaturen verwendet werden können. Bei der Entwicklung durch Wärme werden, je nach dem jeweils verwendeten abbildenden Organo-Tellur-Material, beispielsweise im Falle von Verbindungen wie jenen gemäß Beispiel 1, 2 und 3₇ während der anfänglichen Stadien der Zersetzung der abbildenden Organo-Tellur-Materialien flüchtige Stoffe, wie Salzsäure, freigegeben, was anscheinend eine beschleunigende oder, autokat-alytische Wirkung bei der Reduktion hat, die schließlich zur Bildung der Tellurnadeln führt, und kann bei einer solchen ver-

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stärkten Wirkung, wie sie bei der Entwicklung auftritt, eine Rolle spielen.

Die Naßentwicklung kann mit oder ohne Wärme verwendet werden, und wenn bei der Naßentwicklung Wärme mit verwendet wird, kann diese von außen durch eine Heizlampe, beispielsweise eine Infrarotlampe o.dgl., zugeführt werden, oder das Naßentwicklungsbad kann heiß angewendet werden. Solche Naßentwicklungsbäder können mannigfaltige Zusammensetzungen haben, und Beispie Le hiefür sind Bäder, die aus einem hydrierten pflanzlichen Öl oder einem Siliconöl oder aus einem solchen Öl in Beimischung mit kleinerem Anteilen an DMF und/oder einem Reduktionsmittel wie Hydrochinon oder reduzierenden Zuckern, wie Glukose oder Textrose/. Das DMF wirkt als Quellmittel für die Entwicklung des auf einem Film gebildeten latenten Bildes, wie gemäß Beispiel J, und die Wirkung besteht anscheinend darin, daß, insbesondere, wenn der !Sensibilisator, wie 9> 10-Phenanthrenchinan, in den abbildenden Filmmaasem in höheren Konzentrationsbereichen verwendet wird, bei Erzielung eines merklichen Verstärkungsfaktors (gain factor) die Belichtungsgeschwindigkeit (photographic speed) erhöht wird.

Auf jeden Fall kann nach der ersten Einwirkung der Abbildungsenergie der so belichtete oder mit dem latenten Bild versehene Film sofort oder, wenn erwünscht, selbst nach Tagen, ja Wochen der Lagerung im Dunkeln oder bei sonstigen entwicklungsverhinderü den Lagerungsbedingungen entwickelt werden.

In gewissen Fällen kann nach Bildung des latenten Abbildes durch Einwirkung der Bilderzeugungsenergie die Schicht oder der Film vor der Entwicklung "mit einem organischen Lösungsmittel oder einem Gemisch organischer Lösungsmittel, beispielsweise mit DMF oder Gemischen von DMF und Aceton, behandelt werden, um Reste des Sensibilisator, die an der Reaktion nicht teilgenommen haben, auszuwaschen, während das latente Abbild im wesentlichen unbeeinflußt bleibt. Dann wird die Schicht oder der Film, der das latente Bild enthält, zur Erzeugung des sichtbaren

+ Lichtausbeute oder -4?·=-

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Abbildes der Entwicklungsenergie ausgesetzt. Dieses Vorgehen scheint in gewissen Fällen eine günstige Rolle hinsichtlich der Lichtausbeute (gain) zu spielen.

Die Mechanismen der Reaktionen, die bei der Durchführung der Erfindung auftreten, sind nicht durchwegs geklärt, jedoch hat es den Anschein, daß die abbildenden Organo-Tellur-Materialien durch die Einwirkung der Bilderzeugungsenergie auf die diese Materialien enthaltenden Massen eine elektronische Veränderung zu einem erregten Zustand erfahren, die durch die Energieübertragung von dem Sensibilisator und/oder durch direkte Erregung des Organo-Tellur-Moleküls hervorgerufen wird und bei der merkliche Mengen an Kernbildungsorten oder -Zentren in den mit dem Abbild versehenen Bereichen und im wesentlichen keine oder nur sehr wenige solche Orte oder Zentren in den unbelichteten Bereichen gebildet werden. Es scheint ferner, daß die Absorption der Bilderzeugungsenergie durch den Sensibilisator zur Bildung der Kernbildungszentren oder -punkten zu Beginn der Belichtung des abbildenden Organo-Tellur-Materials und Sensibilisators durch einen Wasserstoffentzug aus dem polymeren Grundmaterial o.dgl. stattfindet (ohne Rücksicht darauf, ob der Sensibilisator bei der betreffenden chemischen Struktur des abbildenden Organo-Tellur-Materials inherent vorhanden ist oder ob er infolge des Vorhandenseins eines Zersetzungsproduktes mit Empfindlichkeitseigenschaften oder als zugesetzter getrennter, Fremdsensibilisator vorhanden ist.) Das latente Bild ist anscheinend die Folge einer chemischen Veränderung oder photochemischen Reduktion des Sensibilisators durch die Bilderzeugungsenergie in Anwesenheit des abbildenden Organo-Tellur-Materials. Es hat den Anschein, ob\iohl dies nocht nicht voll bestätigt ist, daß das sich bildende anfängliche latente Bild aus Kernbildungsorten'oder -Zentren nicht von de« metallischen Tellur gebildet, erzeugt oder umrissen wird. Es ist möglich, daß das anfängliche latente Bild aus mehreren, möglicherweise vier oder mehr Verbindungen, besteht, wenn beispielsweise als Sensibilisator 9,1O-Phenanthrenchinon oder analoge Verbindungen

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verwendet werden. Auf jeden Fall wird bei der nachfolgenden Entwicklung, bei der die erforderliche Energie geliefert wird, um die Freigabe von Telluratomen aus dem Organo-Tellur-Material an den Kernbildungszentren oder -punkten zu ermöglichen, was mit besonderem Vorteil thermisch oder durch Wärme geschieht, das abbildende Organo-Tellur-Material, möglicherweise in einem metastabilen oder unstabilen Zustand, durch Reaktionsmechanismen umgewandelt, die nicht vollständig erklärbar sind, bei denen jedoch möglicherweise eine Reduktion des dem Grundmaterial durch den Sensibilisator entzogenen Wasserstoffioder durch den den entzogenen Wasserstoff tragenden Sensibilisator eine Rolle spielt, daß an den genannten Kernbildungsorten oder -punkten eine verhältnismäßig nennenswerte Anzahl sehr kleiner Teilchen metallischen Tellurs, hauptsächlich oder im wesentlichen durchwegs und vorteilhafterweise, in der Form von Nadeln erzeugt wird. Auch Elektronen können als Reduktionsmittel wirken, und auch die Materialien selbst können reduzierend wirken.

Diese Teilchen metallischen Tellurs, vorteilhafterweise in der Form von Nadeln, wirken als Kerne,auf denen das weitere Wachstum von metallischem Tellur prinzipiell an den Enden der genanten Nadeln stattfindet, so daß längere Nadeln gebildet werden, die das fertigentwickelte Bild erzeugen bzw. abzeichnen. Die Bildung der Nadeln aus metallischem Tellur durch die Reduktion des abbildenden Organo-Tellur-Materials in dem System und unter den darin herrschenden Bedingungen unter der einleitenden Einwirkung der Bilderzeugungsenergie und nachfolgenden Entwicklungsenergie bewirkt anscheinend eine weitere Förderung der Freigabe von metallischem Tellur aus dem abbildenden Organo-Tellur-Material, das eine üppige Tellurquelle bildet, so daß, wie erwähnt, eine weitere Anlagerung von metallischem Tellur an den ursprünglich gebildeten metallischen Tellurnadeln stattfindet, und zwar hauptsächlich an deren Enden, so daß deren Länge zunimmt. Das Wachstum der Tellurnadeln in der Längsrichtung kann durch eine Feldkonzentration an den scharfen Nadelenden gefördert werden. Die optische Dichte des fertigen

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.sichtbar gemachten AbbiLdes scheint infoige einer resonariteii fUreuun^ zusätzlich zur LichtabsorptLon durch die Tellurnadeln zu se Ln. DLe optische Dichte nach der Entwicklung nimmt anfangs linear und dann mit zunehmender Dauer der Energieeinwirkung 1 ogarithinisch zu.

DLe TelLurteilchen, die von kristalliner Natur sind, treten mich der Entwicklung weitgehend oder im wesentlichen überall in dem Grundmaterial auf, jedoch haben die Tellurkristalliten nur in den belichteten Bereichen solche Abmessungen, daß sie das Licht optimal streuen, was Voraussetzung für das gewünschte sichtbare Abbild ist. Die Kernbildung, die im Hintergrund bzw. den nicht mit dem Abbild versehenen (unbelichteten) Bereichen auftritt, ist ganz wesentlich geringer als in den belichteten Bereichen, und die Kerne befinden sich dort in sehr großen Abständen voneinander, und dieser Umstand, in Verein mit der möglicherweise etwas anderen Natur der Hinter-grundkerne bewirkt einen verhältnismäßig hellen Hintergrund, so daß zwischen den Abbildbereichen und dem Hintergrundbereich ein guter Kontrast erzielt wird. Durch sorgfältige Behandlung der abbildenden Organo-Tellur-Materialien vom Beginn ihrer Herstellung bis zur Bilderzeugung und durch wirksamen Ausschluß von trägerbildender Energie von schädlicher Intensität vor der Begichtung bzw. Einwirkung der Bilderzeugungsenergie und bis zum Zeitpunkt der Entwicklung kann die Anzahl der Teilchen metallischen Tellurs in den unbelichteten Flächenbereichen noch weiter vermindert werden.

Die obige Besprechung der Nadelbildung in den Tellurkristalliten kann noch etwas verdeutlicht werden, wenn folgende Tatsachen bezüglich eines Filmes etwa nach Beispiel J in Betracht gezogen werden. Bei Prüfung des unbelichteten Filmes, also vor Einwirkung der Bilderzeugungsenergie, durch Transmissionselektronenmikroskopie, erscheinen dunkle Bereiche", die das Vorhandensein von Ansammlungen des Bis(Acetophenon)-Tellurdichlorides andeuten. Der gleiche Film zeigt nach Belichtung

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mit 400 nrn während 100 s und Entwicklung während 15 s bei I50 C bis zu einer optischen Dichte 1 Tellurnadeln allgemein von einer Lounge von 1000 bis 2500 A und einem Durchmesser von ca. 100 a. , und diesem Umstand ist das sichtbare Bild zu verdanken. Andererseits zeigt der gleiche Ausgangs film vor Einwirkung, der Bilderzeugungsenergie, jedoch nach direkter Wärmeeinwirkung bei 150 C während 15 s das Vorhandensein von metallischem Tellur, jedoch das weitgehende oder im wesentlichen vollständige Fehlen von Tellur in Nadelform, Schliei31ich zeigt der gleiche Ausgangsfilm nach Einwirkung von Bilderzeugungsenergie in der weiter oben in diesem Absatz beschriebenen Weise, jedoch während einer Zeitdauer von 70 h bei kjO nm im nicht-entwickelten Zustand einen Überfluß an Tellurnadeln.

Von dem Sensibilisator absorbiertes Licht oder absorbierte Energie ist für die Bildung des latenten Abbildes wirksam, und in dem belichteten Bereich wird der Gehalt an Sensibilisator in dessen ursprünglicher Form in dem Film vor der Belichtung vermindert. Obwohl, wie oben angedeutet, das bei Einwirkung der Bilderzeugungsenergie gebildete latente Bild anscheinend nicht von dem metallischen Tellur erzeugt oder umrissen wird, ist es möglich, daß etwas metallisches oder kristallines Tellur in sehr kleinen Mengen nach Einwirkung der Bilderzeugungsenergie und vor der Entwicklung in dem Film vorhanden sein kann.

Kurz und allgemein gesprochen, die Abbildungssehicht einschließlich des Grundmaterials, des abbildenden Organo-Tellur-Materials und des Sensibilisators ist, wie oben ausgedrückt, von im wesentlichen amorpher Struktur und hat eine feststellbare Eigenschaft, indem sie beispielsweise im wesentlichen lichtdurchlässig ist. Wenn die Abbildungsschicht einer Bilderzeugungsenergie ausgesetzt wird, werden in dem belichteten Bereich der Abbildungsschicht zur Schaffung eines latenten in diesem Kernbildungszentren oder -punkte festgelegt. Wenn die so belichtete Schicht einer Entwicklungsenergie, beispielsweise Wärme, ausgesetzt wird, wird das abbildende Organo-Tellur-Material reduziert und

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scheitlet an den Kernbildun^sorten oder -punkten in dein latenten Bild kleine kristalline Teilchen metallischen Tellurs, vorteilhaft erweise in der Form kleiner Nadeln, ab, wodurch kleine Kerne kristaLlinen metallischen Tellurs gebildet werden, an denen durch die weitere Reduktion des abbildenden Organo-Tellur-Materials weiteres metallisches Tellur abgeschieden wird, so daß in dem belichteten Bereich größere Teilchen oder Nadeln aus kristallinem metallischem Tellur erzeugt werden. Die ursprüngliche Struktur des abbildenden Organo-Tellur-Materials wird also in dem belichteten Bereich zu einer anderen Struktur verändert, beispielsweise zu einer kristallinen metallischen Tellurstruktur mit einer anderen feststellbaren Eigenschaft, indem es beispielsweise nun im wesentlichen lichtundurchlässig ist. Es wird also die im wesentlichen amorphe Struktur der Abbildungsschicht, die vorher im wesentlichen lichtdurchlässig war, in den belichteten Bereichen zu einer im wesentlichen kristallinen Struktur umgeformt, die im wesentlichen lichtundurchlässig ist, so daß ein optisch wahrnehmbares Bild erzeugt wird. Dies wird durch die verschiedenen Materialien bewirkt, deren Beziehungen und Reaktionen untereinander und deren Umwandlungsvorgänge und Mechanismen in der vorliegenden Beschreibung erläutert sind.

Zusammenfassend können daher die Mechanismen, die bei der vorliegenden Erfindung eine Rolle spielen, folgendermaßen umrissen werden .

1. Ein lichtempfindliches (photosensitives) Organo-Tellur-Material ist unter der Einwirkung einer Bilderzeugungsenergie und in Gegenwart eines Sensibilisator in optimaler Weise mit guter Wirksamkeit in einen reaktiven Zustand erregbar.

2. Die Zustände η T~ singtAett und/oder η U triplett sind die reaktivsten Zustände und sind vorzugsweise die riedrigsten Zustände des Sensibilisators.

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3. Das Grundmaterial enthält schnell und leicht abstrahierbare oder extrahierbare Wasserstoffatome.

k. Der erregte Zustand besitzt eine genügende Energie und eine ausreichende Zeitspanne, um das Abstrahieren
von Wasserstoffatomen aus dem Grundmaterial durch den
Sensibilisator zu gestatten.

5. Das Organo-Tellur-Material ist ein solches, das gegen

einen metastabilen Zwischenzustand reaktiv ist, bei dem Te -Nadeln erzeugt werden.

Gemäß der Erfindung hergestellte Filme können ein hohes photographisches Auflösungsvermögen, in mannigfaltigen Fällen beispielsweise in der Größenordnung von 500 bis 6OO Linienpaaren/mm sowie eine durchgehende Tönung mit einem Gamma nahezu 1 haben.

Die Lagerungsfähigkeit des latenten Bildes ist im allgemeinen gut, Bei übermäßig langer Lagerung, beispielsweise während mehrerer Tage oder darüber, besteht die Neigung, daß die Entwicklung bei wesentlich geringeren Temperaturen als den sonst zur Erzielung einer wirksamen thermischen Entwicklung erforderlichen Temperaturen erfolgt. Die Berührung des ein latentes Bild tragenden Filmes mit mannigfaltigen Lösungsmitteln sowie die trockene oder nasse Lagerung sowie die Lagerung bei niedriger Temperatur beeinträchtigt im allgemeinen die Qualität des durch nachfolgende thermische Entwicklung des latenten Abbildes erzielten fertigen Abbildes nicht.

Was das entwickelte Abbild betrifft, ist seine Stabilität im allgemeinen ebenfalls gut, außer beispielsweise bei Anwesenheit oxidierender Mittel, die ein Verblassen des Bildes verursachen.

Die obige Besprechung der Erfindung zeigt, daß diese ein hervorragendes Abbildungssystem schafft, das in weitem Umfang

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für mannigfaltige Abbildungsaufgaben Verwendung finden kann. Die Materialien gemäß der Erfindung können in der Kamera, für Korrekturlesezwecke und für die Vervielfältigung von Abbildungen, für die Herstellung von Duplikaten von Mikrofilm und Mikrofich, zur Aufzeichnung der von einem Computer ausgegebenen Nachrichten und der von anderen Datenspeichern und Ausgäbesystemen ausgegebenen Nachrichten verwendet werden. Ein weitgehender Nutzen des Abbildungssystems gemäß der Erfindung oeruht auf dem schnellen und verläßlichen Zugriff zu den fertigen Kopien der Nachrichten, der Aufzeichnung oder des Bildes. Es können verschiedene Leseverfahren verwendet werden, die auf den Unterschiedan in der Reflexionsfähigkeit, Transparenz, Lichtundurchlässigkeit, der elektrischen Eigenschaften, der Fähigkeit, elektrische Ladungen zurückzuhalten usw. beruhen. Die Aufzeichnungen oder Abbildungen sind scharf und haben daher eine ausgezeichnete Auflösung.Die abbildenden Organo-Tellur-Materialien zur Verwendung gemäß der Erfindung können nach Wunsch und Bedarf im Einzelfall zwischen niedrigem, und hohen Gamma variiert werden.

In dieser Hinsicht hat das neue Abbildungssystem, allgemein gesprochen, viel von der Anpassungsfähigkeit und Wendigkeit des herkömmlichen Silberhalogenidsystems, das ebenfalls durch Wahl von Emulsionen und Entwicklungsbedingungen die V_eränderung

Wie

des Gamma in weiten Grenzen gestattet, aus dem Gesagten ohne weiteres hervorgeht, bedarf das Abbildungssystem wie das Entwicklungssystem gemäß der Erfindung jedoch an sich keiner Naßbehandlung und gestattet den schnellen Zugriff zu dem fertigen stabilen Abbild, was bei Silberhalogenidabbildungen in vielen Fällen rieht zutrifft. Dies macht das neue System, insbesondere in solchen Fällen, den anerkannten Silberhalogenidsystem in vielen Hinsichten überlegen.

Die mannigfaltigen anderen Abbildungssysteme, die bisher verwendet werden oder in letzter Zeit vorgeschlagen wurden und keiner Naßbehandlung bedürfen sollen, haben in der Regel den

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Nachteil,daß sie aufder Verwendung eines einzigen lichtempfindlichen Materials beruhen und keinen Spielraum für die Abwandlung- des Charakters des Materials, beispielsweise für die Änderung des Gamma des Bildes, lassen» Sie sind daher jeweils in einem bestimmten Ariwendungs falle, nicht jedoch in jedem beliebigen anderen Anwendungsfall zweckmäßig. Die abbildenden Organo-Tellur-Materialien, die bei dem Abbildungssystem gemäß der Erfindung verwendet werden, sind, allgemein gesprochen, kostensparend und können unter kostensparenden Verfahrensweisen schnell angewendet werden, so daß die Erfindung ein Abbildungssystem unter geringem Kostenaufwand schafft.

Auch ist es gemäß der Erfindung nicht erforderlich, einen elementaren Bilderzeuger auf ein Substrat im Vakuum aufzubringen oder aufzudampfen oder durch Kathodenzerstäubung aufzubringen. Die Abbildungsmassen lassen sich leicht in Form einer Lösung, beispielsweise durch Benetzen, Schleudern (spin deposition), Aufspachtein o.dgl. anbringen. Die bei der Durchführung der Erfindung erzeugten Abbildungen können als Mutterpause, Druckmater oder Zweitoriginal verwendet werden, wenn beispielsweise ein Bilderzeuger ausgewählt wird, der die Fähigkeit hat, aus dem Grundmaterial elektrische Ladungen aufzunehmen und zurückzuhalten. In diesem Falle können Abbildungen beispielsweise aus einem Substrat aus Papier oder Pappe hergestellt werden, wodurch eine billige, nach Gebrauch wegwerfbare Mutterpause hergestellt wird. So kann nach Herstellung einer gewünschten Anzahl von Kopien das 3eitoriginal einfach weggeworfen werden.

Patentansprüche

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Claims

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Pat entansprüche

1. Verfahren zur Herstellung einer Aufzeichnung abrufbarer Informationen, dadurch gekennzeichnet, daß

a) eine Schicht geschaffen wird, die ein abbildendes Organo-Tellur-Material enthält, das inheren'te Sensibilisatoreigenschaften aufweist und / oder einen getrennten Sensibilisator in Beimischung enthält, wobei Tellur direkt an mindestens 1 Kohlenstoffatom eines organischen Restes des Organo-Tellur-Materials gebunden ist und wobei das abbildende Organo-Tellur-Material von einer gegebenen Struktur ist und eine gegebene feststellbare Eigenschaft hat und fähig ist, als Folge der Einwirkung von Energie eine Änderung zu erfahren, bei der ein Material abweichender Struktur mit einer abweichenden feststellbaren Eigenschaft hergestellt wird, und

b) zur Erzeugung eines latenten Bildes in gewissen Teilen der Schicht an diesen Teilen eine Bilderzeugungsenergie zur Wirkung gebracht wird, wobei das abbildende Organo-Tellur-Material zu der abweichenden Struktur mit der abweichenden feststellenden Eigenschaft umgewandelt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das abbildende Organo-Tellur-Material Halogen enthält, das direkt an ein Telluratom gebunden ist, und daß ein organischer Rest des Organo-Tellur-Materials mindestens eine Carbonylgruppe enthält.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das HaJ ο gen Chlor ist.

k. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3» dadurch

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gekennzeichnet, daß das abbildende Organo-Tellur-Material der Formel

R_x-Te-Cl_y

entspricht, worin R ein organischer Rest dsfc, der mindestens eine Carbonylgruppe enthält, X =%2 oder 3 und X+y = bei X = 2, y = 2 und, bei X = 1, y = 3 ist und Te direkt an den Kohlenstoff in einem organischen Rest gebunden ist.

5· Verfahren nach Anspruch k, dadurch gekennzeichnet, daß das Bilderzeugungsmaterial eine Verbindung folgender Formel ist:

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H-Cz-C-CH₀-Te-CH₀-C-C^H₁. 5 θ „ 2 , 2 „ 6 5

0 Cl 0

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5t dadurch gekennzeichnet, daß das abbildende Organo-Tellur-Material ein Tellurtetrahalogenid-Addukt eines aromatischen Amins ist, worin der direkt oder indirekt an den aromatischen Rest gebundene Stickstoff durch Alkyle mit einem Gehalt von je 1 bis 4 Kohlenstoffatomen substituiert ist.

7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Tellurtetrahalogenid TeCl. ist.

8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Abbildungsmaterial der Formel ((CH ) N CJI ) TeCl,

entspricht.

9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das abbildende Organo-Tellur-Material ein Addukt von 1 nid. Tellurt et-rahalogenid mit 1 bis 2 mol eines Äthylen oder Acetylen-Kohlenwasserstoffes ist.

ist mit der Maßgabe, daß

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10. Verfahren nacli Anspruch 9» dadurch gekennzeichnet,

daß das Addukt dasjenige von 1 mol Teliurtetrachiorid mit 2 mol eines Alkens oder eines Cycioalkens ist.

11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht einen getrennten Sensibilisator und ein polymeres Grundmaterial enthält,welch letzteres als Träger für das abbildende Organo-Tellur-Material und für den Sensibilisator sowie als Quelle abstrahierbaren Wasserstoffes dient, wodurch unter dem Einfluß der Bilderzeugungsenergie ein latentes Bild erzeugt wird.

12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennaichnet, daß die Bilderzeugungsenergie ein entwickelbares latentes Bild erzeugt, und daß das latente Bild zur Schaffung eines optisch wahrnehmbaren Bildes entwickelt wird, das durch kristallines Tellur erzeugt ist, das vorteilhafterweise mindestens hauptsächlich in der Form von Nadeln vorliegt.

13· Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Sensibilisator ein mehrkerniges Chinon ist.

1^. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß das bilderzeugende Organo-Tellur-Material und der getrennte Sensibilisator bei Raumtemperatur festen polymeren Grundmaterial gelöst oder dispergiert ist.

15· Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das polymere Grundmaterial Wasserstoff enthält, der daraus durch den Sensibilisator unter dem Einfluß der Bilderzeugungsenergie abstrahierbar ist.

+ in einem

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16, Verfahren nach Anspruch 15» dadurch gekennzeichnet, daß das polymere Grundmaterial ein Polyvinylformal ist.

17· Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht gegenüber sichtbarem Licht empfindlich ist.

18. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht gegenüber UV—Licht empfindlich ist.

19. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Bilderzeugungsenergie aktinisches Licht ist und die Entwicklungsenergie Wärme ist.

20. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 19» dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht einen reduzierbaren Zucker enthält.

21. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß der reduzierbare Zucker mindestens ein Glied aus der Gruppe Dextrose, Glucose, Arabinose, Erythrose, Fructose, Galactose, Fucose, Mannose und Ribose ist.

22. Verfahren zur Herstellung einer Aufzeichnung abrufbarer Nachrichten bzw. Informationen, dadurch gekennzeichnet, daß

a) eine Schicht geschaffen wird, die ein abbildendes Organo-Tellur-Material enthält, in dem Tellur direkt an mindestens einem Kohlenstoffatoms eines Organo-Tellur-Materials gebunden ist, und das abbildende Organo-Tellur-Material von einer gegebenen Struktur ist und eine gegebene feststellbare Eigenschaft hat und fähig ist, unter Einwirkung eineir Energie eine Änderung zu erfahren, bei der daraus ein Material unter-

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schiedlicher Struktur mit einer abweichenden feststellb aren Eigenschaft erzeugt wird, und daß das abbildende Organo-Tellur-Material in einem polymeren Grundmaterial verteilt ist;

b) eine getrennte Schicht eines Sensibilisators geschaffen wird, der in einem polymeren Grundmaterial verteilt ist;

c) die den Sensibilisator enthaltende Schicht zur Bildung eines latenten Bildes in dieser einer Bilderzeugungsenergie ausgesetzt wird;

d) die das latente Bild tragende Schicht mit der das abbildende Organo-Tellur-Material enthaltenden Schicht zur Berührung gebracht wird; und

e) die miteinander in Berührung befindlichen Schichten zum Überführen des Organo-Tellur-Materials in den Bereichen des latenten Bildes in die abweichende Struktur mit der abweichenden Eigenschaft für die Entwicklung des latenten Abbildes zur Bildung eines optisch wahrnehmbaren Abbildes einer Entwicklungsenergie ausgesetzt werden.

23. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß das abbildende Organo-Tellur-Material Bis(Aceto-phenon)-T_ellurdichlorid und der Sensibilisator 9»1O-Phenanthrenchinon ist.

2k. Gegenstand zur Erzeugung einer Aufzeichnung abrufbarer Informationen in der Form einer berührungstrockenen Schicht, gekennzeichnet durch eine Abbildungsschicht mit einem Grundmaterial, das ein Abbildungsmaterial und einen Sensibilisator enthält und ein bei Raumtemperatur festes Polimer ist, das abstrahierbaren Wasserstoff enthält,

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daß der Sensibilisator fähig ist, aus aktinischer Strahlung Photonen zu absorbieren und unter dem Einfluß dieser aktinischen Strahlung aus dem polymeren Material zur Bildung eines latenten Abbildes Wasserstoff zu abstrahieren, daß das Abbildungsmateri al ein abbildendes Organo-Tellur-Material ist, bei dem Tellur direkt an mindestens 1 Kohlenstoffatom eines organischen Restes des Organo-Tellur-Materials gebunden ist, daß das abbildende Organo-Tellur-Material von einer gegebenen Struktur ist und eine feststellbare Eigenschaft hat und fähig ist, als Folge der Einwirkung einer Energie eine Änderung zu erfahren, bei der in einem latenten Bild ein Material von abweichender Struktur mit einer anderen feststellbaren Eigenschaft erzeugt wird.

25. Gegenstand nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichent, daß der Sensibilisator ein vielkerniges Chinon ist.

26. Gegenstand nach Anspruch 24 oder 25» dadurch gekennzeichnet, daß das abbildende Organo-Tellur-Material ein Halogen enthält, das direkt an ein Telluratom gebunden ist, und bei dem ein organischer Rest des Organo-Tellur-Materials mindestens eine Carbonylgruppe enthält.

27· Gegenstand nach Anspruch 24 oder 25» dadurch gekennzeichnet, daß das abbildende Organo-Tellur-Material der Formel

R_x-Te-Cl_y

entspricht, worin R ein organischer Rest ist, der min-

*) destens eine Carbonylgruppe enthält, χ ="7,2 oder 3 und I + y x = 2, y § 2 und, bei χ = 1 , y = 3 iat und Te direkt an dem Kohlenstoff in einem organischen Rest gebunden ist.

28. Gegenstand nach Anspruch 2k oder 25, dadurch gekennzeichnet, daß das Abbildungsmaterial eine Verbindung folgender Formel ist:

= 4 ist mit der Maßgabe, daß bei

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H_KC.-C-CH -Te-CH -C-C.H_e
O Cl O

29. Gegenstand nach Anspruch. 24 oder 25» dadurch gekennzeichnet, daß das abbildende Organo-Tellur-Material ein Tellurtetrahalogenid-Addukt eines aromatischen Amins ist, bei dem der direkt oder indirekt an den aromatischen Rest gebundene Stickstoff durch Alkyle mit je 1 bis 4 Kohlenstoffatomen substituiert ist.

30. Gegenstand nach einem der Ansprüche 24 bis 29» dadurch gekennzeichnet, daß das Grundmaterial ein Polyvinylformal ist.

31. Gegenstand nach einem der Ansprüche 2k bis 30» dadurch gekennzeichnet, daß er einen kleinen Anteil eines organischen Lösungsmittels enthält.

32. Gegenstand nach einem der Ansprüche 24bis 31» dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu 15 Gew. ⁰Jo einer Polyäther-, verbindung enthält, die die Eigenschaft hat, die zulässige Lagerungsdauer des Gegenstandes zu verlängern.

33. Gegenstand nach Anspruch 32, dadurch gekennzeichnet, daß die Polyätherverbindung ein Polyäthylenderivat ist.

Jk. Gegenstand nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, daß das Grundmaterial ein Polyvinylformal ist, das abbildende Organo-Tellur-Material Bis(Acetophenon)-Tellurdichlorid

und der Sensibilisator 9,1O-Phenanthrenchinon ist.

35. Gegenstand nach Anspruch 34, dadurch egekennzeichnet, daß er einen kleinen Teil an organischem Lösungsmittel enthält.

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36. Gegenstand nach Anspruch 35, dadurch gekennzeichnet, daß das organisßhe Lösungsmittel Dimethylformamid ist.

37» Gegenstand nach einem der Ansprüche 2k bis 36, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht einen reduzierbaren Zukker enthält.

38, Gegenstand nach Anspruch'37» dadurch gekennzeichnet, daß der reduaierbare Zucker mindestens ein Glied aus der Gruppe Dextrose, Glucose, Arabinose, Erythrose, Fructose, Galactose, Fucose₉ Mannose und Ribose ist.

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