DE3033554C2

DE3033554C2 -

Info

Publication number: DE3033554C2
Application number: DE3033554A
Authority: DE
Inventors: Stanford Bloomfield Hills Mich. Us Ovshinsky; Lee Hazleton Pa. Us Hines; Ronald Pleasant Ridge Mich. Us Citkowski; Terry Mt. Clemens Mich. Us Yu
Original assignee: Energy Conversion Devices Inc
Current assignee: Energy Conversion Devices Inc
Priority date: 1979-09-10
Filing date: 1980-09-05
Publication date: 1991-04-18
Also published as: JPS56102846A; BE885133A; CA1158912A; JPS6242260B2; GB2058762B; FR2465250A1; GB2058762A; DE3033554A1; FR2465250B1; IT1141008B; AU6214780A; IT8024218A0; AU545774B2

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein strahlungsempfindliches, insbesondere photographisch wirksames Gemisch der im Oberbegriff des Anspruches 1 genannten Gattung sowie auf ein daraus hergestelltes Bildaufzeichnungsmaterial und auf ein Verfahren zur Herstellung von Bildern unter Verwendung dieses Materials.

Ein solches Gemisch ist bereits bekannt (DE-OS 27 19 023). Dabei wird ein Diol als Reduktionsmittel-Vorläufer verwendet, das sowohl einen Wasserstoffdonator aufweist als auch ein Reduktionsmittel bildet, das mit einer reduzierbaren Tellurverbindung reagiert, wenn elektromagnetische Strahlung einfällt. Als Bindemittel bzw. Matrixmaterial für das Gemisch dienen z. B. Polyvinylformalharze.

Außerdem ist ein solches Gemisch bekannt (DE-OS 28 08 010), bei dem als Photo-Oxidationsmittel ein photoempfindliches 4-(2′-Nitrophenyl)-1,4-dihydropyridin vorhanden und als Reduktionsmittel eine hitzeaktivierbare Sulfonylhydrazidverbindung verwendet ist, wodurch ein Temperaturbereich zwischen 60 und 200°C entwickelt wird.

Entsprechende strahlungsempfindliche Gemische mit Tellurverbindungen sind auch aus der US-PS 41 42 896 bekannt. Dabei wird die Tellurverbindung durch folgende Formel repräsentiert:

R_x-Te-X_y

mit
R = ein organisches Radikal mit wenigstens einer Carbonylgruppe,
X = ein Halogenid, bevorzugt Chlor,
x = 2, 2 oder 3, und
x + y = 4.

Das organische Radikal R kann entweder zwei unabhängige Radikale sein oder eine Ringverbindung bilden. Eine weitere Gruppe von Verbindungen, die in der US-PS 41 42 896 angegeben ist, sind organische Tellurverbindungen, die als Tellurtetrahalogenidaddukte von Ethylen- oder Acetylenkohlenwasserstoffen angesehen oder so gekennzeichnet werden können. Einige dieser Verbindungen haben die folgenden Formeln:

und

mit
R und R¹ = jeweils ein Ethylenkohlenwasserstoffrest, und
X = ein Halogen, bevorzugt Chlor.

Eine weitere Kategorie fotoempfindlicher Tellurverbindungen, die sich als brauchbar erwiesen haben, sind halogenierte Tellurverbindungen, z. B. Verbindungen der Formel

TeCl_nBr_m

mit
n eine ganze Zahl von 2-4, und
n + m = 4.

Der Einsatz solcher halogenierter Tellurverbindungen bei Bilderzeugungsverfahren ist in der US-PS 40 66 460 angegeben.

Eine weitere Kategorie brauchbarer Tellurverbindungen ist in der US-PS 41 06 939 angegeben. Diese Verbindungen sind Tellurtetrahalogenidaddukte von aromatischen Aminen, wobei der direkt oder indirekt an den aromatischen Ring gebundene Stickstoff durch Alkyle mit 1-4 Kohlenstoffatomen substituiert ist und das Addukt keine Diazogruppen enthält.

Die Tellurverbindungen, die vorstehend angegeben wurden, können in Verbindung mit einem Reduktionsmittel-Vorläufer, der als Sensibilisator wirkt, eingesetzt werden. Der Reduktionsmittel-Vorläufer ist eine Verbindung, die unter der Einwirkung von Aktivierungsenergie Strahlungsenergie absorbiert und labilen Wasserstoff aus einem geeigneten Wasserstoffdonator entzieht, so daß ein starkes Reduktionsmittel entsteht. Das starke Reduktionsmittel reduziert die Tellurverbindung, was eine Änderung der Schwärzung zur Folge hat, so daß diese für die Aufzeichnung von Information geeignet ist. Ganz allgemein kann die vorgenannte Reaktion durch den folgenden Mechanismus bezeichnet werden:

mit
PQ = der Reduktionsmittel-Vorläufer- Senibilisator;
1_PQ = dessen erster erregter Singulettzustand;
3_PQ = dessen Triplettzustand;
RH = der Wasserstoffdonator;
PQ · H₂ = der Reduktionsmittel-Vorläufer im reduzierten Zustand; und
(R₁)₂ · Te · X₂ = die bilderzeugende reduzierbare Tellurverbindung.

In diesem Zusammenhang ist zu beachten, daß der Wasserstoffdonator nicht unbedingt vorgesehen sein muß, obwohl erwünschtenfalls eine Vielzahl Alkohole eingesetzt werden kann. Wenn kein speziell vorgesehener Wasserstoffdonator vorhanden ist, kann der labile Wasserstoff manchmal auch aus den als Bindemittel eingesetzten organischen Harzen extrahiert werden. In anderen Fällen kann der Sensibilisator sein eigener Wasserstoffdonator sein; es ist bekannt, daß dies mit wenigstens einem bevorzugten Sensibilisator der Fall ist, nämlich mit Isoproxynaphthochinon.

Eine Modifikation desTellur-Fotoverfahrens ist in der BE-PS 8 54 193 angegeben, wo bestimmte Diole der Formel

R₁₀-CHOH-Z-CHOH-R₁₁

als Wasserstoffdonator zum Einsatz in Verbindung mit dem oben angegebenen Fotosensibilisator einsetzbar sind. In der vorstehenden Formel sind R₁₀ und R₁₁ Wasserstoff und verschiedene organische Substituenten. Z kann eine direkte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Verkettung zwischen den beiden hydroxysubstituierten Kohlenstoffatomen oder eine von verschiedenen Verkettungsgruppen sein. Bezüglich der näheren Erläuterung der erwähnten Diole wird auf die BE-PS 854 193 verwiesen. Dabei wird angegeben, daß diese Diole als Wasserstoffdonatoren dienen. Spätere Untersuchungen haben jedoch ergeben, daß dies nicht vollständig richtig ist. Tatsächlich scheint ein großer Teil des Diols einen Komplex mit der Tellurverbindung zu bilden.

Diese Feststellung hat zur Entdeckung von Diolen der folgenden allgemeinen Formel

R-O-CH₂CHOH-CH₂OH

geführt, die bei Verwendung in fotografischen Filmen auf Tellurbasis verbesserte Eigenschaften haben.

Das Radikal R kann eine einfache aliphatische Gruppe (z. B. Alkyl oder Alkenyl) sein. Alternativ kann das Radikal R eine Carbonylgruppe (z. B. ein Acylradikal) enthalten. Bevorzugt ist das Radikal R jedoch aromatisch. Die besten Ergebnisse werden erzielt, wenn der aromatische Ring durch eine Methylengruppierung vom Ethersauerstoff trennt.

Bei einer weiteren Modifikation beim Einsatz von Tellurverbindungen als fotoempfindliche Mittel wird ein sog. "maskiertes" Reduktionsmittel eingesetzt (BE-PS 8 63 052). So sind mehrere Verbindungen, wie Phenidon, bekannt, die Organotellurverbindungen reduzieren. Die Reduktionskapazität solcher Verbindungen kann durch geeignete Substitution "maskiert", d. h. gehemmt, werden. In solchen Fällen kann, wenn der Substituent durch die bei der Fotoreduktion der Tellurverbindung freigesetzten Reaktionsprodukte spaltbar ist, das maskierte Reduktionsmittel dazu dienen, die Fotoansprecheigenschaft durch den folgenden Mechanismus zu verstärken:

Da die üblicherweise eingesetzten Tellurverbindungen als Nebenprodukte der Reduktionsreaktion Halogenwasserstoffe (insbesondere Chlorwasserstoff) freisetzen und die Reduktionsmittel, z. B. Phenidon, Aminoverbindungen sind, sind die am wirksamsten einsetzbaren Maskiermittel solche Verbindungen, die den Aminostickstoff in ein Amid umwandeln. Somit ist die folgende Verbindung ein typisches maskiertes Reduktionsmittel:

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, weitere strahlungsempfindliche Gemische der eingangs genannten Gattung zu finden und der Anwendung als "Photomaterial" im weitesten Sinne zuzuführen.

Die Erfindung ist im Anspruch 1 gekennzeichnet und in Unteransprüchen und der folgenden Beschreibung sind weitere Ausbildungen derselben beansprucht und beschrieben.

Für die praktische Anwendung werden die Bestandteile, z. B. ein Tellurderivat, ein Reduktionsmittel-Vorläufer und die fakultativen Bestandteile, wie Glykol, mit einem maskierten Reduktionsmittel in einem Bindemittel insbesondere zu einer Emulsion zusammengefaßt. Ein latentes Bild kann durch Belichtung mit einer geeigneten Abbildungsenergie erzeugt und anschließend durch Erwärmen des belichteten Films entwickelt werden. Alternativ kann das latente Bild auch unter Einsatz eines Elektronenstrahls oder eines elektrischen Stroms als Aktivierungsenergie erzeugt werden; hierbei kann der Reduktionsmittel- Vorläufer entfallen, da die Elektronen direkt auf die Tellurverbindung einwirken. Andere Arten von Aktivierungsenergie sind dem Fachmann bekannt und sind unter entsprechenden Bedingungen ebenfalls anwendbar.

Folgende maskierte Reduktionsmittel kommen in Betracht:

mit Y = Wasserstoff oder

wobei die Verbindung wenigstens eine

enthält.

In der vorstehenden Formel kann R¹ sein: Alkyl, Alkanoyl, Alkoxycarbonyl, Phenyl, Benzyl, Benzoyl, Nitrophenyl, Benzylcarbonyl, Diphenylmethyl, Diphenylethyl, oder Diphenylpropylcarbonyl oder Aminocarbonyl.

R², R³ und R⁴ sind jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Alkyl oder Phenyl und Amino.

R⁵ kann sein Phenyl, Nitrophenyl, Halogenphenyl, Alkyl, Mono-, Di- oder Trihalogenacetyl, Benzoyl, Alkylphenyl oder Alkyl-p-Isocyanophenyl.

Die maskierende Gruppe kann an einer oder beiden Amino- Stickstoffpositionen des Reduktionsmittels substituiert sein. Die vorstehend genannten Alkylgruppen können bis zu sieben Kohlenstoffatome aufweisen.

Diese Verbindungen sind leicht zugänglich durch Reaktion des Stammhydrazins oder -pyrazolidin mit einem Isocyanat der Formel

R⁵-N=C=O.

Die folgenden Verbindungen sind für die genannten Verbindungen repräsentativ:

Nachstehend werden die Emulsionen nach der Erfindung eingehend erläutert.

Eine nach der Erfindung zusammengesetzte Emulsion enthält eine Tellurverbindung, einen Reduktionsmittel-Vorläufer und ein geeignetes Bindemittel, einen Träger, auf dem ein fotoempfindlicher Film gebildet werden kann, und ein maskiertes Reduktionsmittel gemäß der vorstehenden Beschreibung. Fakultativ ist ein Diol vorgesehen, und zwar bevorzugt eine Glycerylverbindung.

Der Stand der Technik beschreibt eine Anzahl bilderzeugende Tellurverbindungen, und diese sind bei der Erfindung im wesentlichen einsetzbar. Bei der Erfindung werden im wesentlichen diese und andere Tellurverbindungen eingesetzt, die in Anwesenheit eines Reduktionsmittel-Vorläufers analoge Reduktionsreaktionen erfahren.

Es wurde gefunden, daß viele Tellurverbindungen bestimmte Eigenschaften aufweisen, die sie besonders zum Einsatz in Bilderzeugungsverfahren geeignet machen. Im allgemeinen sind dies Verbindungen, aus denen als Ergebnis der oben genannten Bilderzeugungs- und Entwicklungsschritte elementares Tellur abgeschieden wird. Tellur hat kettenbildenden Charakter, und es wird im allgemeinen aus den Tellurverbindungen abgeschieden, die für fotografische Zwecke geeignet sind (bevorzugt einschließlich feiner Nadeln oder Spitzen), wobei die Verbindungen sehr schnell Kerne bilden und als Kristallite wachsen können, die in Form von Ketten und zu einem großen Teil oder hauptsächlich als Nadeln oder Spitzen wachsen. Solche Ketten oder Nadeln sind lichtundurchlässig und weisen sehr gute Lichtstreueigenschaften auf, so daß nach dem Entwickeln durch Wärme oder auf andere Weise eine gute Schwärzung entsteht.

Oxidbildende und andere Effekte sind im wesentlichen auf Oberflächeneffekte beschränkt, wogegen solche, die einen Abbau durch die Körper der Nadeln oder Ketten bewirken, nicht auftreten.

Bevorzugt ist die bilderzeugende Tellurverbindung eine Organotellurverbindung, wie sie z. B. in der US-PS 41 42 896 angegeben ist. Diese Verbindungen sind organische Tellurverbindungen, die von Natur aus Sensibilisatoreigenschaften haben (und/oder mit einem gesonderten Sensibilisator mischbar sind), wobei das Tellur direkt mit wenigstens einem Kohlenstoffatom oder dem organischen Radikal des Organotellurmaterials verkettet ist; die organische Tellurverbindung hat eine bestimmte Struktur und eine erfaßbare Eigenschaft, die sich infolge der Beaufschlagung mit Bilderzeugungsenergie in Form von Teilchen- oder Wellenstrahlung ändern kann, so daß ein Material mit davon verschiedener Struktur und einer anderen erfaßbaren Eigenschaft erzeugt wird. Das aus dem Bilderzeugungsschritt hervorgehende Material mit anderer Struktur und anderen erfaßbaren Eigenschaften wird hin und wieder als "bilderzeugende Verbindung" bezeichnet.

Eine besonders vorteilhaft bei der Erfindung einsetzbare Untergruppe der für die Bilderzeugung dienenden Organotellurverbindungen umfaßt solche Verbindungen, die ein Organoradikal und Halogen enthalten, die direkt an das Telluratom gebunden sind, wobei das Organoradikal wenigstens eine Carbonylgruppe enthält. Bestimmte dieser Verbindungen sind Addukte von Tellurhalogeniden, insbesondere Tellurtetrachlorid, mit organischen Verbindungen, insbesondere Ketonen oder gleichartigen Chromophoren, die wenigstens eine Carbonylgruppe in der organischen Verbindung enthalten. Sie können somit als Organotellurverbindungen oder Addukte bezeichnet oder gekennzeichnet werden, die Halogen enthalten, und zwar Chlor, Brom, Iod und Fluor, das direkt an das Telluratom gebunden ist. Die meisten dieser bestimmten Klasse oder Gruppe der bilderzeugenden Verbindungen haben zwei carbonylhaltige Organoradikale. Die für die Erfindung besonders geeigneten Verbindungen weisen als Halogen Chlor auf, aber in bestimmten Fällen können andere Halogene vorhanden sein, obwohl dies im allgemeinen nicht ganz so zufriedenstellend ist. Die bilderzeugenden Verbindungen sollten so gewählt werden, daß sie in jedem bestimmten, noch zu erläuternden Matrixmaterial löslich oder homogen dispergierbar sind. Viele dieser Gruppe von bilderzeugenden Organotellurverbindungen haben die folgende Formel

R_x-Te-Hal_y

mit
R = ein Organoradikal mit wenigstens einer Carbonylgruppe,
Hal = Halogen, insbesondere Chlor,
x = 1, 2 oder 3, und
x + y = 4,

unter der Voraussetzung, daß Te direkt mit dem Kohlenstoff in einem Organoradikal verkettet ist. Bevorzugt ist × = 2 oder 3.

Andere Verbindungen können durch die folgende Formel bezeichnet werden:

R₂-Te-Hal₄

mit
R = ein Carbonyl enthaltendes organisches Radikal, und
Hal = Halogen.

Das Radikal R kann aliphatisch, cycloaliphatisch oder aromatisch (ein- oder zweikernig) oder eine Kombination sein und kann in der Kette oder den Ringen eines oder mehrere Heteroatome enthalten. Es kann unsubstituiert oder durch verschiedene organische oder anorganische Radikale substituiert sein, die den erwünschten Bilderzeugungseffekt entweder unterstützen oder zumindest nicht stören; ein solches Radikal ist z. B. C₁-C₆-Alkyl, entsprechende Oxyalkylradikale, Acetyl, Nitro, C≡N, Cl, Br, F usw. Im allgemeinen haben die vorgenannten Organotellurverbindungen, die eine Trihalogengruppe, wie z. B. Acetophenontellurtrichlorid, enthalten, einen niedrigeren Schmelzpunkt (∼70-80°C) und sind stärker wasseranziehend und weniger stabil als diejenigen im wesentlichen gleichartigen Verbindungen, die zwei Halogenatome enthalten, und daher sind solche Trihalogene zum Einsatz bei der Erfindung weniger erwünscht.

Eine begrenztere Klasse dieser bestimmten Untergruppe von bilderzeugenden Organotellurverbindungen hat die Formel

(Ar-CO-CH₂)₂Te-Hal₂

mit
Ar = ein aromatisches Kohlenwasserstoffradikal, das, wie oben angegeben, substituiert oder unsubstituiert sein kann, und
Hal = Halogen, insbesondere Chlor.

Diese Verbindungs-Untergruppe stellt insbesondere dann, wenn Hal Chlor ist, vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung dar in bezug auf die bilderzeugenden Organotellurverbindungen, die bei der Erfindung einsetzbar sind.

Eine weitere Untergruppe von bilderzeugenden Organotellurverbindungen, die für die Erfindung einsetzbar sind und die keine Carbonylgruppe in einem Organoradikal enthalten, sondern bei denen Tellur direkt mit Kohlenstoff verbunden ist, sind solche Verbindungen, die als Tellurtetrahalogenid-Addukte von Ethylen- oder Acetylen- Kohlenwasserstoffen angesehen oder charakterisiert werden können. Diese Verbindungen werden im allgemeinen dadurch erzeugt, daß 1-2 mol, insbesondere 2 mol, des Ethylen- oder Acetylen-Kohlenwasserstoffs mit 1 mol Tellurtetrahalogenid umgesetzt werden, wobei TeCl₄ besonders bevorzugt wird. Bestimmte dieser Verbindungen haben die folgende Formel:

mit
R⁸ und R⁹ = je der Rest eine Ethylenkohlenwasserstoffs, z. B. ein Alken oder ein Cycloalken,
Hal = Chlor, Brom oder Iod, insbesondere Chlor,
x = 1-3, und
x + y = 1.

Beispiele für die Ethylen- und Acetylenkohlenwasserstoffe, die mit Tellurtetrahalogeniden addierbar sind, so daß solche bilderzeugenden Organotellurverbindungen entstehen, sind: Propylen; 1-Buten; Isobutylen; 2-Buten; 2,3-Dimethyl-2- Buten; 3,3-Dimethyl-1-Buten; 2,4-Dimethyl-1-Penten; 4,4-Dimethyl-1-Penten; 2,5-Dimethyl-3-Hexen; Dipenten; 1,1-Diphenylethylen; Hepten-1; Hexen-1; 2-Ethyl-1-Hexen; 2-Isopropyl-1-Hexen; 2-Methyl-1-Penten; 2-Methyl-2- Penten; 2-Ethyl-2-Penten; 3-Methyl-1-Penten; Piperylen; Vinylcyclohexen; Vinylcyclopenten; 2-Vinylnaphthalen; 1,2,4-Trivinylcyclohexen; 4-Methyl-1-Cyclohexen; 3-Methyl-1-Cyclohexen; 1-Methyl-1-Cyclohexen; 1-Methyl- 1-Cyclopenten; Cyclohepten; Cyclopenten; Cyclohexen; 4,4-Dimethyl-1-Cyclohexen; 2-Methylbuten-1; 3-Methylbuten- 1; und Octen-1; niedrige Alkyl- und niedrige Alkoxyderivate von verschiedenen der Alkene, z. B. Cyclohexen; 1-Pentin; 2-Pentin; 1-Hexin und 3-Methyl- 1-Butin.

Die Zubereitung der vorgenannten organischen Tellurverbindungen sowie eine Reihe von Beispielen sind in der US-PS 41 42 696 angegeben.

Wie vorher gesagt, sind Tetrahalogenide von Tellur, wobei das Halogen wenigstens entweder Chlor oder Brom ist, ebenfalls als bilderzeugendes Material nach der Erfindung einsetzbar. Solche Tellurhalogenide sind in der US-PS 40 66 460 im einzelnen beschrieben. Bestimmte dieser bilderzeugenden Materialien haben die folgende Formel:

TeCl_nBr_m

mit
n = eine ganze Zahl von 1-4, und
m + n = 4.

Typische einsetzbare Tellurtetrahalogenide sind TeCl₄, TeCl₂Br₂ und TeClBr₃, wobei TeCl₄ besonders gut geeignet ist. Diese Tellurtetrahalogenide und ihr Einsatz als bilderzeugende Verbindungen sind in der US-PS 40 66 460 im einzelnen beschrieben.

Eine weitere Gruppe von bilderzeugenden Verbindungen sind bestimmte Verbindungen, die von Tellurtetrahalogeniden abgeleitet sind, die in der US-PS 41 06 939 beschrieben sind. Diese komplexen Verbindungen sind Addukte von Tellurtetrahalogenid mit aromatischen Aminen, z. B. das Tellurtetrachlorid-Addukt von Dimethylanilin, das keine Diazogruppen aufweist. Insbesondere werden diese Tellurtetrahalogenid-Addukte dadurch gebildet, daß ein Tellurtetrahalogenid mit einem aromatischen Amin verbunden wird, wobei direkt oder indirekt an das aromatische Radikal gebundener Stickstoff durch Alkyle mit 1-4 Kohlenstoffatomen substituiert wird; das bilderzeugende Organotellurmaterial ist frei von Diazogruppen.

Diese aromatischen Amin-Addukte der Tellurtetrahalogenide sind in der US-PS 41 06 939 vollständig beschrieben.

Die aktiven Tellurverbindungen können erwünschtenfalls in situ gebildet werden, z. B. durch Einsatz eines Telluroxids oder eine Tellursalzes in Verbindung mit einer geeigneten organischen Verbindung. Manchmal wird die Bildung in situ durch Anwesenheit einer Säure beschleunigt. Z. B. können Telluroxid oder Alkalimetalltellurate mit einem der später erläuterten Glykole einen aktiven Komplex aus Tellur und einer organischen Verbindung bilden. Es wird angenommen, daß die Reaktion analog der Reaktion zwischen organischen Tellurverbindungen wie den vorstehend beschriebenen und einem Diol abläuft. Bisher vorliegende Informationen lassen vermuten, daß die Reaktion durch ein saures Medium begünstigt wird. Geringe Mengen einer Säure, z. B. wasserfreier Chlorwasserstoff, können zugesetzt werden. Alternativ wird der erforderliche Säuregehalt durch halogenhaltige Tellurverbindungen erhalten.

Zusätzlich zu der bilderzeugenden Tellurverbindung umfassen die bilderzeugenden Systeme nach der Erfindung einen Reduktionsmittel-Vorläufer oder Sensibilisator, der, wie bereits erläutert, eine Verbindung ist, die unter der Einwirkung von Aktivierungsenergie die Eigenschaft hat, daß er einem Wasserstoffdonator labilen Wasserstoff entzieht und somit ein Reduktionsmittel in bezug auf die bilderzeugende Tellurverbindung wird. Das aktivierte Reduktionsmittel reduziert dann die Tellurverbindung zwecks Erzeugung der erwünschten Abbildung. Der Wasserstoffdonator kann eine externe Wasserstoffquelle, z. B. ein für diesen Zweck speziell vorgesehener Alkohol sein. Der Wasserstoffdonator kann jedoch ebenso gut eine geeignete Gruppe sein, die ein Teil der Molekülstruktur des Reduktionsmittel-Vorläufers ist.

Für die Erfindung einsetzbare bevorzugte Reduktionsmittel- Vorläufer sind Chinone, insbesondere 2-Isopropoxynaphthochinon, 9,10-Phenanthrenchinon und 2-t-Butylanthrachinon. Benzophenon ist zwar kein Chinon, ist jedoch ebenso wie eine Anzahl der einfacheren Ketone als Reduktionsmittel- Vorläufer einsetzbar.

Ein wichtiger Faktor bei der Wahl der Reduktionsmittel- Vorläufer ist der Spektralbereich, innerhalb dessen die Reduktionsmittel-Vorläufer ansprechen. Aus diesem Grund sind die einfachen Ketone nicht allgemein zur Aufzeichnung von sichtbarem Licht brauchbar, da ihre Spektralempfindlichkeit im entfernten UV-Bereich liegt. Weitere Reduktionsmittel-Vorläufer und deren ungefähre Spektralempfindlichkeitsbereiche sind wie folgt:

Nachstehend folgen Beispiele für Reduktionsmittel-Vorläufer, die in einem Bereich bis zu ca. 400 nm empfindlich und somit nur im UV-Bereich einsetzbar sind: Benzophenon, Acetophenon, 1,5-Diphenyl-1,3,5-Pentantrion, Ninhydrin, 4,4′-Dibrombenzophenon und 1,8-Dichloranthrachinon.

Es sind verschiedene andere Reduktionsmittel-Vorläufer einsetzbar, insbesondere solche des Typs der substituierten oder unsubstituierten mehrkernigen Chinone, von denen einige bereits oben erwähnt wurden und weitere die folgenden sind: 1,2-Benzanthrachinon, 2-Methylanthrachinon, 1-Chloranthrachinon, 7,8,9,10-Tetrahydronaphthacenchinon, 9,10-Anthrachinon und 1,4-Dimethylanthrachinon. Selbstverständlich sind nicht alle Reduktionsmittel-Vorläufer wirksam oder gleichermaßen wirksam mit jedem bestimmten bilderzeugenden Material, auch wenn man die Anwendung von bilderzeugender Energie im Empfindlichkeitsbereich des jeweiligen Reduktionsmittel-Vorläufers berücksichtigt und ferner in Betracht zieht, daß geeignete Kombinationen bestimmter bilderzeugender Materialien und bestimmter Reduktionsmittel-Vorläufer unbedingt ausgewählt werden müssen, um erwünschte oder optimale Ergebnisse zu erzielen. Eine solche Auswahl kann jedoch relativ leicht getroffen werden.

Im Zusammenhang mit den vorstehenden Ausführungen ist zu beachten, daß Reduktionsmittel-Vorläufer ηπ*-Zustände, und zwar sowohl Singulett- als auch Triplettzustände, geringerer Energie als π,π*-Zustände haben, und jedenfalls in den meisten Fällen sind Verbindungen, die ihre π,π*-Zustände niedrigster Energie haben, in bezug auf Lichtempfindlichkeit unwirksam, obwohl in einigen begrenzten Fällen Verbindungen, die den Test, daß sie eine niedrigere Energie η → π* als π → π*-Übergänge haben, bestehen, nicht als Reduktionsmittel-Vorläufer wirken. Der obige Gesichtspunkt ist jedoch im allgemeinen wirksam, um vorher festzulegen, ob eine bestimmte Verbindung als Reduktionsmittel-Vorläufer zum Einsatz bei der Erfindung wirkt. Jedenfalls ist erforderlichenfalls jeweils ein einfacher empirischer Vorversuch durchführbar, indem eine Versuchsemulsion unter Einsatz der erwünschten bilderzeugenden Verbindung und des Reduktionsmittel- Vorläufers hergestellt wird.

In manchen Fällen wird kein externer Sensibilisator benötigt. Z. B. werden die meisten Organotellurverbindungen bei Wellenlängen im Bereich von 250-300 nm direkt photolysiert; bestimmte andere Tellurverbindungen, insbesondere die Halogenide, sind für die blauen Anteile des sichtbaren Spektrums empfindlich. Wenn die Bilderzeugung durch Elektronen erfolgen soll, wird kein zusätzlicher Sensibilisator benötigt, da das Elektron eine direkte Zersetzung des Abbildungsmaterials bewirkt.

Nach der Erfindung kann auch ein Diol vorhanden sein, das mit der Tellurverbindung reagiert zur Bildung eines aktiven Zwischenkomplexes. Die Chemie des Komplexes ist zwar nicht klar, aber es wird angenommen, daß der Komplex im allgemeinen ca. 2 mol Diol pro mol Tellur benötigt. Bevorzugt wird das Diol, wenn es vorhanden ist, in einer die Mindestmenge übersteigenden Menge eingesetzt, da das Diol auch als Quelle labilen Wasserstoffs wirkt und die für die Reaktion des Reduktionsmittel-Vorläufers benötigte Wasserstoffquelle ist.

Die vorliegende Erfindung, bei der neue maskierte Reduktionsmittel eingesetzt werden, kann zwar ohne eine Diol durchgeführt werden, aber bevorzugt wird ein Diol verwendet. Es wurde gefunden, daß durch Anwesenheit eines Diols die Schwärzung unbelichteter Bereiche stark vermindert wird (d. h., der Kontrast zwischen den belichteten und unbelichteten Flächen wird verbessert), insbesondere, wenn ein maskiertes Reduktionsmittel vorhanden ist. Es ist somit zwar möglich, maskierte Reduktionsmittel in Abwesenheit eines Diols zu benutzen, aber bei Tellur- Filmzusammensetzungen, die maskierte Reduktionsmittel enthalten, besteht die Tendenz einer relativ starken Schwärzung in den unbelichteten Bereichen, weil die Reduktionskapazität des maskierten Reduktionsmittels durch die maskierende Gruppe nicht vollständig unterdrückt wird.

Eine Gruppe von Diolen, die für die Herstellung von Abbildungs-Verbindungen einsetzbar sind, sind Diole der Formel

mit
R¹⁰ und R¹¹ = jeweils für sich Wasserstoff, eine Kohlenwasserstoffgruppe einschließlich geradkettiger, verzweigtkettiger und Ring-Kohlenwasserstoffgruppen, Hydroxyalkylgruppen, Alkoxycarbonylgruppen, Cycloalkylgruppen oder Arylgruppen; und
Z = eine Arylengruppe (z. B. Phenylen), die Gruppe (-C≡C-), die Gruppe (-CR¹²=CR¹³)_n
mit n = eine ganze Zahl, z. B. 1 oder 2, und
R¹² und R¹³ = jeweils Wasserstoff oder eine Alkylgruppe, oder von einem Teil eines carbocyclischen oder heterocyclischen Rings genommen.

Z kann auch entfallen, d. h. die beiden Hydroxy-substituierten Kohlenstoffe werden direkt miteinander verbunden. Die nachstehende Tabelle bezeichnet die Anzahl Diole, die einsetzbar sind:

Eine ausführlichere Beschreibung der vorstehenden Diole ist in der DE-OS 27 19 023 zu finden. Bevorzugt ist das Diol jedoch komplexer als die Diole nach der DE-OS. Die bevorzugten Diole sind Verbindungen mit der Formel

R⁷-O-CH₂-CHOH-CH₂OH.

in der vorstehenden Verbindung kann R⁷ sein: Alkyl, Acyl, Thiazolinyl, Alkenyl, Phenyl, Alkylphenyl, Alkenylphenyl, Hydroxyalkylphenyl, Benzyl, Alkylbenzyl, Alkoxybenzyl, Hydroxyalkylbenzyl und Halogenbenzyl sowie gleichartige Radikale.

Die Thio-Analoge der vorstehenden Verbindungen können ebenfalls eingesetzt werden (d. h. Verbindungen, in denen das Radikal R⁷ durch eine Schwefelverbindung anstelle der Sauerstoffverbindung mit dem Glycerin verknüpft ist).

Bevorzugte Verbindungen mit der vorgenannten Struktur sind diejenigen, in denen das Radikal R⁷ Benzyl oder ein substituiertes Benzyl ist. Der Einsatz der Diole mit dem vorgenannten Aufbau wird bevorzugt, da sie die Schwärzung der unbelichteten Bereiche wirksamer als die Diole nach der DE-OS 27 19 023 reduzieren.

Außer den vorstehend aufgeführten Hauptbestandteilen der hier betroffenen Zusammensetzung können Zusatzstoffe für verschiedene Zwecke vorgesehen sein. Z. B. wurde gefunden, daß bestimmte Stoffe die Lagerfähigkeit unbelichteter Trockenfilmzusammensetzungen nach der Erfindung erhöhen, und in manchen Fällen erhöhen sie auch die Empfindlichkeit der Filmzusammensetzungen. Beispiele für derartige Zusatzstoffe, die in den Molekülen Ether- oder Polyetherbindungen aufweisen, sind Stoffe oder Polymere wie: Polyethylen-20-Sorbitanmonolaurat, Polyethylen-20-Sorbitanmonooleat, Polyox-10, Polyox-80, Polyox-750, Polyethylenglykol- 400-Distearat, Polyethylenglykol-600-Distearat, Poly(1,3-dioxolan), Poly(tetrahydrofuran), Poly(1,3- dioxepan), Poly(1,3-Dioxan), Polyacetaldehyde, Polyoxymethylene, Fettsäureester von Polyoxymethylenen, Poly(cyclohexan)- Methylenoxid), Poly(4-methyl-1,3-dioxan), Polyoxetane, Polyphenylenoxide, Poly[3,3-bis(halogenmethyl)- oxocyclobutan], Poly(oxypropylen)glykol-Epoxidharze, und Mischpolymerisate von Propylenoxiden und Styroloxiden.

Derartige Stoffe können den Abbildungsfilm-Zusammensetzungen in unterschiedlichen Mengen, üblicherweise im Bereich von 5-20 Gew.-% der festen Filmzusammensetzungen, zugesetzt werden. In bestimmten Fällen steigern oder erhöhen sie die Lagerfähigkeit unter bestimmten Lagerbedingungen, um bis zu 50% oder manchmal sogar wesentlich mehr, und außerdem erhöhen sie in verschiedenen Fällen die Filmempfindlichkeit.

Die Zugabe von reduzierenden Zuckern zu den Abbildungsfilmen bewirkt im allgemeinen eine erhöhte Schwärzung des Bildbereichs (Bildschwärzung - Hintergrundschwärzung), wenn der Film wie vorher angegeben belichtet und dann z. B. bei ca. 120-150°C während 15 s entwickelt wird, und zwar insbesondere dann, wenn der Abbildungsfilm entweder frisch oder nicht älter als etwa einen Tag nach der Herstellung ist. Wenn solche Filme mit Abbildungsenergie belichtet und dann entwickelt wurden, entstand ein positives Bild (d. h., die Schwärzung ist in den unbelichteten Bereichen stärker als in den belichteten Bereichen) im Gegensatz zu dem Negativsystem, das normalerweise bei der Erfindung praktiziert wird. Der Zusatz von reduzierenden Zuckern zu den Abbildungs-Zusammensetzungen ermöglicht ferner das Entwickeln des Bilds nach dem Belichten mit Abbildungsenergie bei niedrigeren Temperaturen und sogar bei Raumtemperatur innerhalb eines Zeitraums von mehreren Stunden, z. B. üblicherweise 10, 12 oder 15 h. Die einsetzbaren reduzierenden Zucker sind zahlreich, z. B. Dextrose, Glukose, Arabinose, Erythrose, Fructose, Galaktose, Fucose, Mannose und Ribose. Besonders wirksam sind dabei Dextrose, Arabinose, Galaktose, Fucose und Ribose. Die reduzierenden Zucker sind in unterschiedlichen Mengen einsetzbar, normalerweise aber in äquivalenten Mengen oder etwas weniger oder mehr, bezogen auf die Menge der Organotellur-Materialien in den Abbildungs- Zusammensetzungen.

In vielen Fällen kann es erwünscht sein, eine geringe Menge eines Silikonöls oder eines gleichartigen Stoffs zuzusetzen, wie dies zur besseren Beschichtung von glatten kontinuierlichen Filmen bekannt ist.

Die Filmzusammensetzung nach der Erfindung wird dadurch vervollständigt, daß die Bestandteile und fakultativen Bestandteile in einer geeigneten Matrix gelöst werden. Die Matrix sollte in den aktiven Bestandteilen so stark wie möglich konzentriert sein, d. h. bevorzugt wird die geringste Matrixmenge verwendet. Sie sollte so ausreichend bemessen sein, daß sie die verschiedenen aktiven Bestandteile gerade in einer Feststofflösung zusammenhält. Es kann zwar eine zusätzliche Matrixmenge verwendet werden, dabei besteht jedoch offensichtlich die Gefahr einer Verdünnung der Konzentration der aktiven Bestandteile, wodurch die Lichtansprechzeit der Filmzusammensetzung verlangsamt wird. Die Auswahl der Matrixstoffe muß natürlich in einer entsprechenden Relation zu den aktiven Bestandteilen so getroffen werden, daß für jede bestimmte Zusammensetzung die beste Löslichkeit gegeben ist.

Die Matrixmaterialien, in die die Organotellur-Abbildungsmaterialien und ggf. die gesonderten Sensibilisatoren eingefügt werden zum Erhalt des Abbildungsfilms bzw. der Filmbeschichtung, sind bei Raumtemperatur fest, und sie können aus einer relativ großen Anzahl Stoffe ausgewählt werden. Erwünschterweise sind sie wenigstens teilweise amorph, und insbesondere sollten sie glasige polare amorphe Stoffe mit einer Glasübergangstemperatur von nicht mehr als ca. 200°C sein, wobei diese Temperatur sogar ca. 50°C betragen kann und bevorzugt im Bereich von ca. 80-120°C liegt. Sie sind im allgemeinen polymer. Beispiele für solche Stoffe sind: cyanethylierte Stärken, Cellulosen und Amylosen mit einem Cyanethylierungs- Substitutionsgrad von ≧2, Polyvinylbenzophenon, Polyvinylidenchlorid, Polyethylenterephthalat, Celluloseester und -ether wie Celluloseacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Methylcellulose, Ethylcellulose, Hydroxypropylcellulose, Polyvinylcarbazol, Polyvinylchlorid, Polyvinylmethylketon, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyvinylmethylether, Polyacryl- und Polymethacrylalkylester wie Polymethylmethacrylate und Polyethylmethacrylat, Mischpolymerisate von Polyvinylmethylether und Maleinsäureanhydrid, verschiedene Klassen von Polyvinylformalharzen. Besonders gut einsetzbar ist Polyvinylformal 15/95%, das ein weißes, freifließendes Pulver mit einem Molekulargewicht im Bereich von 24 000-40 000 und einem Formalgehalt, ausgedrückt als Polyvinylformal-Gehalt, von ca. 82% ist, hochwarmfest, sehr abnutzungsfest und beständig gegen Stoffe wie aliphatische Kohlenwasserstoffe sowie Mineral-, tierische und pflanzliche Öle ist. Diese polymeren Stoffe oder Harze und ihre Herstellung sind bekannt. Sie wirken nicht nur als Träger für die Organotellurmaterialien, Sensibilisatoren und anderen etwa in dem Abbildungsfilm bzw. der Abbildungs-Beschichtung enthaltenden Bestandteile und halten diese zusammen und wirken als trockene oder im wesentlichen trockene filmbildende Stoffe für die Herstellung von dünnen Filmen und geben dem fertigen Abbildungsfilm mechanische Festigkeit, sondern viele dieser Stoffe oder Harze spielen offenbar auch eine chemische oder physikalische Rolle beim Abbildungsverfahren, indem sie - was sehr wichtig ist - als Quelle für leicht entziehbaren Wasserstoff wirken und damit eine wesentliche Rolle in dem Mechanismus der Bildung des latenten Bildes spielen, wie noch erläutert wird. In bestimmten Fällen kann es erwünscht sein, die Matrixviskosität zu vermindern, was z. B. durch Zugabe bestimmter Weichmacher, z. B. Dibutylphthalat oder Diphenylphthalat, erfolgen kann; diese Zusätze resultieren in der Erzeugung von Abbildungen, die zwar, was erwünscht ist, eine stärkere Schwärzung aufweisen, die jedoch auch dazu neigen, einen verstärkten Hintergrundschleier zu erzeugen.

Es ist zu beachten, daß Matrixmaterialien der Art, die basische Gruppen enthalten, mit den Organotellur-Abbildungsmaterialien einen Komplex bilden können, und der Einsatz solcher Stoffe sollte daher, soweit eine solche Komplexbildung erfolgt, vermieden werden.

Bei der Herstellung der Filme oder dünnen Schichten der Abbildungsmaterial-Zusammensetzungen, die im allgemeinen in Form von Lösungen oder homogenen Dispersionen zubereitet und als Schicht oder Lage auf ein Substrat aufgebracht werden, ist es besonders erwünscht, die Bestandteile in einem organischen Lösungsmittel zu lösen oder homogen zu dispergieren. Beispiele für geeignete Lösungsmittel sind Methylethylketon (MEK), Dimethylformamid (DMF), Chloroform, Tetrahydrofuran (THF), Dimethylacetamid (DMA), Dioxan, Dichlormethan und Ethylendichlorid oder kompatible Mischungen solcher organischen Lösungsmittel mit anderen organischen Lösungsmitteln. Nachdem die Lösung oder die homogene Dispersion in geeigneter Weise als Film auf ein Substrat aufgebracht wurde, werden die Hauptanteile dieser organischen Lösungsmittel verdampft, und zwar bevorzugt bei relativ niedrigen Temperaturen; manchmal ist es erwünscht, die Verdampfung unter subatmosphärischen Drücken oder im Vakuum durchzuführen, bis der Film bzw. die Beschichtung sich trocken anfühlt; eine solche sich trocken anfühlende Beschichtung ist besonders für Handhabungs- und Verarbeitungszwecke erwünscht. Solche Filme oder Beschichtungen fühlen sich zwar trocken an, es ist jedoch zu beachten, daß dies nicht bedeutet, daß der Film kein organisches Lösungsmittel enthält. Tatsächlich wurde sogar gefunden, daß es häufig sehr erwünscht ist, daß die fertigen Filme oder Beschichtungen vor ihrer Belichtung mit Abbildungsenergie einen geringeren Prozentsatz, üblicherweise ca. 2-3 Gew.-% bezogen auf das Gewicht des Films oder der Beschichtung, organisches Lösungsmittel, z. B. Dimethylformamid (DMF), enthalten, da die Anwesenheit des Lösungsmittels offenbar eine günstige Rolle in bezug auf die Empfindlichkeit des Systems relativ zu der Bildung des latenten Bildes und/oder zu der nach dem Entwickeln erhaltenen Abbildung spielt. Die Entfernung des gesamten oder im wesentlichen des gesamten Lösungsmittels DMF oder eines anderen organischen Lösungsmittels aus dem unbenutzten Film vor dem Abbilden und Entwickeln führt häufig zu einer Verminderung der Empfindlichkeit. Wenn in irgendeinem Fall der unbenutzte Abbildungsfilm so weitgehend getrocknet wurde, daß im wesentlichen kein organisches Lösungsmittel mehr vorhanden ist und dadurch die Empfindlichkeit zu stark vermindert wurde, kann die Empfindlichkeit dadurch wiederhergestellt werden, daß eine geringe Menge des organischen Lösungsmittels vor dem Belichten des Films mit Abbildungsenergie diesem zugefügt wird.

Die Film- oder Beschichtungsdicke ist unterschiedlich, sie liegt jedoch üblicherweise im Bereich von ca. 1-35 µm, wobei eine Dicke von ca. 5-15 µm ein guter Mittelwert ist. Wenn die Dicke in mm ausgedrückt wird, kann sie zwischen ca. 0,0005 und 0,05 mm oder höher, z. B. zwischen 0,05 und 5 mm liegen, wobei die jeweils gewählte Dicke von dem jeweiligen Verwendungszweck des Films abhängt.

Die Herstellung der Organotellur-Abbildungsmaterialien sowie die Beschichtungs-, Handhabungs- und Verarbeitungsvorgänge, soweit sie erforderlich sind, werden unter geeigneten Beleuchtungsbedingungen durchgeführt, was für den Fachmann offensichtlich ist. Z. B. erfolgen das Ansetzen der Beschichtungs-Zusammensetzungen sowie das Beschichten und Trocknen vorteilhafterweise in amberlit-gefiltertem Licht (schwache Transmission bei 550 nm). Vor dem Belichten wird der Trockenfilm erwünschterweise im Dunkeln aufbewahrt. In bestimmten Fällen sollte ein Kontakt bestimmter Bestandteile mit bestimmten Metallen vermieden werden, wenn unerwünschte Reaktionen wie Reduktionen auftreten könnten. Im allgemeinen sollten die Gefäße oder Behälter, Rührer usw. aus Glas oder anderen glasartigen Stoffen oder Stoffen, die gegenüber den Beschichtungsbestandteilen inert sind, bestehen, um eine Verschmutzung oder eventuelle unerwünschte Reaktionen zu vermeiden. Normalerweise ist es vorteilhaft, die Abbildungszusammensetzungen kurz vor dem Auftragen auf den ausgewählten Träger herzustellen. Unter geeigneten Lagerbedingungen, was üblicherweise Dunkelheit und so weit wie möglich Ausschluß von Luft oder oxidierenden Atmosphären und Feuchtigkeitsbedingungen bedeutet, ist die Stabilität der Abbildungs-Zusammensetzungen gut.

Die Anteile der Matrix, des Organotellur-Abbildungsmaterials und des Reduktionsmittel-Vorläufers in den Abbildungs-Zusammensetzungen sind variabel. In den Fällen, in denen das eingesetzte Organotellur-Abbildungsmaterial gleichzeitig erwünschte Sensibilisierungseigenschaften aufweist, ist ein gesonderter Reduktionsmittel-Vorläufer nicht erforderlich. Es kann jedoch auch in solchen Fällen erwünscht sein, einen gesonderten oder zusätzlichen Reduktionsmittel- Vorläufer einzusetzen, der vollständig andere Sensibilisierungseigenschaften als das verwendete Organotellur-Abbildungsmaterial aufweist. In jedem Fall wird im allgemeinen - das oder die eventuell eingesetzten organischen Lösungsmittel ausgenommen - wird in den meisten Fällen das Matrixmaterial, das normalerweise ein bei Raumtemperatur fester Stoff ist, in Mengen eingesetzt, die größer als die Menge jedes der anderen Stoffe sind, und ist normalerweise in sehr großer Menge, d. h. mehr als 50 Gew.-%, allgemein im Bereich bis zu 90 Gew.-%, der Gesamtmenge an Stoffen, die in der Abbildungs-Zusammensetzung enthalten sind, vorhanden. Das Organotellur- Abbildungsmaterial, das normalerweise ebenfalls ein Feststoff ist, bildet normalerweise ca. 1 bis mehr als 20 Teile je 100 Teile der Matrix, üblicherweise ca. 5-10 Teile je 100 Teile Matrixmaterial. Der Reduktionsmittel- Vorläufer wird, wenn er ein gesonderter Bestandteil ist, der üblicherweise ein Feststoff ist, in geringeren Mengen von ca. 5-20, normalerweise ca. 6-15 Gew.-% der Abbildungs-Zusammensetzung eingesetzt, obwohl in bestimmten Fällen der Anteil wesentlich höher sein kann und ungefähr gleich oder größer als der Anteil des Organotellur- Abbildungsmaterials ist. Ferner kann im Hinblick auf die Anteile der vorgenannten Bestandteile gesagt werden, daß die Flächendichte des Reduktionsmittel-Vorläufers erwünschterweise so gewählt ist, daß ca. 70-95% der auf den Film im Bereich der Absorptionsbande des Reduktionsmittel-Vorläufers fallenden Iotonen absorbiert werden. Wesentlich höhere Konzentrationen an Reduktionsmittel-Vorläufer würden die dunkle Seite des Films unbelichtet lassen, so daß kein Vorteil erzielbar wäre. Zur Erzielung optimaler Ergebnisse gilt in den meisten Fällen, daß die Molkonzentration des Organotellur- Abbildungsmaterials von derjenigen des Reduktionsmittel- Vorläufers nicht weit entfernt oder ungefähr gleich dieser sein soll. Die Konzentration des polymeren Matrixmaterials sollte so hoch sein, daß ein im wesentlichen amorpher Film erzeugbar ist, ohne daß eine Ausfällung des Organotellur- Abbildungsmaterials, des Sensibilisators und anderer eventuell eingesetzter Bestandteile erfolgt. Bei einem Überschuß an polymerem Matrixmaterial besteht die Gefahr, daß die Empfindlichkeit des Films vermindert wird.

Wie bereits gesagt wurde, sollte das Diol in einer Konzentration vorhanden sein, die ausreicht, um pro Mol Tellurverbindung wenigstens 2 mol Diol vorzusehen, bevorzugt sollte das Verhältnis bis zu 6 : 1 betragen. Die durchgeführten Arbeiten haben ergeben, daß zwischen dem Diol und der Tellurverbindung ein Komplex in einem Molverhältnis von 2 : 1 gebildet wird und daß überschüssiges Diol als Quelle labilen Wasserstoffs für die Reaktion mit dem Reduktionsmittel-Vorläufer nützlich ist. Erwünschtenfalls können größere Mengen Diol eingesetzt werden. Verbesserte Ergebnisse werden in gewissem Umfang erzielt, wenn diese größeren Diolmengen eingesetzt werden; es gibt jedoch einen Punkt, oberhalb dessen eine Erhöhung der Diolmenge keine entsprechende Verbesserung des Fotoansprechvermögens des fertigen Films erbringt.

Das maskierte Reduktionsmittel nach der Erfindung kann in Mengen von 1-200 Gew.-% der Tellurverbindung vorhanden sein. Eine merklich verbesserte Empfindlichkeit ergibt sich schon bei sehr geringen Mengen des maskierten Reduktionsmittels, und innerhalb gewisser Grenzen bewegt sich der Grad der Verbesserung proportional zu der Menge des dem Film zugefügten maskierten Reduktionsmittels. Aber auch hier wird ein Gesetz abnehmender Vorteile beobachtet; es können zwar große Mengen des maskierten Reduktionsmittels zugesetzt sein - in der Größenordnung der 2-4fachen Menge der Tellurverbindung -, aber oberhalb dieser großen Mengen steht die Steigerung des Fotoansprechvermögens in keinem Verhältnis zu der erhöhten Menge des maskierten Reduktionsmittels mehr.

Die vorstehend erläuterten filmbildenden Zusammensetzungen werden auf irgendeinen geeigneten Träger aufgebracht. Hierfür sind Glas, Porzellan, Papier und verschiedene Kunststoffträger geeignet. Für die Zwecke der Bildung filmartiger Materialien ist Lichtdurchlässigkeit offensichtlich wünschenswert. Dafür sind Filme aus Polyethylenterephthalat besonders geeignet.

Die folgenden Beispiele dienen der Erläuterung der Erfindung.

Beispiel 1

2,1 g Glycerylbenzylether und 0,625 g Tellur-Bisacetophenondichlorid werden einem Gemisch aus 42 ml Methylenchlorid und 58 ml Methylethylketon zugesetzt. 2,1 ml einer 2% Lösung von Silikonöl in Methylenchlorid wird zugesetzt, um die Zubereitung einer glatten Beschichtung zu unterstützen.

Das Gemisch wird bei Raumtemperatur während 30 min umgerührt, und dann wird 0,625 g des Phenylisocyanat-Addukts von Benzoylhydrazin als maskiertes Reduktionsmittel zugesetzt. Dann wird 10,42 g eines polymeren Bindemittels, gefolgt von 0,31 g 2-Isopropoxynaphthochinon zugesetzt.

Die erhaltene Lösung wird in vollständiger Dunkelheit während 1 h umgerührt und dann als Beschichtung auf ein Polyphthalat- Substrat aufgebracht, und zwar mit einer mittleren Dichte von ca. 2 g Tellur-Bisacetylphenondichlorid je m². Der Film wird dann in einem Ofen bei 65°C für 2-4 h erwärmt, um die Lösungsmittel zu beseitigen.

Beispiel 2

2,0 g p-Methoxybenzyl-1-glycerylether und 0,625 g Tellur- Bisacetophenondichlorid (TeBAC) wurden einem Gemisch aus 42 ml Methylenchlorid und 58 ml Methylethylketon zusammen mit 2,0 ml einer 2% Lösung Silikonöl in Methylenchlorid zugesetzt.

Das Gemisch wurde bei Raumtemperatur für 30 min umgerührt, dann wurde 0,625 g maskiertes Reduktionsmittel der Formel

zugesetzt, und das Gemisch wurde für 10 min umgerührt. Das polymere Bindemittel des Beispiels 1 wurde in einer Menge von 10,42 g zugefügt, gefolgt von 0,31 g 2-Isopropoxynaphthochinon (IPNC) Die Lösung wurde in vollständiger Dunkelheit für 1 h umgerührt.

Die erhaltene Lösung wurde in einer üblichen Meniskus- Auftragvorrichtung auf einen Träger aus Polyethylenterephthalat mit einer Dicke von 127 µm mit einer Dickte von ca. 2 g TeBAC/m² aufgebracht, und der erhaltene Film wurde in einem Ofen für 3 h bei 65°C erwärmt.

Bei Belichtung mit Abbildungsenergie von 10⁴ erg/cm² bei 365 nm und Erwärmen für 30 s auf 140°C wurde mit diesem Film ein Schwärzungsgrad von 2,2 erzielt, wobei der unbelichtete Bereich einen Schwärzungsgrad von 0,35 hatte. Das Gamma des Films war 2,0.

Beispiel 3

2,0 g p-Methoxybenzyl-1-glycerylether und 0,625 g TeBAC wurden 42 ml Methylenchlorid zugesetzt und für 3 h bei 50°C in einer geschlossenen Flasche umgerührt. 58 ml Methylethylketon und 2 ml 2% Silikonlösung in CH₂Cl₂ wurden zugesetzt, gefolgt von dem maskierten Reduktionsmittel, dem Polymerisat und IPNC wie in Beispiel 2.

Das Gemisch wurde für 1 h bei Raumtemperatur und Dunkelheit umgerührt und auf einen Träger in Form einer Schicht aufgebracht.

Nach dem Beschichten wurde der Film in einem Ofen bei 65°C für 45 min erwärmt. Das Fotoansprechvermögen entsprach genau demjenigen des Films nach Beispiel 2.

Beispiel 4

2,5 g o-Chlorbenzyl-1-glycerylether und 0,6 g Tellur- Bisacetophenondichlorid wurden einem Gemisch aus 42 ml Methylenchlorid und 58 ml Methylethylketon zugesetzt.

Das Gemisch wurde für 30 min bei Raumtemperatur umgerührt, dann wurde 0,625 g des Addukts von Benzoylhydrazin und Phenylisocyanat als maskiertes Reduktionsmittel zugefügt und das Gemisch für 10 min umgerührt. Ein polymeres Bindemittel wurde in einer Menge von 10,42 g zugefügt, gefolgt von 0,31 g 2-Isopropoxy- naphthochinon (IPNC). Die Lösung wurde dann für 1 h in vollständiger Dunkelheit umgerührt.

Die erhaltene Lösung wurde mit einer üblichen Meniskus- Auftragvorrichtung auf ein Substrat aus Polyethylenterephthalat mit einer Dicke von 127 µm mit einer Dichte von ca. 2 g TeBAC/m² aufgetragen, und der erhaltene Film wurde in einem Ofen für 2,5 h bei 65°C erwärmt.

So hergestellte Filme haben einen Schwärzungsgrad von 2,0 im Abbildungsbereich und von 0,3 im Hintergrund sowie ein Gamma von 3,0 nach Belichtung mit Energie von 8 · 10³ erg/cm² bei 365 nm und Erwärmen auf 130°C für 1 min.

Beispiel 5

2,5 g p-Benzyloxybenzyl-1-glycerylether und 0,7 g Tellur-Bispinakolondichlorid wurden in einem Gemisch aus 80 ml Methylenchlorid und 20 ml Dimethylformamid bei Raumtemperatur für 3 h umgerührt.

Dann wurde 0,6 g maskiertes Reduktionsmittel der Formel

zugefügt, und das Gemisch wurde für 10 min umgerührt. 12 g polymeres Bindemittel Polyvinylformal wurde zugefügt, gefolgt von 0,4 g 2-ter-Butylanthrachinon (BAC). Die Lösung wurde dann für 1 h bei Raumtemperatur in Dunkelheit umgerührt.

Filme wurden hergestellt, indem die Lösung auf Glasplatten gegossen wurde, und zwar mit einer Dichte von ca. 1,5 g Organotellur/m². Nach Trocknen bei Raumtemperatur für 1 h wurden die Filme in einem Ofen bei 65°C für 2 h erwärmt.

So hergestellte Filme haben einen Schwärzungsgrad von 1,5 im Bildbereich und von 0,2 im Hintergrund sowie ein Gamma von ca. 1,5 nach Belichtung mit einem Energiefluß von 8 · 10⁴ erg/cm² bei 365 nm und Erwärmen auf 110°C für 90 s.

Beispiel 6

3,0 g p-Methoxybenzyl-1-glycerylether und 1,18 g Tellurchlorid wurden in 42 ml Methylenchlorid und 58 ml Methylethylketon für 2 h umgerührt.

Diesem Gemisch wurde 0,625 g eines Benzoylhydrazin- Phenylisocyanat-Addukts als maskiertes Reduktionsmittel, 10,42 g polymeres Bindemittel und 0,625 g 2-Isopropoxynaphthochinon zugefügt. Das Gemisch wurde dann für 1 h in vollständiger Dunkelheit bei Raumtemperatur umgerührt.

Ein Substrat aus Polyethylenterephthalat wurde dann mit dem Gemisch beschichtet, und zwar mit einer Dichte von ca. 3,5 g TeCl₂/m². Der erhaltene Film wurde in einem Ofen für 3 h bei 65°C erwärmt.

Bei Belichtung mit ener Abbildungsenergie von 10⁵ erg/cm² bei 365 nm und Wärmebehandlung bei 150°C für 30 s erzielten diese Filme einen Bild-Schwärzungsgrad von 3,0 und einen Hintergrund-Schwärzungsgrad von 0,7. Das Gamma dieser Filme betrug ca. 3,0.

Beispiel 7

0,21 g TeO₂ und 0,05 g TeCl₄ wurden für 30 min in 5 ml 2-Methoxyethanol umgerührt, dann wurde dieses Gemisch 1,0 g o-Chlorbenzyl-1-glycerylether in 42 ml Methylenchlorid und 58 ml Methylethylketon zugesetzt. Das Gemisch wurde für eine weitere Stunde umgerührt. 0,625 g des maskierten Reduktionsmittels der Formel

10,42 g des polymeren Bindemittels und 0,32 g 2-Isopropoxynaphthochinon wurden zugefügt, und das Gemisch wurde für 1 h umgerührt.

Auf ein Polyethylenterephthalat-Substrat mit einer Dicke von 127 µm wurden Filme in einer Meniskus-Auftragvorrichtung mit einer Dichte von 0,4 g TeO₂/m² aufgebracht und in einem Ofen bei 60°C für 3 h erwärmt. Die erhaltenen Filme hatten einen Schwärzungsgrad von 2,5 im Bildbereich und von 0,7 im Hintergrund sowie ein Gamma von ca. 3,5 bei Bestrahlung mit einer Energie von 10⁵ erg/cm² bei 365 nm und Wärmebehandlung bei 165°C für 10 s.

Beispiel 8

0,21 g TeO₂ und 0,09 TeBAC wurden für 10 min in 5 ml Methoxyethanol umgerührt, dann wurde dieses Gemisch 2,0 g o-Methoxybenzylglycerylether in 42 ml Methylenchlorid und 58 ml Methylethylketon zugefügt und für 1 h umgerührt. 0,55 g Benzoylhydrazin-Phenylisocyanat-Addukt als maskiertes Reduktionsmittel, 10,42 g polymeres Bindemittel und 0,3 g 2-Isopropxynaphthochinon wurde zugefügt und das Gemisch für 2 h in vollständiger Dunkelheit umgerührt.

Mit einer Meniskus-Auftragvorrichtung wurden Filme auf ein Polylethylenterephthalat-Substrat, das eine Dicke von 127 µm hat, mit einer Dichte von 0,4 g TeO₂/cm² aufgetragen und in einem Ofen für 3 h bei 65°C erwärmt. Die erhaltenen Filme erzielten einen Schwärzungsgrad von 2,0 im Bildbereich und von 0,5 im Hintergrund nach Belichtung mit Energie von 5 · 10⁴ erg/cm² bei 365 nm und Wärmebehandlung bei 140°C für 30 s. Das Gamma dieser Filme war ca. 2,5.

Beispiel 9

0,48 g H₂TeCl₆ und 3,0 g p-Methoxybenzyl-1-glycerylether wurden in einem Gemisch aus 42 ml Methylenchlorid und 58 ml Methylethylketon für 2 h umgerührt. 0,625 g Benzoylhydrazin- Phenylisocyanat-Addukt als maskiertes Reduktionsmittel, 10,42 g polymeres Bindemittel und 0,5 g 2-Isopropoxynaphthochinon wurden zugefügt und das Gemisch für eine weitere Stunde in vollständiger Dunkelheit umgerührt.

Die Lösung wurde dann auf 127 µm dickes Polyethylenterephthalat mit einer Dichte von 1,6 g H₂TeCl₆/cm² aufgetragen und in einem Ofen bei 70°C für 3 h erwärmt. Die erhaltenen Filme erzielten einen Bild-Schwärzungsgrad von 1,5 und einen Hintergrund-Schwärzungsgrad von 0,1 nach Belichtung mit Abbildungsenergie von 8 · 10⁴ erg/cm² bei 365 nm und Wärmebehandlung bei 175°C für 30 s. Das Gamma betrug ca. 3.

Weitere Beispiele für die Art und Weise, in der die Erfindung durchführbar ist, gehen aus den folgenden Ansätzen hervor, die entsprechend den Beispielen 1 und 2 zubereitet und als Beschichtung aufgetragen werden können.

Beispiel 10

2,1 g p-Methoxybenzyl-glycerylether
1,0 g Styrolglycol
0,625 g TeBAC
10,42 g Polymerisat CAB 500-5
58 ml MEK
42 ml CH₂Cl₂
0,31 g IPNC

Beispiel 11

2,0 g o-Chlorbenzyl-glycerylether
1,0 g Styrolglycol
0,625 g TeBAC
10,42 g CAB 500-5
58 ml MEK
42 ml CH₂Cl₂
0,31 g IPNC

Beispiel 12

2,1 g o-Chlorbenzyl-glycerylether
1,0 g Styrolglycol
0,625 g TeBAC
10,42 g CAB 500-5
58 ml MEK
42 ml CH₂Cl₂
0,31 g IPNC

Beispiel 13

Beispiel 14

Beispiel 15

Claims

1. Strahlungsempfindliches Gemisch mit einer reduzierbaren Tellurverbindung, gegebenenfalls einem Reduktionsmittel- Vorläufer, der unter der Einwirkung von Aktivierungsstrahlung einem Wasserstoffdonator labilen Wasserstoff entzieht und in bezug auf die bilderzeugende Tellurverbindung zum Reduktionsmittel wird, und einem Wasserstoffdonator, der gegebenenfalls einen Teil der Molekülstruktur des Reduktionsmittel-Vorläufers bildet, gekennzeichnet durch den Zusatz eines maskierten Reduktionsmittels, das einer der folgenden Formeln entspricht: R¹-NY-NY₂ (I) wobei
R¹ = Alkyl, Alkanoyl, Alkoxycarbonyl, Phenyl, Benzyl, Benzoyl, Nitrophenyl, Benzylcarbonyl, Diphenylmethyl, Diphenylethyl, Diphenylpropylcarbonyl oder Aminocarbonyl;
R², R³ und R⁴ = je und unabhängig voneinander: Wasserstoff, Alkyl, Phenyl oder Amino;
R⁵ = Phenyl, Nitrophenyl, Halogenphenyl, Alkyl, Mono-, Di- oder Trihalogenacetyl, Benzoyl, Alkylphenyl oder Alkyl-p-Isocyanphenyl (wobei die Alkylgruppe in R¹ bis R⁵ 1-7 Kohlenstoffatome hat) und
Y = Wasserstoff oder darstellen,
wobei in der Verbindung wenigstens eine enthalten ist, und mit einem Anteil des maskierten Reduktionsmittels von wenigstens 1 Gew.-% der reduzierbaren Tellurverbindung.

2. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich ein Diol mit der Formel zugesetzt ist, wobei
R¹⁰ und R¹¹ = jeweils unabhängig Wasserstoff, eine Kohlenwasserstoffgruppe einschließlich geradkettiger, verzweigtkettiger und cyclischer bzw. Ring-Kohlenwasserstoffgruppen, Hydroxyalkylgruppen, Alkoxycarbonylgruppen, Cycloalkylgruppen oder Arylgruppen;
Z = eine direkte C-C-Bindung zwischen den Kohlenstoffatomen auf beiden Seiten, oder eine Arylengruppe, die Gruppe (-C=C-), die Gruppe (-C¹²=CR¹³)_n (mit n = 1 oder 2, und R¹², R¹³ = jeweils Wasserstoff oder eine Alkylgruppe, oder einem Teil eines carbocyclischen oder heterocyclischen Rings entnommen) darstellen,
und in einem solchen Anteil, daß wenigstens 2 mol des Diols pro 1 mol der Tellurverbindung vorhanden sind.

3. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich ein Diol mit der Formel R⁷-X-CH₂-CHOH-CH₂OHzugesetzt ist, wobei
R⁷ = Alkyl, Alkanoyl, Thiazolinyl, Alkenyl, Benzyl, Alkylbenzyl, Alkoxybenzyl, Hydroxyalkylbenzyl und Halogenbenzyl; wobei das Alkylradikal 1-7 Kohlenstoffatome aufweist; und
X = Sauerstoff oder Schwefel darstellen.

4. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Tellurverbindung eine der folgenden ist: TeCl_nBr_m, wobei
R = ein organisches Radikal mit wenigstens einer Carbonylgruppe,
R⁸ = der Rest eines Ethylenkohlenwasserstoffs,
Hal = Halogen,
x = 1, 2 oder 3
x + y = 4,
n = eine ganze Zahl von 1-4, und
m + n = 4 darstellen.

5. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Reduktionsmittel-Vorläufer 2-Isopropoxynaphthochinon, 2-t-Butylanthrachinon, 1,10-Phenanthrenchinon, 1,1′-Dibenzoylferrocen, 1-Phenyl-1,2,-propandion, 2-Hydroxy-1,4-Naphthochinon, Benzil, Furil, Diacetylferrocen, Acetylferrocen, 1-4-Bis(phenylglyoxal)benzol, O-Naphthochinon, 4,5-Pyrinchinon, 4,5,9,10-Pyrinchinon, Benzophenon, Acetophenon, 1,5-Diphenyl-1,3,5-Pentantrion, Ninhydrin, 4,4′-Dibrombenzphenon, 1,8-Dichloranthrachinon, 1,2-Benzanthrachinon, 2-Methylanthrachinon, 1-Chloranthrachinon, 7,8,9,10-Tetrahydronaphthacenchinon, 9,10-Anthrachinon oder 1,4-Dimethylanthrachinon verwendet ist.

6. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

7. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

8. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

9. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

10. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

11. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

12. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

13. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

14. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

15. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

16. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

17. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

18. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

20. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

21. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

22. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

23. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

24. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

25. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

26. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

27. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

28. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

29. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

30. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

31. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

32. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

33. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

34. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

35. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

36. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

37. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

38. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

39. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

40. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

41. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

42. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

43. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

44. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

45. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

46. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das maskierte Reduktionsmittel ist.

47. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Tellurverbindung und das maskierte Reduktionsmittel sowie gegebenenfalls weitere Komponenten in einem Bindemittel bzw. Matrixmaterial gebunden sind.

48. Gemisch nach Anspruch 47, dadurch gekennzeichnet, daß das Bindemittel bzw. Matrixmaterial ein mindestens teilweise amorphes Polymer ist.

49. Gemisch nach Anspruch 48, dadurch gekennzeichnet, daß das Bindemittel bzw. Matrixmaterial Polyvinylformal aufweist.

50. Gemisch nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Anteil des maskierten Reduktionsmittels in bezug auf das Tellurmaterial bis zu 200 Gew.-% beträgt.

51. Bildaufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger und einer strahlungsempfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht ein Gemisch nach einem der Ansprüche 1-50 enthält.

52. Verfahren zur Herstellung von Bildern, durch bildmäßiges Bestrahlen eines Aufzeichnungsmaterials mit aktinischer Strahlung, dadurch gekennzeichnet, daß ein Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 51 verwendet wird.