DE19603637C1 - Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung - Google Patents

Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung

Info

Publication number
DE19603637C1
DE19603637C1 DE19603637A DE19603637A DE19603637C1 DE 19603637 C1 DE19603637 C1 DE 19603637C1 DE 19603637 A DE19603637 A DE 19603637A DE 19603637 A DE19603637 A DE 19603637A DE 19603637 C1 DE19603637 C1 DE 19603637C1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
laser
light
refractive
wavelength
prism
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE19603637A
Other languages
English (en)
Inventor
Juergen Dr Kleinschmidt
Peter Dr Heist
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lambda Physik AG
Original Assignee
Lambda Physik AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lambda Physik AG filed Critical Lambda Physik AG
Priority to DE19603637A priority Critical patent/DE19603637C1/de
Priority to US08/687,793 priority patent/US5761236A/en
Priority to JP9034352A priority patent/JPH09321370A/ja
Application granted granted Critical
Publication of DE19603637C1 publication Critical patent/DE19603637C1/de
Priority to US09/584,420 priority patent/USRE38039E1/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08004Construction or shape of optical resonators or components thereof incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/136Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/137Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft einen Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung mit
  • - einem Laserresonator, in dem ein laseraktives Medium angeordnet ist,
  • - einer in dem Strahlengang des Lasers angeordnete Gruppe aus mehreren lichtbrechenden wellenlängenselektiven Elementen, welche einfallendes Licht jeweils in einem für die Wellen­ länge des einfallenden Lichts spezifischen Winkel ablenken.
Ein solcher Laser ist aus der US-PS-5 150 370 bekannt.
Laser der eingangs genannten Art finden insbesondere bei der Photolithographie für die Herstellung von integrierten Schaltun­ gen Anwendung. Um Strukturgrößen im Bereich von 0,18 µm photoli­ thographisch herstellen zu können, sind Wellenlängen unterhalb von 200 nm erforderlich. Achromatische Abbildungsoptiken für diesen Wellenlängenbereich sind nur schwer herzustellen. Daher ist für die Photolithographie von Strukturen in dem vorangehend genannten Größenbereich eine sehr schmalbandige Strahlung erfor­ derlich, um die durch chromatische Aberration verursachten Feh­ ler der photolithographisch erzeugten Strukturen innerhalb der zulässigen Toleranzen zu erhalten. Die akzeptablen Bandbreiten liegen für refraktive Abbildungsoptiken im Bereich von 1 pm (refraktive Optik nur aus Quarz: 0,3 pm, refraktive Optik aus verschiedenen Materialien: einige pm), für die mit einem Strahl­ teiler und Spiegeln arbeitende Catadioptric im Bereich von 10 pm bis 100 pm. Demgegenüber hat ein ArF-Excimerlaser (λ=193 nm) im sogenannten "free running"-Betrieb eine Bandbreite von 430 pm, so daß im Laser die Bandbreite begrenzende optische Elemente vorgesehen werden müssen, um den obigen Anforderungen genügen zu können.
Nach dem Stand der Technik ist bekannt, im Strahlengang des Res­ onators zur Bandeinengung Gitter mit Strahlaufweitung, Prismen­ anordnungen und/oder Fabry-Perot-Etalons einzusetzen.
Gitter und Fabry-Perot-Etalons weisen einen hohen Verlustfaktor pro Strahlungsumlauf auf (Transmission <70%) und sind daher für einen ArF-Laser, der im Vergleich zu einem XeCl- bzw. KrF-Laser wesentlich höhere Resonatorverluste aufweist, nur bedingt geeig­ net. Demgegenüber weisen Brewsterprismen oder speziell antire­ flektierend beschichtete Prismen eine Transmission von mehr als 95% auf.
Es sind daher Anordnungen mit einem oder zwei Dispersionsprismen im Resonator des Lasers vorgeschlagen worden (vgl. US-PS-5 150 370 und 1st International Symposium on 193 nm Lithography, Colo­ rado Springs, 15.-18.8.1995), mit denen sich Bandbreiten von etwa 10 pm erreichen lassen. Das Prinzip einer solchen Anordnung ist schematisch in Fig. 1 dargestellt, die einen Teil des Strah­ lengangs des Resonators zeigt. Der eintreffende Strahl durch­ läuft einen (fakultativen) achromatischen Strahlaufweiter 1 und wird dann durch ein Dispersionsprisma 2 zu dem hochreflektieren­ den Spiegel 3 des Resonators gelenkt, der das auf ihn einfallen­ de Licht über das Prisma 2 und den Strahlaufweiter 1 zu dem zweiten Spiegel des Resonators zurückreflektiert. Der Resonator­ spiegel 3 ist in einem Winkel zur optischen Achse A des Lasers angeordnet, der dem Ablenkungswinkel γ des Prismas für die ge­ wünschte Wellenlänge, z. B. λ=193 nm, entspricht, so daß im wesentlichen nur Licht dieser Wellenlänge reflektiert wird und im Resonator umläuft.
Bei Excimerlasern mit derartigen Prismenanordnungen treten je­ doch im Burst-Betrieb zeitliche Variationen der Emissionswellen­ länge des Lasers auf, welche die Tauglichkeit für Photolitho­ graphiezwecke einschränken.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Laser der ein­ gangs genannten Art so weiterzubilden, daß temperaturbedingte und demgemäß im Burst-Betrieb zeitabhängige Änderungen der Strahlung weitestgehend reduziert werden.
Die erfindungsgemäße Lösung sieht vor, daß bei einem Laser mit einem Laserresonator, in dem ein laseraktives Medium angeordnet ist, und mit einer in dem Strahlengang des Lasers angeordneten Gruppe aus mehreren lichtbrechenden wellenlängenselektiven Elementen, wel­ che einfallendes Licht jeweils in einem für die Wellenlänge des einfallenden Lichts spezifischen Winkel (γa, γb) ablenken, zu­ mindest eines der lichtbrechenden wellenlängenselektiven Elemen­ te einen Brechungsindex aufweist, der mit der Temperatur wächst (dn/dT<0), und zumindest eines dieser Elemente einen Brechungs­ index aufweist, der mit der Temperatur abnimmt (dn/dT<0).
Der Laser kann dabei ein Excimerlaser, insbesondere ein ArF-Excimer­ laser sein. Die Gruppe von lichtbrechenden wellenlängenselek­ tiven Elementen ist vorzugsweise im Strahlengang des Resonators angeordnet.
Es hat sich gezeigt, daß die bei den Anordnungen nach dem Stand der Technik beobachteten zeitlichen Schwankungen der Emissions­ wellenlänge darauf zurückzuführen sind, daß der Brechungsindex der verwendeten Prismen temperaturabhängig ist und sich daher im Burst-Betrieb der Ablenkwinkel für die gewünschte Strahlung, z. B. Licht mit einer Wellenlänge von 193 nm, mit dem Erwärmen und Abkühlen der Prismen infolge von Strahlungsabsorption än­ dert. Erfindungsgemäß wird diese Änderung des Ablenkwinkels zu­ mindest verringert durch die Verwendung einer Kombination aus mindestens zwei lichtbrechenden Elementen, die sich im Vorzei­ chen von dn/dT unterscheiden.
Bei geeigneter Gestaltung und Anordnung der Elemente kann die temperaturbedingte Änderung des Ablenkwinkels vollständig be­ seitigt werden. Insbesondere können die Einfallswinkel bei den lichtbrechenden dispersiven Elementen so eingerichtet sein, daß die Summe der individuellen Ablenkungswinkel der einzelnen Ele­ mente bei einer vorbestimmten Wellenlänge des einfallenden Lichts unabhängig von Temperaturschwankungen beim Betrieb des Lasers ist.
Bevorzugt für den ultravioletten Spektralbereich wird als Mate­ rial für mindestens ein lichtbrechendes dispersives Element Quarzglas, insbesondere das unter dem Handelsnamen Suprasil be­ kannte Quarzglas (dn/dT<0), und als Material für mindestens ein lichtbrechendes dispersives Element CaF₂ (dn/dT<0) ver­ wendet.
Eine besondere Ausführungsform der Erfindung sieht vor, daß zwi­ schen dem laseraktiven Medium und einem der reflektierenden Ele­ mente ein Strahlteiler angeordnet ist, wobei die Gruppe von lichtbrechenden wellenselektiven Elementen zwischen dem Strahl­ teiler und dem reflektierenden Element angeordnet ist. Damit wird die die Bandbreite begrenzende Anordnung in einen Teil des Resonators gelegt, der eine vergleichsweise geringe Lichtinten­ sität im Betrieb aufweist, so daß die Lebensdauer dieser Anord­ nung erhöht wird.
Die lichtbrechenden dispersiven Elemente können insbesondere Dispersionsprismen sein. Bevorzugterweise ist dabei mindestens eines dieser Prismen ein Brewsterprisma. Die Einfallsfläche der anderen Prismen kann dabei antireflektierend beschichtet sein.
Der erfindungsgemäße Laser kann insbesondere ein erstes und ein zweites Dispersionsprisma umfassen, wobei die Änderung des Bre­ chungsindex des ersten Prismas mit der Temperatur ein anderes Vorzeichen als die Änderung des Brechungsindex des zweiten Pris­ mas aufweist und der Apexwinkel des zweiten Prismas so gewählt ist, daß bei einem Einfall des das erste Prisma durchstrahlenden Licht auf das zweite Prisma im Brewsterwinkel der durch das er­ ste und zweite Prisma festgelegte Gesamtablenkungswinkel unab­ hängig von Temperaturschwankungen beim Betrieb des Lasers ist.
Damit entfällt die Notwendigkeit einer antireflektierenden Be­ schichtung der Einfallsfläche des zweiten Prismas.
Vorteilhafterweise werden die Einfallsflächen der Prismen mög­ lichst vollständig ausgeleuchtet. Hierfür kann vor dem ersten Prisma ein Strahlaufweiter angeordnet sein.
In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung kann vorgesehen sein, daß im Strahlengang des Lasers vor oder nach der Gruppe von lichtbrechenden dispersiven Elementen ein Fabry-Perot-Etalon enthalten ist. Mit dieser Ausführungsform lassen sich Bandbreiten von weniger als 1 pm erzielen.
Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele erfindungsgemäßer Laser­ anordnungen anhand der Zeichnungen näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 das Prinzip einer die Bandbreite begrenzenden Prismenanordnung,
Fig. 2 schematisch ein erstes Ausführungsbeispiel einer er­ findungsgemäßen Laseranordnung,
Fig. 3 den Strahlengang durch die zwei die Bandbreite begrenzenden Prismen bei der Laseranordnung gemäß Fig. 2,
Fig. 4 die Nullstellenfunktion in Abhängigkeit von dem Apex­ winkel und dem Einfallswinkel des zweiten Prismas für eine erste Wellenlänge,
Fig. 5 die Nullstellenfunktion in Abhängigkeit von dem Apex­ winkel und dem Einfallswinkel des zweiten Prismas für eine zweite Wellenlänge,
Fig. 6 die die Bandbreite begrenzende Anordnung gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung.
Fig. 2 zeigt schematisch den Strahlengang einer ersten Ausfüh­ rungsform der Erfindung am Beispiel eines Excimerlasers.
Der Laserresonator weist zwei hochreflektierende Spiegel 12, 14 auf, zwischen denen sich ein laseraktives Medium befindet, das mit einer Gasentladung in einer entsprechenden Kammer 10 mittels Elektroden erzeugt wird. Zwischen dem laseraktiven Medium 10 und dem Spiegel 12 ist ein polarisierender Strahlteiler 20 angeord­ net, der p-polarisiertes Licht zu etwa 98% durchläßt und s-p-po­ larisiertes Licht zu etwa 98% reflektiert. Auf der anderen Sei­ te, also zwischen dem laseraktiven Medium und dem Spiegel 14 ist ein die Polarisationsebene des Lichts drehendes Bauteil 18, z. B. ein λ/4-Plättchen oder ein Faraday-Rotator, angeordnet. Durch den polarisierenden Strahlteiler wird im wesentlichen s-polari­ siertes Licht 15 aus dem Resonator ausgekoppelt, während im we­ sentlichen p-polarisiertes Licht 16 durch ihn hindurchtritt, an dem Spiegel 12 reflektiert wird und danach einen erneuten Zyklus durch den Resonator durchläuft. Das Bauteil 18 bewirkt, daß ein bestimmter Anteil der Resonatorstrahlung ausgekoppelt wird. Die Laseranordnung mit dem Strahlteiler 20 hat den Vorteil, daß nur ein Teil der in dem laseraktiven Medium erzeugten Strahlung auf optische Elemente einfällt, die zwischen dem Strahlteiler 20 und dem Spiegel 12 angeordnet sind, wodurch deren Lebensdauer erhöht wird.
Zwischen dem Strahlteiler 20 und dem Spiegel 12 ist eine die Bandbreite begrenzende Anordnung vorgesehen, die aus einem achromatischen Strahlaufweiter 30, einem Brewsterprisma 32 aus Quarzglas mit hoher Ultraviolettdurchlässigkeit, bevorzugt Suprasil, und einem auf der Einfallfläche antireflektierend beschichteten Prisma 34 aus CaF₂ besteht. Der Strahlengang durch die Prismen 32 und 34 ist schematisch in Fig. 3 dargestellt. Der Temperaturkoeffizient des Brechungsindex, d. h. die Ableitung des Brechungsindex nach der Temperatur, beträgt 18 · 10-6 K-1 für Suprasil und -3 · 10-6 K-1 für CaF₂ bei λ=193 nm. Der Ablenk­ winkel γa des Prismas 32 ändert sich also bei einer Änderung der Temperatur im entgegengesetzten Sinn wie der Ablenkwinkel γb des Prismas, so daß die Änderung des Gesamtwinkels γ=γab bei einer Temperaturänderung klein gehalten oder gegebenenfalls ganz zum Verschwinden gebracht wird.
Die Bedingung für ein Verschwinden der Änderung des Gesamtab­ lenkwinkels Δγ bei einer Temperaturänderung ΔTa bei Prisma 32 und einer Temperaturänderung ΔTb bei Prisma 34 läßt sich wie folgt ausdrücken:
wobei der Index a zu dem Prisma 32 gehörige Größen und der Index b zu dem Prisma 34 gehörige Größen bezeichnet und na, nb die Brechungsindices der Prismen 32 und 34 sind.
In der nachfolgenden Tabelle sind die Größen angegeben, die in den hier durchgeführten Rechnungen verwendet werden:
Die Ableitungen dγa/dna bzw. dγb/dnb hängen allgemein von dem Brechungsindex, von der Geometrie des lichtbrechenden Elements und der Richtung des einfallenden Strahls ab. Speziell für Pris­ men sind sie durch die jeweiligen Brechungsindices na, nb, die Apexwinkel der Prismen εa, εb und durch die Einfallswinkel βa bzw. βb bestimmt, wobei die Beziehung zwischen dem Ablenkwinkel γ, dem Einfallswinkel β, dem Apexwinkel ε und dem Brechungsindex n allgemein bekannt ist.
Für die Temperaturänderung aufgrund von Strahlungsabsorption ΔT gilt für den Fall, daß Wärmeleitungseffekte vernachlässigt wer­ den können,
ΔT = (F α)/(ρ c)
wobei
α der Absorptionskoeffizient des Prismenmaterials,
ρ die Dichte des Prismenmaterials,
c die spezifische Wärme des Prismenmaterials,
F die Gesamtfluenz der Laserstrahlung am Prismeneingang ist.
Wegen der geringen Strahlungsschwächung pro Umlauf ist die Ge­ samtfluenz Fa am Eingang des Prismas 32 ungefähr gleich der Ge­ samtfluenz Fb am Eingang des Prismas 34. Damit ist ΔTa/ΔTb zeit­ unabhängig. Die Lösung der Gleichung (1) ist daher durch eine geeignete Wahl von dγa/dna bzw. dγb/dnb immer möglich. Das Auf­ lösen der Gleichung (1) nach einer der Bestimmungsgrößen βa, εa, βb und εb, z. B. nach dem Einfallswinkel βb unter Vorgabe des Apexwinkels εb des Prismas 34, des Apexwinkels εa und des Ein­ fallswinkels βa des Prismas 32, kann ohne weiteres mit gängigen numerischen Nullstellensuchverfahren durchgeführt werden. Die entsprechende Größe, z. B. ein Einfallswinkel βb, der die Gesamt­ ablenkung bei Vorgabe der übrigen Größen temperaturunabhängig macht, kann auch leicht experimentell bestimmt werden.
Zur Veranschaulichung werden im folgenden Lösungen der Gleichung (1) für zwei verschiedene Wellenlängen vorgestellt. Hierfür ist es zweckmäßig, eine Nullstellenfunktion G wie folgt zu definie­ ren:
Die Nullstellen von G entsprechen den Lösungen der Gleichung (1).
In dem ersten Beispiel ist das Prisma 32 ein Brewsterprisma aus Suprasil mit symmetrischem Strahldurchgang und einem Apexwinkel εa=67,080. Der Apexwinkel des CaF₂-Prismas 34 wurde mit 75°, 75,5°, 76°, . . . , 78,5° vorgegeben und die Gleichung (1) für 248 nm durch Bestimmen der Nullstelle der Funktion G mit βb als Variable gelöst. In Fig. 4 ist die Funktion G über dem Ein­ fallswinkel βb für die verschiedenen Apexwinkel aufgetragen. Man erkennt, daß sich für jeden Apexwinkel εb ein Einfallswinkel βb finden läßt, bei dem sich die thermisch bedingten Änderungen der Ablenkungswinkel γa, γb kompensieren, bei dem also G=0 ist. Kompensation tritt z. B. ein für εb=77° und βb=55,86° (0,975 rad). Insbesondere läßt sich eine Kompensation bei dem Brewster­ winkel (βb=0,972 rad) erreichen, wenn der Apexwinkel εb 76,9° beträgt. In diesem Fall ist eine antireflektierende Beschichtung der Eingangsfläche des Prismas 34 nicht nötig.
In dem zweiten Ausführungsbeispiel ist das Prisma 32 ein Brew­ sterprisma aus Suprasil mit symmetrischem Strahldurchgang und einem Apexwinkel εa=65,3°. Der Apexwinkel des CaF₂-Prismas wurde mit 74°, 74,5°, 75°, . . ., 77,5° vorgegeben und die Glei­ chung (1) für λ=193 nm mit βb als Variabler gelöst. In Fig. 5 ist die Funktion G über dem Einfallswinkel βb für die verschie­ denen Apexwinkel aufgetragen. Die Kompensation bei dem Brewster­ winkel (βb=0,973 rad) tritt hier bei einem Apexwinkel εb von 77,5° ein.
Das oben beschriebene Prinzip läßt sich ohne weiteres auch auf die Bandbreite begrenzende Anordnungen anwenden, die mehr als zwei Prismen enthalten. Die entsprechende Verallgemeinerung der Gleichung (1) ist:
wobei die Indices c, d die jeweiligen Größen der weiteren Pris­ men bezeichnen. Auch hier gibt es immer eine Lösung, sofern zu­ mindest ein Prisma aus einem Material mit einem anderen Vorzei­ chen des Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex als dem des Materials von anderen Prismen besteht.
In Fig. 6 ist die die Bandbreite begrenzende Anordnung gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung dargestellt. Diese Ausführungsform unterscheidet sich von der in Fig. 1 dargestell­ ten Ausführungsform dadurch, daß die die Bandbreite begrenzende Anordnung zusätzlich zu den beiden Prismen 32 und 34 ein Fabry-Perot-Etalon 40 zwischen dem Prisma 34 und dem Spiegel 12 enthält. Mit dieser Anordnung lassen sich Bandbreiten von 1 pm und weniger erreichen. Die erfindungsgemäße Vorrichtung kann darüber hinaus weitere bandbegrenzende Elemente enthalten, z. B. ein Gitter anstelle des Spiegels 14.
Bei den vorangehend beschriebenen Ausführungsformen war die bandbegrenzende Prismenanordnung in dem Bereich zwischen dem Strahlteiler 20 und dem Spiegel 12 vorgesehen. Dies ist hin­ sichtlich der geringeren Strahlenbelastung und der geringeren Erwärmung vorteilhaft. Grundsätzlich kann eine Prismenanordnung mit einer thermischen Kompensation wie oben beschrieben an jeder Stelle des Strahlengangs des Lasers vorgesehen sein. Dementspre­ chend kann die Erfindung auch bei anderen Laserkonfigurationen als der in Fig. 1 dargestellten realisiert werden, z. B. solchen, die ohne den polarisierenden Strahlteiler 20 arbeiten.

Claims (10)

1. Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung mit
  • - einem Laserresonator, in dem ein laseraktives Medium (10) angeordnet ist,
  • - einer in dem Strahlengang des Lasers angeordneten Gruppe aus mehreren lichtbrechenden wellenlängenselektiven Ele­ menten (32, 34), welche einfallendes Licht jeweils in einem für die Wellenlänge des einfallenden Lichts spezifischen Winkel (γa, γb) ablenken,
    dadurch gekennzeichnet, daß zumindest eines der lichtbrechenden wellenlängenselektiven Ele­ mente (32) einen Brechungsindex aufweist, der mit steigender Temperatur wächst, und zumindest eines dieser Elemente (34) einen Brechungsindex aufweist, der mit steigender Temperatur abnimmt.
2. Laser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einfallswinkel (βa, βb) bei den lichtbrechenden wellenlän­ genselektiven Elementen (32, 34) so eingerichtet sind, daß die Summe der individuellen Ablenkungswinkel (γa, γb) der einzelnen Elemente (32, 34) bei einer vorbestimmten Wellenlänge des ein­ fallenden Lichts unabhängig von strahlungsinduzierten Tempera­ turschwankungen beim Betrieb des Lasers ist.
3. Laser nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein lichtbrechendes wellenlängenselektives Element (32) aus Quarzglas und mindestens ein lichtbrechendes wellen­ längenselektives Element (34) aus CaF₂ besteht.
4. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem laseraktiven Medium (10) und einem der reflektie­ renden Elemente (12) ein Strahlteiler (20) angeordnet ist, wobei die Gruppe von lichtbrechenden wellenlängenselektiven Elementen (32, 34) zwischen dem Strahlteiler (20) und dem reflektierenden Element (12) angeordnet ist.
5. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Gruppe von lichtbrechenden wellenlängenselektiven Elementen Dispersionsprismen enthält.
6. Laser nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß zwei Dispersionsprismen (32, 34) vorgesehen sind und daß die Strahlung im Brewsterwinkel auf das im Strahlengang hintere der beiden Prismen fällt.
7. Laser nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Gruppe von lichtbrechenden wellenlängenselektiven Elementen mindestens ein Brewsterprisma (32) umfaßt.
8. Laser nach einem der Ansprüche 5 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Einfallsflächen der Prismen (32, 34) im wesentlichen vollständig ausgeleuchtet werden.
9. Laser nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß ein Strahlaufweiter (30) vor dem ersten Prisma (32) angeordnet ist.
10. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß im Strahlengang des Lasers vor oder nach der Gruppe von licht­ brechenden wellenlängenselektiven Elementen (32, 34) ein Fa­ bry-Perot-Etalon (40) enthalten ist.
DE19603637A 1996-02-01 1996-02-01 Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung Expired - Fee Related DE19603637C1 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19603637A DE19603637C1 (de) 1996-02-01 1996-02-01 Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
US08/687,793 US5761236A (en) 1996-02-01 1996-07-18 Laser for generating narrow-band radiation
JP9034352A JPH09321370A (ja) 1996-02-01 1997-02-03 狭帯域放射光レーザ
US09/584,420 USRE38039E1 (en) 1996-02-01 2000-06-01 Laser for generating narrow-band radiation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19603637A DE19603637C1 (de) 1996-02-01 1996-02-01 Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19603637C1 true DE19603637C1 (de) 1997-07-31

Family

ID=7784269

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19603637A Expired - Fee Related DE19603637C1 (de) 1996-02-01 1996-02-01 Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung

Country Status (3)

Country Link
US (2) US5761236A (de)
JP (1) JPH09321370A (de)
DE (1) DE19603637C1 (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19915741A1 (de) * 1999-04-07 2000-10-19 Tui Laser Ag Laserresonator für UV-Licht emittierende Laser
DE10204141A1 (de) * 2002-01-29 2003-08-14 Zeiss Carl Laser Optics Gmbh Bandbreiten-Einengungsmodul
WO2013113306A1 (de) * 2012-02-03 2013-08-08 Iai Industrial Systems B.V. Co2-laser mit schneller leistungssteuerung

Families Citing this family (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19603637C1 (de) 1996-02-01 1997-07-31 Lambda Physik Gmbh Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
US5898725A (en) * 1997-01-21 1999-04-27 Cymer, Inc. Excimer laser with greater spectral bandwidth and beam stability
US5835520A (en) * 1997-04-23 1998-11-10 Cymer, Inc. Very narrow band KrF laser
US5856991A (en) * 1997-06-04 1999-01-05 Cymer, Inc. Very narrow band laser
US6137821A (en) * 1997-06-04 2000-10-24 Cymer, Inc. Durable etalon based output coupler
US6028879A (en) * 1997-06-04 2000-02-22 Cymer, Inc. Narrow band laser with etalon based output coupler
US6330261B1 (en) 1997-07-18 2001-12-11 Cymer, Inc. Reliable, modular, production quality narrow-band high rep rate ArF excimer laser
US5978409A (en) * 1998-09-28 1999-11-02 Cymer, Inc. Line narrowing apparatus with high transparency prism beam expander
DE19814199A1 (de) * 1998-03-25 1999-10-07 Las Laser Analytical Systems G Verfahren und Vorrichtung zur abstimmbaren Frequenzkonversion
US6580517B2 (en) 2000-03-01 2003-06-17 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp
US6160832A (en) 1998-06-01 2000-12-12 Lambda Physik Gmbh Method and apparatus for wavelength calibration
US7006541B2 (en) * 1998-06-01 2006-02-28 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp
US6516013B1 (en) 1999-12-20 2003-02-04 Lambda Physik Ag Laser beam monitoring apparatus and method
US6424666B1 (en) 1999-06-23 2002-07-23 Lambda Physik Ag Line-narrowing module for high power laser
US6345065B1 (en) 1998-06-04 2002-02-05 Lambda Physik Ag F2-laser with line selection
US6490307B1 (en) 1999-03-17 2002-12-03 Lambda Physik Ag Method and procedure to automatically stabilize excimer laser output parameters
US6426966B1 (en) 1999-02-10 2002-07-30 Lambda Physik Ag Molecular fluorine (F2) laser with narrow spectral linewidth
US6795473B1 (en) 1999-06-23 2004-09-21 Lambda Physik Ag Narrow band excimer laser with a prism-grating as line-narrowing optical element
US6476987B1 (en) * 1999-08-04 2002-11-05 Lambda Physik Ag Excimer laser with line narrowing
JP2000124531A (ja) * 1998-10-12 2000-04-28 Ushio Sogo Gijutsu Kenkyusho:Kk エキシマレーザ装置
US6785319B1 (en) 1999-01-06 2004-08-31 Komatsu Ltd. Ultraviolet laser device
US6421365B1 (en) 1999-11-18 2002-07-16 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer
US6154470A (en) * 1999-02-10 2000-11-28 Lamba Physik Gmbh Molecular fluorine (F2) laser with narrow spectral linewidth
US6717973B2 (en) 1999-02-10 2004-04-06 Lambda Physik Ag Wavelength and bandwidth monitor for excimer or molecular fluorine laser
US6965624B2 (en) * 1999-03-17 2005-11-15 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6389052B2 (en) 1999-03-17 2002-05-14 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6678291B2 (en) 1999-12-15 2004-01-13 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser
US6327290B1 (en) 1999-02-12 2001-12-04 Lambda Physik Ag Beam delivery system for molecular fluorine (F2) laser
US6157662A (en) * 1999-02-12 2000-12-05 Lambda Physik Gmbh F2 (157nm) laser employing neon as the buffer gas
US6393040B1 (en) 1999-02-24 2002-05-21 Lambda Physik Ag Molecular fluorine (F2) excimer laser with reduced coherence length
US6727731B1 (en) 1999-03-12 2004-04-27 Lambda Physik Ag Energy control for an excimer or molecular fluorine laser
US6298080B1 (en) 1999-03-12 2001-10-02 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser with adjustable bandwidth
US6700915B2 (en) 1999-03-12 2004-03-02 Lambda Physik Ag Narrow band excimer laser with a resonator containing an optical element for making wavefront corrections
US6714577B1 (en) 1999-03-17 2004-03-30 Lambda Physik Ag Energy stabilized gas discharge laser
DE29907349U1 (de) 1999-04-26 2000-07-06 Lambda Physik Gmbh Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
US6785316B1 (en) 1999-08-17 2004-08-31 Lambda Physik Ag Excimer or molecular laser with optimized spectral purity
US6553050B1 (en) 1999-11-18 2003-04-22 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer
US6603788B1 (en) 1999-11-23 2003-08-05 Lambda Physik Ag Resonator for single line selection
US6795456B2 (en) 1999-12-20 2004-09-21 Lambda Physik Ag 157 nm laser system and method for multi-layer semiconductor failure analysis
EP1240694B1 (de) 1999-12-22 2006-11-22 Cymer, Inc. Schmalbandiger laser mit bidirektionaler strahlerweiterung
US6907058B2 (en) 2000-01-25 2005-06-14 Lambda Physik Ag Energy monitor for molecular fluorine laser
US6542243B2 (en) 2000-01-27 2003-04-01 Lambda Physik Ag Resonator optics monitoring method
US7075963B2 (en) 2000-01-27 2006-07-11 Lambda Physik Ag Tunable laser with stabilized grating
US6735232B2 (en) 2000-01-27 2004-05-11 Lambda Physik Ag Laser with versatile output energy
US6941259B2 (en) * 2000-03-01 2005-09-06 Lamda Physik Ag Laser software control system
US6597462B2 (en) 2000-03-01 2003-07-22 Lambda Physik Ag Laser wavelength and bandwidth monitor
US6618403B2 (en) 2000-03-16 2003-09-09 Lambda Physik Ag Method and apparatus for compensation of beam property drifts detected by measurement systems outside of an excimer laser
US20010049618A1 (en) * 2000-03-23 2001-12-06 Rainer Patzel Method for allocating predictable costs for consumable items
JP3858563B2 (ja) * 2000-04-05 2006-12-13 株式会社日立製作所 カーレンズモード同期可能な固体レーザー
WO2001084678A2 (en) 2000-04-18 2001-11-08 Lambda Physik Ag Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers
US6862307B2 (en) * 2000-05-15 2005-03-01 Lambda Physik Ag Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser
US6603789B1 (en) 2000-07-05 2003-08-05 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser with improved beam parameters
US6721345B2 (en) 2000-07-14 2004-04-13 Lambda Physik Ag Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers
US6807205B1 (en) 2000-07-14 2004-10-19 Lambda Physik Ag Precise monitor etalon calibration technique
US6801561B2 (en) 2000-09-25 2004-10-05 Lambda Physik Ag Laser system and method for spectral narrowing through wavefront correction
US6747741B1 (en) 2000-10-12 2004-06-08 Lambda Physik Ag Multiple-pass interferometric device
US6594301B2 (en) * 2001-03-21 2003-07-15 Coherent, Inc. Tunable modelocked ultrafast laser
US6998620B2 (en) * 2001-08-13 2006-02-14 Lambda Physik Ag Stable energy detector for extreme ultraviolet radiation detection
DE10305268B4 (de) * 2003-02-07 2007-04-26 Lpkf Laser & Electronics Ag Laseranordnung mit resonatorinterner Frequenzkonvertierung
US7659529B2 (en) * 2007-04-13 2010-02-09 Cymer, Inc. Method and apparatus for vibration reduction in laser system line narrowing unit wavelength selection optical element

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5150370A (en) * 1989-06-14 1992-09-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Narrow-band laser apparatus

Family Cites Families (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3611436A (en) * 1969-01-24 1971-10-05 Bell Telephone Labor Inc Mode-selective laser using resonant prisms
US3775699A (en) * 1971-02-03 1973-11-27 Ferranti Ltd Laser having a gas-filled fabry-perot etalon mode selector
US3868592A (en) 1973-05-30 1975-02-25 Coherent Radiation Improved tuning apparatus for a dye laser
DE2918863C2 (de) 1979-05-10 1981-07-02 Lambda Physik Gesellschaft zur Herstellung von Lasern mbH & Co KG, 3400 Göttingen Abstimmbarer Laseroscillator
JPH0754376B2 (ja) * 1984-03-30 1995-06-07 株式会社日立製作所 光ディスク装置
JPS61139950A (ja) * 1984-12-10 1986-06-27 Hitachi Ltd 光ヘツド
US4696012A (en) 1985-06-11 1987-09-22 Texas Instruments Incorporated Tunable multiline/multiband laser
US4856018A (en) 1986-01-22 1989-08-08 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Light source for reduced projection
US4829536A (en) 1986-06-09 1989-05-09 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Multi-mode narrow-band oscillation excimer laser
JP2657487B2 (ja) 1987-03-19 1997-09-24 株式会社小松製作所 レーザの波長制御装置および方法
US5081635A (en) 1987-08-25 1992-01-14 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Apparatus for controlling output from an excimer laser device
US4977563A (en) 1987-09-26 1990-12-11 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Laser apparatus
DE3744323C2 (de) 1987-12-28 1999-03-11 Lambda Physik Forschung Verfahren und Vorrichtung zum Stabilisieren der Frequenz eines Laserstrahles
DE3800555A1 (de) 1988-01-12 1989-07-27 Ulrich Dardenne Stiftung Ev Vorrichtung zur ablativen photodekomposition von zahnhartsubstanzen mittels eines eine wellenlaenge von 193 nm emittierenden argon/fluorid-excimer-lasers und einer applikationsvorrichtung fuer dieses laserlicht, sowie verwendung dieser vorrichtung zur zahnbehandlung
WO1989007353A1 (en) 1988-01-27 1989-08-10 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Method and apparatus for controlling narrow-band oscillation excimer laser
US4942583A (en) 1988-06-17 1990-07-17 Hewlett-Packard Company Misalignment-tolerant, grating-tuned external-cavity laser
US4873692A (en) 1988-08-12 1989-10-10 Spectra-Physics Pulsed tunable solid state laser
US4972429A (en) 1988-11-18 1990-11-20 Spectra-Physics, Inc. Achromatic prism beam expander for high magnification and tunable laser using same
JP2531788B2 (ja) 1989-05-18 1996-09-04 株式会社小松製作所 狭帯域発振エキシマレ―ザ
EP0402570B1 (de) 1989-06-14 1998-01-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Schmalband-Laservorrichtung
US5404366A (en) 1989-07-14 1995-04-04 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Narrow band excimer laser and wavelength detecting apparatus
DE4002162C1 (de) 1990-01-25 1991-04-18 Lambda Physik Forschungs- Und Entwicklungsgesellschaft Mbh, 3400 Goettingen, De
US5095492A (en) 1990-07-17 1992-03-10 Cymer Laser Technologies Spectral narrowing technique
US5153887A (en) 1991-02-15 1992-10-06 Krapchev Vladimir B Infrared laser system
US5802094A (en) 1991-11-14 1998-09-01 Kabushiki Kaisha Komatsu Narrow band excimer laser
JPH07120326A (ja) 1993-10-22 1995-05-12 Komatsu Ltd 波長検出装置
US5596456A (en) 1994-02-25 1997-01-21 New Focus, Inc. Achromatic anamorphic prism pair
DE4429898C1 (de) 1994-08-23 1995-11-30 Lambda Physik Gmbh Optischer parametrischer Oszillator
US5559816A (en) 1994-10-26 1996-09-24 Lambda Physik Gesellschaft Zur Herstellung Von Lasern Mbh Narrow-band laser apparatus
US5684822A (en) 1994-11-17 1997-11-04 Cymer, Inc. Laser system with anamorphic confocal unstable resonator
DE19603637C1 (de) 1996-02-01 1997-07-31 Lambda Physik Gmbh Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
US5646954A (en) 1996-02-12 1997-07-08 Cymer, Inc. Maintenance strategy control system and monitoring method for gas discharge lasers
US5657334A (en) 1996-02-15 1997-08-12 Cymer, Inc. External high voltage control for a laser system
DE19619483A1 (de) 1996-05-14 1997-11-20 Lambda Physik Gmbh Abstimmbare schmalbandige Quelle kohärenter Strahlung
JP2920164B2 (ja) 1997-01-17 1999-07-19 サイマー,インコーポレーテッド 複製回折格子のための反射性保護膜
US5898725A (en) 1997-01-21 1999-04-27 Cymer, Inc. Excimer laser with greater spectral bandwidth and beam stability
US5835520A (en) 1997-04-23 1998-11-10 Cymer, Inc. Very narrow band KrF laser
US5852627A (en) 1997-09-10 1998-12-22 Cymer, Inc. Laser with line narrowing output coupler
US5856991A (en) 1997-06-04 1999-01-05 Cymer, Inc. Very narrow band laser
US5901163A (en) 1997-06-04 1999-05-04 Cymer, Inc. Narrow band laser with etalon based output coupler
US5978409A (en) 1998-09-28 1999-11-02 Cymer, Inc. Line narrowing apparatus with high transparency prism beam expander
US5917849A (en) 1997-09-10 1999-06-29 Cymer, Inc. Line narrowing device with double duty grating
US5946337A (en) 1998-04-29 1999-08-31 Lambda Physik Gmbh Hybrid laser resonator with special line narrowing

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5150370A (en) * 1989-06-14 1992-09-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Narrow-band laser apparatus

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1 st International Symposium on 193 nm Lithography, Colorado Springs, 15.-18.8.1995 *
US-Z.: "Journ.Opt.Technol.", 62, (3), März 1995, S. 141-152 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19915741A1 (de) * 1999-04-07 2000-10-19 Tui Laser Ag Laserresonator für UV-Licht emittierende Laser
DE19915741C2 (de) * 1999-04-07 2001-06-07 Tui Laser Ag Laserresonator für UV-Licht emittierende Laser
DE10204141A1 (de) * 2002-01-29 2003-08-14 Zeiss Carl Laser Optics Gmbh Bandbreiten-Einengungsmodul
WO2013113306A1 (de) * 2012-02-03 2013-08-08 Iai Industrial Systems B.V. Co2-laser mit schneller leistungssteuerung

Also Published As

Publication number Publication date
US5761236A (en) 1998-06-02
JPH09321370A (ja) 1997-12-12
USRE38039E1 (en) 2003-03-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19603637C1 (de) Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
EP0048716B1 (de) Laseranordnung
EP0168351B1 (de) Laser-Pattern-Generator und Verfahren zu dessen Betrieb
EP1344105B1 (de) Optischer resonanter frequenzwandler
DE60012420T2 (de) Laser mit verringerter Linienbreite und Raumfilter
DE10029938A1 (de) Optisches System für das Vakuum-Ultraviolett
EP1092175A1 (de) Beleuchtungssystem der mikrolithographie mit depolarisator
DE102012002470A1 (de) CO2-Laser mit schneller Leistungssteuerung
DE19857369C2 (de) Schmalbandiger Excimerlaser und Optik dafür
DE29822090U1 (de) Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
DE60032017T2 (de) Schmalbandiger laser mit bidirektionaler strahlerweiterung
DE112015006769T5 (de) Halbleiterlaservorrichtung
DE19517753A1 (de) Schmalbandige, abstimmbare Quelle kohärenter Strahlung
WO2005083511A2 (de) System zur reduzierung der kohärenz einer laserstrahlung
DE102020116268A1 (de) Fasergekoppelter laser mit variablem strahlparameterprodukt
DE4438283C2 (de) Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
EP3455910A1 (de) Festkörper, laserverstärkungssystem und festkörperlaser
DE2051328B2 (de) Vorrichtung zur wellenlaengenselektion bei breitbandig emittierenden lasern
DE29822082U1 (de) Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
DE3033381A1 (de) Laseranordnung zum erzeugen stabilisierter impulse
DE19700720A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines kohärenten Lichtbündels
EP3652570B1 (de) Polarisatoranordnung und euv-strahlungserzeugungsvorrichtung mit einer polarisatoranordnung
EP0302124A1 (de) Einrichtung zum Projektionskopieren von Masken auf ein Werkstück
EP0497260B2 (de) Laseranordnung
DE102018209602B4 (de) Optische Baugruppe zur Verringerung einer spektralen Bandbreite eines Ausgabestrahls eines Lasers

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of patent without earlier publication of application
D1 Grant (no unexamined application published) patent law 81
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: LAMBDA PHYSIK AG, 37079 GOETTINGEN, DE

8339 Ceased/non-payment of the annual fee