DE29822090U1 - Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung - Google Patents
Laser zur Erzeugung schmalbandiger StrahlungInfo
- Publication number
- DE29822090U1 DE29822090U1 DE29822090U DE29822090U DE29822090U1 DE 29822090 U1 DE29822090 U1 DE 29822090U1 DE 29822090 U DE29822090 U DE 29822090U DE 29822090 U DE29822090 U DE 29822090U DE 29822090 U1 DE29822090 U1 DE 29822090U1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- laser
- wavefront
- laser according
- radiation
- telescope
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 23
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 4
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/139—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/081—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
- H01S3/0811—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection
- H01S3/0812—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection using a diffraction grating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laser Surgery Devices (AREA)
Description
1G-81 274
LAMBDA PHYSIK
LAMBDA PHYSIK
Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
Die Erfindung betrifft einen Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung mit einem laseraktiven Bereich, einem Auskoppelspiegel,
einem Strahlaufweiter und einem wellenlängenselektiven Element,
auf das Strahlung trifft.
Insbesondere betrifft die Erfindung Excimerlaser der vorstehend
genannten Art.
Die Erfindung befaßt sich mit dem Problem, bei einem solchen Laser
möglichst schmalbandige Strahlung mit hoher Stabilität zu erzeugen. Dies ist insbesondere beim Einsatz in der Fotolithographie
zur Erzeugung integrierter Schaltungen wichtig. Hierzu sind Wellenlängen < 2 50 nm erforderlich, um Strukturen mit Abmessungen
< 0,25 &mgr;&idiagr;&eegr; zu erzeugen (für Strukturen mit Abmessungen
< 0,18 &mgr;&idiagr;&eegr; sind Wellenlängen < 200 nm erforderlich). In solchen
Wellenlängenbereichen sind achromatisch abbildende Optiken kaum herstellbar. Deshalb muß die verwendete Strahlung sehr schmalbandig
sein, um die Abbildungsfehler aufgrund der chromatischen Aberration klein zu halten. Im Einsatzbereich der Fotolithographie,
um die es bei der vorliegenden Erfindung insbesondere geht, sind für brechende Abbildungsoptiken Bandbreiten im Bereich
< 0,6 pm akzeptabel.
Eine andere wichtige Strahlungseigenschaft bei solchen Verwendungen
der Strahlung ist die sogenannte spektrale Reinheit. Die spektrale Reinheit der Strahlung kann z.B. durch dasjenige Wellenlängenintervall
angegeben werden, in dem 95 % der gesamten Pulsenergie liegt. Die Bandbreite und in noch höherem Maß die
spektrale Reinheit der Strahlung werden u.a. bestimmt durch die Divergenz &thgr; oder auch durch die Wellenfrontkrümmung R des
Strahls. Fig. 1 zeigt schematisch einen herkömmlichen Excimerlaser
mit einem laseraktiven Bereich 1 (also dem Plasma einer Gasentladung) , einem Auskoppelspiegel 2, einem Strahlaufweiter 3
J, &oacgr;-
« «&ngr;» »&bgr; ·■*
©ie &bgr;· free a &bgr; #'4 *
6 c-, s a « · a■ *■*
„ e 2 a &sfgr; « a a »·* &bgr; '
SSt 88 · » »
s-c-s *# sit s·**« a* 4*
und einem wellenlängenselektiven Element 5 in Form eines Gitters . Das strahlaufweitende Element 3 dient zur Verringerung der
Divergenz und zur Verringerung der Wellenfrontkrümmung vor dem wellenlängenselektiven Element 5. Fig. 2 zeigt schematisch einen
Strahl, wobei der Randstrahl (und Radius) mit R bezeichnet ist. OA ist die optische Achse und &thgr; ist der Divergenzwinkel. Für den
Abstand h des Randpunktes der Wellenfront von der optischen Achse OA gilt ohne Verwendung eines Strahlaufweiters &thgr; = h/R. Dies
ist in Fig. 2 links dargestellt. In Fig. 2 rechts ist der Strahl bei Verwendung eines Strahlaufweiters gezeigt, wobei der Aufweitungsfaktor
M ist. Dann gilt: h' = M · h; &THgr;' = &THgr;/&Mgr;, und R' = M2 · R.
Der Stand der Technik kennt bereits einen Versuch, eine Wellenfrontkrümmung
zu kompensieren (U.S. Patent 5,095,492; R.L. Sandstrom) . Dort wird das Gitter verändert, was jedoch Nachteile
hat, insbesondere hinsichtlich des Ausmaßes, in dem eine Wellenfrontkrümmung korrigiert werden kann. In einer U.S. Patentanmeldung
(Erfinder: D. Basting und S. Govorkov) wird zur Kompensation einer Wellenfrontkrümmung eine zusätzliche Zylinderlinse in
den Laserresonator eingesetzt (U.S. Anmeldung vom 22.6.1998).
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Laser der eingangs
genannten Art so auszugestalten, daß mit einfachen und zuverlässigen Mitteln eine Korrektur der Wellenfrontkrümmung möglich
ist, und weiterhin der Status der WellenfrontverZerrung
kontrolliert werden kann.
Die Erfindung erreicht diese Ziele durch Einrichtungen zum Einstellen
der Wellenfront, also insbesondere zum Korrigieren und Ändern der Wellenfrontkrümmung, wobei die Einrichtungen ein optisches
Element aufweisen, dessen optische Eigenschaften veränderbar sind. Eine solche Einrichtung ist z.B. ein veränderbarer,
insbesondere verformbarer Spiegel.
Eine Variante der Erfindung erreicht die oben genannten Ziele durch Einrichtungen zum Messen einer Wellenfront und zum Abgeben
eines Meßergebnisses sowie durch Einrichtungen zum Einstellen der Wellenfront entsprechend dem Meßergebnis. Diese Ausgestal-
tung der Erfindung eignet sich besonders zur Einrichtung eines geschlossenen Regelkreises, bei dem die Wellenfront durch Messung
jeweils auf einen optimalen Wert, d.h. einen Wert mit möglichst geringer Wellenfrontkrümmung, geregelt wird.
Der Erfindungsgedanke läßt sich also sowohl statisch mit auf für
ein gegebenes Lasersystem optimal (fest) eingestellten optischen Elementen verwirklichen als auch (in einer fortgeschritteneren
Ausgestaltung) dynamisch durch Messung der Wellenfrontkrümmung und entsprechender Einstellung einer Wellenfrontkorrektur, insbesondere
in Form eines Regelkreises.
Die Erfindung ermöglicht also die Herstellung einer Wellenfront mit einer möglichst geringen Krümmung, insbesondere unmittelbar
vor dem Auftreffen auf das wellenlängenselektive Element. Bei
dem wellenlängenselektiven Element kann es sich bevorzugt um ein Gitter handeln, es kommen aber auch andere Einrichtungen in Betracht,
die dem Fachmann bekannt sind.
Bei Verwendung eines ebenen Gitters als wellenlängenselektives Element wird die höchste spektrale Reinheit dann erreicht, wenn
die Wellenfront keine Krümmung aufweist, also sich der Krümmungsradius R' (Fig. 2, rechts) gegen Unendlich nähert. Bei
praktischen Lasersystemen läßt sich eine Wellenfrontkrümmung aus mehreren Gründen nicht vermeiden, so daß die oben genannten erfindungsgemäßen
Korrektureinrichtungen für die Erzeugung schmalbandiger Strahlung erforderlich sind. Die Ursachen der Wellenfrontkrümmung
sind insbesondere darin zu sehen, daß Strahlen, die nicht exakt parallel zur optischen Achse des Lasers verlaufen,
auch in dem Resonator verstärkt werden, daß die optischen Komponenten in aller Regel nicht völlig ebene Oberflächen haben,
daß im Volumen der optischen Komponenten Änderungen des Brechungsindex auftreten können, und daß die Strahlung selbst Änderungen
des Brechungsindex im Volumen der optischen Komponenten erzeugen kann.
Als optisches Element, dessen optische Abbildungseigenschaften zur Korrektur einer Wellenfrontkrümmung veränderbar sind, kommt
bei den oben genannten erfindungsgemäßen Einrichtungen insbesondere
ein Spiegel in Betracht, der verformbar ist.
Weitere bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den abhängigen
Schutzansprüchen beschrieben.
Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der schematischen Zeichnungen erläutert. Es zeigt:
einen herköinin liehen Aufbau eines Excimerlasers;
Laserstrahlen mit hier interessierenden Parametern, wie sie oben erläutert sind, links ohne und rechts mit
Strahlaufweitung,
ein erstes Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen
Lasers;
eine Abwandlung der Einrichtungen zur Wellenfrontkorrektur bei einem Lasersystem gemäß Fig. 3;
Fig. 5 und 6 Beispiele für eine Fernfeld-Intensitätsverteilung/ nämlich ohne Wellenfrontkorrektur (Fig. 5) und mit
Wellenfrontkorrektur (Fig. 6);
Fig. 7 und 8 zeigen beispielhaft gemessene Spektren von Laserstrahlung,
einmal ohne Wellenfrontkorrektur (Fig. 7) und einmal mit Wellenfrontkorrektur (Fig. 8); und
Fig. 9 ein zweites Ausführungsbeispiel eines Lasersystems mit Einrichtungen zur Wellenfrontkorrektur.
In den Figuren haben funktionsgleiche Bauteile die gleichen Bezugszeichen.
Insoweit entsprechen also das laseraktive Medium 1, der Auskoppelspiegel 2, der Strahlaufweiter 3 und das Gitter 5
beim erfindungsgemäßen Lasersystem gemäß Fig. 3 einem herkömmlichen
Aufbau eines Excimerlasers, wie er oben anhand der Fig. 1 erläutert ist. In den Figuren wird der Strahlaufweiter 3 durch
ein einziges Prisma symbolisch angedeutet. Tatsächlich bestehen Strahlaufweiter in der Regel aus z.B. mehreren Prismen.
Das beim Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 3 vom Strahlaufweiter 3
kommende Licht weist also eine gekrümmte Wellenfront auf (Fig. 2, rechts). Dieses Licht wird in eine Einrichtung 4 zum Einstellen
der Wellenfront eingegeben. Die Einrichtung 4 weist einen deformierbaren Spiegel 4a auf, an dem das Licht zum Gitter 5 reflektiert
wird. Weiterhin ist schematisch eine Betätigungsein-
richtung 4b für die Deformierung des Spiegels 4a angedeutet. Bei der Betätigungseinrichtung 4b kann es sich z.B. um eine mechanische
Einrichtung zum Deformieren (Verformen) des Spiegels 4a
handeln oder auch um eine thermische Einrichtung für diesen
Zweck. Z.B. kann damit die Krümmung des Spiegels 4a geändert
werden. Das Gitter 5 selektiert Wellenlängen und reflektiert nur einen schmalbandigen Bereich zurück zum Spiegel 4a. Die Strahlung
gelangt dann wieder zurück zum Strahlaufweiter 3, wo die
Strahlbreite komprimiert wird. Danach passiert die Strahlung
wieder die Gasentladungskammer 1 und das laseraktive Medium und
wird dort weiter verstärkt. Ein (geringer) Teil der Strahlung
wird mittels eines Strahlteilers 6a in Fig. 3 nach oben abgelenkt.
Der Strahlteiler 6a ist Teil einer Einrichtung 6 zum Ermitteln
der Wellenfront-Krümmung. Nach Fokussierung durch eine
Linse 6b aus Schmelzquarz, gelangt die abgezweigte Strahlung auf einen Festkörperbildsensor 6c (z.B. ein CCD-Array). Die Linse 6b hat eine Brennweite f und der Festkörperbildsensor 6c ist in der Brennebene der Linse angeordnet. Der Festkörperbildsensor 6c ermittelt die Fernfeld-Intensitätsverteilung des Strahlungsfeldes
im Laserresonator. Die Einrichtung 6 ermittelt also eine Kenngröße
für die Qualität der Wellenfront. Soll die Winkelvergrößerung noch verstärkt werden, kann ein zusätzlicher Strahl-Komprimierer im Strahlengang zwischen dem Strahlteiler 6a und der Linse 6b angeordnet werden.
handeln oder auch um eine thermische Einrichtung für diesen
Zweck. Z.B. kann damit die Krümmung des Spiegels 4a geändert
werden. Das Gitter 5 selektiert Wellenlängen und reflektiert nur einen schmalbandigen Bereich zurück zum Spiegel 4a. Die Strahlung
gelangt dann wieder zurück zum Strahlaufweiter 3, wo die
Strahlbreite komprimiert wird. Danach passiert die Strahlung
wieder die Gasentladungskammer 1 und das laseraktive Medium und
wird dort weiter verstärkt. Ein (geringer) Teil der Strahlung
wird mittels eines Strahlteilers 6a in Fig. 3 nach oben abgelenkt.
Der Strahlteiler 6a ist Teil einer Einrichtung 6 zum Ermitteln
der Wellenfront-Krümmung. Nach Fokussierung durch eine
Linse 6b aus Schmelzquarz, gelangt die abgezweigte Strahlung auf einen Festkörperbildsensor 6c (z.B. ein CCD-Array). Die Linse 6b hat eine Brennweite f und der Festkörperbildsensor 6c ist in der Brennebene der Linse angeordnet. Der Festkörperbildsensor 6c ermittelt die Fernfeld-Intensitätsverteilung des Strahlungsfeldes
im Laserresonator. Die Einrichtung 6 ermittelt also eine Kenngröße
für die Qualität der Wellenfront. Soll die Winkelvergrößerung noch verstärkt werden, kann ein zusätzlicher Strahl-Komprimierer im Strahlengang zwischen dem Strahlteiler 6a und der Linse 6b angeordnet werden.
Das vom Festkörperbildsensor 6c gelieferte elektrische Meßsignal bezüglich der Fernfeld-Intensitätsverteilung (und damit bezüglich
der Wellenfront-Krümmung) wird an eine Steuerung 7 gegeben, die wiederum mittels eines Rechners die Daten auswertet und entsprechend der erforderlichen Korrektur der Wellenfront die Betätigungseinrichtung 4b so beaufschlagt, daß der Spiegel 4a verformt
wird, bis die mit der Einrichtung 6 gemessene Wellenfront-Krümmung einen optimalen (minimalen) Wert hat. Hierzu können
z.B. die gemessenen Werte des Festkörperbildsensors mit im Rechner der Einrichtung 7 gespeicherten Werten verglichen werden.
Für die Steuerung der Einstelleinrichtung 4 eignet sich insbesondere
die Fernfeld-Intensitätsverteilung auf der Achse. Die
Einstelleinrichtung 4, also beim Ausführungsbeispiel der verformbare
Spiegel 4a, wird so verformt, daß die Fernfeld-Inten-
der Wellenfront-Krümmung) wird an eine Steuerung 7 gegeben, die wiederum mittels eines Rechners die Daten auswertet und entsprechend der erforderlichen Korrektur der Wellenfront die Betätigungseinrichtung 4b so beaufschlagt, daß der Spiegel 4a verformt
wird, bis die mit der Einrichtung 6 gemessene Wellenfront-Krümmung einen optimalen (minimalen) Wert hat. Hierzu können
z.B. die gemessenen Werte des Festkörperbildsensors mit im Rechner der Einrichtung 7 gespeicherten Werten verglichen werden.
Für die Steuerung der Einstelleinrichtung 4 eignet sich insbesondere
die Fernfeld-Intensitätsverteilung auf der Achse. Die
Einstelleinrichtung 4, also beim Ausführungsbeispiel der verformbare
Spiegel 4a, wird so verformt, daß die Fernfeld-Inten-
sitätsverteilung auf der Achse ein Maximum hat. Diese Einstellung
wird automatisch durch den Rechner der Steuerung 7 durchgeführt.
Die Fig. 5 und 6 zeigen Meßergebnisse. In den Figuren ist die Intensität (in willkürlichen Einheiten) über der Wellenlänge
aufgetragen. Gemessen ist die Intensitätsverteilung im Fernfeld. Fig. 5 zeigt deutlich die Aufspaltung dieser Intensitatsverteilung
mit zwei Spitzen (peaks). Diese Aufspaltung wird durch die starke Wellenfrontstörung, insbesondere im Strahlaufweiter, verursacht.
Fig. 6 zeigt die Meßergebnisse nach Korrektur der WeI-lenfrontkrüminung
mittels der Korrektureinrichtungen 6 und 4, die anhand der Fig. 3 erläutert wurden. Die Aufspaltung der Intensitätsverteilung
ist im wesentlichen verschwunden, was anzeigt, daß die Wellenfront-Krümmung im wesentlichen zum Verschwinden
gebracht worden ist durch Einstellung des Spiegels 4a.
Die Fig. 7 und 8 zeigen die gemessenen Spektren ohne Kompensation der Wellenfrontkrüitimung (Fig. 7) und mit Kompensation der
Wellenfrontkrümmung (Fig. 8). Auf Grund der fehlenden Wellenfrontkorrektur zeigt das Spektrum von Fig. 7 eine Aufteilung der
spektralen Verteilung in zwei getrennte Frequenzen.
Fig. 9 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Lasersystems mit Korrektur der Wellenfront-Krümmung. Bei diesem Ausführungsbeispiel
ist ein Teleskop 41 (z.B. vom Cassegrain-Typ) gleichzeitig
Teil des Strahlaufweiters und Einrichtung zum Korrigieren einer Wellenfront-Krümmung. Das Teleskop 41 weist zwei hochreflektierende
Spiegel 4a1, 4b· auf, mit jeweils elliptisch geformten Oberflächen. Das Teleskop 4' hat zwei Funktionen: Zum
einen bewirkt es eine StrahlaufWeitung in Richtung senkrecht zu
den Ritzen des Gitters 5 und zum anderen bewirkt es eine Wellenfrontkorrektur (Begradigung der Wellenfront-Krümmung). Die WeI-lenfrontkorrektur
kann durch Einstellen des Abstandes d zwischen den beiden Spiegeln 4a1 und 4b' vorgenommen werden. Im Strahlengang
zwischen dem Teleskop 4■ ist ein weiterer Strahlaufweiter 3
schematisch dargestellt. Die übrigen Bauteile sind mit gleichen Bezugszeichen anhand der Fig. 3 oben erläutert.
2027/24
Claims (14)
1. Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung mit einem laseraktiven
Bereich (1), einem Auskoppelspiegel (2), einem
Strahlaufweiter (3) und einem wellenlängenselektiven Element
(5), auf das Strahlung trifft, gekennzeichnet durch Einrichtungen (6) zum Messen einer von der Wellenfront der Strahlung abhängigen
Größe und zum Abgeben eines Meßergebnisses, und Einrichtungen
(4, 7) zur Korrektur der Wellenfront in Abhängigkeit von dem Meßergebnis.
Strahlaufweiter (3) und einem wellenlängenselektiven Element
(5), auf das Strahlung trifft, gekennzeichnet durch Einrichtungen (6) zum Messen einer von der Wellenfront der Strahlung abhängigen
Größe und zum Abgeben eines Meßergebnisses, und Einrichtungen
(4, 7) zur Korrektur der Wellenfront in Abhängigkeit von dem Meßergebnis.
2. Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung mit einem laseraktiven
Bereich (1), einem Auskoppelspiegel (2), einem
Strahlaufweiter (3) und einem wellenlängenselektiven Element
(5), auf das Strahlung trifft, gekennzeichnet durch eine Einrichtung
(4a) zur Korrektur der Wellenfront, die auf das wellenlängenselektive Element (5) auftrifft, wobei die Einstelleinrichtung
(4a) hinsichtlich ihrer optischen Eigenschaften veränderbar ist.
Strahlaufweiter (3) und einem wellenlängenselektiven Element
(5), auf das Strahlung trifft, gekennzeichnet durch eine Einrichtung
(4a) zur Korrektur der Wellenfront, die auf das wellenlängenselektive Element (5) auftrifft, wobei die Einstelleinrichtung
(4a) hinsichtlich ihrer optischen Eigenschaften veränderbar ist.
3. Laser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen
zum Korrigieren der Wellenfront ein in seinen optischen
Eigenschaften veränderbares Element (4a) enthalten.
Eigenschaften veränderbares Element (4a) enthalten.
4. Laser nach einem der Ansprüche 2 oder 3 , dadurch gekennzeichnet,
daß das veränderbare Element (4a) verformbar ist.
daß das veränderbare Element (4a) verformbar ist.
5. Laser nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das veränderbare
Element (4a) ein Spiegel ist.
6. Laser nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß das veränderbare Element (4a) im Strahlengang zwischen zumindest einem Element (3; 3a) des Strahlaufweiters und
dem wellenlängenselektiven Element (5) angeordnet ist.
daß das veränderbare Element (4a) im Strahlengang zwischen zumindest einem Element (3; 3a) des Strahlaufweiters und
dem wellenlängenselektiven Element (5) angeordnet ist.
7. Laser nach einem der Ansprüche 1 oder 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die Einrichtungen (6) zum Messen der Wellenfront einen Festkörper-Bildsensor (6c) aufweisen.
8. Laser nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen
(6) zum Messen der Wellenfront fokussierende optische Mittel (6b) aufweisen und daß der Festkörper-Bildsensor (6c) in
der Fokusebene der abbildenden Elemente liegt.
9. Laser gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei der
Meßeinrichtung (6) als Maß für die Wellenfrontkorrektur die Amplitude im Zentrum der Fernfeld-Intensitätsverteilung genutzt
wird.
10. Laser gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen (41) zum Einstellen der Wellenfront ein Teleskop
(4a1, 4b') aufweisen, insbesondere ein Cassegrain-Teleskop.
11. Laser nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Wellenfront durch Einstellung eines Abstandes (d) von Elementen
(4a1, 4b1) des Teleskops (41) einstellbar ist.
12. Laser nach einem der Ansprüche 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet,
daß das Teleskop Spiegel (4a1, 4b1) aufweist zum Reflektieren
des Strahlenganges des Lasers und daß die Spiegel entsprechend einem Kegelschnitt geformt sind, insbesondere parabolisch,
elliptisch oder hyperbolisch.
13. Laser nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet,
daß zumindest ein Spiegel des Teleskops deformierbar ist.
14. Laser nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß er ein Excimerlaser ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE29822090U DE29822090U1 (de) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE29822090U DE29822090U1 (de) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE29822090U1 true DE29822090U1 (de) | 1999-02-11 |
Family
ID=8066489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE29822090U Expired - Lifetime DE29822090U1 (de) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE29822090U1 (de) |
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6381256B1 (en) | 1999-02-10 | 2002-04-30 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm |
US6421365B1 (en) | 1999-11-18 | 2002-07-16 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
US6424666B1 (en) | 1999-06-23 | 2002-07-23 | Lambda Physik Ag | Line-narrowing module for high power laser |
US6463086B1 (en) | 1999-02-10 | 2002-10-08 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm |
US6522681B1 (en) | 1999-04-26 | 2003-02-18 | Lambda Physik Ag | Laser for the generation of narrow band radiation |
US6546037B2 (en) | 1999-02-10 | 2003-04-08 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm |
US6553050B1 (en) | 1999-11-18 | 2003-04-22 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
US6577665B2 (en) | 1999-04-07 | 2003-06-10 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser |
US6577663B2 (en) | 2000-06-19 | 2003-06-10 | Lambda Physik Ag | Narrow bandwidth oscillator-amplifier system |
US6580517B2 (en) | 2000-03-01 | 2003-06-17 | Lambda Physik Ag | Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp |
US6597462B2 (en) | 2000-03-01 | 2003-07-22 | Lambda Physik Ag | Laser wavelength and bandwidth monitor |
US6603789B1 (en) | 2000-07-05 | 2003-08-05 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser with improved beam parameters |
US6603788B1 (en) | 1999-11-23 | 2003-08-05 | Lambda Physik Ag | Resonator for single line selection |
US6608848B2 (en) | 1998-06-01 | 2003-08-19 | Lambda Physik Ag | Method and apparatus for wavelength calibration |
US6700915B2 (en) | 1999-03-12 | 2004-03-02 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer laser with a resonator containing an optical element for making wavefront corrections |
US6721345B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-04-13 | Lambda Physik Ag | Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers |
US6735232B2 (en) | 2000-01-27 | 2004-05-11 | Lambda Physik Ag | Laser with versatile output energy |
US6747741B1 (en) | 2000-10-12 | 2004-06-08 | Lambda Physik Ag | Multiple-pass interferometric device |
US6795473B1 (en) | 1999-06-23 | 2004-09-21 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer laser with a prism-grating as line-narrowing optical element |
US6801561B2 (en) | 2000-09-25 | 2004-10-05 | Lambda Physik Ag | Laser system and method for spectral narrowing through wavefront correction |
US6807205B1 (en) | 2000-07-14 | 2004-10-19 | Lambda Physik Ag | Precise monitor etalon calibration technique |
US6834066B2 (en) | 2000-04-18 | 2004-12-21 | Lambda Physik Ag | Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers |
US6941259B2 (en) | 2000-03-01 | 2005-09-06 | Lamda Physik Ag | Laser software control system |
US7006541B2 (en) | 1998-06-01 | 2006-02-28 | Lambda Physik Ag | Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp |
-
1998
- 1998-12-10 DE DE29822090U patent/DE29822090U1/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7006541B2 (en) | 1998-06-01 | 2006-02-28 | Lambda Physik Ag | Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp |
US6608848B2 (en) | 1998-06-01 | 2003-08-19 | Lambda Physik Ag | Method and apparatus for wavelength calibration |
US6490306B2 (en) | 1999-02-10 | 2002-12-03 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm |
US6463086B1 (en) | 1999-02-10 | 2002-10-08 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm |
US6381256B1 (en) | 1999-02-10 | 2002-04-30 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm |
US6546037B2 (en) | 1999-02-10 | 2003-04-08 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm |
US6700915B2 (en) | 1999-03-12 | 2004-03-02 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer laser with a resonator containing an optical element for making wavefront corrections |
US6577665B2 (en) | 1999-04-07 | 2003-06-10 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser |
US6522681B1 (en) | 1999-04-26 | 2003-02-18 | Lambda Physik Ag | Laser for the generation of narrow band radiation |
US6560254B2 (en) | 1999-06-23 | 2003-05-06 | Lambda Physik Ag | Line-narrowing module for high power laser |
US6424666B1 (en) | 1999-06-23 | 2002-07-23 | Lambda Physik Ag | Line-narrowing module for high power laser |
US6795473B1 (en) | 1999-06-23 | 2004-09-21 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer laser with a prism-grating as line-narrowing optical element |
US6567451B2 (en) | 1999-11-18 | 2003-05-20 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
US6553050B1 (en) | 1999-11-18 | 2003-04-22 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
US6516012B2 (en) | 1999-11-18 | 2003-02-04 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
US6421365B1 (en) | 1999-11-18 | 2002-07-16 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
US6603788B1 (en) | 1999-11-23 | 2003-08-05 | Lambda Physik Ag | Resonator for single line selection |
US6678291B2 (en) | 1999-12-15 | 2004-01-13 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser |
US6735232B2 (en) | 2000-01-27 | 2004-05-11 | Lambda Physik Ag | Laser with versatile output energy |
US6597462B2 (en) | 2000-03-01 | 2003-07-22 | Lambda Physik Ag | Laser wavelength and bandwidth monitor |
US6580517B2 (en) | 2000-03-01 | 2003-06-17 | Lambda Physik Ag | Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp |
US6941259B2 (en) | 2000-03-01 | 2005-09-06 | Lamda Physik Ag | Laser software control system |
US6834066B2 (en) | 2000-04-18 | 2004-12-21 | Lambda Physik Ag | Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers |
US6577663B2 (en) | 2000-06-19 | 2003-06-10 | Lambda Physik Ag | Narrow bandwidth oscillator-amplifier system |
US6603789B1 (en) | 2000-07-05 | 2003-08-05 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser with improved beam parameters |
US6721345B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-04-13 | Lambda Physik Ag | Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers |
US6807205B1 (en) | 2000-07-14 | 2004-10-19 | Lambda Physik Ag | Precise monitor etalon calibration technique |
US6801561B2 (en) | 2000-09-25 | 2004-10-05 | Lambda Physik Ag | Laser system and method for spectral narrowing through wavefront correction |
US6747741B1 (en) | 2000-10-12 | 2004-06-08 | Lambda Physik Ag | Multiple-pass interferometric device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE29822090U1 (de) | Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung | |
DE19603637C1 (de) | Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung | |
DE10043269C2 (de) | Diodengepumpter Laserverstärker | |
DE19980508B4 (de) | Verfahren zur resonanten Frequenzkonversion von Laserstrahlung und Vorrichtung zur Resonanzverstärkung | |
DE19950124A1 (de) | Molekularfluor (F¶2¶)-Laser mit schmaler spektraler Linienbreite | |
DE112011101288T5 (de) | Strahldiagnostik- und Rückkopplungssystem sowie Verfahren für spektralstrahlkombinierteLaser | |
DE4139032A1 (de) | Wellenlaengenstabilisator fuer schmalbandlaser | |
DE3935081A1 (de) | Lasergeraet und verfahren zur steuerung | |
US9158117B2 (en) | Spectra shaping device for chirped pulse amplification | |
DE60012420T2 (de) | Laser mit verringerter Linienbreite und Raumfilter | |
DE60020069T2 (de) | Verstimmbare Laserquelle | |
DE3813572A1 (de) | Laser | |
WO2009133477A1 (zh) | 用于啁啾脉冲放大***的光谱整形调制方法 | |
DE60032017T2 (de) | Schmalbandiger laser mit bidirektionaler strahlerweiterung | |
DE3750483T2 (de) | Optisches System für ein Halbleiterlaserbündel. | |
DE3614639C2 (de) | ||
EP2689285B1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur aufweitung eines laserstrahls | |
WO2021209434A1 (de) | Vorrichtung zur spektralen verbreiterung von laserpulsen und optisches system | |
DE102019131827B4 (de) | Frequenzkonversionsanordnung zur Optimierung von Eigenschaften einer Harmonischen eines Lasers | |
DE3939551A1 (de) | Optisches positionierungssystem fuer mindestens einen bildpunkt | |
DE102018109405B3 (de) | Pulslängenanpassungseinheit, Lasersystem und Verfahren zur Pulslängenanpassung eines Laserpulses | |
WO2001022541A1 (de) | Diodengepumpter laser mit interner frequenzverdopplung | |
US20220404543A1 (en) | Devices, systems, and methods for temporal compression or stretching of optical pulses | |
DE29822082U1 (de) | Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung | |
EP1540785B1 (de) | Halbleiterlaservorrichtung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R207 | Utility model specification |
Effective date: 19990325 |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: LAMBDA PHYSIK AG, DE Free format text: FORMER OWNER: LAMBDA PHYSIK GESELLSCHAFT ZUR HERSTELLUNG VON LASERN MBH, 37079 GOETTINGEN, DE Effective date: 20010219 |
|
R150 | Utility model maintained after payment of first maintenance fee after three years |
Effective date: 20020211 |
|
R151 | Utility model maintained after payment of second maintenance fee after six years |
Effective date: 20050207 |
|
R158 | Lapse of ip right after 8 years |
Effective date: 20070703 |