CZ289572B6 - Skleněný výrobek - Google Patents
Skleněný výrobek Download PDFInfo
- Publication number
- CZ289572B6 CZ289572B6 CZ19931735A CZ173593A CZ289572B6 CZ 289572 B6 CZ289572 B6 CZ 289572B6 CZ 19931735 A CZ19931735 A CZ 19931735A CZ 173593 A CZ173593 A CZ 173593A CZ 289572 B6 CZ289572 B6 CZ 289572B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- layer
- oxide
- glass
- tin oxide
- silicon oxide
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2453—Coating containing SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/23—Mixtures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/91—Coatings containing at least one layer having a composition gradient through its thickness
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
- C03C2218/1525—Deposition methods from the vapour phase by cvd by atmospheric CVD
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
Sklen n² v²robek tvo°en² sklen n²m substr tem a alespo jednou vrstvou, kter² obsahuje alespo jednu vrstvu na b zi oxid c nu/oxid k°em ku z skanou ulo en m p°inejmen m jedn vrstvy na b zi oxid c nu/oxid k°em ku na sklen n m substr tu p°i atmosf rick m tlaku rychlost ukl d n v t ne asi 35,0 nm/sekundu za pou it prekurzoru oxidu c nu a prekurzoru oxidu k°em ku, urychlova e vybran ho ze skupiny zahrnuj c organick fosfity, organick bor ty a sm si t chto l tek, a vody a zdroje kysl ku, p°i em tato vrstva m kontrolovan² index lomu, a uveden prvn vrstva obsahuje oxid c nu, oxid k°em ku a oxidy fosforu. T mto se dos hne specifick²ch vlastnost , jako je nap° klad kontrolovan emisn schopnost, index lomu, odolnost v i abrazi a vzhled.\
Description
Oblast techniky
Vynález se týká skleněného výrobku. Konkrétně je možno uvést, že se uvedený vynález týká povlaků uložených při vysokých rychlostech ukládání na skleněném substrátu, přičemž takto uložený povlak má kontrolovaný index lomu, zlepšené charakteristiky pokud se týče emisní schopnosti a/nebo vzhledu a odolnosti proti abrazi při současné možnosti vhodného doplnění nebo zlepšení dalších vlastností.
Dosavadní stav techniky
Podle dosavadního stavu techniky je známo, že transparentní polovodivé vrstvy, jako jsou například povlaky na bázi oxidu india, cíničitanu kadmia nebo dotovaného oxidu cínu, je možno aplikovat na různé transparentní substráty, jako jsou například různé druhy sodnovápenatého skla, přičemž účelem je dosažení odrazu infračerveného záření s dlouhou vlnovou délkou. Rovněž je známo aplikování transparentních dielektrických povlaků, jako jsou například povlaky na bázi oxidu titaničitého nebo nedotovaného oxidu cínu, na transparentní výrobky, jako jsou například skleněné láhve, za účelem vytvoření základního povlaku pro druhý povlak se specifickými funkcemi. Podle toho jakou tloušťku má tento polovodivý nebo dielektrický povlak je možno pozorovat různé odražené iridescentní barvy (neboli měňavé, duhové zabarvení). Tento iridescentní efekt je považován za negativní jev při posuzování vzhledu konečného skleněného výrobku, jako jsou například tabule skla do oken s malou emisní schopností nebo láhve sloužící jako obaly pro potraviny nebo nápoje.
Z dosavadního stavu techniky jsou známy různé postupy povlékání skleněných substrátů, a zejména postupy kontinuálního vytváření povlaků na pohybujícím se skleněném substrátu, a zařízení k provádění těchto postupů. Popis jednoho takového zařízení, které je vhodné pro přípravu potažených skleněných výrobků, je možno nalézt v patentu Spojených států amerických č. 4 928 627, jehož autorem je Lindner, který je zde uveden jako odkaz na dosavadní stav techniky.
Až dosud byly vyvinuty různé metody potlačení nebo eliminování této iridescence. Pro aplikace na substráty s malou emisní schopností byl vyvinut postup podle patentu Spojených států amerických 3 378396, autor Zaromb, podle kterého se na výrobku tvořené transparentním skleněným substrátem aplikuje povlak oxidu cínu a křemíku, přičemž složení tohoto povlaku se postupně mění počínaje vysokým poměrem oxidu křemíku k oxidu cínu na povrchu substrátu s postupnou změnou na téměř čistý oxid cínu a s dále probíhající změnou na poměr maximálně 60 % oxidu křemíku k minimálně 40 % oxidu cínu na mezifázovém rozhraní tohoto povlaku s okolní atmosférou. Index lomu tohoto povlaku v blízkosti substrátu je asi 1,5, což v podstatě odpovídá indexu lomu křemičitanového skla, přičemž hodnota tohoto indexu lomu se mění na přibližně 2,0, což odpovídá indexu lomu oxidu cínu, na mezifázovém rozhraní s okolním vzduchem za vzniku mezilehlé povlakové vrstvy bez optického rozhraní. Výroby opatřené touto vrstvou mají malou nebo vůbec žádnou iridescenci v odraženém světle. V tomto patentu se uvádí, že k vytvoření povlaků tohoto typu je možno použít vodných roztoků chloridů cínu a křemíku, které se na dané substráty aplikují postřikem. Tato aplikace pomocí postřiku představuje obvykle vsázkový postup, který neposkytuje vysoce kvalitní stejnoměrnou vrstvu. V uvedeném patentu není žádná zmínka o jiných metodách aplikace, jako je například ukládání chemických par (které je označováno jako CVD-postup). Rovněž v tomto patentu není žádná zmínka o rychlosti ukládání, což představuje klíčový parametr při aplikaci těchto postupů v průmyslovém měřítku.
Další možné řešení tohoto problému je uvedeno v patentu Spojených států amerických č. 4 187 336. Podle tohoto patentu se vytvoří jedna nebo více vrstev transparentního materiálu
-1 CZ 289572 B6 s indexem lomu ležícím mezi hodnotou indexu lomu skleněného substrátu a hodnotu indexu lomu vodivé vrstvy oxidu cínu, přičemž tato vrstva nebo vrstvy se vytvoří nanášením postupem ukládání chemických par (CVD-postup) za atmosférického tlaku mezi sklo a uvedený film oxidu cínu. K tomu, aby toto řešení bylo účinné, je pro tyto mezilehlé vrstvy nezbytné, aby měly specifické hodnoty indexu lomu tloušťky. V této souvislosti je třeba poznamenat, že v případě, kdy tyto mezilehlé vrstvy obsahují oxid křemičitý, podle uvedeného patentu bylo zjištěno, že vhodnými těkavými sloučeninami jsou silan, dimethylsilan, diethylsilan, tetramethylsilan a halogenidy křemíku. Žádné jiné další prekurzory nejsou v uvedeném patentu zmiňovány. Dosahované rychlosti ukládání při provádění tohoto postupu se pohybují v hranicích od 1 do 2 nm za sekundu. Hodnoty těchto rychlostí ukládání leží pod hranicí, která je nezbytná pro aplikaci v průmyslovém měřítku.
V patentu Spojených států amerických č. 4 206 252, jehož autorem je Gordon, se popisuje postup ukládání směsných oxidových a nitridových povlakových vrstev s postupně se měnící hodnotou indexu lomu mezi skleněným substrátem a vrstvou odrážející infračervené záření, čímž se eliminuje iridescence tohoto filmu. V případě, kdy část tohoto směsného oxidového filmu tvoří oxid křemičitý, navrhuje se použít jako vhodných prekurzorů podle uvedeného patentu těkavých sloučenin křemíku s vazbami Si-Si a Si-H. Konkrétně se v tomto patentu uvádí použití takových sloučenin jako je 1,1,2,2-tatramethyldisilan, 1,1,2-trimethyldisilan a 1,2-dimethyldisilan. Všechny uvedené sloučeniny, které obsahují Si-S a Si-H vazby, představují drahé látky, přičemž žádná z těchto látek není běžně na trhu dostupná.
V patentu Spojených států amerických č. 4 386 117, jehož autorem je Gordon, se popisuje postup přípravy směsných povlaků na bázi oxid křemíku/oxid cínu se specifickými hodnotami indexů lomu nebo se stálým gradientem této hodnoty, jak je to rovněž uváděno ve výše uvedeném patentu Spojených států amerických č. 3 378 396, jehož autorem je Zaromb, přičemž postup vytváření těchto povlaků se provádí s optimální rychlostí ukládání v rozmezí od 8,0 do 12,5 nm/s a používá se při něm alkoxyperalkylpolysilanových prekurzorů, jako je například methoxypemtamethyldisilan nebo dimethoxytetramethyldisilan. I pro toto řešení platí, že křemičitanové prekurzory uváděné nebo naznačované v tomto patentu jsou pro praktické účely v průmyslovém měřítku nepoužitelné, neboť nejsou běžně na trhu ve velkém rozsahu dostupné.
V patentu Spojených států amerických č. 5 028 566, jehož autorem je Lagendijk, se ve sloupci 4 uvádí, že použití tetraethylorthokřemičitanu (TEOS) má celou řadu nevýhod při nanášení na substrát metodou ukládání chemických par (CVD-postup) za nízkého tlaku, to znamená při tlaku asi 66,5 Pa. Mezi tyto nevýhody patří obtíže při dotování získaného konečného povlaku fosforem a problémy s kontrolováním uvolňování této látky ze zdroje vzhledem k nízkému tlaku par této látky (TEOS). V tomto patentu rovněž autor uvádí, že snahy provádět tento proces zcela v kapalné fázi za účelem přípravy borokřemičitanového skla byly úspěšné pouze částečně. Kromě toho je třeba uvést, že autor nebere v úvahu dotační účinek a jeho rozdíly u celé řady sloučenin fosforu, bóru, antimonu, arsenu a chrómu, ale pouze používá sloučeniny křemíku, které neobsahují vazby uhlík-kyslík-křemík, se dvěma a více atomy křemíku.
Při aplikacích těchto druhů povlaků na láhve při tak malých tloušťkách těchto vrstev, to znamená asi 10,0 nm, není ani iridescence možná. Kromě toho je třeba uvést, že tyto vrstvy jsou nespojité, přičemž nespojitost těchto vrstev způsobuje, že není vhodné použít této metody na jiné aplikace. Jedním z řešení jak odstranit tuto nespojitost je ukládat tyto filmy v silnějších vrstvách a použít látku s hodnotou indexu lomu blízkou hodnotě indexu lomu daného výrobku, na který se tato vrstva aplikuje. V těchto případech by ale bylo vhodné ukládat směsný materiál na bázi oxid kovu/oxid křemíku s podstatně vyšší rychlostí, než jak tomu bylo až dosud, což bude ještě diskutováno v dalším textu.
Všechny silany citované v publikacích podle dosavadního stavu techniky pro přípravu směsných povlaků na bázi oxid kovu/oxid křemičitý mají určité vlastnosti, které způsobují, že jsou tyto látky nevhodné pro běžné průmyslové použití v širším měřítku. Některé z těchto látek jsou
-2CZ 289572 B6 značně korozivní, zápalné nebo citlivé na kyslík, což znamená, že vyžadují speciální zacházení. Jiné z těchto látek zase nejsou snadno dostupné nebo jsou příliš drahé pro průmyslové použití. U látek, které je možno použít, spočívají největší problémy, které omezují jejich použití ve větším průmyslovém rozsahu pro vytváření směsných vrstev na bázi oxid kovu/oxid křemíku a/nebo oxynitridových mezilehlých vrstev, zase v tom, že s těmito látkami není možno dosáhnout odpovídající rychlosti ukládání. V případech, kdy je daným substrátem ploché sklo a použitým postupem ukládání je metoda ukládání chemických par při okolním tlaku, rychlost ukládání mezilehlých vrstev musí být dostatečně vysoká aby bylo dosaženo potažení pásu skla pohybujícího se nepřetržitě pracujícím výrobním zařízení poměrně vysokou rychlostí až asi 15 metrů za minutu. Pokud se týče rychlosti ukládání požadovaných vrstev, potom je možno uvést, že vhodná rychlost je asi 35,0 nm za sekundu, přičemž výhodné rychlosti ukládání se pohybují v rozmezí od 40,0 do 60,0nm za sekundu. Těchto rychlostí ukládání nebylo zatím za podmínek provádění kontinuální průmyslové výroby skla s požadovanými vlastnostmi dosaženo.
K překonání těchto problémů uvedených výše by bylo zapotřebí navrhnout takové prekurzory křemíku, které nejsou drahé, které jsou snadno dostupné, se kterými se snadno manipuluje a pomocí kterých je možno dosáhnout odpovídajících požadovaných rychlostí ukládání po jejich odpaření společně s prekurzory oxidů kovů. Pro tyto účely by mohlo být vhodné použití alkoxysilanu, jako je například tetraethylorthokřemičitan (TEOS), neboť tyto látky představují běžně na trhu dostupné chemikálie. Ovšem podle dosavadního stavu techniky nebylo až dosud možno dosáhnout takové rychlosti ukládání vrstev na bázi oxidu křemíku z tetraethylorthokřemičitanu (TEOS) postupem nanášení chemických par při atmosférickém tlaku (metoda CVD), která by byla přijatelné z hlediska průmyslového využití, stou výjimkou, kdy se k dosažení daného cíle používá teplot 700 °C nebo teplot ještě vyšších. Určitých úspěchů bylo dosaženo při teplotách pohybujících se v rozsahu od asi 450 °C do asi 680 °C, ovšem pouze za současného modifikování atmosférického tlaku při tomto procesu ukládání chemických par (CVD-metoda) pomocí podpory tvorby plasmatu nebo sníženého tlaku, přičemž žádný z těchto způsobů není vhodný pro průmyslové použití při aplikaci na pohybující se kontinuální pás skla. Při provádění těchto modifikovaných postupů bylo rovněž použito aditiv, jako je například kyslík, ozón nebo trimethylfosfit, ovšem dosahované rychlosti ukládání byly stále ještě nižší, než rychlosti požadované pro účinné provozování tohoto postupu ve velkém průmyslovém rozsahu.
V publikaci D. S. Williamse a E. A. Deina J. Elektrochem. Soc. 134 (3) 657-64 (1987) se uvádí, že metodou ukládání chemických par (CVD-metoda) při nízkých tlacích za použití tetraethylorthokřemičitanu (TEOS) a oxidů fosforu a boru v koncentracích, které jsou závislé na použitém aditivu, je možno dosáhnout rychlosti ukládání filmů z fosfokřemičitanového a borofosfokřemičitanového skla asi 20,0 nm za sekundu při teplotách v rozmezí od 515 do 680 °C. Tento nízkotlaký proces popsaný ve výše citované publikaci není ale využitelný pro kontinuální postup s přímou aplikaci oxidů.
V publikaci Proceedings, 2nd Intemational ULSI and Technical Symposium, ECS Proceedings Vol. 98(9). 571-78 (1989), autor D. A. Webb a kol. se uvádí, že vrstvy oxidu křemíku je možno ukládat rychlostí asi 12,5 nm/sekundu za použití tetraethylorthokřemičitanu (TEOS) postupem ukládání chemických par (CVD-metoda) s podporovanou tvorbou plasmatu za použití kyslíku. Ovšem tato metoda ukládání chemických par s podporovanou tvorbou plasmatu nepatří mezi schůdná řešení jak překonat výše uvedené problémy, které by bylo možno aplikovat v průmyslové praxi při kontinuálně prováděném procesu ukládání oxidových filmů na skleněném substrátu, ale spíše je možno uvést, že toto řešení patří ke vsázkovému postupu, který vyžaduje použití složitého a nákladného nízkotlakého zařízení.
V publikaci J. Electrochem. Soc. 136(6) 1843 (1989), autoři A. K. Hochberg a D. L. 0'Meara, je popsán způsob rychlejšího vytváření filmů oxidu křemíku metodou ukládání chemických par (CVD-metoda) při nízkém tlaku a při teplotě 570 °C, při kterém se používá tetraethylorthokřemičitanu (TEOS), do kterého se přidává trimethylfosfit. Ovšem stejně jako tomu bylo u výše uvedené metody chemického ukládání par v prostředí s podporovanou tvorbou plasmatu ani tato
-3CZ 289572 B6 nízkotlaká metoda ukládání chemických par nepředstavuje snadno aplikovatelný postup nanášení filmů oxidu křemíku na pohybující se pás skla za účelem přípravy potažených skleněných výrobků kontinuálním způsobem prováděným ve velkém průmyslovém měřítku, částečně přinejmenším z důvodu nákladnosti tohoto postupu a složitosti použitého zařízení pro ukládání par při nízkém tlaku.
Z přehledu známých metod podle dosavadního stavu techniky je zřejmé, že na základě těchto znalostí není možno určit jakou kombinaci prekurzorů zvolit, jestli je možno vůbec nějakou zvolit, a použít pro kontinuální ukládání směsných filmů na bázi oxid kovu/oxid křemíku ze snadno dostupných látek, které jsou relativně levné, odpovídajícími rychlostmi ukládání za podmínek a při rychlostech ukládání, které jsou vhodné pro velkou průmyslovou produkci.
Primární a sekundární povlaky na skleněných substrátech jsou kromě toho vhodné pro podpoření nebo doplnění vlastností libovolného substrátu nebo jednoho nebo více povlaků vyskytujících se na tomto substrátu, přičemž iridescence je pouze jednou z těchto vlastností. Mezi další možnosti využití těchto povlaků patří například ochrana povrchu substrátu před abrazí, dodání vhodného zabarvení původně průhlednému sklu a odstínění jednotlivých vlnových délek záření dopadajícího na tyto skleněné substráty.
Podstata vynálezu
Podstata vynálezu představuje skleněný výrobek tvořený skleněným substrátem a alespoň jednou vrstvou, přičemž obsahuje alespoň jednu vrstvu na bázi oxid cínu/oxid křemíku získanou uložením přinejmenším jedné vrstvy na bázi oxid cínu/oxid křemíku na skleněném substrátu při atmosférickém tlaku rychlostí ukládání větší než asi 35,0 nm/sekundu za použití prekurzoru oxidu cínu a prekurzoru oxidu křemíku, urychlovače vybraného ze skupiny zahrnující organické fosfidy, organické boráty a směsi těchto látek, a vody a zdroje kyslíku, přičemž tato vrstva má kontrolovaný index lomu, přičemž uvedená první vrstva obsahuje oxid cínu, oxid křemíku a oxidy fosforu.
Tento skleněný výrobek výhodně dále obsahuje druhou vrstvu směsi oxidů, přičemž koncentraci oxidu křemíku v této druhé směsné oxidové vrstvě je odlišná od koncentrace oxidu křemíku v uvedené první směsné oxidové vrstvě.
Ve výhodném provedení tento skleněný výrobek dále obsahuje další vrstvu v kontaktu s uvedenou směsnou oxidovou vrstvou, přičemž tato přídavná vrstva obsahuje oxid cínu. Uvedená vrstva oxidu cínu obsahuje výhodně dopant, přičemž tímto dopantem je výhodně fluor.
Podle dalšího výhodného provedení tohoto skleněného výrobku podle vynálezu je uvedená směsná oxidová vrstva amorfní vrstva.
Tento skleněný výrobek podle vynálezu má v porovnání s dosavadním stavem na svém povrchu povlak o lepších charakteristickách a specifických vlastnostech, jako je kontrolovatelný index lomu, odolnost vůči abrazi, zlepšené zabarvení, nízká emisní schopnost, selektivní schopnost filtrovat světlo, a anti-iridescence, zejména na plochých skleněných substrátech. Tyto výrobky se připraví ukládáním chemických par (CVD-metoda) při rychlostech ukládání větších než asi 35,0 nm/sekundu, při atmosférickém tlaku a při teplotě nižší než 700 °C, přičemž se použije směsi, která obsahuje přinejmenším jeden prekurzor oxidu kovu, který je zvolen ze souboru zahrnujícího těkavé sloučeniny cínu, germania, titanu, hliníku, zirkonia, zinku, india, kadmia, hafnia, wolframu, vanadu, chrómu, molybdenu, iridia, niklu a tantalu. tato směs dále obsahuje prekurzor oxidu křemičitého a jeden nebo více aditiv, které jsou vybrány ze souboru zahrnujícího fosfidy, boráty, vodu, alkylfosfm, arsin a boranové deriváty; PH3, AsH3 a B2H6; a O2, N2O, NF3, NO2 a CO2.
-4CZ 289572 B6
Uvedenými aditivy se v tomto textu označují „urychlovače“, přičemž tyto urychlovače slouží ke zvýšení rychlosti ukládání filmu na skleněném substrátu za použití dané směsi. Tato směs prekurzoru a aditiv představuje za požadovaných podmínek aplikace, které jsou nutné k přípravě daného výrobku, plynnou směs, přičemž při reakci uvedených látek v plynné směsi s atmosférickým kyslíkem nebo s přidaným kyslíkem se vytvoří odpovídající oxidy, které se ukládají na skleněném substrátu.
Pro odborníky pracující v daném oboru je zřejmé, že prekurzory a látky uváděné v popisu tohoto vynálezu musí být dostatečně těkavé, ať již samotné nebo ve směsi s ostatními látkami, a dále musí být dostatečně stabilní za podmínek, při kterých se provádí toto ukládání, přičemž za těchto podmínek tvoří část směsi sloužící k ukládání požadovaného filmu.
Mezi prekurzory k ukládání oxidů kovů je možno například zařadit alkylhliníkové sloučeniny aalkoxidy hliníku, alkylindiové sloučeniny, halogenidy titanu, alkylzionkové sloučeniny a alkoxidy zirkonia. Jako konkrétní příklad těchto sloučenin je možno uvést například A1(C2H5)3, CrO2Cl2, GeBr4, Ti(OC3H7)4, TiCl4, TiBr4, Ti(C5H7O2)4, Zr(OC5Hn)4, Ni(C)4, VC14, Zn(CH3)2, a podobné další látky.
Mezi prekurzory cínu patří sloučeniny, které je možno definovat obecným vzorcem:
R„SnX4_n ve kterém znamená:
R nezávisle vybraný zbytek ze souboru zahrnujícího alkylové a alkenylové skupiny s přímým, cyklickým nebo rozvětveným řetězcem obsahující jeden až asi šest atomů uhlíku, fenylovou skupinu, substituovanou fenylovou skupinu nebo zbytek R^ř^CHr-, ve kterém R1 představuje MeO2C~, EtO2C_, CH3CO- nebo HO2C-,
X představuje nezávisle vybranou skupinu ze souboru zahrnujícího atomy halogenu, acetátovou skupinu, perfluoracetátovou skupinu a jejich směsi, a n je 0,1 nebo 2.
Ve výhodném provedení podle uvedeného vynálezu se jako prekurzorů cínu používá organocínových halogenidů.
Mezi prekurzory oxidu křemíku patří sloučeniny, které je možno definovat obecným vzorcem:
RmO„Sip ve kterém znamená:
m číslo od 3 do 8, n je číslo od 1 do 4,
P je číslo od 1 do 4, a
R představuje nezávisle vybranou skupinu ze souboru zahrnujícího vodík a acylovou skupinu, alkylovou a substituovanou alkylovou skupinu nebo alkenylovou skupinu s přímým, cyklickým nebo rozvětveným řetězcem obsahujícím jeden až asi šest atomů uhlíku, a fenylovou skupinu nebo substituovanou fenylovou skupinu.
-5CZ 289572 B6
Mezi výhodné prekurzory oxidu křemíku je možno zařadit tetraethylorthokřemičitan, diacetoxydi-terc.butoxysilan, ethyltriacetoxysilan, methyltriacetoxysilan, methyldiacetoxysilan, tetramethyldisiloxan, tetramethylcyklotetrasiloxan, dipinakoloxysilan, l,l-dimethylsila-2-oxacykIohexan, tetrakis(l-methoxy-2-propoxy)silan a triethoxysilan.
Mezi vhodné urychlovače patří podle uvedeného vynálezu fosfodové a borátové sloučeniny obecného vzorce:
(R2O)3P a (R2O)3B ve kterém znamená:
R2 nezávisle vybranou skupinu ze souboru zahrnujícího alkylové a alkenylové skupiny s přímým, cyklickým nebo rozvětveným řetězcem obsahující jeden až asi šest atomů uhlíku, fenylovou skupinu, substituovanou fenylovou skupinu nebo skupinu R3CH2CH2-, ve které R3 představuje MeO2C-, EtO2C~, CH3CO- nebo HO2C-, přičemž ve výhodném provedení podle uvedeného vynálezu představuje R2 alkylovou nebo alkenylovou skupinu obsahující 1 až 4 atomy uhlíku v řetězci. Zejména výhodnými urychlovači jsou podle uvedeného vynálezu látky vybrané ze skupiny esterů bóru a fosforu, přičemž nejvýhodnějšími sloučeninami jsou TEB a TEP.
Mezi prekurzory pro vnější vrstvu patří MBTC nebo libovolná z organocínových sloučenin, které je možno uvést obecným vzorcem RnSnX4_n, jak již bylo shora uvedeno, a dále látky, které jsou schopné dodat oxidu cínu polovodivé vlastnosti. Mezi tyto sloučeniny je možno například zařadit sloučeniny antimonu, jako je například trimethylanitimon, sloučeniny fosforu, jako je například triethylfosfin, a sloučeniny obsahující fluor, jako je například trifluoroctová kyselina, anhydrid trifluoroctové kyseliny, trifluoracetát ethylnatý, 2,2,2-trifluorethanol, ethyl-4,4,4-trifluoracetoaceton, heptafluorbutyiylchlorid a fluorovodík. Tuto vrstvu oxidu cínuje možno rovněž připravit jako polovodivou ukládáním pod-stechiometrického filmu o složení:
SnO2_x kde x je necelé číslo o hodnotě v rozmezí nula až jedna, přičemž tato hodnota x se může v tomto filmu měnit. Tyto látky, které dodávají oxidu cínu polovodivé vlastnosti, je možno rovněž přidávat k prekurzorům pro první vrstvu za účelem podpoření emisní schopnosti kombinované první a druhé vrstvy.
Pro odborníky pracující v daném oboru je zřejmé, že uvedený oxid cínu je možno nahradit v těchto filmech zcela nebo částečně oxidy jiných kovů, jako je například germánium titan, hliník, zirkonium, zinek, indium, kadmium, hafnium, wolfram, vanad, chróm, molybden, iridium, nikl a tantal.
Ve výhodném provedení je předmětem řešení výrobek připravený uložením přinejmenším první vrstvy filmu na skleněný substrát v přítomnosti přinejmenším jednoho urychlovače.
Podle dalšího výhodného provedení je předmětem vynálezu výrobek s filmem naneseným na jeho povrchu při atmosférickém tlaku, přičemž tento film obsahuje jeden nebo více směsných filmů na bázi oxid kovu/oxid křemičitý na skleněném substrátu, a toto uložení je provedeno za použití směsi obsahující prekurzor oxidu kovu, prekurzor oxidu křemičitého a přinejmenším jednu aditivní sloučeninu, která podstatně zlepšuje nebo urychluje rychlost ukládání v porovnání s rychlostí ukládání v případě bez použití tohoto aditiva. Tyto nanesené filmy mohou obsahovat další oxidy podobné použitým aditivům. Kromě toho tyto nanesené směsné oxidové filmy mohou mít svoje vlastní specifické vlastnosti, jako je například určený index lomu, nebo je možno je
-6CZ 289572 B6 kombinovat s jinými filmy tvořícími spodní nebo horní vrstvu nebo jak spodní tak horní vrstvu, čímž se dosáhne kombinovaných vlastností, jako je například barevná neutralita nebo kluzký povrch.
Podle ještě výhodnějšího provedení je směsný film na bázi oxid kovu/oxid křemičitý tvořen několika vrstvami na bázi oxid cínu/oxid křemičitý, například se stoupajícím indexem lomu, přičemž se dále zvolená vlastnost dané vrstvy, jako je například index lomu, mění spojitě takovým způsobem, že vnější vrstva oxidu cínu má minimální zabarvení při odrazu světla. V této dané vrstvě tedy může být koncentrace oxidu křemíku a oxidu cínu jiná než jsou koncentrace oxidu křemíku a oxidu cínu v přilehlé vrstvě. Tyto filmy mohou rovněž obsahovat oxidy urychlovačů, zejména v případech, kdy tato aditiva obsahují fosfor nebo bór.
Podle nej výhodnějšího provedení podle uvedeného vynálezu obsahují prekurzory směsné oxidové vrstvy obecně halogenidy organocínových sloučenin, přičemž jako konkrétní příklad je možno uvést monobutylcíntrichlorid (MBTC), tetraethylorthokřemičitan (TEOS) a uiychlovač triethylfosfit (TEP).
Podle uvedeného vynálezu bylo složení takto připravených filmů určováno rentgenovou difrakcí (XRD) a rentgenovou fotoelektronovou spektroskopií (XPS). Výrobky podle uvedeného vynálezu byly připraveny postupem, při kterém byly použity urychlovače, přičemž tento postup kontinuálního nanášení oxidových filmů z chemických par (CVD-metoda) podle vynálezu představuje přijatelný způsob aplikovatelný pro kontinuální nanášení oxidových filmů z chemických par na pohybující se skleněný substrát v průmyslovém měřítku, zejména v moderních linkách na výrobu plaveného skla, kdy jsou vsázkové postupy podle dosavadního stavu techniky zcela neaplikovatelné.
Vliv přidané vody a přidaných fosfitů a borátů na index lomu a rychlost ukládání směsných oxidových filmů na bázi tetraethylorthokřemičitanu (TEOS) je uveden v následujících tabulkách. Tyto výsledky je možno porovnat s hodnotami uvedenými v tabulkách ΙΠ a IV, ve kterých je dokumentován účinek kyslíku a Lewisovy kyseliny jako aditiv.
V následující tabulce č. I je ukázán vliv přidávané vody. Se stoupající koncentrací vody, vzhledem k poměru cín/křemík nebo rychlosti plynu, rychlost ukládání vzrůstá až na úroveň, která je významná z komerčního hlediska. Tato zvyšující se rychlost ukládání je rovněž doprovázena zvyšujícím se indexem lomu. V následujících tabulkách jsou uvedené hodnoty rychlosti ukládání zprůměrované v rozsahu asi sedmi procent, pokud nejsou přímo uvedené hodnoty vyjádřeny mezí neurčitosti ±.
Tabulka I
Účinek koncentrace vody na index lomu a rychlost ukládání směsného oxidu
MBTC | TEOS | Voda | Index | Rychlost ukládání |
(mol. %) | (mol. %) | (mol. %) | lomu | (nm/s) |
Teplota skla 665 | °C, teplota systému 160 °C, průtočné množství plynu 50 litrů/minutu: | |||
0,71 | 0,71 | 0,00 | 1,54 | 2,5 |
0,71 | 0,71 | 0,15 | 1,73 | 34,0 |
0,71 | 0,71 | 0,24 | 1,74 | 40,0 |
Teplota skla 665 °C, teplota systému 160 °C, průtočné množství plynu 12,5 litrů/minutu:
1,05 | 0,59 | 0,00 | 1,74 | 29,0 |
1,05 | 0,59 | 0,60 | 1,78 | 33,0 |
1,05 | 0,59 | 1,10 | 1,80 | 48,0 |
I když se ve výhodném provedení používá teploty 160 °C může se teplota systému pohybovat v rozmezí od asi 125 do asi 200 °C.
V následující tabulce II je ilustrován účinek přidávaného TEP a směsí TEP a nižších alkylborátových esterů, jako je například triethylborát (TEB). Z uvedených výsledků je patrné, že TEP představuje velice účinnou látku pokud se týče rychlosti ukládání směsných oxidových filmů, přičemž tyto vysoké rychlosti ukládání jsou dosahovány při specifických a kontrolovatelných hodnotách indexu lomu. Přídavky TEB o nízkých koncentracích kTEB znamenaly 10 další malé zvýšení rychlosti ukládání. V popisu uvedeného vynálezu se termínem „vysoká rychlost“, který se používá v souvislosti s nanášením filmu, jehož charakteristika byla podrobně uvedena výše, míní rychlosti vyšší než asi 35,0 nm/sekundu, a ve výhodném provedení rychlosti asi 40,0 nm/sekundu nebo rychlosti ještě vyšší. Všechny filmy připravené za podmínek uvedených v tabulce Π byly čisté.
Tabulka II
Účinek koncentrací MBTC/TEOS/TEP na rychlost ukládání
% TEOS | % MBTC | % TEP | % TEB | Index lomu | Rychlost ukládání (nm/s) |
0,80 | 0,16 | — | — | l,69±0,02 | 3,8±0,3 |
0,80 | 0,11 | 0,76 | — | l,58±0,01 | 54,2±0,8 |
0,08 | 0,16 | 0,76 | -- | l,60±0,01 | 41,6±2,2 |
0,78 | 1,56 | 0,75 | — | l,67±0,01 | 50,5±0,4 |
0,78 | 1,84 | 0,75 | — | 1,69+0,01 | 47,6+4,5 |
0,28 | 1,56 | 0,36 | — | l,73±0,01 | 23,1±4,6 |
0,27 | 1,56 | 0,62 | — | l,71±0,01 | 38,1±1,5 |
0,27 | 1,56 | 0,75 | — | l,70±0,01 | 48,2±0,6 |
0,27 | 1,56 | 0,75 | — | l,70±0,01 | 48,2±1,6 |
0,27 | 1,56 | 0,74 | 0,18 | 1,70+0,02 | 49,2+1,3 |
0,79 | 0,16 | 0,76 | 0,19 | l,59±0,01 | 47,3±5,6 |
Při tomto postupu byla teplota skla 665 °C, lychlost posunu skla 0,56 m/s a teplota systému
160 °C (vzduch). Uvedené MBTC, TEOS a TEP nebo směsi TEP a TEB byly nastřikovány odděleně do odpařovací sekce zařízení na nanášení povlaku. Každá uvedená hodnota je 25 průměrem ze tří pokusů. Hodnota rosného bodu byla v rozmezí od -74 do -78 °C.
V následující tabulce č. III je ilustrován účinek přidávaného kyslíku. Se zvyšující se koncentrací kyslíku se významně zvyšuje rychlost nanášení vrstvy, ovšem tato rychlost nedosahuje úrovně, která je potřebná pro aplikaci v průmyslovém rozsahu.
Tabulka III
Účinek koncentrace kyslíku na index lomu směsného oxidu a na rychlost nanášení
MBTC (mol. %) | TEOS (mol. %) | Kyslík (obj. % vzduchu) | Index lomu | Rychlost ukládání (nm/s) |
0,71 | 0,71 | 20 | 1,54 | 25 |
0,71 | 0,71 | 50 | 1,63 | 50 |
0,71 | 0,71 | 75 | 1,65 | 160 |
0,71 | 0,71 | 100 | 1,66 | 240 |
-8CZ 289572 B6
Při tomto postupu byla teplota skla 665 °C, teplota systému 160 °C a průtočné množství plynu 50 litrů/minutu.
V následující tabulce č. IV je ilustrován účinek přidané Lewisovy kyseliny, přičemž jako Lewisovy kyseliny bylo v tomto případě použito MBTC v přebytku. Se stoupající koncentrací této látky se zvyšuje rychlost nanášení, nedosahuje se úrovně, která je potřebná pro průmyslovou aplikaci.
Tabulka TV
Účinek koncentrace MBTC na indexu lomu a lychlost nanášení směsného oxidového filmu
MBTC (mol. %) | TEOS (mol. %) | Index lomu | Rychlost ukládání (nm/s) |
0,48 | 0,47 | 1,78 | 16,0 |
0,48+0,23 | 0,48 | 1,78 | 20,0 |
0,48±0,47 | 0,47 | 1,85 | 30,0 |
Při tomto postupu byla teplota skla 665 °C, teplota systému 160 °C a průtočné množství plynu 50 litrů/minutu.
Z hodnot uvedených v těchto tabulkách je zřejmé, že podle uvedeného vynálezu je možno dosáhnout účinného nanášení filmů směsných oxidů metodou ukládání chemických par (CVDmetoda) při rychlostech nanášení, které je možno využít v komerčním průmyslovém měřítku za současného kontrolování hodnoty indexu lomu.
Příklady provedení vynálezu
Povlečené skleněné výrobky podle uvedeného vynálezu budou v dalším blíže objasněny s pomocí konkrétních příkladů, které mají pouze ilustrativní charakter a nijak neomezují rozsah uvedeného vynálezu.
Příklad 1
Podle tohoto provedení byla deska sodnovápenatého křemičitého skla o rozměru strany 9 centimetrů zahřáta na horkém bloku na teplotu 665 °C. Na povrch tohoto skla byla vedena plynná směs obsahující asi 0,16 % mol. MBTC, 0,80 % mol. TEOS a 0,75 % mol. TEP, přičemž zbytek tvořil horký vzduch o teplotě 160 °C. Průtočné množství této směsi bylo 12,5 litrů na minutu (1/minutu) a zpracovávání probíhalo po dobu 10 sekund. Střed povrchu skla byl stejnoměrně povlečen filmem, který měl v odraženém světle zelené zabarvení. Za použití metody se spřaženými hranoly byla zjištěna hodnota indexu lomu 1,60, přičemž tloušťka byla asi 426,0 nm, což odpovídalo rychlosti nanášení filmu asi 42,60 nm/sekundu. Metodou XRD bylo zjištěno, že takto podobným způsobem nanesené filmy byly amorfní, přičemž metodou XPS bylo zjištěno, že se jedná o filmy tvořené oxidy cínu, křemíku a fosforu.
Příklad 2
Podle tohoto příkladu byla na povrchu skla přiváděna plynová směs obsahující asi 1,84 % mol. MBTC, 0,78 % mol. TEOS a 0,75 % mol. TEP, přičemž zbytek tvořil horký vzduch, což bylo prováděno stejným způsobem jako v příkladu 1. Získaný film měl světle anilínově-červené zabarvení v odraženém světle. Index lomu byl 1,68 a tloušťka tohoto filmu byla asi 493,0 nm,
-9CZ 289572 B6 což odpovídalo rychlosti ukládání asi 49,3 nm/sekundu. Metodou XRD bylo zjištěno, že takto podobným způsobem nanesené filmy byly amorfní, přičemž metodou XPS bylo zjištěno, že se jedná o filmy tvořené oxidy cínu, křemíku a fosforu.
Příklad 3
Podle tohoto příkladu byla na povrchu skla přiváděna plynová směs obsahující asi 1,22 % mol. MBTC, 0,58 % mol. TEOS a 1,09 % mol. vody, přičemž zbytek tvořil horký vzduch, což bylo prováděno stejným způsobem jako v příkladu 1 ovšem po dobu osmi sekund. Získaný film měl v odraženém světle zelené zabarvení. Index lomu byl 1,78 a tloušťka tohoto filmu byla asi 465,0 nm, což odpovídalo rychlosti ukládání asi 58,0 nm/sekundu. Metodou XRD bylo zjištěno, že takto podobným způsobem nanesené filmy sestávaly ze zhroucených tetragonálních základních jednotek oxidu cínu, což naznačovalo na vznik určitého podílu pevného roztoku s oxidem křemičitým. Metodou XPS bylo zjištěno, že se jedná o filmy tvořené oxidy cínu a křemíku.
Příklad 4
Každý z filmů popsaných v příkladech 1 až 3 byl postupně nanášen po dobu jedné sekundy v pořadí vzrůstajícího indexu lomu. Takto získaný vícevrstvý film byl potom opatřen vnější vrstvou oxidu cínu dotovaného fluorem o tloušťce asi 320,0 nm. Pomocí tohoto složení filmu byla dosažena u výrobku transparentnost, přičemž za podmínek denního osvětlení nebylo pozorováno žádné zabarvení v odraženém světle.
Příklad 5
Podle tohoto příkladu byla destička sodnovápenatého křemičitanu skla o rozměru hrany 9 centimetrů zahřáta na horkém bloku na teplotu 665 °C. Potom byla na povrch tohoto skla přiváděna plynová směs obsahující asi 1,04 % mol. MBTC ve vzduchu o teplotě 160 °C a plynová směs obsahující 1,04 % mol. TEOS a 0,20 % mol. TEP ve vzduchu o teplotě 160 °C, přičemž tyto směsi byly přiváděny pomocí kulových ventilů a průtokové množství bylo regulováno mikroprocesorem. Toto průtokové množství bylo 12,5 litru/minutu a zpracování povrchu plynovou směsí bylo prováděno po dobu 30 sekund. Kulové ventily byly simultánně zavírány a otvírány naprogramovatelným způsobem, takže složení plynu, který se dostával do kontaktu s povrchem skla, se postupně měnilo, přičemž na počátku měla směs vysoký poměr TEOS/TEP a nízkou koncentrací MMTC a na konci měla směs nízký poměr TEOS/TEP a vysokou koncentraci MBTC. Střední oblast povrchu skla byla stejnoměrně potažena filmem, který sestával z oxidu cínu, oxidu křemíku a oxidu fosforu, což bylo potvrzeno XPS analýzou. Se zvětšující se tloušťkou filmu postupně vzrůstalo množství cínu, zatímco množství křemíku a fosforu se zmenšovalo. Index lomu byl vypočítán z těchto hodnot a z hodnot odvozených od standardních filmů, přičemž bylo zjištěno, že hodnota tohoto indexu lomu je v rozmezí od 1,52 do 1,87. Pomocí takto sestaveného filmu nebylo u výrobku s takto aplikovaným filmem a s vnější vrstvou tvořenou oxidem cínu s dotovaným fluorem pozorováno v podstatě žádné zabarvení v odraženém světle.
Příklad 6
Podle tohoto provedení byla na povrch skla přiváděna plynová směs obsahující asi 0,16 % mol. MBTC, 0,80 % mol. TEOS a zbytek tvořil horký vzduch, a tento postup byl prováděn stejným způsobem jako v příkladu 1 po dobu asi 60 sekund. Získaný film měl anilínově-červené zabarvení v odraženém světle a index lomu byl 1,69. Tloušťka tohoto filmu byla asi 226,0 nm, což odpovídalo lychlosti ukládání asi 3,8 nm/sekundu.
-10CZ 289572 B6
Příklad 7
Podle tohoto provedení byla láhev z čirého skla o objemu 0,5 litru otáčena a zahřívána na teplotu asi 600 °C v peci po dobu tří minut. Takto ohřátá láhev byla potom přemístěna do komory pro nanášení povlaku, kde byla uvedena do kontaktu se směsí par obsahující 0,16 % mol. MBTC, 0,80 % mol. TEOS, 0,75 % mol. TEP a zbytek tvořil horký vzduch, přičemž nanášení bylo prováděno při teplotě asi 170 °C po dobu 10 sekund. Takto získaný film měl anilínově-modré zabarvení, přičemž byl stejnoměrně rozptýlen na stěnách od kuželovité části láhve až k základně. Rychlost nanášení byla odhadnuta na asi 20,0 nm/sekundu na základě barvy tohoto filmu, přičemž tento odhad byl proveden porovnáním s vrstvou nanášenou rychlostí asi 5,0 nm/sekundu na láhvi, u které bylo nanášení prováděno se směsí par obsahující pouze MBTC a TEOS.
Z výsledků uvedených v předchozích tabulkách a příkladech je zcela patrné, že TEB, TEP a voda slouží jako urychlovače nanášení oxidových filmů na skleněném substrátu z chemických par (metoda CVD), přičemž TEP a TEB projevují synergický účinek při zvyšování rychlosti nanášení TEOS a MBTC. Urychlovače vhodné pro uvedený vynález jsou vybrány ze skupiny zahrnující borátové a fosfitové estery, alkylcínhalogenidy a vodu.
V rámci rozsahu uvedeného vynálezu a jeho výhodných provedení je možno provádět různé modifikace a zlepšení, což je pro pracovníky v daném oboru zřejmé na základě pochopení podstaty a principu tohoto řešení. Z výše uvedeného vyplývá, že rozsah vynálezu nemůže být omezován pouze na provedení uvedená v tomto popisu, ale pouze pokrokem dosaženým dalším vývojem v této oblasti techniky.
PATENTOVÉ NÁROKY
Claims (6)
1. Skleněný výrobek, tvořený skleněným substrátem a alespoň jednou vrstvou, vyznačující setím, že obsahuje alespoň první vrstvu na bázi oxid cínu/oxid křemíku získanou uložením přinejmenším jedné vrstvy na bázi oxid cínu/oxid křemíku na skleněném substrátu při atmosférickém tlaku lychlostí ukládání větší než asi 35,0 nm/sekundu za použití prekurzoru oxidu cínu a prekurzoru oxidu křemíku, urychlovače vybraného ze skupiny zahrnující organické fosfity, organické boráty a směsi těchto látek, a vody a zdroje kyslíku, přičemž tato vrstva má kontrolovaný index lomu, přičemž uvedená první vrstva obsahuje oxid cínu, oxid křemíku a oxidy fosforu.
2. Skleněný výrobek podle nároku 1, vyznačující se tím, že dále obsahuje druhou vrstvu směsi oxidů, přičemž koncentraci oxidu křemíku v této druhé směsné oxidové vrstvě je odlišná od koncentrace oxidu křemíku v uvedené první směsné oxidové vrstvě.
3. Skleněný výrobek podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že dále obsahuje další vrstvu v kontaktu s uvedenou směsnou oxidovou vrstvou, přičemž tato přídavná vrstva obsahuje oxid cínu.
4. Skleněný výrobek podle nároku 3, vyznačující se tím, že tato vrstva oxidu cínu obsahuje dopant.
5. Skleněný výrobek podle nároku 4, vyznačující se tím, že uvedeným dopantem je fluor.
-11CZ 289572 B6
6. Skleněný výrobek podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že směsná oxidová vrstva je amorfní vrstva.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US81436691A | 1991-12-26 | 1991-12-26 | |
US81435291A | 1991-12-27 | 1991-12-27 | |
PCT/US1992/010874 WO1993012934A1 (en) | 1991-12-26 | 1992-12-21 | Coated glass article |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ173593A3 CZ173593A3 (en) | 1994-05-18 |
CZ289572B6 true CZ289572B6 (cs) | 2002-02-13 |
Family
ID=27123834
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ19931733A CZ286854B6 (cs) | 1991-12-26 | 1992-12-21 | Způsob povlékání skleněných substrátů |
CZ19931735A CZ289572B6 (cs) | 1991-12-26 | 1992-12-21 | Skleněný výrobek |
CZ19931734A CZ286855B6 (cs) | 1991-12-26 | 1992-12-21 | Směs pro povlékání skla |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ19931733A CZ286854B6 (cs) | 1991-12-26 | 1992-12-21 | Způsob povlékání skleněných substrátů |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ19931734A CZ286855B6 (cs) | 1991-12-26 | 1992-12-21 | Směs pro povlékání skla |
Country Status (26)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5401305A (cs) |
EP (4) | EP0573640A4 (cs) |
JP (3) | JP3485920B2 (cs) |
KR (3) | KR100243801B1 (cs) |
CN (3) | CN1041815C (cs) |
AR (1) | AR248263A1 (cs) |
AT (2) | ATE272582T1 (cs) |
AU (3) | AU651754B2 (cs) |
BR (3) | BR9205672A (cs) |
CA (3) | CA2104591C (cs) |
CZ (3) | CZ286854B6 (cs) |
DE (2) | DE69230219T2 (cs) |
DK (2) | DK0927706T3 (cs) |
ES (2) | ES2137984T3 (cs) |
GR (1) | GR3031624T3 (cs) |
HU (3) | HUT67686A (cs) |
MX (2) | MX9207592A (cs) |
MY (1) | MY110355A (cs) |
NO (3) | NO316683B1 (cs) |
NZ (1) | NZ246459A (cs) |
PL (1) | PL169649B1 (cs) |
PT (4) | PT927706E (cs) |
RU (2) | RU2091340C1 (cs) |
SK (3) | SK281638B6 (cs) |
UY (3) | UY23528A1 (cs) |
WO (3) | WO1993012892A1 (cs) |
Families Citing this family (64)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU651754B2 (en) * | 1991-12-26 | 1994-07-28 | Atofina Chemicals, Inc. | Coated glass article |
US5599387A (en) * | 1993-02-16 | 1997-02-04 | Ppg Industries, Inc. | Compounds and compositions for coating glass with silicon oxide |
US5863337A (en) * | 1993-02-16 | 1999-01-26 | Ppg Industries, Inc. | Apparatus for coating a moving glass substrate |
US5356718A (en) * | 1993-02-16 | 1994-10-18 | Ppg Industries, Inc. | Coating apparatus, method of coating glass, compounds and compositions for coating glasss and coated glass substrates |
US5395698A (en) * | 1993-06-04 | 1995-03-07 | Ppg Industries, Inc. | Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making |
DE4433206A1 (de) * | 1994-09-17 | 1996-03-21 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur pyrolytischen Beschichtung von Glas-, Glaskeramik- und Emailprodukten |
DE19504906A1 (de) * | 1995-02-15 | 1996-08-22 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Heißendvergütung von Hohlglaskörpern durch Aufbringen von Metallverbindungen auf die heiße äußere Glasoberfläche |
CO4560356A1 (es) * | 1995-02-22 | 1998-02-10 | Elf Atochem Vlissingen Bv | Proceso para la produccion de un recubrimiento de proteccion sobre la superficie de un articulo de vidrio o ceramica |
US5648175A (en) * | 1996-02-14 | 1997-07-15 | Applied Materials, Inc. | Chemical vapor deposition reactor system and integrated circuit |
GB9616983D0 (en) * | 1996-08-13 | 1996-09-25 | Pilkington Plc | Method for depositing tin oxide and titanium oxide coatings on flat glass and the resulting coated glass |
GB9710547D0 (en) * | 1997-05-23 | 1997-07-16 | Pilkington Plc | Coating method |
FR2780054B1 (fr) * | 1998-06-19 | 2000-07-21 | Saint Gobain Vitrage | Procede de depot d'une couche a base d'oxyde metallique sur un substrat verrier, substrat verrier ainsi revetu |
FR2789698B1 (fr) | 1999-02-11 | 2002-03-29 | Air Liquide | Procede et installation pour former un depot d'une couche sur un substrat |
US6797388B1 (en) * | 1999-03-18 | 2004-09-28 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of making low haze coatings and the coatings and coated articles made thereby |
JP3227449B2 (ja) * | 1999-05-28 | 2001-11-12 | 日本板硝子株式会社 | 光電変換装置用基板とその製造方法、およびこれを用いた光電変換装置 |
LU90432B1 (fr) * | 1999-09-01 | 2001-03-02 | Glaverbel | Couche pyrolytique phosphostannate ou borostannate et vitrage comportant cette couche |
US6399208B1 (en) * | 1999-10-07 | 2002-06-04 | Advanced Technology Materials Inc. | Source reagent composition and method for chemical vapor deposition formation or ZR/HF silicate gate dielectric thin films |
JP4272534B2 (ja) * | 2002-01-28 | 2009-06-03 | 日本板硝子株式会社 | 透明導電膜を備えたガラス基板の製造方法、透明導電膜を備えたガラス基板、およびそれを用いた光電変換装置 |
US7030042B2 (en) | 2002-08-28 | 2006-04-18 | Micron Technology, Inc. | Systems and methods for forming tantalum oxide layers and tantalum precursor compounds |
US6784049B2 (en) * | 2002-08-28 | 2004-08-31 | Micron Technology, Inc. | Method for forming refractory metal oxide layers with tetramethyldisiloxane |
US20050196623A1 (en) * | 2004-03-03 | 2005-09-08 | Mckown Clem S.Jr. | Solar control coated glass composition |
US20050221003A1 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-06 | Remington Michael P Jr | Enhancement of SiO2 deposition using phosphorus (V) compounds |
US7372610B2 (en) | 2005-02-23 | 2008-05-13 | Sage Electrochromics, Inc. | Electrochromic devices and methods |
JP5036710B2 (ja) | 2005-10-11 | 2012-09-26 | 株式会社クラレ | 発光体 |
US8258690B2 (en) | 2005-10-11 | 2012-09-04 | Kuraray Co., Ltd. | High brightness inorganic electroluminescence device driven by direct current |
RU2445340C2 (ru) * | 2005-10-11 | 2012-03-20 | Курарей Ко, ЛТД., | Светящееся тело |
WO2007081045A1 (ja) * | 2006-01-16 | 2007-07-19 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | 薄膜形成ガラス板 |
US8158262B2 (en) * | 2006-06-05 | 2012-04-17 | Pilkington Group Limited | Glass article having a zinc oxide coating and method for making same |
MX2008015528A (es) * | 2006-06-05 | 2009-01-07 | Pilkington Group Ltd | Articulo de vidrio que tiene un recubrimiento de oxido de zinc y metodo para fabricar el mismo. |
US20080026147A1 (en) * | 2006-07-28 | 2008-01-31 | Gulbrandsen Chemicals, Inc. | Method and formulation for depositing a metal-containing coating on a substrate |
US20080152804A1 (en) * | 2006-07-28 | 2008-06-26 | Gulbrandsen Chemicals, Inc. | Method for depositing a metal-containing coating on a substrate |
AU2007290842B2 (en) * | 2006-08-29 | 2012-08-23 | Arkema, Inc. | Method of making low resistivity doped zinc oxide coatings and the articles formed thereby |
JP5559536B2 (ja) * | 2006-08-29 | 2014-07-23 | ピルキントン グループ リミテッド | 低い抵抗率のドープ酸化亜鉛でコーティングされたガラス物品の製造方法及びその製造方法により製造されるコーティングされたガラス物品 |
AU2008214505B2 (en) * | 2007-01-15 | 2013-02-07 | Saint-Gobain Glass France | Glass substrate coated with layers having an improved mechanical strength |
FR2913973B1 (fr) * | 2007-03-21 | 2011-02-18 | Saint Gobain | Substrat verrier revetu de couches a tenue mecanique amelioree |
US7998586B2 (en) | 2008-11-19 | 2011-08-16 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Undercoating layers providing improved topcoat functionality |
CN102239221B (zh) * | 2008-11-19 | 2013-12-25 | Ppg工业俄亥俄公司 | 提供改善的外涂层功能性的底涂层 |
US20100124642A1 (en) * | 2008-11-19 | 2010-05-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Undercoating layers providing improved conductive topcoat functionality |
US8133599B2 (en) | 2008-11-19 | 2012-03-13 | Ppg Industries Ohio, Inc | Undercoating layers providing improved photoactive topcoat functionality |
DE102008060923B4 (de) | 2008-12-06 | 2012-09-27 | Innovent E.V. | Verwendung einer Schicht |
CN102484220A (zh) * | 2009-07-06 | 2012-05-30 | 阿科玛股份有限公司 | 由透明的导电氧化物(tco)和防晕光底漆组成的oled基片 |
US9224892B2 (en) | 2009-12-21 | 2015-12-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Silicon thin film solar cell having improved haze and methods of making the same |
US9366783B2 (en) * | 2009-12-21 | 2016-06-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Silicon thin film solar cell having improved underlayer coating |
US20110146768A1 (en) * | 2009-12-21 | 2011-06-23 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Silicon thin film solar cell having improved underlayer coating |
FR2956659B1 (fr) | 2010-02-22 | 2014-10-10 | Saint Gobain | Substrat verrier revetu de couches a tenue mecanique amelioree |
EP2441860A1 (en) * | 2010-10-13 | 2012-04-18 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Apparatus and method for atomic layer deposition on a surface |
US8557099B2 (en) | 2010-10-25 | 2013-10-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Electrocurtain coating process for coating solar mirrors |
RU2477711C1 (ru) * | 2011-08-12 | 2013-03-20 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" | Легированное кварцевое стекло с тетраэдрической координацией атомов титана |
US8734903B2 (en) | 2011-09-19 | 2014-05-27 | Pilkington Group Limited | Process for forming a silica coating on a glass substrate |
WO2013048751A1 (en) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Arkema Inc. | Deposition of silicon oxide by atmospheric pressure chemical vapor deposition |
CN102584025B (zh) * | 2012-01-19 | 2014-06-11 | 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司 | 具有宽带隙折射率可调隔离层玻璃的制备方法 |
US20130334089A1 (en) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | Michael P. Remington, Jr. | Glass Container Insulative Coating |
WO2014164194A1 (en) * | 2013-03-12 | 2014-10-09 | Ppg Industries Ohio, Inc. | High haze underlayer for solar cell |
TW201716245A (zh) * | 2015-08-05 | 2017-05-16 | 康寧公司 | 用於將片材與載體鍵結之物件及方法 |
WO2017082541A1 (ko) * | 2015-11-11 | 2017-05-18 | 한국화학연구원 | 금속 전구체, 이의 제조방법, 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법 |
EP3173507A1 (de) * | 2015-11-25 | 2017-05-31 | Umicore AG & Co. KG | Verfahren zur metallorganischen gasphasenabscheidung unter verwendung von lösungen von indiumalkylverbindungen in kohlenwasserstoffen |
GB201523156D0 (en) * | 2015-12-31 | 2016-02-17 | Pilkington Group Ltd | High strength glass containers |
CA2920646A1 (en) * | 2016-02-12 | 2017-08-12 | Seastar Chemicals Inc. | Organometallic compound and method |
CN106217968A (zh) * | 2016-07-15 | 2016-12-14 | 常熟市赛蒂镶嵌玻璃制品有限公司 | 一种高耐磨防爆玻璃 |
EP3676231A1 (en) | 2017-08-31 | 2020-07-08 | Pilkington Group Limited | Coated glass article, method of making the same, and photovoltaic cell made therewith |
CN111051567A (zh) | 2017-08-31 | 2020-04-21 | 皮尔金顿集团有限公司 | 形成氧化硅涂层的化学气相沉积方法 |
JP6993394B2 (ja) * | 2019-08-06 | 2022-02-21 | バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー | ケイ素化合物及びケイ素化合物を使用してフィルムを堆積する方法 |
CN115427366A (zh) * | 2020-04-23 | 2022-12-02 | 皮尔金顿集团有限公司 | 制造涂覆玻璃制品的方法 |
TR202010598A2 (tr) * | 2020-07-03 | 2022-01-21 | Tuerkiye Sise Ve Cam Fabrikalari Anonim Sirketi | Cam yüzeyler için geliştirilmiş antimikrobiyel kaplama çözeltisi, antimikrobiyel kaplamalı cam ve bunun uygulama prosesi |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3378396A (en) * | 1967-03-27 | 1968-04-16 | Zaromb Solomon | Conductive oxide-coated articles |
US3984581A (en) * | 1973-02-28 | 1976-10-05 | Carl Zeiss-Stiftung | Method for the production of anti-reflection coatings on optical elements made of transparent organic polymers |
US3949146A (en) * | 1973-08-24 | 1976-04-06 | Rca Corporation | Process for depositing transparent electrically conductive tin oxide coatings on a substrate |
DE2454657A1 (de) * | 1974-11-18 | 1976-05-20 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Beschichtung zum verhindern des beschlagens von oberflaechen |
US4227929A (en) * | 1976-08-26 | 1980-10-14 | Ameron, Inc. | Siloxane-tin coatings |
US4308316A (en) * | 1977-04-04 | 1981-12-29 | Gordon Roy G | Non-iridescent glass structures |
US4187336A (en) * | 1977-04-04 | 1980-02-05 | Gordon Roy G | Non-iridescent glass structures |
US4206252A (en) * | 1977-04-04 | 1980-06-03 | Gordon Roy G | Deposition method for coating glass and the like |
SU833649A1 (ru) * | 1979-02-12 | 1981-05-30 | Северо-Западный Заочный Политехническийинститут | Пленкообразующий раствор дл стекл н-НыХ издЕлий |
JPS5734164A (en) * | 1980-08-06 | 1982-02-24 | Kansai Paint Co Ltd | Film-forming composition |
US4386117A (en) * | 1981-11-20 | 1983-05-31 | Gordon Roy G | Coating process using alkoxy substituted silicon-bearing reactant |
JPS58189263A (ja) * | 1982-04-28 | 1983-11-04 | Hitachi Chem Co Ltd | SiO↓2膜形成用塗布液 |
JPS59125433A (ja) * | 1982-12-30 | 1984-07-19 | Fujitsu Ltd | 音声応答方式 |
US4590096A (en) * | 1984-12-28 | 1986-05-20 | M&T Chemicals Inc. | Water vapor, reaction rate and deposition rate control of tin oxide film by CVD on glass |
JPS61181253A (ja) * | 1985-02-06 | 1986-08-13 | Keihachirou Shikakura | 電話機 |
JPS62263754A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-16 | Iwatsu Electric Co Ltd | デ−タ入力装置 |
US5028566A (en) * | 1987-04-10 | 1991-07-02 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method of forming silicon dioxide glass films |
US4880664A (en) * | 1987-08-31 | 1989-11-14 | Solarex Corporation | Method of depositing textured tin oxide |
EP0486475B1 (en) * | 1988-03-03 | 1997-12-03 | Asahi Glass Company Ltd. | Amorphous oxide film and article having such film thereon |
AU616736B2 (en) * | 1988-03-03 | 1991-11-07 | Asahi Glass Company Limited | Amorphous oxide film and article having such film thereon |
WO1990002157A1 (en) * | 1988-08-24 | 1990-03-08 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Coating fluid for forming transparent conductive ceramic coating, base material coated with transparent conductive ceramic and production thereof, and application of base material coated with transparent conductive ceramic |
JP2856754B2 (ja) * | 1989-02-17 | 1999-02-10 | 株式会社東芝 | 紫外線抑制発光源、紫外線抑制発光源用塗布剤、及び紫外線抑制発光源の製造方法 |
EP0386341B1 (en) * | 1989-03-07 | 1995-03-15 | Asahi Glass Company Ltd. | Laminated glass structure |
JPH0717407B2 (ja) * | 1989-10-09 | 1995-03-01 | 旭硝子株式会社 | 機能薄膜付ガラスの製造方法 |
US5090985A (en) * | 1989-10-17 | 1992-02-25 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for preparing vaporized reactants for chemical vapor deposition |
AU651754B2 (en) * | 1991-12-26 | 1994-07-28 | Atofina Chemicals, Inc. | Coated glass article |
-
1992
- 1992-12-21 AU AU33230/93A patent/AU651754B2/en not_active Expired
- 1992-12-21 HU HU9302411A patent/HUT67686A/hu unknown
- 1992-12-21 DE DE69230219T patent/DE69230219T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-21 WO PCT/US1992/010872 patent/WO1993012892A1/en active IP Right Grant
- 1992-12-21 PT PT99106266T patent/PT927706E/pt unknown
- 1992-12-21 AU AU33228/93A patent/AU3322893A/en not_active Abandoned
- 1992-12-21 DK DK99106266T patent/DK0927706T3/da active
- 1992-12-21 RU RU9293058398A patent/RU2091340C1/ru active
- 1992-12-21 DE DE1992633396 patent/DE69233396T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-21 CA CA002104591A patent/CA2104591C/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-21 JP JP51173693A patent/JP3485920B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-21 BR BR9205672A patent/BR9205672A/pt not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 KR KR1019930702540A patent/KR100243801B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 HU HU9302412A patent/HU214047B/hu not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 SK SK914-93A patent/SK281638B6/sk unknown
- 1992-12-21 JP JP51173493A patent/JP3485918B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-21 HU HU9302413A patent/HUT67158A/hu unknown
- 1992-12-21 DK DK93901245T patent/DK0573639T3/da active
- 1992-12-21 BR BR9205673A patent/BR9205673A/pt not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 JP JP51173593A patent/JP3485919B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-21 SK SK913-93A patent/SK282141B6/sk unknown
- 1992-12-21 ES ES93901245T patent/ES2137984T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-21 NZ NZ246459A patent/NZ246459A/en unknown
- 1992-12-21 AT AT99106266T patent/ATE272582T1/de not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 CZ CZ19931733A patent/CZ286854B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 MX MX9207592A patent/MX9207592A/es unknown
- 1992-12-21 RU RU93058399A patent/RU2102347C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 KR KR1019930702539A patent/KR100238920B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 BR BR9205674A patent/BR9205674A/pt not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 CA CA002104592A patent/CA2104592A1/en not_active Abandoned
- 1992-12-21 EP EP93901246A patent/EP0573640A4/en not_active Withdrawn
- 1992-12-21 KR KR1019930702538A patent/KR100238740B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 CZ CZ19931735A patent/CZ289572B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 CA CA002104590A patent/CA2104590C/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-21 EP EP99106266A patent/EP0927706B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-21 WO PCT/US1992/010874 patent/WO1993012934A1/en active IP Right Grant
- 1992-12-21 AU AU33229/93A patent/AU663559B2/en not_active Expired
- 1992-12-21 MX MX9207591A patent/MX9207591A/es unknown
- 1992-12-21 WO PCT/US1992/010873 patent/WO1993013393A1/en active IP Right Grant
- 1992-12-21 CZ CZ19931734A patent/CZ286855B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 AT AT93901245T patent/ATE186039T1/de not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 EP EP93901245A patent/EP0573639B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-21 ES ES99106266T patent/ES2221257T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-21 PL PL92300480A patent/PL169649B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1992-12-21 SK SK915-93A patent/SK282993B6/sk unknown
- 1992-12-26 CN CN92115316A patent/CN1041815C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-26 CN CN92115289A patent/CN1041814C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-26 CN CN92115290A patent/CN1043988C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-28 UY UY23528A patent/UY23528A1/es not_active IP Right Cessation
- 1992-12-28 PT PT101159A patent/PT101159B/pt active IP Right Grant
- 1992-12-28 UY UY23527A patent/UY23527A1/es not_active IP Right Cessation
- 1992-12-28 PT PT101161A patent/PT101161B/pt not_active IP Right Cessation
- 1992-12-28 PT PT101160A patent/PT101160B/pt active IP Right Grant
- 1992-12-28 UY UY23526A patent/UY23526A1/es not_active IP Right Cessation
- 1992-12-28 AR AR92324007A patent/AR248263A1/es active
-
1993
- 1993-02-03 MY MYPI93000167A patent/MY110355A/en unknown
- 1993-07-19 EP EP93901244A patent/EP0582691A4/en not_active Withdrawn
- 1993-08-25 NO NO19933031A patent/NO316683B1/no not_active IP Right Cessation
- 1993-08-25 NO NO19933030A patent/NO316642B1/no unknown
- 1993-08-25 NO NO19933029A patent/NO316641B1/no unknown
- 1993-12-13 US US08/104,125 patent/US5401305A/en not_active Ceased
-
1999
- 1999-04-07 US US09/287,664 patent/USRE41799E1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-29 GR GR990402439T patent/GR3031624T3/el unknown
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CZ289572B6 (cs) | Skleněný výrobek | |
RU2118302C1 (ru) | Способ получения покрытия на стеклянной подложке (варианты) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD00 | Pending as of 2000-06-30 in czech republic | ||
MK4A | Patent expired |
Effective date: 20121221 |