CN210414069U - 一种耐用型研磨抛光磨皮 - Google Patents

Abstract

本实用新型公布了一种耐用型研磨抛光磨皮，包括磨皮本体，和磨皮本体中心设置的定位孔，磨皮本体的上表面为抛光层，该抛光层上设有以定位孔为中心呈放射状设置的第一沟槽，与第一沟槽连通的第二沟槽，以及与定位孔同心设置的圆环槽，所述第一沟槽、第二沟槽以及圆环槽相互连通，且第一沟槽、第二沟槽以及圆环槽相互围城研磨单元，每个研磨单元内设有网格沟槽，网格沟槽内由相互连通的单一槽组成，该网格沟槽与所述第一沟槽或第二沟槽连通，网格沟槽与所述圆环槽相互连通；第一沟槽、第二沟槽、圆环槽以及网格沟槽宽度和/或深度不规则设置，第一沟槽、第二沟槽、网格沟槽内底部设有填充层，抛光层内具有回弹腔体；本实用新型能够抛光质量好，使用寿命延长。

Description

一种耐用型研磨抛光磨皮

技术领域

本实用新型涉及抛光磨皮领域，特别是一种耐用型研磨抛光磨皮。

背景技术

在我们实际研磨抛光过程中，研磨抛光主要讲的是化学机械抛光(CMP: ChemicalMechanical Polishing)。CMP是化学的和机械的综合作用，在一定压力及抛光浆料存在下，在抛光液中的腐蚀介质作用下工件表面形成一层软化层，抛光液中的磨粒对工件上的软化层进行磨削，因而在被研磨的工件表面形成光洁表面。抛光皮的作用：把抛光液有效均匀地输送到抛光皮的不同区域；从被加工表面带走抛光过程中的残留物质、碎屑等，达到去除效果；传递和承载加工去除过程中所需的机械载荷；维持抛光皮表面的抛光液薄膜，以便化学反应充分进行；保持抛光过程的平稳、表面不变形，以便获得较好的产品表面形貌。因此研发一种具有以上作用的抛光磨皮势在必行。

实用新型内容

为了解决上述存在的问题，本实用新型公开了一种耐用型研磨抛光磨皮，包括磨皮本体，和磨皮本体中心设置的定位孔，所述磨皮本体的上表面为抛光层，该抛光层上设有以所述定位孔为中心呈放射状设置的第一沟槽，与所述第一沟槽连通的第二沟槽，以及与所述定位孔同心设置的圆环槽，所述第一沟槽、第二沟槽以及圆环槽相互连通，且第一沟槽、第二沟槽以及圆环槽相互围城研磨单元，每个研磨单元内设有网格沟槽，网格沟槽内由相互连通的单一槽组成，该网格沟槽与所述第一沟槽或第二沟槽连通，网格沟槽与所述圆环槽相互连通；所述第一沟槽、第二沟槽、圆环槽以及网格沟槽宽度和/或深度不相等设置，所述第一沟槽、第二沟槽、网格沟槽内底部设有填充层，具体地，所述填充层的材质采用无机材料；或所述填充层的材质采用微溶于碱液或者酸液的有机材料，所述抛光层内具有回弹腔体。

优选地，所述第一沟槽、第二沟槽以定位孔为中心向外宽度逐渐增大。

优选地，所述圆环槽的宽度以所述定位孔为中心向外逐渐增大。

优选地，所述单一槽宽度小于所述圆环槽的最小宽度。

优选地，所述单一槽宽度小于所述第一沟槽和/或第二沟槽的最小宽度。

优选地，所述第二沟槽为波浪形或同向开口的C型。

优选地，所述第一沟槽为直线型。

优选地，所述回弹腔体为无序分布的长条状或椭圆状。

本实用新型的有益效果：(1)通过设置第一沟槽和第二沟槽，同时将第二沟槽设置成波浪形或C型，用来减慢抛光液的流动，使得抛光介质能够很好地和抛光件接触；提高抛光质量；(2)通过设置宽度不一的沟槽，能够对大小不一的抛光渣进行排放，避免残留影响抛光质量；(3)在第一沟槽、第二沟槽、网格沟槽内底部设有填充层，能够在长时间使用后，抛光层被磨损，使得沟槽的深度呗减小或磨平，该填充层设置为无机材料或采用微溶于碱液或者酸液的有机材料，能够在使用的过程中，微溶于抛光液中，使得沟槽深度增加，使得抛光液的流动能力得以改善，延长使用寿命。(4)通过在抛光层内设置回弹腔体，能够帮助抛光层回弹至原始状态。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图；

图2是本实用新型的侧视图；

图中，1-抛光层，2-定位孔，3-圆环槽，4-第一沟槽，5-第二沟槽，6-回弹腔体，7-研磨单元。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面结合附图对本实用新型的具体实施例做详细说明。

实施例1

如图1、图2所示，一种耐用型研磨抛光磨皮，包括磨皮本体，和磨皮本体中心设置的定位孔2，所述磨皮本体的上表面为抛光层1，该抛光层1上设有以所述定位孔2为中心呈放射状设置的第一沟槽4，与所述第一沟槽4连通的第二沟槽5，以及与所述定位孔2同心设置的圆环槽3，所述第一沟槽4、第二沟槽5 以及圆环槽3相互连通，且第一沟槽4、第二沟槽5以及圆环槽3相互围城研磨单元7，每个研磨单元7内设有网格沟槽，网格沟槽内由相互连通的单一槽组成，该网格沟槽与所述第一沟槽4或第二沟槽5连通，网格沟槽与所述圆环槽3相互连通；所述第一沟槽4、第二沟槽5、圆环槽3以及网格沟槽宽度和/或深度不相等设置，所述第一沟槽4、第二沟槽5、网格沟槽内底部设有填充层，具体实施时，所述填充层的材质采用无机材料；或所述填充层的材质采用微溶于碱液或者酸液的有机材料，该设置能够在长时间使用后，由于抛光层被磨损，使得沟槽的深度呗减小或磨平，该填充层设置为无机材料或采用微溶于碱液或者酸液的有机材料，能够在使用的过程中，微溶于抛光液中，使得沟槽深度增加，使得抛光液的流动能力得以改善，延长使用寿命，所述抛光层1内具有回弹腔体6，所述回弹腔体6为无序分布的长条状或椭圆状，该设置能够有效在使用完成后，有效帮助磨皮回弹。

具体实施时所述第一沟槽4、第二沟槽5以定位孔2为中心向外宽度逐渐增大。

所述圆环槽3的宽度以所述定位孔2为中心向外逐渐增大。

所述单一槽宽度小于所述圆环槽3的最小宽度。

所述单一槽宽度小于所述第一沟槽4和/或第二沟槽5的最小宽度。单一槽、圆环槽以及第一沟槽、第二沟槽的宽度、深度不相等设置，能够有效排放大小不一的抛光料渣。

所述第二沟槽5为波浪形或同向开口的C型，用来减慢抛光液的流动，使得抛光介质能够很好地和抛光件接触；提高抛光质量。

所述第一沟槽4为直线型。

上述实施例仅描述现有设备最优使用方式，而运用类似的常用机械手段代替本实施例中的元素，均落入保护范围。

Claims (8)

1.一种耐用型研磨抛光磨皮，包括磨皮本体，和磨皮本体中心设置的定位孔(2)，其特征在于：所述磨皮本体的上表面为抛光层(1)，该抛光层(1)上设有以所述定位孔(2)为中心呈放射状设置的第一沟槽(4)，与所述第一沟槽(4)连通的第二沟槽(5)，以及与所述定位孔(2)同心设置的圆环槽(3)，所述第一沟槽(4)、第二沟槽(5)以及圆环槽(3)相互连通，且第一沟槽(4)、第二沟槽(5)以及圆环槽(3)相互围城研磨单元(7)，每个研磨单元(7)内设有网格沟槽，网格沟槽内由相互连通的单一槽组成，该网格沟槽与所述第一沟槽(4)或第二沟槽(5)连通，网格沟槽与所述圆环槽(3)相互连通；所述第一沟槽(4)、第二沟槽(5)、圆环槽(3)以及网格沟槽的宽度和/或深度不相等设置，所述第一沟槽(4)、第二沟槽(5)、网格沟槽内底部设有填充层，所述抛光层(1)内具有回弹腔体(6)。

2.根据权利要求1所述的一种耐用型研磨抛光磨皮，其特征在于：所述第一沟槽(4)、第二沟槽(5)以定位孔(2)为中心向外宽度逐渐增大。

3.根据权利要求1所述的一种耐用型研磨抛光磨皮，其特征在于：所述圆环槽(3)的宽度以所述定位孔(2)为中心向外逐渐增大。

4.根据权利要求1所述的一种耐用型研磨抛光磨皮，其特征在于：所述单一槽宽度小于所述圆环槽(3)的最小宽度。

5.根据权利要求4所述的一种耐用型研磨抛光磨皮，其特征在于：所述单一槽宽度小于所述第一沟槽(4)和/或第二沟槽(5)的最小宽度。

6.根据权利要求5所述的一种耐用型研磨抛光磨皮，其特征在于：所述第二沟槽(5)为波浪形或同向开口的C型。

7.根据权利要求6所述的一种耐用型研磨抛光磨皮，其特征在于：所述第一沟槽(4)为直线型。

8.根据权利要求7所述的一种耐用型研磨抛光磨皮，其特征在于：所述回弹腔体(6)为无序分布的长条状或椭圆状。

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