CN210414072U - 一种新型无纺布纤维研磨抛光垫 - Google Patents

Abstract

本实用新型公布了一种新型无纺布纤维研磨抛光垫，包括抛光层和背板，所述抛光层截面为圆形，所述抛光层上设有以该圆形抛光层同圆心设置的横向环槽以及以所述圆形面的圆心为中心发散式设置的径向槽，所述径向槽与所述横向环槽的相交点处设有二次放射状槽，所述二次放射状槽为V型；所述径向槽的宽度不规则设置；所述横向环槽和/或所述径向槽和/或所述二次放射状槽底部设有填充层；本实用新型能够对大小不一的抛光料屑进行排屑，也还能进一步减速抛光介质，从而很好的解决了排屑的问题，从而避免沟槽的堵塞问题，从而解决由此带来的一系列问题。

Description

一种新型无纺布纤维研磨抛光垫

技术领域

本实用新型涉及抛光垫领域，特别是一种新型无纺布纤维研磨抛光垫。

背景技术

抛光是利用柔性抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光的目的是使工件获得光滑的表面或得到镜面光泽，有时也用以消除光泽(即消光)，但是抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度。

在CMP过程中，抛光液与抛光垫共同与被加工对象发生相互作用。其中，抛光液起到输运化学物质、软化加工表面，带走加工废屑的作用；而抛光垫则对被加工对象的表面软化层进行机械刻划。通过化学作用与机械作用的交互，达到使被加工对象表面平坦化的目标。因此，抛光垫上的引流槽设计非常关键。

实用新型内容

为了解决上述存在的问题，本实用新型公开了一种新型无纺布纤维研磨抛光垫，包括抛光层和背板，所述抛光层截面为圆形，所述抛光层上设有以该圆形抛光层同圆心设置的横向环槽以及以所述圆形面的圆心为中心发散式设置的径向槽，所述径向槽与所述横向环槽的相交点处设有二次放射状槽，所述二次放射状槽为V型；

所述径向槽的宽度不相等设置；

所述横向环槽和/或所述径向槽和/或所述二次放射状槽底部设有填充层。

优选地，所述径向槽为波浪形。

优选地，所述径向槽为朝向同一方向的C型。

优选地，所述横向环槽的深度以圆形抛光层的中心向外依次减小。

优选地，所述抛光层内设有回弹腔体。

优选地，所述二次放射状槽的V型夹角为30-60°。

本实用新型的有益效果：(1)通过设置径向槽，用来减慢抛光介质沿径向向外的流动，以及增设二次放射状槽，由于线速度的增大，也能进一步减慢抛光介质沿径向向外的流动；(2)同时增设填充体，能够在长时间使用后，研磨层被磨损，填充层的去除和损失，会让抛光液得到很好的留存作用；(3)将横向环槽和径向槽的宽度设置不一致，能够对大小不一的抛光料屑进行排屑，也还能进一步减速抛光介质，从而很好的解决了排屑的问题，从而避免沟槽的堵塞问题，从而解决由此带来的一系列问题。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图；

图2是本实用新型的侧视图；

图3是实施例2的结构示意图；

图中，1-抛光层，2-横向环槽，3-二次放射状槽，4-径向槽，5-回弹腔体， 6-背板。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面结合附图对本实用新型的具体实施例做详细说明。

实施例1

如图1、图2所示，一种新型无纺布纤维研磨抛光垫，包括抛光层1和背板 6，所述抛光层1截面为圆形面，所述抛光层1上设有以所述圆形面同圆心设置的横向环槽2以及以所述圆形面的圆心为中心发散式设置的径向槽4，所述径向槽4与所述横向环槽2的相交点处设有二次放射状槽3，所述二次放射状槽3为 V型；

所述径向槽4的宽度不相等设置；能够有效对大小不一的料屑进行排渣；

所述横向环槽2和/或所述径向槽4和/或所述二次放射状槽3底部设有填充层，具体实施时，所述填充层的材质采用无机材料；或所述填充层的材质采用微溶于碱液或者酸液的有机材料，因当抛光液在该抛光垫上流动时，槽内设置的填充层能够在一定程度上使抛光液在槽内的流动受到一定的限制作用；随着抛光的时间增加，抛光垫的上表面将会被磨损，槽深度将会发生变化，即槽深变浅甚至被磨平，由于填充层的存在，一方面可减缓凹槽磨损，增加抛光垫的使用时间；另一方面，可将网格状凹槽内的填充层去除，由于填充层的材质关系，其能够微溶于抛光液中，从而使抛光液在凹槽深度得以改善，从而使得流动能力得以改善，确保抛光液能够均匀地分散到抛光布本体的表面，保证抛光液的顺利流通，由以上可知，在槽内设置填充层，增加了抛光垫的使用寿命，实用性较强。

所述径向槽4为波浪形，延长抛光液流通时间，提高抛光效果。

实施例2

本实施例是在实施例1的基础上作出的进一步优化，如图3所示，具体是所述径向槽4为朝向同一方向的C型。

所述横向环槽2的深度以圆形抛光层的中心向外依次减小。

所述抛光层内设有回弹腔体5。

所述二次放射状槽的V型夹角为30-60°，优选45°。

上述实施例仅描述现有设备最优使用方式，而运用类似的常用机械手段代替本实施例中的元素，均落入保护范围。

Claims (6)

1.一种新型无纺布纤维研磨抛光垫，其特征在于：包括抛光层(1)和背板(6)，所述抛光层(1)截面为圆形面，所述抛光层(1)上设有以所述圆形面同圆心设置的横向环槽(2)以及以所述圆形面的圆心为中心发散式设置的径向槽(4)，所述径向槽(4)与所述横向环槽(2)的相交点处设有二次放射状槽(3)，所述二次放射状槽(3)为V型；

所述径向槽(4)的宽度不相等设置；

所述横向环槽(2)和/或所述径向槽(4)和/或所述二次放射状槽(3)底部设有填充层。

2.根据权利要求1所述的一种新型无纺布纤维研磨抛光垫，其特征在于：所述径向槽(4)为波浪形。

3.根据权利要求1所述的一种新型无纺布纤维研磨抛光垫，其特征在于：所述径向槽为朝向同一方向的C型。

4.根据权利要求3所述的一种新型无纺布纤维研磨抛光垫，其特征在于：所述横向环槽的深度以圆形抛光层的中心向外依次减小。

5.根据权利要求4所述的一种新型无纺布纤维研磨抛光垫，其特征在于：所述抛光层内设有回弹腔体。

6.根据权利要求5所述的一种新型无纺布纤维研磨抛光垫，其特征在于：所述二次放射状槽的V型夹角为30-60°。

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