JP2014195839A - 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】湿式研磨パッド7は、研磨面9に複数の溝17が形成された湿式研磨パッドであって、涙形気泡25を有する研磨シート19と、研磨シート19の一方の面19aに形成された接着層23と、涙形気泡25を有し一方の面21aが接着層23に貼り付けられた研磨シート21と、を備え、複数の溝17は、研磨シート19の他方の面19bから、研磨シート23の他方の面21b近傍までの深さを有している。
【選択図】図3
Description
実施例では、100%モジュラス8.0MPaのポリエステル系ポリウレタン樹脂(30部)及びDMF(70部)を含む溶液100部に、別途DMF56部、及びカーボンブラック7部を添加し、これらを混合することにより樹脂含有溶液を得た。得られた樹脂含有溶液を、クリアランス0.5mmに設定したリバースコータを用いてポリエステルフィルム状に0.5mm厚にてキャストした。その後、樹脂含有溶液をキャストしたポリエステルフィルムを凝固浴(水)に浸漬し、該樹脂溶液を凝固させた後、洗浄・乾燥させて研磨シートを得た。続いて得られた研磨シートから第一の湿式研磨シート及び第二の湿式研磨シートを切り出した。
実施例1と同様の方法にて湿式研磨シートを得たのち、PET製の基材を有する両面テープを貼り合わせ、湿式研磨パッドを得た。その後、実施例1と同様にエンボス加工を施した。得られた研磨パッドの研磨層の厚みは0.4mmであった。
クリアランスを1.0mmに設定する以外は、実施例1と同様の方法にて湿式研磨シートを得たのち、PET製の基材を有する両面テープを貼り合わせ、研磨パッドを得た。その後、実施例1と同様にエンボス加工を施した。得られた研磨パッドの研磨層の厚みは0.75mmであった。
実施例及び比較例1,2の湿式研磨パッドについて、以下の条件で摩耗試験を行い、製品寿命を測定した。ドレッサとしてはダイヤモンドレッサー(砥粒サイズ:250μm、3M社製、商品名「A188」)を用いた。
研磨機として、(株)荏原製作所製、商品名「F−REX300」を使用した。このとき、定盤回転数を80rpm、ドレス圧力を12N、スラリー吐出量を200mL/分に設定した。スラリーとしては純水を用いた。また、磨耗試験を開始する前に、研磨パッドを立ち上げる目的で、ドレス圧力20Nで10分間ドレッシングを行った。
17 溝
19 研磨シート
21 研磨シート
23 接着層
25 涙形気泡
Claims (6)
- 研磨面に複数の溝が形成された湿式研磨パッドであって、
涙形気泡を有する第一の湿式研磨シートと、
この第一の湿式研磨シートの一方の面に形成された接着層と、
涙形気泡を有し一方の面が前記接着層に貼り付けられた第二の湿式研磨シートと、を備え、
前記複数の溝は、前記第一の湿式研磨シートの他方の面から、前記第二の湿式研磨シートの他方の面近傍までの深さを有している、湿式研磨パッド。 - 前記溝はエンボス加工によって形成されている、請求項1に記載の湿式研磨パッド。
- 前記第一の湿式研磨シートの前記一方の面は、前記第一の湿式研磨シートの前記涙形気泡の丸底部が形成されている側の面であり、前記第二の湿式研磨シートの前記一方の面は、当該第二の湿式研磨シートの前記涙形気泡の丸底部が形成されている側の面である、請求項1又は2に記載の湿式研磨パッド。
- 前記接着層は、ポリウレタン系樹脂である、請求項1乃至3の何れか1項に記載の湿式研磨パッド。
- 前記第一の湿式研磨シートの涙形気泡は、研磨面に開口している請求項1乃至4の何れか1項に記載の湿式研磨パッド。
- 研磨面に複数の溝が形成された湿式研磨パッドの製造方法であって、
涙形気泡を有する第一の湿式研磨シートの一方の面に接着層を形成し、
涙形気泡を有する第二の湿式研磨シートの一方の面を前記接着層に貼り付け、
前記第一の湿式研磨シートの他方の面から、前記第二の湿式研磨シートの他方の面近傍までの深さを有する、前記複数の溝を形成することを備える、湿式研磨パッドの製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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WO2018181347A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 古河電気工業株式会社 | 研磨パッド |
KR20200093925A (ko) * | 2019-01-29 | 2020-08-06 | 삼성전자주식회사 | 재생 연마패드 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007260884A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Fujibo Holdings Inc | 研磨布 |
JP2010234458A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Fujibo Holdings Inc | 研磨パッド |
JP2012096344A (ja) * | 2010-11-05 | 2012-05-24 | Fujibo Holdings Inc | 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007260884A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Fujibo Holdings Inc | 研磨布 |
JP2010234458A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Fujibo Holdings Inc | 研磨パッド |
JP2012096344A (ja) * | 2010-11-05 | 2012-05-24 | Fujibo Holdings Inc | 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10071461B2 (en) | 2014-04-03 | 2018-09-11 | 3M Innovative Properties Company | Polishing pads and systems and methods of making and using the same |
US10252396B2 (en) | 2014-04-03 | 2019-04-09 | 3M Innovative Properties Company | Polishing pads and systems and methods of making and using the same |
WO2018181347A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 古河電気工業株式会社 | 研磨パッド |
KR20200093925A (ko) * | 2019-01-29 | 2020-08-06 | 삼성전자주식회사 | 재생 연마패드 |
KR102674027B1 (ko) | 2019-01-29 | 2024-06-12 | 삼성전자주식회사 | 재생 연마패드 |
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