CN109791377A - 树脂掩膜剥离用洗涤剂组合物 - Google Patents

树脂掩膜剥离用洗涤剂组合物 Download PDF

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Abstract

本公开提供一种树脂掩膜去除性优异且排水处理负荷较小的树脂掩膜剥离用洗涤剂组合物。本公开涉及一种树脂掩膜剥离用洗涤剂组合物，在一样式中，含有无机碱(成分A)、有机溶剂(成分B)及水(成分C)，成分B的汉森溶解度参数的坐标处于以δd＝17.5、δp＝5.0、δh＝11.5为中心的半径1.5MPa0.5的球的范围内，洗涤剂组合物的使用时的成分C的含量为85质量％以上，成分A相对于成分B的质量比(A/B)为1以上且60以下。

Description

树脂掩膜剥离用洗涤剂组合物
技术领域
本公开涉及一种树脂掩膜剥离用洗涤剂组合物、及使用该洗涤剂组合物的树脂掩膜的去除方法及电子零件的制造方法。
背景技术
近年来，在个人计算机、各种电子器件中，低耗电化、处理速度的高速化、小型化不断发展，搭载于它们的封装基板等的布线逐年微细化。这种微细布线以及柱或凸块等连接端子的形成迄今为止主要使用金属掩膜法，但由于通用性较低、难以应对布线等的微细化，故而正逐步转换为其他新方法。
作为新方法之一，已知将干膜抗蚀剂代替金属掩膜而用作厚膜树脂掩膜的方法。该树脂掩膜最终将被剥离、去除，此时使用碱性的剥离用洗涤剂。作为这种剥离用洗涤剂，例如，专利文献1中记载有一种用于制造电路基板的树脂掩膜层用洗涤剂组合物，其在洗涤剂组合物100质量份中，含有0.5质量份以上且3.0质量份以下的季铵氢氧化物，含有3.0质量份以上且10.0质量份以下的水溶性胺，含有0.3质量份以上且2.5质量份以下的酸或其铵盐，含有50.0质量份以上且95.0质量份以下的水。
专利文献2中记载有一种用以去除膜、抗蚀剂的组合物，其包含：组合物的总重量的约2～55重量％的至少一种烷醇胺、至少一种吗啉或它们的混合物；以及约20～94重量％的至少一种有机溶剂；以及约0.5～60重量％的水。
专利文献3中记载有一种抗蚀剂剥离液，其用以去除在制造IC(集成电路)或LSI(大规模集成电路)等半导体元件或液晶面板元件时的蚀刻、灰化(ashing)后所产生的残渣物，其含有(a)氟化合物、(b)分子内具有醚键的二元醇化合物、(c)有机酸化合物、及(d)水而成。
专利文献4中记载有一种剥离液，其为作为所谓抗蚀剂用显影液，而剥离环氧树脂系光致阻焊剂的未感光部分的剥离液，其特征在于，在碱性溶液中添加有丙烯系二醇醚的添加剂。
专利文献5中记载有一种抗蚀剂去除用稀释剂组合物，其用以将涂敷于基板上的抗蚀剂膜的缘部或形成于基板的背面的无用的膜成分的抗蚀剂去除，防止装备的腐蚀，其特征在于，包含：a)无机碱性化合物0.1至5重量％、b)有机胺0.1至5重量％、c)有机溶剂0.1至30重量％、d)以1：5至25的重量比包含阴离子系表面活性剂及非离子系表面活性剂的表面活性剂0.01至5重量％、及e)水60至99重量％。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2015－79244号公报
专利文献2：日本特开2014－78009号公报
专利文献3：日本特开2004－157284号公报
专利文献4：日本特开平7－140676号公报
专利文献5：日本特表2005－509693号公报
发明内容
发明所要解决的课题
在印刷基板等上形成微细布线后，为了减少树脂掩膜的残存、及微细布线或凸块的形成所使用的焊料或镀覆液等所包含的助剂等的残存，对洗涤剂组合物要求较高的洗涤性。树脂掩膜为使用对于显影液的溶解性等物性因光、电子束等而发生变化的抗蚀剂而形成的。而且，抗蚀剂根据与光、电子束的反应方法，大致分为负型及正型。负型抗蚀剂具有若曝光则对于显影液的溶解性降低的特性，就包含负型抗蚀剂的层(以下亦称为“负型抗蚀剂层”)而言，在曝光及显影处理后，曝光部用作树脂掩膜。正型抗蚀剂具有若曝光则对于显影液的溶解性增大的特性，就包含正型抗蚀剂的层(以下亦称为“正型抗蚀剂层”)而言，在曝光及显影处理后，将曝光部去除，将未曝光部用作树脂掩膜。通过使用具有这种特性的树脂掩膜，可形成金属布线、金属柱、焊料凸块等电路基板的微细的连接部。但是，因形成这些连接部时所使用的镀覆处理、加热处理等而树脂掩膜的特性发生变化，在以下工序的洗涤工序中难以去除树脂掩膜。尤其是，由于负型抗蚀剂具有因与光、电子束的反应而固化的特性，因此使用负型抗蚀剂而形成的树脂掩膜因形成连接部时所使用的镀覆处理、加热处理等而超出需要地固化，通过洗涤工序无法完全去除，或者，去除所耗费的时间非常长，从而给基板、金属表面带来损害。如此，由于经镀覆处理和/或加热处理的树脂掩膜难以剥离，因此对洗涤剂组合物要求较高的树脂掩膜去除性。
另一方面，在各领域中，电子化不断发展，印刷基板等的生产量增加。此外，出于所使用的机器或装置的小型化、处理速度的高速化、消耗电力减少的目的，有布线微细化，多层化，剥离、洗涤工序增加，洗涤剂组合物的使用量亦增加的倾向。伴随该洗涤剂组合物的使用量的增加，洗涤剂组合物或冲洗水等废液的排水处理负荷、因废液流入所导致的湖沼的富营养化亦增大，因此强烈需要排水处理负荷较小、不含有成为湖沼的富营养化的原因的氮及磷、且可高效率地去除树脂掩膜的洗涤剂组合物。但是，根据上述专利文献所记载的方法，难以兼备较高的树脂掩膜去除性及较低的排水处理负荷。
因此，本公开提供一种树脂掩膜去除性优异且排水处理负荷较小的树脂掩膜剥离用洗涤剂组合物、及使用该洗涤剂组合物的树脂掩膜的去除方法及基板的制造方法。
用于解决课题的手段
本公开在一种样式中，涉及一种树脂掩膜剥离用洗涤剂组合物，其含有无机碱(成分A)、有机溶剂(成分B)及水(成分C)，
成分B的汉森溶解度参数的坐标处于以δd＝17.5、δp＝5.0、δh＝11.5为中心的半径1.5MPa0.5的球的范围内，
洗涤剂组合物的使用时的成分C的含量为85质量％以上，
成分A相对于成分B的质量比(A/B)为1以上且60以下。
本公开在一种样式中，涉及一种树脂掩膜的去除方法，其包括：用本公开的洗涤剂组合物对附着有树脂掩膜的被洗涤物进行洗涤的工序。
本公开在一种样式中，涉及一种电子零件的制造方法，其包括：用本公开的洗涤剂组合物对附着有树脂掩膜的被洗涤物进行洗涤的工序。
本公开在一种样式中，涉及本公开的洗涤剂组合物在电子零件的制造中的应用。
发明的效果
根据本公开，可提供一种树脂掩膜去除性优异且排水处理负荷较小的树脂掩膜剥离用洗涤剂组合物。而且，通过使用本公开的洗涤剂组合物，能够以较高的产率获得高质量的电子零件。此外，通过使用本公开的洗涤剂组合物，可高效率地制造具有微细的布线图案的电子零件。
具体实施方式
本公开基于以下见解：通过使用含有无机碱(成分A)、具有规定的汉森溶解度参数的有机溶剂(成分B)及水(成分C)、且成分C的含量、及成分A与成分B的质量比被特定的洗涤剂组合物，由此，即便为较低的排水处理负荷，亦可高效率地去除树脂掩膜、尤其是经镀覆处理和/或加热处理的树脂掩膜。另外，还基于以下见解：通过使洗涤剂组合物中不含有含氮化合物及含磷化合物，可抑制湖沼的富营养化。
即，本公开在一种样式中，涉及一种树脂掩膜剥离用洗涤剂组合物(以下亦称为“本公开的洗涤剂组合物”)，其含有无机碱(成分A)、有机溶剂(成分B)及水(成分C)，成分B的汉森溶解度参数的坐标处于以δd＝17.5、δp＝5.0、δh＝11.5为中心的半径1.5MPa0.5的球的范围内，洗涤剂组合物的使用时的成分C的含量为85质量％以上，成分A相对于成分B的质量比(A/B)为1以上且60以下。根据本公开，可提供一种树脂掩膜去除性优异、且排水处理负荷较小的洗涤剂组合物。因此，即便为较低的排水处理负荷，本公开的洗涤剂组合物亦可高效率地去除树脂掩膜、尤其是经镀覆处理和/或加热处理的树脂掩膜。而且，通过使用本公开的洗涤剂组合物，能够以较高的产率获得高质量的电子零件。此外，通过使用本公开的洗涤剂组合物，可高效率地制造具有微细的布线图案的电子零件。
本公开的洗涤剂组合物的效果的详细的作用机制有不明确的部分，但推定如下。
一般而言，认为树脂掩膜的剥离起因于：洗涤剂组合物的成分浸渗树脂掩膜，从而树脂掩膜溶胀所产生的界面应力。关于本公开的洗涤剂组合物，推定：成分A(无机碱)与成分C(水)浸渗于树脂掩膜，由此促进配合于树脂掩膜的碱可溶性树脂的解离，此外通过引起电荷排斥而促进树脂掩膜的剥离。此时，推定：具有规定的汉森溶解度参数的成分B(有机溶剂)在基板表面与树脂掩膜之间发挥作用，由此基板－树脂间的密接力降低而进一步促进树脂掩膜的剥离，树脂掩膜去除性明显提高。
另外，推定：本公开的洗涤剂组合物通过以规定的质量比(A/B＝1～60)含有具有规定的汉森溶解度参数的成分B，从而成分B与树脂掩膜的树脂成分的相容性变高，在树脂掩膜与水的界面发挥有效的剥离作用，树脂掩膜去除性进一步提高。
此外，推定：由于使用本公开的洗涤剂组合物时的成分C的水的含量高达85质量％以上，因此可减少洗涤剂组合物中的有机物含量，可抑制排水处理负荷的增大。由此，认为可高效率地且以较高的清洁度于基板上形成微细的电路(布线图案)。
但是，本公开并不限定于该机制进行解释。
本公开中，树脂掩膜是指：用以保护物质表面免受蚀刻、镀覆、加热等处理的影响的掩膜，即作为保护膜来发挥作用的掩膜。作为树脂掩膜，在一个或多个实施方式中，可列举：曝光或显影工序后的抗蚀剂层、实施了曝光及显影中的至少一种处理(以下亦称为“经曝光和/或显影处理”)的抗蚀剂层、或经固化的抗蚀剂层。作为形成树脂掩膜的树脂材料，在一个或多个实施方式中，可列举：膜状的感旋光性树脂或抗蚀剂膜。抗蚀剂膜可使用通用者。
[成分A：无机碱]
本公开的洗涤剂组合物包含无机碱(成分A)。成分A可使用一种或并用两种以上。
作为成分A，例如，可列举选自氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、氢氧化钙、碳酸钠、碳酸钾、硅酸钠及硅酸钾中的一种或两种以上的组合，从提高树脂掩膜去除性的观点出发，优选为选自氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠及碳酸钾中的一种或两种以上的组合，更优选为氢氧化钠及氢氧化钾的至少一者。
关于使用本公开的洗涤剂组合物时的成分A的含量，从提高树脂掩膜去除性的观点出发，优选为0.1质量％以上，更优选为0.3质量％以上，进一步优选为0.5质量％以上，更进一步优选为1质量％以上，更进一步优选为2质量％以上，而且，从提高树脂掩膜去除性及抑制金属腐蚀的观点出发，优选为15质量％以下，更优选为10质量％以下，进一步优选为7质量％以下，更进一步优选为5质量％以下。在成分A包含两种以上的无机碱的情况下，成分A的含量是指它们的合计含量。
本公开中，“洗涤剂组合物的使用时的各成分的含量”是指洗涤时、即将洗涤剂组合物用于洗涤的时间点时的各成分的含量。
成分B：有机溶剂
本公开的洗涤剂组合物包含有机溶剂(成分B)。成分B可使用一种或并用两种以上。
在本公开中，成分B的汉森溶解度参数的坐标处于以δd＝17.5、δp＝5.0、δh＝11.5为中心的半径1.5MPa0.5的球的范围内。在本公开的洗涤剂组合物包含两种以上的有机溶剂(以下亦称为“混合有机溶剂”)的情况下，混合有机溶剂整体的汉森溶解度参数不在上述范围内亦可，只要混合有机溶剂中包含至少一种具有上述范围内的汉森溶解度参数的有机溶剂就能够发挥本公开的效果。
此处，汉森溶解度参数(Hansen solubility parameter)(以下亦称为“HSP”)为由Charles M.Hansen于1967年发表的用于预测物质的溶解性的值，是基于“分子间的相互作用相似的两种物质易相互溶解”的思想的参数。HSP由以下三个参数(单位：MPa0.5)所构成。
δd：基于分子间的分散力的能量
δp：基于分子间的偶极相互作用的能量
δh：基于分子间的氢键的能量
上述三个参数可视为三维空间(汉森空间)的坐标，将两种物质的HSP置于汉森空间内时，两点间的距离越近，表示越容易相互溶解。化学工业2010年3月号(化学工业公司)等中有详细的说明，通过使用计算机用软件“HSPiP：Hansen Solubility Parameters inPractice”等，可获得各种物质的汉森溶解度参数。本公开使用了利用该计算机用软件“HSPiP：Hansen Solubility Parameters in Practice”所获得的汉森溶解度参数。
本公开中的成分B的HSP的坐标亦可表现如下。即，当将成分B的HSP的坐标设为(δdB、δpB、δhB)时，可设为该成分B的HSP的坐标(δdB、δpB、δhB)与成分坐标X(δd＝17.5、δp＝5.0、δh＝11.5)的距离(单位：MPa0.5)满足下述式。
距离＝[(δdB－17.5)2+(δpB－5.0)2+(δhB－11.5)2]0.5
≤1.5MPa0.5
作为成分B，只要是成分B的HSP的坐标与成分坐标X的距离满足上述式的有机溶剂，则可并无特别限定，例如可列举：选自丙二醇苯醚(距离：0.32MPa0.5)、乙二醇单苄醚(距离：1.18MPa0.5)、乙二醇单正己醚(距离：1.50MPa0.5)等二醇醚；1－甲基环己醇(距离：1.19MPa0.5)、3－甲基环己醇(距离：1.08MPa0.5)、4－甲基环己醇(距离：0.59MPa0.5)等单烷基醇；1－苯基－1－丙醇(距离：1.39MPa0.5)、2－苯基－1－丙醇(距离：1.37MPa0.5)等芳香族醇；等中的一种或两种以上的组合。从持久性的观点出发，优选为选自丙二醇苯醚、乙二醇单苄醚、乙二醇单正己醚、1－苯基－1－丙醇及2－苯基－1－丙醇中的一种或两种以上的组合，更优选为丙二醇苯醚及乙二醇单苄醚中的至少一者。从洗涤剂组合物的浓缩物的保存稳定性的观点出发，优选为选自乙二醇单苄醚、乙二醇单正己醚、1－甲基环己醇、2－苯基－1－丙醇及1－苯基－1－丙醇中的一种或两种以上的组合，更优选为选自乙二醇单苄醚、2－苯基－1－丙醇及1－苯基－1－丙醇中的一种或两种以上的组合。括号内的数值表示成分B的HSP的坐标与成分坐标X的距离(单位：MPa0.5)。在本公开中，持久性是指：即便长时间使用(循环洗涤)洗涤剂组合物亦确保良好的洗涤性。
从降低着火所导致的火灾风险、及持久性的观点出发，本公开中的成分B优选沸点较高，例如，成分B的沸点优选为160℃以上，更优选为250℃以上。从浓缩性的观点出发，本公开中，成分B优选对水的溶解度较高，例如，优选为成分B的对于水100mL的溶解度为0.3g以上。
从提高树脂掩膜去除性的观点出发，使用本公开的洗涤剂组合物时的成分B的含量优选为0.01质量％以上，更优选为0.05质量％以上，进一步优选为0.1质量％以上，从持久性的观点出发，更进一步优选为0.2质量％以上，而且，从减少排水处理负荷的观点出发，优选为3质量％以下，更优选为2质量％以下，进一步优选为1质量％以下，更进一步优选为0.5质量％以下。在成分B包含两种以上的有机溶剂的情况下，成分B的含量是指它们的合计含量。
本公开的洗涤剂组合物中的成分A相对于成分B的质量比(A/B)为1以上且60以下，从提高树脂掩膜去除性的观点出发，优选为1.1以上，更优选为1.2以上，进一步优选为1.5以上，更进一步优选为2以上，更进一步优选为3以上，更进一步优选为5以上，更进一步优选为10以上，更进一步优选为15以上，而且，从保存稳定性及减少排水处理负荷的观点出发，优选为50以下，更优选为40以下，进一步优选为30以下，更进一步优选为20以下。
[成分C：水]
本公开的洗涤剂组合物包含水(成分C)。作为成分C的水，可使用离子交换水、RO水(Reverse Osmosis water，反渗透水)、蒸馏水、纯水、超纯水。水的含量根据本公开的洗涤剂组合物的使用态样来适当设定即可。
使用本公开的洗涤剂组合物时的成分C的含量为85质量％以上，从提高树脂掩膜去除性的观点出发，优选为90质量％以上，更优选为95质量％以上，而且，从相同的观点出发，优选为99质量％以下，更优选为98质量％以下，进一步优选为97质量％以下。
[任意成分]
本公开的洗涤剂组合物除上述成分A～C以外，可视需要含有任意成分。作为任意成分，可列举能够用于通常的洗涤剂的成分，例如可列举：螯合剂、增稠剂、分散剂、防锈剂、碱性物质、表面活性剂、高分子化合物、助溶剂、抗氧化剂、防腐剂、消泡剂、抗菌剂等。使用本公开的洗涤剂组合物时的任意成分的合计含量优选为0质量％以上且2.0质量％以下，更优选为0质量％以上且1.5质量％以下，进一步优选为0质量％以上且1.3质量％以下，更进一步优选为0质量％以上且1.0质量％以下。
从减少排水处理负荷的观点出发，本公开的洗涤剂组合物中的成分B及源自任意成分的有机物的总含量优选为3质量％以下，更优选为2质量％以下，进一步优选为1质量％以下，更进一步优选为0.5质量％以下，而且，从提高树脂掩膜去除性的观点出发，优选为0.01质量％以上，更优选为0.05质量％以上，进一步优选为0.1质量％以上。
从减少排水处理负荷，抑制排水区域的富营养化的观点出发，优选本公开的洗涤剂组合物实质上不包含含氮化合物及含磷化合物。本公开中，“实质上不包含”是指：本公开的洗涤剂组合物中的含氮化合物及含磷化合物的合计含量未达0.1质量％。从减少排水处理负荷，抑制排水区域的富营养化的观点出发，本公开的洗涤剂组合物中的含氮化合物及含磷化合物的合计含量优选为0.05质量％以下，更优选为0.01质量％以下，进一步优选为0质量％。作为含氮化合物，可列举作为洗涤剂组合物而以往所广泛使用的含氮化合物，例如，可列举选自胺及其盐、氨、以及铵盐中的至少一种或两种以上的组合。作为上述胺，例如可列举：单乙醇胺、二乙醇胺等胺基醇。作为上述铵盐，例如可列举：四甲基氢氧化铵(TMAH)等季铵盐。作为含磷化合物，可列举作为洗涤剂组合物而以往所广泛使用的含磷化合物，例如可列举选自磷酸及其盐、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸等缩合磷酸及其盐等无机磷酸、以及有机磷酸、磷酸酯中的至少一种或两种以上的组合。
[洗涤剂组合物的制造方法]
本公开的洗涤剂组合物可通过使用公知的方法配合上述成分A～C及视需要的上述任意成分而制造。例如，本公开的洗涤剂组合物可设为至少配合上述成分A～C而成者。因此，本公开涉及一种洗涤剂组合物的制造方法，其包括至少配合上述成分A～C的工序。本公开中，“配合”包括将成分A～C及视需要的其他成分同时或按任意顺序进行混合。本公开的洗涤剂组合物的制造方法中，各成分的优选的配合量可设为与上述本公开的洗涤剂组合物的各成分的优选的含量相同。
从提高树脂掩膜去除性的观点出发，使用本公开的洗涤剂组合物时的pH优选为10.0以上，更优选为10.5以上，而且，从抑制金属腐蚀的观点出发，优选为14以下，更优选为13.9以下，进一步优选为13.7以下。pH为25℃下的洗涤剂组合物的pH，例如，可使用pH计(亚电波工业株式会社，HM－30G)进行测定。
本公开中，pH视需要可通过以所需量适当配合如下物质而进行调整：硝酸、硫酸等无机酸；羟基羧酸、多元羧酸、胺基聚羧酸、胺基酸等有机酸；及它们的金属盐或铵盐、氨、胺等成分A以外的碱性物质。
本公开的洗涤剂组合物亦可制备成在不会引起分离或析出等而损害保存稳定性的范围内减少成分C的水的量而成的浓缩物。就洗涤剂组合物的浓缩物而言，从运输及储存的观点出发，优选制成稀释倍率3倍以上的浓缩物，从保存稳定性的观点出发，优选制成稀释倍率10倍以下的浓缩物。洗涤剂组合物的浓缩物可以在使用时按照使成分A～C变成上述含量(即，洗涤时的含量)的方式用水稀释来使用。此外，洗涤剂组合物的浓缩物亦可在使用时分别添加各成分来使用。本公开中，浓缩液的洗涤剂组合物的“使用时”或“洗涤时”是指洗涤剂组合物的浓缩物经稀释后的状态。
在本公开的洗涤剂组合物为浓缩物的情况下，从提高树脂掩膜去除性的观点出发，洗涤剂组合物的浓缩物中的成分A的含量优选为1质量％以上，更优选为2质量％以上，进一步优选为5质量％以上，更进一步优选为10质量％以上，而且，从金属腐蚀的抑制及保存稳定性的观点出发，优选为40质量％以下，更优选为30质量％以下，进一步优选为20质量％以下，更进一步优选为10质量％以下。
在本公开的洗涤剂组合物为浓缩物的情况下，从提高树脂掩膜去除性的观点出发，洗涤剂组合物的浓缩物中的成分B的含量优选为0.1质量％以上，更优选为0.2质量％以上，进一步优选为0.5质量％以上，更进一步优选为1质量％以上，而且，从保存稳定性及减少排水处理负荷的观点出发，优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下，进一步优选为2质量％以下，更进一步优选为1.5质量％以下。
在本公开的洗涤剂组合物为浓缩物的情况下，从提高树脂掩膜去除性及使洗涤剂组合物稳定化的观点出发，洗涤剂组合物的浓缩物中的成分C的含量优选为50质量％以上，更优选为60质量％以上，进一步优选为70质量％以上，并且从相同的观点出发，优选为95质量％以下，更优选为90质量％以下，进一步优选为85质量％以下。
从提高稀释后的树脂掩膜去除性的观点出发，本公开的洗涤剂组合物的浓缩物的pH优选为10.0以上，更优选为10.5以上，并且从保存时及使用时的安全性的观点出发，优选为14以下。
[被洗涤物]
本公开的洗涤剂组合物在一个或多个实施方式中，能够用于洗涤附着有树脂掩膜的被洗涤物。作为被洗涤物，例如可列举：电子零件及其制造中间物。作为电子零件，例如可列举选自印刷基板、晶片、铜板及铝板等金属板中的至少一种零件。上述制造中间物为电子零件的制造工序中的中间制造物，包括树脂掩膜处理后的中间制造物。作为附着有树脂掩膜的被洗涤物的具体例，例如可列举：经过进行使用了树脂掩膜的焊接、镀覆处理(镀铜、镀铝、镀镍等)等处理的工序，由此，在基板表面形成了布线、连接端子等的电子零件等。
本公开的洗涤剂组合物在一个或复数个实施方式中，从洗涤效果方面出发，能够适宜用于洗涤附着有树脂掩膜、或者经镀覆处理和/或加热处理的树脂掩膜的被洗涤物。作为树脂掩膜，例如，可为负型树脂掩膜，亦可为正型树脂掩膜，从易发挥本公开的效果方面出发，优选为负型树脂掩膜。作为负型树脂掩膜，例如可列举：经曝光和/或显影处理的负型干膜抗蚀剂。本公开中，负型树脂掩膜为使用负型抗蚀剂而形成者，例如可列举：经曝光和/或显影处理的负型抗蚀剂层。本公开中，正型树脂掩膜为使用正型抗蚀剂而形成者，例如可列举：经曝光和/或显影处理的正型抗蚀剂层。
[树脂掩膜去除方法]
本公开在一种样式中，涉及树脂掩膜的去除方法(以下亦称为本公开的去除方法)，其包括：使附着有树脂掩膜的被洗涤物与本公开的洗涤剂组合物接触。本公开的去除方法具有：用本公开的洗涤剂组合物对附着有树脂掩膜的被洗涤物进行洗涤的工序。作为被洗涤物，可列举上述被洗涤物。作为使本公开的洗涤剂组合物与被洗涤物接触的方法、或用本公开的洗涤剂组合物对被洗涤物进行洗涤的方法，例如可列举：通过在装有洗涤剂组合物的洗涤浴槽内浸渍而使两者接触的方法；将洗涤剂组合物以喷雾状射出而使两者接触的方法(淋洒方式)；浸渍中进行超声波照射的超声波洗涤方法等。本公开的洗涤剂组合物可不进行稀释而直接用于洗涤。优选为本公开的去除方法包括：在使被洗涤物与洗涤剂组合物接触后，用水冲洗，并进行干燥的工序。依据本公开的去除方法，可高效率地去除树脂掩膜，尤其是经镀覆处理和/或加热处理的树脂掩膜。从易发挥本公开的洗涤剂组合物的洗涤能力方面出发，本公开的去除方法优选的是，在本公开的洗涤剂组合物与被洗涤物接触时照射超声波，更优选的是该超声波的频率相对较高。从相同观点出发，上述超声波的照射条件例如优选为26～72kHz、80～1500W，更优选为36～72kHz、80～1500W。
[电子零件的制造方法]
本公开的电子零件的制造方法在一样式中，包括：用本公开的洗涤剂组合物对附着有树脂掩膜的被洗涤物洗涤的工序。作为被洗涤物，可列举上述被洗涤物。本公开的电子零件的制造方法通过使用本公开的洗涤剂组合物进行洗涤，从而可一面抑制金属的腐蚀，一面有效地去除附着于电子零件的树脂掩膜，因此可制造可靠性较高的电子零件。此外，通过进行本公开的去除方法，从而容易去除附着于电子零件的树脂掩膜，因此可缩短洗涤时间，可提高电子零件的制造效率。
[套件]
本公开涉及一种套件，其用于本公开的去除方法及本公开的电子零件的制造方法中的任一者，该套件以未与其他成分混合的状态来包含构成本公开的洗涤剂组合物的上述成分A～C中的至少1种成分。根据本公开的套件，可获得树脂掩膜去除性优异、且排水处理负荷较小的洗涤剂组合物。
作为本公开的套件，例如可列举：以未相互混合的状态包含含有成分A的溶液(第1液)、及含有成分B的溶液(第2液)，第1液及第2液的至少一者还含有成分C，使用时将第1液及第2液混合的套件(2液型洗涤剂组合物)。第1液及第2液各自可以视需要而包含上述任意成分。
本公开还涉及以下的洗涤剂组合物、去除方法、制造方法。
＜1＞一种树脂掩膜剥离用洗涤剂组合物，其含有无机碱(成分A)、有机溶剂(成分B)及水(成分C)，
成分B的汉森溶解度参数的坐标在以δd＝17.5、δp＝5.0、δh＝11.5为中心的半径1.5MPa0.5的球的范围内，
洗涤剂组合物的使用时的成分C的含量为85质量％以上，
成分A相对于成分B的质量比(A/B)为1以上且60以下。
＜2＞如＜1＞所述的洗涤剂组合物，其中，成分B为选自丙二醇苯醚、乙二醇单苄醚、乙二醇单正己醚、1－甲基环己醇、3－甲基环己醇、4－甲基环己醇、1－苯基－1－丙醇及2－苯基－1－丙醇中的一种或两种以上的组合。
＜3＞如＜1＞或＜2＞所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物的使用时的成分A的含量为0.1质量％以上且15质量％以下，
洗涤剂组合物的使用时的成分B的含量为0.01质量％以上且3质量％以下。
＜4＞如＜1＞～＜3＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物的使用时的成分A的含量优选为0.1质量％以上，更优选为0.3质量％以上，进一步优选为0.5质量％以上，更进一步优选为1质量％以上，更进一步优选为2质量％以上。
＜5＞如＜1＞～＜4＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物的使用时的成分A的含量优选为15质量％以下，更优选为10质量％以下，进一步优选为7质量％以下，更进一步优选为5质量％以下。
＜6＞如＜1＞～＜5＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，成分B的沸点优选为160℃以上，更优选为250℃以上。
＜7＞如＜1＞～＜6＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，成分B的相对于水100mL的溶解度为0.3g以上。
＜8＞如＜1＞～＜7＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物的使用时的成分B的含量优选为0.01质量％以上，更优选为0.05质量％以上，进一步优选为0.1质量％以上，更进一步优选为0.2质量％以上。
＜9＞如＜1＞～＜8＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物的使用时的成分B的含量优选为3质量％以下，更优选为2质量％以下，进一步优选为1质量％以下，更进一步优选为0.5质量％以下。
＜10＞如＜1＞～＜9＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物中的成分A相对于成分B的质量比(A/B)为1以上且60以下，优选为1.1以上，更优选为1.2以上，进一步优选为1.5以上，更进一步优选为2以上，更进一步优选为3以上，更进一步优选为5以上，更进一步优选为10以上，更进一步优选为15以上。
＜11＞如＜1＞～＜10＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物中的成分A相对于成分B的质量比(A/B)优选为50以下，更优选为40以下，进一步优选为30以下，更进一步优选为20以下。
＜12＞如＜1＞～＜11＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物的使用时的成分C的含量优选为90质量％以上，更优选为95质量％以上。
＜13＞如＜1＞～＜12＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物的使用时的成分C的含量优选为99质量％以下，更优选为98质量％以下，进一步优选为97质量％以下。
＜14＞如＜1＞～＜13＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物的使用时的任意成分的合计含量优选为0质量％以上且2.0质量％以下，更优选为0质量％以上且1.5质量％以下，进一步优选为0质量％以上且1.3质量％以下，更进一步优选为0质量％以上且1.0质量％以下。
＜15＞如＜1＞～＜14＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物中的有机物的总含量优选为3质量％以下，更优选为2质量％以下，进一步优选为1质量％以下，更进一步优选为0.5质量％以下。
＜16＞如＜1＞～＜15＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物中的有机物的总含量优选为0.01质量％以上，更优选为0.05质量％以上，进一步优选为0.1质量％以上。
＜17＞如＜1＞～＜16＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其实质上不包含含氮化合物及含磷化合物。
＜18＞如＜1＞～＜17＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物中的含氮化合物及含磷化合物的合计含量未达0.1质量％，优选为0.05质量％以下，更优选为0.01质量％以下，进一步优选为0质量％。
＜19＞如＜1＞～＜18＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物的使用时的pH优选为10.0以上，更优选为10.5以上。
＜20＞如＜1＞～＜19＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物的使用时的pH优选为14以下，更优选为13.9以下，进一步优选为13.7以下。
＜21＞如＜1＞～＜20＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，在洗涤剂组合物为浓缩物的情况下，洗涤剂组合物的浓缩物中的成分A的含量优选为1质量％以上，更优选为2质量％以上，进一步优选为5质量％以上，更进一步优选为10质量％以上。
＜22＞如＜1＞～＜21＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，在洗涤剂组合物为浓缩物的情况下，洗涤剂组合物的浓缩物中的成分A的含量优选为40质量％以下，更优选为30质量％以下，进一步优选为20质量％以下，更进一步优选为10质量％以下。
＜23＞如＜1＞～＜22＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，在洗涤剂组合物为浓缩物的情况下，洗涤剂组合物的浓缩物中的成分B的含量优选为0.1质量％以上，更优选为0.2质量％以上，进一步优选为0.5质量％以上，更进一步优选为1质量％以上。
＜24＞如＜1＞～＜23＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，在洗涤剂组合物为浓缩物的情况下，洗涤剂组合物的浓缩物中的成分B的含量优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下，进一步优选为2质量％以下，更进一步优选为1.5质量％以下。
＜25＞如＜1＞～＜24＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，在洗涤剂组合物为浓缩物的情况下，洗涤剂组合物的浓缩物中的成分C的含量优选为50质量％以上，更优选为60质量％以上，进一步优选为70质量％以上。
＜26＞如＜1＞～＜25＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，在洗涤剂组合物为浓缩物的情况下，洗涤剂组合物的浓缩物中的成分C的含量优选为95质量％以下，更优选为90质量％以下，进一步优选为85质量％以下。
＜27＞如＜1＞～＜26＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，在洗涤剂组合物为浓缩物的情况下，洗涤剂组合物的浓缩物的pH优选为10.0以上，更优选为10.5以上。
＜28＞如＜1＞～＜27＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，在洗涤剂组合物为浓缩物的情况下，洗涤剂组合物的浓缩物的pH优选为14以下。
＜29＞如＜1＞～＜28＞中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，树脂掩膜为实施了曝光及显影中的至少一种处理的负型干膜抗蚀剂。
＜30＞一种树脂掩膜的去除方法，其包括：用＜1＞～＜29＞中任一项所述的洗涤剂组合物对附着有树脂掩膜的被洗涤物进行洗涤的工序。
＜31＞如＜30＞所述的去除方法，其中，被洗涤物为电子零件的制造中间物。
＜32＞一种电子零件的制造方法，其包括：用＜1＞或＜29＞中任一项所述的洗涤剂组合物对附着有树脂掩膜的被洗涤物进行洗涤的工序。
＜33＞＜1＞～＜29＞中任一项所述的洗涤剂组合物在电子零件的制造中的应用。
＜34＞一种套件，其用于＜30＞或＜31＞的去除方法及＜32＞所述的电子零件的制造方法中的任一者，该套件以未与其他成分混合的状态来包含构成＜1＞～＜29＞中任一项所述的洗涤剂组合物的成分A～C中的至少1种成分。
＜35＞如＜34＞所述的套件，其以未相互混合的状态包含含有成分A的溶液(第1液)、及含有成分B的溶液(第2液)，第1液及第2液的至少一者还含有成分C，使用时将第1液及第2液混合。
＜36＞如＜1＞～＜29＞中任一项所述的洗涤剂组合物的应用，其用于自被洗涤物将树脂掩膜去除。
＜37＞如＜1＞～＜29＞中任一项所述的洗涤剂组合物的应用，其用于洗涤电子零件。
[实施例]
以下通过实施例对本公开进行具体说明，但本公开并不受这些实施例任何限定。
1.关于溶剂(成分B)的物性(HSP的坐标及距离)
各溶剂B1～20的HSP的坐标(δd1、δp1、δh1)利用计算机用软件“HSPiP：HansenSolubility Parameters in Practice”而算出。而且，利用下述式算出成分B的HSP的坐标(δd1、δp1、δh1)与成分坐标X(δd＝17.5、δp＝5.0、δh＝11.5)的距离。将算出结果示于表1。
距离＝[(δd1－17.5)2+(δp1－5.0)2+(δh1－11.5)2]0.5
[表1]
2.洗涤剂组合物的制备(实施例1～29及比较例1～22)
[实施例1～26及比较例1～19的洗涤剂组合物的制备]
在500mL玻璃烧杯中，以有效成分换算计添加氢氧化钠(成分A)17.5g、丙二醇苯醚(成分B)1.0g及水(成分C)481.5g，进行搅拌使其均匀混合，由此制备实施例1的洗涤剂组合物。然后，通过与实施例1相同的方法，以成为表2－1、表2－2及表3所示的有效成分的组成比制备实施例2～26及比较例1～19的洗涤剂组合物。将各洗涤剂组合物的各成分的含量(质量％)及质量比A/B示于表2－1、表2－2及表3。表2－1及表2－2中，关于作为混合有机溶剂的HSP的距离，使用“HSPiP：Hansen Solubility Parameters in Practice”的混合有机溶剂的HSP算出功能而算出。
[实施例27～29及比较例20～22的洗涤剂组合物]
在10L不锈钢烧杯中，以有效成分换算计添加氢氧化钠(成分A)175g、丙二醇苯醚(成分B)10g及水(成分C)4815g，进行搅拌使其均匀混合，由此制备实施例27的洗涤剂组合物。然后，通过与实施例27相同的方法，以成为表4所示的有效成分的组成比制备实施例28～29及比较例20～22的洗涤剂组合物。将各洗涤剂组合物的各成分的含量(质量％)示于表4。
作为实施例1～29及比较例1～22的洗涤剂组合物的成分，使用下述成分。
·氢氧化钠(成分A)(关东化学株式会社制造，鹿特级，固体成分48质量％)
·氢氧化钾(成分A)(关东化学株式会社制造，鹿特级，固体成分48质量％)
·四甲基氢氧化铵(非成分A)(昭和电工株式会社制造，TMAH(25％))
·丙二醇苯醚(成分B)(日本乳化剂株式会社制造，苯基丙二醇(PhFG))
·1－甲基环己醇(成分B)(东京化成工业株式会社制造)
·3－甲基环己醇(成分B)(Merck株式会社制造)
·4－甲基环己醇(成分B)(东京化成工业株式会社制造)
·乙二醇单苄醚(成分B)(日本乳化剂株式会社制造，苄基乙二醇(BzG))
·1－苯基－1－丙醇(成分B)(东京化成工业株式会社制造)
·2－苯基－1－丙醇(成分B)(东京化成工业株式会社制造)
·乙二醇单正己醚(成分B)(日本乳化剂株式会社制造，2－(己氧基)乙醇(HeG))
·乙二醇单丁醚(非成分B)(日本乳化剂株式会社制造，2－丁氧基乙醇(BG))
·乙二醇单2－乙基己醚(非成分B)(日本乳化剂株式会社制造，2－(2－乙基己氧基)乙醇(EHG))
·邻甲氧基苯酚(非成分B)(东京化成工业株式会社制造，愈创木酚)
·环己醇(非成分B)(和光纯药工业株式会社制造)
·二乙二醇单丁醚(非成分B)(日本乳化剂株式会社制造，2－(2－丁氧基乙氧基)乙醇(BDG))
·苄醇(非成分B)(Lanxess株式会社制造)
·2－苯氧基乙醇(非成分B)(东京化成工业株式会社制造)
·丙二醇单丁醚(非成分B)(日本乳化剂株式会社制造，1－丁氧基－2－丙醇(BFG))
·单乙醇胺(非成分B)(株式会社日本触媒制造)
·丙二醇单甲醚(非成分B)(日本乳化剂株式会社制造，1－甲氧基－2－丙醇(MFG))
·丙二醇单甲醚乙酸酯(非成分B)(日本乳化剂株式会社制造，乙酸－1－甲氧基－2－丙基酯(MFG－AC))
·二甲基亚砜(非成分B)(Nacalai Tesque株式会社制造)
·水(成分C)(用Organo株式会社制造的纯水装置G－10DSTSET所制造的1μS/cm以下的纯水)
3.洗涤剂组合物的评价
对所制备的实施例1～29及比较例1～22的洗涤剂组合物的树脂掩膜去除性进行评价。
[试样的制作]
将直接成像(直接描绘)用感旋光性膜(日立化成株式会社制造，Photec RD－1215，负型干膜抗蚀剂)以下述条件层压于玻璃环氧多层基板(日立化成株式会社制造，MCL－E－679FG)的表面，选择性地进行曝光处理使曝光部固化后(曝光工序)，通过显影处理而去除未曝光部(显影工序)，获得具有抗蚀剂图案(下述3种图案形状的负型树脂掩膜)的基板。然后，对通过上述显影处理而去除了未曝光部的区域进行镀铜处理，由此获得试样(4cm×4.5cm)。
(1)层压：使用清洁辊(株式会社Rayon Industries制造，RY－505Z)及真空涂布器(Rohm and Haas公司制造，VA7024/HP5)，在辊温度50℃、辊压1.4Bar、处理时间30秒的条件下进行。
(2)曝光：使用印刷基板用直接描绘装置(株式会社SCREEN GraphicandPrecision Solutions制造，Mercurex LI－9500)，以曝光量15mJ/cm2进行曝光。
(3)图案形状：下述3种图案
·实地：具有30μm×30μm以上的面积的部分
·条纹状图案1：线宽度L与线间隔S的比(L/S)＝20μm/20μm的条纹状图案
·条纹状图案2：L/S＝15μm/15μm的条纹状图案
(4)显影：使用基板用显影装置(扬博科技株式会社制造，LT－980366)、30℃的1％碳酸钠水溶液，在喷雾压0.2MPa、47秒的条件下将未曝光部的树脂掩膜去除。
[洗涤试验1(浸渍洗涤)](实施例1～26及比较例1～19)
向100mL玻璃烧杯中添加实施例1～26及比较例1～19的各洗涤剂组合物100g并加热至60℃，在使用转子(氟树脂(PTFE)，φ8mm×25mm)以转数400rpm搅拌后的状态下，将试样浸渍3分钟。然后，浸渍于向100mL玻璃烧杯中添加了水100g的洗涮槽中并洗涮后，自然干燥。此外，对实施例18～26及比较例17～19的洗涤剂组合物，进行将浸渍时间设为3分钟、6分钟、25分钟、30分钟的洗涤试验。
[洗涤试验2(喷雾洗涤)](实施例27～29及比较例20～22)
向10L不锈钢烧杯中添加实施例27～29及比较例20～22的各洗涤剂组合物10kg并加热至60℃，使用安装有一流体喷嘴(实心圆锥)JJXP030(株式会社IKEUCHI制造)作为喷雾嘴的箱型喷雾洗涤机，一面以流量3L/分钟进行循环，一面对试样喷雾3分钟(压力：0.2MPa，喷雾距离：8cm)。然后，浸渍于向100mL玻璃烧杯中添加了水100g的洗涮槽中并洗涮后，使用氮吹送进行干燥。
[树脂掩膜去除性评价1](实施例1～17、27～29及比较例1～16、20～22)
对于使用实施例1～17、27～29及比较例1～16、20～22的洗涤剂组合物洗涤后的试样的树脂掩膜去除性，以下述条件进行评价。
使用光学显微镜“数字显微镜VHX－2000”(株式会社Keyence制造)，扩大到300倍，目视确认干燥后的试样的各部位有无残存的树脂掩膜，对树脂掩膜去除性进行评价。可完全去除的情况设为“1”，少量残存的情况设为“2”，将结果示于表2－1、表2－2及表4。
在表2－1、表2－2及表4中，“实地的剥离性”表示抗蚀剂图案为实地的情况下的树脂掩膜的剥离性，“条纹状图案1的剥离性”表示抗蚀剂图案为条纹状图案1(L/S＝20μm/20μm)的情况下的树脂掩膜的剥离性，“条纹状图案2的剥离性”表示抗蚀剂图案为条纹状图案2(L/S＝15μm/15μm)的情况下的剥离性。
[树脂掩膜去除性评价2](实施例1、4、8、18～26及比较例17～19)
对使用实施例1、4、8、18～26及比较例17～19的洗涤剂组合物洗涤后的试样的树脂掩膜去除性以下述条件进行评价。
使用光学显微镜“数字显微镜VHX－2000”(株式会社Keyence制造)，扩大到300倍，目视确认干燥后的试样的各部位有无残存的树脂掩膜，对树脂掩膜去除性进行评价。如下所述，对完全剥离树脂掩膜为止所需的在洗涤剂组合物中的浸渍时间的最短时间进行评价，将结果示于表3。浸渍时间越短，表示树脂掩膜去除性越高。
表3中，“实地的剥离性”表示抗蚀剂图案为实地的情况下的树脂掩膜的剥离性，“条纹状图案1的剥离性”表示抗蚀剂图案为条纹状图案1(L/S＝20μm/20μm)的情况下的树脂掩膜的剥离性，“条纹状图案2的剥离性”表示抗蚀剂图案为条纹状图案2(L/S＝15μm/15μm)的情况下的剥离性。
＜评价基准＞
1：浸渍时间为3分钟时达成完全剥离
2：浸渍时间为6分钟时达成完全剥离
3：浸渍时间为25分钟时达成完全剥离
4：即便浸渍时间为30分钟仍残留剥离
[持久性评价](实施例1、3及4)
向300mL玻璃烧杯中加入实施例1、3及4的各洗涤液组合物300g，在60℃的水浴中进行保温，使用转子(氟树脂(PTFE)，φ8mm×40mm)以转数300rpm进行搅拌。通过添加水而补充因蒸发而降低的液量，使用平沼总有机碳测定装置TOC－2000(平沼产业株式会社制造)对5小时后的各洗涤剂组合物的总有机碳(TOC)进行测定，通过下述式算出TOC的变化。残存有机碳率越接近100％，则可评价为有效成分(成分B)的变化越少而持久性良好。此处，“有效成分的变化”是指：洗涤剂组合物的长时间使用中成分B发生飞散、挥发或蒸发，由此导致洗涤剂组合物中的成分B的含量减少。
残存有机碳率(％)＝试验后的TOC÷试验前的TOC×100
[浓缩性评价](实施例1～8)
向实施例1～8的各洗涤剂组合物的水以外的成分中添加水，以目视测定直至无浑浊或析出物而变得均匀透明为止的浓缩倍率。测定自10倍浓缩开始。
＜浓缩倍率的测定方法＞
向100mL烧杯(测定空重)中添加48％NaOH(7.29g＝有效成分计为3.50g)及各溶剂(0.20g)，并向其中添加水直至变得均匀透明，测定重量(最终重量)，算出浓缩倍率。
浓缩倍率＝100÷(最终重量－烧杯空重)
[表3]
[表4]
如上述表2－1、表2－2、表3及表4所示，实施例1～29的洗涤剂组合物与不包含规定的溶剂(成分B)的比较例1～16、不包含无机碱(成分A)的比较例17～22相比，可高效率地去除经镀覆处理的树脂掩膜。即，实施例1～29的洗涤剂组合物与比较例1～22相比，树脂掩膜去除性优异。
[产业上的可利用性]
通过使用本公开，可以不增加排水处理负荷而高效率地去除树脂掩膜。因此，本公开的洗涤剂组合物作为电子零件的制造工序中所使用的洗涤剂组合物是有用的，可缩短附着有树脂掩膜的电子零件的洗涤工序及提高所制造的电子零件的性能、可靠性，可提高半导体装置的生产率。

Claims (14)

1.一种树脂掩膜剥离用洗涤剂组合物，其含有无机碱即成分A、有机溶剂即成分B、及水即成分C，
成分B的汉森溶解度参数的坐标处于以δd＝17.5、δp＝5.0、δh＝11.5为中心的半径1.5MPa0.5的球的范围内，
洗涤剂组合物的使用时的成分C的含量为85质量％以上，
成分A相对于成分B的质量比A/B为1以上且60以下。
2.如权利要求1所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物的使用时的成分A的含量为0.1质量％以上且15质量％以下，
洗涤剂组合物的使用时的成分B的含量为0.01质量％以上且3质量％以下。
3.如权利要求1或2所述的洗涤剂组合物，其中，成分B的沸点为160℃以上。
4.如权利要求1～3中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，成分B对于25℃的水100mL的溶解度为0.3g以上。
5.如权利要求1～4中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，洗涤剂组合物中的有机物的总含量为3质量％以下。
6.如权利要求1～5中任一项所述的洗涤剂组合物，其实质上不包含含氮化合物及含磷化合物。
7.如权利要求1～6中任一项所述的洗涤剂组合物，其中，树脂掩膜为实施了曝光及显影中的至少一种处理的负型干膜抗蚀剂。
8.一种树脂掩膜的去除方法，其包括：用权利要求1～7中任一项所述的洗涤剂组合物对附着有树脂掩膜的被洗涤物进行洗涤的工序。
9.如权利要求8所述的去除方法，其中，被洗涤物为电子零件的制造中间物。
10.一种电子零件的制造方法，其包括：用权利要求1～7中任一项所述的洗涤剂组合物对附着有树脂掩膜的被洗涤物进行洗涤的工序。
11.权利要求1～7中任一项所述的洗涤剂组合物在电子零件的制造中的应用。
12.一种套件，其用于权利要求8或9所述的去除方法及权利要求10所述的电子零件的制造方法中的任一者，
所述套件以未与其他成分混合的状态来包含构成权利要求1～7中任一项所述的洗涤剂组合物的成分A～C中的至少1种成分。
13.如权利要求1～7中任一项所述的洗涤剂组合物的应用，其用于自被洗涤物将树脂掩膜去除。
14.如权利要求1～7中任一项所述的洗涤剂组合物的应用，其用于洗涤电子零件。
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