CN108129032B - 带防污膜的透明基体 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种带防污膜的透明基体，其具有：透明基体，所述透明基体具有第一主面和与所述第一主面相对的第二主面，且在所述第一主面的表面实施了防眩加工；和含氟有机硅化合物覆膜，所述含氟有机硅化合物覆膜为设置在所述透明基体的所述第一主面侧的防污膜；所述防污膜的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下。

Description

带防污膜的透明基体
本申请是申请日为2014年1月22日、国际申请号为PCT/JP2014/051291、中国申请号为201480006778.1的专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及带防污膜的透明基体。
背景技术
近年来，尤其在便携式装置、车载用设备中多使用液晶显示器等各种显示装置。在这样的显示装置中，作为其盖构件，一直以来采用配置有透明基体的构成。另外，还已知将带透明电极的触控面板与保护玻璃一体化而得到的基板构成。
对于这样的显示装置而言，人的手指等触碰透明基体表面的机会多，在人的手指等触碰时，容易在透明基体表面上附着油脂等。而且，当油脂等附着时，会影响可视性，因此使用在透明基体的表面上实施了防污处理的透明基体。
作为在表面上实施了防污处理的透明基体，例如专利文献1中公开了一种拒水性玻璃，其在具有凹凸形状的玻璃基板表面上设置有拒水层。
此外，对于设置有拒水层的拒水性玻璃而言，由于拒水剂与玻璃的胶粘力弱，因而难以保持拒水性能，因此为了提高其耐久性，一直在研究将玻璃基板的表面形状制成预定形状的方法(例如专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平07-126041号公报
专利文献2：日本特开平11-171594号公报
发明内容
发明所要解决的问题
然而，专利文献2的拒水性玻璃是以挡风玻璃、窗玻璃板等用途为目的而开发的玻璃，并未计划作为显示装置等的透明基体使用。
因此，在使用该拒水性玻璃作为液晶显示器等显示装置的盖构件或与触控面板的透明电极一体化的保护玻璃使用时，由于几乎没有防眩特性，因此存在映射周围的光从而显示部分的可视性降低的问题。
另外，如上所述，专利文献2的拒水性玻璃为计划用于窗玻璃等人手触碰的机会少的部分的拒水性玻璃，因此作为如显示装置那样有可能较高频率地被人手触碰的盖构件或与触控面板一体化的基板使用时，耐久性不足。
鉴于上述现有技术所具有的问题，本发明的目的在于，提供一种具有防眩特性同时提高了防污膜的耐久性的带防污膜的透明基体。
用于解决问题的手段
为了解决上述问题，本发明提供一种带防污膜的透明基体，其具有：
透明基体，所述透明基体具有第一主面和与所述第一主面相对的第二主面，且在所述第一主面的表面实施了防眩加工；和
含氟有机硅化合物覆膜，所述含氟有机硅化合物覆膜为设置在所述透明基体的所述第一主面侧的防污膜；
所述防污膜的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下。
发明效果
在本发明中，能够提供一种具有防眩特性同时提高防污膜的耐久性的带防污膜的透明基体。
附图说明
图1为本发明的第1实施方式的带防污膜的透明基体的构成的说明图。
图2为本发明的第2实施方式的带防污膜的透明基体的构成的说明图。
具体实施方式
以下对用于实施本发明的方式参照附图进行说明，但本发明并不限定于下述实施方式，可以在不脱离本发明范围的情况下对下述实施方式施以各种变形和置换。
第1实施方式
在本实施方式中，对本发明的带防污膜的透明基体进行说明。
本实施方式的带防污膜的透明基体具有透明基体和含氟有机硅化合物覆膜，所述透明基体具有第一主面和与上述第一主面相对的第二主面，且在上述第一主面的表面实施了防眩加工，所述含氟有机硅化合物覆膜为设置在上述透明基体的上述第一主面侧的防污膜。而且，上述带防污膜的透明基体的特征在于：上述防污膜的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下。
使用图1说明本实施方式的带防污膜的透明基体。图1示意性地表示本实施方式的带防污膜的透明基体的剖视图，具有在透明基体11的第一主面侧配置有防污膜12的构成。以下对构成带防污膜的透明基体的各构件进行说明。
首先，作为透明基体11的材料没有特别限定，可以利用至少透过可见光的各种透明基体。可以列举例如：塑料基板、玻璃基板等各种材料。其中，从透明性、强度等观点出发，透明基体优选为玻璃基板。在这种情况下，玻璃的种类没有特别限定，可以利用无碱玻璃、钠钙玻璃、铝硅酸盐玻璃等各种玻璃。其中，从与设置在其上面的层(膜)的粘附性的观点出发，优选使用钠钙玻璃。
透明基体11为玻璃基板的情况下，从透明基体本身的强度的观点出发，优选使用将铝硅酸盐玻璃经过化学强化处理而得到的强化玻璃基板(例如“Dragontrail(注册商标)”等)。
化学强化处理是指将玻璃表面的离子半径小的碱离子(例如钠离子)置换成离子半径大的碱离子(例如钾离子)的处理。例如，将含有钠离子的玻璃用含有钾离子的熔盐进行处理，由此可以进行化学强化。这样的化学强化处理后的玻璃基板表面的压应力层的组成与化学强化处理前的组成略有不同，但基板深层部的组成与化学强化处理前的组成大致相同。
作为化学强化的条件，没有特别限定，可以根据供于化学强化的玻璃种类、所要求的化学强化程度等来进行选择。
作为用于进行化学强化处理的熔盐，根据供于化学强化的玻璃基板进行选择即可。可以列举例如：硝酸钾、硫酸钠、硫酸钾、氯化钠和氯化钾等碱金属硫酸盐和碱金属氯化盐等。这些熔盐可以单独使用也可以将多种组合使用。
熔盐的加热温度优选为350℃以上，更优选为380℃以上。另外，优选为500℃以下，更优选为480℃以下。
通过设定熔盐的加热温度为350℃以上，能够防止由于离子交换速度降低而难以进行化学强化。另外，通过设定为500℃以下，能够抑制熔盐的分解、劣化。
另外，为了赋予充分的压应力，使玻璃基板与熔盐接触的时间优选为1小时以上，更优选为2小时以上。另外，在长时间的离子交换的情况下，生产率下降，并且由于松弛而使压应力值降低，因此优选为24小时以下，更优选为20小时以下。
关于透明基体的形状也没有特别限定，可以利用各种形状的透明基体。
透明基体11如上所述具有第一主面11A和与其相对的第二主面11B。而且，在第一主面11A上实施了形成期望的凹凸形状的防眩加工。此时，优选第一主面11A的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且第一主面11A的粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下。通过为该范围，能够使后述的防污膜的表面粗糙度RMS及粗糙度曲线要素的平均长度RSm在期望的范围内。
此处，表面粗糙度RMS是指凹凸距基准面(此处为表面处理前的基板表面)的平均深度。需要说明的是，也称为均方根粗糙度，有时也以Rq表示。另外，粗糙度曲线要素的平均长度RSm是指在基准面上取得的基准长度所含的粗糙度曲线中，将出现一周期的凹凸的基准面上的长度进行平均而得到的长度。表面粗糙度RMS(μm)及粗糙度曲线要素的平均长度RSm可以通过基于JIS B 0601(2001)中规定的方法的方法来测定。
这是本发明的发明人等为了在带防污膜的透明基体中提高防污膜的耐久性进行研究而发现的结果，即，通过使第一主面11A的表面特性具有上述特性，除了防眩特性以外，与以往的带防污膜的透明基体相比，尤其是防污膜的耐久性提高。
防污膜形成在透明基体的第一主面侧，由于防污膜复写透明基体的表面形状，因而防污膜表面也具有与透明基体大致相同的表面粗糙度特性。
这意味着与以往使用的RMS大于0.25μm或RSm大于40μm且实施了防眩加工的透明基体相比，通过使透明基体的第一主面11A满足上述规定，透明基体的第一主面的微细凹凸中，凹部间的间距变小，且凸部的面积增大。而且，如上所述，防污膜的表面也具有同样的表面形状。
在手指等接触该带防污膜的透明基体的表面即防污膜的情况下，与手指等接触的防污膜的凸部面积与以往的带防污膜的透明基体相比增大。因此，手指等施加在带防污膜的透明基体表面(防污膜)部分的力被分散，推测由此能够减小施加在防污膜的压力，能够抑制防污膜的剥离、磨损。
推测粗糙度曲线要素的平均长度RSm越小、即凹部的间隔越小，则与手指的接触面积越大，耐久性提高。但是，为了使RSm非常小，需要实施例如利用光掩膜的蚀刻处理等，从成本的观点出发，RSm只要为10μm以上，就能够优选地制成。因此，对于形成防污膜的面，优选使用满足上述RSm范围的透明基体。
另外，RMS、RSm在上述数值范围内的透明基体的情况下，凹部的间距在适当的范围内，因此能够得到也具有防眩特性的透明基体。
此外，第一主面11A的表面粗糙度RMS优选为0.08μm以上且0.20μm以下，粗糙度曲线要素的平均长度RSm优选为15μm以上且35μm以下。通过满足这些参数，能够使防污膜的耐久性进一步提高。
制成具有上述表面特性的透明基体的防眩加工方法没有特别限定，可以利用对第一主面实施表面处理而形成期望的凹凸的方法。
具体而言，可以列举：对于透明基体的第一主面实施磨砂处理的方法。磨砂处理例如可以通过将作为被处理物的透明基体浸渍在氟化氢与氟化铵的混合溶液中从而对浸渍面进行化学表面处理来进行。
另外，除上述化学处理的方法以外，也可以利用例如所谓喷砂处理的方法，将结晶二氧化硅粉、碳化硅粉等用压缩空气喷吹至透明基体表面上；或物理处理的方法，将附着有结晶二氧化硅粉、碳化硅粉等的刷子用水润湿后，利用该刷子进行研磨等。
特别是在实施利用氟化氢等试剂溶液进行化学表面处理的磨砂处理的方法中，不容易在被处理物表面上产生微裂纹，且不容易产生机械强度降低，因此可以优选作为实施透明基体的表面处理的方法使用。
以上述方式制成凹凸后，为了修整表面形状，一般会对玻璃表面进行化学蚀刻。由此能够通过蚀刻量将雾度调节成期望的值，能够除去在喷砂处理等中产生的裂纹，还能够抑制眩光。
作为蚀刻，可以优选使用将作为被处理物的透明基体浸渍在以氟化氢为主要成分的溶液中的方法。作为氟化氢以外的成分，可以含有盐酸、硝酸、柠檬酸等。通过含有这些物质，能够抑制进入玻璃的碱成分与氟化氢反应而局部发生析出反应的现象，能够使蚀刻在面内均匀进行。
对于透明基体的第二主面11B，其特性没有特别限定，也可以进行加工以使其具有与第一主面同样的表面粗糙度RMS及粗糙度曲线要素的平均长度RSm。
另外，也可以在透明基体的第二主面11B上制成触控面板用透明电极。这样，通过形成触控面板的透明电极与带防污膜的透明基体一体化的构成，能够实现更进一步的薄型轻量化。需要说明的是，在这种情况下，对于第二主面11B，优选不进行上述与第一主面11A同样的防眩加工。
而且，在透明基体11的第一主面11A侧如图1所示形成有防污膜12。防污膜12可以由含氟有机硅化合物构成。
在此，对含氟有机硅化合物进行说明。作为本实施方式中使用的含氟有机硅化合物，只要是赋予防污性、拒水性、拒油性的含氟有机硅化合物就可以没有特别限定地使用。
作为这样的含氟有机硅化合物，可以列举例如：具有选自由多氟聚醚基、多氟亚烷基和多氟烷基组成的组中的一种以上基团的含氟有机硅化合物。需要说明的是，多氟聚醚基是指具有多氟亚烷基与醚性氧原子交替键合而得到的结构的2价基团。
作为该具有选自由多氟聚醚基、多氟亚烷基和多氟烷基组成的组中的一种以上基团的含氟有机硅化合物的具体例，可以列举由下述通式(I)～(V)表示的化合物等。
Figure BDA0001507763350000081
式中，Rf为碳原子数1～16的直链多氟烷基(作为烷基，例如：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基等)，X为氢原子或碳原子数1～5的低级烷基(例如：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基等)，R1为可水解的基团(例如氨基、烷氧基等)或卤素原子(例如：氟、氯、溴、碘等)，m为1～50的整数、优选为1～30的整数，n为0～2的整数、优选为1～2的整数，p为1～10的整数、优选为1～8的整数。
CqF2q+1CH2CH2Si(NH2)3 (II)
在此，q为1以上的整数、优选为2～20的整数。
作为由通式(II)表示的化合物，可以列举例如：三氟(1,1,2,2-四氢)正丙基硅氮烷(n-CF3CH2CH2Si(NH2)3)、七氟(1,1,2,2-四氢)正戊基硅氮烷(n-C3F7CH2CH2Si(NH2)3)等。
Cg′F2q′+1CH2CH2Si(OCH3)3 (III)
在此，q’为1以上的整数、优选为1～20的整数。
作为由通式(III)表示的化合物，可以列举例如：2-(全氟辛基)乙基三甲氧硅烷(n-C8F17CH2CH2Si(OCH3)3)等。
Figure BDA0001507763350000091
式(IV)中，Rf2为由-(OC3F6)s-(OC2F4)t-(OCF2)u-(s、t、u各自独立地为0～200的整数)表示的2价直链多氟聚醚基，R2、R3各自独立地为碳原子数1～8的一价烃基(例如：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基等)。X2、X3独立地为可水解的基团(例如氨基、烷氧基、酰氧基、烯氧基、异氰酸酯基等)或卤素原子(例如：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等)，d、e独立地为1～2的整数，c、f独立地为1～5(优选为1～2)的整数，a和b独立地为2或3。
化合物(IV)所具有的Rf2中，s+t+u优选为20～300，更优选为25～100。另外，作为R2、R3，更优选为甲基、乙基、丁基。作为由X2、X3表示的可水解基团，更优选为碳原子数1～6的烷氧基，特别优选为甲氧基、乙氧基。另外，a和b各自优选为3。
F-(CF2)v-(OC3F6)w-(0C2F4)y-(OCF2)，(CH2)hO(CH2)i-Si(X4)3-k(R4)k (V)
式(V)中，v为1～3的整数，w、y、z各自独立地为0～200的整数，h为1或2，i为2～20的整数，X4为可水解基团，R4为碳原子数1～22的直链或支链烃基，k为0～2的整数。w+y+z优选为20～300，更优选为25～100。另外，i优选为2～10。X4优选为碳原子数1～6的烷氧基，更优选为甲氧基、乙氧基。作为R4，优选为碳原子数1～10的烷基。
另外，作为市售的具有选自由多氟聚醚基、多氟亚烷基和多氟烷基组成的组中的一种以上基团的含氟有机硅化合物，可以优选使用KP-801(商品名、信越化学公司制)、KY178(商品名、信越化学公司制)、KY-130(商品名、信越化学公司制)、KY-185(商品名、信越化学公司制)、OPTOOL(注册商标)DSX和OPTOOL AES(均为商品名、大金公司制)等。
需要说明的是，为了抑制含氟有机硅化合物与大气中的水分发生反应而劣化等，一般将其与含氟溶剂等溶剂混合保存，但在含有这些溶剂的情况下直接供于成膜工序时，有时会对所得到的薄膜的耐久性等造成不良影响。
因此，在本实施方式中，优选使用利用加热容器进行加热前预先进行了溶剂除去处理的含氟有机硅化合物或未经溶剂稀释(未添加溶剂)的含氟有机硅化合物。例如作为含氟有机硅化合物溶液中所含的溶剂浓度，优选为1摩尔％以下，更优选为0.2摩尔％以下。特别优选使用不含溶剂的含氟有机硅化合物。
需要说明的是，作为保存上述含氟有机硅化合物时所使用的溶剂，可以列举例如：全氟己烷、六氟间二甲苯(C6H4(CF3)2)、氢氟聚醚、HFE7200/7100(商品名、住友3M公司制、HFE7200由C4F9C2H5表示、HFE7100由C4F9OCH3表示)等。
从含有含氟溶剂的含氟有机硅化合物溶液中除去溶剂(溶剂)的处理例如可以通过对放入有含氟有机硅化合物溶液的容器进行真空排气而进行。
关于进行真空排气的时间，根据排气管线、真空泵等的排气能力、溶液的量等而变化，因此没有限定，例如可以为约10小时以上。
本实施方式的防污膜的成膜方法没有特别限定，优选使用上述材料通过真空蒸镀进行成膜。
另外，上述溶剂的除去处理也可以通过将含氟有机硅化合物溶液导入形成防污膜的成膜装置的加热容器，然后在升温前在室温下对加热容器内进行真空排气而进行。另外，也可以在导入加热容器前预先利用蒸发器等除去溶剂。
但是，如上所述，溶剂含量少或不含溶剂的含氟有机硅化合物，与含有溶剂的情况相比，容易由于与大气接触而劣化。
因此，溶剂含量少(或不含溶剂)的含氟有机硅化合物的保存容器优选使用将容器中用氮气等惰性气体置换并密闭后的容器，并且进行操作时缩短暴露于大气、与大气接触的时间。
具体而言，优选将保存容器开封后立即将含氟有机硅化合物导入形成防污膜的成膜装置的加热容器。而且，导入后优选使加热容器内成为真空或用氮气、稀有气体等惰性气体进行置换，由此除去加热容器内所含的大气(空气)。为了能够在不与大气接触的情况下从保存容器(贮藏容器)导入至本制造装置的加热容器中，例如优选将贮藏容器和加热容器通过带阀的配管连接。
而且，将含氟有机硅化合物导入加热容器后，优选在容器内形成真空或用惰性气体置换后，立即开始用于成膜的加热。
作为防污膜的成膜方法，在本实施方式的说明中描述了使用溶液或原液的含氟有机硅化合物的例子，但不限于此。作为其它方法，例如：使用市售的称为蒸镀用颗粒(作为一例，キャノンオプトロン公司制的サーフクリア)的方法，该蒸镀用颗粒通过预先使一定量的含氟有机硅化合物浸渗到多孔金属(例如锡或铜)或纤维状金属(例如不锈钢)中而得到。在这种情况下，也可以将根据蒸镀装置容量、所需膜厚的量的颗粒作为蒸镀源而简单地形成防污膜。
如上所述，由于防污膜直接复写透明基体的表面形状，因而其表面特性与透明基体的表面粗糙度RMS及粗糙度曲线要素的平均长度RSm相同。因此，其表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下。另外，特别是，表面粗糙度RMS更优选为0.08μm以上且0.20μm以下，粗糙度曲线要素的平均长度RSm更优选为15μm以上且35μm以下。
另外，为了提高透明基体与防污膜的粘附性，可以在透明基体与防污膜之间***粘附层。在***粘附层的情况下，在形成防污膜前预先将其形成在透明基材的第一主面上即可。作为粘附层，优选使用氧化硅膜。作为膜厚，为2nm以上且50nm以下，优选为5nm以上且20nm以下。
以上对于本实施方式的带防污膜的透明基体的各构件进行了说明，本实施方式的带防污膜的透明基体的雾度优选为2％以上且30％以下。这是因为，雾度如果为2％以上，与未实施防眩加工的基板相比，经目视确认能够显著地抑制光的映射(映りこみ)；如果大于30％，则导致光漫反射，在作为显示装置的盖构件或与触控面板一体化的基板使用时，会降低显示装置的显示的可视性。另外，本实施方式的带防污膜的透明基体的雾度优选为15％以上且27％以下。
已表明：通过雾度在上述范围内，本实施方式的带防污膜的透明基体具有充分的防眩特性，可以更优选作为显示装置等的盖构件或与触控面板一体化的基板利用。
根据以上所说明的本实施方式的带防污膜的透明基体，能够得到具有防眩特性同时提高了防污膜的耐久性的带防污膜的透明基体。
[第2实施方式]
在本实施方式中，对于在第1实施方式中还设置有低反射膜的构成进行说明。对于其它构成，由于如第1实施方式中所说明的，因此此处省略。
低反射膜能够抑制在带防污膜的透明基体表面的光的反射，因此能够使防眩特性进一步提高。例如，作为显示装置的盖构件使用时，能够抑制周围的光的映射，进一步提高显示装置的显示的可视性。
低反射膜的材料没有特别限定，只要是能够抑制反射的材料，就可以利用各种材料。例如，作为低反射膜，可以形成将高折射率层与低折射率层层叠而得到的构成。
高折射率层和低折射率层可以为各自包含1层的形式，也可以为各自包含2层以上的构成。各自包含2层以上的高折射率层和低折射率层时，优选为高折射率层与低折射率层交替层叠的形式。
为了得到充分的防反射性能，低反射膜优选为层叠有多个膜(层)的层叠体。例如，该层叠体优选总计层叠有2层以上且6层以下的膜，更优选层叠有2层以上且4层以下的膜。此处的层叠体如上所述优选为将高折射率层和低折射率层层叠而得到的层叠体，且优选高折射率层和低折射率层的层数的总计在上述范围内。
高折射率层、低折射率层的材料没有特别限定，可以考虑所要求的防反射程度、生产率等进行选择。作为构成高折射率层的材料，例如可以优选利用选自氧化铌(Nb2O5)、氧化钛(TiO2)、氧化锆(ZrO2)、氮化硅(SiN)和氧化钽(Ta2O5)的一种以上。作为构成低折射率层的材料，可以优选利用氧化硅(SiO2)。
作为高折射率层，从生产率、折射率程度考虑，特别优选利用氧化铌。因此，上述低反射膜更优选为氧化铌层与氧化硅层的层叠体。
在本实施方式的带防污膜的透明基体中，对于设置低反射膜的位置并无特别限定，可以设置在透明基体的第一主面11A和/或第二主面11B上。特别优选设置在透明基体的第一主面11A上。例如图2所示，更优选形成在透明基体11的第一主面11A的表面(从第一主面侧起)上依次层叠有低反射膜13、含氟有机硅化合物覆膜12的构成。
如上所述通过形成在透明基体的第一主面11A上层叠有低反射膜13、含氟有机硅化合物覆膜(防污膜)12的构成，也能够防止低反射膜13剥离并且提高耐久性，因此优选。
另外，在***提高防污膜的耐久性的粘附层的情况下，优选将其放入低反射膜与防污膜之间。在这种情况下，氧化硅膜也是优选使用的材料，如上述例子所示在低反射膜的最上层也为氧化硅的情况下，能够同时实现低反射性和粘附层的效果，因此是优选的构成。
在图2中，低反射膜13形成为层叠有2层131、132的构成，但是不限定于该形式，也可以如上所述形成为进一步层叠有多个层的构成。
另外，对于本实施方式的带防污膜的透明基体，基于与第1实施方式中所说明的相同理由，雾度也优选为2％以上且30％以下，更优选为15％以上且27％以下。
以上，在本实施方式中，对于具有低反射膜的带防污膜的透明基体进行了说明，通过具有该构成，能够进一步提高防眩特性。因此，可以更优选在显示装置的盖装置或与触控面板一体化的基板等特别要求防眩特性的用途中使用。
实施例
以下列举具体的实施例进行说明，但是本发明不限定于这些实施例。需要说明的是，例1～例4为实施例，例5～例7为比较例。
(1)评价方法
对于以下例1～例7中得到的带防污膜的透明基体的特性评价方法说明如下。
(表面形状测定)
对于例1～例7中使用的防污膜成膜后的试样的防污膜的表面形状，使用激光显微镜(基恩斯(キーエンス)公司制、商品名：VK-9700)以50倍的倍率测定平面轮廓。然后，从得到的平面轮廓基于JIS B0601(2001)得到表面粗糙度RMS和粗糙度曲线要素的平均长度RSm的值。
各例中成膜的防污膜、低反射膜为相对于透明基体的厚度非常薄的膜，因此表面的凹凸结构实质上直接复写透明基体的表面形状。因此，对于透明基材(形成有防污膜一侧的面)的表面形状，认为也是相同的。
(雾度测定)
在实施例、比较例中，对于形成防污膜后的试样进行透射雾度的测定。对于雾度测定，使用雾度计(スガ试验机株式会社制、型号：HZ-V3)进行。
(摩擦耐久性(耐磨性)试验)
对于例1～例7中防污膜成膜后的试样，对于该试样的防污膜以下述步骤进行摩擦耐久性试验。
首先，对于例1～7的防污膜以下述步骤进行摩擦试验。
在底面为10mm×10mm的平面金属压头的表面安装钢丝绒#0000而制成摩擦试样的摩擦头。
接着，使用上述摩擦头，用平面摩耗试验机3连式(大荣科学精器公司制、型号：PA-300A)进行摩擦试验。具体而言，首先以上述压头的底面与试样的防污膜面接触的方式安装在摩耗试验机上，并加载重物使得对摩擦头的载荷为1000g，在平均速度6400mm/分钟且单程40mm的条件下往复滑动。将往复1次计数为摩擦次数1次，并以摩擦次数为1000次的方式进行试验。
然后，对于防污膜以下述步骤进行水接触角的测定。
防污膜的水接触角的测定通过使用自动接触角计(协和界面科学公司制、型号：DM-501)，在防污膜上滴下纯水1μL并测定其接触角而进行。测定时，对于各试样在防污膜表面的10处进行测定，并将其平均值作为该试样的耐久性试验后的水接触角。
此时，水接触角为90°以上评价为合格，水接触角为90°以下评价为不合格。
(2)实验步骤
[例1]
通过以下步骤制造带防污膜的透明基体。
本例中，作为透明基体，采用使用实施了化学强化处理的玻璃基板(旭硝子株式会社制、商品名：“Dragontrail”(注册商标))并对该玻璃基板的第一主面进行了规定的磨砂处理而得到的玻璃基板(以下记为透明基体A)。
然后，在透明基体A的第一主面上以下述步骤形成防污膜。
首先，将含氟有机硅化合物(信越化学株式会社制、商品名：KY-185)导入加热容器内作为蒸镀材料。然后，通过对加热容器内利用真空泵脱气10小时以上而除去溶液中的溶剂，从而制成含氟有机硅化合物覆膜形成用组合物。
接下来，将装有上述含氟有机硅化合物膜形成用组合物的加热容器加热至270℃。在达到270℃后，将其状态保持10分钟直至温度稳定为止。
然后，对设置在真空室内的透明基体A的第一主面(经磨砂处理的面)，从与装有上述含氟有机硅化合物膜形成用组合物的加热容器连接的喷嘴供给含氟有机硅化合物膜形成用组合物，并进行成膜。
成膜时，在通过设置在真空室内的晶体振荡器监控器测定膜厚的同时进行成膜，直至形成在透明基体A上的含氟有机硅化合物膜的膜厚达到10nm。
在含氟有机硅化合物膜达到到10nm的时刻停止从喷嘴供给原料，并从真空室取出形成有含氟有机硅化合物膜的透明基体A。
将取出的形成有含氟有机硅化合物膜的透明基体A以膜面向上的方式设置在热板上，并在大气中在150℃下进行60分钟热处理。
对于以上述方式制得的试样，进行上述表面形状测定、雾度测定及摩擦耐久性试验。将结果示于表1。
[例2]
作为透明基体，采用使用实施了化学强化处理的玻璃基板(旭硝子株式会社制、商品名：“Dragontrail”(注册商标))并对该玻璃基板的第一主面进行了磨砂处理的透明基体B，除此以外，以与例1相同的方式在透明基体B的第一主面上形成防污膜。对于制得的带防污膜的透明基体，以与例1相同的方式进行评价。将结果示于表1。
[例3]
作为透明基体，采用使用实施了化学强化处理的玻璃基板(旭硝子株式会社制、商品名：“Dragontrail”(注册商标))并对该玻璃基板的第一主面进行了磨砂处理的透明基体C，除此以外，以与例1相同的方式在透明基体C的第一主面上形成防污膜。对于制得的带防污膜的透明基体以与例1相同的方式进行评价。将结果示于表1。
[例4]
在透明基体A上以下述方式形成低反射膜。
首先，在导入氩气中混合有10体积％的氧气的混合气体的同时使用氧化铌靶(AGC陶瓷公司制、商品名NBO靶)在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm2、反向脉冲宽度5微秒的条件下进行脉冲溅射，从而在透明基体A的第一主面上形成厚度13nm的包含氧化铌(niobia)的高折射率层。
接下来，在导入氩气中混合有40体积％的氧气的混合气体的同时使用硅靶在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm2、反向脉冲宽度5微秒的条件下，在脉冲宽度5微秒的条件下进行脉冲溅射，从而在上述高折射率层上形成厚度30nm的包含氧化硅(silica)的低折射率层。
接下来，在导入氩气中混合有10体积％的氧气的混合气体的同时使用氧化铌靶(AGC陶瓷公司制、商品名NBO靶)在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm2、反向脉冲宽度5微秒的条件下进行脉冲溅射，从而在上述低折射率层上形成厚度110nm的包含氧化铌(niobia)的高折射率层。
接下来，在导入氩气中混合有40体积％的氧气的混合气体的同时使用硅靶在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm2、反向脉冲宽度5微秒的条件下，在脉冲宽度5微秒的条件下进行脉冲溅射而形成厚度90nm的包含氧化硅(silica)的低折射率层。
以上述方式形成了总计层叠有4层氧化铌(niobia)和氧化硅(silica)的低反射膜。
接下来，以与例1相同的方式在低反射膜上形成防污膜。
对于制得的带防污膜的透明基体，以与例1相同的方式进行评价。将结果示于表1。
[例5]
作为透明基体，采用使用实施了化学强化处理的玻璃基板(旭硝子株式会社制、商品名：“Dragontrail”(注册商标))并对该玻璃基板的第一主面进行了磨砂处理的透明基体D，除此以外，以与例1相同的方式在透明基体D的第一主面上形成防污膜。对于制得的带防污膜的透明基体以与例1相同的方式进行评价。将结果示于表1。
[例6]
作为透明基体，采用使用实施了化学强化处理的玻璃基板(旭硝子株式会社制、商品名：“Dragontrail”(注册商标))并对该玻璃基板的第一主面进行了磨砂处理的透明基体E，除此以外，以与例1相同的方式在透明基体E的第一主面上形成防污膜。对于制得的带防污膜的透明基体以与例1相同的方式进行评价。将结果示于表1。
[例7]
作为透明基体，使用与例5相同的透明基体D，除此以外，以与例4相同的方式形成低反射膜及防污膜，对于制得的带防污膜的透明基体以与例1相同的方式进行评价。将结果示于表1。
[表1]
Figure BDA0001507763350000211
根据表1所示的结果可知，关于满足本发明规定的例1～4，在摩擦耐久性试验中水接触角均为90°以上，与此相对，关于例5～7，水接触角为80°以下。
防污膜具有拒水性，如上所述水接触角变小的情况表示防污膜剥离、磨损。因此，关于例5～7，可知防污膜剥离、磨损。
由这些结果可以确认，关于满足本发明规定的例1～4，与比较例的例5～7相比，防污膜的耐久性变得非常高。
另外，关于例1～4，也可以根据其雾度值确认其具有适当的防眩特性。
以上，利用实施方式和实施例等对带防污膜的透明基体进行了说明，但是本发明并不限定于上述实施方式和实施例等。在权利要求书中记载的本发明的要旨的范围内可以进行各种变形、变更。
本申请要求基于2013年1月30日向日本特许厅提出申请的日本特愿2013-015968号的优先权，并将日本特愿2013-015968号的全部内容援引到本国际申请中。
附图标记
11 透明基体
12 防污膜
13 低反射膜

Claims (9)

1.一种带防污膜的透明基体，其具有：
具有第一主面和与所述第一主面相对的第二主面的透明基体、和
设置在所述透明基体的所述第一主面侧的包含含氟有机硅化合物的防污膜，
所述透明基体的所述第一主面的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且所述透明基体的所述第一主面的粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下，
所述防污膜的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且所述防污膜的粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下，并且
所述防污膜通过复写所述透明基体的所述第一主面的表面形状而形成。
2.如权利要求1所述的带防污膜的透明基体，其中，所述带防污膜的透明基体的雾度为2％以上且30％以下。
3.如权利要求1或2所述的带防污膜的透明基体，其中，所述透明基体为玻璃基板。
4.如权利要求3所述的带防污膜的透明基体，其中，
在所述透明基体的所述第一主面通过实施磨砂处理而形成凹凸形状。
5.如权利要求1、2、4中任一项所述的带防污膜的透明基体，其中，在所述透明基体的所述第一主面的表面上依次层叠有低反射膜、所述防污膜，所述低反射膜为含有选自氧化铌、氧化钛、氧化锆、氮化硅和氧化钽中的一种以上的层与氧化硅层的层叠体。
6.如权利要求1、2、4中任一项所述的带防污膜的透明基体，其中，在所述透明基体的所述第一主面的表面上依次层叠有低反射膜、所述防污膜，所述低反射膜为层叠多个层而得到的层叠体，该层叠体中总计层叠有2层以上且6层以下的层。
7.如权利要求1、2、4中任一项所述的带防污膜的透明基体，其中，所述防污膜的表面粗糙度RMS为0.08μm以上且0.20μm以下。
8.如权利要求1、2、4中任一项所述的带防污膜的透明基体，其中，所述防污膜的粗糙度曲线要素的平均长度RSm为15μm以上且35μm以下。
9.一种带防污膜的透明基体的制造方法，所述制造方法包括
对具有第一主面和与所述第一主面相对的第二主面的透明基体的所述第一主面实施喷砂处理的工序，和
在所述透明基体的所述第一主面侧形成包含含氟有机硅化合物的防污膜的工序，
其中，
所述透明基体的所述第一主面的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且所述透明基体的所述第一主面的粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下，
通过复写所述透明基体的所述第一主面的表面形状而形成所述防污膜，并且
所述防污膜的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且所述防污膜的粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下。
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