KR20150112972A - 방오막이 형성된 투명 기체 - Google Patents
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Abstract
(해결 수단) 제 1 주면과 상기 제 1 주면에 대향하는 제 2 주면을 갖고, 상기 제 1 주면의 표면에 방현 가공이 실시된 투명 기체와, 상기 투명 기체의 상기 제 1 주면측에 형성된 방오막인 불소 함유 유기 규소 화합물 피막을 갖고, 상기 방오막의 표면 조도 RMS 가 0.05 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하이고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 10 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하인 방오막이 형성된 투명 기체를 제공한다.
Description
본 발명은, 방오막이 형성된 투명 기체에 관한 것이다.
최근에 특히 휴대 디바이스나, 차재용 기기에 있어서 액정 디스플레이 등의 각종 표시 장치가 많이 사용되게 되었다. 이와 같은 표시 장치에 있어서는, 그 커버 부재로서 종래부터 투명 기체를 배치한 구성이 채용되고 있다. 또, 투명 전극이 형성된 터치 패널과 커버 유리가 일체화된 기판 구성도 알려져 있다.
이와 같은 표시 장치에 있어서는, 투명 기체 표면에 사람의 손가락 등이 닿을 기회가 많고, 사람의 손가락 등이 닿는 경우에 투명 기체 표면에 기름기 등이 부착되기 쉽다. 그리고, 기름기 등이 부착된 경우에는 시인성에 영향을 미치는 점에서, 투명 기체의 표면에 방오 처리가 실시된 것이 사용되고 있다.
표면에 방오 처리를 실시한 투명 기체로서, 예를 들어 특허문헌 1 에는, 요철 형상을 갖는 유리 기판의 표면에 발수층을 형성한 발수성 유리가 개시되어 있다.
또한, 발수층을 형성한 발수성 유리에 있어서는, 발수제와 유리의 접착력이 약하기 때문에 발수 성능을 유지하기 곤란한 점에서, 그 내구성을 높이기 위해, 유리 기판의 표면 형상을 소정 형상으로 하는 방법이 검토되어 왔다 (예를 들어 특허문헌 2).
그러나, 특허문헌 2 의 발수성 유리는, 방풍 유리나, 창유리판 등의 용도를 목적으로 개발된 것으로서, 표시 장치 등의 투명 기체로서 사용하는 것은 예정되지 않았다.
이 때문에, 액정 디스플레이 등의 표시 장치의 커버 부재나 터치 패널의 투명 전극과 일체화하는 커버 유리로서 이러한 발수성 유리를 사용한 경우, 방현 특성이 거의 없기 때문에 주위의 광이 비쳐, 표시 부분에 대한 시인성이 저하된다는 문제가 있었다.
또, 상기와 같이 특허문헌 2 의 발수성 유리는 창유리 등, 사람의 손에 닿을 기회가 적은 부분에 사용하는 것을 예정한 발수성 유리이기 때문에, 표시 장치와 같이 보다 높은 빈도로 사람 손에 닿을 가능성이 있는 커버 부재나 터치 패널과 일체화된 기판으로서 사용하기에는, 내구성이 충분하지 않았다.
본 발명은 상기 종래 기술이 갖는 문제를 감안하여, 방현 특성을 가지면서도, 방오막의 내구성을 높인 방오막이 형성된 투명 기체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은, 제 1 주면과 상기 제 1 주면에 대향하는 제 2 주면을 갖고, 상기 제 1 주면의 표면에 방현 가공이 실시된 투명 기체와,
상기 투명 기체의 상기 제 1 주면측에 형성된 방오막인 불소 함유 유기 규소 화합물 피막을 갖고,
상기 방오막의 표면 조도 RMS 가 0.05 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하이고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 10 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하인 방오막이 형성된 투명 기체를 제공한다.
본 발명에 있어서는, 방현 특성을 가지면서도, 방오막의 내구성을 높인 방오막이 형성된 투명 기체를 제공할 수 있다.
도 1 은 본 발명의 제 1 실시형태에 관련된 방오막이 형성된 투명 기체의 구성의 설명도이다.
도 2 는 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 방오막이 형성된 투명 기체의 구성의 설명도이다.
도 2 는 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 방오막이 형성된 투명 기체의 구성의 설명도이다.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대해 도면을 참조하여 설명하는데, 본 발명은 하기의 실시형태에 제한되지는 않으며, 본 발명의 범위를 일탈하지 않고 하기의 실시형태에 다양한 변형 및 치환을 부가할 수 있다.
[제 1 실시형태]
본 실시형태에서는, 본 발명의 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 설명한다.
본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체는, 제 1 주면과 상기 제 1 주면에 대향하는 제 2 주면을 갖고, 상기 제 1 주면의 표면에 방현 가공이 실시된 투명 기체와, 상기 투명 기체의 상기 제 1 주면측에 형성된 방오막인 불소 함유 유기 규소 화합물 피막을 갖고 있다. 그리고, 상기 방오막의 표면 조도 RMS 가 0.05 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하이고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 10 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하인 것을 특징으로 한다.
본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 도 1 을 사용하여 설명한다. 도 1 은 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체의 단면도를 모식적으로 나타낸 것으로서, 투명 기체 (11) 의 제 1 주면측에 방오막 (12) 이 배치된 구성을 갖고 있다. 방오막이 형성된 투명 기체를 구성하는 각 부재에 대해 이하에 설명한다.
먼저, 투명 기체 (11) 의 재료로는 특별히 한정되는 것이 아니며, 적어도 가시광을 투과시키는 각종 투명 기체를 이용할 수 있다. 예를 들어 플라스틱 기판, 유리 기판 등의 각종 재료를 들 수 있다. 그 중에서도 투명성이나 강도 등의 관점에서 투명 기체는 유리 기판인 것이 바람직하다. 이 경우, 유리의 종류는 특별히 한정되는 것이 아니며, 무알칼리 유리나, 소다라임 유리, 알루미노실리케이트 유리 등 각종 유리를 이용할 수 있다. 그 중에서도 그 상면에 형성되는 층 (막) 과의 밀착성의 관점에서, 소다라임 유리를 사용하는 것이 바람직하다.
투명 기체 (11) 가 유리 기판인 경우, 투명 기체 자체의 강도의 면에서는, 알루미노실리케이트 유리를 화학 강화 처리한 강화 유리 기판 (예를 들어,「드래곤트레일 (등록 상표)」 등) 을 사용하는 것이 바람직하다.
화학 강화 처리란, 유리 표면의 이온 반경이 작은 알칼리 이온 (예를 들어, 나트륨 이온) 을 이온 반경이 큰 알칼리 이온 (예를 들어, 칼륨 이온) 으로 치환시키는 처리를 말한다. 예를 들어, 나트륨 이온을 함유하는 유리를 칼륨 이온을 함유하는 용융염으로 처리함으로써 화학 강화할 수 있다. 이와 같은 화학 강화 처리 후의 유리 기판 표면의 압축 응력층의 조성은 화학 강화 처리 전의 조성과 약간 상이하지만, 기판 심층부의 조성은 화학 강화 처리 전의 조성과 거의 동일하다.
화학 강화의 조건으로는 특별히 한정되는 것이 아니며, 화학 강화에 제공하는 유리의 종류나 요구되는 화학 강화의 정도 등에 따라 선택할 수 있다.
화학 강화 처리를 실시하기 위한 용융염으로는, 화학 강화에 제공하는 유리 기판에 따라 선택하면 된다. 예를 들어, 질산칼륨, 황산나트륨, 황산칼륨, 염화나트륨 및 염화칼륨 등의 알칼리 황산염 및 알칼리 염화염 등을 들 수 있다. 이들 용융염은 단독으로 사용해도 되고, 복수 종을 조합하여 사용해도 된다.
용융염의 가열 온도는 350 ℃ 이상이 바람직하고, 380 ℃ 이상이 보다 바람직하다. 또, 500 ℃ 이하가 바람직하고, 480 ℃ 이하가 보다 바람직하다.
용융염의 가열 온도를 350 ℃ 이상으로 함으로써, 이온 교환 속도의 저하에 의해 화학 강화가 잘 들어가지 않게 되는 것을 방지한다. 또, 500 ℃ 이하로 함으로써 용융염의 분해·열화를 억제할 수 있다.
또, 유리 기판을 용융염에 접촉시키는 시간은, 충분한 압축 응력을 부여하기 위해서는, 1 시간 이상이 바람직하고, 2 시간 이상이 보다 바람직하다. 또, 장시간의 이온 교환에서는, 생산성이 떨어짐과 함께, 완화에 의해 압축 응력값이 저하되기 때문에, 24 시간 이하가 바람직하고, 20 시간 이하가 보다 바람직하다.
투명 기체의 형상에 관해서도 특별히 한정되는 것이 아니며, 각종 형상의 투명 기체를 이용할 수 있다.
투명 기체 (11) 는, 상기 서술한 바와 같이, 제 1 주면 (11A) 과, 이것에 대향하는 제 2 주면 (11B) 을 갖고 있다. 그리고, 제 1 주면 (11A) 에는 원하는 요철 형상을 형성하는 방현 가공이 실시되어 있다. 이 때, 제 1 주면 (11A) 의 표면 조도인 RMS 를 0.05 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하, 제 1 주면 (11A) 의 조도 곡선의 요소의 평균 길이인 RSm 을 10 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 이러한 범위로 함으로써, 후술하는 방오막의 표면 조도 RMS, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 을 원하는 범위로 할 수 있다.
여기서, 표면 조도 RMS 란, 기준면 (여기서는 표면 처리 전의 기판 표면) 으로부터의 요철의 평균 깊이이다. 또한, 제곱 평균 조도라고도 하며, Rq 로 나타내는 경우도 있다. 또 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이란, 기준면 상에 취한 기준 길이에 포함되는 조도 곡선에 있어서, 일 주기분의 요철이 발생하는 기준면 상의 길이를 평균낸 길이이다. 표면 조도 RMS (㎛) 및 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 은, JIS B 0601 (2001) 에서 규정되는 방법에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다.
이것은, 본 발명의 발명자들이 방오막이 형성된 투명 기체에 있어서, 방오막의 내구성을 높이기 위해 검토를 실시한 결과, 제 1 주면 (11A) 의 표면 특성이 상기 특성을 가짐으로써, 방현 특성에 추가하여, 종래의 방오막이 형성된 투명 기체와 비교하여 방오막의 내구성이 특히 향상되는 것을 알아낸 것이다.
방오막은 투명 기체의 제 1 주면측에 형성되어 있고, 방오막은 투명 기체의 표면 형상을 트레이스하기 때문에, 방오막 표면도 투명 기체와 거의 동일한 표면 조도의 특성을 갖고 있다.
투명 기체의 제 1 주면 (11A) 이 상기 규정을 만족시킴으로써, 종래 사용되었던, RMS 가 0.25 ㎛ 를 초과하거나 또는 RSm 이 40 ㎛ 를 초과하는 방현 가공이 실시된 투명 기체와 비교하여, 투명 기체의 제 1 주면의 미세한 요철에 있어서, 오목부 사이의 피치가 작아지고, 볼록부의 면적이 증대된 것을 의미하고 있다. 그리고, 상기와 같이 방오막의 표면도 동일한 표면 형상을 갖게 된다.
이러한 방오막이 형성된 투명 기체의 표면, 즉, 방오막에 손가락 등이 접촉한 경우, 손가락 등과 접촉하는 방오막의 볼록부의 면적이, 종래의 방오막이 형성된 투명 기체와 비교하여 커졌다. 이 때문에, 손가락 등에 의해 방오막이 형성된 투명 기체의 표면 (방오막) 부분에 가해지는 힘이 분산되어, 방오막에 가해지는 압력을 저감시킬 수 있고, 방오막의 박리, 마모를 억제할 수 있는 것으로 추인된다.
조도 곡선의 요소의 평균 길이인 RSm 이 작을수록, 즉 오목부의 피치가 작을수록, 손가락과의 접촉 면적이 커지고, 내구성이 향상될 것이 추찰된다. 그러나, RSm 을 매우 작게 하기 위해서는, 예를 들어 포토마스크를 사용한 에칭 처리 등을 실시할 필요가 있어, 비용의 관점에서는, RSm 이 10 ㎛ 이상이면 바람직하게 제조할 수 있다. 이 때문에, 방오막을 형성하는 면에 대해, 상기 RSm 범위를 만족시키는 투명 기체를 사용하는 것이 바람직하다.
또, RMS, RSm 이 상기 수치 범위에 있는 투명 기체의 경우, 오목부의 피치가 적절한 범위에 있기 때문에, 방현 특성도 갖는 투명 기체로 할 수 있다.
또한, 제 1 주면 (11A) 의 표면 조도인 RMS 는 0.08 ㎛ 이상 0.20 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이인 RSm 이 15 ㎛ 이상 35 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 이들 파라미터를 충족시킴으로써, 방오막의 내구성을 보다 향상시키는 것이 가능해진다.
이와 같은 표면 특성을 갖는 투명 기체로 하는 방현 가공 방법은 특별히 한정되는 것이 아니며, 제 1 주면에 대해 표면 처리를 실시하여, 원하는 요철을 형성하는 방법을 이용할 수 있다.
구체적으로는, 투명 기체의 제 1 주면에 대해 프로스트 처리를 실시하는 방법을 들 수 있다. 프로스트 처리는, 예를 들어, 불화수소와 불화암모늄의 혼합 용액에 피처리체인 투명 기체를 침지시켜, 침지면을 화학적으로 표면 처리함으로써 실시할 수 있다.
또, 이와 같은 화학적 처리에 의한 방법 이외에도, 예를 들어, 결정질 이산화규소분 (粉), 탄화규소분 등을 가압 공기로 투명 기체 표면에 분사하는 이른바 샌드 블라스트 처리나, 결정질 이산화규소분, 탄화규소분 등을 부착시킨 브러시를 물로 적신 것으로 닦는 등의 물리적 처리에 의한 방법도 이용할 수 있다.
특히, 불화수소 등의 약액을 사용하여 화학적으로 표면 처리하는 프로스트 처리를 실시하는 방법에서는, 피처리체 표면에 있어서의 마이크로 크랙이 잘 발생하지 않고, 기계적 강도의 저하가 잘 발생하지 않기 때문에, 투명 기체의 표면 처리를 실시하는 방법으로서 바람직하게 이용할 수 있다.
이와 같이 하여 요철을 제조한 후, 표면 형상을 가지런히 하기 위해, 유리 표면을 화학적으로 에칭하는 것이 일반적으로 실시되고 있다. 이렇게 함으로써, 에칭량에 의해 헤이즈를 원하는 값으로 조정할 수 있고, 샌드 블라스트 처리 등으로 발생한 크랙을 제거할 수 있으며, 또 번쩍임을 억제할 수 있다.
에칭으로는, 불화수소를 주성분으로 하는 용액에 피처리체인 투명 기체를 침지시키는 방법이 바람직하게 사용된다. 불화수소 이외의 성분으로는, 염산·질산·시트르산 등을 함유해도 된다. 이들을 함유함으로써, 유리에 함유되어 있는 알칼리 성분과 불화수소가 반응하여 석출 반응이 국소적으로 일어나는 것을 억제할 수 있어, 에칭을 면내 균일하게 진행시킬 수 있다.
투명 기체의 제 2 주면 (11B) 에 대해서는 그 특성은 특별히 한정되는 것이 아니며, 제 1 주면과 동일한 표면 조도 RMS 및 조도 곡선의 요소의 평균 길이인 RSm 을 갖도록 가공을 실시할 수도 있다.
또, 투명 기체의 제 2 주면 (11B) 에 터치 패널용 투명 전극을 제조할 수도 있다. 이와 같이, 터치 패널의 투명 전극과 방오막이 형성된 투명 기체가 일체화된 구성으로 함으로써, 보다 더 박형 경량화를 달성할 수 있다. 또한 이 경우에는, 제 2 주면 (11B) 에 대해 상기한 제 1 주면 (11A) 과 동일한 방현 가공은 실시하지 않는 것이 바람직하다.
그리고, 투명 기체 (11) 의 제 1 주면 (11A) 측에는, 도 1 에 나타내는 바와 같이 방오막 (12) 이 형성되어 있다. 방오막 (12) 은 불소 함유 유기 규소 화합물에 의해 구성할 수 있다.
여기서, 불소 함유 유기 규소 화합물에 대해 설명한다. 본 실시형태에서 사용하는 불소 함유 유기 규소 화합물로는, 방오성, 발수성, 발유성을 부여하는 것이면 특별히 한정되지 않고 사용할 수 있다.
이와 같은 불소 함유 유기 규소 화합물로는 예를 들어, 폴리플루오로폴리에테르기, 폴리플루오로알킬렌기 및 폴리플루오로알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 기를 갖는 불소 함유 유기 규소 화합물을 들 수 있다. 또한, 폴리플루오로폴리에테르기란, 폴리플루오로알킬렌기와 에테르성 산소 원자가 교대로 결합된 구조를 갖는 2 가의 기를 말한다.
이 폴리플루오로폴리에테르기, 폴리플루오로알킬렌기 및 폴리플루오로알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 기를 갖는 불소 함유 유기 규소 화합물의 구체예로는, 하기 일반식 (Ⅰ) ∼ (Ⅴ) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.
[화학식 1]
식 중, Rf 는 탄소수 1 ∼ 16 의 직사슬형의 폴리플루오로알킬기 (알킬기로서, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기 등), X 는 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 저급 알킬기 (예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기 등), R1 은 가수 분해 가능한 기 (예를 들어, 아미노기, 알콕시기 등) 또는 할로겐 원자 (예를 들어, 불소, 염소, 브롬, 요오드 등), m 은 1 ∼ 50, 바람직하게는 1 ∼ 30 의 정수 (整數), n 은 0 ∼ 2, 바람직하게는 1 ∼ 2 의 정수, p 는 1 ∼ 10, 바람직하게는 1 ∼ 8 의 정수이다.
여기서, q 는 1 이상, 바람직하게는 2 ∼ 20 의 정수이다.
일반식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물로는 예를 들어, n-트리플루오로(1,1,2,2-테트라하이드로)프로필실라잔 (n-CF3CH2CH2Si(NH2)3), n-헵타플루오로(1,1,2,2-테트라하이드로)펜틸실라잔 (n-C3F7CH2CH2Si(NH2)3) 등을 예시할 수 있다.
여기서, q' 는 1 이상, 바람직하게는 1 ∼ 20 의 정수이다.
일반식 (Ⅲ) 으로 나타내는 화합물로는, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸트리메톡시실란 (n-C8F17CH2CH2Si(OCH3)3) 등을 예시할 수 있다.
[화학식 2]
식 (Ⅳ) 중, Rf2 는 -(OC3F6)s-(OC2F4)t-(OCF2)u- (s, t, u 는 각각 독립적으로 0 ∼ 200 의 정수) 로 나타내는 2 가의 직사슬형 폴리플루오로폴리에테르기이고, R2, R3 은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 1 가 탄화수소기 (예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기 등) 이다. X2, X3 은 독립적으로 가수 분해 가능한 기 (예를 들어, 아미노기, 알콕시기, 아실옥시기, 알케닐옥시기, 이소시아네이트기 등) 또는 할로겐 원자 (예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등) 이고, d, e 는 독립적으로 1 ∼ 2 의 정수이고, c, f 는 독립적으로 1 ∼ 5 (바람직하게는 1 ∼ 2) 의 정수이고, a 및 b 는 독립적으로 2 또는 3 이다.
화합물 (Ⅳ) 가 갖는 Rf2 에 있어서 s + t + u 는 20 ∼ 300 인 것이 바람직하고, 25 ∼ 100 인 것이 보다 바람직하다. 또, R2, R3 으로는, 메틸기, 에틸기, 부틸기가 보다 바람직하다. X2, X3 으로 나타내는 가수 분해성기로는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기가 보다 바람직하고, 메톡시기, 에톡시기가 특히 바람직하다. 또, a 및 b 는 각각 3 이 바람직하다.
[화학식 3]
식 (Ⅴ) 중, v 은 1 ∼ 3 의 정수이고, w, y, z 는 각각 독립적으로 0 ∼ 200 의 정수이고, h 는 1 또는 2 이고, i 는 2 ∼ 20 의 정수이고, X4 는 가수 분해성기이고, R4 는 탄소수 1 ∼ 22 의 직사슬 또는 분기의 탄화수소기이고, k 는 0 ∼ 2 의 정수이다. w + y + z 는 20 ∼ 300 인 것이 바람직하고, 25 ∼ 100 인 것이 보다 바람직하다. 또, i 는 2 ∼ 10 인 것이 보다 바람직하다. X4 는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기가 바람직하고, 메톡시기, 에톡시기가 보다 바람직하다. R4 로는, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기가 보다 바람직하다.
또, 시판되고 있는 폴리플루오로폴리에테르기, 폴리플루오로알킬렌기 및 폴리플루오로알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개 이상의 기를 갖는 불소 함유 유기 규소 화합물로서, KP-801 (상품명, 신에츠 화학사 제조), KY178 (상품명, 신에츠 화학사 제조), KY-130 (상품명, 신에츠 화학사 제조), KY-185 (상품명, 신에츠 화학사 제조) 옵툴 (등록 상표) DSX 및 옵툴 AES (모두 상품명, 다이킨사 제조) 등을 바람직하게 사용할 수 있다.
또한, 불소 함유 유기 규소 화합물은, 대기 중의 수분과의 반응에 의한 열화 억제 등을 위해 불소계 용매 등의 용매와 혼합하여 보존되고 있는 것이 일반적인데, 이들 용매를 함유한 채로 성막 공정에 제공하면, 얻어진 박막의 내구성 등에 악영향을 미치는 경우가 있다.
이 때문에, 본 실시형태에 있어서는, 가열 용기에서 가열을 실시하기 전에 미리 용매 제거 처리를 실시한 불소 함유 유기 규소 화합물, 또는 용매로 희석되지 않은 (용매를 첨가하지 않은) 불소 함유 유기 규소 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 불소 함유 유기 규소 화합물 용액 중에 함유되는 용매의 농도로서 1 ㏖% 이하의 것이 바람직하고, 0.2 ㏖% 이하의 것이 보다 바람직하다. 용매를 함유하지 않는 불소 함유 유기 규소 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다.
또한, 상기 불소 함유 유기 규소 화합물을 보존할 때에 사용되고 있는 용매로는, 예를 들어, 퍼플루오로헥산, 메타자일렌헥사플루오라이드 (C6H4(CF3)2), 하이드로플루오로폴리에테르, HFE7200/7100 (상품명, 스미토모 3M 사 제조, HFE7200 은 C4F9C2H5, HFE7100 은 C4F9OCH3 으로 나타낸다) 등을 들 수 있다.
불소계 용매를 함유하는 불소 함유 유기 규소 화합물 용액으로부터의 용매 (용제) 의 제거 처리는, 예를 들어 불소 함유 유기 규소 화합물 용액을 넣은 용기를 진공 배기시킴으로써 실시할 수 있다.
진공 배기를 실시하는 시간에 대해서는, 배기 라인, 진공 펌프 등의 배기 능력, 용액의 양 등에 따라 변화하기 때문에 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 10 시간 정도 이상이어도 된다.
본 실시형태의 방오막의 성막 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 상기와 같은 재료를 사용하여 진공 증착에 의해 성막하는 것이 바람직하다.
또, 상기 용매의 제거 처리는, 방오막을 성막하는 성막 장치의 가열 용기에 불소 함유 유기 규소 화합물 용액을 도입 후, 승온시키기 전에 실온에서 가열 용기 내를 진공 배기시킴으로써 실시할 수도 있다. 또, 가열 용기에 도입하기 전에 미리 이배퍼레이터 등에 의해 용매 제거를 실시해 둘 수도 있다.
단, 전술한 바와 같이 용매 함유량이 적거나 또는 함유하지 않는 불소 함유 유기 규소 화합물은 용매를 함유하고 있는 것과 비교하여, 대기와 접촉함으로써 열화되기 쉽다.
이 때문에, 용매 함유량이 적은 (또는 함유하지 않는) 불소 함유 유기 규소 화합물의 보관 용기는 용기 중을 질소 등의 불활성 가스로 치환, 밀폐시킨 것을 사용하여, 취급할 때에는 대기로의 노출, 접촉 시간이 짧아지도록 하는 것이 바람직하다.
구체적으로는, 보관 용기를 개봉 후에는 바로 방오막을 성막하는 성막 장치의 가열 용기에 불소 함유 유기 규소 화합물을 도입하는 것이 바람직하다. 그리고, 도입 후에는, 가열 용기 내를 진공으로 하거나, 질소, 희가스 등의 불활성 가스에 의해 치환시킴으로써, 가열 용기 내에 함유되는 대기 (공기) 를 제거하는 것이 바람직하다. 대기와 접촉시키지 않고 보관 용기 (저장 용기) 로부터 본 제조 장치의 가열 용기에 도입할 수 있도록, 예를 들어 저장 용기와 가열 용기가 밸브가 형성된 배관에 의해 접속되어 있는 것이 보다 바람직하다.
그리고, 가열 용기에 불소 함유 유기 규소 화합물을 도입 후, 용기 내를 진공 또는 불활성 가스로 치환시킨 후에는, 바로 성막을 위한 가열을 개시하는 것이 바람직하다.
방오막의 성막 방법으로서, 본 실시형태의 설명에서는 용액 또는 원액의 불소 함유 유기 규소 화합물을 사용한 예를 서술하였지만, 이것에 한정되지는 않는다. 다른 방법으로서 예를 들어, 미리 포러스한 금속 (예를 들어, 주석이나 구리) 이나 섬유상 금속 (예를 들어, 스테인리스스틸) 에 불소 함유 유기 규소 화합물을 일정량 함침시킨, 이른바 증착용 펠릿이 시판되고 있으며 (일례로서, 캐논 옵트론사 제조의 서프클리어), 이것을 사용하는 방법이 있다. 이 경우, 증착 장치의 용량이나 필요 막두께에 따른 양의 펠릿을 증착원으로 하여, 간편하게 방오막을 성막할 수도 있다.
상기 서술한 바와 같이 방오막은 투명 기체의 표면 형상을 그대로 트레이스하기 때문에, 그 표면 특성은, 투명 기체의 표면 조도 RMS, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 과 동등해진다. 이 때문에, 그 표면 조도 RMS 가 0.05 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하이고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 10 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하가 된다. 또, 특히 표면 조도 RMS 는 0.08 ㎛ 이상 0.20 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 15 ㎛ 이상 35 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.
또, 투명 기체와 방오막의 밀착성을 향상시킬 목적으로, 투명 기체와 방오막 사이에 밀착층을 삽입해도 된다. 밀착층을 삽입하는 경우, 방오막을 성막하기 전에 미리 투명 기재의 제 1 주면에 형성해 두면 된다. 밀착층으로는, 산화규소막이 바람직하게 사용된다. 막두께로는 2 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하, 바람직하게는 5 ㎚ 이상 20 ㎚ 이하이다.
이상 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체의 각 부재에 대해 설명해 왔는데, 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체의 헤이즈는 2 % 이상 30 % 이하인 것이 바람직하다. 헤이즈가 2 % 이상이면, 광의 비침을 방현 가공이 실시되지 않은 기판에 비해 육안으로 확인하여 유의하게 억제할 수 있지만, 30 % 보다 크면 광을 난반사시키게 되어, 표시 장치의 커버 부재나 터치 패널과 일체화된 기판으로서 사용한 경우, 표시 장치의 표시의 시인성을 저하시키기 때문이다. 또, 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체의 헤이즈는 15 % 이상 27 % 이하인 것이 보다 바람직하다.
헤이즈가 상기 범위에 있음으로써 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체가 충분한 방현 특성을 갖는 것을 나타내고 있으며, 표시 장치 등의 커버 부재나 터치 패널과 일체화된 기판으로서 보다 바람직하게 이용할 수 있다.
이상 설명해 온 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체에 의하면, 방현 특성을 가지면서도, 방오막의 내구성을 높인 방오막이 형성된 투명 기체로 할 수 있다.
[제 2 실시형태]
본 실시형태에서는, 제 1 실시형태에 있어서, 저반사막을 추가로 형성한 구성에 대해 설명한다. 그 밖의 구성에 대해서는 제 1 실시형태에서 설명한 바와 같기 때문에, 여기서는 생략한다.
저반사막은 방오막이 형성된 투명 기체 표면에서의 광의 반사를 억제할 수 있기 때문에, 방현 특성을 보다 높이는 것이 가능해진다. 예를 들어 표시 장치의 커버 부재로서 사용한 경우, 주위의 광의 비침을 억제하여, 표시 장치의 표시의 시인성을 보다 높이는 것이 가능해진다.
저반사막의 재료는 특별히 한정되는 것이 아니며, 반사를 억제할 수 있는 재료이면 각종 재료를 이용할 수 있다. 예를 들어 저반사막으로는, 고굴절률층과 저굴절률층을 적층시킨 구성으로 할 수 있다.
고굴절률층과 저굴절률층은, 각각 1 층씩 포함하는 형태여도 되지만, 각각 2 층 이상 포함하는 구성이어도 된다. 고굴절률층과 저굴절률층을 각각 2 층 이상 포함하는 경우에는, 고굴절률층과 저굴절률층을 교대로 적층시킨 형태인 것이 바람직하다.
충분한 반사 방지 성능으로 하기 위해서는, 저반사막은 복수의 막 (층) 이 적층된 적층체인 것이 바람직하다. 예를 들어 그 적층체는 전체로 2 층 이상 6 층 이하의 막이 적층되어 있는 것이 바람직하고, 2 층 이상 4 층 이하의 막이 적층되어 있는 것이 보다 바람직하다. 여기서의 적층체는, 상기와 같이 고굴절률층과 저굴절률층을 적층시킨 적층체인 것이 바람직하고, 고굴절률층과 저굴절률층의 층수의 총계가 상기 범위인 것이 바람직하다.
고굴절률층, 저굴절률층의 재료는 특별히 한정되는 것이 아니며, 요구되는 반사 방지의 정도나 생산성 등을 고려하여 선택할 수 있다. 고굴절률층을 구성하는 재료로는, 예를 들어 산화니오브 (Nb2O5), 산화티탄 (TiO2), 산화지르코늄 (ZrO2), 질화규소 (SiN), 산화탄탈 (Ta2O5) 에서 선택된 1 종 이상을 바람직하게 이용할 수 있다. 저굴절률층을 구성하는 재료로는, 산화규소 (SiO2) 를 바람직하게 이용할 수 있다.
고굴절률층으로는, 생산성이나 굴절률의 정도에서, 특히 산화니오브를 바람직하게 이용할 수 있다. 이 때문에, 상기 저반사막은 산화니오브층과 산화규소층의 적층체인 것이 보다 바람직하다.
본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체에 있어서, 저반사막을 형성하는 장소에 대해서는 특별히 한정되는 것이 아니며, 투명 기체의 제 1 주면 (11A) 및/또는 제 2 주면 (11B) 에 배치 형성할 수 있다. 특히 투명 기체의 제 1 주면 (11A) 에 형성하는 것이 바람직하다. 예를 들어 도 2 에 나타내는 바와 같이, 투명 기체 (11) 의 제 1 주면 (11A) 의 표면에 (제 1 주면측에서부터) 저반사막 (13), 불소 함유 유기 규소 화합물 피막 (12) 의 순서로 적층된 구성으로 하는 것이 보다 바람직하다.
이와 같이 투명 기체의 제 1 주면 (11A) 상에 저반사막 (13), 불소 함유 유기 규소 화합물 피막 (방오막) (12) 을 적층시킨 구성으로 함으로써, 저반사막 (13) 에 대해서도 박리되는 것을 방지하여, 내구성을 향상시킬 수 있기 때문에 바람직하다.
또, 방오막의 내구성을 높이는 밀착층을 삽입하는 경우에는, 저반사막과 방오막 사이에 넣는 것이 바람직하다. 이 경우에도 산화실리콘막이 바람직하게 사용되는 재료인데, 상기 예와 같이 저반사막의 최상층도 산화실리콘인 경우, 저반사성과 밀착층의 효과를 동시에 달성할 수 있기 때문에 바람직한 구성이다.
도 2 에 있어서, 저반사막 (13) 은 2 개의 층 (131, 132) 이 적층된 구성으로 하였지만, 이러한 형태에 한정되는 것이 아니며, 상기와 같이 추가로 복수의 층이 적층된 구성으로 할 수도 있다.
또, 본 실시형태의 방오막이 형성된 투명 기체에 대해서도 제 1 실시형태에서 설명한 동일한 이유에서 헤이즈는 2 % 이상 30 % 이하인 것이 바람직하고, 15 % 이상 27 % 이하인 것이 보다 바람직하다.
이상, 본 실시형태에서는, 저반사막을 갖는 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 설명해 왔는데, 이러한 구성을 가짐으로써, 방현 특성을 보다 향상시킬 수 있다. 이 때문에, 표시 장치의 커버 장치나 터치 패널과 일체화된 기판 등, 방현 특성이 특히 요구되는 용도에 있어서 보다 바람직하게 이용할 수 있다.
실시예
이하에 구체적인 실시예를 들어 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 예 1 ∼ 예 4 는 실시예, 예 5 ∼ 예 7 은 비교예이다.
(1) 평가 방법
이하의 예 1 ∼ 예 7 에 있어서 얻어진 방오막이 형성된 투명 기체의 특성 평가 방법에 대해 이하에 설명한다.
(표면 형상의 측정)
예 1 ∼ 예 7 에서 사용한 방오막 성막 후의 시료의 방오막의 표면 형상에 대해, 레이저 현미경 (키엔스사 제조, 상품명 : VK-9700) 을 사용하여, 50 배의 배율로 평면 프로파일을 측정하였다. 그리고, 얻어진 평면 프로파일로부터, JIS B 0601 (2001) 에 기초하여 표면 조도 RMS 및 조도 곡선 요소의 평균 길이 RSm 의 값을 얻었다.
각 예에 있어서 성막되는 방오막이나 저반사막은, 투명 기체의 두께에 대하여 매우 얇은 막이므로, 표면의 요철 구조는 실질적으로 투명 기체의 표면 형상을 그대로 트레이스한다. 따라서, 투명 기재의 (방오막을 형성한 측의 면의) 표면 형상에 대해서도 동등한 것이라고 생각된다.
(헤이즈의 측정)
실시예, 비교예에 있어서, 방오막을 형성한 후의 시료에 대해 투과 헤이즈의 측정을 실시하였다. 헤이즈의 측정은, 헤이즈미터 (스가 시험기 주식회사 제조, 형식 : HZ-V3) 를 사용하여 실시하였다.
(문지름 내구성 (내마모성) 시험)
예 1 ∼ 예 7 에 있어서 방오막 성막 후의 시료에 대해, 그 시료의 방오막에 대해 문지름 내구성 시험을 이하의 순서에 의해 실시하였다.
먼저, 예 1 ∼ 7 의 방오막에 대해 이하의 순서에 의해 문지름 시험을 실시하였다.
바닥면이 10 ㎜ × 10 ㎜ 인 평면 금속 압자의 표면에 스틸울 #0000 을 장착하여, 샘플을 문지르는 마찰자로 하였다.
다음으로, 상기 마찰자를 사용하여 평면 마모 시험기 3 련식 (타이에이 과학 정기사 제조, 형식 : PA-300A) 으로 문지름 시험을 실시하였다. 구체적으로는, 먼저 상기 압자의 바닥면이 샘플의 방오막면에 접촉하도록 마모 시험기에 장착하고, 마찰자에 대한 가중이 1000 g 이 되도록 추를 얹고, 평균 속도 6400 ㎜/min, 편도 40 ㎜ 로 왕복 슬라이딩하였다. 왕복 1 회를 문지름 횟수 1 회로 세어, 문지름 횟수 1000 회가 되도록 시험을 실시하였다.
그 후, 방오막에 대해 이하의 순서에 의해 수 접촉각의 측정을 실시하였다.
방오막의 수 접촉각의 측정은, 자동 접촉각계 (쿄와 계면 과학사 제조, 형식 : DM-501) 를 사용하여, 방오막 상에 순수 1 ㎕ 를 적하하고, 그 접촉각을 측정함으로써 실시하였다. 측정시에는, 각 시료에 대해 방오막 표면의 10 개 지점에서 측정을 실시하고, 그 평균값을 당해 시료의 내구성 시험 후의 수 접촉각으로 하였다.
이 때, 수 접촉각이 90°이상을 합격으로 하고, 90°이하를 불합격으로 하여 평가하였다.
(2) 실험 순서
[예 1]
이하의 순서에 의해, 방오막이 형성된 투명 기체를 제조하였다.
본 예에서는 투명 기체로서 화학 강화 처리가 실시된 유리 기판 (아사히 유리 주식회사 제조, 상품명 : 드래곤트레일 (등록 상표)) 을 사용하고, 그 유리 기판의 제 1 주면에 소정의 프로스트 처리가 된 유리 기판 (이하, 투명 기체 A 로 한다) 을 사용하였다.
그리고, 투명 기체 A 의 제 1 주면에 이하의 순서에 의해 방오막을 성막하였다.
먼저, 증착 재료로서, 불소 함유 유기 규소 화합물 (신에츠 화학사 제조, 상품명 : KY-185) 을 가열 용기 내에 도입하였다. 그 후, 가열 용기 내를 진공 펌프로 10 시간 이상 탈기시키고 용액 중의 용매 제거를 실시하여 불소 함유 유기 규소 화합물 피막 형성용 조성물로 하였다.
이어서, 상기 불소 함유 유기 규소 화합물막 형성용 조성물이 들어 있는 가열 용기를 270 ℃ 까지 가열하였다. 270 ℃ 에 도달한 후, 온도가 안정될 때까지 10 분간 그 상태를 유지하였다.
그리고, 진공 챔버 내에 설치된 투명 기체 A 의 제 1 주면 (프로스트 처리된 면) 에 대해, 상기 불소 함유 유기 규소 화합물막 형성용 조성물이 들어 있는 가열 용기와 접속된 노즐로부터, 불소 함유 유기 규소 화합물막 형성용 조성물을 공급하여, 성막을 실시하였다.
성막시에는, 진공 챔버 내에 설치된 수정 진동자 모니터에 의해 막두께를 측정하면서 실시하고, 투명 기체 A 상에 형성된 불소 함유 유기 규소 화합물막의 막두께가 10 ㎚ 가 될 때까지 성막을 실시하였다.
불소 함유 유기 규소 화합물막이 10 ㎚ 가 된 시점에서 노즐로부터 원료의 공급을 정지시키고, 진공 챔버로부터 불소 함유 유기 규소 화합물막이 형성된 투명 기체 A 를 꺼냈다.
꺼내어진 불소 함유 유기 규소 화합물막이 형성된 투명 기체 A 는, 핫 플레이트에 막면을 상향으로 하여 설치하고, 대기 중에서 150 ℃, 60 분간 열처리를 실시하였다.
이와 같이 하여 얻어진 시료에 대해 상기 표면 형상의 측정, 헤이즈의 측정, 문지름 내구성 시험을 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
[예 2]
투명 기체로서 화학 강화 처리가 실시된 유리 기판 (아사히 유리 주식회사 제조, 상품명 : 드래곤트레일 (등록 상표)) 을 사용하고, 그 유리 기판의 제 1 주면에 프로스트 처리된 투명 기체 B 를 사용한 것 이외에는 예 1 과 동일하게 하여 투명 기체 B 의 제 1 주면에 방오막을 성막하였다. 얻어진 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 예 1 과 동일하게 하여 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
[예 3]
투명 기체로서 화학 강화 처리가 실시된 유리 기판 (아사히 유리 주식회사 제조, 상품명 : 드래곤트레일 (등록 상표)) 을 사용하고, 그 유리 기판의 제 1 주면에 프로스트 처리된 투명 기체 C 를 사용한 것 이외에는 예 1 과 동일하게 하여 투명 기체 C 의 제 1 주면에 방오막을 성막하였다. 얻어진 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 예 1 과 동일하게 하여 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
[예 4]
투명 기체 A 상에 이하와 같이 하여 저반사막을 성막하였다.
먼저, 아르곤 가스에 10 체적% 의 산소 가스를 혼합한 혼합 가스를 도입하면서, 산화니오브 타깃 (AGC 세라믹스사 제조, 상품명 NBO 타깃) 을 사용하여, 압력 0.3 ㎩, 주파수 20 ㎑, 전력 밀도 3.8 W/㎠, 반전 펄스폭 5 μsec 의 조건으로 펄스 스퍼터링을 실시하여, 투명 기체 A 의 제 1 주면 상에 두께 13 ㎚ 의 산화니오브 (니오비아) 로 이루어지는 고굴절률층을 형성하였다.
이어서, 아르곤 가스에 40 체적% 의 산소 가스를 혼합한 혼합 가스를 도입하면서, 실리콘 타깃을 사용하여, 압력 0.3 ㎩, 주파수 20 ㎑, 전력 밀도 3.8 W/㎠, 반전 펄스폭 5 μsec 의 조건으로 펄스폭 5 μsec 의 조건으로 펄스 스퍼터링을 실시하여, 상기 고굴절률층 상에 두께 30 ㎚ 의 산화규소 (실리카) 로 이루어지는 저굴절률층을 형성하였다.
이어서 아르곤 가스에 10 체적% 의 산소 가스를 혼합한 혼합 가스를 도입하면서, 산화니오브 타깃 (AGC 세라믹스사 제조, 상품명 NBO 타깃) 을 사용하여, 압력 0.3 ㎩, 주파수 20 ㎑, 전력 밀도 3.8 W/㎠, 반전 펄스폭 5 μsec 의 조건으로 펄스 스퍼터링을 실시하여, 상기 저굴절률층 상에 두께 110 ㎚ 의 산화니오브 (니오비아) 로 이루어지는 고굴절률층을 형성하였다.
이어서, 아르곤 가스에 40 체적% 의 산소 가스를 혼합한 혼합 가스를 도입하면서, 실리콘 타깃을 사용하여, 압력 0.3 ㎩, 주파수 20 ㎑, 전력 밀도 3.8 W/㎠, 반전 펄스폭 5 μsec 의 조건으로 펄스폭 5 μsec 의 조건으로 펄스 스퍼터링을 실시하여, 두께 90 ㎚ 의 산화규소 (실리카) 로 이루어지는 저굴절률층을 형성하였다.
이와 같이 하여, 산화니오브 (니오비아) 와 산화규소 (실리카) 가 총계 4 층 적층된 저반사막을 형성하였다.
다음으로, 예 1 과 동일하게 하여 저반사막 상에 방오막을 형성하였다.
얻어진 방오막이 형성된 투명 기체에 대해, 예 1 과 동일하게 하여 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
[예 5]
투명 기체로서 화학 강화 처리가 실시된 유리 기판 (아사히 유리 주식회사 제조, 상품명 : 드래곤트레일 (등록 상표)) 을 사용하고, 그 유리 기판의 제 1 주면에 프로스트 처리된 투명 기체 D 를 사용한 것 이외에는 예 1 과 동일하게 하여 투명 기체 D 의 제 1 주면에 방오막을 성막하였다. 얻어진 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 예 1 과 동일하게 하여 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
[예 6]
투명 기체로서 화학 강화 처리가 실시된 유리 기판 (아사히 유리 주식회사 제조, 상품명 : 드래곤트레일 (등록 상표)) 을 사용하고, 그 유리 기판의 제 1 주면에 프로스트 처리된 투명 기체 E 를 사용한 것 이외에는 예 1 과 동일하게 하여 투명 기체 E 의 제 1 주면에 방오막을 성막하였다. 얻어진 방오막이 형성된 투명 기체에 대해 예 1 과 동일하게 하여 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
[예 7]
투명 기체로서 예 5 와 동일한 투명 기체 D 를 사용한 것 이외에는 예 4 와 동일하게 하여 저반사막과 방오막을 형성하고, 얻어진 방오막이 형성된 투명 기체에 대해, 예 1 과 동일하게 하여 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
표 1 에 나타낸 결과에 따르면, 본 발명의 규정을 충족시키는 예 1 ∼ 4 에 대해서는 모두 문지름 내구성 시험에 있어서 수 접촉각이 90°이상으로 된 반면, 예 5 ∼ 7 에 대해서는 80°이하였다.
방오막은 발수성을 갖고 있고, 상기와 같이 수 접촉각이 작아진 경우, 방오막이 박리, 마모된 것을 나타낸다. 이 때문에, 예 5 ∼ 7 에 대해서는 방오막이 박리, 마모된 것을 알 수 있다.
이것들의 결과로부터, 본 발명의 규정을 충족시키는 예 1 ∼ 4 에 대해서는, 비교예인 예 5 ∼ 7 과 비교하여 방오막의 내구성이 매우 높아진 것을 확인할 수 있었다.
또, 예 1 ∼ 4 에 대해서는, 그 헤이즈의 값으로부터 적절한 방현 특성을 갖는 것인 것도 확인할 수 있었다.
이상에 방오막이 형성된 투명 기체를 실시형태 및 실시예 등으로 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시형태 및 실시예 등에 한정되지 않는다. 특허청구범위에 기재된 본 발명의 요지의 범위 내에 있어서, 다양한 변형, 변경이 가능하다.
본 출원은, 2013년 1월 30일에 일본 특허청에 출원된 일본 특허출원 2013-015968호에 기초한 우선권을 주장하는 것으로서, 일본 특허출원 2013-015968호의 전체 내용을 본 국제출원에 원용한다.
11 : 투명 기체
12 : 방오막
13 : 저반사막
12 : 방오막
13 : 저반사막
Claims (6)
- 제 1 주면과 상기 제 1 주면에 대향하는 제 2 주면을 갖고, 상기 제 1 주면의 표면에 방현 가공이 실시된 투명 기체와,
상기 투명 기체의 상기 제 1 주면측에 형성된 방오막인 불소 함유 유기 규소 화합물 피막을 갖고,
상기 방오막의 표면 조도 RMS 가 0.05 ㎛ 이상 0.25 ㎛ 이하이고, 조도 곡선의 요소의 평균 길이 RSm 이 10 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하인, 방오막이 형성된 투명 기체. - 제 1 항에 있어서,
상기 방오막이 형성된 투명 기체의 헤이즈가 2 % 이상 30 % 이하인, 방오막이 형성된 투명 기체. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 투명 기체가 유리 기판인, 방오막이 형성된 투명 기체. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 기체의 상기 제 1 주면의 표면에 저반사막, 불소 함유 유기 규소 화합물 피막의 순서로 적층되어 있는, 방오막이 형성된 투명 기체. - 제 4 항에 있어서,
상기 저반사막이 산화니오브층과 산화규소층의 적층체인, 방오막이 형성된 투명 기체. - 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
상기 저반사막이 복수의 막이 적층된 적층체로서, 그 적층체는 전체로 2 층 이상 6 층 이하의 막이 적층되어 있는, 방오막이 형성된 투명 기체.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2013-015968 | 2013-01-30 | ||
JP2013015968 | 2013-01-30 | ||
PCT/JP2014/051291 WO2014119453A1 (ja) | 2013-01-30 | 2014-01-22 | 防汚膜付き透明基体 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020177034773A Division KR101916620B1 (ko) | 2013-01-30 | 2014-01-22 | 방오막이 형성된 투명 기체 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20150112972A true KR20150112972A (ko) | 2015-10-07 |
KR101916507B1 KR101916507B1 (ko) | 2018-11-07 |
Family
ID=51262167
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020177034773A KR101916620B1 (ko) | 2013-01-30 | 2014-01-22 | 방오막이 형성된 투명 기체 |
KR1020157020526A KR101916507B1 (ko) | 2013-01-30 | 2014-01-22 | 방오막이 형성된 투명 기체 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020177034773A KR101916620B1 (ko) | 2013-01-30 | 2014-01-22 | 방오막이 형성된 투명 기체 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP5839134B2 (ko) |
KR (2) | KR101916620B1 (ko) |
CN (2) | CN104955783B (ko) |
DE (1) | DE112014000613B4 (ko) |
TW (1) | TWI596069B (ko) |
WO (1) | WO2014119453A1 (ko) |
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-
2014
- 2014-01-22 WO PCT/JP2014/051291 patent/WO2014119453A1/ja active Application Filing
- 2014-01-22 DE DE112014000613.0T patent/DE112014000613B4/de active Active
- 2014-01-22 JP JP2014559646A patent/JP5839134B2/ja active Active
- 2014-01-22 KR KR1020177034773A patent/KR101916620B1/ko active IP Right Grant
- 2014-01-22 CN CN201480006778.1A patent/CN104955783B/zh active Active
- 2014-01-22 KR KR1020157020526A patent/KR101916507B1/ko active IP Right Grant
- 2014-01-22 CN CN201711338071.2A patent/CN108129032B/zh active Active
- 2014-01-24 TW TW103102690A patent/TWI596069B/zh active
-
2015
- 2015-11-12 JP JP2015221981A patent/JP6075435B2/ja active Active
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---|---|---|---|---|
US11274063B2 (en) | 2015-08-10 | 2022-03-15 | AGC Inc. | Glass plate with antifouling layer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6075435B2 (ja) | 2017-02-08 |
TWI596069B (zh) | 2017-08-21 |
CN108129032A (zh) | 2018-06-08 |
TW201434775A (zh) | 2014-09-16 |
JP5839134B2 (ja) | 2016-01-06 |
JPWO2014119453A1 (ja) | 2017-01-26 |
CN104955783A (zh) | 2015-09-30 |
KR101916620B1 (ko) | 2018-11-07 |
CN104955783B (zh) | 2018-01-26 |
CN108129032B (zh) | 2020-11-03 |
KR101916507B1 (ko) | 2018-11-07 |
DE112014000613T5 (de) | 2015-10-29 |
KR20170137223A (ko) | 2017-12-12 |
JP2016052992A (ja) | 2016-04-14 |
DE112014000613B4 (de) | 2019-05-29 |
WO2014119453A1 (ja) | 2014-08-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |