CN105051248A - 用于切削工具的涂层 - Google Patents

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Abstract

本发明在一个方面描述了其上粘附有涂层的切削工具，所述涂层在一些实施例中可展示出所需的耐磨性和延长的切削寿命。带涂层的切削工具在一些实施例中包括基底和粘附于所述基底的涂层，所述涂层包含TiZrAl2O3多晶层。

Description

用于切削工具的涂层
相关专利申请资料
本专利申请根据35U.S.C.§119(e)要求提交于2013年3月21日的美国临时专利申请序列号61/803,948的优先权，该临时专利申请全文据此以引用方式并入。
技术领域
本发明涉及用于切削工具的涂层，并且具体地讲，涉及通过化学气相沉积法(CVD)沉积的涂层。
背景技术
切削工具(包括烧结碳化物切削工具)已用于带涂层和不带涂层条件两者以便加工各种金属和合金。为了提高切削工具耐磨性、性能和寿命，已将一层或多层耐火材料施加于切削工具表面。已通过CVD并通过物理气相沉积法(PVD)将例如TiC、TiCN、TiN和/或Al2O2施加于烧结碳化物基底。虽然在多种应用中能有效抑制磨损并延长工具寿命，但基于上述耐火材料的单层或多层构造的耐火涂层已日益达到其性能极限，从而要求开发用于切削工具的新涂层结构。
发明内容
本发明在一个方面描述了其上粘附有涂层的切削工具，所述涂层在一些实施例中可展示出所需的耐磨性和延长的切削寿命。本文所述的带涂层的切削工具包括基底和粘附于所述基底的涂层，所述涂层包含TiZrAl2O3多晶层。TiZrAl2O3多晶层可通过CVD沉积。另外，TiZrAl2O3多晶层可表现出各种层内组分梯度。例如，TiZrAl2O3多晶层可具有包括由Al2O3构成的梯级和由TiZrAl2O3构成的梯级的组分梯度。或者，TiZrAl2O3多晶层可具有包括由Al2O3构成的梯级、由ZrAl2O3构成的梯级和由TiAl2O3构成的梯级的组分梯度。在又一个实施例中，TiZrAl2O3多晶层可具有包括由Al2O3构成的梯级、由ZrAl2O3构成的梯级、由TiAl2O3构成的梯级和由TiZrAl2O3构成的梯级的组分梯度。
层内组分梯度还以TiZrAl2O3多晶层的晶粒表现。例如，多晶层的各个晶粒可表现出通过使晶粒内存在Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级而形成的晶粒内组分梯度。在另一个实施例中，晶粒内组分梯度通过使晶粒内存在Al2O3梯级、ZrAl2O3梯级和TiAl2O3梯级而形成。在又一个实施例中，晶粒内组分梯度通过使晶粒内存在Al2O3梯级、ZrAl2O3梯级、TiAl2O3梯级和TiZrAl2O3梯级而形成。
本文还提供了制备带涂层的切削工具的方法。本文所述的制备带涂层的切削工具的方法包括提供切削工具基底以及通过化学气相沉积使包含TiZrAl2O3多晶层的涂层沉积于切削工具基底的表面上。CVD工艺利用的气体混合物可包含AlCl3、ZrCl4、TiCl4、H2和CO2。另外，根据本文所述的方法沉积的TiZrAl2O3多晶层可表现出上述层内组分梯度。例如，CVD沉积TiZrAl2O3层可具有包括由Al2O3构成的梯级和由TiZrAl2O3构成的梯级的层内组分梯度。在另一个实施例中，CVD沉积TiZrAl2O3层可表现出包括由Al2O3构成的梯级、由ZrAl2O3构成的梯级和由TiAl2O3构成的梯级的组分梯度。在又一个实施例中，CVD沉积TiZrAl2O3层可表现出包括由Al2O3构成的梯级、由ZrAl2O3构成的梯级、由TiAl2O3构成的梯级和由TiZrAl2O3构成的梯级的组分梯度。如本文进一步描述，层内组分梯度可通过使ZrCl4和TiCl4同时和/或交替引入CVD气体混合物而形成。
上述及其他实施例将在下文具体实施方式部分详细描述。
附图说明
图1示出了根据本文所述的一个实施例的带涂层的切削工具的基底。
图2是根据本文所述的一个实施例的CVDTiZrAl2O3多晶层的晶粒的扫描透射电子显微镜/高角环形暗场(STEM-HAADF)图像。
图3是能量色散谱(EDS)，其表现出根据本文所述的一个实施例的CVDTiZrAl2O3多晶层的各个晶粒内的组分梯度。
图4是结合根据本文所述的一个实施例的晶粒的STEM分析生成的EDS谱线轮廓。
图5是TiZrAl2O3层中晶粒的TEM明场图像，其中示出了具有不规则形状的TiZrAl2O3晶粒。
图6为根据本文所述的一个实施例的带涂层切削刀片的剖面光学图像。
具体实施方式
参考以下具体实施方式和例子以及前述和下述内容可更容易地理解本文所述的实施例。然而，本文所述的元素、设备和方法并不限于具体实施方式和实例中所述的具体实施例。应当认识到，上述实施例仅示例性地说明本发明的原理。在不脱离本发明精神和范围的情况下，多种修改和变更对于本领域技术人员而言将是显而易见的。
I.带涂层的切削工具
在一个方面，描述了其上粘附有涂层的切削工具，所述涂层在一些实施例中可展示出所需的耐磨性和延长的切削寿命。本文所述的带涂层的切削工具包括基底和粘附于所述基底的涂层，所述涂层包含TiZrAl2O3多晶层。
现在转到具体的组成部分，本文所述的带涂层的切削工具包含基底。带涂层的切削工具的基底可包含不违背本发明目的的任何材料。在一些实施例中，基底包含烧结碳化物、碳化物、陶瓷、金属陶瓷或钢。
烧结碳化物基底可包含碳化钨(WC)。WC可以至少约70重量％的量存在于基底中。在一些实施例中，WC以至少约80重量％的量或以至少约85重量％的量存在于基底中。另外，烧结碳化物基底的金属粘结剂可包含钴或钴合金。钴例如可以约3重量％至约15重量％范围内的量存在于烧结碳化物基底中。在一些实施例中，钴以5-12重量％或6-10重量％的量存在于烧结碳化物基底中。此外，烧结碳化物基底可表现出始于基底表面并从基底表面向内延伸的粘结剂富集区。
烧结碳化物基底还可包含一种或多种添加剂，诸如，下列元素和/或其化合物中的一者或多者：钛、铌、钒、钽、铬、锆和/或铪。在一些实施例中，钛、铌、钒、钽、铬、锆和/或铪与基底中的WC形成固溶体碳化物。基底在一些实施例中包含约0.1重量％至约5重量％范围内的量的一种或多种固溶体碳化物。另外，烧结碳化物基底可包含氮。
基底在其他实施例中包含多晶立方氮化硼(PcBN)。PcBN基底可包含不违背本发明目的的任何量的PcBN。例如，PcBN基底可包含大于85重量％的PcBN。在一些实施例中，本文所述的切削工具基底包含选自表I的量的PcBN。
表I-切削工具基底的PcBN的重量％
此外，本文所述的切削工具的PcBN基底还可包含陶瓷或金属粘结剂。用于PcBN基底的合适陶瓷粘结剂可包括钛、钨、钴或铝的氮化物、碳氮化物、碳化物和/或硼化物。在一些实施例中，例如，PcBN基底包含AlN、AlB2或它们的混合物的粘结剂。此外，在一些实施例中，粘结剂包括任何上述陶瓷或金属粘结剂的固溶体。
具有本文所述组成参数的PcBN基底可以各种构造提供。例如，带涂层的切削工具可包括独立式整体固体片PcBN基底。或者，以通过硬钎焊或其他接合技术附接到支架上的压实体或刀片形式提供PcBN基底。此外，PcBN基底可为支架上的全顶部或全顶部/全底部切削刀片。
在一些实施例中，本文所述的带涂层的切削工具的基底包括在基底的前刀面与后刀面的接合点处形成的一个或多个切削刃。图1示出了根据本文所述的一个实施例的带涂层的切削工具的基底。如图1所示，基底(10)具有在基底前刀面(14)与后刀面(16)的接合点处形成的切削刃(12)。基底还包括可用于将基底(10)固定到刀架上的孔隙(18)。
在一些实施例中，带涂层的切削工具的基底是刀片、钻头、锯片或其他切削设备。
粘附于基底的涂层包含TiZrAl2O3多晶层。例如钛和锆可为多晶结构中的掺杂物。钛和锆可以不违背本发明目的的任何量存在于多晶层中。在一些实施例中，钛和锆以选自表II和III的量存在于TiZrAl2O3多晶层中。
表II-TiZrAl2O3多晶层的钛表III-TiZrAl2O3多晶层的锆
作为掺杂物，钛和/或锆可掺入到Al2O3相的晶格中。在此类实施例中，钛和/或锆不形成与Al2O3相分离的氧化物相。
钛和锆通常可分散于整个TiZrAl2O3多晶层。或者，TiZrAl2O3多晶层可表现出本文所述的各种组分梯度。例如，TiZrAl2O3多晶层可表现出包括由Al2O3构成的梯级和由TiZrAl2O3构成的梯级的组分梯度。该层内组分梯度可通过使层内单次出现Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级而建立。在其他实施例中，层内组分梯度通过使层内多次出现Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级而建立。在此类实施例中，在整个多晶层中Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级可交替出现。
包含Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级的层内梯度可表现出TiZrAl2O3层晶粒。例如，多晶层的各个晶粒可表现出通过使晶粒内存在Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级而形成的晶粒内组分梯度。在一些实施例中，在整个各个晶粒中Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级交替出现。
图2是根据本文所述的一个实施例的CVDTiZrAl2O3多晶层的晶粒的STEM-HAADF图像。如图2所示，TiZrAl2O3层晶粒表现出TiZrAl2O3区域和Al2O3区域交替出现。图2中的交替区域符合形成条状结构的晶粒的生长方向，这是钛和锆的存在提供对比的结果。图3的对应STEMEDS光谱还表现出包括钛和锆的区域[图3(b)]和其中不存在钛和锆的区域[图3(a)]形成的晶粒内组分梯度。
另外，多晶层的TiZrAl2O3梯级也可表现出由钛或锆在梯级的一个或多个区域中的局域化形成的组分梯度。例如锆可位于与晶粒边界相邻的区域中，，从而在TiZrAl2O3梯级内建立Ti的梯度。图4是根据本文所述的一个实施例图示的TiZrAl2O3晶粒的STEMEDS谱线轮廓。如图4所示，锆位于晶粒边界附近，而钛保持相对均匀地分布。
TiZrAl2O3多晶层的晶粒可另外表现出其他CVD涂层包括氧化铝涂层不存在的独特几何形状。例如，TiZrAl2O3多晶层的晶粒在横向和/或垂直维度可具有不规则几何形状。图5是TiZrAl2O3层中晶粒的TEM明场图像，其中示出了具有不规则形状的TiZrAl2O3晶粒(50)。图5的不规则晶粒(50)表现出由薄锥形区连接的两个区域。TiZrAl2O3晶粒呈现的不规则形状与现有CVD涂层包括氧化铝涂层相比，表现出规则的柱形或等轴几何形状。
如本文所述，TiZrAl2O3多晶层可表现出其他层内组分梯度布置方式。在一些实施例中，层内组分梯度包含由Al2O3构成的梯级、由ZrAl2O3构成的梯级和由TiAl2O3构成的梯级。此类层内组分梯度可以TiZrAl2O3多晶层的各个晶粒表现。例如，各个晶粒可包含Al2O3梯级、ZrAl2O3梯级和TiAl2O3梯级的存在而形成的晶粒内组分梯度。另外，层内组分梯度可包含由Al2O3构成的梯级、由ZrAl2O3构成的梯级、由TiAl2O3构成的梯级和由TiZrAl2O3构成的梯级。该层内组分梯度也可以TiZrAl2O3多晶层的各个晶粒表现。
TiZrAl2O3多晶层可具有不违背本发明目的的任何厚度。在一些实施例中，TiZrAl2O3多晶层具有1-15μm或2-10μm的厚度。
此外，TiZrAl2O3多晶层可直接沉积于切削工具基底的表面，无需使用粘结和/或改性层。然而，在一些实施例中，涂层的一个或多个基层驻留于基底和TiZrAl2O3多晶层之间。基层可包含选自由铝及周期表的IVB、VB和VIB族的金属元素构成的组的一种或多种金属元素以及周期表的IIIA、IVA、VA和VIA族的一种或多种非金属元素。基层例如可选自由氮化钛(TiN)、碳氮化钛(TiCN)和碳氮氧化钛(TiOCN)构成的组。在一些实施例中，存在包含TiN、TiCN和/或TiOCN的多层布置方式。基层可具有不违背本发明目的的任何厚度。在一些实施例中，基层具有0.2-12μm或0.5-5μm的厚度。
另外，本文所述的涂层还可包括TiZrAl2O3多晶层上的一个或多个外层。外层在一些实施例中包含选自由铝及元素周期表的IVB、VB和VIB族的金属元素构成的组的一种或多种金属元素以及选自由元素周期表的IIIA、IVA、VA和VIA族的非金属元素构成的一种或多种非金属元素。在一些实施例中，TiZrAl2O3层上的一个或多个外层包含选自由铝及周期表的IVB、VB和VIB族的金属元素构成的组的一种或多种金属元素的氮化物、碳氮化物、氧化物或硼化物。例如，一个或多个外层选自由氮化钛、碳氮化钛、碳化钛、氮化锆、碳氮化锆、氮化铪、碳氮化铪和氧化铝以及它们的混合物构成的组。本文所述涂层的外层可以具有不违背本发明目的的任何厚度。涂层的外层在一些实施例中可具有0.5μm至5μm范围内的厚度。
在一些实施例中，本文所述的CVD涂层可具有选自表IV的结构。表IV中提供的涂层结构开始于基底相邻的最内层延续到最外层。另外，表IV中列出的涂层结构的TiZrAl2O3层可表现出第I部分中描述的任何组分梯度。
表IV-涂层结构
*MT＝中温CVD
**HT＝高温CVD
本文所述的切削工具的涂层可接受涂布后处理。例如可将涂层用各种湿和/或干颗粒组合物喷射。涂布后喷射可以任何所需的方式实施。在一些实施例中，涂布后喷射包括喷丸处理或压力喷射。压力喷射可以多种形式实施，包括压缩空气喷射、湿压缩空气喷射、加压液体喷射、湿喷射、加压液体喷射和蒸汽喷射。湿喷射例如使用无机和/或陶瓷颗粒(诸如氧化铝)和水的浆液实现。可将氧化铝颗粒浆液以气动方式投射在带涂层的切削工具主体的表面以冲击涂层的表面。氧化铝颗粒的尺寸通常可在约20μm与约100μm之间的范围内。
喷射参数包括压力、冲击角度、与部件表面的距离和持续时间。在一些实施例中，冲击角度可在约45度至约90度的范围内，即，颗粒以约45度至约90度范围内的角度冲击涂层表面。在与带涂层的表面相距1-6英寸时，合适的压力可在30-55磅每平方英寸(psi)的范围内。此外，喷射的持续时间通常可在1至10秒或更长的范围内。喷射通常可在涂层的表面区域上实施，或可施加到精选的位置，诸如在切削工具的工件接触区中。工件接触区可以是切削工具的磨光区。
在其他实施例中，涂层接受抛光涂布后处理。可用适当金刚石或陶瓷磨粒尺寸的糊剂实施抛光。糊剂的磨粒尺寸在一些实施例中在1μm至10μm的范围内。在一个实施例中，使用5-10μm金刚石磨粒糊剂对涂层抛光。此外，可通过不违背本发明目的的任何设备诸如刷子，将磨粒糊剂施加到CVD涂层。在一个实施例中，例如，使用扁平刷将磨粒糊剂施加到切削工具的工件接触区中的CVD涂层。
可将本文所述的涂层喷射或抛光足以实现所需的表面粗糙度(Ra)和/或其他参数(诸如降低涂层中的残余拉伸应力)的时间段。在一些实施例中，接受涂布后处理的涂层具有选自表V的表面粗糙度(Ra)。
表V-涂布后表面粗糙度(Ra)
可使用可从纽约普莱恩维尤的维易科仪器公司(VeecoInstruments,Inc.ofPlainview,NewYork)商购获得的NT系列光学轮廓仪，通过光学轮廓术来测定涂层表面粗糙度。
此外，涂布后处理在一些实施例中不移除涂层的一个或多个外层。在一些实施例中，例如，涂布后处理不移除TiN和/或TiCN外层。或者，涂布后处理可移除或部分地移除一个或多个外层，诸如TiN和/或TiCN。
另外，本文所述的涂层可表现出最高至约90N的临界载荷(Lc)。根据ASTMC1624-05-StandardTestforAdhesionStrengthbyQuantitativeSinglePointScratchTesting(用定量单点划痕测试测定粘附强度的标准测试法)测定本文所述的涂层的Lc值，其中使用10N的渐进载荷。在一些实施例中，本文所述的涂层可表现出60至90N或70至80N的Lc。
II.制备带涂层的切削工具的方法
还提供了制备带涂层的切削工具的方法。本文所述的制备带涂层的切削工具的方法包括提供切削工具基底以及通过CVD使包含TiZrAl2O3多晶层的涂层沉积于切削工具基底的表面上。
现在转到具体的步骤，本文所述的方法包括提供基底。基底可包括上文第I部分中列举的任何基底。在一些实施例中，例如基底是烧结碳化物，诸如第I部分中描述的烧结碳化钨或PcBN。此外，根据本文所述的方法沉积的TiZrAl2O3多晶层可表现出上述任何层内组分梯度。例如，CVD沉积TiZrAl2O3层可具有包括由Al2O3构成的梯级和由TiZrAl2O3构成的梯级的层内组分梯度。在另一个实施例中，CVD沉积TiZrAl2O3层可表现出包括由Al2O3构成的梯级、由ZrAl2O3构成的梯级和由TiAl2O3构成的梯级的组分梯度。此类组分梯度还可以TiZrAl2O3层的各个晶粒表现。
在本文所述的方法中，TiZrAl2O3多晶层可从包含铝源、氧源、钛源和锆源的气体混合物沉积。在一些实施例中，TiZrAl2O3多晶层由包含AlCl3、ZrCl4、TiCl4、H2和CO2的气体混合物沉积。气体混合物还可任选地包含H2S和/或HCl。本文所述的涂层的TiZrAl2O3多晶层的一般CVD沉积参数提供于表VI中。
表VI-TiZrAl2O3层沉积的CVD参数
*任选
在一些实施例中，气体混合物中同时包含钛和锆源提供了表现出包括由Al2O3构成的梯级和由TiZrAl2O3梯级的层内组分梯度的TiZrAl2O3多晶层。如本文的第I部分所述，Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级在整个多晶层中可交替出现。
在其他实施例中，锆和钛源可以交替方式选择性引入气体混合物。例如锆源可存在于气体混合物中预定的时间段，然后更换为气体混合物中的钛源或反之亦然。在一些实施例中，锆和钛交替引入气体混合物在整个CVD沉积工艺持续时间中多次重复。在其他实施例中，锆和钛源的交替引入在CVD沉积工艺中仅出现一次。钛和锆源交替引入气体混合物可生成包括由Al2O3构成的梯级、由ZrAl2O3构成的梯级和由TiAl2O3构成的梯级的层内组分梯度。在一些实施例中，钛和锆源交替引入气体混合物可在钛和锆源同时引入之前或之后，从而得到包括Al2O3梯级、ZrAl2O3梯级、TiAl2O3梯级和TiZrAl2O3梯级的层内组分梯度。
TiZrAl2O3多晶层可直接沉积于切削工具基底的表面，无需使用粘结和/或改性层。然而，在一些实施例中，涂层的一个或多个基层驻留于基底和TiZrAl2O3多晶层之间。基层可包含选自由铝及周期表的IVB、VB和VIB族的金属元素构成的组的一种或多种金属元素以及周期表的IIIA、IVA、VA和VIA族的一种或多种非金属元素。基层例如可选自由氮化钛(TiN)、碳氮化钛(TiCN)和碳氮氧化钛(TiOCN)构成的组。在一些实施例中，存在包含TiN、TiCN和/或TiOCN的多层布置方式。各基层的一般CVD沉积参数提供于表VII中。
表VII-基层沉积的CVD参数
另外，本文所述的方法还可包括在TiZrAl2O3多晶层上沉积一个或多个外层。外层在一些实施例中包含选自由铝及元素周期表的IVB、VB和VIB族的金属元素构成的组的一种或多种金属元素以及选自由元素周期表的IIIA、IVA、VA和VIA族的非金属元素构成的组的一种或多种非金属元素。在一个实施例中，例如，参照表VII中所示的CVD参数来沉积TiN和/或TiCN的外层。根据本文所述方法沉积的涂层可具有上表IV中提供的结构。
此外，沉积的涂层可接受涂布后处理，诸如如上文部分I中所述的涂布后喷射或抛光。涂布后喷射在一些实施例中可将涂层的中等拉伸应力改变为中等压缩应力或者增大沉积态涂层中的压缩应力。
在以下非限制性实例中对这些和其他实施例进行进一步说明。
实例1-带涂层的切削工具
通过将烧结碳化钨(WC-Co)切削刀片基底[ANSI标准几何形状CNMG432RN]放入轴流热壁CVD反应器中，来制备本文所述的带涂层切削工具。切削刀片包含约6重量％钴粘结剂，余量为1至5μm尺寸的WC晶粒。根据表VI和VII中提供的CVD工艺参数，将具有表VIII中提供的结构的涂层沉积于烧结WC切削刀片上。TiCl4和ZrCl4同时存在于CVD气体混合物中，从而得到具有Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级交替出现的层内组分梯度的TiZrAl2O3多晶层。
表VIII-CVD涂层结构
*与基底相邻的最内层
所得的包含TiZrAl2O3多晶层的多层涂层接受氧化铝浆液的湿喷射涂布后处理，并且表现出表IX中提供的性质。
表IX-CVD涂层的性质
图6是该实例1的带涂层的切削刀片的横截面光学图像，示出了涂层结构的各层。
实例2-金属切削测试
使实例1的带涂层的切削刀片(1-2)和比较涂层刀片(3-6)根据以下参数接受1045钢的连续车削测试。比较切削刀片(3-6)显示出表X和XI中示出的涂层结构和性质。比较切削刀片(3-6)采用与实例1基本上相似组成的WC-Co基底和ANSI标准几何CNMG432RN。
表X-比较切削刀片3和4
*与WC-Co基底相邻的涂层
表XI-比较切削刀片5和6
*WC-Co相邻的涂层
另外，实例1的带涂层的切削刀片(1-2)和比较带涂层的刀片(3-6)根据表XII涂布后处理。
表XII-涂布后处理
使实例1的带涂层的切削刀片(1-2)和比较涂层刀片(3-6)如下经受连续车削测试。
工件-1045钢
速度-304.8m/min
进料速率-0.3048mm/min
切削深度-0.08英寸
导程角：-5°
通过如下的一个或多个失效模式来记录寿命终止：
0.012英寸的均匀磨损(UW)
0.012英寸的最大磨损(MW)
0.012英寸的刀鼻磨损(NW)
0.012英寸的切深处缺口磨损(DOCN)
0.012英寸的后缘磨损(TW)
测试了两个切削刀片的每个涂层结构(1-6)，从而提供重复1和2数据以及平均切削寿命。连续车削测试结果提供于表XIII中。
表XIII-连续车削测试结果
如表XIII所提供，具有实例1的结构的带涂层的切削工具2表现出最佳平均切削寿命。另外，具有实例1的结构的带涂层的切削工具1和2表现出增强的耐微切削性，值得注意的是在前刀面上，其有助于延长工具寿命。
针对实现本发明不同目的，现已描述了本发明的不同实施例。应当认识到，上述实施例仅示例性地说明本发明的原理。在不脱离本发明精神和范围的情况下，其多种修改和变更对于本领域技术人员而言将是显而易见的。

Claims (29)

1.一种带涂层切削工具，其包括：
基底；以及
粘附于所述基底的涂层，所述涂层包含TiZrAl2O3多晶层。
2.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具，其中所述TiZrAl2O3多晶层包含包括由Al2O3构成的梯级和由TiZrAl2O3构成的梯级的组分梯度。
3.根据权利要求2所述的带涂层的切削工具，其中Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级在整个所述多晶层中交替。
4.根据权利要求2所述的带涂层的切削工具，其中所述TiZrAl2O3多晶层的各个晶粒表现出包括所述Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级的所述组分梯度。
5.根据权利要求2所述的带涂层的切削工具，其中所述TiZrAl2O3梯级表现出由钛或锆在所述TiZrAl2O3梯级的一个或多个区域中的局域化形成的组分梯度。
6.根据权利要求5所述的带涂层的切削工具，其中锆位于与一个或多个晶粒边界相邻的所述TiZrAl2O3梯级的区域中。
7.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具，其中所述TiZrAl2O3多晶层包含包括由Al2O3构成的梯级、由ZrAl2O3构成的梯级和由TiAl2O3构成的梯级的组分梯度。
8.根据权利要求7所述的带涂层的切削工具，其中所述TiZrAl2O3多晶层的各个晶粒表现出包括所述Al2O3梯级、ZrAl2O3梯级和TiAl2O3梯级的所述组分梯度。
9.根据权利要求7所述的带涂层的切削工具，其中所述Al2O3梯级、ZrAl2O3梯级和TiAl2O3梯级在整个所述多晶层中交替。
10.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具，其中钛和锆各自以0.01-5重量％的量存在于所述TiZrAl2O3多晶层中。
11.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具，其中所述涂层还包含所述基底和所述TiZrAl2O3多晶层之间的一个或多个基层。
12.根据权利要求11所述的带涂层的切削工具，其中基层包含选自由铝及周期表的IVB、VB和VIB族的金属元素构成的组的一种或多种金属元素以及周期表的IIIA、IVA、VA和VIA族的一种或多种非金属元素。
13.根据权利要求11所述的带涂层的切削工具，其中所述一个或多个基层选自由TiN、TiCN和TiOCN构成的组。
14.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具，其中所述涂层还包括所述TiZrAl2O3多晶层上的一个或多个外层。
15.根据权利要求14所述的带涂层的切削工具，其中外层包含选自由铝及周期表的IVB、VB和VIB族的金属元素构成的组的一种或多种金属元素以及周期表的IIIA、IVA、VA和VIA族的一种或多种非金属元素。
16.根据权利要求14所述的带涂层的切削工具，其中将所述涂层用陶瓷或无机颗粒进行涂布后喷射。
17.根据权利要求14所述的带涂层的切削工具，其中对所述涂层抛光。
18.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具，其中所述TiZrAl2O3多晶层通过CVD沉积。
19.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具，其中所述基底包含烧结碳化钨或多晶立方氮化硼。
20.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具，其中所述基底为刀片、钻头或锯片。
21.一种制备带涂层的切削工具的方法，其包括：
提供切削工具基底；并且
通过化学气相沉积法在所述切削工具基底的表面上沉积包含TiZrAl2O3多晶层的涂层。
22.根据权利要求21所述的方法，其中用于所述CVD的气体混合物包含AlCl3、ZrCl4、TiCl4、H2和CO2。
23.根据权利要求22所述的方法，其中所述TiZrAl2O3多晶层包含包括由Al2O3构成的梯级和由TiZrAl2O3构成的梯级的组分梯度。
24.根据权利要求23所述的方法，其中Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级在整个所述多晶层中交替。
25.根据权利要求22所述的方法，其中所述TiZrAl2O3多晶层的各个晶粒表现出包括所述Al2O3梯级和TiZrAl2O3梯级的所述组分梯度。
26.根据权利要求21所述的方法，其中ZrCl4和TiCl4以交替方式引入气体混合物。
27.根据权利要求26所述的方法，其中所述TiZrAl2O3多晶层包含包括由Al2O3构成的梯级、由ZrAl2O3构成的梯级和由TiAl2O3构成的梯级的组分梯度。
28.根据权利要求27所述的方法，其中所述TiZrAl2O3多晶层的各个晶粒表现出包括所述Al2O3梯级、ZrAl2O3梯级和TiAl2O3梯级的所述组分梯度。
29.根据权利要求27所述的方法，其中所述Al2O3梯级、ZrAl2O3梯级和TiAl2O3梯级在整个所述多晶层中交替。
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