CN104854699A - 固体摄影元件用保持基板及其制造方法、固体摄影装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种保持基板，其用于保持抑制眩光或重影产生的红外线截止滤波器。固体摄影装置具备：图像传感器、电路基板、保持基板、红外线截止滤波器、拍摄镜头、透镜架、保持筒。图像传感器封装于电路基板上。电路基板是以图像传感器进入保持基板的基板本体的开口中的状态固定于保持基板上，图像传感器的侧面由保持基板覆盖。红外线截止滤波器是以覆盖开口的方式固定于保持基板上。在拍摄镜头的射出面侧配置有图像传感器，且在拍摄镜头与图像传感器之间配置有红外线截止滤波器。在基板本体的内壁面，遍及全周而形成有遮光层。有害光由遮光层来遮蔽。

Description

固体摄影元件用保持基板及其制造方法、固体摄影装置
技术领域
本发明涉及一种将封装有固体摄影元件的电路基板加以保持的固体摄影元件用保持基板及其制造方法、固体摄影装置。
背景技术
固体摄影装置具备：拍摄镜头、配置于该拍摄镜头的背后的固体摄影元件、封装有该固体摄影元件的电路基板、以及保持电路基板的固体摄影元件用保持基板。该固体摄影装置搭载于数字相机、带有相机的移动电话、智能手机等电子设备上。固体摄影元件有电荷耦合元件(Charge Coupled Device，CCD)型或互补金属氧化物半导体(Complementary Metal-OxideSemiconductor，CMOS)型等图像传感器，此种固体摄影元件将射入至受光面的光进行光电转换而输出3色信号。该3色信号是由内藏于电子设备中的信号处理电路进行信号处理后，转换为图像数据。基于该图像数据而在监视器上显示拍摄图像。
固体摄影元件的近红外区域的感度高于人眼的感度。因此，若使包含红外光(infrared，IR)的所有光射入至固体摄影元件而进行光电转换，则人眼所见的被拍摄体与拍摄图像的色调平衡不同。例如，绿色的被拍摄体在拍摄图像上变成灰色或红褐色，蓝紫色的被拍摄体在拍摄图像上变成红紫色。
日本专利特开2012-222546号公报记载的固体摄影装置中，将一边截止红外光一边透过可见光的IR截止滤波器设置于拍摄镜头与固体摄影元件之间，防止红外光射入至固体摄影元件。由此，人眼所见的色调平衡在拍摄图像上得到再现。另外，日本专利特开2012-222546号公报中记载的固体摄影装置中，IR截止滤波器是由框状的框架构件(相当于本申请的固体摄影元件用保持基板)来保持，该框架构件将封装有固体摄影元件的电路基板加以保持。
发明内容
发明要解决的课题
日本专利特开2012-222546号公报中记载的固体摄影装置中，虽利用IR截止滤波器来截止红外光，但自拍摄镜头射出的可见光透过IR截止滤波器。透过IR截止滤波器的可见光有直接射入至固体摄影元件的光、及朝向框架构件的内壁面的光。朝向框架构件的内壁面的光在框架构件的内壁面反射而成为有害光。该有害光若射入至固体摄影元件，则会产生通常称为眩光的光的灰雾现象，使画质下降。进而，有时会引起将有害光清晰地作为图像而拍摄的称为重影的现象。
本发明的目的在于提供可抑制眩光或重影产生的固体摄影元件用保持基板及其制造方法、固体摄影装置。
解决问题的技术手段
本发明的固体摄影元件用保持基板具备：形成有用以***固体摄影元件的开口的框状的基板本体、以及遮蔽可见光的遮光层，将封装有固体摄影元件的电路基板与截止朝向固体摄影元件的受光面的红外光的IR截止滤波器加以保持。基板本体自侧面包围固体摄影元件。遮光层形成于基板本体的内壁面。
遮光层的表面粗糙度优选为0.55μm以上、1.5μm以下的范围。遮光层优选为含有碳黑或者钛黑。遮光层优选为利用旋转涂布法或者喷涂法而形成于内壁面。上述遮光层的反射率为2％以下。
本发明的固体摄影元件用保持基板的制造方法包括涂布膜形成工序、及曝光工序，固体摄影元件用保持基板将封装有固体摄影元件的电路基板与截止朝向上述固体摄影元件的受光面的红外光的IR截止滤波器加以保持。涂布膜形成工序是在形成有用以***固体摄影元件的开口的框状的基板本体的内面，涂布用于形成遮光层的涂布液而形成涂布膜。基板本体自侧面包围固体摄影元件。遮光层遮蔽可见光。涂布液包含通过光的照射而硬化的硬化成分。曝光工序通过对涂布膜照射光而将涂布膜的照射部分硬化来形成遮光层。
涂布液优选为包含碳黑或者钛黑。优选为利用旋转涂布法或者喷涂法，将上述涂布膜形成于内壁面。形成涂布膜的工序优选为包括：形成聚合性组合物粒子的尺寸小的层的工序、以及形成聚合性组合物粒子的尺寸大的层(低反射层)的工序。优选为：聚合性组合物粒子的尺寸小的层的聚合性组合物粒子的平均粒径为20μm以下，聚合性组合物粒子的尺寸大的层的聚合性组合物粒子的平均粒径为70μm以上。
本发明的固体摄影装置具备：拍摄镜头、固体摄影元件、电路基板、IR截止滤波器、及固体摄影元件用保持基板。固体摄影元件配置于拍摄镜头的射出面侧。电路基板封装有固体摄影元件。IR截止滤波器截止朝向固体摄影元件的受光面的红外光。IR截止滤波器配置于拍摄镜头与固体摄影元件之间。固体摄影元件用保持基板保持电路基板及IR截止滤波器。固体摄影元件用保持基板具有：形成有用以***固体摄影元件的开口的框状的基板本体、及遮蔽可见光的遮光层。基板本体自侧面包围固体摄影元件。遮光层形成于基板本体的内壁面。
发明的效果
依据本发明，可利用遮光层来遮蔽有害光。由此，抑制有害光对固体摄影元件的入射，可抑制拍摄图像中的眩光或重影的产生。
附图说明
图1是表示固体摄影装置的立体图。
图2是固体摄影装置的分解立体图。
图3是表示固体摄影装置的剖面图。
图4是保持基板的制造方法的说明图。
图5是保持基板的制造方法的说明图。
图6是表示将聚合性组合物的涂布方法以及涂布条件改变时的遮光层的表面粗糙度以及反射率的实验结果的表。
具体实施方式
[第1实施形态]
如图1及图2所示，固体摄影装置2具备：作为固体摄影元件的图像传感器3、封装有该图像传感器3的电路基板4、以及保持电路基板4的陶瓷制固体摄影元件用保持基板(以下称为保持基板)10。另外，固体摄影装置2具备：IR截止滤波器6、拍摄镜头7、透镜架8、及保持筒9。IR截止滤波器6保持于保持基板10上，截止朝向图像传感器3的红外光(IR)。透镜架8保持拍摄镜头7。保持筒9将该透镜架8保持为可自由移动。此外，拍摄镜头的数量可适当变更。图像传感器3在本实施形态中设为CMOS型，还可设为CCD型来代替该CMOS型。该固体摄影装置2搭载于电子设备，例如数字相机上。以下，以将该固体摄影装置2搭载于数字相机上的情况为例进行说明。
电路基板4在其一面的中央封装有图像传感器3。保持基板10具有基板本体5及遮光层11，基板本体5为形成有开口5a的框状，在形成该开口5a的内壁面5b上形成有遮光层11。在该开口5a内配置图像传感器3，以自侧面包围图像传感器3的状态下，将电路基板4固定于基板本体5上。电路基板4与基板本体5是由粘接剂(例如：环氧系粘接剂，以下同样)来固定。在电路基板4上形成有各种电路图案。
IR截止滤波器6在板状的玻璃上形成反射红外光的反射膜(无图示)，该反射膜的膜面成为被拍摄体光(subject light)的入射面6a。IR截止滤波器6是以较开口5a而言大一圈的尺寸来形成，且以覆盖开口5a的方式利用粘接剂来固定于基板本体5上。
拍摄镜头7是以较滤波器本体6更大的直径来形成。透镜架8在中央形成有开口，且在该开口内保持拍摄镜头7。保持筒9利用粘接剂而固定于基板本体5的IR截止滤波器6侧的面上，在内部将透镜架8保持为在光轴方向(图3中的上下方向)上自由移动。透镜架8通过未图示的移动机制而在保持筒9内部沿光轴方向移动。
在拍摄镜头7的射出面侧(图2及图3中的下方)配置有图像传感器3，且在拍摄镜头7与图像传感器3之间配置有IR截止滤波器6。被拍摄体光通过拍摄镜头7、IR截止滤波器6而射入至图像传感器3的受光面。此时，被拍摄体光中的红外光是由IR截止滤波器6来截止。
电路基板4与内藏于数字相机中的控制部连接，另外，由数字相机的电源(电池)来供给电力。图像传感器3在受光面上二维地排列有多个彩色像素，各彩色像素将入射光进行光电转换，积蓄所产生的信号电荷。数字相机的控制部利用自图像传感器3上依序读出各彩色像素的信号电荷而输出1画面份的画面信号，对1画面份的图像信号进行各种信号处理，由此获得拍摄图像。
如图2及图3所示，在基板本体5的由开口5a形成的内壁面5b上，遍及全周而形成遮蔽可见光的遮光层11。遮光层11形成为膜状。在无遮光层11的情况下，若自拍摄镜头7射出且透过IR截止滤波器6而在基板本体5的内壁面反射的反射光射入至图像传感器3，则成为拍摄图像中产生眩光或重影的原因。与此相对，在保持基板10上，由于在基板本体5的内壁面5b上形成有遮光层11，故而遮光层11遮蔽射入至基板本体5的内壁面5b上的有害光HR。遮光层11是利用例如喷涂法来涂布。此外，图2及图3中，夸张地描绘出遮光层11的厚度。
以下，对用以形成遮光层11的分散组合物、以及聚合性组合物可含有的各成分进行详细说明。
此外，本说明书中的基团(原子团)的表述中，未记载经取代以及未经取代的表述不仅包含不具有取代基的基团，而且还包含具有取代基的基团。例如，所谓“烷基”，不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，而且还包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。
另外，本说明书中的“放射线”是指包含可见光线、紫外线、远紫外线、电子束、X射线等放射线等。
以下所记载的构成要件的说明是基于本发明的代表性实施方式来进行，但本发明并不限定于上述实施方式。此外，本说明书中使用“～”来表示的数值范围是指包含记载于“～”的前后的数值来作为下限值以及上限值的范围。
此外，本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯以及甲基丙烯酸酯，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸以及甲基丙烯酸，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基以及甲基丙烯酰基。另外，本说明书中，“单量体”与“单体(monomer)”含义相同。本发明中的单体区别于低聚物以及聚合物，是指质量平均分子量为2,000以下的化合物。本说明书中，所谓聚合性化合物，是指具有聚合性基的化合物，可为单体，也可为聚合物。所谓聚合性基，是指参与聚合反应的基团。
形成遮光层11的分散组合物含有：(A)黑色着色剂(优选为钛黑或者碳黑)、(B)分散剂(例如包括具有接枝链的结构单元、及与该具有接枝链的结构单元不同的疏水性结构单元的高分子化合物)、以及(C)溶剂。根据该分散组合物，而获得分散性、保存稳定性以及涂布性高的分散组合物。
另外，形成遮光层11的聚合性组合物含有上述分散组合物、(D)聚合性化合物、以及(E)聚合引发剂。根据该聚合性组合物，在后述曝光工序中进行图案形成的情况下，形成未曝光部中的残渣得到抑制的图案，另外，图案形成中的显影裕度以及显影宽容度提高。此处，所谓显影裕度高，是指在图案形成时，曝光部由于难以利用显影液而剥离等原因，故而容易残存，容易获得所需的图案。另外，所谓显影宽容度高，是指直至所形成的图案利用显影液而剥离为止的时间长。
＜(A)黑色着色剂＞
黑色着色剂可使用各种公知的黑色颜料或黑色染料。尤其就能够利用少量的黑色着色剂来实现高光学浓度的观点而言，优选为碳黑、钛黑、氧化钛、氧化铁、氧化锰、石墨等，其中优选为包含碳黑、钛黑中的至少一种，特别优选为钛黑。
上述碳黑可使用日本专利特开2006-301101号公报的段落编号[0020]～段落编号[0024]中揭示的碳黑。
上述所谓钛黑，是指具有钛原子的黑色粒子。优选为低价氧化钛或氮氧化钛等。出于提高分散性、抑制凝聚性等目的，钛黑粒子可视需要来修饰表面。可利用氧化硅、氧化钛、氧化锗、氧化铝、氧化镁、氧化锆来被覆，另外，还可利用如日本专利特开2007-302836号公报中所示般的拨水性物质进行处理。
钛黑的制造方法有：将二氧化钛与金属钛的混合体在还原气体环境下进行加热而还原的方法(日本专利特开昭49-5432号公报)；将利用四氯化钛的高温水解而获得的超微细二氧化钛在包含氢气的还原气体环境中进行还原的方法(日本专利特开昭57-205322号公报)；将二氧化钛或者氢氧化钛在氨气存在下进行高温还原的方法(日本专利特开昭60-65069号公报、日本专利特开昭61-201610号公报)；使钒化合物附着于二氧化钛或者氢氧化钛上，在氨气存在下进行高温还原的方法(日本专利特开昭61-201610号公报)等；但并不限定于这些方法。
典型而言，钛黑为钛黑粒子，优选为各个粒子的一次粒径以及平均一次粒径均小的钛黑粒子。具体而言，优选为以平均一次粒径计为10nm～45nm范围的钛黑粒子，更优选为12nm～20nm的范围。此外，本发明中所谓的粒径，即粒子直径，是指具有与粒子的外表面的投影面积相等的面积的圆的直径。粒子的投影面积是通过测定根据电子显微镜照片的摄影而获得的面积，修正摄影倍率而获得。钛黑的比表面积并无特别限定，但为了使利用拨水化剂对上述钛黑进行表面处理后的拨水性成为规定的性能，优选为利用布厄特(Brunauer,Emmetand Teller's，BET)法来测定的值通常为5m2/g以上、150m2/g以下左右，特别优选为20m2/g以上、100m2/g以下。
钛黑的市售品的例子可列举：钛黑10S、12S、13R、13M、13M-C、13R、13R-N、13M-T(商品名：以上由三菱材料(股)制造)、迪莱克(Tilack)D(商品名：赤穗化成(股)制造)等。
出于提高分散性、抑制凝聚性等目的，钛黑粒子可视需要修饰粒子表面。作为粒子表面的修饰，例如可利用氧化硅、氧化钛、氧化锗、氧化铝、氧化镁、氧化锆等进行被覆处理，另外，还可利用如日本专利特开2007-302836号公报所示般的拨水性物质进行处理。
进而，分散组合物还优选为含有钛黑来作为包含钛黑以及Si原子的被分散体。该形态中，钛黑在分散组合物中作为被分散体而含有，优选为被分散体中的Si原子与Ti原子的含有比(Si/Ti)以质量换算计为0.05以上。此处，上述被分散体包含钛黑为一次粒子的状态的、钛黑为凝聚体(二次粒子)的状态的这两种。此外，若被分散体中的Si原子与Ti原子的含有比(Si/Ti)超过0.5，则存在难以制造使用被分散体的颜料分散液的倾向，因此其上限优选为0.5。
另外，若被分散体的Si/Ti过小，则当利用光刻等对使用被分散体的后述聚合性组合物层进行图案化时，在去除了聚合性组合物层的去除部容易残留残渣，若被分散体的Si/Ti过大，则存在遮光能力下降的倾向。因此，被分散体的Si/Ti更优选为0.05以上、0.5以下，尤其优选为0.07以上、0.4以下。
为了变更被分散体的Si/Ti(例如设为0.05以上)，可利用如以下所述的方法。首先，通过使用分散机将氧化钛及二氧化硅粒子分散而获得分散物，然后将该混合物在高温(例如：850℃～1000℃)下进行还原处理，可获得以钛黑粒子作为主成分且含有Si及Ti的被分散体。
此处，对用于变更被分散体的Si/Ti的具体态样进行说明。Si/Ti经调整为例如0.05以上等的钛黑例如可利用日本专利特开2008-266045公报的段落编号[0005](6)以及该日本专利特开2008-266045公报的段落编号[0016]～段落编号[0021]中记载的方法来制作。
本发明中，通过将包含钛黑以及Si原子的被分散体中的Si原子与Ti原子的含有比(Si/Ti)调整为适当范围(例如0.05以上)，当使用包含该被分散体的组合物来形成遮光层11时，遮光层11的形成区域外的源自聚合性组合物的残渣的量减少。此外，残渣包含钛黑粒子、树脂成分等来源于感光性的聚合性组合物的成分。
残渣的量减少的原因尚不明确。但是，如上所述的被分散体存在粒径变小的倾向(例如粒径为30nm以下)，进而，通过该被分散体的包含Si原子的成分增加，遮光层11整体的与基底的吸附性降低，推测这有助于提高遮光层11的形成中的未硬化的聚合性组合物(特别是钛黑粒子)的显影去除性。
另外，钛黑由于对遍及自紫外至红外的广泛范围的波长区域的光的遮光性优异，故而使用上述包含钛黑以及Si原子的被分散体(优选为Si/Ti以质量换算计为0.05以上的被分散体)来形成的遮光层11发挥优异的遮光性。
此外，被分散体中的Si原子与Ti原子的含有比(Si/Ti)例如可使用下述所示的方法(1-1)或者方法(1-2)来测定。
＜方法(1-1)＞
将钛黑分散物、或者含有钛黑分散液与聚合性化合物的聚合性组合物在氧气环境中进行加热处理，取出包含作为黑色着色剂(A)的钛黑以及Si原子的被分散体。
秤量钛黑分散物或者聚合性组合物20mg，向其中添加0.1mL的HF、1mL的HNO3(10％aq.)、1mL的H2SO4(5％aq.)、以及1mL的HCL(3％aq.)，进行微波溶解。此时的液温为180℃。此外，“aq.”是指水溶液。
然后，向该混合液中添加H2O直至达到100ml为止，将其提供给ICP-OES(艾特木(Attom)，商品名：SII公司制造)，进行元素分析。根据所得的结果来算出Si/Ti的质量比。
＜方法(1-2)＞
使用小型旋转窑(rotary kiln)(本山(Motoyama)股份有限公司制造)，将钛黑分散液、或者含有钛黑分散液与聚合性化合物的聚合性组合物在氧气环境中加热至700℃，保持30分钟后冷却，获得粉体2g。将所得的粉体载置于厚度0.2mm的钨板上。将该钨板设置于具备电子束加热机构的真空腔室内，将真空度设为10-5Torr以下，利用电子束加热而在1000℃下进行30秒加热处理。对于经加热处理的粉体，使用场发射型扫描电子显微镜S-4800(商品名，日立科技(Hitachi Technologies)公司制造)以及能量分散型荧光X射线检测器印加艾那智彭塔(INCA Energy Penta)FETx3(商品名，牛津(Oxford)公司制造)，求出Si原子量、Ti原子量，来算出Si/Ti比。
另外，关于将聚合性组合物硬化而获得的硬化膜(聚合性组合物层)中所含有的被分散体，为了判断其被分散体中的Si原子与Ti原子的含有比(Si/Ti)是否为0.05以上，而使用下述所示的方法(2)。
＜方法(2)＞
通过将形成有聚合性组合物层的基板进行切割，来制作聚合性组合物层的剖面，对于该剖面，利用能量分散型荧光X射线分析装置，可获得聚合性组合物层表面中的Si原子量与Ti原子量。将这些量比作为聚合性组合物层中的Si/Ti来评价。此时的能量分散型荧光X射线分析可同样使用上述作为扫描型电子显微镜的日立高新科技公司制造的S-4800(商品名)、以及作为能量分散型荧光X射线检测器的牛津公司制造的印加艾那智彭塔(INCA Energy Penta)FETx3(商品名)。
包含钛黑以及Si原子的被分散体中，钛黑可使用上述钛黑。另外，该被分散体中，出于调整分散性、着色性等的目的，也可将包含Cu、Fe、Mn、V、Ni等的复合氧化物、氧化钴、氧化铁、碳黑、苯胺黑等的黑色颜料的一种或者组合两种以上，与钛黑一起并用作为被分散体。该情况下，优选为包含钛黑的被分散体占全部被分散体中的50质量％以上。
另外，该被分散体中，出于调整遮光性等目的，只要不损及本发明的效果，则可视需要将其他着色剂(有机颜料或染料等)与黑色着色剂一起并用。
以下，对向被分散体中导入Si原子时所使用的材料进行说明。向被分散体中导入Si原子时，只要使用二氧化硅等含Si的物质即可。本发明中可使用的二氧化硅可列举：沉降二氧化硅、气相二氧化硅(fumed silica)、胶体二氧化硅(colloidal silica)、合成二氧化硅等，只要适当选择这些二氧化硅来使用即可。二氧化硅也可作为市售品来获取，例如可使用：新日铁材料制造，HS-101、HS-102、HS-103、HS-104、HS-105、HS-106、HS-107、HS-201、HS-202、HS-203、HS-204、HS-205、HS-301、HS-302、HS-303、HS-304、HS-305(商品名)；宇部日东化成制造，海普莱西卡(Hyprecica)SS、海普莱西卡(Hyprecica)TS、海普莱西卡(Hyprecica)BS、海普莱西卡(Hyprecica)SP、海普莱西卡(Hyprecica)FQ(商品名)；卡博特(Cabot)制造，CAB-O-SIL(注册商标)LM-150、CAB-O-SIL(注册商标)LM-150、CAB-O-SIL(注册商标)S-17D等二氧化硅粒子。
进而，若二氧化硅粒子的粒径为与遮光层11的厚度相同程度的粒径，则引起遮光性下降，因此优选为使用微粒子类型的二氧化硅作为二氧化硅粒子。微粒子类型的二氧化硅的例子例如可使用：埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)90、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)130、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)150、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)200、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)300、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)380、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)OX 50、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)EG 50、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)TT 600、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)200SP、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)300SP、埃罗帕(AEROPERL)(注册商标)300/30、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R 972、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R 974、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R 104、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R 106、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R 202、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R 805、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R 812、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R 812S、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R816、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R 7200、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R 8200、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R 9200、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)MOX 80、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)MOX 170、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)COK 84、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)RY 50、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)NY 50、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)RY 200、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)RY 200、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)RX 50、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)NAX 50、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)RX 200、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)RX 300、埃洛希尔(AEROSIL)(注册商标)R 504、埃罗帕(AEROPERL)(注册商标)300/30、维帕尔(VPAEROPERL)(注册商标)P 25/20M05；催化剂化成制造的S6、MA1004(商品名，以下同样)、MA1006、MA1010、MA1013、MX030W、MX050W、MX100W、KE-E30、KE-E40、KE-E50、KE-E70、KE-E150、KE-P10、KE-P30、KE-P50、KE-P100、KE-P150、KE-P250；新日铁材料制造的HS-101(商品名，以下同样)、HS-102、HS-103、HS-104、HS-105、HS-106、HS-107、HS-201、HS-202、HS-203、HS-204、HS-205、HS-301、HS-302、HS-303、HS-304、以及HS-305；宇部日东化成制造，海普莱西卡(Hyprecica)SS(商品名，以下同样)、海普莱西卡(Hyprecica)TS、海普莱西卡(Hyprecica)BS、海普莱西卡(Hyprecica)SP、以及海普莱西卡(Hyprecica)FQ；卡博特制造，CAB-O-SIL(注册商标，以下同样)LM-150、CAB-O-SILLM-150、以及CAB-O-SIL S-17D等，但并不限定于这些二氧化硅。
分散组合物、以及聚合性组合物可仅含有一种钛黑，也可含有两种以上。
相对于分散组合物的全部固体成分，钛黑的含量优选为20质量％以上、94质量％以下的范围，更优选为40质量％以上、92质量％以下的范围，尤其优选为40质量％以上、80质量％以下的范围。
另外，相对于聚合性组合物的全部固体成分，钛黑的含量优选为5质量％以上、80质量％以下的范围，更优选为10质量％以上、70质量％以下的范围，尤其优选为20质量％以上、60质量％以下的范围。若钛黑的含量在上述范围内，则聚合性组合物的硬化性变得良好，且可形成均匀的膜。
另外，通过含有高浓度的钛黑，形成具有充分的遮光性的遮光层11。
＜(A')钛黑以外的颜料＞
本发明中的分散组合物、以及聚合性组合物除了钛黑以外，也可视需要添加体质颜料(extender pigment)。此种体质颜料例如可列举：硫酸钡、碳酸钡、碳酸钙、二氧化硅、碱性碳酸镁、矾土白(alumina white)、光泽白(gloss white)、钛白(titanium white)、水滑石(hydrotalcite)等。这些体质颜料可单独使用或者将两种以上混合使用。相对于钛黑100质量份，体质颜料的使用量通常为0质量份～100质量份，优选为5质量份～50质量份，尤其优选为10质量份～40质量份。本发明中，上述钛黑以及体质颜料可视情况，利用聚合物将它们的表面进行改质来使用。
另外，本发明中的分散组合物、以及聚合性组合物可将钛黑以外的颜料混合使用来作为遮光用颜料。此种可混合的遮光用颜料只要是在可见光区域具有吸光度的颜料，则并无特别限定，可列举上述体质颜料、碳黑、下述有机颜料等。
＜有机颜料＞
本发明中的有机颜料可使用日本专利特开2011-057964号公报的段落编号[0031]～段落编号[0033]中记载的有机颜料，使用选自红色有机颜料、黄色有机颜料、紫色有机颜料、橙色有机颜料、褐色有机颜料、以及黑色有机颜料中的颜料。红色有机颜料例如可列举：C.I.颜料红1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48：1、48：2、48：3、48：4、49、49：1、49：2、52：1、52：2、53：1、57：1、60：1、63：1、66、67、81：1、81：2、81：3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279等。
紫色有机颜料例如可列举：C.I.颜料紫1、2、19、23、27、29、32、37、42等。
黄色有机颜料例如可列举：C.I.颜料黄1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35：1、36、36：1、37、37：1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等。
橙色有机颜料例如可列举：C.I.颜料橙2、5、13、16、17：1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73等。
有机颜料中，就不会损及短波长区域(特别是400nm以下)的光透过率，提高可视区域的遮光性的观点而言，优选为：二酮吡咯并吡咯(diketopyrrolopyrrole)系颜料、苝(perylene)系颜料、苯并咪唑酮(benzimidazolone)系颜料、紫环酮(perinone)系颜料、萘酚AS(naphtholAS)系颜料、蒽醌(anthraquinone)系颜料、吡唑酮(pyrazolone)系颜料、或者异吲哚啉酮(isoindolinone)系颜料，更优选为：二酮吡咯并吡咯系颜料、苝系颜料、萘酚AS系颜料、蒽醌系颜料。特别优选为：C.I.颜料红122、150、171、175、177、209、224、242、254、255、264；C.I.颜料黄11、24、108、109、110、138、139、150、151、154、167、180、185；C.I.颜料橙36、38、43、64、71。
＜上述以外的颜料＞
除了上述颜料以外，出于调节光透过区域与遮光区域中的光的透过性等目的，也可视需要并用绿色、蓝色、黑色等其他颜色的有机颜料或体质颜料。其他颜色的有机颜料的例子可列举：C.I.颜料绿7、10、36、37、58；C.I.颜料蓝1、2、15、15：1、15：2、15：3、15：4、15：6、16、22、60、64、66、79、80；C.I.颜料棕25、28；C.I.颜料黑1、7等。
将钛黑以外的遮光用颜料混合的例子可列举：将钛黑与碳黑以6：1混合而成的例子、将钛黑与氧化钛以3：1混合而成的例子等。相对于钛黑100质量份，所混合的钛黑以外的遮光用颜料可以0.01质量份～99.99质量份的范围使用。优选为20质量份～70质量份的范围。
＜(B)分散剂＞
分散剂(B)优选为高分子化合物(B1)的分散剂，更优选为包括具有接枝链的结构单元、以及与上述具有接枝链的结构单元不同的疏水性结构单元的高分子化合物。
高分子化合物(B1)可列举：高分子分散剂[例如：聚酰胺胺与其盐、多羧酸与其盐、高分子量不饱和酸酯、改性聚氨基甲酸酯、改性聚酯、改性聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸***缩合物]，以及聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基胺、烷醇胺、以及颜料衍生物等。
高分子化合物(B1)可根据其结构而进一步分类为直链状高分子、末端改性型高分子、接枝型高分子、以及嵌段型高分子。
高分子化合物(B1)是以吸附于钛黑粒子以及视需要而并用的颜料等被分散体的表面，来防止再凝聚的方式发挥作用。因此，可列举具有对颜料表面的锚固部位的末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子作为优选的结构。
另一方面，通过对钛黑粒子、或上述包含钛黑以及Si原子的被分散体的表面进行改质，也可促进高分子化合物(B1)对这些表面的吸附性。
高分子化合物(B1)如上所述，包括具有接枝链的结构单元。此外，本说明书中，所谓“结构单元”，与“重复单元”含义相同。包括此种具有接枝链的结构单元的高分子化合物(B1)通过接枝链而具有与溶剂的亲和性，因此钛黑粒子的分散性、以及经时后的分散稳定性优异。另外，聚合性组合物中，通过接枝链的存在而具有与聚合性化合物或者其他可并用的树脂等的亲和性，因此碱显影中难以产生残渣。
若接枝链变长，则立体排斥效果提高，分散性提高，但另一方面，若接枝链过长，则对钛黑的吸附力下降，分散性存在下降的倾向。因此，接枝链优选为去除了氢原子的原子数为40～10000的范围的接枝链，更优选为去除了氢原子的原子数为50～2000的接枝链，尤其优选为去除了氢原子的原子数为60～500的接枝链。此处，所谓接枝链，是指自共聚物的主链的根部(自主链上分支的基团中键结于主链上的原子)直至自主链上分支的基团的末端为止。
接枝链优选为具有聚合物结构，此种聚合物结构例如可列举：聚丙烯酸酯结构(例如聚(甲基)丙烯酸结构)、聚酯结构、聚氨基甲酸酯结构、聚脲结构、聚酰胺结构、以及聚醚结构等。
为了提高接枝部位与溶剂的相互作用性，由此来提高分散性，接枝链优选为具有选自由聚酯结构、聚醚结构以及聚丙烯酸酯结构所组成的组群中的至少一种的接枝链，更优选为具有聚酯结构以及聚醚结构的至少任一种的接枝链。
具有此种聚合物结构作为接枝链的大分子单体的结构只要具有可与聚合物主链部进行反应的取代基，且满足本发明的必要条件，则并无特别限定，优选为可适宜使用具有反应性双键性基的大分子单体。
对应于高分子化合物(B1)所包括的具有接枝链的结构单元，适宜用于合成高分子化合物(B1)的市售大分子单体可使用：AA-6(商品名，(商品名，东亚合成(股))、AA-10(商品名，东亚合成(股)制造)、AB-6(商品名，东亚合成(股)制造)、AS-6(东亚合成(股))、AN-6(商品名，东亚合成(股)制造)、AW-6(商品名，东亚合成(股)制造)、AA-714(商品名，东亚合成(股)制造)、AY-707(商品名，东亚合成(股)制造)、AY-714(商品名，东亚合成(股)制造)、AK-5(商品名，东亚合成(股)制造)、AK-30(商品名，东亚合成(股)制造)、AK-32(商品名，东亚合成(股)制造)、布兰莫(Blemmer)PP-100(商品名，日油(股)制造)、布兰莫(Blemmer)PP-500(商品名，日油(股)制造)、布兰莫(Blemmer)PP-800(商品名，日油(股)制造)、布兰莫(Blemmer)PP-1000(商品名，日油(股)制造)、布兰莫(Blemmer)55-PET-800(日油(股)制造)、布兰莫(Blemmer)PME-4000(商品名，日油(股)制造)、布兰莫(Blemmer)PSE-400(商品名，日油(股)制造)、布兰莫(Blemmer)PSE-1300(商品名，日油(股)制造)、布兰莫(Blemmer)43PAPE-600B(商品名，日油(股)制造)等。其中，优选为使用：AA-6(东亚合成(股)制造)、AA-10(商品名，东亚合成(股))、AB-6(商品名，东亚合成(股)制造)、AS-6商品名，东亚合成(股))、AN-6(商品名，东亚合成(股)制造)、布兰莫(Blemmer)PME-4000(商品名，日油(股)制造)等。
高分子化合物(B1)优选为包含下述式(1)～式(4)的任一个所表示的结构单元作为具有接枝链的结构单元，更优选为包含下述式(1A)、下述式(2A)、下述式(3A)、下述式(3B)、以及下述(4)的任一个所表示的结构单元。
[化1]
式(1)～式(4)中，W1、W2、W3及W4分别独立地表示氧原子或者NH。W1、W2、W3及W4优选为氧原子。
式(1)～式(4)中，X1、X2、X3、X4及X5分别独立地表示氢原子或者一价有机基。就合成上的限制的观点而言，X1、X2、X3、X4及X5优选为分别独立地为氢原子或者碳数1～12的烷基，更优选为分别独立地为氢原子或者甲基，特别优选为甲基。
式(1)～式(4)中，Y1、Y2、Y3及Y4分别独立地表示二价连结基，该连结基在结构上并无特别限制。具体而言，Y1、Y2、Y3及Y4所表示的二价连结基可列举下述(Y-1)～(Y-21)的连结基等为例。下述所示的结构中，A、B分别是指与式(1)～式(4)中的左末端基、右末端基的键结部位。下述所示的结构中，就合成的简便性而言，更优选为(Y-2)或者(Y-13)。
[化2]
式(1)～式(4)中，Z1、Z2、Z3及Z4分别独立地表示一价有机基。该有机基的结构并无特别限定，具体而言可列举：烷基、羟基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、烷基硫醚基、芳基硫醚基、杂芳基硫醚基、以及氨基等。这些基团中，尤其就分散性提高的观点而言，Z1、Z2、Z3及Z4所表示的有机基优选为具有立体排斥效果的基团，优选为分别独立地为碳数5至24的烷基，其中，特别优选为分别独立地为碳数5至24的分支烷基或者碳数5至24的环状烷基。
式(1)～式(4)中，n、m、p及q分别为1至500的整数。另外，式(1)及式(2)中，j及k分别独立地表示2～8的整数。就分散稳定性、显影性的观点而言，式(1)及式(2)中的j及k优选为4～6的整数，最优选为5。
式(3)中，R3表示分支或者直链的亚烷基，优选为碳数1～10的亚烷基，更优选为碳数2或3的亚烷基。当p为2～500时，存在多个的R3可相互相同也可不同。
式(4)中，R4表示氢原子或者一价有机基，该一价有机基在结构上并无特别限定。R4优选为可列举：氢原子、烷基、芳基、以及杂芳基，尤其优选为氢原子、或者烷基。在该R4为烷基的情况下，该烷基优选为碳数1～20的直链状烷基、碳数3～20的分支状烷基、或者碳数5～20的环状烷基，更优选为碳数1～20的直链状烷基，特别优选为碳数1～6的直链状烷基。式(4)中，当q为2～500时，接枝共聚物中存在多个的X5及R4可相互相同也可不同。
高分子化合物(B1)中，优选为以质量换算计，相对于高分子化合物(B1)的总质量，而以10％～90％的范围包含式(1)～式(4)所表示的结构单元，更优选为以30％～70％的范围包含式(1)～式(4)所表示的结构单元。若在该范围内包含式(1)～式(4)所表示的结构单元，则钛黑粒子的分散性高，形成遮光层11时的显影性良好。
另外，高分子化合物(B1)可包括两种以上的结构不同的具有接枝链的结构单元。即，高分子化合物(B1)的分子中可包含结构相互不同的式(1)～式(4)所表示的结构单元，另外，在式(1)～式(4)中n、m、p及q分别表示2以上的整数的情况下，式(1)及式(2)中，侧链中可包含j及k相互不同的结构，式(3)及式(4)中，分子内存在多个的R3、R4以及X5可相互相同也可不同。
就分散稳定性、显影性的观点而言，上述式(1)所表示的结构单元更优选为下述式(1A)所表示的结构单元。另外，就分散稳定性、显影性的观点而言，上述式(2)所表示的结构单元更优选为下述式(2A)所表示的结构单元。
[化3]
式(1A)中，X1、Y1、Z1及n与上述式(1)中的X1、Y1、Z1及n含义相同，优选范围也相同。式(2A)中，X2、Y2、Z2及m与上述式(2)中的X2、Y2、Z2及m含义相同，优选范围也相同。
另外，就分散稳定性、显影性的观点而言，上述式(3)所表示的结构单元更优选为下述式(3A)或者式(3B)所表示的结构单元。
[化4]
式(3A)或者式(3B)中，X3、Y3、Z3及p与上述式(3)中的X3、Y3、Z3及p含义相同，优选范围也相同。
高分子化合物(B1)更优选为包括上述式(1A)所表示的结构单元作为具有接枝链的结构单元。
高分子化合物(B1)中，优选为以质量换算计，相对于高分子化合物(B)的总质量，而以10％～90％的范围包含具有接枝链的结构单元，更优选为以30％～70％的范围包含具有接枝链的结构单元。若在该范围内包含具有接枝链的结构单元，则钛黑粒子的分散性高，形成遮光层11时的显影性良好。
另外，高分子化合物(B1)如上所述，包括与上述具有接枝链的结构单元不同(即，不相当于上述具有接枝链的结构单元)的疏水性结构单元。其中，本发明中，疏水性结构单元是指不具有酸基(例如：羧酸基、磺酸基、磷酸基、酚性羟基等)的结构单元。
疏水性结构单元优选为源自(对应于)ClogP值为1.2以上的化合物(单体)的结构单元，更优选为源自ClogP值为1.2～8的化合物的结构单元。由此，可更确实地表现出本发明的效果。
ClogP值是利用可由日光化学信息***有限公司(Daylight Chemical Information System,Inc.)获取的程序“CLOGP”来计算而得的值。该程序提供通过汉施里奥(Hansch,Leo)的片段法(fragment approach)(参照下述文献)来算出的“计算logP”的值。片段法是基于化合物的化学结构，通过将化学结构分割为部分结构(片段)，将对该片段分配的logP贡献份额合计而推算出化合物的logP值。其详情记载于以下文献中。本发明中，使用通过程序CLOGPv4.82来计算而得的ClogP值。
A.J.里奥(A.J.Leo)，《综合医药化学(Comprehensive Medicinal Chemistry)》，第4卷，C.汉施(C.Hansch)、P.G.萨蒙斯(P.G.Sammnens)、J.B.泰勒(J.B.Taylor)及C.A.冉斯登(C.A.Ramsden)编辑，第295页，培格曼出版公司(Pergamon Press)，1990；C.汉施与A.J.里奥，《化学与生物学中的相关分析的取代基常数(SUbstituent Constants ForCorrelation Analysis in Chemistry and Biology)》，约翰威利父子出版公司(John Wiley&Sons.)；A.J.里奥，《从结构计算logPoct(Calculating logPoct from structure)》；《化学评论(Chemical Reviews，Chem.Rev.)》第93期，第1281页至第1306页，1993年。
logP是指分配系数P(Partition Coefficient)的常用对数。logP是将某种有机化合物在油(通常为1-辛醇)与水的2相系的平衡中如何分配表示为定量的数值的物性值，由以下式子所表示。
logP＝log(Coil/Cwater)
式中，Coil表示油相中的化合物的摩尔浓度，Cwater表示水相中的化合物的摩尔浓度。若logP的值跨越0而正向增大，则是指油溶性增加，若为负且绝对值增大，则是指水溶性增加，与有机化合物的水溶性存在负的相关，广泛地作为估算有机化合物的亲疏水性的参数而利用。
高分子化合物(B1)优选为包括选自源自下述通式(i)～式(iii)所表示的单体的结构单元中的一种以上结构单元作为疏水性结构单元。
[化5]
上述式(i)～式(iii)中，R1、R2及R3分别独立地表示氢原子、卤素原子(例如：氟、氯、溴等)、或者碳原子数为1～6的烷基(例如：甲基、乙基、丙基等)。
R1、R2及R3更优选为氢原子、或者碳原子数为1～3的烷基，最优选为氢原子或者甲基。R2及R3特别优选为氢原子。X表示氧原子(-O-)或者亚氨基(-NH-)，优选为氧原子。
L为单键或者二价连结基。二价连结基可列举：二价脂肪族基(例如：亚烷基、经取代的亚烷基、亚烯基、经取代的亚烯基、亚炔基、经取代的亚炔基)、二价芳香族基(例如：亚芳基、经取代的亚芳基)、二价杂环基，以及这些基团与氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亚氨基(-NH-)、经取代的亚氨基(-NR31-，此处R31为脂肪族基、芳香族基或者杂环基)或者羰基(-CO-)的组合等。
上述二价脂肪族基可具有环状结构或者分支结构。上述脂肪族基的碳原子数优选为1～20，更优选为1～15，尤其优选为1～10。脂肪族基可为不饱和脂肪族基，也可为饱和脂肪族基，优选为饱和脂肪族基。另外，脂肪族基可具有取代基。取代基的例子可列举卤素原子、芳香族基以及杂环基等。
上述二价芳香族基的碳原子数优选为6～20，尤其优选为6～15，最优选为6～10。另外，上述芳香族基可具有取代基。取代基的例子可列举：卤素原子、脂肪族基、芳香族基以及杂环基等。
上述二价杂环基优选为具有5员环或者6员环作为杂环。也可在杂环上缩合其他的杂环、脂肪族环或者芳香族环。另外，杂环基可具有取代基。取代基的例子可列举：卤素原子、羟基、侧氧基(＝O)、硫酮基(＝S)、亚氨基(＝NH)、经取代的亚氨基(＝N-R32，此处R32为脂肪族基、芳香族基或者杂环基)、脂肪族基、芳香族基及杂环基。
L优选为单键、亚烷基或者包含氧亚烷基结构的二价连结基。氧亚烷基结构更优选为氧亚乙基结构或者氧亚丙基结构。另外，L可包含重复含有两个以上氧亚烷基结构的聚氧亚烷基结构。聚氧亚烷基结构优选为聚氧亚乙基结构或者聚氧亚丙基结构。聚氧亚乙基结构是由-(OCH2CH2)n-所表示，n优选为2以上的整数，更优选为2～10的整数。
Z可列举：脂肪族基(例如：烷基、经取代的烷基、不饱和烷基、经取代的不饱和烷基、)、芳香族基(例如：亚芳基、经取代的亚芳基)、杂环基以及这些基团与氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亚氨基(-NH-)、经取代的亚氨基(-NR31-，此处R31为脂肪族基、芳香族基或者杂环基)或者羰基(-CO-)的组合等。
上述脂肪族基可具有环状结构或者分支结构。上述脂肪族基的碳原子数优选为1～20，更优选为1～15，尤其优选为1～10。更包含环集合烃基、交联环式烃基，环集合烃基的例子包含：双环己基、全氢萘基、联苯基、4-环己基苯基等。交联环式烃环例如可列举：蒎烷(pinane)、冰片烷(bornane)、降蒎烷(norpinane)、降冰片烷(norbornane)、双环辛烷环(双环[2.2.2]辛烷环、双环[3.2.1]辛烷环等)等2环式烃环；以及三环[5.2.1.03,8]癸烷(homobrendane)、金刚烷(adamantane)、三环[5.2.1.02,6]癸烷、三环[4.3.1.12,5]十一烷环等的3环式烃环、四环[4.4.0.12,5.17,10]十二烷、全氢-1,4-甲桥-5,8-甲桥萘环等4环式烃环等。另外，交联环式烃环中也包含缩合环式烃环，例如全氢萘(perhydronaphthalene)(十氢萘(decalin))、全氢蒽(perhydroanthracene)、全氢菲(perhydrophenanthrene)、全氢苊(perhydroacenaphthene)、全氢芴(perhydrofluorene)、全氢茚(perhydroindene)、全氢萉(perhydrophenalene)等5员～8员环烷烃环缩合多个而得的缩合环。
脂肪族基是饱和脂肪族基优于不饱和脂肪族基。另外，脂肪族基可具有取代基。取代基的例子可列举卤素原子、芳香族基以及杂环基。其中，脂肪族基不具有酸基作为取代基。
上述芳香族基的碳原子数优选为6～20，尤其优选为6～15，最优选为6～10。另外，上述芳香族基可具有取代基。取代基的例子可列举：卤素原子、脂肪族基、芳香族基以及杂环基。其中，芳香族基不具有酸基作为取代基。
上述杂环基优选为具有5员环或者6员环作为杂环。也可在杂环上缩合其他杂环、脂肪族环或者芳香族环。另外，杂环基可具有取代基。取代基的例子可列举：卤素原子、羟基、侧氧基(＝O)、硫酮基(＝S)、亚氨基(＝NH)、经取代的亚氨基(＝N-R32，此处R32为脂肪族基、芳香族基或者杂环基)、脂肪族基、芳香族基以及杂环基。其中，杂环基不具有酸基作为取代基。
上述式(iii)中，R4、R5及R6分别独立地表示氢原子、卤素原子(例如：氟、氯、溴等)、或者碳原子数为1～6的烷基(例如：甲基、乙基、丙基等)、Z、或者-L-Z。此处L及Z与上述的L及Z含义相同。R4、R5及R6优选为氢原子、或者碳数为1～3的烷基，更优选为氢原子。
本发明中，上述通式(i)所表示的单体优选为：R1、R2及R3为氢原子或者甲基，L为亚烷基或者包含氧亚烷基结构的二价连结基，X为氧原子或者亚氨基，且Z为脂肪族基、杂环基或者芳香族基的化合物。
另外，上述通式(ii)所表示的单体优选为：R1为氢原子或者甲基，L为亚烷基，Z为脂肪族基、杂环基或者芳香族基，且Y为次甲基的化合物。另外，上述通式(iii)所表示的单体优选为：R4、R5及R6为氢原子或者甲基，且Z为脂肪族基、杂环基或者芳香族基的化合物。
式(i)～式(iii)所表示的代表性化合物的例子可列举选自丙烯酸酯类、甲基丙烯酸酯类、苯乙烯类等中的自由基聚合性化合物。
作为丙烯酸烷基酯(该烷基的碳原子数优选为1～20)等丙烯酸酯类，具体而言，例如可列举：丙烯酸苄酯、丙烯酸4-联苯酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸第二丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸4-第三丁基苯酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸4-氯苯酯、丙烯酸五氯苯酯、丙烯酸三氟甲基甲酯、丙烯酸十三烷氟己基乙酯丙烯酸4-氰基苄酯、丙烯酸氰基甲酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸庚酯、丙烯酸己酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸3,5-二甲基金刚烷基酯、丙烯酸2-萘酯、丙烯酸新戊酯、丙烯酸芴基酯、丙烯酸苯乙酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸甲苯酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸四氢糠酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、丙烯酸炔丙基酯、丙烯酸金刚烷基酯等。
作为甲基丙烯酸烷基酯(该烷基的碳原子优选为1～20)等甲基丙烯酸酯类，例如可列举：甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸4-联苯酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸第二丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸4-第三丁基苯酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸十二烷基酯、甲基丙烯酸4-氯苯酯、甲基丙烯酸五氯苯酯、甲基丙烯酸三氟甲基甲酯、甲基丙烯酸十三烷氟己基乙酯、甲基丙烯酸4-氰基苯酯、甲基丙烯酸氰基甲酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸庚酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸3,5-二甲基金刚烷基酯、甲基丙烯酸2-萘酯、甲基丙烯酸新戊酯、甲基丙烯酸芴基酯、甲基丙烯酸苯乙酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲苯酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸四氢糠酯、甲基丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸2-烯丙氧基乙酯、甲基丙烯酸炔丙基酯、甲基丙烯酸金刚烷基酯等。
苯乙烯类可列举：苯乙烯、烷基苯乙烯、烷氧基苯乙烯、卤化苯乙烯等。烷基苯乙烯例如可列举：甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、环己基苯乙烯、癸基苯乙烯、苄基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰氧基甲基苯乙烯等。烷氧基苯乙烯例如可列举：甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯等。卤化苯乙烯例如可列举：氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯等。
这些自由基聚合性化合物中，适宜使用甲基丙烯酸酯类、苯乙烯类，特别适宜使用：甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸4-第三丁基苯酯、甲基丙烯酸五氯苯酯、甲基丙烯酸4-氰基苯酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸3,5-二甲基金刚烷基酯、甲基丙烯酸2-萘酯、甲基丙烯酸新戊酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸四氢糠酯、甲基丙烯酸烯丙酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、环己基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰氧基甲基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯、1-乙烯基萘、2-乙烯基萘。
另外，与疏水性结构单元对应的单体中，含有杂环基的化合物可列举以下所示的化合物。
[化6]
[化7]
高分子化合物(B1)中，优选为以质量换算计，相对于高分子化合物(B1)的总质量，以10％～90％的范围包含疏水性结构单元，更优选为以20％～80％的范围包含疏水性结构单元。若含量在上述范围内，则获得充分的图案形成。
高分子化合物(B1)能够导入可与钛黑形成相互作用的官能基。此处，高分子化合物(B1)优选为还包括具有可与钛黑形成相互作用的官能基的结构单元。该可与钛黑粒子形成相互作用的官能基例如可列举：酸基、碱性基、配位性基、具有反应性的官能基等。
在高分子化合物(B1)分散剂(B)的高分子化合物具有酸基、碱性基、配位性基、或者具有反应性的官能基的情况下，分别优选为包括：具有酸基的结构单元、具有碱性基的结构单元、具有配位性基的结构单元、或者具有反应性的结构单元。特别是高分子化合物(B1)可通过还具有羧酸基等碱可溶性基作为酸基，而可对高分子化合物(B1)赋予用于利用碱显影来形成图案的显影性。即，通过在高分子化合物(B1)中导入碱可溶性基，本发明的分散组合物中，作为钛黑粒子的分散所不可欠缺的分散剂的高分子化合物(B1)具有碱可溶性。含有此种分散组合物的聚合性组合物成为曝光工序中的遮光性优异的组合物，且未曝光部的碱显影性提高。
另外，通过高分子化合物(B1)包括具有酸基的结构单元，而存在高分子化合物(B1)变得容易与溶剂(C)相溶，涂布性也提高的倾向。推测其原因在于：具有酸基的结构单元中的酸基容易与作为黑色着色剂(A)的钛黑相互作用，高分子化合物(B1)将钛黑稳定地分散，并且分散钛黑的高分子化合物(B1)的粘度通过上述具有聚酯结构的接枝链而降低，高分子化合物(B1)自身也容易稳定地分散。
其中，具有作为酸基的碱可溶性基的结构单元可为与上述具有接枝链的结构单元相同的结构单元，也可为不同的结构单元，但具有作为酸基的碱可溶性基的结构单元是与上述疏水性结构单元不同的结构单元(即，不相当于上述疏水性结构单元)。
作为可与钛黑形成相互作用的官能基的酸基例如有：羧酸基、磺酸基、磷酸基、酚性羟基等，优选为羧酸基、磺酸基、磷酸基中的至少一种，特别优选为对钛黑粒子的吸附力良好，且其分散性高的羧酸基。即，高分子化合物(B1)优选为还包括具有羧酸基、磺酸基、以及磷酸基中的至少一种的结构单元。
高分子化合物(B1)可包括一种或者两种以上具有酸基的结构单元。高分子化合物(B1)可含有具有酸基的结构单元，也可不含该具有酸基的结构单元，在含有该具有酸基的结构单元的情况下，具有酸基的结构单元的含量以质量换算计，相对于高分子化合物(B1)的总质量，优选为5％以上、80％以下，就抑制由后述碱显影所引起的图像强度的损伤的观点而言，更优选为10％以上、60％以下。
作为可与钛黑形成相互作用的官能基的碱性基例如有1级氨基、2级氨基、3级氨基、包含N原子的杂环、酰胺基等，特别优选为对钛黑的吸附力良好、且其分散性高的3级氨基。高分子化合物(B1)可具有一种或者一种以上的这些碱性基。
高分子化合物(B1)可含有具有碱性基的结构单元，也可不含该具有碱性基的结构单元，在含有该具有碱性基的结构单元的情况下，具有碱性基的结构单元的含量以质量换算计，相对于高分子化合物(B1)的总质量，优选为0.01％以上、50％以下，就抑制显影性阻碍的观点而言，更优选为0.01％以上、30％以下。
作为可与钛黑形成相互作用的官能基的配位性基、以及具有反应性的官能基例如可列举：乙酰基乙酰氧基、三烷氧基硅烷基、异氰酸酯基、酸酐、酰氯化物等。特别优选为对钛黑的吸附力良好且分散性高的乙酰基乙酰氧基。高分子化合物(B1)可具有一种或者一种以上的这些基团。
高分子化合物(B1)可含有具有配位性基的结构单元、或者包含具有反应性的官能基的结构单元，也可不含上述结构单元，在含有上述结构单元的情况下，这些结构单元的含量以质量换算计，相对于高分子化合物(B1)的总质量，优选为10％以上、80％以下，就抑制显影性阻碍的观点而言，更优选为20％以上、60％以下。
在高分子化合物(B1)除了具有接枝链以外，还具有可与钛黑形成相互作用的官能基的情况下，只要含有如上所述的各种可与钛黑形成相互作用的官能基即可，至于如何导入这些官能基，并无特别限定，高分子化合物(B1)优选为包括选自源自下述通式(iv)～vi)所表示的单体的结构单元中的一种以上结构单元。
[化8]
通式(iv)～通式(vi)中，R11、R12及R13分别独立地表示氢原子、卤素原子(例如：氟原子、氯原子、溴原子等)、或者碳原子数为1～6的烷基(例如：甲基、乙基、丙基等)。
通式(iv)～通式(vi)中，R11、R12及R13更优选为分别独立地为氢原子、或者碳原子数为1～3的烷基，最优选为分别独立地为氢原子或者甲基。通式(iv)中，R12及R13特别优选为分别为氢原子。
通式(iv)中的X1表示氧原子(-O-)或者亚氨基(-NH-)，优选为氧原子。另外，通式(v)中的Y表示次甲基或者氮原子。
另外，通式(iv)～通式(v)中的L1表示单键或者二价连结基。该二价连结基的例子可列举：二价脂肪族基(例如：亚烷基、经取代的亚烷基、亚烯基、经取代的亚烯基、亚炔基、以及经取代的亚炔基)、二价芳香族基(例如：亚芳基、以及经取代的亚芳基)、二价杂环基，以及这些基团与氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亚氨基(-NH-)、经取代的亚氨基键(-NR31'-，此处R31'为脂肪族基、芳香族基或者杂环基)或者羰基键(-CO-)中的一种以上的组合等。
上述二价脂肪族基可具有环状结构或者分支结构。上述脂肪族基的碳原子数优选为1～20，更优选为1～15，尤其优选为1～10。脂肪族基是饱和脂肪族基优于不饱和脂肪族基。另外，脂肪族基可具有取代基。取代基的例子可列举：卤素原子、羟基、芳香族基以及杂环基。
上述二价芳香族基的碳原子数优选为6～20，尤其优选为6～15，最优选为6～10。另外，上述芳香族基可具有取代基。取代基的例子可列举：卤素原子、羟基、脂肪族基、芳香族基以及杂环基。
上述二价杂环基优选为具有5员环或者6员环作为杂环。也可在杂环上缩合其他杂环、脂肪族环或者芳香族环中的一种以上。另外，杂环基可具有取代基。取代基的例子可列举：卤素原子、羟基、侧氧基(＝O)、硫酮基(＝S)、亚氨基(＝NH)、经取代的亚氨基(＝N-R32，此处R32为脂肪族基、芳香族基或者杂环基)、脂肪族基、芳香族基以及杂环基。
L1优选为单键、亚烷基或者包含氧亚烷基结构的二价连结基。氧亚烷基结构更优选为氧亚乙基结构或者氧亚丙基结构。另外，L可包括重复包含两个以上氧亚烷基结构的聚氧亚烷基结构。聚氧亚烷基结构优选为聚氧亚乙基结构或者聚氧亚丙基结构。聚氧亚乙基结构是由-(OCH2CH2)n-所表示，n优选为2以上的整数，更优选为2～10的整数。
通式(iv)～通式(vi)中，Z1表示除了接枝部位以外可与钛黑粒子形成相互作用的官能基，优选为羧酸基、三级氨基，更优选为羧酸基。
通式(vi)中，R14、R15及R16分别独立地表示氢原子、卤素原子(例如：氟、氯、溴等)、碳原子数为1～6的烷基(例如：甲基、乙基、丙基等)、-Z1、或者-L1-Z1。此处L1及Z1与上述的L1及Z1含义相同，优选例也相同。R14、R15及R16分别独立地优选为氢原子、或者碳数为1～3的烷基，更优选为氢原子。
本发明中，通式(iv)所表示的单体优选为：R11、R12及R13分别独立地为氢原子或者甲基，L1为亚烷基或者包含氧亚烷基结构的二价连结基，X为氧原子或者亚氨基，且Z为羧酸基的化合物。
另外，通式(v)所表示的单体优选为：R11为氢原子或者甲基，L1为亚烷基，Z1为羧酸基，且Y为次甲基的化合物。
进而，通式(vi)所表示的单体优选为：R14、R15及R16分别独立地为氢原子或者甲基，L为单键或者亚烷基，且Z为羧酸基的化合物。
以下示出通式(iv)～通式(vi)所表示的单体(化合物)的代表例。该单体的例子可列举：甲基丙烯酸、丁烯酸、异丁烯酸、分子内具有加成聚合性双键及羟基的化合物(例如：甲基丙烯酸2-羟基乙酯)与丁二酸酐的反应物、分子内具有加成聚合性双键及羟基的化合物与邻苯二甲酸酐的反应物、分子内具有加成聚合性双键及羟基的化合物与四羟基邻苯二甲酸酐的反应物、分子内具有加成聚合性双键及羟基的化合物与偏苯三甲酸酐的反应物、分子内具有加成聚合性双键及羟基的化合物与均苯四甲酸酐的反应物、丙烯酸、丙烯酸二聚物、丙烯酸低聚物、顺丁烯二酸、衣康酸、反丁烯二酸、4-乙烯基苯甲酸、乙烯基苯酚、4-羟基苯基甲基丙烯酰胺等。
就与钛黑的相互作用、分散稳定性、以及对显影液的渗透性的观点而言，相对于高分子化合物(B)的总质量，可与钛黑形成相互作用的官能基的含量优选为0.05质量％～90质量％，更优选为1.0质量％～80质量％，尤其优选为10质量％～70质量％。
进而，出于提高图像强度等诸性能的目的，只要不损及本发明的效果，则高分子化合物(B1)可还包括与具有接枝链的结构单元、疏水性结构单元、以及具有可与钛黑粒子形成相互作用的官能基的结构单元不同的具有各种功能的其他结构单元(例如：包含与分散物中使用的分散介质具有亲和性的官能基等的结构单元)。
此种其他结构单元例如可列举由选自丙烯腈类、甲基丙烯腈类等中的自由基聚合性化合物而来的结构单元。
高分子化合物(B1)可使用一种或者两种以上的这些其他结构单元，其含量以质量换算计，相对于高分子化合物(B1)的总质量，优选为0％以上、80％以下，特别优选为10％以上、60％以下。若含量为上述范围，则可维持充分的图案形成性。
高分子化合物(B1)的酸值优选为0mgKOH/g以上、160mgKOH/g以下的范围，更优选为10mgKOH/g以上、140mgKOH/g以下的范围，尤其优选为20mgKOH/g以上、120mgKOH/g以下的范围。
若高分子化合物(B1)的酸值为160mgKOH/g以下，则可更有效地抑制在形成遮光层11时的后述显影时的图案剥离。另外，若高分子化合物(B1)的酸值为10mgKOH/g以上，则后述碱显影性变得更良好。另外，若高分子化合物(B1)的酸值为20mgKOH/g以上，则更能够抑制钛黑、或包含钛黑以及Si原子的被分散体的沉降，更能够减少粗大粒子数，且更能够提高分散组合物以及聚合性组合物的经时稳定性。
本发明中，高分子化合物(B1)的酸值例如可根据高分子化合物(B1)中的酸基的平均含量来算出。另外，通过使作为高分子化合物(B1)的构成成分的含有酸基的结构单元的含量变化，可获得具有所需酸值的树脂。
形成遮光层11时，就显影时的图案剥离抑制以及显影性的观点而言，本发明中的高分子化合物(B1)的重量平均分子量以利用凝胶渗透色谱(Gel Permeation Chromatography，GPC)法的聚苯乙烯换算值计，优选为4,000以上、300,000以下，更优选为5,000以上、200,000以下，尤其优选为6,000以上、100,000以下，特别优选为10,000以上、50,000以下。
GPC法基于如下方法：使用HLC-8020GPC(东曹(股)制造)，使用TSKgel SuperHZM-H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ2000(东曹(股)制造，4.6mmID×15cm)作为管柱，且使用四氢呋喃(tetrahydrofuran，THF)作为溶析液。
高分子化合物(B1)可基于公知的方法来合成，合成高分子化合物(B)时所使用的溶剂例如可列举：二氯乙烷、环己酮、甲基乙基酮、丙酮、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单***、乙酸2-甲氧基乙酯、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸1-甲氧基-2-丙酯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。这些溶剂可单独使用，也可将两种以上混合使用。
高分子化合物(B1)的具体例可列举：毕克化学(BYK Chemie)公司制造的“迪斯帕毕克(Disperbyk)-161、162、163、164、165、166、170(商品名，高分子共聚物)”、埃夫卡(EFKA)公司制造的“埃夫卡(EFKA)4047、4050、4010、4165(商品名，聚氨基甲酸酯系)、埃夫卡(EFKA)4330、4340(商品名，嵌段共聚物)等。这些高分子化合物(B)可单独使用，也可将两种以上组合使用。
以下，示出高分子化合物(B1)的具体例，但并不限定于这些具体例。此外，下述例示化合物中，一并记载于各结构单元中的数值(一并记载于主链重复单元中的数值)表示该结构单元的含量[记载为质量％：(wt％)]。一并记载于侧链的重复部位的数值表示该重复部位的重复数。
[化9]
[化10]
[化11]
相对于分散组合物的全部固体成分质量，分散组合物中的高分子化合物(B1)的含量优选为1质量％～90质量％，更优选为3质量％～70质量％。另外，相对于聚合性组合物的全部固体成分质量，聚合性组合物中的高分子化合物(B1)的含量优选为0.1质量％～50质量％，更优选为0.5质量％～30质量％。
＜(B2)与高分子化合物(B1)不同的树脂＞
分散组合物、以及聚合性组合物可含有与高分子化合物(B1)不同的高分子化合物(B2)(即，不相当于高分子化合物(B1)的高分子化合物)。高分子化合物(B2)的重量平均分子量的优选范围与高分子化合物(B1)中所说明的范围相同。
高分子化合物(B2)的具体例可列举：毕克化学公司制造的“迪斯帕毕克(Disperbyk)-101(商品名，聚酰胺胺磷酸盐)、迪斯帕毕克(Disperbyk)-107(商品名，羧酸酯)、迪斯帕毕克(Disperbyk)-110(商品名，包含酸基的共聚物)、迪斯帕毕克(Disperbyk)-130(商品名，聚酰胺)、迪斯帕毕克(Disperbyk)-180(商品名，高分子共聚物)”、“毕克(BYK)-P104、毕克(BYK)-P105(商品名，高分子量不饱和多羧酸)、埃夫卡公司制造的“埃夫卡(EFKA)4400、埃夫卡(EFKA)4402(商品名，改性聚丙烯酸酯)、埃夫卡(EFKA)5010(聚酯酰胺)、埃夫卡(EFKA)5765(商品名，高分子量多羧酸盐)、埃夫卡(EFKA)6220(商品名，脂肪酸聚酯)、埃夫卡(EFKA)6745(商品名，酞菁衍生物)、埃夫卡(EFKA)6750(商品名，偶氮颜料衍生物)”、味之素精密技术(Ajinomoto Fine-Techno)(股)制造的“阿吉斯帕(Ajisper)PB821、阿吉斯帕(Ajisper)PB822”、共荣社化学(股)制造的“弗洛兰(Flowlen)TG-710(氨基甲酸酯低聚物)”、“波利弗洛(Polyflow)No.50E、波利弗洛(Polyflow)No.300(商品名，丙烯酸系共聚物)”、楠本化成(股)制造的“迪斯帕龙(Disparlon)KS-860、迪斯帕龙(Disparlon)873SN、迪斯帕龙(Disparlon)874、迪斯帕龙(Disparlon)#2150(商品名，脂肪族多元羧酸)、迪斯帕龙(Disparlon)#7004(聚醚酯)、迪斯帕龙(Disparlon)DA-703-50、迪斯帕龙(Disparlon)DA-705、迪斯帕龙(Disparlon)DA-725”、花王(股)制造的“德莫耳(Demol)RN、德莫耳(Demol)N(商品名，萘磺酸***聚缩合物)、德莫耳(Demol)MS、德莫耳(Demol)C、德莫耳(Demol)SN-B(商品名，芳香族磺酸***聚缩合物)”、“火莫格诺(Homogenol)L-18(商品名，高分子多羧酸)”、“艾马尔根(Emulgen)920、艾马尔根(Emulgen)930、艾马尔根(Emulgen)935、艾马尔根(Emulgen)985(商品名，聚氧乙烯壬基苯基醚)”、“阿塞他命(Acetamin)86(硬脂基胺乙酸酯)”、路博润(Lubrizol)公司制造的“索斯帕斯(Solsperse)5000(酞菁衍生物)、索斯帕斯(Solsperse)22000(商品名，偶氮颜料衍生物)、索斯帕斯(Solsperse)13240(聚酯胺)、索斯帕斯(Solsperse)3000、索斯帕斯(Solsperse)17000、索斯帕斯(Solsperse)27000(商品名，在末端部具有功能部的高分子)、索斯帕斯(Solsperse)24000、索斯帕斯(Solsperse)28000、索斯帕斯(Solsperse)32000、索斯帕斯(Solsperse)38500(接枝型高分子)”、日光化学者制造的“尼克尔(Nikkol)T106(聚氧乙烯山梨糖醇酐单油酸酯)、尼克尔(Nikkol)MYS-IEX(商品名，聚氧乙烯单硬脂酸酯)”等。另外，也可列举川研精细化学(Kawaken Fine Chemicals)(股)制造的西诺艾特(Hinoact)T-8000E等两性分散剂。
分散组合物可含有高分子化合物(B2)，也可不含该高分子化合物(B2)，在含有该高分子化合物(B2)的情况下，相对于分散组合物的全部固体成分质量，高分子化合物(B2)的含量优选为0.5质量％～30质量％，更优选为1质量％～20质量％。另外，本发明的聚合性组合物可含有高分子化合物(B2)，也可不含该高分子化合物(B2)，在含有该高分子化合物(B2)的情况下，相对于聚合性组合物的全部固体成分质量，高分子化合物(B2)的含量优选为0.1质量％～50质量％，更优选为0.5质量％～30质量％。
＜(C)溶剂＞
本发明的分散组合物、以及聚合性组合物含有(C)溶剂。(C)溶剂优选为有机溶剂。
有机溶剂的例子例如可列举：丙酮、甲基乙基酮、环己烷、乙酸乙酯、二氯乙烷、四氢呋喃、甲苯、乙二醇单甲醚、乙二醇单***、乙二醇二甲醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单***、乙酰基丙酮、环己酮、二丙酮醇、乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇***乙酸酯、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚乙酸酯、3-甲氧基丙醇、甲氧基甲氧基乙醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单***、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二***、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单***乙酸酯、3-甲氧基丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、γ-丁内酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等，但并不限定于这些化合物。
溶剂可单独使用一种，也可将两种以上组合使用。在将溶剂组合两种以上来使用的情况下，特别优选为包含选自上述3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚、以及丙二醇甲醚乙酸酯中的两种以上。
相对于分散组合物的总量，分散组合物中所含的(C)溶剂的量优选为10质量％～80质量％，更优选为20质量％～70质量％，尤其优选为30质量％～65质量％。另外，相对于聚合性组合物的总量，聚合性组合物中所含的(C)溶剂的量优选为10质量％～90质量％，更优选为20质量％～80质量％，尤其优选为25质量％～75质量％。
＜(D)聚合性化合物＞
如上所述，聚合性组合物含有(D)聚合性化合物。(D)聚合性化合物优选为具有至少一个可加成聚合的乙烯性不饱和基且沸点在常压下为100℃以上的化合物。
具有至少一个可加成聚合的乙烯性不饱和基且沸点在常压下为100℃以上的化合物例如可列举：聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等单官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、甘油或三羟甲基乙烷等在多官能醇中加成环氧乙烷或环氧丙烷后进行(甲基)丙烯酸酯化而得的化合物，季戊四醇或者二季戊四醇的经聚(甲基)丙烯酸酯化而得的化合物，日本专利特公昭48-41708号、日本专利特公昭50-6034号、日本专利特开昭51-37193号的各公报中记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类，日本专利特开昭48-64183号、日本专利特公昭49-43191号、日本专利特公昭52-30490号的各公报中记载的聚酯丙烯酸酯类，作为环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应产物的环氧丙烯酸酯类等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。进而，也可使用日本粘接协会会刊第20卷第7期第300页～第308页中作为光硬化性单体以及低聚物来介绍的化合物。
另外，也可使用日本专利特开平10-62986号公报中作为通式(1)以及通式(2)而与其具体例一起记载的化合物，该化合物是在上述多官能醇中加成环氧乙烷或环氧丙烷后进行(甲基)丙烯酸酯化而得。
其中，优选为二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、以及这些化合物的丙烯酰基经由乙二醇、丙二醇残基而与二季戊四醇连结的结构。也可使用这些化合物的低聚物类型。
另外，如日本专利特公昭48-41708号、日本专利特开昭51-37193号、日本专利特公平2-32293号、以及日本专利特公平2-16765号的各公报中记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类，或日本专利特公昭58-49860号、日本专利特公昭56-17654号、日本专利特公昭62-39417号、以及日本专利特公昭62-39418号的各公报所记载的具有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸酯化合物类也适宜。进而，通过使用日本专利特开昭63-277653号、日本专利特开昭63-260909号、以及日本专利特开平1-105238号的各公报中记载的分子内具有氨基结构或硫醚结构的加成聚合性化合物类，可获得感光速度非常优异的光聚合性组合物。市售品可列举：氨基甲酸酯低聚物UAS-10、UAB-140(商品名，日本制纸化学(股)制造)、UA-7200”(新中村化学工业(股)制造，DPHA-40H(商品名，日本化药(股)制造)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(商品名，共荣社化学(股)制造)等。
另外，具有酸基的乙烯性不饱和化合物类也适宜，市售品例如可列举：东亚合成股份有限公司制造的含羧基的3官能丙烯酸酯TO-756、以及含羧基的5官能丙烯酸酯TO-1382等。本发明中使用的聚合性化合物更优选为4官能以上的丙烯酸酯化合物。
(D)聚合性化合物可单独使用一种，也可将两种以上组合使用。在将两种以上的聚合性化合物组合使用的情况下，其组合态样可根据对聚合性组合物所要求的物性等来适当设定。聚合性化合物的优选组合态样之一例如可列举将选自上述多官能的丙烯酸酯化合物中的两种以上聚合性化合物加以组合的态样，其一例可列举二季戊四醇六丙烯酸酯以及季戊四醇三丙烯酸酯的组合。
相对于聚合性组合物的全部固体成分，本发明的聚合性组合物中的(D)聚合性化合物的含量优选为3质量％～55质量％，更优选为10质量％～50质量％。
＜(E)聚合引发剂＞
如上所述，聚合性组合物含有(E)聚合引发剂(优选为光聚合引发剂)。(E)聚合引发剂是通过光或热而分解，来引发、促进上述(D)聚合性化合物的聚合的化合物，优选为对波长300nm～500nm区域的光具有吸收的化合物。
(E)聚合引发剂的具体例可列举：有机卤化化合物、氧二唑(oxydiazole)化合物、羰基化合物、缩酮(ketal)化合物、安息香(benzoin)化合物、有机过氧化化合物、偶氮(azo)化合物、香豆素(coumarin)化合物、叠氮(azide)化合物、二茂金属(metallocene)化合物、有机硼酸化合物、二磺酸化合物、肟(oxime)化合物(特别是肟酯(oxime ester)化合物)、鎓(onium)盐化合物、酰基膦(氧化物)化合物。更具体的例子例如可列举日本专利特开2006-78749号公报的段落编号[0081]～段落编号[0100]、段落编号[0101]～段落编号[0139]等中记载的聚合引发剂。上述聚合引发剂中，就可使所得图案的形状良化的观点而言，更优选为肟化合物(特别是肟酯化合物)。肟化合物优选为汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)制造的易璐佳(IRGACURE)OXE01以及OXE02。OXE01与OXE02获得同样的效果。
聚合性组合物的全部固体成分中，聚合性组合物中的(E)聚合引发剂的含量优选为0.1质量％～30质量％，更优选为1质量％～25质量％，尤其优选为2质量％～20质量％。
[(F)其他添加剂]
聚合性组合物中，除了本发明的分散组合物、(D)聚合性化合物、以及(E)聚合引发剂以外，可根据目的来使用多种添加剂。
(F-1)粘合剂聚合物
聚合性组合物中，出于提高皮膜特性等目的，可视需要而更包含(F-1)粘合剂聚合物。(F-1)粘合剂聚合物优选为使用线状有机聚合物。此种“线状有机聚合物”可任意地使用公知的化合物。优选为，为了可进行水显影或者弱碱水显影，而选择对水或者弱碱水为可溶性或者膨润性的线状有机聚合物。线状有机聚合物不仅作为皮膜形成剂，并且可根据包含水、弱碱水、或者有机溶剂的显影液(显影剂)来选择使用。
例如，若使用水可溶性有机聚合物，则可进行水显影。此种线状有机聚合物的例子可列举侧链上具有羧酸基的自由基聚合物，例如日本专利特开昭59-44615号、日本专利特公昭54-34327号、日本专利特公昭58-12577号、日本专利特公昭54-25957号、日本专利特开昭54-92723号、日本专利特开昭59-53836号、日本专利特开昭59-71048号中记载的化合物，即，使具有羧基的单体进行均聚合或者共聚合而得的树脂、使具有酸酐的单体进行均聚合或者共聚合且使酸酐单元水解或者半酯化或者半酰胺化而得的树脂、利用不饱和单羧酸以及酸酐使环氧树脂改性而得的环氧丙烯酸酯等。具有羧基的单体的例子可列举：丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、顺丁烯二酸、反丁烯二酸、4-羧基苯乙烯等，具有酸酐的单体的例子可列举顺丁烯二酸酐等。另外，也可列举同样在侧链上具有羧酸基的酸性纤维素衍生物为例。除此以外，在具有羟基的聚合物中加成环状酸酐而得的化合物等有用。
另外，日本专利特公平7-12004号、日本专利特公平7-120041号、日本专利特公平7-120042号、日本专利特公平8-12424号、日本专利特开昭63-287944号、日本专利特开昭63-287947号、日本专利特开平1-271741号、日本专利特愿平10-116232号等中记载的含有酸基的氨基甲酸酯系粘合剂聚合物由于强度非常优异，因此在低曝光适应性的方面有利。
另外，欧洲专利第993966号、欧洲专利第1204000号、日本专利特开2001-318463号等各公报中记载的具有酸基的缩醛改性聚乙烯基醇系粘合剂聚合物由于膜强度、显影性的平衡优异而优选。进而，除此以外，作为水溶性线状有机聚合物，聚乙烯基吡咯烷酮或聚环氧乙烷等有用。另外，为了提高硬化皮膜的强度，醇可溶性尼龙或2,2-双-(4-羟基苯基)-丙烷与表氯醇的聚醚等也有用。
尤其是这些化合物中，[(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/视需要的其他加成聚合性乙烯基系单体]共聚物、以及[(甲基)丙烯酸烯丙酯/(甲基)丙烯酸/视需要的其他加成聚合性乙烯基系单体]共聚物由于膜强度、感度、显影性的平衡优异，故而优选。
就显影时的图案剥离抑制及显影性的观点而言，聚合性组合物中使用的(F-1)粘合剂聚合物的重量平均分子量优选为1,000～300,000，更优选为1,500～250,000，进而优选为2,000～200,000，特别优选为2,500～100,000。(F-1)粘合剂聚合物的数平均分子量优选为1000以上，尤其优选为1500～25万的范围。(F-1)粘合剂聚合物的多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)优选为1以上，进而优选为1.1～10的范围。此处，(F-1)粘合剂聚合物的重量平均分子量例如可通过GPC来测定。
这些(F-1)粘合剂聚合物可为无规聚合物、嵌段聚合物、接枝聚合物等任一种。
本发明中可使用的(F-1)粘合剂聚合物可利用之前公知的方法来合成。合成时所使用的溶剂例如可列举：四氢呋喃、二氯乙烷、环己酮等。这些溶剂可单独使用或者将两种以上混合使用。另外，合成(F-1)粘合剂聚合物时所使用的自由基聚合引发剂可列举偶氮系引发剂、过氧化物引发剂等公知的化合物。
本发明中，通过使用侧链上具有双键的碱可溶性树脂作为(F-1)粘合剂聚合物，尤其可提高曝光部的硬化性与未曝光部的碱显影性这两者。侧链上具有双键的碱可溶性树脂通过在其结构中具有用以使树脂成为碱可溶的酸基、及至少一个不饱和双键，而提高非图像部去除性等诸性能。具有此种结构的树脂详细记载于日本专利特开2003-262958号公报中，可使用其中记载的树脂作为本发明中的粘合剂聚合物。
另外，可使用卡多树脂(cardo resin)作为(F-1)粘合剂聚合物，优选为选自由环氧树脂、聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、丙烯酸树脂、聚醚树脂、聚酰胺树脂、聚脲树脂、以及聚酰亚胺树脂所组成的组群中，且具有芴骨架的卡多树脂。此处，所谓卡多树脂，是指分子内具有卡多结构(在构成环状结构的4级碳原子上键结有两个环状结构的骨架结构)的树脂。更具体而言，可使用日本专利特开2011-170334号公报的[0046]～[0057]中记载的化合物。
相对于组合物的全部固体成分中，聚合性组合物中的粘合剂聚合物的含量优选为0.1质量％～25质量％，就兼顾遮光层11的剥落抑制与显影残渣抑制的观点而言，更优选为0.3质量％～20质量％，尤其优选为1.0质量％～15质量％。
(F-2)着色剂
聚合性组合物中，为了表现出所需的遮光性，可将公知的有机颜料或染料等无机颜料以外的(F-2)着色剂并用。
作为可并用的(F-2)着色剂，有机颜料中，例如可列举：日本专利特开2008-224982号公报段落编号[0030]～段落编号[0044]中记载的颜料，或将C.I.颜料绿58、C.I.颜料蓝79的Cl取代基变更为OH而得的颜料等，这些颜料中，可优选使用的颜料可列举以下颜料。但，本发明中可应用的(F-2)着色剂并不限定于这些颜料。
C.I.颜料黄11、24、108、109、110、138、139、150、151、154、167、180、185；
C.I.颜料橙36、38、62、64；
C.I.颜料红122、150、171、175、177、209、224、242、254、255；
C.I.颜料紫19、23、29、32；
C.I.颜料蓝15：1、15：3、15：6、16、22、60、66；
C.I.颜料绿7、36、37、58；
C.I.颜料黑1。
另外，可作为(F-2)着色剂来使用的染料的例子并无特别限制，可适当选择公知的染料来使用。例如可列举以下公报中记载的色素：日本专利特开昭64-90403号公报、日本专利特开昭64-91102号公报、日本专利特开平1-94301号公报、日本专利特开平6-11614号公报、日本专利特登2592207号、美国专利第4,808,501号说明书、美国专利第5,667,920号说明书、美国专利第5,059,500号说明书、日本专利特开平5-333207号公报、日本专利特开平6-35183号公报、日本专利特开平6-51115号公报、日本专利特开平6-194828号公报、日本专利特开平8-211599号公报、日本专利特开平4-249549号公报、日本专利特开平10-123316号公报、日本专利特开平11-302283号公报、日本专利特开平7-286107号公报、日本专利特开2001-4823号公报、日本专利特开平8-15522号公报、日本专利特开平8-29771号公报、日本专利特开平8-146215号公报、日本专利特开平11-343437号公报、日本专利特开平8-62416号公报、日本专利特开2002-14220号公报、日本专利特开2002-14221号公报、日本专利特开2002-14222号公报、日本专利特开2002-14223号公报、日本专利特开平8-302224号公报、日本专利特开平8-73758号公报、日本专利特开平8-179120号公报、日本专利特开平8-151531号公报等。
染料所具有的化学结构可列举：吡唑偶氮(pyrazole azo)系、苯胺基偶氮(anilinoazo)系、三苯基甲烷(triphenylmethane)系、蒽醌(anthraquinone)系、蒽吡啶酮(anthrapyridone)系、亚苄基(benzylidene)系、氧杂菁(oxonol)系、吡唑并***偶氮(pyrazolotriazole azo)系、吡啶酮偶氮(pyridone azo)系、花青(cyanine)系、吩噻嗪(phenothiazine)系、吡咯并吡唑偶氮次甲基(pyrropyrazole azomethine)系、呫吨(xanthene)系、酞菁系、苯并吡喃(benzopyran)系、靛蓝(indigo)系、吡咯亚甲基(pyrromethene)系等化学结构。
作为聚合性组合物中的(F-2)着色剂，在与该组合物必须含有的钛黑粒子加以组合的情况下，就可兼具硬化性与遮光性的观点而言，优选为选自由橙色颜料、红色颜料、以及紫色颜料所组成的组群中的一种以上的有机颜料，最优选为与红色颜料的组合。
橙色颜料、红色颜料、以及紫色颜料例如只要根据作为目标的遮光性来适当选择属于上述所例示的“C.I.颜料橙”、“C.I.颜料红”、“C.I.颜料紫”的各种颜料即可。就遮光性提高的观点而言，优选为C.I.颜料紫29，C.I.颜料橙36、38、62、64，C.I.颜料红177、254、255等。
(F-3)增感剂
聚合性组合物中，出于提高(E)聚合引发剂的自由基产生效率、感光波长的长波长化的目的，也可含有(F-3)增感剂。(F-3)增感剂优选为利用电子移动机制或者能量移动机制，使所使用的(E)聚合引发剂增感的化合物。(F-3)增感剂的优选例可列举日本专利特开2008-214395号公报的段落编号[0085]～段落编号[0098]中记载的化合物。
就感度及保存稳定性的观点而言，相对于聚合性组合物的全部固体成分，(F-3)增感剂的含量优选为0.1质量％～30质量％的范围内，更优选为1质量％～20质量％的范围内，尤其优选为2质量％～15质量％的范围内。
(F-4)聚合抑制剂
本发明的聚合性组合物中，为了在该组合物的制造中或者保存中，阻止聚合性化合物的不需要的热聚合，较理想为添加少量的(F-4)聚合抑制剂。(F-4)聚合抑制剂可使用公知的热聚合防止剂，具体而言可列举：对苯二酚(hydroquinone)、对甲氧基苯酚、二-第三丁基-对甲酚、邻苯三酚(pyrogallol)、第三丁基邻苯二酚(t-butyl catechol)、苯醌(benzoquinone)、4,4'-硫代双(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亚甲基双(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、N-亚硝基苯基羟基胺亚铈盐等。相对于聚合性组合物的全部固体成分，(F-4)热聚合防止剂的含量优选为约0.01质量％～约5质量％。
另外，视需要为了防止由氧引起的聚合阻碍，也可添加如山萮酸或山萮酸酰胺之类的高级脂肪酸衍生物等，在涂布后的干燥的过程中使高级脂肪酸衍生物等偏在于涂布膜的表面。高级脂肪酸衍生物的添加量优选为全部组合物的约0.5质量％～约10质量％。
(F-5)密接提高剂
聚合性组合物中，为了提高与支持体等的硬质表面的密接性，可添加(F-5)密接提高剂。(F-5)密接提高剂可列举硅烷系偶合剂、钛偶合剂等。
硅烷系偶合剂优选为：γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷，优选为可列举：γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷。
聚合性组合物的全部固体成分中，(F-5)密接提高剂的含量优选为0.5质量％30质量％，更优选为0.7质量％～20质量％。
此外，在应用聚合性组合物而形成有遮光层11的基板本体5为玻璃制的情况下，就感度提高的观点而言，优选为添加(F-5)密接提高剂。
(F-6)表面活性剂
聚合性组合物中，就进一步提高涂布性的观点而言，可添加各种表面活性剂。表面活性剂可使用：氟系表面活性剂、非离子系表面活性剂、阳离子系表面活性剂、阴离子系表面活性剂、硅酮系表面活性剂等各种表面活性剂。
尤其是聚合性组合物通过含有氟系表面活性剂，制备成涂布液时的液特性(特别是流动性)进一步提高，因此更能够改善涂布厚度的均匀性或省液性。即，在使用应用了含有氟系表面活性剂的聚合性组合物的涂布液来形成膜的情况下，通过使被涂布面与涂布液的界面张力下降，对被涂布面的润湿性得到改善，对被涂布面的涂布性提高。因此，在如下方面有效：即便是以少量的液量来形成数微米(μm)程度的薄膜的情况，也可更适宜形成厚度不均小的均匀厚度的膜。
氟系表面活性剂中的氟含有率优选为3质量％～40质量％，更优选为5质量％～30质量％，特别优选为7质量％～25质量％。氟含有率在该范围内的氟系表面活性剂在涂布膜的厚度的均匀性或省液性的方面有效，聚合性组合物中的溶解性也良好。
氟系表面活性剂例如可列举：美佳法(Megafac)F171、美佳法(Megafac)F172、美佳法(Megafac)F173、美佳法(Megafac)F176、美佳法(Megafac)F177、美佳法(Megafac)F141、美佳法(Megafac)F142、美佳法(Megafac)F143、美佳法(Megafac)F144、美佳法(Megafac)R30、美佳法(Megafac)F437、美佳法(Megafac)F475、美佳法(Megafac)F479、美佳法(Megafac)F482、美佳法(Megafac)F554、美佳法(Megafac)F780、美佳法(Megafac)F781(以上由迪爱生(DIC)(股)制造)、弗洛德(Fluorad)FC430、弗洛德(Fluorad)FC431、弗洛德(Fluorad)FC171(以上由住友3M(股)制造)、沙福隆(Surflon)S-382、沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)SC-103、沙福隆(Surflon)SC-104、沙福隆(Surflon)SC-105、沙福隆(Surflon)SC1068、沙福隆(Surflon)SC-381、沙福隆(Surflon)SC-383、沙福隆(Surflon)S393、沙福隆(Surflon)KH-40(以上由旭硝子(股)制造)等。
非离子系表面活性剂具体而言可列举：甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷以及它们的乙氧化物以及丙氧化物(例如：甘油丙氧化物、甘油乙氧化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、山梨糖醇酐脂肪酸酯(巴斯夫(BASF)公司制造的普罗尼克(Pluronic)L10、普罗尼克(Pluronic)L31、普罗尼克(Pluronic)L61、普罗尼克(Pluronic)L62、普罗尼克(Pluronic)10R5、普罗尼克(Pluronic)17R2、普罗尼克(Pluronic)25R2、泰特罗尼克(Tetronic)304、泰特罗尼克(Tetronic)701、泰特罗尼克(Tetronic)704、泰特罗尼克(Tetronic)901、泰特罗尼克(Tetronic)904、泰特罗尼克(Tetronic)150R1，索斯帕斯(Solsperse)20000(日本路博润(股)制造)等。
阳离子系表面活性剂具体而言可列举：酞菁衍生物(商品名：埃夫卡(EFKA)-745，森下产业(股)制造)、有机硅氧烷聚合物KP341(信越化学工业(股)制造)、(甲基)丙烯酸系(共)聚合物波利弗洛(Polyflow)No.75、波利弗洛(Polyflow)No.90、波利弗洛(Polyflow)No.95(共荣社化学(股))、W001(裕商(股)制造)等。
阴离子系表面活性剂具体而言可列举：W004、W005、W017(裕商(股)公司制造)等。
硅酮系表面活性剂例如可列举：东丽道康宁(Toray Dow Corning)(股“东丽硅酮(ToraySilicone)DC3PA”、“东丽硅酮(Toray Silicone)SH7PA”、“东丽硅酮(Toray Silicone)DC11PA”、“东丽硅酮(Toray Silicone)SH21PA”、“东丽硅酮(Toray Silicone)SH28PA”、“东丽硅酮(ToraySilicone)SH29PA”、“东丽硅酮(Toray Silicone)SH30PA”、“东丽硅酮(Toray Silicone)SH8400”、迈图高新材料(Momentive Performance Materials)公司制造的“TSF-4440”、“TSF-4300”、“TSF-4445”、“TSF-4460”、“TSF-4452”、信越硅酮股份有限公司制造的“KP341”、“KF6001”、“KF6002”、毕克化学公司制造的“BYK307”、“BYK323”、“BYK330”等。
表面活性剂可仅使用一种，也可将两种以上加以组合。相对于本发明的聚合性组合物的总质量，表面活性剂的添加量优选为0.001质量％～2.0质量％，更优选为0.005质量％～1.0质量％。
(F-7)其他添加剂
进而，出于进一步提高增感色素或引发剂对放射线的感度、或者抑制由氧引起的光聚合性化合物的聚合阻碍等目的，聚合性组合物可含有共增感剂。另外，为了改良硬化皮膜的物性，也可视需要而添加稀释剂、塑化剂、感脂化剂等公知的添加剂。
＜分散组合物的制备＞
分散组合物的制备态样并无特别限制，例如可通过使用搅拌机、均质机、高压乳化装置、湿式粉碎机、湿式分散机等，将作为黑色着色剂(A)的钛黑、作为分散剂(B)的高分子化合物(B1)、以及(C)溶剂进行分散处理来制备。分散处理也可通过2次以上的分散处理(多阶段分散)来进行。
＜聚合性组合物的制备＞
对聚合性组合物的制备态样也无特别限制，例如可将分散组合物、(D)聚合性化合物、(E)聚合引发剂、以及视需要而并用的各种添加剂混合来制备。
＜遮光层＞
形成着色图案的遮光层11是使用上述聚合性组合物来形成。使用该聚合性组合物来形成的着色图案的残渣得到抑制，可使平坦性良化。遮光层11的膜厚并无特别限定，就更有效地获得本发明的效果的观点而言，以干燥后的膜厚计，优选为0.2μm以上、50μm以下，更优选为0.5μm以上、30μm以下，尤其优选为0.7μm以上、20μm以下。遮光层11的反射率(波长800nm)优选为5％以下，更优选为3％以下，尤其优选为2％以下，特别优选为1％以下。遮光层11的表面粗糙度优选为0.07μm以上，更优选为0.55μm以上，特别优选为0.55μm以上、1.5μm以下。就更有效地获得本发明的效果的观点而言，着色图案的尺寸(一边的长度)优选为0.001mm以上、5mm以下，更优选为0.05mm以上、4mm以下，尤其优选为0.1mm以上、3.5mm以下。
＜遮光层及其制造方法＞
继而，对保持基板10的制造方法进行说明。遮光层11形成使用上述聚合性组合物而成的着色图案的着色部。以下的保持基板10的制造方法包括遮光层11的形成方法。
遮光层11的形成方法包括：在基板本体5的内壁面5b涂布作为聚合性组合物的涂布液而形成作为涂布膜的聚合性组合物层的工序(以下适当简称为“聚合性组合物层形成工序”)；隔着掩模对聚合性组合物层进行曝光的工序(以下适当简称为“曝光工序”)；以及将曝光后的聚合性组合物层进行显影而形成着色图案的工序(以下适当简称为“显影工序”)。
具体而言，通过将上述聚合性组合物直接或者隔着其他层而涂布于基板本体5的内壁面5b，来形成聚合性组合物层(聚合性组合物层形成工序)，隔着规定的掩模图案进行曝光，仅使经光照射的涂布膜部分硬化(曝光工序)，利用显影液进行显影(显影工序)，从而形成图案状皮膜，制造形成有遮光层11的保持基板10。
以下，参照图4，对保持基板10的制造方法中的各工序进行说明。
[聚合性组合物层形成工序]
聚合性组合物层形成工序中，如图4的(a)、(b)所示，在基板本体5的内壁面5b涂布上述聚合性组合物51而形成聚合性组合物层52。聚合性组合物层52只要至少形成于形成有遮光层11的区域即可。在内壁面5b，视需要，为了改良与聚合性组合物层52的密接、防止物质的扩散或者使内壁面5b平坦化，也可设置底涂层。
作为对内壁面5b涂布聚合性组合物51的方法，在本实施形态以及后述的各实施形态中，利用使用喷涂机53的喷涂法。但是，可应用：旋转涂布法、狭缝涂布、喷墨法、旋转涂布、流延涂布、辊涂布、丝网印刷法等各种涂布方法来代替喷涂法。
在喷涂法的情况下，可分成2次以上或4次以上等多次来进行喷涂。在分成2次来喷射的情况下，可变更喷射的涂布压力(雾化压力)或喷射喷出部与基板本体5的距离等。
喷涂法中，可提高聚合性组合物层52的反射率，但有密接性变得不充分的情况。因此认为，喷涂法中，通过变更涂布条件，可控制构成聚合性组合物层52的聚合性组合物粒子的尺寸。因此，第1次形成聚合性组合物粒子的尺寸小的层，第2次形成聚合性组合物粒子的尺寸大的层。由此，可利用聚合性组合物粒子的尺寸小的层来确保密接性，且利用聚合性组合物粒子的尺寸大的层来达成目标反射率。即，通过形成担保密接性的聚合性组合物粒子的尺寸小的层的工序、与形成担保低反射率的聚合性组合物粒子的尺寸大的层(低反射层)的工序，可进一步达成本发明的目的。聚合性组合物粒子的尺寸虽相对，但聚合性组合物粒子的尺寸小的(小粒子)优选为喷射聚合性组合物而附着于被涂布物上且进行干燥而形成的聚合性组合物粒子的平均粒径为40μm以下，更优选为20μm以下。下限值为1μm左右。另外，聚合性组合物粒子的尺寸大的(大粒子)优选为平均粒径为50μm以上，更优选为平均粒径为70μm以上。上限值为300μm左右。此处，所谓平均粒径，是在光学显微镜照片中观察进行附着并干燥而形成的聚合性组合物粒子，根据任意20个粒子的平均值来求出。
另外，为了形成小粒子，优选为将喷涂机53的雾化压力设为150kPa以上，更优选为设为350kPa以上。上限值为700kPa左右。为了形成大粒子，优选为将喷涂机53的雾化压力设为130kPa以下，更优选为设为100kPa以下。下限值为50kPa左右。
喷涂机53中的聚合性组合物51的喷出部与基板本体5的距离为：当形成聚合性组合物粒子的尺寸大的层(低反射层)时扩大距离(距离B)，当形成聚合性组合物粒子的尺寸小的层时缩小距离(距离S)。距离B优选为距离S的1.5倍以上，更优选为2倍以上，特别优选为3倍以上。
此外，形成有聚合性组合物层的构件并不限定于保持基板，也可应用于必须抑制光的反射的构件(被涂布物)。
喷涂机53具备：涂布部57、载置有基板本体5的载置台62。载置台62具有：载置台本体62a、固定于载置台本体62a的中央的旋转轴62b、及旋转机构62c。在载置台本体62a上载置有基板本体5，自涂布部57向该基板本体5的内壁面5b供给聚合性组合物51(参照图4的(a))。并且，通过利用旋转机构62c，使旋转轴62b在圆周方向上旋转，载置台本体62a与旋转轴62b一体地旋转。利用该旋转，载置台本体62a上的基板本体5是以开口5a为旋转中心而旋转。通过在该旋转中，自涂布部57向内壁面5b供给聚合性组合物51，而遍及内壁面5b的全周来形成聚合物组合物层52(参照图4的(b))。
涂布于内壁面5b上的聚合性组合物通常在70℃以上、110℃以下且2分钟以上、4分钟以下左右的条件下进行干燥，形成聚合性组合物层52。
根据涂布部57的大小等，存在不仅在内壁面5b，而且在图4中的基板本体5的上表面或下表面也涂布有聚合性组合物的情况。此种情况下，只要在下述曝光工序中，使用如后所述将涂布于上表面或下表面上而形成的聚合性组合物层覆盖的掩模即可。
[曝光工序]
曝光工序如图4的(c)所示，对聚合性组合物层形成工序中形成的聚合性组合物层52进行曝光，使聚合性组合物层硬化。源自光源56的光所照射的照射部分52a成为遮光层11。
本实施形态中，照射用的光源56设为高压水银灯。如上所述，曝光优选为通过放射线的照射来进行，曝光时可使用的放射线特别优选为使用g射线、h射线、i射线等紫外线，更优选为高压水银灯。照射强度优选为5mJ/cm2以上、1500mJ/cm2以下，更优选为10mJ/cm2以上、1000mJ/cm2以下，最优选为10mJ/cm2以上、800mJ/cm2以下。
在如上所述使用掩模(无图示)的情况下，利用光源56，隔着掩模对聚合性组合物层52进行曝光，仅使聚合性组合物层52的经光照射的部分硬化。掩模是以使聚合性组合物层52中内壁面5b上的部分曝露的状态来覆盖。仅该曝露的部分为源自光源56的光所照射的照射部分，该照射部分成为遮光层11。
[显影工序]
在使用掩模的情况等，在内壁面5b以外的部分也形成有聚合性组合物层52的情况下，继曝光工序之后进行碱显影处理(显影工序)，使曝光工序中的非照射部分溶出于碱性的水溶液(以下称为碱性水溶液)中。由此，如图4的(d)所示，仅经光硬化的照射部分残留，在基板本体5的内壁面5b上形成遮光层11。非照射部分在碱水溶液中的溶出例如可使用市售的旋转喷淋显影机。
旋转喷淋显影机70具备：供给碱水溶液的供给部(未图示)、及载置有基板本体5的载置台72。载置台72具有：载置台本体72a、固定于载置台本体72a的中央的旋转轴72b、及旋转机构72c。在载置台本体72a上载置有基板本体5，自供给部向该聚合物组合物层52上供给碱水溶液。并且，通过利用旋转机构72c，使旋转轴72b在圆周方向上旋转，而使载置台本体72a与旋转轴72b一体地旋转，由此载置台本体72a上的基板本体5是以开口5a作为旋转中心来旋转。该旋转中，通过向聚合物组合物层52供给碱水溶液，则聚合物组合物层52中，非照射部分溶出于碱水溶液中，仅在内壁面5b上形成遮光层11(参照图4的(d))。显影液较理想为有机碱水溶液。显影温度通常为20℃以上、30℃以下，显影时间为20秒以上、90秒以下。
作为碱性水溶液，例如，无机系显影液可列举将氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、硅酸钠、偏硅酸钠，以浓度成为0.001质量％～10质量％、优选为0.01质量％～1质量％的方式溶解而得的碱性水溶液；有机碱显影液可列举将氨水、乙基胺、二乙基胺、二甲基乙醇胺、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、胆碱、吡咯、哌啶、1,8-二氮杂双环-[5,4,0]-7-十一烯等碱性化合物，以浓度成为0.001质量％～10质量％、优选为0.01质量％～1质量％的方式溶解而得的碱性水溶液。碱性水溶液中，例如也可添加适量的甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂或表面活性剂等。此外，在使用包含此种碱性水溶液的显影液的情况下，通常在显影后利用纯水进行清洗(淋洗)。
此外，遮光层11的制造方法中，在进行上述聚合性组合物层形成工序、曝光工序、以及显影工序后，也可视需要包括硬化工序，该硬化工序通过加热及/或曝光，而使所形成的遮光层11(例如：上述遮光层或黑色矩阵)硬化。在通过加热而硬化的情况下，利用纯水进行水洗后，在加热板上在200℃下进行5分钟硬化处理。
遮光层11通过上述聚合性组合物而显示出与滤波器本体6的高密接性。另外，硬化的聚合性组合物由于耐显影性优异，故而曝光感度优异，曝光部与滤波器本体6的密接性良好，且可形成赋予所需剖面形状的高分辨率的图案。
此外，聚合性组合物层52如上所述，也可利用旋转涂布法来形成。旋转涂布法为利用旋转涂布机的涂布方法，旋转涂布机81例如如图5所示，具备载置有基板本体5的载置台82、及涂布模83。载置台82具有：载置台本体82a、固定于载置台本体82a的中央的旋转轴82b、及旋转机构82c。在载置台本体82a上载置基板本体5，自涂布模83向该基板本体5上供给聚合性组合物51(参照图5的(a))。并且，通过利用旋转机构82c，使旋转轴82b在圆周方向上旋转，而使载置台本体82a与旋转轴82b一体地旋转，由此基板本体5是以开口5a为旋转中心来旋转。通过在该旋转中，自涂布模83向基板本体5的内壁面供给聚合性组合物51，而形成聚合物组合物层52(参照图5的(b))。
以下，对本发明进一步进行具体说明，但本发明只要不超越其主旨，则并不限定于以下实施例。此外，只要无特别说明，则“份”“％”为质量基准。另外，室温是指25℃。
实施例
＜特定树脂1的合成＞
向1000mL的三口烧瓶中，导入ε-己内酯600g、2-乙基-1-己醇22.8g，一边吹入氮气一边搅拌。添加单丁基氧化锡0.1g，加热至100℃。8小时后，通过气相色谱法来确认原料消失后，冷却至80℃。添加2,6-二丁基-4-甲基苯酚0.1g后，添加异氰酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯27.2g。搅拌5小时后，通过1H-核磁共振(1H-Nuclear Magnetic Resonance，1H-NMR)来确认原料消失后，冷却至室温，获得固体状的前驱物M1(下述结构)650g。通过1H-NMR、IR、质量分析来确认为M1。
[化12]
将80.0g的前驱物M1、甲基丙烯酸异丁酯20.0g、十二烷基硫醇2.3g以及丙二醇单甲醚乙酸酯233.3g导入至经氮气置换的三口烧瓶中，利用搅拌机(新东科学(股)：三合一马达(Three-One Motor))进行搅拌，一边将氮气流入烧瓶内一边加热而升温至75℃。向其中添加2,2-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)(和光纯药工业(股)制造的V-65)0.2g，在75℃下进行2小时加热搅拌。2小时后，进而添加0.2g的V-65，加热搅拌3小时后，获得以下所示的特定树脂1的30％溶液。此外，附记于特定树脂1的左侧的结构单元上的ClogP值表示与该结构单元对应的化合物(单体)中的ClogP值。特定树脂1的树脂的组成比为x＝20、y＝80，去除了氢原子的接枝链的原子数＝257，酸值＝0mgKOH/g，重量平均分子量＝22000。
[化13]
特定树脂1
＜钛黑分散物的制备＞
-钛黑A-1的制作-
秤量平均粒径15nm的氧化钛MT-150A(商品名：帝化(Tayca)(股)制造)100g、BET表面积为300m2/g的二氧化硅粒子埃罗帕(AEROPERL)(注册商标)300/30(赢创(Evonik)制造)25g、以及分散剂迪斯帕毕克(Disperbyk)190(商品名：毕克化学公司制造)100g，添加离子电***换水71g，使用仓纺(KURABO)公司制造的马泽斯达(MAZERSTAR)KK-400W，以公转转速1360rpm、自转转速1047rpm进行20分钟处理，由此获得均匀的混合物水溶液。将该水溶液填充于石英容器中，使用小型旋转窑(本山股份有限公司制造)，在氧气环境中加热至920℃后，以氮气来置换环境气体，在该温度下以100mL/min流通氨气5小时，由此实施氮化还原处理。将结束后所回收的粉末在研钵中粉碎，获得包含Si原子且粉末状的比表面积为73m2/g的钛黑A-1[包含钛黑粒子以及Si原子的被分散体]。
使用搅拌机(伊卡(IKA)公司制造的尤罗思达(EUROSTAR))，将下述组成1所示的成分混合15分钟，获得分散物a。
(组成1)
·以上述方式获得的钛黑(A-1)                 ···25份
·特定树脂1的丙二醇单甲醚乙酸酯30质量％溶液  ···25份
·丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)(溶剂)           ···50份
对所得的分散物a，使用寿工业(股)制造的超级顶端研磨机(Ultra Apex Mill)UAM015，以下述条件进行分散处理，获得钛黑分散物。
(分散条件)
·珠粒直径：φ0.05mm
·珠粒填充率：75体积％
·研磨机周速度：8m/sec
·进行分散处理的混合液量：500g
·循环流量(泵供给量)：13kg/hour
·处理液温度：25℃～30℃
·冷却水：自来水
·珠粒研磨机环状通路内的容积：0.15L
·通过次数：90次
＜聚合性组合物的制备＞
利用搅拌机，将下述组成A中的成分混合，制备聚合性组合物。
(组成A)
[化14]
化合物1
＜遮光层的形成＞
利用众所周知的喷涂法，将以上述方式制备的聚合性组合物51涂布于基板本体5的内壁面5b。然后，使用100℃的加热板进行120秒加热处理(预烘烤)，由此形成干燥膜厚为1.5μm的聚合性组合物层。继而，使用i射线步进机曝光装置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)制造)，以365nm的波长，以1000mJ/cm2的曝光量进行曝光。此外，由于聚合性组合物层52也形成于基板本体5的上表面以及下表面，故而隔着覆盖这些部分的掩模进行曝光。
然后，利用旋转喷淋显影机70，将形成有经照射的聚合性组合物层的基板本体5进行显影。所使用的旋转喷淋显影机70为化学电子(Chemitronics)(股)制造的旋转喷淋显影机(DW-30型)。在作为载置台本体72a的水平旋转台上载置基板本体5，使用四甲基氢氧化铵0.3％水溶液，在23℃下进行90秒覆液显影。由此，使聚合性组合物层52的非照射部分溶出于上述水溶液中。
继而，将基板本体5以真空夹头方式固定于上述水平旋转台上，利用旋转机构72c，以转速50rpm使其旋转，并且从其旋转中心的上方，自喷出喷嘴中喷淋状地供给纯水来进行淋洗处理，进而利用纯水进行水洗后，在加热板上在200℃下进行5分钟硬化处理。由此，制造在基板本体5的内壁面5b上形成有遮光层11的保持基板10。
[实施例1]～[实施例4]、[比较例1]、[比较例2]
使用触针式膜厚计蒂塔卡(DEKTAK)150(威科(VEECO)公司制造)来测定遮光层11的表面粗糙度。另外，以入射角度5°对遮光层11射入300nm～1300nm的红外光，利用日立高新科技制造的分光器UV4100(商品名)来测定遮光层11的反射率。
实施例1中，利用喷涂法将上述聚合性组合物涂布于内壁面5b上，将此时的涂布条件设为：扫描次数＝4次、扫描速度＝150mm/s、夹头温度(对保持基板本体5的夹头施加的温度)＝50℃、液压＝1.5bar、喷射喷嘴高度＝17cm。并且，基于内壁面5b的表面粗糙度以及反射率的测定结果，来判定评价。以下，相对于实施例1，实施例2中设为：喷射喷嘴高度＝12cm，实施例3中设为喷射喷嘴高度＝5cm。其他条件设为与实施例1相同。另外，实施例4中，将上述聚合性组合物涂布于内壁面5b上后，利用通过使基板本体5旋转而形成薄膜的旋转涂布法来形成遮光层11。将此时的旋转条件设为：第1工序：以300rpm旋转5秒，第2工序：以1000rpm旋转20秒。进而，比较例1中，不将聚合性组合物涂布于基板本体5的内壁面5b上，比较例2中，通过蒸镀将Cr(铬)涂布于基板本体5的内壁面5b上。将该实验的结果示于图6中。
作为评价结果，以A～D来进行评价。评价A为最高的评价，依序为评价B、评价C，评价D为最低的评价。评价A～评价C是作为遮光层11的遮光性能而可容许的水平，评价D是作为遮光层11的遮光性能而无法容许的水平。
本实验的结果为，实施例1为评价A，实施例2及实施例4为评价B，实施例3为评价C，均为作为遮光层11的遮光性能而可容许的水平。在将具有形成有此种遮光层11的保持基板10的固体摄影装置2搭载于数字相机上的情况下，利用遮光层11来遮蔽有害光HR。由此，抑制有害光对图像传感器3的射入，眩光或重影的产生得到抑制。此外，除了上述以外还进行多种实验，结果表面粗糙度为1.5μm的遮光层11也为作为遮光性能而无问题的水平。即，表面粗糙度优选为0.55μm～1.5μm。另外，根据实施例1～实施例4的实验结果可知，喷射喷嘴高度会对表面粗糙度以及反射率造成很大影响，喷射喷嘴高度越高，表面粗糙度越大，反射率越低。
比较例1及比较例2中，表面粗糙度非常小，反射率也非常大，因此是作为遮光性能而无法容许的水平。在将具有此种保持基板的固体摄影装置搭载于数字相机上的情况下，无法利用遮光层来遮蔽有害光，产生大量眩光。此外，以与实施例1～实施例4以及比较例1、比较例2相同的条件进行多次实验，结果获得同样的实验结果。
另外，实施例1～实施例3中，于在扫描次数＝2次～6次、扫描速度＝100mm/s～200mm/s、夹头温度＝25℃～70℃、液压＝1bar～2bar的范围内变化的情况下，也获得同样的实验结果。进而，实施例1～实施例3中，于在喷射喷嘴高度＝15cm～20cm、10cm～15cm、2.5cm～10cm的范围内变化的情况下，也获得同样的实验结果。
另外，实施例4中，在将第2工序在500rpm～2000rpm的范围内变化的情况下，也获得同样的实验结果。
此外，上述实施形态中，虽使用陶瓷制的固体摄影元件用保持基板10，但并不限定于此，也可使用树脂基板或金属基板。
另外，上述实施形态中，虽使用在玻璃上形成有反射膜的来作为IR截止滤波器6，但并不限定于此，也可使用低通滤波器。
[实施例10]
利用与实施例1相同的方法，在基板本体5上形成遮光层11。此外，实施例10中，以下述方式变更喷射的雾化压力，最初形成聚合性组合物粒子的尺寸小的层(雾化压力400kPa，聚合性组合物粒子的平均粒径15μm)，继而形成聚合性组合物粒子的尺寸大的层(雾化压力100kPa，聚合性组合物粒子的平均粒径80μm)。其结果为，在交叉切割试验中基本上未确认到剥落，可确认密接性优异。

Claims (12)

1.一种固体摄影元件用保持基板，其保持封装有固体摄影元件的电路基板、以及截止朝向所述固体摄影元件的受光面的红外光的红外线截止滤波器，所述固体摄影元件用保持基板具备以下构件：
框状的基板本体，其形成有用以***所述固体摄影元件的开口，所述基板本体自侧面包围所述固体摄影元件；以及
遮光层，其遮蔽可见光，所述遮光层形成于所述基板本体的内壁面。
2.根据权利要求1所述的固体摄影元件用保持基板，其中所述遮光层的表面粗糙度为0.55μm以上、1.5μm以下的范围。
3.根据权利要求1或2所述的固体摄影元件用保持基板，其中所述遮光层含有碳黑或者钛黑。
4.根据权利要求1或2所述的固体摄影元件用保持基板，其中所述遮光层利用旋转涂布法或者喷涂法而形成于所述内壁面。
5.根据权利要求1或2所述的固体摄影元件用保持基板，其中所述遮光层的反射率为2％以下。
6.一种固体摄影元件用保持基板的制造方法，所述固体摄影元件用保持基板保持封装有固体摄影元件的电路基板、以及截止朝向所述固体摄影元件的受光面的红外光的红外线截止滤波器，所述固体摄影元件用保持基板的制造方法包括以下工序：
在形成有用以***所述固体摄影元件的开口的框状基板本体的内面，涂布用于形成遮光层的涂布液而形成涂布膜，所述基板本体自侧面包围所述固体摄影元件，所述遮光层遮蔽可见光，且所述涂布液包含通过光的照射而硬化的硬化成分；以及
通过对所述涂布膜照射光而使所述涂布膜的照射部分硬化，来形成所述遮光层。
7.根据权利要求6所述的固体摄影元件用保持基板的制造方法，其中所述涂布液含有碳黑或者钛黑。
8.根据权利要求6或7所述的固体摄影元件用保持基板的制造方法，其中利用旋转涂布法或者喷涂法而在所述内壁面形成所述涂布膜。
9.根据权利要求8所述的固体摄影元件用保持基板的制造方法，其中形成所述涂布膜的工序包括以下工序：
形成聚合性组合物粒子的尺寸小的层的工序；以及、
形成聚合性组合物粒子的尺寸大的层(低反射层)的工序。
10.根据权利要求9所述的固体摄影元件用保持基板的制造方法，其中所述聚合性组合物粒子的尺寸小的层的聚合性组合物粒子的平均粒径为20μm以下，所述聚合性组合物粒子的尺寸大的层的聚合性组合物粒子的平均粒径为70μm以上。
11.根据权利要求6所述的固体摄影元件用保持基板的制造方法，其中所述遮光层的反射率为2％以下。
12.一种固体摄影装置，其具备以下构件：
拍摄镜头；
固体摄影元件，其配置于所述拍摄镜头的射出面侧；
电路基板，其封装有所述固体摄影元件；
红外线截止滤波器，其截止朝向所述固体摄影元件的受光面的红外光，所述红外线截止滤波器配置于所述拍摄镜头与所述固体摄影元件之间；以及、
固体摄影元件用保持基板，其保持所述电路基板及所述红外线截止滤波器，所述固体摄影元件用保持基板具有形成有用以***所述固体摄影元件的开口的框状的基板本体及遮蔽可见光的遮光层，所述基板本体自侧面包围所述固体摄影元件，且所述遮光层形成于所述基板本体的内壁面。
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