CN102405691B - 用于输送待处理的扁平材料的方法、保持装置、设备和***以及装载或卸载设备 - Google Patents

Abstract

为了在对扁平的待处理材料(21)进行化学和/或电化学处理的设施中输送所述材料，在所述设施内，在输送平面内沿输送方向(5)输送待处理材料(21)，将保持装置(22、25)附接于所述待处理材料(21)。保持装置(22、25)于待处理材料(21)的边缘区域上的至少两点处保持所述材料，该边缘区域在所述待处理材料(21)进行输送时沿输送方向(5)定向。保持装置(22、25)以可拆卸的方式联接于输送设备(41)，该输送设备(41)沿输送方向移动所述保持装置(22、25)，以便输送待处理材料(21)。至少在待处理材料(21)的部分输送期间，将具有位于输送平面内并且横向于输送方向(5)定向的分力的力(6、7)施加在待处理材料(21)的一区域上，例如施加在纵向边缘区域上。

Description

用于输送待处理的扁平材料的方法、保持装置、设备和***以及装载或卸载设备

技术领域

本发明涉及用于为对待处理的扁平材料进行化学和/或电化学处理的设施输送待处理扁平材料的方法、保持装置、设备和***。本发明还涉及用于此种设施的装载或卸载设备。特别地，本发明涉及这种用于输送诸如薄片之类的具有较低固有刚度的待处理材料的方法和设备。本发明还涉及可极大程度地避免待处理材料的要进行处理的可用区域与该设施的固定元件之间的接触的这种方法和设备。

背景技术

在诸如印制线路产业中的印刷电路板之类的待处理的扁平材料的加工中，对于待处理材料进行的处理通常在湿式化学生产线中进行。在常规设施中，印刷电路板通常放置在辊式输送器上，并被输送经过该设施。然而，对于变得非常薄的待处理材料来说，特别是对于薄片型的待处理材料来说，由辊式或滚柱式输送器进行输送变得越来越困难，这是由于待处理材料的固有稳定性差，或者由于其单位面积上的重量较轻，通过用处理液或清洗液对其进行喷射会使它移动或移位。此外，某些基片的表面和/或在生产线中施加于表面的诸如漆之类的材料很敏感，以致仅由于搁置在辊子上就会对它们造成损害。

通过DE102007038116A1，获知用于输送基片、特别是印刷电路板的设备和方法，其中彼此叠置的印刷电路板借助于保持夹相连而形成链。保持夹沿印刷电路板的宽度方向延伸。

发明内容

本发明的根本目的是提供于输送扁平待处理材料的方法、保持装置、设备和***，以及提供用于最初提及的那类设施的装载或卸载设备，它们使得能够安全地输送所述材料，特别是安全地输送固有稳定性差的待处理材料——例如薄片型的印刷电路板或具有敏感表面的待处理材料。

根据本发明，该目的通过用于为对扁平待处理材料进行化学和/或电化学处理的设施输送所述材料的方法、保持装置、设备和***以及用于这种设施的装载或卸载设备来实现的。从属权利要求限定本发明的优选和有利实施方式。

输送扁平的待处理材料的方法提供了要附接于待处理材料的保持装置，在该方法中，所述材料在输送平面内沿输送方向进行输送，该保持装置在所述材料的边缘区域上的至少两个点处保持所述材料，该边缘区域在输送所述待处理材料时沿输送方向定向。保持装置在输送方向上移动，以便输送待处理材料。至少在待处理材料的部分输送期间，将具有位于输送平面内并且横向于输送方向定向的分力的力施加在待处理材料的至少一个区域上。

由于在该方法的情况下待处理材料安装在保持装置上，并因所述装置的移动而移动，因此无需使所述材料本身与辊子、滚柱或类似的驱动装置相接触以输送它。施加具有位于输送平面内并且横向于输送方向定向的分力的力使得可沿宽度方向——即沿与输送方向成直角并在输送平面内的方向拉伸待处理材料。这样以来，能够安全地输送具有低固有稳定性和/或敏感表面的待处理材料，例如导体薄片。

该方法可以构造成使得首先将保持装置附接于待处理材料，仅在此后将保持装置联接到属于所述设施的输送设备上，以输送安装有待处理材料的所述保持装置通过该设施。保持装置特别地以与该设施、特别是与输送***分离的方式构造而成。根据一些实施方式，保持装置特别是不永久地连接到设施的输送***上。

该方法可构造成使得待处理材料被输送通过至少两个完全连续的、用于对待处理材料进行化学或电化学处理的不同处理站，而无需在站间将保持装置从所述材料上移除。不同的处理站在处理溶液的不同成分或不同浓度方面有所不同。

施加在待处理材料的至少一个区域上的具有分力的力可以选择成使得所述材料偏离出输送平面的偏移量小，但所述待处理材料未被过度拉伸。具有所述分力的力还可以选择成使得当待处理材料被输送通过属于该设施的处理站时，待处理材料的上侧面和下侧面与处理站的分别设置用于处理所述材料的上侧面和下侧面的固定元件间隔相同的距离。具有所述分力的力还可以选择成使得该距离在待处理材料的整个宽度上是恒定的。

可经由保持装置将力施加在待处理材料的边缘区域上。为此，可至少在待处理材料的部分输送期间——即至少在所述材料在设施内的输送路径的一部分上——将力沿横向于输送方向并在输送平面内的方向施加在保持装置上。

待处理材料可被另一保持装置在另一边缘区域处保持，该另一边缘区域沿所述材料的纵向方向定向。可将反向的力、即背离于彼此定向并且横向于输送方向定向的力施加在所述保持装置和另一保持装置上。

作用于保持装置、或作用于保持装置和所述另一保持装置的力可根据待处理材料的特性进行选择。例如，所述力可根据所述待处理材料的最大允许变形量进行选择。该力还可根据待处理材料的厚度、并且如果需要根据待处理材料的其它材料参数以这样的方式进行选择，即，使得由垂直于所述输送平面作用的力引起的所述材料偏离出输送平面的变形量或偏移量保持小于阈值。

此外，保持装置可被设置成平行于输送方向拉伸待处理材料。为此，保持装置的相对于彼此被例如机械地预拉伸的不同部分可在沿纵向方向间隔开、例如在所述材料的沿在纵向方向上设置的边缘的前部拐角和后部拐角附近的多个点处保持待处理材料。

保持装置保持待处理材料的边缘区域可沿所述材料的宽度方向——即横向于输送方向的方向——具有最大宽度，该最大宽度小于待处理材料的宽度。由此，待处理材料的相对大的区域能够保持可用于在设施内进行化学或电化学处理。

可不仅出于机械安装的目的、而且出于与待处理材料电接触的目的使用保持装置。为此，当将要执行电化学处理步骤时，可使保持装置与例如呈接线夹或轮的形式的电流接触装置形成导电接触。

当行进通过湿式化学处理站时，安装在保持装置上的待处理材料可以这样一种方式被输送通过所述处理站，即，所述保持装置被引导通过处理站的向待处理材料施加处理流体的区域。由于保持装置保持该待处理材料的沿输送方向定向的边缘部分，通过适当地设计处理站，所述保持装置可被侧向地引导通过向待处理材料施加处理流体的区域。在正清洗和/或干燥所述材料的情况下，可将保持装置与安装在其上的待处理材料一起引导通过用于清洗和/或干燥所述材料的区域，以便同样清洗和/或干燥该保持装置。还能够设置在其中选择性地处理保持装置的处理站。例如，处理站可被设计成使保持装置而非待处理材料的可用区域暴露于处理流体流。

待处理材料可以是具有低固有刚度的材料，例如薄片。所述待处理材料还可以是连续的材料。

根据本发明的一方面提供的保持装置被构造成，在待处理材料的边缘区域中的至少两点处保持所述材料。所述保持装置被构造成用于可拆卸地联接到属于对待处理材料进行化学和/或电化学处理用的设施的输送设备上，以便沿输送方向输送所述材料，并且所述保持装置被设计成在联接到输送设备上的状态中它们以这样一种方式保持待处理材料：所述材料的保持装置在其中保持所述材料的边缘区域沿输送方向延伸。

以这样一种方式设计的保持装置能够稳定待处理材料的在输送所述材料时沿输送方向定向的边缘区域。

保持装置可被设计成，使得它们包括带有纵向轴线的保持轨道。所述保持轨道可被构造成，以这样一种方式作用于待以刚硬的方式处理的材料：使得所述轨道抑制住该材料围绕在每种情况下都垂直于保持轨道的纵向轴线定向的第一和第二轴线的弯曲或扭结。所述保持轨道可被构造成在其联接于输送设备的状态中保持轨道的纵向轴线平行于输送方向。在保持装置联接于输送设备的状态中，保持装置可由此被装配成以这样一种方式吸收作用于待处理材料的弯曲力，即，抵消所述材料围绕在每种情况下都垂直于输送方向的第一和第二轴线的弯曲或扭结。

保持装置可包括第一保持部件和第二保持部件，这些保持部件具有用于保持待处理材料的闭合状态和用于***所述材料的打开状态。第一保持部件和第二保持部件可例如被构造成分离的部件，这些分离的部件可在处于打开状态时彼此完全分离开。所述第一保持部件和所述第二保持部件可被构造成用于在处于所述闭合状态中时至少借助于力锁定连接来安装待处理材料。作为选择或此外，还可以形状锁定的方式保持待处理材料。保持装置可包括力作用装置，该力作用装置在所述保持装置处于闭合状态中时，在第一保持部件与第二保持部件之间施加吸引力。所述力作用装置可包括保持部件上或保持部件中的磁体。

保持装置可以这样一种方式构造而成，即，在它们联接于输送设备的状态中，它们在比所述材料的宽度小的距离上沿与输送方向成直角的方向与待处理材料重叠。由此，对于借助于保持装置安装的待处理材料的相对较大的区域而言，能够保持可用于在设施内进行化学或电化学处理。

保持装置可包括保持轨道，在该保持轨道中形成有用于液体的通道。以这种方式设计的保持装置使得液体——例如处理液体或清洗液体能够通过保持装置引导远离待处理材料成。

所述保持装置可被构造成，使得属于输送设备的驱动辊或驱动滚柱横向于所述输送方向移位，该辊子或滚柱能够横向于输送平面移动。为此，保持装置可例如具有倾斜侧面或倒角端，该倾斜侧面或倒角端钩住驱动辊或驱动滚柱，并且在保持装置相对于所述驱动辊移动的同时使它横向于输送方向移位。

保持装置可被装配成与待处理材料电接触。为此，所述保持装置可包括构造成用以接触待处理材料的至少一个导电接触面和设置成能够在保持装置保持待处理材料时联接于外部接触元件的另一导电接触面。该导电接触面和该另一导电接触面可通过设置在保持装置中的导体部分以导电的方式连接。该另一导电接触面可具有两个部分，这两个部分在保持装置保持待处理材料时设置在保持装置的相对两侧上。通过将两个接触元件压靠在这两部分上，能够实现与待处理材料的良好的电接触以及所述材料在保持装置内的良好的机械安装。

根据本发明的一个方面设置的用于为对扁平的待处理材料进行化学和/或电化学处理的设施输送借助于保持装置沿边缘区域安装的所述材料的设备包括输送装置，该输送装置可以可拆卸的方式联接于保持装置，并且被构造成使所述保持装置沿输送方向移动，待处理的材料安装在所述保持装置上。该设备被构造成至少在待处理材料的部分输送期间将具有处于一个输送平面内且横向于输送方向定向的分力的力施加在待处理材料的至少一个区域上。

由于该设备的输送装置可连接于保持待处理材料的保持装置，因此无需为了输送所述材料而使所述材料自身与辊子、滚柱或类似的驱动装置相接触。施加具有位于输送平面内且横向于输送方向定向的分力的力使得可沿宽度方向、即沿与输送方向成直角的方向拉伸待处理材料。

该装置可具有拉伸装置，用于将力沿横向于输送方向且在输送平面内的方向施加在保持装置上。该拉伸装置可包括可移动的支承件，该可移动的支承件可横向于输送方向移动并被构造成用于引导保持装置。所述可移动的支承件可附接于驱动轴。可设置诸如弹性元件或一对磁体之类的力作用装置以将力横向于输送方向施加在可移动的支承件上。该设计使得能够经由在其中引导所述保持装置的可移动的支承件将力施加在保持装置上，借助于该力，又能够沿宽度方向拉伸待处理材料。

由该设备输送的待处理材料可借助于另一保持装置沿另一边缘区域安装。该设备可包括另一拉伸装置，该另一拉伸装置被构造成将力沿横向于输送方向并在输送平面内的方向施加在该另一保持装置上。特别地，该拉伸装置和该另一拉伸装置可被装配成，将力沿相反方向施加在该保持装置和该另一保持装置上。该另一拉伸装置可包括另一可移动的支承件，将力横向于输送方向施加在该另一可移动的支承件上。

根据本发明的一个方面设置的用于为对扁平的待处理材料进行化学和/或电化学处理的设施输送被保持装置沿边缘区域保持的所述材料的***包括根据一实施方式的用于输送待处理材料的设备和用于保持所述材料的保持装置，该保持装置以可拆卸的方式联接于该设备的输送装置。保持装置可被构造成根据一实施方式的保持装置。

根据另一方面，提供了一种对待处理材料进行化学和/或电化学处理的设施用的装载或卸载设备，该设施具有用于输送沿边缘区域保持的待处理材料的设备。该装载或卸载设备可用作用于该类设施的装载器或卸载器。所述装载或卸载设备被装配成在打开状态与用于保持待处理材料的闭合状态之间转移保持装置，并且所述装载或卸载设备包括支承设备，该支承设备用于在将保持装置转移到打开状态中时支承所述待处理材料。

此类装载或卸载设备使得能够将保持装置附接于待处理材料以随后将由保持装置保持的所述材料供给至用于处理的设施，或能够在所述材料已在设施中经过处理后将保持装置从待处理材料上移除。当保持装置处于打开状态中时，支承设备支承待处理材料。所述支承设备可包括例如能够竖向调节的穿孔板，或者用于产生气垫的空气喷嘴，该穿孔板或气垫能够支承待处理材料。

该装载或卸载设备可被构造成接收处于闭合状态的保持装置，将处于闭合状态的保持装置从闭合状态转移到打开状态中，并随后转移回到闭合状态中，以及将保持装置以闭合状态送出。

该装载或卸载设备可包括用于与保持装置的第一保持部件接合的第一接合装置，和用于与保持装置的第二保持部件接合的第二接合装置。该第一接合装置和第二接合装置可例如分别包括成型面，这些成型面分别与第一保持部件和第二保持部件上的互补面以形状锁定的方式接合。可设置用于产生第一接合装置和第二接合装置的相对移动的移动装置，以便在打开状态与闭合状态之间转移第一保持部件和第二保持部件。

移动装置可被构造成施加能够作为相对移动过程所覆盖的路径的函数变化的力。例如，能够在最初施加相对较大的力，直到已将保持部件彼此分离开预定的距离。由移动装置施加的力可随后采取较小值，已将保持部件彼此分离得更远。与在其上施加较小的力的路径相比，该相对较大的力可被施加更短的路径上。

本发明的实施方式使得能够将待处理材料、特别是甚至例如薄片等具有低固有稳定性的待处理材料安全地输送通过用于对所述待处理材料进行化学和/或电化学处理的设施。

附图说明

下面将借助于优选或有利的实施方式、参照附图更为详细地说明本发明。

图1是根据一实施方式的待处理材料输送通过处理所述材料用的设施的示例性简图。

图2是根据一实施方式的借助于保持装置安装的薄片的立体图。

图3是根据一实施方式的输送设备的立体图。

图4是来自图4的输送设备的一部分的侧视图。

图5是具有根据一实施方式的输送设备的处理站的立体图，该处理站属于用于处理待处理材料的设施。

图6是根据一实施方式的保持装置的截面图。

图7A和7B是来自图6的保持装置的第一和第二保持部件的平面图。

图8是根据另一实施方式的保持装置的示意性局部剖视图。

图9是根据一实施方式的装载设备的立体图。

图10是属于图1中所示的设施的缓冲设备的立体图。

图11是根据一实施方式的相邻的保持装置的端部的平面图。

具体实施方式

与待处理材料相关的方向或位置细节按照惯例参照输送方向予以表示。与待处理材料的输送期间的输送方向平行或反平行的方向将被称之为“纵向”，并且处于输送平面中、垂直于输送方向的方向将被称之为待处理材料的“宽度方向”。

元件或设备的“可拆开的联接”将被理解为是指使得能够将元件或设备彼此分离开而不会损坏或毁坏所述元件或设备的这类联接。保持装置与待处理材料之间的“可拆开的联接”将由此被理解为是指可从待处理材料上移除保持装置而不会毁坏所述保持装置或所述材料或者以有损它们的功能的方式损坏它们的联接。保持装置与输送设备之间的“可拆开的联接”应理解为是指可从输送设备上移除保持装置而不会毁坏所述保持装置或所述输送设备或者以有损它们的功能的方式损坏它们。

图1示意性地示出了用于对待处理的扁平材料进行化学和/或电化学处理的设施1，其中，该待处理的扁平材料可构造成薄板或薄片的形式。设施1包括生产线2，生产线2具有多个处理站，在这些处理站，待处理的材料受到化学和/或电化学处理、清洗或干燥。示意性地示出了处理站3、4。该待处理材料沿一个输送方向在生产线2内进行输送，并由此被供给至处理站3、4。即使在设施1的例子中给出具有两个处理站3、4的生产线2，提供任意期望数量的适合适配于特定应用的处理站通常也是可能的。在处理站处，发生下列情况中的一种或多种：可例如将处理流体、电流、能量、脉冲或辐射供给至待处理材料、或者所述材料可以被设定成处于振动中等等。

如将会更为详细地再次说明的那样，待处理材料借助于保持装置安装于一边缘区域，或者安装于多个边缘区域。所述保持装置被设计并引导成使得待处理材料的纵向边缘——即所述材料的平行于输送方向延伸的边缘——位于将被称之为待处理材料的“输送平面”的平面内或大致处于“输送平面”内。

根据多个实施方式的设备和方法使得能够以所述材料的各个区域与输送平面的偏离保持较小的方式来保持和输送具有较低固有刚度的待处理材料。然而，对“待处理材料在一个输送平面内的输送”进行说明并不排除所述材料的个别部分或区域在输送该待处理材料时偏移出输送平面的可能性。由此，例如，作用在待处理材料上的重力、所述材料暴露于流体流等可能导致待处理材料的区域偏移出输送平面。所述材料可例如在水平的输送平面中进行输送。出于将待处理材料输送通过生产线2的目的，设施1装配有输送设备。将参照图3和4更为详细地描述可用于在图1中概略地示出的设施的情形中输送待处理材料的输送设备的实施方式。

为了在设施1的生产线2内输送待处理材料，保持装置以可拆开的方式附接于所述材料。在待处理材料已被输送通过生产线2之后，再将保持装置从待处理材料上取下或移除。

设施1进一步包括装载设备或装载器10。例如利用机械手(图1中并未示出)或类似物将待处理材料从适合的所述材料的储备库8供给至装载设备10。保持装置同样被从适合的所述保持装置的储备库9供给至装载设备10。装载设备10将保持装置附接于待处理材料的边缘区域，从而使得所述保持装置在所述边缘区域上的多个点处保持所述材料。如将再次更为详细说明的那样，保持装置沿所述材料的平行于输送方向定向的边缘上的边缘部分保持待处理材料。保持装置可在所述边缘部分内的多个点或区域处保持待处理材料，该多个点或区域以间隔开的方式或连续的方式设置在该边缘部分内。在一实施方式中，保持装置至少在所述材料的界定出所述材料的平行于输送方向延伸的边缘区域的两个拐角的附近保持待处理材料。在另一实施方式中，保持装置至少在待处理材料的界定出所述材料的平行于输送方向延伸的边缘区域的两个拐角的附近、以及所述边缘区域的设置在两个拐角之间的中央部分上保持待处理材料。

设施1还可具有缓冲设备12，该缓冲设备12设置成在输送方向上处于装载设备10的下游并处于生产线2的上游。所述缓冲设备12从装载设备10接收通过保持装置安装的待处理材料11。缓冲设备12将安装好的待处理材料11向前输送至生产线2，并且与此同时可设置成使得其将借助于保持装置安装的待处理材料11加速或制动减速至与所述材料在生产线2内的初始速度相对应的速度。其它的功能也可集成到缓冲设备12中。例如，所述缓冲设备12可被设计成沿横向于输送方向的方向拉紧安装好的待处理材料11。缓冲设备11还可具有多个传感器和可控的驱动元件，以设定相邻的基片或待处理材料之间的距离。

在待处理材料在生产线2内的输送期间，设施1的输送设备对保持所述材料的保持装置起作用。输送设备移动所述保持装置，以便沿输送方向5移动安装在保持装置上的待处理材料。

在待处理材料在生产线2内进行输送的同时，具有分力6、7的力施加在待处理材料的平行于输送方向延伸的边缘区域上，即施加在纵向边缘上。分力6、7定向成它们位于输送平面内并且与输送方向成直角或横向于该输送方向定向。作用于待处理材料的平行于输送方向延伸的两个边缘部分上的分力6、7大小相同，并且彼此定向相反。在此情况下，所述分力6、7的大小可以选择成使得它们拉紧待处理材料。分力6、7的大小还可以选择成使得它们将待处理材料保持成在所述材料的整个宽度上接近输送平面或位于输送平面内，而不会过度拉伸所述材料。分力6、7的大小还可以选择成使得所述材料的上侧面和底面与设置用于处理所述上侧面和底面的处理站的固定元件之间间隔一定的距离，该距离在待处理材料的整个宽度上基本上恒定。

设施1还具有卸载设备13或卸载器13，该卸载设备13接收已经被处理过的材料。在生产线2与卸载设备13之间，可设置另一缓冲设备14，已经被处理过的材料被生产线2供给至该缓冲设备14，该缓冲设备14将所述材料供给至卸载设备13。所述卸载设备13将保持装置从待处理材料上移除。可将已经被处理过的所述材料15从设施1上取出，并随后供给至另一处理装置。

在继待处理材料的处理之后将保持装置移除后，还可将保持装置16从设施1上移除，并再次用于安装另一待处理材料。在一次或多次穿过设施1后，如果需要，保持装置16可接受清洁处理，以便从所述保持装置16上去除在前一次或前几次穿过设施1的过程中沉淀在保持装置16上的沉降物。

将参照图2至8更为详细地描述可用于在诸如图1中概略地示出的设施的情形中输送待处理的制品的保持装置和输送装置的实施方式。

图2是通过保持装置保持的待处理材料的立体图。所述待处理材料21被示出为呈大致矩形形状的薄板或薄片。在待处理材料21的两个纵向边缘——即在输送待处理材料时沿输送方向定向的两个边缘处，保持装置22和另一保持装置25无论如何在所述材料21的所述边缘部分上的至少两个点处保持所述材料。在所示实施方式中，保持装置22和另一保持装置25分别在待处理材料的拐角附近以及设置在所述拐角之间的多个点处保持相应的边缘区域。

保持装置22和另一保持装置25设计成使得它们沿宽度方向——即在输送待处理材料21时在输送平面内与输送方向成直角延伸的方向——在最大距离BR上与待处理材料21叠合，该最大距离BR与所述材料21的宽度B相比很小。保持装置的宽度可为约5mm至45mm，特别地为约10mm至35mm，特别地为约15mm至30mm，并且可对应地与待处理材料在比所述保持装置的宽度小的宽度BR上叠合。

保持装置22和另一保持装置25可以设计成使得它们的长度LH对应于待处理材料21的长度L或大于该长度。根据待处理材料21，保持装置22和另一保持装置25可在所述材料的拐角附近保持所述材料。如在图2中所示，保持装置22和另一保持装置25可以构造成使得当它们处于它们正保持待处理材料的状态中时它们在纵向方向上在所述材料的一侧或两侧上伸出超过待处理材料21。在图2中所示的实施方式中，保持装置22和另一保持装置25的长度LH为此选择成大于待处理材料21的长度L。保持装置22和另一保持装置25的在纵向方向上伸出超过待处理材料21的部分可用于设定设施内的待处理材料之间的最小距离。所述保持装置22和另一保持装置25可以附接于待处理材料21使得保持装置在它们的在输送方向5上作为前端的端部比在它们的在所述输送方向5上作为后端的端部伸出得远。

在图2中所示的实施方式中，保持装置22和另一保持装置25被构造成轨道的形状并且具有长度LH，该长度LH与保持装置22或另一保持装置25在与其垂直的方向上的尺寸相比长。尽管保持装置22和另一保持装置25在图2中被示出为连续的轨道，但是所述保持装置还可具有多个部分，这多个部分在待处理材料的纵向方向上间隔开、并且彼此连接以在边缘区域中的多个点处保持所述待处理材料21。数量是多个的这些部分可借助于弹性元件彼此连接，这些弹性元件构造成使得所述部分在纵向方向上被预拉伸成彼此远离，换言之，使得可在纵向方向上对保持装置的部分施加远离彼此定向的力。也可借助于保持装置在待处理材料的纵向方向上拉伸待处理材料。

保持装置22具有轨道状的第一保持部件23和轨道状的第二保持部件24。同样，该另一保持装置25具有轨道状的第一保持部件26和轨道状的第二保持部件27。当保持装置22或25处于图2中所示的闭合状态时，第一保持部件23、26和第二保持部件24、27布置在待处理材料21的相对两侧上，使得所述材料的边缘区域伸进第一保持部件23与第二保持部件24之间以及第一保持部件26与第二保持部件27之间并被保持在该部位。

接下来将描述图2中以31示出的细节A。安装好的待处理材料的以A指代的切除部分在以31表示的细节图中以放大的方式表示出。上部保持部件23具有带有多个部分32、33的接触缘，这些部分32、33沿待处理材料21的方向突出。接触缘的部分32、33的面朝待处理材料21的那些端面触碰所述材料并以力锁定的方式保持所述材料。在保持缘的部分32、33之间设置有间隙34、35。所述间隙34、35形成液体通道，该液体通道使得能够通过保持装置22将处理液体引导走。另一保持装置25具有与保持装置22的设计镜像对称的对应的设计。

在另一设计中，保持装置22与另一保持装置25是完全相同的设计。保持装置22和另一保持装置25中的每个都可以构造成成使得上部保持部件与下部保持部件关于输送平面互为镜像对称。所述上部保持部件与所述下部保持部件可例如通过铰链连接。

保持装置22的端部和另一保持装置25的端部具有斜面28、29。在一种实施方式中，所述斜面28、29至少被构造在保持装置22的在输送待处理材料时最先与设施的输送设备联接的端部处。在这种情况下，斜面28、29可相对于彼此被设置成，使得保持装置22在它们的端部方向上变窄，从而有助于将所述保持装置22引入到处理设施的输送设备中。

保持装置22与另一保持装置25可联接于处理设施的适当构造的输送设备，以便输送由所述保持装置22和所述另一保持装置25所保持的待处理材料21。在这种情况下，输送设备与保持装置之间的联接优选以这样一种方式发生，即，待处理材料21的作为所述材料的可用区域而接受处理的中央区域并不与输送设备的元件相接触，并且同样有利地不与生产线的其它固定元件相接触，直到再次将保持装置22和另一其它保持装置从待处理材料21上释放。

图3是根据一实施方式的输送设备41的立体图，该输送设备41可用于输送借助于保持装置安装的待处理材料。所述输送设备41可用作来自图1的设施1的生产线2中的输送设备。

输送设备41具有两个辊式输送器42、43，这两个辊式输送器42、43以彼此间隔开的方式设置在待处理材料的输送路径的两侧。每个辊式输送器42、43都包括沿输送方向设置的多对辊子。每对辊子都包括垂直于输送平面间隔开的两个辊子。在图3中所示的输送设备41中，辊子44’、45’设置成竖向间隔开，以使得一个辊子44’设置在输送待处理材料21的水平输送平面的上方，而另一个辊子45’设置在该水平输送平面的下方。

在输送设备41的情况下，辊式输送器43的处于输送平面上方的辊子44’与设置在另一辊式输送器42的对应位置的辊子44均连接于轴。设置在输送平面下方的辊子对应地连接于轴。可以借助于这些轴以旋转的方式驱动辊子44、44’、45’，这些轴安装在属于输送设备41的支承插件47上。其中至少一个轴被安装成能够相对于其它轴例如在支承插件47中的竖向延伸的间隙48内移位。由于在这种安装配置的情况下，可以改变属于一对辊子的辊子之间的竖直距离，因此，能够输送例如具有不同厚度的待处理材料。在输送设备的一侧—在输送设备41的情况下与辊式输送器42相同的一侧—上，轴以旋转固定的方式连接于一对齿轮46，这对齿轮46经由驱动轴(未示出)可操作地连接于驱动单元(同样未示出)。

输送设备41沿输送方向输送由保持装置所保持的待处理材料21，所述输送设备41接触保持装置22、25，而在待处理材料21的要进行处理的中央可用区域并未被所述输送设备的固定元件触碰。待处理材料21的受处理的中央区域在处理设施的处理站中与液体或气体接触。

输送设备41构造成使得其对在待处理材料21的纵向边缘处保持所述材料的每个保持装置22、25施力，该力在保持装置22、25上具有在输送平面内并横向于输送方向定向的分力6、7。在这种情况下，输送设备41在保持装置22、25上施力，该力具有方向相反的分力6、7，从而沿横向于输送方向的方向拉紧待处理材料21。

为了确保在待处理材料21的两侧上的保持装置22、25的同步输送，输送设备41可设有同步设备(未示出)。所述同步设备可设置成确保附接在待处理材料21的不同侧上的保持装置22、25的同步前进。同步设备可以这样一种方式来实现：借助于止挡件来阻止保持装置在输送方向上的移动，并且可在预期点及时地再释放所述保持装置。为此，同步设备可包括至少一个可移动的元件和连接于可移动元件的驱动机构，并且借助于该驱动机构，所述至少一个可移动的元件可在第一位置与第二位置之间移动。在第一位置中，所述至少一个可移动的元件与保持装置22、25中的一个或两者接合，以防止对应的保持装置在输送方向上前进；在第二位置中，所述可移动元件定位成允许对应的保持装置的前进。可能的是，设置诸如第一可控止挡件之类的第一可移动元件以管理在第一侧上的保持装置22的前进，并设置诸如第二可控止挡件之类的第二可移动元件以管理在第二侧上的保持装置25的前进。同步设备的其它设计也是可能的。例如，所述同步设备可具有齿轮，该齿轮在输送期间接合在保持装置22、25中，从而实现附接于不同侧的保持装置的同步且明确的前进。

如接下来将更为详细地说明的那样，参照图4，无论如何，在辊式输送器42、43中的至少一个中，属于一对辊子的其中至少一个辊子——例如设置在输送平面下方的辊子45被构造成可移动的支承件。出于引导对应的保持装置22或25的目的构造该可移动支承件。它在相关联的保持装置22或25上施力，该力具有横向于输送方向的分力6、7，该力经由所述保持装置22或25被传递至待处理材料的对应的边缘区域。

图4示出了从由图3中的IV-IV指示的方向看到的属于辊式输送器42的一对辊子的平面图。在该情况下，输送方向定向图面中，并且输送平面沿水平方向与所述图面相交。已经参照图3进行说明的元件设有相同的附图标记。

尽管正参照图4对属于辊式输送器42的一对辊子进行说明，但属于辊式输送器43的该对辊子从功能的角度上来说可具有完全相同的设计，并且可被构造成与图4中所示的构造成镜像对称。特别地，可在辊式输送器43和辊式输送器42二者中都设置可移动支承件，从而以浮动的方式安装待处理材料。

在输送设备41的改型实施方式中，在辊式输送器42、34中的仅一个中，辊子被设计成可移动的支承件，而另一辊式输送器在预定位置处引导相关联的保持装置并且起到固定支承件的作用。

这对辊子包括辊子44、45，辊子44、45布置成使得保持待处理材料21的保持装置22可在它们之间进行输送。辊子44附接于轴51。辊子45附接与另一轴52。轴51以可旋转地固定的方式联接于齿轮46a，并且另一轴52以可旋转地固定的方式联接于齿轮46b。齿轮46a和46b处于接合状态，从而在旋转齿轮46b时，同样以旋转的方式驱动齿轮46a。所述齿轮46b联接于斜齿轮46c，该斜齿轮46c与驱动轴(未示出)处于可操作的连接中。

辊子45具有用于保持装置22的导槽53。所述辊子45以这样一种方式附接于轴52，即，它是能够在一定范围内沿所述轴52轴向移位的。这样，辊子45形成用于保持装置22的可移动的支承件，保持装置22安装在该辊子45上从而通过辊子44、45的旋转沿输送方向移动。由于辊子45沿轴52的可轴向移动的安装，因而能够对保持装置22进而对由所述保持装置22所保持的薄片的边缘区域施力，该力在输送平面内具有横向于输送方向的分力。辊子44具有柱状的外表。辊子44的外表设计成使得无论带有导槽53的辊子45的位置如何，所述辊子44总是能够在保持装置22的与导槽相反的一侧上(图4中在顶部处)接触该保持装置22。输送设备可有利地构造成使得辊子45与保持装置22之间的摩擦力锁定连接能够确保所述保持装置22的无滑动输送。如将在下面再次更为详细地说明的那样，出于增大辊子44挤压保持装置22进入导槽53中并抵靠辊子45的力的目的，可设置重物。

输送设备包括力作用装置，该力作用装置在辊子45上施加平行于轴52的力。在图4中所示的设计的情况下，力作用装置包括磁体54和另一磁体55，该磁体54附接于辊子45，该另一磁体55通过安装装置56沿轴52保持于固定的轴向位置处。磁体54、55可被构造成永磁体。另一磁体55和附接于辊子45的磁体54被装配成，使得排斥力在它们之间起作用。磁体54、55之间的排斥力导致力57沿轴52在轴向方向上对辊子45起作用。当保持装置22行进到导槽53中时，辊子45能够沿轴52在轴向方向上进行运动，并经由所述导槽53的边缘将横向于输送方向的力57施加在保持装置22上。这样，待处理材料21可被输送设备41以弹性的方式拉伸。

为了允许输送具有不同厚度的待处理材料21，或者允许使用具有不同设计的保持装置，轴51安装在支承插件47上，以便能够相对于轴52移动。例如，轴51能够相对于轴52竖向移动。

旋转夹带装置62附接于轴52。出于将转矩从轴52传递至所述辊子45的目的，在旋转夹带装置62与辊子45之间设置有离合器64。所述离合器64以设计成使得在用于传递转矩的离合器64保持接合时辊子45沿轴62的轴向移动是可能的。止挡元件61附接于轴51，该止挡元件61能够与旋转夹带装置62相接触，从而限制轴51、52朝向彼此的移动。止挡元件61和旋转夹带装置62设计成使得在止挡元件61与旋转夹带装置62彼此顶靠时，保持装置22能够利用它们的倒角端可靠地行进到辊子45的导槽53与辊子44之间的居间空间中。重物63附接于轴51，以便增大辊子44挤压保持装置22进入导槽53中并抵靠辊子45力。这样，可改善辊子44、45与保持装置22之间的摩擦力锁定连接，并且所述保持装置22可被紧固在辊子45的导槽53中。

可在其它实施方式中对已经参照图4进行说明的输送设备的这对辊子的此结构进行改良。例如，替代保持装置22的外表面接合在其中的辊子45的导槽53，可以在属于输送设备的辊子上和保持装置上设置其它辅助接合部分，借助于这些辅助接合部分将沿轴52作用在辊子45上的轴向力传递至保持装置22。

在待处理材料21的宽度方向上作用于保持装置22上的力不必经由辊子45施加在所述保持装置22上。在另一实施方式中，磁体4可例如并不设置在辊子45自身上，而是设置在与辊子45分离开并且设置成在保持装置22上施力的元件上，该力在待处理材料的宽度方向上具有分力。

在另一实施方式中，可将磁力施加在保持装置22上，不是经由可移动支承件间接地施加，而是通过安装在轴52上的诸如永磁体55之类的磁体直接施加。在保持装置22中可设置与安装在轴52上的磁体相互作用的永磁体。安装在轴52上的磁体和保持装置22中的永磁体可以构造并设置成使得在所述保持装置22上施加有具有这样的分力的力：该分力定向成使得在宽度方向上拉伸待处理材料。辊子45可构造有柱状的外表，保持装置22能够在由安装在轴52上的磁体施加在所述保持装置22上的力的作用下在待处理材料21的宽度方向上沿该柱状的外表移动。

代替磁体54、55，可使用其它适合的装置，以在保持装置22上施加力，该力的分力处于输送平面中并横向于输送方向，该力以弹性的方式拉伸待处理材料。例如，可使用弹性元件，以便在辊子45上施加沿着轴52的力。

在另一实施方式中，保持装置22可暴露在横向于它们的纵向方向——即在待处理材料的宽度方向上的流体流下，从而在保持装置22上施加定向成在宽度方向上拉伸待处理材料21的力。

图11示出了相邻的保持装置22a与22b之间的联接器176，在此处所述的多种方法和设备的情况下，根据一个实施方式，借助于该联接器176，能够实现相邻的保持装置22a与22b之间的交错。保持装置的端部设计成使得将力从一个保持装置22a传递至相邻的保持装置22b。经由如图11中所示的诸如舌槽榫之类的机械联接器可实现交错。通过前保持装置22a与后保持装置22b彼此交错，能够减小、并有利地完全抑制力在待处理材料21的前缘或后缘(沿输送方向看)上的达到峰值。作为交错176的结果，作用在一个保持装置上的力还被相邻的保持装置吸收。特别地，能够以这样一种方式实施交错，即，作为交错的结果，力从一个保持装置22a横向于输送方向5输送至相邻的保持装置22b。交错176可产生于保持装置22a、22b的适当的几何设计，例如通过带有小于1mm的小间隙乃至力锁定方式的配合而产生。为了产生交错，甚至是呈彼此连接的链节方式的形状锁定连接也是可能的。

图5是示出了处理设施的一部分的立体图，在该部分中，待处理材料21在处理站71中进行处理。借助于保持装置22、25安装的待处理材料21由处理设施的输送设备的一部分72供给至处理站71，并由所述处理设施的输送设备的另一部分73从处理站71向前输送。输送设备的部分72、73可构造成类似于参照图3和4描述的输送设备41。输送设备的所述部分72、73可设置成，使得对于已经安装的待处理材料21的各个位置而言，保持装置22、25都联接于部分72、73中的至少一个而使得将待处理材料21安全地向前输送，并且如果需要，横向于输送方向拉伸。

所讨论的处理站可以是例如用于对待处理材料21进行化学处理的站、用于清洗所述材料的站、或用于干燥所述材料或用于将液体从所述材料上吹掉的站。由此，属于处理站71的喷嘴装置可例如通过使待处理材料21暴露于流体流而将化学处理试剂、水或气体供给至待处理材料21。

处理站具有供给区域75，借助于该供给区域75，将诸如化学处理试剂、水或气体之类的适合的处理流体供给至待处理材料21的中央可用区域，该中央可用区域并未被保持装置22、25所遮挡。所述供给区域75例如可具有用于使可用区域暴露于处理流体流的喷嘴装置。供给区域75设置成使得其一直延伸到待处理材料的中央可用区域的附近，但并不触碰所述材料。特别地，所述供给区域75可以设置成使得其面朝待处理材料21的部分在保持装置22、25之间向内突出。

可在待处理材料21的与供给区域75相反的一侧上(在图5中位于输送平面下方)设置另一供给区域，以例如通过将所述材料的该相反侧暴露于流体流而将处理流体供给至所述材料的该相反侧。设置在待处理材料21的该相反侧上的供给区域可以构造成使得以对称的方式从上方和下方作用于待处理材料，从而将所述待处理材料21的任何出离输送平面的偏移保持在较少程度。设置在待处理材料21的该相反侧上的供给区域可以构造成并且在宽度方向上施加在所述材料上的分力可以选择成，使得所述材料的上侧面与供给区域75隔开一定距离，该距离在所述材料的整个宽度上基本恒定；并且使得待处理材料的底面与处理站71的用于所述材料的底面的对应的供给区域隔开一定距离，该距离在所述材料的整个宽度上基本恒定。设置在待处理材料21的相对两侧上的供给区域可以构造成并且沿宽度方向施加在所述材料上的分力可以以选择成使得这些距离是相等的。

保持装置22、25在输送待处理材料21通过处理站71时从中通过的间隙设置在供给区域75的两侧上。作为选择，能够在供给区域75的侧旁设置另外的供给区域76、77，借助于供给区域76、77，同样例如通过使保持装置22、25暴露于处理流体流而将处理流体供给至保持装置22、25。该另外的供给区域76、77可以根据保持装置22、25是否同样要在特定处理站受处理而设置。例如，在其中利用水清洗待处理材料或借助于气体流干燥待处理材料的处理站中可设置该另外的供给区域76、77。另一方面，处理站可以这样一种方式进行构造，即，在正通过处理站将化学处理试剂供给至待处理材料21或待处理材料21的未被保持装置所遮挡的可用区域的情况下，不提供用于保持装置的供给区域76、77。由此，在供入化学处理试剂的处理站中，能够避免直接用化学处理试剂、会导致发生更多不期望的沉降的某些物质喷溅保持装置22、25。

如上所述，如果保持装置22、25与待处理材料一起被清洗和干燥，则可以在清洗和干燥站中从保持装置22、25上去除已经在之前用化学处理试剂对待处理材料的可用区域进行的处理中到达所述保持装置22、25上的所述化学处理试剂的痕迹。

处理站还可以构造成使得对保持装置22、25的选择性处理发生在这样的区域中：在这些区域中，所述保持装置22、25被引导通过所述站，而待处理材料的可用区域在该处理站内并未受到任何直接的处理。这样，例如能够去除已经遗留在保持装置22、25上的化学处理试剂以避免保留至下一站。为了从待处理材料21的表面去除液体，还可使用以浮动的方式安装的滚柱，特别是安装成能够沿轴向方向移位的滚柱。

尽管已经参照图5对于将借助于保持装置安装的待处理材料输送通过供入处理流体的处理站进行了说明，但还可以为了其它处理步骤构造带有适当设计的处理站。例如，处理站可被构造成向待处理材料供给下列物质中的一种或多种：处理流体、电流、能量、脉冲或辐射。所述处理站可以这样一种方式进行构造，即，所述材料的未被保持装置22、25所遮挡的待处理的可用区域不与处理站或输送设备的固定元件接触。

如可从处理站71的已经参照图5进行说明的设计中看到的那样，保持装置22、25在待处理材料21的平行于输送方向延伸的边缘区域处的布置使得用于所述处理站71的处理流体的供给区域75能够设计成使得该供给区域75能够伸到待处理材料的未被输送装置22、25所遮挡的可用区域近前。特别地，供给区域75与待处理材料21之间的间距不受保持装置22、25的尺寸的限制。

将参照图6和7描述根据一实施方式的保持装置。所述保持装置可用于保持待处理材料21，并且出于输送所述待处理材料21的目的而被设计成与参照图3至5进行说明的处理设施的输送设备协作。

图6示出了在图2和7中借助于线VI-VI示意性地示出的位置处剖切保持装置22、25的截面图。图7A是保持装置的第一保持部件23的平面图，并且图7B是所述保持装置的第二保持部件24的平面图。图7A中的第一保持部件23的平面图示出了所述第一保持部件23的在保持装置处于闭合状态中时面朝第二保持部件24的侧面。图7B中的第二保持部件24的平面图示出了第二保持部件24的在保持装置处于闭合状态中时面朝第一保持部件23的侧面。第一保持部件和第二保持部件的在图7A和7B中示出位于底部的边缘对应于保持装置的在图6中示出位于左侧的侧面，并且背离待处理材料。

保持装置22、25分别包括两个分离的轨道状的保持部件23、24，这两个保持部件23、24在保持装置22处于图6中所示的闭合状态中时，附接于待处理材料21的相对两侧，并且这两个保持部件23、24将所述待处理材料21以力锁定方式保持在它们之间。在打开状态，保持部件23、24彼此分离开从而可将待处理材料21插置在所述保持部件23、24之间或者从保持装置22中取出。

第一保持部件23包括体部81，用于保持待处理材料21的接触缘82被构造在该体部81上。所述体部81具有沟槽83，该沟槽83与第二保持部件24的互补设计一起充当定位装置，以便在处于闭合状态时，将保持部件23、24相对于彼此定位。

第一保持部件23的体部81具有由诸如金属之类的具有高刚度的材料制成的硬芯84。磁体85设置在所述体部81中。磁体85可以是平行六面体的。芯84可由铁磁性金属构造而成，以增大第一保持部件与第二保持部件之间的磁性吸引力。

第一保持部件23还包括另一体部86。所述另一体部86以这样一种方式附接于体部81，即，硬芯84和磁体85完全被两个体部81、86围绕。该另一体部86的外表面具有轮廓部87。例如属于装载或卸载设备的接合装置能够接合在轮廓部87中以在闭合状态与打开状态之间移动保持装置。

体部81、86可由塑料构造而成，特别是由不与在处理设施中所使用的化学试剂发生化学反应的塑料构造而成。在这种情况下，硬芯84与磁体85完全用塑料包裹住。在另一实施方式中，体部81、86可以一体的方式被构造成单个塑料本体。体部81、86还可由不导电的材料制成——例如由陶瓷制成，或者可由优质钢制成。

第二保持部件24包括体部91，在体部91上构造有突起93。所述突起93以这样一种方式构造而成，即，它可***置在第一保持部件23中的沟槽83中并与该第一保持部件23一起充当定位装置，以便在处于闭合状态中时，将保持部件23、24相对于彼此定位。

第二保持部件24的体部91具有由诸如金属之类的具有高刚度的材料制成的硬芯94。磁体95设置在所述体部91中。芯94可由铁磁性金属构造而成，以增大第一保持部件与第二保持部件之间的磁性吸引力。磁体95设置成使得当保持装置22处于图6中所示的闭合状态中时在于磁体85、95之间存在吸引力。

第二保持部件24还包括另一体部96。所述另一体部96以这样一种方式附接于体部91，即，硬芯94和磁体95完全由两个体部91、96围绕。该另一体部96的外表面具有轮廓部97。例如属于装载或卸载设备的接合装置能够接合在轮廓部97中以在闭合状态与打开状态之间移动保持装置。

第二保持部件24的体部91、96可由塑料构造而成，特别是由不与在处理设施中所使用的化学试剂发生化学反应的塑料构造而成。在这种情况下，硬芯94与磁体95完全被塑料包裹住。在另一实施方式中，体部91、96可以一体的方式被构造成单个塑料本体。体部91、96还可由不导电的材料制成——例如由陶瓷制成，或者可由优质钢制成。

第一保持部件23和第二保持部件24可涂覆有以这样一种方式选择出的材料，即，使利用在用于对待处理材料进行处理的设施中所使用的处理流体中的至少一种对保持部件23、24的浸湿减少。特别地，该涂层可以选择成使得减少或抑制化学处理试剂的遗留。

如从图7A的平面图中可见，第一保持部件23可以这样一种方式进行分割，即，所述第一保持部件23的在图6的截面图中所示的结构在所述元件的中央区域中被间隙88中断。所述间隙88沿在保持装置22保持待处理材料21时与所述材料21的宽度方向相对应的方向贯穿第一保持部件23延伸。间隙88中断接触缘82，从而使接触缘82的部分在多个分离开的线性部分处保持该待处理材料。

如在图7B的平面图中所见，第二保持部件24可以这样一种方式进行分割，即，所述第二保持部件24的在图6的截面图中所示的结构在所述元件的中央区域中被间隙98所中断。所述间隙98沿在保持装置22保持待处理材料21时与所述材料的宽度方向相对应的方向贯穿第二保持部件24延伸。间隙98中断突起93。所述间隙98沿第二保持部件24的纵向方向设置在与第一保持部件23上的间隙88的位置相对应的位置上。当保持装置22处于闭合状态中时，第一保持部件23中的间隙88由此与第二保持部件24中的间隙98对准。所述间隙88、98限定贯穿保持装置22的通道，这些通道在保持装置22处于闭合状态中时，横向贯穿所述保持装置22延伸，即沿待处理材料21的宽度方向延伸。这种通道允许经保持装置22将液体从待处理材料输送离开。对于接触缘82而言，相对于间隙88突出小于1mm可能是有利的。由此，当保持装置22附接于待处理材料21时，所述材料的上侧面与间隙88之间的间隔能够具有小于1mm的高度，所述高度是垂直于输送平面进行测量的。对于突起93而言，相对于间隙98伸出小于1mm同样是有利的。由此，当保持装置22附接于待处理材料21时，所述材料的底面与间隙98之间的间隔能够具有小于1mm的高度。

如同样在图7A和7B的平面图中可见的，在第一保持部件23的端部区域101、102或在第二保持部件24的端部区域103、104处并未设有间隙88或98。由此，可在第一保持部件23和第二保持部件24中、分别在端部区域101、102、103、104中每单位长度设置更多个磁体85和95。从而增大保持力，利用该保持力，在保持装置22处于闭合状态中时，在端部区域中将第一保持部件23和第二保持部件24保持在一起。保持力的这种增大导致了待处理材料21的分别被保持在端部区域101、103与端部区域102、104之间的边缘区域的特别牢固的安装。保持部件23、24可以这样一种方式构造而成，即，待处理材料的拐角被分别保持在所述端部区域101、103与端部区域102、104之间。由此，能够在输送待处理材料时减少或防止所述材料的拐角脱离保持装置22。

在根据另一实施方式的保持装置的示例中，来自图6的截面图中所示的结构可在第一保持部件和第二保持部件的整个长度上连续延伸，即，所述第一保持部件和所述第二保持部件还可以构造成使得它们没有形成任何供液体通过用的通道。在这种情况下，接触缘82沿待处理材料21的纵向方向连续延伸，并在设置在连续的线上的多个点处保持所述材料的边缘部分。

在根据另一实施方式的保持装置的示例中，确定上部保持部件与下部保持部件在保持装置处于闭合状态时的布置的定位装置还可以以不同于借助舌槽榫结构的方式构造而成。例如，上部保持部件与下部保持部件可借助于铰链彼此连接。在这种情况下，所述上部保持部件与所述下部保持部件可具有关于输送平面彼此镜像对称的设计。这种保持部件可用于在该两个纵向边缘中的每个处安装待处理材料。

图8是根据又一实施方式的保持装置110的立体图。所述保持装置110可用于保持待处理材料21。保持装置110以这样一种方式进行配置，即，它们不仅机械地保持所述材料，而且能够用于与所述材料电接触。保持装置110可用于在电解处理厂中或电镀厂中与导电薄片以及厚板材电接触。

保持装置110包括两个分离的轨道状的保持部件111、112，当保持装置110处于图8中所示的闭合状态中时，这两个保持部件111、112附接于待处理材料21的相对两侧，并且将待处理材料21以力锁定的方式保持在它们之间。在打开状态中，保持部件111、112彼此分离开，从而能够将待处理材料21插置在所述保持部件111、112之间或者从保持装置110中取出。

第一保持部件111包括体部113，该体部113可由塑料构造而成，特别是由不与在处理设施中所使用的化学处理试剂发生化学反应的塑料构造而成。体部113还可包括诸如陶瓷之类的不导电的材料或优质钢。磁体114嵌置在体部113中。第二保持部件112包括体部123，该体部123可由塑料构造而成，特别是由不与在处理设施中所使用的化学处理试剂发生化学反应的塑料构造而成。体部123还可包括诸如陶瓷之类的不导电的材料或优质钢。磁体124嵌置在体部123中。磁体114、124设置成使得当保持装置110处于图8中所示的闭合状态时在磁体114、124之间存在吸引力。

第一保持部件111具有沟槽，该沟槽与第二保持部件112上的对应的突起协作，以确定保持部件111、112在保持装置110处于闭合状态中时的相对定位。第一保持部件111的侧面与第二保持部件112的侧表面被成型为允许形状锁定接合，以便例如将保持装置从闭合状态转移成打开状态。可在保持装置111中构造横向贯穿保持装置110延伸以允许经所述保持装置110将液体从待处理材料21输送离开的通道130。由于这些设计特征对应于参照图6和7所述的保持装置22的设计特征，因此，可对所述图进行附加参考。

第一保持部件111的体部113中设有导电材料115，在示出的保持部件111的示例中，该导电材料115具有矩形设计。所述导电材料115可以例如是金属。导电材料115的一部分以这样一种方式伸出体部113，即，当保持装置110处于图8中所示的闭合状态时，该部分以在其端部处构造的接触面116触碰待处理材料21。所述接触面116既可用于机械地保持待处理材料21，又可用于与所述材料电接触。接触面116可设有涂层，该涂层可由不同于导电材料115的材料构造而成，例如由优质钢、混合氧化物或导电弹性体构造而成。

在保持部件111的在保持装置110处于图8中所示的闭合状态中时朝外侧露出的外表面上(在第一保持部件111的在图8中为上表面的表面上)设置有以导电的方式连接于导电材料115的另一导电接触面117。所述另一电接触面117可由不同于导电材料115的材料构造而成，例如由优质钢、混合氧化物或导电弹性体构造而成。用于该另一电接触面的材料可特别地以这样一种方式进行选择，即，在该另一电接触面117与接触元件118之间存在低阻接触，在处理设施内借助于该接触元件118供入电流。所述另一电接触面117可以这样一种方式构造而成，即，它横向于第一保持部件111的纵向方向地——即在待处理材料21的宽度方向上——宽于接触元件118的接触面119，在处理设施内，出于为其供给电流的目的，将该接触元件118的接触面119按压到该另一电接触面117上。

第一保持部件111可以这样一种方式构造而成，即，接触面116和该另一接触面117是扁平的设计。在另一实施方式中，接触面116和/或该另一接触面117可具有凸形形状。特别地，接触面116和该另一接触面117可以这样一种方式构造成具有凸形形状，即，与平面结构的接触面相比，待处理材料21或接触元件118的接触面119在更小的面积上但以更大的法向力接触。

在第二保持部件112的体部123中设有导电材料125，在示出的保持部件112的示例中，该导电材料125具有矩形设计。所述导电材料125可以特别是金属。导电材料125的一部分以这样一种方式伸出体部123，即，当保持装置110处于图8中所示的闭合状态中时，该部分以在其端部处构造的接触面126触碰待处理材料21。所述接触面126既可用于机械地保持待处理材料21，又可用于与所述材料电接触。接触面126可设有涂层，该涂层可由不同于导电材料125的材料构造而成，例如由优质钢、混合氧化物或导电弹性体构造而成。

在保持部件112的在保持装置110处于图8中所示的闭合状态中时朝外侧露出的外表面上(在第二保持部件112的在图8中为下表面的表面上)设置有以导电的方式连接于导电材料125的另一导电接触面127。所述另一电接触面127可由不同于导电材料125的材料构造而成，例如由优质钢、混合氧化物或导电弹性体构造而成。用于该另一电接触面127的材料可特别地以这样一种方式进行选择，即，在该另一电接触面127与接触元件128之间存在低阻接触，在处理设施内借助于该接触元件128供入电流。所述另一电接触面127可以这样一种方式构造而成，即，它横向于第二保持部件112的纵向方向地——即在待处理材料21的宽度方向上——宽于接触元件128的接触面129，在处理设施内，出于为其供给电流的目的，将该接触元件128的接触面129按压到该另一电接触面127上。

第二保持部件112可以这样一种方式构造而成，即，接触面126和该另一接触面127具有扁平的设计。在另一实施方式中，接触面126和/或该另一接触面127可分别具有凸形形状。特别地，接触面126和该另一接触面127可以这样一种方式构造成具有凸形形状，即，与平面结构的接触面相比，待处理材料21或接触元件128的接触面129在更小的面积上但以更大的法向力接触。

第一保持部件111中的导电材料115和第二保持部件112中的导电材料125可沿保持装置110的纵向方向被中断。所述第一保持部件111和所述第二保持部件112由此可沿它们的纵向方向分别具有多个导电材料115的节段和导电材料125的节段。作为选择，导电材料115和/或导电材料125还可以以销钉形的方式设置在第一保持部件111和/或第二保持部件112中。在另一改型中，导电材料115、125的沿待处理材料21的方向从第一保持部件111或第二保持部件112伸出的部分可以以***的方式构造而成，或者呈多个销钉的形状。以这种方式构造而成的接触面可成功地与待处理材料21充分接触。裂片或销钉可以以彼此间隔开的方式设置或成一排彼此紧邻设置。

已经借助于保持装置110安装的待处理材料21可输送通过处理设施，在该处理设施中，在电化学处理站内，接触元件118、128被压靠在朝外侧露出的接触面117、127上。接触元件可以是例如卡夹形式的常规接触元件。所述接触元件还可以具有辊形或圆盘形结构。接触元件118、128可特别地以大小相等但定向相反的力压靠在保持装置110的接触面117、127上。

在另一实施方式中，保持装置110可以这样一种方式构造而成，即，代替间隙和在保持装置110如图8中所示处于闭合状态中时接合在间隙中的突起，设置铰链，该铰链将上部保持部件111与下部保持部件112彼此连接，并将它们相对于彼此定位。

尽管如已经参照图6至8描述的用于扁平的待处理材料的保持装置22、110可用于输送具有低固有刚度的薄的待处理材料，但是，所述保持装置22、110还可用于安装较厚的基片和/或与较厚的基片接触。例如，根据本发明的保持装置110还可用于输送印刷电路板通过电镀设施等，即使所述印刷电路板具有很高的固有刚度而不必沿宽度方向拉伸它们。

图9是根据一实施方式的装载设备140的立体图。所述装载设备140可用作属于图1中的设施1的装载设备10。

装载设备140被设计成将具有第一保持部件23和第二保持部件24的保持装置22附接于扁平的待处理材料21。所述装载设备140包括可构造成支承板141的支承装置。所述支承板141可被构造成穿孔板。支承板141是能够借助于致动设备(未示出)竖向调整的。装载设备140还包括可枢转地安装在框架144上的两个折板142、143。出于打开和闭合该折板的目的，设置气动设备151、152。

在框架143上成两排设置有多个导向设备147。所述导向设备147被设计成接收保持装置22的第二保持部件24，并在向前输送所述保持装置22时对它进行导向。在各种情况下，在折板142、143中的每个上成排地设置有多个导向设备145。导向设备147被设计成接收保持装置22的第一保持部件23，并在向前输送所述保持装置22时对它进行导向。导向设备147和导向设备145可特别地以这样一种方式进行设置，即，在各种情况下，当折板142、143处于闭合状态时，导向设备145中的一个位于导向设备145中的一个的竖向上方。

装载设备140被设计成使保持装置22在它们的闭合状态与它们的打开状态之间转移，在闭合状态中，第一保持部件23和第二保持部件24彼此接触；在打开状态中，可将待处理材料21插置在所述保持装置22中。为此，导向设备147可被设计成在打开折板142、143时，将第二保持部件24紧固在所述导向设备147上使得第二保持部件24并不与第一保持部件23一起移动。导向设备145可被设计成，在打开折板142、143时，将第一保持部件23紧固在所述导向设备145上使得第一保持部件23与折板142或143一起移动远离第二保持部件24。

在第一保持部件和第二保持部件具有成型的外表面的情况下，导向设备147中的每个均可具有接合装置148，该接合装置148在打开折板142、143时以形状锁定的方式保持第二保持部件24。所述接合装置可包括例如具有外边缘的一个盘148或多个盘148，该外边缘的例如呈V形突起形状的轮廓与第二保持部件24的侧向轮廓互补。特别地，导向设备147中的每个均可具有至少两个外部轮廓与第二保持部件24的外部轮廓互补的盘148，该外部轮廓，所述两个盘148与所述第二保持部件24的相对的外表面相接合。同样，每个导向设备145均可具有接合装置146，该接合装置146以形状锁定的方式保持第一保持部件23。所述接合装置可包括例如具有外边缘的一个盘146或多个盘146，该外边缘的例如呈V形突起形状的轮廓与第一保持部件23的侧向轮廓互补。特别地，每个导向设备145均可具有至少两个外部轮廓与第一保持部件23的外部轮廓互补的盘146，所述两个盘146与所述第一保持部件23的相对的外表面相接合。

接下来将描述装载设备140的操作。在工作循环之初，折板142、143被闭合，并且在导向设备145、147中并未设有保持部件23、24。在闭合状态中，保持装置22被引入到由导向设备145、147所限定的导向件中。当将保持装置22完全引入到由导向设备145、147所限定的导向件中时，致动气动设备151、152，以打开折板142、143。在该过程中，接合装置148将第二保持部件24保持在导向设备147上，并且接合装置146将第一保持部件23保持在导向设备145上。当打开折板时，保持装置22对应地被转移到打开状态中。

将折板142、143打开得足够远以能够借助于机械手等将待处理材料21放置在由导向设备147所保持的两个第二保持部件24之间。在放置好待处理材料21之前，将支承板141竖向移动到能够支承放置在第二保持部件24上的所述材料的位置。在该过程中，支承板的表面可以设置成使得该表面与第二保持部件24的放置待处理材料21的接收区域处于一个平面中。

作为重新致动气动设备151、152的结果，折板142、143被闭合以使保持在所述折板142、143上的第一保持部件23与第二保持部件24再次接触。由此，将保持装置转移到闭合状态中，在这种情况下，在待处理材料21的沿纵向方向延伸的边缘区域处将待处理材料21保持在第一保持部件23与第二保持部件24之间。

在已将保持装置22转移到闭合状态之后，降低支承板141。将被所述保持装置22保持的待处理材料输送出装载设备140。这能够通过以旋转的方式驱动导向设备147上的盘状接合装置148和/或通过以旋转的方式驱动导向设备145上的盘状接合装置146而实现。

在一实施方式中，出于输送所述保持装置的目的，以旋转的方式驱动属于引导附接于待处理材料的一个纵向边缘的保持装置的至少一个导向设备145或147的盘状接合装置、和属于引导附接于待处理材料的另一纵向边缘的另一保持装置的至少一个另一导向设备145或147的盘状接合装置。在一实施方式中，在待处理材料的每一侧上以旋转的方式驱动属于至少一个导向设备145或147的盘状接合装置，当利用图1的设施1中的装载设备140时，该至少一个导向设备145或147设置于输送方向上的最外侧的位置处，即邻近缓冲设备12的位置。在另一实施方式中，以旋转的方式驱动属于所有导向设备147的盘状接合装置，以输送保持装置并由此输送安装在保持装置上的待处理材料。在每种情况下，都可出于输送保持装置目的而驱动属于对应导向设备的所有盘状接合装置。在一实施方式中，在每个导向设备中仅驱动部分盘状接合装置，例如驱动在外侧上抵靠保持装置的盘状接合装置，即设置在导向设备147的背离待处理材料的一侧上的盘状接合装置。

为了以安全可靠的方式对保持装置22进行导向，导向设备147和145可分别具有两个颊板153和154，这两个颊板153和154能够朝向彼此移位。在颊板153与154之间分别设置有凹部，第二或第一保持部件的至少一部分可插置到该凹部中。移动设备155联接于颊板153和154中的至少一个，以相对于彼此调节所述颊板。移动设备155可例如被构造成联接于内颊板153的气动设备。所述移动设备能够以这样一种方式相对于彼此调节颊板153、154，即，附接于颊板的相应的盘状接合装置148和146抵压保持装置的在导向设备中受引导的保持部件。在以旋转的方式驱动对应的导向设备中的盘状接合装置以沿输送方向输送保持装置的情况下，移动设备155可以设置成调节颊板153、154以使得当以旋转的方式驱动盘状接合装置时，保持装置22因属于导向设备的接合装置与所述保持装置22之间的摩擦力锁定连接而移动。可选地或另外地，属于导向设备的盘状接合装置与保持装置之间的形状锁定连接也可设置成使得当旋转盘状接合装置时所述保持装置移动。

然而，在图9中所示的实施方式中，导向设备既用于沿输送方向引导保持装置，又用于在打开折板时紧固住保持装置的保持部件以使所述保持部件彼此分离开，出于这些目的，可设置分离设备。例如，可设置销钉形的接合装置，以便在打开折板时紧固住保持装置的保持部件使得所述保持部件彼此分离开，而在沿输送方向输送期间导向设备引导保持装置。

气动设备151、152打开折板142、143，并因此充当致使与第一保持部件23接合的接合装置146相对于与第二保持部件24接合的接合装置148移动的移动装置。气动设备151、152可被构造和致动成，在每种情况下，所施加的力或作用在折板142、143上的转矩随着所述折板142、143的打开角度的增大而减小。例如，可以设置气动压力冲杆151，该气动压力冲杆151能够在整个第一路径上施加第一力，以实现折板143的最初打开，并且在该过程中能够将保持装置22的保持部件23、24彼此分开。折板143的进一步打开可借助于另一气动设备152或其它致动器来实现，该另一气动设备152或其它致动器可比压力冲杆151在更长的路径上致动但仅施加较小的力。

对于参照图9描述的装载设备140进行的改良可在其它实施方式中实施。例如，分别保持该保持装置22的第一保持部件23和第二保持部件24的接合装置可以设计成使得这些接合装置以力锁定的方式保持所述第一保持部件和所述第二保持部件，以便将所述保持装置从闭合状态转移到打开状态中。例如，代替使用竖向可调的支承板141，还可使用产生气垫的设备以便例如在保持装置处于打开状态时支承待处理材料21。在达到闭合状态之前，保持装置22还可被偏转到使它们具有平行于输送平面的弯曲应力的状态中。

已经参照图9描述的设备不仅可用作装载设备，还可用作卸载设备。在用作卸载设备的情况下，以这样一种方式颠倒上述的作用时序，即，将由保持装置保持的待处理材料供给至该设备，然后将所述保持装置从闭合状态转移到打开状态中，以能够将待处理材料从保持装置移除。可将这种卸载设备用作图1的设施1中的卸载器13。

图10是缓冲设备160的立体图，该缓冲设备160可用作用作图1中的处理设施中的缓冲设备12或缓冲设备14。

所述缓冲设备可设置用以完成除接收已经从装载设备发送或即将供给至卸载设备中的待处理材料之外的其它任务。如接下来将以缓冲设备160为例说明的，所述缓冲设备能够在将待处理材料从装载设备向生产线输送的同时，沿横向于输送方向的方向拉伸由保持装置沿纵向边缘保持的待处理材料。可选地或者另外地，缓冲设备可设置用以设定相继的基片或待处理材料之间的距离。所述缓冲设备还可设置用以在附接于待处理材料的相对的纵向边缘的保持装置之间建立同步性，使得沿输送方向将所述保持装置设置在完全相同的位置处，即使得所述保持装置保持同步。

缓冲设备160具有第一组输送设备162和第二组输送设备163，它们附接于框架161。在第一组输送设备162和第二组输送设备163中的每个输送设备都被设置成引导并向前移动保持着待处理材料21的保持装置22。为此，每个输送设备具有用于接收保持装置22的对应的导槽。可旋转地安装的驱动盘165、168沿导槽设置在输送设备中。所述驱动盘可在导槽的相对两侧上成对地设置。以旋转的方向驱动驱动盘使得保持装置沿输送方向移动。例如，可以旋转的方式驱动每个输送设备中的至少一个驱动盘，以移动保持装置。在一个实施方式中，驱动每个输送设备中的在保持装置的外侧上抵靠保持装置的一对驱动盘，即在输送设备的背离待处理材料的一侧上的一对驱动盘。所述保持装置的移动使得向前输送被保持装置所保持的待处理材料。因此，即使是在缓冲设备160中，也是通过输送设备164、166、167、169移动其上安装有待处理材料的保持装置而实现所述待处理材料的输送。

每个输送设备可具有两个颊板173、174，这两个颊板173和174能够朝向彼此移位，并且在这两个颊板173与174之间构造有导槽172。移动设备175联接于颊板173或174中的至少一个，以相对于彼此调节所述颊板。每个颊板上均可设有一对驱动盘。移动设备175可例如被构造成联接于内颊板173的气动设备。所述移动设备能够以这样一种方式相对于彼此调节颊板173、174，即，使附接于所述颊板的驱动盘抵靠保持装置的设置在导槽中的保持部件。移动设备175可以被装配成以这样一种方式调节颊板173、174，即，当以旋转的方式驱动该驱动盘时，所述驱动盘与所述保持装置22之间的摩擦力锁定连接导致保持装置22移动。作为选择或此外，驱动盘与保持装置22之间的形状锁定连接也可以设置成使得在驱动盘旋转时所述保持装置22移动。

属于输送设备组161、162的输送设备可以这样一种方式设置，即，当输送由保持装置保持的待处理材料时，在所述待处理材料的相对的纵向边缘处保持所述待处理材料的所述保持装置之间的距离逐渐增大。为此，输送设备可以这样一种方式进行设置，即，输送设备166、169的导槽之间的距离比输送设备164、167中的导槽之间的距离大。输送设备的为侧向附接于待处理材料的两个保持装置设置的导槽之间的距离可沿输送方向增大。这样以来，待处理材料在它被装载设备输送至生产线的同时，可在缓冲设备160内被逐渐拉伸。

为了监控保持装置在缓冲设备160内的移动，在所述输送设备上设置有检测保持装置经由对应的输送设备通过的传感器170。设置有用于设定基片之间的距离的其它传感器171。所述传感器171可例如检测连续的基片或待处理材料上的保持装置之间的距离。取决于所检测到的实际距离，可向前移动附接于连续基片的保持装置使得调整到所需的理想距离。

根据多个实施方式的设备、方法和保持装置使得能够以这样一种方式在用于对待处理材料进行化学和/或电化学处理的设施内输送所述材料，即，能够安全地输送固有稳定性低或具有敏感表面的待处理材料。

可在其它实施方式中实现对已经在附图中示出并以详细的方式描述的实施方式的多种改良。

尽管在参照图3和4描述的输送设备中，可移动支承件弹性地向外按压设置在待处理材料的两侧上的保持装置，但是在一种改良中，为附接于待处理材料的一个纵向边缘的保持装置设置可移动支承件而为附接于所述待处理材料的另一纵向边缘的保持装置设置固定支承件是可能的。在其它实施方式中，横向于输送方向并且处于输送平面内的作用于待处理材料的力不仅可由机械支承件产生，而且可由横向于所述输送方向流动的流体流产生。

尽管已经在实施方式的上下文中描述了具有输送辊的输送设备，但还可在其它实施方式中使用其它输送设备。例如，输送设备可具有回转链。在保持装置上可构造有允许将在待处理材料的纵向边缘处保持该待处理材料的保持装置钩挂到所述回转链中的接合部分。

横向于输送方向并且处于输送平面内的作用于待处理材料的力的分量不是必须由输送设备提供。在其它实施方式中，可设置有例如弹性元件，该弹性元件联接于作用在待处理材料的相对的纵向边缘上的两个保持装置并且远离彼此地按压所述保持装置。这对保持装置和弹性元件由此形成框架，该框架在纵向边缘处稳定住待处理材料并且沿宽度方向拉伸所述材料。弹性元件可沿待处理材料的宽度方向在作用于所述材料的相对的纵向边缘上的保持装置之间延伸。所述弹性元件可以这样一种方式进行设计，即，它们相对较薄，例如厚度为小于3mm。

在再一实施方式中，可设置弹性元件，该弹性元件联接于作用在待处理材料的相对的纵向边缘上的两个保持装置，并且该弹性元件远离彼此地按压所述保持装置。该弹性元件可以相对较薄，例如被构造成厚度为小于3mm。每个保持装置可被分成多个部分，这多个部分沿待处理材料的纵向方向间隔开。可在每个保持装置的多个部分之间设置其它弹性元件，该其它弹性元件沿待处理材料的纵向方向远离彼此地按压对应保持装置的部分。保持装置具有弹性元件和其它弹性元件的部分形成绝对弹性的框架，该框架能够既沿纵向方向又沿宽度方向拉伸待处理材料。

尽管可将保持装置附接于待处理材料的两个纵向边缘，以保持待处理材料，但是在其它实施方式中，在沿纵向边缘的至少两点处保持所述待处理材料的保持装置还可仅附接于待处理材料的平行于输送方向延伸的边缘区域中的一个。

尽管已经在设施的上下文中描述了待处理材料在水平的输送平面内移动的实施方式，但是同样可在以竖直定向的方式输送待处理材料的情况下使用所述设备和方法。

待处理材料可在进行输送的同时被浸没在处理液体中。即使是在浸没的待处理材料的情况下，仍然可以适当的方式使用根据多个实施方式的输送设备和保持装置。

固有稳定性低的待处理材料的输送是本发明的实施方式可有利地使用的其中一个应用领域。

此外，特别地，根据本发明的保持装置还能够用于输送印刷电路板等，印刷电路板等具有高固有稳定性，从而在输送期间并不横向于输送方向对它们进行拉伸。例如，诸如在权利要求22至24中限定且已经参照图8的实施方式更为详细地描述的根据本发明的保持装置可广泛地用于在电解设施等内输送基片或其它待处理材料。

附图标记列表

1处理设施

2生产线

3、4处理站

5输送方向

6、7横向于输送方向的分力

8待处理材料

9保持装置

10装载设备

11被保持装置保持的待处理材料

12缓冲设备

13卸载设备

14另一缓冲设备

15已经处理过的待处理材料

16保持装置

21待处理材料

22a、22b保持装置

23、26第一保持部件

24、27第二保持部件

28、29斜面

B待处理材料的宽度

BR边缘区域的宽度

L待处理材料的长度

LH保持装置的长度

31详图

32、33接触缘

34、35液体通道

41输送设备

42、43辊式输送器

44、44’施压辊

45、45’可移动支承件(带有沟槽的辊)

46齿轮

47支承插件

48间隙

51、52轴

53导槽

54、55磁体

56用于磁体的安装装置

57拉伸力

61止挡元件

62旋转夹带装置

63重物

64离合器

71处理站

72、73输送设备的部分

75供给区域

76、77另外的供给区域

81体部

82接触缘

83沟槽

84硬芯

85磁体

86体部

87轮廓部

91体部

93突起

94硬芯

95磁体

96体部

97轮廓部

101-104保持部件的端部区域

110保持装置

111、112保持部件

113体部

114磁体

115导电材料

116、117接触面

118接触元件

119接触面

123体部

124磁体

125导电材料

126、127接触面

128接触元件

129接触面

130通道

140装载设备

141支承台

142、143折板

144框架

145、147导向设备

146、148接合装置

151、152气动设备

153、154导向设备的颊板

155移动设备

160缓冲设备

161框架

162、163输送设备组

164、166、

167、169输送设备

165、168驱动盘

170、171传感器

172导槽

173、174输送设备的颊板

175移动设备

176联接器

Claims (18)

1.一种用于在对扁平的待处理材料(21)进行化学和/或电化学处理的设施内输送所述待处理材料(21)的方法，其中，所述待处理材料(21)沿输送方向(5)在输送平面内进行输送，所述方法包括下列步骤：

将保持装置(22；110)附接于所述待处理材料(21)，所述保持装置在所述材料的边缘区域上的至少两个点处保持所述待处理材料(21)，所述边缘区域在所述待处理材料(21)进行输送时沿所述输送方向(5)定向；以及

使所述保持装置(22；110)在所述输送方向(5)上运动，其中，保持所述待处理材料(21)的所述保持装置(22；110)可拆卸地联接到所述设施(1)的输送设备(41)上，以便输送所述待处理材料(21)；

其中，所述输送设备(41)包括拉伸装置(45、54、55)，所述拉伸装置(45、54、55)用于对附接于所述待处理材料(21)的所述保持装置(22；110)施加在所述输送平面内且横向于所述输送方向(5)定向的力(57)；

其中，至少在所述待处理材料(21)的部分输送期间，在所述待处理材料(21)的至少一个区域上施加力，所述力具有位于所述输送平面内并横向于所述输送方向(5)定向的分力(6、7)。

2.根据权利要求1所述的方法，

其中，另一保持装置(25)在所述待处理材料(21)的另一边缘区域处保持所述材料(21)，并且，将分力(6、7)沿相反方向施加在所述保持装置(22)和所述另一保持装置(25)上。

3.根据权利要求1或2所述的方法，

其中，经由所述保持装置(110)实现与所述待处理材料(21)的电接触以用于电化学处理。

4.根据权利要求1或2所述的方法，

其中，所述待处理材料是具有低固有刚度的待处理材料(21)，或者所述待处理材料是印刷电路板。

5.根据权利要求1或2所述的方法，

其中，所述待处理材料是薄片。

6.一种用于输送扁平的待处理材料(21)的设备(41)，所述待处理材料(21)借助于保持装置(22；110)沿边缘区域安装，所述设备(41)用于对所述待处理材料(21)进行化学和/或电化学处理的设施(1)，其中所述设备被设置成在输送平面内沿输送方向(5)输送所述待处理材料(21)，所述设备包括：

输送装置(44、45)，所述输送装置(44、45)能够以可拆卸的方式联接到所述保持装置(22；110)上，并且被构造成使其上安装有所述待处理材料(21)的所述保持装置(22；110)沿所述输送方向(5)运动；和

拉伸装置(45、54、55)，所述拉伸装置(45、54、55)用于对附接于所述待处理材料(21)的所述保持装置(22；110)施加在所述输送平面内且横向于所述输送方向(5)定向的力(57)；

其中，所述设备(41)被构造成至少在所述待处理材料(21)的部分输送期间将力施加到所述待处理材料(21)的至少一个区域上，所述力具有位于输送平面内并且横向于所述输送方向(5)定向的分力(6、7)。

7.根据权利要求6所述的设备，

其中，所述拉伸装置包括用于引导所述保持装置(22；110)的可移动支承件(45)，所述输送装置包括驱动轴(52)，

其中，所述可移动支承件(45)附接于所述驱动轴(52)。

8.根据权利要求6所述的设备，

其中，所述拉伸装置包括用于引导所述保持装置(22；110)的可移动支承件(45)，

其中，所述拉伸装置包括力作用装置(54、55)，以便横向于所述输送方向(5)对所述可移动支承件(45)施加力(57)。

9.根据权利要求8所述的设备，

其中，所述力作用装置(54、55)是至少一个磁体。

10.根据权利要求6所述的设备，

其中，所述设备被构造成用以输送通过另一保持装置(25)沿另一边缘区域安装的待处理材料(21)，

其中，所述设备包括另一拉伸装置(45’)，所述另一拉伸装置(45’)被构造成对所述另一保持装置(25)施加在所述输送平面内且横向于所述输送方向(5)定向的力。

11.用于对扁平的待处理材料(21)进行化学和/或电化学处理的设施的、输送所述待处理材料(21)的***，所述***包括：

根据权利要求6所述的用于输送扁平的待处理材料(21)的设备(41)；以及

保持装置(22；110)，所述保持装置(22；110)能够联接到所述待处理材料(21)的所述边缘区域上，其中，所述设备的所述输送装置以可拆卸的方式联接到所述保持装置(22；110)上。

12.根据权利要求11所述的***，进一步包括：

用于所述对待处理材料(21)进行化学和/或电化学处理的设施的装载或卸载设备，

其中，所述装载或卸载设备(140)被设置成在打开状态与用于保持所述待处理材料的闭合状态之间转移所述保持装置，并且所述装载或卸载设备(140)包括支承设备(141)，所述支承设备(141)用于在将所述保持装置(22；110)转移到所述打开状态时支承所述待处理材料(21)。

13.根据权利要求12所述的***，其中，所述装载或卸载设备被构造成接收处于所述闭合状态的所述保持装置(22；110)、将所述保持装置(22；110)从所述闭合状态转移到所述打开状态然后再回到所述闭合状态、并将所述保持装置(22；110)以所述闭合状态送出。

14.根据权利要求11所述的***，其中，所述保持装置(22；110)被构造成用以在所述待处理材料(21)的所述边缘区域中在至少两个点处保持所述材料；所述保持装置(22；110)被构造成在所述保持装置(22；110)处于联接到所述输送设备(41)上的状态时将所述待处理材料(21)保持成使得所述待处理材料(21)的被所述保持装置(22；110)所保持的边缘区域沿所述输送方向(5)延伸。

15.根据权利要求14所述的***，其中，所述保持装置(22；110)包括用于保持所述待处理材料(21)的至少一个保持部分(82；116、126)，所述至少一个保持部分沿在所述保持装置(22；110)处于联接到所述输送设备上的状态时对应于所述输送方向(5)的方向延伸和设置。

16.根据权利要求14所述的***，其中，所述保持装置(22；110)包括用于保持所述待处理材料(21)的多个保持部分(82；116、126)，所述多个保持部分沿在所述保持装置(22；110)处于联接到所述输送设备上的状态时对应于所述输送方向(5)的方向设置。

17.根据权利要求14所述的***，其中，所述保持装置(22；110)包括：

第一保持部件(23；111)和第二保持部件(24、112)，所述第一保持部件(23；111)和第二保持部件(24、112)具有用于安装所述待处理材料(21)的闭合状态和用于***所述待处理材料(21)的打开状态，所述第一保持部件(23；111)和第二保持部件(24、112)被设置成在处于所述闭合状态时至少通过所述第一保持部件(23；111)与所述第二保持部件(24、112)之间的力锁定连接保持所述待处理材料(21)；以及

定位装置(83、93)，用以在处于所述闭合状态时，以预定布置相对于彼此定位所述第一保持部件(23；111)和所述第二保持部件(24；112)。

18.根据权利要求14所述的***，其中，所述保持装置(22；110)包括保持轨道(23、24；111)，在所述保持轨道(23、24；111)中形成有用于液体的通道(88、89；130)。