CN100522886C - 一种陶瓷开光釉制作方法及其釉料 - Google Patents

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Abstract

一种陶瓷开光釉制作方法及其釉料，采用在陶瓷坯体上先上一次底釉，再上一次面釉的二次上釉方法，且面釉表面张力远远大于底釉；再将上好两次釉的陶瓷坯体送入窑炉，用常规的高温烧制，在高温条件下由于底釉和面釉张力差异的作用，面釉裂开显现出光泽的底釉与无光的面釉相映衬形成开光效果。所述的釉料分为底釉和面釉，底釉和面釉由基釉和色剂两部分组成，其组成的重量百分比为：基釉80-100%、色剂0-20%，色剂为陶瓷用商品颜料或工业用氧化物。

Description

一种陶瓷开光釉制作方法及其釉料
技术领域：
本发明属于一种陶瓷的后处理釉料的制作方法及其釉料，尤其是指一种日用陶瓷和陈设陶瓷表面陶瓷开光釉料制作方法及其釉料，属于无机非金属陶瓷釉料及其制作工艺，用于陶瓷表面装饰而获得更佳效果。
背景技术：
陶瓷表面形成开光效果具有特别的立体美感，其制品倍受市场欢迎。虽然也可以在无光的釉面描绘亮光金，二次彩烧也能获得类似开光的效果。但这样工艺复杂，价格昂贵，其在市场受到很大制约，而且产品的耐久性不好，耐磨性较差，色彩变化不丰富。
发明内容：
本发明的目的是提供一种开光釉效果的制作方法，该方法应比现有的开光釉效果的工艺方法更为简单，且价格便宜，耐久性、耐磨性更好，色彩变化丰富。
本发明的另一目的在于提供一种适合上述开光釉效果制作方法的开光釉料。
所述的发明目的是通过下述技术方案实现的：采用在陶瓷坯体上先上一次底釉，再上一次面釉的二次上釉方法，且面釉表面张力远远大于底釉；再将上好两次釉的陶瓷坯体送入窑炉，用常规的高温烧制，在高温条件下由于底釉和面釉张力差异的作用，面釉裂开显现出光泽的底釉与无光的面釉相映衬形成开光效果。
所述的釉料分为底釉和面釉，底釉和面釉由基釉和色剂两部分组成，其组成的重量百分比为：基釉80—100％、色剂0—20％，色剂为陶瓷用商品颜料或工业用氧化物。
所述的底釉和面釉的施涂方法可以是喷涂或刷涂，也可以是浸釉，施釉时应保证底釉的厚度在0.2～0.3毫米，面釉的厚度在0.3～0.4毫米。
所述的底釉的基釉主要包括SiO2、Al2O3、CaO、ZnO、Li2O、MgO、K2O和Na2O，由长石、石英、方解石、滑石(烧)和锂瓷石任意组合制成，以保证底釉的基釉化学组成含量如下：
SiO2：50～67％         Al2O3：9～14％       CaO：3.2～6.3％
ZnO：2～4％            Li2O：0～0.5％       MgO：0.5～1.0％
K2O：4.1～6.2％        Na2O：2.1～4.5％     其余为杂质。
所述的面釉的基釉主要包括SiO2、Al2O3、CaO、ZnO、Li2O、MgO、K2O和Na2O，由长石、石英、方解石、滑石(烧)和锂瓷石任意组合制成，以保证面釉的基釉化学组成含量如下：
SiO2：48～60％    Al2O3：12～20％     CaO：3.2～4.2％
ZnO：0～1％       Li2O：0～0.5％      MgO：6.2～7.8％
K2O：3.8～6.0％   Na2O：1.8～4.3％    其余为杂质。
所述的底釉和面釉的制作方法与常规釉料制作工艺基本一样：按配方称取各种原料，将原料球磨，按原料：球石：水＝1：1.5～2：0.6球磨24小时，底釉细度为：325目筛筛余0.1～0.15％，面釉细度为：325目筛筛余0.05～0.1％，加水稀释过160目筛，即可上釉。
本发明开光釉效果的作用原理：
本发明是陶瓷坯体上施两层釉料后再去烧制的，且有意识的将面釉表面张力远远大于底釉，所以在高温条件下由于力的作用，面釉裂开显现出光泽的底釉与无光的面釉相映衬形成开光效果。
原料的化学分析如下：
Figure C200710035136D00061
本发明特点在于：
1、调节底、面釉颜色可获得色彩丰富的表面装饰效果。
2、调节釉料的百分组成可获得不同的开光效果及适用于不同的烧成温度和气氛。
3、不仅适用于日用陶瓷同样也适用于制造墙地砖产品。
具体实施方式：
下面将结合具体实施例对本发明作进一步的描述。
实施例一
在平盘上做开光釉效果。用瓷土塑一平盘，烘干。采用浸釉的方法在平盘坯体上施一层红色光泽底釉，其厚度为0.2～0.3毫米；再在平盘坯体上采用喷釉的方法在底釉基础上喷一层0.3～0.4毫米的白色无光面釉。入窑经高温一次烧制，得有立体感的白釉开红光的平盘。
所述的底釉由基釉和色剂两部分组成，其组成的重量百分比组成为：基釉80％、色剂20％，色剂为陶瓷用商品颜料或工业用铁红粉。
所述的底釉的基釉主要包括SiO2、Al2O3、CaO、ZnO、Li2O、MgO、K2O和Na2O，由长石、石英、方解石、滑石(烧)和锂瓷石任意组合制成，以保证底釉的基釉化学组成含量如下：
SiO2：66％        Al2O3：12％       CaO：6.3％
ZnO：3％          Li2O：0.5％       MgO：0.5％
K2O：5.7％        Na2O：4.2％       其余为杂质。
所述的面釉为白色无光面釉。
所述的面釉的基釉主要包括SiO2、AL2O3、CaO、ZnO、Li2O、MgO、K2O和Na2O，由长石、石英、方解石、滑石(烧)和锂瓷石任意组合制成，以保证面釉的基釉化学组成含量如下：
SiO2：56％    Al2O3：20％     CaO：4.2％
ZnO：0.5％    Li2O：0.5％     MgO：7.8％
K2O：6.0％    Na2O：4.3％     其余为杂质。
所述的底釉和面釉的制作方法与常规釉料制作工艺一样：按配方称取各种原料，将原料球磨，按原料：球石：水＝1：1.5～2：0.6球磨24小时，底釉细度为：325目筛筛余0.1～0.15％，面釉细度为：325目筛筛余0.05～0.1％，加水稀释过160目筛，即可上釉。
实施例二
在日用杯上做开光釉效果。用瓷土塑一杯，烘干。采用刷釉的方法在杯坯体上施一层黑色光泽底釉，其厚度为0.2～0.3毫米；再在杯坯体上采用喷釉的方法在底釉基础上喷一层0.3～0.4毫米的绿色光面釉。入窑经高温一次烧制，得有立体感的绿釉开黑光的杯子。
所述的底釉由基釉和色剂两部分组成，其组成的重量百分比组成为：基釉90％、色剂10％，色剂为陶瓷用商品颜料或工业用黑粉。
所述的底釉的基釉主要包括SiO2、Al2O3、CaO、ZnO、Li2O、MgO、K2O和Na2O，由长石、石英、方解石、滑石(烧)和锂瓷石任意组合制成，以保证底釉的基釉化学组成含量如下：
SiO2：66.5％     Al2O3：11.5％      CaO：6.2％
ZnO：3.5％       Li2O：0.5％        MgO：0.8％
K2O：6.0％       Na2O：4.5％        其余为杂质。
所述的面釉也是由釉基釉和色剂两部分组成，其组成的重量百分比组成为：基釉95％、色剂5％，色剂为陶瓷用商品颜料或工业用铬绿粉末。
所述的面釉的基釉主要包括SiO2、AL2O3、CaO、ZnO、Li2O、MgO、K2O和Na2O，由长石、石英、方解石、滑石(烧)和锂瓷石任意组合制成，以保证面釉的基釉化学组成含量如下：
SiO2：59％          Al2O3：19.5％        CaO：4.2％
Na2O：2.8％         MgO：7.2％           Li2O：0.3％
K2O：5.8％          其余为杂质。
所述的底釉和面釉的制作方法与实施例一一样。

Claims (3)

1、一种陶瓷开光釉制作方法，其特征在于：采用在陶瓷坯体上先上一次底釉，再上一次面釉的二次上釉方法；再将上好二次釉的陶瓷坯体送入窑炉烧制，通过底釉和面釉张力差异的作用，面釉裂开显现出光泽的底釉与无光的面釉相映衬形成开光效果；且所述的釉料分为底釉和面釉，底釉和面釉由釉基釉和色剂两部分组成，其组成的重量百分比组成为：基釉80—100％、色剂0—20％，色剂为陶瓷用商品颜料或工业用氧化物；所述的底釉的基釉包括SiO2、Al2O3、CaO、ZnO、Li2O、MgO、K2O和Na2O，由长石、石英、方解石、滑石和锂瓷石任意组合制成，底釉的基釉化学组成含量如下：
SiO2：50～67％           Al2O3：9～14％         CaO：3.2～6.3％
ZnO：2～4％              Li2O：0～0.5％        MgO：0.5～1.0％
K2O：4.1～6.2％          Na2O：2.1～4.5％       其余为杂质。
所述的面釉的基釉包括SiO2、Al2O3、CaO、ZnO、Li2O、MgO、K2O和Na2O，由长石、石英、方解石、滑石和锂瓷石任意组合制成，面釉的基釉化学组成含量如下：
SiO2：48～60％         Al2O3：12～20％        CaO：3.2～4.2％
ZnO：0～1％            Li2O：0～0.5％        MgO：6.2～7.8％
K2O：3.8～6.0％        Na2O：1.8～4.3％      其余为杂质。
2、如权利要求1所述的开光釉制作方法，其特征在于：所述的底釉和面釉的施涂方法是喷涂或刷涂，或是浸釉，施釉时应同时保证底釉的厚度在0.2～0.3毫米，面釉的厚度在0.3～0.4毫米。
3、如权利要求1所述的开光釉制作方法，其特征在于：所述的底釉和面釉的制作方法是，按配方称取各种原料，将原料球磨，按原料：球石：水＝1：1.5～2：0.6球磨24小时，同时控制底釉细度为：325目筛筛余0.1～0.15％，面釉细度为：325目筛筛余0.05～0.1％，加水稀释过160目筛，即可上釉。
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