CN110615674A - 一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺 - Google Patents

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Abstract

一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，釉上彩工艺瓷包括坯体和釉料，釉料包括以下原料：石英岩、夕线石、海泡石、白云石、硼砂、石粉、低温熔块、氧化锆、氧化锌、氧化钇，釉料中的海泡石、夕线石的热膨胀系数小，通过二者的配合可降低釉料的热膨胀系数，使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数，石粉可以提高釉料的细腻度，增加釉面的美观，同时釉料中还包括有低温熔块，低温熔块通过煅烧制成，可有效降低釉料的烧成温度，低温熔块中的硅灰石的热膨胀系数小，可进一步降低釉料的热膨胀系数，使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数，保证釉料烧制时，不会龟裂，保证工艺瓷的釉面的美观。

Description

一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺
技术领域
本发明属于工艺瓷制备领域，具体涉及一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺。
背景技术
陶瓷行业是能耗大户，在能源消耗中占了很大的比例，降低陶瓷生产能耗是陶瓷行业一项长期而重要的任务，在所有的能耗方式中，降低坯体的烧成温度，实现低温快烧是解决能耗过大的根本性办法，其优越性已在陶瓷界形成共识。
釉上彩是陶瓷的主要装饰技法之一，它是用各种彩料在已经烧成的瓷器釉面上绘制各种纹饰，然后二次入窑，通常包括彩绘瓷、彩饰瓷、青花加彩瓷、五彩瓷、粉彩瓷、色地描金瓷及珐琅彩等。釉上彩用釉料不仅要求附着力强，能有效附着于瓷器釉面上，而且要求具有优异的耐腐蚀性、耐磨性和耐候性，图案呈现效果好，目前釉上彩在二次烧制过程中，容易开裂，严重影响外观质量，有待进一步改进。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术的缺点，提供一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺。
本发明采用如下技术方案：
一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，所述釉上彩工艺瓷包括坯体和釉料，
坯体包括以下重量份的原料：钾长石22-25份、埃洛石18-22份、德化石英35-40份、硅藻土10-15份、白云石10-15份、蛭石5-8份、赤铁矿3-5份、氮化硼4-8份、氧化镧1-3份、硅酸锆1-2份、氧化钇0.5-0.8份；
釉料包括以下重量份的原料：石英岩30-40份、夕线石18-22份、海泡石12-15份、白云石10-15份、硼砂5-8份、石粉3-5份、低温熔块10-12份、氧化锆1-3份、氧化锌4-8份、氧化钇1-2份；
其制备工艺包括如下步骤：
步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；
步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1150-1180℃下熔炼成低温熔块，
步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；
步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；
步骤五，将坯体送入窑炉中，在980-1020℃下素烧7-9h，获得素坯；
步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；
步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1130-1160℃。
进一步的，所述低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石20-25份、硅灰石10-15份、菱铁矿5-8份、硼酸3-5份、氧化镁4-8份、碳酸钙1-3份、氧化钛1-2份、氧化钴0.5-0.8份。
进一步的，所述步骤七中烧成控制如下：
低温阶段：窑炉内由常温升至300±10℃，烧窑时间50-70min；
分解氧化阶段：窑炉内升温至950±5℃，烧窑时间3.5-4.5小时；
高温强还原阶段：窑炉内升温至1145±15℃，烧窑时间3.8-4.2小时；
高火保温阶段：窑炉内温度控制在1145±15℃，烧窑时间1.8-2.2小时；
自然冷却阶段：窑炉内冷却至30-60℃，冷却时间延长至8小时以上。
进一步的，所述步骤一中坯浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨18-20h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.2-1.5:0.8-1。
进一步的，所述步骤三中釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨24-30h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.8-2:1-1.2。
进一步的，所述步骤四中坯体的成型方法为手拉坯成型或碾压成型或注浆成型。
进一步的，所述步骤六中，釉浆的施釉方式为淋釉或浸釉。
进一步的，所述釉料的厚度为0.3-0.5mm。
由上述对本发明的描述可知，与现有技术相比，本发明的有益效果是：釉料中的海泡石、夕线石的热膨胀系数小，通过二者的配合可降低釉料的热膨胀系数，使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数，石粉可以提高釉料的细腻度，增加釉面的美观，同时釉料中还包括有低温熔块，低温熔块通过煅烧制成，可有效降低釉料的烧成温度，低温熔块中的硅灰石的热膨胀系数小，可进一步降低釉料的热膨胀系数，使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数，保证釉料烧制时，不会龟裂，保证工艺瓷的釉面的美观。
具体实施方式
以下通过具体实施方式对本发明作进一步的描述。
一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷，包括坯体和釉料，釉料的厚度为0.3-0.5mm。
坯体包括以下重量份的原料：钾长石22-25份、埃洛石18-22份、德化石英35-40份、硅藻土10-15份、白云石10-15份、蛭石5-8份、赤铁矿3-5份、氮化硼4-8份、氧化镧1-3份、硅酸锆1-2份、氧化钇0.5-0.8份。
釉料包括以下重量份的原料：石英岩30-40份、夕线石18-22份、海泡石12-15份、白云石10-15份、硼砂5-8份、石粉3-5份、低温熔块10-12份、氧化锆1-3份、氧化锌4-8份、氧化钇1-2份。
低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石20-25份、硅灰石10-15份、菱铁矿5-8份、硼酸3-5份、氧化镁4-8份、碳酸钙1-3份、氧化钛1-2份、氧化钴0.5-0.8份。
其制备工艺包括如下步骤：
步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；
步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1150-1180℃下熔炼成低温熔块，
步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；
步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；
步骤五，将坯体送入窑炉中，在980-1020℃下素烧7-9h，获得素坯；
步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；
步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1130-1160℃。
具体的，步骤七中烧成控制如下：
低温阶段：窑炉内由常温升至300±10℃，烧窑时间50-70min；
分解氧化阶段：窑炉内升温至950±5℃，烧窑时间3.5-4.5小时；
高温强还原阶段：窑炉内升温至1145±15℃，烧窑时间3.8-4.2小时；
高火保温阶段：窑炉内温度控制在1145±15℃，烧窑时间1.8-2.2小时；
自然冷却阶段：窑炉内冷却至30-60℃，冷却时间延长至8小时以上。
步骤一中坯浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨18-20h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.2-1.5:0.8-1。
步骤三中釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨24-30h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.8-2:1-1.2。
步骤四中坯体的成型方法为手拉坯成型或碾压成型或注浆成型。
步骤六中，釉浆的施釉方式为淋釉或浸釉。
实施例1
一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷，包括坯体和釉料，釉料的厚度为0.3mm。
坯体包括以下重量份的原料：钾长石22份、埃洛石22份、德化石英35份、硅藻土15份、白云石10份、蛭石5份、赤铁矿5份、氮化硼4份、氧化镧3份、硅酸锆1份、氧化钇0.8份。
釉料包括以下重量份的原料：石英岩30份、夕线石22份、海泡石12份、白云石15份、硼砂5份、石粉5份、低温熔块10份、氧化锆1份、氧化锌8份、氧化钇1份。
低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石20份、硅灰石15份、菱铁矿5份、硼酸5份、氧化镁4份、碳酸钙3份、氧化钛1份、氧化钴0.8份。
其制备工艺包括如下步骤：
步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；
步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1150℃下熔炼成低温熔块，
步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；
步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；
步骤五，将坯体送入窑炉中，在1020℃下素烧7h，获得素坯；
步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；
步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1160℃。
具体的，步骤七中烧成控制如下：
低温阶段：窑炉内由常温升至310℃，烧窑时间50min；
分解氧化阶段：窑炉内升温至955℃，烧窑时间3.5小时；
高温强还原阶段：窑炉内升温至1160℃，烧窑时间3.8小时；
高火保温阶段：窑炉内温度控制在1160℃，烧窑时间1.8小时；
自然冷却阶段：窑炉内冷却至60℃，冷却时间延长至8小时以上。
步骤一中坯浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨18h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.2:0.8。
步骤三中釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨24h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.8:1.2。
步骤四中坯体的成型方法为手拉坯成型。
步骤六中，釉浆的施釉方式为淋釉。
实施例2
一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷，包括坯体和釉料，釉料的厚度为0.5mm。
坯体包括以下重量份的原料：钾长石25份、埃洛石18份、德化石英40份、硅藻土10份、白云石15份、蛭石8份、赤铁矿3份、氮化硼8份、氧化镧1份、硅酸锆2份、氧化钇0.5份。
釉料包括以下重量份的原料：石英岩40份、夕线石18份、海泡石15份、白云石10份、硼砂8份、石粉3份、低温熔块12份、氧化锆3份、氧化锌4份、氧化钇2份。
低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石25份、硅灰石10份、菱铁矿8份、硼酸3份、氧化镁8份、碳酸钙1份、氧化钛2份、氧化钴0.5份。
其制备工艺包括如下步骤：
步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；
步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1180℃下熔炼成低温熔块，
步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；
步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；
步骤五，将坯体送入窑炉中，在980℃下素烧9h，获得素坯；
步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；
步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1130℃。
具体的，步骤七中烧成控制如下：
低温阶段：窑炉内由常温升至290℃，烧窑时间70min；
分解氧化阶段：窑炉内升温至945℃，烧窑时间4.5小时；
高温强还原阶段：窑炉内升温至1130℃，烧窑时间4.2小时；
高火保温阶段：窑炉内温度控制在1130℃，烧窑时间2.2小时；
自然冷却阶段：窑炉内冷却至30℃，冷却时间延长至8小时以上。
步骤一中坯浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨20h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.5:1。
步骤三中釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨30h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:2:1。
步骤四中坯体的成型方法为碾压成型。
步骤六中，釉浆的施釉方式为浸釉。
实施例3
一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷，包括坯体和釉料，釉料的厚度为0.4mm。
坯体包括以下重量份的原料：钾长石24份、埃洛石20份、德化石英37份、硅藻土12份、白云石12份、蛭石6份、赤铁矿4份、氮化硼6份、氧化镧2份、硅酸锆1.5份、氧化钇0.6份。
釉料包括以下重量份的原料：石英岩35份、夕线石20份、海泡石13份、白云石12份、硼砂6份、石粉4份、低温熔块11份、氧化锆2份、氧化锌6份、氧化钇1.5份。
低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石22份、硅灰石13份、菱铁矿7份、硼酸4份、氧化镁6份、碳酸钙2份、氧化钛1.5份、氧化钴0.6份。
其制备工艺包括如下步骤：
步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；
步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1165℃下熔炼成低温熔块，
步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；
步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；
步骤五，将坯体送入窑炉中，在1000℃下素烧8h，获得素坯；
步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；
步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1145℃。
具体的，步骤七中烧成控制如下：
低温阶段：窑炉内由常温升至300℃，烧窑时间60min；
分解氧化阶段：窑炉内升温至950℃，烧窑时间4小时；
高温强还原阶段：窑炉内升温至1145℃，烧窑时间4小时；
高火保温阶段：窑炉内温度控制在1145℃，烧窑时间2小时；
自然冷却阶段：窑炉内冷却至45℃，冷却时间延长至8小时以上。
步骤一中坯浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨19h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.3:0.9。
步骤三中釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨27h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.9:1.1。
步骤四中坯体的成型方法为注浆成型。
步骤六中，釉浆的施釉方式为淋釉。
釉料中的海泡石、夕线石的热膨胀系数小，通过二者的配合可降低釉料的热膨胀系数，使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数，石粉可以提高釉料的细腻度，增加釉面的美观，同时釉料中还包括有低温熔块，低温熔块通过煅烧制成，可有效降低釉料的烧成温度，低温熔块中的硅灰石的热膨胀系数小，可进一步降低釉料的热膨胀系数，使釉料热膨胀系数小于坯体的热膨胀系数，保证釉料烧制时，不会龟裂，保证工艺瓷的釉面的美观。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，故不能以此限定本发明实施的范围，即依本发明申请专利范围及说明书内容所作的等效变化与修饰，皆应仍属本发明专利涵盖的范围内。

Claims (8)

1.一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，其特征在于：所述釉上彩工艺瓷包括坯体和釉料，
坯体包括以下重量份的原料：钾长石22-25份、埃洛石18-22份、德化石英35-40份、硅藻土10-15份、白云石10-15份、蛭石5-8份、赤铁矿3-5份、氮化硼4-8份、氧化镧1-3份、硅酸锆1-2份、氧化钇0.5-0.8份；
釉料包括以下重量份的原料：石英岩30-40份、夕线石18-22份、海泡石12-15份、白云石10-15份、硼砂5-8份、石粉3-5份、低温熔块10-12份、氧化锆1-3份、氧化锌4-8份、氧化钇1-2份；
其制备工艺包括如下步骤：
步骤一，按坯体的原料配方称重配料，分别破碎、过筛、湿法球磨，制得坯浆；
步骤二，将低温熔块的原料称重配料混合均匀，投入熔炼炉中，在1150-1180℃下熔炼成低温熔块，
步骤三，将釉料除低温熔块外的原料称重配料，分别破碎、过筛、混合均匀，与淬水后的低温熔块湿法球磨，制得釉浆；
步骤四，将步骤一制得的坯浆制成坯体；
步骤五，将坯体送入窑炉中，在980-1020℃下素烧7-9h，获得素坯；
步骤六，在素坯表面施步骤三制得的釉浆；
步骤七，待素坯表面的釉浆燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，烧成温度为1130-1160℃。
2.根据权利要求1所述的一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，其特征在于：所述低温熔块包括以下重量份的原料：莫来石20-25份、硅灰石10-15份、菱铁矿5-8份、硼酸3-5份、氧化镁4-8份、碳酸钙1-3份、氧化钛1-2份、氧化钴0.5-0.8份。
3.根据权利要求1所述的一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，其特征在于：所述步骤七中烧成控制如下：
低温阶段：窑炉内由常温升至300±10℃，烧窑时间50-70min；
分解氧化阶段：窑炉内升温至950±5℃，烧窑时间3.5-4.5小时；
高温强还原阶段：窑炉内升温至1145±15℃，烧窑时间3.8-4.2小时；
高火保温阶段：窑炉内温度控制在1145±15℃，烧窑时间1.8-2.2小时；
自然冷却阶段：窑炉内冷却至30-60℃，冷却时间延长至8小时以上。
4.根据权利要求1所述的一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，其特征在于：所述步骤一中坯浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨18-20h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.2-1.5:0.8-1。
5.根据权利要求1所述的一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，其特征在于：所述步骤三中釉浆湿法球磨时，原料在球磨机中湿法研磨24-30h，研磨介质为水，原料：球：水＝1:1.8-2:1-1.2。
6.根据权利要求1所述的一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，其特征在于：所述步骤四中坯体的成型方法为手拉坯成型或碾压成型或注浆成型。
7.根据权利要求1所述的一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，其特征在于：所述步骤六中，釉浆的施釉方式为淋釉或浸釉。
8.根据权利要求1所述的一种釉面不龟裂的釉上彩工艺瓷的制备工艺，其特征在于：所述釉料的厚度为0.3-0.5mm。
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