WO2016068243A1 - 偏光板の製造方法及び液晶パネルの製造方法 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a method for manufacturing a polarizing plate, and also relates to a method for manufacturing a liquid crystal panel.
- a linear polarizing plate is known as a polarizing plate.
- the linearly polarizing plate has an absorption axis and a transmission axis perpendicular to the absorption axis, absorbs light oscillating in the absorption axis direction, and transmits light oscillating in the transmission axis direction.
- Such a polarizing plate is manufactured, for example, by cutting a strip-shaped polarizing plate into a predetermined size (see Patent Documents 1 and 2).
- the band-shaped polarizing plate is manufactured by, for example, laminating protective films on both sides or one side of a band-shaped polarizer film.
- a strip-shaped polarizer film is usually produced by uniaxially stretching a strip-shaped raw material film in the longitudinal direction.
- the direction of the absorption axis of the band-shaped polarizing plate is parallel to the direction in which the raw material film is stretched in uniaxial stretching. And since uniaxial stretching of a raw material film is performed in a longitudinal direction, it is assumed that the longitudinal direction of a strip
- an object of the present invention is to provide a method capable of producing a polarizing plate in which the direction of the absorption axis is accurately oriented in a predetermined direction, and further to provide a method for producing a liquid crystal panel.
- a method of manufacturing a polarizing plate is a method of manufacturing a polarizing plate in which the direction of the absorption axis is in a predetermined direction, and detects the direction of the absorption axis in the original plate of the polarizing plate. And a processing step of obtaining a polarizing plate by processing the polarizing plate original plate. In the processing step, the direction of the absorption axis of the polarizing plate original plate detected in the original plate absorption axis detection step is a polarizing plate to be obtained. The polarizing plate original plate is processed so as to face the predetermined direction.
- This method detects the absorption axis of the polarizer plate. And a polarizing plate is manufactured based on the detection result of an absorption axis. Thus, since the detection result of the absorption axis is used, it is possible to manufacture a polarizing plate in which the direction of the absorption axis is accurately oriented in a predetermined direction.
- the end surface of the polarizing plate original plate is cut so that the direction of the absorption axis of the polarizing plate original plate detected in the original plate absorption axis detection step faces a predetermined direction in the polarizing plate to be obtained. May be.
- a method of manufacturing the polarizing plate includes a single wafer cutting step of cutting out a single wafer polarizing plate from a strip-like polarizing plate, and a polarizing plate that is a polarizing plate original plate from the single wafer polarizing plate. You may further provide the intermediate body cutting process which cuts out an intermediate body.
- the polarizing plate intermediate which is the polarizing plate original plate
- the polarizing plate intermediate is cut out from the single-wafer polarizing plate cut out from the band-shaped polarizing plate. Due to the influence of the cutting error or the like generated in each cutting step, the direction of the absorption axis of the polarizing plate intermediate that is the polarizing plate original plate may deviate from the absorption axis direction assumed in advance in the band-shaped polarizing plate. Even in such a case, in the manufacturing method described above, the direction of the absorption axis of the polarizing plate intermediate that is the polarizing plate original plate is detected, and the polarizing plate is obtained based on the detection result. Therefore, it is possible to more reliably obtain a polarizing plate in which the direction of the absorption axis is accurately oriented in a predetermined direction.
- the polarizing plate original plate in the processing step, may be cut and processed so that the direction of the absorption axis of the polarizing plate original plate detected in the original plate absorption axis detection step faces a predetermined direction in the polarizing plate to be obtained. Good.
- the processing steps include an intermediate cutting step for cutting out a polarizing plate intermediate from a polarizing plate original plate, an intermediate absorption axis detecting step for detecting the direction of the absorption axis of the polarizing plate intermediate, and a polarizing plate intermediate Cutting the end face of the substrate, and in the intermediate cutting step, the direction of the absorption axis of the polarizing plate original plate detected in the original plate absorption axis detection step is the same in the polarizing plate intermediate to be obtained.
- the direction of the absorption axis of the polarizing plate intermediate detected in the intermediate absorption axis detection step is in the polarizing plate to be obtained. You may cut the end surface of a polarizing plate original plate so that it may face the predetermined direction.
- the polarizing plate intermediate is cut from the polarizing plate original plate by cutting the polarizing plate original plate so that the direction of the absorption axis of the polarizing plate original plate detected in the original plate absorption axis detecting step is the same in the polarizing plate intermediate. Cut out. Therefore, a polarizing plate intermediate in which the absorption axis directions are aligned is obtained. And the absorption axis of a polarizing plate intermediate body is further detected, and the polarizing plate is obtained based on the detection result.
- the polarizing plate Since the polarizing plate is obtained based on the detection result in the absorption axis direction of the polarizing plate intermediate, it is easy to produce a polarizing plate in which the absorption axis direction is in a predetermined direction. Furthermore, since the polarizing plate is obtained from the polarizing plate intermediate based on the detection result in the direction of the absorption axis of the polarizing plate intermediate, it is possible to reduce the influence of errors when the polarizing plate intermediate is cut out from the polarizing plate original plate. As a result, it is easier to produce a polarizing plate whose absorption axis direction is in a predetermined direction.
- the polarizing plate intermediate or the polarizing plate from the polarizing plate original plate may further comprise a single wafer cutting step of cutting out the single-wafer polarizing plate as the polarizing plate original plate from the strip-shaped polarizing plate.
- a single-wafer polarizing plate as a polarizing plate original plate is cut out from a strip-shaped polarizing plate.
- the direction of the absorption axis of the single-wafer polarizing plate that is the polarizing plate original plate may deviate from the absorption axis that is assumed in advance with respect to the strip-shaped polarizing plate due to the influence of a cutting error or the like generated in the cutting step. .
- the direction of the absorption axis assumed in the band-shaped polarizing plate may not be aligned.
- the direction of the absorption axis of the single-wafer polarizing plate that is the polarizing plate original plate is detected, and the polarizing plate is obtained based on the detection result. Therefore, it is possible to more reliably obtain a polarizing plate in which the direction of the absorption axis is in a predetermined direction.
- the polarizing plate original plate is a strip-shaped polarizing plate, and in the processing step, the polarizing plate original plate is cut so that the absorption axis direction of the polarizing plate original plate detected in the original plate absorption axis detection step is directed to a predetermined direction. It may be processed.
- the direction of the absorption axis assumed in the band-shaped polarizing plate is not aligned. Even in such a case, in the manufacturing method described above, the direction of the absorption axis of the strip-shaped polarizing plate that is the polarizing plate original plate is detected, and the polarizing plate is obtained based on the detection result. Therefore, it is possible to more reliably obtain a polarizing plate in which the direction of the absorption axis is accurately oriented in a predetermined direction.
- the processing steps in the method for manufacturing a polarizing plate include an intermediate cutting step of cutting out the polarizing plate intermediate from the polarizing plate original plate, and detecting the direction of the absorption axis of the polarizing plate intermediate
- the intermediate absorption axis detecting step and the step of cutting the end face of the polarizing plate intermediate, and in the intermediate cutting step, the direction of the absorption axis of the polarizing plate original plate detected in the original plate absorption axis detecting step In the step of cutting the polarizing plate original plate and cutting the end face of the polarizing plate intermediate so as to be the same in the polarizing plate intermediate to be obtained, the polarizing plate intermediate detected in the intermediate absorption axis detection step
- the end face of the polarizing plate original plate may be cut so that the direction of the absorption axis is directed to a predetermined direction in the polarizing plate to be obtained.
- the absorption axis of the strip-shaped polarizing plate is detected, and the polarizing plate intermediate is cut out from the strip-shaped polarizing plate based on the detection result. Therefore, even if the direction of the absorption axis assumed in the band-shaped polarizing plate is not uniform, it is possible to obtain a polarizing plate intermediate in which the direction of the absorption axis faces the same direction in the polarizing plate intermediate. Furthermore, since the polarizing plate is obtained based on the detection result obtained by detecting the absorption axis of the polarizing plate intermediate, it is possible to reduce the influence of errors when cutting out the polarizing plate intermediate. As a result, it is easier to manufacture a polarizing plate in which the direction of the absorption axis is accurately oriented in a predetermined direction.
- the band-shaped polarizing plate may include a polarizing layer uniaxially stretched.
- the polarizing plate When the polarizing layer is uniaxially stretched, the direction of the absorption axis can be assumed as the stretching direction. However, due to the influence of bowing during uniaxial stretching, the band-shaped polarizing plate tends to have a case where the directions of the absorption axes are not aligned. Therefore, in the form in which the strip-shaped polarizing plate includes a uniaxially stretched polarizing layer, the polarizing plate in which the direction of the absorption axis is accurately oriented in the predetermined direction is obtained by the above manufacturing method including the step of detecting the direction of the absorption axis. It is possible to obtain more reliably.
- the width of the band-shaped polarizing plate may be 1000 mm or more.
- the above-described bowing effect is likely to occur.
- the above manufacturing method including the step of detecting the direction of the absorption axis is effective for obtaining a polarizing plate in which the direction of the absorption axis is accurately oriented in a predetermined direction.
- the planar view shape of the polarizing plate may be rectangular or square, and the length of the diagonal line of the polarizing plate may be 350 mm or less, and is usually 12.5 mm or more, preferably 50 mm or more.
- Such a polarizing plate tends to be used for small and medium-sized displays for which high contrast has been required. Therefore, the production method described above that can obtain a polarizing plate in which the direction of the absorption axis is accurately oriented in a predetermined direction is effective.
- the polarizing plate may be a polarizing plate for a liquid crystal panel of VA (Vertical Alignment) type or IPS (In-Place-Switching) type.
- VA Vertical Alignment
- IPS In-Place-Switching
- VA-type or IPS-type liquid crystal display devices can display images with high contrast, and therefore, there is a tendency for image display with higher contrast to be required. Therefore, the production method described above that can obtain a polarizing plate in which the direction of the absorption axis is accurately oriented in a predetermined direction is effective.
- the manufacturing method of the liquid crystal panel which concerns on the other side surface of this invention manufactures a polarizing plate with the manufacturing method of the polarizing plate which concerns on one side surface of this invention, and pastes the obtained polarizing plate to a liquid crystal cell, and is liquid crystal.
- Manufacture panels manufactures a polarizing plate with the manufacturing method of the polarizing plate which concerns on one side surface of this invention, and pastes the obtained polarizing plate to a liquid crystal cell, and is liquid crystal.
- the polarizing plate bonded to the liquid crystal cell by the liquid crystal panel manufacturing method is manufactured by the polarizing plate manufacturing method according to one aspect of the present invention. Therefore, in the manufactured polarizing plate, the absorption axis is accurately oriented in a predetermined direction. Therefore, when an image is displayed on the liquid crystal panel, the image quality can be improved.
- the present invention it is possible to provide a method capable of manufacturing a polarizing plate in which the direction of the absorption axis is exactly the predetermined direction.
- FIG. 1 is a plan view of a polarizing plate manufactured by a manufacturing method of a polarizing plate according to an embodiment.
- FIG. 2 is a schematic diagram of a strip-shaped polarizing plate for producing the polarizing plate shown in FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG.
- FIG. 4 is a flowchart of a method for manufacturing a polarizing plate according to one embodiment.
- Fig.5 (a) is a schematic diagram for demonstrating the process of cutting out a sheet-like polarizing plate from a strip
- FIG. 5B is a plan view of the strip-shaped polarizing plate for schematically showing the cutting position of the strip-shaped polarizing plate.
- FIG.6 (a) is a schematic diagram for demonstrating the process of cutting out a polarizing plate intermediate body from a single-wafer polarizing plate.
- FIG.6 (b) is a top view which shows typically the cutting position of the polarizing plate intermediate body in a single-wafer polarizing plate.
- FIG. 7 is a drawing schematically showing an absorption axis detection step.
- FIG. 8 is a drawing showing a shaved region of the polarizing plate from the polarizing plate intermediate based on the detection result of the absorption axis.
- FIG. 9 is a schematic diagram showing an end face processing step.
- FIG. 10 is a flowchart showing a method for manufacturing a polarizing plate according to another embodiment.
- FIG. 10 is a flowchart showing a method for manufacturing a polarizing plate according to another embodiment.
- FIG. 11 is a drawing for explaining a cutting process of a single-wafer polarizing plate.
- FIG. 12 is a flowchart showing a method for manufacturing a polarizing plate according to still another embodiment.
- FIG. 13 is a diagram for explaining a case where a single-wafer polarizing plate is cut out from a strip-shaped polarizing plate based on the detection result of the absorption axis.
- FIG. 14 is a drawing schematically showing a configuration of a liquid crystal panel manufactured by a method for manufacturing a liquid crystal panel according to an embodiment.
- FIG. 1 is a plan view of a polarizing plate manufactured by a manufacturing method of a polarizing plate according to an embodiment.
- Polarizer 10 has an absorption axis S A, and a transmission shaft S T perpendicular to the absorption axis (polarization axis) S A.
- the polarizing plate 10 is an optical element having a polarization characteristic that absorbs light oscillating in the absorption axis S A direction and selectively transmits light oscillating in the transmission axis S T direction.
- the polarizing plate 10 is applied to a liquid crystal display device.
- the polarizing plate 10 can be bonded to both surfaces of the liquid crystal cell to constitute a part of the liquid crystal panel.
- An example of the planar view shape (shape seen from the thickness direction) of the polarizing plate 10 is a rectangle such as a rectangle or a square as shown in FIG.
- Absorption axis S A direction of the polarizing plate 10 is oriented in a predetermined direction in the polarizer 10.
- the predetermined direction is a direction at a predetermined angle ⁇ with respect to one side of the polarizing plate 10 as a reference.
- the direction and the like can be exemplified.
- a configuration of the polarizing plate 10 in which the shape in plan view is a rectangle and the predetermined direction is the long side direction will be described below.
- the size of the polarizing plate 10 may be set according to the device in which the polarizing plate 10 is used.
- An example of the size of the polarizing plate 10 is a polarizing plate in which the length of the diagonal line is 50 mm to 350 mm, that is, a length corresponding to about a so-called 2 type to 12 type.
- the liquid crystal panel to which the polarizing plate 10 is bonded is not particularly limited.
- a VA Very Alignment
- IPS An in-place-switching type liquid crystal panel is exemplified.
- the polarizing plate 10 is manufactured from the strip-shaped polarizing plate 12 shown in FIG.
- FIG. 2 is a schematic diagram of a strip-shaped polarizing plate for producing the polarizing plate shown in FIG.
- An example of the length in the longitudinal direction of the strip-shaped polarizing plate 12 is 1000 m to 2000 m.
- the strip-shaped polarizing plate 12 is wound in a roll shape.
- a roll around which the strip-shaped polarizing plate 12 is wound is referred to as an original fabric roll 14.
- belt-shaped polarizing plate 12 is 1000 mm or more.
- FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG.
- the strip-shaped polarizing plate 12 is a laminate having a polarizer film 12a as a polarizing layer that selectively transmits light that vibrates in one direction.
- An example of the polarizer film 12 a is a film in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a PVA film uniaxially stretched in the longitudinal direction of the strip-shaped polarizing plate 12. The dichroic dye is oriented in the stretching direction of the PVA film and adsorbed on the PVA film.
- the polarizer film 12a absorbs light in the orientation direction (that is, the molecular long axis direction) of the dichroic dye and transmits light in a direction orthogonal to the orientation direction, that is, polarization characteristics.
- dichroic dyes are iodine and dichroic organic dyes.
- An example of the thickness of the polarizer film 12a is 1 ⁇ m to 30 ⁇ m.
- Protective films 12b and 12c as protective layers for protecting the polarizer film 12a are bonded to both surfaces of the polarizer film 12a.
- An example of the protective films 12b and 12c is a cellulose film, and an example of the cellulose film is a TAC (triacetyl cellulose) film.
- An example of the thickness of the protective films 12b and 12c is 10 ⁇ m to 200 ⁇ m.
- the band-shaped polarizing plate 12 having a structure in which the polarizer film 12a is sandwiched between the protective films 12b and 12c has been described.
- the band-shaped polarizing plate 12 has the protective film 12b laminated on one side of the polarizer film 12a and the other side.
- the surface may have a structure in which a protective film is not laminated.
- a surface protective film (or a protective film) 12d for protecting the protective film 12b may be bonded to the protective film 12b.
- An example of the thickness of the surface protective film 12d is 30 ⁇ m to 100 ⁇ m.
- Examples of the material of the surface protective film 12d are polyethylene, polypropylene, and polyester.
- an adhesive layer 12e for bonding the polarizing plate 10 as a product to another member such as a liquid crystal cell may be formed on the protective film 12c.
- An example of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 12e is 5 ⁇ m to 30 ⁇ m.
- the example of the adhesive which comprises the adhesive layer 12e contains an acrylic adhesive, a urethane adhesive, and a silicone adhesive.
- a separate film 12f may be detachably bonded onto the pressure-sensitive adhesive layer 12e.
- the separate film 12f is a film for preventing other regions, dust, and the like from adhering to the pressure-sensitive adhesive layer 12e until the polarizing plate 10 as a product is used.
- An example of the thickness of the separate film 12f is 30 ⁇ m to 100 ⁇ m.
- the strip-shaped polarizing plate 12 is manufactured as follows, for example. That is, the strip-shaped raw material film is uniaxially stretched in the longitudinal direction.
- An example of the raw material film is a non-stretched PVA film having no orientation. Examples of the draw ratio are 4 to 5 times.
- the uniaxial stretching method may be either a dry uniaxial stretching method or a wet uniaxial stretching method. Uniaxial stretching can be realized, for example, by stretching the raw material film while applying a tension in the longitudinal direction while contacting the hot roll.
- the dichroic dye is adsorbed and oriented on the PVA film by immersing the PVA film, which is the uniaxially stretched raw material film, in an aqueous solution containing the dichroic dye. obtain.
- the said basic structure is obtained by bonding the protective films 12b and 12c to both surfaces of the polarizer film 12a, respectively.
- belt-shaped polarizing plate 12 is obtained by providing the surface protective film 12d, the adhesive layer 12e, and the separate film 12f suitably.
- the dichroic dye is adsorbed and oriented on the PVA film after uniaxially stretching the raw material film.
- the raw material film may be uniaxially stretched during or after the dichroic dye is adsorbed and oriented.
- a polarizer film 12 a (more specifically, a PVA film) included in the strip-shaped polarizing plate 12 is uniaxially stretched in the longitudinal direction of the strip-shaped polarizing plate 12. Therefore, the band-shaped polarizing plate 12, the absorption axis S A direction, substantially coincides with the longitudinal direction of the strip polarizer 12. However, when uniaxially stretched, bowing may occur in which the edge portion is slightly curved inward in the width direction. Therefore, as shown in FIG. 2, there may be cases where the location of the strip polarizing plate 12, the absorption axis S A direction is deviated from the longitudinal direction. Deviation angle from the longitudinal direction of the absorption axis S A direction is, for example, about 0.2 ° ⁇ 0.3 °. In FIG. 2, this misalignment angle is exaggerated.
- FIG. 4 is a flowchart of a method for manufacturing a polarizing plate according to one embodiment.
- the single-wafer polarizing plate (1st polarizing plate intermediate body) 16 is cut out from the strip
- a polarizing plate intermediate body (second polarizing plate intermediate body) 22 is cut out from the single-wafer polarizing plate 16 (intermediate body cutting step S12).
- detecting the absorption axis S A of the polarizing plate Intermediate 22 cut out (absorption axis detection step S14).
- the polarizing plate 10 is obtained by cutting (end surface processing) the end surface of the polarizing plate intermediate body 22 (end surface processing process S16).
- each step will be described.
- FIG. 5 (a) is a schematic diagram for demonstrating the process of cutting out a sheet-like polarizing plate from a strip
- FIG. 5B is a plan view of the strip-shaped polarizing plate for schematically showing the cutting position of the strip-shaped polarizing plate.
- the strip-shaped polarizing plate 12 is fed out from the raw roll 14. Then, the fed strip-shaped polarizing plate 12 is carried into a cutting device 18 disposed on the feeding direction (or transport direction) of the strip-shaped polarizing plate 12.
- the cutting device 18 cuts the strip-shaped polarizing plate 12 with a predetermined length by the cutting blade 18 a, and cuts the single-wafer polarizing plate 16 from the strip-shaped polarizing plate 12.
- the cutting position of the strip-shaped polarizing plate 12 may be set at a constant interval in the longitudinal direction, for example, like a virtual cutting line indicated by a two-dot chain line in FIG. The position of the virtual cutting line may be input to the cutting device 18 in advance.
- the strip-shaped polarizing plate 12 may be cut by a laser beam instead of the cutting blade 18a.
- FIG.6 (a) is a schematic diagram for demonstrating the process of cutting out a polarizing plate intermediate body from a single-wafer polarizing plate.
- FIG.6 (b) is a top view which shows typically the cutting position of the polarizing plate intermediate body in a single-wafer polarizing plate.
- the single-wafer polarizing plate 16 is carried into the cutting device 20 arranged in the conveying direction.
- the cutting device 20 cuts out a plurality of polarizing plate intermediate bodies 22 from the single-wafer polarizing plate 16 by the cutting blade 20a.
- the polarizing plate intermediate 22 is a polarizing plate intermediate having a size in which a shaving (for example, a width of 0.5 mm) is provided with respect to the shape of the manufactured polarizing plate 10.
- the polarizing plate intermediate 22 corresponds to a polarizing plate original plate.
- the cutting position of the sheet polarizing plate 16 may be set like a virtual cutting line for the polarizing plate intermediate 22 indicated by a two-dot chain line in FIG.
- the conveying direction of the absorption axis S A is sheet polarizer 16 (i.e., the longitudinal direction of the strip-like polarizing plate 12) can be set on the assumption that along.
- a cutting line (cutting position) for the polarizing plate intermediate 22 may be input to the cutting device 20 in advance.
- the cutting blade 20a of the cutting device 20 only needs to be attached to the cutting device 20 so that the direction of the cutting blade 20a can be changed in order to cut along the cutting line.
- the single-wafer polarizing plate 16 may be cut by a laser beam instead of the cutting blade 20a.
- FIG. 7 is a drawing schematically showing a detection process in the absorption axis direction.
- Absorption axis S A can be detected by the rotating analyzer method.
- the polarizing plate intermediate body 22 In the thickness direction of the polarizing plate intermediate body 22, light is transmitted from the light source 24 arranged on one side of the polarizing plate intermediate body 22 (below the polarizing plate intermediate body 22 in FIG. 7). Irradiate the body 22. Irradiation light is usually non-polarized light. For example, light emitted from a normal light source such as an incandescent bulb, a fluorescent lamp, or an LED is usually unpolarized light.
- the light that has passed through the polarizing plate intermediate 22 is arranged on the other side of the polarizing plate intermediate 22 in the thickness direction of the polarizing plate intermediate 22 (above the polarizing plate intermediate 22 in FIG. 7). Detection is performed by the detector 26.
- a linear polarizing plate 28 which is an analyzer having a known absorption axis S A direction and transmission axis ST direction, is connected to the optical axis of the light output from the light source 24. And the linearly polarizing plate 28 are arranged so as to be rotatable about the intersection. What is necessary is just to control the rotation amount of the linearly polarizing plate 28 with the control apparatus which is a computer, for example.
- the signal from the photodetector 26 may be processed by the control device.
- Detection of the absorption axis S A direction may be performed in the polarizing plate Intermediate 22 at a plurality of positions. Detection Points of absorption axis S A direction is, for example, may set the width direction of the polarizer Intermediate 22.
- the detection device in the absorption axis direction including the light source 24, the linearly polarizing plate 28, and the photodetector 26 may be disposed on the transport line of the polarizing plate intermediate body 22 cut out from the single-wafer polarizing plate 16, for example. Alternatively, it may be installed in a place different from the transfer line.
- Light source 24, the linear polarizer 28 and photodetector 26 is not particularly limited as long as it is used in the detection of the absorption axis S A.
- the arrangement relationship among the light source 24, the linearly polarizing plate 28 and the photodetector 26 is not particularly limited as long as the crossed Nicols state can be realized by the polarizing plate intermediate body 22 and the linearly polarizing plate 28.
- the linearly polarizing plate 28 may be disposed between the light source 24 and the polarizing plate intermediate body 22.
- linearly polarizing plates 28 may be disposed above and below the polarizing plate intermediate body 22. In this case, the two linear polarizing plates 28 may be arranged in a parallel Nicol state and rotated in synchronization.
- Examples of the absorption axis S A direction of the detection method a feasible apparatus shown in FIG. 7, Oji Scientific Instruments Co., Ltd. KOBRA, Otsuka RETS-100 and RE-100P, etc. Electronics Co., Ltd. and the like.
- Detected absorption axis S A direction it suffices recorded. This recording may, for example, it is sufficient to mark the absorption axis S A direction abrasion is region like when the polarizer Intermediate 22 cut out a polarizing plate 10.
- End face processing step S16 In the end surface processing step S16, based on the absorption axis S A direction of the detection result, cutting the end face 22a of the polarizer Intermediate 22, 22b, 22c, and 22d. Thereby, the polarizing plate 10 is obtained.
- the cutting includes polishing of the end faces 22a, 22b, 22c, and 22d.
- the end face processing step S16 will be described with reference to FIGS.
- FIG. 8 is a drawing showing a shaved region of the polarizing plate from the polarizing plate intermediate based on the detection result of the absorption axis.
- the broken line indicates the absorption axis S A0 direction when the longitudinal direction of the strip-shaped polarizing plate 12 is assumed to be the absorption axis direction, and the two-dot chain line is based on the detected direction of the absorption axis S A.
- the polarizing plate region A is shown.
- the polarizing plate region A is a portion of the polarizing plate 10 to be cut out by cutting the end faces 22a to 22d in the polarizing plate intermediate body 22.
- the polarizing plate region A is set so that the absorption axis S A faces a predetermined direction (longitudinal direction in the present embodiment) in the polarizing plate 10.
- FIG. 9 is a schematic diagram showing an end face processing step. As shown in FIG. 9, together end face machining of a plurality of polarizers Intermediate 22 using an absorption axis S laminate 30 whose direction polarizing plate intermediate 22 of a plurality of detected are laminated A Do.
- the end face processing step S16 is performed using the end face processing apparatus 32 shown in FIG.
- the end surface processing device 32 includes a pair of holding members 34A and 34B that hold the stacked body 30 with the stacked body 30 sandwiched from the stacking direction.
- One holding member 34 ⁇ / b> B of the pair of holding members 34 ⁇ / b> A and 34 ⁇ / b> B is placed on the rotary table 36.
- a pressing member 38 that presses the holding member 34A toward the holding member 34B is attached to the other holding member 34A.
- the rotary table 36 and the pressing member 38 are attached to a support base (not shown) so as to be movable in one direction.
- the pressing member 38 is attached to the support base so that it can rotate in the same direction as the rotary table 36 in synchronization with the rotation of the rotary table 36.
- the end face processing device 32 has a pair of cutting members 40A and 40B on the moving direction of the rotary table 36.
- the pair of cutting members 40 ⁇ / b> A and 40 ⁇ / b> B are disposed to face each other in the direction orthogonal to the stacking direction of the polarizing plate intermediate body 22 and the moving direction of the rotary table 36 in the stacked body 30.
- the pair of cutting members 40A and 40B have rotating members 42A and 42B that can rotate about the arrangement direction of the cutting members 40A and 40B as a rotation axis, and face the inner surfaces of the rotating members 42A and 42B (opposing the stacked body 30).
- a cutting blade 44 is attached to the surface to be cut.
- a laminated body 30 is configured by laminating a plurality of polarizing plate intermediate bodies 22 in which the absorption axis SA is detected.
- Direction of absorption axis S A of the polarizing plate Intermediate 22 constituting the layered body 30 are the same.
- the plurality of polarizing plate intermediate bodies 22 are laminated so that the polarizing plate regions 40 shown in FIG. 8 overlap in the laminating direction.
- the prepared laminate 30 is sandwiched between a pair of holding members 34A and 34B and pressed in the stacking direction by a pressing member 38 to hold the laminate 30 by the holding members 34A and 34B. Thereafter, the rotary table 36 is moved in the moving direction, and the laminate 30 is fed between the pair of cutting members 40A and 40B.
- the rotating members 42A and 42B of the cutting members 40A and 40B are rotated. Accordingly, a pair of end faces (the end faces 22c and 22d in the example of FIG. 9) facing the cutting members 40A and 40B among the four end faces 22a to 22d of each polarizing plate intermediate body 22 constituting the laminated body 30 are cut. Cutting (or polishing) is performed by the members 40A and 40B. In order to cut out the polarizing plate region 40 indicated by the two-dot chain line shown in FIG. 8, the contact angle between the cutting blade 44 and the end surface facing the cutting members 40A and 40B among the end surfaces 22a to 22d is set by the rotary table 36.
- the rotary table 36 may be rotated to process the remaining pair of end surfaces.
- the end face processing device 32 cuts the end faces 22a to 22d of the polarizing plate intermediate body 22 and cuts out the polarizing plate 10 from the polarizing plate intermediate body 22, thereby obtaining the polarizing plate 10 as a product. It is done.
- the cross-sectional configuration (or layer configuration) of the polarizing plate 10 is the same as the cross-sectional configuration of the strip-shaped polarizing plate 12 shown in FIG. .
- the absorption axis S A direction the members polarizing plate 10 is applied (e.g., liquid crystal panel) is oriented in a predetermined direction that is desired in such.
- the absorption axis S A direction coincides with the predetermined direction with higher accuracy.
- the absorption axis S A of the strip-shaped polarizing plate 12 is parallel to the stretching direction of the polarizer film 12 a and substantially along the longitudinal direction of the strip-shaped polarizing plate 12. Therefore, the longitudinal direction of the strip-shaped polarizer 12 on the assumption that the absorption axis S A direction is also conceivable to produce a polarizing plate.
- the region where the direction is shifted to the absorption axis S A from the longitudinal direction of the strip-like polarizer 12 is caused There may be.
- a cutting error may occur during the cutting process in the single wafer cutting step S10 and the intermediate cutting step S12. As a result, as shown in FIG.
- the absorption axis S A direction in the polarizing plate as a product It is required that the predetermined direction coincides with high accuracy. Therefore, the absorption axis S A direction is higher above production method can be produced a polarizing plate 10 which matches the predetermined direction in accuracy, VA type, and is effective to produce a polarizing plate for a liquid crystal panel of an IPS type is there.
- the liquid crystal panel is a VA type, it may be an ASV (Advanced Super View) type.
- a display for a small and medium size portable device of type 12 (diagonal length 350 mm) or less is required to have high contrast because the user tends to view the screen from a short distance. Therefore, the absorption axis S A direction is higher above manufacturing method capable producing matched polarizing plate 10 to the predetermined direction in accuracy, it is effective to produce a polarizing plate used in the display for small portable devices.
- the polarizing plate 10 has a rectangular or square shape in plan view and has a diagonal length of 12.5 mm to 350 mm, a size of about 0.5 type to 12 type, and more than 2 types (diagonal length 50 mm).
- the polarizing plate 10 is easy to be used for a display for small and medium-sized portable devices. Therefore, the absorption axis S A direction, the production method can be produced the matching polarizing plate 10 to the predetermined direction with high accuracy, the length of the diagonal is the plan view shape rectangular or square in 12.5 mm ⁇ 350 mm This is effective for a certain polarizing plate.
- the above-described manufacturing method comprises the absorption axis S A direction detection step, or width 1000 mm, usually absorption axis S A direction from the strip-shaped polarizer 12 3000 mm from a viewpoint of obtaining a polarizing plate 10 is a predetermined direction It is valid.
- FIG. 10 is a flowchart showing a method for manufacturing a polarizing plate according to another embodiment.
- the single-wafer polarizing plate 16 is cut out from the strip-shaped polarizing plate 12 (single-wafer cutting step S20).
- the polarizing plate intermediate body 22 is cut out from the single-wafer polarizing plate 16 (intermediate body cutting step S24).
- the absorption axis direction of the polarizing plate intermediate 22 is detected (absorption axis detection step S26).
- the polarizing plate 10 is obtained by cutting the end surface of the polarizing plate intermediate body 22 (end surface processing) (end surface processing process S28).
- Intermediate cutting step S24 and subsequent steps i.e., the intermediate cutting step S24, the absorption axis detecting step S26 and the end surface processing step S28, based on the absorption axis S A direction of the detection result, obtaining a polarizing plate 10 Correspond.
- each step will be described.
- the absorption axis detecting step S22 it detects the direction of the absorption axis S A single wafer polarizing plate 16. Detection method is the same as the method of detecting the direction of the absorption axis S A of the polarizing plate Intermediate 22 described by using FIG. That is, in FIG. 7, instead of the polarizing plate intermediate 22, the single-wafer polarizing plate 16 may be disposed and detected.
- the detection device in the absorption axis direction including the light source 24, the linearly polarizing plate 28, and the photodetector 26 may be disposed, for example, on the conveying line of the single-wafer polarizing plate 16, or may be different from the conveying line. It may be installed at the place.
- Detection of the absorption axis S A direction of sheet polarizer 16 may be performed in the polarizing plate Intermediate 22 at a plurality of positions. Detection Points of absorption axis S A direction is, for example, may set the width direction of the polarizer Intermediate 22.
- the single-wafer polarizing plate 16 is carried into the cutting device 20 while being transported, and a plurality of polarizing plate intermediate bodies 22 are cut out from the single-wafer polarizing plate 16. .
- the direction of absorption axis S A is oriented in the same direction in the polarizer Intermediate 22, cutting the polarizing plate Intermediate 22 from sheet polarizer 16 Cut with the blade 20a. This will be specifically described with reference to FIG.
- FIG. 11 is a drawing for explaining a cutting process of a single-wafer polarizing plate.
- FIG. 11 shows a plan view of the single-wafer polarizing plate 16. Further, FIG. 11 shows an example of a detected plurality of absorption axis S A direction.
- the width direction near the edge of the sheet polarizer 16 in the absorption axis S A is inclined relative to the longitudinal direction.
- to set the virtual cutting line regions have all the absorption axis S A direction cutout region of the polarizing plate Intermediate 22.
- the virtual cutting line so as to face the absorption axis S A to the longitudinal direction of the polarizing plate Intermediate 22.
- virtual cutting lines are set in the respective regions in the vicinity of the center portion and in the vicinity of the edge portions on both sides. Then, the single-wafer polarizing plate 16 is cut with a cutting device along the set cutting line by the cutting blade 20 a, and the polarizing plate intermediate body 22 is cut out from the single-wafer polarizing plate 16.
- the direction of the absorption axis S A need not have exactly aligned, equipped in a range within the allowable range of the predetermined direction in the polarizing plate 10 for the purpose Just do it.
- the absorption axis detection step S26 and the end surface machining step S28 are the same as the absorption axis detection step S14 and the end surface machining step S16 shown in FIG.
- the above manufacturing method and detects the direction of the absorption axis S A single wafer polarizing plate 16 corresponding to the polarization plate source plate in the present embodiment. And based on a detection result, the single-wafer polarizing plate 16 is processed and the polarizing plate 10 is obtained. For this reason, the polarizing plate is corrected by correcting the deviation between the absorption axis S A0 assumed as the longitudinal direction of the strip-shaped polarizing plate 12 and the detected actual absorption axis S A direction for the same reason as in the first embodiment. 10 can be manufactured. As a result, it is possible to the absorption axis S A direction to obtain a polarizing plate 10 is a predetermined direction.
- the absorption axis S A direction can be obtained a polarizing plate 10 is a predetermined direction. Therefore, it is the same as in the case of the first embodiment that the manufacturing method is effective for polarizing plates applied to VA-type and IPS-type liquid crystal panels or small-to-medium-sized displays.
- a form in which the width of the strip-shaped polarizing plate 12 is 1000 mm or more and a form in which the planar shape of the polarizing plate 10 is rectangular or square and the length of the diagonal line is 350 mm or less, preferably 12.5 mm or more, more preferably 50 mm or more.
- the fact that the manufacturing method is effective is the same as in the case of the first embodiment.
- the polarizing plate 10 may be cut out from the single-wafer polarizing plate 16 so that the absorption axis S A direction detected in the single-wafer polarizing plate 16 faces a predetermined direction in the polarizing plate 10.
- the polarizing plate 10 can be manufactured more easily.
- absorption axis detecting step S26 of detecting the absorption axis S A direction of the polarizing plate Intermediate 22.
- the absorption axis detection step S26 may not be provided.
- Absorption axis S A direction of the polarizing plate Intermediate 22 are aligned, the direction of the absorption axis S A in the polarizers intermediate 22 are known by detecting the absorption axis S A single wafer polarizing plate 16. Therefore, as in the case shown in FIG.
- the polarizing plate 10 may be cut out from the polarizing plate intermediate body 22 by the device 32.
- the sheet polarizer 16 may be cut out.
- the absorption axis S A direction in the polarizer Intermediate 22 is oriented in a predetermined direction of the polarizer 10. Therefore, since the end faces 22a to 22d of the polarizing plate intermediate 22 need only be cut with a certain width, the end face processing is easy.
- FIG. 12 is a flowchart showing a method for manufacturing a polarizing plate according to still another embodiment.
- the absorption axis direction of the strip-shaped polarizing plate 12 is detected (absorption axis detection step S30).
- the polarizing plate intermediate body 22 is cut out from the strip-shaped polarizing plate 12 (intermediate body cutting step S32).
- the absorption axis direction of the polarizing plate intermediate 22 is detected (absorption axis detection step S34).
- the polarizing plate 10 is obtained by cutting (end surface processing) the end surface of the polarizing plate intermediate body 22 (end surface processing process S36).
- the absorption axis detecting step S30 after feeding the band-shaped polarizing plate 12 from the sheet roll 14, for detecting the absorption axis S A direction of a band-shaped polarizing plate 12 of the fed-out area.
- Detection method is the same as the method of detecting the absorption axis S A direction of the polarizing plate Intermediate 22 described by using FIG. That is, in FIG. 7, the band-shaped polarizing plate 12 may be arranged and detected instead of the polarizing plate intermediate 22.
- the detection device in the absorption axis direction including the light source 24, the linearly polarizing plate 28, and the photodetector 26 may be disposed on the transport line of the strip-shaped polarizing plate 12, for example.
- Detection of the absorption axis S A direction of a band-shaped polarizing plate 12 may be carried out in strip polarizer 12 at a plurality of locations. Detection Points of absorption axis S A direction is, for example, may be set for the width direction of the belt-like polarizing plate 12.
- the belt-shaped polarizing plate 12 is carried into the cutting device while being transported in the feeding direction, and the polarizing plate intermediate body 22 is cut out from the belt-shaped polarizing plate 12.
- the cutting device 20 for cutting out the polarizing plate intermediate 22 illustrated in FIG. 6A can be used.
- This step S32 is the same as when the single-wafer polarizing plate 16 shown in FIG. That is, set the virtual cutting line so as to face the longitudinal direction of the absorption axis S A direction of the polarizing plate Intermediate 22.
- the strip-shaped polarizing plate 12 is cut by a cutting device along the set cutting line, and the polarizing plate intermediate 22 is cut out from the strip-shaped polarizing plate 12.
- the absorption axis detection step S34 and the end surface machining step S36 are the same as the absorption axis detection step S14 and the end surface machining step S16 shown in FIG.
- the band-shaped polarizing plate 12 are cut out polarizing plate Intermediate 22, the polarizer Intermediate 22, for example, the influence of bowing is reduced ing. Since obtaining a polarizing plate 10 from the polarizer Intermediate 22 you have the absorption axis S A direction, easy absorption axis S A direction to produce a polarizing plate 10 which faces the predetermined direction.
- the absorption axis S A direction can be obtained a polarizing plate 10 is a predetermined direction. Therefore, it is the same as in the case of the first embodiment that the manufacturing method is effective for a polarizing plate applied to a VA-type or IPS-type liquid crystal panel or a small-to-medium display.
- the absorption axis detection step S34 may not be provided.
- Absorption axis S A direction of the polarizing plate Intermediate 22 are aligned, the direction of the absorption axis S A in the polarizing plates Intermediate 22 are known by detecting the absorption axis S A of the strip polarizer 12. Therefore, as in the case shown in FIG.
- the polarizing plate 10 may be cut out from the polarizing plate intermediate body 22 by the device 32.
- the belt-shaped polarizing plate 12 when regarded as a polarizing plate 10, as detected absorption axis S A direction oriented in a predetermined direction, the belt-shaped polarizing plate 12
- the plate intermediate 2 may be cut out.
- the absorption axis S A direction in the polarizer Intermediate 22 is oriented in a predetermined direction of the polarizer 10. Therefore, since the end faces 22a to 22d of the polarizing plate intermediate 22 need only be cut with a certain width, the end face processing is easy.
- FIG. 13 is a diagram for explaining a case where a single-wafer polarizing plate is cut out from a strip-shaped polarizing plate based on the detection result of the absorption axis.
- FIG. 13 the top view of the strip
- the polarizing plate 10 is manufactured by processing the single-sided polarizing plate 16 on the basis of the direction of the absorption axis S A in the single-sided polarizing plate 16, the polarized light whose absorption axis S A is directed to a predetermined direction.
- the plate 10 can be manufactured. With respect to the absorption axis S A direction of the detection result sheet polarizer 16 cut out on the basis of a strip-shaped polarizing plate 12, by applying the manufacturing method of the second embodiment, it may be manufactured polarizer 10 .
- the polarizing plate 10 has the same layer configuration as that of the strip-shaped polarizing plate 12 illustrated in FIG. That is, the polarizing plate 10 includes a polarizer film 12a, protective films 12b and 12c bonded to both surfaces thereof, a surface protective film 12d provided on the protective film 12b, and an adhesive provided in order on the protective film 12c. It has the agent layer 12e and the separate film 12f. Only one of the protective films 12b and 12c may be used.
- the polarizing plate 10 from which the separate film 12f is peeled is also referred to as a polarizing plate 10A.
- FIG. 14 is a drawing schematically showing the configuration of the liquid crystal panel manufactured in the fourth embodiment.
- the liquid crystal panel 46 is configured by laminating a polarizing plate 10 ⁇ / b> A obtained by peeling the separate film 12 f from the polarizing plate 10 on both surfaces of a liquid crystal cell 48.
- the liquid crystal cell 48 any liquid crystal cell may be used as long as it is used for a known liquid crystal panel.
- the liquid crystal cell 48 may be one in which a transparent electrode, an alignment film, a liquid crystal, an alignment film, a transparent electrode, a color filter, and a glass substrate are sequentially provided on a glass substrate.
- Examples of the driving method of the liquid crystal cell 48 are a VA type and an IPS type.
- the liquid crystal panel 46 is manufactured as follows, for example. That is, the polarizing plate 10 is manufactured by any of the polarizing plate manufacturing methods disclosed in the first to third embodiments (polarizing plate manufacturing step). Next, the polarizing plate 10 is bonded to both surfaces of the liquid crystal cell 48 to obtain the liquid crystal panel 46 (polarizing plate bonding step).
- the polarizing plate 10A from which the separate film 12f has been peeled is bonded to the liquid crystal cell 48 through the adhesive layer 12e.
- the two polarizing plates 10A are arranged with respect to the liquid crystal cell 48 so that the two polarizing plates 10 are in a crossed Nicols state.
- the polarizing plate 10 that is the polarizing plate 10A included in the liquid crystal panel 46 is manufactured by one of the manufacturing methods exemplified in the first to third embodiments. Therefore, the polarizing plate 10, is exactly the absorption axis S A in a predetermined direction is oriented. Therefore, in the manufactured liquid crystal panel 46, it is possible to improve the image quality when displaying an image.
- the liquid crystal cell 48 used for manufacturing the liquid crystal panel 46 is either the VA type or IPS type liquid crystal cell 48, an image display with high contrast is possible. Therefore, by applying the polarizer 10A facing exactly absorption axis S A in a predetermined direction, the liquid crystal panel 46, improvement in the image quality is further improved.
- the polarizing plate 10 manufactured by any of the manufacturing methods of the polarizing plates disclosed in the first to third embodiments includes at least one of a polarizer film 12a and protective films 12b and 12c. As long as it has. However, the polarizing plate 10 usually has an adhesive layer 12 e for bonding to the liquid crystal cell 48. When the polarizing plate 10 manufactured by any of the polarizing plate manufacturing methods disclosed in the first to third embodiments does not have the pressure-sensitive adhesive layer 12e, the polarizing plate 10 and the liquid crystal cell 48 are, for example, an adhesive. May be pasted together, or an adhesive layer may be provided on the liquid crystal cell 48 side.
- the process of manufacturing the polarizing plate 10 from the strip-shaped polarizing plate 12 is exemplified.
- the single-wafer polarizing plate 16 or the polarizing plate intermediate 22 described in the first embodiment may be purchased, and the polarizing plate 10 may be manufactured therefrom.
- the sheet polarizing plate 16 may be cut out in an oblique direction with respect to the longitudinal direction of the strip-shaped polarizing plate 12. That is, the sheet polarizing plate 16 may be cut out from the strip polarizing plate 12 so that the longitudinal direction of the single polarizing plate 16 and the longitudinal direction of the strip polarizing plate 12 intersect.
- the planar view shape of the single-wafer polarizing plate 16 is not limited to a rectangle or a square, and may be, for example, a parallelogram.
- the modification in the case of cutting out the sheet polarizing plate 16 from the strip-shaped polarizing plate 12 has been described, the same applies to the case of cutting out the polarizing plate intermediate 22 from the sheet polarizing plate 16.
- the planar view shape of the polarizing plate 10 is illustrated as a rectangle such as a rectangle or a square, but is not limited to a rectangle and may be a circle.
- the number of the polarizing plates 10 and the polarizing plate intermediate 22 is not limited to two, that is, two or more, but may be one.
- the number of the polarizing plates 10 and the polarizing plate intermediate bodies 22 is not limited to two, that is, two or more. It may be a sheet.
- Examples of the driving method of the liquid crystal panel to which the polarizing plate 10 is applied are not limited to the VA type and the IPS type.
- the driving method of the liquid crystal panel to which the polarizing plate 10 is applied may be a TN (Twisted Nematic) method.
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Abstract
吸収軸の方向が正確に所定方向を向いている偏光板を製造可能な方法及び液晶パネルの製造方法が開示されている。一実施形態に係る偏光板の製造方法は、吸収軸(SA)の方向が所定方向を向いている偏光板(10)を製造する方法であって、偏光板原板(22)における吸収軸の方向を検出する原板吸収軸検出工程(S14)と、偏光板原板を加工することによって偏光板(10)を得る加工工程(S16)と、を備え、加工工程(S16)では、原板吸収軸検出工程(S14)において検出された吸収軸(SA)の方向が、得られるべき偏光板(10)における所定方向を向くように、偏光板原板(22)を加工する。
Description
本発明は、偏光板の製造方法に関し、液晶パネルの製造方法にも関する。
偏光板として、直線偏光板が知られている。直線偏光板は吸収軸と、吸収軸に直交する透過軸とを有しており、吸収軸方向に振動する光を吸収し、透過軸方向に振動する光を透過する。このような偏光板は、例えば、帯状偏光板を所定の大きさに切断して製造される(特許文献1,2参照)。ここで、帯状偏光板は、例えば帯状の偏光子フィルムの両面または片面に保護フィルムを積層して製造される。帯状の偏光子フィルムは通常、帯状の原料フィルムを長手方向に一軸延伸して製造される。このような製造方法では、帯状偏光板が有する吸収軸の方向は、一軸延伸において原料フィルムが延伸された方向と平行である。そして、原料フィルムの一軸延伸は長手方向に行われることから、帯状偏光板の長手方向が吸収軸方向と一致すると想定される。そのため、帯状偏光板の長手方向を基準にして偏光板における吸収軸が偏光板内で所定方向を向くように帯状偏光板から偏光板が製造される。従来、このようにして製造された偏光板は、例えば液晶表示装置に適用したとしても、実用に耐えていた。
帯状偏光板の長手方向を吸収軸の方向であると想定して偏光板を製造する場合、実際には、製品である偏光板において求められる吸収軸の所定方向と、実際の偏光板の吸収軸の方向との間に僅かなズレ(例えば、0.2°~0.3°程度)が生じている場合があることが分かった。このようなズレは、偏光板となるべき帯状偏光板の製造において原料フィルムを一軸延伸した際の延伸方向と、帯状偏光板の長手方向との間に生じるズレ、及び帯状偏光板から偏光板を切断する際の誤差などに起因すると考えられる。一方、近年、例えば、中小型携帯機器用ディスプレイなどでは、より高いコントラストが求められている。ディスプレイなどにおいてコントラストが高くなってくると、製品である偏光板において求められる吸収軸の所定方向と、実際の偏光板の吸収軸の方向とに僅かなズレが生じているときには、そのズレに起因した画質の低下が生じる恐がある。
そこで、本発明は、吸収軸の方向が正確に所定方向を向いている偏光板を製造可能な方法を提供し、更には、液晶パネルの製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一側面に係る偏光板の製造方法は、吸収軸の方向が所定方向を向いている偏光板を製造する方法であって、偏光板原板における吸収軸の方向を検出する原板吸収軸検出工程と、偏光板原板を加工することによって偏光板を得る加工工程と、を備え、加工工程では、原板吸収軸検出工程において検出された偏光板原板の吸収軸の方向が、得られるべき偏光板における所定方向を向くように、偏光板原板を加工する。
この方法では、偏光板原板の吸収軸を検出している。そして、吸収軸の検出結果に基づいて、偏光板が製造される。このように、吸収軸の検出結果を利用しているため、吸収軸の方向が、正確に所定方向を向いている偏光板を製造可能である。
一実施形態において、上記加工工程では、原板吸収軸検出工程において検出された偏光板原板の吸収軸の方向が、得られるべき偏光板における所定方向を向くように、偏光板原板の端面を切削加工してもよい。
上記偏光板原板の端面を切削加工する形態では、偏光板を製造する方法は、帯状偏光板から枚葉偏光板を切り出す枚葉切出工程と、枚葉偏光板から偏光板原板である偏光板中間体を切り出す中間体切出工程とを更に備えてもよい。
この場合、偏光板原板である偏光板中間体は、帯状偏光板から切り出された枚葉偏光板から切り出されたものである。各切出工程で生じる切断誤差などの影響によって、偏光板原板である偏光板中間体の吸収軸の方向が帯状偏光板において予め想定されている吸収軸方向からズレている場合があり得る。このような場合であっても、上記製造方法では、偏光板原板である偏光板中間体の吸収軸の方向を検出し、検出結果に基づいて、偏光板を得ている。そのため、吸収軸の方向が、正確に所定方向を向いている偏光板をより確実に得ることが可能である。
一実施形態において、加工工程では、原板吸収軸検出工程において検出された偏光板原板の吸収軸の方向が、得られるべき偏光板における所定方向を向くように、偏光板原板を切断加工してもよい。
一実施形態において、加工工程は、偏光板原板から偏光板中間体を切り出す中間体切出工程と、偏光板中間体の吸収軸の方向を検出する中間体吸収軸検出工程と、偏光板中間体の端面を切削加工する工程と、を有し、中間体切出工程では、原板吸収軸検出工程において検出された偏光板原板の吸収軸の方向が得られるべき偏光板中間体において同じであるように、偏光板原板を切断加工し、偏光板中間体の端面を切削加工する工程では、中間体吸収軸検出工程において検出された偏光板中間体の吸収軸の方向が、得られるべき偏光板における所定方向を向いているように、偏光板原板の端面を切削加工してもよい。
この場合、原板吸収軸検出工程において検出された偏光板原板の吸収軸の方向が偏光板中間体において同じであるように偏光板原板を切断加工することによって、偏光板原板から偏光板中間体が切り出される。そのため、吸収軸方向が揃っている偏光板中間体が得られることになる。そして、偏光板中間体の吸収軸を更に検出し、その検出結果に基づいて偏光板を得ている。偏光板中間体の吸収軸方向の検出結果に基づいて偏光板を得ているので、吸収軸方向が所定方向を向いている偏光板を製造し易い。更に、偏光板中間体の吸収軸の方向の検出結果に基づいて、偏光板中間体から偏光板を得ているので、偏光板原板から偏光板中間体を切り出す際の誤差の影響を低減できる。その結果、吸収軸方向が所定方向を向いている偏光板をより製造し易い。
偏光板原板から偏光板中間体又は偏光板を得る形態では、帯状偏光板から偏光板原板である枚葉偏光板を切り出す枚葉切出工程を更に備えてもよい。
偏光板原板である枚葉偏光板は、帯状偏光板から切り出されたものである。この場合、切り出し工程で生じる切断誤差などの影響によって、偏光板原板である枚葉偏光板の吸収軸の方向が帯状偏光板に対して予め想定されている吸収軸からズレている場合があり得る。帯状偏光板において想定されている吸収軸の方向が揃っていない場合もある。このような場合でもあっても、上記製造方法では、偏光板原板である枚葉偏光板の吸収軸の方向を検出し、検出結果に基づいて、偏光板を得ている。そのため、吸収軸の方向が所定方向を向いている偏光板をより確実に得ることが可能である。
一実施形態において、偏光板原板は、帯状偏光板であり、加工工程では、原板吸収軸検出工程において検出された偏光板原板の吸収軸の方向が所定方向を向くように、偏光板原板を切断加工してもよい。
帯状偏光板において想定されている吸収軸の方向が揃っていない場合もある。このような場合でもあって、上記製造方法では、偏光板原板である帯状偏光板の吸収軸の方向を検出し、検出結果に基づいて、偏光板を得ている。そのため、吸収軸の方向が正確に所定方向を向いている偏光板をより確実に得ることが可能である。
偏光板原板が帯状偏光板である形態において、偏光板の製造方法における加工工程は、偏光板原板から偏光板中間体を切り出す中間体切出工程と、偏光板中間体の吸収軸の方向を検出する中間体吸収軸検出工程と、偏光板中間体の端面を切削加工する工程と、を有し、中間体切出工程では、原板吸収軸検出工程において検出された偏光板原板の吸収軸の方向が、得られるべき偏光板中間体において同じであるように偏光板原板を切断加工し、偏光板中間体の端面を切削加工する工程では、中間体吸収軸検出工程において検出された偏光板中間体の吸収軸の方向が、得られるべき偏光板における所定方向を向いているように、偏光板原板の端面を切削加工してもよい。
帯状偏光板の吸収軸を検出して、その検出結果に基づいて、帯状偏光板から偏光板中間体を切り出している。そのため、帯状偏光板において想定されている吸収軸の方向が揃っていなくても、吸収軸の方向が偏光板中間体内で同じ方向を向いている偏光板中間体を得ることができる。更に、偏光板中間体の吸収軸を検出して、その検出結果に基づいて、偏光板を得ているので、偏光板中間体を切り出す際の誤差の影響も低減できる。その結果、吸収軸の方向が正確に所定方向を向いている偏光板をより製造し易い。
上記帯状偏光板が一軸延伸された偏光層を含んでいてもよい。
偏光層が一軸延伸されている場合、吸収軸の方向は延伸方向として想定され得る。しかしながら、一軸延伸の際のボーイングの影響などにより、帯状偏光板において、吸収軸の方向が揃っていない場合が生じ易い。そのため、帯状偏光板が一軸延伸された偏光層を含んでいる形態では、吸収軸の方向を検出する工程を有する上記製造方法によって、吸収軸の方向が正確に所定方向に向いている偏光板をより確実に得ることが可能である。
上記帯状偏光板の幅が、1000mm以上であってもよい。この場合、上述したボーイングの影響が生じやすい。そのため、吸収軸の方向を検出する工程を有する上記製造方法が、吸収軸の方向が正確に所定方向に向いている偏光板を得るために有効である。
一実施形態において、偏光板の平面視形状が長方形又は正方形であり、偏光板の対角線の長さが、350mm以下であってもよく、通常は、12.5mm以上、好ましくは50mm以上である。
このような偏光板は、高コントラストが要求されてきている中小型ディスプレイに使用される傾向にある。そのため、吸収軸の方向が正確に所定方向を向いている偏光板を得ることができる上記製造方法が有効である。
上記偏光板は、VA(Vertical Alignment)式、又はIPS(In-Place-Switching)式の液晶パネル用の偏光板であってもよい。
VA式、又はIPS式の液晶表示装置では、高コントラストでの画像表示が可能であり、このため更に高コントラストでの画像表示が要求される傾向にある。そのため、吸収軸の方向が正確に所定方向を向いている偏光板を得ることができる上記製造方法が有効である。
本発明の他の側面に係る液晶パネルの製造方法は、本発明の一側面に係る偏光板の製造方法により偏光板を製造し、得られた偏光板を液晶セルに貼合することによって、液晶パネルを製造する。
上記液晶パネルの製造方法で液晶セルに貼合される偏光板は、本発明の一側面に係る偏光板の製造方法で製造される。そのため、製造された偏光板では、所定方向に正確に吸収軸が向いている。よって、液晶パネルにおいて、画像を表示する際、画質の向上を図ることができる。
本発明によれば、吸収軸の方向が正確に所定方向である偏光板を製造可能な方法を提供できる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。同一の要素には同一符号を付する。重複する説明は省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。説明中、「上」、「下」等の方向を示す語は、図面に示された状態に基づいた便宜的な語である。
(第1の実施形態)
図1は、一実施形態に係る偏光板の製造方法で製造される偏光板の平面図である。偏光板10は、吸収軸SAと、吸収軸(偏光軸)SAに直交する透過軸STとを有する。偏光板10は、吸収軸SA方向に振動する光を吸収し、透過軸ST方向に振動する光を選択的に通す偏光特性を有する光学素子である。
図1は、一実施形態に係る偏光板の製造方法で製造される偏光板の平面図である。偏光板10は、吸収軸SAと、吸収軸(偏光軸)SAに直交する透過軸STとを有する。偏光板10は、吸収軸SA方向に振動する光を吸収し、透過軸ST方向に振動する光を選択的に通す偏光特性を有する光学素子である。
偏光板10は、液晶表示装置に適用される。例えば、偏光板10は液晶セルの両面に貼り合わせられ、液晶パネルの一部を構成し得る。偏光板10の平面視形状(厚さ方向から見た形状)の例は、図1に示したような長方形又は正方形といった四角形である。偏光板10の吸収軸SA方向は、偏光板10において所定方向を向いている。
所定方向とは、偏光板10の一辺を基準にして、その基準辺から所定の角度θ方向である。例えば、偏光板10の平面視形状が長方形の場合、所定方向は、長辺を基準として、所定の角度θ=0の方向(すなわち、長辺に平行な方向)、所定の角度θ=45°の方向などが例示され得る。説明の簡便化のために、以下では、特に断らない限り、平面視形状は長方形であり、所定方向が長辺方向である偏光板10の形態について説明する。
偏光板10の大きさは、偏光板10が使用されるデバイスに応じて設定されていればよい。偏光板10の大きさの例は、対角線の長さが、50mm~350mm、即ち、いわゆる2型~12型程度に相当する長さである偏光板である。偏光板10が液晶表示装置に適用される場合、偏光板10が貼合される液晶パネルは特に限定されないが、例えば、高いコントラストでの画像表示が可能なVA(Vertical Alignment)式、およびIPS(In-Place-Switching)式の液晶パネルが例示される。
偏光板10は、図2に示した帯状偏光板12から製造される。図2は、図1に示した偏光板を製造するための帯状偏光板の模式図である。
帯状偏光板12の長手方向の長さの例は1000m~2000mである。帯状偏光板12はロール状に巻かれている。帯状偏光板12が巻かれてなるロールを原反ロール14と称す。帯状偏光板12の幅の例は1000mm以上である。
図3は、図2のIII―III線に沿った断面図である。帯状偏光板12は、一方向に振動する光を選択的に通す偏光層としての偏光子フィルム12aを有する積層体である。偏光子フィルム12aの例は、帯状偏光板12の長手方向に一軸延伸されたPVAフィルムに二色性色素が吸着配向されたフィルムである。二色性色素は、PVAフィルムの延伸方向に配向してPVAフィルムに吸着している。これにより、偏光子フィルム12aは、二色性色素の配向方向(すなわち、分子長軸方向)の光を吸収し、上記配向方向と直交する方向の光を透過する二色性、すなわち、偏光特性を有する。二色性色素の例は、ヨウ素および二色性有機染料である。偏光子フィルム12aの厚さの例は、1μm~30μmである。
偏光子フィルム12aの両面には、偏光子フィルム12aを保護するための保護層としての保護フィルム12b,12cが貼り合わされている。保護フィルム12b,12cの例はセルロース系フィルムであり、セルロース系フィルムの例は、TAC(トリアセチルセルロース)フィルムである。保護フィルム12b,12cの厚さの例は、10μm~200μmである。
上記では、保護フィルム12b,12cに偏光子フィルム12aが挟まれた構造の帯状偏光板12について説明したが、帯状偏光板12は、偏光子フィルム12aの片面に保護フィルム12bが積層され、他方の面には保護フィルムが積層されない構造であってもよい。
保護フィルム12bには、保護フィルム12bを保護する表面保護フィルム(或いはプロテクトフィルム)12dが貼り合わされていてもよい。表面保護フィルム12dの厚さの例は、30μm~100μmである。表面保護フィルム12dの材料の例は、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエステルである。
更に、保護フィルム12cには、製品としての偏光板10を液晶セル等の他の部材に貼り合わせるための粘着剤層12eが形成されていてもよい。粘着剤層12eの厚さの例は5μm~30μmである。粘着剤層12eを構成する粘着剤の例はアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤及びシリコーン系粘着剤を含む。粘着剤層12eが形成されている形態では、粘着剤層12e上には、セパレートフィルム12fが剥離可能に貼り合わされていてもよい。セパレートフィルム12fは、製品としての偏光板10が使用されるまで、粘着剤層12eに帯状偏光板12の他の領域及びゴミなどが付着することを防止するためのフィルムである。セパレートフィルム12fの厚さの例は30μm~100μmである。
帯状偏光板12は例えば次のようにして製造される。すなわち、帯状の原料フィルムをその長手方向に一軸延伸する。原料フィルムの例は、未延伸、すなわち配向性のないPVAフィルムである。延伸倍率の例は4倍~5倍である。一軸延伸の方法は、乾式一軸延伸法及び湿式一軸延伸法のいずれでもよい。一軸延伸は、例えば、原料フィルムを熱ロールに接触させながら長手方向にテンションを付加して延伸させることで実現され得る。原料フィルムを一軸延伸した後、二色性色素を含む水溶液に、一軸延伸後の原料フィルムであるPVAフィルムを浸漬させることによって、二色性色素をPVAフィルムに吸着配向させて偏光子フィルム12aを得る。そして、偏光子フィルム12aの両面に保護フィルム12b,12cをそれぞれ貼り合わせることによって、上記基本構造を得る。その後、適宜、表面保護フィルム12d、粘着剤層12e及びセパレートフィルム12fを設けることによって、帯状偏光板12を得る。
上記帯状偏光板12の製造方法の例では、原料フィルムを一軸延伸した後のPVAフィルムに、二色性色素を吸着配向させている。しかしながら、二色性色素を吸着配向させている途中或いは吸着配向させた後に、原料フィルムを一軸延伸してもよい。
帯状偏光板12が有する偏光子フィルム12a(より具体的にはPVAフィルム)は帯状偏光板12の長手方向に一軸延伸されている。そのため、帯状偏光板12において、吸収軸SA方向は、帯状偏光板12の長手方向にほぼ一致する。しかしながら、一軸延伸した際、幅方向において縁部が内側に若干湾曲するボーイングが生じる場合がある。そのため、図2に示したように、帯状偏光板12の場所によって、吸収軸SA方向が長手方向からズレている場合があり得る。吸収軸SA方向の長手方向からのズレ角は、例えば、0.2°~0.3°程度である。図2では、このズレ角を誇張して描いている。
次に、図2に示した帯状偏光板12から図1に示した偏光板10を製造する方法について具体的に説明する。
図4は、一実施形態に係る偏光板の製造方法のフローチャートである。偏光板10を製造する場合、まず、帯状偏光板12から枚葉偏光板(第1偏光板中間体)16を切り出す(枚葉切出工程S10)。次に、枚葉偏光板16から偏光板中間体(第2偏光板中間体)22を切り出す(中間体切出工程S12)。続いて、切り出された偏光板中間体22の吸収軸SAを検出する(吸収軸検出工程S14)。その後、偏光板中間体22の端面を切削加工(端面加工)することによって偏光板10を得る(端面加工工程S16)。以下、各工程について説明する。
(1)枚葉切出工程S10
枚葉切出工程S10を図5(a)及び図5(b)を参照して説明する。図5(a)は、帯状偏光板から枚葉偏光板を切り出す工程を説明するための模式図である。図5(b)は、帯状偏光板の切断位置を模式的に示すための帯状偏光板の平面図である。
枚葉切出工程S10を図5(a)及び図5(b)を参照して説明する。図5(a)は、帯状偏光板から枚葉偏光板を切り出す工程を説明するための模式図である。図5(b)は、帯状偏光板の切断位置を模式的に示すための帯状偏光板の平面図である。
枚葉切出工程S10では、原反ロール14から帯状偏光板12を繰り出す。そして、繰り出された帯状偏光板12を、帯状偏光板12の繰り出し方向(或いは、搬送方向)上に配置された切断装置18に搬入する。切断装置18は、切断刃18aによって、帯状偏光板12を所定の長さで切断し、帯状偏光板12から枚葉偏光板16を切り出す。帯状偏光板12の切断位置は、例えば、図5(b)に二点鎖線で示す仮想的な切断線のように、長手方向において一定の間隔で設定しておけばよい。仮想的な切断線の位置は、予め切断装置18に入力しておけばよい。切断装置18では切断刃18aに代えてレーザービームにより帯状偏光板12を切断してもよい。
(2)中間体切出工程S12
中間体切出工程S12を図6(a)及び図6(b)を参照して説明する。図6(a)は、枚葉偏光板から偏光板中間体を切り出す工程を説明するための模式図である。図6(b)は、枚葉偏光板における偏光板中間体の切断位置を模式的に示す平面図である。
中間体切出工程S12を図6(a)及び図6(b)を参照して説明する。図6(a)は、枚葉偏光板から偏光板中間体を切り出す工程を説明するための模式図である。図6(b)は、枚葉偏光板における偏光板中間体の切断位置を模式的に示す平面図である。
中間体切出工程S12では、枚葉偏光板16を、その搬送方向上に配置された切断装置20に搬入する。切断装置20は、切断刃20aによって、枚葉偏光板16から複数枚の偏光板中間体22を切り出す。偏光板中間体22は、製造される偏光板10の形状に対して削りシロ(例えば、0.5mm幅)を設けた大きさを有する偏光板中間体である。本実施形態では、偏光板中間体22が偏光板原板に対応する。枚葉偏光板16の切断位置は、図6(b)に二点鎖線で示す偏光板中間体22用の仮想の切断線のように、設定しておけばよい。偏光板中間体22用の切断線は、吸収軸SAが枚葉偏光板16の搬送方向(すなわち、帯状偏光板12の長手方向)に沿っていると仮定して設定し得る。偏光板中間体22用の切断線(切断位置)は、予め切断装置20に入力しておけばよい。切断装置20の切断刃20aは、切断線に沿って切断するために、切断刃20aの向きを変えられるように切断装置20に取り付けられていればよい。切断装置20では切断刃20aに代えてレーザービームにより枚葉偏光板16を切断してもよい。
(3)吸収軸検出工程S14
吸収軸検出工程S14を、図7を参照して説明する。図7は、吸収軸方向の検出工程を模式的に示す図面である。吸収軸SAは、回転検光子法によって検出され得る。
吸収軸検出工程S14を、図7を参照して説明する。図7は、吸収軸方向の検出工程を模式的に示す図面である。吸収軸SAは、回転検光子法によって検出され得る。
具体的には、偏光板中間体22の厚み方向において、偏光板中間体22に対して一方の側(図7では偏光板中間体22の下方)に配置された光源24から光を偏光板中間体22に照射する。照射する光は通常、非偏光である。例えば白熱電球、蛍光灯、LEDなどの通常の光源から発せられる光は通常、非偏光である。偏光板中間体22を通過した光を、偏光板中間体22の厚み方向において、偏光板中間体22に対して他方の側(図7では、偏光板中間体22の上方)に配置された光検出器26で検出する。偏光板中間体22と光検出器26との間には、吸収軸SA方向及び透過軸ST方向が既知の検光子である直線偏光板28を、光源24から出力される光の光軸と直線偏光板28の交点を回転中心として回転可能に配置しておく。直線偏光板28の回転量は、例えば、コンピュータである制御装置で制御すればよい。上記制御装置で、光検出器26からの信号も処理すればよい。
偏光板中間体22の吸収軸SAを検出する際には、光源24から光を出力する。光源24から出力された光が偏光板中間体22に入射されると、偏光板中間体22の透過軸ST方向に振動する光が選択的に偏光板中間体22を通過する。そのため、直線偏光板28を、光源24から出力される光の光軸を中心軸として回転させると、直線偏光板28の吸収軸SA方向と偏光板中間体22の吸収軸SA方向とが直交する状態、すなわち、クロスニコル状態になったとき、光検出器26に入射する光量が最小になる。そのため、光検出器26に入射する光量が最小になるとき、直線偏光板28の吸収軸SA方向が偏光板中間体22の吸収軸SA方向である。
吸収軸SA方向の検出は、偏光板中間体22において複数箇所で行えばよい。吸収軸SA方向の検出箇所は、例えば、偏光板中間体22の幅方向に対して設定し得る。
光源24、直線偏光板28及び光検出器26を含む吸収軸方向の検出装置は、例えば、枚葉偏光板16から切り出された偏光板中間体22の搬送ライン上に配置されていてもよいし、又は、搬送ラインとは別の場所に設置されていてもよい。
光源24、直線偏光板28及び光検出器26は、吸収軸SAの検出に使用されるものであれば特に限定されない。光源24、直線偏光板28及び光検出器26の配置関係も、偏光板中間体22と直線偏光板28とでクロスニコル状態を実現可能な配置であれば、特に限定されない。例えば、直線偏光板28は、光源24と偏光板中間体22との間に配置されていてもよい。更に、偏光板中間体22の上下に、直線偏光板28をそれぞれ配置してもよい。この場合、2つの直線偏光板28を平行ニコル状態に配置し、同期して回転させればよい。
図7に示した吸収軸SA方向の検出方法を実現可能な装置の例は、王子計測機器株式会社製のKOBRA、大塚電子株式会社製のRETS-100及びRE-100P等が挙げられる。
検出した吸収軸SA方向は記録しておけばよい。この記録は、例えば、偏光板中間体22から偏光板10を削り出すときに削れられる領域等に吸収軸SA方向をマークしておけばよい。
(4)端面加工工程S16
端面加工工程S16では、吸収軸SA方向の検出結果に基づいて、偏光板中間体22の端面22a,22b,22c,22dを切削加工する。これによって、偏光板10が得られる。切削加工には、端面22a,22b,22c,22dの研磨も含む。端面加工工程S16について図8及び図9を参照して説明する。
端面加工工程S16では、吸収軸SA方向の検出結果に基づいて、偏光板中間体22の端面22a,22b,22c,22dを切削加工する。これによって、偏光板10が得られる。切削加工には、端面22a,22b,22c,22dの研磨も含む。端面加工工程S16について図8及び図9を参照して説明する。
図8は、吸収軸の検出結果に基づく、偏光板中間体からの偏光板の削り出し領域を示す図面である。図8において、破線は、帯状偏光板12の長手方向を吸収軸方向と仮定した場合の吸収軸SA0方向を示しており、二点鎖線は、検出された吸収軸SAの方向に基づいた、偏光板領域Aを示している。偏光板領域Aは、偏光板中間体22において、端面22a~22dを切削加工して削り出されるべき偏光板10の部分である。偏光板領域Aは、吸収軸SAが偏光板10において所定方向(本実施形態では長手方向)を向くように設定される。
図9は、端面加工の工程を示す模式図である。図9に示すように、吸収軸SAの方向が検出された複数枚の偏光板中間体22が積層された積層体30を利用して複数枚の偏光板中間体22の端面加工をまとめて行う。
端面加工工程S16は、図9に示した端面加工装置32を利用して行う。端面加工装置32は、積層体30を、積層方向から挟んで保持する一対の保持部材34A,34Bを有する。一対の保持部材34A,34Bのうちの一方の保持部材34Bは、回転テーブル36上に載置されている。他方の保持部材34Aには、保持部材34Aを、保持部材34B側に押圧する押圧部材38が取り付けられている。回転テーブル36及び押圧部材38は、一方向に移動可能に図示しない支持台に取り付けられている。押圧部材38は、回転テーブル36の回転に同期して回転テーブル36と同じ方向に回転できるように支持台に取り付けられている。
端面加工装置32は、回転テーブル36の移動方向上に、一対の切削部材40A,40Bを有する。一対の切削部材40A,40Bは、積層体30における偏光板中間体22の積層方向及び回転テーブル36の移動方向に直交する方向に対向して配置されている。一対の切削部材40A,40Bは、切削部材40A,40Bの配列方向を回転軸として回転可能な回転部材42A,42Bを有し、回転部材42A,42Bのそれぞれの内側の面(積層体30と対向する面)には切削刃44が取り付けられている。
上記構成の端面加工装置32を利用して行う偏光板中間体22の端面加工工程S16の一例について説明する。
吸収軸SAが検出された複数の偏光板中間体22を積層して積層体30を構成する。積層体30を構成する偏光板中間体22の吸収軸SAの方向は同じである。積層体30において、複数の偏光板中間体22は、図8に示した偏光板領域40が積層方向において重なるように積層されている。準備した積層体30を一対の保持部材34A,34Bで挟み、押圧部材38で積層方向に押圧して積層体30を保持部材34A,34Bで保持する。その後、回転テーブル36を、その移動方向に移動させて、積層体30を、一対の切削部材40A,40Bの間に送り込む。この際、切削部材40A、40Bの回転部材42A,42Bを回転させておく。これにより、積層体30を構成する各偏光板中間体22の4つの端面22a~22dのうち切削部材40A,40Bと対向する一対の端面(図9の例では、端面22c,22d)が、切削部材40A,40Bで切削加工(或いは研磨)される。図8に示した二点鎖線で示した偏光板領域40を削り出すように、回転テーブル36によって切削刃44と、端面22a~22dのうち切削部材40A,40Bと対向する端面との接触角度を調整すると共に、切削部材40A,40Bと端面との距離を適宜制御すればよい。偏光板中間体22において互いに反対側に位置する一対の端面の切削が終了すれば、回転テーブル36を回転させて、残りの一対の端面を加工すればよい。
上記のように、端面加工装置32によって、偏光板中間体22の端面22a~22dを切削加工して、偏光板中間体22から偏光板10を削り出すことによって、製品としての偏光板10が得られる。
偏光板10は、上記のようにして、帯状偏光板12から製造されるので、偏光板10の断面構成(或いは層構成)は、図3に示した帯状偏光板12の断面構成と同様である。
上記製造方法では、端面加工の前段階の偏光板原板である偏光板中間体22において吸収軸SAの方向を検出している。続いて、検出結果に基づいて、偏光板10における所定方向に吸収軸SA方向が向くように、偏光板中間体22の端面22a~22dの切削加工を行い、偏光板中間体22から偏光板10を削りだしている。そのため、偏光板10において、吸収軸SA方向が、偏光板10が適用される部材(例えば、液晶パネル)等において望まれている所定方向を向いている。偏光板10において、吸収軸SA方向はより高い精度で所定方向と一致している。
帯状偏光板12の吸収軸SAは、偏光子フィルム12aの延伸方向と平行であり、帯状偏光板12の長手方向にほぼ沿っている。そのため、帯状偏光板12の長手方向を吸収軸SA方向と仮定して、偏光板を製造することも考えられる。しかしながら、帯状偏光板12が製造される際の一軸延伸でのボーイングの影響によって、図2に例示したように、帯状偏光板12の長手方向から吸収軸SAの方向がズレた領域が生じている場合がある。枚葉切出工程S10及び中間体切出工程S12における切断加工時には切断誤差などが生じる場合もある。その結果、図8に示すように、偏光板中間体22において、帯状偏光板12の長手方向を吸収軸と想定した場合の仮想の吸収軸SA0方向と、検出結果としての実際の吸収軸SA方向にズレが生じる場合がある。
このようなズレが仮に生じていても、上記製造方法では、偏光板中間体22の吸収軸SA方向を検出し、検出結果に応じて、偏光板10における所定方向に吸収軸SA方向が向くように、偏光板中間体22から偏光板10を削りだしている。そのため、吸収軸SA方向が所望の方向である偏光板10をより確実に得ることができる。
高いコントラストでの画像表示が可能なVA式、及びIPS式の液晶パネルに適用される偏光板には、高コントラストでの画像表示のために、吸収軸SA方向が製品としての偏光板において求められる所定方向と高い精度で一致していることが要求されてきている。そのため、吸収軸SA方向が、より高い精度で所定方向と一致した偏光板10を製造可能な上記製造方法は、VA式、及びIPS式の液晶パネル用の偏光板を製造するために有効である。液晶パネルがVA式である場合、ASV(Advanced Super View)式であってもよい。
画面サイズが大きな大型TVとは異なり、12型(対角線長350mm)以下の中小型携帯機器用ディスプレイなどでは、ユーザが画面を近い距離から見る傾向にあるため、高いコントラストが要求される。そのため、吸収軸SA方向が、より高い精度で所定方向と一致した偏光板10を製造可能な上記製造方法は、中小型携帯機器用ディスプレイに用いられる偏光板を製造するために有効である。
偏光板10の平面視形状が長方形又は正方形であり対角線の長さが12.5mm~350mmのいわゆる0.5型~12型程度の大きさ、更には2型(対角線長50mm)以上に対応する長さである形態では、偏光板10は、中小型携帯機器用ディスプレイなどに使用されやすい。そのため、吸収軸SA方向が、より高い精度で所定方向と一致した偏光板10を製造可能な上記製造方法は、平面視形状が長方形又は正方形であり対角線の長さが12.5mm~350mmである偏光板に対して有効である。
帯状偏光板12の幅が1000mm以上である形態では、上述したボーイングの影響が大きくなる傾向にある。そのため、吸収軸SA方向の検出工程を備える上述した製造方法が、幅1000mm以上、通常は3000mm以下の帯状偏光板12から吸収軸SA方向が所定方向である偏光板10を得る観点からより有効である。
(第2の実施形態)
図10は、他の実施形態に係る偏光板の製造方法を示すフローチャートである。図10に示した製造方法では、まず、帯状偏光板12から枚葉偏光板16を切り出す(枚葉切出工程S20)。次に、枚葉偏光板16における吸収軸SAの方向を検出する(吸収軸検出工程S22)。続いて、枚葉偏光板16から偏光板中間体22を切り出す(中間体切出工程S24)。その後、偏光板中間体22の吸収軸方向を検出する(吸収軸検出工程S26)。そして、偏光板中間体22の端面を切削加工(端面加工)することによって偏光板10を得る(端面加工工程S28)。中間体切出工程S24以降の工程、すなわち、中間体切出工程S24、吸収軸検出工程S26及び端面加工工程S28は、吸収軸SA方向の検出結果に基づいて、偏光板10を得る工程に対応する。以下、各工程について説明する。
図10は、他の実施形態に係る偏光板の製造方法を示すフローチャートである。図10に示した製造方法では、まず、帯状偏光板12から枚葉偏光板16を切り出す(枚葉切出工程S20)。次に、枚葉偏光板16における吸収軸SAの方向を検出する(吸収軸検出工程S22)。続いて、枚葉偏光板16から偏光板中間体22を切り出す(中間体切出工程S24)。その後、偏光板中間体22の吸収軸方向を検出する(吸収軸検出工程S26)。そして、偏光板中間体22の端面を切削加工(端面加工)することによって偏光板10を得る(端面加工工程S28)。中間体切出工程S24以降の工程、すなわち、中間体切出工程S24、吸収軸検出工程S26及び端面加工工程S28は、吸収軸SA方向の検出結果に基づいて、偏光板10を得る工程に対応する。以下、各工程について説明する。
枚葉切出工程S20は、図4に示した枚葉偏光板16の切出し工程S10と同様であるため、説明を省略する。
吸収軸検出工程S22では、枚葉偏光板16の吸収軸SAの方向を検出する。検出方法は、図7を利用して説明した偏光板中間体22の吸収軸SAの方向の検出方法と同様である。すなわち、図7において、偏光板中間体22の代わりに、枚葉偏光板16を配置して検出すればよい。光源24、直線偏光板28及び光検出器26を含む吸収軸方向の検出装置は、例えば、枚葉偏光板16の搬送ライン上に配置されていてもよいし、又は、搬送ラインとは別の場所に設置されていてもよい。枚葉偏光板16の吸収軸SA方向の検出は、偏光板中間体22において複数箇所で行えばよい。吸収軸SA方向の検出箇所は、例えば、偏光板中間体22の幅方向に対して設定し得る。
中間体切出工程S24では、図6(a)と同様に、枚葉偏光板16を搬送しながら切断装置20に搬入して、枚葉偏光板16から複数枚の偏光板中間体22を切り出す。この際、検出した吸収軸SA方向に基づいて、偏光板中間体22内において吸収軸SAの方向が同じ方向を向いているように、枚葉偏光板16から偏光板中間体22を切断刃20aで切断する。図11を参照して具体的に説明する。
図11は、枚葉偏光板の切出し工程を説明するための図面である。図11では、枚葉偏光板16の平面図を示している。更に、図11では、検出された複数の吸収軸SA方向の一例を示している。図11に示すように、枚葉偏光板16の幅方向における中心部では、吸収軸SAの方向が長手方向に平行であるのに対して、枚葉偏光板16の幅方向の縁部近傍では、吸収軸SAが長手方向に対して傾斜している。このような場合、図11に二点鎖線で示したように、吸収軸SA方向が揃っている領域を偏光板中間体22の切り出し領域として仮想的な切断線を設定する。一実施形態では、図11に示したように、偏光板中間体22の長手方向に吸収軸SA方向が向くように仮想的な切断線を設定する。図11では、幅方向において、中心部近傍及び両側の縁部近傍のそれぞれの領域で、仮想的な切断線を設定している。そして、切断刃20aで、設定した切断線に沿って、枚葉偏光板16を、切断装置で切断加工し、枚葉偏光板16から偏光板中間体22を切り出す。仮想的な切断線により設定されるそれぞれの領域においては、吸収軸SAの方向は厳密に揃っている必要はなく、目的とする偏光板10における所定方向の許容範囲内に収まる範囲で揃っていればよい。
吸収軸検出工程S26及び端面加工工程S28は、図4に示した吸収軸検出工程S14及び端面加工工程S16と同様であるため、説明を省略する。
上記製造方法では、本実施形態において偏光板原板に対応する枚葉偏光板16の吸収軸SAの方向を検出している。そして、検出結果に基づいて、枚葉偏光板16を加工し、偏光板10を得ている。そのため、第1の実施形態の場合と同様の理由で生じる帯状偏光板12の長手方向として想定される吸収軸SA0と、検出された実際の吸収軸SA方向のズレを補正して偏光板10を製造することが可能である。その結果、吸収軸SA方向が所定方向である偏光板10を得ることができる。
偏光板中間体22内で吸収軸SA方向が揃っているように、枚葉偏光板16から偏光板中間体22を切り出しているので、偏光板中間体22において、例えば、ボーイングの影響が低減されている。そして、吸収軸SA方向が揃っている偏光板中間体22から偏光板10を得るので、吸収軸SA方向が所定方向を向いている偏光板10を製造し易い。
偏光板中間体22の吸収軸SA方向を再度検出して、その検出結果に基づいて、偏光板10を得ている。そのため、偏光板中間体22を切り出す際の誤差の影響も低減できる。その結果、吸収軸SA方向が所定方向である偏光板10をより確実に得ることができる。
図10に示したフローチャートで実施される製造方法においても、上述のように、吸収軸SA方向が所定方向である偏光板10を得ることができる。そのため、VA式、及びIPS式の液晶パネル又は中小型ディスプレイに適用される偏光板に対して、上記製造方法が有効であることは、第1の実施形態の場合と同様である。帯状偏光板12の幅が1000mm以上である形態及び偏光板10の平面視形状が長方形又は正方形であり対角線の長さが350mm以下、好ましくは、12.5mm以上、更に好ましくは50mm以上である形態に対して、上記製造方法が有効であることも、第1の実施形態の場合と同様である。
ここでは、中間体切出工程S24を備えている形態を説明したが、枚葉偏光板16から偏光板10を直接切り出してもよい。この場合、枚葉偏光板16において検出された吸収軸SA方向が偏光板10内で所定方向を向くように枚葉偏光板16から偏光板10を切り出せばよい。このように、偏光板10を枚葉偏光板16から直接得る形態では、より簡易に偏光板10を製造できる。
図10に示したフローチャートでは、偏光板中間体22の吸収軸SA方向を検出する吸収軸検出工程S26を備えている。しかしながら、吸収軸検出工程S26を備え無くてもよい。偏光板中間体22の吸収軸SA方向は揃っており、各偏光板中間体22において吸収軸SAの方向は、枚葉偏光板16の吸収軸SAの検出により既知である。そのため、図8に示した場合と同様に、偏光板中間体22内において吸収軸SAの方向に基づいて偏光板領域Aを設定して、端面加工工程S16の場合と同様にして、端面加工装置32によって偏光板中間体22から偏光板10を削り出せばよい。
吸収軸検出工程S26を備えない形態では、例えば、偏光板中間体22を偏光板10とみなした場合に、検出された吸収軸SA方向が所定方向を向くように、枚葉偏光板16から偏光板中間体2を切り出してもよい。この場合、偏光板中間体22における吸収軸SA方向は偏光板10の所定方向に向いている。そのため、偏光板中間体22の端面22a~22dを一定の幅で切削すればよいので、端面加工が容易である。
(第3の実施形態)
図12は、更に他の実施形態に係る偏光板の製造方法を示すフローチャートである。図12に示した製造方法では、まず、帯状偏光板12の吸収軸方向を検出する(吸収軸検出工程S30)。次に、帯状偏光板12から偏光板中間体22を切り出す(中間体切出工程S32)。偏光板中間体22の吸収軸方向を検出する(吸収軸検出工程S34)。その後、偏光板中間体22の端面を切削加工(端面加工)することによって偏光板10を得る(端面加工工程S36)。中間体切出工程S32以降の工程、すなわち、中間体切出工程S32、吸収軸検出工程S34及び端面加工工程S36は、吸収軸SA方向の検出結果に基づいて、偏光板10を得る工程に対応する。以下、各工程について説明する。
図12は、更に他の実施形態に係る偏光板の製造方法を示すフローチャートである。図12に示した製造方法では、まず、帯状偏光板12の吸収軸方向を検出する(吸収軸検出工程S30)。次に、帯状偏光板12から偏光板中間体22を切り出す(中間体切出工程S32)。偏光板中間体22の吸収軸方向を検出する(吸収軸検出工程S34)。その後、偏光板中間体22の端面を切削加工(端面加工)することによって偏光板10を得る(端面加工工程S36)。中間体切出工程S32以降の工程、すなわち、中間体切出工程S32、吸収軸検出工程S34及び端面加工工程S36は、吸収軸SA方向の検出結果に基づいて、偏光板10を得る工程に対応する。以下、各工程について説明する。
吸収軸検出工程S30では、帯状偏光板12を原反ロール14から繰り出した後、繰り出された領域の帯状偏光板12の吸収軸SA方向を検出する。検出方法は、図7を利用して説明した偏光板中間体22の吸収軸SA方向の検出方法と同様である。すなわち、図7において、偏光板中間体22の代わりに、帯状偏光板12を配置して検出すればよい。光源24、直線偏光板28及び光検出器26を含む吸収軸方向の検出装置は、例えば、帯状偏光板12の搬送ライン上に配置されていればよい。帯状偏光板12の吸収軸SA方向の検出は、帯状偏光板12において複数箇所で行えばよい。吸収軸SA方向の検出箇所は、例えば、帯状偏光板12の幅方向に対して設定し得る。
中間体切出工程S32では、帯状偏光板12をその繰り出し方向に搬送しながら切断装置に搬入し、帯状偏光板12から偏光板中間体22を切り出す。偏光板中間体22を切り出すための切断装置としては、図6(a)に例示した偏光板中間体22の切出し用の切断装置20が使用され得る。この工程S32は、図10に示した枚葉偏光板16を帯状偏光板12と見なした場合と同様である。すなわち、偏光板中間体22の長手方向に吸収軸SA方向が向くように仮想的な切断線を設定する。そして、設定した切断線に沿って、帯状偏光板12を、切断装置で切断加工し、帯状偏光板12から偏光板中間体22を切り出す。
吸収軸検出工程S34及び端面加工工程S36は、図4に示した吸収軸検出工程S14及び端面加工工程S16と同様であるため、説明を省略する。
上記製造方法では、帯状偏光板12の吸収軸SAの方向を検出している。そして、検出結果に基づいて、帯状偏光板12を加工し、偏光板10を得ている。そのため、帯状偏光板12における一軸延伸時のボーイングの影響等に起因する帯状偏光板12内での吸収軸SAの長手方向からのズレを補正しながら偏光板10を製造することが可能である。その結果、吸収軸SA方向が所望の方向である偏光板10を得ることができる。
偏光板中間体22内で吸収軸SA方向が揃っているように、帯状偏光板12から偏光板中間体22を切り出しているので、偏光板中間体22において、例えば、ボーイングの影響が低減されている。そして、吸収軸SA方向が揃っている偏光板中間体22から偏光板10を得るので、吸収軸SA方向が所定方向を向いている偏光板10を製造し易い。
偏光板中間体22の吸収軸SA方向を再度検出して、その検出結果に基づいて、偏光板10を得ている。そのため、偏光板中間体22を切り出す際の誤差の影響も低減できる。その結果、吸収軸SA方向が所定方向である偏光板10をより確実に得ることができる。
図12に示したフローチャートで実施される製造方法においても、上述のように、吸収軸SA方向が所定方向である偏光板10を得ることができる。そのため、VA式、又はIPS式の液晶パネル又は中小型ディスプレイに適用される偏光板に対して、上記製造方法が有効であることは、第1の実施形態の場合と同様である。帯状偏光板12の幅が1000mm以上である形態及び偏光板10の平面視形状が長方形又は正方形であり対角線の長さが350mm以下、通常は、12.5mm~350mm、好ましくは、50mm~350mmである形態に対して、上記製造方法が有効であることも、第1の実施形態の場合と同様である。
ここでは、偏光板中間体22を切出す工程S32を備えている形態を説明したが、帯状偏光板12から偏光板10を直接切り出してもよい。この場合、帯状偏光板12において検出された吸収軸SA方向が偏光板10内で所定方向を向くように帯状偏光板12から偏光板10を切り出せばよい。このように、偏光板10を帯状偏光板12から直接得る形態では、より簡易に偏光板10を製造できる。
図12に示したフローチャートでは、偏光板中間体22の吸収軸SA方向を検出する吸収軸検出工程S34を備えている。しかしながら、吸収軸検出工程S34を備え無くてもよい。偏光板中間体22の吸収軸SA方向は揃っており、各偏光板中間体22内において吸収軸SAの方向は、帯状偏光板12の吸収軸SAの検出により既知である。そのため、図8に示した場合と同様に、偏光板中間体22内において吸収軸SAの方向に基づいて偏光板領域Aを設定して、端面加工工程S16の場合と同様にして、端面加工装置32によって偏光板中間体22から偏光板10を削り出せばよい。
吸収軸検出工程S34を備えない形態では、例えば、偏光板中間体22を偏光板10とみなした場合に、検出された吸収軸SA方向が所定方向を向くように、帯状偏光板12から偏光板中間体2を切り出してもよい。この場合、偏光板中間体22における吸収軸SA方向は偏光板10の所定方向に向いている。そのため、偏光板中間体22の端面22a~22dを一定の幅で切削すればよいので、端面加工が容易である。
図12に示したフローチャートでは、帯状偏光板12から偏光板中間体22を切り出しているが、例えば、帯状偏光板12から枚葉偏光板16を切り出してもよい。図13は、吸収軸の検出結果に基づいて、帯状偏光板から枚葉偏光板を切り出す場合を説明するための図面である。
図13では、帯状偏光板12の平面図を示している。更に、図13では、検出された複数の吸収軸SAの一例を示している。図13に示すように、帯状偏光板12の幅方向の中心部では、吸収軸SAの方向が長手方向に平行であるのに対して、帯状偏光板12の幅方向の縁部近傍では、吸収軸SAが長手方向に対して傾斜している。このような場合、図13に二点鎖線で示したように、吸収軸SAの方向が揃っている領域を枚葉偏光板16の切り出し領域として仮想的な切断線を設定する。一実施形態では、図13に示したように、枚葉偏光板16の長手方向に吸収軸SA方向が向くように仮想的な切断線を設定する。これにより、吸収軸SA方向のズレが小さい枚葉偏光板16が作製され得る。よって、枚葉偏光板16内の吸収軸SAの方向を基準にして、枚葉偏光板16を加工して偏光板10を作製すれば、吸収軸SA方向が所定方向を向いている偏光板10が製造され得る。帯状偏光板12から吸収軸SA方向の検出結果に基づいて切り出された枚葉偏光板16に対して、第2の実施形態の製造方法を適用して、偏光板10を製造してもよい。
(第4の実施形態)
第4の実施形態として、偏光板10を用いて液晶パネルを製造する方法について説明する。以下の説明では、偏光板10は、図3に例示した帯状偏光板12の層構成と同じ層構成を有する。すなわち、偏光板10は、偏光子フィルム12aと、その両面に貼り合わされた保護フィルム12b,12cと、保護フィルム12b上に設けられた表面保護フィルム12dと、保護フィルム12c上に順に設けられた粘着剤層12e及びセパレートフィルム12fとを有する。保護フィルム12b,12cは、何れか一方だけでもよい。
第4の実施形態として、偏光板10を用いて液晶パネルを製造する方法について説明する。以下の説明では、偏光板10は、図3に例示した帯状偏光板12の層構成と同じ層構成を有する。すなわち、偏光板10は、偏光子フィルム12aと、その両面に貼り合わされた保護フィルム12b,12cと、保護フィルム12b上に設けられた表面保護フィルム12dと、保護フィルム12c上に順に設けられた粘着剤層12e及びセパレートフィルム12fとを有する。保護フィルム12b,12cは、何れか一方だけでもよい。
以下、説明の便宜のため、図3に示した層構成の偏光板10において、セパレートフィルム12fが剥離された偏光板10を偏光板10Aとも称す。
図14は、第4の実施形態で製造される液晶パネルの構成を模式的に示す図面である。図14に示すように、液晶パネル46は、液晶セル48の両面に、偏光板10からセパレートフィルム12fを剥離した偏光板10Aが貼合されて構成されている。液晶セル48としては、公知の液晶パネルに使用されるものであればよい。例えば、液晶セル48は、ガラス基板上に、透明電極、配向膜、液晶、配向膜、透明電極、カラーフィルタ及びガラス基板が順に設けられたものであり得る。液晶セル48の駆動方式の例は、VA式、及びIPS式である。
液晶パネル46は、例えば、次のようにして製造される。すなわち、第1~第3の実施形態で開示された何れかの偏光板の製造方法によって偏光板10を製造する(偏光板製造工程)。次に、液晶セル48の両面に偏光板10を貼合して、液晶パネル46を得る(偏光板貼合工程)。
偏光板貼合工程では、各偏光板10のセパレートフィルム12fを剥離した後、セパレートフィルム12fが剥離された偏光板10Aを、粘着剤層12eを介して液晶セル48に貼合する。液晶セル48の両面に偏光板10を貼合する際、2つの偏光板10がクロスニコル状態になるように液晶セル48に対して2つの偏光板10Aを配置しておく。
上記製造方法では、液晶パネル46が有する偏光板10Aとなる偏光板10は、第1~第3の実施形態で例示した製造方法の一つで製造されている。そのため、偏光板10では、所定方向に正確に吸収軸SAが向いている。そのため、製造された液晶パネル46において、画像を表示する際、画質の向上を図ることができる。
液晶パネル46の製造に使用される液晶セル48が、VA式、及びIPS式の何れかの液晶セル48である場合、高いコントラストでの画像表示が可能である。そのため、所定方向に正確に吸収軸SAが向いている偏光板10Aを適用することで、液晶パネル46において、画質の向上が更に図れる。
第4の実施形態では、第1~第3の実施形態で開示された何れかの偏光板の製造方法によって製造される偏光板10は、偏光子フィルム12aと、保護フィルム12b,12cの少なくとも一方を有していればよい。ただし、通常、偏光板10は、液晶セル48への貼合のために粘着剤層12eを有する。第1~第3の実施形態で開示された何れかの偏光板の製造方法によって製造された偏光板10が粘着剤層12eを有さない場合、偏光板10と液晶セル48とを例えば接着剤で貼合わせてもよいし、液晶セル48側に粘着剤層を設けていてもよい。
以上、本発明の種々の実施形態を説明したが、例示した種々の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
例えば、第1及び第2の実施形態では、帯状偏光板12から偏光板10を製造する工程を例示した。しかしながら、第1の実施形態では、第1の実施形態で説明した枚葉偏光板16又は偏光板中間体22を購入してきて、それらから偏光板10を製造してもよい。
帯状偏光板12から枚葉偏光板16を切り出す際、帯状偏光板12の長手方向を、長手方向とする長方形状の枚葉偏光板16を切り出す例を説明した。しかしながら、例えば、帯状偏光板12の長手方向に対して斜め方向に枚葉偏光板16を切り出してもよい。すなわち、枚葉偏光板16の長手方向と、帯状偏光板12の長手方向とが交差するように、帯状偏光板12から枚葉偏光板16を切り出してもよい。枚葉偏光板16の平面視形状は、長方形又は正方形に限定されず、例えば、平行四辺形であってもよい。ここでは、帯状偏光板12から枚葉偏光板16を切り出す場合の変形例を説明したが、枚葉偏光板16から偏光板中間体22を切り出すときも同様である。
偏光板10の平面視形状は、長方形又は正方形のような四角形を例示したが、四角形に限定されず、円形でもよい。
帯状偏光板12から偏光板10を直接切り出す場合又は偏光板中間体22を切り出す場合、偏光板10及び偏光板中間体22の数は複数、すなわち、2枚以上に限らず、一枚でもよい。同様に、枚葉偏光板16から偏光板10を直接切り出す場合又は偏光板中間体22を切り出す場合、偏光板10及び偏光板中間体22の数は複数、すなわち、2枚以上に限らず、一枚でもよい。
偏光板10が適用される液晶パネルの駆動方式の例は、VA式、及びIPS式の場合に限らない。例えば、偏光板10が適用される液晶パネルの駆動方式は、TN(Twisted Nematic)方式でもよい。
10…偏光板、12…帯状偏光板(偏光板原板)、12a…偏光子フィルム、16…枚葉偏光板(偏光板原板)、22…偏光板中間体(偏光板原板)、46…液晶パネル、48…液晶セル。
Claims (13)
- 吸収軸の方向が所定方向を向いている偏光板を製造する方法であって、
偏光板原板における前記吸収軸の方向を検出する原板吸収軸検出工程と、
前記偏光板原板を加工することによって偏光板を得る加工工程と、
を備え、
前記加工工程では、前記原板吸収軸検出工程において検出された前記偏光板原板の吸収軸の方向が、得られるべき偏光板における前記所定方向を向くように、前記偏光板原板を加工する、
偏光板の製造方法。 - 前記加工工程では、前記原板吸収軸検出工程において検出された前記偏光板原板の吸収軸の方向が、得られるべき偏光板における前記所定方向を向くように、前記偏光板原板の端面を切削加工する、
請求項1に記載の偏光板の製造方法。 - 帯状偏光板から枚葉偏光板を切り出す枚葉切出工程と、
前記枚葉偏光板から前記偏光板原板である偏光板中間体を切り出す中間体切出工程と、
を更に備える、
請求項2に記載の偏光板の製造方法。 - 前記加工工程では、前記原板吸収軸検出工程において検出された前記偏光板原板の吸収軸の方向が、得られるべき偏光板における前記所定方向を向くように、前記偏光板原板を切断加工する、
請求項1に記載の偏光板の製造方法。 - 前記加工工程は、
前記偏光板原板から偏光板中間体を切り出す中間体切出工程と、
前記偏光板中間体の前記吸収軸の方向を検出する中間体吸収軸検出工程と、
前記偏光板中間体の端面を切削加工する工程と、
を有し、
前記中間体切出工程では、前記原板吸収軸検出工程において検出された前記偏光板原板の吸収軸の方向が得られるべき偏光板中間体内において同じであるように、前記偏光板原板を切断加工し、
前記偏光板中間体の端面を切削加工する工程では、前記中間体吸収軸検出工程において検出された前記偏光板中間体の吸収軸の方向が、得られるべき偏光板における前記所定方向を向いているように、前記偏光板原板の端面を切削加工する、
請求項1に記載の偏光板の製造方法。 - 帯状偏光板から前記偏光板原板である枚葉偏光板を切り出す枚葉切出工程を更に備える、請求項4又は5に記載の偏光板の製造方法。
- 前記偏光板原板は、帯状偏光板であり、
前記加工工程では、前記原板吸収軸検出工程において検出された偏光板原板の吸収軸の方向が前記所定方向を向くように、前記偏光板原板を切断加工する、
請求項1に記載の偏光板の製造方法。 - 前記加工工程は、
前記偏光板原板から偏光板中間体を切り出す中間体切出工程と、
前記偏光板中間体の吸収軸の方向を検出する中間体吸収軸検出工程と、
前記偏光板中間体の端面を切削加工する工程と、
を有し、
前記中間体切出工程では、前記原板吸収軸検出工程において検出された前記偏光板原板の吸収軸の方向が、得られるべき偏光板中間体において同じであるように、前記偏光板原板を切断加工し、
前記偏光板中間体の端面を切削加工する工程では、前記中間体吸収軸検出工程において検出された前記偏光板中間体の吸収軸の方向が、得られるべき偏光板における前記所定方向を向いているように、前記偏光板原板の端面を切削加工する、
請求項1に記載の偏光板の製造方法。 - 前記帯状偏光板が、一軸延伸された偏光層を含む、請求項3,6,7の何れか1項に記載の偏光板の製造方法。
- 前記帯状偏光板の幅が、1000mm以上である、請求項9に記載の偏光板の製造方法。
- 前記偏光板の平面視形状が長方形又は正方形であり、
前記偏光板の対角線の長さが、350mm以下である、
請求項1~10の何れか一項に記載の偏光板の製造方法。 - 前記偏光板は、VA式、又はIPS式の液晶パネル用の偏光板である、請求項1~11の何れか一項に記載の偏光板の製造方法。
- 請求項1~請求項12の何れか一項に記載の偏光板の製造方法により偏光板を製造し、得られた偏光板を液晶セルに貼合することによって、液晶パネルを製造する、
液晶パネルの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201580056782.3A CN107076914B (zh) | 2014-10-31 | 2015-10-29 | 偏振板的制造方法以及液晶面板的制造方法 |
KR1020177009860A KR101795996B1 (ko) | 2014-10-31 | 2015-10-29 | 편광판의 제조 방법 및 액정 패널의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014-222490 | 2014-10-31 | ||
JP2014222490A JP5977313B2 (ja) | 2014-10-31 | 2014-10-31 | 偏光板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2016068243A1 true WO2016068243A1 (ja) | 2016-05-06 |
Family
ID=55857578
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2015/080568 WO2016068243A1 (ja) | 2014-10-31 | 2015-10-29 | 偏光板の製造方法及び液晶パネルの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5977313B2 (ja) |
KR (1) | KR101795996B1 (ja) |
CN (1) | CN107076914B (ja) |
TW (1) | TWI611223B (ja) |
WO (1) | WO2016068243A1 (ja) |
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- 2014-10-31 JP JP2014222490A patent/JP5977313B2/ja active Active
-
2015
- 2015-10-29 WO PCT/JP2015/080568 patent/WO2016068243A1/ja active Application Filing
- 2015-10-29 CN CN201580056782.3A patent/CN107076914B/zh active Active
- 2015-10-29 KR KR1020177009860A patent/KR101795996B1/ko active IP Right Grant
- 2015-10-30 TW TW104135764A patent/TWI611223B/zh active
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN107076914A (zh) | 2017-08-18 |
CN107076914B (zh) | 2018-08-24 |
TW201621364A (zh) | 2016-06-16 |
KR101795996B1 (ko) | 2017-11-08 |
JP5977313B2 (ja) | 2016-08-24 |
KR20170046182A (ko) | 2017-04-28 |
JP2016090691A (ja) | 2016-05-23 |
TWI611223B (zh) | 2018-01-11 |
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Date | Code | Title | Description |
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121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 15854479 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 20177009860 Country of ref document: KR Kind code of ref document: A |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 15854479 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |